WO2016208403A1 - イメージセンサ、および電子機器 - Google Patents
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Abstract
Description
図3は、本開示の実施の形態であるイメージセンサの構成例を示している。
上述したように、遮光体23の透光部25は、ガラスまたは樹脂などの透明材から成るが、透明材がガラスである場合、その添加剤に起因してガラスからα線が放出されて、受光素子層21の受光素子に悪影響を与え得る。
次に、図13は、厚みを増した薄膜接合樹脂層22の側方からの光りの侵入を防止できる、イメージセンサ20の第2の変形例を示している。
次に、図14は、厚みを増した薄膜接合樹脂層22の側方からの光りの侵入を防止できる、イメージセンサ20の第3の変形例を示している。
図15は、上述したイメージセンサ20を使用する使用例を示す図である。
・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される装置
・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される装置
・内視鏡や、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される装置
・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される装置
・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される装置
・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される装置
・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される装置
(1)
遮光壁と前記遮光壁間の開口部に形成された透光部を有する遮光体と、
前記遮光体の光の入射面側に形成され、前記遮光体の前記開口部毎に前記遮光体の前記開口部よりも狭い開口部を有する第1の遮光層と、
前記遮光体の光の入射面側であって、前記第1の遮光層の前記開口部毎に設けられているマイクロレンズと、
前記マイクロレンズにより集光され、前記遮光体の前記透光部を介して入力された入射光に応じて光電変換を行う多数の受光素子が配列された受光素子層と
を備えるイメージセンサ。
(2)
前記遮光体の受光素子層側に形成され、前記遮光体の前記開口部毎に前記遮光体の前記開口部よりも狭い開口部を有する第2の遮光層を
さらに備える前記(1)に記載のイメージセンサ。
(3)
前記遮光体の前記遮光壁は、Siによって形成されている
前記(1)または(2)に記載のイメージセンサ。
(4)
前記第1の遮光層は、前記遮光壁とは異なる遮光材によって形成されている
前記(1)から(3)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(5)
前記第1の遮光層の開口部は、円形である
前記(1)から(4)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(6)
前記第1の遮光層の開口部の壁面形状は、逆テーパー形状または垂直である
前記(1)から(5)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(7)
前記第2の遮光層は、前記遮光壁とは異なる遮光材によって形成されている
前記(2)から(6)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(8)
前記第2の遮光層の開口部は、矩形である
前記(2)から(7)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(9)
前記遮光体の透光部は、前記遮光壁間の開口部に透光材が充填されることにより形成されている
前記(2)から(8)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(10)
前記遮光体と前記受光素子層とを接合する接合層と、
前記接合層の側方を遮光する遮光部と
をさらに備える前記(1)から(9)のいずれかに記載のイメージセンサ。
(11)
前記遮光部は、前記遮光体の前記遮光壁が延伸されて形成されている
前記(10)に記載のイメージセンサ。
(12)
前記遮光部は、前記遮光体の前記遮光壁が前記接合層まで延伸されて形成されている
前記(10)または(11)に記載のイメージセンサ。
(13)
前記遮光部は、前記遮光体の前記遮光壁が前記受光素子層まで延伸されて形成されている
前記(10)または(11)に記載のイメージセンサ。
(14)
イメージセンサが搭載された電子機器において、
前記イメージセンサは、
遮光壁と前記遮光壁間の開口部に形成された透光部を有する遮光体と、
前記遮光体の光の入射面側に形成され、前記遮光体の前記開口部毎に前記遮光体の前記開口部よりも狭い開口部を有する第1の遮光層と、
前記遮光体の光の入射面側であって、前記第1の遮光層の前記開口部毎に設けられているマイクロレンズと、
前記マイクロレンズにより集光され、前記遮光体の前記透光部を介して入力された入射光に応じて光電変換を行う多数の受光素子が配列された受光素子層と
を備える
電子機器。
(15)
遮光材としてSiを採用する遮光壁と前記遮光壁間の開口部に透明材を充填することにより形成された形成された透光部を有する遮光体と、
前記遮光体を介して入力された入射光に応じて光電変換を行う多数の受光素子が配列された受光素子層と
を備えるイメージセンサ。
Claims (15)
- 遮光壁と前記遮光壁間の開口部に形成された透光部を有する遮光体と、
前記遮光体の光の入射面側に形成され、前記遮光体の前記開口部毎に前記遮光体の前記開口部よりも狭い開口部を有する第1の遮光層と、
前記遮光体の光の入射面側であって、前記第1の遮光層の前記開口部毎に設けられているマイクロレンズと、
前記マイクロレンズにより集光され、前記遮光体の前記透光部を介して入力された入射光に応じて光電変換を行う多数の受光素子が配列された受光素子層と
を備えるイメージセンサ。 - 前記遮光体の受光素子層側に形成され、前記遮光体の前記開口部毎に前記遮光体の前記開口部よりも狭い開口部を有する第2の遮光層を
さらに備える請求項1に記載のイメージセンサ。 - 前記遮光体の前記遮光壁は、Siによって形成されている
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記第1の遮光層は、前記遮光壁とは異なる遮光材によって形成されている
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記第1の遮光層の開口部は、円形である
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記第1の遮光層の開口部の壁面形状は、逆テーパー形状または垂直である
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記第2の遮光層は、前記遮光壁とは異なる遮光材によって形成されている
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記第2の遮光層の開口部は、矩形である
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記遮光体の透光部は、前記遮光壁間の開口部に透光材が充填されることにより形成されている
請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記遮光体と前記受光素子層とを接合する接合層と、
