JP5556800B2 - 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 - Google Patents
研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5556800B2 JP5556800B2 JP2011275793A JP2011275793A JP5556800B2 JP 5556800 B2 JP5556800 B2 JP 5556800B2 JP 2011275793 A JP2011275793 A JP 2011275793A JP 2011275793 A JP2011275793 A JP 2011275793A JP 5556800 B2 JP5556800 B2 JP 5556800B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- glass substrate
- brush
- chamfered portion
- inner peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 236
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 187
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 182
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 142
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 38
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000283086 Equidae Species 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283973 Oryctolagus cuniculus Species 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000282887 Suidae Species 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法またはプレス成形法で成形されたガラス原板を、中央部に円孔を有する円盤形状に加工する。
(2)面取り工程
円盤形状のガラス基板の内周側面部および外周側面部と両主平面との交差部に、それぞれ内周面取り部および外周面取り部を形成する。
(3)内周端面研磨工程
ガラス基板の内周端面(内周側面部および内周面取り部)を、研磨ブラシを用いて研磨する。
(4)外周端面研磨工程
ガラス基板の外周端面(外周側面部および外周面取り部)を、研磨ブラシを用いて研磨する。
(5)主平面研磨工程
ガラス基板の両主平面を、砥粒を含有する研磨液と発泡樹脂製等の研磨パッドを使用して研磨する。
(6)精密洗浄工程
研磨後のガラス基板を精密洗浄する。
(5)主平面研磨工程は、1次研磨のみでもよく、1次研磨と2次研磨を行ってもよい。また、2次研磨の後に3次研磨(仕上げ研磨)を行ってもよい。さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合は、ガラス基板の表面に強化層を形成する強化工程(例えば、化学強化工程)を、(5)主平面研磨工程の前、または(5)主平面研磨工程の後、あるいは(5)主平面研磨工程で多段階(2次〜3次)の研磨を行う場合は1次〜3次の研磨工程の間で実施してもよい。
本発明の製造方法により得られた磁気記録媒体用ガラス基板では、面取り部の加工変質層等に起因するピット欠陥等の欠陥がほとんどないため、ガラス基板の機械的強度の低下が抑えられる。また、面取り部の凹凸を平滑化して十分に鏡面に仕上げられているため、凹部に捕捉された異物が主平面の異物欠陥増加の原因となる問題がなくなる。
端面研磨後のガラス基板の外周面取り部と内周面取り部のピット欠陥数、および外周面取り部と内周面取り部の研磨前後の角度変化の測定は、以下に示すようにして行った。
ガラス基板の外周面取り部または内周面取り部を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて深さ方向に5μmエッチングして、加工変質層のキズを観察しやすいピット欠陥とし、洗浄と乾燥を行った後、さらにピット欠陥数を評価しやすいサイズにガラス基板を切断した。こうして、外周面取り部を含むピット欠陥数観察試料、または内周面取り部を含むピット欠陥数観察試料を作製した。なお、ガラス基板の表面のエッチング深さは、端面研磨の研磨量の測定と同じ方法で測定した。
端面研磨前後における外周面取り部または内周面取り部の主平面とのなす角度(チャンファ角度:CA)をそれぞれ測定し、外周面取り部または内周面取り部の角度変化ΔCAを、以下の式から求めた。
ΔCA=(端面研磨後のCA)−(端面研磨前のCA)
ΔCAが0°に近いほど、外周面取り部または内周面取り部において均一な研磨ができていることを示す。
フロート法で成形されたSiO2を主成分とするガラス原板を、外径65mm、内径20mm、板厚0.635mmの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるような、中央部に円孔を有する円盤形状(ドーナツ形状)に加工した。
ここで、Xは、ガラス基板積層体における1枚のガラス基板のチャンファ長さと、ガラス基板積層体に介挿されたスペーサの厚さの1/2との合計値を示す。例1〜例8の外周端面研磨においては、チャンファ長さが0.2mm、スペーサの厚さが0.4mmであるので、Xの値は0.4mmとなる。
例1〜8と同様に形状加工され、次いで面取り加工がなされたガラス基板の両主平面を、アルミナ砥粒(平均粒径7〜7.5μm)を用いて研削(ラッピング)した後、砥粒を洗浄・除去した。
ここで、Xは、ガラス基板積層体における1枚のガラス基板のチャンファ長さと、ガラス基板積層体に介挿されたスペーサの厚さの1/2との合計値を示す。例9〜例16の内周端面研磨においては、チャンファ長さが0.2mm、スペーサの厚さが0.2mmであるので、Xの値は0.3mmとなる。
(内周端面の研磨量)=[(研磨後ガラス基板の円孔の直径)−(研磨前ガラス基板の円孔の直径)]
Claims (4)
- 回転軸とその周りに植設されたブラシ毛とを備え、側面部と面取り部とを含む端面を有するガラス基板の複数枚を直接またはスペーサを介して複数枚積層してなるガラス基板積層体の、前記端面を研磨するための研磨ブラシであって、
前記ブラシ毛は、先端に前記ブラシ毛の軸に対して傾斜した傾斜平面により欠切された平面形状部を有し、前記平面形状部の前記ブラシ毛の軸方向の長さは、該ブラシ毛の全長に対して3〜50%の割合であり、
かつ、前記ブラシ毛は、前記平面形状部の前記傾斜平面が前記回転軸の軸に垂直な面に対して60°〜120°となるように植設されており、前記平面形状部以外の部分における直径dが、前記ガラス基板の面取り部の積層方向の長さと、前記スペーサの厚さの1/2との合計であるXに対し、Xの1/3より大きくXより小さい(X/3<d<X)ことを特徴とする研磨ブラシ。 - 前記ガラス基板は、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板である、請求項1に記載の研磨ブラシ。
- 側面部と面取り部とを含む端面を有するガラス基板を複数枚積層してなるガラス基板積層体の前記端面を、砥粒を含有する研磨液を供給しながら、請求項1または2に記載の研磨ブラシを用いて研磨することを特徴とするガラス基板の端面研磨方法。
- 側面部と面取り部とを含む端面を有するガラス基板を準備する工程と、
前記ガラス基板を複数枚積層してガラス基板積層体を形成する工程と、
前記ガラス基板積層体の前記端面を、砥粒を含有する研磨液を供給しながら研磨ブラシを用いて研磨する端面研磨工程を備え、
前記研磨ブラシが、請求項1または2に記載の研磨ブラシであることを特徴とするガラス基板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011275793A JP5556800B2 (ja) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 |
CN2012105148311A CN103158060A (zh) | 2011-12-16 | 2012-12-04 | 研磨刷、玻璃基板的端面研磨方法、及玻璃基板的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011275793A JP5556800B2 (ja) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013123790A JP2013123790A (ja) | 2013-06-24 |
JP5556800B2 true JP5556800B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=48581870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011275793A Active JP5556800B2 (ja) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5556800B2 (ja) |
