JP2003068456A - 有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用金属マスク - Google Patents
有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用金属マスクInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程にお
いて、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能
とする金属マスクを提供する。 【解決手段】 多数のスリットを形成した有効部１１Ａ
とその両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂを備えた金属マスク
１１において、有効部１１Ａの両側に両端の保持部１１
Ｂ、１１Ｂに連結するように外枠１１Ｃ、１１Ｃを設け
て補強し、取り扱い易くする。また、外枠１１Ｃと保持
部１１Ｂの間には易開封線を形成して外枠１１Ｃを容易
に除去可能とし、金属マスクを基板表面に配置して蒸着
する際には外枠１１Ｃを除去し、残りの部分に張力を加
えて有効部１１Ａのスリットを引き揃えた状態に維持
し、高精細なパターニングを可能とする。
いて、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能
とする金属マスクを提供する。 【解決手段】 多数のスリットを形成した有効部１１Ａ
とその両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂを備えた金属マスク
１１において、有効部１１Ａの両側に両端の保持部１１
Ｂ、１１Ｂに連結するように外枠１１Ｃ、１１Ｃを設け
て補強し、取り扱い易くする。また、外枠１１Ｃと保持
部１１Ｂの間には易開封線を形成して外枠１１Ｃを容易
に除去可能とし、金属マスクを基板表面に配置して蒸着
する際には外枠１１Ｃを除去し、残りの部分に張力を加
えて有効部１１Ａのスリットを引き揃えた状態に維持
し、高精細なパターニングを可能とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機ＥＬ素子の製
造における真空蒸着工程で用いる真空蒸着用金属マスク
に関する。
造における真空蒸着工程で用いる真空蒸着用金属マスク
に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機ＥＬ素子は、図６に示すように、ガ
ラス板等の透明基板１上に、アノード電極（ＩＴＯ）
２、ホール輸送層３、有機層（発光層）４、電子輸送層
５、カソード電極６をこの順に積層し、表面に封止缶７
を配置した構成となっている。有機ＥＬ素子の種類に
は、有機層４が高分子タイプと低分子タイプがあり、素
子の駆動方式にはパッシブタイプとアクティブタイプが
ある。これらの有機ＥＬ素子の製造工程において、パッ
シブタイプ及びアクティブタイプの低分子有機層の形成
及びパッシブタイプのカソード電極６の形成には真空蒸
着が行われている。そして、低分子有機層及びカソード
電極の真空蒸着パターニングには、多数の微細なスリッ
トを微小間隔で平行に配列した有効部を備えた金属マス
クを使用していた。また、カソード電極の真空蒸着パタ
ーニングには、電気絶縁性の隔壁を形成するカソードセ
パレータ法（特開平８−３１５９８１号公報参照）が用
いられることもあった。
ラス板等の透明基板１上に、アノード電極（ＩＴＯ）
２、ホール輸送層３、有機層（発光層）４、電子輸送層
５、カソード電極６をこの順に積層し、表面に封止缶７
を配置した構成となっている。有機ＥＬ素子の種類に
は、有機層４が高分子タイプと低分子タイプがあり、素
子の駆動方式にはパッシブタイプとアクティブタイプが
ある。これらの有機ＥＬ素子の製造工程において、パッ
シブタイプ及びアクティブタイプの低分子有機層の形成
及びパッシブタイプのカソード電極６の形成には真空蒸
着が行われている。そして、低分子有機層及びカソード
電極の真空蒸着パターニングには、多数の微細なスリッ
トを微小間隔で平行に配列した有効部を備えた金属マス
クを使用していた。また、カソード電極の真空蒸着パタ
ーニングには、電気絶縁性の隔壁を形成するカソードセ
パレータ法（特開平８−３１５９８１号公報参照）が用
いられることもあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、かかる従来技
術にはいずれも問題があった。すなわち、金属マスクを
用いる場合、従来は、蒸着すべき基板表面に単に金属マ
スクを載置し、裏面から磁石を用いて保持させている
が、そのマスクの有効部（多数の微細なスリットを形成
している部分）は剛性がきわめて小さく、このため、金
属マスクを基板表面に保持させる際に有効部のスリット
にゆがみを生じ易く、特に、スリット形状をきわめて微
細にすると、一層スリット精度が維持できなくなり、高
精細パターニングができないという問題があった。一
方、カソードセパレータ法は、フォトリソグラフィーに
て露光の強弱を調整して隔壁の斜面の角度を作っている
ため、安定した製造が困難であった（逆台形断面の隔壁
