WO2020158138A1 - 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 Download PDF

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夏海 横川
和朗 榎本
彬 阪口
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Definitions

  • the present disclosure relates to a lithographic printing plate precursor, a method for producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.
  • a lithographic printing plate comprises a lipophilic image area that receives ink during the printing process and a hydrophilic non-image area that receives fountain solution.
  • the lipophilic image part of the lithographic printing plate is used as the ink receiving part, and the hydrophilic non-image part is dampening water receiving part (ink non-receiving part) by utilizing the property that water and oil-based ink repel each other.
  • a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, the ink is applied only to the image area, and then the ink is transferred to a printing medium such as paper to perform printing.
  • a lithographic printing plate precursor in which a lipophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used.
  • the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lith film, and then a portion to be an image portion of the image recording layer is left, and the other unnecessary image recording layer is treated with an alkaline developer or an organic solvent.
  • a lithographic printing plate is obtained by carrying out plate making by a method of dissolving and removing with a solvent and exposing the surface of a hydrophilic support to form a non-image area.
  • Patent Document 1 Examples of conventional lithographic printing plate precursors or printing methods using lithographic printing plate precursors include those described in Patent Documents 1 and 2.
  • Patent Document 1 (A) a radically polymerizable compound, (B) an infrared absorbing dye, (C) a radical generator, and (D) a lipophilic resin in the core part and a general formula below in the shell part are described on a support.
  • a lithographic printing plate precursor having an image recording layer which contains resin particles having a core-shell structure having a resin having a structural unit represented by (I) and which can be removed by at least one of ink and fountain solution.
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and m and l are 0 or a positive integer satisfying 1 ⁇ m+l ⁇ 200. is there.
  • free radical-polymerizable component when exposed to radiation for image formation, generating sufficient radicals to initiate polymerization of the free-radical polymerizable component.
  • an initiator composition a radiation absorbing compound, one or more polymeric binders, and a hydrophilic polymer containing a core of a hydrophobic polymer and one or more zwitterionic functional groups covalently bonded to the core of the polymer.
  • a negative working imageable element is described that comprises a substrate having an imageable layer comprising at least 5% by weight of core-shell particles comprising a shell.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2012-71590
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2012-529669
  • the problem to be solved by the embodiments of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor excellent in printing durability even when a UV ink is used.
  • a problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a method for producing a planographic printing plate using the planographic printing plate precursor or a planographic printing method.
  • Means for solving the above problems include the following aspects.
  • ⁇ 3> The lithographic printing plate precursor as described in ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the polymerization initiator contains an electron-accepting polymerization initiator.
  • ⁇ 4> The lithographic printing plate precursor as described in ⁇ 3>, wherein the difference between the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator and the LUMO of the infrared absorber is 0.70 eV or less.
  • ⁇ 5> The lithographic printing plate precursor as described in any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, in which the polymerization initiator contains an electron donating polymerization initiator.
  • ⁇ 6> The lithographic printing plate precursor as described in ⁇ 5>, wherein the difference between the HOMO of the infrared absorber and the HOMO of the electron donative polymerization initiator is 0.70 eV or less.
  • ⁇ 7> The lithographic printing plate precursor as described in any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, in which the image recording layer further contains a polymerizable compound.
  • ⁇ 8> The lithographic printing plate precursor as described in any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, in which the image recording layer further contains an acid color former.
  • ⁇ 9> The lithographic printing plate precursor as described in any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the functional group B is a group capable of forming a covalent bond with the functional group A.
  • the functional group B is a group capable of forming an ionic bond with the functional group A.
  • the functional group B is a group capable of hydrogen bonding with the functional group A.
  • ⁇ 12> The lithographic printing plate precursor as described in any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the functional group B is a group capable of dipole interaction with the functional group A.
  • the resin A contains a resin having a crosslinked structure.
  • the polymerizable group is a (meth)acryloxy group.
  • the resin B further has a dispersible group.
  • ⁇ 16> The lithographic printing plate precursor as described in ⁇ 15>, wherein the dispersible group contains a group represented by the following formula 1.
  • *-QW-Y formula 1 In Formula 1, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, and Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure. , Either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a binding site with another structure.
  • a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor described in any one of ⁇ 1> to ⁇ 16> and at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution are supplied.
  • a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 16> and at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution are supplied.
  • a lithographic printing method comprising: a step of removing a non-image area image recording layer on a printing machine to produce a lithographic printing plate; and a step of printing with the obtained lithographic printing plate.
  • a lithographic printing plate precursor having excellent printing durability even when a UV ink is used. Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for producing a planographic printing plate using the planographic printing plate precursor or a planographic printing method.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of a lithographic printing plate precursor according to the present disclosure.
  • 1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of an aluminum support having an anodized film. It is the schematic sectional drawing which expanded one of the micropores in FIG. 2A.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support having an anodized film.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support having an anodized film.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support having an anodized film.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support having an anodized film.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of an aluminum support having an anodized film.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an aluminum support having an anodic oxide coating, which shows a process sequence from a first anodizing process to a second anodizing process. It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform diagram used for the electrochemical graining treatment in the manufacturing method of the aluminum support body which has an anodized film. It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical graining treatment using alternating current in the manufacturing method of the aluminum support body which has an anodized film. It is a side view which shows the concept of the process of brush graining used for the mechanical roughening process in the manufacturing method of the aluminum support which has an anodized film.
  • FIG. 3 is a schematic view of an anodizing apparatus used for anodizing in the method for producing an aluminum support having an anodized film.
  • (meth)acrylic is a term used as a concept including both acryl and methacryl
  • (meth)acryloyl is a term used as a concept including both acryloyl and methacryloyl.
  • process in the present specification refers to not only an independent process but also the case where the process cannot be clearly distinguished from other processes, as long as the intended purpose of the process is achieved. included.
  • mass % and “weight%” are synonymous
  • “mass part” and “weight part” are synonymous.
  • a combination of two or more preferable aspects is a more preferable aspect.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are columns of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (both manufactured by Tosoh Corporation) unless otherwise specified.
  • the gel permeation chromatography (GPC) analyzer was used to detect the solvent THF (tetrahydrofuran) with a differential refractometer, and the molecular weight was calculated using polystyrene as a standard substance.
  • the term “lithographic printing plate precursor” includes not only the lithographic printing plate precursor but also the discarded plate precursor.
  • lithographic printing plate includes not only a lithographic printing plate precursor prepared through an operation such as exposure and development, but also a discarding plate, if necessary. In the case of a waste original plate, the operations of exposure and development are not always necessary.
  • the waste plate is a lithographic printing plate precursor to be attached to a plate cylinder that is not used, for example, when a part of the paper surface is printed in a single color or two colors in color newspaper printing.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support, and an image recording layer on the support, the image recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, and core-shell particles, A resin containing a resin A having a functional group A in the core portion of the core-shell particle, and a functional group B capable of binding or interacting with the functional group A and a polymerizable group in the shell portion of the core-shell particle.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure may be a negative lithographic printing plate precursor or a positive lithographic printing plate precursor, but is preferably a negative lithographic printing plate precursor.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be suitably used as a lithographic printing plate precursor for on-press development.
  • planographic printing plate a planographic printing plate excellent in the number of printable plates (hereinafter, also referred to as “printing durability”) is required.
  • an ink that is cured by irradiation with ultraviolet rays (UV) also referred to as “ultraviolet curable ink or UV ink”
  • UV ink has high productivity because it can be dried instantly, generally has a low content of solvent, or it is easy to reduce environmental pollution because it is solvent-free. Do not dry with heat or dry with heat. Since an image can be formed in a short time, it has an advantage that the range of applications such as printing targets is expanded.
  • a lithographic printing plate precursor capable of providing a lithographic printing plate excellent in printing durability even when using a UV ink is considered to be very useful industrially.
  • the present inventor found that the lithographic printing plate precursor described in Patent Document 1 or Patent Document 2 had insufficient printing durability of the lithographic printing plate obtained, particularly when UV ink was used as the ink. I found that there is.
  • the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure contains an infrared absorber, a polymerization initiator, and core-shell particles, and contains a resin A having a functional group A in the core portion of the core-shell particles, By containing a functional group B capable of binding or interacting with the functional group A and a resin B having a polymerizable group in the shell part of the core-shell particle, a large number of polymerizable groups are present on the surface of the core-shell particle.
  • an image part having many crosslinking points and excellent strength can be obtained, and further, the core and the shell of the core-shell particle are bound or interacted with each other by the functional group A and the functional group B, and It is presumed that the strength of the recording layer is excellent, and the printing durability (UV printing durability) is excellent even when the UV ink is used.
  • the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure when the embodiment, the detailed mechanism is unknown, but also excellent dispersion stability of the core-shell particles themselves, also, the core-shell particles image It is presumed that the lithographic printing plate precursor is likely to have a smooth surface due to its excellent dispersibility in the recording layer, and often has an excellent surface condition. Further, the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, when the above embodiment, the detailed mechanism is unknown, but the aggregation of the infrared absorbent and the core-shell particles in the image recording layer is easily suppressed, and It is presumed that since it is also excellent in dispersibility in dampening water, it is often excellent in dampening water stain control.
  • the detailed mechanism is unknown, but also excellent dispersion stability of the core-shell particles themselves, also, the core-shell particles image It is presumed that the lithographic printing plate precursor is likely to have a smooth surface due to its excellent dispersibility in the recording layer, and often has an excellent
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has an image recording layer formed on a support.
  • the image recording layer in the present disclosure contains an infrared absorber, a polymerization initiator, and core-shell particles.
  • the image recording layer used in the present disclosure is preferably a negative image recording layer, and more preferably a water-soluble or water-dispersible negative image recording layer.
  • the unexposed portion of the image recording layer can be removed with at least one of dampening water and printing ink. The details of each component contained in the image recording layer will be described below.
  • the image recording layer used in the present disclosure contains core-shell particles, contains a resin A having a functional group A in the core portion of the core-shell particles, and binds or interacts with the functional group A in the shell portion of the core-shell particles. It contains a functional group B capable of acting and a resin B having a dispersing group. Further, each structural unit described later in the resin A or the resin B may independently have one kind of the resin A or the resin B or may have two or more kinds thereof unless otherwise specified. Good.
  • the functional group A and the functional group B are functional groups capable of binding or interacting with each other.
  • the mode in which the functional group A and the functional group B can be bonded include a covalent bond, an ionic bond, and a hydrogen bond.
  • examples of the mode in which the functional group A and the functional group B can interact include dipole interaction and the like.
  • the group capable of forming a covalent bond with the functional group A and the functional group B is not particularly limited as long as it is a group capable of forming a covalent bond by the reaction of the functional group A and the functional group B, and examples thereof include a hydroxy group, a carboxy group, and an amino group. Examples thereof include groups, amide groups, epoxy groups, isocyanate groups, thiol groups, glycidyl groups, aldehyde groups and sulfonic acid groups. Among these, from the viewpoint of UV printing durability, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group and an epoxy group are preferable, and a hydroxyl group and a carboxyl group are more preferable.
  • the ionic bondable group is not particularly limited as long as one of the functional group A and the functional group B has a cationic group and the other has an anionic group.
  • the cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a pyridinium group, a phosphonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, and an iodonium group.
  • an ammonium group, a pyridinium group, a phosphonium group or a sulfonium group is preferable, an ammonium group or a phosphonium group is more preferable, and an ammonium group is particularly preferable.
  • the anionic group is not particularly limited, and examples thereof include a phenolic hydroxyl group, a carboxy group, —SO 3 H, —OSO 3 H 2 , —PO 3 H, —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 ⁇ and the like can be mentioned.
  • a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a sulfuric acid group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group or a carboxy group is preferable, a phosphoric acid group, or a carbonoxy group is more preferable, It is more preferably a carboxy group.
  • the group capable of hydrogen bonding is not particularly limited as long as one of the functional group A and the functional group B has a hydrogen bond donating site and the other has a hydrogen bond accepting site.
  • the hydrogen bond-donating site may have a structure having an active hydrogen atom capable of hydrogen bonding, but is preferably a structure represented by XH.
  • X represents a hetero atom, and is preferably a nitrogen atom or an oxygen atom.
  • As the hydrogen bond-donating site from the viewpoint of UV printing durability, a hydroxy group, a carboxy group, a primary amide group, a secondary amide group, a primary amino group, a secondary amino group, a primary amino group.
  • the hydrogen bond-accepting moiety is preferably a structure containing an atom having a non-shared electron pair, preferably a structure containing an oxygen atom having a non-shared electron pair, a carbonyl group (carboxy group, amide group, imide group And a carbonyl structure such as a urea bond and a urethane bond), and a sulfonyl group (including a sulfonyl structure such as a sulfonamide group), more preferably at least one structure selected from the group consisting of A carbonyl group (including a carbonyl structure such as a carboxy group, an amide group, an imide group, a urea bond and a urethane bond) is particularly preferable.
  • the group capable of forming a hydrogen bond with the functional group A and the functional group B is preferably a group having the above hydrogen bond-donating site and hydrogen bond-accepting site, and is a carboxy group, an amide group, an imide group, a urea bond, or a urethane. It preferably has a bond or a sulfonamide group, and more preferably has a carboxy group, an amide group, an imide group, or a sulfonamide group.
  • -Functional group A and functional group B are groups capable of dipole interaction-
  • the group in which the functional group A and the functional group B are capable of dipolar interaction is a structure represented by X--H (X represents a hetero atom, a nitrogen atom or an oxygen atom) in the above hydrogen bondable group.
  • X represents a hetero atom, a nitrogen atom or an oxygen atom
  • Other groups other than those having a polarized structure may be used, and groups having heteroatoms having different electronegativities are preferable.
  • a combination of at least one atom selected from the group consisting of an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and a halogen atom and a carbon atom is preferable, and an oxygen atom, a nitrogen atom, Further, a combination of at least one atom selected from the group consisting of sulfur atom and carbon atom is more preferable.
  • a combination of a nitrogen atom and a carbon atom, a combination of a carbon atom and a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and specifically, a cyano group, a cyanuric group, Sulfonamide groups are more preferred. Further, it is preferable that the functional group A and the functional group B are the same dipole-interacting group.
  • the bond between the functional group A and the functional group B and the interaction between the functional group A and the functional group B can be confirmed by the following method. Specifically, 2 g of resin A (aqueous solution having a solid content concentration of 20 mass%) and 8 g of resin B (a 1-methoxy-2-propanol (MFG) solution having a solid content concentration of 7.5 mass%) were reacted or mixed. Then, the mixture was centrifuged at 21,000 xg for 60 minutes to collect the precipitate. Next, this precipitate was washed with a solvent that dissolves the resin B, the resin B containing the functional group B that did not react or interact with the functional group A was washed off, and the precipitate was dried at 40°C. ..
  • Infrared absorption spectrum (IR) of the dried precipitate was quantified, and the weight increase before and after the reaction or mixing was quantified, and the weight of the dried solid of the supernatant was measured to determine the absorption derived from the functional group B in the IR measurement.
  • IR Infrared absorption spectrum
  • the functional group B capable of binding or interacting with the functional group A is a group capable of covalently bonding with the functional group A from the viewpoint of UV printing durability.
  • group capable of covalent bonding group capable of forming an ionic bond with functional group A
  • group capable of forming an ionic bond group capable of forming a hydrogen bond with functional group A.
  • group capable of hydrogen bonding or a group capable of dipole interaction with the functional group A (hereinafter also referred to as "group capable of dipole interaction”).
  • the group capable of covalent bonding is appropriately selected according to the types of the functional group A and the functional group B.
  • the functional group A and the functional group B is, for example, a carboxy group
  • examples of the group capable of covalently bonding to the carboxy group include a hydroxy group and a glycidyl group.
  • examples of the group capable of forming a covalent bond with —NH 2 include an isocyanate group and a glycidyl group. ..
  • the group capable of forming an ionic bond with the functional group A is appropriately selected according to the types of the functional group A and the functional group B.
  • the functional group A and the functional group B is, for example, a carboxy group
  • examples of the group capable of forming an ion bond with the carboxy group include a tertiary amino group, a pyridyl group, and a piperidyl group.
  • examples of the group capable of forming an ionic bond with the sulfonic acid group include a tertiary amino group.
  • examples of the group capable of forming an ionic bond with —SO 3 — include a cationic group such as a quaternary ammonium group.
  • a quaternary ammonium group such as a quaternary ammonium group.
  • a tertiary amino group is mentioned as a group capable of forming an ionic bond with the phosphoric acid group.
  • the group capable of hydrogen bonding is appropriately selected according to the types of the functional group A and the functional group B.
  • one of the functional group A and the functional group B is a carboxy group
  • an amide group, a carboxy group and the like can be mentioned.
  • one of the functional group A and the functional group B is a phenolic hydroxyl group
  • examples of the group capable of forming a hydrogen bond with the functional group A include phenolic hydroxyl acid and the like.
  • the group capable of dipole interaction is appropriately selected according to the types of the functional group A and the functional group B.
  • the functional group A and the functional group B is, for example, a cyano group
  • examples of the group capable of dipole-interaction with the cyano group include a cyano group.
  • a sulfonic acid amide group can be mentioned as a group capable of having a dipole interaction with the sulfonic acid amide group.
  • the core portion of the core-shell particle contains a resin A having a functional group A.
  • the resin A may be an addition polymerization type resin or a polycondensation resin, but from the viewpoint of UV printing durability and ease of production, an acrylic resin, a styrene-acrylic copolymer, a polyurea resin or a polyurethane resin is used. Is preferred, acrylic resin, styrene-acrylic copolymer or polyurethane resin is more preferred, acrylic resin or styrene-acrylic copolymer is more preferred, and styrene-acrylic copolymer is preferred. Is particularly preferable.
  • the acrylic resin is preferably a resin in which the content of the structural unit formed by the (meth)acrylic compound (the structural unit derived from the (meth)acrylic compound) is 50% by mass or more based on the total mass of the resin.
  • the (meth)acrylic compound include a (meth)acrylate compound and a (meth)acrylamide compound.
  • the styrene-acrylic copolymer is preferably a resin in which the content of the structural unit formed by the styrene compound (structural unit derived from the styrene compound) is 30% by mass or more based on the total mass of the resin. It is more preferably at least mass%, particularly preferably at least 50 mass%.
  • the resin A may be used alone or in combination of two or more. Further, the resin A may be in a latex state.
  • the functional group A contained in the resin A is not particularly limited as long as it can bond or interact with the functional group B contained in the resin B.
  • the functional group A can be appropriately set according to the type of the functional group B described later.
  • the resin A may contain one kind of the functional group A alone, or may use two or more kinds in combination.
  • the functional group A is preferably at least one group selected from the group consisting of a carboxy group, a cyano group, and an amino group from the viewpoint of UV printing durability, and is preferably a carboxy group. More preferable. Further, the resin A preferably has a structural unit having a functional group A.
  • the resin A preferably contains a structural unit formed of a compound having a cyano group.
  • the cyano group is preferably introduced into the resin A as a constitutional unit containing a cyano group, usually using a compound (monomer) having a cyano group.
  • Examples of the compound having a cyano group include (meth)acrylonitrile compounds, and (meth)acrylonitrile is preferable.
  • the constituent unit having a cyano group is preferably a constituent unit formed of a (meth)acrylonitrile compound, and more preferably a constituent unit formed of (meth)acrylonitrile.
  • constitutional unit formed by the compound having a cyano group a constitutional unit represented by the following formula a1 is preferably exemplified.
  • R A1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R A1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and further preferably a hydrogen atom.
  • the content of the structural unit having a cyano group is 5% by mass to 90% by mass based on the total mass of the resin A from the viewpoint of UV printing durability.
  • the amount is preferably 55% by mass to 90% by mass, more preferably 60% by mass to 85% by mass.
  • the resin A preferably contains a structural unit having a carboxy group from the viewpoint of UV printing durability.
  • the carboxy group is usually preferably introduced into the resin A as a constitutional unit containing a carboxy group, using a compound (monomer) having a carboxy group.
  • the structural unit having a carboxy group may be a structural unit formed of a compound having a carboxy group such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid.
  • the resin A preferably contains at least one structural unit selected from the group consisting of structural units formed by acrylic acid and structural units represented by the following formula a2.
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • X 3 represents —O— or —NR 7 —
  • R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • L 3 represents a single bond or the number of carbon atoms. Represents one or more divalent hydrocarbon groups.
  • R 7 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom. Is more preferable.
  • L 3 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms, and is a single bond or a divalent hydrocarbon group which may have an ester bond or an ether bond therein. Is more preferable, a single bond or a divalent hydrocarbon group is more preferable, and a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group is further preferable.
  • L 3 represents a divalent hydrocarbon group
  • L 3 preferably has 2 to 15 carbon atoms, and more preferably 3 to 12 carbon atoms.
  • the content of the structural unit having a carboxy group (preferably the structural unit a2) with respect to the total mass of the resin A is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, and 10% by mass or more and 55% by mass or less. Is more preferable.
  • the resin A preferably contains a structural unit formed of a compound having an amino group.
  • the amino group may be a primary amino group, a secondary amino group or a tertiary amino group, but is preferably a tertiary amino group from the viewpoint of UV printing durability.
  • the resin A preferably contains a structural unit represented by the following formula a3.
  • R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • X 4 represents —O— or —NR 8 —
  • R 8 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • L 4 , R 5 and R 6 are represented. At least two of them may combine to form a ring
  • L 4 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms
  • R 5 and R 6 each independently have a carbon number. It represents one or more monovalent hydrocarbon groups, and * each independently represents a binding site with another structure.
  • R 8 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom. Is more preferable.
  • L 4 represents a single bond or a divalent hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms, preferably a single bond or a divalent hydrocarbon group which may have a urea bond or an ether bond, and a single bond Alternatively, a divalent hydrocarbon group is more preferable, and a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group is further preferable.
  • the carbon number of L 4 is more preferably 2-10, and even more preferably 2-8.
  • R 5 and R 6 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms, and preferably an aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms.
  • the carbon numbers of R 5 and R 6 are each independently preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and further preferably 1 to 3.
  • the content of the structural unit having an amino group is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, and 10% by mass or more and 50% by mass or less, based on the total mass of the resin A. It is more preferable that the amount is 10% by mass or more and 40% by mass or less.
  • the resin A further includes at least one of a constitutional unit formed of an aromatic vinyl compound, a constitutional unit having a dispersible group, a constitutional unit having a crosslinked structure, and the like.
  • the resin A preferably further contains a structural unit formed of an aromatic vinyl compound.
  • the aromatic vinyl compound may be a compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples thereof include a styrene compound and a vinylnaphthalene compound, and a styrene compound is preferable, and styrene is more preferable.
  • styrene compound examples include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, ⁇ -methylstyrene, p-methyl- ⁇ -methylstyrene, ⁇ -methylstyrene and p-methoxy- ⁇ -methylstyrene.
  • Styrene is preferred.
  • vinylnaphthalene compound examples include 1-vinylnaphthalene, methyl-1-vinylnaphthalene, ⁇ -methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methyl-1-vinylnaphthalene and 4-methoxy-1-vinylnaphthalene. -Vinylnaphthalene is preferred.
  • a structural unit formed by the aromatic vinyl compound a structural unit represented by the following formula Z1 is preferably exemplified.
  • R Z1 and R Z2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • Ar represents an aromatic ring group
  • R Z3 represents a substituent
  • nz is an integer of 0 or more and the maximum number of substituents of Ar or less.
  • R Z1 and R Z2 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and both are hydrogen atoms. Is more preferable.
  • Ar is preferably a benzene ring or a naphthalene ring, and more preferably a benzene ring.
  • R Z3 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a methyl group or a methoxy group. Is more preferable. In the formula Z1, if the R Z3 there are a plurality, plural of R Z3 may be the same or may be different. In formula Z1, nz is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and further preferably 0.
  • the content of the constituent unit formed by the aromatic vinyl compound is 10% by mass to 90% by mass based on the total mass of the resin A from the viewpoint of ink receptivity. Is preferable, 30% by mass to 85% by mass is more preferable, and 45% by mass to 85% by mass is particularly preferable.
  • the resin A contained in the core portion of the core-shell particles preferably has a crosslinked structure, and more preferably has a structural unit having a crosslinked structure. Since the resin A has a cross-linked structure, the hardness of the core-shell particles themselves is improved, so that the strength of the image area is improved, and even when an ultraviolet curable ink that easily deteriorates the plate than other inks is used, It is considered that the printing durability (UV printing durability) is further improved.
  • the cross-linked structure is not particularly limited, but it is a structural unit formed by polymerizing a polyfunctional ethylenically unsaturated compound, or a structural unit in which one or more reactive groups form a covalent bond inside the particle.
  • the functional number of the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably 2 to 15, more preferably 3 to 10, and more preferably 4 to 10 from the viewpoint of UV printing durability and on-press development property. It is more preferable to be present, and it is particularly preferable to be 5 to 10.
  • the structural unit having a crosslinked structure is a bifunctional to 15 functional branched unit.
  • the n-functional branching unit means a branching unit having n molecular chains, in other words, a structural unit having an n-functional branching point (crosslinking structure). It is also preferable to form a crosslinked structure with a polyfunctional mercapto compound.
  • the ethylenically unsaturated group in the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited, and examples thereof include (meth)acryloxy group, (meth)acrylamide group, aromatic vinyl group, and maleimide group.
  • the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably a polyfunctional (meth)acrylate compound, a polyfunctional (meth)acrylamide compound, or a polyfunctional aromatic vinyl compound.
  • polyfunctional (meth)acrylate compound examples include diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6 -Hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, tricyclodecane dimethylol diacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexa Examples thereof include acrylate and triacrylate of tris( ⁇ -hydroxyethyl)isocyanurate.
  • polyfunctional (meth)acrylate compounds examples include N,N′-methylenebisacrylamide, N-[tris(3-acrylamidopropoxymethyl)methyl]acrylamide and the like.
  • polyfunctional aromatic vinyl compound examples include divinylbenzene and the like.
  • the carbon number of the branching unit is not particularly limited, but is preferably 8 to 100, more preferably 8 to 70.
  • the structural unit having a crosslinked structure is selected from the group consisting of structural units represented by BR-1 to BR-17 shown below from the viewpoints of UV printing durability, on-press development property and particle strength. At least one structural unit is preferable, and it is more preferable that at least one structural unit selected from the group consisting of structural units represented by BR-1 to BR-10 or BR-13 to BR-17 below is included. Further, at least one structural unit selected from the group consisting of structural units represented by BR-1 to BR-7 or BR-13 to BR-17 shown below is more preferable, and a structural unit represented by BR-1 shown below is preferable. Is particularly preferable.
  • R BR each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 1 to 20.
  • R BR each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 1 to 20.
  • BR-18 shown below is preferably exemplified.
  • the content of the structural unit having a crosslinked structure in the resin A is preferably 1% by mass to 50% by mass based on the total mass of the resin A from the viewpoint of UV printing durability and on-press development property.
  • the content is more preferably 5% by mass to 45% by mass, further preferably 10% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 35% by mass.
  • the constitutional unit having a dispersing group in the resin A has the same meaning as the constitutional unit having a dispersing group in the resin B which will be described later, and the preferred embodiments are also the same.
  • the content of the structural unit having a dispersion group is preferably 50% by mass or less based on the total mass of the resin A, and 1% by mass to 20% by mass. Is more preferable, and 2% by mass to 10% by mass is further preferable.
  • the resin A contained in the core part may contain a structural unit having a hydrophobic group from the viewpoint of ink receptivity.
  • the hydrophobic group include an alkyl group, an aryl group and an aralkyl group.
  • the constitutional unit containing a hydrophobic group a constitutional unit formed by an alkyl(meth)acrylate compound, an aryl(meth)acrylate compound or an aralkyl(meth)acrylate compound is preferable, and a constitutional unit formed by an alkyl(meth)acrylate compound is preferable. Are more preferred.
  • the alkyl group in the above alkyl (meth)acrylate compound preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure.
  • Examples of the alkyl (meth)acrylate compound include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate and dicyclopentanyl (meth)acrylate.
  • the aryl group in the aryl (meth)acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
  • the aryl group may have a known substituent.
  • the aryl (meth)acrylate compound include phenyl (meth)acrylate.
  • the carbon number of the alkyl group in the aralkyl (meth)acrylate compound is preferably 1-10.
  • the alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure.
  • the aryl group in the aralkyl(meth)acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
  • Preferred examples of the aralkyl (meth)acrylate compound include benzyl (meth)acrylate.
  • the content of the structural unit having a hydrophobic group in the resin A contained in the core part is preferably 5% by mass to 50% by mass, and 10% by mass to It is more preferably 30% by mass.
  • the resin A contained in the shell portion may have other structural units other than the above-mentioned structural units in the resin A without particular limitation, and for example, a structural unit formed of an acrylamide compound, a vinyl ether compound or the like.
  • a structural unit formed of an acrylamide compound, a vinyl ether compound or the like are listed.
  • the acrylamide compound include (meth)acrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-ethyl(meth)acrylamide, N-propyl(meth)acrylamide, N-butyl(meth)acrylamide, N,N′-dimethyl.
  • Examples thereof include (meth)acrylamide, N,N′-diethyl(meth)acrylamide, N-hydroxyethyl(meth)acrylamide, N-hydroxypropyl(meth)acrylamide, N-hydroxybutyl(meth)acrylamide and the like.
  • vinyl ether compounds include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4-methylcyclohexyl vinyl ether.
  • the content of the other structural units is preferably 5% by mass to 50% by mass, and 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin A. Is more preferable.
  • the core part may contain the resin A, but the content of the resin A in the core part is preferably 80% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more, from the viewpoint of UV printing durability. More preferably, it is still more preferably 95% by mass or more, and particularly preferably, the core portion is made of the resin A.
  • the core portion is preferably particles, and more preferably particles made of resin A.
  • the shell part of the core-shell particle contains a functional group B capable of binding or interacting with the functional group A, and a resin B having a polymerizable group.
  • the resin B contained in the shell part of the core-shell particle has a functional group B capable of binding or interacting with the functional group A, and a polymerizable group.
  • the resin B may be an addition polymerization type resin or a polycondensation resin, but is preferably an acrylic resin, a polyurea resin or a polyurethane resin from the viewpoint of UV printing durability and easiness of production, and is preferably an acrylic resin.
  • a resin or a polyurethane resin is more preferable, and an acrylic resin is particularly preferable.
  • the acrylic resin is preferably a resin in which the content of the structural unit formed by the (meth)acrylic compound (the structural unit derived from the (meth)acrylic compound) is 50% by mass or more based on the total mass of the resin.
  • the (meth)acrylic compound include a (meth)acrylate compound and a (meth)acrylamide compound.
  • the resin B has a functional group B capable of binding or interacting with the functional group A.
  • Examples of the functional group B capable of binding or interacting with the functional group A include the groups capable of binding or interacting as described above.
  • the resin B may have one type of functional group B alone, or may have two or more types of functional group B.
  • the functional group B is at least one group selected from the group consisting of primary to tertiary amino groups, carboxy groups, epoxy groups, and cyano groups from the viewpoint of UV printing durability. It is preferable that it is a primary to tertiary amino group or a cyano group, and it is particularly preferable to be a primary to tertiary amino group.
  • the resin B preferably has a structural unit having a functional group B.
  • the structural unit having the functional group B capable of binding or interacting with the functional group A has a structural unit represented by the following formula b-1 or the above formula a1 from the viewpoint of UV printing durability. Is preferred.
  • X 1b represents —O—, OH, NR 3b or NH 2
  • L 1b represents a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms
  • R 1b represents a carboxy group, a hydroxy group, It represents a glycidyl group or an amino group
  • R 2b represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 3b represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • L 1b and R 1b may not be present accordingly.
  • X 1b is preferably —O— or OH.
  • R 3b is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • L 1b is preferably a divalent linking group having 2 to 10 carbon atoms, more preferably a divalent linking group having 2 to 8 carbon atoms, and preferably an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms. More preferably, an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable.
  • the divalent linking group represented by L 1b is a group represented by the following formula LD1, an alkylene group, an ester bond, and a bond having at least two structures selected from the group consisting of alkyleneoxy groups. More preferred are groups represented by
  • the wavy line portion and the * portion in the formula LDI represent the bonding position with another structure.
  • the amino group in R 1b may be a primary amino group, a secondary amino group or a tertiary amino group, but is preferably a tertiary amino group from the viewpoint of UV printing durability. ..
  • the content of the constituent unit having the functional group B in the resin B is preferably 1% by mass to 80% by mass, and 5% by mass to 60% by mass with respect to the total mass of the resin B. More preferably, it is mass %.
  • the resin B has a polymerizable group.
  • the polymerizable group may be a cationically polymerizable group or a radically polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, it is preferably a radically polymerizable group.
  • the polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferable, a vinylphenyl group (styryl group), a (meth)acryloxy group, or A (meth)acrylamide group is more preferable, and a (meth)acryloxy group is particularly preferable.
  • the resin B preferably has a constitutional unit having a polymerizable group.
  • the introduction of these polymerizable groups into the resin B includes a method of introducing a polymerizable group by residual polyfunctional monomer added at the time of core-shell particle synthesis and a method of introducing the polymerizable group on the particle surface by a polymer reaction after core-shell particle synthesis.
  • a method of introducing by a polymer reaction after the synthesis of core-shell particles is desirable. This is because introduction of a polymerizable group after core-shell particle synthesis allows more active polymerizable groups to be present on the surface of the core-shell particle, so that the reactivity with the matrix is further increased and a strong crosslink is formed with the matrix. This is because it is considered easy.
  • the structural unit having a polymerizable group can be introduced into the resin B (for example, the resin B on the particle surface) by, for example, a polymer reaction.
  • a polymer reaction Specifically, for example, a method of reacting a compound having a carboxy group-containing structural unit such as methacrylic acid with a compound having an epoxy group and a polymerizable group (eg, glycidyl methacrylate), a hydroxy group, an amino group. It can be introduced by a method of reacting a polymer having a constitutional unit having a group having active hydrogen such as a group with an isocyanate group and a compound having a polymerizable group (such as 2-isocyanatoethyl methacrylate).
  • a structural unit having a carboxy group such as methacrylic acid, or a structural unit having a group having the active hydrogen (hereinafter, collectively referred to as "structural unit before reaction")
  • the polymerizable group is Adjusting the reaction rate of the compound having an epoxy group and a polymerizable group, or the compound having an isocyanate group and a polymerizable group, with respect to these structural units after being introduced (also referred to as “the structural unit after the reaction”)
  • the constitutional unit having a carboxy group or the constitutional unit having a group having active hydrogen can be left in the resin B. Further, the remaining group may be the functional group B.
  • the structural unit having a polymerizable group is the above resin by a method of reacting a compound having a carboxy group and a polymerizable group with a polymer into which a structural unit having an epoxy group such as glycidyl (meth)acrylate is introduced.
  • B may be introduced.
  • the constituent unit having a polymerizable group may be introduced into the resin B by using, for example, a monomer having a partial structure represented by the following formula d1 or the following formula d2.
  • an ethylenically unsaturated group is formed by a elimination reaction using a basic compound with respect to the partial structure represented by the following formula d1 or the following formula d2.
  • the structural unit having a polymerizable group is introduced into the resin B.
  • R d represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • a d represents a halogen atom
  • X d represents —O— or —NR N —
  • R N represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R d is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • a d is preferably a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • X d is preferably —O—.
  • R N is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.
  • L D1 represents a single bond or a divalent linking group
  • L D2 represents an m+1 valent linking group
  • X D1 and X D2 each independently represent —O— or —NR N —
  • R N represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R D1 and R D2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group
  • m represents an integer of 1 or more.
  • L D1 is preferably a single bond.
  • L D1 represents a divalent linking group, an alkylene group, an arylene group or a divalent group in which two or more of these are bonded is preferable, and an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms or a phenylene group is more preferable.
  • L D2 is preferably a linking group containing a group represented by any one of the following formulas D2 to D6, a group represented by any one of the following formulas D2 to D6, and an ester bond. More preferred is a group represented by a bond having at least two structures selected from the group consisting of a alkylene group, and an alkyleneoxy group.
  • both X D1 and X D2 are preferably —O—.
  • R N is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.
  • R D1 is preferably a methyl group.
  • at least one of m R D2 is preferably a methyl group.
  • m is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • L D3 to L D7 represent a divalent linking group
  • L D5 and L D6 may be different
  • X D5 is —O— or —NR N —
  • R N is It represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • * represents the binding site with X D1 in formula D1
  • the wavy line represents the binding site with X D2 in formula D1.
  • L D3 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more thereof are bonded, and is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferable.
  • L D4 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more thereof are bonded, and is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferable.
  • L D5 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more thereof are bonded, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferable.
  • X D5 is preferably —O— or —NH—.
  • L D6 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which these are bonded two or more, and is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferable.
  • L D7 is preferably an alkylene group, an arylene group, or a group in which two or more thereof are bonded, and is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a phenylene group, or a group in which two or more of these are bonded. More preferable.
  • constitutional unit having a polymerizable group examples include the constitutional unit having a polymerizable group, but the constitutional unit having a polymerizable group in the resin B of the present disclosure is not limited thereto.
  • the content of the constituent unit having a polymerizable group in the resin B is preferably 10% by mass to 80% by mass, and 15% by mass to It is more preferably 75% by mass, and particularly preferably 20% by mass to 70% by mass.
  • the polymerizable group value (the amount of the polymerizable group per 1 g of the resin B) (preferably the ethylenically unsaturated group value) of the core-shell particles is preferably 0.05 mmol/g to 5 mmol/g, and 0.2 mmol/g More preferably, it is about 3 mmol/g.
