WO2016158583A1 - ゼオライト膜構造体及びその製造方法 - Google Patents

ゼオライト膜構造体及びその製造方法 Download PDF

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龍二郎 長坂
鈴木 秀之
明昌 市川
中村 真二
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日本碍子株式会社
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    • B01J39/08Use of material as cation exchangers; Treatment of material for improving the cation exchange properties
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Definitions

  • the present invention relates to a zeolite membrane structure and a method for producing the same.
  • seed crystal a method of forming a zeolite membrane on the surface of a porous support using a zeolite seed crystal (hereinafter referred to as “seed crystal”) is known (for example, see Patent Documents 1 and 2).
  • seed crystal a zeolite seed crystal
  • the zeolite membrane is formed by the crystal growth of the seed crystal coated on the surface of the porous support in the form of a film.
  • the present invention has been made in view of the above-described situation, and an object thereof is to provide a zeolite membrane structure capable of improving the permeability of the zeolite membrane and a method for producing the same.
  • the zeolite membrane structure according to the present invention includes a porous support and a zeolite membrane.
  • the zeolite membrane has a first zeolite layer disposed inside the surface of the porous support and a second zeolite layer disposed outside the surface of the porous support and integrally formed with the first zeolite layer. .
  • the porous support has an outermost layer on which the first zeolite layer is disposed.
  • the average thickness of the first zeolite layer is 5.4 ⁇ m or less.
  • the 50% diameter in the volume cumulative pore size distribution of the outermost layer measured by the pore size distribution measuring device is 0.050 ⁇ m or more and 0.150 ⁇ m or less.
  • a zeolite membrane structure capable of improving the permeability of the zeolite membrane and a method for producing the same.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the separation membrane structure 10.
  • the separation membrane structure 10 includes a porous support 20 and a zeolite membrane 30.
  • the porous support 20 supports the zeolite membrane 30.
  • the porous support 20 has chemical stability such that the zeolite membrane 30 can be formed into a film shape (crystallization, coating, or deposition) on the surface.
  • the porous support 20 may have any shape that can supply a mixed fluid to be separated to the zeolite membrane 30. Examples of the shape of the porous support 20 include a honeycomb shape, a monolith shape, a flat plate shape, a tubular shape, a cylindrical shape, a columnar shape, and a prismatic shape.
  • the porous support 20 has a base 21, an intermediate layer 22, and a surface layer 23.
  • the base 21 is made of a porous material.
  • a porous material for example, a ceramic sintered body, metal, organic polymer, glass, or carbon can be used.
  • the ceramic sintered body include alumina, silica, mullite, zirconia, titania, yttria, silicon nitride, and silicon carbide.
  • the metal include aluminum, iron, bronze, silver, and stainless steel.
  • the organic polymer include polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, polysulfone, and polyimide.
  • the substrate 21 may contain an inorganic binder.
  • the inorganic binder at least one of titania, mullite, easily sinterable alumina, silica, glass frit, clay mineral, and easily sinterable cordierite can be used.
  • the average pore diameter of the substrate 21 can be set to 5 ⁇ m to 25 ⁇ m, for example.
  • the average pore diameter of the base 21 is a 50% diameter (so-called D50) in the volume cumulative pore diameter distribution of the base 21 measured by a mercury porosimeter (an example of a pore size distribution measuring device).
  • the porosity of the substrate 21 can be set to 25% to 50%, for example.
  • the average particle diameter of the porous material constituting the substrate 21 can be set to 10 ⁇ m to 100 ⁇ m, for example.
  • the average particle diameter of the substrate 21 is a value obtained by arithmetically averaging the maximum diameters of 30 measurement target particles measured by cross-sectional microstructure observation using a SEM (scanning electron microscope).
  • the intermediate layer 22 is formed on the base 21.
  • the intermediate layer 22 can be made of the porous material that can be used for the substrate 21.
  • the average pore diameter of the intermediate layer 22 may be smaller than the average pore diameter of the substrate 21, and may be, for example, 0.005 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the average pore diameter of the intermediate layer 22 is a 50% diameter (that is, D50) in the volume cumulative pore diameter distribution of the intermediate layer 22 measured by a palm porometer (an example of a pore diameter distribution measuring device).