の斜面部分のテーパー角度が小さいと電極の分離ができ
ず、大きいと三角形状になり倒れてしまう）。
術にはいずれも問題があった。すなわち、金属マスクを
用いる場合、従来は、蒸着すべき基板表面に単に金属マ
スクを載置し、裏面から磁石を用いて保持させている
が、そのマスクの有効部（多数の微細なスリットを形成
している部分）は剛性がきわめて小さく、このため、金
属マスクを基板表面に保持させる際に有効部のスリット
にゆがみを生じ易く、特に、スリット形状をきわめて微
細にすると、一層スリット精度が維持できなくなり、高
精細パターニングができないという問題があった。一
方、カソードセパレータ法は、フォトリソグラフィーに
て露光の強弱を調整して隔壁の斜面の角度を作っている
ため、安定した製造が困難であった（逆台形断面の隔壁
の斜面部分のテーパー角度が小さいと電極の分離ができ
ず、大きいと三角形状になり倒れてしまう）。
【０００４】本発明者らはかかる問題点を解消すべく鋭
意検討の結果、金属マスクを用いた真空蒸着パターニン
グにおいて、図７に示すように、中央に多数のスリット
を形成した有効部８Ａを備え、その両端をスリットのな
い保持部８Ｂ、８Ｂとした構成の金属マスク８を用い、
その金属マスク８を、両端の保持部８Ｂ、８Ｂをつかん
で引っ張った状態で治具に保持させ、その表面に基板を
配置することで、高精細なスリットでも、そのスリット
を形成している多数の細長い金属線部を引き揃えて基板
表面に位置させることができ、高精細パターニングが可
能であることを見出した。ところが、この構成の金属マ
スク８にも更に改良すべき点のあることが判明した。す
なわち、図７に示す金属マスク８では中央に剛性の低い
有効部８Ａが存在するため、取り扱いにくく、わずかな
外力が加わったのみでも、変形して不良品となってしま
うことがあるという問題が生じた。
意検討の結果、金属マスクを用いた真空蒸着パターニン
グにおいて、図７に示すように、中央に多数のスリット
を形成した有効部８Ａを備え、その両端をスリットのな
い保持部８Ｂ、８Ｂとした構成の金属マスク８を用い、
その金属マスク８を、両端の保持部８Ｂ、８Ｂをつかん
で引っ張った状態で治具に保持させ、その表面に基板を
配置することで、高精細なスリットでも、そのスリット
を形成している多数の細長い金属線部を引き揃えて基板
表面に位置させることができ、高精細パターニングが可
能であることを見出した。ところが、この構成の金属マ
スク８にも更に改良すべき点のあることが判明した。す
なわち、図７に示す金属マスク８では中央に剛性の低い
有効部８Ａが存在するため、取り扱いにくく、わずかな
外力が加わったのみでも、変形して不良品となってしま
うことがあるという問題が生じた。
【０００５】本発明はかかる問題を解決すべくなされた
もので、有効部に張力を掛けてセットする構成の金属マ
スクにおいて、剛性を高くして取り扱いを容易とした金
属マスクを提供することを目的とする。
もので、有効部に張力を掛けてセットする構成の金属マ
スクにおいて、剛性を高くして取り扱いを容易とした金
属マスクを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、多数の微細な
スリットを微小間隔で平行に配列した有効部と、その両
端の保持部とを有する金属マスクの剛性を大きくして取
り扱いを容易とするため、有効部の両側に、両端の保持
部に連結するように外枠を設け、且つその外枠と保持部
との境界に易切断線を形成するという構成としたもので
ある。この構成により、金属マスクの輸送時や治具への
取り付け時等の取り扱い時には、外枠が有効部を補強す
るので、外力から有効部の変形を防ぐことができ、ま
た、治具に取り付け、張力を加えた状態で使用する際に
は、外枠を易切断線を利用して分離しておくことで、有
効部の金属線部に適度な張力を加えて、所定形状に引き
揃えておくことができ、高精細パターニングを行うこと
ができる。
スリットを微小間隔で平行に配列した有効部と、その両
端の保持部とを有する金属マスクの剛性を大きくして取
り扱いを容易とするため、有効部の両側に、両端の保持
部に連結するように外枠を設け、且つその外枠と保持部
との境界に易切断線を形成するという構成としたもので
ある。この構成により、金属マスクの輸送時や治具への
取り付け時等の取り扱い時には、外枠が有効部を補強す
るので、外力から有効部の変形を防ぐことができ、ま
た、治具に取り付け、張力を加えた状態で使用する際に
は、外枠を易切断線を利用して分離しておくことで、有
効部の金属線部に適度な張力を加えて、所定形状に引き
揃えておくことができ、高精細パターニングを行うこと
ができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の金属マスクは、有機ＥＬ
素子製造における真空蒸着工程で用いる真空蒸着用金属
マスクであって、多数の微細なスリットを微小間隔で平
行に配列した有効部と、その両端の保持部と、前記有効
部の両側に位置し且つ両端の保持部に連結された外枠
と、前記外枠を前記保持部から分離することができるよ
う前記外枠と保持部との境界に形成された易切断線を有
することを特徴とする。
素子製造における真空蒸着工程で用いる真空蒸着用金属