  • the above-mentioned polymerizable value and ethylenically unsaturated group value shall be measured by an iodometric titration method.
  • the resin B preferably has a dispersing group from the viewpoints of UV printing durability, dampening water stain resistance, and the surface state of the image area in the lithographic printing plate obtained.
  • the dispersing group preferably contains a group represented by the following formula 1 from the viewpoints of dampening water stain resistance and the surface state of the image area in the lithographic printing plate obtained.
  • Q represents a divalent linking group
  • W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure
  • Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure, or It represents a monovalent group having a hydrophobic structure, one of W and Y has a hydrophilic structure
  • * represents a binding site with another structure.
  • Q is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms. Further, Q is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group in which two or more thereof are combined, and more preferably a phenylene group, an ester bond, or an amide bond.
  • the divalent group having a hydrophilic structure in W is preferably a polyalkyleneoxy group or a group in which —CH 2 CH 2 NR W — is bonded to one end of the polyalkyleneoxy group.
  • R W represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • Each R WA independently represents a linear, branched or cyclic alkylene group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkylene group having 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, and an alcarylene having 6 to 120 carbon atoms.
  • a group (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group) or an aralkylene group having 6 to 120 carbon atoms.
  • the monovalent group having a hydrophilic structure in Y is —OH, —C( ⁇ O)OH, a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the terminal, or a polyalkyleneoxy group having a hydrogen atom or an alkyl group at the terminal. It is preferably a group in which —CH 2 CH 2 N(R W )— is bonded to the other end of the alkyleneoxy group.
  • R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.
  • the group represented by Formula 1 has a hydrophilic structure, and W in Formula 1 is a hydrophilic structure.
  • W in Formula 1 is a hydrophilic structure.
  • Q is a phenylene group, an ester bond, or an amide bond
  • W is a polyalkyleneoxy group
  • Y is a terminal hydrogen atom or More preferably, it is a polyalkyleneoxy group which is an alkyl group.
  • the resin B preferably has a constitutional unit having a dispersant group, from the viewpoints of UV printing durability, fountain solution stain resistance, and the surface state of the image area in the lithographic printing plate obtained, and is represented by Formula 1. It is more preferable to have a constitutional unit containing a group represented by the following formula, more preferable to have a constitutional unit represented by the following formula b-3 or formula b-4, and to have a constitutional unit represented by the following formula b-3. Is particularly preferable.
  • L 2 represents an ethylene group or a propylene group
  • L 3 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • L 4 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 4 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group
  • R 5 and R 7 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group
  • m1 represents an integer of 2 to 200
  • m2 Represents an integer of 2 to 20.
  • L 2 is preferably an ethylene group or a 1,2-propylene group.
  • L 3 is preferably an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and further preferably an ethylene group.
  • L 4 is preferably an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 3 to 8 carbon atoms, and further preferably an alkylene group having 4 to 6 carbon atoms.
  • R 4 and R 6 are each independently preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a hydrogen atom or It is more preferably a methyl group.
  • m1 is preferably an integer of 5 to 200, and more preferably an integer of 8 to 150.
  • m2 is preferably an integer of 2 to 10, and more preferably an integer of 4 to 10.
  • the resin B has a structural unit represented by the above formula b-1 or the above formula a1 as the functional group B capable of binding or interacting with the functional group A, and the above formula D1 as the polymerizable group. And a structural unit represented by the above formula b-1 or the above formula a1 and a structural unit represented by the above formula D1.
  • the resin B has a dispersible group
  • the resin B is a structural unit represented by the above formula b-1 or the above formula a1 as the functional group B capable of binding or interacting with the functional group A from the viewpoint of UV printing durability.
  • a structural unit represented by the above formula D1 as a polymerizable group and a structural unit represented by the above formula b-3 or formula b-4 as a dispersing group, and the above formula b-1 or the above It is more preferable to have a structural unit represented by the formula a1, a structural unit represented by the above formula D1, and a structural unit represented by the above formula b-3.
  • the content of the constitutional unit having a dispersible group in the resin B is the total mass of the resin B in view of UV printing durability, fountain solution stain resistance, and the surface state of the image area in the lithographic printing plate obtained. On the other hand, it is preferably 1% by mass to 50% by mass, more preferably 2% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 2% by mass to 20% by mass.
  • the resin B may have a structural unit such as a structural unit formed of an aromatic vinyl compound or a structural unit having a crosslinked structure.
  • the resin B may further have a structural unit formed of an aromatic vinyl compound from the viewpoint of UV printing durability, but it is preferable not to have it.
  • the constitutional unit formed by the aromatic vinyl compound in the resin B has the same meaning as the constitutional unit formed by the aromatic vinyl compound in the resin A, and the preferred embodiments are also the same.
  • the content of the constitutional unit formed by the aromatic vinyl compound is preferably 20% by mass or less, and 10% by mass or less based on the total mass of the resin B from the viewpoint of ink receptivity. It is more preferable that the resin B is present, and it is particularly preferable that the resin B does not have a constitutional unit formed of an aromatic vinyl compound.
  • the resin B preferably has a crosslinked structure, and more preferably has a structural unit having a crosslinked structure from the viewpoint of UV printing durability.
  • the crosslinked structure in Resin B and the structural unit having the crosslinked structure have the same meanings as the crosslinked structure in Resin A and the structural unit having the crosslinked structure, respectively, and the preferred embodiments are also the same.
  • the content of the structural unit having a crosslinked structure in the resin B is preferably 0.1% by mass to 20% by mass based on the total mass of the resin B from the viewpoint of UV printing durability and on-press development property. It is more preferably 0.5% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 1% by mass to 10% by mass.
  • the resin B contained in the shell part may contain a structural unit having a hydrophobic group from the viewpoint of ink receptivity.
  • the constitutional unit having a hydrophobic group in the resin B has the same meaning as the constitutional unit having a hydrophobic group in the resin A, and the preferred embodiments are also the same.
  • the content of the constituent unit having a hydrophobic group in the resin B contained in the shell part is preferably 1% by mass to 50% by mass, and 50% by mass to the total mass of the resin B. It is more preferably 30% by mass.
  • the resin B contained in the shell portion can have other structural units other than the above-mentioned structural units in the resin A without particular limitation, and for example, a structural unit formed of an acrylamide compound, a vinyl ether compound or the like. Are listed.
  • the content of the other structural units is preferably 1% by mass to 50% by mass, and preferably 5% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin B. Is more preferable.
  • the content of the resin B with respect to the content of the resin A in the core-shell particles (hereinafter, also referred to as “coverage”) can be set as appropriate, but from the viewpoint of UV printing durability, the total amount of the resin A in the core-shell particles is large.
  • the amount is preferably 1% by mass to 90% by mass, more preferably 5% by mass to 80% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 70% by mass.
  • the content of resin B with respect to the content of resin A in the core-shell particles is determined by infrared absorption spectrum (IR) measurement. Specifically, the reaction product or mixture of the resin A and the resin B is washed with a solvent that dissolves the resin B to wash away the resin B containing the functional group B that has not reacted or interacted with the functional group A. The precipitate is dried at 40° C., and IR measurement is performed.
  • IR infrared absorption spectrum
  • the number average molecular weight (Mn) of the resin B is preferably 500 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and further preferably 10,000 to 200,000.
  • the number average molecular weight of the resin A is preferably larger than the number average molecular weight of the resin B from the viewpoint of UV printing durability.
  • the arithmetic average particle diameter of the core portion is preferably 10 nm to 1,000 nm, more preferably 30 nm to 800 nm, and particularly preferably 50 nm to 600 nm.
  • the arithmetic average particle diameter of the core-shell particles is preferably 10 nm to 1,000 nm, more preferably 50 nm to 800 nm, and particularly preferably 70 nm to 600 nm.
  • the arithmetic average particle diameter of the core-shell particles in the present disclosure refers to a value measured by a dynamic light scattering method (DLS) unless otherwise specified.
  • the arithmetic average particle size of the core-shell particles is measured by DLS using a Brookhaven BI-90 (manufactured by Brookhaven Instrument Company) according to the manual of the above-mentioned equipment.
  • the average thickness of the shell part is preferably 1 nm to 100 nm, more preferably 1 nm to 50 nm, and particularly preferably 2 nm to 20 nm, from the viewpoint of UV printing durability.
  • the average thickness of the shell portion in the present disclosure is obtained by dyeing a particle cross section by a known method and observing with an electron microscope, and taking the average value of the thicknesses of the shell portions at 10 or more positions in total for 10 or more particles. To do.
  • the method for producing the resin contained in the core-shell particles is not particularly limited, and the resin can be produced by a known method.
  • a compound used for forming a structural unit having a functional group A or a compound used for forming a structural unit having a functional group B and a compound used for forming a structural unit other than these are polymerized by a known method. It is obtained by doing.
  • the resin B as described above, it is preferable to introduce a polymerizable group by subjecting the resin B or the core-shell particles to a polymer reaction.
  • A-13 represents an example of particles in which a large amount of the resin shown on the left is present inside the core part and the resin A shown on the right is abundant as it goes to the outside.
  • resin B contained in the core-shell particles are shown below, but the resin used in the present disclosure is not limited to this.
  • * in B-9 represents the bonding position with the polymer chain shown on the left.
  • the content ratio of each structural unit can be appropriately changed according to the preferable range of the content of each structural unit described above. Further, the number average molecular weight of each resin shown in the above specific examples can be appropriately changed.
  • the image-recording layer may contain one kind of core-shell particle or two or more kinds thereof.
  • the content of the core-shell particles with respect to the total mass of the image recording layer is preferably 5% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, from the viewpoint of UV printing durability. % To 60% by mass is particularly preferable.
  • the image recording layer used in the present disclosure contains a polymerization initiator.
  • the polymerizable initiator is not particularly limited, and examples thereof include an electron accepting polymerization initiator and an electron donating polymerization initiator.
  • the image recording layer preferably contains an electron-accepting polymerization initiator.
  • the electron-accepting polymerization initiator used in the present disclosure is a compound that generates a polymerization initiation species such as radicals and cations by the energy of light, heat or both, and is a known thermal polymerization initiator and has a small bond dissociation energy. A compound having a bond, a photopolymerization initiator and the like can be appropriately selected and used.
  • the electron-accepting type polymerization initiator is preferably a radical polymerization initiator, more preferably an onium compound.
  • the electron-accepting polymerization initiator is preferably an infrared-sensitive polymerization initiator.
  • the electron-accepting polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
  • the radical polymerization initiator for example, (a) organic halide, (b) carbonyl compound, (c) azo compound, (d) organic peroxide, (e) metallocene compound, (f) azide compound, (g) ) Hexaarylbiimidazole compounds, (i) disulfone compounds, (j) oxime ester compounds, and (k) onium compounds.
  • (a) organic halide for example, compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
  • (b) carbonyl compound for example, the compounds described in paragraph [0024] of JP-A-2008-195018 are preferable.
  • the azo compound (c) for example, the azo compounds described in JP-A-8-108621 can be used.
  • the organic peroxide (d) for example, compounds described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 are preferable.
  • the (e) metallocene compound is preferably, for example, the compound described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018.
  • Examples of the (f) azide compound include compounds such as 2,6-bis(4-azidobenzylidene)-4-methylcyclohexanone.
  • Examples of the (g) hexaarylbiimidazole compound for example, the compounds described in Paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 are preferable.
  • Examples of the (i) disulfone compound include the compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2002-328465.
  • As the oxime ester compound (j) for example, the compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP 2008-195018 A are preferable.
  • oxime ester compounds and onium compounds are preferable from the viewpoint of curability.
  • an iodonium salt compound, a sulfonium salt compound or an azinium salt compound is preferable, an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is more preferable, and an iodonium salt compound is still more preferable.
  • Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
  • a diaryliodonium salt compound is preferable, and a diphenyliodonium salt compound substituted with an electron-donating group, for example, an alkyl group or an alkoxyl group is more preferable, and an asymmetric diphenyliodonium salt compound is preferable. ..
  • diphenyliodonium hexafluorophosphate
  • 4-methoxyphenyl-4-(2-methylpropyl)phenyliodonium hexafluorophosphate
  • 4-(2-methylpropyl)phenyl-p-tolyliodonium hexa Fluorophosphate
  • 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate
  • 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium tetrafluoroborate
  • 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium 1-perfluorobutanesulfonate
  • 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium hexafluorophosphate
  • Iodonium hexafluorophosphat
  • a triarylsulfonium salt compound is preferable, and particularly an electron-withdrawing group, for example, a triarylsulfonium salt compound in which at least a part of the group on the aromatic ring is substituted with a halogen atom is preferable, and A triarylsulfonium salt compound in which the total number of halogen atoms on the ring is 4 or more is more preferable.
  • bis(4-chlorophenyl)phenylsulfonium benzoyl formate
  • bis(4-chlorophenyl)-4-methylphenylsulfonium tetrafluoro Borate
  • tris(4-chlorophenyl)sulfonium 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate
  • tris(4-chlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate
  • a sulfonamide anion or a sulfonimide anion is preferable, and a sulfonimide anion is more preferable.
  • the sulfonamide anion is preferably an aryl sulfonamide anion.
  • a bisaryl sulfonimide anion is preferable. Specific examples of the sulfonamide anion or sulfonimide anion are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following specific examples, Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.
  • the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably ⁇ 3.00 eV or less, and more preferably ⁇ 3.02 eV or less, from the viewpoint of chemical resistance and UV printing durability. Further, the lower limit is preferably ⁇ 3.80 eV or more, and more preferably ⁇ 3.60 eV or more.
  • the content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably 0.5% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the image recording layer. It is particularly preferably 0.8% by mass to 20% by mass.
  • the polymerization initiator preferably further contains an electron donating polymerization initiator from the viewpoint of contributing to improvement in chemical resistance in the lithographic printing plate and UV printing durability, and the electron donating polymerization initiator and the electron donating agent described above. It is more preferred to include both type polymerization initiators.
  • Examples of the electron-donating polymerization initiator include the following 5 types. (I) Alkyl or arylate complex: It is considered that the carbon-hetero bond is cleaved oxidatively to generate an active radical. Specific examples include borate compounds.
  • (Ii) Aminoacetic acid compound It is considered that the C—X bond on the carbon adjacent to the nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical.
  • X is preferably a hydrogen atom, a carboxy group, a trimethylsilyl group or a benzyl group. Specific examples thereof include N-phenylglycines (which may have a substituent on the phenyl group), N-phenyliminodiacetic acid (which may have a substituent on the phenyl group), and the like.
  • Sulfur-containing compound A compound in which the nitrogen atom of the above-mentioned aminoacetic acid compound is replaced with a sulfur atom can generate an active radical by the same action.
  • Tin-containing compound A compound in which the nitrogen atom of the above aminoacetic acid compound is replaced by a tin atom can generate an active radical by the same action.
  • Sulfinates An active radical can be generated by oxidation. Specific examples include sodium arylsulfinate and the like.
  • the image recording layer preferably contains a borate compound.
  • a borate compound a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound is preferable, a tetraarylborate compound is more preferable, and a tetraphenylborate compound is particularly preferable, from the viewpoint of the stability of the compound.
  • the counter cation contained in the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, and more preferably a sodium ion, a potassium ion or a tetrabutylammonium ion.
  • sodium tetraphenylborate is preferably mentioned as a borate compound.
  • the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the electron donating polymerization initiator used in the present disclosure is preferably ⁇ 6.00 eV or more from the viewpoint of chemical resistance and UV printing durability, and ⁇ 5.95 eV. More preferably, it is more preferably ⁇ 5.93 eV or more. Further, the upper limit is preferably ⁇ 5.00 eV or less, and more preferably ⁇ 5.40 eV or less.
  • Escaled 0.823168 ⁇ 27.2114 ⁇ Ebare-1.07634
  • 27.2114 is a coefficient for simply converting heartree into eV
  • 0.823168 and -1.07634 are adjustment coefficients
  • HOMO and LUMO of the compound to be calculated are calculated values. To suit.
  • the electron-donating polymerization initiator examples include B-1 to B-8 and other compounds, but needless to say, the present invention is not limited to these.
  • Bu represents an n-butyl group and Z represents a counter cation.
  • the counter cation represented by Z + include Na + , K + , N + (Bu) 4, and the like.
  • the above Bu represents an n-butyl group.
  • the counter cation represented by Z + the onium ion in the electron-accepting type polymerization initiator is also preferably exemplified.
  • the electron-donating polymerization initiator may be added alone or in combination of two or more.
  • the content of the electron-donating polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, more preferably 0.05% by mass to 25% by mass, and 0.1% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. More preferably, it is from about 20% by mass.
  • one of the preferable embodiments in the present disclosure is an embodiment in which the electron accepting polymerization initiator and the electron donating polymerization initiator form a salt.
  • the onium compound is a salt of an onium ion and an anion (for example, tetraphenylborate anion) in the electron donating polymerization initiator can be mentioned.
  • an iodonium borate compound in which an iodonium cation in the above iodonium salt compound (for example, di-p-tolyliodonium cation) and a borate anion in the above electron donating polymerization initiator form a salt Specific examples of the mode in which the electron-accepting polymerization initiator and the electron-donating polymerization initiator form a salt are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
  • the image recording layer when the image recording layer contains an onium ion and the anion in the above-mentioned electron donating polymerization initiator, the image recording layer shall contain an electron accepting polymerization initiator and the above electron donating polymerization initiator. ..
  • the image recording layer contains an infrared absorber.
  • the infrared absorber is not particularly limited, and examples thereof include pigments and dyes.
  • the dye used as the infrared absorber commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used.
  • azo dyes metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complex dyes, etc. are listed.
  • cyanine dyes particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Furthermore, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes can be mentioned. Of these, cyanine dyes are particularly preferable.
  • the above-mentioned infrared absorber is preferably a cationic polymethine dye having an oxygen or nitrogen atom at the meso position.
  • Preferred examples of the cationic polymethine dye include a cyanine dye, a pyrylium dye, a thiopyrylium dye, and an azurenium dye, and the cyanine dye is preferred from the viewpoints of easy availability, solvent solubility during the introduction reaction, and the like.
  • cyanine dye examples include compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP 2001-133969 A, paragraphs 0016 to 0021 of JP 2002-023360 A, and paragraphs 0012 to 0037 of JP 2002-040638 A.
  • To 0043, and compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP 2012-206495 A can be mentioned.
  • the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022 to 0025 of JP-A 2001-222101 can also be preferably used.
  • the compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.
  • the content of the infrared absorbent in the image recording layer is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass, based on the total mass of the image recording layer. preferable.
  • the image recording layer in the present disclosure includes the electron donating polymerization initiator, the electron accepting polymerization initiator, and the infrared absorber, and the electron donating polymerization initiator has a HOMO of ⁇ 6.0 eV or more.
  • the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator is preferably ⁇ 3.0 eV or less. More preferable embodiments of HOMO of the electron donating polymerization initiator and LUMO of the electron accepting polymerization initiator are as described above.
  • the electron donating polymerization initiator, the infrared absorbing agent, and the electron accepting polymerization initiator for example, transfer energy as described in the following chemical formula. Guessed. Therefore, if the HOMO of the electron donating polymerization initiator is ⁇ 6.0 eV or more and the LUMO of the electron accepting polymerization initiator is ⁇ 3.0 eV or less, the radical generation efficiency is improved, It is considered that it is more likely to have excellent chemical resistance and UV printing durability.
  • the difference between the HOMO of the electron-donating polymerization initiator and the HOMO of the infrared absorber is preferably 1.0 eV or less, and 0.70 eV or less. Is more preferable. From the same viewpoint, the difference between the HOMO of the electron-donating polymerization initiator and the HOMO of the infrared absorber is preferably ⁇ 0.20 eV or more, and more preferably ⁇ 0.10 eV or more. preferable.
  • the difference between the HOMO of the electron-donating polymerization initiator and the HOMO of the infrared absorber is preferably 1.0 eV to ⁇ 0.20 eV, and 0.70 eV to ⁇ 0. More preferably, it is 10 eV.
  • a negative value means that the HOMO of the electron-donating polymerization initiator is higher than the HOMO of the infrared absorber.
  • the difference between the LUMO of the infrared absorber and the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 1.0 eV or less, and 0.70 eV or less. Is more preferable. From the same viewpoint, the difference between the LUMO of the infrared absorber and the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator is preferably ⁇ 0.20 eV or more, and more preferably ⁇ 0.10 eV or more. preferable.
  • the difference between the LUMO of the infrared absorber and the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 1.0 eV to ⁇ 0.20 eV, and 0.70 eV to ⁇ 0. More preferably, it is 10 eV.
  • a negative value means that the LUMO of the infrared absorber is higher than the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator.
  • the image recording layer in the present disclosure preferably contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound means a compound having a polymerizable group.
  • a compound that corresponds to a polymer does not correspond to a polymerizable compound.
  • the polymerizable group is not particularly limited as long as it is a known polymerizable group, but is preferably an ethylenically unsaturated group.
  • the polymerizable group may be a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group, but is preferably a radically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group include a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinylphenyl group and a vinyl group, and a (meth)acryloyl group is preferable from the viewpoint of reactivity.
  • the molecular weight (weight average molecular weight in the case of having a molecular weight distribution) of the polymerizable compound is preferably 50 or more and less than 2,500, and more preferably 50 or more and 2,000 or less.
  • the polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radically polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethylenic Unsaturated compounds) are preferred.
  • the ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, and more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds.
  • the polymerizable compound has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer or an oligomer, or a mixture thereof.
  • the polymerizable compound contained in the image recording layer preferably contains an oligomer.
  • the oligomer represents a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight in the case of having a molecular weight distribution) of 600 or more and 10,000 or less and containing at least one polymerizable group.
  • the molecular weight of the oligomer is preferably 1,000 or more and 5,000 or less from the viewpoint of excellent chemical resistance, UV printing durability, and suppression of on-press development dust.
  • the number of polymerizable groups in one molecule of the oligomer is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and further preferably 6 or more. It is preferably 10 or more, and particularly preferably 10.
  • the upper limit of the number of polymerizable groups in the oligomer is not particularly limited, but the number of polymerizable groups is preferably 20 or less.
  • the oligomer has 7 or more polymerizable groups and a molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less. More preferably, the number of polymerizable groups is 7 or more and 20 or less, and the molecular weight is 1,000 or more and 5,000 or less.
  • the oligomer preferably has at least one selected from the group consisting of a compound having a urethane bond, a compound having an ester bond and a compound having an epoxy residue. It is preferred to have compounds that have a bond.
  • an epoxy residue refers to a structure formed by an epoxy group, and means, for example, a structure similar to the structure obtained by reacting an acid group (carboxylic acid group or the like) with an epoxy group.
  • the compound having a urethane bond is not particularly limited, and examples thereof include compounds obtained by reacting a polyisocyanate compound with a compound having a hydroxy group and a polymerizable group.
  • polyisocyanate compound examples include bifunctional to pentafunctional polyisocyanate compounds, and bifunctional or trifunctional polyisocyanate compounds are preferable.
  • polyisocyanate compound examples include 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, isophorone diisocyanate, trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,3-cyclopentane diisocyanate, 9H-fluorene- 2,7-diisocyanate, 9H-fluoren-9-one-2,7-diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene -2,6-diisocyanate, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, 2,2-bis(4-bis
  • the compound having a hydroxy group and a polymerizable group a compound having one hydroxy group and one or more polymerizable groups is preferable, and a compound having one hydroxy group and two or more polymerizable groups is more preferable. ..
  • the compound having a hydroxy group and a polymerizable group include hydroxyethyl (meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth). Acrylate etc. are mentioned.
  • the compound having a urethane bond is preferably, for example, a compound having at least a group represented by the following formula (Ac-1) or formula (Ac-2), and represented by the following formula (Ac-1). More preferably, it is a compound having at least a group.
  • L 1 to L 4 each independently represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and the wavy line portion represents a bonding position with another structure.
  • L 1 to L 4 are each independently preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. More preferably, The alkylene group may have a branched or ring structure, but is preferably a linear alkylene group.
  • the wavy line portion in the formula (Ac-1) or the formula (Ac-2) is preferably independently and directly bonded to the wavy line portion in the group represented by the following formula (Ae-1) or the formula (Ae-2). ..
  • R's each independently represent an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group
  • the wavy line portion represents the wavy line portion in formula (Ac-1) and formula (Ac-2) Represents the binding position with.
  • a compound obtained by introducing a polymerizable group into a polyurethane obtained by a reaction of a polyisocyanate compound and a polyol compound by a polymer reaction may be used.
  • a compound having a urethane bond may be obtained by reacting a polyurethane oligomer obtained by reacting a polyisocyanate compound with a polyol compound having an acid group with a compound having an epoxy group and a polymerizable group.
  • the number of polymerizable groups in the compound having an ester bond is preferably 3 or more, and more preferably 6 or more.
  • a compound containing a hydroxy group in the compound is preferable. Further, the number of polymerizable groups in the compound having an epoxy residue is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 3.
  • the compound having an epoxy residue can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.
  • the content of the oligomer in the image recording layer is 30% by mass to 100% by mass based on the total mass of the polymerizable compound. It is preferable that the content is 50% by mass to 100% by mass, further preferably 80% by mass to 100% by mass.
  • the polymerizable compound may further contain a polymerizable compound other than the oligomer.
  • the polymerizable compound other than the oligomer may be, for example, a radically polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated group (ethylenically unsaturated compound ) Is preferable.
  • the ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one ethylenically unsaturated group at the terminal, and more preferably a compound having at least two ethylenically unsaturated groups at the terminal.
  • the polymerizable compound other than the oligomer is preferably a low molecular weight polymerizable compound from the viewpoint of chemical resistance.
  • the low molecular weight polymerizable compound may be in a chemical form such as a monomer, a dimer, a trimer or a mixture thereof.
  • the low molecular weight polymerizable compound means a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight in the case of having a molecular weight distribution) of 50 or more and less than 600.
  • the molecular weight of the low-molecular weight polymerizable compound is preferably 100 or more and less than 600, and more preferably 300 or more and less than 600, from the viewpoint of excellent chemical resistance, UV printing durability, and suppression of on-press development dust. It is more preferably 400 or more and less than 600.
  • the ratio of the oligomer to the low molecular weight polymerizable compound is preferably 10/1 to 1/10 on a mass basis, and is preferably 10/ It is more preferably 1 to 3/7, further preferably 10/1 to 7/3.
  • Examples of the polymerizable compound include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and their esters and amides. Esters of saturated carboxylic acids and polyhydric alcohol compounds and amides of unsaturated carboxylic acids and polyhydric amine compounds are used.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • Esters of saturated carboxylic acids and polyhydric alcohol compounds and amides of unsaturated carboxylic acids and polyhydric amine compounds are used.
  • a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.
  • a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine, or thiol is also suitable.
  • JP-T-2006-508380 JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, and JP-A-9-179297.
  • JP-A-9-179298 JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, and It is described in, for example, Kaihei 10-333321.
  • the monomer of ester of polyhydric alcohol compound and unsaturated carboxylic acid include acrylic acid ester such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, There are trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer and the like.
  • acrylic acid ester such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate
  • EO isocyanuric acid ethylene oxide
  • methacrylic acid ester As methacrylic acid ester, tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl] Examples include dimethyl methane and bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethyl methane.
  • amide monomer of a polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid examples include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebisacrylamide, 1,6-hexamethylenebismethacrylamide, Examples include diethylenetriamine tris acrylamide, xylylene bis acrylamide, and xylylene bis methacrylamide.
  • a urethane-based addition-polymerizable compound produced by addition reaction of isocyanate with a hydroxy group is also suitable, and specific examples thereof include, for example, 2 molecules per molecule described in JP-B-48-41708.
  • Vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having one or more isocyanate groups Etc.
  • CH 2 C(R M4 )COOCH 2 CH(R M5 )OH (M)
  • R M4 and R M5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • oligomer As the oligomer, a commercially available product may be used, such as UA510H, UA-306H, UA-306I, UA-306T (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-6300B, UV7620EA (all manufactured by Nippon Synthetic). Chemical Industry Co., Ltd.), U-15HA (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL885, EBECRYL800, EBECRYL3416, EBECRYL860 (all manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) and the like. It is not limited to this.
  • the details of the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, the amount of addition, and the like can be arbitrarily set.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 5% by mass to 75% by mass, more preferably 10% by mass to 70% by mass, and further preferably 15% by mass to 60% by mass based on the total mass of the image recording layer. More preferably, it is mass %.
  • the content of the thermoplastic resin contained in the core-shell particles with respect to the total mass of the polymerizable compound in the image recording layer is preferably more than 0 mass% and 400 mass% or less, and 25 mass% to 300 mass%. Is more preferable, and 50% by mass to 200% by mass is still more preferable.
  • the resin contained in the core-shell particles and the polymerizable compound preferably have a sea-island structure.
  • a structure in which the above-mentioned polymerizable compound is dispersed in an island shape (discontinuous layer) in the sea (continuous phase) of the thermoplastic resin It is considered that the sea-island structure is easily formed by setting the content of the thermoplastic resin contained in the core-shell particles to the total mass of the polymerizable compound within the above range.
  • the image recording layer may contain polymer particles.
  • the core-shell particles do not correspond to polymer particles.
  • the polymer particles are preferably selected from the group consisting of heat-reactive polymer particles, polymer particles having a polymerizable group, microcapsules containing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer particles). Of these, polymer particles or microgels having a polymerizable group are preferable.
  • the polymer particles contain at least one ethylenically unsaturated polymerizable group. The presence of such polymer particles has the effect of enhancing the UV printing durability of the exposed areas and the on-press developability of the unexposed areas.
  • the heat-reactive polymer particles include polymer particles having a heat-reactive group.
  • the heat-reactive polymer particles form a hydrophobized region due to cross-linking due to heat reaction and a change in functional group at that time.
  • the heat-reactive group in the polymer particles having a heat-reactive group may be a functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but it is preferably a polymerizable group.
  • Ethylenically unsaturated group eg, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.
  • cationically polymerizable group eg, vinyl group, vinyloxy group, epoxy group, oxetanyl group, etc.
  • the microcapsule for example, as described in JP 2001-277740 A and JP 2001-277742 A, at least a part of the components of the image recording layer is encapsulated in a microcapsule.
  • the constituent components of the image recording layer can be contained outside the microcapsules.
  • a preferred embodiment of the image recording layer containing microcapsules has a structure in which a hydrophobic constituent component is encapsulated in the microcapsule and a hydrophilic constituent component is contained outside the microcapsule.
  • the microgel (crosslinked polymer particles) can contain a part of the components of the image recording layer on at least one of the surface and the inside thereof.
  • a reactive microgel having a radically polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and UV printing durability.
  • a publicly known method can be applied to microencapsulate or microgel the components of the image recording layer.
  • a polyvalent isocyanate which is an adduct of a polyphenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate. Those obtained by the reaction of the compound and the compound having active hydrogen are preferable.
  • the polyhydric phenol compound a compound having a plurality of benzene rings having a phenolic hydroxy group is preferable.
  • the compound having active hydrogen a polyol compound or a polyamine compound is preferable, a polyol compound is more preferable, and at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin and trimethylolpropane is further preferable.
  • the polymer particles have a hydrophobic main chain from the viewpoint of UV printing durability and solvent resistance, and i) a structural unit having a pendant cyano group directly bonded to the hydrophobic main chain, and , Ii) It is preferable to include both of the constituent units having a pendant group containing a hydrophilic polyalkylene oxide segment.
  • An acrylic resin chain is preferably used as the hydrophobic main chain.
  • Preferred examples of the pendant cyano group include -[CH 2 CH(C ⁇ N)-] or -[CH 2 C(CH 3 )(C ⁇ N)-].
  • the constituent unit having a pendant cyano group can be easily derived from an ethylenically unsaturated monomer such as acrylonitrile or methacrylonitrile, or a combination thereof.
  • an ethylenically unsaturated monomer such as acrylonitrile or methacrylonitrile, or a combination thereof.
  • the alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment ethylene oxide or propylene oxide is preferable, and ethylene oxide is more preferable.
  • the number of repeating alkylene oxide structures in the hydrophilic polyalkylene oxide segment is preferably 10 to 100, more preferably 25 to 75, and even more preferably 40 to 50.
  • Preferable examples of the particles of the resin containing are those described in paragraphs 0039 to 0068 of JP-A-2008-503365.
  • the average particle size of the polymer particles is preferably 0.01 ⁇ m to 3.0 ⁇ m, more preferably 0.03 ⁇ m to 2.0 ⁇ m, still more preferably 0.10 ⁇ m to 1.0 ⁇ m. In this range, good resolution and stability over time can be obtained.
  • the average primary particle diameter of each particle in the present disclosure is measured by a light scattering method, or an electron micrograph of the particle is taken, and the particle diameter of the particle is measured in total of 5,000 particles, and the average The value shall be calculated.
  • the particle size value of spherical particles having the same particle area as the particle area on the photograph is defined as the particle size.
  • the average particle diameter in the present disclosure is a volume average particle diameter unless otherwise specified.
  • the content of the polymer particles is preferably 5% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer.
  • the image recording layer used in the present disclosure preferably contains an acid color former.
  • the “acid color former” used in the present disclosure means a compound having a property of developing a color by heating while receiving an electron accepting compound (for example, a proton of an acid or the like).
  • the acid colorant has a partial skeleton such as lactone, lactam, sultone, spiropyran, ester, amide, etc., and is a colorless ring which rapidly opens or cleaves these partial skeletons when contacted with an electron accepting compound. Compounds are preferred.
  • Such an acid color former examples include 3,3-bis(4-dimethylaminophenyl)-6-dimethylaminophthalide (referred to as "crystal violet lactone") and 3,3-bis(4- Dimethylaminophenyl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(4-diethylamino-2-methylphenyl)-6-dimethylaminophthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(1 ,2-Dimethylindol-3-yl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(2-methylindol-3-yl)phthalide, 3,3-bis(1,2-dimethylindole-3) -Yl)-5-dimethylaminophthalide, 3,3-bis(1,2-dimethylindol-3-yl)-6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis(9-ethylcarbazol-3-
  • the acid color developing agent used in the present disclosure may be at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds, from the viewpoint of color developability.
  • the hue of the dye after coloring is preferably green, blue or black from the viewpoint of visibility.
  • the acid color developing agent such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H. -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (above, Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF.
  • ETAC RED500, RED520, CVL
  • S-205 BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H. -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (above, Fukui Yamada Chemical Co., Ltd.)
  • ORANGE-DCF Vermilion-DCF
  • PINK-DCF PINK-D
  • the content of the acid color former is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, more preferably 1% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the image recording layer.
  • the image recording layer may contain a binder polymer other than the core-shell particles (hereinafter, also referred to as “other binder polymer”).
  • the core-shell particles and the polymer particles do not correspond to the other binder polymer. That is, the other binder polymer is a polymer that is not in particle form.
  • the other binder polymer a (meth)acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, or a polyurethane resin is preferable.
  • the other binder polymer a known binder polymer used in the image recording layer of the lithographic printing plate precursor can be preferably used.
  • the binder polymer used in the on-press development type lithographic printing plate precursor hereinafter, also referred to as binder polymer for on-press development
  • the binder polymer for on-press development is preferably a binder polymer having an alkylene oxide chain.
  • the binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain or in a side chain.
  • it may be a graft polymer having poly(alkylene oxide) in the side chain, or a block copolymer of a block composed of a poly(alkylene oxide)-containing repeating unit and a block composed of a (alkylene oxide)-free repeating unit.
  • a polyurethane resin is preferred when it has a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain.
  • (meth)acrylic resin As a main chain polymer having a poly(alkylene oxide) moiety in the side chain, (meth)acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, polystyrene resin, novolac type Phenolic resins, polyester resins, synthetic rubbers and natural rubbers are mentioned, and (meth)acrylic resins are particularly preferable.
  • a polyfunctional thiol having a functionality of 6 or more and a functionality of 10 or less is used as a nucleus, and a polymer chain bonded to the nucleus by a sulfide bond is provided, and the polymer chain has a polymerizable group
  • examples thereof include a polymer compound (hereinafter, also referred to as a star polymer compound).
  • a star polymer compound for example, the compounds described in JP 2012-148555 A can be preferably used.
  • the star-shaped polymer compound has a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond for improving the film strength of the image part as described in JP-A-2008-195018, which is a main chain or a side chain, preferably a side chain. Those that have in the chain are mentioned.
  • the polymerizable groups form crosslinks between polymer molecules to accelerate curing.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group such as a (meth)acrylic group, a vinyl group, an allyl group, a vinylphenyl group (styryl group) or an epoxy group, and a (meth)acrylic group, a vinyl group or a vinylphenyl group.
  • a group (styryl group) is more preferable from the viewpoint of polymerization reactivity, and a (meth)acrylic group is particularly preferable.
  • These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. For example, a reaction between a polymer having a carboxy group in its side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an carboxylic acid containing an ethylenically unsaturated group such as methacrylic acid can be used. You may use these groups together.
  • the weight average molecular weight (Mw) as a polystyrene-converted value by the GPC method is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and 10,000 to 300, More preferably, it is 000.
  • hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination. Further, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used together.
  • other binder polymers may be used alone or in combination of two or more.
  • the other binder polymer can be contained in the image recording layer in an arbitrary amount, but the content of the binder polymer is 1% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. It is more preferably 5% by mass to 80% by mass.
  • the content of the other binder polymer with respect to the total weight of the core-shell particles and the other binder polymer is more than 0% by mass and 99% by mass or less.
  • the amount is preferably 20% by mass to 95% by mass, more preferably 40% by mass to 90% by mass.
  • the image recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent.
  • the chain transfer agent contributes to improving the UV printing durability of the lithographic printing plate.
