JP7031230B2 - 3dカバーガラス、およびその製造方法 - Google Patents
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Description
特許文献1では、上記した3Dカバーガラスの表面品質が、再加工やポリッシングの実施なしで達成されることが好ましいとしている。
特許文献1に記載の3Dカバーガラスは、例えば、特許文献2に記載の方法で製造できる。特許文献2に記載の製造方法では、3Dカバーガラスの成形に用いるグラファイト製の金型表面を高度に研磨することで、モールド面で接するガラス材料表面に圧痕のような凹状欠点が生じるのを防止し、成形後に研磨をしていない。
ガラス材料を、3次元曲面をなす曲面部を含む形状に成形する、ガラス成形工程と、
前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料の表面を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程後に、前記ガラス材料に化学強化処理を施す化学強化処理工程と、を有し、
前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料は、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位が、製造後の3Dカバーガラスに対し0.3[mm]以下の反りを有しており、
前記研磨工程は、前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料を、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位を反りの無い平坦な状態を保持した状態にて、表面硬度が20[°]~80[°]の研磨パッドまたは研磨ブラシと、研磨スラリーとを使用して、前記ガラス材料の表面に顕在化する凹状欠点の深さ以上研磨する、3Dカバーガラスの製造方法を提供する。
本発明の一実施形態に係る3Dカバーガラスの製造方法(以下「本3Dカバーガラスの製造方法」または「本製造方法」という)は、図1に示すような中心部110が平坦で周辺部120の少なくとも一部に曲率半径100[mm]以下の3次元曲面をなす曲面部を有する3Dカバーガラス100の製造方法である。
なお、図1は、本製造方法による3Dカバーガラスの一構成例であり、これに限定されない。図1に示す3Dカバーガラス100は、周辺部の全周にわたって曲面部120が設けられているが、図中、4辺のうち少なくとも1辺の周辺部に曲面部を有していればよい。例えば、左側、右側、上側および下側の周辺部(辺)のうち、いずれか1つの周辺部(辺)にのみ曲面部を有していてもよい。また、図中、左側および右側の周辺部(辺)にのみ曲面部を有していたり、上側および下側の周辺部(辺)にのみ曲面部を有したりしてもよい。また、図中、上側および左側の周辺部(辺)にのみ曲面部を有したり、上側および右側の周辺部(辺)にのみ曲面部を有したり、下側および左側の周辺部(辺)にのみ曲面部を有したり、下側および右側の周辺部(辺)にのみ曲面部を有したりしてもよい。また、図中、上側を除く3辺の周辺部(辺)に曲面部を有したり、下側を除く3辺の周辺部(辺)に曲面部を有したり、左側を除く3辺の曲面部を有したり、右側を除く3辺の周辺部(辺)にのみ曲面部を有したりしてもよい。
図3(a)に示す形状にガラス材料を成形するには、所定の形状の金型を用いる方法などを利用できる。
なお、製造後の3Dカバーガラスに対する反りが0.3[mm]より大きいと、次に実施する研磨工程において、ガラス材料に割れが発生するおそれがある。したがって製造後の3Dカバーガラスに対する反りが0.3[mm]以下が好ましく、0.2[mm]以下がより好ましい。
一方、化学強化処理により発生する反りを補正するには、製造後の3Dカバーガラスに対する反りが0.12[mm]以上が好ましく、0.15[mm]以上がより好ましい。
平板形状をしたカバーガラスの表面研磨は、通常、研磨パッドと研磨スラリーを用いた化学機械研磨、砥石などを用いた機械研磨が用いられる。
図3(a)に示すように、成形工程後のガラス材料は、中心部が凸状に沿った形状であるため、ガラス材料表面への形状追従性の観点から、表面硬度が低い研磨パッドの使用が考えられる。
しかしながら、研磨パッドの表面硬度が低すぎる場合、研磨量を増加させても、後述するように、表面に顕在化した凹状欠点を大きく低減することが困難であることが明らかになった。
本製造方法における研磨パッドは、ガラス材料に接触する部位が平坦な研磨部材を指す。本製造方法における研磨ブラシは、ガラス材料に接触する部位がブラシ形状をした研磨部材を指す。なお、本製造方法における研磨ブラシは水平方向の長さが鉛直方向の長さよりも短い毛を3本以上有することが好ましく、毛の先端における(毛の延伸方向からみた)形状の外縁は円弧状でも矩形状でもよい。
詳しくは後述するが、ガラス材料の研磨する部位に応じて、研磨パッドと研磨ブラシを使い分けてもよい。
