JP5809892B2 - マスクユニット - Google Patents

マスクユニット Download PDF

Info

Publication number
JP5809892B2
JP5809892B2 JP2011198617A JP2011198617A JP5809892B2 JP 5809892 B2 JP5809892 B2 JP 5809892B2 JP 2011198617 A JP2011198617 A JP 2011198617A JP 2011198617 A JP2011198617 A JP 2011198617A JP 5809892 B2 JP5809892 B2 JP 5809892B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
unit
tension member
length direction
coupled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011198617A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013002000A (ja
Inventor
澤 ▲教▼ 姜
澤 ▲教▼ 姜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of JP2013002000A publication Critical patent/JP2013002000A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5809892B2 publication Critical patent/JP5809892B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202LCD, i.e. liquid crystal displays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206Organic displays, e.g. OLED
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明はマスクユニットに関し、より詳細には、1つ以上の単位マスクを含むマスクユニットに関する。
最近、表示装置として、有機発光表示装置(organic light emitting diode display)や液晶表示装置(liquid crystal dis playay)のような代表的な平板表示装置が注目を集めている。
平板表示装置は多数の薄膜工程を経て製作される。また、大部分の薄膜工程には多様なマスクが用いられる。そのうち、パターンが形成された複数の単位マスクをフレームに固定したマスクユニットが多く用いられている。マスクユニットの単位マスクは、両方向に引張力が加えられるようにフレームに固定される。
しかし、単位マスクは両端部が引っ張られるため、フレームに引っ張られて固定された単位マスクにカーリング(curling)またはウェーブ(wave)のような構造的な変形が生じるという問題点がある。
本発明は、上述したような問題点を解決するために案出されたものであって、構造的な変形を抑制して工程精密度を向上させることができるマスクユニットを提供する。
本発明の実施形態によれば、マスクユニットは、長さ方向に沿って配列された複数のパターン領域と、前記複数のパターン領域の間に配置されたダミー領域とを有する1つ以上の単位マスクと、前記単位マスクの長さ方向に引張力が加えられるように、前記単位マスクの長さ方向の両側端部を引っ張って固定するマスクフレームと、前記単位マスクの前記ダミー領域に結合し、前記単位マスクの長さ方向と交差する方向に形成され、前記単位マスクの長さ方向と交差する方向に前記単位マスクに引張力を加える交差引張部材とを含む。
前記交差引張部材は、前記単位マスクの長さ方向の両側端部の間の中央部に結合されてもよい。
前記交差引張部材の両端部は、前記マスクフレームに結合されてもよい。
前記交差引張部材と結合する前記マスクフレームの一領域には、フレーム結合溝が形成されてもよい。
前記交差引張部材と前記マスクフレームは、溶接によって結合されてもよい。
前記マスクフレームは、前記単位マスクの両端部を固定するクランプ(clamp)部を含んでもよい。
前記マスクユニットにおいて、前記交差引張部材と結合する前記単位マスクの前記ダミー領域には、マスク結合溝が形成されてもよい。
前記交差引張部材と前記単位マスクは、溶接(welding)によって結合されてもよい。
本発明の実施形態によれば、マスクユニットは、構造的な変形を抑制し、マスクユニットを用いた工程の精密度を向上させることができる。
本発明の一実施形態に係るマスクユニットを示す斜視図である。 図1のマスクユニットを示す平面図である。 図2のIII−III線に沿って切断した断面図である。
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。本発明は多様に相違した形態で実現され、ここで説明する実施形態に限定されるものではない。
図面は概略的であり、縮尺に適合するように示されていないことを明らかにする。図面に存在する部分の相対的なサイズおよび比率は、図面における明確性および便宜のためにその大きさを誇張もしくは減少して示しており、任意のサイズは例示的なものに過ぎず、限定的なものではない。また、図面に示されている2つ異常の同一する構造物、要素、または部品には、同一する参照符号が類似した特徴を示すために用いられる。また、ある部分が他の部分の「上に」または「上部に」存在するとする場合、これは他の部分のすぐ上に存在することもあるし、その間に他の部分が伴うこともある。
本発明の実施形態は、本発明の理想的な実施形態を具体的に示す。その結果、図解の多様な変形が予想される。したがって、実施形態は、図に示した領域の特定形態に限定されるものではなく、例えば製造による形態の変形も含む。