  • a thiol compound is preferable, a thiol compound having 7 or more carbon atoms is more preferable from the viewpoint of boiling point (difficult to volatilize), and a compound having a mercapto group on the aromatic ring (aromatic thiol compound) is further preferable. ..
  • the thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.
  • chain transfer agents include the following compounds.
  • the chain transfer agent may be added alone or in combination of two or more.
  • the content of the chain transfer agent is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.05% by mass to 40% by mass, and 0.1% by mass to 30% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. % Is more preferable.
  • the image recording layer preferably further contains an oil sensitizer in order to improve ink receptivity.
  • the SP value of the oil sensitizer is preferably less than 18.0, more preferably 14 to less than 18, more preferably 15 to 17, and particularly preferably 16 to 16.9. preferable.
  • the oil sensitizer may be a compound having a molecular weight (weight average molecular weight when there is a molecular weight distribution) of 2,000 or more, or a compound having a molecular weight of less than 2,000.
  • the Hansen solubility parameter is used as the SP value (solubility parameter, unit: (MPa) 1/2 ) in the present disclosure.
  • the Hansen solubility parameter is obtained by dividing the solubility parameter introduced by Hildebrand into three components of a dispersion term ⁇ d, a polar term ⁇ p, and a hydrogen bond term ⁇ h, and expressing them in a three-dimensional space.
  • the SP value is represented by ⁇ (unit: (MPa) 1/2 ) and the value calculated using the following formula is used.
  • ⁇ (MPa) 1/2 ( ⁇ d 2 + ⁇ p 2 + ⁇ h 2 ) 1/2
  • the dispersion term ⁇ d, the polar term ⁇ p, and the hydrogen bond term ⁇ h are sought after by Hansen and his successors, and are described in detail in Polymer Handbook (fourth edition), VII-698-711. There is.
  • the SP value of the polymer is calculated from the molecular structure of the polymer by the Hoy method described in Polymer Handbook fourth edition.
  • oil sensitizer examples include onium compounds, nitrogen-containing low molecular weight compounds, ammonium compounds such as ammonium group-containing polymers, and the like.
  • these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and can prevent a decrease in ink receptivity due to the inorganic layered compound during printing.
  • the oil sensitizer is preferably an onium compound from the viewpoint of inking property.
  • the onium compound include phosphonium compounds, ammonium compounds, sulfonium compounds, and the like. From the above viewpoints, the onium compound is preferably at least one selected from the group consisting of phosphonium compounds and ammonium compounds.
  • the onium compound in the development accelerator or the electron-accepting polymerization initiator, which will be described later, is a compound having an SP value of more than 18, and is not included in the oil sensitizer.
  • ammonium compound examples include a nitrogen-containing low molecular weight compound and an ammonium group-containing polymer.
  • nitrogen-containing low molecular weight compound examples include amine salts and quaternary ammonium salts. Further, imidazolinium salts, benzimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts are also included. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferable.
  • tetramethylammonium hexafluorophosphate
  • tetrabutylammonium hexafluorophosphate
  • dodecyltrimethylammonium p-toluenesulfonate
  • benzyltriethylammonium hexafluorophosphate
  • benzyldimethyloctylammonium hexafluorophosphate.
  • Fert, benzyldimethyldodecyl ammonium hexafluorophosphate, compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP 2008-284858 A, compounds described in paragraphs 0030 to 0057 of JP 2009-90645 A, and the like.
  • the ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and a polymer containing 5 mol% to 80 mol% of a (meth)acrylate having an ammonium group in its side chain as a copolymerization component is preferable. Specific examples thereof include the polymers described in paragraphs 0089 to 0105 of JP2009-208458A.
  • the ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml/g) in the range of 5 to 120, which is determined according to the measuring method described in JP-A-2009-208458, and preferably in the range of 10 to 110. More preferably, those in the range of 15 to 100 are particularly preferable.
  • Mw weight average molecular weight
  • the content of the oil sensitizer is preferably 1% by mass to 40.0% by mass, more preferably 2% by mass to 25.0% by mass, and further preferably 3% by mass to 20% by mass based on the total mass of the image recording layer. 0 mass% is more preferable.
  • the image recording layer may contain one type of oil sensitizer alone, or may use two or more types in combination.
  • One of the preferable embodiments of the image recording layer used in the present disclosure is an embodiment containing two or more compounds as the oil sensitizer.
  • the image recording layer used in the present disclosure contains a phosphonium compound, a nitrogen-containing low-molecular compound, and an ammonium group as an oil sensitizer from the viewpoint of achieving both on-press developability and inking property.
  • a polymer is preferably used in combination, and a phosphonium compound, a quaternary ammonium salt, and an ammonium group-containing polymer are more preferably used in combination.
  • the image recording layer used in the present disclosure preferably further contains a development accelerator.
  • the value of the polar term of the SP value of the development accelerator is preferably 6.0 to 26.0, more preferably 6.2 to 24.0, and 6.3 to 23.5. Is more preferable, and 6.4 to 22.0 is particularly preferable.
  • the value of the polar term of the SP value (solubility parameter, unit: (cal/cm 3 ) 1/2 ) in the present disclosure
  • the value of the polar term ⁇ p in the Hansen solubility parameter is used.
  • the Hansen solubility parameter is a solubility parameter introduced by Hildebrand, which is divided into three components of a dispersion term ⁇ d, a polar term ⁇ p, and a hydrogen bond term ⁇ h and expressed in a three-dimensional space.
  • the polar term ⁇ p is used.
  • ⁇ p [cal/cm 3 ] is Hansen solubility parameter interdipole force term
  • V [cal/cm 3 ] is molar volume
  • ⁇ [D] dipole moment.
  • ⁇ p the following formula simplified by Hansen and Beerbower is generally used.
  • the development accelerator is preferably a hydrophilic polymer compound or a hydrophilic low molecular weight compound.
  • hydrophilic means that the value of the polar term of the SP value is 6.0 to 26.0, and the hydrophilic polymer compound has a molecular weight (in the case of having a molecular weight distribution) a weight average molecular weight.
  • a hydrophilic low molecular weight compound means a compound having a molecular weight (weight average molecular weight in the case of having a molecular weight distribution) of less than 3,000.
  • Examples of the hydrophilic polymer compound include a cellulose compound and the like, and a cellulose compound is preferable.
  • examples of the cellulose compound include cellulose or a compound in which at least a part of cellulose is modified (modified cellulose compound), and a modified cellulose compound is preferable.
  • modified cellulose compound a compound in which at least a part of the hydroxy group of cellulose is substituted with at least one group selected from the group consisting of an alkyl group and a hydroxyalkyl group is preferable.
  • the substitution degree of the compound obtained by substituting at least a part of the hydroxy groups of the cellulose with at least one group selected from the group consisting of an alkyl group and a hydroxyalkyl group is preferably 0.1 to 6.0.
  • modified cellulose compound an alkyl cellulose compound or a hydroxyalkyl cellulose compound is preferable, and a hydroxyalkyl cellulose compound is more preferable.
  • alkyl cellulose compound include methyl cellulose.
  • hydroxyalkyl cellulose compound include hydroxypropyl cellulose.
  • the hydrophilic polymer compound has a molecular weight (weight average molecular weight in the case of having a molecular weight distribution) of preferably 3,000 to 5,000,000, and more preferably 5,000 to 200,000.
  • hydrophilic low molecular weight compound examples include glycol compounds, polyol compounds, organic amine compounds, organic sulfonic acid compounds, organic sulfamine compounds, organic sulfuric acid compounds, organic phosphonic acid compounds, organic carboxylic acid compounds, betaine compounds, and the like, and polyol compounds.
  • organic sulfonic acid compounds and betaine compounds are preferred.
  • glycol compound examples include glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and tripropylene glycol, and ether or ester derivatives of these compounds.
  • examples of the polyol compound include glycerin, pentaerythritol, tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate and the like.
  • examples of the organic amine compound include triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine and the like, and salts thereof.
  • Examples of the organic sulfonic acid compound include alkyl sulfonic acid, toluene sulfonic acid, benzene sulfonic acid and the like and salts thereof, and alkyl sulfonic acid having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable.
  • Examples of the organic sulfamine compound include alkylsulfamic acid and salts thereof.
  • Examples of the organic sulfuric acid compound include alkyl sulfuric acid, alkyl ether sulfuric acid and the like and salts thereof.
  • Examples of the organic phosphonic acid compound include phenylphosphonic acid and the like and salts thereof.
  • organic carboxylic acid compound examples include tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and the like and salts thereof.
  • betaine compounds include phosphobetaine compounds, sulfobetaine compounds, and carboxybetaine compounds, with trimethylglycine being preferred.
  • the hydrophilic low molecular weight compound has a molecular weight (weight average molecular weight when it has a molecular weight distribution) of preferably 100 or more and less than 3,000, and more preferably 300 to 2,500.
  • the development accelerator is preferably a compound having a cyclic structure.
  • the cyclic structure is not particularly limited, but at least a part of the hydroxy group may be substituted with a glucose ring, an isocyanuric ring, an aromatic ring that may have a hetero atom, or a hetero atom. Examples thereof include an aliphatic ring and the like, and a glucose ring or an isocyanuric ring is preferable.
  • Examples of the compound having a glucose ring include the above-mentioned cellulose compounds.
  • Examples of the compound having an isocyanuric ring include the above-mentioned tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate.
  • Examples of the compound having an aromatic ring include the above-mentioned toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid.
  • Examples of the compound having an aliphatic ring include the above-mentioned alkylsulfuric acid in which the alkyl group has a ring structure.
  • the compound having the above cyclic structure preferably has a hydroxy group.
  • the above-mentioned cellulose compound and the above-mentioned tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate are preferably exemplified.
  • the development accelerator is preferably an onium compound.
  • onium compounds include ammonium compounds and sulfonium compounds, with ammonium compounds being preferred.
  • Examples of the development accelerator that is an onium compound include trimethylglycine.
  • the onium compound in the electron-accepting type polymerization initiator is a compound whose SP value is not in the polar term of 6.0 to 26.0 and is not included in the development accelerator.
  • the image recording layer may contain one type of development accelerator alone, or may use two or more types in combination.
  • One of the preferable embodiments of the image recording layer used in the present disclosure is an embodiment containing two or more compounds as a development accelerator.
  • the image recording layer used in the present disclosure from the viewpoint of on-press developability and inking property, as the development accelerator, the polyol compound and the betaine compound, the betaine compound and the organic sulfonic acid compound, Alternatively, it preferably contains the polyol compound and the organic sulfonic acid compound.
  • the content of the development accelerator with respect to the total mass of the image recording layer is preferably 0.1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 15% by mass or less, and 1% by mass or more and 10% by mass or more. It is more preferably not more than mass %.
  • the image recording layer may contain, as other components, a surfactant, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic particles, an inorganic layered compound and the like. Specifically, the description in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817 can be referred to.
  • the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is prepared by dispersing or dissolving each of the necessary components described above in a known solvent, as described in paragraphs 0142 to 0143 of JP 2008-195018 A. It can be formed by preparing a coating solution, applying the coating solution on a support by a known method such as bar coater coating, and drying.
  • the coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the use, but is preferably 0.3 g/m 2 to 3.0 g/m 2 . Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.
  • a known solvent can be used as the solvent.
  • the solvent may be used alone or in combination of two or more.
  • the solid content concentration in the coating liquid is preferably 1% by mass to 50% by mass.
  • the coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but is 0.3 g/m 2 to 3.0 g/m 2 from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer. m 2 is preferred.
  • the thickness of the image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably 0.1 ⁇ m to 3.0 ⁇ m, more preferably 0.3 ⁇ m to 2.0 ⁇ m.
  • a section cut in a direction perpendicular to the surface of the lithographic printing plate precursor is prepared, and a cross section of the section is observed with a scanning microscope (SEM). Confirmed by.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure may have an overcoat layer (also referred to as “protective layer”) on the surface of the image recording layer opposite to the support side.
  • the film thickness of the overcoat layer is preferably larger than the film thickness of the image recording layer.
  • the overcoat layer has a function of suppressing an image formation inhibiting reaction by blocking oxygen, and also has a function of preventing the occurrence of scratches in the image recording layer and a function of preventing ablation during exposure to a high-illuminance laser.
  • the overcoat layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.
  • a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more kinds can be mixed and used as necessary.
  • the water-soluble polymer means that a solution in which 1 g or more is dissolved in 100 g of pure water at 70° C. and 1 g of polymer is dissolved in 100 g of pure water at 70° C. is cooled to 25° C.
  • the water-soluble polymer used in the overcoat layer include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivative, polyethylene glycol, poly(meth)acrylonitrile and the like.
  • modified polyvinyl alcohol acid modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specific examples thereof include the modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.
  • polyvinyl alcohol it is preferable to include polyvinyl alcohol, and it is more preferable to include polyvinyl alcohol having a saponification degree of 50% or more.
  • the degree of saponification is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 85% or more.
  • the upper limit of the degree of saponification is not particularly limited and may be 100% or less.
  • the saponification degree is measured according to the method described in JIS K 6726:1994. Further, as one aspect of the overcoat layer, an aspect including polyvinyl alcohol and polyethylene glycol is also preferably cited.
  • the content of the water-soluble polymer with respect to the total weight of the overcoat layer is preferably 1% by mass to 99% by mass, and 3% by mass to 97% by mass. It is more preferable that the amount is 5% by mass to 95% by mass.
  • the overcoat layer may contain an inorganic layered compound in order to enhance the oxygen barrier property.
  • the inorganic layered compound is particles having a thin tabular shape, and includes, for example, mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc represented by the formula: 3MgO.4SiO.H 2 O, teniolite, montmorillonite, saponite, and hector. Examples thereof include light and zirconium phosphate.
  • the inorganic layered compound preferably used is a mica compound.
  • mica compound examples include compounds represented by the formula: A(B,C) 2-5 D 4 O 10 (OH,F,O) 2 [wherein A is any of K, Na and Ca, and B and C are It is any one of Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. ]
  • Mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by
  • examples of natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and ledocite.
  • synthetic mica non-swelling mica such as fluorophlogopite KMg 3 (AlSi 3 O 10 )F 2 and potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 )F 2 ; and Na tetrasilylic mica NaMg 2.
  • the lattice layer is deficient in positive charge, and cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers to compensate for it.
  • the cations interposed between these layers are called exchangeable cations and can exchange with various cations.
  • the ionic radius is small, so that the bond between the layered crystal lattices is weak and the layer swells greatly with water.
  • shear is applied in that state, it is easily cleaved to form a stable sol in water.
  • the swelling synthetic mica has such a strong tendency that it is particularly preferably used.
  • the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more.
  • the aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particles, and can be measured, for example, from a projection view of the particles by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect obtained.
  • the average major axis is preferably 0.3 ⁇ m to 20 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m, and particularly preferably 1 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the average thickness of the particles is preferably 0.1 ⁇ m or less, more preferably 0.05 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.01 ⁇ m or less.
  • the thickness is about 1 nm to 50 nm and the surface size (major axis) is about 1 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total mass of the overcoat layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of the inorganic layered compounds is preferably the above content. Within the above range, the oxygen barrier property is improved and good sensitivity is obtained. In addition, it is possible to prevent a decrease in inking property.
  • the overcoat layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic particles for controlling surface slipperiness.
  • the overcoat layer may contain the oil-sensitizing agent described in the image recording layer.
  • the overcoat layer is applied by a known method.
  • the coating amount of the overcoat layer (solid content) is preferably from 0.01g / m 2 ⁇ 10g / m 2, more preferably 0.02g / m 2 ⁇ 3g / m 2, 0.02g / m 2 ⁇ 1g / m 2 is particularly preferred.
  • the film thickness of the overcoat layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably 0.1 ⁇ m to 5.0 ⁇ m, and more preferably 0.3 ⁇ m to 4.0 ⁇ m.
  • the film thickness of the overcoat layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably 1.1 to 5.0 times, and preferably 1.5 to 3.0 times the film thickness of the image recording layer. It is more preferable that the number is twice.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support.
  • a support having a hydrophilic surface also referred to as “hydrophilic support”
  • the hydrophilic surface preferably has a contact angle with water of less than 10°, more preferably less than 5°.
  • the water contact angle in the present disclosure is measured by DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. as the contact angle of a water drop on the surface at 25° C. (after 0.2 seconds).
  • the support of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can be appropriately selected and used from known lithographic printing plate precursor supports.
  • the support an aluminum plate which has been subjected to surface roughening treatment by a known method and anodized is preferable.
  • the support used in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure will be described with reference to the drawings, but the reference numerals may be omitted in the description of the drawings.
  • the thickness of the anodized film is preferably 200 nm to 2,000 nm.
  • FIG. 2A A schematic cross-sectional view of one embodiment of an aluminum support having an anodized film is shown in FIG. 2A.
  • the aluminum support 12 having an anodized film has an aluminum plate 18 and an anodized film 20 of aluminum (hereinafter also simply referred to as “anodized film 20”) in this order.
  • the anodized film 20 in the aluminum support 12 is located on the image recording layer 16 side of the lithographic printing plate precursor 10 in FIG. That is, the lithographic printing plate precursor 10 has an aluminum plate 18, an anodized film 20, an undercoat layer 14, and an image recording layer 16.
  • the aluminum plate (aluminum support) is made of a dimensionally stable metal whose main component is aluminum, that is, aluminum or an aluminum alloy.
  • the aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a foreign element.
  • Different elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium, etc.
  • the content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less.
  • As the aluminum plate a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to produce due to the smelting technique, and thus may contain a slightly different element.
  • the composition of the aluminum plate 18 is not limited, and well-known and publicly known materials (for example, JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, and JIS A 3005) can be appropriately used.
  • the width of the aluminum plate is about 400 mm to 2,000 mm, and the thickness is about 0.1 mm to 0.6 mm. This width or thickness can be appropriately changed according to the size of the printing machine, the size of the printing plate, and the desire of the user.
  • the support used in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has micropores on the surface on the image recording layer side, has an anodized film on the surface on the image recording layer side, and has an anodized film surface, It is preferable to have micropores.
  • the core-shell By polymerizing the polymerizable compound while being mixed with the thermal fusion product of the particles, a stronger film is formed, and by having the micropores on the surface of the anodic oxide coating, the above-mentioned polymerizable compound in the micropores can be obtained. It is presumed that the UV printing durability is excellent because the adhesion between the support and the image recording layer is improved by the same polymerization.
  • the average diameter of the micropores on the surface is preferably more than 13 nm and 100 nm or less, more preferably 15 nm to 80 nm, further preferably 20 nm to 60 nm.
  • micropores is a commonly used term that represents pores formed on the surface of the support on the image recording layer side, specifically, pores in the anodized film, and the size of the pores. Is not specified.
  • the support used in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an anodized film on the surface on the image recording layer side.
  • the anodic oxide coating 20 is an anode that is generally formed on the surface of the aluminum plate 18 by an anodic oxidation treatment, is substantially perpendicular to the coating surface, and has extremely fine micropores 22 that are uniformly distributed. Refers to an aluminum oxide film.
  • the micropores 22 extend from the surface of the anodized film along the thickness direction (aluminum plate 18 side).
  • the thickness X1 of the anodized film is preferably 200 nm to 2,000 nm, more preferably 500 nm to 1,800 nm, and further preferably 750 nm to 1,500 nm.
  • the aluminum support used in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably one of the following modes 1 to 3.
  • the micropores extend from the surface of the anodized film to a position exceeding a depth of 10 nm, and the ratio of the average diameter of the micropore bottom to the average diameter of the micropores on the surface of the anodized film is 0.8 times or more. It is 2 times or less.
  • the micropores communicate with a large-diameter hole portion extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and a bottom portion of the large-diameter hole portion, and from the communicating position to a depth direction of 20 nm to 2, 2.
  • the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide coating is 10 nm to 30 nm or less, the average value of the maximum internal diameter is 20 nm to 300 nm, and the average value of the maximum internal diameter is the above on the surface of the anodic oxide coating. Larger than the average diameter of the micropores.
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of aspect 1 above.
  • the micropores 22 extend from the surface of the anodic oxide coating 20 to a position exceeding a depth of 10 nm, and the ratio of the average diameter of the micropore bottoms to the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide coating is 0.8. It is more than twice and less than 1.2 times.
  • the depth X2 of the micropore 22 exceeds 10 nm and is preferably 50 nm or more, more preferably 75 nm or more.
  • the depth X2 of the micropores 22 was obtained by observing the cross section of the anodic oxide film 20 with an FE-SEM (150,000 times), measuring the depths of 25 micropores in the obtained image, and calculating the arithmetic mean value. Is required as.
  • the average diameter Y1 of the micropores 22 on the surface of the anodized film is preferably more than 13 nm and 100 nm or less, more preferably 15 nm or more and 75 nm or less, and further preferably 20 nm or more and 50 nm or less.
  • the ratio (X2/Y1) of the average diameter Y1 to the depth X2 of the micropores 22 on the surface of the anodized film is preferably 2 times or more and 10 times or less, more preferably 2.5 times or more and 7 times or less, and 3 times. More preferably, it is 6 times or less.
  • the average diameter Y2 at the bottom of the micropore 22 is preferably 10 nm or more and 100 nm or less, more preferably 15 nm or more and 75 nm or less, and further preferably 20 nm or more and 50 nm or less.
  • the ratio of the average diameter Y2 at the bottom of the micropores 22 to the average diameter Y1 of the micropores 22 on the anodized film surface is preferably 0.8 times or more and 1.2 times or less, and 0.85 times or more and 1.15 times or more. It is more preferably not more than twice and more preferably not less than 0.9 times and not more than 1.1 times.
  • the ratio of the average diameter Y2 at the bottom of the micropores 22 to the average diameter Y1 of the micropores 22 on the surface of the anodized film is a value calculated by the following formula 1A.
  • Formula 1A (Average diameter Y1 of the micropores 22 on the anodized film surface)/(Average diameter Y2 of the bottom of the micropores 22)
  • the equivalent circle diameter is used.
  • the average diameter Y2 at the bottom of the micropores 22 is in the range of 400 nm ⁇ 600 nm in the 4 images obtained by observing the surface of the anodic oxide film 20 with FE-SEM with a magnification of 150,000.
  • the diameter (diameter) of the bottom portion of the micropore 22 is measured and calculated as an arithmetic mean value.
  • the average diameter Y2 at the bottom of the micropore 22 may be determined by observing with SEM. When the shape of the bottom of the micropore is not circular, the equivalent circle diameter is used. When the shape of the bottom is not flat, for example, Y2-1 described in FIG. 2B is measured as the average diameter of the bottom.
  • FIG. 2B is an enlarged schematic sectional view of one of the micropores in FIG. 2A.
  • the shape of the micropore 22 in Aspect 1 is not particularly limited, and includes, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape), a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction), and a depth direction (thickness direction). Examples thereof include an inverted conical shape having an increasing diameter, a cylindrical shape having a large central portion diameter, and a cylindrical shape having a small central portion diameter, and a substantially straight tubular shape is preferable.
  • the shape of the bottom of the micropore 22 is not particularly limited, and may be curved (concave) or flat.
  • the ratio (Y1A/Y1) of the diameter Y1A of the central portion to the average diameter Y1 of the micropores 22 on the surface of the anodized film is preferably 0.8 times or more and 1.2 times or less.
  • the average diameter Y1A of the central portion of the micropores 22 is present in the range of 400 nm ⁇ 600 nm in the four images obtained by observing the surface of the anodic oxide film 20 with an FE-SEM with a magnification of 150,000.
  • the diameter (diameter) of the central portion of the micropore 22 is measured and calculated as an arithmetic mean value.
  • the upper part of the anodic oxide coating 20 is cut horizontally with the anodic oxide coating (for example, cutting with argon gas) as necessary, and then the surface of the anodic oxide coating 20 is subjected to the above-mentioned FE.
  • the diameter Y1A of the central portion of the bottom portion of the micropore 22 may be obtained by observing with SEM.
  • the density of the micropores 22 in the surface of the anodic oxide coating 20 is not particularly limited, with respect to a unit area of the anodic oxide coating is preferably 200 pieces / [mu] m 2 ⁇ 2,000 cells / [mu] m 2, 200 / More preferably, it is ⁇ m 2 to 1,000 particles/ ⁇ m 2 .
  • the micropores 22 may be distributed over the entire surface of the anodic oxide coating, or may be distributed over at least a portion thereof, but are preferably distributed over the entire surface. It is preferable that the micropores 22 are substantially perpendicular to the anodized film surface 22. In addition, it is preferable that the micropores 22 are individually distributed in a state of being almost uniform.
  • FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of aspect 2 described above.
  • the micropores 22 in the anodic oxide film 20 have a large-diameter hole portion 24 extending from the surface of the anodic oxide film to a depth (depth A: see FIG. 3A) of 10 nm to 1,000 nm, and a bottom portion of the large-diameter hole portion 24.
  • a small-diameter hole portion 26 that extends in the depth direction from the communication position.
  • the large diameter hole portion 24 and the small diameter hole portion 26 will be described in detail below.
  • the average diameter (average opening diameter) of the micropores on the anodized film surface of the large-diameter hole portion 24 is preferably 10 nm to 100 nm or less.
  • the average diameter of the micropores is more preferably more than 13 nm and 100 nm or less, further preferably 15 nm to 60 nm, particularly preferably 18 nm to 40 nm.
  • the average diameter of the micropores is larger than 13 nm, it is easy to obtain a lithographic printing plate excellent in UV printing durability.
  • the average diameter of the micropores is 100 nm or less, it is easy to obtain a lithographic printing plate excellent in neglectability.
  • the term “excellent pay-off property” means that after printing is performed using a lithographic printing plate, printing is interrupted (for example, interrupted for several hours), and when printing is restarted, stains are recognized.
  • the average diameter of the large-diameter holes 24 is 400 nm in the four images obtained by observing the surface of the anodic oxide film 20 with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000.
  • the diameter (diameter) of the micropores (large-diameter pores) existing in the range of ⁇ 600 nm is measured and calculated as an arithmetic mean value.
  • a circle equivalent diameter is used.
  • the bottom of the large-diameter hole 24 has a depth (hereinafter also referred to as “depth A”) of 10 nm to 1,000 nm from the surface of the anodized film. That is, it is preferable that the large-diameter holes 24 are holes extending 10 nm or more from the surface of the anodized film in the depth direction (thickness direction). Among them, the depth A is preferably more than 10 nm and 1000 nm or less, more preferably 25 nm to 200 nm, still more preferably 70 nm to 100 nm, because the effect of the present disclosure is more excellent.
  • small point printing durability means printing durability particularly at small points (for example, an image portion having a diameter (equivalent circle diameter) of several ⁇ m to several tens of ⁇ m).
  • the cross section of the anodic oxide film 20 was observed by FE-SEM (150,000 times), and in the obtained image, the depths of 25 large diameter holes were measured, Calculated as the arithmetic mean value.
  • the shape of the large-diameter hole portion 24 is not particularly limited.
  • An example of the shape is an inverted conical shape in which the diameter increases, and a substantially straight tube shape is preferable.
  • the diameter of the bottom portion of the large-diameter hole portion may usually differ from the diameter of the opening portion by about 1 nm to 10 nm.
  • the shape of the bottom of the large-diameter hole 24 is not particularly limited, and may be curved (concave) or flat.
  • the micropore further has a small diameter hole portion 26 that is a hole portion that communicates with the bottom portion of the large diameter hole portion 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communication position.
  • a small diameter hole portion 26 normally communicates with one large diameter hole portion 24, but two or more small diameter hole portions 26 may communicate with the bottom portion of one large diameter hole portion 24.
  • the average diameter of the small-diameter hole portion 26 at the communicating position is not particularly limited, but the average diameter of the small-diameter hole portion 26 in communication with the bottom portion of the large-diameter hole portion 24 is smaller than the average diameter of the large-diameter hole portion 24 and is less than 20 nm.
  • the average diameter is preferably 5 nm or more. When the average diameter is less than 20 nm, it is easy to obtain a lithographic printing plate excellent in leaving-payability.
  • the diameter (diameter) of the (small-diameter hole portion) is measured and calculated as an arithmetic mean value. If the large-diameter holes are deep, the upper part of the anodic oxide film 20 (the region having the large-diameter holes) may be cut with, for example, argon gas, if necessary, and then the surface of the anodic oxide film 20. May be observed with the FE-SEM to determine the average diameter of the small-diameter holes. When the shape of the small diameter hole portion 26 is not circular, a circle equivalent diameter is used.
  • the bottom portion of the small diameter hole portion 26 has a depth of 20 nm to 2,000 nm (more preferably 100 nm to less than 1,940 nm) in the depth direction from the position of communication with the large diameter hole portion 24 (corresponding to the depth A described above). It is preferable to be located in the place of. In other words, the depth of the small diameter hole portion 26 is preferably 20 nm to 2,000 nm (more preferably 100 nm to less than 1,940 nm).
  • the small-diameter hole portion 26 extends from the communicating position to a position having a depth of 300 nm to 1,600 nm, and the small-diameter hole portion 26 has a depth of 900 nm to 1,300 nm from the communicating position. It is more preferable to extend to the position.
  • the depth from the communicating position is 20 nm or more, it is easy to obtain a lithographic printing plate precursor excellent in scratch resistance.
  • the depth from the communication position is 2,000 nm or less, the processing time is shortened, and the productivity and economy are likely to be excellent.
  • the cross section of the anodic oxide film 20 was observed by FE-SEM (50,000 times), the depths of the 25 small diameter holes were measured in the obtained image, and the arithmetic mean value was obtained. Is required as.
  • the shape of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, and examples thereof include a substantially straight tubular shape (substantially cylindrical shape), a conical shape whose diameter decreases in the depth direction, and a dendritic shape branching in the depth direction. Therefore, a substantially straight tubular shape is preferable.
  • the diameter at the bottom of the small diameter hole portion 26 may have a difference of about 1 to 5 nm from the diameter at the communicating position.
  • the shape of the bottom of the small diameter hole portion 26 is not particularly limited, and may be curved (concave) or flat.
  • the average diameter of the small diameter pores at the communicating position is smaller than the average diameter of the large diameter pores on the surface of the anodic oxide coating.
  • the average diameter of the small diameter holes is smaller than the average diameter of the large diameter holes, it is easy to obtain a lithographic printing plate excellent in stain resistance (leaving property after leaving).
  • the ratio that is, the average diameter of the large diameter holes/the average diameter of the small diameter holes is preferably 1.1 to 12.5. 5 to 10 is more preferable.
  • the average diameter of the small diameter holes is smaller than the average diameter of the large diameter holes on the surface of the anodic oxide film. % To 80% is more preferable, and further preferably 10% to 60%.
  • the micropores may have a shape in which the average diameter at the bottom of the large diameter hole is larger than the average diameter at the surface of the anodic oxide coating, and the small diameter hole communicating with the bottom of the large diameter hole is used. It may be a micropore having a part.
  • the average diameter at the bottom of the large-diameter hole is larger than the average diameter at the surface of the anodized film
  • the average diameter at the surface of the anodized film is preferably 10 nm to 100 nm, more preferably more than 13 nm and 100 nm or less. It is preferable that the average diameter of the bottom is 20 nm to 300 nm.
  • the average diameter of the micropores on the surface of the anodic oxide coating is preferably 10 nm to 100 nm, and is resistant to stains. From the viewpoint of the property (discharging property), it is more preferably more than 13 nm and 30 nm or less.
  • the average diameter of the bottom portion may be 20 nm to 300 nm, but is preferably 40 nm to 200 nm.
  • the thickness of the portion in the depth direction of 10 nm to 100 nm from the surface of the anodized film is preferably 10 nm to 500 nm, but from the viewpoint of scratch resistance, 50 nm to 300 nm is more preferable.
  • the density of the micropores 22 in the surface of the anodic oxide coating 20 is not particularly limited, with respect to a unit area of the anodic oxide coating is preferably 200 pieces / [mu] m 2 ⁇ 2,000 cells / [mu] m 2, 200 / More preferably, it is ⁇ m 2 to 1,000 particles/ ⁇ m 2 .
  • the micropores 22 may be distributed over the entire surface of the anodic oxide coating, or may be distributed over at least a portion thereof, but are preferably distributed over the entire surface. It is preferable that the micropores 22 are substantially perpendicular to the anodized film surface 22. In addition, it is preferable that the micropores 22 are individually distributed in a state of being almost uniform.
  • FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of aspect 3 above.
  • the average diameter Y3 of the micropores 22 on the surface of the anodic oxide film is 10 nm to 30 nm
  • the average maximum diameter Y4 of the inside is 20 nm to 300 nm
  • the average maximum diameter Y4 of the inside is The surface pore size is larger than the average diameter Y3 of the micropores on the surface of the anodized film.
  • the depth X4 of the micropore 22 is more than 10 nm, preferably 30 nm or more, and more preferably 75 nm or more.
  • the depth X4 of the micropores 22 is obtained by observing the cross section of the anodic oxide film 20 with an FE-SEM (150,000 times), measuring the depth of 25 micropores in the obtained image, and calculating the arithmetic mean value. Is required as.
  • the average diameter Y3 of the micropores 22 on the surface of the anodized film is preferably 10 nm or more and 30 nm or less, more preferably 11 nm or more and 25 nm or less, and further preferably 12 nm or more and 20 nm or less.
  • the average value Y4 of the maximum diameters inside the micropores is preferably 10 nm or more and 300 nm or less, more preferably 15 nm or more and 200 nm or less, and further preferably 20 nm or more and 100 nm or less.
  • the ratio of the average value Y4 of the maximum diameter inside the micropores 22 to the average diameter Y3 of the micropores on the surface of the anodized film is preferably 1.2 times or more and 10 times or less, and 1.5 times or more and 8 times or more. It is more preferably not more than 2 and more preferably not less than 2 times and not more than 5 times.
  • the ratio of the average value Y4 of the maximum diameter inside the micropores 22 to the average diameter Y3 of the micropores 22 is a value obtained by the following formula 1B.
  • Formula 1B (Average value Y4 of the maximum diameter inside the micropore 22)/(Average diameter Y3 of the micropore 22 on the surface of the anodic oxide film)
  • the average diameter Y3 of the micropores on the surface of the anodic oxide film is obtained by the same method as Y1 in the above-described aspect 1, and the average value Y4 of the maximum diameters inside the micropores 22 is about 150,000 times on the surface of the anodic oxide film 20.
  • the upper part of the anodic oxide coating 20 is cut horizontally with the anodic oxide coating (for example, cutting with argon gas), if necessary, and then the surface of the anodic oxide coating 20 is subjected to the above-mentioned FE.
  • the average diameter Y4 at the bottom of the micropore 22 may be obtained by observing with SEM. If the shape of the micropore 22 is not circular, the equivalent circle diameter is used.
  • the shape of the micropore 22 in Aspect 3 is not particularly limited, and includes, for example, a substantially straight tube shape (substantially cylindrical shape), a conical shape whose diameter decreases in the depth direction (thickness direction), and a depth direction (thickness direction). Examples thereof include an inverted conical shape having an increasing diameter, a cylindrical shape having a large central portion diameter, and a cylindrical shape having a small central portion diameter, and a substantially straight tubular shape is preferable.
  • the shape of the bottom of the micropore 22 is not particularly limited, and may be curved (concave) or flat. Further, as shown in FIG. 4B, a cylinder having a small diameter and a cylinder having a large diameter may be combined.
  • These cylinders may also have a substantially straight tubular shape, a conical shape, an inverted conical shape, a cylindrical shape with a large central portion diameter, or a cylindrical shape with a small central portion diameter, and a substantially straight tubular shape is preferable.
  • the shape of the bottom of the micropore 22 is not particularly limited, and may be curved (concave) or planar.
  • the density of the micropores 22 in the surface of the anodic oxide coating 20 is not particularly limited, with respect to a unit area of the anodic oxide coating is preferably 200 pieces / [mu] m 2 ⁇ 2,000 cells / [mu] m 2, 200 / More preferably, it is ⁇ m 2 to 1,000 particles/ ⁇ m 2 .
  • the micropores 22 may be distributed over the entire surface of the anodic oxide coating, or may be distributed over at least a portion thereof, but are preferably distributed over the entire surface. It is preferable that the micropores 22 are substantially perpendicular to the anodized film surface 22. In addition, it is preferable that the micropores 22 are individually distributed in a state of being almost uniform.
  • Method for producing aluminum support a method for producing an aluminum support having an anodized film in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure will be described.
  • the method for producing the aluminum support having an anodized film is not particularly limited, but a production method in which the following steps are carried out in order is preferable.
  • (Roughening treatment step) A step of subjecting the aluminum plate to a roughening treatment (first anodizing treatment step) A step of anodizing the roughened aluminum plate (a pore widening treatment step)
  • first anodizing treatment step A step of bringing the obtained aluminum plate having an anodized film into contact with an aqueous acid solution or an aqueous alkali solution to expand the diameter of the micropores in the anodized film
  • Second anodizing step Aluminum obtained in the pore widening step Step of Anodizing the Plate (Hydrophilic Treatment Step) Step of Hydrophilizing the Aluminum Plate Obtained in the Second Anodizing Step
  • FIG. 5 shows a schematic cross-sectional view of an aluminum support having an anodized film, which shows the steps from the first anodizing treatment step to the second anodizing treatment step in the order of steps.
  • the roughening treatment step is a step of subjecting the surface of the aluminum plate to a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment.
  • the roughening treatment step is preferably carried out before the first anodizing treatment step described later, but may not be carried out if the surface of the aluminum plate has a preferable surface shape.
  • the roughening treatment may be performed only by the electrochemical roughening treatment, but may be performed by combining the electrochemical roughening treatment with the mechanical roughening treatment and/or the chemical roughening treatment. Good.
  • the mechanical surface roughening treatment and the electrochemical surface roughening treatment are combined, it is preferable to carry out the electrochemical surface roughening treatment after the mechanical surface roughening treatment.
  • the mechanical surface roughening process is performed using, for example, the device shown in FIG. Specifically, for example, while supplying a suspension of Pumice (specific gravity: 1.1 g/cm 3 ) as a polishing slurry liquid to the surface of an aluminum plate, mechanical roughening treatment is performed by a rotating bundling brush. .. In FIG. 8, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller brushes (bundling brushes, etc.), 3 is a polishing slurry liquid, 5, 6, 7 and 8 are support rollers.
  • Pumice specific gravity: 1.1 g/cm 3
  • the electrochemical graining treatment is preferably performed in an aqueous solution of nitric acid or hydrochloric acid.
  • the mechanical surface roughening treatment is generally performed for the purpose of adjusting the surface roughness Ra of the aluminum plate to 0.35 ⁇ m to 1.0 ⁇ m.
  • various conditions for the mechanical surface roughening treatment are not particularly limited, they can be applied, for example, according to the method described in JP-B-50-40047.
  • the mechanical surface roughening treatment can be carried out by a brush grain treatment using a pumice suspension or by a transfer method.
  • the chemical surface-roughening treatment is not particularly limited, and can be performed according to a known method.
  • the following chemical etching treatment is preferably performed after the mechanical surface roughening treatment.
  • the chemical etching treatment which is applied after the mechanical surface roughening treatment, smoothes the edges of the uneven surface of the aluminum plate, prevents the ink from being caught during printing, and protects the lithographic printing plate from stains Property) and further remove unnecessary substances such as abrasive particles remaining on the surface.
  • acid etching and alkali etching are known, but as a method that is particularly excellent in terms of etching efficiency, chemical etching treatment using an alkaline solution (hereinafter also referred to as “alkali etching treatment”). ) Is mentioned.
  • the alkaline agent used in the alkaline solution is not particularly limited, but preferred examples thereof include caustic soda (sodium hydroxide), caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium gluconate, and the like.
  • the alkaline agent may contain aluminum ions.
  • the concentration of the alkaline solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less.
  • the temperature of the alkaline solution is preferably room temperature or higher, more preferably 30°C or higher, and preferably 80°C or lower, more preferably 75°C or lower.
  • the etching amount is preferably 0.1 g/m 2 or more, more preferably 1 g/m 2 or more, and preferably 20 g/m 2 or less, more preferably 10 g/m 2 or less.
  • the treatment time is preferably 2 seconds to 5 minutes in accordance with the etching amount, and more preferably 2 to 10 seconds from the viewpoint of improving productivity.
  • a chemical etching treatment (hereinafter, also referred to as “desmut treatment”) using a low temperature acidic solution is performed in order to remove a product generated by the alkali etching treatment. It is preferably applied.
  • the acid used in the acidic solution is not particularly limited, but examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid.
  • the concentration of the acidic solution is preferably 1% by mass to 50% by mass.
  • the temperature of the acidic solution is preferably 20°C to 80°C. When the concentration and temperature of the acidic solution are within this range, the stain resistance (leaving property after leaving) of the lithographic printing plate is further improved.
  • the above-mentioned roughening treatment is a treatment of performing an electrochemical roughening treatment after performing a mechanical roughening treatment and a chemical etching treatment if desired, but the electrochemical roughening treatment is not performed.
  • the chemical etching treatment can be performed using an alkaline aqueous solution such as caustic soda before the electrochemical surface roughening treatment. Thereby, impurities and the like existing near the surface of the aluminum plate can be removed.
  • the electrochemical graining treatment is suitable for producing a lithographic printing plate having excellent printability because it is easy to give fine irregularities (pits) to the surface of the aluminum plate.
  • the electrochemical graining treatment is carried out by using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid.
  • the electrochemical graining treatment After the electrochemical graining treatment, it is preferable to perform the following chemical etching treatment. Smut and intermetallic compounds are present on the surface of the aluminum plate after the electrochemical graining treatment.
  • the chemical etching treatment performed after the electrochemical graining treatment it is preferable to first perform the chemical etching treatment (alkali etching treatment) using an alkaline solution in order to remove smut particularly efficiently.
  • the treatment temperature is preferably 20° C. to 80° C.
  • the treatment time is preferably 1 second to 60 seconds. It is preferable to contain aluminum ions in the alkaline solution.
  • a chemical etching treatment using an alkaline solution after the electrochemical surface roughening treatment, and then perform a chemical etching treatment (desmut treatment) using a low temperature acidic solution in order to remove a product generated thereby. ..
  • the desmut treatment is preferably performed in order to remove the smut efficiently.
  • the chemical etching treatment described above can be performed by a dipping method, a shower method, a coating method, etc., and is not particularly limited.
  • first anodizing treatment step an aluminum oxide film having micropores extending in the depth direction (thickness direction) is formed on the surface of the aluminum plate by subjecting the aluminum plate subjected to the above-mentioned roughening treatment to anodizing treatment. Is a step of forming.
  • first anodic oxidation treatment as shown in FIG. 5(A), an aluminum anodic oxide coating 32a having micropores 33a is formed on the surface of the aluminum plate 31.
  • the first anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field, but the manufacturing conditions are appropriately set so that the above-described micropores can be finally formed.
  • the average diameter (average opening diameter) of the micropores 33a formed in the first anodizing process is preferably about 4 nm to 14 nm, more preferably 5 nm to 10 nm.
  • the micropores having the above-mentioned predetermined shape are easily formed, and the performance of the lithographic printing plate precursor obtained is more excellent.
  • the depth of the micropore 33a is preferably about 60 nm to less than 200 nm, more preferably 70 nm to 100 nm. Within the above range, the micropores having the above-mentioned predetermined shape are easily formed, and the performance of the lithographic printing plate precursor obtained is more excellent.
  • the pore density of the micropores 33a is not particularly limited, but the pore density is preferably 50/ ⁇ m 2 to 4000/ ⁇ m 2 , and more preferably 100/ ⁇ m 2 to 3000/ ⁇ m 2 . Within the above range, the resulting lithographic printing plate is excellent in UV printing resistance and leaving-payability, and the lithographic printing plate precursor is excellent in developability.
  • the film thickness of the anodized film obtained by the first anodizing treatment step is preferably 70 nm to 300 nm, more preferably 80 nm to 150 nm.
  • the resulting lithographic printing plate is excellent in UV printing resistance, leaving-and-leaving property, stain resistance (leaving-and-leaving property), and developability of the lithographic printing plate precursor.
  • the coating amount of the anodized film obtained by the first anodizing treatment step is preferably 0.1 g/m 2 to 0.3 g/m 2 , and more preferably 0.12 g/m 2 to 0.25 g/m 2 . is there.
  • the resulting lithographic printing plate is excellent in UV printing resistance, leaving-and-leaving property, stain resistance (leaving-and-leaving property), and developability of the lithographic printing plate precursor.
  • an aqueous solution of sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid or the like can be mainly used as the electrolytic bath.
  • chromic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, or the like, or an aqueous solution or a non-aqueous solution in which two or more kinds thereof are combined can be used.
  • an anodized film can be formed on the surface of the aluminum plate. It is known that the pore size changes greatly when the type of electrolyte is changed.
  • the pore diameter in sulfuric acid electrolyte ⁇ pore diameter in oxalic acid electrolyte ⁇ pore diameter in phosphoric acid electrolyte Is. Therefore, it is necessary to change the electrolytic solution and perform the treatment twice, or to connect the treatment devices in two or three consecutive treatments to perform treatment in two or three consecutive stages to form an anodic oxide film structure. Is possible.
  • a phosphoric acid electrolyte By using a phosphoric acid electrolyte, a coating having a large pore at the bottom can be obtained by using a phosphoric acid electrolyte while maintaining the pore diameter at the surface of the anodized coating by the method described in JP-A-2002-365791. ..
  • the electrolytic bath may contain aluminum ions.
  • the content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 g/L to 10 g/L.
  • the conditions of the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, but generally, the concentration of the electrolytic solution is 1% by mass to 80% by mass (preferably 5% by mass to 20% by mass), and the liquid temperature is 5%.
  • °C to 70 °C preferably 10 °C to 60 °C
  • current density 0.5 A/dm 2 to 60 A/dm 2 (preferably 5 A/dm 2 to 50 A/dm 2 )
  • voltage 1 V to 100 V preferably 5 V to A range of 50 V
  • electrolysis time of 1 second to 100 seconds preferably 5 seconds to 60 seconds
  • the pore widening treatment step is a treatment (pore diameter enlargement treatment) for expanding the diameter (pore diameter) of the micropores present in the anodized film formed by the first anodizing treatment step described above.
  • pore widening treatment as shown in FIG. 5B, the diameter of the micropore 33a is enlarged, and the anodized film 32b having the micropore 33b having a larger average diameter is formed.
  • the average diameter of the micropores 33b is expanded to the range of 10 nm to 100 nm (preferably 15 nm to 60 nm, more preferably 18 nm to 40 nm).
  • the micropore 33b is a portion corresponding to the large-diameter hole portion 24 (FIG. 5A) described above. It is preferable to adjust the depth from the surface of the micropores 33b by the pore widening process so as to be approximately the same as the depth A (FIG. 3A) described above.
  • the pore widening treatment is performed by bringing the aluminum plate obtained by the above-described first anodizing treatment step into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution.
  • the method of contact is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spray method. Of these, the dipping method is preferable.
  • an alkaline aqueous solution When an alkaline aqueous solution is used in the pore widening process, it is preferable to use at least one alkaline aqueous solution selected from sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide.
  • the concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 0.1% by mass to 5% by mass.
  • the aluminum plate After adjusting the pH of the alkaline aqueous solution to 11 to 13, the aluminum plate is immersed in the alkaline aqueous solution for 1 second to 300 seconds (preferably 1 second to 50) under the condition of 10°C to 70°C (preferably 20°C to 50°C). Second) It is appropriate to make contact.
  • the alkali treatment liquid may contain a metal salt of a polyvalent weak acid such as carbonate, borate, or phosphate.
  • an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid or a mixture thereof.
  • concentration of the aqueous acid solution is preferably 1% by mass to 80% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass. It is suitable to bring the aluminum plate into contact with the aqueous acid solution for 1 second to 300 seconds (preferably 1 second to 150 seconds) under the condition of the temperature of the aqueous acid solution being 5°C to 70°C (preferably 10°C to 60°C). is there.
  • Aluminum ions may be contained in the aqueous alkali solution or the aqueous acid solution. The content of aluminum ions is not particularly limited, but is preferably 1 g/L to 10 g/L.
  • the second anodizing treatment step is a step of forming micropores extending in the depth direction (thickness direction) by subjecting the aluminum plate subjected to the pore widening treatment described above to anodizing treatment.
  • the second anodic oxidation treatment step as shown in FIG. 5C, the anodic oxide coating 32c having the micropores 33c extending in the depth direction is formed.
  • the average diameter is communicated with the bottom of the micropore 33b, the average diameter is smaller than the average diameter of the micropore 33b (corresponding to the large-diameter hole portion 24), and the depth direction from the communicating position is increased.
  • a new hole extending to the side is formed. The hole corresponds to the small diameter hole 26 described above.
  • the second anodizing treatment step treatment is performed so that the average diameter of the newly formed holes is larger than 0 and less than 20 nm, and the depth from the communicating position with the large diameter holes 20 falls within the above-mentioned predetermined range. Is carried out.
  • the electrolytic bath used for the treatment is the same as in the first anodizing treatment step described above, and the treatment conditions are appropriately set according to the material used.
  • the conditions of the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used, but generally, the concentration of the electrolytic solution is 1% by mass to 80% by mass (preferably 5% by mass to 20% by mass), and the liquid temperature is 5%.
  • °C to 70 °C (preferably 10 °C to 60 °C), current density 0.5 A/dm 2 to 60 A/dm 2 (preferably 1 A/dm 2 to 30 A/dm 2 ), voltage 1 V to 100 V (preferably 5 V to A range of 50 V) and electrolysis time of 1 second to 100 seconds (preferably 5 seconds to 60 seconds) is suitable.
  • the thickness of the anodized film obtained by the second anodizing treatment step is preferably 200 nm to 2,000 nm, more preferably 750 nm to 1,500 nm. Within the above range, the lithographic printing plate obtained has excellent UV printing durability and negligible payoff property.
  • the amount of the anodized film obtained by the second anodizing treatment step is preferably 2.2 g/m 2 to 5.4 g/m 2 , and more preferably 2.2 g/m 2 to 4.0 g/m 2. m 2 .
  • the resulting lithographic printing plate is excellent in UV printing resistance and leaving-payability, and the planographic printing plate precursor is excellent in developability and scratch resistance.
  • Ratio of the thickness of the anodized film obtained by the first anodizing process (film thickness 1) and the thickness of the anodized film obtained by the second anodizing process (film thickness 2) (film thickness 1/film thickness 2) is preferably 0.01 to 0.15, more preferably 0.02 to 0.10. Within the above range, the lithographic printing plate support is excellent in scratch resistance.
  • the applied voltage may be increased stepwise or continuously during the process of the second anodizing process.
  • the applied voltage By increasing the applied voltage, the diameter of the formed hole becomes large, and as a result, the shape like the small diameter hole 26 described above is obtained.
  • a third anodizing process may be performed subsequent to the second anodizing process.
  • the anodizing treatment in the third anodizing treatment step is performed in the same manner as in the second anodizing treatment step, by appropriately setting the liquid component, the current density, the time, etc. according to the desired surface condition of the support surface. Just go.
  • the method for producing an aluminum support having an anodized film may have a hydrophilization treatment step of performing a hydrophilization treatment after the above-mentioned polar oxidation treatment step.
  • a hydrophilization treatment known methods disclosed in paragraphs 0109 to 0114 of JP-A-2005-254638 can be used.
  • hydrophilic treatment by a method of immersing in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate.
  • hydrophilic treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be done according to methods and procedures.
  • the aluminum support having an anodized film of the present disclosure is preferably a support obtained by subjecting the above-mentioned aluminum plate to each treatment shown in the following modes A to D in the order shown below. From the viewpoint, the A mode is particularly preferable. It is desirable to wash with water between the following treatments. However, washing with water may be omitted when a liquid having the same composition is used in two consecutive steps (treatments).
  • (1) mechanical graining treatment may be carried out, if necessary. From the viewpoint of printing durability, it is preferable that the treatment of (1) is not included in each aspect.
  • the mechanical surface roughening treatment, the electrochemical surface roughening treatment, the chemical etching treatment, the anodizing treatment and the hydrophilizing treatment in the above (1) to (12) are the same as the above-mentioned treatment methods and conditions. However, the treatment method and conditions described below are preferable.
  • the mechanical surface roughening treatment it is preferable to perform mechanical surface roughening treatment with a rotating nylon brush roll having a hair diameter of 0.2 mm to 1.61 mm and a slurry liquid supplied to the surface of the aluminum plate.
  • a rotating nylon brush roll having a hair diameter of 0.2 mm to 1.61 mm and a slurry liquid supplied to the surface of the aluminum plate.
  • Known abrasives can be used, but silica sand, quartz, aluminum hydroxide or a mixture thereof is preferable.
  • the specific gravity of the slurry liquid is preferably 1.05 to 1.3.
  • a method of spraying a slurry liquid, a method of using a wire brush, a method of transferring the surface shape of a rolling roll having irregularities onto an aluminum plate, or the like may be used.
  • the concentration of the alkaline aqueous solution used for the chemical etching treatment (first to third alkaline etching treatment) in the alkaline aqueous solution is preferably 1% by mass to 30% by mass, and the alloying components contained in aluminum and the aluminum alloy are 0% by mass to You may contain 10 mass %.
  • an aqueous solution mainly containing caustic soda is particularly preferable.
  • the liquid temperature is preferably room temperature (25° C.) to 95° C. and is preferably treated for 1 second to 120 seconds. After the etching treatment is completed, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with water by spraying in order to prevent the treatment liquid from being brought into the next step.
  • the dissolution amount of the aluminum plate in the first alkali etching treatment is preferably 0.5 g/m 2 to 30 g/m 2, more preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 , and 3.0 g/m 2 to 15 g. /M 2 is more preferable.
  • the dissolution amount of the aluminum plate in the second alkali etching treatment is preferably 0.001 g/m 2 to 30 g/m 2, more preferably 0.1 g/m 2 to 4 g/m 2 , and 0.2 g/m 2 to 1 More preferably, it is 0.5 g/m 2 .
  • the dissolution amount of the aluminum plate in the third alkali etching treatment is preferably 0.001 g/m 2 to 30 g/m 2, more preferably 0.01 g/m 2 to 0.8 g/m 2 , and 0.02 g/m 2. It is more preferably to 0.3 g/m 2 .
  • the chemical etching treatment in an acidic aqueous solution, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is preferably used.
  • the concentration of the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.
  • Aluminum and alloy components contained in the aluminum alloy may be dissolved in the acidic aqueous solution in an amount of 0% by mass to 5% by mass.
  • the liquid temperature is from room temperature to 95° C., and the treatment time is preferably 1 to 120 seconds.
  • the nitric acid-based aqueous solution used in the first electrochemical surface-roughening treatment may be an aqueous solution used in an ordinary electrochemical surface-roughening treatment using direct current or alternating current, and may be 1 g/L to 100 g/L.
  • a hydrochloric acid or nitric acid compound having a nitrate ion such as aluminum nitrate, sodium nitrate or ammonium nitrate
  • a chloride ion such as aluminum chloride, sodium chloride or ammonium chloride
  • Aluminum alloys such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silica may be dissolved in the aqueous solution containing nitric acid as a main component.
  • a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added so that aluminum ions are 3 g/L to 50 g/L in an aqueous solution of 0.5% by mass to 2% by mass of nitric acid.
  • the liquid temperature is preferably 10°C to 90°C, more preferably 40°C to 80°C.
  • an aqueous solution used in a normal electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current can be used, and 1 g/L to 100 g/L can be used.
  • aqueous hydrochloric acid solution one or more of hydrochloric acid or nitric acid compound having nitric acid ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate; hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride; etc. is added to 1 g/L to saturation. Can be used.
  • Aluminum alloys such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silica may be dissolved in the aqueous solution containing hydrochloric acid as a main component.
  • a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added so that aluminum ions are 3 g/L to 50 g/L in 0.5% by mass to 2% by mass of hydrochloric acid aqueous solution.
  • the liquid temperature is preferably 10°C to 60°C, more preferably 20°C to 50°C.
  • hypochlorous acid may be added.
  • the aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the electrochemical surface roughening treatment in the aqueous hydrochloric acid solution in the aspect B can be the aqueous solution used in the normal electrochemical surface roughening treatment using direct current or alternating current, Sulfuric acid can be used by adding 0 g/L to 30 g/L to a 1 g/L to 100 g/L hydrochloric acid aqueous solution.
  • hydrochloric acid or nitric acid compound having a nitrate ion such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate; a chloride ion such as aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride; etc. is added up to 1 g/L to saturation.
  • a nitrate ion such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate
  • a chloride ion such as aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride
  • metals contained in aluminum alloys such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silica may be dissolved in the aqueous solution containing hydrochloric acid as a main component.
  • the liquid temperature is preferably 10°C to 60°C, more preferably 20°C to 50°C.
  • hypochlorous acid may be added.
  • Sine wave, rectangular wave, trapezoidal wave, triangular wave, etc. can be used as the AC power supply waveform for the electrochemical roughening treatment.
  • the frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
  • FIG. 6 A graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used in the electrochemical graining treatment in the method for producing an aluminum support having an anodized film is shown in FIG.
  • ta is the anode reaction time
  • tc is the cathode reaction time
  • tp is the time until the current reaches a peak from
  • Ia is the peak current on the anode cycle side
  • Ic is the peak current on the cathode cycle side.
  • the time tp until the current reaches the peak from 0 is preferably 1 ms to 10 ms.
  • the power supply voltage required at the rising of the current waveform becomes small, which is preferable from the viewpoint of the equipment cost of the power supply.
  • it is 10 ms or less, it is less likely to be affected by a trace component in the electrolytic solution, and uniform roughening is easily performed.
  • the condition of one cycle of alternating current used for electrochemical surface roughening is that the ratio tc/ta of the anode reaction time ta of the aluminum plate and the cathode reaction time tc is 1 to 20, and the aluminum plate has the amount of electricity Qc at the anode and the anode.
  • the ratio Qc/Qa of the electric quantity Qa at time is 0.3 to 20 and the anode reaction time ta is 5 ms to 1000 ms.
  • the tc/ta is more preferably 2.5 to 15.
  • Qc/Qa is more preferably 2.5 to 15.
  • the current density is a peak value of the trapezoidal wave, and it is preferable that the current Ia on the anode cycle side and the current Ic on the cathode cycle side are both 10 A/dm 2 to 200 A/dm 2 .
  • Ic/Ia is preferably in the range of 0.3 to 20.
  • the total amount of electricity involved in the anode reaction of the aluminum plate at the time when the electrochemical roughening is completed is preferably 25 C/dm 2 to 1000 C/dm 2 .
  • electrolytic cell used for electrochemical surface roughening using an alternating current known electrolytic cells used for surface treatment such as vertical type, flat type and radial type can be used, but it is described in JP-A-5-195300. Radial type electrolytic cells as described above are particularly preferable.
  • FIG. 7 is a side view showing an example of a radial type cell in an electrochemical graining treatment using an alternating current in the method for producing an aluminum support having an anodized film.
  • 50 is a main electrolytic cell
  • 51 is an AC power source
  • 52 is a radial drum roller
  • 53a and 53b are main electrodes
  • 54 is an electrolytic solution supply port
  • 55 is an electrolytic solution
  • 56 is a slit
  • 57 is an electrolytic solution passage
  • Reference numeral 58 is an auxiliary anode
  • 60 is an auxiliary anode tank
  • W is an aluminum plate.
  • the electrolysis conditions may be the same or different.
  • the aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 which is arranged so as to be immersed in the main electrolysis tank 50, and is electrolyzed by main poles 53a and 53b connected to the AC power supply 51 during the transportation process.
  • the electrolytic solution 55 is supplied from the electrolytic solution supply port 54 through the slit 56 to the electrolytic solution passage 57 between the radial drum roller 52 and the main poles 53a and 53b.
  • the aluminum plate W treated in the main electrolytic bath 50 is then subjected to electrolytic treatment in the auxiliary anode bath 60.
  • An auxiliary anode 58 is arranged in the auxiliary anode tank 60 so as to face the aluminum plate W, and the electrolytic solution 55 is supplied so as to flow in a space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W.
  • the support may have an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 or a silicon alkoxy compound described in JP-A-6-35174 on the surface opposite to the image recording layer. It may have a back coat layer containing.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (also referred to as an intermediate layer) between the image recording layer and the support.
  • the undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area and facilitates the peeling of the image recording layer from the support in the unexposed area, thus suppressing the deterioration of printing durability. It contributes to improve the developability.
  • the undercoat layer functions as a heat insulating layer, so that it also has an effect of preventing heat generated by the exposure from diffusing into the support and lowering the sensitivity.
  • the compound used in the undercoat layer includes a polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group that can be adsorbed on the surface of the support.
  • a polymer having an adsorptive group and a hydrophilic group and further having a crosslinkable group in order to improve the adhesion to the image recording layer is preferable.
  • the compound used in the undercoat layer may be a low molecular weight compound or a polymer.
  • the compounds used in the undercoat layer may be used as a mixture of two or more, if necessary.
  • the compound used in the undercoat layer is a polymer
  • a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group and a monomer having a crosslinkable group is preferable.
  • the adsorptive group capable of being adsorbed on the surface of the support include a phenolic hydroxy group, a carboxy group, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 —, and —COCH 2 COCH 3 Is preferred.
  • the hydrophilic group a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group is preferable.
  • the polymer may have a polar substituent of the polymer and a crosslinkable group introduced by salt formation with a substituent having a countercharge to the polar substituent and a compound having an ethylenically unsaturated bond, and Other monomers, preferably hydrophilic monomers, may be further copolymerized.
  • Preferable examples are phosphorus compounds having a heavy bond reactive group.
  • Crosslinkable groups preferably ethylenically unsaturated bond groups
  • a low molecular weight or high molecular weight compound having a functional group that interacts with the surface and a hydrophilic group is also preferably used.
  • high molecular polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group capable of being adsorbed on the surface of the support described in JP-A-2005-125749 and JP-A-2006-188038.
  • the content of the ethylenically unsaturated bond group in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol, per 1 g of the polymer.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the polymer used in the undercoat layer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.
  • the undercoat layer is, in addition to the above-mentioned undercoat layer compound, a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group or a functional group having a polymerization inhibition ability, and a support surface in order to prevent contamination with time.
  • a compound having a group that interacts with eg, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, hydroxy
  • DABCO 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane
  • 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone chloranil
  • sulfophthalic acid hydroxy
  • Ethylethylenediaminetriacetic acid dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, etc.
  • the undercoat layer is applied by a known method.
  • the coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 mg/m 2 to 100 mg/m 2, and more preferably 1 mg/m 2 to 30 mg/m 2 .
  • a lithographic printing plate can be prepared by subjecting the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to imagewise exposure and development.
  • a method of producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes a step of exposing the on-press development lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to an image (hereinafter, also referred to as “exposure step”), a printing ink and a dampening. It is preferable to include a step of supplying at least one selected from the group consisting of water to remove the image recording layer in the non-image area on the printing machine (hereinafter, also referred to as “on-press development step”).
  • the lithographic printing method according to the present disclosure includes a step of exposing the on-press development lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to an image (exposure step), and at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution. It includes a step of supplying and removing the image recording layer in the non-image area on the printing machine to produce a lithographic printing plate (on-press development step), and a step of printing with the obtained lithographic printing plate (printing step) It is preferable.
  • exposure step includes a step of supplying and removing the image recording layer in the non-image area on the printing machine to produce a lithographic printing plate (on-press development step), and a step of printing with the obtained lithographic printing plate (printing step) It is preferable.
  • lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can also be developed with a developing solution.
  • the exposure step and the on-press development step in the method for producing a lithographic printing plate will be described, but the exposure step in the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the exposure step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same. These are the steps, and the on-press development step in the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the on-press development step in the lithographic printing method according to the present disclosure are the same steps.
  • the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to form an exposed portion and an unexposed portion.
  • the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably subjected to laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone image or the like, or imagewise exposed by laser light scanning with digital data.
  • the wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm.
  • solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared rays are suitable.
  • the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably 20 microseconds or less, and the irradiation energy amount is 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2. preferable. Further, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.
  • the exposure mechanism may be any of an inner drum system, an outer drum system, a flat bed system, and the like. Image exposure can be performed by a conventional method using a platesetter or the like. In the case of on-press development, the planographic printing plate precursor may be mounted on the printing machine and then imagewise exposed on the printing machine.
  • the method for producing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes an on-press development step of removing at least one selected from the group consisting of printing ink and fountain solution on a printing machine to remove the image recording layer in the non-image area. It is preferable to include.
  • the on-press development method will be described below.
  • On-machine development method In the on-press development method, the lithographic printing plate precursor image-exposed is supplied with an oil-based ink and an aqueous component on the printing machine, and the image recording layer in the non-image area is removed to prepare a lithographic printing plate. Is preferred.
  • the uncured image-recording layer may be formed in the non-image area at the initial stage of printing by one or both of the supplied oil-based ink and the water-based component. It is dissolved or dispersed and removed, and a hydrophilic surface is exposed at that portion.
  • the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving area having a lipophilic surface.
  • the oil-based ink or the aqueous component may be first supplied to the plate surface, the oil-based ink is first supplied in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the removed components of the image recording layer. It is preferable.
  • the lithographic printing plate precursor is on-press developed on the printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.
  • a printing ink and a fountain solution for ordinary lithographic printing are preferably used.
  • the wavelength of the light source is preferably 300 nm to 450 nm or 750 nm to 1,400 nm.
  • a light source having a wavelength of 300 nm to 450 nm a lithographic printing plate precursor containing a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and the light sources having a wavelength of 750 nm to 1,400 nm are those described above. It is preferably used.
  • a semiconductor laser is suitable as a light source with a wavelength of 300 nm to 450 nm.
  • a lithographic printing method includes a printing step in which printing ink is supplied to a lithographic printing plate to print a recording medium.
  • the printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired.
  • oil-based ink or ultraviolet curable ink UV ink
  • dampening water may be supplied if necessary. Further, the printing process may be performed continuously with the on-press development process without stopping the printing machine.
  • the recording medium is not particularly limited, and a known recording medium can be used as desired.
  • lithographic printing is performed before exposure, during exposure, and between exposure and development, as necessary.
  • the entire surface of the plate precursor may be heated.
  • the heating before development is preferably performed under mild conditions of 150° C. or lower.
  • the temperature is in the range of 100 to 500°C. Within the above range, a sufficient image strengthening effect can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area can be suppressed.
  • the molecular weight is a weight average molecular weight (Mw) and the ratio of the constitutional repeating unit is a molar percentage, except for those specifically specified.
  • Mw weight average molecular weight
  • the weight average molecular weight (Mw) is a value measured as a polystyrene conversion value by a gel permeation chromatography (GPC) method.
  • Polymer particles A-1 were synthesized according to the following synthesis scheme. 40 parts of the following compound (1), 10 parts of the following compound (2), and 950 parts of distilled water were added to a three-necked flask, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere and heated to 70°C. Next, 1.9 g of potassium persulfate was added and stirred for 5 hours. Then, it heated up at 95 degreeC and stirred for 2 hours. The reaction solution was allowed to cool to room temperature (25°C, the same applies below) to obtain a dispersion liquid (solid content: 5%) of polymer particles A-1. The average particle size of the polymer particles A-1 was 180 nm. The average particle size of the polymer particles A-1 was measured by the method described above.
  • Resin B-1 was synthesized according to the following synthesis scheme. To a three-necked flask were added 25 parts of the following compound (3), 25 parts of the following compound (4) and 70 parts of 1-methoxy-2-propanol, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere and heated to 80°C. 0.5 part of dimethyl 2,2′-azobisisobutyronitrile was added and reacted for 6 hours to obtain resin B-1′.
  • Got The core-shell particles CS-1 had a coating amount of the resin B of 30 mass% with respect to the total mass of the resin A, and had an arithmetic average particle diameter of 190 nm.
  • the coating amount of the resin B was 70 mass% with respect to the total mass of the resin A, and the arithmetic average particle diameter was 400 nm.
  • Thermoplastic resin amount shown in Table 1 BYK306 (Byk Chemie): 60 parts 1-methoxy-2-propanol: 8,000 parts Methyl ethyl ketone: 1,000 parts
  • -Inorganic layered compound dispersion liquid (1) 1.5 parts-Polyvinyl alcohol (CKS50, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., modified with sulfonic acid, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6 mass%
  • Aqueous solution 0.55 parts
  • Surfactant polyoxyethylene lauryl Ether, Emamarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd. 1% by mass aqueous solution: 0.86 parts, deionized water: 6.0 parts
  • the method for preparing the inorganic layered compound dispersion liquid (1) used for the protective layer coating liquid is shown below.
  • the exposed image contained a solid image, a 50% halftone dot chart of a 20 ⁇ m dot FM screen, and a non-image portion.
  • the obtained exposed lithographic printing plate precursor was mounted on the plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing.
  • A The surface of the lithographic printing plate precursor has 5 or less bumps and the surface looks flat.
  • B The surface area of the surface of the lithographic printing plate precursor is 5 ⁇ m square, and the number of uneven bumps exceeds 5 and 20 or less.
  • C The lithographic printing plate precursor has an uneven surface area of 5 ⁇ m square with more than 20 bumps.
  • D Not only the number of uneven bumps exceeds 20 in an area of 5 ⁇ m square on the surface of the lithographic printing plate precursor, but also the surface becomes cracked.
  • the lithographic printing plate precursor (745 mm ⁇ 645 mm) was mounted on the cylinder of a Kikuhan trial size Heidelberg printer SX-74 without exposure and development.
  • 80 L of PRESSMAX S-S2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) as a dampening water was charged into the circulation device, and T&K UV OFS K-HS ink GE-M (manufactured by T&K) was used as a printing ink and dampened After supplying water and ink, 500 sheets were printed at a printing speed of 10,000 sheets per hour.
  • the on-press development of the unexposed portion of the image recording layer was completed, and the ink was not transferred to the printing paper.
  • This on-press development to printing of 1,000 sheets was repeated 10 times using a new lithographic printing plate precursor each time.
  • a print sample was once extracted at the time of printing 1,000 sheets, and then printing was continued until printing of the thin line chart stopped.
  • the dampening water in the dampening water circulation device was sampled, and its color was visually observed and evaluated based on the following evaluation criteria.
  • A-13 is a particle in which a large amount of resin shown on the left is present inside the core part, and the resin A shown on the right is abundant as it goes to the outside.
  • * in B-9 represents the bonding position with the polymer chain shown on the left.
  • IA-2 Compound having the following structure
  • IR-2 Compound of the following structure
  • Thermoplastic resin Resin with the following structure
  • the content of each structural unit (subscript in the lower right of the parentheses) represents the mass ratio, and the subscript in the lower right of the parentheses of the ethyleneoxy structure represents the number of repetitions.
  • [Polymerizable compound] M-1 tris(acryloyloxyethyl) isocyanurate, NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • M-2 dipentaerythritol pentaacrylate, SR-399, manufactured by Sartomer
  • M-3 dipenta Erythritol hexaacrylate, A-DPH, manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • M-4 Dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate Urethane prepolymer, UA-510H, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • M-5 Ethoxylated pentaerythritol Tetraacrylate, ATM-4E, manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • the lithographic printing plate precursor according to the example can provide a lithographic printing plate excellent in UV printing durability as compared with the lithographic printing plate precursor according to the comparative example.
  • the results shown in Table 1 show that the lithographic printing plate precursors according to the examples are excellent in dispersion stability, surface state, and dampening water stain inhibition.
  • planographic printing plate precursor 12 aluminum support, 16 image recording layer, 14 undercoat layer, 18 aluminum plate, 20 anodized film, 24 large diameter hole portion, 26 small diameter hole portion, 50 main electrolytic cell, 52 radial drum roller, 51 AC power supply, 53a, 53b main pole, 55 electrolyte, 54 electrolyte supply inlet, 56 slit, 57 electrolyte passage, 60 auxiliary anode tank, 58 auxiliary anode, Ex electrolyte outlet, S supply, W aluminum plate 1, aluminum plate, 2 and 4 roller brush, 3 polishing slurry liquid, 5, 6, 7 and 8 support roller, 610 anodizing device, 616 aluminum plate, 618 electrolytic solution, 612 power supply tank, 614 electrolytic processing tank, 616 aluminum plate, 620 power supply electrode, 622 roller, 624 nip roller, 626 electrolyte, 628 roller, 630 electrolytic electrode, 634 DC power supply, A depth, Y communication position, ECa aluminum plate anode reaction current, ECb aluminum plate

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Abstract

支持体、及び、上記支持体上に、画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、コアシェル粒子を含有し、上記コアシェル粒子のコア部に、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有し、上記コアシェル粒子のシェル部に、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する樹脂Ｂを含有する平版印刷版原版、並びに、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法。

Description

平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
　本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。
　一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
　この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
　また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
　上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
　従来の平版印刷版原版又は平版印刷版原版を用いた印刷方法としては、例えば、特許文献１又は２に記載されたものが挙げられる。
　特許文献１には、支持体上に、（Ａ）ラジカル重合性化合物、（Ｂ）赤外線吸収染料、（Ｃ）ラジカル発生剤、及び（Ｄ）コア部に親油性樹脂、シェル部に下記一般式（Ｉ）で表わされる構造単位を有する樹脂を有するコアシェル構造の樹脂微粒子を含有する、インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、ｍ及びｌは、１≦ｍ＋ｌ≦２００を満足する０又は正の整数である。
　特許文献２には、その上に、以下：フリーラジカル重合可能な成分、画像形成の放射線に露光される際に、フリーラジカル重合可能な成分の重合を開始するために十分なラジカルを発生することができる開始剤組成物、放射線吸収性化合物、１つ以上のポリマーバインダー、及び疎水性ポリマーのコアと、ポリマーのコアに共有結合した、１つ以上の両性イオン性官能基を含む親水性ポリマーのシェルとを含む、少なくとも５質量％のコア－シェル粒子を含む画像形成性層を有する基材を含む、ネガ型動作用画像形成性要素が記載されている。
　　特許文献１：特開２０１２－７１５９０号公報
　　特許文献２：特表２０１２－５２９６６９号公報
　本発明の実施形態が解決しようとする課題は、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版原版を提供することである。
　本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。
　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　支持体、及び、上記支持体上に、画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、コアシェル粒子を含有し、上記コアシェル粒子のコア部に、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有し、上記コアシェル粒子のシェル部に、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する樹脂Ｂを含有する平版印刷版原版。
＜２＞　上記コアシェル粒子のエチレン性不飽和基価が、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ～５ｍｍｏｌ／ｇである＜１＞に記載の平版印刷版原版。
＜３＞　上記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を含む＜１＞又は＜２＞に記載の平版印刷版原版。
＜４＞　上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯと上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯとの差が、０．７０ｅＶ以下である＜３＞に記載の平版印刷版原版。
＜５＞　上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含む＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜６＞　上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯと上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯとの差が、０．７０ｅＶ以下である＜５＞に記載の平版印刷版原版。
＜７＞　上記画像記録層が、重合性化合物を更に含む＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜８＞　上記画像記録層が、酸発色剤を更に含む＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜９＞　上記官能基Ｂが、上記官能基Ａと共有結合可能な基である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１０＞　上記官能基Ｂが、上記官能基Ａとイオン結合可能な基である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１１＞　上記官能基Ｂが、上記官能基Ａと水素結合可能な基である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１２＞　上記官能基Ｂが、上記官能基Ａと双極子相互作用可能な基である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１３＞　上記樹脂Ａが、架橋構造を有する樹脂を含む＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１４＞　上記重合性基が、（メタ）アクリロキシ基である＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１５＞　上記樹脂Ｂが、分散性基を更に有する＜１＞～＜１４＞のいずれか１つに平版印刷版原版。
＜１６＞　上記分散性基が、下記式１で表される基を含む＜１５＞に記載の平版印刷版原版。
　　＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ　　式１
　式１中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
＜１７＞　＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
＜１８＞　＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。
　本発明の実施形態によれば、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版原版を提供することができる。
　また、本発明の他の実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
本開示に係る平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 図２Ａ中のマイクロポアの１つを拡大した概略断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 第１陽極酸化処理工程から第２陽極酸化処理工程までを工程順に示す陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における機械的粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。
　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
　以下、本開示を詳細に説明する。
（平版印刷版原版）
　本開示に係る平版印刷版原版は、支持体、及び、上記支持体上に、画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、コアシェル粒子を含有し、上記コアシェル粒子のコア部に、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有し、上記コアシェル粒子のシェル部に、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する樹脂Ｂを含有する。
　また、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であっても、ポジ型平版印刷版原版であってもよいが、ネガ型平版印刷版原版であることが好ましい。
　更に、本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像用平版印刷版原版として好適に用いることができる。
　平版印刷版においては、版の印刷可能な枚数（以下、「耐刷性」ともいう。）に優れた平版印刷版が求められている。
　特に、近年においては、印刷におけるインキとして、紫外線（ＵＶ）の照射により硬化するインキ（「紫外線硬化型インキ、又は、ＵＶインキ」ともいう。）が用いられる場合がある。
　ＵＶインキは、瞬間乾燥可能なため生産性が高い、一般に溶剤の含有量が少ない、又は、無溶剤であるため環境汚染が低減されやすい、熱による乾燥を行わないか、又は、熱による乾燥を短時間として画像を形成できるため、印刷対象などの応用範囲が広がる等の利点を有している。
　そのため、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版を提供することができる平版印刷版原版は、産業上非常に有用であると考えられる。
　本発明者は、鋭意検討した結果、特許文献１又は特許文献２に記載の平版印刷版原版では、特にインキとしてＵＶインキを用いた場合に、得られる平版印刷版の耐刷性が不十分であることを見出した。
　本発明者らが鋭意検討した結果、得られる平版印刷版において、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版原版を提供することができることを見出した。
　上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
　本開示に係る平版印刷版原版の画像記録層において、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、コアシェル粒子を含有し、上記コアシェル粒子のコア部に、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有し、上記コアシェル粒子のシェル部に、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する樹脂Ｂを含有することにより、上記コアシェル粒子表面に重合性基を多く存在させることが容易であり、架橋点が多く、強度に優れる画像部を得ることができ、更に、上記コアシェル粒子のコアとシェルとが上記官能基Ａ及び上記官能基Ｂにより結合又は相互作用し、上記画像記録層の強度により優れ、ＵＶインクを用いた場合であっても耐刷性（ＵＶ耐刷性）に優れると推定している。
　また、本開示に係る平版印刷版原版の画像記録層が、上記実施態様であると、詳細な機構は不明であるが、上記コアシェル粒子自体の分散安定性にも優れ、また、コアシェル粒子が画像記録層中における分散性に優れるため、平版印刷版原版の表面が平滑になりやすく、面状に優れる場合が多いと推定している。
　更に、本開示に係る平版印刷版原版の画像記録層が、上記実施態様であると、詳細な機構は不明であるが、画像記録層における赤外線吸収剤及びコアシェル粒子の凝集が抑制されやすく、また、湿し水への分散性にも優れるため、湿し水汚れ抑制性に優れる場合が多いと推定している。
　以下、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。
＜画像記録層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、支持体上に形成された画像記録層を有する。
　本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、コアシェル粒子を含有する。
　本開示に用いられる画像記録層は、ネガ型画像記録層であることが好ましく、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることがより好ましい。
　本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。
　以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。
〔コアシェル粒子〕
　本開示において用いられる画像記録層は、コアシェル粒子を含み、上記コアシェル粒子のコア部に、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有し、上記コアシェル粒子のシェル部に、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、分散基を有する樹脂Ｂを含有する。
　また、樹脂Ａ又は樹脂Ｂにおける後述する各構成単位は、特に断りのない限り、樹脂Ａ又は樹脂Ｂはそれぞれ独立に、１種単独で有していても、２種以上を有していてもよい。
＜＜官能基Ａ及び官能基Ｂ＞＞
　コアシェル粒子において、上記官能基Ａ及び官能基Ｂは、互いに、結合又は相互作用可能な官能基である。
　官能基Ａ及び官能基Ｂが結合可能な態様としては、共有結合、イオン結合、水素結合等が挙げられる。また、官能基Ａ及び官能基Ｂが相互作用可能な態様としては、双極子相互作用等が挙げられる。
－官能基Ａ及び官能基Ｂが共有結合可能な基－
　官能基Ａ及び官能基Ｂが共有結合可能な基としては、官能基Ａ及び官能基Ｂの反応により共有結合が形成可能な基であれば特に制限はなく、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミド基、エポキシ基、イソシアネート基、チオール基、グリシジル基、アルデヒド基、スルホン酸基等を挙げることができる。これらの中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、水酸基、カルボキシ基、アミノ基及びエポキシ基が好ましく、水酸基及びカルボキシル基がより好ましい。
－官能基Ａ及び官能基Ｂがイオン結合可能な基－
　イオン結合可能な基としては、官能基Ａ及び官能基Ｂの一方がカチオン性基を有し、他方がアニオン性基を有していれば特に制限はされない。
　カチオン性基しては、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ピリジニウム基、ホスホニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、ヨードニウム基が挙げられる。中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、アンモニウム基、ピリジニウム基、ホスホニウム基、又は、スルホニウム基が好ましく、アンモニウム基、又は、ホスホニウム基がより好ましく、アンモニウム基が特に好ましい。
　アニオン性基としては、特に制限はなく、例えば、フェノール性水酸基、カルボキシ基、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＳＯ３Ｈ２、－ＰＯ３Ｈ、－ＯＰＯ３Ｈ２、－ＣＯＮＨＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２－等が挙げられる。これらの中でも、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、硫酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基又はカルボキシ基であることが好ましく、リン酸基、又は、カルボンキシ基であることがより好ましく、カルボキシ基であることが更に好ましい。
－官能基Ａ及び官能基Ｂが水素結合可能な基－
　水素結合可能な基としては、官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が水素結合供与性部位を有し、他方が水素結合受容性部位を有していれば特に制限はされない。
　上記水素結合供与性部位は、水素結合可能な活性水素原子を有する構造であればよいが、Ｘ－Ｈで表される構造であることが好ましい。
　Ｘは、ヘテロ原子を表し、窒素原子、又は、酸素原子であることが好ましい。
　上記水素結合供与性部位としては、ＵＶ耐刷性の観点から、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミド基、第二級アミド基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第一級スルホンアミド基、第二級スルホンアミド基、イミド基、ウレア結合、及び、ウレタン結合よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造であることが好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミド基、第二級アミド基、第一級スルホンアミド基、第二級スルホンアミド基、マレイミド基、ウレア結合、及び、ウレタン結合よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造であることがより好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、第一級アミド基、第二級アミド基、第一級スルホンアミド基、第二級スルホンアミド基、及び、マレイミド基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造であることが更に好ましく、ヒドロキシ基、及び、第二級アミド基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の構造であることが特に好ましい。
　上記水素結合受容性部位としては、非共有電子対を有する原子を含む構造がよく、非共有電子対を有する酸素原子を含む構造であることが好ましく、カルボニル基（カルボキシ基、アミド基、イミド基、ウレア結合、ウレタン結合等のカルボニル構造を含む。）、及び、スルホニル基（スルホンアミド基等のスルホニル構造を含む。）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構造であることがより好ましく、カルボニル基（カルボキシ基、アミド基、イミド基、ウレア結合、ウレタン結合等のカルボニル構造を含む。）であることが特に好ましい。
　官能基Ａ及び官能基Ｂが水素結合可能な基としては、上記水素結合供与性部位及び水素結合受容性部位を有する基であることが好ましく、カルボキシ基、アミド基、イミド基、ウレア結合、ウレタン結合、又は、スルホンアミド基を有していることが好ましく、カルボキシ基、アミド基、イミド基、又は、スルホンアミド基を有していることがより好ましい。
－官能基Ａ及び官能基Ｂが双極子相互作用可能な基－
　官能基Ａ及び官能基Ｂが双極子相互作用可能な基としては、上記水素結合可能な基におけるＸ－Ｈ（Ｘは、ヘテロ原子を表し、窒素原子、又は、酸素原子）で表される構造以外の分極した構造を有した基であればよく、電気陰性度の異なるヘテロ原子を有する基が好適に挙げられる。
　電気陰性度の異なる原子の組み合わせとしては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子と炭素原子との組み合わせが好ましく、酸素原子、窒素原子、及び、硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子と炭素原子との組み合わせがより好ましい。
　これらの中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、窒素原子と炭素原子との組み合わせ、炭素原子と、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子との組み合わせが好ましく、具体的には、シアノ基、シアヌル基、スルホン酸アミド基がより好ましい。
　また、官能基Ａ及び官能基Ｂが互いに同一の双極子相互作用可能な基であることが好ましい。
　官能基Ａと上記官能基Ｂとの結合、及び、官能基Ａと上記官能基Ｂとの相互作用の確認は、下記の方法により確認することができる。
　具体的には、樹脂Ａ２ｇ（固形分濃度２０質量％の水溶液）と樹脂Ｂ８ｇ（固形分濃度７．５質量％１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＦＧ）溶液）とを反応、又は、混合させた後、２１，０００×ｇ、６０分間、遠心分離し、沈殿物を回収した。次いで、この沈殿物を、樹脂Ｂを溶解する溶媒で洗浄して、官能基Ａと反応又は相互作用していない官能基Ｂを含む樹脂Ｂを洗いとり、沈殿物を４０℃にて乾燥させた。
　沈殿物の乾燥物について赤外吸収スペクトル（ＩＲ）測定、及び、反応又は混合前後の重量増加の定量し、上澄み液の乾固物の重量を測定し、ＩＲ測定において官能基Ｂに由来する吸収ピークが増加し、かつ、乾固物の重量が減少乾燥物の重量が増加している場合には、任意の割合で官能基Ａと官能基Ｂとが結合又は相互作用していると判断することができる。
　官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ（すなわち、官能基Ｂと結合又は相互作用可能な官能基Ａ）としては、ＵＶ耐刷性の観点から、官能基Ａと共有結合可能な基（以下、単に「共有結合可能な基」ともいう。）、官能基Ａとイオン結合可能な基（以下、単に「イオン結合可能な基」ともいう。）、官能基Ａと水素結合可能な基（以下、単に「水素結合可能な基」ともいう。）、又は、官能基Ａと双極子相互作用可能な基（以下、単に「双極子相互作用可能な基」ともいう。）であることが好ましい。
－共有結合可能な基－
　共有結合可能な基は、官能基Ａ及び官能基Ｂの種類に応じて適宜選択される。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が、例えば、カルボキシ基である場合、カルボキシ基と共有結合可能な基としては、ヒドロキシ基、グリシジル基等が挙げられる。
　また、官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が、例えば、－ＮＨ２（第一級アミノ基）である場合、－ＮＨ２と共有結合可能な基としては、イソシアネート基、グリシジル基等が挙げられる。
－イオン結合可能な基－
　官能基Ａとイオン結合可能な基は、官能基Ａ及び官能基Ｂの種類に応じて適宜選択される。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が、例えば、カルボキシ基である場合、カルボキシ基とイオン結合可能な基は、第三級アミノ基、ピリジル基、ピペリジル基等が挙げられる。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が、例えば、スルホン酸基である場合、スルホン酸基とイオン結合可能な基としては、第三級アミノ基等が挙げられる。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が、例えば、－ＳＯ３ －である場合、－ＳＯ３ －とイオン結合可能な基としては、第四級アンモニウム基等のカチオン性基が挙げられる。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方がリン酸基である場合、リン酸基とイオン結合可能な基としては、第三級アミノ基が挙げられる。
－水素結合可能な基－
　水素結合可能な基は、官能基Ａ及び官能基Ｂの種類に応じて適宜選択される。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方がカルボキシ基である場合、アミド基、カルボキシ基等が挙げられる。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方がフェノール性水酸基である場合、官能基Ａと水素結合可能な基としては、フェノール性水酸等が挙げられる。
－双極子相互作用可能な基－
　双極子相互作用可能な基は、官能基Ａ及び官能基Ｂの種類に応じて適宜選択される。
　官官能基Ａ及び官能基Ｂの一方が例えばシアノ基である場合、シアノ基と双極子相互作用可能な基としては、シアノ基が挙げられる。
　官能基Ａ及び官能基Ｂの一方がスルホン酸アミド基である場合、スルホン酸アミド基と双極子相互作用可能な基としては、スルホン酸アミド基が挙げられる。
＜＜官能基Ａと官能基Ｂとの結合又は相互作用の例＞＞
　官能基Ａと官能基Ｂとの結合又は相互作用の具体例を以下に下記に示すが、本開示における官能基Ａと官能基Ｂとの結合又は相互作用は、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
〔〔コア部〕〕
　コアシェル粒子のコア部は、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有する。
〔〔〔樹脂Ａ〕〕〕
　樹脂Ａは、付加重合型樹脂であっても、重縮合樹脂であってもよいが、ＵＶ耐刷性及び製造容易性の観点から、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレア樹脂又はポリウレタン樹脂であることが好ましく、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体又はポリウレタン樹脂であることがより好ましく、アクリル樹脂又はスチレン－アクリル共重合体であることが更に好ましく、スチレン－アクリル共重合体であることが特に好ましい。
　アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル化合物により形成される構成単位（（メタ）アクリル化合物由来の構成単位）の含有量が、樹脂の全質量に対し、５０質量％以上である樹脂が好ましい。
　（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリレート化合物、及び、（メタ）アクリルアミド化合物が好適に挙げられる。
　また、スチレン－アクリル共重合体としては、スチレン化合物により形成される構成単位（スチレン化合物由来の構成単位）の含有量が、樹脂の全質量に対し、３０質量％以上である樹脂が好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが特に好ましい。
　樹脂Ａは、１種単独であってもよく、２種以上を併用してもよい。また、樹脂Ａはラテックス状態であってもよい。
　樹脂Ａに含まれる官能基Ａは、上記樹脂Ｂに含まれる官能基Ｂと結合又は相互作用可能であれば特に制限はない。官能基Ａは、後述の官能基Ｂの種類に応じて適宜設定することができる。
　樹脂Ａは、官能基Ａを１種単独で含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　樹脂Ａにおいて、官能基Ａとしては、ＵＶ耐刷性の観点から、カルボキシ基、シアノ基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基であること好ましく、カルボキシ基であることがより好ましい。
　また、樹脂Ａは、官能基Ａを有する構成単位を有することが好ましい。
－シアノ基（－ＣＮ）を有する構成単位－
　樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性の観点から、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
　シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物（モノマー）を用いて、シアノ基を含む構成単位として樹脂Ａに導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、（メタ）アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
　シアノ基を有する構成単位としては、（メタ）アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位がより好ましい。
　また、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位としては、下記式ａ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式ａ１中、ＲＡ１は水素原子又はアルキル基を表す。
　式ａ１中、ＲＡ１は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　樹脂Ａが、シアノ基を有する構成単位を含む場合、シアノ基を有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、５５質量％～９０質量％であることがより好ましく、６０質量％～８５質量％であることが特に好ましい。
－カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）を有する構成単位－
　樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性の観点から、カルボキシ基を有する構成単位を含むことが好ましい。カルボキシ基は、通常、カルボキシ基を有する化合物（モノマー）を用いて、カルボキシ基を含む構成単位として樹脂Ａに導入されることが好ましい。
　カルボキシ基を有する構成単位は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等のカルボキシ基を有する化合物により形成される構成単位であってもよい。
　樹脂Ａは、アクリル酸により形成された構成単位、及び、下記式ａ２により表される構成単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの構成単位を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式ａ２中、Ｒ３は、水素原子又はメチル基を表し、Ｘ３は、－Ｏ－又は－ＮＲ７－を表し、Ｒ７は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ３は単結合又は炭素数１以上の二価の炭化水素基を表す。
　式ａ２中、Ｘ３が－ＮＲ７を表す場合、Ｒ７は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式ａ２中、Ｌ３は単結合又は炭素数１以上の二価の炭化水素基を表し、単結合又は内部にエステル結合若しくはエーテル結合を有していてもよい二価の炭化水素基であることが好ましく、単結合又は二価の炭化水素基であることがより好ましく、単結合又は二価の脂肪族飽和炭化水素基であることが更に好ましい。Ｌ３が二価の炭化水素基を表す場合、Ｌ３の炭素数は、２～１５であることがより好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　樹脂Ａの全質量に対し、カルボキシ基を有する構成単位（好ましくは構成単位ａ２）の含有量は、５質量％以上７０質量%以下であることが好ましく、１０質量％以上５５質量％以下であることがより好ましい。
－アミノ基を有する構成単位－
　樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性の観点から、アミノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
　アミノ基としては、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基であってもよいが、ＵＶ耐刷性の観点から第三級アミノ基であることが好ましい。
　樹脂Ａが、第三級アミノ基を有する場合、樹脂Ａは、下記式ａ３により表される構成単位を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式ａ３中、Ｒ４は、水素原子又はメチル基を表し、Ｘ４は、－Ｏ－又は－ＮＲ８－を表し、Ｒ８は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ４、Ｒ５及びＲ６のうち少なくとも２つは結合して環を形成してもよく、Ｌ４は、単結合又は炭素数１以上の二価の炭化水素基を表し、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、炭素数１以上の一価の炭化水素基を表し、＊は、それぞれ独立に、他の構造との結合部位を表す。
　式ａ３中、Ｘ４が－ＮＲ８を表す場合、Ｒ８は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式ａ３中、Ｌ４は単結合又は炭素数１以上の二価の炭化水素基を表し、単結合又はウレア結合若しくはエーテル結合を有していてもよい二価の炭化水素基が好ましく、単結合又は二価の炭化水素基がより好ましく、単結合又は二価の脂肪族飽和炭化水素基であることが更に好ましい。Ｌ４の炭素数は２～１０であることがより好ましく、２～８であることが更に好ましい。
　Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、炭素数１以上の一価の炭化水素基を表し、炭素数１以上の脂肪族飽和炭化水素基であることが好ましい。Ｒ５及びＲ６の炭素数は、それぞれ独立に、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましい。
　樹脂Ａの全質量に対し、アミノ基を有する構成単位（好ましくは構成単位ａ３）の含有量は、５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
　また、樹脂Ａは、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、分散基を有する構成単位、架橋構造を有する構成単位等の構成単位の少なくともいずれかを更に有することが好ましい。
＜＜芳香族ビニル化合物により形成される構成単位＞＞
　樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を更に含むことが好ましい。
　芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
　スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、β－メチルスチレン、ｐ－メチル－β－メチルスチレン、α－メチルスチレン、及びｐ－メトキシ－β－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
　ビニルナフタレン化合物としては、１－ビニルナフタレン、メチル－１－ビニルナフタレン、β－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メトキシ－１－ビニルナフタレン等が挙げられ、１－ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。
　また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｚ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式Ｚ１中、ＲＺ１及びＲＺ２はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａｒは芳香環基を表し、ＲＺ３は置換基を表し、ｎｚは０以上Ａｒの最大置換基数以下の整数を表す。
　式Ｚ１中、ＲＺ１及びＲＺ２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
　式Ｚ１中、Ａｒはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
　式Ｚ１中、ＲＺ３はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
　式Ｚ１中、ＲＺ３が複数存在する場合、複数のＲＺ３は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
　式Ｚ１中、ｎｚは０～２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。
　コアシェル粒子のコア部に含まれる樹脂Ａにおいて、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、樹脂Ａの全質量に対し、１０質量％～９０質量％であることが好ましく、３０質量％～８５質量％であることがより好ましく、４５質量％～８５質量％であることが特に好ましい。
＜＜架橋構造を有する構成単位＞＞
　コアシェル粒子のコア部に含まれる樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性の観点から、架橋構造を有することが好ましく、架橋構造を有する構成単位を有することがより好ましい。
　樹脂Ａが架橋構造を有することにより、コアシェル粒子自体の硬度が向上するため、画像部強度が向上し、他のインキよりも版を劣化させやすい紫外線硬化型インキを使用した場合であっても、耐刷性（ＵＶ耐刷性）が更に向上すると考えられる。
　上記架橋構造としては、特に制限はないが、多官能エチレン性不飽和化合物を重合してなる構成単位、又は１種以上の反応性基同士が粒子内部で共有結合を形成した構成単位であることが好ましい。上記多官能エチレン性不飽和化合物の官能数としては、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、２～１５であることが好ましく、３～１０であることがより好ましく、４～１０であることが更に好ましく、５～１０であることが特に好ましい。
　また、上記を言い換えると、上記架橋構造を有する構成単位は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、２官能性～１５官能性分岐単位であることが好ましい。
　なお、ｎ官能性分岐単位とは、ｎ本の分子鎖が出ている分岐単位のことをいい、言い換えると、ｎ官能性分岐点（架橋構造）を有する構成単位のことである。
　また、多官能メルカプト化合物により架橋構造を形成することも好ましく挙げられる。
　上記多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、芳香族ビニル基、マレイミド基等が挙げられる。
　また、上記多官能エチレン性不飽和化合物は、多官能（メタ）アクリレート化合物、又は多官能（メタ）アクリルアミド化合物、又は、多官能芳香族ビニル化合物であることが好ましい。
　多官能（メタ）アクリレート化合物としては、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（β－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのトリアクリレート等が挙げられる。
　多官能（メタ）アクリレート化合物としては、Ｎ，Ｎ’－メチレンビスアクリルアミド、Ｎ－［トリス（３－アクリルアミドプロポキシメチル）メチル］アクリルアミド等が挙げられる。
　多官能芳香族ビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
　上記分岐単位の炭素数としては、特に制限はないが、８～１００であることが好ましく、８～７０であることがより好ましい。
　また、上記架橋構造を有する構成単位としては、ＵＶ耐刷性、機上現像性及び粒子の強度の観点から、下記ＢＲ－１～ＢＲ－１７で表される構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位が好ましく、下記ＢＲ－１～ＢＲ－１０又はＢＲ－１３～ＢＲ－１７で表される構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位を含むことがより好ましく、下記ＢＲ－１～ＢＲ－７又はＢＲ－１３～ＢＲ－１７で表される構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構成単位が更に好ましく、下記ＢＲ－１で表される構成単位が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　上記構造中、ＲＢＲはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ｎは１～２０の整数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　上記構造中、ＲＢＲはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ｎは１～２０の整数を表す。
　また、多官能メルカプト化合物により形成される、架橋構造を有する構成単位としては、以下に示すＢＲ－１８が好ましく挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　上記樹脂Ａにおける架橋構造を有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、上記樹脂Ａの全質量に対し、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～４５質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが更に好ましく、１０質量％～３５質量％であることが特に好ましい。
＜＜分散基を有する構成単位＞＞
　樹脂Ａにおける分散基を有する構成単位は、後述する樹脂Ｂにおける分散基を有する構成単位と同義であり、好ましい態様も同様である。
　樹脂Ａが分散基を有する構成単位を有する場合、分散基を有する構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対して、５０質量％以下であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましく、２質量％～１０質量％であることが更に好ましい。
＜＜疎水性基を有する構成単位＞＞
　コアシェル粒子において、コア部に含まれる樹脂Ａは、インキ着肉性の観点から、疎水性基を有する構成単位を含有してもよい。
　上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
　疎水性基を含む構成単位としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物、アリール（メタ）アクリレート化合物、又は、アラルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
　上記アルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１～１０であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。アルキル（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　上記アリール（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。また、上記アリール基は公知の置換基を有していてもよい。アリール（メタ）アクリレート化合物としては、フェニル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。
　上記アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１～１０であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。また、上記アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。アラルキル（メタ）アクリレート化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。
　コアシェル粒子において、コア部に含まれる樹脂Ａにおける、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　コアシェル粒子において、シェル部に含まれる樹脂Ａは、樹脂Ａにおける上述の構成単位以外のその他の構成単位を、特に限定なく有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成された構成単位が挙げられる。
　アクリルアミド化合物としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
　ビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ－ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４－メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２－ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、２－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、４－ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、などが挙げられる。
　樹脂Ａがその他の構成単位を含む場合、その他の構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　コア部は、樹脂Ａを含んでいればよいが、コア部における樹脂Ａの含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることが更に好ましく、コア部は樹脂Ａからなることが特に好ましい。
　また、コア部は、粒子であることが好ましく、樹脂Ａからなる粒子であることがより好ましい。
〔〔シェル部〕〕
　コアシェル粒子のシェル部は、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する樹脂Ｂを含有する。
〔〔〔樹脂Ｂ〕〕〕
　コアシェル粒子のシェル部に含まれる樹脂Ｂは、上記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する。
　樹脂Ｂは、付加重合型樹脂であっても、重縮合樹脂であってもよいが、ＵＶ耐刷性及び造容易性の観点から、アクリル樹脂、ポリウレア樹脂又はポリウレタン樹脂であることが好ましく、アクリル樹脂又はポリウレタン樹脂であることがより好ましく、アクリル樹脂であることが特に好ましい。
　アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル化合物により形成される構成単位（（メタ）アクリル化合物由来の構成単位）の含有量が、樹脂の全質量に対し、５０質量％以上である樹脂が好ましい。
　（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリレート化合物、及び、（メタ）アクリルアミド化合物が好適に挙げられる。
　樹脂Ｂは、官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂを有する。官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂは、既述の結合又は相互作用可能な基が挙げられる。
　樹脂Ｂは、官能基Ｂを１種単独で有してもよいし、２種以上を有していてもよい。
　樹脂Ｂにおいて、官能基Ｂとしては、ＵＶ耐刷性の観点から、第一級～第三級アミノ基、カルボキシ基、エポキシ基、及び、シアノ基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基であること好ましく、第一級～第三級アミノ基又はシアノ基であることがより好ましく、第一級～第三級アミノ基であることが特に好ましい。
　また、樹脂Ｂは、官能基Ｂを有する構成単位を有することが好ましい。
　樹脂Ｂにおいて、官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂを有する構成単位としては、ＵＶ耐刷性の観点から、下記式ｂ－１又は上記式ａ１で表される構成単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式ｂ－１中、Ｘ１ｂは－Ｏ－、ＯＨ、ＮＲ３ｂ又はＮＨ２を表し、Ｌ１ｂは炭素数１～２０の二価の連結基を表し、Ｒ１ｂは、カルボキシ基、ヒドロキシ基、グリシジル基又はアミノ基を表し、Ｒ２ｂは水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３ｂは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ただし、Ｘ１ｂがＯＨ、又は、ＮＨ２を表す場合、それに応じて、Ｌ１ｂ及びＲ１ｂは存在しなくてもよい。
　Ｘ１ｂは－Ｏ－又はＯＨであることが好ましい。
　Ｘ１ｂがＮＲ３ｂを表す場合、Ｒ３ｂは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　Ｌ１ｂは炭素数２～１０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数２～８の二価の連結基であることがより好ましく、炭素数２～８のアルキレン基であることが更に好ましく、炭素数２～５のアルキレン基であることが特に好ましい。
　Ｌ１ｂで表される上記二価の連結基は、下記式ＬＤ１により表される基、上記アルキレン基、エステル結合、及び、アルキレンオキシ基よりなる群から選ばれた少なくとも２つの構造の結合により表される基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式ＬＤＩにおける波線部分及び＊部分は、他の構造との結合位置を表す。
　Ｒ１ｂ中のアミノ基は、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基であってもよいが、ＵＶ耐刷性の観点から、第三級アミノ基であることが好ましい。
　樹脂Ｂにおける官能基Ｂを有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、上記樹脂Ｂの全質量に対し、１質量％～８０質量％であることが好ましく、５質量％～６０質量％であることがより好ましい。
＜＜重合性基＞＞
　樹脂Ｂは、重合性基を有する。
　重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
　上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
　また、樹脂Ｂは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
　また、これら重合性基を樹脂Ｂへの導入は、コアシェル粒子合成時に添加する多官能モノマーの残留による重合性基の導入と、コアシェル粒子合成後に高分子反応で粒子表面へ導入する方法があるが、本開示においては、コアシェル粒子合成後に高分子反応で導入する方法が望ましい。これはコアシェル粒子合成後に重合性基を導入するほうが、コアシェル粒子の表面に活性な重合性基を多く存在させることができるため、よりマトリクスとの反応性が上がり、マトリクスと強固な架橋を形成しやすいと考えられるためである。
　重合性基を有する構成単位は、上述の通り、例えば高分子反応により上記樹脂Ｂ（例えば、粒子表面における樹脂Ｂ）に導入することができる。具体的には、例えば、メタクリル酸等のカルボキシ基を有する構成単位を導入した重合体に対し、エポキシ基及び重合性基を有する化合物（例えば、グリシジルメタクリレートなど）を反応させる方法、ヒドロキシ基、アミノ基等の活性水素を有する基を有する構成単位を導入した重合体に対し、イソシアネート基及び重合性基を有する化合物（２－イソシアナトエチルメタクリレートなど）を反応させる方法等により導入することができる。
　このような導入方法において、上記メタクリル酸等のカルボキシ基を有する構成単位、又は、上記活性水素を有する基を有する構成単位（以下、併せて「反応前の構成単位」ともいい、重合性基が導入された後のこれらの構成単位を「反応後の構成単位」ともいう）に対する、エポキシ基及び重合性基を有する化合物、又は、イソシアネート基及び重合性基を有する化合物の反応率を調整することにより、カルボキシ基を有する構成単位、又は、活性水素を有する基を有する構成単位等を樹脂Ｂに残存させることもできる。また、残存した基は、官能基Ｂであってもよい。
　また、重合性基を有する構成単位は、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基を有する構成単位を導入した重合体に対し、カルボキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させる等の方法により上記樹脂Ｂに導入されてもよい。
　更に、重合性基を有する構成単位は、例えば下記式ｄ１又は下記式ｄ２により表される部分構造を有する単量体を用いることにより上記樹脂Ｂ中に導入されてもよい。具体的には、例えば、上記単量体を少なくとも用いた重合後に、下記式ｄ１又は下記式ｄ２により表される部分構造に対し、塩基化合物を用いた脱離反応によってエチレン性不飽和基を形成することにより、重合性基を有する構成単位が上記樹脂Ｂ中に導入される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式ｄ１及び式ｄ２中、Ｒｄは水素原子又はアルキル基を表し、Ａｄはハロゲン原子を表し、Ｘｄは－Ｏ－又は－ＮＲＮ－を表し、ＲＮは水素原子又はアルキル基を表し、＊は他の構造との結合部位を表す。
　式ｄ１及び式ｄ２中、Ｒｄは水素原子又はメチル基であることが好ましい。
　式ｄ１及び式ｄ２中、Ａｄは塩素原子、臭素原子、又は、ヨウ素原子であることが好ましい。
　式ｄ１及び式ｄ２中、Ｘｄは－Ｏ－であることが好ましい。Ｘｄが－ＮＲＮ－を表す場合、ＲＮは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
　重合性基を有する構成単位としては、例えば、下記式Ｄ１により表される構成単位が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　式Ｄ１中、ＬＤ１は単結合又は二価の連結基を表し、ＬＤ２はｍ＋１価の連結基を表し、ＸＤ１及びＸＤ２はそれぞれ独立に、－Ｏ－又は－ＮＲＮ－を表し、ＲＮは水素原子又はアルキル基を表し、ＲＤ１及びＲＤ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表す。
　式Ｄ１中、ＬＤ１は単結合であることが好ましい。ＬＤ１が二価の連結基を表す場合、アルキレン基、アリーレン基又はこれらの２以上が結合した二価の基が好ましく、炭素数２～１０のアルキレン基又はフェニレン基がより好ましい。
　式Ｄ１中、ＬＤ２は下記式Ｄ２～下記式Ｄ６のいずれかにより表される基を含む連結基であることが好ましく、下記式Ｄ２～下記式Ｄ６のいずれかにより表される基、エステル結合、アルキレン基、及び、アルキレンオキシ基よりなる群から選ばれた少なくとも２つの構造の結合により表される基がより好ましい。
　式Ｄ１中、ＸＤ１及びＸＤ２はいずれも－Ｏ－であることが好ましい。また、ＸＤ１及びＸＤ２の少なくとも一つが－ＮＲＮ－を表す場合、ＲＮは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
　式Ｄ１中、ＲＤ１はメチル基であることが好ましい。
　式Ｄ１中、ｍ個のＲＤ２のうち少なくとも１つはメチル基であることが好ましい。
　式Ｄ１中、ｍは１～４の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　式Ｄ２～式Ｄ６中、ＬＤ３～ＬＤ７は二価の連結基を表し、ＬＤ５とＬＤ６は異なっていてもよく、ＸＤ５は－Ｏ－又は－ＮＲＮ－であり、ＲＮは水素原子又はアルキル基を表し、＊は式Ｄ１中のＸＤ１との結合部位を表し、波線部は式Ｄ１中のＸＤ２との結合部位を表す。
　式Ｄ３中、ＬＤ３はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
　式Ｄ４中、ＬＤ４はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
　式Ｄ５中、ＬＤ５はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
　式Ｄ５中、ＸＤ５は－Ｏ－又は－ＮＨ－であることが好ましい。
　式Ｄ５中、ＬＤ６はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
　式Ｄ６中、ＬＤ７はアルキレン基、アリーレン基、又はこれらが２以上結合した基であることが好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基、フェニレン基又はこれらが２以上結合した基であることがより好ましい。
　重合性基を有する構成単位の具体例を下記に示すが、本開示における上記樹脂Ｂにおける重合性基を有する構成単位は、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　上記樹脂Ｂにおける重合性基を有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、上記樹脂Ｂの全質量に対し、１０質量％～８０質量％であることが好ましく、１５質量％～７５質量％であることがより好ましく、２０質量％～７０質量％であることが特に好ましい。
　コアシェル粒子の重合性基価（樹脂Ｂ１ｇあたりの重合性基の量）（好ましくはエチレン性不飽和基価）は、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ～５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．２ｍｍｏｌ／ｇ～３ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましい。上記重合性価及びエチレン性不飽和基価は、ヨウ素滴定法により測定するものとする。
＜＜分散基＞＞
　樹脂Ｂは、ＵＶ耐刷性、湿し水汚れ防止性、及び、得られる平版印刷版における画像部の面状の観点から、分散基を有することが好ましい。
　分散基としては、湿し水汚れ防止性、及び、得られる平版印刷版における画像部の面状の観点から、下記式１で表される基を含むことが好ましい。
　＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ　式１
　式１中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
　Ｑは、炭素数１～２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１～１０の二価の連結基であることがより好ましい。
　また、Ｑは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
　Ｗにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２ＮＲＷ－が結合した基であることが好ましい。なお、ＲＷは、水素原子又はアルキル基を表す。
　Ｗにおける疎水性構造を有する二価の基は、－ＲＷＡ－、－Ｏ－ＲＷＡ－Ｏ－、－ＲＷＮ－ＲＷＡ－ＮＲＷ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＲＷＡ－Ｏ－、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＲＷＡ－Ｏ－であることが好ましい。なお、ＲＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６～１２０のハロアルキレン基、炭素数６～１２０のアリーレン基、炭素数６～１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６～１２０のアラルキレン基を表す。
　Ｙにおける親水性構造を有する一価の基は、－ＯＨ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）－が結合した基であることが好ましい。
　Ｙにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６～１２０のハロアルキル基、炭素数６～１２０のアリール基、炭素数６～１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６～１２０のアラルキル基、－ＯＲＷＢ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＷＢ、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＷＢであることが好ましい。ＲＷＢは、炭素数６～２０を有するアルキル基を表す。
　湿し水汚れ防止性、及び、得られる平版印刷版における画像部の面状の観点から、式１で表される基が親水性構造を有することが好ましく、式１中のＷが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、式１中、Ｑがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗは、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
　樹脂Ｂは、ＵＶ耐刷性、湿し水汚れ防止性、及び、得られる平版印刷版における画像部の面状の観点から、分散基を有する構成単位を有することが好ましく、式１で表される基を含む構成単位を有することがより好ましく、下記式ｂ－３又は式ｂ－４で表される構成単位を有することが更に好ましく、下記式ｂ－３で表される構成単位を有することが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　式ｂ－３及び式ｂ－４中、Ｌ２はエチレン基又はプロピレン基を表し、Ｌ３は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｌ４は炭素数１～１０のアルキレン基を表し、Ｒ４及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ５及びＲ７はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ｍ１は２～２００の整数を表し、ｍ２は２～２０の整数を表す。
　Ｌ２は、エチレン基又は１，２－プロピレン基であることが好ましい。
　Ｌ３は、炭素数２～８のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～４のアルキレン基であることがより好ましく、エチレン基であることが更に好ましい。
　Ｌ４は、炭素数２～８のアルキレン基であることが好ましく、炭素数３～８のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４～６のアルキレン基であることが更に好ましい。
　Ｒ４及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基又はフェニル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることが更に好ましい。
　ｍ１は、５～２００の整数であることが好ましく、８～１５０の整数であることがより好ましい。
　ｍ２は、２～１０の整数であることが好ましく、４～１０の整数であることがより好ましい。
　樹脂Ｂは、ＵＶ耐刷性の観点から、官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂとして上記式ｂ－１又は上記式ａ１で表される構成単位と、重合性基として上記式Ｄ１で表される構成単位とを有することが好ましく、上記式ｂ－１又は上記式ａ１で表される構成単位と、上記式Ｄ１で表される構成単位とを有することがより好ましい。
　樹脂Ｂが分散基を有する場合、樹脂Ｂは、ＵＶ耐刷性の観点から、官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂとして上記式ｂ－１又は上記式ａ１で表される構成単位と、重合性基として上記式Ｄ１で表される構成単位と、分散基として上記式ｂ－３又は式ｂ－４で表される構成単位とを有することが好ましく、上記式ｂ－１又は上記式ａ１で表される構成単位と、上記式Ｄ１で表される構成単位と、上記式ｂ－３で表される構成単位とを有することがより好ましい。
　樹脂Ｂにおける分散性基を有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性、湿し水汚れ防止性、及び、得られる平版印刷版における画像部の面状の観点から、上記樹脂Ｂの全質量に対し、１質量％～５０質量％であることが好ましく、２質量％～４０質量％であることがより好ましく、２質量％～２０質量％であることが特に好ましい。
　また、樹脂Ｂは、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、架橋構造を有する構成単位等の構成単位を有していてもよい。
＜＜芳香族ビニル化合物により形成される構成単位＞＞
　樹脂Ｂは、ＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を更に有していてもよいが、有しないことが好ましい。
　樹脂Ｂにおける芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、樹脂Ａにおける芳香族ビニル化合物により形成される構成単位と同義であり、好ましい態様も同様である。
　樹脂Ｂにおいて、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、樹脂Ｂの全質量に対し、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、樹脂Ｂが芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有しないことが特に好ましい。
＜＜架橋構造を有する構成単位＞＞
　樹脂Ｂは、ＵＶ耐刷性の観点から、ＵＶ耐刷性の観点から、架橋構造を有することが好ましく、架橋構造を有する構成単位を有することがより好ましい。