図4において、ステージ200は、ガラス材料の中心部を保持する部位が平坦で、ガラス材料の周辺部を保持する部位が3次元曲面をなしており、全体形状が凸状のステージである。ステージ200の表面には多数の孔(図示せず)が設けられている。これらの孔はポンプ400と接続されている。ポンプ400から真空引きすると、ガラス材料100がステージ200の表面に真空吸着される。真空吸着時にガラス材料100は、ステージ200の表面形状に沿って変形し、ガラス材料100の中心部が反りの無い平坦な状態で保持される。この状態でガラス材料100を研磨パッドまたは研磨ブラシ300を使用して研磨する。
なお、本研磨工程では、ガラス材料の中心部を反りの無い平坦な状態で保持する手段は真空吸着に限定されず、ワックスやバックパッドなど他の手段でもよい。
本製造方法の研磨工程では、表面硬度が20[°]以上の研磨パッドまたは研磨ブラシ300の使用により、表面に顕在化した凹状欠点を完全に除去できる。本製造方法の研磨工程では、表面硬度が30[°]以上の研磨パッドまたは研磨ブラシ300の使用が好ましい。
一方、研磨パッドまたは研磨ブラシの表面硬度が高すぎるとガラス表面にキズが生じやすくなるので、本製造方法の研磨工程では、表面硬度が80[°]以下の研磨パッドまたは研磨ブラシ300を使用するとよい。本製造方法の研磨工程では、表面硬度が70[°]以下の研磨パッドまたは研磨ブラシ300の使用が好ましく、60[°]以下がより好ましい。
図示した研磨パッドまたは研磨ブラシ300のように二層構造の研磨パッドまたは研磨ブラシの場合、上記の表面硬度は表面層320の表面硬度である。一方、下地層310の表面硬度は、表面層320の表面硬度よりも低いと、ガラス材料100表面への形状追従性を向上させるため好ましい。したがって、下地層310の表面硬度は20[°]未満が好ましく、15[°]以下がより好ましく、10[°]以下がより好ましい。
但し、本製造方法における研磨パッドまたは研磨ブラシは図示した二層構造のものに限定されず、下地層を有しておらず、表面層のみで構成してもよい。なお、研磨パッドと研磨ブラシとを比較した場合、ガラス材料に接触する部位がブラシ形状をした研磨ブラシの方が、ガラス材料表面への形状追従性が高い。そのため、研磨ブラシを使用する場合、下地層を有しておらず、表面層のみで構成してもよい。
研磨ブラシを使用すれば、ガラス材料の端面も高精度で研磨できる。
研磨剤としては、コロイダルシリカ、酸化セリウムが好ましく、酸化セリウムが特に好ましい。
研磨剤として酸化セリウムを用いる場合、平均粒子径は、10~5000[nm]が好ましく、100~3000[nm]がより好ましく、500~2000[nm]がさらに好ましい。
研磨スラリーにおける酸化セリウムの含有率は、1~50[質量%]が好ましく、5~40[質量%]がより好ましく、10~30[質量%]がさらに好ましい。
研磨スラリーを所望のpHに調整するため、研磨剤の分散媒には、酸性またはアルカリ性の分散媒を用いてもよい。酸性の分散媒には、塩酸、硝酸、酢酸が通常使用される。アルカリ性の分散媒には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウムが通常使用される。
また、ガラス材料の表面に顕在化する凹状欠点の深さについて、これまでの知見に基づいて、研磨量を設定してもよい。これまでの知見により、ガラス材料の表面に顕在化する凹状欠点の大半が、深さ5[μm]以下であることを確認している。この知見に基づいて、研磨量を5[μm]以上としてもよい。
また、3Dカバーガラスとしての使用上問題となるのは、ガラス材料の表面へ顕在化した凹状欠点であるので、目視可能な凹状欠点がガラス材料の表面に存在しなくなるまで研磨してもよい。この場合、ガラス材料表面に顕在化した凹状欠点の深さの測定は不要である。
なお、本製造方法では、深さ0.1[μm]をガラス材料の表面に存在する凹状欠点の除去の要否の判断基準とする。深さ0.1[μm]以下の凹状欠点は目視により確認されず、3Dカバーガラスの外観を悪化させない。
この場合、図4におけるガラス材料100を上下反転させ、ガラス材料の中心部を保持する部位が平坦で、ガラス材料の周辺部を保持する部位が3次元曲面をなしており、全体形状が凹状のステージに該ガラス材料を真空吸着させて、ガラス材料100の中心部が反りの無い平坦な状態で保持した状態で、ガラス材料を研磨パッドまたは研磨ブラシと、研磨スラリーとを用いて研磨する。
本3Dカバーガラス100の両主面の表面粗さRaは、例えば接触式表面粗さ測定器を用いて測定でき、該表面粗さRaは表面強度向上の観点から0.05[μm]以下が好ましく。0.02[μm]以下がより好ましい。なお、本明細書において、表面粗さRaは、JISB0601:2001により規定される算術平均粗さRaを指す。
3Dカバーガラスの成形に用いるガラス材料は回転砥石を用いて、端面を研削しており、その端面には研削によるキズが存在しやすい。そして、研削によるキズの程度によっては、3Dカバーガラスの強度が低下する場合がある。研削によるキズの程度は、各端面の表面粗さRaにより推測できる。各端面の表面粗さRaが0.20[μm]超だと、研削によるキズにより、3Dカバーガラスの強度が低下するおそれがある。
本製造方法では、その研磨工程でガラス材料の端面に、所定の表面硬度を有する研磨パッドまたは研磨ブラシを接触させることにより、端面に存在する研削によるキズが平滑化される。そのため、各端面の表面粗さRaが0.20[μm]以下の3Dカバーガラスが得られる。
本3Dカバーガラス100の各端面の表面粗さRaは、接触式表面粗さ測定器を用いて測定できる。なお、本明細書において、各端面の表面粗さRaはJIS B0601:2001により規定される算術平均粗さRaを指す。
本3Dカバーガラス100の各端面の表面粗さRaは0.10[μm]以下が好ましく、0.05[μm]以下がより好ましい。
また、3Dカバーガラスの板厚は、部材の軽量化を図るため2.0[mm]以下が好ましい。本製造方法で本3Dカバーガラスを製造する場合は、その板厚が1.0[mm]以下であると、研磨工程での真空吸着が容易になるために好ましい。
(実施例1~4、比較例1)
実施例1~4、および比較例1では、図1に示す3Dカバーガラスを製造した。図1に示す3Dカバーガラス100は、平面視におけるサイズは150[mm]×80[mm]程度の略長方形であり、全周に亘って3次元曲面をなす曲面部を有している。該曲面部は、最小曲率半径Rが5[mm]程度で、曲げ深さが4.5[mm]であった。
実施例1:表面層の表面硬度が38[°]、下地層の表面硬度が8[°]の二層構造の研磨パッド
実施例2:表面硬度が51[°]の下地層無しの研磨パッド
実施例3:表面硬度が73[°]、下地層の表面硬度が8[°]の二層構造の研磨パッド
実施例4:表面硬度が51[°]、下地層の表面硬度が8[°]の二層構造の研磨ブラシ
比較例1:表面硬度が8[°]、下地層の表面硬度が8[°]の二層構造の研磨パッド
上記の研磨パッドまたは研磨ブラシは、パッド径またはブラシ径が94[mmφ]である。
研磨条件として、酸化セリウムを含む研磨スラリー(MIREK E30J、三井金属鉱業株式会社製)を使用し、研磨パッドを、軸を中心に400[rpm]で回転させながら、以下に示す研磨荷重でガラス材料に接触させた。送り速度50[mm/min]とした。
実施例1:91[g/cm2]
実施例2:100[g/cm2]
実施例3:81[g/cm2]
実施例4:62[g/cm2]
比較例1:25[g/cm2]
図5~9は、それぞれ比較例1、実施例1、実施例2、実施例3、実施例4における研磨量と凹状欠点深さとの関係を示している。これらの結果は、表面硬度が20[°]未満(8[°])の研磨パッドを使用した比較例1では、研磨量を大きくしても、凹状欠点を除去できなかった。これに対し、表面硬度が20[°]以上の研磨パッドを使用した実施例1~4では、凹状欠点の深さの1.2倍程度の研磨量で凹状欠点を除去できたことを示している。両者の違いについて、図を用いて説明する。
図10(a)は、表面硬度が20[°]以上の研磨パッドと、凹状欠点を有するガラス表面との接触状態を示しており、図10(b)は該研磨パッドによる研磨量を示している。図11(a)は、表面硬度が20[°]未満の研磨パッドと、凹状欠点を有するガラス表面との接触状態を示しており、図11(b)は該研磨パッドによる研磨量を示している。
表面硬度が20[°]未満(8[°])の研磨パッドを用いた比較例1の場合、図11(a)に示すように、凹状欠点600を有するガラス材料100表面と接触させた際に、凹状欠点600の形状に沿って研磨パッドの表面層320が変形し、凹状欠点600の底部に研磨パッドの表面層320が接する。この状態で研磨すると、図11(b)に示す研磨量800となり、凹状欠点を除去できない。
一方、表面硬度が20[°]以上の研磨パッドを用いた実施例1~4の場合、図10(a)に示すように、凹状欠点600を有するガラス材料100表面と接触させた際に、凹状欠点600の形状に沿って研磨パッドの表面層320が変形せず、凹状欠点600の底部に研磨パッドの表面層320が接することがない。この状態で研磨すると、図10(b)に示す研磨量800となり、凹状欠点が除去できる。
化学強化処理後の3Dカバーガラスの各端面の表面粗さRaを接触式表面粗さ測定器で測定した。実施例1~4、および比較例1の3Dカバーガラスは各端面の表面粗さRaが0.014[μm]であった。
110:中心部
120:曲面部
200:ステージ
300:研磨パッド
310:下地層
320:表面層
400:ポンプ
600:凹状欠点
800:研磨量
Claims (8)
- 中心部が平坦で周辺部の少なくとも一部に曲率半径100[mm]以下の3次元曲面をなす曲面部を有する3Dカバーガラスの製造方法であって、
ガラス材料を、3次元曲面をなす曲面部を含む形状に成形する、ガラス成形工程と、
前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料の表面を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程後に、前記ガラス材料に化学強化処理を施す化学強化処理工程と、を有し、
前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料は、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位が、製造後の3Dカバーガラスに対し0.3[mm]以下の反りを有しており、
