CN103158060A - 研磨刷、玻璃基板的端面研磨方法、及玻璃基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及研磨刷、玻璃基板的端面研磨方法及玻璃基板的制造方法，研磨刷具备旋转轴和植设于其周围的刷毛，用于研磨将具有端面的玻璃基板直接层叠多片或经由垫片层叠多片而成的玻璃基板层叠体的上述端面，该端面包含侧面部和倒角部，其特征在于，所述刷毛在前端具有被相对于所述刷毛的轴倾斜的倾斜平面切缺而得到的平面形状部，且所述刷毛的所述平面形状部以外的部分的直径d相对于所述玻璃基板的倒角部的层叠方向的长度和所述垫片的厚度的1/2的合计X，满足X/3＜d＜X。

Description

研磨刷、玻璃基板的端面研磨方法、及玻璃基板的制造方法

技术领域

本发明涉及玻璃基板的端面研磨用的研磨刷和玻璃基板的端面研磨方法、及玻璃基板的制造方法。 

背景技术

近年来，伴随磁盘装置的高记录密度化，对磁记录介质用玻璃基板的要求特性逐年提高。特别是为实现高记录密度，降低玻璃基板的表面的异物或缺陷使平滑性提高至为重要。 

通常，在制造磁记录介质用玻璃基板时，从板状玻璃等原材料板切出圆盘形状的原板，在中央部形成圆形的贯通孔后，对构成玻璃基板的外周的外周侧面的角部分和构成贯通孔的内壁的内周侧面的角部分进行倒角加工。之后，进行玻璃基板的内周及外周的侧面部和倒角部（以下将侧面部和倒角部一并称作端面。）的研磨，进而在对相向的一对主平面也进行了研磨后，经由清洗工序得到磁记录介质用玻璃基板。 

在这种磁记录介质用玻璃基板的制造中，玻璃基板的端面的研磨是为除去倒角加工等时在端面产生的伤痕或裂纹并使凹凸平滑化并精加工成镜面而进行的。通过将玻璃基板的端面精加工成平滑的镜面，具有：提高玻璃基板的机械强度，降低被端面的凹凸捕捉的异物、降低端面的凹凸切削匣盒或夹具等树脂部件等而产生的微粒等多种效果。 

目前，如图6所示，磁记录介质用玻璃基板的端面的研磨如下进行：将进行了倒角加工的玻璃基板61经由垫片62层叠多片，向这种 玻璃基板层叠体的内周或外周的侧面部61a供给含有游离磨粒的研磨液，并且使旋转的研磨刷63的刷毛63a与玻璃基板61的内周或外周的侧面部61a和倒角部61b接触。 

但是，在玻璃基板层叠体中，由于各玻璃基板61的倒角部61b因比侧面部61a更向内侧凹的形状的原因，研磨刷63的刷毛63a难以到达通过相邻的倒角部61b形成的槽的深处64，因此，不能充分研磨倒角部61b。因此，不能充分除去倒角部61b的伤痕及凹凸，存在不能精加工成平滑的镜面的问题。 

人们作出有涉及为使刷毛进入到通过倒角部61b形成的槽的深处而将刷毛的前端变细为针状等的研磨刷的提案（例如参照专利文献1、专利文献2。）。 

但是，专利文献1及专利文献2记载的研磨刷中，由于刷毛的前端部的腰（以下称作毛腰。）弱，所以研磨速度降低，不仅不能进行有效的研磨，而且不能均匀地研磨倒角部61b。 

而且，在玻璃基板的端面、特别是倒角部61b的研磨不充分的情况下，所述伤痕等在端面（特别是倒角部）作为微小缺陷（潜伤）残留，通过研磨后的清洗等，以该微小缺陷的伤痕为中心进行蚀刻而显著化，成为圆形状或椭圆形状的凹坑缺陷。这样的凹坑缺陷不仅使玻璃基板的机械强度降低，而且在之后的工序中容易捕捉异物。而且，当进一步在之后的工序中被凹坑缺陷捕捉的异物排出而附着于玻璃基板的表面上时，存在带来作为信息记录介质的可靠性降低的问题。 

专利文献1：日本国特开2007－118173公报 

专利文献2：日本国专利第4770531号公报 

发明内容

本发明是为解决上述课题而作出的，其目的在于提供一种在玻璃基板的端面研磨中能够实现研磨速度的提高和研磨的稳定化并且能够均匀地研磨倒角部的研磨刷。而且，其目的在于提供一种机械强度提高、异物减少、作为磁记录介质时膜剥落降低等特性提高了的磁记录介质用玻璃基板。 

本发明的研磨刷，具备旋转轴和植设于旋转轴周围的刷毛，用于研磨将具有端面的玻璃基板直接层叠多片或经由垫片层叠多片而构成的玻璃基板层叠体的上述端面，该端面包含侧面部和倒角部，所述研磨刷的特征在于，所述刷毛在前端具有被相对于所述刷毛的轴倾斜的倾斜平面切缺而得到的平面形状部，且所述刷毛的所述平面形状部以外的部分的直径d相对于所述玻璃基板的倒角部沿层叠方向的长度与所述垫片的厚度的1/2的合计X，满足X/3＜d＜X。 

在本发明的研磨刷中，优选地，所述平面形状部沿所述刷毛的轴向的长度相对于该刷毛的全长为3～50％的比例。优选地，所述刷毛以所述平面形状部相对于与所述旋转轴的轴垂直的面为60°～120°的方式植设。而且，优选地，所述玻璃基板为中央部具有圆孔的圆盘形状的磁记录介质用玻璃基板。 

本发明的玻璃基板的端面研磨方法，其特征在于，一边供给含有磨粒的研磨液一边使用上述本发明的研磨刷来研磨将具有端面的玻璃基板层叠多片而构成的玻璃基板层叠体的上述端面，该端面包含侧面部和倒角部。 

本发明的玻璃基板的制造方法，其特征在于，具备：准备玻璃基板的工序，该玻璃基板具有包含侧面部和倒角部在内的端面；将所述玻璃基板层叠多片而形成玻璃基板层叠体的工序；以及端面研磨工序，一边供给含有磨粒的研磨液一边使用研磨刷研磨所述玻璃基板层叠体的所述端面，所述研磨刷为上述本发明的研磨刷。 

发明效果 

根据本发明的研磨刷，在玻璃基板的包含侧面部和倒角部在内的端面的研磨中，能够实现研磨速度的提高和研磨的稳定化，并且能够均匀地研磨倒角部。由此，能够得到倒角部没有凹坑缺陷的磁记录介质用玻璃基板，能够降低残留于倒角部等的伤痕引起的玻璃基板的机械强度下降、被倒角部的凹凸捕捉的异物引起的缺陷的增加等问题。 

附图说明

图1是使用本发明的研磨刷研磨端面的玻璃基板的剖面立体图； 

图2表示使用研磨刷研磨玻璃基板层叠体的内周端面的样态，图2（a）是局部剖面立体图，图2（b）是将图2（a）的S部放大表示的图； 

图3是在本发明实施方式的研磨刷中表示刷毛的形状的图，图3（a）是整体图，图3（b）是将前端放大表示的主视图，图3（c）是前端的放大俯视图，图3（d）是用于说明平面形状部的方向的图； 

图4是使用轮廓形状测定机测定玻璃基板的内周端面的形状的方法的图； 

图5是用于说明求玻璃基板的倒角部的角度的方法的图； 

图6是将现有的研磨刷的玻璃基板的端面研磨的状态放大表示的图。 

符号说明 

10…磁记录介质用玻璃基板、11…圆孔、101…内周侧面、102…外周侧面、103…主平面、104…内周倒角部、105…外周倒角部、20…玻璃基板层叠体、21…垫片、24…研磨刷、25…刷毛、25a…平面形状部。 

具体实施方式

下面，对用于实施本发明的方式进行说明，但本发明不限于以下 所记载的实施方式。 

首先，图1表示使用本发明的研磨刷研磨端面的玻璃基板。此外，该玻璃基板适合作为磁记录介质用玻璃基板，但也可以用于其它用途。 

图1所示的玻璃基板10具有中央部形成有截面形状为圆形的贯通孔即圆孔11的圆盘形状，具有作为圆孔11的内壁面的内周侧面部101、外周侧面部102、及相向的上下两侧的主平面103。而且，在内周侧面部101和两主平面103的交叉部形成有内周倒角部104，且在外周侧面部102和两主平面103的交叉部形成有外周倒角部105。此外，如上述，将内周侧面部101和内周倒角部104一并称作内周端面，将外周侧面部102和外周倒角部105一并称作外周端面。 

在作为本发明的实施方式的、玻璃基板的内周端面或外周端面的研磨方法中，将多片上述玻璃基板根据需要经由垫片层叠而形成玻璃基板层叠体，且一边供给含有游离磨粒的研磨液一边使用具备旋转轴和在其周围植设的刷毛的研磨刷研磨该玻璃基板层叠体的内周端面或外周端面。此外，玻璃基板层叠体的内周端面或外周端面表示构成玻璃基板层叠体的各玻璃基板的内周端面或外周端面的集合体。在以下的记载中也相同。 

