WO2017104798A1 - 炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法、オレフィンの酸化反応生成物の製造方法 - Google Patents

炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法、オレフィンの酸化反応生成物の製造方法 Download PDF

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清人 高森
剛克 柴田
敬 大久保
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an oxidation reaction product of a hydrocarbon or a derivative thereof, and a method for producing an oxidation reaction product of an olefin.
  • Alcohols, carboxylic acids, and the like are industrially produced by various methods because of their high industrial utility value.
  • a method for producing methanol a method of reacting carbon monoxide obtained by partial combustion of hydrocarbons with hydrogen gas at a high temperature and a high pressure is generally used.
  • Carbon monoxide and hydrogen gas as raw materials can be produced by, for example, partial combustion of methane (natural gas), a steam reforming method, or the like.
  • methane natural gas
  • steam reforming method or the like.
  • Non-patent Document 1 a production method of producing ethanol by oxidizing ethane with dinitrogen monoxide in the presence of an iron catalyst.
  • Non-patent Document 2 a production method of producing methanol by oxidizing methane with hydrogen peroxide in an acetonitrile solvent in the presence of an iron catalyst.
  • Alcohols, carboxylic acids, and the like are industrially produced by various methods because of their high industrial utility value.
  • a method for producing methanol a method of reacting carbon monoxide obtained by partial combustion of hydrocarbons with hydrogen gas at a high temperature and a high pressure is generally used.
  • Carbon monoxide and hydrogen gas as raw materials can be produced by, for example, partial combustion of methane (natural gas), a steam reforming method, or the like.
  • Non-Patent Documents 3 and 4 a method for producing an oxidation reaction product such as methanol by oxidizing methane contained in natural gas. Oxidation from methane to methanol is carried out by methane monooxygenase contained in methane-utilizing bacteria in nature.
  • a currently known production method is a method for producing methanol by oxidizing methane with hydrogen peroxide in an acetonitrile solvent in the presence of an iron catalyst. (Non-Patent Document 2) and the like.
  • Alcohols, carboxylic acids, and the like are industrially produced by various methods because of their high industrial utility value. For example, production of alcohol, carboxylic acid and the like by a biochemical method such as fermentation is generally performed. In particular, ethanol and acetic acid, which are derivatives of ethane, are generally produced by a biochemical method such as fermentation.
  • Cyclohexanone and cyclohexanone which are oxidation products of cyclohexane, are produced industrially in various ways.
  • KA-oil cyclohexanone
  • N-hydroxyphthalimide is synthesized at 100 degrees under manganese (II) and cobalt (II) catalysts (Non-patent Document 5).
  • a method is also known in which cyclohexane is air oxidized by photoreaction.
  • cyclohexane is air oxidized by photoreaction.
  • 9-mesityl-10-methylacridinium ion is used as a photocatalyst and light irradiation is performed in the presence of hydrochloric acid, cyclohexanone and cyclohexanone are obtained (Non-patent Document 6).
  • Oxidation of olefins to 1,2-diols is an important industrial process for producing precursors of various chemicals such as resins, pharmaceuticals, dyes, pesticides and perfume compositions in fine chemicals or specialty chemicals .
  • Several methods for oxidizing olefins to the corresponding epoxides and alcohols have been previously reported using inorganic metal oxo complexes and heavy atom metal oxides.
  • High valence Os VIII O 4 is an effective and selective reagent for oxidation to convert olefins to 1,2-diols (Non-Patent Documents 7 to 14).
  • the toxicity and sublimation of osmium compounds and their waste cause serious problems.
  • radicals are highly reactive chemical species that are widely used.
  • sodium chlorite NaClO 2
  • oxidizing reagents have been used as a precursor of the radical chlorine dioxide (ClO 2 ⁇ ) (Non-Patent Documents 15-18).
  • the method for producing an oxidation reaction product using hydrocarbon as a raw material has the following problems.
  • the reaction efficiency is poor because the collision frequency of molecules in the reaction system is low.
  • solid-phase and gas-phase reactions using an oxidant or a catalyst have been mainly studied, but there are no reports of efficient hydrocarbon adsorption properties due to low adsorption characteristics to hydrocarbon solids. For this reason, in the manufacturing method by a gas phase reaction, intense reaction conditions such as high temperature and high pressure are necessary, and there are problems such as manufacturing efficiency, cost, and safety management.
  • an object of the first invention of the present invention is to provide a method capable of efficiently producing an oxidation reaction product of a hydrocarbon or a derivative thereof using a hydrocarbon or a derivative thereof as a raw material.
  • Chlorine radicals are known as means for cleaving the carbon-hydrogen bond of methane without burning. Chlorine radicals are usually obtained by irradiating chlorine gas with light. However, since this method generates two chlorine radicals per chlorine molecule, even if one chlorine radical cleaves the carbon-hydrogen bond of methane to create a methyl radical, the addition reaction with the other chlorine radical occurs. Occurring to produce chloromethane. That is, in this method, only methane chloride having a low utility value can be obtained, and an oxidation reaction product having a high utility value such as methanol and formic acid cannot be obtained.
  • Non-Patent Documents 3 and 4 methane monooxygenase has been isolated and purified, and its properties have been investigated. However, many unclear points still remain, and even an oxidation reaction in a test tube is extremely difficult, and is far from practical use.
  • the method for producing an oxidation reaction product using gaseous hydrocarbon as a raw material has the following problems.
  • the reaction efficiency is poor because the collision frequency of molecules in the reaction system is low.
  • solid-phase and gas-phase reactions using an oxidant or a catalyst have been mainly studied, but there are no reports of efficient hydrocarbon adsorption properties due to low adsorption characteristics to hydrocarbon solids. For this reason, in the manufacturing method by a gas phase reaction, intense reaction conditions such as high temperature and high pressure are necessary, and there are problems such as manufacturing efficiency, cost, and safety management.
  • Non-Patent Document 3 In production methods using liquid phase reactions (for example, Non-Patent Document 3 etc.), it is difficult to control the reaction of radicals (intermediates) generated from hydrocarbons (raw materials) and side reactions are likely to occur. There is a problem. Because of these problems, none of the methods for producing an oxidation reaction product using hydrocarbon as a raw material is capable of producing the oxidation reaction product efficiently and has not yet been put to practical use in industry. is there.
  • the second invention in the present invention aims to provide a method capable of efficiently producing an oxidation reaction product of methane using methane as a raw material.
  • the method for producing an oxidation reaction product using hydrocarbon as a raw material has the following problems.
  • the reaction efficiency is poor because the collision frequency of molecules in the reaction system is low.
  • solid-phase and gas-phase reactions using an oxidant or a catalyst have been mainly studied, but there are no reports of efficient hydrocarbon adsorption properties due to low adsorption characteristics to hydrocarbon solids. For this reason, in the manufacturing method by a gas phase reaction, intense reaction conditions such as high temperature and high pressure are necessary, and there are problems such as manufacturing efficiency, cost, and safety management.
  • the third invention in the present invention aims to provide a method capable of efficiently producing an oxidation reaction product of ethane using ethane as a raw material.
  • a fourth invention in the present invention aims to provide a method capable of efficiently producing an oxidation reaction product of cyclohexane using cyclohexane as a raw material.
  • a fifth aspect of the present invention aims to provide a method for producing an olefin oxidation reaction product that can be reacted under mild conditions.
  • a method for producing an oxidation reaction product of the hydrocarbon or derivative thereof according to the first invention in the present invention may include a reaction step of irradiating the reaction system with light in the presence of the raw material and chlorine dioxide radical, and the raw material is a hydrocarbon or a derivative thereof.
  • the reaction system is a reaction system including an organic phase, the organic phase includes the raw material and the chlorine dioxide radical, and in the reaction step, the raw material is oxidized by the light irradiation, and the raw material To produce an oxidation reaction product of
  • a method for producing an oxidation reaction product of methane according to the second invention in the present invention includes a reaction step of irradiating the reaction system with light in the presence of methane and chlorine dioxide radicals, and the reaction system is a reaction system including an organic phase, The organic phase contains the methane and the chlorine dioxide radical, and in the reaction step, the light irradiation oxidizes the methane to generate an oxidation reaction product of the methane.
  • a method for producing an oxidation reaction product of ethane according to the third invention in the present invention includes a reaction step of irradiating the reaction system with light in the presence of ethane and chlorine dioxide radicals, and the reaction system is a reaction system including an organic phase, The organic phase contains the ethane and the chlorine dioxide radical, and in the reaction step, the ethane is oxidized by the light irradiation to generate an oxidation reaction product of the ethane.
  • Or “fourth invention”) includes a reaction step of irradiating the reaction system with light in the presence of cyclohexane and chlorine dioxide radical, and the reaction system is a reaction system including an organic phase, The organic phase includes the cyclohexane and the chlorine dioxide radical, and in the reaction step, the cyclohexane is oxidized by the light irradiation to generate an oxidation reaction product of the cyclohexane.
  • a method for producing an oxidation reaction product of an olefin according to the fifth invention in the present invention includes a radical generating step of generating a radical by acting at least one of a Lewis acid and a Bronsted acid and a radical generating source; and the radical is an oxidizing agent. And an oxidation reaction step of oxidizing olefin.
  • an oxidation reaction product of the hydrocarbon or its derivative can be efficiently produced using the hydrocarbon or its derivative as a raw material.
  • an ethane oxidation reaction product can be efficiently produced using ethane as a raw material.
  • the cyclohexane oxidation reaction product can be efficiently produced using cyclohexane as a raw material.
  • the reaction in the method for producing an olefin oxidation reaction product according to the fifth aspect of the present invention, the reaction can be carried out under mild conditions. Therefore, the reaction can be easily controlled at low cost.
  • FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of a reaction step in the production method of the first invention.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing an example of a reaction step in the production method of the second invention.
  • FIG. 4 is a diagram schematically showing an example of a reaction step in the production method of the third invention.
  • FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of a reaction step in the production method of the fourth invention.
  • FIG. 6 shows UV + visible absorption spectra of NaClO 2 (5.0 mM) collected at 0, 4 and 16 hours after mixing with Sc (OTf) 3 (10 mM) in a 298K aqueous solution.
  • Fig. 7 (a) shows the formation of Sc 3+ (ClO 2 ⁇ ) by the reaction of Sc (OTf) 3 (10 mM) and NaClO 2 (5.0 mM) in a 298 K aqueous solution (0.20 M acetate buffer pH 2.9). This is a time profile of UV-Vis absorption at 358 nm.
  • (b) is a quadratic plot.
  • Figure 8 shows the UV at 358 nm for the consumption of Sc 3+ (ClO 2 ⁇ ) in the presence of styrene (30-90 mM) in a 298 K MeCN / H 2 O (1: 1 v / v) solution. -Vis absorption time profile.
  • (b) is a plot of pseudo first order rate constant versus styrene concentration.
  • FIG. 9 is an EPR spectrum of MeCN solution measured at 298K.
  • (a) is a spectrum after refluxing for 1 hour at 353 K of a MeCN solution containing NaClO 2 (0.10 mM).
  • FIG. 10 shows the bond length ( ⁇ ) of the DFT optimized structure by the theoretical calculation at the CAM-B3LYP / 6-311 + G (d, p) level.
  • (a) is ClO 2 ⁇
  • (b) is H + ClO 2 ⁇
  • (c) is Sc 3+ ClO 2 ⁇ .
  • FIG. 11 shows a spectrum obtained by tracing the reaction of styrene (2.0 mM) with NaClO 2 (20 mM) in an aqueous MeCN solution (MeCN / H 2 O 1: 1 v / v) at room temperature (25 ° C.) by 1 HNMR.
  • FIG. 12 shows 1 HNMR spectra after mixing for 0 hours and 25 hours at 60 ° C. (333 K) after mixing of CD 3 CN / D 2 O (4: 1 v / v) containing styrene (66 mM) and NaClO 2 (200 mM). Indicates. * Indicates a peak derived from styrene oxide.
  • FIG. 13 shows a mixture of CD 3 CN / D 2 O (1: 1 v / v) containing styrene (2.0 mM), NaClO 2 (20 mM), and Sc (OTf) 3 (30 mM), and then at 0 ° C. at 25 ° C.
  • 1 H NMR spectra after 6 hours and after 17 hours are shown.
  • the * and ⁇ marks are peaks derived from 1-phenylethane-1,2-diol and 2-chloro-1-phenylethanol, respectively.
  • FIG. 14 shows 0.5 hours after mixing of CD 3 CN / D 2 O (1: 1 v / v) with styrene (2.0 mM), NaClO 2 (20 mM) and CF 3 COOD (30 mM) and 17
  • the 1 HNMR spectrum after time is shown.
  • the * and ⁇ marks are peaks derived from 1-phenylethane-1,2-diol and 2-chloro-1-phenylethanol, respectively.
  • FIG. 15 is a diagram showing the spin distribution of (a) H + ClO 2 ⁇ and (b) Sc 3+ ClO 2 ⁇ by theoretical calculation of CAM-B3LYP / 6-311 + G (d, p) level. is there.
  • FIG. 15 is a diagram showing the spin distribution of (a) H + ClO 2 ⁇ and (b) Sc 3+ ClO 2 ⁇ by theoretical calculation of CAM-B3LYP / 6-311 + G (d, p) level. is there.
  • FIG. 16 is a UV + visible absorption spectrum of NaClO 2 (20 mM) collected after mixing with Sc (OTf) 3 (40 mM) in a 298K aqueous solution.
  • FIG. 17A is an ultraviolet-visible absorption spectrum obtained by following the oxidation reaction of triphenylphosphine using NaClO 2 and scandium triflate.
  • FIG. 17B is a graph showing the relationship between the initial concentration of Ph 3 P and the concentration of generated Ph 3 P ⁇ O in the reaction of FIG. FIG.
  • FIG. 19 shows a mixture of CD 3 CN / D 2 O (1: 1 v / v) containing styrene (2.0 mM), NaClO 2 (6.0 mM) and Sc (OTf) 3 (5.6 mM), and then in an Ar atmosphere. Shows 1 HNMR spectra after 0 hour and 45 hours at 25 ° C.
  • the ultraviolet-visible absorption spectrum in FIG. 19 (a) shows how triphenylphosphine is converted to triphenylphosphine oxide over time.
  • the graph of FIG. 19 (b) represents the change with time of the triphenylphosphine (Ph 3 P) concentration in the presence and absence of Sc (OTf) 3 (Sc 3+ ).
  • the raw material may be methane.
  • a second invention according to the present invention is a case where the raw material is methane in the first invention according to the present invention.
  • the raw material may be ethane.
  • a third invention according to the present invention is a case where the raw material is ethane in the first invention according to the present invention.
  • the raw material may be cyclohexane.
  • 4th invention by this invention is a case where the said raw material is a cyclohexane in 1st invention by this invention.
  • At least the organic phase may be irradiated with light in the reaction step.
  • the production methods of the first to fourth inventions according to the present invention may further include a chlorine dioxide radical generating step for generating the chlorine dioxide radical.
  • the reaction system may be a two-phase reaction system further including an aqueous phase.
  • the production method of the present invention may further include a chlorine dioxide radical generation step for generating the chlorine dioxide radical, and in the chlorine dioxide radical generation step, the aqueous phase contains the chlorine dioxide radical.
  • a generation source may be included, and the chlorine dioxide radical may be generated from the generation source of the chlorine dioxide radical.
  • the chlorine dioxide radical generating step for example, the chlorine dioxide radical generation source is chlorite ion (ClO 2 ⁇ ), and at least one of Lewis acid and Bronsted acid is allowed to act on the chlorite ion.
  • the chlorine dioxide radical may be generated.
  • the production methods of the first to fourth inventions according to the present invention further include a recovery step of the oxidation reaction product after the reaction step, and the recovery step includes the oxidation reaction product from the reaction system. It may be a step of recovering the aqueous phase.
  • the production methods of the first to fourth inventions according to the present invention may be performed in an atmosphere having a temperature of minus 100 to 200 ° C. and a pressure of 0.1 to 10 MPa, for example.
  • the production method of the present invention may be performed, for example, in an atmosphere having a temperature of 0 to 40 ° C. and a pressure of 0.1 to 0.5 MPa.
  • light irradiation may be performed in a state where oxygen (O 2 ) is dissolved in the aqueous phase.
  • the organic phase includes, for example, an organic solvent.
  • the organic solvent may be, for example, a hydrocarbon solvent, a halogenated solvent, or a fluorous solvent.
  • the cyclohexane is a raw material of the oxidation reaction product.
  • the organic solvent is a raw material of the oxidation reaction product.
  • the hydrocarbon in the raw material may be a saturated hydrocarbon.
  • the saturated hydrocarbon may be, for example, methane, ethane, or cyclohexane.
  • the hydrocarbon in the raw material may be a non-aromatic unsaturated hydrocarbon.
  • the hydrocarbon in the raw material may be an aromatic hydrocarbon.
  • the aromatic hydrocarbon may be, for example, benzene.
  • the hydrocarbon in the raw material is a saturated hydrocarbon or a non-aromatic unsaturated hydrocarbon
  • the oxidation reaction product is an alcohol, carboxylic acid, aldehyde , A ketone, a percarboxylic acid, and at least one selected from the group consisting of hydroperoxides.
  • the oxidation reaction product is methanol
  • It may contain at least one of formic acid, formaldehyde, and methyl hydroperoxide.
  • the oxidation reaction product is ethanol
  • It may contain at least one of acetic acid, acetaldehyde, and ethyl hydroperoxide.
  • the hydrocarbon in the raw material is cyclohexane (that is, the production method of the fourth invention according to the present invention)
  • the oxidation reaction product is cyclohexanol.
  • Cyclohexanone, cyclohexane hydroperoxide, and ring-opening oxide for example, adipic acid
  • the oxidation reaction product may contain at least one of phenol and quinone.
  • Phenol means hydroxybenzene and general aromatic hydroxy compounds in which the hydrogen atom of an aromatic (for example, aromatic hydrocarbon or heteroaromatic) nucleus is substituted with a hydroxy group (hydroxyl group) (hydroxybenzene In the present invention, the latter is used unless otherwise specified.
  • Quinone means p-benzoquinone and a structure in which two hydrogen atoms of an aromatic ring (eg, benzene ring) in an aromatic (eg, aromatic hydrocarbon or heteroaromatic) are substituted with two oxygen atoms.
  • aromatic ring eg, benzene ring
  • aromatic hydrocarbon or heteroaromatic aromatic hydrocarbon or heteroaromatic
  • the oxidation reaction product is at least hydroxybenzene, p-benzoquinone, Often-benzoquinone, hydroquinone, and catechol.
  • the hydrocarbon in the raw material is benzene
  • the oxidation reaction product is at least hydroxybenzene, p-benzoquinone, Often-benzoquinone, hydroquinone, and catechol.
  • One may be included.
  • the manufacturing methods of the first to fourth inventions according to the present invention can be performed as follows, for example.
  • a hydrocarbon or derivative thereof as a raw material (substrate) is prepared.
  • the raw material may be a hydrocarbon itself or a derivative thereof.
  • the hydrocarbon is not particularly limited, and may be, for example, non-aromatic or aromatic, saturated or unsaturated. More specifically, the hydrocarbon is, for example, a linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon (for example, a linear or branched alkane, a linear or branched alkene, Linear or branched alkyne, etc.). The hydrocarbon may be, for example, a saturated or unsaturated hydrocarbon (for example, cycloalkane, cycloalkene, etc.) containing a non-aromatic cyclic structure. The hydrocarbon may be an aromatic hydrocarbon.
  • the hydrocarbon may or may not have one or more aromatic or non-aromatic rings in its structure, and may be linear or branched saturated or unsaturated.
  • One or more hydrocarbon groups of hydrocarbons may be included or not included.
  • Specific examples of the hydrocarbon include, for example, methane, ethane, propane, n-butane, 2-methylpropane, n-pentane, n-hexane, ethylene, propylene, 1,3-butadiene, acetylene, cyclopentane, and cyclohexane.
  • the “derivative” of hydrocarbon is an organic compound containing a hetero element (an element other than carbon and hydrogen).
  • a hetero element an element other than carbon and hydrogen.
  • oxygen (O), nitrogen (N), sulfur (S), a halogen, etc. are mentioned.
  • the halogen include fluorine (F), chlorine (Cl), bromine (Br), iodine (I), and the like.
  • the derivative may be, for example, an organic compound having a structure in which a hydrocarbon group and an arbitrary substituent or atomic group are bonded.
  • it may be a compound having a structure in which a plurality of hydrocarbon groups are bonded by an arbitrary atomic group, and the hydrocarbon group may be substituted by any one or more substituents. , It may not be substituted. Then, an oxidation reaction product of the hydrocarbon derivative may be produced by oxidizing the hydrocarbon group portion by an oxidation reaction in the reaction step.
  • the hydrocarbon group is not particularly limited, and examples thereof include a monovalent or divalent or higher group derived from the hydrocarbon. In the hydrocarbon group, for example, one or more of the carbon atoms may be replaced with a hetero atom.
  • a pyridyl group may be formed by replacing one carbon atom (and a hydrogen atom bonded thereto) of a phenyl group with a nitrogen atom.
  • the substituent or atomic group is not particularly limited, and for example, a hydroxy group, a halogen group (fluoro group, chloro group, bromo group, iodo group, etc.), an alkoxy group, an aryloxy group (eg, phenoxy group, etc.) , A carboxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl group), a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group (for example, phenylthio group), an amino group with or without a substituent (for example, an amino group, Alkyl group, dialkylamino group, etc.), ether bond (—O—), ester bond (—CO—O—), thi
  • chain compounds for example, alkanes, unsaturated aliphatic hydrocarbons, etc.
  • chain substituents derived from chain compounds for example, carbons such as alkyl groups, unsaturated aliphatic hydrocarbon groups, etc.
  • the hydrogen group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited. For example, 1 to 40, 1 to 32, 1 to 24, 1 to 18, 1 to 12, 1 to 6, or 1 to 2 (two or more in the case of an unsaturated hydrocarbon group) may be used.
  • a cyclic compound for example, a cyclic saturated hydrocarbon, a non-aromatic cyclic unsaturated hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon, a heteroaromatic compound, etc.
  • a cyclic group derived from a cyclic compound for example, The number of ring members (number of atoms constituting the ring) of the cyclic saturated hydrocarbon group, non-aromatic cyclic unsaturated hydrocarbon group, aryl group, heteroaryl group, etc.) is not particularly limited. It may be 5 to 24, 6 to 18, 6 to 12, or 6 to 10.
  • any isomer may be used.
  • naphthyl group it may be a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group.
  • the compound for example, the electron donor / acceptor linking molecule
  • the compound is an isomer such as a tautomer or a stereoisomer (eg, a geometric isomer, a conformer and an optical isomer). If present, any isomer can be used in the present invention unless otherwise specified.
  • the salt when a compound (for example, the electron donor / acceptor linking molecule or the like) can form a salt, the salt can also be used in the present invention unless otherwise specified.
  • the salt may be an acid addition salt or a base addition salt.
  • the acid forming the acid addition salt may be an inorganic acid or an organic acid
  • the base forming the base addition salt may be an inorganic base or an organic base.
  • the inorganic acid is not particularly limited.
  • sulfuric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, hypofluorite, hypochlorous acid, hypobromite Hypoarousous acid, fluorinated acid, chlorous acid, bromic acid, iodic acid, fluoric acid, chloric acid, bromic acid, iodic acid, perfluoric acid, perchloric acid, perbromic acid, periodic acid, etc.
  • the organic acid is not particularly limited, and examples thereof include p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, oxalic acid, p-bromobenzenesulfonic acid, carbonic acid, succinic acid, citric acid, benzoic acid, and acetic acid.
  • the inorganic base is not particularly limited, and examples thereof include ammonium hydroxide, alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, carbonates and hydrogen carbonates, and more specifically, for example, Examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, calcium hydroxide and calcium carbonate.
  • the organic base is not particularly limited, and examples thereof include ethanolamine, triethylamine, and tris (hydroxymethyl) aminomethane.
  • the method for producing these salts is not particularly limited, and for example, the salts can be produced by a method such as appropriately adding the above acid or base to the compound by a known method.
  • the raw material (substrate) substrate is methane in the second invention according to the present invention, ethane in the third invention, and cyclohexane in the fourth invention.
  • reaction system is prepared.
  • the reaction system includes an organic phase.
  • the reaction system may be, for example, a one-phase reaction system including only an organic phase or a two-phase reaction system including an organic phase and an aqueous phase.
  • the organic phase includes the raw material (hydrocarbon or derivative thereof) as described above.
  • the organic phase is, for example, an organic phase in which the raw material is dissolved in an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited.
  • the organic solvent is preferably a solvent that can form the two-phase system.
  • the organic solvent may be used alone or in combination.
  • the organic solvent include a hydrocarbon solvent, a halogenated solvent, a fluorous solvent, and the like as described above.
  • the “fluorous solvent” is one type of halogenated solvent, for example, a solvent in which all or most of the hydrogen atoms of the hydrocarbon are substituted with fluorine atoms.
  • the fluorous solvent may be, for example, a solvent in which 50% or more, 60% or more, 70% or more, 80% or more, or 90% or more of the number of hydrogen atoms of the hydrocarbon is substituted with fluorine atoms.
  • the hydrocarbon solvent is not particularly limited, and examples thereof include n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene.
  • the hydrocarbon solvent may also serve as the hydrocarbon as a raw material.
  • the halogenated solvent is not particularly limited, and examples thereof include methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, and a fluorous solvent described later.
  • fluorous solvent examples include, for example, solvents represented by the following chemical formulas (F1) to (F6), and among them, for example, CF 3 (CF 2 ) 4 CF 3 is preferable.
  • the use of a fluorous solvent has an advantage that side reactions can be suppressed or prevented, for example, because the reactivity of the solvent itself is low.
  • the side reaction include a solvent oxidation reaction, a solvent hydrogen abstraction reaction or chlorination reaction with chlorine radicals, and a reaction between a radical derived from the raw material (substrate) and a solvent (for example, when the raw material is methane). And the like).
  • the reaction system (fluorus phase) and the product recovery system (aqueous phase) can be separated, and thus has a function of suppressing further oxidation reaction of the product.
  • the boiling point of the organic solvent is not particularly limited and can be selected as appropriate.
  • the reaction step when the temperature needs to be high, it is preferable to select a high boiling point solvent.
  • the production method of the present invention can be performed without heating (for example, at normal temperature and pressure), as will be described later. In such a case, it is not necessary to be a high boiling point solvent, but rather, a solvent having a low boiling point is preferable from the viewpoint of ease of handling.
  • the “solvent” dissolves the raw material (the hydrocarbon or a derivative thereof), Lewis acid, Bronsted acid, radical generation source, and the like. However, it does not have to be dissolved.
  • the production method of the present invention may be performed in a state where the raw material, Lewis acid, Bronsted acid, radical generation source, and the like are dispersed or precipitated in the solvent.