  • the porosity of the intermediate layer 22 can be set to 20% to 60%, for example.
  • the thickness of the intermediate layer 22 can be, for example, 10 ⁇ m to 500 ⁇ m.
  • the surface layer 23 is formed on the intermediate layer 22.
  • the surface layer 23 can be composed of the porous material that can be used for the base 21.
  • the average pore diameter of the surface layer 23 is 0.050 ⁇ m or more and 0.150 ⁇ m or less.
  • the average pore diameter of the surface layer 23 is a 50% diameter (that is, D50) in the volume cumulative pore diameter distribution of the surface layer 23 measured by a palm porometer (an example of a pore diameter distribution measuring device).
  • the 90% diameter (that is, D90) in the volume cumulative pore size distribution of the surface layer 23 is 0.050 ⁇ m or more and 0.180 ⁇ m or less. D90 of the surface layer 23 is preferably less than 0.150 ⁇ m, and more preferably 0.080 ⁇ m or less.
  • the pore diameter of the surface layer 23 is equal to the pore diameter of the outermost layer 23a described later.
  • the porosity of the surface layer 23 can be set to 20% to 60%, for example.
  • the thickness of the surface layer 23 can be set to 5 ⁇ m to 300 ⁇ m, for example.
  • the zeolite membrane 30 is supported by the porous support 20.
  • the zeolite membrane 30 is in contact with the surface layer 23 of the porous support 20.
  • the zeolite membrane 30 is manufactured using a zeolite seed crystal (hereinafter referred to as “seed crystal”) as described later.
  • seed crystal a zeolite seed crystal
  • the framework structure (type) of the zeolite constituting the zeolite membrane 30 is not particularly limited.
  • AEI, CHA, DDR, HEU, LEV, LTA and RHO are preferred
  • FIG. 2 is a partially enlarged view of FIG.
  • the zeolite membrane 30 has a first zeolite layer 31 and a second zeolite layer 32, and the surface layer 23 has an outermost layer 23a and an inner layer 23b.
  • the first zeolite layer 31 is disposed inside the surface 23S of the surface layer 23. That is, the first zeolite layer 31 is disposed inside the surface layer 23.
  • the first zeolite layer 31 is formed so as to enter the gap between the constituent particles 23 ⁇ / b> T of the surface layer 23.
  • the second zeolite layer 32 is disposed outside the surface 23S of the surface layer 23. That is, the second zeolite layer 32 is disposed outside the surface layer 23.
  • the second zeolite layer 32 is disposed on the first zeolite layer 31 and is integrally formed with the first zeolite layer 31.
  • the first zeolite layer 31 functions as a filtration membrane similarly to the second zeolite layer 32. Therefore, the permeability of the zeolite membrane 30 improves as the thickness of the first zeolite layer 31 decreases.
  • the average thickness of the first zeolite layer is 5.4 ⁇ m or less.
  • the average thickness of the first zeolite layer is preferably 2.5 ⁇ m or less, and more preferably 1.4 ⁇ m or less.
  • the average thickness of the second zeolite layer 32 can be 0.9 ⁇ m or more and 3.2 ⁇ m or less.
  • the average thickness of the second zeolite layer 32 is preferably 2.5 ⁇ m or less, and more preferably 1.5 ⁇ m or less.
  • the ratio of the average thickness of the first zeolite layer 31 to the average thickness of the second zeolite layer 32 is preferably 1.25 or less, More preferably, it is 1.0 or less.
  • the “average thickness” of each layer in the present embodiment is an arithmetic average value of at least three thicknesses measured by cross-sectional microstructure observation using a SEM (scanning electron microscope), and “thickness” is a surface thickness. It means the width of each layer in the thickness direction perpendicular to 23S. Therefore, the average thickness of the first zeolite layer is the average distance between the surface 23S of the surface layer 23 and the inner surface 23U of the first zeolite layer 31.
  • the first zeolite layer 31 is disposed on the outermost layer 23a.
  • the outermost layer 23 a is formed in a composite with the first zeolite layer 31.