图2（a）是表示研磨玻璃基板的内周端面的方法的局部剖面立体图，图2（b）是图2（a）的S部的放大图。如图2（a）所示，将经由垫片21层叠多片上述玻璃基板10而成的玻璃基板层叠体20设置于内周端面研磨装置的保持部（省略图示。），向玻璃基板层叠体20的中央部所形成的圆孔部22插入具有旋转轴23的研磨刷24。而且，使研磨刷24的刷毛25抵接各玻璃基板10的内周侧面部101和内周倒角部104，一边供给研磨液一边使玻璃基板层叠体20和研磨刷24向相反方向旋转，同时研磨各玻璃基板的内周侧面部101和内周倒角部104。 

此外，在玻璃基板的外周端面的研磨中，研磨刷的配设位置仅从上述的玻璃基板层叠体20的中央部的圆孔部22内变到外周端面的附近，研磨的方式与内周端面的研磨相同。因此，以下的说明也可以适用于外周端面的研磨。另外，在以下的说明中，“端面”的记载包含内周端面和外周端面这两者。 

如图2（a）所示，玻璃基板层叠体20也可以将玻璃基板10和垫片21交替层叠而形成，也可以仅层叠玻璃基板10而形成。在将玻璃基板10和垫片21交替层叠的情况下，垫片21抑制在玻璃基板10的主平面103产生伤痕，使刷毛25及研磨液容易到达层叠的玻璃基板10的内周倒角部104的深处。 

本发明实施方式的研磨刷24具备旋转轴23和绕旋转轴23植设的刷毛25。旋转轴23的外周上的植设刷毛25的部分的长度比玻璃基板层叠体20的层叠方向的全长长，这对于均匀地进行玻璃基板10的内周端面的研磨是优选的。 

在内周端面的研磨中，研磨刷24的外径（至刷毛25的前端的外径）可以比玻璃基板10的圆孔11的直径大也可以比其小。研磨刷24的外径通过改变旋转轴23的直径或刷毛25的长度来调整。在刷毛25的长度过长的情况下，难以使刷毛25以适宜的按压力接触玻璃基板10的端面，研磨速度可能降低。另一方面，在刷毛25的长度过短的情况下，刷毛25难以可靠地到达玻璃基板10的倒角部的深处，因此，可能不能充分研磨倒角部。 

研磨刷24的刷毛25可以根据使用目的从尼龙或聚丙烯、氯乙烯、聚对苯二甲酸乙酯、聚对苯二甲酸丁二酯等合成树脂的纤维、猪或狐狸、马等动物的毛、钢琴线或不锈钢纤维等金属线中任意选择。 

实施方式的研磨刷24中，如图3（a）～（d）所示，刷毛25具有 通过相对于刷毛25的轴倾斜的倾斜平面将前端切缺而得到的平面形状部25a。此外，平面形状部25a不需要是平滑且平坦的面，也可以在表面具有微小的凹凸或微小的曲率。 

而且，前端形成有这种平面形状部25a的各刷毛25以平面形状部25a相对于与上述的旋转轴的轴垂直的面成60°～120°的方式植设于旋转轴的周上。平面形状部25a相对于上述垂直的面的角度优选为70°～110°，更优选为80°～100°，特别优选为85°～95°。即，如图3（d）所示，平面形状部25a相对于与旋转轴26的轴垂直的面成约90°（Y表示旋转轴26的轴方向。），在使研磨刷24以旋转轴26为中心旋转时，优选平面形状部25a以朝向旋转方向正对的方式配置。此外，图3（a）中，符号26a表示用于将刷毛25的根部植设于旋转轴26的沟槽零件。沟槽零件的形状没有特别限定。 

根据具有这种形状的刷毛25的实施方式的研磨刷24，可以提高玻璃基板10的端面的研磨速度，且可以使研磨速度稳定化。即，在上述形状的刷毛25中，与使前端部针状等一样减细的现有的刷毛相比，通过形成于前端的平面形状部25a而具有前端的毛腰，且研磨液的保持特性提高，而且与玻璃基板10的端面的接触面积也增大，因此，可以实现研磨速度的提高及稳定化。 

另外，实施方式的研磨刷24的刷毛25中，形成有上述平面形状部25a的前端以外的部分的直径d设定为比X的1/3大且比X小（X/3＜d＜X）。在此，如图2（b）所示，X表示玻璃基板层叠体20的一片玻璃基板10的倒角部104的层叠方向的长度（以下有时为倒棱长度。）和插于上述玻璃基板层叠体20的垫片21的厚度的1/2的合计。此外，在玻璃基板层叠体20为介于玻璃基板10间未插有垫片21的构造的情况下，将垫片21的厚度设为零来计算X。 

上述的X表示端面研磨的每一片玻璃基板10的研磨空间的大小 （层叠方向的长度）。刷毛25的直径d比X的1/3大且比X小的实施方式的研磨刷24中，由于刷毛25的直径d比上述研磨空间小，而且刷毛25的前端具有非常强的毛腰，因此，在图2所示的玻璃基板层叠体20中，刷毛25的具有平面形状部25a的前端进入到由相邻的玻璃基板10的倒角部104形成的槽的深处27。因此，能够以高的研磨速度均匀地研磨玻璃基板10的端面、特别是倒角部104，不仅研磨前后的倒角部104的角度的变化小，而且也可以降低倒角部104的凹坑缺陷数。如果刷毛25的直径d为X以上，则刷毛25的前端部将难以进入到玻璃基板10的倒角部104的深处27，因此，不能充分进行玻璃基板10的倒角部104的研磨，倒角部104的凹坑缺陷数可能增加。另外，在刷毛25的直径d为X的1/3以下的情况下，刷毛25的毛腰减弱，研磨速度降低，研磨速度的稳定性也变差。刷毛25的直径d更优选为比上述X的1/2大且比X小的（X/2＜D＜X）范围。 

而且，上述平面形状部25a的长度L相对于刷毛25的全长A的比例（％）（L/A ×100）在内周端面研磨用及外周端面研磨用的任一研磨刷24中均优选处于3～50％的范围。平面形状部25a的长度L的比例不足3％时，由于刷毛25的前端难以进入到玻璃基板10的倒角部104的深处27，所以倒角部104的凹坑缺陷数可能增加。当平面形状部25a的长度L的比例超过50％时，刷毛25的毛腰减弱，研磨速度降低，研磨速度的稳定性也变差。平面形状部25a的长度L的比例的更优选的范围为5～40％，进一步优选的范围为5～20％。 

为了将刷毛25的前端整形为具有这种平面形状部25a的形状，例如可以采用以下所示的方法。即，以与使用直至前端均具有相同的截面形状（例如圆形）的刷毛的研磨刷进行端面研磨时相同的条件（旋转方向及旋转速度）研磨成为虚拟的例如由玻璃基板等形成的被研磨物。通过与虚拟的被研磨物的接触，刷毛的前端被切削，形成平面形状部25a。此外，在这种通过虚拟研磨进行的平面形状部的形成中，以朝向虚拟研磨时的研磨刷的旋转方向的方式形成平面形状部，因此， 在使用如此在前端部形成有平面形状部的研磨刷的情况下，优选使研磨刷沿与虚拟研磨相同的方向旋转而进行端面研磨。 

另外，平面形状部25a的形成也可以使用刷调整夹具进行。而且，平面形状部25a的形成也可以通过切断刷毛25的前端而进行。 

本发明的磁记录介质用玻璃基板的制造方法具有如下所示的（1）～（5）的各工序。而且，在（3）内周端面研磨工序和（4）外周端面研磨工序中的至少一方、更优选两方的工序中，其特征在于使用上述的研磨刷进行研磨。 

（1）形状赋予工序 

将通过浮法、熔融法、下拉法或挤压成形法成形的玻璃原板加工成中央部具有圆孔的圆盘形状。 

（2）倒角工序 

在圆盘形状的玻璃基板的内周侧面部及外周侧面部与两主平面的交叉部分别形成内周倒角部及外周倒角部。 

（3）内周端面研磨工序 

使用研磨刷研磨玻璃基板的内周端面（内周侧面部及内周倒角部）。 

（4）外周端面研磨工序 

使用研磨刷研磨玻璃基板的外周端面（外周侧面部及外周倒角部）。 

（5）主平面研磨工序 

使用含有磨粒的研磨液和发泡树脂制等的研磨垫研磨玻璃基板的两主平面。 

（6）精密清洗工序 

精密清洗研磨后的玻璃基板。 

在具备这些工序的本发明的磁记录介质用玻璃基板的制造方法中，构成玻璃原板的玻璃可以是非晶玻璃，也可以结晶玻璃。 

（2）倒角工序后，可以对玻璃基板的两主平面进行研削（研磨）加工。另外，也可以在各工序之间实施玻璃基板的清洗（工序间清洗）及玻璃基板表面的蚀刻（工序间蚀刻）。 

（5）主平面研磨工序可以仅进行一次研磨，也可以进行一次研磨和二次研磨。 

另外，也可以在二次研磨后进行三次研磨（精研磨）。另外，在磁记录介质用玻璃基板要求高的机械强度的情况下，也可以在（5）主平面研磨工序之前、或（5）主平面研磨工序之后、或在（5）主平面研磨工序中进行多阶段（二次～三次）的研磨的情况下在一次～三次的研磨工序之间实施在玻璃基板的表面形成强化层的强化工序（例如化学强化工序）。 

根据本发明的磁记录介质用玻璃基板的制造方法，如图3所示，使用具有前端部被相对于刷毛25的轴倾斜的倾斜平面切缺而得到的平面形状部25a且直径d比玻璃基板的倒棱长度和垫片的厚度的1/2的合计X的1/3大且比X小的刷毛25的研磨刷24，进行玻璃基板的内周端面及/或外周端面的研磨，因此，特别是可以提高倒角部的研磨速度，并且可以均匀且稳定地研磨倒角部。 

而且，通过本发明的制造方法得到的磁记录介质用玻璃基板由于内周端面及/或外周端面的倒角部被均匀且良好地研磨，所以研磨前后 的倒角部的角度变化极小，而且倒角部的凹坑缺陷极少。具体而言，在倒角部，最大径10μm以上的凹坑缺陷数极少，为5个/mm²以下。倒角部的最大径10μm以上的凹坑缺陷数优选为3个/mm²以下，更优选为1个/mm²以下，特别优选为0个/mm²。此外，倒角部的凹坑缺陷数的测定如后述，使用光学显微镜进行。 

通常，在使用了研磨刷的玻璃基板的端面研磨中，倒角部的研磨量比侧面部的研磨量少，因此，在倒角部比在侧面部更容易残留加工变质层（伤痕等）。残留于玻璃基板的端面等的表面的加工变质层（伤痕等）通过蚀刻玻璃基板的表面而以伤痕为中心被各向同性地蚀刻，成为圆形状或椭圆形状的凹坑缺陷，可以使用光学显微镜进行简单评价。 

通过本发明的制造方法得到的磁记录介质用玻璃基板中，倒角部的加工变质层等引起的凹坑缺陷等缺陷几乎没有，因此，玻璃基板的机械强度的降低被抑制。另外，由于将倒角部的凹凸平滑化而被充分地精加工成镜面，所以不存在被凹部捕捉的异物成为主平面的异物缺陷增加的原因的问题。 

【实施例】 

以下，通过实施例及比较例具体说明本发明。以下，例1～8表示外周端面的研磨的例，例9～16表示内周端面的研磨的例。例1～4及例9～12是本发明的实施例，例5～8及例13～16是比较例。 

端面研磨后的玻璃基板的外周倒角部和内周倒角部的凹坑缺陷数、及外周倒角部和内周倒角部的研磨前后的角度变化的测定如下所示进行。 

［凹坑缺陷数］ 

将玻璃基板的外周倒角部或内周倒角部使用包括氟酸或硝酸等的 酸性的蚀刻溶液向深度方向蚀刻5μm，将加工变质层的伤痕设为容易观察的凹坑缺陷，进行清洗和干燥后，进而将玻璃基板切断成容易评价凹坑缺陷数的尺寸。这样，制作包含外周倒角部的凹坑缺陷数观察试样、或包含内周倒角部的凹坑缺陷数观察试样。此外，玻璃基板的表面的蚀刻深度通过与端面研磨的研磨量的测定相同的方法进行测定。 

评价凹坑缺陷的部位可以在玻璃基板的外周倒角部或内周倒角部的全区域实施，也可以在选择的特定部位实施。在本实施例及比较例中，在玻璃基板的外周倒角部或内周倒角部，在0°、90°、180°、270°合计8处位置评价凹坑缺陷数。 

凹坑缺陷数使用作为光学显微镜的明视野、微分干涉金属显微镜（奥林巴斯公司制、制品名：BX60M）进行计数评价。将各观察试样安装于试样台上，以外周倒角部或内周倒角部的面相对于光学显微镜的物镜的透镜面处于平行的方式进行固定。光学显微镜的物镜使用20倍，将观察视野设为480μm×328μm，计数直径（或长径）为10μm以上的圆形状或椭圆形状的凹坑缺陷的数量。而且，算出用观察面积除测量出的凹坑缺陷数所得的数值。将该数值为5个/mm²以下的玻璃基板设为良品。 

［研磨前后的倒角部的角度变化］ 

分别测定端面研磨前后的外周倒角部或内周倒角部与主平面构成的角度（倒棱角度：CA），由下述式求出外周倒角部或内周倒角部的角度变化⊿CA。 

⊿CA＝（端面研磨后的CA）-（端面研磨前的CA） 

⊿CA越接近0°，表示在外周倒角部或内周倒角部作了越均匀的研磨。 

内周倒角部与主平面构成的角度（CA）如下所示进行测定。即，如图4所示，使用轮廓形状测定机（（株）小坂研究所社制、制品名：轮廓形状测定机EF－150）测定玻璃基板10的内周端面的形状。以主平面相对于轮廓形状测定机的测定基准面为45度的角度的方式设置玻璃基板10，在上侧的内周倒角部104安置了上述轮廓形状测定机的触针28后，按主平面103→内周倒角部104（上侧）→内周侧面部101的顺序扫描触针28，得到内周端面的形状信息。而且，根据得到的轮廓并按如下顺序设定基于基准角度的倒棱角度（CA）。 

如图5（a）或（b）所示，将玻璃基板10的内周侧面部101和内周倒角部104的面（以下称为内周倒角面。）的交点P1、上述内周倒角面和主平面的交点P2之间的距离（与主平面平行的方向的距离）设为倒角面长度p。从主平面侧交点P2沿（p/3）部分的倒角面引出平均线，将该平均线和主平面构成的角度设为倒棱角度CA。 

此外，外周倒角部的倒棱角度CA也与内周倒角部的倒棱角度CA同样地求出。根据这样求出的端面研磨后的CA和端面研磨前的CA求出外周倒角部或内周倒角部的角度变化⊿CA，将⊿CA为3度以下的玻璃基板设为良品。 

（例1～8） 

将通过浮法成形的以SiO₂为主成分的玻璃原板加工成可得到外径65mm、内径20mm、板厚0.635mm的磁记录介质用玻璃基板这样的中央部具有圆孔的圆盘形状（环形状）。 

将该中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板的内周侧面和外周侧面以得到倒角宽度0.15mm、倒角角度45°的磁记录介质用玻璃基板的方式进行倒角加工，之后，在使用铝磨粒（平均粒径7～7.5μm）研削（研磨）了玻璃基板的两主平面后，清洗、除去磨粒。 

其次，将200片该玻璃基板与厚度0.4mm的树脂制垫片交替层叠，形成玻璃基板层叠体。而且，使用绕旋转轴植设有尼龙制刷毛（长度20mm）的研磨刷和含有磨粒的研磨液如以下所示研磨该玻璃基板层叠体的外周侧面部和外周倒角部。即，将玻璃基板层叠体设于外周端面研磨装置的被研磨体保持部，且在玻璃基板层叠体的外周端面附近的规定位置设置研磨刷，以研磨刷的刷毛可靠地接触玻璃基板层叠体的外周侧面部和外周倒角部的方式将含有磨粒的研磨液向玻璃基板层叠体的外周端面部分供给，一边使研磨刷和玻璃基板层叠体沿相反方向旋转，一边同时研磨外周侧面部和外周倒角部。 

作为含有磨粒的研磨液，使用平均粒子直径为约1.4μm的以氧化铈为主成分的研磨液。以7～8L/min供给该研磨液，且在研磨刷的旋转速度为300rpm、玻璃基板层叠体的旋转速度为75～90rpm下实施研磨。 

例1～4及例7、8中，使用植设有刷毛的研磨刷，该刷毛具有前端被相对于刷毛的轴倾斜的倾斜平面切缺而成的平面形状部、且以平面形状部相对于与研磨刷的旋转轴垂直的面成85°～95°的方式植设。另外，例5及例6中，使用前端具有未形成有上述平面形状部的刷毛的研磨刷。但是，例5中，使用直至前端具有同样粗度的刷毛的研磨刷，例6中使用具有朝向前端针状变细的尖细形状的刷毛的研磨刷。 

将例1～例8中使用的研磨刷的刷毛的特性评价与上述前端的平面形状部的有无一并示于表1。此外，表1中，直径d是刷毛的前端以外的部分的直径，是由光学显微镜测得的值。另外，X/3＜d＜X的项目表示上述直径d是否处于比X的1/3大且比X小的范围。该评价项目中，a表示在范围内（X/3＜d＜X），b表示脱离上述范围，即d≦X/3或X≦d。 

在此，X表示玻璃基板层叠体的一片玻璃基板的倒棱长度和插于 玻璃基板层叠体的垫片的厚度的1/2的合计值。例1～例8的外周端面研磨中，倒棱长度为0.2mm、垫片的厚度为0.4mm，因此，X的值为0.4mm。 