  • the concentration of the hydrocarbon or derivative thereof as a raw material (substrate) in the organic phase is not particularly limited, and may be, for example, 0.0001 mol / L or more, or 60 mol / L or less. .
  • the organic phase may or may not contain other components than the raw material (hydrocarbon or derivative thereof) and the organic solvent.
  • the other component is not particularly limited, for example, Bronsted acids, Lewis acids, and oxygen (O 2), and the like.
  • the organic phase contains the chlorine dioxide radical as described above.
  • the chlorine dioxide radical is separately generated other than the organic phase constituting the reaction system, and the generated radical is converted into the organic phase. You may extract by.
  • the extracted organic phase containing the extracted radical dioxide can be used as the reaction system for the reaction step.
  • the generation of the radical dioxide can be performed, for example, in a separately prepared aqueous phase as described later (chlorine dioxide radical generation step).
  • the reaction system is a two-phase system including the organic phase and the aqueous phase
  • the chlorine dioxide radical is generated in the aqueous phase of the reaction system
  • the generated chlorine dioxide radical is The organic phase may be extracted from the aqueous phase.
  • the two-phase reaction system containing the said aqueous phase and the organic phase containing the said chlorine dioxide radical can be used for the said reaction process.
  • the reaction system may be a two-phase reaction system including an aqueous phase in addition to the organic phase.
  • the reaction system is a one-phase system including only the organic phase, as described above, the aqueous phase can be separately used for generating the chlorine dioxide radical.
  • the aqueous phase may contain a source of chlorine dioxide radicals, for example.
  • Examples of the generation source of the chlorine dioxide radical include sodium chlorite (NaClO 2 ) and the like as described later.
  • the aqueous phase may further contain at least one of a Lewis acid and a Bronsted acid, for example.
  • the aqueous phase contains, for example, chlorite ions (ClO 2 ⁇ ) and a brainsted acid.
  • the aqueous phase is, for example, an aqueous phase in which the sodium chlorite (NaClO 2 ) and brainsted acid (eg hydrochloric acid) are dissolved in water.
  • light irradiation (reaction process) described later may be started in a state where the sodium chlorite and the brainsted acid are dissolved in the aqueous phase.
  • the chlorine dioxide radical may be generated by bringing the organic phase into contact with the aqueous phase and irradiating the aqueous phase with light in a state where the generation source of the chlorine dioxide radical is contained in the aqueous phase. . And you may perform the said reaction process by continuing light irradiation as it is.
  • the aqueous phase can be produced, for example, by mixing the chlorine dioxide radical source with water.
  • other components other than the chlorine dioxide radical source and water may or may not be mixed as appropriate.
  • the other component is not particularly limited, for example, the Lewis acid, the Bronsted acids, and the oxygen (O 2) can be mentioned.
  • the generation source of the chlorine dioxide radical is not particularly limited, for example, chlorous acid (HClO 2 ) or a salt thereof. Although it does not specifically limit as a salt of chlorous acid, For example, a metal salt may be sufficient.
  • the metal salt may be, for example, an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, a rare earth salt, and more specifically, for example, sodium chlorite (NaClO 2 ), lithium chlorite (LiClO 2 ), Examples include potassium chlorate (KClO 2 ), magnesium chlorite (Mg (ClO 2 ) 2 ), and calcium chlorite (Ca (ClO 2 ) 2 ). These chlorous acid and salts thereof may be used alone or in combination. Among these, sodium chlorite (NaClO 2 ) is preferable from the viewpoints of cost, ease of handling, and the like.
  • the concentration of chlorous acid or a salt thereof is not particularly limited, but may be, for example, 0.0001 mol / L or more in terms of chlorite ion (ClO 2 ⁇ ) concentration. 1 mol / L or less may be sufficient.
  • the number of moles of the chlorite ion (ClO 2 ⁇ ) may be, for example, 1 / 100,000 times or more, or 1000 times or less of the number of moles of the raw material (hydrocarbon or derivative thereof). good.
  • Lewis acid and the Bronsted acid may be used alone or in combination. Further, only one of Lewis acid and Bronsted acid may be used or both may be used together, and one substance may also serve as Lewis acid and Bronsted acid.
  • Lewis acid refers to, for example, a substance that acts as a Lewis acid for the chlorine dioxide radical generating source.
  • the concentration of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid in the aqueous phase is not particularly limited, and is appropriately set according to, for example, the type of raw material (substrate) and target product (oxidation reaction product). For example, it may be 0.0001 mol / L or more, or 1 mol / L or less.
  • the Lewis acid may be an organic substance or an inorganic substance, for example.
  • the organic substance may include ammonium ions and organic acids (for example, carboxylic acids).
  • the inorganic substance may contain one or both of metal ions and non-metal ions.
  • the metal ion may contain one or both of a typical metal ion and a transition metal ion.
  • the inorganic substance includes, for example, alkaline earth metal ions (for example, Ca 2+ ), rare earth ions, Mg 2+ , Sc 3+ , Li + , Fe 2+ , Fe 3+ , Al 3+ , silicate ions, and borate ions. It may be at least one selected from the group.
  • alkaline earth metal ions examples include calcium, strontium, barium, or radium ions. More specifically, examples include Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ , and Ra 2+ .
  • “Rare earth” is a general term for 17 elements in total: 2 elements of scandium 21 Sc and yttrium 39 Y and 15 elements (lanthanoid) from lanthanum 57 La to lutetium 71 Lu.
  • rare earth ions include trivalent cations for each of the 17 elements.
  • Examples of the counter ion of the Lewis acid include trifluoromethanesulfonate ion (also referred to as CF 3 SO 3 ⁇ or OTf ⁇ ), trifluoroacetate ion (CF 3 COO ⁇ ), acetate ion, and fluoride ion. Chloride ion, bromide ion, iodide ion, sulfate ion, hydrogen sulfate ion, sulfite ion, nitrate ion, nitrite ion, phosphate ion, phosphite ion and the like.
  • the Lewis acid may be scandium triflate (Sc (OTf) 3 ) or the like.
  • the Lewis acid (including counter ions) is selected from the group consisting of, for example, AlCl 3 , AlMeCl 2 , AlMe 2 Cl, BF 3 , BPh 3 , BMe 3 , TiCl 4 , SiF 4 , and SiCl 4. There may be at least one. However, “Ph” represents a phenyl group, and “Me” represents a methyl group.
  • the Lewis acidity of the Lewis acid is, for example, 0.4 eV or more, but is not limited thereto.
  • the upper limit of the Lewis acidity is not particularly limited, but is, for example, 20 eV or less.
  • the Lewis acidity is, for example, Ohkubo, K .; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532, J. AM. CHEM. SOC. 2002, 124, 10270-10271, or J Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726, and can be measured specifically by the following method.
  • the brainsted acid is not particularly limited, and may be, for example, an inorganic acid or an organic acid.
  • trifluoromethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid, acetic acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, iodine Examples include hydrofluoric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, nitric acid, nitrous acid, phosphoric acid, phosphorous acid, and the like.
  • Acid dissociation constant pK a of the Bronsted acid is, for example, 10 or less.
  • the lower limit of the pK a is not particularly limited, for example, it is -10 or more.
  • oxygen for example, at least one of water and an organic phase before or after adding the chlorine dioxide radical generating source, the Lewis acid, the Brainsted acid, the reaction substrate (raw material), etc.
  • Oxygen may be dissolved by blowing air or oxygen gas.
  • the water may be saturated with oxygen (O 2 ).
  • the oxidation reaction of the hydrocarbon or its derivative as the raw material (substrate) can be further promoted.
  • the water in the aqueous phase may dissolve the Lewis acid, the Bronsted acid, the radical generation source, etc., but may not dissolve it.
  • the production method of the present invention may be carried out in a state where a Lewis acid, a Bronsted acid, a radical source or the like is dispersed or precipitated in water.
  • Chlorine dioxide radical generation process Next, in the production method of the present invention, as described above, a chlorine dioxide radical generating step for generating the chlorine dioxide radical may be performed.
  • the chlorine dioxide radical generation step is not particularly limited.
  • the chlorine dioxide radical generation source for example, chlorous acid or a salt thereof
  • chlorine dioxide radicals are generated from chlorite ions. This can be done by generating naturally.
  • the presence of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid in the water further promotes the generation of chlorine dioxide radicals.
  • the chlorine dioxide radical may be generated by irradiating the water phase with light.
  • chlorine dioxide radicals can be generated by simply standing without irradiation.
  • produces from chlorite ion in water it presumes like the following scheme 1, for example.
  • the following scheme 1 is an example of a presumed mechanism and does not limit the present invention.
  • the first (upper) reaction formula of the following scheme 1 is a disproportionation reaction of chlorite ion (ClO 2 ⁇ ), and the equilibrium exists because at least one of Lewis acid and Bronsted acid is present in water. Is considered to be easier to move to the right.
  • the second (middle stage) reaction formula in the following scheme 1 is a dimerization reaction, and a hypochlorite ion (ClO ⁇ ) and a chlorite ion generated in the first reaction formula are reacted with each other to form dioxide. Chlorine (Cl 2 O 2 ) is produced. This reaction is considered to proceed more easily as the amount of proton H + in water increases, that is, the more acidic.
  • the third (lower) reaction formula in the following scheme 1 is radical generation. In this reaction, dichlorine dioxide produced in the second reaction formula reacts with chlorite ions to produce chlorine dioxide radicals.
  • the reaction system When using a two-phase reaction system including the organic phase and the aqueous phase in the reaction step of the next step, for example, after generating the chlorine dioxide radical in the two-phase reaction system, the reaction system is left as it is. What is necessary is just to use for a reaction process. Further, when using a one-phase reaction system including only the organic phase in the reaction step of the next step, for example, the chlorine dioxide radical is generated in the aqueous phase, and the generated chlorine dioxide radical is converted into the organic phase. After the extraction, the aqueous phase is removed, and the organic phase containing chlorine dioxide radicals may be used for the reaction step as the one-phase reaction system.
  • reaction step is performed.
  • a two-phase reaction system including the organic phase and the aqueous phase will be described as an example.
  • the two phases of the aqueous phase and the organic phase are brought into contact.
  • the aqueous phase and the organic phase may be mixed to form an emulsion or the like.
  • the reaction step may be performed in a state where two layers of the aqueous layer (the aqueous phase) and the organic layer (the organic phase) are separated and are in contact with each other only at the interface.
  • FIG. 1 shows a calculation result by UCAM-B3LYP / 6-311 + G (d, p) def2TZV.
  • Left side of FIG. 1 represents a state before the chlorine dioxide radical (ClO 2 ⁇ ) molecules that light irradiation, the right side represents the state after the light irradiation.
  • FIG. 2 schematically shows an example of the reaction step.
  • this reaction system two layers of an aqueous layer (the aqueous phase) and an organic layer (the organic phase) are separated in a reaction vessel and are in contact with each other only at the interface.
  • the upper layer is an aqueous layer (the aqueous phase) 2 and the lower layer is an organic layer (the organic phase) 1.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view, the hatch of the water layer and the organic layer is omitted for easy viewing.
  • the water layer chlorite ions (aqueous phase) in (ClO 2 -) reacts with the acid, chlorine dioxide radical (ClO 2 ⁇ ) is generated.
  • chlorine dioxide radical (ClO 2 ⁇ ) is sparingly soluble in water, dissolved in an organic layer.
  • the substrate raw material, represented by the symbol RH in the figure
  • organic layer organic phase
  • an alcohol denoted by the symbol R—OH in the figure
  • FIG. 2 is an illustration and does not limit the present invention.
  • the oxidation reaction product is a water-soluble alcohol, but as described above, the oxidation reaction product is not limited to a water-soluble alcohol and is arbitrary.
  • the organic solvent in the organic layer may be, for example, a fluorous solvent.
  • the organic solvent is not limited to the fluorous solvent and is arbitrary.
  • the aqueous layer is the upper layer and the organic layer is the lower layer.
  • the production method of the present invention is not limited to the layer-separated state as shown in FIG. 2.
  • the production method may be performed in an emulsion state or the like, or may be performed with stirring.
  • FIG. 3 schematically shows another example of the reaction step.
  • FIG. 3 is the same as FIG. 2 except that the substrate (raw material) is methane (CH 4 ) and the oxidation reaction product is methanol (CH 3 —OH). Since methanol is water-soluble, it dissolves in the aqueous layer.
  • FIG. 3 shows an example in which the oxidation reaction product is methanol.
  • the oxidation reaction product in the case where the substrate (raw material) is methane is not limited to methanol, and is arbitrary. .
  • FIG. 4 schematically shows still another example of the reaction step.
  • FIG. 4 is the same as FIG. 2 except that the substrate (raw material) is ethane (CH 3 CH 3 ) and the oxidation reaction product is ethanol (CH 3 CH 2 —OH). Since ethanol is water-soluble, it dissolves in the aqueous layer.
  • FIG. 3 shows an example in which the oxidation reaction product is ethanol, but as described above, the oxidation reaction product in the case where the substrate (raw material) is ethane is not limited to ethanol and is arbitrary. .
  • FIG. 5 schematically shows still another example of the reaction step.
  • FIG. 5 is the same as FIG. 2 except that the substrate (raw material) is cyclohexane and the oxidation reaction product is cyclohexanol. Since cyclohexanol is water-soluble, it dissolves in the aqueous layer.
  • FIG. 5 shows an example in which the oxidation reaction product is cyclohexanol.
  • the oxidation reaction product in the case of the substrate (raw material) cyclohexane is not limited to cyclohexanol, and is arbitrary. .
  • the wavelength of the irradiation light is not particularly limited, but may be, for example, 200 nm or more, or 800 nm or less.
  • the light irradiation time is not particularly limited, but may be, for example, 1 min or more, or 1000 h or less.
  • the reaction temperature is not particularly limited, but may be, for example, 0 ° C. or higher, or 100 ° C. or lower.
  • the atmospheric pressure during the reaction is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 MPa or more, or 100 MPa or less.
  • the reaction step or the reaction step is performed at room temperature (room temperature) and normal pressure (atmospheric pressure) without any heating, pressurization, decompression or the like. It is also possible to carry out all the steps including.
  • the “room temperature” is not particularly limited, but is, for example, 5 to 35 ° C.
  • the reaction step or all the steps including it can be performed in the atmosphere without performing inert gas replacement or the like, as shown in the examples described later. is there.
  • the light source is not particularly limited, but can be easily excited by using visible light included in natural light such as sunlight.
  • a light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a fluorescent lamp, or a mercury lamp may or may not be used as appropriate.
  • a filter that cuts wavelengths other than the necessary wavelength may or may not be used as appropriate.
  • the mechanism (mechanism) by which ethanol is generated by the oxidation reaction of ethane is estimated as shown in the following scheme 2, for example.
  • the following scheme 2 is an example of a presumed mechanism and does not limit the present invention.
  • Scheme 2 first, as shown also in FIG. 1, the chlorine radical (Cl ⁇ ) and oxygen molecules (O 2) is generated chlorine radical dioxide is decomposed by light irradiation.
  • the chlorine radicals generates an ethyl radical works as a hydrogen abstracting agent (CH 3 CH 2 ⁇ ) with respect to ethane.
  • the oxygen molecules oxidize the ethyl radicals to produce ethanol as shown in Scheme 2 below.
  • reaction formula when methanol and formic acid are produced by the oxidation reaction of methane using sodium chlorite is, for example, as shown in Scheme 3 below.
  • the following scheme 3 is also an example, and the oxidation reaction of methane using the present invention is not limited to this.
  • the raw material (substrate) is not limited to ethane, methane or cyclohexane, and may be any hydrocarbon or derivative thereof as described above.
  • Examples of the hydrocarbon or a derivative thereof as a raw material (substrate) are as described above, for example.
  • the raw material is represented by the following chemical formula (A1)
  • the oxidation reaction product thereof is an alcohol represented by the following chemical formula (A2): It may be at least one of the carboxylic acid represented by the chemical formula (A3).
  • R is an arbitrary atom or atomic group, for example, a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a derivative thereof.
  • the hydrocarbon group is arbitrary, and may be, for example, linear, branched, saturated or unsaturated, and may or may not contain a cyclic structure. An aromatic ring may be used.
  • the oxidation reaction product may contain an aldehyde in addition to or instead of at least one of the alcohol and the carboxylic acid.
  • the oxidation reaction product when the raw material (substrate) (A1) is methane, for example, as shown in Scheme A1 below, the oxidation reaction product may contain at least one of methanol and formic acid.
  • the oxidation reaction product when the raw material (substrate) (A1) is ethane, for example, the oxidation reaction product may contain at least one of ethanol and acetic acid as shown in the following scheme A2.
  • the following schemes A1 and A2 are also exemplary, and in the production method of the present invention, the oxidation reaction of methane or ethane is not limited thereto.
  • the raw material is represented by the following chemical formula (B1)
  • the oxidation reaction product is represented by the alcohol represented by the following chemical formula (B2) and the following chemical formula (B3). It may be at least one of a carbonyl compound (for example, ketone).
  • R is any atom or atomic group, for example, a hydrocarbon group or a derivative thereof.
  • the hydrocarbon group is arbitrary, and may be, for example, linear, branched, saturated or unsaturated, and may or may not contain a cyclic structure. An aromatic ring may be used.
  • Each R may be the same as or different from each other.
  • two Rs may be integrated to form a cyclic structure together with the carbon atom to which they are bonded.
  • the oxidation reaction product may contain at least one of cyclohexanol and cyclohexanone as in the following scheme B1.
  • the following scheme B1 is also an example, and in the production method of the present invention, the oxidation reaction of cyclohexane is not limited thereto.
  • the raw material is an aromatic compound represented by the following chemical formula (C1)
  • the oxidation reaction product thereof is phenol represented by the following chemical formula (C2): It may be at least one of quinones represented by the following chemical formula (C3).
  • each R is an arbitrary atom or atomic group, for example, a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or a derivative thereof.
  • the hydrocarbon group is arbitrary, and may be, for example, linear, branched, saturated or unsaturated, and may or may not contain a cyclic structure.
  • An aromatic ring may be used.
  • Each R may be the same as or different from each other.
  • each of the following chemical formulas (C1), (C2), and (C3) two or more Rs may be integrated to form a cyclic structure with a benzene ring to which they are bonded.
  • the following scheme C is an example and does not limit the present invention. That is, as described above, in the production method of the present invention, the aromatic compound as the raw material (substrate) is not limited to the following chemical formula (C1), and the oxidation reaction product of the aromatic compound is also the following (C2). And (C3) is not limited.
  • the oxidation reaction product may contain at least one of hydroxybenzene and p-benzoquinone.
  • the following scheme C1 is also an example, and in the production method of the present invention, the oxidation reaction of benzene is not limited thereto.
  • the raw material (substrate) is an aromatic compound
  • an electron donating group is bonded to the aromatic ring of the aromatic compound, for example, an oxidation reaction (including an oxidative substitution reaction) of the raw material aromatic compound ) Is easy to proceed.
  • One or a plurality of the electron donating groups may be used, and those having a strong electron donating property are preferred.
  • at least one substituent selected from the group consisting of —OR 100 , —NR 200 2 , and Ar 100 is covalently bonded to the aromatic ring.
  • R 100 is a hydrogen atom or an arbitrary substituent
  • each R 100 is may be the same or different.
  • the R 200 is a hydrogen atom or an arbitrary substituent, and each R 200 may be the same or different.
  • Ar 100 is an aryl group, if Ar 100 is a plurality, each Ar 100 may be the same or different.
  • the Ar 100 may be a group derived from any aromatic ring such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyridine ring, thiophene ring, pyrene ring.
  • the aromatic ring may further have one or more substituents on the ring, and the plurality of substituents may be the same or different when there are a plurality.
  • Examples of Ar 100 include a phenyl group.
  • the R 100 is preferably at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and an acyl group.
  • the alkyl group is preferably a linear or molecular alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group.
  • the acyl group is preferably a linear or molecular acyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the aryl group is the same as Ar 100 , for example, and is a phenyl group, for example.
  • R 200 is preferably at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and an acyl group.
  • the alkyl group is preferably a linear or molecular alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group.
  • the acyl group is preferably a linear or molecular acyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the aryl group is the same as Ar 100 , for example, and is a phenyl group, for example.
  • dimethylamino group, diphenylamino group an amino group substituted with an electron donating made substituent is particularly preferable because of their high electron donating property.
  • the oxidizing agent contains an oxygen atom
  • the aromatic compound contains a methylene group (—CH 2 —) covalently bonded to an aromatic ring
  • the methylene group (—CH 2 —) is oxidized in the reaction step. Then, it may be converted into a carbonyl group (—CO—).
  • the atom or atomic group bonded to the methylene group and carbonyl group is not particularly limited, and examples thereof include a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group.
  • the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the alkyl group and aryl group may be further substituted with one or more substituents, and the plurality of substituents may be the same or different. For example, if hydrogen is bonded to the methylene group, it becomes a methyl group (—CH 3 ), and after oxidation becomes a formyl group (—CHO).
  • a methyl group is bonded to the methylene group, it becomes an ethyl group (—CH 2 CH 3 ), and after oxidation, becomes an acetyl group (—COCH 3 ).
  • a phenyl group is bonded to the methylene group, it becomes a benzyl group (—CH 2 Ph), and after oxidation becomes a benzoyl group (—COPh).
  • the substituent covalently bonded to the aromatic ring may be a formyl group (—CHO) and may be converted to a carboxy group (—COOH) after being oxidized.
  • the raw material (substrate) may be an olefin
  • the olefin may be an aromatic olefin or an aliphatic olefin, for example.
  • the olefin may be, for example, an olefin represented by the chemical formula (D1) in the following scheme D.
  • the oxidation reaction product of the olefin is not particularly limited, but may contain, for example, at least one of an epoxide and a diol as shown in the following scheme D.
  • R is a hydrogen atom or an arbitrary substituent, and each R may be the same as or different from each other.
  • the optional substituent examples include an alkyl group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, a heteroaryl group, a halogen, a hydroxy group (—OH), a mercapto group (—SH), or an alkylthio group (—SR, R is an alkyl group), which may be substituted with a further substituent or may be unsubstituted.
  • the alkyl group is more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the olefin as an oxide may be an olefin containing only one olefin bond (carbon-carbon double bond), but may be an olefin containing a plurality (two or more) of olefin bonds.
  • the olefin may be, for example, an aromatic olefin. That is, for example, the chemical formula (D1) may be sufficient, and at least one of R may be an aromatic ring (aryl group or heteroaryl group).
  • the aromatic olefin is not particularly limited, but when an electron donating group is bonded to the aromatic ring of the aromatic olefin, for example, an oxidation reaction (including an oxidative substitution reaction) of the aromatic olefin. This is preferable because it easily proceeds.
  • One or a plurality of the electron donating groups may be used, and those having a strong electron donating property are preferred. More specifically, in the aromatic olefin, at least one substituent selected from the group consisting of —OR 100 , —NR 200 2 , and Ar 100 is covalently bonded to the aromatic ring. preferable.
  • the olefin may be at least one selected from the group consisting of ethylene, propylene, styrene, and butadiene.
  • the oxidation reaction product may be at least one of epoxide and diol as described above, for example. Examples are shown in the following schemes D1 to D3. However, the following schemes D1 to D3 are merely examples, and in the present invention, the oxidation reaction of ethylene, propylene, and styrene is not limited thereto.
  • the ratio of the oxidation reaction product obtained (for example, in the first invention, the ratio of alcohol to carboxylic acid, the ratio of phenol to quinone, etc., The ratio of methanol and formic acid in the second invention, the ratio of ethanol and acetic acid in the third invention, the ratio of cyclohexanol and cyclohexanone in the fourth invention, etc.) are set as appropriate. You can adjust it.
  • the oxidation reaction product of the raw material (substrate) is not limited to the alcohol, carboxylic acid, aldehyde, ketone, phenol, quinone, etc.
  • the raw material (substrate) may contain a chlorinated product (chlorinated product) or the like.
  • chlorinated product chlorinated product
  • the chlorine atom radical Cl ⁇ and molecular oxygen O 2 is generated by decomposition of chlorine dioxide radicals, for carrying out the reaction in the liquid phase, the chlorination of the substrate is suppressed alcohols, carboxylic acids, It is presumed that aldehyde, ketone, phenol, quinone and the like are preferentially produced. However, these assumptions are also examples and do not limit the present invention.
  • the oxidation reaction can be performed efficiently.
  • the oxidation reaction product for example, methanol, formic acid, ethanol, acetic acid, etc.
  • the oxidation reaction product of methane as the raw material (substrate) is not limited to the methanol, formic acid, formaldehyde, methyl hydroperoxide, etc.
  • the raw material (substrate) may be a methane chlorinated product (chlorinated product) or the like.
  • chlorinated product methane chlorinated product
  • the chlorine atom radical Cl ⁇ and molecular oxygen O 2 is generated by decomposition of chlorine dioxide radicals, for carrying out the reaction in the liquid phase, the chlorination of the substrate is suppressed methanol, formic acid, formaldehyde It is estimated that methyl hydroperoxide and the like are preferentially produced.
  • these assumptions are also examples and do not limit the present invention.
  • the oxidation reaction product for example, methanol, formic acid, etc.
  • the hydrocarbon gas having an extremely high industrial utility value can be efficiently produced from the methane.
  • the oxidation reaction product of the raw material (substrate) is not limited to the ethanol, acetic acid, acetaldehyde, ethyl hydroperoxide and the like, for example, in addition to or in place of them.
  • a chlorinated product (chlorinated product) of the raw material (substrate) may be included.
  • the chlorine atom radical Cl ⁇ and molecular oxygen O 2 is generated by decomposition of chlorine dioxide radicals, for carrying out the reaction in the liquid phase, the ethanol chlorination of the substrate is suppressed, acetic acid, acetaldehyde It is estimated that ethyl hydroperoxide and the like are preferentially produced.
  • these assumptions are also examples and do not limit the present invention.
  • the oxidation reaction product for example, ethanol, acetic acid, etc.
  • the oxidation reaction product for example, ethanol, acetic acid, etc.
  • the oxidation reaction product of the raw material (substrate) is not limited to the cyclohexanol, cyclohexanone, cyclohexane hydroperoxide, ring-opening oxide (for example, adipic acid, etc.),
  • a chlorinated product (chlorinated product) of cyclohexane as the raw material (substrate) may be included.
  • the chlorine radical Cl ⁇ in the gas phase reaction of a hydrocarbon involving bimolecular e.g., gas phase reaction using a chlorine gas Cl 2
  • the chlorine atom radical Cl ⁇ and molecular oxygen O 2 is generated by decomposition of chlorine dioxide radicals, for carrying out the reaction in the liquid phase, the cyclohexanol chlorination of the substrate is suppressed, cyclohexanone, It is presumed that cyclohexane hydroperoxide, ring-opening oxide (such as adipic acid) and the like are preferentially produced.