CN (1) | CN103158060A (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG11201501456XA (en) * | 2012-09-28 | 2015-05-28 | Hoya Corp | Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate |
WO2014208266A1 (ja) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Hoya株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
CN105164753B (zh) * | 2013-06-28 | 2018-04-17 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法和磨削磨石 |
WO2016031467A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨ブラシ |
CN104526497B (zh) * | 2014-12-10 | 2017-01-25 | 南京三超新材料股份有限公司 | 一种蓝宝石片边沿抛光方法 |
CN105479345B (zh) * | 2015-12-30 | 2019-03-15 | 芜湖东旭光电科技有限公司 | 玻璃基板边缘研磨装置 |
JP6687892B2 (ja) * | 2016-05-16 | 2020-04-28 | 日本電気硝子株式会社 | 板ガラスの製造方法 |
WO2018089431A1 (en) * | 2016-11-08 | 2018-05-17 | Corning Incorporated | Methods, apparatus, and assembly for cleaning glass sheets |
JP7031230B2 (ja) * | 2017-11-01 | 2022-03-08 | Agc株式会社 | 3dカバーガラス、およびその製造方法 |
JP7283222B2 (ja) * | 2019-05-17 | 2023-05-30 | Agc株式会社 | ガラス基体および車載表示装置 |
JP7488508B2 (ja) * | 2019-07-17 | 2024-05-22 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス物品 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1159008A (ja) * | 1997-08-15 | 1999-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用支持体の表面処理方法及び装置並びに研磨ブラシ用研磨装置 |
JP2000271871A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-03 | Toray Monofilament Co Ltd | 精密研磨仕上用毛材及び精密研磨仕上用ブラシ |
JP2002123931A (ja) * | 2000-10-13 | 2002-04-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法、及び該方法により研磨された情報記録媒体用ガラス基板 |
JP4141412B2 (ja) * | 2004-05-21 | 2008-08-27 | 株式会社コーワ | 清掃ブラシ |
JP2007118173A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-05-17 | Hoya Corp | 研磨用ブラシ、ブラシ調整用治具、および研磨用ブラシの調整方法 |
JP4770531B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2011-09-14 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラスディスクの加工方法 |
JP4252087B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2009-04-08 | 昭和電工株式会社 | 研磨装置、および円盤状基板の製造方法 |
JP4224517B2 (ja) * | 2007-02-20 | 2009-02-18 | 昭和電工株式会社 | 円盤状基板の研磨方法 |
JP2010221305A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Showa Denko Kk | 円盤状基板の製造方法 |
JP5263099B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2013-08-14 | トヨタ自動車株式会社 | 研磨ブラシの成形方法及び装置 |
-
2011
- 2011-12-16 JP JP2011275793A patent/JP5556800B2/ja active Active
-
2012
- 2012-12-04 CN CN2012105148311A patent/CN103158060A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103158060A (zh) | 2013-06-19 |
JP2013123790A (ja) | 2013-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5556800B2 (ja) | 研磨ブラシ、ガラス基板の端面研磨方法、およびガラス基板の製造方法 | |
JP5035405B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
TWI764920B (zh) | 四方形玻璃基板及其製造方法 | |
US9685185B2 (en) | Glass substrate for magnetic disk and magnetic recording medium | |
JP5056961B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
JP2004199846A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
JP5327275B2 (ja) | 端面研磨ブラシ及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP6280355B2 (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法及び研磨処理用キャリア | |
JP5853408B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP5768554B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP5906823B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
CN102930874B (zh) | 磁记录介质用玻璃基板 | |
JP6360512B2 (ja) | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、磁気ディスク用基板の製造方法、円板状基板の製造方法 | |
JP2011198429A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板およびその評価方法 | |
JP5152357B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5413409B2 (ja) | 支持治具及び磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2014154187A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP2009087439A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2011198428A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板およびその評価方法 | |
JP6199047B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2014056639A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP6131749B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5310671B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板及びその製造方法 | |
JP5700015B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP6121759B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131008 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131022 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5556800 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |