WO2016199612A1 - ガラス板の製造方法、ガラス板、および表示装置 - Google Patents

ガラス板の製造方法、ガラス板、および表示装置 Download PDF

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glass
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満 堀江
正文 伊藤
雄貴 堀
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    • B24B13/01—Specific tools, e.g. bowl-like; Production, dressing or fastening of these tools
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    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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    • B24B29/005—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents using brushes
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    • B24B7/242—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate manufacturing method, a glass plate, and a display device.
  • Patent Document 1 describes a technique of polishing a curved surface of a glass plate with a rubber sleeve.
  • the rubber sleeve is a rubber hollow cylinder, and is used while supplying air to the inside and maintaining a constant internal pressure.
  • the rubber sleeve is elastically deformed so as to be in close contact with the curved surface of the glass plate during polishing.
  • Patent Document 2 describes a technique for polishing a curved surface of a glass plate with a rotating drum.
  • the curved surface of the glass plate can be polished by changing the position of the center of the rotating drum with respect to the center of the glass plate according to the rotation angle of the glass plate.
  • Patent Document 3 describes a technique for polishing a curved surface of a glass plate with a polishing pad.
  • the polishing pad has a plurality of elastic members inside and is elastically deformed so as to be in close contact with the curved surface of the glass plate during polishing.
  • polishing the curved surface of a glass plate polishing with a rubber sleeve, a rotating drum, a polishing pad, etc. has a slow polishing rate and takes a long time to remove large defects.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a method for producing a glass plate, which can remove a major defect of the glass plate in a short time.
  • a method for producing a glass plate comprising a polishing step of polishing the curved surface of the glass plate with a polishing tool
  • the polishing tool is a rotary brush, and has a rotary core and brush hair provided on an outer peripheral portion of the rotary core,
  • the brush hair has an average diameter of 300 ⁇ m or less
  • the relative position of the rotating brush with respect to the glass plate is swung in the axial direction of the rotating brush,
  • the swing speed is 1 mm / sec or more and the swing amplitude is 0.5 mm or more.
  • a method for producing a glass plate that can remove a major defect of the glass plate in a short time.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. It is a figure which shows the glass plate after grinding
  • FIG. It is a figure which shows the manufacturing method of the glass plate by the comparative example 2.
  • FIG. It is a figure which shows the edge part of the glass plate after grinding
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a glass plate manufacturing method according to an embodiment.
  • the movement trajectory of the center line of the rotating brush 20 is indicated by a two-dot chain line.
  • FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II in FIG. 1 and 2, the X direction, the Y direction, and the Z direction are directions perpendicular to each other.
  • the X direction represents the axial direction of the rotary brush 20
  • the Z direction represents the up-down direction
  • the Y direction represents a direction perpendicular to the X direction and the Z direction.
  • the glass plate manufacturing method has a polishing step of polishing the curved surface 11 of the glass plate 10 with a rotating brush 20 as a polishing tool.
  • the glass plate 10 may be for in-vehicle use or display use, for example.
  • the display may be any of a cathode ray tube, a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, or the like.
  • the display includes a display of a mobile terminal.
  • the glass plate 10 may be curved as a whole, and may be constituted by a part of a cylindrical body, for example.
  • the glass plate 10 may be partially curved. That is, only a part of the glass plate 10 may be curved and the remaining part of the glass plate 10 may be flat.
  • the glass plate 10 has a curved surface 11.
  • the minimum value of the radius of curvature is, for example, 30 to 10000 mm, preferably 100 to 10000 mm, more preferably 300 to 10000 mm, and still more preferably 500 to 5000 mm.
  • the radius of curvature of the curved surface 11 is measured by cutting the curved surface 11 at a plane including the normal line at the point of the curved surface 11.
  • the radius of curvature may change between a minimum value and a maximum value.
  • the radius of curvature does not have to change, and the minimum value and the maximum value may be the same.
  • the curved surface 11 of the glass plate 10 is curved in a sectional view perpendicular to the X direction as shown in FIG. 1, and may be flat in a sectional view perpendicular to the Y direction as shown in FIG.
  • the radius of curvature of the curved surface 11 is the smallest in the cross section perpendicular to the X direction and the largest in the cross section perpendicular to the Y direction.
  • the maximum value of the radius of curvature is infinite.
  • the curved surface 11 of the glass plate 10 of the present embodiment is flat in a cross-sectional view perpendicular to the Y direction, but may be curved.
  • the curved surface 11 of the glass plate 10 is a curved surface that is concave upward in a cross-sectional view perpendicular to the X direction, as shown in FIG.
  • the curved surface 11 may be an upward convex curved surface.
  • the rotating brush 20 has a rotating core 21 and brush bristles 22 provided on the outer periphery of the rotating core 21.
  • a plurality of brush bristles 22 are provided.
  • a plurality of brush bristles 22 are shown as a bundle.
  • the rotary core 21 is formed in a cylindrical shape, for example.
  • the outer peripheral surface of the rotating core 21 is flat in a cross-sectional view perpendicular to the Y direction as shown in FIG.
  • the length of the plurality of brush bristles 22 can be made uniform from one end of the rotary core 21 to the other end of the rotary core 21 along the X direction, and uneven polishing can be suppressed.
  • the outer peripheral surface of the rotating core 21 may be curved.
  • the rotary core 21 may be formed such that the center part is thicker than both end parts, or the center part is thinner than both end parts.
  • the lengths of the plurality of brush bristles 22 can be aligned from one end of the rotary core 21 to the other end of the rotary core 21 along the X direction, and polishing unevenness can be suppressed.
  • the brush bristles 22 may be embedded in the outer peripheral surface of the rotary core 21 or may be held by a clamp that is wound around the outer peripheral surface of the rotary core 21.
  • the brush bristles 22 are formed of resin or the like.
  • the length of the brush bristles 22 may be substantially constant.
  • the average diameter of the bristles 22 is, for example, 300 ⁇ m or less. When the average diameter of the bristles 22 is 300 ⁇ m or less, the waviness of the curved surface 11 after polishing can be reduced. Further, since the brush bristles 22 are easily bent, scratches are difficult to enter when foreign matter is bitten.
  • the average diameter of the brush bristles 22 is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or more.
  • the length of the brush bristles 22 is preferably 2 mm or more, and preferably 5 mm or more.
  • the length of the brush bristles 22 is 2 mm or more, the contact pressure due to the repulsive force of the bristles 22 does not become too strong when the brush bristles 22 are pressed against the polished surface, and a polished surface with few scratches is obtained.
  • the length of the brush bristles 22 is preferably 100 mm or less, and more preferably 50 mm or less. If the length of the brush bristles 22 is 100 mm or less, when the bristles 22 are pressed against the polishing surface, a contact pressure due to the repulsive force of the brush bristles 22 is appropriately obtained and a high polishing rate is obtained.
  • the curved surface 11 of the glass plate 10 is polished by the rotating brush 20 while rotating the rotating brush 20 around the center line of the rotating brush 20.
  • slurry containing abrasive grains is supplied to the rotating brush 20.
  • abrasive grains for example, cerium oxide particles are used.
  • aluminum oxide, zirconium oxide, iron oxide, silicon oxide and the like can also be used. Polishing with the rotating brush 20 has a higher polishing speed and less time for removing a large defect than polishing with a rubber sleeve, a rotating drum, a polishing pad, or the like.
  • the relative position of the rotating brush 20 with respect to the glass plate 10 is moved along the curved surface 11 in a cross-sectional view perpendicular to the X direction as shown in FIG.
  • the rotating brush 20 can polish the entire curved surface 11.
  • This relative movement may be performed by any of the movement of the rotating brush 20, the movement of the glass plate 10, and both movements, but in FIG.
  • the movement trajectory of the rotating brush 20 is curved.
  • This relative movement is performed so that the distance between the center line of the rotating brush 20 and the curved surface 11 of the glass plate 10 is constant in FIG. It may be performed to become.
  • the relative position of the rotating brush 20 with respect to the glass plate 10 is swung in the X direction in the polishing step.
  • This rocking may be performed by any of rocking of the rotating brush 20, rocking of the glass plate 10, or both of them, but is performed by rocking of the glass plate 10 in FIG. 1.
  • the magnitude of the rocking speed is, for example, 1 mm / sec or more, preferably 2 mm / sec or more.
  • the swing speed is preferably 50 mm / sec or less.
  • the magnitude of the oscillation speed is represented by the magnitude of the oscillation speed when passing through the oscillation center.
  • the swing amplitude is, for example, 0.5 mm or more, preferably 3 mm or more, more preferably 5 mm or more.
  • the swing amplitude is preferably 200 mm or less.
  • the swing amplitude means the maximum amount of displacement from the swing center.
  • Polishing with the rotating brush 20 is particularly suitable when an anti-glare coating is applied to the polished glass plate 10.
  • the antiglare coat has an effect of making the streak-like polished marks invisible from the outside.
  • the antiglare coat is applied to, for example, the on-vehicle glass plate 10.