  • the first zeolite layer 31 enters the gap between the constituent particles 23T of the outermost layer 23a.
  • the average thickness of the outermost layer 23a is equal to the average thickness of the first zeolite layer.
  • the average pore diameter of the outermost layer 23 a is equal to the average pore diameter of the surface layer 23.
  • the inner layer 23b is formed inside the outermost layer 23a.
  • the inner layer 23b is a region other than the outermost layer 23a in the surface layer 23.
  • the first zeolite layer 31 does not enter the inner layer 23b. In other words, the inner layer 23 b is in contact with the first zeolite layer 31.
  • the boundary between the outermost layer 23 a and the inner layer 23 b is defined by the inner surface 23 U of the first zeolite layer 31.
  • a molded body of the base 21 having a desired shape is formed by an extrusion molding method, a press molding method, a cast molding method, or the like.
  • the molded body of the substrate 21 is fired (for example, 900 ° C. to 1450 ° C., 1 hour to 100 hours) to form the substrate 21.
  • the intermediate layer 22 formed body is formed on the surface of the base 21 by forming a slurry for the intermediate layer prepared with a porous material having a desired particle diameter, an organic binder, a pH adjuster, a surfactant and the like.
  • the molded body of the intermediate layer 22 is fired (for example, 900 ° C. to 1450 ° C., 1 hour to 100 hours) to form the intermediate layer 22.
  • the surface layer 23 is formed on the surface of the intermediate layer 22 by forming a slurry for the surface layer prepared with a porous material having a desired particle size, an organic binder, a pH adjuster, a surfactant, and the like, thereby forming a formed body of the surface layer 23.
  • the surface layer 23 is fired (for example, 900 ° C. to 1450 ° C., 1 hour to 100 hours) to form the surface layer 23.
  • the D50 of the surface layer 23 is controlled to 0.050 ⁇ m or more and 0.150 ⁇ m or less, and the D90 of the surface layer 23 is controlled to 0.050 ⁇ m or more and 0.180 ⁇ m or less. can do.
  • nucleus containing zeolite (hereinafter referred to as “nucleus”) is prepared.
  • the nucleus is preferably a zeolite crystal or a mixture of zeolite crystal and amorphous silica.
  • the average particle diameter of the nuclei can be 0.100 ⁇ m or more and 0.250 ⁇ m or less.
  • the average particle diameter of the nucleus is a 50% diameter (so-called D50) in the volume cumulative particle size distribution of the nucleus measured by a laser diffraction scattering method.
  • the method for producing the nucleus is not particularly limited.
  • raw material solution containing a nucleus, silica, and 1-adamantanamine as a structure directing agent is prepared.
  • the raw material solution may contain water, ethylenediamine and the like.
  • a seed crystal is produced by heating the raw material solution at 130 to 180 ° C. for 4 hours or longer (hydrothermal synthesis).
  • the heating rate to 50 ° C./h or less
  • the 10% diameter (so-called D10) in the volume cumulative particle size distribution of the seed crystal measured by the laser diffraction scattering method is 0.050 ⁇ m or more and 0.150 ⁇ m or less.
  • the ratio of D10 of the seed crystal to D90 of the surface layer 23 is adjusted to 0.5 or more.
  • a seeding slurry diluted in a solvent water, ethanol, ethanol aqueous solution or the like is prepared so that the seed crystal is 1% by mass or less.
  • a seeding slurry is applied to the surface of the surface layer 23 by a flow-down method or a dipping method.
  • D50 of the surface layer 23 is 0.050 ⁇ m or more and 0.150 ⁇ m or less, and the ratio of D10 of the seed crystal to D90 of the surface layer 23 is 0.5 or more. Diffusion is suppressed.
  • the porous support 20 with the seed crystal attached is immersed in a pressure-resistant container containing a raw material solution containing a silica source, an alumina source, an alkali source, water, and the like.
  • the raw material solution may contain an organic template.
  • the pressure vessel is put into a dryer and heated at 100 to 200 ° C. for about 1 to 240 hours (hydrothermal synthesis) to grow a seed crystal into a film.