在上述平面形状部的长度L的比例（L/A ×100）的项目中，平面形状部的长度L表示沿刷毛的轴测得的平面形状部的长度，是由光学显微镜测得的值。另外，A是刷毛的全长，在例1～8为20mm。 

例1～8的外周端面研磨的研磨速度示于表1。此外，外周端面的研磨速度如下求出。即，对于外周端面，使用外径测微计（株式会社ミツトヨ社制：数字变径标准外侧测微计）测定研磨量（μm），以研磨所需的时间（min.）除该测定值而求出。 

在外周端面研磨后，从玻璃基板层叠体一片一片地分离玻璃基板，接着通过使用碱洗剂的擦洗清洗，清洗除去磨粒。对于这样研磨后进行了清洗的玻璃基板的外周倒角部，通过上述的方法测定凹坑缺陷数及研磨前后的角度变化。测定结果示于表1。此外，表1中，例8的研磨前后的角度变化超过10°表示的是外周倒角部的主平面附近的研磨状态不良，形状变形的状态。 

表1 

将与例1～8同样地进行形状加工，接着进行了倒角加工的玻璃基板的两主平面使用铝磨粒（平均粒径7～7.5μm）进行研削（研磨），之后清洗、除去磨粒。 

其次，将200片该玻璃基板与厚度0.2mm的树脂制垫片交替层叠，形成玻璃基板层叠体。而且，使用绕旋转轴植设有尼龙制刷毛（长度3.8mm）的研磨刷和含有磨粒的研磨液如下研磨该玻璃基板层叠体的内周侧面部和内周倒角部。即，将玻璃基板层叠体设于内周端面研磨装置的被研磨体保持部，且在玻璃基板层叠体的中央部的圆孔部插入研磨刷，使研磨刷的刷毛可靠地接触玻璃基板层叠体的内周侧面部和内周倒角部，将含有磨粒的研磨液向玻璃基板层叠体的内周端面部分供给，一边使研磨刷和玻璃基板层叠体沿相反方向旋转，一边同时研磨内周侧面部和内周倒角部。 

作为含有磨粒的研磨液，使用平均粒子直径约1.4μm的以氧化铈为主成分的研磨液。以7～8L/min供给该研磨液，且在研磨刷的旋转速度为2500rprn、玻璃基板层叠体的旋转速度为39rpm下实施研磨。 

例9～12及例15、16中，使用植设有刷毛的研磨刷，其中该刷毛具有前端被相对于刷毛的轴倾斜的倾斜平面切缺而得到的平面形状部，且以平面形状部相对于与研磨刷的旋转轴垂直的面为85°～95°的方式植设。另外，例13及例14中，使用具有前端未形成有上述平面形状部的刷毛的研磨刷。但是，例13中使用直至前端具有同粗度的刷毛的研磨刷，例14中使用具有朝向前端针状变细的尖细形状的刷毛的研磨刷。 

将例9～例16中使用的研磨刷的刷毛的特性评价与上述前端的平面形状部的有一并示于表2。此外，表2中，直径d为刷毛的前端以外的部分的直径，是由光学显微镜测得的值。另外，X/3＜d＜X的项目表示上述直径d是否处于比X的1/3大且比X小的范围。在该评价项 目中，a表示在范围内（X/3＜d＜X），b表示脱离上述范围，即d≦X/3或X≦d。 

在此，X表示玻璃基板层叠体的一片玻璃基板的倒棱长度和插于玻璃基板层叠体的垫片的厚度的1/2的合计值。例9～例16的内周端面研磨中，倒棱长度为0.2mm、垫片的厚度为0.2mm，因此，X的值为0.3mm。 

在上述平面形状部的长度L的比例（L/A×100）的项目中，平面形状部的长度L表示沿刷毛的轴测得的平面形状部的长度，是由光学显微镜测得的值。另外，A是刷毛的全长，在例9～16中为3.8mm。 

例9～16的内周端面研磨的研磨速度示于表2。此外，内周端面的研磨速度如下求出。即，使用高精度二维尺寸测定机（キ一エンス社制：VM8040）在内周侧面部测定玻璃基板中央部的圆孔的直径，且使用研磨前后的圆孔的直径差通过下式计算出内周端面的研磨量（μm）。而且，以研磨所需的时间（min.）除该计算值而作为研磨速度。 