  • the opposite surface 12 of the curved surface 11 of the glass plate 10 may be vacuum-adsorbed by the curved surface 31 of the pedestal 30.
  • the shape of the curved surface 11 of the glass plate 10 is stabilized. Further, it is easy to remove the glass plate 10 from the pedestal 30 after polishing.
  • the base 30 may be, for example, carbon or metal, but is preferably made of at least one resin material selected from the group consisting of polyvinyl chloride, polycarbonate, polyacetal, acrylic, polyamide, polyurethane, polypropylene, and polyethylene. These resin materials are soft and can limit the generation of contact scratches with the pedestal 30 in the glass plate 10. Moreover, it is not necessary to produce the whole pedestal 30 with the said material, The site
  • the curved surface 31 of the pedestal 30 has substantially the same shape as the curved surface 11 of the glass plate 10.
  • the curved surface 31 of the pedestal 30 may be curved in a sectional view perpendicular to the X direction as shown in FIG. 1 and may be flat in a sectional view perpendicular to the Y direction as shown in FIG.
  • the curved surface 31 of the pedestal 30 does not have to be substantially the same shape as the curved surface 11 of the glass plate 10, and may have a shape corresponding to the opposite surface 12.
  • the curved surface 31 of the pedestal 30 is a curved surface that is concave upward in a sectional view perpendicular to the X direction, as shown in FIG.
  • the curved surface 31 of the base 30 should just be the substantially same shape as the curved surface 11 of the glass plate 10, and may be a convex curved surface.
  • the polished glass plate 10 can be easily removed from the recess, and the efficiency of replacement of the glass plate 10 is good.
  • the glass plate 10 may be swung by swinging the pedestal 30 in the X direction. As described above, generation of streak-like polishing marks on the curved surface 11 of the glass plate 10 can be suppressed.
  • the glass plate 10 may be turned by turning the pedestal 30. Thereby, generation
  • the turning direction of the glass plate 10 may be maintained in one direction or may be repeatedly reversed. In the latter case, the glass plate 10 may be turned within a predetermined angle range of less than 360 °.
  • the pedestal 30 is attached to the turning table 40 and turned together with the turning table 40.
  • the turning table 40 is turnable around the turning shaft 41.
  • only one surface of the glass plate 10 is polished, but the opposite surface may be polished, or both surfaces of the glass plate 10 may be polished.
  • FIG. 3 is a view showing a glass plate after polishing according to an embodiment.
  • the polished glass plate 10A shown in FIG. 3 is obtained by polishing the glass plate 10 shown in FIGS.
  • the thickness of the glass plate 10A is, for example, 0.5 to 5.0 mm, preferably 0.5 to 3.0 mm, and more preferably 0.7 to 2.5 mm.
  • the glass plate 10A has a polished curved surface 11A.
  • the glass plate 10A may be curved as a whole.
  • the glass plate 10A may be partially curved. That is, only a part of the glass plate 10A may be curved and the remaining part of the glass plate 10A may be flat.
  • the arithmetic average height (Sa) of the frequency component having a wavelength of 25 to 500 ⁇ m is 0.5 to 50 nm.
  • a Gaussian filter is used to extract frequency components.
  • the curved surface 11A having an arithmetic average height (Sa) of 0.5 to 50 nm can be formed by polishing with the rotating brush 20.
  • Arithmetic mean height (Sa) is measured according to the international standard (ISO 25178).
  • the cut-off value of the high-pass filter is 25 ⁇ m, and the cut-off value of the low-pass filter is 500 ⁇ m.
  • the cutoff value of the low-pass filter is sufficiently smaller than the minimum radius of curvature of the curved surface 11A of the glass plate 10A.
  • the maximum value of the arithmetic mean waviness of the frequency component of the wavelength 25 ⁇ 500 ⁇ m (Wa) (Wa max) and the minimum value (Wa min) and the ratio of (Wa max / Wa min) Is 1.5 or more.
  • the ratio (Wa max / Wa min) is preferably 1.6 or more.
  • the ratio (Wa max / Wa min) is preferably 10 or less.
  • Arithmetic mean waviness (Wa) is measured in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS B0601: 2013).
  • the cut-off value of the high-pass filter is 25 ⁇ m
  • the cut-off value of the low-pass filter is 500 ⁇ m.
  • the cutoff value of the low-pass filter is sufficiently smaller than the minimum radius of curvature of the curved surface 11A of the glass plate 10A. Therefore, the reference plane of the arithmetic mean waviness (Wa) may be a plane substantially parallel to the XY plane.
  • the arithmetic average waviness (Wa) is measured along a linear measurement path on the reference plane. When the measurement path is rotated about the Z axis, arithmetic average waviness (Wa) varies between a minimum value (Wa min) and maximum value (Wa max).
  • the ratio (Wa max / Wa min) is 1.5 or more represents that the curved surface 11A is formed by polishing with a rotating brush 20.
  • the arithmetic mean waviness (Wa) tends to be the minimum value (Wa min ).
  • polishing with the rotating brush 20 has a higher polishing speed and less time for removing a large defect than polishing with a rubber sleeve, a rotating drum, a polishing pad, or the like.
  • polishing with a rubber sleeve, a rotating drum, a polishing pad, or the like has a higher polishing speed and less time for removing a large defect than polishing with a rubber sleeve, a rotating drum, a polishing pad, or the like.
  • the number of major drawbacks is small.
  • Example 1 soda lime glass having a minimum curvature radius of 1500 mm, a length of 150 mm, a width of 150 mm, and a thickness of 1 mm was prepared.
  • This glass plate was constituted by a part of a cylindrical body, curved in a cross-sectional view perpendicular to the X direction, and flat in a cross-sectional view perpendicular to the Y direction.
  • This glass plate had a chamfered portion having a planar shape with a chamfering angle of 45 ° and a chamfering width of 0.1 mm at the boundary between the upper surface and the end surface and the boundary between the lower surface and the end surface.
  • the chamfering angle means an angle formed between the extended surface of the upper surface or the lower surface and the chamfered portion.
  • the chamfer width is the distance from the outer edge of the upper surface or the lower surface to the intersection of the extended surface of the upper surface or the lower surface and the extended surface of the end surface, and means the dimension of the chamfered portion.
  • the rotating brush one composed of a cylindrical rotating core and brush hairs provided on the outer periphery of the rotating core was prepared.
  • the brush bristles were made of nylon 66, the average diameter was 200 ⁇ m, and the average length was 20 mm.
  • the diameter of the rotating brush was 150 mm.
  • the upper surface of the glass plate was polished by 5 ⁇ m with a rotating brush while rotating the rotating brush at a rotation speed of 900 rpm around the center line of the rotating brush.
  • the glass plate was vacuum-adsorbed to the pedestal to maintain the upper surface of the glass plate as a concave curved surface.
  • a slurry containing cerium oxide particles was supplied to the rotating brush.
  • the center line of the rotating brush was moved along the upper surface of the glass plate at a moving speed of 1 mm / sec in a cross-sectional view perpendicular to the X direction.
  • the distance between the center line of the rotating brush and the upper surface of the glass plate was set to a constant value (a value 6 mm shorter than the radius of the rotating brush).
  • the glass plate was rocked by rocking the pedestal in the X direction.
  • the swing speed was 15 mm / sec, and the swing amplitude was 13 mm.
  • the pedestal was not turned.
  • the glass plate A was obtained by the above.
  • the measurement range was a 3.6 mm square range at the center of the glass plate.
  • the arithmetic average height (Sa) of the glass plate was 7 nm. Further, the arithmetic mean waviness of the glass plate (Wa), the minimum value (Wa min) is 2.8 nm, the maximum value (Wa max) is 5.1 nm, the ratio (Wa max / Wa min) 1.8 met It was.
  • the time required for polishing 5 ⁇ m was 25 minutes.
  • FIG. 4 is a view showing an end portion of the polished glass plate obtained in Example 1.
  • FIG. 4 In the glass plate 10B after polishing shown in FIG. 4, the shape of the chamfered portion was kept flat. It is estimated that the brush bristles having an average diameter of 200 mm have a small stress applied to the chamfered portion of the glass plate.
  • Comparative Example 1 In Comparative Example 1, the glass plate was polished in the same manner as in Example 1 except that the average diameter of the bristles was 400 ⁇ m and the pedestal was not rocked, and a glass plate B was obtained.
  • the arithmetic average height (Sa) of the glass plate was 70 nm. Further, the arithmetic mean waviness of the glass plate (Wa), the minimum value (Wa min) is 4 nm, the maximum value (Wa max) is 100 nm, the ratio (Wa max / Wa min) was 25.
  • the time required for polishing 5 ⁇ m was 25 minutes. Defects having a maximum diameter of 7 ⁇ m or more and a depth or height of 1 ⁇ m or more were observed on the polished surface of the glass plate, 10 pieces per 10000 mm 2 .