　樹脂Ｂにおける架橋構造、及び、架橋構造を有する構成単位としては、樹脂Ａにおける架橋構造、及び、架橋構造を有する構成単位とそれぞれ同義であり、好ましい態様もそれぞれ同様である。
　上記樹脂Ｂにおける架橋構造を有する構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、上記樹脂Ｂの全質量に対し、０．１質量％～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～１５質量％であることがより好ましく、１質量％～１０質量％であることが特に好ましい。
＜＜疎水性基を有する構成単位＞＞
　コアシェル粒子において、シェル部に含まれる樹脂Ｂは、インキ着肉性の観点から、疎水性基を有する構成単位を含有していてもよい。
　樹脂Ｂにおける疎水性基を有する構成単位としては、樹脂Ａにおける疎水性基を有する構成単位と同義であり、好ましい態様も同様である。
　コアシェル粒子において、シェル部に含まれる樹脂Ｂにおける、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂Ｂの全質量に対し、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　コアシェル粒子において、シェル部に含まれる樹脂Ｂは、樹脂Ａにおける上述の構成単位以外のその他の構成単位を、特に限定なく有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成された構成単位が挙げられる。
　樹脂Ｂがその他の構成単位を含む場合、その他の構成単位の含有量は、樹脂Ｂの全質量に対し、１質量％～５０質量％であることが好ましく、５質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　コアシェル粒子における樹脂Ａの含有量に対する樹脂Ｂの含有量（以下、「被覆率」ともいう。）は、適宜設定することができるが、ＵＶ耐刷性の観点から、コアシェル粒子における樹脂Ａの全質量に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましく、１０質量％～７０質量％であることが特に好ましい。
　コアシェル粒子における樹脂Ａの含有量に対する樹脂Ｂの含有量は、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）測定により求められる。
　具体的には、樹脂Ａと樹脂Ｂとの反応物又は混合物を、樹脂Ｂを溶解する溶媒で洗浄して、官能基Ａと反応又は相互作用していない官能基Ｂを含む樹脂Ｂを洗いとり、沈殿物を４０℃にて乾燥させ、ＩＲ測定する。任意の割合（例えば、樹脂Ａ：樹脂Ｂ＝２：８～８：２）で混合した樹脂Ａと樹脂Ｂとのペーストを用いてＩＲ測定を行い、樹脂Ａのみが有するピークを標準として、例えば、樹脂Ｂが有する重合性基のピーク面積を計算して検量線を作成し、そのピーク面積から被覆率を求める。
　樹脂Ｂの数平均分子量（Ｍｎ）は、５００～１００万であることが好ましく、５，０００～５０万であることがより好ましく、１０，０００～２０万であることが更に好ましい。
　また、樹脂Ａの数平均分子量は、ＵＶ耐刷性の観点から、樹脂Ｂの数平均分子量よりも大きいことが好ましい。
　コア部の算術平均粒径は、ＵＶ耐刷性の観点から、１０ｎｍ～１，０００ｎｍであることが好ましく、３０ｎｍ～８００ｎｍであることがより好ましく、５０ｎｍ～６００ｎｍであることが特に好ましい。
　コアシェル粒子の算術平均粒子径は、ＵＶ耐刷性の観点から、１０ｎｍ～１，０００ｎｍであることが好ましく、５０ｎｍ～８００ｎｍであることがより好ましく、７０ｎｍ～６００ｎｍであることが特に好ましい。
　本開示におけるコアシェル粒子の算術平均粒径は、特に断りのない限り、動的光散乱法（ＤＬＳ）によって測定された値を指す。
　ＤＬＳによるコアシェル粒子の算術平均粒径の測定は、Ｂｒｏｏｋｈａｖｅｎ　ＢＩ－９０（Ｂｒｏｏｋｈａｖｅｎ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ　Ｃｏｍｐａｎｙ製）を用い、上記機器のマニュアルに沿って行われる。
　また、シェル部の平均厚さは、ＵＶ耐刷性の観点から、１ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ～５０ｎｍであることがより好ましく、２ｎｍ～２０ｎｍであることが特に好ましい。
　本開示におけるシェル部の平均厚さは、粒子断面を公知の方法により染色して電子顕微鏡により観察し、１０個以上の粒子において計１０箇所以上のシェル部の厚さの平均値をとるものとする。
－コアシェル粒子に含まれる樹脂Ａ及び樹脂Ｂの製造方法－
　コアシェル粒子に含まれる樹脂の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
　例えば、官能基Ａを有する構成単位の形成に用いられる化合物又は官能基Ｂを有する構成単位の形成に用いられる化合物と、これら以外の構成単位の形成に用いられる化合物とを、公知の方法により重合することにより得られる。
　また、樹脂Ｂにおいては、上述したように、樹脂Ｂ又はコアシェル粒子に対し高分子反応を行うことにより、重合性基を導入することが好ましい。
－具体例－
　コアシェル粒子に含まれる樹脂Ａの具体例を下記に示すが、本開示において用いられる樹脂はこれに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　なお、Ａ－１３は、コア部の内部は左に示す樹脂が多く存在し、外側に行くにしたがい、右に示す樹脂Ａが多く存在する粒子の例を表す。
　また、コアシェル粒子に含まれる樹脂Ｂの具体例を下記に示すが、本開示において用いられる樹脂はこれに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　なお、Ｂ－９における＊は、左に示す重合鎖との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　また、上記具体例中、各構成単位の含有比は、上述の各構成単位の含有量の好ましい範囲に従って、適宜変更可能である。
　また、上記具体例に示す各樹脂の数平均分子量は、適宜変更可能である。
　画像記録層は、コアシェル粒子を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
　画像記録層の全質量に対するコアシェル粒子の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上６０質量％以下が特に好ましい。
〔重合開始剤〕
　本開示において用いられる画像記録層は、重合開始剤を含有する。
　重合性開始剤としては、特に制限はなく、電子受容型重合開始剤、電子供与型重合開始剤等が挙げられる。
＜＜電子受容型重合開始剤＞＞
　上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
　本開示に用いられる電子受容型重合開始剤は、光、熱又はその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
　電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム化合物がより好ましい。
　また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
　電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　ラジカル重合開始剤としては、例えば、（ａ）有機ハロゲン化物、（ｂ）カルボニル化合物、（ｃ）アゾ化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）メタロセン化合物、（ｆ）アジド化合物、（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）ジスルホン化合物、（ｊ）オキシムエステル化合物、（ｋ）オニウム化合物が挙げられる。
　（ａ）有機ハロゲン化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２２～００２３に記載の化合物が好ましい。
　（ｂ）カルボニル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２４に記載の化合物が好ましい。
　（ｃ）アゾ化合物としては、例えば、特開平８－１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
　（ｄ）有機過酸化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２５に記載の化合物が好ましい。
　（ｅ）メタロセン化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２６に記載の化合物が好ましい。
　（ｆ）アジド化合物としては、例えば、２，６－ビス（４－アジドベンジリデン）－４－メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
　（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２７に記載の化合物が好ましい。
　（ｉ）ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭６１－１６６５４４号、特開２００２－３２８４６５号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
　（ｊ）オキシムエステル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２８～００３０に記載の化合物が好ましい。
　上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム化合物が挙げられる。中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が更に好ましい。
　これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
　ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－メトキシフェニル－４－（２－メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－（２－メチルプロピル）フェニル－ｐ－トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４－ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝１－ペルフルオロブタンスルホナート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
　スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が４以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）フェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）－４－メチルフェニルスルホニウム＝テトラフルオロボラート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝３，５－ビス（メトキシカルボニル）ベンゼンスルホナート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリス（２，４－ジクロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
　また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンとしては、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
　スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
　また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
　スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｐｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、それぞれ表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、耐薬品性及びＵＶ耐刷性の観点から、－３．００ｅＶ以下であることが好ましく、－３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
　また、下限としては、－３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、－３．６０ｅＶ以上であることがより好ましい。
　電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．５質量％～３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％～２０質量％であることが特に好ましい。
＜＜電子供与型重合開始剤＞＞
　重合開始剤は、平版印刷版における耐薬品性、及び、ＵＶ耐刷性の向上に寄与する観点から、電子供与型重合開始剤を更に含むことが好ましく、電子供与型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤の両方を含むことがより好ましい。
　電子供与型重合開始剤としては、例えば、以下の５種類が挙げられる。
（ｉ）アルキル又はアリールアート錯体：酸化的に炭素－ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物等が挙げられる。
（ｉｉ）アミノ酢酸化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ－Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシ基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、Ｎ－フェニルグリシン類（フェニル基に置換基を有していてもよい。）、Ｎ－フェニルイミノジ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもよい。）等が挙げられる。
（ｉｉｉ）含硫黄化合物：上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。具体的には、フェニルチオ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもよい。）等が挙げられる。
（ｉｖ）含錫化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
（ｖ）スルフィン酸塩類：酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等が挙げられる。
　これら電子供与型重合開始剤の中でも、画像記録層は、ボレート化合物を含有することが好ましい。ボレート化合物としては、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物が好ましく、化合物の安定性の観点から、テトラアリールボレート化合物がより好ましく、テトラフェニルボレート化合物が特に好ましい。
　ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
　ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。
　また、本開示に用いられる電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、耐薬品性及びＵＶ耐刷性の観点から、－６．００ｅＶ以上であることが好ましく、－５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましい。
　また、上限としては、－５．００ｅＶ以下であることが好ましく、－５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。
　本開示において、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）及び最低空軌道（ＬＵＭＯ）の計算は、以下の方法により行う。
　まず、計算対象となる化合物における対アニオンは無視する。
　量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ０９を用い、構造最適化はＤＦＴ（Ｂ３Ｌ
ＹＰ／６－３１Ｇ（ｄ））で行う。
　ＭＯ（分子軌道）エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１＋Ｇ（ｄ，ｐ）／ＣＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））で行う。
　上記ＭＯエネルギー計算で得られたＭＯエネルギーＥｂａｒｅ（単位：ｈａｒｔｒｅｅ）を以下の公式により、本開示においてＨＯＭＯ及びＬＵＭＯの値として用いるＥｓｃａｌｅｄ（単位：ｅＶ）へ変換する。
　　Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２３１６８×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０７６３４
　なお、２７．２１１４は単にｈａｒｔｒｅｅをｅＶに変換するための係数であり、０．８２３１６８と－１．０７６３４とは調節係数であり、計算対象となる化合物のＨＯＭＯとＬＵＭＯとを計算が実測の値に合うように定める。
　以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ－１～Ｂ－８及び他の化合物を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｂｕはｎ－ブチル基を表し、Ｚは対カチオンを表す。
　Ｚ＋で表される対カチオンとしては、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｎ＋（Ｂｕ）４等が挙げられる。上記Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。
　また、Ｚ＋で表される対カチオンとしては、上記電子受容型重合開始剤におけるオニウムイオンも好適に挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　電子供与型重合開始剤は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。
　電子供与型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～３０質量％が好ましく、０．０５質量％～２５質量％がより好ましく、０．１質量％～２０質量％が更に好ましい。
　また、本開示における好ましい態様の一つは、上記電子受容型重合開始剤と、上記電子供与型重合開始剤と、が塩を形成している態様である。
　具体的には、例えば、上記オニウム化合物が、オニウムイオンと、上記電子供与型重合開始剤におけるアニオン（例えば、テトラフェニルボレートアニオン）との塩である態様が挙げられる。また、より好ましくは、上記ヨードニウム塩化合物におけるヨードニウムカチオン（例えば、ジ－ｐ－トリルヨードニウムカチオン）と、上記電子供与型重合開始剤におけるボレートアニオンとが塩を形成した、ヨードニウムボレート化合物が挙げられる。
　上記電子受容型重合開始剤と上記電子供与型重合開始剤とが塩を形成している態様の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
〔赤外線吸収剤〕
　上記画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
　赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
　赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
　これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。
　上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素又は窒素原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。
　シアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９に記載の化合物、特開２００２－０２３３６０号公報の段落００１６～００２１、特開２００２－０４０６３８号公報の段落００１２～００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２－２７８０５７号公報の段落００３４～００４１、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００８０～００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７－９０８５０号公報の段落００３５～００４３に記載の化合物、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落０１０５～０１１３に記載の化合物が挙げられる。
　また、特開平５－５００５号公報の段落０００８～０００９、特開２００１－２２２１０１号公報の段落００２２～００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。
　顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００７２～００７６に記載の化合物が好ましい。
　赤外線吸収剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
　上記画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．５質量％～５．０質量％がより好ましい。
〔電子供与型重合開始剤と、電子受容型重合開始剤と、赤外線吸収剤との関係〕
　本開示における画像記録層は、上記電子供与型重合開始剤と、上記電子受容型重合開始剤と、上記赤外線吸収剤と、を含み、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが－６．０ｅＶ以上であり、かつ、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯが－３．０ｅＶ以下であることが好ましい。
　上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯ、及び、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯのより好ましい態様は、それぞれ上述の通りである。
　本開示における画像記録層において、上記電子供与型重合開始剤と、上記赤外線吸収剤と、上記電子受容型重合開始剤とは、例えば、下記化学式に記載のようにエネルギーの受け渡しを行っていると推測される。
　そのため、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが－６．０ｅＶ以上であり、かつ、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯが－３．０ｅＶ以下であれば、ラジカルの発生効率が向上するため、耐薬品性及びＵＶ耐刷性により優れやすいと考えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯと、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯとの差は、１．０ｅＶ以下であることが好ましく、０．７０ｅＶ以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯと、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯとの差は、－０．２０ｅＶ以上であることが好ましく、－０．１０ｅＶ以上であることがより好ましい。
　また、同様の観点から、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯと、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯとの差は、１．０ｅＶ～－０．２０ｅＶであることが好ましく、０．７０ｅＶ～－０．１０ｅＶであることがより好ましい。なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。
　また、ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯと、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯとの差は、１．０ｅＶ以下であることが好ましく、０．７０ｅＶ以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯと、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯとの差は、－０．２０ｅＶ以上であることが好ましく、－０．１０ｅＶ以上であることがより好ましい。
　また、同様の観点から、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯと、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯとの差は、１．０ｅＶ～－０．２０ｅＶであることが好ましく、０．７０ｅＶ～－０．１０ｅＶであることがより好ましい。なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯが、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯよりも高くなることを意味する。
〔重合性化合物〕
　本開示における画像記録層は、重合性化合物を含むことが好ましい。本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
　本開示において、重合性を有する化合物であっても、上述のコアシェル粒子に含まれる樹脂Ａ及び樹脂Ｂ、並びに、後述するコアシェル粒子以外のポリマー粒子、及び、後述する樹脂Ａ及び樹脂Ｂ以外のバインダーポリマーに該当する化合物は、重合性化合物には該当しないものとする。
　重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。
　また重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
　ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　重合性化合物の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）は、５０以上２，５００未満であることが好ましく、５０以上２，０００以下であることがより好ましい。
　本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
－オリゴマー－
　画像記録層に含まれる重合性化合物は、オリゴマーを含有することが好ましい。
　本開示においてオリゴマーとは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が６００以上１０，０００以下であり、かつ、重合性基を少なくとも１つ含む重合性化合物を表す。
　耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、１，０００以上５，０００以下であることが好ましい。
　また、耐薬品性及びＵＶ耐刷性を向上させる観点から、１分子のオリゴマーにおける重合性基数は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることが更に好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
　また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は２０以下であることが好ましい。
　耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性により優れる観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が７以上であり、かつ、分子量が１，０００以上１０，０００以下であることが好ましく、重合性基の数が７以上２０以下であり、かつ、分子量が１，０００以上５，０００以下であることがより好ましい。
　耐薬品性及びＵＶ耐刷性により優れる観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
　本明細書においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基（カルボン酸基等）とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。
＜＜ウレタン結合を有する化合物＞＞
　ウレタン結合を有する化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシ基及び重合性基を有する化合物との反応により得られる化合物が挙げられる。
　ポリイソシアネート化合物としては、２官能～５官能のポリイソシアネート化合物が挙げられ、２官能又は３官能のポリイソシアネート化合物が好ましい。
　ポリイソシアネート化合物としては、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－シクロペンタンジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－２，７－ジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－９－オン－２，７－ジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアナート、１，３－フェニレンジイソシアナート、トリレン－２，４－ジイソシアナート、トリレン－２，６－ジイソシアナート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，２－ビス（４－イソシアナトフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，５－ジイソシアナトナフタレン、これらのポリイソシアネートのダイマー、トリマー（イソシアヌレート結合）等が好ましく挙げられる。また、上記のポリイソシアネート化合物と公知のアミン化合物とを反応させたビウレット体を用いてもよい。
　ヒドロキシ基及び重合性基を有する化合物としては、１つのヒドロキシ基と、１以上の重合性基とを有する化合物が好ましく、１つのヒドロキシ基と、２以上の重合性基とを有する化合物がより好ましい。
　ヒドロキシ基及び重合性基を有する化合物としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　ウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式（Ａｃ－１）で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）中、Ｌ１～Ｌ４はそれぞれ独立に、炭素数２～２０の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
　Ｌ１～Ｌ４としては、それぞれ独立に、炭素数２～２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４～８のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
　式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）における波線部はそれぞれ独立に、下記式（Ａｅ－１）又は式（Ａｅ－２）で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　式（Ａｅ－１）及び式（Ａｅ－２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）における波線部との結合位置を表す。
　また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。
＜＜エステル結合を有する化合物＞＞
　また、エステル結合を有する化合物における重合性基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。
＜＜エポキシ残基を有する化合物＞＞
　エポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
　また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、２～６であることが好ましく、２～３であることがより好ましい。
　上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
　耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、上記画像記録層における上記重合性化合物の全質量に対する上記オリゴマーの含有量は、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。
　重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
　オリゴマー以外の重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端にエチレン性不飽和基を少なくとも１つ有する化合物であることが好ましく、末端にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物であることがより好ましい。
　オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、２量体、３量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
　また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を３つ以上有する重合性化合物及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。
　本開示において低分子重合性化合物とは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）５０以上６００未満の重合性化合物を表す。
　低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、１００以上６００未満であることが好ましく、３００以上６００未満であることがより好ましく、４００以上６００未満であることが更に好ましい。
　重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合（２種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量）、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比（オリゴマー／低分子重合性化合物）は、質量基準で、１０／１～１／１０であることが好ましく、１０／１～３／７であることがより好ましく、１０／１～７／３であることが更に好ましい。
　重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）及び、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類、又は、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表２００６－５０８３８０号公報、特開２００２－２８７３４４号公報、特開２００８－２５６８５０号公報、特開２００１－３４２２２２号公報、特開平９－１７９２９６号公報、特開平９－１７９２９７号公報、特開平９－１７９２９８号公報、特開２００４－２９４９３５号公報、特開２００６－２４３４９３号公報、特開２００２－２７５１２９号公報、特開２００３－６４１３０号公報、特開２００３－２８０１８７号公報、特開平１０－３３３３２１号公報等に記載されている。
　多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
　また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ｍ）で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
　ＣＨ２＝Ｃ（ＲＭ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＲＭ５）ＯＨ　　　　（Ｍ）
　式（Ｍ）中、ＲＭ４及びＲＭ５はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
　また、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報、特開２００３－３４４９９７号公報、特開２００６－６５２１０号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報、特開２０００－２５０２１１号公報、特開２００７－９４１３８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第７１５３６３２号明細書、特表平８－５０５９５８号公報、特開２００７－２９３２２１号公報、特開２００７－２９３２２３号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。
　オリゴマーの具体例を下記表に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。
　オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、ＵＡ５１０Ｈ、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｔ（いずれも共栄社化学（株）製）、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ７６２０ＥＡ（いずれも日本合成化学工業（株）製）、Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８８５、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６、ＥＢＥＣＲＹＬ８６０（いずれもダイセルオルネクス（株）製）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
　重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
　重合性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、５質量％～７５質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、１５質量％～６０質量％であることが更に好ましい。
　また、上記画像記録層における上記重合性化合物の全質量に対するコアシェル粒子に含まれる熱可塑性樹脂の含有量は、０質量％を超え４００質量％以下であることが好ましく、２５質量％～３００質量％であることがより好ましく、５０質量％～２００質量％であることが更に好ましい。
　画像記録層において、コアシェル粒子に含まれる樹脂と上記重合性化合物とは、海島構造をとることが好ましい。例えば、熱可塑性樹脂の海（連続相）の中に、上記重合性化合物が島状に分散（不連続層）した構造を採用することができる。上記重合性化合物の全質量に対する上記コアシェル粒子に含まれる熱可塑性樹脂の含有量を上記範囲内の値とすることにより、海島構造を形成しやすいと考えられる。
〔ポリマー粒子〕
　上記画像記録層は、ポリマー粒子を含んでいてもよい。なお、上記コアシェル粒子は、ポリマー粒子に該当しない。
　ポリマー粒子は、熱反応性ポリマー粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部のＵＶ耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
　熱反応性ポリマー粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
　熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
　マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１－２７７７４０号公報、特開２００１－２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものである。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
　ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、画像形成感度やＵＶ耐刷性の観点から好ましい。
　画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。
　また、ポリマー粒子としては、ＵＶ耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
　上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
　上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。
　分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落００３２～００９５に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。
　更に、ポリマー粒子としては、ＵＶ耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
　上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
　上記ペンダントシアノ基の例としては、－［ＣＨ２ＣＨ（Ｃ≡Ｎ）－］又は－［ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）（Ｃ≡Ｎ）－］が好ましく挙げられる。
　また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
　また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
　上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、１０～１００であることが好ましく、２５～７５であることがより好ましく、４０～５０であることが更に好ましい。
　疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表２００８－５０３３６５号公報の段落００３９～００６８に記載のものが好ましく挙げられる。
　ポリマー粒子の平均粒径は、０．０１μｍ～３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ～２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ～１．０μｍが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
　本開示における上記各粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とする。
　また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
　ポリマー粒子の含有量は、画像記録層の全質量に対し、５質量％～９０質量％が好ましい。
〔酸発色剤〕
　本開示において用いられる画像記録層は、酸発色剤を含むことが好ましい。
　本開示で用いられる「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色する性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
　このような酸発色剤の例としては、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド（”クリスタルバイオレットラクトン”と称される）、３，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１，２－ジメチルインドール－３－イル）フタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－５－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（１，２－ジメチルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（９－エチルカルバゾール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３，３－ビス（２－フェニルインドール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジメチルアミノフェニル）－３－（１－メチルピロール－３－イル）－６－ジメチルアミノフタリド、
　３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１，１－ビス（４－ピロリジノフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラブロモフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ジメチルアミノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３，３－ビス〔１－（４－ピロリジノフェニル）－１－（４－メトキシフェニル）エチレン－２－イル〕－４，５，６，７－テトラクロロフタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－ジエチルアミノフェニル）フタリド、３－〔１，１－ジ（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）エチレン－２－イル〕－３－（４－Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルアミノフェニル）フタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド、３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－フタリド等のフタリド類、
　４，４－ビス－ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、Ｎ－ハロフェニル－ロイコオーラミン、Ｎ－２，４，５－トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン－Ｂ－アニリノラクタム、ローダミン－（４－ニトロアニリノ）ラクタム、ローダミン－Ｂ－（４－クロロアニリノ）ラクタム、３，７－ビス（ジエチルアミノ）－１０－ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、４ーニトロベンゾイルメチレンブルー、
　３，６－ジメトキシフルオラン、３－ジメチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－メトキシフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－ジエチルアミノ－６，７－ジメチルフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－７－メチルフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジベンジルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－オクチルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－ジ－ｎ－ヘキシルアミノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（２’，３’－ジクロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－７－（３’－トリフルオロメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－フルオロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、
　３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－７－（２’－クロロフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－クロロ－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－エトキシ－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－モルホリノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジメチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジ－ｎ－ペンチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－プロピル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソブチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－イソペンチル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－プロピルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－ヘキシルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－ｎ－オクチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、
　３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－メトキシエチル）－Ｎ－イソブチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－エトキシエチル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－メトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－メチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（３’－エトキシプロピル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（２’－テトラヒドロフルフリル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－Ｎ－（４’－メチルフェニル）－Ｎ－エチルアミノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－エチル－７－アニリノフルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（３’－メチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジエチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－６－メチル－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、３－ジ－ｎ－ブチルアミノ－７－（２’，６’－ジメチルフェニルアミノ）フルオラン、２，２－ビス〔４’－（３－Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ－６－メチルフルオラン）－７－イルアミノフェニル〕プロパン、３－〔４’－（４－フェニルアミノフェニル）アミノフェニル〕アミノ－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－〔４’－（ジメチルアミノフェニル）〕アミノ－５，７－ジメチルフルオラン等のフルオラン類、
　３－（２－メチル－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－ｎ－プロポキシカルボニルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチルアミノ－４－ジ－ｎ－プロピルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－メチル－４－ジｎ－ヘキシルアミノフェニル）－３－（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４，７－ジアザフタリド、３，３－ビス（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－４－アザフタリド、３，３－ビス（１－ｎ－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－オクチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－ヘキシルオキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－エトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド、３－（２－ブトキシ－４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－フェニルインドール－３－イル）－４又は７－アザフタリド３－メチル－スピロ－ジナフトピラン、３－エチル－スピロ－ジナフトピラン、３－フェニル－スピロ－ジナフトピラン、３－ベンジル－スピロ－ジナフトピラン、３－メチル－ナフト－（３－メトキシベンゾ）スピロピラン、３－プロピル－スピロ－ジベンゾピラン－３，６－ビス（ジメチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド、３，６－ビス（ジエチルアミノ）フルオレン－９－スピロ－３’－（６’－ジメチルアミノ）フタリド等のフタリド類、
　その他、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－イソペンチル）アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン－３－オン、２’－アニリノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノ－３’－メチルスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、３’－Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ－６’－Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オン、２’－（Ｎ－メチル－Ｎ－フェニル）アミノ－６’－（Ｎ－エチル－Ｎ－（４－メチルフェニル））アミノスピロ［イソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－（９Ｈ）キサンテン］－３－オンなどが挙げられる。
　中でも、本開示に用いられる酸発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
　発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
　酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ－３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ－ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ－ＤＣＦ、ＰＩＮＫ－ＤＣＦ、ＲＥＤ－ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、ＴＨ－１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ－２、ＯＤＢ－４、ＯＤＢ－２５０、ＯＤＢ－ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ－６３、Ｂｌｕｅ－５０２、ＧＮ－１６９、ＧＮ－２、Ｇｒｅｅｎ－１１８、Ｒｅｄ－４０、Ｒｅｄ－８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ－３０３５、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ－６３、ＧＮ－１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
　これらの酸発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
　酸発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％であることが好ましく、１質量％～５質量％であることがより好ましい。
〔コアシェル粒子以外のバインダーポリマー〕
　画像記録層は、コアシェル粒子以外のバインダーポリマー（以下、「他のバインダーポリマー」ともいう。）を含んでもよい。
　上記コアシェル粒子、及び、上記ポリマー粒子は、上記他のバインダーポリマーに該当しない。すなわち、他のバインダーポリマーは、粒子形状ではない重合体である。
　他のバインダーポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
　中でも、他のバインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう）について、詳細に記載する。
　機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
　ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
　また、他のバインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２－１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。
　星型高分子化合物は、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
　重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基（スチリル基）などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基（スチリル基）が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。
　他のバインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～３００，０００であることが更に好ましい。
　必要に応じて、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。
　本開示において用いられる画像記録層においては、他のバインダーポリマーを１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　他のバインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましい。
　また、本開示における画像記録層が他のバインダーポリマーを含む場合、上記コアシェル粒子と他のバインダーポリマーとの合計質量に対する他のバインダーポリマーの含有量は、０質量％を超え９９質量％以下であることが好ましく、２０質量％～９５質量％であることがより好ましく、４０質量％～９０質量％であることが更に好ましい。
〔連鎖移動剤〕
　本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の向上に寄与する。
　連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点（揮発し難さ）の観点で炭素数７以上のチオール化合物がより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物（芳香族チオール化合物）が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
　連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　連鎖移動剤は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。
　連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％が好ましく、０．０５質量％～４０質量％がより好ましく、０．１質量％～３０質量％が更に好ましい。
〔感脂化剤〕
　画像記録層は、インキ着肉性を向上させるために、感脂化剤を更に含有することが好ましい。
　感脂化剤は、ＳＰ値が１８．０未満であることが好ましく、１４～１８未満であることがより好ましく、１５～１７であることが更に好ましく、１６～１６．９であることが特に好ましい。
　また、感脂化剤は、分子量（分子量分布があるときは、重量平均分子量）が２，０００以上の化合物であってもよく、分子量が２，０００未満の化合物であってもよい。
　本開示におけるＳＰ値（溶解度パラメーター、単位：（ＭＰａ）１／２））は、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターを用いるものとする。
　ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターは、ヒルデブランド（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ）によって導入された溶解度パラメーターを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものであるが、本開示においてはＳＰ値をδ（単位：（ＭＰａ）１／２）で表し、下記式を用いて算出される値を用いる。
　　　δ（ＭＰａ）１／２＝（δｄ２＋δｐ２＋δｈ２）１／２
　なお、この分散項δｄ、極性項δｐ、及び、水素結合項δｈは、ハンセンやその研究後継者らにより多く求められており、Polymer Handbook (fourth edition)、ＶＩＩ－６９８～７１１に詳しく掲載されている。
　また本開示において、ポリマーのＳＰ値は、ポリマーの分子構造からＰｏｌｙｍｅｒ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ　ｆｏｕｒｔｈ　ｅｄｉｔｉｏｎに記載のＨｏｙ法により計算する。
　上記感脂化剤としては、例えば、オニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等のアンモニウム化合物などが挙げられる。
　特に、オーバーコート層に無機層状化合物を含有させる場合、これら化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
　また、感脂化剤は、着肉性の観点から、オニウム化合物であることが好ましい。
　オニウム化合物としては、ホスホニウム化合物、アンモニウム化合物、スルホニウム化合物等が挙げられ、オニウム化合物としては、上記観点から、ホスホニウム化合物及びアンモニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１つが好ましい。
　また、後述する、現像促進剤又は電子受容型重合開始剤におけるオニウム化合物はＳＰ値が１８を超える化合物であり、感脂化剤には含まれない。
　ホスホニウム化合物としては、特開２００６－２９７９０７号公報及び特開２００７－５０６６０号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、１，４－ビス（トリフェニルホスホニオ）ブタン＝ジ（ヘキサフルオロホスファート）、１，７－ビス（トリフェニルホスホニオ）ヘプタン＝スルファート、１，９－ビス（トリフェニルホスホニオ）ノナン＝ナフタレン－２，７－ジスルホナート等が挙げられる。
　アンモニウム化合物としては、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等を好ましく挙げることができる。
　含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。
　中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。
　具体例としては、テトラメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム＝ｐ－トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、特開２００８－２８４８５８号公報の段落００２１～００３７に記載の化合物、特開２００９－９０６４５号公報の段落００３０～００５７に記載の化合物等が挙げられる。
　アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として５ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開２００９－２０８４５８号公報の段落００８９～０１０５に記載のポリマーが挙げられる。
　アンモニウム塩含有ポリマーは、特開２００９－２０８４５８号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度（単位：ｍｌ／ｇ）の値が、５～１２０の範囲のものが好ましく、１０～１１０の範囲のものがより好ましく、１５～１００の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量（Ｍｗ）に換算した場合、１０，０００～１５０，０００が好ましく、１７，０００～１４０，０００がより好ましく、２０，０００～１３０，０００が特に好ましい。
　以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
　（１）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比１０／９０、Ｍｗ４．５万）
　（２）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
　（３）２－（エチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比３０／７０、Ｍｗ４．５万）
　（４）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／２－エチルヘキシルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
　（５）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝メチルスルファート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比４０／６０、Ｍｗ７．０万）
　（６）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２５／７５、Ｍｗ６．５万）
　（７）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルアクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．５万）
　（８）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝１３－エチル－５，８，１１－トリオキサ－１－ヘプタデカンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ７．５万）
　感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％～４０．０質量％が好ましく、２質量％～２５．０質量％がより好ましく、３質量％～２０．０質量％が更に好ましい。
　画像記録層は、感脂化剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　本開示において用いられる画像記録層の好ましい態様の一つは、感脂化剤として、２種以上の化合物を含有する態様である。
　具体的には、本開示において用いられる画像記録層は、機上現像性及び着肉性を両立させる観点から、感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーと、を併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーと、を併用することがより好ましい。
〔現像促進剤〕
　本開示において用いられる画像記録層は、現像促進剤を更に含むことが好ましい。
　現像促進剤は、ＳＰ値の極性項の値が６．０～２６．０であることが好ましく、６．２～２４．０であることがより好ましく、６．３～２３．５であることが更に好ましく、６．４～２２．０であることが特に好ましい。
　本開示におけるＳＰ値（溶解度パラメーター、単位：（ｃａｌ/ｃｍ３）1/2）の極性項の値は、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターにおける極性項δｐの値を用いるものとする。ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターは、ヒルデブランド（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ）によって導入された溶解度パラメーターを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものであるが、本開示においては上記極性項δｐを用いる。
　δｐ［ｃａｌ／ｃｍ３］はHansen 溶解度パラメーター双極子間力項、Ｖ［ｃａｌ／ｃｍ３］はモル体積、μ［Ｄ］は双極子モーメントである。δｐとしては、一般的にはHansenとBeerbowerによって簡素化された下記式が用いられている
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000036
　現像促進剤としては、親水性高分子化合物又は親水性低分子化合物であることが好ましい。
　本開示において、親水性とは、ＳＰ値の極性項の値が６．０～２６．０であることをいい、親水性高分子化合物とは分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）が３，０００以上の化合物をいい、親水性低分子化合物とは分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）が３，０００未満の化合物をいう。
　親水性高分子化合物としては、セルロース化合物等が挙げられ、セルロース化合物が好ましい。
　セルロース化合物としては、セルロース、又は、セルロースの少なくとも一部が変性された化合物（変性セルロース化合物）が挙げられ、変性セルロース化合物が好ましい。
　変性セルロース化合物としては、セルロースのヒドロキシ基の少なくとも一部が、アルキル基及びヒドロキシアルキル基よりなる群から選ばれた少なくとも一種の基により置換された化合物が好ましく挙げられる。
　上記セルロースのヒドロキシ基の少なくとも一部が、アルキル基及びヒドロキシアルキル基よりなる群から選ばれた少なくとも一種の基により置換された化合物の置換度は、０．１～６．０であることが好ましく、１～４であることがより好ましい。
　変性セルロース化合物としては、アルキルセルロース化合物又はヒドロキシアルキルセルロース化合物が好ましく、ヒドロキシアルキルセルロース化合物がより好ましい。
　アルキルセルロース化合物としては、メチルセルロースが好ましく挙げられる。
　ヒドロキシアルキルセルロース化合物としては、ヒドロキシプロピルセルロースが好ましく挙げられる。
　親水性高分子化合物の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）は、３，０００～５，０００，０００であることが好ましく、５，０００～２００，０００であることがより好ましい。
　親水性低分子化合物としては、グリコール化合物、ポリオール化合物、有機アミン化合物、有機スルホン酸化合物、有機スルファミン化合物、有機硫酸化合物、有機ホスホン酸化合物、有機カルボン酸化合物、ベタイン化合物等が挙げられ、ポリオール化合物、有機スルホン酸化合物又はベタイン化合物が好ましい。
　グリコール化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びこれらの化合物のエーテル又はエステル誘導体類が挙げられる。
　ポリオール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
　有機アミン化合物としては、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等及びその塩が挙げられる。
　有機スルホン酸化合物としては、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等及びその塩が挙げられ、アルキル基の炭素数が１～１０のアルキルスルホン酸が好ましく挙げられる。
　有機スルファミン化合物としては、アルキルスルファミン酸等及びその塩が挙げられる。
　有機硫酸化合物としては、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等及びその塩が挙げられる。
　有機ホスホン酸化合物としては、フェニルホスホン酸等及びその塩、が挙げられる。
　有機カルボン酸化合物としては、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸等及びその塩が挙げられる。
　ベタイン化合物としては、ホスホベタイン化合物、スルホベタイン化合物、カルボキシベタイン化合物等が挙げられ、トリメチルグリシンが好ましく挙げられる。
　親水性低分子化合物の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）は、１００以上３，０００未満であることが好ましく、３００～２，５００であることがより好ましい。
　現像促進剤は、環状構造を有する化合物であることが好ましい。
　環状構造としては、特に限定されないが、ヒドロキシ基の少なくとも一部が置換されていてもよいグルコース環、イソシアヌル環、ヘテロ原子を有していてもよい芳香環、ヘテロ原子を有していてもよい脂肪族環等が挙げられ、グルコース環又はイソシアヌル環が好ましく挙げられる。
　グルコース環を有する化合物としては、上述のセルロース化合物が挙げられる。
　イソシアヌル環を有する化合物としては、上述のトリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
　芳香環を有する化合物としては、上述のトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等が挙げられる。
　脂肪族環を有する化合物としては、上述のアルキル硫酸であって、アルキル基が環構造を有する化合物等が挙げられる。
　また、上記環状構造を有する化合物は、ヒドロキシ基を有することが好ましい。
　ヒドロキシ基を有し、かつ、環状構造を有する化合物としては、上述のセルロース化合物、及び、上述のトリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが好ましく挙げられる。
　また、現像促進剤としては、オニウム化合物であることが好ましい。
　オニウム化合物としては、アンモニウム化合物、スルホニウム化合物等が挙げられ、アンモニウム化合物が好ましい。
　オニウム化合物である現像促進剤としては、トリメチルグリシン等が挙げられる。
　また、上記電子受容型重合開始剤におけるオニウム化合物はＳＰ値の極性項の値が６．０～２６．０ではない化合物であり、現像促進剤には含まれない。
　画像記録層は、現像促進剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　本開示において用いられる画像記録層の好ましい態様の一つは、現像促進剤として、２種以上の化合物を含有する態様である。
　具体的には、本開示において用いられる画像記録層は、機上現像性及び着肉性の観点から、現像促進剤として、上記ポリオール化合物及び上記ベタイン化合物、上記ベタイン化合物及び上記有機スルホン酸化合物、又は、上記ポリオール化合物及び上記有機スルホン酸化合物を含むことが好ましい。
　画像記録層の全質量に対する現像促進剤の含有量は、０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより好ましい。
〔その他の成分〕
　画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開２００８－２８４８１７号公報の段落０１１４～段落０１５９の記載を参照することができる。
〔画像記録層の形成〕
　本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落０１４２～段落０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
　溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２－ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、３－メトキシ－１－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１質量％～５０質量％であることが好ましい。
　塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。
　また、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層の膜厚は、０．１μｍ～３．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～２．０μｍであることがより好ましい。
　本開示において、平版印刷版原版における各層の膜厚は、平版印刷版原版の表面に対して垂直な方向に切断した切片を作製し、上記切片の断面を走査型顕微鏡（ＳＥＭ）により観察することにより確認される。
＜オーバーコート層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層の、支持体側とは反対の側の面上にオーバーコート層（「保護層」と呼ばれることもある。）を有していてもよい。
　上記オーバーコート層の膜厚は、上記画像記録層の膜厚よりも厚いことが好ましい。
　オーバーコート層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
　このような特性のオーバーコート層については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書及び特公昭５５－４９７２９号公報に記載されている。オーバーコート層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて２種類以上を混合して使用することもできるが、機上現像性の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
　本開示において、水溶性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇ以上溶解し、かつ、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇのポリマーが溶解した溶液を２５℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
　オーバーコート層において用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
　変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５－２５０２１６号公報及び特開２００６－２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
　上記水溶性ポリマーの中でも、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、けん化度が５０％以上であるポリビニルアルコールを含むことが更に好ましい。
　上記けん化度は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、１００％以下であればよい。
　上記けん化度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６：１９９４に記載の方法に従い測定される。
　また、オーバーコート層の一態様として、ポリビニルアルコールと、ポリエチレングリコールとを含む態様も好ましく挙げられる。
　本開示におけるオーバーコート層が水溶性ポリマーを含む場合、オーバーコート層の全質量に対する水溶性ポリマーの含有量は、１質量％～９９質量％であることが好ましく、３質量％～９７質量％であることがより好ましく、５質量％～９５質量％であることが更に好ましい。
　オーバーコート層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有してもよい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ２Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
　好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式：Ａ（Ｂ，Ｃ）２－５Ｄ４Ｏ１０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）２〔ただし、Ａは、Ｋ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、Ｂ及びＣは、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｍｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｖのいずれかであり、Ｄは、Ｓｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
　雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母ＫＭｇ３（ＡｌＳｉ３Ｏ１０）Ｆ２、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ２．５Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の非膨潤性雲母、及び、ＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ２．５（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ２Ｌｉ（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２、モンモリロナイト系のＮａ又はＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）１／８Ｍｇ２／５Ｌｉ１／８（Ｓｉ４Ｏ１０）Ｆ２等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。
　上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、１０Å～１５Å（１Å＝０．１ｎｍ）程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にＬｉ＋、Ｎａ＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがＬｉ＋、Ｎａ＋の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。
　雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
　雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは０．３μｍ～２０μｍ、より好ましくは０．５μｍ～１０μｍ、特に好ましくは１μｍ～５μｍである。粒子の平均の厚さは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが１ｎｍ～５０ｎｍ程度、面サイズ（長径）が１μｍ～２０μｍ程度である。
　無機層状化合物の含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、１質量％～６０質量％が好ましく、３質量％～５０質量％がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。
　オーバーコート層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤をオーバーコート層に含有させてもよい。
　オーバーコート層は公知の方法で塗布される。オーバーコート層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～３ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～１ｇ／ｍ２が特に好ましい。
　本開示に係る平版印刷版原版におけるオーバーコート層の膜厚は、０．１μｍ～５．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～４．０μｍであることがより好ましい。
　本開示に係る平版印刷版原版におけるオーバーコート層の膜厚は、上記画像記録層の膜厚に対し、１．１倍～５．０倍であることが好ましく、１．５倍～３．０倍であることがより好ましい。
＜支持体＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
　支持体としては、親水性表面を有する支持体（「親水性支持体」ともいう。）が好ましい。親水性表面としては、水との接触角が１０°より小さいものが好ましく、５°より小さいものがより好ましい。
　本開示における水接触角は、協和界面化学（株）製ＤＭ－５０１によって、２５℃における表面上の水滴の接触角（０．２秒後）として測定される。
　本開示に係る平版印刷版原版の支持体は、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
　以下、本開示に係る平版印刷版原版に用いられる支持体について図面を用いて説明するが、図面の説明中、符号が省略される場合がある。
　陽極酸化被膜の厚さは、２００ｎｍ～２，０００ｎｍであることが好ましい。
　陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図を図２Ａに示す。図２Ａにおいて、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体１２は、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０（以後、単に「陽極酸化皮膜２０」とも称する）とをこの順に有する。アルミニウム支持体１２中の陽極酸化皮膜２０は、図１における平版印刷版原版１０の画像記録層１６側に位置する。即ち、平版印刷版原版１０は、アルミニウム板１８、陽極酸化皮膜２０、下塗り層１４、及び、画像記録層１６を有する。
〔アルミニウム板〕
　アルミニウム板（アルミニウム支持体）は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ち、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。アルミニウム板は、純アルミニウム板又はアルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板からなる。
　アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。アルミニウム板としては、純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含むものでもよい。アルミニウム板１８としては、その組成が限定されるものではなく、公知公用の素材のもの（例えばＪＩＳ　Ａ　１０５０、ＪＩＳ　Ａ　１１００、ＪＩＳ　Ａ　３１０３、及び、ＪＩＳ　Ａ　３００５）を適宜利用することができる。
　アルミニウム板の幅は４００ｍｍ～２，０００ｍｍ程度、厚さはおよそ０．１ｍｍ～０．６ｍｍ程度が好ましい。この幅又は厚さは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、及び、ユーザーの希望により適宜変更できる。
　本開示に係る平版印刷版原版に用いられる支持体は、画像記録層側の表面にマイクロポアを有することが好ましく、画像記録層側の表面に陽極酸化被膜を有し、陽極酸化被膜表面に、マイクロポアを有することが好ましい。
　平版印刷版原版の画像記録層において、上記赤外線吸収剤と、上記重合開始剤と、上記重合性化合物と、上記コアシェル粒子とを併用することによって、コアシェル粒子同士の熱融着に加えて、コアシェル粒子の熱融着物と混ざり合いながら重合性化合物が重合することにより、より強固な膜が形成されるとともに、陽極酸化被膜表面にマイクロポアを有することで、マイクロポア内でも重合性化合物の上記と同様の重合によって支持体と画像記録層との密着性が向上されることにより、ＵＶ耐刷性に優れると推定している。
　上記表面におけるマイクロポアの平均径は、ＵＶ耐刷性の観点から、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ～８０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ～６０ｎｍであることが更に好ましい。
　本開示において、マイクロポアという用語は、支持体の画像記録層側の表面に形成されたポア、具体的には、陽極酸化皮膜中のポアを表す一般的に使われる用語であり、ポアのサイズを規定するものではない。
〔陽極酸化皮膜〕
　本開示に係る平版印刷版原版に用いられる支持体は、画像記録層側の表面に陽極酸化被膜を有することが好ましい。
　図２Ａにおいて、陽極酸化皮膜２０は、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に一般的に作製される、皮膜表面に略垂直であり、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２を有する陽極酸化アルミニウム皮膜を指す。マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびている。
　陽極酸化皮膜の厚さＸ１は、２００ｎｍ～２，０００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ～１，８００ｎｍ、更に好ましくは７５０ｎｍ～１，５００ｎｍである。
　本開示に係る平版印刷版原版に用いられるアルミニウム支持体は、下記態様１～態様３のいずれかの態様であることが好ましい。
（態様１）
　上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍを超える位置までのびており、上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径に対する、マイクロポア底部の平均径の割合が０．８倍以上１．２倍以下である。
（態様２）
　上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部と、から構成され、上記大径孔部の平均径が、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、上記小径孔部の平均径が、上記大径孔部の平均径の５％～８０％である。
（態様３）
　上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポアの平均径が１０ｎｍ～３０ｎｍ以下であり、内部の最大径の平均値が２０ｎｍ～３００ｎｍであり、上記内部の最大径の平均値が上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポアの平均径よりも大きい。
　以下、それぞれの態様について図面を用いて説明する。
〔態様１について〕
　図２Ａは、上記態様１の一実施形態を示す断面概略図である。
　図２Ａにおいて、マイクロポア２２が、陽極酸化皮膜２０表面から深さ１０ｎｍを超える位置までのびており、上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径に対する、マイクロポア底部の平均径の割合が０．８倍以上１．２倍以下である。
　マイクロポア２２の深さＸ２は１０ｎｍを超え、５０ｎｍ以上であることが好ましく、７５ｎｍ以上であることがより好ましい。
　上記マイクロポア２２の深さＸ２は、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（１５万倍）、得られた画像において、２５個のマイクロポアの深さを測定し、算術平均値として求められる。
　上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１は、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上７５ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
　上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の、深さＸ２に対する平均径Ｙ１の割合（Ｘ２／Ｙ１）は、２倍以上１０倍以下が好ましく、２．５倍以上７倍以下がより好ましく、３倍以上６倍以下が更に好ましい。
　また、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上７５ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１に対する、マイクロポア２２底部の平均径Ｙ２の割合は、０．８倍以上１．２倍以下であることが好ましく、０．８５倍以上１．１５倍以下であることがより好ましく、０．９倍以上１．１倍以下であることが更に好ましい。
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１に対する、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２の割合は、下記式１Ａにより求められる値である。
　式１Ａ：（陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１）／（マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２）
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径Ｙ１は、陽極酸化皮膜２０の表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの形状（開口部の形状）が円状でない場合は、円相当径を用いる。
　マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア２２の底部の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。なお、マイクロポア２２の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部を陽極酸化被膜と水平に切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２を求めてもよい。
　なお、マイクロポア底部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。
　また、底部の形状が平面状ではない場合、例えば図２Ｂに記載のＹ２－１を底部の平均径として測定する。
　図２Ｂは図２Ａ中のマイクロポアの１つを拡大した概略断面図である。
　態様１におけるマイクロポア２２の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向（厚み方向）に向かって径が大きくなる逆円錐状、中央部の径が大きい円柱状、中央部の径が小さい円柱状等が挙げられ、略直管状が好ましい。マイクロポア２２の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１に対する、中央部の径Ｙ１Ａの割合は（Ｙ１Ａ／Ｙ１）は、０．８倍以上１．２倍以下であることが好ましい。
　マイクロポア２２の中央部の平均径Ｙ１Ａは、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア２２の中央部の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。なお、マイクロポア２２の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部を陽極酸化被膜と水平に切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、マイクロポア２２の底部の中央部の径Ｙ１Ａを求めてもよい。
－その他の特性－
　陽極酸化被膜２０の表面におけるマイクロポア２２の密度は、特に限定されないが、陽極酸化被膜の単位面積に対し、２００個／μｍ２～２，０００個／μｍ２であることが好ましく、２００個／μｍ２～１，０００個／μｍ２であることがより好ましい。
　上記密度は、陽極酸化皮膜２０の表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの数を計測し、計測値の算術平均値として算出される。
　陽極酸化被膜２０において、上記マイクロポア２２は、陽極酸化被膜の全面に分布していてもよいし、少なくとも一部に分布していてもよいが、全面に分布していることが好ましい。
　マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面２２に略垂直であることが好ましい。
　また、マイクロポア２２は、個々が均一に近い状態で分布していることが好ましい。
〔態様２について〕
　図３Ａは、上記態様２の一実施形態を示す断面概略図である。
　陽極酸化皮膜２０中のマイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面から深さ（深さＡ：図３Ａ参照）が１０ｎｍ～１，０００ｎｍ位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ方向にのびる小径孔部２６とから構成される。
　以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。
－大径孔部－
　陽極酸化皮膜表面の大径孔部に、支持体と接している本開示における画像記録層が一部入り込むことによって、アンカー効果を発揮して画像部と支持体との密着性が高まり、印刷時における画像部の耐刷性が向上すると推察される。
　大径孔部２４の陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径（平均開口径）は、１０ｎｍ～１００ｎｍ以下であることが好ましい。ＵＶ耐刷性がより優れる点で、マイクロポアの平均径は、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ～６０ｎｍが更に好ましく、１８ｎｍ～４０ｎｍが特に好ましい。
　上記マイクロポアの平均径が１３ｎｍより大きい場合、ＵＶ耐刷性に優れた平版印刷版が得られやすい。また、上記マイクロポアの平均径が１００ｎｍ以下であれば、放置払い性に優れた平版位刷版が得られやすい。
　本明細書において、放置払い性に優れるとは、平版印刷版を用いて印刷を行った後に、印刷を中断（例えば、数時間の中断など）して、印刷を再開したときに、汚れが認められない印刷物が得られるまでに要する印刷枚数が少ないことをいう。
　大径孔部２４の平均径は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。
　なお、大径孔部２４の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。
　大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ（以後、「深さＡ」とも称する場合がある）が１０ｎｍ～１，０００ｎｍ位置にあることが好ましい。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０ｎｍ以上のびる孔部であることが好ましい。中でも、本開示の効果がより優れる点で、深さＡは、１０ｎｍを超え１０００ｎｍ以下が好ましく、２５ｎｍ～２００ｎｍがより好ましく、７０ｎｍ～１００ｎｍが更に好ましい。
　上記深さＡが１０ｎｍ以上であれば、小点耐刷性、小点の現像ラチチュード、及び、ベタ画像部の耐刷性に優れた平版印刷版がより得られやすい。また、上記深さＡが１，０００ｎ以下であれば、特に放置払い性により優れた平版位刷版が得られやすい。
　本明細書において「小点耐刷性」とは、特に小点（例えば、直径（円相当径）が数μｍ～数十μｍ等の画像部）の耐刷性を意味する。
　上記陽極酸化皮膜表面からの深さは、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（１５万倍）、得られた画像において、２５個の大径孔部の深さを測定し、算術平均値として求められる。
　大径孔部２４の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向（厚み方向）に向かって径が大きくなる逆円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。大径孔部の底部における径は、通常、開口部の径と１ｎｍ～１０ｎｍ程度の差があってもよい。大径孔部２４の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
－小径孔部－
　図３Ａに示すように、上記マイクロポアは、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置よりさらに深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である、小径孔部２６を更に有することが好ましい。
　ひとつの小径孔部２６は、通常ひとつの大径孔部２４と連通するが、２つ以上の小径孔部２６がひとつの大径孔部２４の底部と連通していてもよい。
　小径孔部２６の連通位置における平均径は特に限定されないが、大径孔部２４の底部と連通における小径孔部２６の平均径は、大径孔部２４の平均径よりも小さく、２０ｎｍ未満であることが好ましく、１５ｎｍ以下がより好ましく、１３ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。平均径は、５ｎｍ以上であることが好ましい。平均径が２０ｎｍ未満の場合、放置払い性に優れた平版印刷版が得られやすい。
　小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。
　なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部（大径孔部のある領域）を、例えば、アルゴンガス等で切削し、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
　なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。
　小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置（上述した深さＡに該当）からさらに深さ方向に、２０ｎｍ～２，０００ｎｍ（より好ましくは１００ｎｍ～１，９４０ｎｍ未満）の場所に位置することが好ましい。言い換えると、小径孔部２６の深さは２０ｎｍ～２，０００ｎｍ（より好ましくは１００ｎｍ～１，９４０ｎｍ未満）であることが好ましい。中でも、本開示の効果がより優れる点で、小径孔部２６は連通位置から深さ３００ｎｍ～１，６００ｎｍの位置までのびることが好ましく、小径孔部２６は連通位置から深さ９００ｎｍ～１，３００ｎｍの位置までのびることがより好ましい。
　連通位置からの深さが２０ｎｍ以上の場合、耐傷性に優れた平版印刷版原版が得られやすい。連通位置からの深さが２，０００ｎｍ以下の場合、処理時間が短期化し、生産性及び経済性に優れやすい。
　上記小径孔部の深さは、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（５万倍）、得られた画像において、２５個の小径孔部の深さを測定し、算術平均値として求められる。
　小径孔部２６の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向に向かって枝分かれしていく樹枝状が挙げられ、略直管状が好ましい。小径孔部２６の底部における径は、通常、連通位置における径と１～５ｎｍ程度の差があってもよい。小径孔部２６の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
　陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は、上記連通位置における上記小径孔部の平均径が、上記陽極酸化皮膜表面における上記大径孔部の平均径よりも小さいことが、好ましい。小径孔部の平均径が、上記大径孔部の平均径よりも小さいことにより、耐汚れ性（放置払い性）に優れた平版印刷版が得られやすい。
　大径孔部の平均径と小径孔部の平均径に関しては、その比率、即ち、大径孔部の平均径／小径孔部の平均径が、１．１～１２．５が好ましく、１．５～１０がより好ましい。
　また、ＵＶ耐刷性に優れる観点から、小径孔部の平均径が、陽極酸化皮膜表面における上記大径孔部の平均径よりも小さいことが好ましく、上記記大径孔部の平均径の５％～８０％であることがより好ましく、更に好ましくは１０％～６０％である。
　マイクロポアは、図３Ｂのように、大径孔部の底部における平均径が、陽極酸化被膜表面における平均径よりも大きい形状であってもよく、さらに大径孔部の底部に連通する小径孔部を有するようなマイクロポアであってもよい。大径孔部の底部における平均径が、陽極酸化被膜表面における平均径よりも大きい場合、陽極酸化被膜の表面における平均径は１０ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、底部の平均径は２０ｎｍ～３００ｎｍであることが好ましい。
　大径孔部の底部における平均径が、陽極酸化被膜表面における平均径よりも大きい形状である場合、陽極酸化被膜の表面におけるマイクロポアの平均径は、１０ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、耐汚れ性（放置払い性）の観点から、より好ましくは１３ｎｍを超え３０ｎｍ以下である。底部の平均径は、２０ｎｍ～３００ｎｍであれば構わないが、好ましくは４０ｎｍ～２００ｎｍである。
　また、陽極酸化被膜表面から深さ方向１０ｎｍ～１００ｎｍの部分の厚さは、１０ｎｍ～５００ｎｍであることが好ましいが、耐傷性の観点から、５０ｎｍ～３００ｎｍがより好ましい。
－その他の特性－
　陽極酸化被膜２０の表面におけるマイクロポア２２の密度は、特に限定されないが、陽極酸化被膜の単位面積に対し、２００個／μｍ２～２，０００個／μｍ２であることが好ましく、２００個／μｍ２～１，０００個／μｍ２であることがより好ましい。
　上記密度は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの数を計測し、計測値の算術平均値として算出される。
　陽極酸化被膜２０において、上記マイクロポア２２は、陽極酸化被膜の全面に分布していてもよいし、少なくとも一部に分布していてもよいが、全面に分布していることが好ましい。
　マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面２２に略垂直であることが好ましい。
　また、マイクロポア２２は、個々が均一に近い状態で分布していることが好ましい。
〔態様３について；マイクロポアの平均径〕
　図４Ａは、上記態様３の一実施形態を示す断面概略図である。
　図４Ａにおいて、上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポア２２の平均径Ｙ３が１０ｎｍ～３０ｎｍであり、内部の最大径の平均値Ｙ４が２０ｎｍ～３００ｎｍであり、上記内部の最大径の平均値Ｙ４が上記表面孔径上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポアの平均径Ｙ３よりも大きい。
　マイクロポア２２の深さＸ４は１０ｎｍを超え、３０ｎｍ以上であることが好ましく、７５ｎｍ以上であることがより好ましい。
　上記マイクロポア２２の深さＸ４は、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（１５万倍）、得られた画像において、２５個のマイクロポアの深さを測定し、算術平均値として求められる。
　上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ３は、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、１１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることがより好ましく、１２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
　また、マイクロポア内部の最大径の平均値Ｙ４は、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径Ｙ３に対する、マイクロポア２２の内部の最大径の平均値Ｙ４の割合は、１．２倍以上１０倍以下であることが好ましく、１．５倍以上８倍以下であることがより好ましく、２倍以上５倍以下であることが更に好ましい。
　マイクロポア２２の平均径Ｙ３に対する、マイクロポア２２の内部の最大径の平均値Ｙ４の割合は、下記式１Ｂにより求められる値である。
　式１Ｂ：（マイクロポア２２の内部の最大径の平均値Ｙ４）／（陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ３）
　陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径Ｙ３は、上述の態様１におけるＹ１と同様の方法により求められる
　マイクロポア２２内部の最大径の平均値Ｙ４は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア２２の径の最大値（直径）を測定し、算術平均値として求められる。なお、マイクロポア２２の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部を陽極酸化被膜と水平に切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ４を求めてもよい。
　なお、マイクロポア２２の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。
　態様３におけるマイクロポア２２の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向（厚み方向）に向かって径が大きくなる逆円錐状、中央部の径が大きい円柱状、中央部の径が小さい円柱状等が挙げられ、略直管状が好ましい。マイクロポア２２の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
　また、図４Ｂに示すように、直径が小さい円柱と、直径が大きい円柱とを組み合わせた形であってもよい。これらの円柱についても、略直管状、円錐状、逆円錐状、中央部の径が大きい円柱状、中央部の径が小さい円柱状であってもよく、略直管状が好ましい。図４に示す形状においても、マイクロポア２２の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
－その他の特性－
　陽極酸化被膜２０の表面におけるマイクロポア２２の密度は、特に限定されないが、陽極酸化被膜の単位面積に対し、２００個／μｍ２～２，０００個／μｍ２であることが好ましく、２００個／μｍ２～１，０００個／μｍ２であることがより好ましい。
　上記密度は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの数を計測し、計測値の算術平均値として算出される。
　陽極酸化被膜２０において、上記マイクロポア２２は、陽極酸化被膜の全面に分布していてもよいし、少なくとも一部に分布していてもよいが、全面に分布していることが好ましい。
　マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面２２に略垂直であることが好ましい。
　また、マイクロポア２２は、個々が均一に近い状態で分布していることが好ましい。
〔アルミニウム支持体の製造方法〕
　以下に、本開示に係る平版印刷版原版における陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法について説明する。
　陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は特に限定されないが、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
（粗面化処理工程）アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
（第１陽極酸化処理工程）粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
（ポアワイド処理工程）第１陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
（第２陽極酸化処理工程）ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム板を陽極酸化する工程
（親水化処理工程）第２陽極酸化処理工程で得られたアルミニウム板に親水化処理を施す工程
　以下に上記各工程について詳述する。なお、粗面化処理工程、親水化処理工程は、必要がなければ実施しなくてもよい。
　上記製造方法によれば、上述の態様２に係るアルミニウム支持体が得られる。
　第１陽極酸化処理工程から第２陽極酸化処理工程までを工程順に示す陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の模式的断面図を、図５に示す。
〔粗面化処理工程〕
　粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。粗面化処理工程は、後述する第１陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
　粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び／又は化学的粗面化処理とを組み合わせて施してもよい。
　機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すのが好ましい。
　機械的粗面化処理は、例えば図８に示した装置を使って行われる。具体的には、例えば、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ3）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行われる。図８において、１はアルミニウム板、２及び４はローラ状ブラシ（束植ブラシ等）、３は研磨スラリー液、５、６、７及び８は支持ローラである。
　電気化学的粗面化処理は、硝酸や塩酸の水溶液中で施すのが好ましい。
　機械的粗面化処理は、一般的には、アルミニウム板の表面を表面粗さＲａ：０．３５μｍ～１．０μｍとする目的で施される。
　機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、例えば、特公昭５０－４００４７号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
　化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。
　機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を施すことが好ましい。
　機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性（放置払い性）を向上させ、更に、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
　化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理（以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。）が挙げられる。
　アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセイソーダ（水酸化ナトリウム）、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等が好適に挙げられる。
　アルカリ剤は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液の濃度は、０．０１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、また、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。
　アルカリ溶液の温度は室温以上が好ましく、３０℃以上がより好ましく、また、８０℃以下が好ましく、７５℃以下がより好ましい。
　エッチング量は、０．１ｇ／ｍ２以上が好ましく、１ｇ／ｍ２以上がより好ましく、また、２０ｇ／ｍ２以下が好ましく、１０ｇ／ｍ２以下がより好ましい。
　処理時間は、エッチング量に対応して２秒～５分が好ましく、生産性向上の点から２～１０秒がより好ましい。
　機械的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理（以下、「デスマット処理」ともいう。）を施すのが好ましい。
　酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は、１質量％～５０質量％が好ましい。また、酸性溶液の温度、２０℃～８０℃が好ましい。酸性溶液の濃度及び温度がこの範囲であると、平版印刷版の耐汚れ性（放置払い性）がより向上する。
　上記粗面化処理は、所望により機械的粗面化処理及び化学エッチング処理を施した後に、電気化学的粗面化処理を施す処理であるが、機械的粗面化処理を行わずに電気化学的粗面化処理を施す場合にも、電気化学的粗面化処理の前に、カセイソーダ等のアルカリ水溶液を用いて化学エッチング処理を施すことができる。これにより、アルミニウム板の表面近傍に存在する不純物等を除去することができる。
　電気化学的粗面化処理は、アルミニウム板の表面に微細な凹凸（ピット）を付与することが容易であるため、印刷性の優れた平版印刷版を作製するのに適している。
　電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われる。
　電気化学的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を行うことが好ましい。電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板の表面には、スマットや金属間化合物が存在する。電気化学的粗面化処理の後に行われる化学エッチング処理においては、特にスマットを効率よく除去するため、まず、アルカリ溶液を用いて化学エッチング処理（アルカリエッチング処理）をすることが好ましい。アルカリ溶液を用いた化学エッチング処理の諸条件は、処理温度は２０℃～８０℃が好ましく、処理時間は１秒～６０秒が好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンを含有することが好ましい。
　電気化学的粗面化処理後にアルカリ溶液を用いる化学エッチング処理を行った後、それにより生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理（デスマット処理）を行うことが好ましい。
　電気化学的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を行わない場合においても、スマットを効率よく除去するため、デスマット処理を行うことが好ましい。
　上述した化学エッチング処理は、浸せき法、シャワー法、塗布法等により行うことができ、特に限定されない。
〔第１陽極酸化処理工程〕
　第１陽極酸化処理工程は、上述した粗面化処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム板表面に深さ方向（厚み方向）にのびるマイクロポアを有するアルミニウムの酸化皮膜を形成する工程である。この第１陽極酸化処理により、図５（Ａ）に示されるように、アルミニウム板３１の表面に、マイクロポア３３ａを有するアルミニウムの陽極酸化皮膜３２ａが形成される。
　第１陽極酸化処理は、この分野で従来から行われている方法で行うことができるが、上述したマイクロポアを最終的に形成できるように適宜製造条件が設定される。
　具体的には、第１陽極酸化処理工程において形成されるマイクロポア３３ａの平均径（平均開口径）は、４ｎｍ～１４ｎｍ程度であることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ～１０ｎｍである。上記範囲内であれば、上述した所定の形状を有するマイクロポアが形成しやすく、得られる平版印刷版原版の性能もより優れる。
　また、マイクロポア３３ａの深さは、６０ｎｍ～２００ｎｍ未満程度であることが好ましく、より好ましくは７０ｎｍ～１００ｎｍである。上記範囲内であれば、上述した所定の形状を有するマイクロポアが形成しやすく、得られる平版印刷版原版の性能もより優れる。
　マイクロポア３３ａのポア密度は特に限定されないが、ポア密度が５０個／μｍ２～４０００個／μｍ２であることが好ましく、１００個／μｍ２～３０００個／μｍ２であることがより好ましい。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性及び放置払い性、並びに、平版印刷版原版の現像性に優れる。
　第１陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の膜厚は、７０ｎｍ～３００ｎｍが好ましく、より好ましくは８０ｎｍ～１５０ｎｍである。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性、放置払い性、耐汚れ性（放置払い性）、並びに、平版印刷版原版の現像性に優れる。
　第１陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の皮膜量は、０．１ｇ／ｍ２～０．３ｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは０．１２ｇ／ｍ２～０．２５ｇ／ｍ２である。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性、放置払い性、耐汚れ性（放置払い性）、並びに、平版印刷版原版の現像性に優れる。
　第１陽極酸化処理工程においては、硫酸、シュウ酸、リン酸等の水溶液を主に電解浴として用いることができる。場合によっては、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等又はこれらの二種以上を組み合わせた水溶液又は非水溶液を用いることもできる。上記のような電解浴中でアルミニウム板に直流又は交流を流すと、アルミニウム板表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。電解液の種類を変えると大きくポア径が変化する事が知られていて、大まかに言えば、硫酸電解液でのポア径＜シュウ酸電解液でのポア径＜リン酸電解液でのポア径である。
　従って、電解液を交換して、２回処理したり、また、処理装置を２連、３連に繋げて、２段、３段に連続して処理を行って、陽極酸化皮膜構造にする事が可能である。
特開２００２－３６５７９１に記載されているような方法で、リン酸電解液を使用して、陽極酸化皮膜の表面口部のポア径を維持したまま、底部のポアが大きい皮膜を得ることができる。
　電解浴にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、１ｇ／Ｌ～１０ｇ／Ｌが好ましい。
　陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が１質量％～８０質量％（好ましくは５質量％～２０質量％）、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２（好ましくは５Ａ／ｄｍ２～５０Ａ／ｄｍ２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）の範囲が適当である。
　上記陽極酸化処理のうちでも特に、英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸中にて高電流密度で陽極酸化する方法が好ましい。
〔ポアワイド処理工程〕
　ポアワイド処理工程は、上述した第１陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。このポアワイド処理により、図５（Ｂ）に示されるように、マイクロポア３３ａの径が拡大され、より大きな平均径を有するマイクロポア３３ｂを有する陽極酸化皮膜３２ｂが形成される。
　ポアワイド処理により、マイクロポア３３ｂの平均径は、１０ｎｍ～１００ｎｍ（好ましくは、１５ｎｍ～６０ｎｍ、より好ましくは、１８ｎｍ～４０ｎｍ）の範囲まで拡大される。マイクロポア３３ｂは、上述した大径孔部２４（図５（Ａ））に該当する部分となる。
　ポアワイド処理により、マイクロポア３３ｂの表面からの深さは、上述した深さＡ（図３Ａ）と同程度となるように調整することが好ましい。
　ポアワイド処理は、上述した第１陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行う。接触させる方法は、特に限定されず、例えば、浸せき法、スプレー法が挙げられる。中でも、浸せき法が好ましい。
　ポアワイド処理工程においてアルカリ水溶液を使用する場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び水酸化リチウムから選ばれる少なくとも一つのアルカリ水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液の濃度は０．１質量％～５質量％が好ましい。
　アルカリ水溶液のｐＨを１１～１３に調整した後、１０℃～７０℃（好ましくは２０℃～５０℃）の条件下で、アルミニウム板をアルカリ水溶液に１秒～３００秒（好ましくは１秒～５０秒）接触させることが適当である。
　アルカリ処理液中に炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩等の多価弱酸の金属塩を含んでもよい。
　ポアワイド処理工程において酸水溶液を使用する場合、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸又はこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は、１質量％～８０質量％が好ましく、より好ましくは５質量％～５０質量％である。
　酸水溶液の液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）の条件下で、アルミニウム板を酸水溶液に１秒～３００秒（好ましくは１秒～１５０秒）接触させることが適当である。
　アルカリ水溶液又は酸水溶液中にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、１ｇ／Ｌ～１０ｇ／Ｌが好ましい。
〔第２陽極酸化処理工程〕
　第２陽極酸化処理工程は、上述したポアワイド処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、深さ方向（厚み方向）にのびたマイクロポアを形成する工程である。この第２陽極酸化処理工程により、図５（Ｃ）に示されるように、深さ方向にのびたマイクロポア３３ｃを有する陽極酸化皮膜３２ｃが形成される。
　第２陽極酸化処理工程によって、平均径が拡大されたマイクロポア３３ｂの底部に連通し、平均径がマイクロポア３３ｂ（大径孔部２４に該当）の平均径より小さく、連通位置から深さ方向にのびる新たな孔部が形成される。上記孔部が、上述した小径孔部２６に該当する。
　第２陽極酸化処理工程においては、新たに形成される孔部の平均径が０より大きく２０ｎｍ未満で、大径孔部２０との連通位置からの深さが上述した所定範囲になるように処理が実施される。処理に使用される電解浴は上記の第１陽極酸化処理工程と同じであり、処理条件としては使用される材料に応じて適宜設定される。
　陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が１質量％～８０質量％（好ましくは５質量％～２０質量％）、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２（好ましくは１Ａ／ｄｍ２～３０Ａ／ｄｍ２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）の範囲が適当である。
　第２陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の膜厚は、２００ｎｍ～２，０００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは７５０ｎｍ～１，５００ｎｍである。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性及び放置払い性に優れる。
　第２陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の皮膜量は、２．２ｇ／ｍ２～５．４ｇ／ｍ２であることが好ましく、より好ましくは２．２ｇ／ｍ２～４．０ｇ／ｍ２である。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性及び放置払い性、並びに、平版印刷版原版の現像性、耐傷性に優れる。
　第１陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の厚み（皮膜厚み１）と、第２陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の厚み（皮膜厚み２）との比（皮膜厚み１／皮膜厚み２）は、０．０１～０．１５が好ましく、０．０２～０．１０がより好ましい。上記範囲内であれば、平版印刷版用支持体の耐傷性に優れる。
　上述した小径孔部２６（図５（Ａ）参照）の形状を製造するために、第２陽極酸化処理工程の処理中において、印加する電圧を段階的又は連続的に増加させてもよい。印加する電圧が増加することにより、形成される孔部の径が大きくなり、結果として上述した小径孔部２６のような形状が得られる。
〔第３陽極酸化処理工程〕
　第２陽極酸化処理工程に続いて、第３陽極酸化処理工程を行ってもよい。
　第３陽極酸化処理工程における陽極酸化処理は、第２陽極酸化処理工程と同様の方法により、液成分、電流密度、時間等を、求められる支持体表面の面状に応じて適宜設定することにより行えばよい。
〔親水化処理工程〕
　陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は、上述した極酸化処理工程の後、親水化処理を施す親水化処理工程を有していてもよい。親水化処理としては、特開２００５－２５４６３８号公報の段落０１０９～段落０１１４に開示される公知の方法が使用できる。
　ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬させる方法等により、親水化処理を行うことが好ましい。
　ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリウム等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，７１４，０６６号明細書及び米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている方法及び手順に従って行うことができる。
　本開示の陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体としては、上記アルミニウム板に対して、以下のＡ～Ｄの態様に示す各処理を、以下に示す順に施して得られる支持体が好ましく、耐刷性の点から、特にＡ態様が好ましい。以下の各処理の間に水洗を行うことが望ましい。ただし、連続して行う２つの工程（処理）が同じ組成の液を使用する場合は水洗を省いてもよい。
〔Ａ態様〕
　（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
　（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
　（４）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第１電気化学的粗面化処理）
　（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
　（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
　（７）塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第２電気化学的粗面化処理）
　（８）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第３アルカリエッチング処理）
　（９）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第３デスマット処理）
　（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（硫酸）、ポアワイド処理、第２陽極酸化処理（硫酸））
　（１１）親水化処理
　上記Ａ態様によれば、上述の態様２に係るアルミニウム支持体が得られる。
〔Ｂ態様〕
　（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
　（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
　（１２）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
　（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
　（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
　（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（硫酸）、ポアワイド処理）
　（１１）親水化処理
　上記Ｂ態様によれば、上述の態様１に係るアルミニウム支持体が得られる。
〔Ｃ態様〕
　（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
　（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
　（１２）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
　（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
　（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
　（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（リン酸）、第２陽極酸化処理（硫酸））
　（１１）親水化処理
　上記Ｃ態様によれば、上述の態様２に係るアルミニウム支持体が得られる。
〔Ｄ態様〕
　（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
　（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
　（１２）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
　（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
　（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
　（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（リン酸））
　（１１）親水化処理
　上記Ｄ態様によれば、上述の態様３に係るアルミニウム支持体が得られる。
　上記Ａ～Ｄの態様の（２）の処理の前に、必要に応じて、（１）機械的粗面化処理を実施してもよい。耐刷性などの観点からは、（１）の処理は各態様に含まれないほうが好ましい。
　ここで、上記（１）～（１２）における機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理、化学エッチング処理、陽極酸化処理及び親水化処理は、上述した処理方法、条件と同様の方法で行うことができるが、以下に説明する処理方法、条件で施すことが好ましい。
　機械的粗面化処理は、毛径が０．２ｍｍ～１．６１ｍｍの回転するナイロンブラシロールと、アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に粗面化処理することが好ましい。研磨剤としては公知の物が使用できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウム又はこれらの混合物が好ましい。スラリー液の比重は１．０５～１．３が好ましい。勿論、スラリー液を吹き付ける方式、ワイヤーブラシを用いる方式、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方式などを用いてもよい。
　アルカリ水溶液中での化学エッチング処理（第１～第３アルカリエッチング処理）に用いるアルカリ水溶液の濃度は１質量％～３０質量％が好ましく、アルミニウム及びアルミニウム合金中に含有する合金成分を０質量％～１０質量％含有していてよい。
　アルカリ水溶液としては、特に苛性ソーダを主体とする水溶液が好ましい。液温は常温（２５℃）～９５℃で、１秒～１２０秒間処理することが好ましい。
　エッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。
　第１アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．５ｇ／ｍ２～３０ｇ／ｍ２が好ましく、１．０ｇ／ｍ２～２０ｇ／ｍ２がより好ましく、３．０ｇ／ｍ２～１５ｇ／ｍ２が更に好ましい。
　第２アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．００１ｇ／ｍ２～３０ｇ／ｍ２が好ましく、０．１ｇ／ｍ２～４ｇ／ｍ２がより好ましく、０．２ｇ／ｍ２～１．５ｇ／ｍ２が更に好ましい。
　第３アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．００１ｇ／ｍ２～３０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０１ｇ／ｍ２～０．８ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～０．３ｇ／ｍ２が更に好ましい。
　酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１～第３デスマット処理）では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又は、これらの２以上の酸を含む混酸が好適に用いられる。酸性水溶液の濃度は０．５質量％～６０質量％が好ましい。酸性水溶液中にはアルミニウム及びアルミニウム合金中に含有する合金成分が０質量％～５質量％溶解していてもよい。
　液温は常温から９５℃で実施され、処理時間は１秒～１２０秒が好ましい。デスマット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うのが好ましい。
　電気化学的粗面化処理に用いられる水溶液について説明する。
　第１電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液を使用でき、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン；等を有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ～飽和濃度まで添加して使用することができる。
　硝酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
　具体的には、硝酸０．５質量％～２質量％水溶液中にアルミニウムイオンが３ｇ／Ｌ～５０ｇ／Ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いるのが好ましい。
　液温は１０℃～９０℃が好ましく、４０℃～８０℃がより好ましい。
　第２電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液を使用でき、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン；等を有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ～飽和まで添加して使用することができる。
　塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
　具体的には、塩酸０．５質量％～２質量％水溶液中にアルミニウムイオンが３ｇ／Ｌ～５０ｇ／Ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いるのが好ましい。
　液温は１０℃～６０℃が好ましく、２０℃～５０℃がより好ましい。なお、次亜塩素酸を添加してもよい。
　一方、Ｂ態様における塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液を使用でき、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硫酸を０ｇ／Ｌ～３０ｇ／Ｌ添加して使用することができる。この水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン；等を有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ～飽和まで添加して使用することができる。
　塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
　具体的には、硝酸０．５質量％～２質量％水溶液中に、アルミニウムイオンが３～５０ｇ／Ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いるのが好ましい。
　液温は１０℃～６０℃が好ましく、２０℃～５０℃がより好ましい。なお、次亜塩素酸を添加してもよい。
　電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、三角波などを用いることができる。周波数は０．１Ｈｚ～２５０Ｈｚが好ましい。
　陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフを図６に示す。
　図６において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１ｍｓ～１０ｍｓが好ましい。
　電源回路のインピーダンスの影響のため、ｔｐが１以上であると電流波形の立ち上がり時必要な電源電圧が小さくなり、電源の設備コストの点から好ましい。１０ｍｓ以下であれば、電解液中の微量成分の影響を受けにくくなり均一な粗面化が行われやすくなる。
　電気化学的な粗面化に用いる交流の１サイクルの条件は、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１～２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３～２０、アノード反応時間ｔａが５ｍｓ～１０００ｍｓ、の範囲にあるのが好ましい。ｔｃ／ｔａは２．５～１５がより好ましい。Ｑｃ／Ｑａは２．５～１５がより好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに１０Ａ／ｄｍ２～２００Ａ／ｄｍ２が好ましい。Ｉｃ／Ｉａは０．３～２０の範囲にあることが好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は２５Ｃ／ｄｍ２～１０００Ｃ／ｄｍ２が好ましい。
　交流を用いた電気化学的な粗面化に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平５－１９５３００号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。
　交流を用いた電気化学的な粗面化には図７に示した装置を用いることができる。図７は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
　図７において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａ，５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
　アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａ、５３ｂにより電解処理される。電解液５５は電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａ、５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは次いで補助陽極槽６０で電解処理される。補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。
　支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平５－４５８８５号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平６－３５１７４号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物等を含むバックコート層を有していてもよい。
＜下塗り層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性の低下を抑制しながら現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
　下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。
　下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
　支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＰＯ３Ｈ２、－ＯＰＯ３Ｈ２、－ＣＯＮＨＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２－、－ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
　ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
　具体的には、特開平１０－２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２－３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５－２３８８１６号、特開２００５－１２５７４９号、特開２００６－２３９８６７号、特開２００６－２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
　より好ましいものとして、特開２００５－１２５７４９号及び特開２００６－１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
　下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ～１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ～５．５ｍｍｏｌである。
　下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万～３０万がより好ましい。
　下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６－テトラヒドロキシ－ｐ－キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など）等を含有してもよい。
　下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ２～１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１ｍｇ／ｍ２～３０ｍｇ／ｍ２がより好ましい。
（平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法）
　本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程（以下、「露光工程」ともいう。）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程（以下、「機上現像工程」ともいう。）と、を含むことが好ましい。
　本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（印刷工程）と、を含むことが好ましい。
　以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
　以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
＜露光工程＞
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
　光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ２～３００ｍＪ／ｃｍ２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
　画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
＜機上現像工程＞
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
　以下に、機上現像方式について説明する。
〔機上現像方式〕
　機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
　すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
　上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は３００ｎｍ～４５０ｎｍ又は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。波長３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源としては、半導体レーザーが好適である。
＜印刷工程＞
　本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
　印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）が好ましく挙げられる。
　また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
　また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程に連続して行われてもよい。
　記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
　本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度及び耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃～５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。
　以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算値として測定した値である。
＜支持体の作製＞
　厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム合金板に対し、特開２０１２－１５８０２２号公報の段落０１２６に記載の（Ａ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）から段落０１３４に記載の（Ａ－ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理を実施した。
　次に、特開２０１２－１５８０２２号公報の段落０１３５に記載の（Ａ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理から段落０１３８に記載の（Ａ－ｍ）第３段階の陽極酸化処理の各処理条件を適宜調整して、平均系３５ｎｍ、深さ１００ｎｍの大径孔部と、平均径１０ｎｍ、深さ１，０００ｎｍの小径孔部を有し、大径孔部の平均径に対する大径孔部の深さの比が２．９である陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体Ａを得た。
　なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
＜＜ポリマー粒子Ａ－１の合成、官能基Ａ：カルボキシ基＞＞
　下記の合成スキームに従って、ポリマー粒子Ａ－１を合成した。
　三口フラスコに、下記化合物（１）４０部、下記化合物（２）１０部、及び、蒸留水９５０部を加え、窒素雰囲気下で撹拌し、７０℃に昇温した。次に、過硫酸カリウム１．９ｇを加え、５時間撹拌した。その後、９５℃に昇温し、２時間撹拌した。反応液を室温（２５℃、以下同様）に放冷し、ポリマー粒子Ａ－１の分散液（固形分５％）を得た。ポリマー粒子Ａ－１の平均粒径は１８０ｎｍであった。
　なお、ポリマー粒子Ａ－１の平均粒径は、既述の方法により測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
＜＜ポリマー粒子Ａ－２、Ａ－４、Ａ－７、Ａ－１１、及び、Ａ－１４～Ａ－１６＞＞
　表１に記載の樹脂組成となるように、使用するモノマー及びその使用量を適宜変更した以外は、上記ポリマー粒子Ａ－１と同様の方法により合成を行った。
＜＜樹脂Ｂ－１の合成、官能基Ｂ：第三級アミノ基＞＞
　下記の合成スキームに従って、樹脂Ｂ－１を合成した。
　３つ口フラスコに下記化合物（３）２５部、下記化合物（４）２５部、１－メトキシ２－プロパノール７０部を加え、窒素雰囲気下で撹拌し８０℃に昇温した。ジメチル２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．５部を加え６時間反応し、樹脂Ｂ－１’を得た。得られた樹脂Ｂ－１’に対し、アクリル酸１２．７部、テトラブチルアンモニウムブロミド２部、１－メトキシ－２－プロパノール７０部を加え９０℃で２４時間反応させ、樹脂Ｂ－１を得た。
　得られた樹脂Ｂ－１の数平均分子量は３６，０００であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
＜＜樹脂Ｂ－３、Ｂ－４、Ｂ－５、Ｂ－８、Ｂ－９－２、Ｂ－１０、及び、Ｂ－１２～Ｂ－１７＞＞
　表１に記載の樹脂組成となるように、使用するモノマー及びその使用量を適宜変更した以外は、上記樹脂Ｂ－１と同様の方法により合成を行った。
〔コアシェル粒子ＣＳ－１の調製〕
　樹脂Ａ－１の３５％水溶液２部と樹脂Ｂ－１３の７．５％ＭＦＧ溶液８部とを混合し、６０℃で３０分撹拌したのち、２００メッシュのナイロンろ布でろ過して粒子液を得た。
　コアシェル粒子ＣＳ－１は、樹脂Ｂの被覆量が、樹脂Ａの全質量に対し、３０質量％であり、算術平均粒径は１９０ｎｍであった。
〔コアシェル粒子ＣＳ－５の調製〕
　樹脂Ａ－２の３５％水溶液２部と樹脂Ｂ－１０の２０％ＭＦＧ溶液１０部とを混合し、８０℃で１２時間撹拌したのち、２００メッシュのナイロン網でろ過して粒子液を得た。
　コアシェル粒子ＣＳ－５は、樹脂Ｂの被覆量が、樹脂Ａの全質量に対し、７０質量％であり、算術平均粒径は４００ｎｍであった。
〔コアシェル粒子ＣＳ－２～ＣＳ－４、ＣＳ－６、ＣＳ－７及びＣＳ－Ｃ１～ＣＳ－Ｃ３の調製〕
　使用する樹脂Ａ及び樹脂Ｂ、並びに、その使用量を適宜変更した以外は、上記コアシェル粒子ＣＳ－１と同様の方法により合成を行った。
＜平版印刷版原版の形成＞
　上記支持体上に、下記組成の下塗り液（１）を乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布し、１００℃３０秒間オーブンで乾燥し、下塗り層を有する支持体を作製した。
　下塗り層上に、下記画像記録層塗布液（１）をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥して乾燥塗布量０．６０ｇ／ｍ２（膜厚＝約０．６０μｍ）の画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
　更にその後、表１において、保護層が「あり」の場合、画像記録層上に、下記組成の保護層塗布液をバー塗布した後、１２０℃で６０秒オーブン乾燥し、乾燥塗布量０．１５ｇ／ｍ２の保護層を形成した。
〔下塗り液（１）〕
・下記の下塗り化合物１：０．１８部
・メタノール：５５．２４部
・蒸留水：６．１５部
－下塗り化合物１の合成－
＜＜モノマーＭ－１の精製＞＞
　ライトエステル　Ｐ－１Ｍ（２－メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学（株）製）４２０部、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部及び蒸留水１，０５０部を分液ロートに加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄した後、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部を加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄してモノマーＭ－１の水溶液（固形分換算１０．５質量％）を１，３００部得た。
＜＜下塗り化合物１の合成＞＞
　三口フラスコに、蒸留水を５３．７３部、以下に示すモノマーＭ－２を３．６６部加え、窒素雰囲気下で５５℃に昇温した。次に、以下に示す滴下液１を２時間掛けて滴下し、３０分撹拌した後、ＶＡ－０４６Ｂ（富士フイルム和光純薬（株）製）０．３８６部を加え、８０℃に昇温し、１．５時間撹拌した。反応液を室温（２５℃）に戻した後、３０質量％水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを８．０に調整したのち、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル（４－ＯＨ－ＴＥＭＰＯ）を０．００５部加えた。以上の操作により、下塗り化合物１の水溶液を１８０部得た。ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリエチレングリコール換算値とした重量平均分子量（Ｍｗ）は１７万であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
＜＜滴下液１＞＞
・上記モノマーＭ－１水溶液：８７．５９部
・上記モノマーＭ－２：１４．６３部
・ＶＡ－０４６Ｂ（２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジスルフェートジハイドレート、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．３８６部
・蒸留水：２０．９５部
＜画像記録層塗布液（１）＞
・表１に記載の赤外線吸収剤（下記構造の化合物）：表１に記載の量
・表１に記載の重合性化合物（下記構造の化合物）：表１に記載の量
・表１に記載の熱可塑性樹脂：表１に記載の量
・ＢＹＫ３０６（Ｂｙｋ　Ｃｈｅｍｉｅ社）：６０部
・１－メトキシ－２－プロパノール：８，０００部
・メチルエチルケトン：１，０００部
・表１に記載の電子受容型重合開始剤：表１に記載の量
・表１に記載の電子供与型重合開始剤：表１に記載の量、「なし」と記載の場合は０部
・現像促進剤（下記化合物）：２０部
・感脂化剤（下記化合物）：５０部
・界面活性剤（下記化合物、Ｍｗ＝１３，０００）：４部
　現像促進剤：トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ＳＰ値の極性項の値＝６．４
　感脂化剤：１，４－ビス（トリフェニルホスホニオ）ブタン＝ジ（ヘキサフルオロホスファート、ＳＰ値＝１６．２
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
＜保護層塗布液の調製＞
・無機層状化合物分散液（１）〔下記〕：１．５部
・ポリビニルアルコール（ＣＫＳ５０、日本合成化学工業（株）製、スルホン酸変性、けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液：０．５５部
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ－４０５、（株）クラレ製、けん化度８１．５モル％、重合度５００）６質量％水溶液：０．０３部
・界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）１質量％水溶液：０．８６部
・イオン交換水：６．０部
　上記保護層塗布液に用いた無機層状化合物分散液（１）の調製法を以下に示す。
－無機層状化合物分散液（１）の調製－
　イオン交換水１９３．６部に合成雲母（ソマシフＭＥ－１００、コープケミカル（株）製）６．４部を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。
＜評価＞
〔ＵＶ耐刷性〕
　得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ　ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ　Ｔ－６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ　ｐｅｒ　ｉｎｃｈ、１　ｉｎｃｈ＝２．５４ｃｍ）の条件で露光した。露光画像にはベタ画像、２０μｍドットＦＭスクリーンの５０％網点チャート及び非画像部を含むようにした。
　得られた露光済み平版印刷原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。版胴に対して給水ローラーを５％減速させた上で、Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＵＶインキ（Ｔ＆Ｋ　ＵＶ　ＯＦＳ　Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製））とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を５０，０００枚行った。
　印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。印刷物におけるＦＭスクリーン３％網点の網点面積率をＸ－Ｒｉｔｅ（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）で計測した値が印刷１００枚目の計測値よりも５％低下したときの印刷部数を刷了枚数としてＵＶ耐刷性を評価した。
〔分散安定性〕
　得られたコアシェル粒子について、塗布溶媒に対する分散安定性を評価した。
　まず、塗布溶媒（メチルエチルケトン（ＭＥＫ）／ＭＦＧ＝８５／１５）；９ｇに得られたコアシェル粒子分散液を１ｇそれぞれ加え、４０℃の条件下で３０分間撹拌し評価溶液を調製した。
　その後、評価液を６０℃で１週間静置させたものを２００メッシュのナイロン網でろ過し、静置前の評価液の重さからろ液の重さの差からろ液の回収率（％）を求め、下記の基準に従い分散安定性の評価を行った。ろ液の回収率が高いほど、分散安定性に優れるといえる。
－評価基準－
　Ａ：ろ液の回収率が９０％以上
　Ｂ：ろ液の回収率が７０％以上９０％未満
　Ｃ：ろ液の回収率が７０％未満
〔面状〕
　得られた平版印刷版原版の支持体とは反対側の最外層の表面（以下、「平版印刷版原版の表面」ともいう。）の面状をＳＥＭ（倍率：１，０００倍）で観察し、得られた画像を下記の基準に従って面性の評価を行った。
　平版印刷版原版の表面のデコボコが少ないほど、コアシェル粒子の分散性に優れているといえる。
－評価基準－
　Ａ：平版印刷版原版の表面のデコボコが５個以下であり、かつ、表面が平らに見える。
　Ｂ：平版印刷版原版の表面５μｍ四方の面積に、デコボコが５個を超え２０個以下である。
　Ｃ：平版印刷版原版の表面５μｍ四方の面積に、デコボコが２０個を超える。
　Ｄ：平版印刷版原版の表面５μｍ四方の面積に、デコボコが２０個を超えるだけでなく、更に表面がひび割れた状態になる。
〔湿し水汚れ抑制性〕
　平版印刷版原版（７４５ｍｍ×６４５ｍｍ）を露光及び現像処理することなく、菊半裁判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ－７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する、容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水としてＰＲＥＳＳＭＡＸ　Ｓ－Ｓ２（富士フイルム（株）製））８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてＴ＆Ｋ　ＵＶ　ＯＦＳ　Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（Ｔ＆Ｋ（株）製）を用い、湿し水とインキを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で印刷を５００枚行った。５００枚時点では、画像記録層の未露光部の機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態となっていた。この機上現像～１，０００枚印刷のテストを毎回新しい平版印刷版原版を用いて、１０回繰り返した。なお、１０回目のテストでは、１，０００枚印刷時点で印刷サンプルを一度抜き取り、その後も印刷を続けて細線チャートが再現しなくなるまで印刷を行った。
　上記のテスト１０回終了後に、湿し水循環装置内の湿し水を採取しその色味を目視観察し、下記評価基準に基づいて評価した。
－評価基準－
　　５：テスト前の湿し水と同等の無色透明で極めて良好なレベル
　　４：若干の着色が認められるが良好なレベル
　　３：着色はあるが、実用上許容できるレベル
　　２：着色の程度が高く、実用上許容できないレベル
　　１：着色が著しく、劣悪なレベル
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
　表１における「Ｃ＝Ｃ価」は、エチレン性不飽和基価を表す。また、表１における「分子量」は、数平均分子量Ｍｎである。
　表１に記載の化合物の詳細は下記の通りである。
　Ａ－１、Ａ－２、Ａ－４、Ａ－７、Ａ－１１、及び、Ａ－１３～Ａ－１６：下記に示す樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　なお、Ａ－１におけるａ，ｂの値は、実施例１ではａ＝８０，ｂ＝２０、実施例２ではａ＝９０，ｂ＝１０、実施例３ではａ＝７０，ｂ＝３０であり、比較例１及び２では、ａ＝７０，ｂ＝３０であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　なお、Ａ－１３は、コア部の内部は左に示す樹脂が多く存在し、外側に行くにしたがい、右に示す樹脂Ａが多く存在する粒子である。
＜Ａ－１３の作製＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　３つ口フラスコに蒸留水７７．３部、ロンガリット０．１５４３部、１質量％エチレンジアミン四酢酸水溶液０．５１４４部、０．２質量％硫酸鉄（ＩＩ）７水和物０．６４３部を加え、窒素雰囲気化で撹拌し、６０℃に昇温した。上記化合物（１）２７．４部、上記化合物（２）８．２３部、アデカリアソープ（ＳＲ－１０、アニオン界面活性剤、（株）ＡＤＥＫＡ製）２．０５７部、ｔ－ブチルヒドロペルオキシド７０質量％水溶液を０．２０３部、蒸留水２０．６１部の乳化液を３０分かけて滴下し、その後３０分加熱撹拌した。続いて上記化合物（２）２．０６１部、上記化合物（３）８．２４部、アデカリアソープ（ＳＲ－１０）０．０５２部、ｔ－ブチルヒドロペルオキシド７０質量％水溶液を０．０２５部、蒸留水５．１５部の乳化液を１０分かけて上記分散液に滴下し、その後２時間加熱撹拌し、ポリマー粒子Ａ－１３分散液（３５％）を得た。得られた分散液中のポリマー粒子Ａ－１３のメジアン径は１００ｎｍであった。
　Ｂ－１、Ｂ－３、Ｂ－４、Ｂ－５、Ｂ－８、Ｂ－９、Ｂ－９－２、Ｂ－１０、及び、Ｂ－１２～Ｂ－１７：下記に示す樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　なお、Ｂ－９における＊は、左に示す重合鎖との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
＜Ｂ－９の合成＞
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　３つ口フラスコに、化合物Ａを４１．７部、化合物Ｂを２６．４部、ＭＦＧを１０２．１６部、ジペンタエリスリトールヘキサ（３－メルカプトプロピオネート）を０．７０５部、Ｖ－６０１（アゾ系熱重合開始剤、富士フイルム和光純薬（株）製）を０．１２４部入れ、８０℃で６時間加熱し、中間体Ｃを得た。ＭＦＧ１２６部で希釈したのち、アクリル酸２４．３部とテトラブチルアンモニウムブロミド５．４ｇ部とを入れ、９０℃で１６時間加熱し、中間体Ｄを得た。得られた中間体溶液（３０％）を５０部とジエチルアミン０．８部とを加え８０℃で３０分加熱し、目的のＢ－９の３０％ＭＦＧ溶液を５１部得た。ＧＰＣによる分子量測定の結果、重量平均分子量は７０，０００だった。
　Ｃ－１～Ｃ－３：下記に示す樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
〔電子供与型重合開始剤〕
　Ｒ－１：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－６．０５２ｅＶ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
〔電子受容型重合開始剤〕
　ＩＡ－１：下記構造の化合物、ＬＵＭＯ＝－３．０２ｅＶ
　ＩＡ－２：下記構造の化合物
　ＩＡ－３：下記構造の化合物、ＬＵＭＯ＝－３．０２ｅＶ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
〔赤外線吸収剤〕
　ＩＲ－１：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．２７ｅＶ、ＬＵＭＯ＝－３．６６ｅＶ
　ＩＲ－２：下記構造の化合物
　ＩＲ－３：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．３５ｅＶ、ＬＵＭＯ＝－３．７３ｅＶ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
〔熱可塑性樹脂〕
　熱可塑性樹脂：下記構造の樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
　上記式中、各構成単位の含有量（括弧右下の添え字）は質量比を表し、エチレンオキシ構造の括弧右下の添え字は繰り返し数を表す。
〔重合性化合物〕
　Ｍ－１：トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステル　Ａ－９３００、新中村化学工業（株）製
　Ｍ－２：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＳＲ－３９９、サートマー社製
　Ｍ－３：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、Ａ－ＤＰＨ、新中村化学工業（株）製
　Ｍ－４：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート　ウレタンプレポリマー、ＵＡ－５１０Ｈ、共栄社化学（株）製
　Ｍ－５：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＡＴＭ－４Ｅ、新中村化学工業（株）製
　表１に記載した結果から、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、ＵＶ耐刷性に優れた平版印刷版が得られることがわかる。
　また、表１に記載した結果から、実施例に係る平版印刷版原版は、分散安定性、面状、及び、湿し水汚れ抑制性に優れることがわかる。
　２０１９年１月３１日に出願された日本国特許出願第２０１９－０１６５３９号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
１０　平版印刷版原版、１２　アルミニウム支持体、１６　画像記録層、１４　下塗り層、１８　アルミニウム板、２０　陽極酸化皮膜、２４　大径孔部、２６　小径孔部、５０　主電解槽、５２　ラジアルドラムローラ、５１　交流電源、５３ａ、５３ｂ主極、５５　電解液、５４　電解液供給口、５６　スリット、５７　電解液通路、６０　補助陽極槽、５８　補助陽極、Ｅｘ　電解液排出口、Ｓ　給液、Ｗ　アルミニウム板、１　アルミニウム板、２及び４　ローラ状ブラシ、３　研磨スラリー液、５、６、７及び８　支持ローラ、６１０　陽極酸化処理装置、６１６　アルミニウム板、６１８　電解液、６１２　給電槽、６１４　電解処理槽、６１６　アルミニウム板、６２０　給電電極、６２２　ローラ、６２４　ニップローラ、６２６　電解液、６２８　ローラ、６３０　電解電極、６３４　直流電源、Ａ　深さ、Ｙ　連通位置、ＥＣａ　アルミニウム板のアノード反応の電流、ＥＣｂ　アルミニウム板のカソード反応の電流

Claims (18)

  1. 　支持体、及び、
    　前記支持体上に、画像記録層を有し、
    　前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、及び、コアシェル粒子を含有し、
    　前記コアシェル粒子のコア部に、官能基Ａを有する樹脂Ａを含有し、
    　前記コアシェル粒子のシェル部に、前記官能基Ａと結合又は相互作用可能な官能基Ｂ、及び、重合性基を有する樹脂Ｂを含有する
    　平版印刷版原版。
  2. 　前記コアシェル粒子のエチレン性不飽和基価が、０．０５ｍｍｏｌ／ｇ～５ｍｍｏｌ／ｇである請求項１に記載の平版印刷版原版。
  3. 　前記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を含む請求項１又は請求項２に記載の平版印刷版原版。
  4. 　前記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯと前記赤外線吸収剤のＬＵＭＯとの差が、０．７０ｅＶ以下である請求項３に記載の平版印刷版原版。
  5. 　前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含む請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  6. 　前記赤外線吸収剤のＨＯＭＯと前記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯとの差が、０．７０ｅＶ以下である請求項５に記載の平版印刷版原版。
  7. 　前記画像記録層が、重合性化合物を更に含む請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  8. 　前記画像記録層が、酸発色剤を更に含む請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  9. 　前記官能基Ｂが、前記官能基Ａと共有結合可能な基である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  10. 　前記官能基Ｂが、前記官能基Ａとイオン結合可能な基である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  11. 　前記官能基Ｂが、前記官能基Ａと水素結合可能な基である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  12. 　前記官能基Ｂが、前記官能基Ａと双極子相互作用可能な基である請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  13. 　前記樹脂Ａが、架橋構造を有する樹脂を含む請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  14. 　前記重合性基が、（メタ）アクリロキシ基である請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
  15. 　前記樹脂Ｂが、分散性基を更に有する請求項１～請求項１４のいずれか１項に平版印刷版原版。
  16. 　前記分散性基が、下記式１で表される基を含む請求項１５に記載の平版印刷版原版。
    　　＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ　　式１
    　式１中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
  17. 　請求項１～請求項１６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
    　印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
    　平版印刷版の作製方法。
  18. 　請求項１～請求項１６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    　印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
    　得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
    　平版印刷方法。
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WO (1) WO2020158138A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023032681A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 積層体

Citations (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
JPS5040047B2 (ja) 1971-09-06 1975-12-22
GB1421768A (en) 1972-03-23 1976-01-21 Gec Medical Equipment Ltd Electronic integrators
JPS5137193A (ja) 1974-09-25 1976-03-29 Toyo Boseki
JPS5549729B2 (ja) 1973-02-07 1980-12-13
JPS5617654B2 (ja) 1970-12-28 1981-04-23
JPS5849860B2 (ja) 1973-12-07 1983-11-07 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト コウジユウゴウセイフクシヤザイリヨウ
JPS61166544A (ja) 1985-01-18 1986-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS6239418B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPS6239417B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPH0216765B2 (ja) 1980-09-29 1990-04-18 Hoechst Ag
JPH0232293B2 (ja) 1980-12-22 1990-07-19 Hoechst Ag
JPH02304441A (ja) 1989-05-18 1990-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH055005A (ja) 1991-04-26 1993-01-14 Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JPH0545885A (ja) 1991-08-19 1993-02-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH05195300A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JPH0635174A (ja) 1992-07-16 1994-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版およびその処理方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH08505958A (ja) 1993-01-20 1996-06-25 アグファ−ゲヴェルト ナームロゼ ベンノートチャップ 高感度の光重合性組成物及びそれで像を得るための方法
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JPH10333321A (ja) 1997-06-03 1998-12-18 Mitsubishi Chem Corp 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001133965A (ja) * 1998-11-16 2001-05-18 Mitsubishi Chemicals Corp ポジ型感光性平版印刷版、その製造方法およびポジ画像形成方法
JP2001222101A (ja) 2000-02-09 2001-08-17 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001342222A (ja) 2000-03-30 2001-12-11 Mitsubishi Chemicals Corp 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP2002040638A (ja) 2000-07-25 2002-02-06 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP2002275129A (ja) 2001-03-14 2002-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd ラジカル重合性化合物
JP2002278057A (ja) 2001-01-15 2002-09-27 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料及びシアニン色素
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2002365791A (ja) 2000-12-20 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2003280187A (ja) 2002-03-25 2003-10-02 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2003305965A (ja) * 2002-04-15 2003-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷版用原板
JP2003344997A (ja) 2002-04-29 2003-12-03 Agfa Gevaert Nv 放射線感受性混合物およびそれを用いて製造される記録材料
JP2004294935A (ja) 2003-03-28 2004-10-21 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2005125749A (ja) 2003-09-30 2005-05-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005238816A (ja) 2003-07-22 2005-09-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005250216A (ja) 2004-03-05 2005-09-15 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2006508380A (ja) 2002-11-28 2006-03-09 コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 放射感応性エレメント
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP2006215263A (ja) 2005-02-03 2006-08-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006259137A (ja) 2005-03-16 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2006297907A (ja) 2005-02-28 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版、平版印刷版原版の製造方法および平版印刷方法
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP2007050660A (ja) 2005-08-19 2007-03-01 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2007090850A (ja) 2005-08-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2007293223A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 感光性組成物、平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2008503365A (ja) 2004-06-17 2008-02-07 イーストマン コダック カンパニー 耐溶剤性高分子バインダーを有する画像形成可能要素
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2008256850A (ja) 2007-04-03 2008-10-23 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性組成物
JP2008284817A (ja) 2007-05-18 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2009208458A (ja) 2007-06-21 2009-09-17 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20110287365A1 (en) * 2010-05-19 2011-11-24 Oliver Piestert Lithographic printing plate precursors
JP2012071590A (ja) 2010-08-30 2012-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP2012148555A (ja) 2010-12-28 2012-08-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP2012158022A (ja) 2011-01-31 2012-08-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版
JP2012206495A (ja) 2010-04-30 2012-10-25 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、その製版方法、及び、多価イソシアネート化合物
JP2012529669A (ja) 2009-06-12 2012-11-22 イーストマン コダック カンパニー ネガ型動作用画像形成性要素
WO2018092661A1 (ja) * 2016-11-16 2018-05-24 富士フイルム株式会社 輻射線感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
WO2019013268A1 (ja) * 2017-07-13 2019-01-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JP2019016539A (ja) 2017-07-07 2019-01-31 日本碍子株式会社 セルスタック装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005099667A (ja) * 2003-01-29 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷原版
JP4024695B2 (ja) 2003-03-04 2007-12-19 富士フイルム株式会社 平版印刷原版
US20050153239A1 (en) * 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP2006272782A (ja) 2005-03-29 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版
CN101809500A (zh) * 2007-03-20 2010-08-18 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 立体光刻树脂组合物以及由其制成的三维物品
US8377624B2 (en) * 2009-03-27 2013-02-19 Eastman Kodak Company Negative-working thermal imageable elements
US8221960B2 (en) 2009-06-03 2012-07-17 Eastman Kodak Company On-press development of imaged elements
WO2017150039A1 (ja) * 2016-02-29 2017-09-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
JP6408191B2 (ja) * 2016-03-30 2018-10-17 富士フイルム株式会社 機上現像用平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP6934939B2 (ja) * 2017-05-31 2021-09-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法

Patent Citations (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
JPS5617654B2 (ja) 1970-12-28 1981-04-23
JPS5040047B2 (ja) 1971-09-06 1975-12-22
GB1421768A (en) 1972-03-23 1976-01-21 Gec Medical Equipment Ltd Electronic integrators
JPS5549729B2 (ja) 1973-02-07 1980-12-13
JPS5849860B2 (ja) 1973-12-07 1983-11-07 ヘキスト アクチェンゲゼルシャフト コウジユウゴウセイフクシヤザイリヨウ
JPS5137193A (ja) 1974-09-25 1976-03-29 Toyo Boseki
JPS6239418B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPS6239417B2 (ja) 1978-05-20 1987-08-22 Hoechst Ag
JPH0216765B2 (ja) 1980-09-29 1990-04-18 Hoechst Ag
JPH0232293B2 (ja) 1980-12-22 1990-07-19 Hoechst Ag
JPS61166544A (ja) 1985-01-18 1986-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPH02304441A (ja) 1989-05-18 1990-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH055005A (ja) 1991-04-26 1993-01-14 Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JPH0545885A (ja) 1991-08-19 1993-02-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH05195300A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JPH0635174A (ja) 1992-07-16 1994-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版およびその処理方法
JPH08505958A (ja) 1993-01-20 1996-06-25 アグファ−ゲヴェルト ナームロゼ ベンノートチャップ 高感度の光重合性組成物及びそれで像を得るための方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JPH10333321A (ja) 1997-06-03 1998-12-18 Mitsubishi Chem Corp 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
JP2001133965A (ja) * 1998-11-16 2001-05-18 Mitsubishi Chemicals Corp ポジ型感光性平版印刷版、その製造方法およびポジ画像形成方法
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001222101A (ja) 2000-02-09 2001-08-17 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2001342222A (ja) 2000-03-30 2001-12-11 Mitsubishi Chemicals Corp 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP2002040638A (ja) 2000-07-25 2002-02-06 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP2002365791A (ja) 2000-12-20 2002-12-18 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2002278057A (ja) 2001-01-15 2002-09-27 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料及びシアニン色素
JP2002275129A (ja) 2001-03-14 2002-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd ラジカル重合性化合物
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2003280187A (ja) 2002-03-25 2003-10-02 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2003305965A (ja) * 2002-04-15 2003-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷版用原板
JP2003344997A (ja) 2002-04-29 2003-12-03 Agfa Gevaert Nv 放射線感受性混合物およびそれを用いて製造される記録材料
JP2006508380A (ja) 2002-11-28 2006-03-09 コダック ポリクロウム グラフィクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 放射感応性エレメント
JP2004294935A (ja) 2003-03-28 2004-10-21 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2005238816A (ja) 2003-07-22 2005-09-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005125749A (ja) 2003-09-30 2005-05-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005250216A (ja) 2004-03-05 2005-09-15 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2008503365A (ja) 2004-06-17 2008-02-07 イーストマン コダック カンパニー 耐溶剤性高分子バインダーを有する画像形成可能要素
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP2006215263A (ja) 2005-02-03 2006-08-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2006297907A (ja) 2005-02-28 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版、平版印刷版原版の製造方法および平版印刷方法
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006259137A (ja) 2005-03-16 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP2007050660A (ja) 2005-08-19 2007-03-01 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2007090850A (ja) 2005-08-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2007293223A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 感光性組成物、平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2008256850A (ja) 2007-04-03 2008-10-23 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性組成物
JP2008284817A (ja) 2007-05-18 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2009208458A (ja) 2007-06-21 2009-09-17 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2012529669A (ja) 2009-06-12 2012-11-22 イーストマン コダック カンパニー ネガ型動作用画像形成性要素
JP2012206495A (ja) 2010-04-30 2012-10-25 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、その製版方法、及び、多価イソシアネート化合物
US20110287365A1 (en) * 2010-05-19 2011-11-24 Oliver Piestert Lithographic printing plate precursors
JP2012071590A (ja) 2010-08-30 2012-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP2012148555A (ja) 2010-12-28 2012-08-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP2012158022A (ja) 2011-01-31 2012-08-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版
WO2018092661A1 (ja) * 2016-11-16 2018-05-24 富士フイルム株式会社 輻射線感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
JP2019016539A (ja) 2017-07-07 2019-01-31 日本碍子株式会社 セルスタック装置
WO2019013268A1 (ja) * 2017-07-13 2019-01-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023032681A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 積層体

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