マスクであって、多数の微細なスリットを微小間隔で平
行に配列した有効部と、その両端の保持部と、前記有効
部の両側に位置し且つ両端の保持部に連結された外枠
と、前記外枠を前記保持部から分離することができるよ
う前記外枠と保持部との境界に形成された易切断線を有
することを特徴とする。
【０００８】ここで、前記有効部の両側で且つ前記外枠
の内側に、両端の保持部を連結するサポート部を設けて
有効部を補強することが好ましい。このようにサポート
部を設けておくと、金属マスクに張力を付加した時、そ
の張力の一部をサポート部が負担することとなるため、
金属マスクに或る程度の大きい張力を加えても、有効部
の細い金属線部に過大な張力が加わることを防止でき、
金属マスクの破損を防止できると共に金属マスクに加え
る張力の調整をラフとすることができるという利点が得
られる。
の内側に、両端の保持部を連結するサポート部を設けて
有効部を補強することが好ましい。このようにサポート
部を設けておくと、金属マスクに張力を付加した時、そ
の張力の一部をサポート部が負担することとなるため、
金属マスクに或る程度の大きい張力を加えても、有効部
の細い金属線部に過大な張力が加わることを防止でき、
金属マスクの破損を防止できると共に金属マスクに加え
る張力の調整をラフとすることができるという利点が得
られる。
【０００９】有効部に設けている多数の金属線部の断面
形状は任意であるが、金属マスクの一方の面側を頂辺と
し、他方の面側を底辺とする二等辺台形断面とすること
が好ましい。この構成を採用すると、蒸着時に基板表面
にターゲットの陰ができることがなく、このため均一な
蒸着膜を得ることができる。
形状は任意であるが、金属マスクの一方の面側を頂辺と
し、他方の面側を底辺とする二等辺台形断面とすること
が好ましい。この構成を採用すると、蒸着時に基板表面
にターゲットの陰ができることがなく、このため均一な
蒸着膜を得ることができる。
【００１０】
【実施例】以下、図面に示す本発明の好適な実施例を説
明する。図１は本発明の一実施例に係る金属マスクを示
すもので、（ａ）はその金属マスクの概略平面図、
（ｂ）は金属マスクの有効部の一部の拡大して且つスリ
ットに平行方向に見た概略断面図、（ｃ）は金属マスク
の易切断線を示す概略断面図、（ｄ）は外枠を除去した
後の金属マスクを示す概略平面図である。全体を参照符
号１１で示す金属マスクは、通常、厚み３０〜１００μ
ｍ程度の、好ましくは５０μｍ程度のステンレス鋼等の
金属板で形成されており、中央に多数の微細なスリット
１１ａを微小間隔で平行に配列した有効部１１Ａと、そ
の両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂと、有効部１１Ａの両側
に位置し且つ両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂに連結された
外枠１１Ｃ、１１Ｃ等を備えている。有効部１１Ａの長
さＬ及び幅Ｗやスリット幅等は、形成すべき有機ＥＬ素
子の大きさに応じて適宜定めるものであり、この実施例
では、長さＬを６０ｍｍ、幅Ｗを４０ｍｍとしている。
また、有効部１１Ａに形成するスリット１１ａの幅ｗは
２６０μｍ、スリット１１ａ間に位置する金属線部１１
ｂの幅ｄ（最大幅）は４０μｍとしている。金属線部１
１ｂの断面形状は単純な矩形状でもよいが、本実施例で
は、図１（ｂ）に示すように、金属マスクの一方の面側
を頂辺とし、他方の面側を底辺とする二等辺台形状とし
て、スリット１１ａの片側の開口（図面では下側の開
口）を他方の開口よりも大きくしている。この構成とす
ることで、金属マスク１１の上に基板１２を配置して蒸
着操作を行った際、蒸気が広い側の開口から進入するこ
ととなり、従って、基板表面にターゲットの陰ができる
ことがなく、このため均一な蒸着膜を得ることができ
る。
明する。図１は本発明の一実施例に係る金属マスクを示
すもので、（ａ）はその金属マスクの概略平面図、
（ｂ）は金属マスクの有効部の一部の拡大して且つスリ
ットに平行方向に見た概略断面図、（ｃ）は金属マスク
の易切断線を示す概略断面図、（ｄ）は外枠を除去した
後の金属マスクを示す概略平面図である。全体を参照符
号１１で示す金属マスクは、通常、厚み３０〜１００μ
ｍ程度の、好ましくは５０μｍ程度のステンレス鋼等の
金属板で形成されており、中央に多数の微細なスリット
１１ａを微小間隔で平行に配列した有効部１１Ａと、そ
の両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂと、有効部１１Ａの両側
に位置し且つ両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂに連結された
外枠１１Ｃ、１１Ｃ等を備えている。有効部１１Ａの長
さＬ及び幅Ｗやスリット幅等は、形成すべき有機ＥＬ素
子の大きさに応じて適宜定めるものであり、この実施例
では、長さＬを６０ｍｍ、幅Ｗを４０ｍｍとしている。
また、有効部１１Ａに形成するスリット１１ａの幅ｗは
２６０μｍ、スリット１１ａ間に位置する金属線部１１
ｂの幅ｄ（最大幅）は４０μｍとしている。金属線部１
１ｂの断面形状は単純な矩形状でもよいが、本実施例で