  • Comparative Example 2 In Comparative Example 2, the same glass as in Example 1 was prepared, and the curved surface 111 of the glass plate 110 was polished with the polishing pad 120 as shown in FIG. As the polishing head 121, a circular SUS304 base metal having a diameter of 60 mm was prepared, and a polyurethane polishing pad 120 was attached to the tip of the polishing head 121. As the polishing pad 120, a surface in contact with the glass plate 110 having grooves in a grid shape with a pitch of 10 mm was used.
  • the polishing pad 120 was pressed against the glass plate 110 with a pressure of 150 g / cm 2 while rotating at 150 rpm.
  • the glass plate 110 was vacuum-adsorbed to the pedestal 130 to maintain the upper surface of the glass plate 110 as a concave curved surface 111.
  • a slurry containing cerium oxide particles was supplied to the polishing pad 120.
  • the polishing pad 120 was moved on the glass plate 110 in the X direction and the Y direction at a speed of 60 mm / min, and the entire surface of the curved surface 111 was polished by 5 ⁇ m.
  • the time required for polishing was 300 minutes. Thus, a glass plate C was obtained.
  • the arithmetic average height (Sa) of the polished surface of the glass plate 110 was 1.6 nm. Further, the arithmetic mean waviness of the polished surface of the glass plate 110 (Wa) is a minimum value (Wa min) is 1.5 nm, the maximum value (Wa max) is 2 nm, the ratio (Wa max / Wa min) 1.3 Met. The defect that the maximum diameter was 7 ⁇ m or more and the depth or height was 1 ⁇ m or more was not observed on the polished surface of the glass plate 110.
  • FIG. 6 is a view showing the edge of the polished glass plate obtained in Comparative Example 2.
  • the shape of the chamfered portion does not maintain a planar shape, and has a curved shape. It is presumed that the stress when the polishing pad is in contact with the chamfered portion of the glass plate 110A is large.
  • the OCA tape (“MHM-FWD” manufactured by Niei Kakko Co., Ltd.) is laminated on the opposite side of the polished surface of the glass plates A to C, and each of these glass plates and a liquid crystal panel as a display panel are bonded to each other.
  • a display device was manufactured in combination with the above. In the display device using the glass plate A, when the image on the liquid crystal panel was visually recognized through the glass plate A, the image was not distorted, swelled, or flickered.
  • the central portion of the glass plate C had the same visibility as the glass plate A, but the chamfered portion was also polished, so that the peripheral portion of the glass plate C can also be visually recognized.
  • the image looked distorted. This is because Wa max / Wa min and Sa are small, but the peripheral portion has a curved shape as shown in FIG. 6, and the visibility is different between the central portion and the peripheral portion of the glass plate C. This is because the image looks distorted. Therefore, it turned out that the glass plate A is suitable as a cover glass used for a display apparatus.
  • the glass plate may not have a chamfered portion at the outer peripheral end before polishing, but preferably has a chamfered portion at the outer peripheral end.
  • tip of an outer peripheral edge part can be suppressed at the time of grinding
  • the shape of the chamfered portion may be a curved surface shape before polishing, but is preferably a planar shape.
  • the dimensional variation of the chamfered portion is small before and after polishing.
  • the chamfer angle of the planar chamfer is, for example, 40 to 50 °.
  • polishing may be carried out by applying an external force such as by adsorbing the glass plate to the pedestal to increase the radius of curvature of the glass plate having a small radius of curvature.
  • the rotating brush of this embodiment can grind
  • polishing surface about the glass plate which has both a curved surface and a plane on a grinding
  • the minimum radius of the rotating core be equal to or smaller than the minimum radius of curvature of the concave surface of the polishing surface.
  • the surface of the glass plate obtained in this embodiment is preferably smooth.
  • the arithmetic average roughness Ra is preferably 0.2 nm to 50 nm from the viewpoint of visibility, touch, and the like.
  • the root mean square roughness Rq is preferably 0.3 to 100 nm from the viewpoint of slipperiness and slipperiness.
  • the maximum height roughness Rz is preferably 0.5 to 100 nm from the viewpoint of slipperiness, which is rough.
  • the maximum cross-sectional height roughness Rt is preferably 1 to 500 nm from the viewpoint of slipperiness, which indicates roughness.
  • the maximum peak height roughness Rp is preferably 0.3 to 500 nm from the viewpoint of slipperiness.
  • the maximum valley depth roughness Rv is preferably from 0.3 to 500 nm from the viewpoint of slipperiness.
  • the average length roughness Rsm is preferably 0.3 to 100 nm from the viewpoint of slipperiness, which is rough.
  • the kurtosis roughness Rku is preferably 1 or more and 3 or less from the viewpoint of touch.
  • the skewness roughness Rsk is preferably ⁇ 1 or more and 1 or less from the viewpoint of uniformity such as visibility and touch.
  • the glass plate obtained in the present embodiment may be subjected to various treatments before and after polishing.
  • the chamfering process using a grinding wheel or an acid may be performed before the polishing process, may be performed after the polishing process, or may be performed both before and after the polishing process.
  • surface treatment may be performed before and after polishing to form a surface treatment layer. Specifically, an antiglare treatment layer by etching or film formation, an antireflection treatment layer, an antifouling treatment layer by an anti-fingerprinting agent, etc. And an anti-fogging treatment layer. When the polishing treatment is performed after the surface treatment, only the untreated surface is polished.
  • the glass plate may be strengthened before and after the polishing treatment, and a chemical strengthening treatment is preferred.
  • chemical strengthening after the polishing treatment uniform strengthening can be put in the glass plate surface.
  • chemical strengthening before the polishing treatment it is possible to remove the strengthened scratches on the glass plate surface. Therefore, the polishing treatment may be performed both before and after the chemical strengthening treatment depending on the situation.
  • a printing process such as decorative printing may be performed before and after the polishing process. Not limited to these, various processes can be performed, and the order of the processes may be determined as appropriate.
  • the composition of the glass plate is, for example, non-alkali glass or soda lime glass when chemical strengthening treatment is not performed, for example, soda lime glass, soda lime silicate glass, aluminosilicate glass when chemical strengthening treatment is performed, Examples thereof include borate glass, lithium aluminosilicate glass, and borosilicate glass.
  • Aluminosilicate glass is preferred because it is easy to be subjected to a tempering treatment even if the thickness is small, and a high-strength glass can be obtained even if it is thin.
  • the glass composition include a composition expressed in mol%, SiO 2 50 to 80%, Al 2 O 3 0.1 to 25%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 3 to 30%, MgO Glass containing 0 to 25% of Ca, 0 to 25% of CaO and 0 to 5% of ZrO 2 , but is not particularly limited. More specifically, the following glass compositions may be mentioned. For example, “containing 0 to 25% of MgO” means that MgO is not essential but may contain up to 25%.
  • the glass of (i) is contained in soda lime silicate glass, and the glass of (ii) and (iii) is contained in aluminosilicate glass.
  • composition expressed in mol% is SiO 2 50-74%, Al 2 O 3 1-10%, Na 2 O 6-14%, K 2 O 3-11%, Li 2 O 0 to 5.0%, MgO 2 to 15%, CaO 0 to 6% and ZrO 2 0 to 5%, and the total content of SiO 2 and Al 2 O 3 is 75% or less, Na A glass having a total content of 2 O and K 2 O of 12 to 25% and a total content of MgO and CaO of 7 to 15%.
  • composition expressed in mol% is SiO 2 68-80%, Al 2 O 3 4-10%, Na 2 O 5-15%, K 2 O 0-1%, Li 2 O Containing 0 to 5.0% of Mg, 4 to 15% of MgO, and 0 to 1% of ZrO 2 .
  • the composition expressed in mol% is SiO 2 67-75%, Al 2 O 3 0-4%, Na 2 O 7-15%, K 2 O 1-9%, Li 2 O 0 to 5.0%, MgO 6 to 14% and ZrO 2 0 to 1.5%, and the total content of SiO 2 and Al 2 O 3 is 71 to 75%, Na 2 O and K Glass whose total content of 2 O is 12 to 20%, and when CaO is contained, the content is less than 1%.
  • the total content of Li 2 O and Na 2 O in the glass composition is 12 mol% or more. Furthermore, as the Li 2 O content in the glass composition increases, the glass transition point decreases and molding becomes easy. Therefore, the Li 2 O content is preferably 0.5 mol% or more. More preferably, it is 0.0 mol% or more, and more preferably 2.0 mol% or more. Furthermore, in order to increase the surface compressive stress (Compressive Stress: CS) and the compressive stress layer depth (Depth of Layer: DOL), the glass composition contains 60 mol% or more of SiO 2 and 8 mol% or more of Al 2 O 3. It is preferable to do.
  • Compressive Stress: CS Compressive Stress
  • DOL compressive stress layer depth
  • the maximum value of CS is 400 MPa or more, preferably 500 MPa or more, and more preferably 600 MPa or more.
  • DOL is 10 ⁇ m or more.
  • alkali metal ions typically Na ions
  • alkali metal ions typically This is a process of forming a compressive stress layer on the glass surface by exchanging with K ions.
  • the chemical strengthening treatment can be performed by a conventionally known method, and generally the glass is immersed in molten potassium nitrate. Further, a mixed salt of potassium nitrate and potassium carbonate can be used as the molten salt, and it is preferable that 5 to 10 parts by mass of potassium carbonate is contained with respect to 100 parts by mass of the mixed salt.
  • the glass is ion-exchanged to have silver ions on the surface and impart antibacterial properties.
  • the glass plate having a curved shape is preferably formed into a predetermined shape from a flat glass plate.
  • the molding method to be used is a self-weight molding method, a vacuum molding method, a press molding method, or a desired molding method according to the desired curved shape of the glass after molding. Just choose.
  • the self-weight molding method a plate glass is placed on a predetermined mold corresponding to a curved surface shape after molding, and then the plate glass is softened and bent into a predetermined shape by bending the plate glass by gravity. Is the method.
  • the vacuum forming method is a method of forming a predetermined shape by applying a differential pressure to the front and back surfaces of the plate glass while the plate glass is softened, bending the plate glass and fitting it into a mold.
  • a plate glass is set on a predetermined mold corresponding to the shape of the curved surface after forming, a clamp mold is set on the plate glass, the periphery of the plate glass is sealed, and then the space between the mold and the plate glass is set.
  • a differential pressure is applied to the front and back surfaces of the plate glass. Under the present circumstances, you may pressurize the upper surface side of plate glass auxiliary.
  • a plate glass is set between predetermined molds (lower mold, upper mold) according to the curved surface shape after molding, and a press load is applied between the upper and lower molds in a state where the plate glass is softened.
  • This is a method of forming a predetermined shape by bending a plate glass and fitting it into a mold.
  • the vacuum forming method is excellent as a method for forming a curved surface shape, and one of the two main surfaces of the glass plate can be formed without contacting the mold, so that scratches, dents, etc. Reduces uneven defects.
  • a local pressure forming method, a differential pressure forming method different from the vacuum forming method, and the like can be used, and an appropriate forming method may be selected depending on the glass plate having a curved surface shape after forming.
  • These molding methods may be used in combination. You may implement the process which reheats (annealing) about the glass plate after shaping
  • the use of the glass plate of the present embodiment is not particularly limited. Specific examples include transparent parts for vehicles (headlight covers, side mirrors, front transparent boards, side transparent boards, rear transparent boards, instrument panel surfaces, etc.), meters, building windows, show windows, interior parts for buildings. , Exterior materials for buildings, displays (notebook computers, monitors, LCDs, PDPs, ELDs, CRTs, PDAs, etc.), LCD color filters, touch panel substrates, pickup lenses, optical lenses, eyeglass lenses, camera parts, video parts, CCDs Cover substrates, optical fiber end faces, projector parts, copier parts, transparent substrates for solar cells (cover glass, etc.), mobile phone windows, backlight unit parts (light guide plates, cold cathode tubes, etc.), backlight unit parts Liquid crystal brightness enhancement film (prism, transflective film, etc.), liquid crystal brightness direction Film, organic EL light-emitting element component, inorganic EL light-emitting element component, phosphor light-emitting element component, optical filter, end face of optical component
  • the article of the present invention includes the glass plate of the present embodiment.
  • the article of the present invention may be composed of the glass plate of the present embodiment, or may further include other members other than the glass plate of the present embodiment.
  • Examples of the article of the present invention include those mentioned above for the use of the glass plate, devices provided with any one or more of them, and the like.
  • Examples of the device include an image display device, a lighting device, and a solar cell module.
  • the article of the present invention is preferably an image display device in terms of uniform optical properties such as visibility.