前記研磨工程は、前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料を、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位を反りの無い平坦な状態を保持した状態にて、表面硬度が20[°]~80[°]の研磨パッドまたは研磨ブラシと、研磨スラリーとを使用して、前記ガラス材料の表面に顕在化する凹状欠点の深さ以上研磨し、
前記研磨パッドまたは研磨ブラシによる研磨荷重が、62[g/cm 2 ]以上であり、
前記研磨工程は、製造後の3Dカバーガラスの前記周辺部に相当する部位の研磨に、前記研磨ブラシを用いる、3Dカバーガラスの製造方法。 - 中心部が平坦で周辺部の少なくとも一部に曲率半径100[mm]以下の3次元曲面をなす曲面部を有する3Dカバーガラスの製造方法であって、
ガラス材料を、3次元曲面をなす曲面部を含む形状に成形する、ガラス成形工程と、
前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料の表面を研磨する研磨工程と、
前記研磨工程後に、前記ガラス材料に化学強化処理を施す化学強化処理工程と、を有し、
前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料は、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位が、製造後の3Dカバーガラスに対し0.3[mm]以下の反りを有しており、
前記研磨工程は、前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料を、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位を反りの無い平坦な状態を保持した状態にて、表面硬度が20[°]~38[°]の研磨パッドまたは研磨ブラシと、研磨スラリーとを使用して、前記ガラス材料の表面に顕在化する凹状欠点の深さ以上研磨し、
前記研磨パッドまたは研磨ブラシによる研磨荷重が、62[g/cm 2 ]以上であり、
前記研磨パッドまたは研磨ブラシは、前記ガラス材料と接触する、表面硬度が20[°]~38[°]の表面層と、前記表面層の前記ガラス材料と接触する側の反対側に備わる、前記表面層よりも表面硬度が低い下地層と、を有する、3Dカバーガラスの製造方法。 - 前記研磨パッドまたは研磨ブラシは、前記ガラス材料と接触する、表面硬度が20[°]~80[°]の表面層と、前記表面層の前記ガラス材料と接触する側の反対側に備わる、前記表面層よりも表面硬度が低い下地層と、を有する、請求項1に記載の3Dカバーガラスの製造方法。
- 前記研磨工程は、製造後の3Dカバーガラスの曲面部に相当する部位の研磨に、前記研磨ブラシを用いる、請求項2に記載の3Dカバーガラスの製造方法。
- 前記研磨工程は、真空吸着により、前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料を、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位を反りの無い平坦な状態を保持する、請求項1~4のいずれかに記載の3Dカバーガラスの製造方法。
- 前記研磨工程は、前記ガラス材料のうち凸状をなす主面を研磨した後に、凹状をなす主面を研磨する、請求項1~5のいずれかに記載の3Dカバーガラスの製造方法。
- 前記研磨工程では、5[μm]以上の研磨量を与える、請求項1~6のいずれかに記載の3Dカバーガラスの製造方法。
- 前記ガラス成形工程後に得られた前記ガラス材料は、製造後の3Dカバーガラスの中心部に相当する部位が、製造後の3Dカバーガラスに対し0.12[mm]以上の反りを有する、請求項1~7のいずれかに記載の3Dカバーガラスの製造方法。
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Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013525258A (ja) | 2010-05-03 | 2013-06-20 | コーニング インコーポレイテッド | 3dガラス物品を作製する方法 |
JP2015157733A (ja) | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス板の製造方法 |
JP2015527277A (ja) | 2012-05-31 | 2015-09-17 | コーニング インコーポレイテッド | カバーガラス物品 |
JP2015527940A (ja) | 2012-07-23 | 2015-09-24 | ジェイエイチ ローデス カンパニー, インコーポレイテッド | 非平面ガラス研磨パッドおよび製造方法 |
WO2016117474A1 (ja) | 2015-01-20 | 2016-07-28 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法 |