は、図１（ｂ）に示すように、金属マスクの一方の面側
を頂辺とし、他方の面側を底辺とする二等辺台形状とし
て、スリット１１ａの片側の開口（図面では下側の開
口）を他方の開口よりも大きくしている。この構成とす
ることで、金属マスク１１の上に基板１２を配置して蒸
着操作を行った際、蒸気が広い側の開口から進入するこ
ととなり、従って、基板表面にターゲットの陰ができる
ことがなく、このため均一な蒸着膜を得ることができ
る。
【００１１】外枠１１Ｃは、有効部１１Ａを補強するた
めに設けたものであり、この外枠１１Ｃ、１１Ｃで有効
部１１Ａの両側の保持部１１Ｂ、１１Ｂを連結すること
で、金属マスク１１の中央部に剛性の極めて小さい有効
部１１Ａが存在しているにも関わらず、金属マスク１１
全体の剛性を高めることができる。このため、この金属
マスク１１を輸送や保管のために取り扱う際、或いは、
後述する治具に取り付ける際に、金属マスク１１に不用
意に外力が加わっても、金属マスク１１に変形を生じる
ことはほとんどなく、このため、金属マスク１１の取り
扱いが容易となる。外枠１１Ｃの幅は、必要な補強効果
を確保しうるように定めるものであり、例えば、５〜２
０ｍｍ程度に、好ましくは１０ｍｍ程度に選択すればよ
い。外枠１１Ｃと保持部１１Ｂの境界には、外枠１１Ｃ
を保持部１１Ｂから容易に分離することができるよう、
易切断線１１ｄを形成している。易切断線１１ｄの構成
は、外枠１１Ｃを容易に分離可能なものであれば任意で
あるが、本実施例では、図１（ｃ）に示すように、金属
マスク１１の厚みの半分以上に形成した溝１１ｄを用い
ている。
めに設けたものであり、この外枠１１Ｃ、１１Ｃで有効
部１１Ａの両側の保持部１１Ｂ、１１Ｂを連結すること
で、金属マスク１１の中央部に剛性の極めて小さい有効
部１１Ａが存在しているにも関わらず、金属マスク１１
全体の剛性を高めることができる。このため、この金属
マスク１１を輸送や保管のために取り扱う際、或いは、
後述する治具に取り付ける際に、金属マスク１１に不用
意に外力が加わっても、金属マスク１１に変形を生じる
ことはほとんどなく、このため、金属マスク１１の取り
扱いが容易となる。外枠１１Ｃの幅は、必要な補強効果
を確保しうるように定めるものであり、例えば、５〜２
０ｍｍ程度に、好ましくは１０ｍｍ程度に選択すればよ
い。外枠１１Ｃと保持部１１Ｂの境界には、外枠１１Ｃ
を保持部１１Ｂから容易に分離することができるよう、
易切断線１１ｄを形成している。易切断線１１ｄの構成
は、外枠１１Ｃを容易に分離可能なものであれば任意で
あるが、本実施例では、図１（ｃ）に示すように、金属
マスク１１の厚みの半分以上に形成した溝１１ｄを用い
ている。
【００１２】有効部１１Ａの両側には、外枠１１Ｃの内
側に位置するように、両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂを連
結するサポート部１１ｃ、１１ｃが形成されている。こ
のサポート部１１ｃ、１１ｃは、図１（ｄ）に示すよう
に、外枠を分離した後の金属マスク１１に残るように設
けており、有効部１１Ａを補強する効果を有している。
すなわち、有効部１１Ａは多数の金属線部１１ｂを備え
た構成ではあるが、金属線部１１ｂはきわめて細いた
め、それにはあまり大きい張力を加えることができず、
このため、サポート部１１ｃ、１１ｃが無い場合には、
金属マスク１１に加える張力を小さい所定の範囲に調整
しなければならないが、サポート部１１ｃ、１１ｃを設
けたことにより、そのサポート部１１ｃ、１１ｃが金属
マスク１１に加える張力の一部を負担することとなり、
かなり大きい張力を加えても支障がなくなる。かくし
て、金属マスク１１に加える張力をかなりラフに設定す
ることが可能となる。サポート部１１ｃの幅は、広い程
補強効果は大きくなるが、あまり広くすると、金属マス
ク１１に張力を加えてスリットを整列させる際に要する
張力をきわめて大きくしなければならず、作業性が悪く
なる。これらを考慮して、サポート部１１ｃの幅は、
１．５〜２ｍｍ程度とすることが好ましい。
側に位置するように、両端の保持部１１Ｂ、１１Ｂを連
結するサポート部１１ｃ、１１ｃが形成されている。こ
のサポート部１１ｃ、１１ｃは、図１（ｄ）に示すよう
に、外枠を分離した後の金属マスク１１に残るように設
けており、有効部１１Ａを補強する効果を有している。
すなわち、有効部１１Ａは多数の金属線部１１ｂを備え
た構成ではあるが、金属線部１１ｂはきわめて細いた
め、それにはあまり大きい張力を加えることができず、
このため、サポート部１１ｃ、１１ｃが無い場合には、
金属マスク１１に加える張力を小さい所定の範囲に調整
しなければならないが、サポート部１１ｃ、１１ｃを設
けたことにより、そのサポート部１１ｃ、１１ｃが金属
マスク１１に加える張力の一部を負担することとなり、
かなり大きい張力を加えても支障がなくなる。かくし
て、金属マスク１１に加える張力をかなりラフに設定す
ることが可能となる。サポート部１１ｃの幅は、広い程
補強効果は大きくなるが、あまり広くすると、金属マス
ク１１に張力を加えてスリットを整列させる際に要する
張力をきわめて大きくしなければならず、作業性が悪く
なる。これらを考慮して、サポート部１１ｃの幅は、