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Abstract

ガラス板の曲面を研磨具により研磨する研磨工程を有する、ガラス板の製造方法であって、前記研磨具は、回転ブラシであって、回転芯と前記回転芯の外周部に設けられるブラシ毛とを有し、前記ブラシ毛の平均直径が３００μｍ以下であり、前記研磨工程では、前記ガラス板に対する前記回転ブラシの相対位置を前記回転ブラシの軸方向に揺動させ、揺動速度の大きさが１ｍｍ／ｓｅｃ以上、揺動振幅が０．５ｍｍ以上である、ガラス板の製造方法。

Description

ガラス板の製造方法、ガラス板、および表示装置
　本発明は、ガラス板の製造方法、ガラス板、および表示装置に関する。
　特許文献１には、ガラス板の曲面をラバースリーブで研磨する技術が記載されている。ラバースリーブは、ゴム製の中空円筒体であり、内部に空気を供給し、内圧を一定に維持しながら使用される。ラバースリーブは、研磨中、ガラス板の曲面に密着するように弾性変形する。
　特許文献２には、ガラス板の曲面を回転ドラムで研磨する技術が記載されている。ガラス板の回転角に応じて、ガラス板の中心に対する回転ドラムの中心の位置を変更させることより、ガラス板の曲面を研磨できる。
　特許文献３には、ガラス板の曲面を研磨パッドで研磨する技術が記載されている。研磨パッドは、内部に弾性部材を複数有し、研磨中、ガラス板の曲面に密着するように弾性変形する。
特開平８－１４１８９８号公報 特開平９－５７５９９号公報 特公平８－２２４９８号公報
　ガラス板の曲面を研磨する場合、ラバースリーブ、回転ドラム、研磨パッドなどによる研磨では、研磨速度が遅く、大きな欠点の除去にかかる時間が長かった。
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、ガラス板の大きな欠点を短時間で除去できる、ガラス板の製造方法の提供を主な目的とする。
　上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
　ガラス板の曲面を研磨具により研磨する研磨工程を有する、ガラス板の製造方法であって、
　前記研磨具は、回転ブラシであって、回転芯と前記回転芯の外周部に設けられるブラシ毛とを有し、
　前記ブラシ毛の平均直径が３００μｍ以下であり、
　前記研磨工程では、前記ガラス板に対する前記回転ブラシの相対位置を前記回転ブラシの軸方向に揺動させ、
　揺動速度の大きさが１ｍｍ／ｓｅｃ以上、揺動振幅が０．５ｍｍ以上である、ガラス板の製造方法が提供される。
　本発明の一態様によれば、ガラス板の大きな欠点を短時間で除去できる、ガラス板の製造方法が提供される。
一実施形態によるガラス板の製造方法を示す図である。 図１のII－II線に沿った断面図である。 一実施形態による研磨後のガラス板を示す図である。 実施例１により得られる研磨後のガラス板の端部を示す図である。 比較例２によるガラス板の製造方法を示す図である。 比較例２により得られる研磨後のガラス板の端部を示す図である。
　以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。本明細書において、数値範囲を表す「～」はその前後の数値を含む範囲を意味する。
　図１は、一実施形態によるガラス板の製造方法を示す断面図である。図１において、回転ブラシ２０の中心線の移動軌跡を２点鎖線で示す。図２は、図１のII－II線に沿った断面図である。図１および図２において、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向は互いに垂直な方向である。Ｘ方向は回転ブラシ２０の軸方向を、Ｚ方向は上下方向を、Ｙ方向はＸ方向およびＺ方向に対し垂直な方向をそれぞれ表す。
　図１および図２に示すようにガラス板の製造方法は、ガラス板１０の曲面１１を、研磨具としての回転ブラシ２０により研磨する研磨工程を有する。
　ガラス板１０は、例えば車載用、ディスプレイ用などであってよい。ディスプレイは、ブラウン管、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどのいずれでもよい。ディスプレイは、携帯端末のディスプレイを含む。
　ガラス板１０は、全体的に湾曲してよく、例えば円筒体の一部で構成されてよい。尚、ガラス板１０は、部分的に湾曲してもよい。つまり、ガラス板１０の一部のみが湾曲し、ガラス板１０の残部が平らでもよい。
　ガラス板１０は、曲面１１を有する。曲面１１の任意の点において、その曲率半径の最小値は、例えば３０～１００００ｍｍであり、１００～１００００ｍｍが好ましく、３００～１００００ｍｍがより好ましく、さらに好ましくは５００～５０００ｍｍである。
　ここで、曲面１１の曲率半径は、曲面１１の点における法線を含む平面で、曲面１１を切断して計測される。切断面を法線の周りに回転させると、曲率半径が最小値と最大値との間で変化してよい。尚、切断面を法線の周りに回転させるとき、曲率半径は変化しなくてもよく、その最小値と最大値とが同じでもよい。
　ガラス板１０の曲面１１は、図１に示すようにＸ方向に垂直な断面視で湾曲しており、図２に示すようにＹ方向に垂直な断面視で平らであってよい。この場合、曲面１１の曲率半径は、Ｘ方向に垂直な断面で最小となり、Ｙ方向に垂直な断面で最大となる。この場合、曲率半径の最大値は無限大である。
　尚、本実施形態のガラス板１０の曲面１１は、Ｙ方向に垂直な断面視で、平らであるが、湾曲していてもよい。
　ガラス板１０の曲面１１は、図１に示すようにＸ方向に垂直な断面視で上に凹の曲面である。尚、曲面１１は、上に凸の曲面でもよい。
　回転ブラシ２０は、回転芯２１と、回転芯２１の外周部に設けられるブラシ毛２２とを有する。ブラシ毛２２は、複数設けられる。図１および図２では、複数のブラシ毛２２を束として示す。
　回転芯２１は、例えば円柱状に形成される。この場合、回転芯２１の外周面は、ガラス板１０の曲面１１と同様に、図２に示すようにＹ方向に垂直な断面視で平らである。Ｘ方向に沿って回転芯２１の一端から回転芯２１の他端まで複数のブラシ毛２２の長さを揃えることができ、研磨ムラが抑制できる。
　尚、Ｙ方向に垂直な断面視で、ガラス板１０の曲面１１が湾曲している場合、回転芯２１の外周面も湾曲してよい。回転芯２１は、中央部が両端部よりも太い形状、または中央部が両端部よりも細い形状に形成されてもよい。Ｘ方向に沿って回転芯２１の一端から回転芯２１の他端まで複数のブラシ毛２２の長さを揃えられ、研磨ムラが抑制できる。
　ブラシ毛２２は、回転芯２１の外周面に埋め込まれてもよいし、回転芯２１の外周面に巻き付けられるクランプに保持されてもよい。ブラシ毛２２は、樹脂などで形成される。ブラシ毛２２の長さは、略一定であってよい。
  回転芯２１の最小半径が研磨面の最小曲率半径より小さいと均一な研磨を実施でき、良好な研磨面を有するガラス板が得られる。
　ブラシ毛２２の平均直径は、例えば３００μｍ以下である。ブラシ毛２２の平均直径が３００μｍ以下であると、研磨後の曲面１１のうねりが低減できる。また、ブラシ毛２２が撓み易くなるため異物を噛み込んだ時に傷が入りにくい。ブラシ毛２２の平均直径は、好ましくは２００μｍ以下であり、より好ましくは１００μｍ以上である。
  ブラシ毛２２の長さは２ｍｍ以上であることが好ましく、５ｍｍ以上であることが好ましい。ブラシ毛２２の長さが２ｍｍ以上であれば、研磨面にブラシ毛２２を押し当てた際にブラシ毛２２の反発力による接触圧が強くなりすぎず、傷の少ない研磨面が得られる。またブラシ毛２２の長さは１００ｍｍ以下が好ましく、５０ｍｍ以下がより好ましい。ブラシ毛２２の長さが１００ｍｍ以下であれば、研磨面にブラシ毛２２を押し当てた際にブラシ毛２２の反発力による接触圧が適度に得られ高い研磨速度が得られる。
　研磨工程では、回転ブラシ２０の中心線を中心に回転ブラシ２０を回転させながら、ガラス板１０の曲面１１を回転ブラシ２０により研磨する。このとき、回転ブラシ２０には、研磨砥粒を含むスラリーが供給される。研磨砥粒としては、例えば酸化セリウム粒子などが用いられる。酸化セリウム粒子の他に、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化ケイ素なども使用可能である。回転ブラシ２０による研磨は、ラバースリーブ、回転ドラム、研磨パッドなどによる研磨に比べ、研磨速度が速く、大きな欠点の除去にかかる時間が短い。
　研磨工程では、図１に示すようにＸ方向に垂直な断面視で、ガラス板１０に対する回転ブラシ２０の相対位置を、曲面１１に沿って移動させる。回転ブラシ２０が曲面１１の全体を研磨できる。
　この相対移動は、回転ブラシ２０の移動、ガラス板１０の移動、両方の移動のいずれによって行われてもよいが、図１では回転ブラシ２０の移動によって行われる。回転ブラシ２０の移動軌跡は、曲線状とされる。
　この相対移動は、図１では回転ブラシ２０の中心線とガラス板１０の曲面１１との距離が一定となるように行われるが、回転ブラシ２０とガラス板１０の曲面１１との接触圧が一定になるように行われてもよい。
　この相対移動による筋状の研磨跡の発生を抑制するため、研磨工程では、ガラス板１０に対する回転ブラシ２０の相対位置をＸ方向に揺動させる。この揺動は、回転ブラシ２０の揺動、ガラス板１０の揺動、両方の揺動のいずれによって行われてもよいが、図１ではガラス板１０の揺動によって行われる。
　揺動速度の大きさは、例えば１ｍｍ／ｓｅｃ以上、好ましくは２ｍｍ／ｓｅｃ以上である。また、揺動速度の大きさは、好ましくは５０ｍｍ／ｓｅｃ以下である。揺動速度の大きさは、揺動中心通過時の揺動速度の大きさで代表する。一方、揺動振幅は、例えば０．５ｍｍ以上、好ましくは３ｍｍ以上、より好ましくは５ｍｍ以上である。また、揺動振幅は、好ましくは２００ｍｍ以下である。揺動振幅とは、揺動中心からの最大変位量を意味する。
　１ｍｍ／ｓｅｃ以上の大きさの揺動速度、０．５ｍｍ以上の揺動振幅で、ガラス板１０に対する回転ブラシ２０の相対位置をＸ方向に揺動させることで、ガラス板１０の曲面１１における筋状の研磨跡の発生を抑制できる。
　回転ブラシ２０による研磨は、研磨後のガラス板１０に防眩（Anti-Glare）コートが施される場合に特に好適である。防眩コートは、筋状の研磨跡を外部から視認不能にする効果がある。防眩コートは、例えば車載用のガラス板１０に施される。
　研磨工程では、ガラス板１０の曲面１１の反対面１２を台座３０の曲面３１で真空吸着させてよい。研磨中にガラス板１０の曲面１１の形状が安定化する。また、研磨後に台座３０からのガラス板１０の取り外しが容易である。