  • the present invention by performing the reaction in a two-phase system of an aqueous phase and an organic phase, it is possible to efficiently perform an oxidation reaction in the liquid phase even in cyclohexane. For this reason, the oxidation reaction product (for example, cyclohexanol, cyclohexane, etc.) of cyclohexane having a very high industrial utility value can be efficiently produced from cyclohexane.
  • the oxidation reaction product for example, cyclohexanol, cyclohexane, etc.
  • the oxidation reaction product recovery step is performed as necessary.
  • the recovery step may be a step of recovering the aqueous phase containing the oxidation reaction product from the reaction system.
  • the oxidation reaction product for example, methanol, ethanol, formic acid, carboxylic acid, etc.
  • the organic phase for example, the oxidation reaction product is benzoquinone and the organic phase solvent is benzene.
  • the organic phase containing the oxidation reaction product may be recovered from the reaction system.
  • the oxidation reaction product may be recovered by, for example, filtration.
  • the recovered oxidation reaction product is isolated and purified as necessary.
  • the isolation and purification method is not particularly limited, and can be carried out appropriately using a method such as distillation or filtration according to a general organic synthesis reaction.
  • the reaction step in the production methods of the first to fourth inventions in the present invention can be performed only in the organic phase.
  • an aqueous phase containing a chlorine dioxide radical generation source as described above is separately prepared, and chlorine dioxide radicals are generated in the aqueous phase (chlorine dioxide radical generation step). Thereafter, the chlorine dioxide radical is extracted from the aqueous phase into the organic phase by a liquid separation method or the like.
  • the raw material (substrate) may be added to the organic phase prior to extraction of the chlorine dioxide radical, or may be added to the organic phase simultaneously with or after extraction of the chlorine dioxide radical. .
  • the aqueous phase and the organic phase are separated (the organic phase alone), and the organic phase contains the raw material (substrate) and the chlorine dioxide radical, and is irradiated with light as described above.
  • the reaction step is performed.
  • the chlorine dioxide radical generation step and the reaction step are performed simultaneously.
  • efficiency is good.
  • the chlorine atom radical Cl ⁇ and the oxygen molecule O 2 can be generated and the oxidation reaction can be carried out by a very simple method of simply irradiating a chlorine dioxide radical aqueous solution with light. And by such a simple method, for example, it is possible to efficiently convert a hydrocarbon or a derivative thereof into an oxidation reaction product even under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure.
  • an oxidation reaction product of the raw material (hydrocarbon or a derivative thereof) can be obtained without using a toxic heavy metal catalyst or the like. According to this, in addition to being able to perform the reaction under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure as described above, it is also possible to efficiently obtain the oxidation reaction product by a method with a very low environmental load. .
  • the method for producing an olefin oxidation reaction product according to the fifth aspect of the present invention includes, for example, a mixing step of mixing at least one of a Lewis acid and a Bronsted acid with a radical generation source.
  • a mixing step any substance other than at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid and the radical generation source may or may not be mixed. That is, the mixture obtained by the mixing step may or may not further contain any substance other than at least one of Lewis acid and Bronsted acid and a radical generation source.
  • the “solvent” may dissolve the Lewis acid, the Bronsted acid, the radical generation source, or the like, but may not dissolve it.
  • the solvent may dissolve the Lewis acid, the Bronsted acid, the radical generation source, or the like, but may not dissolve it.
  • at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid and the radical generation source may be dissolved in the solvent, but may be dispersed or precipitated in the solvent.
  • a state is good.
  • “Lewis acid” refers to a substance that acts as a Lewis acid for the radical generation source, for example.
  • the method for producing an olefin oxidation reaction product according to the fifth aspect of the present invention is a radical that generates radicals by acting at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid and the radical generation source. Including the generation process.
  • the radical generation step for example, after the mixing step, radicals are generated (produced) by a reaction in the obtained mixture.
  • the mixture may be in a solution state, a suspension state, a colloidal state, or the like. From the viewpoint of reactivity, the mixture is preferably in a solution state or a colloidal state, for example.
  • the mixture may simply be left at room temperature, or the mixture may be heated, irradiated with light, or the like as necessary.
  • the reaction temperature and reaction time in the radical production step are not particularly limited.
  • the wavelength of the irradiation light is
  • it is not particularly limited, and can be set as appropriate according to, for example, the absorption band of the reactant (raw material).
  • reaction time and reaction temperature it can also adjust with the density
  • the reaction time can be shortened by increasing the concentration, but the present invention is not limited to this description.
  • the concentration of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid is not particularly limited, and can be set as appropriate according to, for example, the type of reactant (raw material) and target product.
  • the solvent is not particularly limited, and may be, for example, water or an organic solvent, and can be appropriately selected according to the type of solute.
  • the organic solvent include halogenated solvents such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride, ketones such as acetone, nitrile solvents such as acetonitrile, alcohol solvents such as methanol and ethanol, acetic acid solvents, sulfuric acid solvents, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the acetic acid solvent and the sulfuric acid solvent may be, for example, acetic acid or sulfuric acid dissolved in water, and these function as, for example, a Lewis acid or a Bronsted acid at the same time as a solvent.
  • the type of the solvent may be properly used depending on, for example, the solubility of a solute (for example, at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid, the radical generation source, etc.).
  • the reaction may be performed by heating, but only by light irradiation without heating or by light irradiation. It is also possible to produce radicals by simply allowing them to stand at room temperature.
  • room temperature is not particularly limited, but is, for example, 5 to 35 ° C. Since heating is not required, for example, heating costs by an electric furnace or the like are not required, and radical production costs can be greatly reduced. In addition, since heating is unnecessary, for example, unexpected runaway reaction due to radical chain and accumulation of peroxide can be suppressed, so that the safety of the reaction can be greatly improved and the cost can be further reduced. I can do it. However, these descriptions are merely examples and do not limit the present invention.
  • the method for producing an olefin oxidation reaction product according to the fifth aspect of the present invention may further include, for example, a light irradiation step of irradiating the mixture obtained by the mixing step. And as above-mentioned, you may manufacture a radical by the reaction which arises by the said light irradiation.
  • the wavelength of the irradiation light is as described above, for example.
  • a light source is not specifically limited, For example, if visible light contained in natural lights, such as sunlight, it can excite easily.
  • a light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a fluorescent lamp, or a mercury lamp may or may not be used as appropriate.
  • a filter that cuts wavelengths other than the necessary wavelength may or may not be used as appropriate.
  • the Lewis acidity of the Lewis acid is, for example, 0.4 eV or more.
  • the upper limit of the Lewis acidity is not particularly limited, but is, for example, 20 eV or less.
  • the Lewis acidity is, for example, Ohkubo, K .; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532, J. AM. CHEM. SOC. 2002, 124, 10270-10271, or J Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726, and can be measured specifically by the following method.
  • the Lewis acid may contain, for example, one or both of a metal ion and a non-metal ion.
  • the metal ion may contain one or both of a typical metal ion and a transition metal ion.
  • the inorganic substance includes, for example, alkaline earth metal ions (for example, Ca 2+ ), rare earth ions, Mg 2+ , Sc 3+ , Li + , Fe 2+ , Fe 3+ , Al 3+ , silicate ions, and borate ions. It may be at least one selected from the group.
  • alkaline earth metal ions include calcium, strontium, barium, or radium ions, and more specifically, for example, Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ , and Ra 2+ .
  • “Rare earth” is a general term for 17 elements in total: 2 elements of scandium 21 Sc and yttrium 39 Y and 15 elements (lanthanoid) from lanthanum 57 La to lutetium 71 Lu.
  • rare earth ions include trivalent cations for each of the 17 elements.
  • the Lewis acid (including counter ions) is selected from the group consisting of, for example, AlCl 3 , AlMeCl 2 , AlMe 2 Cl, BF 3 , BPh 3 , BMe 3 , TiCl 4 , SiF 4 , and SiCl 4. There may be at least one. However, “Ph” represents a phenyl group, and “Me” represents a methyl group.
  • the acid dissociation constant pK a of the Bronsted acid is, for example 5 or more.
  • the upper limit of the pK a is not particularly limited, for example, 50 or less.
  • the radical generation source is, for example, a halogen ion, a hypohalite ion, a halite ion, a halogenate ion, or a perhalogenate ion. It may contain at least one selected from the group consisting of. It is particularly preferable that the radical generation source contains, for example, chlorite ions.
  • the radical generation source may contain, for example, an oxo acid or a salt thereof (for example, a halogen oxo acid or a salt thereof).
  • oxo acid examples include boric acid, carbonic acid, ortho carbonic acid, carboxylic acid, silicic acid, nitrous acid, nitric acid, phosphorous acid, phosphoric acid, arsenic acid, sulfurous acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sulfinic acid, chromic acid, Examples include nichromic acid and permanganic acid.
  • Halogen oxoacids are chlorine oxoacids such as hypochlorous acid, chlorous acid, chloric acid, and perchloric acid; bromine oxoacids such as hypobromous acid, bromous acid, bromic acid, and perbromic acid; and Examples include iodine oxoacids such as hypoiodous acid, iodic acid, iodic acid, and periodic acid.
  • the radical generation source may be appropriately selected in consideration of, for example, the strength of reactivity of radical species, depending on the application. For example, hypochlorous acid having a strong reactivity and chlorous acid having a slightly milder reactivity and easier to control the reaction than hypochlorous acid may be used depending on the purpose.
  • a tautomer or stereoisomer eg, geometric isomer, coordination
  • the compound eg, olefin which is an oxide
  • any isomers can be used in the present invention unless otherwise specified.
  • a compound for example, the said olefin etc.
  • the said salt can also be used for this invention unless there is particular notice.
  • the salt may be an acid addition salt or a base addition salt.
  • the acid forming the acid addition salt may be an inorganic acid or an organic acid
  • the base forming the base addition salt may be an inorganic base or an organic base.
  • the inorganic acid is not particularly limited.
  • the organic acid is not particularly limited, and examples thereof include p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, oxalic acid, p-bromobenzenesulfonic acid, carbonic acid, succinic acid, citric acid, benzoic acid, and acetic acid.
  • the inorganic base is not particularly limited, and examples thereof include ammonium hydroxide, alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, carbonates and hydrogen carbonates, and more specifically, for example, Examples thereof include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, calcium hydroxide and calcium carbonate.
  • the organic base is not particularly limited, and examples thereof include ethanolamine, triethylamine, and tris (hydroxymethyl) aminomethane.
  • the method for producing these salts is not particularly limited, and for example, the salts can be produced by a method such as appropriately adding the above acid or base to the compound by a known method.
  • a chain substituent for example, a hydrocarbon group such as an alkyl group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group
  • the number of carbon atoms may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited. For example, 1 to 40, 1 to 32, 1 to 24, 1 to 18, 1 to 12, 1 to 6, or 1 to 2 (2 or more in the case of an unsaturated hydrocarbon group) may be used.
  • the number of ring members (the number of atoms constituting the ring) of a cyclic group is not particularly limited, but is, for example, 5 to 32, 5 to 24, 6 May be -18, 6-12, or 6-10.
  • any isomer may be used.
  • naphthyl group it may be a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group.
  • the method for producing an olefin oxidation reaction product according to the fifth aspect of the present invention includes an oxidation reaction step of oxidizing the olefin using the radical as an oxidizing agent.
  • the method for producing the olefin oxidation reaction product production method according to the fifth aspect of the present invention is not particularly limited.
  • the mixing step at least one of a Lewis acid and a Bronsted acid, a radical generation source,
  • the olefin may be further mixed.
  • the radical generation step the generated radical and the olefin may be reacted to generate the oxidation reaction product. That is, the oxidation reaction step may be performed simultaneously in the same reaction system in equilibrium with the radical generation step.
  • the concentration of the olefin, at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid, and the radical generation source is not particularly limited, but for the solvent, for example, the reaction mol / L is not particularly limited, Each can be set as appropriate.
  • the concentration of the oxide (olefin) is preferably as high as possible in order to increase the reaction rate, and the concentration of the oxidizing agent (radical generation source) facilitates the reaction. Therefore, it is preferable that it is not too high.
  • this description is merely an example and does not limit the present invention.
  • the olefin is oxidized using the radical as an oxidizing agent.
  • the radical generating source may be an oxo acid
  • the radical generated from the oxo acid may be an oxidizing agent.
  • the radical generator, chlorite ion ClO 2 - is and, chlorite ion ClO 2 - radical ClO 2 ⁇ generated from the oxidant, the oxidation reaction product by oxidizing the oxidizable compound You may manufacture things.
  • the olefin to be oxidized is not particularly limited, and may be, for example, an aromatic olefin or an aliphatic olefin.
  • the olefin may be, for example, an olefin represented by the following chemical formula (AA1).
  • the oxidation reaction product of the olefin is not particularly limited, but may contain at least one of an epoxide and a diol as shown in the following scheme AA, for example.
  • R is a hydrogen atom or an arbitrary substituent, and each R may be the same as or different from each other.
  • the optional substituent include an alkyl group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, a heteroaryl group, a halogen, a hydroxy group (—OH), a mercapto group (—SH), or an alkylthio group (—SR, R is an alkyl group), which may be substituted with a further substituent or may be unsubstituted.
  • the alkyl group is more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the olefin as an oxide may be an olefin containing only one olefin bond (carbon-carbon double bond), but may be an olefin containing a plurality (two or more) of olefin bonds.
  • the olefin may be, for example, an aromatic olefin. That is, for example, the chemical formula (AA1) may be used, and at least one of R may be an aromatic ring (aryl group or heteroaryl group).
  • the aromatic olefin is not particularly limited, but when an electron donating group is bonded to the aromatic ring of the aromatic olefin, for example, an oxidation reaction (including an oxidative substitution reaction) of the raw material aromatic compound Is preferred because it is easy to proceed.
  • One or a plurality of the electron donating groups may be used, and those having a strong electron donating property are preferred.
  • At least one substituent selected from the group consisting of —OR 100 , —NR 200 2 , and Ar 100 is covalently bonded to the aromatic ring.
  • R 100 is a hydrogen atom or an arbitrary substituent, if R 100 is plural, each R 100 is may be the same or different.
  • the R 200 is a hydrogen atom or an arbitrary substituent, and each R 200 may be the same or different.
  • Ar 100 is an aryl group, if Ar 100 is a plurality, each Ar 100 may be the same or different.
  • the Ar 100 may be a group derived from any aromatic ring such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyridine ring, thiophene ring, pyrene ring.
  • the aromatic ring may further have one or more substituents on the ring, and the plurality of substituents may be the same or different when there are a plurality.
  • Examples of Ar 100 include a phenyl group.
  • the R 100 is preferably at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and an acyl group.
  • the alkyl group is preferably a linear or molecular alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group.
  • the acyl group is preferably a linear or molecular acyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the aryl group is the same as Ar 100 , for example, and is a phenyl group, for example.
  • R 200 is preferably at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, and an acyl group.
  • the alkyl group is preferably a linear or molecular alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group.
  • the acyl group is preferably a linear or molecular acyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the aryl group is the same as Ar 100 , for example, and is a phenyl group, for example.
  • dimethylamino group, diphenylamino group an amino group substituted with an electron donating made substituent is particularly preferable because of their high electron donating property.
  • the olefin may be at least one selected from the group consisting of ethylene, propylene, styrene, and butadiene.
  • the oxidation reaction product may be at least one of epoxide and diol as described above, for example. Examples are shown in the following schemes AA1 to AA3. However, the following schemes AA1 to AA3 are exemplifications, and in the fifth invention of the present invention, the oxidation reaction of ethylene, propylene and styrene is not limited thereto.
  • the concentration of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid, the radical generation source, and the oxidizing agent is adjusted.
  • the concentration of at least one of the Lewis acid and the Bronsted acid, the radical generation source, and the oxidizing agent is adjusted.
  • these concentrations are low with respect to the oxide, epoxide tends to be obtained, and when the concentration is high, diol tends to be obtained, but this is not limitative.
  • concentration it is possible to make different oxidation reaction products depending on the reactivity of radical species generated from the radical generation source.
  • epoxides are likely to be obtained with radical species having low reactivity
  • diols are likely to be obtained with radical species having strong reactivity, but are not limited thereto.
  • the use of the oxidation reaction product is not particularly limited.
  • the oxide (raw material aromatic compound) is styrene
  • styrene oxide can be used as an adhesive
  • diol can be used as a fragrance.
  • the fifth invention of the present invention can be applied to a wider range of uses as long as it can be made separately by controlling reaction conditions. .
  • Examples 1 to 7 A hydrocarbon as a substrate (raw material) was dissolved in an organic solvent to prepare an organic phase.
  • sodium chlorite (NaClO 2 ) and an acid were dissolved in water (H 2 O or D 2 O), and the aqueous solution was saturated with oxygen gas (O 2 ) to prepare an aqueous phase.
  • O 2 oxygen gas
  • the aqueous phase and the organic phase were placed in the same reaction vessel and brought into contact to form a two-phase system. Further, the two-phase system was irradiated with light with a xenon lamp having a wavelength ⁇ > 290 nm at room temperature (about 25 ° C.) without applying pressure and reduced pressure in the atmosphere.
  • the yield of the oxidation reaction product and the light irradiation time are also shown in Tables 1 and 2 below.
  • “D” represents deuterium.
  • benzene also serving as a substrate and a solvent
  • the conversion rate of the substrate and the yield of the oxidation reaction product were calculated by measuring 1 HNMR of the substrate before the reaction and the oxidation reaction product after the reaction, and comparing the peak intensity ratio of each component.
  • each oxidation reaction product was isolated and produced, and its weight was measured.
  • trace amounts of ethyl acetate presumed to have been obtained by the reaction were detected.
  • Example 7 it was possible to efficiently produce cyclohexanol and cyclohexanone, which are oxidation reaction products, from cyclohexane only by light irradiation in the air at room temperature and normal pressure.
  • a xenon lamp is used as the light source.
  • sunlight or LED is used as the light source, further energy saving and cost reduction can be achieved.
  • Examples 1 to 7 it is possible to efficiently obtain an oxidation reaction product having an extremely high industrial utility value by using hydrocarbon as a raw material (substrate).
  • hydrocarbon a raw material (substrate).
  • the methanol and formic acid obtained in Example 2 and the ethanol and acetic acid obtained in Examples 1 and 3 to 5 all have great utility value for various uses such as fuels, solvents, and raw materials for chemical products.
  • the hydroxybenzene obtained in Example 6 is used in various applications such as pharmaceuticals and raw materials for chemical products, and p-benzoquinone is used in various applications such as an oxidizing agent, a dehydrogenating agent, and a polymerization inhibitor. worth it.
  • the mixture of cyclohexanol and cyclohexanone obtained in Example 7 is generally called KA oil (ketone alcohol oil). Since KA oil is further oxidized and converted to adipic acid and can be used as a raw material for polyamide resin (trade name nylon), its industrial utility value is extremely high. Thus, there has never been a production method that can efficiently obtain an oxidation reaction product having an extremely high industrial utility value using hydrocarbons as a raw material (substrate). That is, according to this example, it was confirmed that the first to fourth inventions of the present invention have a very significant advantage over the prior art from the viewpoint of industrial utility value.
  • Example 8 it was confirmed that scandium triflate and sodium chlorite can efficiently dihydroxylate styrene. Specifically, 1-phenylethane-1,2-diol could be efficiently produced by dihydroxylation of styrene with scandium triflate and chlorite ion (ClO 2 ⁇ ) at room temperature and normal pressure. . Scandium triflate acts as a strong Lewis acid, generating chlorine dioxide radicals (ClO 2 ⁇ ) from chlorite ions (ClO 2 ⁇ ) and improving the reactivity of chlorine dioxide radicals (ClO 2 ⁇ ). Was confirmed.
  • Oxidation of olefins to 1,2-diols is an important industrial process for producing precursors of various chemicals such as resins, pharmaceuticals, dyes, pesticides and perfume compositions in fine chemicals or specialty chemicals .
  • Several methods for oxidizing olefins to the corresponding epoxides and alcohols have been previously reported using inorganic metal oxo complexes and heavy atom metal oxides.
  • High-valence Os VIII O 4 is an effective and selective reagent for oxidation to convert olefins to 1,2-diols (references 1-8 [same as non-patent documents 7-14] ]).
  • the toxicity and sublimation of osmium compounds and their waste cause serious problems.
  • ClO 2 ⁇ Sodium chlorite (NaClO 2) is non-toxic and inexpensive oxidizing reagents have been used as a precursor of chlorine dioxide radical (ClO 2 ⁇ ) (Reference literature 9-12 [Non-Patent Documents 15-18 Is the same]).
  • ClO 2 ⁇ is known to be a reactive and stable radical. However, ClO 2 ⁇ is a yellow explosive gas at room temperature.
  • ClO 2 ⁇ can be experimentally prepared by oxidation of NaClO 2 with Cl 2 and reaction of potassium chlorate (KClO 3 ) with oxalic acid (references 13). These methods also cause serious problems such as Cl 2 toxicity and ClO 3 ⁇ explosiveness.
  • ClO 2 ⁇ epoxidation of olefins using NaClO 2 as a precursor has been tried.
  • the oxidation capacity of ClO 2 ⁇ was not strong enough to oxidize olefins to diols in the absence of acid, so a 1,2-diol product was not obtained (references 14-17) .
  • Activation of the ClO 2 ⁇ Cl ⁇ O double bond is the key to selective dihydroxylation of olefins in one step.
  • FIG. 11 shows the result of tracing the reaction by 1 HNMR by performing the above reaction using the solvent for measuring 1 HNMR spectrum CD 3 CN / D 2 O (1: 1 v / v) as MeCN / H 2 O. And shows 1 HNMR spectra 0.3 hours and 17 hours after the start of the reaction.
  • FIG. 12 styrene (66 mM) and NaClO 2 (200mM) CD 3 containing CN / D 2 O (4: 1 v / v) 1 of 60 ° C. (333 K) at 0 hours and 25 hours after mixing
  • the HNMR spectrum is shown. * Indicates a peak derived from styrene oxide.
  • FIG. 13 shows a mixture of CD 3 CN / D 2 O (1: 1 v / v) containing styrene (2.0 mM), NaClO 2 (20 mM) and Sc (OTf) 3 (30 mM), and then at 25 ° C. 1 H NMR spectra after 0.6 hours and 17 hours are shown.
  • the * and ⁇ marks are peaks derived from 1-phenylethane-1,2-diol and 2-chloro-1-phenylethanol, respectively.
  • FIG. 14 shows 0.5 hours after mixing of CD 3 CN / D 2 O (1: 1 v / v) containing styrene (2.0 mM), NaClO 2 (20 mM) and CF 3 COOD (30 mM). And the 1 H NMR spectrum after 17 hours.
  • the * and ⁇ marks are peaks derived from 1-phenylethane-1,2-diol and 2-chloro-1-phenylethanol, respectively. Further, FIG.
  • UV-Vis absorption spectroscopy was employed to clarify the reaction mechanism and detection of reactive intermediates.
  • NaClO 2 showed an absorption band at 260 nm in an aqueous solution.
  • the absorption band disappeared upon addition of Sc (OTf) 3 (10 mM), accordingly, increases a new absorption band at 358 nm, the absorption band was identified as based on ClO 2 ⁇ (assignment) (Reference Literature etc. 22, 23).
  • a similar change in absorption spectrum was observed even in the presence of CF 3 COOH (references 24).
  • the time course of the appearance of the absorption band at 358 nm is shown in FIG. FIG.
  • FIG. 6 shows UV + visible absorption spectra of NaClO 2 (5.0 mM) collected at 0, 4 and 16 hours after mixing with Sc (OTf) 3 (10 mM) in a 298K aqueous solution.
  • the horizontal axis is wavelength (nm) and the vertical axis is absorbance.
  • FIG. 7 (a) shows the same reaction as in FIG. 6 (Sc 3 by the reaction of Sc (OTf) 3 (10 mM) and NaClO 2 (5.0 mM) in a 298K aqueous solution (0.20M acetate buffer pH 2.9). + of the formation of the (ClO 2 ⁇ )), which is the time profile of the UV-Vis absorption at 358nm.
  • FIG. 7B is a secondary plot of the measurement result of FIG.
  • the time profile (FIG. 7 (a)) closely matches the quadratic plot (FIG. 7 (b)).
  • Using Sc (OTf) 3 involves a bimolecular ClO 2 ⁇ rate-limiting step (see below).
  • the bimolecular rate constant was determined to be 0.16 M ⁇ 1 s ⁇ 1 from the slope of the line.
  • FIG. 8 shows the UV at 358 nm for the consumption of Sc 3+ (ClO 2 ⁇ ) in the presence of styrene (30-90 mM) in a 298 K MeCN / H 2 O (1: 1 v / v) solution.
  • -Vis absorption time profile In the figure, the horizontal axis represents time (seconds), and the vertical axis represents ClO 2 ⁇ concentration.
  • (b) is a plot of pseudo first order rate constant versus styrene concentration.
  • FIG. 10 shows the bond length ( ⁇ ) of the DFT optimized structure by the theoretical calculation at the CAM-B3LYP / 6-311 + G (d, p) level.
  • (a) is ClO 2 ⁇
  • (b) is H + ClO 2 ⁇
  • (c) is Sc 3+ ClO 2 ⁇ .
  • FIG. 10A The bond length of ClO 2 ⁇ Cl—O double bond was calculated to be 1.502 K (FIG. 10A). In H + ClO 2 ⁇ , the bond length of the Cl—O double bond was calculated to be 1.643 ⁇ (FIG. 10B).
  • FIG. 10 (c) when compared with ClO 2 ⁇ , Sc 3+ ClO 2 ⁇ also bond strength is weakened significantly: shows the (ClO 1.818 ⁇ ) that. Cleavage of ClO bond may advantageous possibility to generate ClO ⁇ as strong oxidizing agent in the presence of a substrate.
  • FIG. 15 shows the spin distribution of (a) H + ClO 2 ⁇ and (b) Sc 3+ ClO 2 ⁇ by theoretical calculation at the CAM-B3LYP / 6-311 + G (d, p) level.
  • FIG. 15 shows the spin distribution of (a) H + ClO 2 ⁇ and (b) Sc 3+ ClO 2 ⁇ by theoretical calculation at the CAM-B3LYP / 6-311
  • Sc 3+ ClO ⁇ can be reused by forming Sc 3+ ClO 2 ⁇ by oxidation with a large excess of ClO 2 ⁇ .
  • ClO - also as shown in Scheme (2), ClO 2 - makes it possible to play. Addition of ClO. , Formed by cleavage of the Cl-O bond of Sc 3+ ClO 2 ⁇ , to the ⁇ carbon of styrene gave two isomers. When ⁇ -carbon-ClO bond formation was generated, a chlorine compound was obtained as the final minor product, as shown in Scheme 11.
  • ClO 2 ⁇ is an effective dihydroxylation reagent for styrene as a Lewis acid in the presence of Sc 3+ . According to the present invention, it is possible to provide a unique dihydroxylation route for olefins free from hazardous waste such as heavy metals.
  • Example 8 sodium chlorite (NaClO 2 ) is very stable in a neutral aqueous solution / acetonitrile mixed solution, and no decomposition is observed at all.