１．５〜２ｍｍ程度とすることが好ましい。
【００１３】次に、上記構成の金属マスク１１を取り付
けて蒸着に供するための治具（金属マスク保持治具とい
う）を説明する。図２は金属マスク保持治具の概略平面
図、図３は図２に示す金属マスク保持治具を矢印Ａ−Ａ
方向に見た概略端面図、図４はその金属マスク保持治具
に金属マスクを取り付けた状態を示す概略平面図、図５
は金属マスク及び基板を取り付けた状態の金属マスク保
持治具を図４の矢印Ｂ−Ｂ方向に見た概略断面図であ
る。図２〜図５において、全体を参照符号１３で示す金
属マスク保持治具は、中央に蒸着範囲を規制するウイン
ドウ１４を備えたベースプレート１５と、金属マスク１
１を、その金属マスク１１に形成している有効部１１Ａ
をウインドウ１４の上に位置させ且つスリットの長手方
向に引っ張った状態でベースプレート１５の上に位置さ
せるマスク引張保持手段１６と、基板１２をベースプレ
ート１５に固定する基板クランプ手段１７等を備えてい
る。ベースプレート１５は、その上に金属マスク１１を
張力を掛けた状態で保持させ且つその上に更に基板１２
を保持させることができる剛性を備えた板材で構成され
ている。なお、ベースプレート１５は単に１枚の板材で
構成する場合に限らず、所定サイズのウインドウを形成
した薄い金属板と、その金属板を支持する剛性を備えた
板材とで構成してもよく、その場合には、板材には金属
板のウインドウよりも大きい開口を形成しておけばよ
い。
けて蒸着に供するための治具（金属マスク保持治具とい
う）を説明する。図２は金属マスク保持治具の概略平面
図、図３は図２に示す金属マスク保持治具を矢印Ａ−Ａ
方向に見た概略端面図、図４はその金属マスク保持治具
に金属マスクを取り付けた状態を示す概略平面図、図５
は金属マスク及び基板を取り付けた状態の金属マスク保
持治具を図４の矢印Ｂ−Ｂ方向に見た概略断面図であ
る。図２〜図５において、全体を参照符号１３で示す金
属マスク保持治具は、中央に蒸着範囲を規制するウイン
ドウ１４を備えたベースプレート１５と、金属マスク１
１を、その金属マスク１１に形成している有効部１１Ａ
をウインドウ１４の上に位置させ且つスリットの長手方
向に引っ張った状態でベースプレート１５の上に位置さ
せるマスク引張保持手段１６と、基板１２をベースプレ
ート１５に固定する基板クランプ手段１７等を備えてい
る。ベースプレート１５は、その上に金属マスク１１を
張力を掛けた状態で保持させ且つその上に更に基板１２
を保持させることができる剛性を備えた板材で構成され
ている。なお、ベースプレート１５は単に１枚の板材で
構成する場合に限らず、所定サイズのウインドウを形成
した薄い金属板と、その金属板を支持する剛性を備えた
板材とで構成してもよく、その場合には、板材には金属
板のウインドウよりも大きい開口を形成しておけばよ
い。
【００１４】マスク引張保持手段１６は、金属マスク１
１の一端の保持部１１Ｂをベースプレート１５に固定す
る固定側マスククランプ２０及びボルト２１と、ウイン
ドウ１４に関して固定側マスククランプ２０とは反対側
に配置され、固定側マスククランプ２０から離れる方向
及び近づく方向に移動可能なスライダ２３と、ベースプ
レート１５に固定され、スライダ２３を移動可能に保持
したガイドロッド２４と、スライダ２３に金属マスク１
１の他端の保持部１１Ｂを固定する移動側マスククラン
プ２５及びボルト２６と、固定側マスククランプ２０と
移動側マスククランプ２５で保持された金属マスク１１
に所望の張力を付与するようスライダ２３を固定側マス
ククランプ２０から離れる方向に移動させる移動手段２
８等を備えている。移動手段２８は、ベースプレート１
５に固定された支持棒２９と、その支持棒２９に保持さ
れ、ベースプレート１５とスライダ２３の間に配置され
た圧縮コイルバネ３０からなる弾性手段を備えている。
ガイドロッド２４の先端には、スライダ２３の抜け止め
用のストッパ３２が取り付けられている。基板クランプ
手段１７は、基板をベースプレート１５に押し付けて固
定する基板用クランプ３４及びボルト３５を備えてい
る。
１の一端の保持部１１Ｂをベースプレート１５に固定す
る固定側マスククランプ２０及びボルト２１と、ウイン
ドウ１４に関して固定側マスククランプ２０とは反対側
に配置され、固定側マスククランプ２０から離れる方向
及び近づく方向に移動可能なスライダ２３と、ベースプ
レート１５に固定され、スライダ２３を移動可能に保持
したガイドロッド２４と、スライダ２３に金属マスク１
１の他端の保持部１１Ｂを固定する移動側マスククラン
プ２５及びボルト２６と、固定側マスククランプ２０と
移動側マスククランプ２５で保持された金属マスク１１
に所望の張力を付与するようスライダ２３を固定側マス
ククランプ２０から離れる方向に移動させる移動手段２
８等を備えている。移動手段２８は、ベースプレート１
５に固定された支持棒２９と、その支持棒２９に保持さ
れ、ベースプレート１５とスライダ２３の間に配置され
た圧縮コイルバネ３０からなる弾性手段を備えている。
ガイドロッド２４の先端には、スライダ２３の抜け止め
用のストッパ３２が取り付けられている。基板クランプ
手段１７は、基板をベースプレート１５に押し付けて固
定する基板用クランプ３４及びボルト３５を備えてい