前記接合層の側方を遮光する遮光部と
をさらに備える請求項2に記載のイメージセンサ。 - 前記遮光部は、前記遮光体の前記遮光壁が延伸されて形成されている
請求項10に記載のイメージセンサ。 - 前記遮光部は、前記遮光体の前記遮光壁が前記接合層まで延伸されて形成されている
請求項10に記載のイメージセンサ。 - 前記遮光部は、前記遮光体の前記遮光壁が前記受光素子層まで延伸されて形成されている
請求項10に記載のイメージセンサ。 - イメージセンサが搭載された電子機器において、
前記イメージセンサは、
遮光壁と前記遮光壁間の開口部に形成された透光部を有する遮光体と、
前記遮光体の光の入射面側に形成され、前記遮光体の前記開口部毎に前記遮光体の前記開口部よりも狭い開口部を有する第1の遮光層と、
前記遮光体の光の入射面側であって、前記第1の遮光層の前記開口部毎に設けられているマイクロレンズと、
前記マイクロレンズにより集光され、前記遮光体の前記透光部を介して入力された入射光に応じて光電変換を行う多数の受光素子が配列された受光素子層と
を備える
電子機器。 - 遮光材としてSiを採用する遮光壁と前記遮光壁間の開口部に透明材を充填することにより形成された形成された透光部を有する遮光体と、
前記遮光体を介して入力された入射光に応じて光電変換を行う多数の受光素子が配列された受光素子層と
を備えるイメージセンサ。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018159737A1 (ja) * | 2017-03-03 | 2018-09-07 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、および電子機器 |
WO2018180569A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置、および電子機器 |
JP2019003976A (ja) * | 2017-06-12 | 2019-01-10 | 大日本印刷株式会社 | 貫通電極基板、光学素子、撮像モジュール、撮像装置 |
KR102401101B1 (ko) * | 2021-11-18 | 2022-05-24 | 한국과학기술원 | 광학 구조체, 생체인식 센서 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019093245A1 (ja) * | 2017-11-09 | 2019-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 装置、有機層形成用組成物 |
US10529763B2 (en) * | 2018-04-19 | 2020-01-07 | Semiconductor Components Industries, Llc | Imaging pixels with microlenses |
JP7293791B2 (ja) * | 2019-03-26 | 2023-06-20 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 光学装置、画像読取装置、および画像形成装置 |
US11309347B2 (en) * | 2020-02-11 | 2022-04-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Integrated circuit photodetector |
CN111366997A (zh) * | 2020-04-16 | 2020-07-03 | 欧菲微电子技术有限公司 | 微透镜阵列、生物识别模组及其电子设备 |
US11953372B2 (en) * | 2021-02-18 | 2024-04-09 | Innolux Corporation | Optical sensing device |
CN215835423U (zh) * | 2021-08-18 | 2022-02-15 | 荣耀终端有限公司 | 电子设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002072446A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-12 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | フォトマスク |
JP2009015981A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Sharp Corp | 磁界及び近接場光発生素子、及びこれを含む情報記録再生装置 |
JP2009021415A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Panasonic Corp | 固体撮像装置およびその製造方法 |
JP2013157442A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Nikon Corp | 撮像素子および焦点検出装置 |
JP2015015296A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置および電子機器 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005072662A (ja) | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Sharp Corp | 透光板および透光板の製造方法、並びに透光板を用いた画像入力装置 |
JP2005079338A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像装置とその製造方法 |
JP2007019143A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像装置の製造方法、固体撮像装置及びカメラ |
JP2007110588A (ja) * | 2005-10-17 | 2007-04-26 | Funai Electric Co Ltd | 複眼撮像装置 |
DE102006004802B4 (de) * | 2006-01-23 | 2008-09-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Bilderfassungssystem und Verfahren zur Herstellung mindestens eines Bilderfassungssystems |
JP2007329714A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Funai Electric Co Ltd | 複眼撮像装置 |
US8610823B2 (en) * | 2007-12-19 | 2013-12-17 | Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. | Optical module for a camera device, baffle substrate, wafer scale package, and manufacturing methods therefor |
EP4336447A1 (en) * | 2008-05-20 | 2024-03-13 | FotoNation Limited | Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers |
US8866920B2 (en) * | 2008-05-20 | 2014-10-21 | Pelican Imaging Corporation | Capturing and processing of images using monolithic camera array with heterogeneous imagers |
JP4966931B2 (ja) * | 2008-08-26 | 2012-07-04 | シャープ株式会社 | 電子素子ウエハモジュールおよびその製造方法、電子素子モジュールおよびその製造方法、電子情報機器 |
JP2010192705A (ja) * | 2009-02-18 | 2010-09-02 | Sony Corp | 固体撮像装置、電子機器、および、その製造方法 |
JP2012529069A (ja) * | 2009-06-02 | 2012-11-15 | フラウンホーファー−ゲゼルシャフト・ツール・フェルデルング・デル・アンゲヴァンテン・フォルシュング・アインゲトラーゲネル・フェライン | レンズ及びその製造方法 |
JP5468133B2 (ja) * | 2010-05-14 | 2014-04-09 | パナソニック株式会社 | 固体撮像装置 |
JP5814625B2 (ja) * | 2011-05-27 | 2015-11-17 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置、それを用いた撮像システム及び固体撮像装置の製造方法 |
CN103975436B (zh) * | 2011-07-19 | 2019-05-10 | 新加坡恒立私人有限公司 | 制造无源光学器件和包含该无源光学器件的装置的方法 |
CN103512595B (zh) * | 2011-07-19 | 2016-08-10 | 赫普塔冈微光有限公司 | 光电模块及其制造方法与包含光电模块的电器及装置 |
SG11201506393YA (en) * | 2013-02-22 | 2015-09-29 | Heptagon Micro Optics Pte Ltd | Optical imaging apparatus, in particular for computational imaging, having further functionality |
US9880391B2 (en) * | 2013-10-01 | 2018-01-30 | Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. | Lens array modules and wafer-level techniques for fabricating the same |
KR102499585B1 (ko) * | 2015-01-13 | 2023-02-14 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | 고체 촬상 소자 및 그 제조 방법, 및 전자 기기 |
US10437025B2 (en) * | 2015-01-26 | 2019-10-08 | Omnivision Technologies, Inc. | Wafer-level lens packaging methods, and associated lens assemblies and camera modules |
JP2017022200A (ja) * | 2015-07-08 | 2017-01-26 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | イメージセンサ、および電子機器 |
-
2016
- 2016-06-09 CN CN201680033226.9A patent/CN107683526A/zh active Pending
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- 2016-06-09 WO PCT/JP2016/067192 patent/WO2016208403A1/ja active Application Filing
- 2016-06-09 US US15/579,261 patent/US10475837B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002072446A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-12 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | フォトマスク |
JP2009015981A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Sharp Corp | 磁界及び近接場光発生素子、及びこれを含む情報記録再生装置 |
JP2009021415A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Panasonic Corp | 固体撮像装置およびその製造方法 |
JP2013157442A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Nikon Corp | 撮像素子および焦点検出装置 |
JP2015015296A (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-22 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置および電子機器 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018159737A1 (ja) * | 2017-03-03 | 2018-09-07 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、および電子機器 |
WO2018180569A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置、および電子機器 |
CN110431668A (zh) * | 2017-03-30 | 2019-11-08 | 索尼半导体解决方案公司 | 固态摄像装置和电子设备 |
JPWO2018180569A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2020-04-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置、および電子機器 |
US11075241B2 (en) | 2017-03-30 | 2021-07-27 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Solid-state imaging device and electronic apparatus |
CN110431668B (zh) * | 2017-03-30 | 2024-03-22 | 索尼半导体解决方案公司 | 固态摄像装置和电子设备 |
JP2019003976A (ja) * | 2017-06-12 | 2019-01-10 | 大日本印刷株式会社 | 貫通電極基板、光学素子、撮像モジュール、撮像装置 |
KR102401101B1 (ko) * | 2021-11-18 | 2022-05-24 | 한국과학기술원 | 광학 구조체, 생체인식 센서 및 그 제조 방법 |
Also Published As
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