以下、図1を参照しながら、本発明の一実施形態に係るマスクユニット101を説明する。
図1に示すように、本発明の第1実施形態に係るマスクユニット101は、1つ以上の単位マスク110と、マスクフレーム200と、交差引張部材310とを含む。また、マスクフレーム200は、単位マスク110の両端部を固定するクランプ(clamp)部250を含む。
単位マスク110は、ストリップ形状の薄板で形成される。また、図2に示すように、単位マスク110は、長さ方向に沿って配列された複数のパターン領域111と、複数のパターン領域111の間に配置されたダミー領域119とを含む。パターン領域111には、図3に示すような微細な開口パターンが形成される。微細な開口パターンは、薄板に形成されたドット(dot)またはスリット(slit)であってもよい。1つの単位マスク110ごとに、パターン領域111には、微細な開口パターンが一列または複数列に配列されてもよい。
また、図2では、単位マスク110が一対のパターン領域111の間に位置した1つのダミー領域119を有するものと示されているが、本発明の一実施形態がこれに限定されるものではない。すなわち、単位マスク110は、3つ以上のパターン領域111と2つ以上のダミー領域119を有してもよい。
また、単位マスク110の長さ方向の両側端部は、マスクフレーム200と結合する結合領域115となる。
マスクフレーム200は、単位マスク110の長さ方向に引張力が加えられるように、単位マスク110の長さ方向の両側端部を引っ張って固定する。したがって、マスクフレーム200は、単位マスク110に十分な引張力を提供することができる程度の強度を有さなければならない。このとき、マスクフレーム200のクランプ部250は、引っ張られた単位マスク110の両側端部を固定する。これにより、マスクフレーム200に固定された単位マスク110は、単位マスク110の長さ方向に引張力を有するようになる。
交差引張部材310は、単位マスク110の長さ方向と交差する方向に単位マスク110に引張力を加える。交差引張部材310は、単位マスク110の長さ方向と交差する方向に横切るリブ(rib)形態で形成されてもよい。また、交差引張部材310は、単位マスク110のダミー領域119に結合する。具体的に、交差引張部材310は、単位マスク110の長さ方向の両側端部の間の中央部に位置するダミー領域119に結合する。しかし、本発明の一実施形態がこれに限定されるものではなく、交差引張部材310は、中央部以外のダミー領域119に結合してもよい。さらに、交差引張部材310は、1つ以上が配置されてもよい。
また、図3に示すように、交差引張部材310と結合する単位マスク110のダミー領域119には、マスク結合溝1193が形成されてもよい。また、交差引張部材310の一部は、マスク結合溝1193に嵌合して結合する。これにより、交差引張部材310による干渉を最小化することができる。さらに、交差引張部材310は、溶接(welding)によって単位マスク110と結合してもよい。
本発明の一実施形態において、交差引張部材310は、単位マスク110を単純に支持するのではなく、単位マスク110に引張力を加える。すなわち、交差引張部材310は、単位マスク110の長さ方向と交差する方向に単位マスク110を引っ張る。
したがって、単位マスク110がマスクフレーム200によって単位マスク110の長さ方向に引っ張られるとき、単位マスク110にカーリング(curling)またはウェーブ(wave)のような構造的な変形が生じることを、交差引張部材310が単位マスク110の長さ方向と交差する方向に引っ張ることによって抑制することができる。
このとき、マスクフレーム200が加える引張力による構造的な変形は、単位マスク110の両側端部の間の中央部で主に発生する。これにより、交差引張部材310は、単位マスク110の長さ方向の両側端部の間の中央部に位置したダミー領域119に結合することが最も効果的である。
単位マスク110にカーリングまたはウェーブのような構造的な変形が生じれば、単位マスク110と工程対象基板の間のギャップ(gap)が発生したり整列が乱れ、不良発生の原因となる。
また、交差引張部材310の両端部は、マスクフレーム200と結合する。交差引張部材310と結合するマスクフレーム200の一領域には、フレーム結合溝203(図1に示す)が形成されてもよい。フレーム結合溝203は、マスク結合溝1193と同じ構造的原理で形成されてもよい。また、交差引張部材310の両端部は、溶接によってマスクフレーム200に結合されてもよい。
最終的に、マスクフレーム200の互いに対向する両側フレームは単位マスク110の両側端部と結合し、マスクフレーム200の互いに対向する他の両側フレームは交差引張部材310の両端部と結合する。
このような構成により、本発明の一実施形態に係るマスクユニット101は、構造的な変形を抑制し、マスクユニット101を用いた工程の精密度を向上させることができる。
すなわち、本発明の一実施形態に係るマスクユニット101の単位マスク110は、単位マスク110の長さ方向に引張力を有するようにマスクフレーム200に固定され、単位マスク110の長さ方向と交差する方向に引張力を有するように交差引張部材310と結合する。
これにより、マスクユニット101は、図2の矢印で示すように、単位マスク101の長さ方向および長さ方向と交差する方向すべてに引張力を加えることができる。
したがって、単位マスク110が引張力によって弛まないように支持されるだけでなく、単位マスク110が4方向に引っ張られることにより、構造的な変形が生じることを効果的に抑制することができる。
本発明を上述したような好ましい実施形態によって説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲の概念と範囲を逸脱しない限り、多様な修正および変形が可能であるということは、本発明が属する技術分野に従事する者であれば容易に理解できるであろう。
101:マスクユニット
110:単位マスク
200:マスクフレーム
250:クランプ部
310:交差引張部材