　台座３０は、例えばカーボンや金属でもよいが、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアセタール、アクリル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリエチレンからなる群より選ばれる少なくとも１つの樹脂材料からなることが好ましい。これらの樹脂材料は柔らかく、ガラス板１０における台座３０との接触傷の発生が制限できる。また台座３０全体を前記材料で作製する必要はなく、ガラス板１０と接触する部位、すなわち台座３０表面のみを前記材料としてもよく、ゴム等の弾性体としてもよい。
　台座３０の曲面３１は、ガラス板１０の曲面１１と略同一形状である。例えば、台座３０の曲面３１は、図１に示すようにＸ方向に垂直な断面視で湾曲しており、図２に示すようにＹ方向に垂直な断面視で平らであってよい。なお、台座３０の曲面３１は、ガラス板１０の曲面１１と略同一形状である必要はなく、反対面１２に対応する形状でもよい。
　台座３０の曲面３１は、図１に示すようにＸ方向に垂直な断面視で上に凹の曲面である。尚、台座３０の曲面３１は、ガラス板１０の曲面１１と略同一形状であればよく、上に凸の曲面でもよい。
  また、ガラス板１０を台座３０に載置させる場合、載置面にガラス板１０を嵌め込む凹部を設けてもよい。ガラス板１０が回転ブラシ２０に引きずられて台座３０に対しずれることを抑制でき、ガラス板１０の擦り傷を低減できる。さらにガラス板１０の面取り部に圧力が集中して図６に示すように面取り部が丸まってしまうことを抑制できる。
  さらに凹部の側壁面に窪みを設けてもよい。窪みにへらなどを差し込むことで研磨後のガラス板１０を凹部から取り除きやすく、ガラス板１０の交換の効率が良い。
　研磨工程では、Ｘ方向に、台座３０を揺動させることで、ガラス板１０を揺動させてよい。上述の如く、ガラス板１０の曲面１１における筋状の研磨跡の発生が抑制できる。
　研磨工程では、台座３０を旋回させることで、ガラス板１０を旋回させてもよい。これにより、ガラス板１０の曲面１１における筋状の研磨跡の発生がさらに抑制できる。
　ガラス板１０の旋回方向は、一方向に維持されてもよいし、繰り返し反転されてもよい。後者の場合、３６０°未満の所定の角度範囲内で、ガラス板１０が旋回されてよい。
　台座３０は、旋回テーブル４０に取付けられ、旋回テーブル４０と共に旋回される。旋回テーブル４０は、その旋回軸４１を中心に旋回自在とされる。
　尚、本実施形態では、ガラス板１０の片面のみ研磨するが、反対面も研磨してもよく、ガラス板１０の両面を研磨してもよい。
　図３は、一実施形態による研磨後のガラス板を示す図である。図３に示す研磨後のガラス板１０Ａは、図１および図２に示すガラス板１０を回転ブラシ２０で研磨して得られる。ガラス板１０Ａの板厚は、例えば０．５～５．０ｍｍであり、好ましくは０．５～３．０ｍｍ、より好ましくは０．７～２．５ｍｍである。
　ガラス板１０Ａは、研磨済みの曲面１１Ａを有する。ガラス板１０Ａは、全体的に湾曲してよい。尚、ガラス板１０Ａは、部分的に湾曲してもよい。つまり、ガラス板１０Ａの一部のみが湾曲し、ガラス板１０Ａの残部が平らでもよい。
　ガラス板１０Ａの曲面１１Ａの少なくとも一部において、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均高さ（Ｓａ）が０．５～５０ｎｍである。この場合、周波数成分の抽出にはガウシアンフィルターを用いる。算術平均高さ（Ｓａ）が０．５～５０ｎｍの曲面１１Ａは、回転ブラシ２０による研磨で形成できる。
　算術平均高さ（Ｓａ）は、国際規格（ＩＳＯ　２５１７８）に準拠して測定する。ハイパスフィルターのカットオフ値は２５μｍ、ローパスフィルターのカットオフ値は５００μｍとする。ローパスフィルターのカットオフ値は、ガラス板１０Ａの曲面１１Ａの最小曲率半径よりも十分に小さい。
　ガラス板１０Ａの曲面１１Ａの少なくとも一部において、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均うねり（Ｗａ）の最大値（Ｗａｍａｘ）と最小値（Ｗａｍｉｎ）との比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．５以上である。比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）は、好ましくは１．６以上である。また、比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）は、好ましくは１０以下である。
　算術平均うねり（Ｗａ）は、日本工業規格（ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３）に準拠して測定する。ハイパスフィルターのカットオフ値は２５μｍ、ローパスフィルターのカットオフ値は５００μｍとする。ローパスフィルターのカットオフ値は、ガラス板１０Ａの曲面１１Ａの最小曲率半径よりも十分に小さい。そのため、算術平均うねり（Ｗａ）の基準面は、ＸＹ平面に対し略平行な平面であってよい。
　算術平均うねり（Ｗａ）は、基準面における直線状の測定経路に沿って測定される。測定経路をＺ軸の周りに回転させると、算術平均うねり（Ｗａ）が最小値（Ｗａｍｉｎ）と最大値（Ｗａｍａｘ）との間で変化する。
　比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．５以上であることは、曲面１１Ａが回転ブラシ２０による研磨で形成されたことを表している。Ｘ方向に対し垂直な測定経路において算術平均うねり（Ｗａ）が最小値（Ｗａｍｉｎ）となる傾向にある。
　ガラス板１０Ａの曲面１１Ａの少なくとも一部において、最大径が７μｍ以上であり、且つ深さまたは高さが１μｍ以上である欠点が、１００００ｍｍ２あたり３個以下である。回転ブラシ２０による研磨は、ラバースリーブ、回転ドラム、研磨パッドなどによる研磨に比べ、研磨速度が速く、大きな欠点の除去にかかる時間が短い。よって、大きな欠点の数が少ない。
　[実施例１]
　ガラス板としては、最小曲率半径１５００ｍｍ、縦１５０ｍｍ、横１５０ｍｍ、厚さ１ｍｍのソーダライムガラスを用意した。このガラス板は、円筒体の一部で構成され、Ｘ方向に垂直な断面視で湾曲しており、Ｙ方向に垂直な断面視で平らであった。このガラス板は、上面と端面の境界および下面と端面の境界のそれぞれに、面取り角度が４５°、面取り幅が０．１ｍｍの平面形状の面取り部を有するものであった。ここで、面取り角度とは、上面または下面の延長面と面取り部とのなす角度を意味する。また、面取り幅とは、上面または下面の外縁から、上面または下面の延長面と端面の延長面との交点までの距離とし、面取り部の寸法を意味する。
　回転ブラシとしては、円柱状の回転芯と、回転芯の外周部に設けられるブラシ毛とで構成されるものを用意した。ブラシ毛は、材料がナイロン６６、平均直径が２００μｍ、平均長さが２０ｍｍであった。回転ブラシの直径は１５０ｍｍであった。
　研磨工程では、回転ブラシの中心線を中心に回転ブラシを９００ｒｐｍの回転数で回転させながら、ガラス板の上面を回転ブラシにより５μｍ研磨した。研磨中、ガラス板は、台座に真空吸着させることで、その上面を上に凹の曲面に維持した。研磨中、回転ブラシには、酸化セリウム粒子を含むスラリーを供給した。
　研磨工程では、Ｘ方向に垂直な断面視で、回転ブラシの中心線をガラス板の上面に沿って１ｍｍ／ｓｅｃの移動速度で移動させた。移動の間、回転ブラシの中心線とガラス板の上面との距離は、一定の値（回転ブラシの半径よりも６ｍｍ短い値）に設定した。
　研磨工程では、Ｘ方向に、台座を揺動させることで、ガラス板を揺動させた。揺動速度の大きさは１５ｍｍ／ｓｅｃ、揺動振幅は１３ｍｍとした。尚、台座の旋回は、行わなかった。以上によりガラス板Ａを得た。
　研磨の後、洗浄や乾燥などを行い、ガラス板の研磨面の算術平均高さ（Ｓａ）および算術平均うねり（Ｗａ）を白色干渉式平坦度計により測定した。測定範囲は、ガラス板の中央部における３．６ｍｍ角の範囲とした。
　ガラス板の算術平均高さ（Ｓａ）は、７ｎｍであった。また、ガラス板の算術平均うねり（Ｗａ）は、最小値（Ｗａｍｉｎ）が２．８ｎｍ、最大値（Ｗａｍａｘ）が５．１ｎｍ、その比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．８であった。
　５μｍ研磨するために要した時間は２５分であった。最大径が７μｍ以上であり、且つ深さまたは高さが１μｍ以上である欠点は、ガラス板の研磨面に全く認められなかった。
　図４は、実施例１により得られる研磨後のガラス板の端部を示す図である。図４に示す研磨後のガラス板１０Ｂでは、面取り部の形状が平面形状を保っていた。平均直径が２００ｍｍのブラシ毛がガラス板の面取り部に加える応力が小さいためと推定される。
　[比較例１]
　比較例１では、ブラシ毛の平均直径を４００μｍとし、且つ、台座の揺動を行わない以外、実施例１と同様にガラス板の研磨を行い、ガラス板Ｂを得た。
　実験の結果、ガラス板の算術平均高さ（Ｓａ）は、７０ｎｍであった。また、ガラス板の算術平均うねり（Ｗａ）は、最小値（Ｗａｍｉｎ）が４ｎｍ、最大値（Ｗａｍａｘ）が１００ｎｍ、その比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が２５であった。
　５μｍ研磨するために要した時間は２５分であった。最大径が７μｍ以上であり、且つ深さまたは高さが１μｍ以上である欠点は、１００００ｍｍ２当たり１０個、ガラス板の研磨面に認められた。
　[比較例２]
　比較例２では実施例１と同じガラスを用意し、図５のように研磨パッド１２０でガラス板１１０の曲面１１１を研磨した。研磨ヘッド１２１は径がφ６０ｍｍの円形のＳＵＳ３０４製の台金を用意し、研磨ヘッド１２１の先端にポリウレタン製の研磨パッド１２０を取り付けた。研磨パッド１２０はガラス板１１０と接する面に１０ｍｍピッチで格子状に溝を切ってあるものを使用した。
　研磨工程では研磨パッド１２０を１５０ｒｐｍで回転させながら１５０ｇ／ｃｍ２の圧力でガラス板１１０に押しつけた。研磨中、ガラス板１１０は台座１３０に真空吸着させることで、その上面を上に凹の曲面１１１に維持した。研磨パッド１２０には酸化セリウム粒子を含むスラリーを供給した。研磨パッド１２０はガラス板１１０の上を６０ｍｍ／分の速度でＸ方向及びＹ方向に動かし、曲面１１１の全面を５μｍ研磨した。研磨に要した時間は３００分であった。以上よりガラス板Ｃを得た。
　実験の結果、ガラス板１１０の研磨面の算術平均高さ（Ｓａ）は、１．６ｎｍであった。また、ガラス板１１０の研磨面の算術平均うねり（Ｗａ）は、最小値（Ｗａｍｉｎ）が１．５ｎｍ、最大値（Ｗａｍａｘ）が２ｎｍ、その比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．３であった。最大径が７μｍ以上であり、且つ深さまたは高さが１μｍ以上である欠点は、ガラス板１１０の研磨面に認められなかった。
　図６は、比較例２により得られる研磨後のガラス板の端部を示す図である。図６に示す研磨後のガラス板１１０Ａでは、面取り部の形状が平面形状を保っておらず、曲面形状になっていた。研磨パッドがガラス板１１０Ａの面取り部に当接する際の応力が大きいためと推定される。
　以上より得られたガラス板Ａ～Ｃを表示装置のカバーガラスとして用いたときの、画像視認性を確認した。ガラス板Ａ～Ｃの研磨面の反対面に、ＯＣＡテープ（日栄化工社製「ＭＨＭ－ＦＷＤ」）を積層し、これらそれぞれのガラス板と表示パネルとしての液晶パネルとを貼合し、バックライト等とも組合せ、表示装置を作製した。ガラス板Ａを用いた表示装置では、ガラス板Ａを通して液晶パネル上の画像を視認すると、画像に歪み、うねり、ちらつきなど認められなかった。これは算術平均うねりの比Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎが１．８と小さいため画像の歪み、うねりが低減されたと考えられる。また算術平均高さＳａが７ｎｍと小さいため画像のちらつきが抑制されたと考えられる。ガラス板Ｂを用いた表示装置では、部分的に画像がうねり、ちらつきによる画像のボケが認められた。これはＷａｍａｘ／Ｗａｍｉｎが２５と大きく画像が歪み、Ｓａが７０ｎｍと大きいため画像のちらつきがみられたと考えられる。ガラス板Ｃを用いた表示装置では、ガラス板Ｃの中央部ではガラス板Ａと同等の視認性であったが、面取り部も研磨されたため、ガラス板Ｃの周縁部も画像が視認できるが、その画像が歪んで見えた。これはＷａｍａｘ／ＷａｍｉｎやＳａが小さくなった一方で、周縁部が図６のように面取り部が曲面形状となり、ガラス板Ｃの中央部と周縁部とで視認性が異なり、周縁部において画像が歪んで見えるためである。よって、ガラス板Ａは表示装置に使用するカバーガラスとして適していることが分かった。
　以上から本実施形態の研磨方法により、短時間で欠点が少ないガラス板が得られた。
　＜変形例＞
　以上、ガラス板の製造方法の実施形態などを説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
　ガラス板は、研磨前に、面取り部を外周端部に有していなくてもよいが、面取り部を外周端部に有していることが好ましい。研磨時に、外周端部の欠けを抑制できる。面取り部の形状は、研磨前に、曲面形状であってもよいが、平面形状であることが好ましい。研磨の前後で面取り部の寸法変動が小さい。平面形状の面取り部の面取り角度は、例えば４０～５０°である。
  また、ガラス板を台座に吸着させる等で外力をかけ、小さな曲率半径のガラス板の曲率半径を大きくさせ、研磨を実施してもよい。
　また、本実施形態の回転ブラシは、曲率半径が１００００ｍｍ超である平面をも研磨できる。このため、研磨面に曲面と平面の両者を有するガラス板について、回転ブラシを研磨面に対する相対位置を変化させ同時に研磨できる。また、研磨面に凹面と凸面の両者を有するガラス板についても同様に同時に研磨できる。この際、回転芯の最小半径を研磨面の凹面における最小曲率半径以下とすることが好ましい。また図１におけるＹ軸方向だけでなく、Ｘ軸方向も曲面となる複曲面についても研磨できる。
  本実施形態によれば大型の曲面形状を有するガラス板を研磨できる点で優れている。従来の研磨法によれば、部分ごとに研磨する必要があるため均一性にバラつきがでる。本実施形態によれば回転ブラシなどのサイズを調整するだけで様々なサイズの曲面形状を有するガラス板を均一に研磨できる。
　本実施形態で得られたガラス板の表面は平滑であることが好ましい。例えば、算術平均粗さＲａが視認性・触感等の観点から０．２ｎｍ～５０ｎｍであることが好ましい。二乗平均平方根粗さＲｑがざらつきと指すべり性の観点から０．３～１００ｎｍであることが好ましい。最大高さ粗さＲｚがざらつきと指すべり性の観点から０．５～１００ｎｍであることが好ましい。最大断面高さ粗さＲｔがざらつきと指すべり性の観点から１～５００ｎｍであることが好ましい。最大山高さ粗さＲｐがざらつきと指すべり性の観点から０．３～５００ｎｍであることが好ましい。最大谷深さ粗さＲｖがざらつきと指すべり性の観点から０．３～５００ｎｍであることが好ましい。平均長さ粗さＲｓｍがざらつきと指すべり性の観点から０．３～１００ｎｍであることが好ましい。クルトシス粗さＲｋｕが触感の観点で１以上３以下が好ましい。スキューネス粗さＲｓｋが視認性、触感などの均一性の観点から－１以上１以下が好ましい。
　本実施形態で得られたガラス板については、研磨前後に様々な処理を実施してもよい。前記の通り、研削砥石や酸を使用した面取り処理は研磨処理前に実施してもよく、研磨後に実施してもよく、前後両方で実施してもよい。また、研磨前後に表面処理を実施し、表面処理層を形成してもよく、具体的には、エッチングや成膜による防眩処理層、反射防止処理層、耐指紋剤などによる防汚処理層、防曇処理層などが挙げられる。表面処理後に研磨処理を実施する場合には、未処理面のみを研磨する。研磨処理後に表面処理を行う場合には、少なくとも一歩の面のみ研磨すればよいが、両面研磨することが好ましい。これにより表面状態が均一となったガラス板が得られ、所望の特性を有する表面処理を実施しやすい。研磨処理前後にガラス板の強化処理を実施してよく、化学強化処理が好ましい。研磨処理後に化学強化を行うことでガラス板面内に均一な強化を入れられる。研磨処理前に化学強化を行うことでガラス板表面にできた強化の傷を除去できる。よって、状況により化学強化処理前後両方で研磨処理を実施してもよい。さらに研磨処理前後に加飾印刷などの印刷処理を実施してよい。これらに限らず、様々な処理を実施でき、処理の順序は適宜決めればよい。
　ガラス板の組成は、化学強化処理を実施しない場合には例えば、無アルカリガラス、ソーダライムガラスが、化学強化処理を行う場合には、例えば、ソーダライムガラス、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラスが挙げられる。厚みが薄くても強化処理によって大きな応力が入りやすく薄くても高強度なガラスが得られ、画像表示装置のカバーガラスとして好適である点から、アルミノシリケートガラスが好ましい。
　ガラス組成の具体例としては、モル％で表示した組成で、ＳｉＯ2を５０～８０％、Ａｌ2Ｏ3を０．１～２５％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏを３～３０％、ＭｇＯを０～２５％、ＣａＯを０～２５％およびＺｒＯ2を０～５％含むガラスが挙げられるが、特に限定されない。より具体的には、以下のガラスの組成が挙げられる。なお、例えば、「ＭｇＯを０～２５％含む」とは、ＭｇＯは必須ではないが２５％まで含んでもよい、の意である。（ｉ）のガラスはソーダライムシリケートガラスに含まれ、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）のガラスはアルミノシリケートガラスに含まれる。
（ｉ）モル％で表示した組成で、ＳｉＯ2を６３～７３％、Ａｌ2Ｏ3を０．１～５．２％、Ｎａ2Ｏを１０～１６％、Ｋ2Ｏを０～１．５％、Ｌｉ2Ｏを０～５．０％、ＭｇＯを５～１３％及びＣａＯを４～１０％を含むガラス。
（ｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を５０～７４％、Ａｌ2Ｏ3を１～１０％、Ｎａ2Ｏを６～１４％、Ｋ2Ｏを３～１１％、Ｌｉ2Ｏを０～５．０％、ＭｇＯを２～１５％、ＣａＯを０～６％およびＺｒＯ2を０～５％含有し、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２～２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７～１５％であるガラス。
（ｉｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を６８～８０％、Ａｌ2Ｏ3を４～１０％、Ｎａ2Ｏを５～１５％、Ｋ2Ｏを０～１％、Ｌｉ2Ｏを０～５．０％、ＭｇＯを４～１５％およびＺｒＯ2を０～１％含有するガラス。
（ｉｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2を６７～７５％、Ａｌ2Ｏ3を０～４％、Ｎａ2Ｏを７～１５％、Ｋ2Ｏを１～９％、Ｌｉ2Ｏを０～５．０％、ＭｇＯを６～１４％およびＺｒＯ2を０～１．５％含有し、ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3の含有量の合計が７１～７５％、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２～２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス。
　ガラスは、化学強化処理を適切に行うため、そのガラス組成におけるＬｉ2ＯとＮａ2Ｏの含有量の合計が１２モル％以上であることが好ましい。さらに、ガラス組成におけるＬｉ2Ｏの含有率が増加するにしたがって、ガラス転移点が下がり、成形が容易となるため、Ｌｉ2Ｏの含有率を０．５モル％以上とすることが好ましく、１．０モル％以上とすることがより好ましく、２．０モル％以上とすることがさらに好ましい。さらに、表面圧縮応力（Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ　Ｓｔｒｅｓｓ：　ＣＳ）および圧縮応力層深さ（Ｄｅｐｔｈ　ｏｆ　Ｌａｙｅｒ：　ＤＯＬ）を大きくするため、ガラス組成がＳｉＯ2を６０モル％以上、Ａｌ2Ｏ3を８モル％以上含有することが好ましい。
  化学強化処理したガラスは、ＣＳの最大値が４００ＭＰａ以上であり、５００ＭＰａ以上が好ましく、６００ＭＰａ以上がより好ましい。ＤＯＬは１０μｍ以上である。これによりＣＳおよびＤＯＬを当該範囲とすることにより、ガラス主面に優れた強度と耐擦傷性を付与できる。