  • the first zeolite layer 31 is formed in combination with the outermost layer 23a, and the second zeolite layer 32 is formed on the outermost layer 23a.
  • the average thickness of the first zeolite layer 31 in which the crystal grows inside the surface layer 23 is suppressed to 5.4 ⁇ m or less.
  • porous support 20 on which the zeolite membrane 30 is formed is washed and dried at 80 to 100 ° C.
  • the organic template is burned by placing the porous support 20 in an electric furnace and heating it in the atmosphere (400 to 800 ° C., 1 to 200 hours). Remove.
  • the porous support 20 has the base 21, the intermediate layer 22, and the surface layer 23.
  • the porous support 20 may not have one or both of the intermediate layer 22 and the surface layer 23.
  • the outermost layer 23 a is formed on the intermediate layer 22.
  • the outermost layer 23 a is formed on the base 21.
  • the separation membrane structure 10 includes the porous support 20 and the zeolite membrane 30.
  • the separation membrane structure 10 may further include a functional membrane or a protective membrane laminated on the zeolite membrane 30.
  • a functional membrane or a protective membrane laminated on the zeolite membrane 30 As such a film, an inorganic film such as a zeolite film, a carbon film, or a silica film, or an organic film such as a polyimide film or a silicone film can be used.
  • the base body having 55 through holes was formed by extruding the clay. Subsequently, the molded body of the base was fired (1250 ° C., 1 hour).
  • an intermediate layer slurry prepared by adding PVA to alumina and titania was deposited on the inner surface of the through hole by a filtration method to form an intermediate layer formed body. Subsequently, the intermediate layer formed body was fired (1250 ° C., 2 hours) to form an intermediate layer.
  • a slurry for the surface layer prepared by adding PVA to alumina was deposited on the surface of the intermediate layer by a filtration method to form a surface layer compact.
  • the surface layer compact was fired (1250 ° C., 1 hour) to form a surface layer.
  • a DDR type zeolite seed crystal was prepared as follows.
  • ethylenediamine manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • 1-adamantanamine manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • 1-adamantanamine Sigma Aldrich
  • aqueous solution containing DDR type zeolite crystals as nuclei was placed in another container, and silica sol containing silica (Snowtex S, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred to obtain a silica sol containing nuclei.
  • silica sol containing silica Snowtex S, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • DDR type zeolite powder having an average particle size of 2.9 ⁇ m is pulverized by a beads mill (trade name: Star Mill) manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd. After that, coarse particles were removed by centrifugation.
  • a silica sol containing nuclei was quickly added to a sealed container containing ethylenediamine in which 1-adamantanamine was dissolved, and a mixture solution in the sealed container was stirred until a transparent solution was obtained (raw material sol).
  • the raw material solution was placed in a stainless steel pressure vessel with a fluororesin inner cylinder and heated at 150 ° C. for 15 hours (hydrothermal synthesis). At this time, sample no. In Nos. 1 to 18, the temperature increase rate was 50 ° C./h, and sample No. In 19 and 20, the heating rate was 25 ° C./h.
  • the resultant was washed with water until the pH reached about 10, thereby obtaining a dispersion in which the zeolite seed crystals were dispersed.
  • the seed crystal dispersion was dropped into ethanol and stirred to prepare a seeding slurry having a seed crystal concentration of 0.075% by mass.
  • the seeding slurry was poured from above the vertically placed porous support, and the seeding slurry was poured into 55 cells formed on the porous support.
  • the seeding slurry applied to the cell walls was dried by flowing air through the cell at a wind speed of 2 to 7 m / sec for 10 minutes at room temperature.
  • ethylenediamine manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • 1-adamantanamine manufactured by Sigma Aldrich
  • silica dispersion containing silica sol (Snowtex S, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and ion-exchanged water in a separate container and lightly agitated were prepared.
  • a porous support having a seed crystal attached thereto was placed in a stainless steel pressure resistant vessel with a fluororesin inner cylinder.
  • the membrane solution was placed in a container and heated at 125 ° C. for 20 hours (hydrothermal synthesis) to form a zeolite membrane containing 1-adamantanamine on the cell wall of the porous support.