JP2016524582A (ja) | 2013-05-07 | 2016-08-18 | コーニング インコーポレイテッド | イオン交換強化3dガラスカバーを作製するための補償金型 |
WO2016199612A1 (ja) | 2015-06-12 | 2016-12-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス板の製造方法、ガラス板、および表示装置 |
JP3209364U (ja) | 2016-12-28 | 2017-03-09 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨ブラシ |
JP2017064820A (ja) | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド |
WO2017075157A1 (en) | 2015-10-30 | 2017-05-04 | Corning Incorporated | A 3d shaped glass-based article, method and apparatus for producing the same |
JP2017165645A (ja) | 2016-03-10 | 2017-09-21 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラスの製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5556800B2 (ja) * | 2011-12-16 | 2014-07-23 | 旭硝子株式会社 | 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 |
US9187365B2 (en) * | 2013-02-25 | 2015-11-17 | Corning Incorporated | Methods for measuring the asymmetry of a glass-sheet manufacturing process |
CN107188398A (zh) * | 2016-03-10 | 2017-09-22 | 旭硝子株式会社 | 化学强化玻璃的制造方法 |
-
2017
- 2017-11-01 JP JP2017212062A patent/JP7031230B2/ja active Active
-
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013525258A (ja) | 2010-05-03 | 2013-06-20 | コーニング インコーポレイテッド | 3dガラス物品を作製する方法 |
JP2015527277A (ja) | 2012-05-31 | 2015-09-17 | コーニング インコーポレイテッド | カバーガラス物品 |
JP2015527940A (ja) | 2012-07-23 | 2015-09-24 | ジェイエイチ ローデス カンパニー, インコーポレイテッド | 非平面ガラス研磨パッドおよび製造方法 |
JP2016524582A (ja) | 2013-05-07 | 2016-08-18 | コーニング インコーポレイテッド | イオン交換強化3dガラスカバーを作製するための補償金型 |
JP2015157733A (ja) | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス板の製造方法 |
WO2016117474A1 (ja) | 2015-01-20 | 2016-07-28 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス及び化学強化ガラスの製造方法 |
WO2016199612A1 (ja) | 2015-06-12 | 2016-12-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス板の製造方法、ガラス板、および表示装置 |
JP2017064820A (ja) | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド |
WO2017075157A1 (en) | 2015-10-30 | 2017-05-04 | Corning Incorporated | A 3d shaped glass-based article, method and apparatus for producing the same |
JP2017165645A (ja) | 2016-03-10 | 2017-09-21 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラスの製造方法 |
JP3209364U (ja) | 2016-12-28 | 2017-03-09 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨ブラシ |
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