（内周端面的研磨量）＝［（研磨后玻璃基板的圆孔的直径）-（研磨前玻璃基板的圆孔的直径）］ 

内周端面研磨后，从玻璃基板层叠体一片一片地分离玻璃基板，接着通过使用碱洗剂的擦洗清洗将磨粒清洗除去。对于这样研磨后进行了清洗的玻璃基板的内周倒角部，通过上述的方法测定凹坑缺陷数及研磨前后的角度变化。测定结果示于表2。此外，表2中，例16的研磨前后的角度变化超过10°表示内周倒角部的主平面附近的研磨状态不良，形状变形的状态。 

表2 

从表1及表2可知，在作为外周端面研磨的本发明实施例的例1～4、及作为内周端面研磨的本发明实施例的例9～12中，对端面特别是倒角部以高的研磨速度均匀地进行研磨，研磨前后的倒角部的角度变化小。另外，可知外周倒角部及内周倒角部的凹坑缺陷数为5个/mm²以下，因倒角加工等产生的伤痕等的加工变质层几乎完全被除去。 

与之相对，作为外周端面研磨的比较例的例5、及作为内周端面研磨的比较例的例13中，使用直至前端部具有同粗度的刷毛的研磨刷进行研磨，因此，不仅研磨前后的倒角部的角度变化比上述实施例大，而且倒角部的凹坑缺陷数超过5个/mm²。另外，例6及例14中，使用具有前端部针状变细的刷毛的研磨刷进行研磨，因此，研磨前后的倒角部的角度变化比上述实施例大，且倒角部的凹坑缺陷数超过5个/mm²。 

另外，作为外周端面研磨的比较例的例7、及作为内周端面研磨的比较例的例15中，使用具有前端具有平面形状部的刷毛的研磨刷进行研磨，但由于刷毛的直径d为上述的X的值的1/3以下，所以刷毛的毛腰变弱，研磨速度降低。另外，研磨前后的倒角部的角度变化增大，且倒角部的凹坑缺陷数显著增大。 

而且，作为外周端面研磨的比较例的例8、及作为内周端面研磨的比较例的例16中，使用具有前端具有平面形状部的刷毛的研磨刷进行研磨，但由于刷毛的直径d超过上述的X的值，所以不能充分地进行对倒角部的研磨，不仅产生倒角部的形状变形，而且倒角部的凹坑缺陷数也显著增大。由此可知，在作为本发明比较例的例5～8及例13～16中，均不能得到机械强度高的磁记录介质用玻璃基板。 

本申请基于2011年12月16日提交的日本专利申请第2011－275793号，其内容作为参考并入本文中。 

工业实用性 

根据本发明，以充分高的研磨速度研磨玻璃基板的端面，能够高生产率地可靠地得到端面特别是倒角部没有凹坑缺陷且可实现高记录密度的磁记录介质用玻璃基板。 

Claims (6)

1.一种研磨刷，具备旋转轴和植设于旋转轴周围的刷毛，用于研磨将具有端面的玻璃基板直接层叠多片或经由垫片层叠多片而构成的玻璃基板层叠体的上述端面，该端面包含侧面部和倒角部，所述研磨刷的特征在于，

所述刷毛在前端具有被相对于所述刷毛的轴倾斜的倾斜平面切缺而得到的平面形状部，

且所述刷毛的所述平面形状部以外的部分的直径d相对于所述玻璃基板的倒角部沿层叠方向的长度与所述垫片的厚度的1/2的合计X，满足X/3＜d＜X。

2.如权利要求1所述的研磨刷，其中，

所述平面形状部沿所述刷毛的轴向的长度相对于该刷毛的全长为3～50％的比例。

3.如权利要求1或2所述的研磨刷，其中，

所述刷毛以所述平面形状部相对于与所述旋转轴的轴垂直的面为60°～120°的方式植设。

4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨刷，其中，

所述玻璃基板为中央部具有圆孔的圆盘形状的磁记录介质用玻璃基板。

5.一种玻璃基板的端面研磨方法，其特征在于，

一边供给含有磨粒的研磨液一边使用权利要求1～4中任一项所述的研磨刷来研磨将具有端面的玻璃基板层叠多片而构成的玻璃基板层叠体的上述端面，该端面包含侧面部和倒角部。

6.一种玻璃基板的制造方法，其特征在于，具备：

准备玻璃基板的工序，该玻璃基板具有包含侧面部和倒角部在内的端面；

将所述玻璃基板层叠多片而形成玻璃基板层叠体的工序；以及

端面研磨工序，一边供给含有磨粒的研磨液一边使用研磨刷研磨所述玻璃基板层叠体的所述端面，

所述研磨刷为权利要求1～4中任一项所述的研磨刷。

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