  • porous support was taken out from the container and washed with water.
  • the 1-adamantanamine was burned and removed by heating the DDR type zeolite membrane at 450 ° C. for 100 hours. Thereafter, the DDR type zeolite membrane was washed and dried (80 ° C.).
  • the seed crystal dispersion liquid of each sample was dropped into about 20 ml of water to obtain a measurable concentration, and then dispersed with an ultrasonic wave for 5 minutes or more to obtain a seed crystal suspension.
  • a volume cumulative pore size distribution of the seed crystal was obtained by a laser diffraction scattering method using a dynamic light scattering type particle size distribution measuring device (trade name: Nanotrac, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).
  • the 10% diameter (D10) of the seed crystal was calculated from the volume cumulative pore size distribution.
  • the 50% diameter (D50) and 90% diameter (D90) of the porous support were calculated from the volume cumulative pore diameter distribution.
  • D50 and D90 shown in Table 1 are values relating to the outermost surface layer.
  • feed solution aqueous solution containing 50% by volume of ethanol
  • the supply liquid was circulated inside the DDR type zeolite membrane of each sample (that is, the cell) while reducing the outside of the outer peripheral surface of the base body by a vacuum pump.
  • the mass of the permeate collected from each sample was weighed with an electronic balance. Moreover, the composition of the permeate collected from the outer peripheral surface of each sample was analyzed by gas chromatography.
  • sample No. 1 in which the average thickness of the first zeolite layer was 5.4 ⁇ m or less and the D50 of the porous support was 0.050 ⁇ m or more and 0.150 ⁇ m or less.
  • the water flux could be 0.21 kg / m 2 h or more. This is because the ratio of D10 of the seed crystal to D90 of the outermost layer of the porous support is 0.5 or more and the D90 of the outermost layer is 0.050 ⁇ m or more and 0.180 ⁇ m or less. This is because it was possible to suppress the diffusion of the seed crystal into the inside of the film.
  • Sample No. 1 having an average thickness of the first zeolite layer of 2.5 ⁇ m or less was used.
  • the water flux could be 1.04 kg / m 2 h or more. This is because the ratio of D10 of the seed crystal to D90 of the outermost layer is 1.3 or more, and D90 of the outermost layer is 0.080 or less, so that the seed crystal is diffused into the porous support. It is because it was able to suppress more.
  • sample No. 1 in which the average thickness of the first zeolite layer was 0.8 ⁇ m or less.
  • the water flux could be 1.60 kg / m 2 h or more. This is because the ratio of D10 of the seed crystal to D90 of the outermost layer is 1.9 or more, and the D90 of the outermost layer is 0.074 or less, so that the seed crystal is diffused into the porous support. This is because it could be further suppressed.
  • the permeability of the zeolite membrane structure can be improved, it is useful in the field of separation membranes.

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Abstract

 ゼオライト膜構造体(10)は、多孔質支持体(20)と、ゼオライト膜(30)とを備える。ゼオライト膜(30)は、多孔質支持体(20)の表面(23S)の内側に配置される第1ゼオライト層(31)と、多孔質支持体(20)の表面(23S)の外側に配置され、第1ゼオライト層(31)と一体形成される第2ゼオライト層(32)とを有する。多孔質支持体(20)は、第1ゼオライト層(31)が配置される最表層(23a)を有する。第1ゼオライト層(31)の平均厚みは、5.4μm以下である。最表層(23a)の平均細孔径は、0.050μm以上0.150μm以下である。

Description

ゼオライト膜構造体及びその製造方法
 本発明は、ゼオライト膜構造体及びその製造方法に関する。
 従来、ゼオライト種結晶(以下、「種結晶」という。)を用いて多孔質支持体の表面にゼオライト膜を形成する手法が知られている(例えば、特許文献1,2参照)。多孔質支持体の表面に塗布された種結晶が膜状に結晶成長することによってゼオライト膜は形成される。
特開2004-82008号公報 特表2008-74695号公報
 しかしながら、塗布された種結晶の一部は多孔質支持体の内部に拡散するため、形成されるゼオライト膜の実質的な膜厚が厚くなりやすく透過性が低下してしまうという問題がある。
 本発明は、上述の状況に鑑みてなされたものであり、ゼオライト膜の透過性を向上可能なゼオライト膜構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。
 本発明に係るゼオライト膜構造体は、多孔質支持体と、ゼオライト膜とを備える。ゼオライト膜は、多孔質支持体の表面の内側に配置される第1ゼオライト層と、多孔質支持体の表面の外側に配置され、第1ゼオライト層と一体形成される第2ゼオライト層とを有する。多孔質支持体は、第1ゼオライト層が配置される最表層を有する。第1ゼオライト層の平均厚みは、5.4μm以下である。細孔径分布測定装置により測定される最表層の体積累積細孔径分布における50%径は、0.050μm以上0.150μm以下である。
 本発明によれば、ゼオライト膜の透過性を向上可能なゼオライト膜構造体及びその製造方法を提供することができる。
分離膜構造体の断面図 図1の部分拡大図
 (分離膜構造体10の構成)
 図1は、分離膜構造体10の構成を示す断面図である。分離膜構造体10は、多孔質支持体20とゼオライト膜30を備える。
 多孔質支持体20は、ゼオライト膜30を支持する。多孔質支持体20は、表面にゼオライト膜30を膜状に形成(結晶化、塗布、あるいは析出)できるような化学的安定性を有する。多孔質支持体20は、分離対象である混合流体をゼオライト膜30に供給できるような形状であればよい。多孔質支持体20の形状としては、例えばハニカム状、モノリス状、平板状、管状、円筒状、円柱状、及び角柱状などが挙げられる。本実施形態において、多孔質支持体20は、基体21と中間層22と表層23を有している。
 基体21は、多孔質材料によって構成される。多孔質材料としては、例えば、セラミックス焼結体、金属、有機高分子、ガラス、或いはカーボンなどを用いることができる。セラミックス焼結体としては、アルミナ、シリカ、ムライト、ジルコニア、チタニア、イットリア、窒化ケイ素、炭化ケイ素などが挙げられる。金属としては、アルミニウム、鉄、ブロンズ、銀、ステンレスなどが挙げられる。有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスルホン、ポリイミドなどが挙げられる。
 基体21は、無機結合材を含んでいてもよい。無機結合材としては、チタニア、ムライト、易焼結性アルミナ、シリカ、ガラスフリット、粘土鉱物、易焼結性コージェライトのうち少なくとも一つを用いることができる。
 基体21の平均細孔径は、例えば5μm~25μmとすることができる。基体21の平均細孔径は、水銀ポロシメーター(細孔径分布測定装置の一例)により測定される基体21の体積累積細孔径分布における50%径(いわゆる、D50)である。基体21の気孔率は、例えば25%~50%とすることができる。基体21を構成する多孔質材料の平均粒径は、例えば10μm~100μmとすることができる。基体21の平均粒径は、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いた断面微構造観察によって測定される30個の測定対象粒子の最大直径を算術平均した値である。