  • Sc (OTf) 3 40 mM was added to the 20 mM solution, an absorption band characteristic of the ClO 2 radical (ClO 2 ⁇ ) was immediately observed at 358 nm as the absorption band decayed with NaClO 2 . (FIG. 16).
  • the horizontal axis is wavelength (nm) and the vertical axis is absorbance. As confirmed in Example 8 (FIG. 6), this increase in the absorption band could be observed as a change with time when the concentration of Sc (OTf) 3 was decreased.
  • the reaction was conducted at normal temperature and normal pressure (no light irradiation) in the presence or absence of Sc (OTf) 3 under the following conditions, and the reaction was followed by an ultraviolet-visible absorption spectrum.
  • the ultraviolet-visible absorption spectrum in FIG. 19 (a) shows how triphenylphosphine is converted to triphenylphosphine oxide over time.
  • the horizontal axis is wavelength (nm) and the vertical axis is absorbance.
  • the graph of FIG. 19 (b) represents Sc (OTf) 3 presence and aging of triphenylphosphine (Ph 3 P) concentration in the absence of (Sc 3+).
  • the horizontal axis represents time (seconds), and the vertical axis represents triphenylphosphine (Ph 3 P) concentration (mM).
  • the reaction rate constant k was calculated from this curve, Sc at the absence of 3+ contrast was 9.8 ⁇ 10 -4 S -1, Sc 3+ presence 1.7 in ⁇ 10 the - Since it increased to 3 S ⁇ 1 , it was confirmed that Sc 3+ (Lewis acid) promoted the reaction.
  • [Ph 3 P] 0.4mM
  • the horizontal axis represents wavelength (nm), and the vertical axis represents absorbance.
  • the stoichiometry is as shown in the following reaction formula (6), and it was confirmed that the reaction proceeded almost quantitatively (FIG. 17B).
  • the horizontal axis represents the initial concentration of Ph 3 P
  • an oxidation reaction product of the hydrocarbon or its derivative can be efficiently produced using the hydrocarbon or its derivative as a raw material.
  • a hydrocarbon or a derivative thereof can be efficiently converted into an oxidation reaction product even under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure by an extremely simple method of only light irradiation. It is possible to convert.
  • an oxidation reaction product having a very high industrial utility value such as alcohol, carboxylic acid, ketone, phenol, quinone, etc., using the hydrocarbon or its derivative as a raw material.
  • hydrocarbons such as natural gas can be effectively used as a raw material.
  • a compound that has conventionally only been synthesized using petroleum or the like as a raw material can be synthesized very simply and efficiently using natural gas or the like as a raw material. A great contribution can be made.
  • an oxidation reaction product of the raw material (hydrocarbon or derivative thereof) can be obtained without using a toxic heavy metal catalyst or the like.
  • a toxic heavy metal catalyst or the like in addition to being able to perform the reaction under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure as described above, it is also possible to efficiently obtain the oxidation reaction product by a method with a very low environmental load. .
  • the industrial applicability of the first invention in the present invention is tremendous.
  • an oxidation reaction product of methane can be efficiently produced using methane as a raw material.
  • methane can be efficiently converted into an oxidation reaction product even under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure by an extremely simple method of only light irradiation. Is possible.
  • an oxidation reaction product having an extremely high industrial utility value such as methanol, formic acid, formaldehyde, and methyl hydroperoxide, can be efficiently obtained using the methane as a raw material. You can also.
  • the second invention of the present invention methane such as natural gas can be effectively used as a raw material.
  • methane such as natural gas
  • a compound that has conventionally only been synthesized using petroleum or the like as a raw material can be synthesized very simply and efficiently using natural gas or the like as a raw material.
  • the oxidation reaction product of methane can be obtained without using a toxic heavy metal catalyst or the like.
  • the oxidation reaction product of ethane can be efficiently produced using ethane as a raw material.
  • a hydrocarbon or a derivative thereof can be efficiently converted into an oxidation reaction product even under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure by an extremely simple method of only light irradiation. It is possible to convert.
  • an oxidation reaction product having an extremely high industrial utility value such as ethanol, acetic acid, acetaldehyde, ethyl hydroperoxide can be efficiently obtained using ethane as a raw material. .
  • the third aspect of the present invention ethane contained in hydrocarbons such as natural gas can be effectively used as a raw material.
  • a compound that has conventionally only been synthesized using petroleum or the like as a raw material can be synthesized very simply and efficiently using ethane contained in natural gas or the like as a raw material.
  • the oxidation reaction product of ethane can be obtained without using a toxic heavy metal catalyst or the like.
  • the oxidation reaction product of cyclohexane can be efficiently produced using cyclohexane as a raw material.
  • cyclohexane can be efficiently converted into an oxidation reaction product even under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure by a very simple method of only light irradiation. Is possible.
  • the cyclohexane is used as a raw material, and the industrial utility value such as cyclohexanol, cyclohexanone, cyclohexane hydroperoxide, ring-opening oxide (such as adipic acid) is extremely high.
  • An oxidation reaction product can also be obtained efficiently. Conventionally, such an oxidation reaction product could not be obtained efficiently using hydrocarbon as a raw material.
  • cyclohexane can be effectively used as a raw material. For this reason, according to the fourth aspect of the present invention, a great contribution can be made to energy problems and the like.
  • an oxidation reaction product of cyclohexane can be obtained without using a toxic heavy metal catalyst or the like. According to this, in addition to being able to perform the reaction under extremely mild conditions such as normal temperature and normal pressure as described above, it is also possible to efficiently obtain the oxidation reaction product by a method with a very low environmental load. . Thus, the industrial applicability of the fourth invention in the present invention is tremendous.
  • the reaction can be performed under mild conditions.
  • the method for producing an oxidation reaction product of an olefin of the fifth aspect of the present invention can perform the reaction under mild conditions, so that the reaction can be easily controlled at low cost. Yes, it can be used for a wide range of applications.

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Abstract

本発明における第１の発明は、炭化水素またはその誘導体を原料として、効率よく前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物を製造できる方法を提供することを目的とする。　前記目的を達成するために、本発明における第１の発明による前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法は、原料および二酸化塩素ラジカルの存在下、反応系に光照射する反応工程を含み、前記原料が、炭化水素またはその誘導体であり、前記反応系が、有機相を含む反応系であり、前記有機相が、前記原料および前記二酸化塩素ラジカルを含み、前記反応工程において、前記光照射により、前記原料が酸化され、前記原料の酸化反応生成物を生成することを特徴とする。

Description

炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法、オレフィンの酸化反応生成物の製造方法
　本発明は、炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法、オレフィンの酸化反応生成物の製造方法に関する。
［第１の発明の背景技術］
　アルコール、カルボン酸等は、その産業上利用価値の高さから、種々の方法で工業的に製造されている。例えば、メタノールの製造方法としては、炭化水素の部分燃焼で得られる一酸化炭素と水素ガスとを高温・高圧で反応させる方法が一般的に用いられている。原料となる一酸化炭素および水素ガスは、例えば、メタン（天然ガス）の部分燃焼、水蒸気改質法等により製造することができる。また、発酵等の生化学的方法によりアルコール、カルボン酸等を製造することも一般に行われている。
　さらに、近年は、シェールガス等の天然ガスの有効利用のため、天然ガス中に含まれる炭化水素を酸化して、アルコール等の酸化反応生成物を製造する方法も提案されている。気相反応による製造方法としては、例えば、エタンを、鉄触媒の存在下、一酸化二窒素で酸化してエタノールを製造する方法（非特許文献１）等がある。また、液相反応による製造方法としては、メタンを、鉄触媒の存在下、アセトニトリル溶媒中で、過酸化水素により酸化してメタノールを製造する方法（非特許文献２）等がある。
［第２の発明の背景技術］
　アルコール、カルボン酸等は、その産業上利用価値の高さから、種々の方法で工業的に製造されている。例えば、メタノールの製造方法としては、炭化水素の部分燃焼で得られる一酸化炭素と水素ガスとを高温・高圧で反応させる方法が一般的に用いられている。原料となる一酸化炭素および水素ガスは、例えば、メタン（天然ガス）の部分燃焼、水蒸気改質法等により製造することができる。
　近年は、シェールガス等の天然ガスの有効利用のため、天然ガス中に含まれるメタンを酸化して、メタノール等の酸化反応生成物を製造する方法も提案されている。メタンからメタノールへの酸化は自然界ではメタン資化細菌に含まれるメタンモノオキシゲナーゼが行っている（非特許文献３、４）。一方、人工的にメタンからメタノールを製造する方法として、現在知られている製造方法としては、メタンを、鉄触媒の存在下、アセトニトリル溶媒中で、過酸化水素により酸化してメタノールを製造する方法（非特許文献２）等がある。
［第３の発明の背景技術］
　アルコール、カルボン酸等は、その産業上利用価値の高さから、種々の方法で工業的に製造されている。例えば、発酵等の生化学的方法によりアルコール、カルボン酸等を製造することも一般に行われている。特に、エタンの誘導体であるエタノールおよび酢酸は、発酵等の生化学的方法により製造することが一般的である。
　さらに、近年は、シェールガス等の天然ガスの有効利用のため、天然ガス中に含まれる炭化水素を酸化して、アルコール等の酸化反応生成物を製造する方法も提案されている。気相反応による製造方法としては、例えば、エタンを、鉄触媒の存在下、一酸化二窒素で酸化してエタノールを製造する方法（非特許文献１）等がある。また、液相反応によるアルコールの酸化反応生成物の製造方法としては、メタンを、鉄触媒の存在下、アセトニトリル溶媒中で、過酸化水素により酸化してメタノールを製造する方法（非特許文献２）等がある。
［第４の発明の背景技術］
　シクロヘキサンの酸化生成物である、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノン（KA-オイル）は、種々の方法で工業的に製造されている。例えば、N-ヒドロキシフタルイミドを用いて、マンガン(II)とコバルト(II)触媒下、１００度において、合成される方法が知られている（非特許文献５）。
　光反応によってシクロヘキサンを空気酸化させる方法も知られている。例えば、9-メシチル-10-メチルアクリジニウムイオンを光触媒として用いて塩酸存在下で光照射を行うと、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノンが得られる（非特許文献６）。
［第５の発明の背景技術］
　オレフィンの1,2-ジオールへの酸化は、ファインケミカル又はスペシャリティケミカルにおいて、樹脂、医薬品、染料、殺虫剤や香料組成物等の種々の化学物質の前駆体を製造するための重要な工業プロセスである。オレフィンを酸化して対応するエポキシドおよびアルコールに変換するためのいくつかの方法が、これまでに、無機金属オキソ錯体及び重原子の金属酸化物を使用して報告されている。高原子価のOsVIIIO4は、オレフィンを１，２-ジオールに変換するための酸化の、効果的かつ選択的な試薬である（非特許文献７～１４）。しかし、オスミウム化合物の毒性及び昇華性とその廃棄物は深刻な問題の原因となる。
　一方、ラジカルは、反応性に富むことから、広く利用されている重要な化学種である。例えば、亜塩素酸ナトリウム（NaClO2）は、非毒性かつ安価な酸化試薬であり、ラジカル二酸化塩素(ClO2 ・)の前駆体として使用されてきた（非特許文献１５～１８）。
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［第１の発明が解決しようとする課題］
　しかしながら、炭化水素の部分燃焼による一酸化炭素の製造過程では、大量の二酸化炭素（温室効果ガス）を排出するという問題がある。また、発酵等の生化学的方法による製造においては、例えば、原料となる農作物（例えばトウモロコシ）を栽培する過程における施肥、農薬投下、収穫、運搬などにおいて多くのエネルギーを要するという問題がある。さらに、これらの方法は、炭化水素を原料としてアルコール、カルボン酸等を製造することができないので、天然ガス中等に含まれる炭化水素の有効利用には使えない。
　一方、炭化水素を原料とする酸化反応生成物の製造方法には、以下のような課題がある。まず、気相反応による製造方法では、反応系中における分子の衝突頻度が低いため、反応効率が悪い。一方、酸化剤あるいは触媒を用いた固相・気相の反応が主に研究されているが、炭化水素の固体への吸着特性が低く、効率の良いものは報告されていない。このため、気相反応による製造方法では、高温・高圧等の激しい反応条件が必要であり、製造効率、コスト、安全管理等の問題がある。一方、液相反応による製造方法では、炭化水素（原料）から発生するラジカル（中間体）の反応制御が難しく、副反応が起こりやすい。これらの問題から、炭化水素を原料とする酸化反応生成物の製造方法は、いずれも、前記酸化反応生成物を効率よく製造することが出来ず、産業上の実用化に至っていないのが現状である。
　そこで、本発明における第１の発明は、炭化水素またはその誘導体を原料として、効率よく前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物を製造できる方法を提供することを目的とする。
［第２の発明が解決しようとする課題］
　メタンの部分燃焼による一酸化炭素の製造過程では、大量の二酸化炭素（温室効果ガス）を排出するという問題がある。この問題を解決するためにメタン分子を燃焼せずに活性化させる必要がある。しかし、メタンは、その主な化学的性質として強固な炭素-水素結合（104kcal/mol）と高い対称性に起因する双極性モーメントの欠如が挙げられるように、最も不活性な炭化水素であるため、燃焼させずに活性化させることが困難である。また、水素ガス製造の価格も問題である。
　燃焼させずにメタンの炭素-水素結合を開裂させる手段としては、塩素ラジカルが知られている。塩素ラジカルは通常、塩素ガスに光照射を行うことで得られる。しかしながら、この方法では塩素１分子あたり塩素ラジカルが２分子生成するために、一方の塩素ラジカルが、メタンの炭素-水素結合を開裂させメチルラジカルを作り出したとしても、他方の塩素ラジカルと付加反応が起こり塩化メタンを生成する。すなわち、この方法では、利用価値が低い塩化メタンのみが得られ、メタノール、ギ酸等の利用価値の高い酸化反応生成物を得ることはできない。
　また、前述の、メタン資化細菌に含まれるメタンモノオキシゲナーゼを利用したメタノール等の製造（非特許文献３、４）については、メタンモノオキシゲナーゼが単離精製されその性質が調べられている。しかし、未だ不明な点が多く残されており、試験管内における酸化反応でさえ困難をきわめており、実用化には程遠い。
　一方、ガス状の炭化水素を原料とする酸化反応生成物の製造方法には、以下のような課題がある。まず、気相反応による製造方法では、反応系中における分子の衝突頻度が低いため、反応効率が悪い。一方、酸化剤あるいは触媒を用いた固相・気相の反応が主に研究されているが、炭化水素の固体への吸着特性が低く、効率の良いものは報告されていない。このため、気相反応による製造方法では、高温・高圧等の激しい反応条件が必要であり、製造効率、コスト、安全管理等の問題がある。一方、液相反応による製造方法（例えば、非特許文献３等）では、炭化水素（原料）から発生するラジカル（中間体）の反応制御が難しく、副反応が起こりやすいため、収率や選択性に問題点がある。これらの問題から、炭化水素を原料とする酸化反応生成物の製造方法は、いずれも、前記酸化反応生成物を効率よく製造することが出来ず、産業上の実用化に至っていないのが現状である。
　そこで、本発明における第２の発明は、メタンを原料として、効率よくメタンの酸化反応生成物を製造できる方法を提供することを目的とする。
［第３の発明が解決しようとする課題］
　しかしながら、発酵等の生化学的方法による製造においては、例えば、原料となる農作物（例えばトウモロコシ）を栽培する過程における施肥、農薬投下、収穫、運搬などにおいて多くのエネルギーを要するという問題がある。さらに、これらの方法は、炭化水素を原料としてアルコール、カルボン酸等を製造することができないので、天然ガス中等に含まれる炭化水素の有効利用には使えない。
　一方、炭化水素を原料とする酸化反応生成物の製造方法には、以下のような課題がある。まず、気相反応による製造方法では、反応系中における分子の衝突頻度が低いため、反応効率が悪い。一方、酸化剤あるいは触媒を用いた固相・気相の反応が主に研究されているが、炭化水素の固体への吸着特性が低く、効率の良いものは報告されていない。このため、気相反応による製造方法では、高温・高圧等の激しい反応条件が必要であり、製造効率、コスト、安全管理等の問題がある。一方、液相反応による製造方法では、炭化水素（原料）から発生するラジカル（中間体）の反応制御が難しく、副反応が起こりやすい。これらの問題から、炭化水素を原料とする酸化反応生成物の製造方法は、いずれも、前記酸化反応生成物を効率よく製造することが出来ず、産業上の実用化に至っていないのが現状である。
　そこで、本発明における第３の発明は、エタンを原料として、効率よくエタンの酸化反応生成物を製造できる方法を提供することを目的とする。
［第４の発明が解決しようとする課題］
　しかしながら、重金属触媒と高温を必要とするプロセスは、環境負荷が高いことが問題である。
　一方、9-メシチル-10-メチルアクリジニウムイオンを光触媒とする方法では、生成物の収率の低さ、反応時間の長さに問題が残されている。
　そこで、本発明における第４の発明は、シクロヘキサンを原料として、効率よくシクロヘキサンの酸化反応生成物を製造できる方法を提供することを目的とする。
［第５の発明が解決しようとする課題］
　しかしながら、一般に、ラジカルを発生させるためには、大きいエネルギーが必要である。このため、高温にするための加熱等が必要であり、コストや反応制御上の問題がある。そこで、本発明における第５の発明は、温和な条件下で反応を行うことができるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法を提供することを目的とする。
［第１の発明による、課題を解決するための手段］
　前記目的を達成するために、本発明における第１の発明による前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物の製造方法（以下、単に「本発明における第１の発明の製造方法」、「第１の発明の製造方法」または「第１の発明」ということがある。）は、原料および二酸化塩素ラジカルの存在下、反応系に光照射する反応工程を含み、前記原料が、炭化水素またはその誘導体であり、前記反応系が、有機相を含む反応系であり、前記有機相が、前記原料および前記二酸化塩素ラジカルを含み、前記反応工程において、前記光照射により、前記原料が酸化され、前記原料の酸化反応生成物を生成することを特徴とする。
［第２の発明による、課題を解決するための手段］
　前記目的を達成するために、本発明における第２の発明によるメタンの酸化反応生成物の製造方法（以下、単に「本発明における第２の発明の製造方法」、「第２の発明の製造方法」または「第２の発明」ということがある。）は、メタンおよび二酸化塩素ラジカルの存在下、反応系に光照射する反応工程を含み、前記反応系が、有機相を含む反応系であり、前記有機相が、前記メタンおよび前記二酸化塩素ラジカルを含み、前記反応工程において、前記光照射により、前記メタンが酸化され、前記メタンの酸化反応生成物を生成することを特徴とする。
［第３の発明による、課題を解決するための手段］
　前記目的を達成するために、本発明における第３の発明によるエタンの酸化反応生成物の製造方法（以下、単に「本発明における第３の発明の製造方法」、「第３の発明の製造方法」または「第３の発明」ということがある。）は、エタンおよび二酸化塩素ラジカルの存在下、反応系に光照射する反応工程を含み、前記反応系が、有機相を含む反応系であり、前記有機相が、前記エタンおよび前記二酸化塩素ラジカルを含み、前記反応工程において、前記光照射により、前記エタンが酸化され、前記エタンの酸化反応生成物を生成することを特徴とする。
［第４の発明による、課題を解決するための手段］
　前記目的を達成するために、本発明における第４の発明によるシクロヘキサンの酸化反応生成物の製造方法（以下、単に「本発明における第４の発明の製造方法」、「第４の発明の製造方法」または「第４の発明」ということがある。）は、シクロヘキサンおよび二酸化塩素ラジカルの存在下、反応系に光照射する反応工程を含み、前記反応系が、有機相を含む反応系であり、前記有機相が、前記シクロヘキサンおよび前記二酸化塩素ラジカルを含み、前記反応工程において、前記光照射により、前記シクロヘキサンが酸化され、前記シクロヘキサンの酸化反応生成物を生成することを特徴とする。
［第５の発明による、課題を解決するための手段］
　前記目的を達成するために、本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法（以下、単に「本発明における第５の発明の製造方法」、「第５の発明の製造方法」または「第５の発明」ということがある。）は、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、を作用させてラジカルを発生させるラジカル発生工程と、前記ラジカルを酸化剤としてオレフィンを酸化する酸化反応工程と、を含むことを特徴とする。
［第１の発明の効果］
　本発明における第１の発明の製造方法によれば、炭化水素またはその誘導体を原料として、効率よく前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物を製造できる。
［第２の発明の効果］
　本発明における第２の発明の製造方法によれば、メタンを原料として、効率よくメタンの酸化反応生成物を製造できる。
［第３の発明の効果］
　本発明における第３の発明の製造方法によれば、エタンを原料として、効率よくエタンの酸化反応生成物を製造できる。
［第４の発明の効果］
　本発明における第４の発明の製造方法によれば、シクロヘキサンを原料として、効率よくシクロヘキサンの酸化反応生成物を製造できる。
［第５の発明の効果］
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法は、温和な条件下で反応を行うことができるため、低コストで、反応の制御が容易である。
図１は、二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）に光照射した場合についての、UCAM-B3LYP/6-311+G(d,p)　def2TZV計算結果による予測の一例である。 図２は、第１の発明の製造方法における反応工程の一例を模式的に示す図である。 図３は、第２の発明の製造方法における反応工程の一例を模式的に示す図である。 図４は、第３の発明の製造方法における反応工程の一例を模式的に示す図である。 図５は、第４の発明の製造方法における反応工程の一例を模式的に示す図である。 図６は、298Kの水溶液中でSc(OTf)3（10mM）と混合した後、0、4および16時間で採取されたNaClO2（5.0mM）の紫外線+可視吸収スペクトルである。 図７（a）は、298Kの水溶液（0.20M酢酸緩衝液pH2.9）中のSc(OTf)3（10mM）とNaClO2（5.0mM）の反応によるSc3+(ClO2 ・)の形成の、358nmでのUV-Vis吸収の時間プロファイルである。(b)は、二次プロットである。 図８（a）は、298KのMeCN/H2O(1:1v/v)溶液中におけるスチレン（30～90mM）存在下でのSc3+(ClO2 ・)の消費における、358nmでのUV-Vis吸収の時間プロファイルである。(b)は、擬一次速度定数対スチレン濃度のプロットである。 図９は、MeCN溶液の298Kで測定したEPRスペクトルである。(a)は、NaClO2(0.10mM)含有MeCN溶液の353Kにおける1時間還流後のスペクトルである。(b)は、NaClO2(0.10mM)およびCF3COOH(10mM)含有MeCN溶液のスペクトルである。(c)は、NaClO2(0.10mM)およびSc(OTf)3(10mM)含有MeCN溶液のスペクトルである。 図１０は、CAM‐B3LYP/6‐311+G(d,p)レベルの理論計算による、DFT最適化構造の結合長（Å）である。(a)はClO2 ・、(b)はH+ClO2 ・、(c)はSc3+ClO2 ・である。 図１１は、室温（２５℃）で水性のMeCN溶液(MeCN/H2O　1:1v/v)中NaClO2(20mM)によるスチレン(2.0mM)の反応を1HNMRで追跡した結果を示すスペクトル図である。 図１２は、スチレン(66mM)およびNaClO2(200mM)を含むCD3CN/D2O(4:1　v/v)の混合後６０℃（333K）で０時間および２５時間後の1HNMRスペクトルを示す。*印は、スチレンオキシド由来のピークである。 図１３は、スチレン(2.0mM)、NaClO2(20mM)およびSc(OTf)3(30mM)を含むCD3CN/D2O(1:1　v/v)の混合後、２５℃で０．６時間後および１７時間後の1HNMRスペクトルを示す。*印および†印は、それぞれ、1-フェニルエタン-1,2-ジオール、および2-クロロ-1-フェニルエタノールに由来するピークである。 図１４は、スチレン(2.0mM)、NaClO2(20mM)およびCF3COOD(30mM)を含むCD3CN/D2O(1:1　v/v)の混合後、０．５時間後および１７時間後の1HNMRスペクトルを示す。*印および†印は、それぞれ、1-フェニルエタン-1,2-ジオール、および2-クロロ-1-フェニルエタノールに由来するピークである。 図１５は、(a)H+ClO2 ・および(b)Sc3+ClO2 ・の、CAM-B3LYP/6-311+G(d,p)レベルの理論計算による、スピン分布を示す図である。 図１６は、298Kの水溶液中でSc(OTf)3（40mM）と混合した後、採取されたNaClO2（20mM）の紫外線+可視吸収スペクトルである。 図１７（ａ）は、NaClO2およびスカンジウムトリフレートを用いたトリフェニルフォスフィンの酸化反応を追跡した紫外可視吸収スペクトルである。図１７（ｂ）は、図１７（ａ）の反応におけるPh3Pの初期濃度と生成したPh3P=Oの濃度との関係を示すグラフである。 図１８は、スチレン(2.0mM)、NaClO2(6.0mM)およびSc(OTf)3(5.6mM)を含むCD3CN/D2O(1:1　v/v)の混合後、Ａｒ雰囲気中、２５℃で０時間後および４５時間後の1HNMRスペクトルを示す。 図１９（ａ）の紫外可視吸収スペクトルは、経時変化によりトリフェニルフォスフィンがトリフェニルフォスフィンオキシドに変換される様子を示す。図１９（ｂ）のグラフは、Sc(OTf)3（Sc3+）の存在下および非存在下でのトリフェニルフォスフィン（Ph3P）濃度の経時変化を表す。
　以下、本発明について、例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。
［第１～第４の発明を実施するための形態］
　本発明による第１の発明において、例えば、前記原料がメタンであっても良い。本発明による第２の発明は、本発明による第１の発明において、前記原料がメタンである場合である。
　本発明による第１の発明において、例えば、前記原料がエタンであっても良い。本発明による第３の発明は、本発明による第１の発明において、前記原料がエタンである場合である。
　本発明による第１の発明において、例えば、前記原料がシクロヘキサンであっても良い。本発明による第４の発明は、本発明による第１の発明において、前記原料がシクロヘキサンである場合である。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、前記反応工程において、少なくとも前記有機相に光照射しても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、さらに、前記二酸化塩素ラジカルを生成させる二酸化塩素ラジカル生成工程を含んでいても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、前記反応系が、さらに水相を含む二相反応系であっても良い。この場合において、本発明の製造方法は、さらに、前記二酸化塩素ラジカルを生成させる二酸化塩素ラジカル生成工程を含んでいても良く、前記二酸化塩素ラジカル生成工程において、前記水相が、前記二酸化塩素ラジカルの発生源を含み、前記二酸化塩素ラジカルの発生源から前記二酸化塩素ラジカルを生成させても良い。また、前記二酸化塩素ラジカル生成工程において、例えば、前記二酸化塩素ラジカルの発生源が亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）であり、前記亜塩素酸イオンにルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方を作用させて前記二酸化塩素ラジカルを生成させても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、前記反応工程後、さらに、前記酸化反応生成物の回収工程を含み、前記回収工程が、前記反応系から、前記酸化反応生成物を含む前記水相を回収する工程であっても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、例えば、温度がマイナス１００～２００℃であり、圧力が０．１～１０ＭＰａである雰囲気下で行なっても良い。または、本発明の製造方法は、例えば、温度が０～４０℃であり、圧力が０．１～０．５ＭＰａである雰囲気下で行なっても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、例えば、前記反応工程において、前記水相に酸素（Ｏ２）が溶解した状態で光照射しても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法において、前記有機相は、例えば、有機溶媒を含む。前記有機溶媒は、例えば、炭化水素溶媒、ハロゲン化溶媒、またはフルオラス溶媒であっても良い。また、例えば、本発明による第１の発明の製造方法で、前記原料がシクロヘキサンである場合（すなわち、本発明による第４の発明の製造方法）において、前記シクロヘキサンが、前記酸化反応生成物の原料と、前記有機溶媒とを兼ねていても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法において、例えば、前記原料における前記炭化水素が、飽和炭化水素であっても良い。前記飽和炭化水素は、前記のとおり、例えば、メタン、エタンまたはシクロヘキサンであっても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法において、例えば、前記原料における前記炭化水素が、非芳香族不飽和炭化水素であっても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法において、例えば、前記原料における前記炭化水素が、芳香族炭化水素であっても良い。前記芳香族炭化水素は、例えば、ベンゼンであっても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法において、前記原料における前記炭化水素が、飽和炭化水素または非芳香族不飽和炭化水素である場合、例えば、前記酸化反応生成物が、アルコール、カルボン酸、アルデヒド、ケトン、過カルボン酸、およびヒドロペルオキシドからなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法で、前記原料における前記炭化水素がメタンである場合（すなわち、本発明による第２の発明の製造方法）において、例えば、前記酸化反応生成物が、メタノール、ギ酸、ホルムアルデヒド、およびメチルヒドロペルオキシドの少なくとも一つを含んでいても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法で、前記原料における前記炭化水素がエタンである場合（すなわち、本発明による第３の発明の製造方法）において、例えば、前記酸化反応生成物が、エタノール、酢酸、アセトアルデヒド、およびエチルヒドロペルオキシドの少なくとも一つを含んでいても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法で、前記原料における前記炭化水素がシクロヘキサンである場合（すなわち、本発明による第４の発明の製造方法）において、例えば、前記酸化反応生成物が、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサンヒドロペルオキシド、および開環酸化物（例えばアジピン酸など）の少なくとも一つを含んでいても良い。
　本発明による第１の発明の製造方法において、前記原料における前記炭化水素が芳香族炭化水素である場合、例えば、前記酸化反応生成物が、フェノールおよびキノンの少なくとも一方を含んでいても良い。なお、「フェノール」は、ヒドロキシベンゼンを意味する場合と、芳香族（例えば芳香族炭化水素またはヘテロ芳香族）核の水素原子をヒドロキシ基（水酸基）で置換した芳香族ヒドロキシ化合物全般（ヒドロキシベンゼンを含む）を意味する場合とがあるが、本発明では、特に断らない限り、後者とする。また、「キノン」は、ｐ－ベンゾキノンを意味する場合と、芳香族（例えば芳香族炭化水素またはヘテロ芳香族）中の芳香環（例えばベンゼン環）の水素２原子を酸素２原子で置換した構造のジカルボニル化合物全般（ｐ－ベンゾキノンおよびｏ－ベンゾキノンを含む）を意味する場合とがあるが、本発明では、特に断らない限り、後者とする。
　本発明による第１の発明の製造方法において、前記原料における前記炭化水素がベンゼンである場合、例えば、前記酸化反応生成物が、ヒドロキシベンゼン、ｐ－ベンゾキノン、о－ベンゾキノン、ヒドロキノン、およびカテコールの少なくとも一つを含んでいても良い。
　本発明による第１～第４の発明の製造方法は、より具体的には、例えば、以下のようにして行なうことができる。
［１．炭化水素またはその誘導体］
　まず、原料（基質）である炭化水素またはその誘導体を準備する。前記原料は、炭化水素自体でも良いが、その誘導体であっても良い。
　前記炭化水素は、特に限定されず、例えば、非芳香族でも芳香族でも良いし、飽和でも不飽和でも良い。より具体的には、前記炭化水素は、例えば、直鎖状または分枝状の飽和または不飽和炭化水素（例えば、直鎖状または分枝状のアルカン、直鎖状または分枝状のアルケン、直鎖状または分枝状のアルキン等）であっても良い。また、前記炭化水素は、例えば、非芳香族の環状構造を含む飽和または不飽和炭化水素（例えば、シクロアルカン、シクロアルケン等）であっても良い。また、前記炭化水素は、芳香族炭化水素であっても良い。また、前記炭化水素は、その構造中に、芳香族または非芳香族の環をそれぞれ１または複数有していても有していなくても良く、直鎖状または分枝状の飽和または不飽和炭化水素の炭化水素基を、それぞれ１または複数有していても有していなくても良い。前記炭化水素の具体例としては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ｎ－ブタン、２－メチルプロパン、ｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサン、エチレン、プロピレン、１，３－ブタジエン、アセチレン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキセン、ベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、メシチレン、デュレン、ビフェニル、ナフタレン、１－メチルナフタレン、２－メチルナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、スチレン等が挙げられる。
　また、本発明において、炭化水素の「誘導体」は、ヘテロ元素（炭素および水素以外の元素）を含む有機化合物とする。前記ヘテロ元素としては、特に限定されないが、例えば、酸素（Ｏ）、窒素（Ｎ）、硫黄（Ｓ）、ハロゲン等が挙げられる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素（Ｆ）、塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）、ヨウ素（Ｉ）等が挙げられる。前記誘導体は、例えば、炭化水素基と、任意の置換基または原子団とが結合した構造の有機化合物であっても良い。また、例えば、複数の炭化水素基が任意の原子団により結合された構造の化合物であっても良く、さらに、前記炭化水素基が任意の1または複数の置換基により置換されていても良いし、置換されていなくても良い。そして、前記炭化水素基の部分を前記反応工程において酸化反応により酸化することで、前記炭化水素の誘導体の酸化反応生成物を製造しても良い。前記炭化水素基は、特に限定されないが、例えば、前記炭化水素から誘導される１価または２価以上の基が挙げられる。前記炭化水素基は、例えば、その炭素原子の１または２以上がヘテロ原子に置き換わっていても良い。具体的には、例えば、フェニル基の１つの炭素原子（およびそれに結合した水素原子）が窒素原子に置き換わっていることで、ピリジル基を形成していても良い。また、前記置換基または原子団としては、特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、ハロゲン基（フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等）、アルコキシ基、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、置換基を有するか有しないアミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基等）、エーテル結合（－Ｏ－）、エステル結合（－ＣＯ－Ｏ－）、チオエーテル結合（－Ｓ－）等が挙げられる。
　なお、本発明において、鎖状化合物（例えば、アルカン、不飽和脂肪族炭化水素等）または鎖状化合物から誘導される鎖状置換基（例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基等の炭化水素基）は、特に断らない限り、直鎖状でも分枝状でも良く、その炭素数は、特に限定されないが、例えば、１～４０、１～３２、１～２４、１～１８、１～１２、１～６、または１～２（不飽和炭化水素基の場合は２以上）であっても良い。また、本発明において、環状の化合物（例えば、環状飽和炭化水素、非芳香族環状不飽和炭化水素、芳香族炭化水素、ヘテロ芳香族化合物等）または環状の化合物から誘導される環状の基（例えば、環状飽和炭化水素基、非芳香族環状不飽和炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基等）の環員数（環を構成する原子の数）は、特に限定されないが、例えば、５～３２、５～２４、６～１８、６～１２、または６～１０であっても良い。また、置換基等に異性体が存在する場合は、特に断らない限り、どの異性体でも良く、例えば、単に「ナフチル基」という場合は、１－ナフチル基でも２－ナフチル基でも良い。
　また、本発明において、化合物（例えば、前記電子供与体・受容体連結分子等）に互変異性体または立体異性体（例：幾何異性体、配座異性体および光学異性体）等の異性体が存在する場合は、特に断らない限り、いずれの異性体も本発明に用いることができる。また、化合物（例えば、前記電子供与体・受容体連結分子等）が塩を形成し得る場合は、特に断らない限り、前記塩も本発明に用いることができる。前記塩は、酸付加塩でも良いが、塩基付加塩でも良い。さらに、前記酸付加塩を形成する酸は無機酸でも有機酸でも良く、前記塩基付加塩を形成する塩基は無機塩基でも有機塩基でも良い。前記無機酸としては、特に限定されないが、例えば、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜フッ素酸、亜塩素酸、亜臭素酸、亜ヨウ素酸、フッ素酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、過フッ素酸、過塩素酸、過臭素酸、および過ヨウ素酸等があげられる。前記有機酸も特に限定されないが、例えば、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、ｐ－ブロモベンゼンスルホン酸、炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸および酢酸等があげられる。前記無機塩基としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩等があげられ、より具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウムおよび炭酸カルシウム等があげられる。前記有機塩基も特に限定されないが、例えば、エタノールアミン、トリエチルアミンおよびトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等があげられる。これらの塩の製造方法も特に限定されず、例えば、前記化合物に、前記のような酸や塩基を公知の方法により適宜付加させる等の方法で製造することができる。
　なお、前記原料（基質）基質は、前述のとおり、本発明による第２の発明ではメタンであり、第３の発明ではエタンであり、第４の発明ではシクロヘキサンである。
［２．反応系］
　つぎに、前記反応系を準備する。前記反応系は、前述のとおり、有機相を含む。前記反応系は、例えば、有機相のみを含む一相反応系でもよいし、有機相と水相とを含む二相反応系でもよい。
（１）有機相
　まず、前記有機相について説明する。
　前記有機相は、前述のとおり、前記原料（炭化水素またはその誘導体）を含む。前記有機相は、例えば、前記原料が有機溶媒に溶解した有機相である。
　前記有機溶媒は、特に限定されない。前記反応系が、水相と有機相を含む二相反応系の場合、前記有機溶媒は、前記二相系を形成し得る溶媒が好ましい。また、前記有機溶媒は、１種類のみ用いても複数種類併用しても良い。前記有機溶媒としては、例えば、前述のとおり、炭化水素溶媒、ハロゲン化溶媒、フルオラス溶媒等が挙げられる。なお、「フルオラス溶媒」は、ハロゲン化溶媒の１種であり、例えば、炭化水素の水素原子の全てまたは大部分がフッ素原子に置換された溶媒をいう。前記フルオラス溶媒は、例えば、炭化水素の水素原子数の５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、または９０％以上がフッ素原子に置換された溶媒であっても良い。
　前記炭化水素溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ｎ－ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン等が挙げられる。また、例えば、前記炭化水素溶媒が、原料である前記炭化水素を兼ねていても良い。
　前記ハロゲン化溶媒としては、特に限定されないが、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、および後述するフルオラス溶媒等が挙げられる。
　前記フルオラス溶媒の例としては、例えば、下記化学式（Ｆ１）～（Ｆ６）で表される溶媒等が挙げられ、その中でも、例えば、ＣＦ３（ＣＦ２）４ＣＦ３等が好ましい。フルオラス溶媒を用いることにより、例えば、溶媒自体の反応性が低いために、副反応を抑制または防止できるという利点がある。前記副反応としては、例えば、溶媒の酸化反応、塩素ラジカルによる溶媒の水素引き抜き反応や塩素化反応、および、前記原料（基質）由来のラジカルと溶媒との反応（例えば、前記原料がメタンの場合において、メチルラジカルと溶媒との反応）等が挙げられる。また、フルオラス溶媒は水と混和しにくいことにより、反応系（フルオラス相）と生成物回収系（水相）を分けることができるために、生成物のさらなる酸化反応を抑制する働きがある。
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　なお、前記有機溶媒の沸点については、特に限定されず、適宜選択可能である。前記反応工程において、温度を高温にする必要がある場合は、高沸点溶媒を選択することが好ましい。しかし、本発明の製造方法は、例えば、後述するように、加熱を行なわずに（例えば、常温常圧で）行なうことも可能である。そのような場合は、高沸点溶媒である必要はなく、むしろ、取扱い易さの観点から、沸点があまり高くない溶媒が好ましい。
　また、本発明において、「溶媒」（例えば、前記有機相における有機溶媒または前記水相における水）は、原料（前記炭化水素またはその誘導体）、ルイス酸、ブレーンステッド酸、ラジカル発生源等を溶解しても良いが、溶解しなくても良い。例えば、前記原料、ルイス酸、ブレーンステッド酸、ラジカル発生源等が、前記溶媒中に分散したり沈殿したりした状態で本発明の製造方法を行なっても良い。
　前記有機相中における、原料（基質）である前記炭化水素またはその誘導体の濃度は、特に限定されないが、例えば、０．０００１ｍｏｌ／Ｌ以上であっても良く、６０ｍｏｌ／Ｌ以下であっても良い。
　また、前記有機相は、前記原料（炭化水素またはその誘導体）および前記有機溶媒以外の他の成分を含んでいても良いし、含んでいなくても良い。前記他の成分としては、特に限定されないが、例えば、ブレーンステッド酸、ルイス酸、および酸素（Ｏ２）等が挙げられる。
　前記有機相は、前述のように、前記二酸化塩素ラジカルを含む。前記反応系が、前記有機相のみの一相系である場合、例えば、前記二酸化塩素ラジカルを、前記反応系を構成する前記有機相以外で、別途、生成させ、生成した前記ラジカルを前記有機相により抽出してもよい。そして、この抽出した前記二酸化ラジカルを含む前記有機相を、前記反応系として、前記反応工程に供することができる。前記二酸化ラジカルの生成は、例えば、後述するように、別途準備した水相中で行うことができる（二酸化塩素ラジカル生成工程）。他方、前記反応系が、前記有機相と水相とを含む二相系である場合、例えば、前記反応系のうち、前記水相において、前記二酸化塩素ラジカルを生成させ、生成した二酸化塩素ラジカルを、前記有機相において、前記水相から抽出してもよい。そして、前記水相と前記二酸化塩素ラジカルを含む有機相とを含む二相反応系を、前記反応工程に供することができる。
（２）水相
　つぎに、前記水相について説明する。前述のように、前記反応系は、前記有機相の他に、水相を含む二相反応系でもよい。また、前記反応系が、前記有機相のみの一相系である場合、前述のように、前記二酸化塩素ラジカルの生成のために、別途、前記水相を使用することもできる。
　前記水相は、例えば、二酸化塩素ラジカルの発生源を含んでいても良い。前記二酸化塩素ラジカルの発生源としては、例えば、後述するように、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）等が挙げられる。また、前記水相は、例えば、さらに、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方を含んでいても良い。前記水相は、例えば、亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）とブレーンステッド酸とを含む。前記水相は、例えば、前記亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）とブレーンステッド酸（例えば塩酸）が水に溶解した水相である。例えば、前記亜塩素酸ナトリウムとブレーンステッド酸が前記水相に溶解した状態で、後述する光照射（反応工程）を開始しても良い。または、前記二酸化塩素ラジカルの発生源が水相に含まれた状態で、前記有機相と前記水相とを接触させ、前記水相に光照射することで前記二酸化塩素ラジカルを発生させても良い。そして、そのまま光照射を続けることで、前記反応工程を行なっても良い。
　前記水相は、例えば、前記二酸化塩素ラジカルの発生源を水と混合して製造することができる。また、さらに、前記二酸化塩素ラジカルの発生源および水以外の他の成分を適宜混合しても良いし、しなくても良い。前記他の成分としては、特に限定されないが、例えば、前記ルイス酸、前記ブレーンステッド酸、および前記酸素（Ｏ２）が挙げられる。
　前記二酸化塩素ラジカルの発生源は、特に限定されないが、例えば、亜塩素酸（ＨＣｌＯ２）またはその塩である。亜塩素酸の塩としては、特に限定されないが、例えば、金属塩でも良い。前記金属塩は、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、希土類塩等でも良く、より具体的には、例えば、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）、亜塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ２）、亜塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ２）、亜塩素酸マグネシウム（Ｍｇ（ＣｌＯ２）２）、亜塩素酸カルシウム（Ｃａ（ＣｌＯ２）２）等が挙げられる。これら亜塩素酸およびその塩は、１種類のみ用いても、複数種類併用しても良い。これらの中でも、コスト、取扱い易さ等の観点から、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）が好ましい。
　前記水相中において、前記亜塩素酸またはその塩の濃度は、特に限定されないが、亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）濃度に換算して、例えば、０．０００１ｍｏｌ／Ｌ以上であっても良く、１ｍｏｌ／Ｌ以下であっても良い。また、前記亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）のモル数は、例えば、前記原料（炭化水素またはその誘導体）のモル数の１／１０００００倍以上であっても良く、１０００倍以下であっても良い。
　前記ルイス酸およびブレーンステッド酸は、１種類のみ用いても良いし、複数種類併用しても良い。また、ルイス酸およびブレーンステッド酸の一方のみを用いても両方を併用しても良いし、１つの物質がルイス酸およびブレーンステッド酸を兼ねていても良い。なお、本発明において、「ルイス酸」は、例えば、前記二酸化塩素ラジカル発生源に対してルイス酸として働く物質をいう。
　前記水相中における、前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方の濃度は、特に限定されず、例えば、原料（基質）および目的生成物（酸化反応生成物）の種類等に応じて適宜設定することができるが、例えば、０．０００１ｍｏｌ／Ｌ以上であっても良く、１ｍｏｌ／Ｌ以下であっても良い。
　前記ルイス酸は、例えば、有機物質でも良いし無機物質でも良い。前記有機物質としては、例えば、アンモニウムイオン、有機酸（例えばカルボン酸）等であっても良い。前記無機物質は、金属イオンおよび非金属イオンの一方または両方を含んでいても良い。前記金属イオンは、典型金属イオンおよび遷移金属イオンの一方または両方を含んでいても良い。前記無機物質は、例えば、アルカリ土類金属イオン（例えばＣａ２＋等）、希土類イオン、Ｍｇ２＋、Ｓｃ３＋、Ｌｉ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ａｌ３＋、ケイ酸イオン、およびホウ酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。前記アルカリ土類金属イオンとしては、例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、またはラジウムのイオンが挙げられ、より具体的には、例えば、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、およびＲａ２＋が挙げられる。また、「希土類」は、スカンジウム２１Ｓｃ、イットリウム３９Ｙの２元素と、ランタン５７Ｌａからルテチウム７１Ｌｕまでの１５元素（ランタノイド）の計１７元素の総称である。希土類イオンとしては、例えば、前記１７元素のそれぞれに対する３価の陽イオンが挙げられる。また、前記ルイス酸のカウンターイオンとしては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３ －、またはＯＴｆ－とも表記する）、トリフルオロ酢酸イオン（ＣＦ３ＣＯＯ－）、酢酸イオン、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン等が挙げられる。例えば、前記ルイス酸が、スカンジウムトリフレート（Ｓｃ（ＯＴｆ）３）等であっても良い。
　また、前記ルイス酸（カウンターイオンも含む）は、例えば、ＡｌＣｌ３、ＡｌＭｅＣｌ２、ＡｌＭｅ２Ｃｌ、ＢＦ３、ＢＰｈ３、ＢＭｅ３、ＴｉＣｌ４、ＳｉＦ４、およびＳｉＣｌ４からなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。ただし、「Ｐｈ」はフェニル基を表し、「Ｍｅ」はメチル基を表す。
　前記ルイス酸のルイス酸性度は、例えば、０．４ｅＶ以上であるが、これには限定されない。前記ルイス酸性度の上限値は、特に限定されないが、例えば、２０ｅＶ以下である。なお、前記ルイス酸性度は、例えば、Ohkubo,　K.;　Fukuzumi,　S.　Chem.　Eur.　J.,　2000,　6,　4532、J.　AM.　CHEM.　SOC.　2002,　124,　10270-10271、またはJ.　Org.　Chem.　2003,　68,　4720-4726に記載の方法により測定することができ、具体的には、下記の方法により測定することができる。
（ルイス酸性度の測定方法）
　下記化学反応式（１ａ）中のコバルトテトラフェニルポルフィリン、飽和Ｏ２およびルイス酸性度の測定対象物（例えば金属等のカチオンであり、下記化学反応式（１ａ）ではＭｎ＋で表される）を含むアセトニトリル（ＭｅＣＮ）を、室温において紫外可視吸収スペクトル変化の測定をする。得られた反応速度定数（kcat）からルイス酸性度の指標であるΔＥ値（ｅＶ）を算出することができる。kcatの値は大きいほど強いルイス酸性度を示す。また、有機化合物のルイス酸性度は、量子化学計算によって算出される最低空軌道（LUMO）のエネルギー準位からも、見積もることができる。正側に大きい値であるほど強いルイス酸性度を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
　前記ブレーンステッド酸としては、特に限定されないが、例えば、無機酸でも有機酸でも良く、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、フッ化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、リン酸、亜リン酸等が挙げられる。前記ブレーンステッド酸の酸解離定数ｐＫａは、例えば１０以下である。前記ｐＫａの下限値は、特に限定されないが、例えば、－１０以上である。
　前記酸素（Ｏ２）については、例えば、前記二酸化塩素ラジカル発生源、前記ルイス酸、前記ブレーンステッド酸、反応基質（原料）等を加える前または加えた後の水中および有機相の少なくとも一方に、空気または酸素ガスを吹き込むことにより、酸素を溶解させても良い。このとき、例えば、前記水中を、酸素（Ｏ２）で飽和させても良い。前記水相および有機相の少なくとも一方が前記酸素（Ｏ２）を含むことで、例えば、原料（基質）である前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応をさらに促進させることができる。
　なお、本発明において、前記水相における水は、前述のとおり、ルイス酸、ブレーンステッド酸、ラジカル発生源等を溶解しても良いが、溶解しなくても良い。例えば、ルイス酸、ブレーンステッド酸、ラジカル発生源等が、水中に分散したり沈殿したりした状態で本発明の製造方法を行なっても良い。
［３．二酸化塩素ラジカル生成工程］
　つぎに、本発明の製造方法において、前述のとおり、前記二酸化塩素ラジカルを生成させる二酸化塩素ラジカル生成工程を行なっても良い。
　前記二酸化塩素ラジカル生成工程は、特に限定されないが、例えば、前記二酸化塩素ラジカル発生源（例えば、亜塩素酸またはその塩）を水に溶解させて静置し、亜塩素酸イオンから二酸化塩素ラジカルを自然発生させることで行なうことができる。このとき、例えば、前記水中に前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方が存在することで、二酸化塩素ラジカルの発生がさらに促進される。また、例えば、前述のとおり、前記水相に光照射することで前記二酸化塩素ラジカルを発生させても良い。しかしながら、前述のとおり、光照射せずに単に静置するのみでも、二酸化塩素ラジカルを発生させることができる。
　水中において亜塩素酸イオンから二酸化塩素ラジカルが発生するメカニズム（機構）については、例えば、下記スキーム１のように推測される。ただし、下記スキーム１は、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。下記スキーム１の第１の（上段の）反応式は、亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）の不均化反応であり、水中にルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方が存在することで、平衡が右側に移動しやすくなると考えられる。下記スキーム１中の第２の（中段の）反応式は、二量化反応であり、第１の反応式で生成した次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ－）と亜塩素酸イオンが反応して二酸化二塩素（Ｃｌ２Ｏ２）を生成する。この反応は、水中にプロトンＨ＋が多いほど、すなわち酸性であるほど進行しやすいと考えられる。下記スキーム１中の第３の（下段の）反応式は、ラジカル生成である。この反応では、第２の反応式で生成した二酸化二塩素が、亜塩素酸イオンと反応して二酸化塩素ラジカルを生成する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　次工程の反応工程において、前記有機相と前記水相とを含む二相反応系を使用する場合は、例えば、前記二相反応系において前記二酸化塩素ラジカルを発生させた後、前記反応系をそのまま反応工程に供すればよい。また、次工程の反応工程において、前記有機相のみを含む一相反応系を使用する場合は、例えば、前記水相で前記二酸化塩素ラジカルを発生させ、発生した前記二酸化塩素ラジカルを前記有機相に抽出した後、前記水相を除去し、二酸化塩素ラジカルを含む前記有機相を前記一相反応系として、反応工程に供すればよい。
［４．反応工程］
　つぎに、前記反応工程を行なう。以下、前記反応工程に使用する前記反応系として、前記有機相と前記水相とを含む二相反応系を例にあげて説明する。
　まず、前記反応工程を行なうに先立ち、前記水相と前記有機相との二相を接触させる。このとき、前記水相と前記有機相とを混合してエマルジョン等の状態にしても良い。しかし、これに代えて、単に、水層（前記水相）と有機層（前記有機相）との二層が分離し、互いに界面のみで接触した状態で、前記反応工程を行なっても良い。
　つぎに、前記反応工程では、例えば、前述のとおり、前記有機相に光照射する。前記有機相中の二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）に光照射した場合、例えば、図１のようになると予測される。図１は、UCAM-B3LYP/6-311+G(d,p)　def2TZVによる計算結果である。図１の左側は、光照射する前の二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）分子の状態を表し、右側は、光照射後の状態を表す。図示のとおり、光照射前は塩素原子Ｃｌに２つの酸素原子Ｏがそれぞれ結合し、Ｃｌ－Ｏの結合長は１．５０２Å（０．１５０２ｎｍ）である。これに対し、光照射後は、一方の酸素原子Ｏのみが塩素原子Ｃｌに結合し、Ｃｌ－Ｏの結合長は２．５１６Å（０．２５１６ｎｍ）となり、他方の酸素原子は前記一方の酸素原子に結合した状態となる。これにより、Ｃｌ－Ｏ結合が切断されて塩素ラジカル（Ｃｌ・）および酸素分子（Ｏ２）が発生すると考えられる。ただし、図１は、計算結果による予測の一例であり、本発明をなんら限定しない。
　図２に、前記反応工程の一例を模式的に示す。図示のとおり、この反応系は、反応容器中において、水層（前記水相）と有機層（前記有機相）との二層が分離し、互いに界面のみで接触している。上層が、水層（前記水相）２であり、下層が、有機層（前記有機相）１である。なお、図２は断面図であるが、見やすさのために、水層及び有機層のハッチは省略している。図示のとおり、水層（水相）中の亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）が酸と反応して、二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）が発生する。二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）は水に難溶であるため、有機層中に溶解する。つぎに、二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）を含む有機層に光照射し、光エネルギーｈν（ｈはプランク定数、νは光の振動数）を与えることで、有機層中の二酸化塩素ラジカル（ＣｌＯ２ ・）が分解して塩素ラジカル（Ｃｌ・）および酸素分子（Ｏ２）が発生する。これにより、有機層（有機相）中の基質（原料、図中において符号ＲＨで表す）が酸化され、酸化反応生成物であるアルコール（図中において、符号Ｒ－ＯＨで表す）を生成する。アルコールは水溶性であるため、水層中に溶解する。ただし、図２は例示であって、本発明をなんら限定しない。例えば、図２は、酸化反応生成物が水溶性のアルコールである例を示しているが、前述のとおり、酸化反応生成物は水溶性のアルコールに限定されず、任意である。また、図２において、有機層（有機相）中の有機溶媒は、例えば、フルオラス溶媒であっても良いが、前記有機溶媒は、前述のとおり、フルオラス溶媒に限定されず、任意である。また、図２では、水層が上層で有機層が下層であるが、例えば、有機層の方が密度（比重）が低い場合は、有機層が上層になる。さらに、本発明の製造方法は、図２のように層分離した状態に限定されず、例えば、前述のとおり、エマルジョン等の状態で行っても良いし、撹拌等をしながら行なうこともできる。
　図３に、前記反応工程の別の一例を模式的に示す。図３は、基質（原料）がメタン（ＣＨ４）であり、酸化反応生成物がメタノール（ＣＨ３－ＯＨ）であること以外は、図２と同様である。メタノールは水溶性であるため、水層中に溶解する。また、図３は、酸化反応生成物がメタノールである例を示しているが、前述のとおり、基質（原料）がメタンである場合の酸化反応生成物は、メタノールに限定されず、任意である。
　図４に、前記反応工程のさらに別の一例を模式的に示す。図４は、基質（原料）がエタン（ＣＨ３ＣＨ３）であり、酸化反応生成物がエタノール（ＣＨ３ＣＨ２－ＯＨ）であること以外は、図２と同様である。エタノールは水溶性であるため、水層中に溶解する。また、図３は、酸化反応生成物がエタノールである例を示しているが、前述のとおり、基質（原料）がエタンである場合の酸化反応生成物は、エタノールに限定されず、任意である。
　図５に、前記反応工程のさらに別の一例を模式的に示す。図５は、基質（原料）がシクロヘキサンであり、酸化反応生成物がシクロヘキサノールであること以外は、図２と同様である。シクロヘキサノールは水溶性であるため、水層中に溶解する。また、図５は、酸化反応生成物がシクロヘキサノールである例を示しているが、前述のとおり、基質（原料）シクロヘキサンである場合の酸化反応生成物はシクロヘキサノールに限定されず、任意である。
　前記反応工程において、照射光の波長は特に限定されないが、例えば、２００ｎｍ以上、であっても良く、８００ｎｍ以下であっても良い。光照射時間も特に限定されないが、例えば、１ｍｉｎ以上であっても良く、１０００ｈ以下であっても良い。反応温度も特に限定されないが、例えば、０℃以上であっても良く、１００℃以下であっても良い。反応時の雰囲気圧も特に限定されないが、例えば、０．１ＭＰａ以上であっても良く、１００ＭＰａ以下であっても良い。本発明によれば、例えば、後述の実施例に示すように、加熱、加圧、減圧等を一切行わずに、常温（室温）および常圧（大気圧）下で、前記反応工程またはそれを含めた全ての工程を行なうことも可能である。なお、「室温」とは、特に限定されないが、例えば、５～３５℃である。また、本発明によれば、例えば、後述の実施例に示すように、不活性ガス置換等を行なわずに、大気中で、前記反応工程またはそれを含めた全ての工程を行なうことも可能である。
　前記光照射において、光源は特に限定されないが、例えば、太陽光等の自然光に含まれる可視光を利用すれば、簡便に励起可能である。また、例えば、前記自然光に代えて、またはこれに加え、キセノンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、水銀ランプ等の光源を適宜用いても良いし、用いなくても良い。さらに、必要波長以外の波長をカットするフィルターを適宜用いても良いし、用いなくても良い。
　エタンの酸化反応によりエタノールが生成されるメカニズム（機構）は、例えば、下記スキーム２のように推測される。ただし、下記スキーム２は、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。下記スキーム２について具体的に説明すると、まず、図１でも示したように、二酸化塩素ラジカルが光照射により分解されて塩素ラジカル（Ｃｌ・）と酸素分子（Ｏ２）が発生する。前記塩素ラジカルは、エタンに対して水素引き抜き剤として働いてエチルラジカル（ＣＨ３ＣＨ２ ・）を発生させる。そして、前記酸素分子が、下記スキーム２に示すようにして前記エチルラジカルを酸化してエタノールを生成させる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　また、亜塩素酸ナトリウムを用いて、メタンの酸化反応によりメタノールおよびギ酸が生成される場合の反応式は、例えば、下記スキーム３のようになる。ただし、下記スキーム３も一例であって、本発明を用いたメタンの酸化反応は、これに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　メタンの酸化反応によりメタノールが生成されるメカニズム（機構）は、例えば、下記スキーム４のように推測される。ただし、下記スキーム４は、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。下記スキーム４について具体的に説明すると、エタンからエタノールが生成する場合（スキーム２）と同様に、まず、二酸化塩素ラジカルが光照射により分解されて塩素ラジカル（Ｃｌ・）と酸素分子（Ｏ２）が発生する。前記塩素ラジカルは、メタンに対して水素引き抜き剤として働いてメチルラジカル（ＣＨ３ ・）を発生させる。そして、前記酸素分子が、下記スキーム４に示すようにして前記メチルラジカルを酸化してメタノールを生成させる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　シクロヘキサンの酸化反応によりシクロヘキサノールが生成されるメカニズム（機構）は、例えば、下記スキーム５のように推測される。ただし、下記スキーム５は、推測されるメカニズムの一例であり、本発明をなんら限定しない。下記スキーム５について具体的に説明すると、まず、図１でも示したように、二酸化塩素ラジカルが光照射により分解されて塩素ラジカル（Ｃｌ・）と酸素分子（Ｏ２）が発生する。前記塩素ラジカルは、シクロヘキサンに対して水素引き抜き剤として働いてシクロヘキシルラジカルを発生させる。そして、前記酸素分子が、下記スキーム５に示すようにして前記シクロヘキシルラジカルを酸化してシクロヘキサノールを生成させる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　また、本発明における第１の発明において、前記原料（基質）は、エタン、メタンまたはシクロヘキサンのみに限定されず、前述のとおり、任意の炭化水素またはその誘導体であっても良い。原料（基質）である前記炭化水素またはその誘導体の例については、例えば、前述のとおりである。
　本発明における第１の発明において、例えば、下記スキームＡのように、前記原料が下記化学式（Ａ１）で表され、その酸化反応生成物が、下記化学式（Ａ２）で表されるアルコールと、下記化学式（Ａ３）で表されるカルボン酸との少なくとも一方であっても良い。下記スキームＡにおいて、Ｒは、任意の原子または原子団であり、例えば、水素原子、炭化水素基またはその誘導体である。前記炭化水素基は任意であり、例えば、直鎖状でも分枝状でも、飽和でも不飽和でも、環状構造を含んでいても含んでいなくても良く、前記環状構造は、芳香環でも非芳香環でも良い。また、例えば、下記スキームＡにおいて、酸化反応生成物が、アルコールおよびカルボン酸の少なくとも一方に加え、またはそれに代えて、アルデヒドを含んでいても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　前記スキームＡにおいて、原料（基質）（Ａ１）がメタンである場合、例えば、下記スキームＡ１のように、酸化反応生成物が、メタノールおよびギ酸の少なくとも一方を含んでいても良い。また、原料（基質）（Ａ１）がエタンである場合、例えば、下記スキームＡ２のように、酸化反応生成物が、エタノールおよび酢酸の少なくとも一方を含んでいても良い。ただし、下記スキームＡ１およびＡ２も例示であり、本発明の製造方法において、メタンまたはエタンの酸化反応は、これに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　また、例えば、下記スキームＢのように、前記原料が下記化学式（Ｂ１）で表され、その酸化反応生成物が、下記化学式（Ｂ２）で表されるアルコールと、下記化学式（Ｂ３）で表されるカルボニル化合物（例えばケトン）との少なくとも一方であっても良い。下記スキームＢにおいて、Ｒは、任意の原子または原子団であり、例えば、炭化水素基またはその誘導体である。前記炭化水素基は任意であり、例えば、直鎖状でも分枝状でも、飽和でも不飽和でも、環状構造を含んでいても含んでいなくても良く、前記環状構造は、芳香環でも非芳香環でも良い。各Ｒは、互いに同一でも異なっていても良い。また、例えば、下記化学式（Ｂ１）、（Ｂ２）および（Ｂ３）のそれぞれにおいて、２つのＲが一体となって、それらが結合する炭素原子とともに環状構造を形成していても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　前記スキームＢにおいて、原料（基質）（Ｂ１）がシクロヘキサンである場合、例えば、下記スキームＢ１のように、酸化反応生成物が、シクロヘキサノールおよびシクロヘキサノンの少なくとも一方を含んでいても良い。ただし、下記スキームＢ１も例示であり、本発明の製造方法において、シクロヘキサンの酸化反応は、これに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　本発明において、例えば、下記スキームＣのように、前記原料が下記化学式（Ｃ１）で表される芳香族化合物であり、その酸化反応生成物が、下記化学式（Ｃ２）で表されるフェノールと、下記化学式（Ｃ３）で表されるキノンとの少なくとも一方であっても良い。下記スキームＣにおいて、各Ｒは、任意の原子または原子団であり、例えば、水素原子、炭化水素基またはその誘導体である。前記炭化水素基は任意であり、例えば、直鎖状でも分枝状でも、飽和でも不飽和でも、環状構造を含んでいても含んでいなくても良く、前記環状構造は、芳香環でも非芳香環でも良い。各Ｒは、互いに同一でも異なっていても良い。また、例えば、下記化学式（Ｃ１）、（Ｃ２）および（Ｃ３）のそれぞれにおいて、２つ以上のＲが一体となって、それらが結合するベンゼン環とともに環状構造を形成していても良い。ただし、下記スキームＣは例示であって、本発明を限定しない。すなわち、前述のとおり、本発明の製造方法において、原料（基質）である芳香族化合物は、下記化学式（Ｃ１）には限定されないし、前記芳香族化合物の酸化反応生成物も、下記（Ｃ２）および（Ｃ３）には限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　前記スキームＣにおいて、原料（基質）（Ｃ１）がベンゼンである場合、例えば、下記スキームＣ１のように、酸化反応生成物が、ヒドロキシベンゼンおよびｐ－ベンゾキノンの少なくとも一方を含んでいても良い。ただし、下記スキームＣ１も例示であり、本発明の製造方法において、ベンゼンの酸化反応は、これに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　なお、前記原料（基質）が芳香族化合物である場合、前記芳香族化合物の芳香環に電子供与基が結合していると、例えば、前記原料芳香族化合物の酸化反応（酸化的置換反応を含む）が進行しやすいため好ましい。前記電子供与基は、１つでも複数でも良く、電子供与性の強いものが好ましい。より具体的には、前記原料芳香族化合物は、芳香環に、－ＯＲ１００、－ＮＲ２００ ２、およびＡｒ１００からなる群から選択される少なくとも一つの置換基が共有結合していることがより好ましい。前記Ｒ１００は、水素原子または任意の置換基であり、Ｒ１００が複数の場合は、各Ｒ１００は同一でも異なっていてもよい。前記Ｒ２００は、水素原子または任意の置換基であり、各Ｒ２００は同一でも異なっていてもよい。前記Ａｒ１００は、アリール基であり、Ａｒ１００が複数の場合は、各Ａｒ１００は同一でも異なっていてもよい。
　前記Ａｒ１００は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピリジン環、チオフェン環、ピレン環等の任意の芳香環から誘導される基であって良い。前記芳香環は環上にさらに１または複数の置換基を有していても良く、前記置換基は、複数の場合は同一でも異なっていても良い。前記Ａｒ１００は、例えば、フェニル基等が挙げられる。
　また、前記Ｒ１００は、水素原子、アルキル基、アリール基、およびアシル基からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。前記アシル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アシル基が好ましい。前記アリール基は、例えば、前記Ａｒ１００と同様であり、例えばフェニル基である。
　また、前記Ｒ２００は、水素原子、アルキル基、アリール基、およびアシル基からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。前記アシル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アシル基が好ましい。前記アリール基は、例えば、前記Ａｒ１００と同様であり、例えばフェニル基である。前記－ＮＲ２００ ２としては、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等、電子供与製置換基で置換されたアミノ基が、特に電子供与性が高いため好ましい。
　また、原料（基質）である前記芳香族化合物は、例えば、芳香環にアルキル基等の置換基が共有結合しており、前記置換基を、前記反応工程により酸化しても良い。例えば、前記酸化剤が酸素原子を含み、前記芳香族化合物が、芳香環に共有結合したメチレン基（－ＣＨ２－）を含み、前記反応工程において、前記メチレン基（－ＣＨ２－）を酸化してカルボニル基（－ＣＯ－）に変換しても良い。この場合において、前記メチレン基およびカルボニル基に結合している原子または原子団は、特に制限されないが、水素原子、アルキル基、アリール基等が挙げられる。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分枝アルキル基が好ましい。前記アルキル基、アリール基は、さらに１または複数の置換基で置換されていても良く、前記置換基は、複数の場合は同一でも異なっていても良い。例えば、前記メチレン基に水素が結合していれば、メチル基（－ＣＨ３）となり、酸化後はホルミル基（－ＣＨＯ）となる。前記メチレン基にメチル基が結合していれば、エチル基（－ＣＨ２ＣＨ３）となり、酸化後はアセチル基（－ＣＯＣＨ３）となる。前記メチレン基にフェニル基が結合していれば、ベンジル基（－ＣＨ２Ｐｈ）となり、酸化後はベンゾイル基（－ＣＯＰｈ）となる。また、例えば、芳香環に共有結合した前記置換基（酸化される前）がホルミル基（－ＣＨＯ）であり、酸化後にカルボキシ基（－ＣＯＯＨ）となっても良い。
　また、例えば、前記原料（基質）がオレフィンであっても良く、前記オレフィンは、例えば、芳香族オレフィンでも良いし、脂肪族オレフィンでも良い。前記オレフィンは、例えば、下記スキームＤ中の化学式（Ｄ１）で表されるオレフィンでも良い。また、前記オレフィンの酸化反応生成物は、特に限定されないが、例えば、下記スキームＤのように、エポキシドおよびジオールの少なくとも一方を含んでいても良い。下記化学式（Ｄ１）、（Ｄ２）および（Ｄ３）中、Ｒは、それぞれ、水素原子または任意の置換基であり、各Ｒは、互いに同一でも異なっていても良い。前記任意の置換基は、例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ヒドロキシ基（－ＯＨ）、メルカプト基（－ＳＨ）、またはアルキルチオ基（－ＳＲ、Ｒはアルキル基）であり、さらなる置換基で置換されていても良いし、置換されていなくても良い。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分枝アルキル基であることがより好ましい。また、被酸化物である前記オレフィンは、オレフィン結合（炭素－炭素二重結合）を１つのみ含むオレフィンでも良いが、オレフィン結合を複数（２つ以上）含むオレフィンであっても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　前記オレフィンは、例えば、芳香族オレフィンであっても良い。すなわち、例えば前記化学式（Ｄ１）によいて、Ｒの少なくとも一つが、芳香環（アリール基またはヘテロアリール基）であっても良い。本発明において、前記芳香族オレフィンは特に制限されないが、前記芳香族オレフィンの芳香環に電子供与基が結合していると、例えば、前記芳香族オレフィンの酸化反応（酸化的置換反応を含む）が進行しやすいため好ましい。前記電子供与基は、１つでも複数でも良く、電子供与性の強いものが好ましい。より具体的には、前記芳香族オレフィンは、芳香環に、前記－ＯＲ１００、－ＮＲ２００ ２、およびＡｒ１００からなる群から選択される少なくとも一つの置換基が共有結合していることがより好ましい。
　本発明における第１の発明の酸化反応生成物の製造方法において、前記オレフィンが、エチレン、プロピレン、スチレン、およびブタジエンからなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。また、前記酸化反応生成物は、例えば、前述のように、エポキシドおよびジオールの少なくとも一方であっても良い。下記スキームＤ１～Ｄ３に、その例を示す。ただし、下記スキームＤ１～Ｄ３は例示であって、本発明において、エチレン、プロピレンおよびスチレンの酸化反応は、これに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　なお、本発明における第１～第４の発明の製造方法において、得られる酸化反応生成物の比率（例えば、第１の発明においてはアルコールとカルボン酸との比率、フェノールとキノンとの比率等、第２の発明においてはメタノールとギ酸との比率等、第３の発明においてはエタノールと酢酸との比率等、第４の発明においてはシクロヘキサノールとシクロヘキサノンとの比率等）は、反応条件を適宜設定することで調整できる。
　また、本発明における第１の発明の製造方法において、前記原料（基質）の酸化反応生成物は、前記アルコール、カルボン酸、アルデヒド、ケトン、フェノール、キノン等に限定されず、例えば、それらに加え、またはそれらに代えて、前記原料（基質）の塩素化物（クロロ化物）等を含んでいても良い。なお、例えば、炭化水素の気相反応において塩素原子ラジカルＣｌ・が二分子関与する場合（例えば、塩素ガスＣｌ２を用いた気相反応）は、酸素分子Ｏ２の存在下であっても、塩素化が優先的に起こると推測される。本発明の製造方法では、二酸化塩素ラジカルの分解により塩素原子ラジカルＣｌ・および酸素分子Ｏ２が発生するが、液相で反応を行なうため、基質の塩素化が抑制されて前記アルコール、カルボン酸、アルデヒド、ケトン、フェノール、キノン等が優先的に生成すると推測される。ただし、これらの推測も例示であって、本発明をなんら限定しない。また、本発明によれば、水相と有機相の二相系で反応を行なうことにより、従来は液相反応が困難であった炭化水素ガス（例えば、メタン、エタン等）においても、液相で効率よく酸化反応を行なうことができる。このため、産業上利用価値がきわめて高い前記炭化水素ガスの酸化反応生成物（例えば、メタノール、ギ酸、エタノール、酢酸等）を、前記炭化水素ガスから効率よく製造することができる。
　本発明における第２の発明の製造方法において、前記原料（基質）であるメタンの酸化反応生成物は、前記メタノール、ギ酸、ホルムアルデヒド、メチルヒドロペルオキシド等に限定されず、例えば、それらに加え、またはそれらに代えて、前記原料（基質）であるメタンの塩素化物（クロロ化物）等を含んでいても良い。なお、例えば、炭化水素の気相反応において塩素原子ラジカルＣｌ・が二分子関与する場合（例えば、塩素ガスＣｌ２を用いた気相反応）は、酸素分子Ｏ２の存在下であっても、塩素化が優先的に起こると推測される。本発明の製造方法では、二酸化塩素ラジカルの分解により塩素原子ラジカルＣｌ・および酸素分子Ｏ２が発生するが、液相で反応を行なうため、基質の塩素化が抑制されて前記メタノール、ギ酸、ホルムアルデヒド、メチルヒドロペルオキシド等が優先的に生成すると推測される。ただし、これらの推測も例示であって、本発明をなんら限定しない。また、本発明によれば、水相と有機相の二相系で反応を行なうことにより、従来は液相反応が困難であった炭化水素ガスであるメタンにおいても、液相で効率よく酸化反応を行なうことができる。このため、産業上利用価値がきわめて高い前記炭化水素ガスの酸化反応生成物（例えば、メタノール、ギ酸等）を、前記メタンから効率よく製造することができる。
　本発明における第３の発明の製造方法において、前記原料（基質）の酸化反応生成物は、前記エタノール、酢酸、アセトアルデヒド、エチルヒドロペルオキシド等に限定されず、例えば、それらに加え、またはそれらに代えて、前記原料（基質）の塩素化物（クロロ化物）等を含んでいても良い。なお、例えば、炭化水素の気相反応において塩素原子ラジカルＣｌ・が二分子関与する場合（例えば、塩素ガスＣｌ２を用いた気相反応）は、酸素分子Ｏ２の存在下であっても、塩素化が優先的に起こると推測される。本発明の製造方法では、二酸化塩素ラジカルの分解により塩素原子ラジカルＣｌ・および酸素分子Ｏ２が発生するが、液相で反応を行なうため、基質の塩素化が抑制されて前記エタノール、酢酸、アセトアルデヒド、エチルヒドロペルオキシド等が優先的に生成すると推測される。ただし、これらの推測も例示であって、本発明をなんら限定しない。また、本発明によれば、水相と有機相の二相系で反応を行なうことにより、従来は液相反応が困難であった炭化水素ガスであるエタンにおいても、液相で効率よく酸化反応を行なうことができる。このため、産業上利用価値がきわめて高いエタンの酸化反応生成物（例えば、エタノール、酢酸等）を、前記炭化水素ガスから効率よく製造することができる。
　本発明における第４の発明の製造方法において、前記原料（基質）の酸化反応生成物は、前記シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサンヒドロペルオキシド、開環酸化物（例えばアジピン酸など）等に限定されず、例えば、それらに加え、またはそれらに代えて、前記原料（基質）であるシクロヘキサンの塩素化物（クロロ化物）等を含んでいても良い。なお、例えば、炭化水素の気相反応において塩素原子ラジカルＣｌ・が二分子関与する場合（例えば、塩素ガスＣｌ２を用いた気相反応）は、酸素分子Ｏ２の存在下であっても、塩素化が優先的に起こると推測される。本発明の製造方法では、二酸化塩素ラジカルの分解により塩素原子ラジカルＣｌ・および酸素分子Ｏ２が発生するが、液相で反応を行なうため、基質の塩素化が抑制されて前記シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサンヒドロペルオキシド、開環酸化物（例えばアジピン酸など）等が優先的に生成すると推測される。ただし、これらの推測も例示であって、本発明をなんら限定しない。また、本発明によれば、水相と有機相の二相系で反応を行なうことにより、シクロヘキサンにおいても、液相で効率よく酸化反応を行なうことができる。このため、産業上利用価値がきわめて高いシクロヘキサンの酸化反応生成物（例えば、シクロヘキサノール、シクロヘキサン等）を、シクロヘキサンから効率よく製造することができる。
　さらに、前記反応工程後、必要に応じて、前記酸化反応生成物の回収工程を行なう。前記回収工程は、例えば、前述のとおり、前記反応系から、前記酸化反応生成物を含む前記水相を回収する工程であっても良い。低級アルコール、低級カルボン酸等である前記酸化反応生成物（例えば、メタノール、エタノール、ギ酸、カルボン酸等）は、前記水相に溶解しやすいためである。また、前記酸化反応生成物が、前記水相に難溶で前記有機相に易溶である場合（例えば、前記酸化反応生成物がベンゾキノンで、前記有機相の溶媒がベンゼンである場合等）は、前記反応系から、前記酸化反応生成物を含む前記有機相を回収しても良い。また、例えば、前記酸化反応生成物が前記水相にも前記有機相にも難溶である場合は、例えば、ろ過等により前記酸化反応生成物を回収しても良い。さらに、必要に応じて、回収した酸化反応生成物を単離精製する。単離精製方法は特に限定されず、一般的な有機合成反応に準じて、蒸留、ろ過等の方法を適宜用いて行なうことができる。
　なお、前述のとおり、本発明における第１～第４の発明の製造方法における前記反応工程は、有機相のみで行なうこともできる。例えば、前述したような二酸化塩素ラジカルの発生源を含む水相を別途準備し、前記水相で二酸化塩素ラジカルを生成させる（二酸化塩素ラジカル生成工程）。その後、前記二酸化塩素ラジカルを、前記水相から有機相中に分液法等で抽出する。前記原料（基質）は、前記二酸化塩素ラジカルの抽出に先立ち前記有機相中に添加しても良いし、前記二酸化塩素ラジカルの抽出と同時に、または、抽出後に前記有機相中に添加しても良い。その後、前記水相と前記有機相とが分離され（前記有機相単独の）、かつ、前記有機相が前記原料（基質）および前記二酸化塩素ラジカルを含む状態で、前述のように光照射して前記反応工程を行なう。しかしながら、本発明の製造方法における前記反応工程は、前記水相と前記有機相とを分離せずに接触させたまま（二相反応系で）行なうことが好ましい。このようにすれば、例えば、前述のとおり、水溶性の酸化反応生成物を前記水相中から簡便に回収できる等の利点がある。また、例えば、水相が二酸化塩素ラジカルの発生源を含む二相反応系で、前記二酸化塩素ラジカル生成工程と前記反応工程（原料の酸化反応生成物を生成する工程）とを同時に行えば、反応効率が良いという利点がある。
　本発明によれば、例えば、二酸化塩素ラジカル水溶液に光照射するのみの極めて簡便な方法で、塩素原子ラジカルＣｌ・および酸素分子Ｏ２を発生させ、酸化反応を行なうことができる。そして、そのような簡便な方法で、例えば、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、炭化水素またはその誘導体を効率よく酸化反応生成物に変換することが可能である。
　さらに、本発明における第１～第４の発明によれば、例えば、有毒な重金属触媒等を用いずに、前記原料（炭化水素またはその誘導体）の酸化反応生成物を得ることも出来る。これによれば、前述のとおり常温および常圧等のきわめて温和な条件下で反応が行えることと併せ、環境への負荷がきわめて小さい方法で前記酸化反応生成物を効率よく得ることも可能である。
［第５の発明を実施するための形態］
　以下、本発明における第５の発明について、例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。
［１．ラジカル発生工程等］
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法は、例えば、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、を混合する混合工程を含む。前記混合工程において、さらに、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、以外の任意の物質を混合しても良いし、混合しなくても良い。すなわち、前記混合工程により得られる混合物は、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、以外の任意の物質を、さらに含んでも良いし、含まなくても良い。例えば、前記混合工程において、さらに溶媒を混合することが、反応性等の観点から好ましい。なお、本発明において、「溶媒」は、ルイス酸、ブレーンステッド酸、ラジカル発生源等を溶解しても良いが、溶解しなくても良い。例えば、前記混合工程後において、前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源とは、それぞれ、前記溶媒中に溶解した状態でも良いが、前記溶媒中に分散したり沈殿したりした状態でも良い。また、本発明において、「ルイス酸」は、例えば、前記ラジカル発生源に対してルイス酸として働く物質をいう。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法は、前述のとおり、前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、前記ラジカル発生源と、を作用させてラジカルを発生させるラジカル発生工程を含む。前記ラジカル発生工程は、例えば、前記混合工程後に、得られた混合物中での反応によりラジカルを発生させる（製造する）。前記混合物は、前述のとおり、例えば、溶液状態でも良いし、懸濁液状態、コロイド状態等でも良い。反応性の観点からは、前記混合物が、例えば、溶液状態またはコロイド状態であることが好ましい。前記ラジカル製造工程においては、例えば、前記混合物を、単に室温で静置しても良いし、必要に応じ、前記混合物に対し、加熱、光照射等をしても良い。前記ラジカル製造工程における反応温度および反応時間は、特に限定されず、例えば、反応物（原料）および目的生成物の種類等に応じて適宜設定することができる光照射する場合、照射光の波長は、特に限定されず、例えば、反応物（原料）の吸収帯等に応じて適宜設定することができる。なお、反応時間および反応温度については、例えば、前記混合物中における、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、の濃度によって調整することもできる。例えば、前記濃度を高くすることにより反応時間を短縮することができるが、本発明は、この説明により限定されない。
　前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方の濃度は、特に限定されず、例えば、反応物（原料）および目的生成物の種類等に応じて適宜設定することができる。また、前記溶媒は、特に限定されないが、例えば、水でも有機溶媒でも良く、溶質の種類等に応じて適宜選択することができる。有機溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化溶媒、アセトン等のケトン、アセトニトリル等のニトリル溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒、酢酸溶媒、硫酸溶媒等が挙げられ、これら溶媒は単独で使用しても二種類以上併用しても良い。前記酢酸溶媒および硫酸溶媒は、例えば、酢酸または硫酸を水に溶かしたものでも良く、これらは、例えば、溶媒であると同時にルイス酸またはブレーンステッド酸として機能する。前記溶媒の種類は、例えば、溶質（例えば、前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方、前記ラジカル発生源等）の溶解性等に応じて使い分けても良い。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法においては、前述のとおり、加熱により反応させても良いが、加熱をせずに光照射するのみで、または、加熱も光照射もせず単に室温で静置するのみで反応させてラジカルを製造することもできる。なお、「室温」の定義は、特に限定されないが、例えば、５～３５℃である。加熱が不要であることにより、例えば、電気炉等による加熱のコストがかからず、ラジカルの製造コストを大幅に削減できる。また、加熱が不要であることにより、例えば、ラジカル連鎖による予期せぬ暴走反応、および、過酸化物の蓄積等が抑えられるので、反応の安全性が格段に向上し、さらにコストを下げることが出来る。ただし、これらの説明は例示であって、本発明をなんら限定しない。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法は、例えば、さらに、前記混合工程により得られた混合物に光照射する光照射工程を含んでいても良い。そして、前述のとおり、前記光照射により起こる反応でラジカルを製造しても良い。照射光の波長については、例えば、前述のとおりである。光源は特に限定されないが、例えば、太陽光等の自然光に含まれる可視光を利用すれば、簡便に励起可能である。また、例えば、前記自然光に代えて、またはこれに加え、キセノンランプ、ハロゲンランプ、蛍光灯、水銀ランプ等の光源を適宜用いても良いし、用いなくても良い。さらに、必要波長以外の波長をカットするフィルターを適宜用いても良いし、用いなくても良い。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、前記ルイス酸のルイス酸性度は、例えば、０．４ｅＶ以上である。前記ルイス酸性度の上限値は、特に限定されないが、例えば、２０ｅＶ以下である。なお、前記ルイス酸性度は、例えば、Ohkubo,　K.;　Fukuzumi,　S.　Chem.　Eur.　J.,　2000,　6,　4532、J.　AM.　CHEM.　SOC.　2002,　124,　10270-10271、またはJ.　Org.　Chem.　2003,　68,　4720-4726に記載の方法により測定することができ、具体的には、下記の方法により測定することができる。
（ルイス酸性度の測定方法）
　下記化学反応式（１ａ）中のコバルトテトラフェニルポルフィリン、飽和Ｏ２およびルイス酸性度の測定対象物（例えば金属等のカチオンであり、下記化学反応式（１ａ）ではＭｎ＋で表される）を含むアセトニトリル（ＭｅＣＮ）を、室温において紫外可視吸収スペクトル変化の測定をする。得られた反応速度定数（kcat）からルイス酸性度の指標であるΔＥ値（ｅＶ）を算出することができる。kcatの値は大きいほど強いルイス酸性度を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000022
　また、本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、前記ルイス酸は、例えば、金属イオンおよび非金属イオンの一方または両方を含んでいても良い。前記金属イオンは、典型金属イオンおよび遷移金属イオンの一方または両方を含んでいても良い。前記無機物質は、例えば、アルカリ土類金属イオン（例えばＣａ２＋等）、希土類イオン、Ｍｇ２＋、Ｓｃ３＋、Ｌｉ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ａｌ３＋、ケイ酸イオン、およびホウ酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。アルカリ土類金属イオンとしては、例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、またはラジウムのイオンが挙げられ、より具体的には、例えば、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、およびＲａ２＋が挙げられる。また、「希土類」は、スカンジウム２１Ｓｃ、イットリウム３９Ｙの２元素と、ランタン５７Ｌａからルテチウム７１Ｌｕまでの１５元素（ランタノイド）の計１７元素の総称である。希土類イオンとしては、例えば、前記１７元素のそれぞれに対する３価の陽イオンが挙げられる。
　また、前記ルイス酸（カウンターイオンも含む）は、例えば、ＡｌＣｌ３、ＡｌＭｅＣｌ２、ＡｌＭｅ２Ｃｌ、ＢＦ３、ＢＰｈ３、ＢＭｅ３、ＴｉＣｌ４、ＳｉＦ４、およびＳｉＣｌ４からなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。ただし、「Ｐｈ」はフェニル基を表し、「Ｍｅ」はメチル基を表す。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、前記ブレーンステッド酸の酸解離定数ｐＫａは、例えば５以上である。前記ｐＫａの上限値は、特に限定されないが、例えば、５０以下である。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、前記ラジカル発生源は、例えば、ハロゲンイオン、次亜ハロゲン酸イオン、亜ハロゲン酸イオン、ハロゲン酸イオン、および過ハロゲン酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つを含んでいても良い。前記ラジカル発生源は、例えば、亜塩素酸イオンを含むことが特に好ましい。前記ラジカル発生源は、例えば、オキソ酸またはその塩（例えば、ハロゲンオキソ酸またはその塩）を含んでいても良い。前記オキソ酸としては、例えば、ホウ酸、炭酸、オルト炭酸、カルボン酸、ケイ酸、亜硝酸、硝酸、亜リン酸、リン酸、ヒ酸、亜硫酸、硫酸、スルホン酸、スルフィン酸、クロム酸、ニクロム酸、及び過マンガン酸などが挙げられる。ハロゲンオキソ酸は、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸などの塩素オキソ酸；次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸、及び過臭素酸などの臭素オキソ酸；及び次亜ヨウ素酸、亜ヨウ素酸、ヨウ素酸、及び過ヨウ素酸などのヨウ素オキソ酸が挙げられる。前記ラジカル発生源は、例えば、用途に応じて、ラジカル種の反応性の強さ等を考慮し、適宜選択しても良い。例えば、反応性が強い次亜塩素酸と、次亜塩素酸よりも反応性がやや穏やかで反応の制御がしやすい亜塩素酸とを、目的に応じて使い分けても良い。
　また、本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、化合物（例えば、被酸化物であるオレフィン等）に互変異性体または立体異性体（例：幾何異性体、配座異性体および光学異性体）等の異性体が存在する場合は、特に断らない限り、いずれの異性体も本発明に用いることができる。また、化合物（例えば、前記オレフィン等）が塩を形成し得る場合は、特に断らない限り、前記塩も本発明に用いることができる。前記塩は、酸付加塩でも良いが、塩基付加塩でも良い。さらに、前記酸付加塩を形成する酸は無機酸でも有機酸でも良く、前記塩基付加塩を形成する塩基は無機塩基でも有機塩基でも良い。前記無機酸としては、特に限定されないが、例えば、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜フッ素酸、亜塩素酸、亜臭素酸、亜ヨウ素酸、フッ素酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、過フッ素酸、過塩素酸、過臭素酸、および過ヨウ素酸等があげられる。前記有機酸も特に限定されないが、例えば、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、ｐ－ブロモベンゼンスルホン酸、炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸および酢酸等があげられる。前記無機塩基としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩等があげられ、より具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウムおよび炭酸カルシウム等があげられる。前記有機塩基も特に限定されないが、例えば、エタノールアミン、トリエチルアミンおよびトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等があげられる。これらの塩の製造方法も特に限定されず、例えば、前記化合物に、前記のような酸や塩基を公知の方法により適宜付加させる等の方法で製造することができる。
　また、本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、鎖状置換基（例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基等の炭化水素基）は、特に断らない限り、直鎖状でも分枝状でも良く、その炭素数は、特に限定されないが、例えば、１～４０、１～３２、１～２４、１～１８、１～１２、１～６、または１～２（不飽和炭化水素基の場合は２以上）であっても良い。また、本発明において、環状の基（例えば、アリール基、ヘテロアリール基等）の環員数（環を構成する原子の数）は、特に限定されないが、例えば、５～３２、５～２４、６～１８、６～１２、または６～１０であっても良い。また、置換基等に異性体が存在する場合は、特に断らない限り、どの異性体でも良く、例えば、単に「ナフチル基」という場合は、１－ナフチル基でも２－ナフチル基でも良い。
［２．酸化反応工程等］
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法は、前述のとおり、前記ラジカルを酸化剤としてオレフィンを酸化する酸化反応工程を含む。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法を行う方法は、特に限定されないが、例えば、前記混合工程において、ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、に加え、さらに前記オレフィンを混合しても良い。このとき、前述のとおり、さらに溶媒を混合することが好ましい。そして、前記ラジカル発生工程において、発生したラジカルと前記オレフィンとを反応させて前記酸化反応生成物を生成させても良い。すなわち、前記酸化反応工程は、前記ラジカル発生工程と平衡して、同一の反応系中で同時に行っても良い。この場合、前記オレフィンと、前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源との濃度は、特に限定されないが、前記溶媒に対し、例えば、反応mol/Lは、特に限定されず、それぞれ適宜設定可能である。また、例えば、前記被酸化物（オレフィン）の濃度は、高い方が反応速度を早くするためになるべく高くすることが好ましく、前記酸化剤（ラジカル発生源）の濃度は、反応を進行しやすくするために高すぎないことが好ましい。ただし、この説明は例示であり、本発明をなんら限定しない。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法の前記酸化反応工程においては、前述のとおり、前記ラジカルを酸化剤としてオレフィンを酸化する。例えば、前記ラジカル発生源が、オキソ酸であり、前記オキソ酸から発生したラジカルが酸化剤であっても良い。一例として、前記ラジカル発生剤が、亜塩素酸イオンClO2 -であり、亜塩素酸イオンClO2 -から発生したラジカルClO2 ・を酸化剤として、前記被酸化物を酸化して前記酸化反応生成物を製造しても良い。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、被酸化物である前記オレフィンは、特に限定されず、例えば、芳香族オレフィンでも良いし、脂肪族オレフィンでも良い。前記オレフィンは、例えば、下記化学式（ＡＡ１）で表されるオレフィンでも良い。また、前記オレフィンの酸化反応生成物は、特に限定されないが、例えば、下記スキームＡＡのように、エポキシドおよびジオールの少なくとも一方を含んでいても良い。下記化学式（ＡＡ１）、（ＡＡ２）および（ＡＡ３）中、Ｒは、それぞれ、水素原子または任意の置換基であり、各Ｒは、互いに同一でも異なっていても良い。前記任意の置換基は、例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ヒドロキシ基（－ＯＨ）、メルカプト基（－ＳＨ）、またはアルキルチオ基（－ＳＲ、Ｒはアルキル基）であり、さらなる置換基で置換されていても良いし、置換されていなくても良い。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分枝アルキル基であることがより好ましい。また、被酸化物である前記オレフィンは、オレフィン結合（炭素－炭素二重結合）を１つのみ含むオレフィンでも良いが、オレフィン結合を複数（２つ以上）含むオレフィンであっても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　前記オレフィンは、例えば、芳香族オレフィンであっても良い。すなわち、例えば前記化学式（ＡＡ１）によいて、Ｒの少なくとも一つが、芳香環（アリール基またはヘテロアリール基）であっても良い。本発明において、前記芳香族オレフィンは特に制限されないが、前記芳香族オレフィンの芳香環に電子供与基が結合していると、例えば、前記原料芳香族化合物の酸化反応（酸化的置換反応を含む）が進行しやすいため好ましい。前記電子供与基は、１つでも複数でも良く、電子供与性の強いものが好ましい。より具体的には、前記原料芳香族化合物は、芳香環に、－ＯＲ１００、－ＮＲ２００ ２、およびＡｒ１００からなる群から選択される少なくとも一つの置換基が共有結合していることがより好ましい。前記Ｒ１００は、水素原子または任意の置換基であり、Ｒ１００が複数の場合は、各Ｒ１００は同一でも異なっていてもよい。前記Ｒ２００は、水素原子または任意の置換基であり、各Ｒ２００は同一でも異なっていてもよい。前記Ａｒ１００は、アリール基であり、Ａｒ１００が複数の場合は、各Ａｒ１００は同一でも異なっていてもよい。
　前記Ａｒ１００は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピリジン環、チオフェン環、ピレン環等の任意の芳香環から誘導される基であって良い。前記芳香環は環上にさらに１または複数の置換基を有していても良く、前記置換基は、複数の場合は同一でも異なっていても良い。前記Ａｒ１００は、例えば、フェニル基等が挙げられる。
　また、前記Ｒ１００は、水素原子、アルキル基、アリール基、およびアシル基からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。前記アシル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アシル基が好ましい。前記アリール基は、例えば、前記Ａｒ１００と同様であり、例えばフェニル基である。
　また、前記Ｒ２００は、水素原子、アルキル基、アリール基、およびアシル基からなる群から選択される少なくとも一つであることが好ましい。前記アルキル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。前記アシル基は、炭素数１～６の直鎖もしくは分子アシル基が好ましい。前記アリール基は、例えば、前記Ａｒ１００と同様であり、例えばフェニル基である。前記－ＮＲ２００ ２としては、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等、電子供与製置換基で置換されたアミノ基が、特に電子供与性が高いため好ましい。
　本発明における第５の発明によるオレフィンの酸化反応生成物の製造方法において、前記オレフィンが、エチレン、プロピレン、スチレン、およびブタジエンからなる群から選択される少なくとも一つであっても良い。また、前記酸化反応生成物は、例えば、前述のように、エポキシドおよびジオールの少なくとも一方であっても良い。下記スキームＡＡ１～ＡＡ３に、その例を示す。ただし、下記スキームＡＡ１～ＡＡ３は例示であって、本発明における第５の発明において、エチレン、プロピレンおよびスチレンの酸化反応は、これに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　オレフィン（例えば、前記スキームＡＡのオレフィン（ＡＡ１））の酸化において、例えば、前記ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、前記ラジカル発生源と、前記酸化剤と、のうち少なくとも一つの濃度を調整することで、生成する酸化反応生成物を作り分けることが可能である。これらの濃度が、例えば、前記被酸化物に対し低濃度であると、エポキシドが得られやすく、高濃度であるとジオールが得られやすい傾向があるが、これには限定されない。また、例えば、前記濃度に代えて、前記ラジカル発生源から発生するラジカル種の反応性の強さによっても、生成する酸化反応生成物を作り分けることが可能である。例えば、反応性が弱いラジカル種ではエポキシドが得られやすく、反応性が強いラジカル種ではジオールが得られやすい傾向があるが、これには限定されない。なお、前記酸化反応生成物の用途は特に限定されないが、例えば、前記被酸化物（原料芳香族化合物）がスチレンの場合、スチレンオキシドは接着剤、ジオールは香料などとして利用できる。このように、前記エポキシドと前記ジオールとは、それぞれ異なった用途への需要があるため、反応条件のコントロールにより作り分けができれば、本発明における第５の発明を、さらに広い用途に適用可能である。
　以下、本発明の実施例について説明する。ただし、本発明は、以下の実施例には限定されない。
［第１～第４の発明の実施例］
　まず、本発明における第１～第４の発明の実施例について説明する。
［実施例１～７］
　基質（原料）である炭化水素を有機溶媒に溶かし、有機相を作製した。一方、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）および酸を水（Ｈ２ＯまたはＤ２Ｏ）に溶かし、その水溶液を酸素ガス（Ｏ２）で飽和させて水相を作製した。その後、前記水相と前記有機相とを同一の反応容器中に入れ、接触させて二相系とした。さらに、前記二相系に、大気中において、加圧および減圧を行なわず、室温（約２５℃）条件下、波長λ＞２９０ｎｍのキセノンランプで光照射した。なお、光照射中、前記二相系は、水層（水相）と有機層（有機相）とが二層に分離したままで、攪拌等は行わなかった。このようにして、前記基質（原料）である炭化水素の酸化反応生成物を製造した。また、光照射終了直後の前記有機層（有機相）に対し、EPR（electronic　paramagnetic　resonance電子常磁性共鳴）測定を実施した。その結果、後述の実施例８（第５の発明の実施例）の図９（ｂ）と同様に、二酸化塩素ラジカルClO2 ・に由来するピークが観測された。これにより、前記有機層（有機相）において二酸化塩素ラジカルClO2 ・が生成していることが確認された。
　実施例１～７のそれぞれにおける溶媒（有機溶媒および水）、基質（原料）、および酸の種類および使用量（濃度）と、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）の使用量（濃度）とを、下記表１および２に示す。また、酸化反応生成物の収率、および光照射時間も、併せて下記表１および２に示す。なお、下記表１および２中において、「Ｄ」は、重水素を表す。実施例６において、ベンゼン（基質および溶媒を兼ねる）は、芳香環上の６つの水素が全て重水素に置換された、重水素化ベンゼン（ベンゼンｄ６）を用いた。また、基質の変換率および酸化反応生成物の収率は、反応前の基質および反応後の酸化反応生成物の１ＨＮＭＲをそれぞれ測定し、各成分のピーク強度比を対比して算出した。実施例４においては、さらに、酸化反応生成物をそれぞれ単離生成して重量を測定した。なお、実施例４においては、下記表１に記載した酢酸およびエタノール以外に、それらの反応により得られたと推測される酢酸エチルが微量検出された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
　実施例１～７に示すとおり、大気中、常温、常圧下において光照射するのみで、炭化水素から、アルコール、カルボン酸、ケトン、フェノール、キノン等の酸化反応生成物を効率よく製造することができた。特に、実施例２によれば、大気中、常温、常圧下において光照射するのみで、メタンから、酸化反応生成物であるメタノールおよびギ酸を効率よく製造することができた。実施例１および３～５によれば、大気中、常温、常圧下において光照射するのみで、エタンから、酸化反応生成物であるエタノールおよび酢酸を効率よく製造することができた。実施例７によれば、大気中、常温、常圧下において光照射するのみで、シクロヘキサンから、酸化反応生成物であるシクロヘキサノールおよびシクロヘキサノンを効率よく製造することができた。また、本実施例では、光源としてキセノンランプを用いたが、太陽光またはＬＥＤ等を光源として用いれば、さらなる省エネルギーおよびコスト低減が可能である。
　また、実施例１～７に示すとおり、本発明によれば、炭化水素を原料（基質）として用いて、産業上利用価値がきわめて高い酸化反応生成物を効率よく得ることが可能である。例えば、実施例２で得られたメタノールおよびギ酸、実施例１および３～５で得られたエタノールおよび酢酸は、いずれも、燃料、溶媒、化成品の原料等の各種用途に、多大な利用価値がある。また、実施例６で得られたヒドロキシベンゼンは、医薬品、化成品の原料等の各種用途に、ｐ－ベンゾキノンは、酸化剤、脱水素剤、重合禁止剤等の用途に、それぞれ、多大な利用価値がある。実施例７で得られたシクロヘキサノールとシクロヘキサノンとの混合物は、一般に、ＫＡオイル（ケトンアルコールオイル）と呼ばれる。ＫＡオイルは、さらに酸化してアジピン酸に変換し、ポリアミド樹脂（商品名ナイロン）の原料として使用できるので、産業上利用価値はきわめて高い。このように、炭化水素を原料（基質）として用いて、産業上利用価値がきわめて高い酸化反応生成物を効率よく得ることができる製造方法は、これまでにない。すなわち、本実施例によれば、本発明における第１～第４の発明が、産業上利用価値の観点から、従来技術に対してきわめて大きな優位性を有することが確認された。
［第５の発明の実施例］
　さらに、本発明における第５の発明の実施例について説明する。
［実施例８］
　本実施例では、スカンジウムトリフラートと亜塩素酸ナトリウムにより、スチレンの効率的なジヒドロキシル化ができることを確認した。具体的には、常温常圧下で、スカンジウムトリフラートと亜塩素酸イオン（ClO2 -）によるスチレンのジヒドロキシル化により、1-フェニルエタン-1,2-ジオールを効率的に製造することができた。スカンジウムトリフレートは、強ルイス酸として作用し、亜塩素酸イオン（ClO2 -）から二酸化塩素ラジカル(ClO2 ・)を生成させるとともに、二酸化塩素ラジカル(ClO2 ・)の反応性を向上させることが確認された。
　オレフィンの1,2-ジオールへの酸化は、ファインケミカル又はスペシャリティケミカルにおいて、樹脂、医薬品、染料、殺虫剤や香料組成物等の種々の化学物質の前駆体を製造するための重要な工業プロセスである。オレフィンを酸化して対応するエポキシドおよびアルコールに変換するためのいくつかの方法が、これまでに、無機金属オキソ錯体及び重原子の金属酸化物を使用して報告されている。高原子価のOsVIIIO4は、オレフィンを１，２-ジオールに変換するための酸化の、効果的かつ選択的な試薬である（参考文献等１～８［非特許文献７～１４と同一］）。しかし、オスミウム化合物の毒性及び昇華性とその廃棄物は深刻な問題の原因となる。亜塩素酸ナトリウム（NaClO2）は、非毒性かつ安価な酸化試薬であり、二酸化塩素ラジカル(ClO2 ・)の前駆体として使用されてきた（参考文献等９～１２［非特許文献１５～１８と同一］）。ClO2 ・は、反応性で、かつ安定なラジカルであることが知られている。しかし、ClO2 ・は、室温で黄色の爆発性ガスである。ClO2 ・は、実験的に、NaClO2のCl2による酸化、および、塩素酸カリウム(KClO3)とシュウ酸との反応により調製することができる（参考文献等１３）。これらの方法は、また、Cl2の毒性およびClO3 -の爆発性等の深刻な問題を引き起こす。ClO2 ・の前駆体としてNaClO2を用いたオレフィンのエポキシ化が試みられている。しかしながら、ClO2 ・の酸化能力は、酸の非存在下でオレフィンをジオールに酸化するのに十分強力ではないので、1,2-ジオール生成物が得られなかった（参考文献等１４～１７）。ClO2 ・のCl=O二重結合の活性化は、オレフィンを１ステップで選択的にジヒドロキシル化するためのキーである。
　本実施例では、スカンジウムトリフレート[Sc(OTf)3]をルイス酸として（参考文献等１８）ClO2 ・を活性化することによる、常温常圧下でのスチレンのジヒドロキシル化物の効率的な合成法について報告する。ジヒドロキシル化機構は、EPRおよびUV-Vis吸収分光法によるラジカル中間体の検出に基づいて明らかにした。
　室温（２５℃）で水性のMeCN溶液(MeCN/H2O　1:1v/v)中NaClO2(20mM)によるスチレン(2.0mM)の反応では、スチレンのジヒドロキシル化は起こらなかった(図１１参照)。なお、図１１は、MeCN/H2Oとして1HNMRスペクトル測定用溶媒CD3CN/D2O(1:1　v/v)を用いて上記の反応を行い、1HNMRで反応を追跡した結果であり、反応開始後０．３時間後および１７時間後の1HNMRスペクトルを示す。温度が333Kに増加した場合には、ジヒドロキシル化生成物の形成が起こらず、エポキシ化が起こった（図１２）（参考文献等１４、１９）。なお、図１２は、スチレン(66mM)およびNaClO2(200mM)を含むCD3CN/D2O(4:1　v/v)の混合後６０℃（333K）で０時間および２５時間後の1HNMRスペクトルを示す。*印は、スチレンオキシド由来のピークである。対照的に、ブレンステッド酸としてのCF3COOH(30mM)を添加剤として添加した場合は、１７時間混合後にエポキシドが全く形成されず、それに代えて1-フェニルエタン-1,2ジオール（1）及び2-クロロ-1-フェニルエタノール（2）が、それぞれ15％および69％の収率で生産された[反応式（1）]。それらは、1HNMRスペクトルで測定した(図１３)（参考文献等２０）。なお、図１３は、スチレン(2.0mM)、NaClO2(20mM)およびSc(OTf)3(30mM)を含むCD3CN/D2O(1:1　v/v)の混合後、２５℃で０．６時間後および１７時間後の1HNMRスペクトルを示す。*印および†印は、それぞれ、1-フェニルエタン-1,2-ジオール、および2-クロロ-1-フェニルエタノールに由来するピークである。なお、図１４は、スチレン(2.0mM)、NaClO2(20mM)およびCF3COOD(30mM)を含むCD3CN/D2O(1:1　v/v)の混合後、０．５時間後および１７時間後の1HNMRスペクトルを示す。*印および†印は、それぞれ、1-フェニルエタン-1,2-ジオール、および2-クロロ-1-フェニルエタノールに由来するピークである。また、図１８は、スチレン(2.0mM)、NaClO2(6.0mM)およびSc(OTf)3(5.6mM)を含むCD3CN/D2O(1:1　v/v)の混合後、Ａｒ雰囲気中、２５℃で０時間後および４５時間後の1HNMRスペクトルを示す。図示のとおり、CF3COOHに代えて強力なルイス酸であるSc(OTf)3(30mM)を用いた場合、ジオール（1）の収率が51%と顕著に増加した[下記反応式(1)の表参照](図１８)（参考文献等２１）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000028
　UV-Vis吸収分光法を、反応機構と反応性中間体の検出を明確にするために採用した。図６に示すとおり、NaClO2は、水溶液中において260nmに吸収帯を示した。その吸収帯は、Sc(OTf)3(10mM)を加えると消失し、それに伴い、新たな吸収帯が358nmにおいて増大し、この吸収帯はClO2 ・に基づくと同定（アサイン）された（参考文献等２２、２３）。CF3COOH存在下においても、同様の吸収スペクトルの変化が観測された（参考文献等２４）。358nmでの吸収帯の出現の経時変化を図６に示す。図６は、298Kの水溶液中でSc(OTf)3（10mM）と混合した後、0、4および16時間で採取されたNaClO2（5.0mM）の紫外線+可視吸収スペクトルである。同図において、横軸は波長（ｎｍ）であり、縦軸は吸光度である。また、図７（a）は、図６と同じ反応（298Kの水溶液（0.20M酢酸緩衝液pH2.9）中のSc(OTf)3（10mM）とNaClO2（5.0mM）の反応によるSc3+(ClO2 ・)の形成）の、358nmでのUV-Vis吸収の時間プロファイルである。同図において、横軸は、時間（秒）、縦軸は358nmでの吸光度である。図７(b)は、図７（a）の測定結果の二次プロットである。時間プロファイル（図７（ａ））は、二次プロット（図７（ｂ））によく合致する。そのように、Sc(OTf)3を用いたClO2 ・の生成は、二分子のClO2 -が律速段階に関係する（下記参照）。二分子の速度定数は、直線の傾きから0.16M-1s-1であると決定された。
　基質の非存在下、298KでのMeCN中では、Sc(OTf)3を用いてNaClO2から生成されたClO2 ・に基づく358nmの吸光度のいかなる減衰も観察されなかった。図８（a）は、298KのMeCN/H2O(1:1v/v)溶液中におけるスチレン（30～90mM）存在下でのSc3+(ClO2 ・)の消費における、358nmでのUV-Vis吸収の時間プロファイルである。同図において、横軸は、時間（秒）、縦軸はClO2 ・濃度である。(b)は、擬一次速度定数対スチレン濃度のプロットである。過剰量のスチレンの存在下では、減衰率は擬一次に従った(図８（ａ）)。ジヒドロキシル増加について観察された擬一次速度定数（kobs）は、スチレン濃度増加とともに直線的に増加した（図８（ｂ））。ClO2 ・およびスチレンの消費の二分子速度定数は、1.9×10-2M-1s-1と決定した（参考文献等２５）。ラジカル構造を明確にするためにEPR（electronic　paramagnetic　resonance電子常磁性共鳴）測定を実施した。純粋なClO2 ・を、NaClO2を含むMeCN溶液を353Kで1時間還流することによって作製した。298Kに冷却後にEPRスペクトルを測定したところ、特徴的な等方性の信号を、g=2.0151(±0.0002)において、Cl原子核の不対電子に由来する４本の超微細線とともに確認した(35Clおよび37ClにおいてI=3/2、それぞれ0.821および0.683の同様の磁気モーメントを有する(図９（ａ）)（参考文献等２６）。G値は、CF3COOH(g=2.0106)およびSc(OTf)3(g=2.0103)の添加によって顕著に変化した（図９（ｂ）および９（ｃ））。ClO2 ・の超微細結合定数は、（a(Cl)=16.26G）CF3COOH（15.78G）およびSc(OTf)3（15.56G）の存在下、低下した（参考文献等２７）。これは、プロトン及びSc3+が、強くスチレンのジヒドロキシル化するための反応中間体として、H+ClO2 ・およびSc3+ClO2 ・を形成するために、ClO2 ・と結合することを示す（参考文献等２８）。
　図１０に示すとおり、ClO2 ・、H+ClO2 ・およびSc3+ClO2 ・の密度汎関数理論（DFT）計算を行い、ジヒドロキシル化のための反応機構を予測した。構造最適化は、理論計算のDFT　CAM-B3LYP/6-311+G(d,p)レベルで行った。図１０は、CAM‐B3LYP/6‐311+G(d,p)レベルの理論計算による、DFT最適化構造の結合長（Å）である。(a)はClO2 ・、(b)はH+ClO2 ・、(c)はSc3+ClO2 ・である。ClO2 ・のCl-O二重結合の結合長は1.502Åと計算された(図１０（ａ）)。H+ClO2 ・では、Cl-O二重結合の結合長は1.643Åと計算された(図１０（ｂ）)。図１０（ｃ）は、ClO2 ・と比較すると、Sc3+ClO2 ・もまた結合強度が顕著に弱まっている(Cl-O:1.818Å)ことを示す。Cl-O結合の切断は、基質の存在下で強力な酸化剤としてのClO・を生成するために有利な可能性がある。なお、図１５は、(a)H+ClO2 ・および(b)Sc3+ClO2 ・の、CAM-B3LYP/6-311+G(d,p)レベルの理論計算による、スピン分布を示す図である。
　上記の結果に基づいて、ClO2 ・によるスチレンのジヒドロキシル化機構を、反応式（2）～（5）およびスキーム１１に示した。NaClO2の不均化反応は、H+またはSc3+の存在下で起こり、ClO-とClO3 -を形成する[反応式（2）]（参考文献等２９）。ClO-はClO2 -およびプロトンと容易に反応し、Cl2O2を生成する[反応式(3)]。つぎに、Cl2O2はClO2 -により還元され、反応種であるClO2 ・を生成する[反応式(4)]。全体的な化学量論は、反応式（5）で与えられる。ClO2 ・は、H+およびSc3+等の酸と結合することで活性化される。H+の場合は、DFT計算（上記参照）に基づけば、Cl-O結合の切断は発生しない。H+によるスチレンの酸化は、スチレン二重結合に対するClO2 ・の付加により進行する。これとは対照的に、Sc3+によるスチレンのジヒドロキシル化は、スキーム１１に示すように、Sc3+ClO2 ・錯体のホモリティックSc3+Cl-O結合切断によって生成したClO・およびSc3+O・の、スチレン二重結合に対する付加により起こる。次に、スカンジウム錯体は、最終生成物のジオールとSc3+ClO・を得るために加水分解される(スキーム１１)。Sc3+ClO・は、大過剰のClO2 -による酸化でSc3+ClO2 ・を形成させて再利用することができる。ClO-もまた、反応式(2)に示すように、ClO2 -により再生することができる。Sc3+ClO2 ・のCl-O結合の切断によって形成されるClO・の、スチレンのβ炭素に対する付加は、二つの異性体を与えた。β炭素-ClOの結合形成が生成した場合、スキーム１１に示すように、最終マイナー生成物として塩素化合物が得られた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　以上、示したとおり、本実施例によれば、ClO2 ・は、Sc3+の存在下でのルイス酸として、スチレンのための効果的なジヒドロキシル化試薬であることが確認された。本発明によれば、重金属などの有害廃棄物のないオレフィンのユニークなジヒドロキシル化経路を提供することができる。
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15　A.　Jangam　and　D.　E.　Richardson,　Tetrahedron　Lett.,　2010,　51,　6481-6484.