Claims (6)

  1. 長さ方向に沿って配列された複数のパターン領域と、前記複数のパターン領域の間に配置されたダミー領域とを有する1つ以上の単位マスク、
    前記単位マスクの長さ方向に引張力が加えられるように、前記単位マスクの長さ方向の両側端部を引っ張って固定するマスクフレーム、および
    前記単位マスクの前記ダミー領域に結合し、前記単位マスクの長さ方向と交差する方向に形成され、前記単位マスクの長さ方向と交差する方向に前記単位マスクに引張力を加える交差引張部材、
    を含み、前記交差引張部材と結合する前記単位マスクの前記ダミー領域には、マスク結合溝が形成され前記交差引張部材と前記単位マスクは、溶接(welding)によって結合されるマスクユニット。
  2. 前記交差引張部材は、前記単位マスクの長さ方向の両側端部の間の中央部に結合する、請求項1に記載のマスクユニット。
  3. 前記交差引張部材の両端部は、前記マスクフレームに結合する、請求項1に記載のマスクユニット。
  4. 前記交差引張部材と結合する前記マスクフレームの一領域には、フレーム結合溝が形成される、請求項3に記載のマスクユニット。
  5. 前記交差引張部材と前記マスクフレームは、溶接によって結合される、請求項3に記載のマスクユニット。
  6. 前記マスクフレームは、前記単位マスクの両端部を固定するクランプ(clamp)部を含む、請求項1に記載のマスクユニット。
JP2011198617A 2011-06-21 2011-09-12 マスクユニット Active JP5809892B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110060248A KR20130028165A (ko) 2011-06-21 2011-06-21 마스크 유닛
KR10-2011-0060248 2011-06-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013002000A JP2013002000A (ja) 2013-01-07
JP5809892B2 true JP5809892B2 (ja) 2015-11-11

Family

ID=47362110

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011198617A Active JP5809892B2 (ja) 2011-06-21 2011-09-12 マスクユニット

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20120328851A1 (ja)
JP (1) JP5809892B2 (ja)
KR (1) KR20130028165A (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101232181B1 (ko) * 2010-02-03 2013-02-12 엘지디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리
JP6511908B2 (ja) * 2014-03-31 2019-05-15 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置
KR102624714B1 (ko) 2016-09-12 2024-01-12 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체의 제조방법
EP3543370A4 (en) * 2016-11-18 2020-04-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. STEAM DEPOSIT MASK
KR20210065255A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 삼성디스플레이 주식회사 증막 마스크, 이를 이용한 디스플레이 장치의 제조 방법 및 디스플레이 장치
CN111270201B (zh) * 2020-02-19 2022-06-17 昆山国显光电有限公司 掩膜版
WO2023125484A1 (zh) * 2021-12-28 2023-07-06 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种镀膜夹具及其形成方法、以及镀膜遮蔽方法

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2958147A (en) * 1956-11-30 1960-11-01 Gen Dynamics Corp Chemical milling apparatus
US3887421A (en) * 1973-01-22 1975-06-03 Gen Motors Corp Method of masking semiconductor wafers using a self-aligning mask
US3841261A (en) * 1973-01-22 1974-10-15 Gen Motors Corp Self-aligning etch-out spray mask
US4840596A (en) * 1987-12-31 1989-06-20 Zenith Electronics Corporation Factory fixture frame with means for temporarily and removably supporting an in-process tension mask for a color cathode ray tube
US4772238A (en) * 1987-12-30 1988-09-20 Zenith Electronics Corporation Foil mask stretching apparatus and process
US4915658A (en) * 1988-04-04 1990-04-10 Corning Incorporated Reference and support system for flat CRT tension mask
US5162008A (en) * 1988-07-22 1992-11-10 Zenith Electronics Corporation Method and apparatus for stretching interchangeable tension masks in color cathode ray tubes
JPH1050584A (ja) * 1996-08-07 1998-02-20 Nikon Corp マスク保持装置
US6280276B1 (en) * 1999-12-14 2001-08-28 Thomson Licensing S.A. Method of attaching a tension mask to a frame
WO2003019988A1 (fr) * 2001-08-24 2003-03-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Dispositif de masque de formation a plusieurs faces pour depot sous vide
US6897164B2 (en) * 2002-02-14 2005-05-24 3M Innovative Properties Company Aperture masks for circuit fabrication
US6821348B2 (en) * 2002-02-14 2004-11-23 3M Innovative Properties Company In-line deposition processes for circuit fabrication
US7006202B2 (en) * 2002-02-21 2006-02-28 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Mask holder for irradiating UV-rays
JP2004006257A (ja) * 2002-04-26 2004-01-08 Tohoku Pioneer Corp 真空蒸着用マスク及びこれを用いて製造された有機elディスプレイパネル
US6955726B2 (en) * 2002-06-03 2005-10-18 Samsung Sdi Co., Ltd. Mask and mask frame assembly for evaporation
US6729927B2 (en) * 2002-08-01 2004-05-04 Eastman Kodak Company Method and apparatus for making a shadow mask array
JP4173722B2 (ja) * 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子
JP4439203B2 (ja) * 2003-05-09 2010-03-24 大日本印刷株式会社 多面付けマスク装置及びその組立方法
JP2005174843A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Sony Corp 蒸着用マスクおよびその製造方法
EP1802177A4 (en) * 2004-09-08 2010-04-14 Toray Industries ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
KR100708654B1 (ko) * 2004-11-18 2007-04-18 삼성에스디아이 주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체
KR100682760B1 (ko) * 2005-03-22 2007-02-15 엘지전자 주식회사 유기전계발광표시소자의 제조장치
US7674148B2 (en) * 2006-02-10 2010-03-09 Griffin Todd R Shadow mask tensioning method
US7675607B2 (en) * 2006-07-14 2010-03-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4349531B2 (ja) * 2006-10-27 2009-10-21 Tdk株式会社 マスク装置
US20090311427A1 (en) * 2008-06-13 2009-12-17 Advantech Global, Ltd Mask Dimensional Adjustment and Positioning System and Method
DE102008037387A1 (de) * 2008-09-24 2010-03-25 Aixtron Ag Verfahren sowie Vorrichtung zum Abscheiden lateral strukturierter Schichten mittels einer magnetisch auf einem Substrathalter gehaltenen Schattenmaske
KR101117645B1 (ko) * 2009-02-05 2012-03-05 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR101030030B1 (ko) * 2009-12-11 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체
KR101182235B1 (ko) * 2009-12-14 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크, 그의 제조 방법 및 제조 장치
KR101107159B1 (ko) * 2009-12-17 2012-01-25 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
KR101309864B1 (ko) * 2010-02-02 2013-09-16 엘지디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리
KR101174879B1 (ko) * 2010-03-09 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 조립방법
EP2397899A1 (en) * 2010-06-15 2011-12-21 Applied Materials, Inc. Mask holding device
KR101693578B1 (ko) * 2011-03-24 2017-01-10 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크
KR101837624B1 (ko) * 2011-05-06 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
KR101833234B1 (ko) * 2011-06-21 2018-03-02 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
JP2013055039A (ja) * 2011-08-11 2013-03-21 Canon Inc El発光装置の製造方法および蒸着装置
KR20130081528A (ko) * 2012-01-09 2013-07-17 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크 및 이를 이용한 증착 설비
KR101995500B1 (ko) * 2012-11-20 2019-10-02 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체
KR20150019695A (ko) * 2013-08-14 2015-02-25 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013002000A (ja) 2013-01-07
KR20130028165A (ko) 2013-03-19
US20120328851A1 (en) 2012-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5809892B2 (ja) マスクユニット
JP6511908B2 (ja) 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置
KR102024853B1 (ko) 단위 마스크 및 마스크 조립체
KR101659948B1 (ko) 살대형 서포트 시트, 이를 이용한 파인 메탈 마스크 조립체 제조 방법, 제조 장치 및 파인 메탈 마스크 조립체
KR102219210B1 (ko) 단위 마스크 및 마스크 조립체
KR101107159B1 (ko) 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
KR102118641B1 (ko) 단위 마스크 및 마스크 조립체
US8343278B2 (en) Mask assembly and deposition and apparatus for a flat panel display using the same
US20150007768A1 (en) Mask for deposition
US9953828B2 (en) Frame and mask assembly having the same
KR101919467B1 (ko) 단위 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체
JP2019210542A (ja) フルサイズマスク組立体とその製造方法
KR20110104793A (ko) 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체
KR101995500B1 (ko) 단위 마스크 및 마스크 조립체
JP2008096866A (ja) アクティブマトリックス型液晶表示装置用の液晶駆動用チップ実装cofフィルム及びアクティブマトリックス型液晶表示装置の製造方法
WO2014010284A1 (ja) マスクユニットおよび蒸着装置
TW202012660A (zh) 附框架蒸鍍遮罩之製造方法、拉張裝置、有機半導體元件之製造裝置及有機半導體元件之製造方法
JP2007034298A (ja) 表示装置用基板の製造装置及び製造方法
TWM474258U (zh) 掩膜框架及其對應的蒸鍍用掩膜組件
KR20150019695A (ko) 단위 마스크 및 마스크 조립체
WO2018218932A1 (zh) 掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备
WO2016067324A1 (ja) 表示装置
JP2009168935A (ja) 露光に用いられるフォトマスク
KR20110074262A (ko) 포토 마스크 및 상기 포토 마스크를 이용하여 제조된 박막 트랜지스터
KR20150034003A (ko) 마스크 고정장치 및 이를 포함하는 증착 설비

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140715

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150310

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150825

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150914

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5809892

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250