る。
【００１５】次に、上記構成の金属マスク保持治具１３
による金属マスク保持動作及び真空蒸着動作を説明す
る。図２において、万力等（図示せず）でスライダ２３
を、圧縮コイルバネ３０を圧縮させる方向に移動させ、
その位置に保持する。次に、金属マスク１１をベースプ
レート１５上に置き、有効部１１Ａをウインドウ１４に
合わせ且つウインドウ１４に対してアライメントする。
その状態で、図４に示すように、金属マスク１１の一端
を固定側マスククランプ２０でベースプレート１５に固
定し、他端を、移動側マスククランプ２５でスライダ２
３に固定する。なお、これらの動作を行う際、金属マス
ク１１は両側の外枠１１Ｃ、１１Ｃを有する状態のまま
であるので、有効部１１Ａが変形するというようなトラ
ブルを回避できる。その後、万力を開放し、スライダ２
３を移動自在とする。これにより、圧縮コイルバネ３０
がスライダ２３を外向きに押して移動させ、金属マスク
１１に均一な張力を加える。その後、金属マスク１１の
両側の外枠１１Ｃを折り曲げて切り離す。これにより、
金属マスク保持治具１３に保持された金属マスク１１
は、図１（ｄ）に示す状態となり、有効部１１Ａ及びそ
の両側のサポート部１１ｃ、１１ｃに、圧縮コイルバネ
３０によるばね力が作用し、有効部１１Ａは均一な張力
で引っ張られた状態となり、有効部１１Ａの多数のスリ
ットが真っ直ぐで且つ一定ピッチで並んだ状態に保持さ
れる。なお、外枠１１Ｃの分離操作は、万力を開放して
スライダ２３を移動自在とする前に行っても良い。
による金属マスク保持動作及び真空蒸着動作を説明す
る。図２において、万力等（図示せず）でスライダ２３
を、圧縮コイルバネ３０を圧縮させる方向に移動させ、
その位置に保持する。次に、金属マスク１１をベースプ
レート１５上に置き、有効部１１Ａをウインドウ１４に
合わせ且つウインドウ１４に対してアライメントする。
その状態で、図４に示すように、金属マスク１１の一端
を固定側マスククランプ２０でベースプレート１５に固
定し、他端を、移動側マスククランプ２５でスライダ２
３に固定する。なお、これらの動作を行う際、金属マス
ク１１は両側の外枠１１Ｃ、１１Ｃを有する状態のまま
であるので、有効部１１Ａが変形するというようなトラ
ブルを回避できる。その後、万力を開放し、スライダ２
３を移動自在とする。これにより、圧縮コイルバネ３０
がスライダ２３を外向きに押して移動させ、金属マスク
１１に均一な張力を加える。その後、金属マスク１１の
両側の外枠１１Ｃを折り曲げて切り離す。これにより、
金属マスク保持治具１３に保持された金属マスク１１
は、図１（ｄ）に示す状態となり、有効部１１Ａ及びそ
の両側のサポート部１１ｃ、１１ｃに、圧縮コイルバネ
３０によるばね力が作用し、有効部１１Ａは均一な張力
で引っ張られた状態となり、有効部１１Ａの多数のスリ
ットが真っ直ぐで且つ一定ピッチで並んだ状態に保持さ
れる。なお、外枠１１Ｃの分離操作は、万力を開放して
スライダ２３を移動自在とする前に行っても良い。
【００１６】次に、図５に示すように、基板１２を、そ
の蒸着すべき領域を金属マスク１１の有効部１１Ａに対
してアライメントを取って、金属マスク１１上に乗せ、
基板用クランプ３４でベースプレート１５に固定する。
以上により、金属マスク１１が多数のスリットを所定の
形状に保持した状態で基板１２の表面に配置されること
となる。その後、金属マスク保持治具１３によって組み
合わされた金属マスク１１と基板１２を、そのままの状
態で蒸着機にセットし、蒸着を行う。以上により、基板
１２の表面に、金属マスク１１の有効部１１Ａのスリッ
トに対応して蒸着が行われ、高精細パターニングが行わ
れる。
の蒸着すべき領域を金属マスク１１の有効部１１Ａに対
してアライメントを取って、金属マスク１１上に乗せ、
基板用クランプ３４でベースプレート１５に固定する。
以上により、金属マスク１１が多数のスリットを所定の
形状に保持した状態で基板１２の表面に配置されること
となる。その後、金属マスク保持治具１３によって組み
合わされた金属マスク１１と基板１２を、そのままの状
態で蒸着機にセットし、蒸着を行う。以上により、基板
１２の表面に、金属マスク１１の有効部１１Ａのスリッ
トに対応して蒸着が行われ、高精細パターニングが行わ
れる。
【００１７】なお、上記実施例では、スライダ２３を圧
縮コイルバネ３０で押して金属マスク１１に張力を付与
しているが、この代わりに、引張ばねや板ばねを用いて
もよい。また、スライダ２３を移動させるには、ばねを
用いる代わりに、ボルト等を用いても良い。更に、金属
マスク１１を固定側マスククランプ２０で、ベースプレ
ート１５に固定しているが、この代わりに、スポット溶
接等によって固定してもよい。また、上記実施例では、
ベースプレートに１個のウインドウを形成し、金属マス
クにも１個の有効部を形成しているが、本発明はこの構
成に限らず、ベースプレートに複数のウインドウを形成
し、且つ金属マスクにも、ベースプレートのウインドウ
に対応する部分に多数のスリットを形成した有効部を形
成し、多面付けする構成としてもよい。また、ベースプ
レートには複数のウインドウを形成し、金属マスクには
その複数のウインドウを覆う広い領域にスリットを形成
した有効部を形成し、多面付けする構成としてもよい。
縮コイルバネ３０で押して金属マスク１１に張力を付与
しているが、この代わりに、引張ばねや板ばねを用いて
もよい。また、スライダ２３を移動させるには、ばねを
用いる代わりに、ボルト等を用いても良い。更に、金属
マスク１１を固定側マスククランプ２０で、ベースプレ
ート１５に固定しているが、この代わりに、スポット溶
接等によって固定してもよい。また、上記実施例では、
ベースプレートに１個のウインドウを形成し、金属マス
クにも１個の有効部を形成しているが、本発明はこの構
成に限らず、ベースプレートに複数のウインドウを形成
し、且つ金属マスクにも、ベースプレートのウインドウ
に対応する部分に多数のスリットを形成した有効部を形
成し、多面付けする構成としてもよい。また、ベースプ
レートには複数のウインドウを形成し、金属マスクには
その複数のウインドウを覆う広い領域にスリットを形成
した有効部を形成し、多面付けする構成としてもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の金属マ
スクは、有効部の両側に分離可能な外枠を形成した構成
としたので、取り扱い時に外力によって有効部が変形し
てしまうということがなく、取り扱いがきわめて容易で
あり、しかも、有機ＥＬ素子の製造工程において、真空
蒸着に用いる際には、外枠を除去した後の金属マスクを
スリットの長手方向に引っ張った状態で基板表面に配置
することで、きわめて微細なスリットを微細間隔に配置
した高精細なマスクでも、スリットを真っ直ぐな状態で
且つ所定のピッチに保持した状態で基板表面に配置する
ことができ、真空蒸着により高精細なパターンを基板上
に形成することができるという効果を有している。
スクは、有効部の両側に分離可能な外枠を形成した構成
としたので、取り扱い時に外力によって有効部が変形し
てしまうということがなく、取り扱いがきわめて容易で
あり、しかも、有機ＥＬ素子の製造工程において、真空
蒸着に用いる際には、外枠を除去した後の金属マスクを
スリットの長手方向に引っ張った状態で基板表面に配置
することで、きわめて微細なスリットを微細間隔に配置
した高精細なマスクでも、スリットを真っ直ぐな状態で
且つ所定のピッチに保持した状態で基板表面に配置する
ことができ、真空蒸着により高精細なパターンを基板上
に形成することができるという効果を有している。
【図１】本発明の一実施例に係る金属マスクを示すもの
で、（ａ）はその金属マスクの概略平面図、（ｂ）は金
属マスクの有効部の一部を、スリットに平行方向に見た
概略断面図、（ｃ）は金属マスクの易切断線を示す概略
断面図、（ｄ）は外枠を除去した後の金属マスクを示す
概略平面図
で、（ａ）はその金属マスクの概略平面図、（ｂ）は金
属マスクの有効部の一部を、スリットに平行方向に見た
概略断面図、（ｃ）は金属マスクの易切断線を示す概略
断面図、（ｄ）は外枠を除去した後の金属マスクを示す
概略平面図
【図２】図１に示す金属マスクを保持させる金属マスク
保持治具の概略平面図
保持治具の概略平面図
【図３】図２に示す金属マスク保持治具を矢印Ａ−Ａ方
向に見た概略端面図
向に見た概略端面図
【図４】金属マスク保持治具を、金属マスクを取り付け
た状態で示す概略平面図
た状態で示す概略平面図
【図５】金属マスク及び基板を取り付けた状態の金属マ
スク保持治具を、図４の矢印Ｂ−Ｂ方向に見た概略断面
図
スク保持治具を、図４の矢印Ｂ−Ｂ方向に見た概略断面
図
【図６】有機ＥＬ素子の一部を示す概略斜視図
【図７】先に開発した金属マスクの概略平面図
１１ 金属マスク
１１Ａ 有効部
１１Ｂ 保持部
１１Ｃ 外枠
１１ａ スリット
１１ｂ 金属線部
１１ｃ サポート部
１１ｄ 易切断線
１３ 金属マスク保持治具
１４ ウインドウ
１５ ベースプレート
１６ マスク引張保持手段
１７ 基板クランプ手段
２０ 固定側マスククランプ
２３ スライダ
２４ ガイドロッド
２５ 移動側マスククランプ
２８ 移動手段
３０ 圧縮コイルバネ
３４ 基板用クランプ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 3K007 AB18 BA06 DA01 DB03 EB00
FA01
4K029 BD00 HA02 HA03
5C094 AA05 AA43 BA27 CA19 DA13
FA01 FB01 FB20 GB10
5G435 AA17 BB05 CC09 HH01 HH20
KK05 KK10
Claims (3)
- 【請求項１】 有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程
で用いる真空蒸着用金属マスクであって、多数の微細な
スリットを微小間隔で平行に配列した有効部と、その両
端の保持部と、前記有効部の両側に位置し且つ両端の保
持部に連結された外枠と、前記外枠を前記保持部から分
離することができるよう前記外枠と保持部との境界に形
成された易切断線を有する真空蒸着用金属マスク。 - 【請求項２】 前記有効部の両側で且つ前記外枠の内側
に、両端の保持部を連結するサポート部を設けて前記有
効部を補強していることを特徴とする請求項１記載の真
空蒸着用金属マスク。 - 【請求項３】 前記有効部の多数のスリット間に位置す
る金属線部が、金属マスクの一方の面側を頂辺とし、他
方の面側を底辺とする二等辺台形断面を有することを特
徴とする請求項１又は２記載の真空蒸着用金属マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001259521A JP4662661B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用金属マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001259521A JP4662661B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用金属マスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003068456A true JP2003068456A (ja) | 2003-03-07 |
| JP4662661B2 JP4662661B2 (ja) | 2011-03-30 |
Family
ID=19086880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001259521A Expired - Lifetime JP4662661B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 有機ｅｌ素子製造に用いる真空蒸着用金属マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4662661B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003217850A (ja) * | 2001-12-05 | 2003-07-31 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 有機ｅｌデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体 |
| JP2009108349A (ja) * | 2007-10-26 | 2009-05-21 | Ricoh Co Ltd | 保持治具、薄膜形成装置、及び薄膜形成方法 |
| WO2011132325A1 (ja) * | 2010-04-21 | 2011-10-27 | 株式会社アルバック | マスク |
| US8404125B2 (en) | 2009-07-29 | 2013-03-26 | Hitachi Displays, Ltd. | Metal processing method, manfacturing method of metal mask and manufacturing method of organic light emitting display device |
| WO2021157463A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 |
| WO2021164069A1 (zh) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种金属掩膜条、金属掩膜板及其制作方法 |
| JP2021123796A (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-30 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 |
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-
2001
- 2001-08-29 JP JP2001259521A patent/JP4662661B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| TWI499353B (zh) * | 2010-04-21 | 2015-09-01 | Ulvac Inc | 光罩 |
| WO2021157463A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 |
| JP2021123796A (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-30 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 |
| JP7099512B2 (ja) | 2020-02-05 | 2022-07-12 | 凸版印刷株式会社 | 蒸着マスク中間体、蒸着マスク、マスク装置、および、蒸着マスクの製造方法 |
| WO2021164069A1 (zh) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种金属掩膜条、金属掩膜板及其制作方法 |
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