16　J.　J.　Kolar　and　B.　O.　Lindgren,　Acta　Chem.　Scand.　B,　1982,　36,　599-605.
17　B.　O.　Lindgren,　T.　Nilsson,　Acta　Chem.　Scand.　B,　1974,　28,　847-852.
18　(a)　S.　Fukuzumi　and　K.　Ohkubo,　J.　Am.　Chem.　Soc.,　2002,　124,　10270-10271;　(b)　S.　Fukuzumi　and　K.　Ohkubo,　Chem.-Eur.　J.,　2000,　6,　4532-4535.
19　スチレン(66mM)のNaClO2(200mM)によるエポキシ化をMeCN/H2O(4:1　v/v)混合溶液中333Kで調べた(参考文献等１４)。スチレンオキシドの収率は44％であり、スチレンの転化率は61％であった。
20　E.　V.　Bakhmutova-Albert,　D.　W.　Margerum,　J.　G.　Auer　and　B.　M.　Applegate,　Inorg.　Chem.,　2008,　47,　2205-2211.
21　1H　NMRで確認したところ、CF3COOHまたはSc(OTf)3による反応中、中間体としてのスチレンエポキシドは観測されなかった。
22　C.　Rav-Acha,　E.　Choushen　(Goldstein)　and　S.　Sarel,　Helv.　Chim.　Acta,　1986,　69,　1728-1733.
23　ClO2 ・水溶液中、無水酢酸とNaClO2から生成された（参考文献等２２）。ClO2 ・は、プロトン化形態（H+ClO2 ・）である可能性がある。
24　W.　Masschelein,　Ind.　Eng.　Chem.　Prod.　Res.　Devel.,　1967,　6,　137-142.
25　この数値は、ClO2 ・によるスチレンのエポキシドへの変換(1.17×10-2M-1s-1)（参考文献等１０）よりも若干大きい。
26　(a)　T.　Ozawa　and　T.　Kwan,　Chem.　Pharm.　Bull.,　1983,　31,　2864-2867;　(b)　T.　Ozawa,　T.　Trends　Org.　Chem.,　1991,　2,　51-58.
27　Sc3+ClO2 ・とH+ClO2 ・のスピン分布の計算値を図１０に示した。それによれば、ScおよびH核はスピン密度を示さない。このことは、EPRスペクトルが、Sc(I=7/2)またはH(I=1/2)に由来する超微細分裂を示さないことを意味する。
28　Sc3+と金属オキソ錯体のオキソ基との結合については、下記を参照のこと：
(a)　J.　Chen,　X.　Wu,　K.　M.　Davis,　Y.-M.　Lee,　M.　S.　Seo,　K.-B.　Cho,　H.　Yoon,　Y.　J.　Park,　S.　Fukuzumi,　Y.　N.　Pushkar　and　W.　Nam,　J.　Am.　Chem.　Soc.,　2013,　135,　6388-6391;　(b)　H.　Yoon,　Y.-M.　Lee,　X.　Wu,　K.-B.　Cho,　Y.　N.　Pushkar,　W.　Nam　and　S.　Fukuzumi,　J.　Am.　Chem.　Soc.,　2013,　135,　9186-9194;　(c)　S.　Fukuzumi,　K.　Ohkubo,　Y.-M.　Lee　and　W.　Nam,　Chem.-Eur.　J.,　2015,　21,　17548-17559.
29　Sc3+による中性ラジカルの不均化については、I.　Nakanishi,　T.　Kawashima,　K.　Ohkubo,　T.　Waki,　Y.　Uto,　T.　Kamada,　T.　Ozawa,　K.　Matsumoto　and　S.　Fukuzumi,　S.　Chem.　Commun.,　2014,　50,　814-816.を参照のこと。
［実施例９］
　本実施例では、ルイス酸によるNaClO2の不均化反応の加速効果について確認した。
　実施例８でも確認したとおり、亜塩素酸ナトリウム(NaClO2)は中性水溶液/アセトニトリル混合溶液中では、非常に安定であるために全く分解は観測されない。この20ｍＭ溶液に、Sc(OTf)3（40ｍＭ）を添加するとNaClO2の吸収帯の減衰に伴い、即座に358nmにClO2ラジカル（ClO2 ・）に特徴的な吸収帯の増大が観測された（図１６）。同図において、横軸は波長（ｎｍ）であり、縦軸は吸光度である。この吸収帯の増大は、実施例８（図６）で確認したとおり、Sc(OTf)3の濃度を小さくすると経時変化として観測することができた。スカンジウムイオンよりもルイス酸性度の低いマグネシウムイオンおよびリチウムイオンなどでも同様の検討を行い、それぞれ反応速度定数を決定した。ルイス酸はこれまでに種々の不均化反応を触媒することが知られており、本反応においても同様の機構により、実施例８の反応式（２）に従って、ClO2-がClO-とClO3 -に不均化されたものと考えられる。その後、生成したClO-は大過剰に存在するClO2-と酸存在下反応し、Cl2O2を与えると考えられる（実施例８の反応式（３））。その後、Cl2O2はさらにClO2 -と反応し活性ラジカル種であるClO2ラジカルを与えると考えられる（実施例８の反応式（４））。
［参考例１］
　本参考例では、ルイス酸を用いたNaClO2による基質の酸素化反応を、トリフェニルフォスフィンからトリフェニルフォスフィンオキシドへの酸素化反応に用い、有用であることを確認した。より具体的には、NaClO2によるトリフェニルフォスフィンからトリフェニルフォスフィンオキシドへの酸素化反応を、ルイス酸であるスカンジウムトリフレートSc(OTf)3の存在下および非存在下で行い、ルイス酸が反応を促進することを確認した。
　まず、下記条件により、Sc(OTf)3の存在下または非存在下、常温常圧（光照射なし）で反応を行い、紫外可視吸収スペクトルにより反応を追跡した。図１９（ａ）の紫外可視吸収スペクトルは、経時変化によりトリフェニルフォスフィンがトリフェニルフォスフィンオキシドに変換される様子を示す。同図において、横軸は波長（ｎｍ）であり、縦軸は吸光度である。また、図１９（ｂ）のグラフは、Sc(OTf)3（Sc3+）の存在下および非存在下でのトリフェニルフォスフィン（Ph3P）濃度の経時変化を表す。横軸は時間（秒）であり、縦軸はトリフェニルフォスフィン（Ph3P）濃度（ｍＭ）である。図示のとおり、この曲線から算出された反応速度定数ｋは、Sc3+の非存在下では9.8×10-4S-1であったのに対し、Sc3+の存在下では1.7×10-3S-1と増大していたことから、Sc3+（ルイス酸）が反応を促進したことが確認された。
 
[Ph3P]=0.4mM
[NaClO2]=0.4mM
Sc(OTf)3=0または10mM
0.12M　酢酸緩衝液　pH5.3
MeCN/H2O(4:6)
　また、脱酸素アセトニトリルMeCN/H2O(0.9ml/0.1ml)中、トリフェニルフォスフィンとNaClO2(4.0mM)を混合しても反応は全く進行しなかった。ここにスカンジウムトリフレートSc(OTf)3(30mM)を添加すると効率よく酸素化生成物を与えた。前記反応は、トリフェニルフォスフィンの初期濃度を1.0mM、2.0mM、4.0mMおよび8.0mMに変化させて、それぞれ２５℃で１５分間行った。反応の追跡は紫外可視吸収スペクトルのスペクトル変化により行った（図１７（ａ））。図１７（ａ）において、横軸は波長（ｎｍ）であり、縦軸は吸光度である。これは、スカンジウムイオンSc3+によって活性ラジカル種であるClO2ラジカルが発生し、Ph3PがPh3P=Oへ酸素化されたものであると考えられる。量論は下記反応式（６）の通りであり、ほぼ定量的に反応は進行することが確認された（図１７（ｂ））。図１７（ｂ）において、横軸はPh3Pの初期濃度であり、縦軸は生成したPh3P=Oの濃度である。
 
2Ph3P+NaClO2　-->　2Ph3P=O+NaCl　　　　　　（６）
 
［第１の発明の産業上利用可能性］
　以上、説明したとおり、本発明における第１の発明の製造方法によれば、炭化水素またはその誘導体を原料として、効率よく前記炭化水素またはその誘導体の酸化反応生成物を製造できる。本発明における第１の発明によれば、例えば、光照射するのみの極めて簡便な方法で、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、炭化水素またはその誘導体を効率よく酸化反応生成物に変換することが可能である。そして、本発明における第１の発明によれば、例えば、前記炭化水素またはその誘導体を原料として、アルコール、カルボン酸、ケトン、フェノール、キノン等の、産業上利用価値がきわめて高い酸化反応生成物を効率よく得ることも出来る。従来は、このような酸化反応生成物を、炭化水素を原料として効率よく得ることが出来なかったため、天然ガス等の炭化水素を原料として有効利用することがきわめて困難であった。これに対し、本発明における第１の発明によれば、天然ガス等の炭化水素を原料として有効利用できる。このため、本発明における第１の発明によれば、従来は石油等を原料として合成するしかなかった化合物も、天然ガス等を原料として極めて簡便に効率よく合成できるので、エネルギー問題等に対し、多大な貢献が可能である。さらに、本発明における第１の発明によれば、例えば、有毒な重金属触媒等を用いずに、前記原料（炭化水素またはその誘導体）の酸化反応生成物を得ることも出来る。これによれば、前述のとおり常温および常圧等のきわめて温和な条件下で反応が行えることと併せ、環境への負荷がきわめて小さい方法で前記酸化反応生成物を効率よく得ることも可能である。このように、本発明における第１の発明の産業上利用可能性は絶大である。
［第２の発明の産業上利用可能性］
　以上、説明したとおり、本発明における第２の発明の製造方法によれば、メタンを原料として、効率よくメタンの酸化反応生成物を製造できる。本発明における第２の発明によれば、例えば、光照射するのみの極めて簡便な方法で、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、メタンを効率よく酸化反応生成物に変換することが可能である。そして、本発明における第２の発明によれば、例えば、前記メタンを原料として、メタノール、ギ酸、ホルムアルデヒド、およびメチルヒドロペルオキシド等の、産業上利用価値がきわめて高い酸化反応生成物を効率よく得ることも出来る。従来は、このような酸化反応生成物を、メタンを原料として効率よく得ることが出来なかったため、天然ガス等のメタンを原料として有効利用することがきわめて困難であった。これに対し、本発明における第２の発明によれば、天然ガス等のメタンを原料として有効利用できる。このため、本発明における第２の発明によれば、従来は石油等を原料として合成するしかなかった化合物も、天然ガス等を原料として極めて簡便に効率よく合成できるので、エネルギー問題等に対し、多大な貢献が可能である。さらに、本発明における第２の発明によれば、例えば、有毒な重金属触媒等を用いずに、前記メタンの酸化反応生成物を得ることも出来る。これによれば、前述のとおり常温および常圧等のきわめて温和な条件下で反応が行えることと併せ、環境への負荷がきわめて小さい方法で前記酸化反応生成物を効率よく得ることも可能である。このように、本発明における第２の発明の産業上利用可能性は絶大である。
［第３の発明の産業上利用可能性］
　以上、説明したとおり、本発明における第３の発明の製造方法によれば、エタンを原料として、効率よく前記エタンの酸化反応生成物を製造できる。本発明における第３の発明によれば、例えば、光照射するのみの極めて簡便な方法で、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、炭化水素またはその誘導体を効率よく酸化反応生成物に変換することが可能である。そして、本発明における第３の発明によれば、例えば、エタンを原料として、エタノール、酢酸、アセトアルデヒド、エチルヒドロペルオキシド等の、産業上利用価値がきわめて高い酸化反応生成物を効率よく得ることも出来る。従来は、このような酸化反応生成物を、炭化水素を原料として効率よく得ることが出来なかったため、天然ガス等の炭化水素を原料として有効利用することがきわめて困難であった。これに対し、本発明における第３の発明によれば、天然ガス等の炭化水素に含まれるエタンを原料として有効利用できる。このため、本発明における第３の発明によれば、従来は石油等を原料として合成するしかなかった化合物も、天然ガス等に含まれるエタンを原料として極めて簡便に効率よく合成できるので、エネルギー問題等に対し、多大な貢献が可能である。さらに、本発明における第３の発明によれば、例えば、有毒な重金属触媒等を用いずに、前記エタンの酸化反応生成物を得ることも出来る。これによれば、前述のとおり常温および常圧等のきわめて温和な条件下で反応が行えることと併せ、環境への負荷がきわめて小さい方法で前記酸化反応生成物を効率よく得ることも可能である。このように、本発明における第３の発明の産業上利用可能性は絶大である。
［第４の発明の産業上利用可能性］
　以上、説明したとおり、本発明における第４の発明の製造方法によれば、シクロヘキサンを原料として、効率よく前記シクロヘキサンの酸化反応生成物を製造できる。本発明における第４の発明によれば、例えば、光照射するのみの極めて簡便な方法で、常温および常圧等のきわめて温和な条件下でも、シクロヘキサンを効率よく酸化反応生成物に変換することが可能である。そして、本発明における第４の発明によれば、例えば、前記シクロヘキサンを原料として、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサンヒドロペルオキシド、開環酸化物（例えばアジピン酸など）等の、産業上利用価値がきわめて高い酸化反応生成物を効率よく得ることも出来る。従来は、このような酸化反応生成物を、炭化水素を原料として効率よく得ることが出来なかった。これに対し、本発明における第４の発明によれば、シクロヘキサンを原料として有効利用できる。このため、本発明における第４の発明によれば、エネルギー問題等に対し、多大な貢献が可能である。さらに、本発明における第４の発明によれば、例えば、有毒な重金属触媒等を用いずに、シクロヘキサンの酸化反応生成物を得ることも出来る。これによれば、前述のとおり常温および常圧等のきわめて温和な条件下で反応が行えることと併せ、環境への負荷がきわめて小さい方法で前記酸化反応生成物を効率よく得ることも可能である。このように、本発明における第４の発明の産業上利用可能性は絶大である。
［第５の発明の産業上利用可能性］
　以上、説明したとおり、本発明における第５の発明のオレフィンの酸化反応生成物の製造方法によれば、温和な条件下で反応を行うことができる。本発明における第５の発明の本発明における第５の発明のオレフィンの酸化反応生成物の製造方法は、温和な条件下で反応を行うことができるため、低コストで、反応の制御が容易であり、広範な用途に利用可能である。
１　有機層（有機相）
２　水層（水相）

Claims (37)

  1. 　原料および二酸化塩素ラジカルの存在下、反応系に光照射する反応工程を含み、
    　前記原料が、炭化水素またはその誘導体であり、
    　前記反応系が、有機相を含む反応系であり、
    　前記有機相が、前記原料および前記二酸化塩素ラジカルを含み、
    　前記反応工程において、前記光照射により、前記原料が酸化され、前記原料の酸化反応生成物を生成することを特徴とする酸化反応生成物の製造方法。
  2. 　前記反応工程において、少なくとも前記有機相に光照射する、請求項１記載の製造方法。
  3. 　さらに、前記二酸化塩素ラジカルを生成させる二酸化塩素ラジカル生成工程を含む、請求項１または２記載の製造方法。
  4. 　前記反応系が、さらに水相を含む二相反応系である請求項１または２記載の製造方法。
  5. 　さらに、前記二酸化塩素ラジカルを生成させる二酸化塩素ラジカル生成工程を含み、
    　前記二酸化塩素ラジカル生成工程において、前記水相が、前記二酸化塩素ラジカルの発生源を含み、前記二酸化塩素ラジカルの発生源から前記二酸化塩素ラジカルを生成させる請求項４記載の製造方法。
  6. 　前記二酸化塩素ラジカル生成工程において、前記二酸化塩素ラジカルの発生源が亜塩素酸イオン（ＣｌＯ２ －）であり、前記亜塩素酸イオンにルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方を作用させて前記二酸化塩素ラジカルを生成させる請求項５記載の製造方法。
  7. 　前記反応工程後、さらに、前記酸化反応生成物の回収工程を含み、
    　前記回収工程が、前記反応系から、前記酸化反応生成物を含む前記水相を回収する工程である、請求項４から６のいずれか一項に記載の製造方法。
  8. 　前記反応工程において、前記水相に酸素（Ｏ２）が溶解した状態で光照射する請求項４から７のいずれか一項に記載の製造方法。
  9. 　温度が０～４０℃であり、圧力が０．１～０．５ＭＰａである雰囲気下で行なう請求項１から８のいずれか一項に記載の製造方法。
  10. 　前記有機相が、有機溶媒を含み、前記有機溶媒が、炭化水素溶媒である請求項１から９のいずれか一項に記載の製造方法。
  11. 　前記有機相が、有機溶媒を含み、前記有機溶媒が、ハロゲン化溶媒である請求項１から９のいずれか一項に記載の製造方法。
  12. 　前記有機相が、有機溶媒を含み、前記有機溶媒が、フルオラス溶媒である請求項１から９のいずれか一項に記載の製造方法。
  13. 　前記原料が、メタンである請求項１から１２のいずれか一項に記載の製造方法。
  14. 　前記酸化反応生成物が、メタノール、ギ酸、ホルムアルデヒド、およびメチルヒドロペルオキシドからなる群から選択される少なくとも一つを含む請求項１３記載の製造方法。
  15. 　前記原料が、エタンである請求項１から１２のいずれか一項に記載の製造方法。
  16. 　前記酸化反応生成物が、エタノール、酢酸、アセトアルデヒド、およびエチルヒドロペルオキシドからなる群から選択される少なくとも一つを含む請求項１５記載の製造方法。
  17. 　前記原料が、シクロヘキサンである請求項１から１２のいずれか一項に記載の製造方法。
  18. 　前記原料が、シクロヘキサンであり、
    　前記有機相が、有機溶媒を含み、前記シクロヘキサンが、前記酸化反応生成物の原料と、前記有機溶媒とを兼ねる請求項１から９のいずれか一項に記載の製造方法。
  19. 　前記酸化反応生成物が、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、シクロヘキサンヒドロペルオキシド、および開環酸化物からなる群から選択される少なくとも一つを含む請求項１７または１８記載の製造方法。
  20. 　前記開環酸化物が、アジピン酸である請求項１９記載の製造方法。
  21. 　ルイス酸およびブレーンステッド酸の少なくとも一方と、ラジカル発生源と、を作用させてラジカルを発生させるラジカル発生工程と、
    　前記ラジカルを酸化剤としてオレフィンを酸化する酸化反応工程と、
    を含むことを特徴とする、前記オレフィンの酸化反応生成物の製造方法。
  22. 　前記ルイス酸のルイス酸性度が、０．４ｅＶ以上である請求項２１記載の製造方法。
  23. 　前記ルイス酸が、金属イオンを含む請求項２１または２２記載の製造方法。
  24. 　前記ルイス酸が、アルカリ土類金属イオン、希土類イオン、Ｍｇ２＋、Ｓｃ３＋、Ｌｉ＋、Ｆｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ａｌ３＋、ケイ酸イオン、およびホウ酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つである請求項２１または２２記載の製造方法。
  25. 　前記ルイス酸が、ＡｌＣｌ３、ＡｌＭｅＣｌ２、ＡｌＭｅ２Ｃｌ、ＢＦ３、ＢＰｈ３、ＢＭｅ３、ＴｉＣｌ４、ＳｉＦ４、およびＳｉＣｌ４からなる群から選択される少なくとも一つである請求項２１または２２記載の製造方法。
  26. 　前記ブレーンステッド酸の酸解離定数ｐＫａが５以上である請求項２１から２５のいずれか一項に記載の製造方法。
  27. 　前記ラジカル発生源が、オキソ酸を含む請求項２１から２６のいずれか一項に記載の製造方法。
  28. 　前記オキソ酸が、ホウ酸、炭酸、オルト炭酸、カルボン酸、ケイ酸、亜硝酸、硝酸、亜リン酸、リン酸、ヒ酸、亜硫酸、硫酸、スルホン酸、スルフィン酸、クロム酸、ニクロム酸、過マンガン酸、およびハロゲンオキソ酸からなる群から選択される少なくとも一つである請求項２７記載の製造方法。
  29. 　前記ハロゲンオキソ酸が、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、過塩素酸、次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸、過臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜ヨウ素酸、ヨウ素酸、および過ヨウ素酸からなる群から選択される少なくとも一つである請求項２８記載の製造方法。
  30. 　前記ラジカル発生源が、ハロゲンイオン、次亜ハロゲン酸イオン、亜ハロゲン酸イオン、ハロゲン酸イオン、および過ハロゲン酸イオンからなる群から選択される少なくとも一つを含む請求項２１から２６のいずれか一項に記載の製造方法。
  31. 　前記オキソ酸が、ハロゲンオキソ酸またはその塩である請求項２７記載の製造方法。
  32. 　前記ハロゲンオキソ酸が、塩素オキソ酸である請求項３１記載の製造方法。
  33. 　前記オキソ酸が、亜塩素酸イオンを含む請求項２７記載の製造方法。
  34. 　前記オレフィンが、芳香族オレフィンである請求項２１から３３のいずれか一項に記載の製造方法。
  35. 　前記芳香族オレフィンが、スチレンである請求項３４記載の製造方法。
  36. 　前記オレフィンが、エチレン、プロピレン、スチレン、およびブタジエンからなる群から選択される少なくとも一つである請求項２１から３３のいずれか一項に記載の製造方法。
  37. 　前記酸化反応生成物が、エポキシドおよびジオールの少なくとも一方である請求項２１から３６のいずれか一項に記載の製造方法。
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