　化学強化処理は、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラス表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン（典型的には、Ｎａイオン）を、イオン半径のより大きなアルカリ金属イオン（典型的には、Ｋイオン）に交換することで、ガラス表面に圧縮応力層を形成する処理である。化学強化処理は従来公知の方法によって実施でき、一般的には硝酸カリウム溶融塩にガラスを浸漬する。また溶融塩として硝酸カリウムと炭酸カリウムの混合塩を使用でき、混合塩１００質量部に対し炭酸カリウムを５～１０質量部含まれていることが好ましい。これによりガラスの表層のクラックなどを除去でき高強度のガラスが得られる。化学強化時に硝酸カリウムに硝酸銀などの銀成分を混合することで、ガラスがイオン交換され銀イオンを表面に有し抗菌性を付与できる。
　曲面形状を有するガラス板は、平板状のガラス板から所定の形状に成形することが好ましい。例えば平板状のガラス板として板ガラスを選択した場合、使用する成形法としては、自重成形法、真空成形法、プレス成形法から、成形後のガラスによる所望の曲面形状に応じて所望の成形法を選択すればよい。
  自重成形法は、成形後の曲面形状に応じた所定の金型上に板ガラスを設置した後、板ガラスを軟化させて、重力により板ガラスを曲げて金型になじませて、所定の形状に成形する方法である。
　真空成形法は、板ガラスを軟化させた状態で板ガラスの表裏面に差圧を与えて、板ガラスを曲げて金型になじませて、所定の形状に成形する方法である。真空成形法では、成形後の曲面形状に応じた所定の金型上に板ガラスを設置し、板ガラス上にクランプ金型を設置し、板ガラスの周辺をシールした後、金型と板ガラスとの空間をポンプで減圧することにより、板ガラスの表裏面に差圧を与える。この際に、補助的に、板ガラスの上面側を加圧してもよい。
　プレス成形は、成形後の曲面形状に応じた所定の金型（下型、上型）間に板ガラスを設置し、板ガラスを軟化させた状態で、上下の金型間にプレス荷重を加えて、板ガラスを曲げて金型になじませて、所定の形状に成形する方法である。
  これらのうち真空成形法は、曲面形状に成形する方法として優れており、ガラス板の二つの主面のうち、一方の主面は成形型と接触せずに成形できるため、傷、へこみなどの凹凸状欠点を減らせる。
  なお、他に、局所加熱成形法、真空成形法と異なる差圧成形法なども使用でき、成形後の曲面形状を有するガラス板に応じて、適切な成形法を選択すればよく、２種以上の成形法を併用してもよい。
  成形後のガラス板について再加熱（アニール処理）して残留応力を緩和させる処理を実施してもよい。
  また、使用する平板状のガラス板には、エッチング処理層やウェットコートやドライコートによるコーティング層などを有する基材を用いてもよい。
　本実施形態のガラス板の用途としては、特に限定されない。具体例としては、車両用透明部品（ヘッドライトカバー、サイドミラー、フロント透明基板、サイド透明基板、リア透明基板、インスツルメントパネル表面等。） 、メータ、建築窓、ショーウインドウ、建築用内装部材、建築用外装部材、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、ピックアップレンズ、光学レンズ、眼鏡レンズ、カメラ部品、ビデオ部品、ＣＣＤ用カバー基板、光ファイバ端面、プロジェクタ部品、複写機部品、太陽電池用透明基板（カバーガラス等。）、携帯電話窓、バックライトユニット部品（導光板、冷陰極管等。）、バックライトユニット部品液晶輝度向上フィルム（プリズム、半透過フィルム等。）、液晶輝度向上フィルム、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、光学部品の端面、照明ランプ、照明器具のカバー、増幅レーザ光源、反射防止フィルム、偏光フィルム、農業用フィルム等が挙げられる。
　本発明の物品は、本実施形態のガラス板を備える。
  本発明の物品は、本実施形態のガラス板からなるものでもよく、本実施形態のガラス板以外の他の部材をさらに備えるものでもよい。
  本発明の物品の例としては、前記でガラス板の用途として挙げたもの、それらのいずれか１種以上を備える装置、等が挙げられる。
  装置としては、例えば画像表示装置、照明装置、太陽電池モジュール等が挙げられる。
  本発明の物品は、均一な視認性等の光学特性の点で、画像表示装置であることが好ましい。特に、大型の曲面形状を有するガラス板が求められる、液晶パネルや有機ＥＬパネルなどの表示パネルが貼合された表示装置に適しており、さらに複雑な曲面形状を備える車載用表示装置に適している。これにより複雑な曲面形状を備えているガラス板であっても均一に研磨でき、均一な視認性が確保できる。
　本出願は、２０１５年６月１２日に日本国特許庁に出願された特願２０１５－１１８８６３号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１５－１１８８６３号の全内容を本出願に援用する。
１０　ガラス板
１１　曲面
１２　反対面
２０　回転ブラシ
２１　回転芯
２２　ブラシ毛
３０　台座
３１　曲面
４０　旋回テーブル
４１　旋回軸

 

Claims (11)

  1. 　ガラス板の曲面を研磨具により研磨する研磨工程を有する、ガラス板の製造方法であって、
    　前記研磨具は、回転ブラシであって、回転芯と前記回転芯の外周部に設けられるブラシ毛とを有し、
    　前記ブラシ毛の平均直径が３００μｍ以下であり、
    　前記研磨工程では、前記ガラス板に対する前記回転ブラシの相対位置を前記回転ブラシの軸方向に揺動させ、
    　揺動速度の大きさが１ｍｍ／ｓｅｃ以上、揺動振幅が０．５ｍｍ以上である、ガラス板の製造方法。
  2. 　ガラス板の曲面を研磨具により研磨する研磨工程を有する、ガラス板の製造方法であって、
    　前記研磨具は、回転ブラシであって、回転芯と前記回転芯の外周部に設けられるブラシ毛とを有し、
    　前記ブラシ毛の平均直径が３００μｍ以下であり、
    　前記研磨工程では、前記ガラス板に対する前記回転ブラシの相対位置を前記回転ブラシの軸方向に揺動させ、
    　揺動速度の大きさが１ｍｍ／ｓｅｃ以上、揺動振幅が３ｍｍ以上である、ガラス板の製造方法。
  3. 　前記研磨工程では、前記ガラス板の前記曲面の反対面を台座の曲面で真空吸着させる、請求項１または２に記載のガラス板の製造方法。
  4. 　前記研磨工程では、前記ガラス板を真空吸着する台座を旋回させる、請求項１～３のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。
  5. 　前記台座の前記ガラス板と接触する部位が、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアセタール、アクリル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリプロピレンからなる群より選ばれる少なくとも１つの樹脂材料からなる、請求項３または４に記載のガラス板の製造方法。
  6. 　板厚が０．５～３．０ｍｍであるガラス板であって、
    　曲面を有し、
    　前記曲面の少なくとも一部において、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均高さ（Ｓａ）が０．５～５０ｎｍであり、かつ、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均うねり（Ｗａ）の最大値（Ｗａｍａｘ）と最小値（Ｗａｍｉｎ）との比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．５以上であるガラス板。
  7. 　板厚が０．５～３．０ｍｍであるガラス板であって、
    　研磨済みの曲面を有し、
    　前記曲面の少なくとも一部において、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均高さ（Ｓａ）が０．５～５０ｎｍであり、かつ、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均うねり（Ｗａ）の最大値（Ｗａｍａｘ）と最小値（Ｗａｍｉｎ）との比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．５以上であるガラス板。
  8. 　板厚が０．５～５．０ｍｍであるガラス板であって、
    　曲面を有し、
    　前記ガラス板の表面圧縮応力（Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ　Ｓｔｒｅｓｓ：　ＣＳ）が４００ＭＰａ以上であり、
    　前記曲面の少なくとも一部において、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均高さ（Ｓａ）が０．５～５０ｎｍであり、かつ、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均うねり（Ｗａ）の最大値（Ｗａｍａｘ）と最小値（Ｗａｍｉｎ）との比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．５以上であるガラス板。
  9. 　板厚が０．５～５．０ｍｍである第１面と第２面とを有するガラス板であって、
    　曲面を有し、
    　前記第１面に表面処理層を備え、
    　前記ガラス板の表面圧縮応力（Ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ　Ｓｔｒｅｓｓ：　ＣＳ）が４００ＭＰａ以上であり、
    　前記第２面における前記曲面の少なくとも一部において、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均高さ（Ｓａ）が０．５～５０ｎｍであり、かつ、波長２５～５００μｍの周波数成分の算術平均うねり（Ｗａ）の最大値（Ｗａｍａｘ）と最小値（Ｗａｍｉｎ）との比（Ｗａｍａｘ／Ｗａｍｉｎ）が１．５以上であるガラス板。
  10. 　前記曲面の少なくとも一部において、最大径が７μｍ以上であり、且つ深さまたは高さが１μｍ以上である欠点が、１００００ｍｍ２あたり３個以下である、請求項６～９のいずれか一項に記載のガラス板。
  11. 　請求項６～１０のいずれか一項に記載のガラス板と表示パネルとを備えた表示装置。

     
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