 中間層22は、基体21上に形成される。中間層22は、基体21に用いることのできる上記多孔質材料によって構成することができる。中間層22の平均細孔径は、基体21の平均細孔径より小さくてもよく、例えば0.005μm~2μmとすることができる。中間層22の平均細孔径は、パームポロメーター(細孔径分布測定装置の一例)により測定される中間層22の体積累積細孔径分布における50%径(すなわち、D50)である。中間層22の気孔率は、例えば20%~60%とすることができる。中間層22の厚みは、例えば10μm~500μmとすることができる。
 表層23は、中間層22上に形成される。表層23は、基体21に用いることのできる上記多孔質材料によって構成することができる。表層23の平均細孔径は、0.050μm以上0.150μm以下である。表層23の平均細孔径は、パームポロメーター(細孔径分布測定装置の一例)により測定される表層23の体積累積細孔径分布における50%径(すなわち、D50)である。表層23の体積累積細孔径分布における90%径(すなわち、D90)は、0.050μm以上0.180μm以下である。表層23のD90は、0.150μm未満であることが好ましく、0.080μm以下であることがより好ましい。本実施形態において、表層23の細孔径は、後述する最表層23aの細孔径に等しい。表層23の気孔率は、例えば20%~60%とすることができる。表層23の厚みは、例えば5μm~300μmとすることができる。
 ゼオライト膜30は、多孔質支持体20によって支持される。ゼオライト膜30は、多孔質支持体20のうち表層23に接触する。ゼオライト膜30は、後述するようにゼオライト種結晶(以下、「種結晶」という。)を用いて作製される。ゼオライト膜30を構成するゼオライトの骨格構造(型)は特に制限されるものではなく、例えばABW、ACO、AEI、AEN、AFN、AFT、AFV、AFX、APC、ATN、ATT、ATV、AVL、AWO、AWW、BIK、CAS、CDO、CHA、DAC、DDR、DFT、EAB、EEI、EPI、ERI、ESV、GIS、HEU、IFY、IHW、IRN、ITE、ITW、JBW、JOZ、JSN、KFI、LEV、LTA、LTJ、MER、MON、MTF、MVY、NPT、NSI、OWE、PAU、PHI、RHO、RTE、RTH、RWR、SAS、SAT、SBN、SFW、SIV、TSC、UEI、UFI、VNI、WEI、WEN、YUG、ZONなどを用いることができる。特に、ゼオライトが結晶化しやすいAEI、CHA、DDR、HEU、LEV、LTA、RHOが好ましい。
 ここで、図2は図1の部分拡大図である。図2に示すように、ゼオライト膜30は第1ゼオライト層31と第2ゼオライト層32を有し、表層23は最表層23aと内部層23bを有する。
 第1ゼオライト層31は、表層23の表面23Sの内側に配置される。すなわち、第1ゼオライト層31は、表層23の内部に配置される。第1ゼオライト層31は、表層23の構成粒子23Tの隙間に入り込むように形成されている。第2ゼオライト層32は、表層23の表面23Sの外側に配置される。すなわち、第2ゼオライト層32は、表層23の外部に配置される。第2ゼオライト層32は、第1ゼオライト層31上に配置されており、第1ゼオライト層31と一体形成されている。
 第1ゼオライト層31は、第2ゼオライト層32と同様にろ過膜として機能する。そのため、第1ゼオライト層31の厚みが小さいほどゼオライト膜30の透過性は向上する。本実施形態において、第1ゼオライト層の平均厚みは、5.4μm以下である。第1ゼオライト層の平均厚みは、2.5μm以下であることが好ましく、1.4μm以下であることがより好ましい。第2ゼオライト層32の平均厚みは、0.9μm以上3.2μm以下とすることができる。第2ゼオライト層32の平均厚みは、2.5μm以下であることが好ましく、1.5μm以下であることがより好ましい。第1ゼオライト層31の平均厚みの第2ゼオライト層32の平均厚みに対する比(第1ゼオライト層31の平均厚み/第2ゼオライト層32の平均厚み)は、1.25以下であることが好ましく、1.0以下であることがより好ましい。
 なお、本実施形態における各層の「平均厚み」とは、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いた断面微構造観察で測定される少なくとも3箇所の厚みの算術平均値であり、「厚み」は表面23Sに垂直な厚み方向における各層の幅を意味する。従って、第1ゼオライト層の平均厚みは、表層23の表面23Sと第1ゼオライト層31の内表面23Uとの平均距離である。
 最表層23aには、第1ゼオライト層31が配置される。最表層23aは、第1ゼオライト層31と複合的に形成されている。最表層23aの構成粒子23Tの隙間には第1ゼオライト層31が入り込んでいる。最表層23aの平均厚みは、第1ゼオライト層の平均厚みに等しい。最表層23aの平均細孔径は、表層23の平均細孔径に等しい。内部層23bは、最表層23aの内側に形成される。内部層23bは、表層23のうち最表層23a以外の領域である。内部層23bには第1ゼオライト層31が入り込んでいない。換言すれば、内部層23bは、第1ゼオライト層31と接している。
 最表層23aと内部層23bの境界は、第1ゼオライト層31の内表面23Uによって規定される。
 (分離膜構造体の製造方法)
 分離膜構造体10の製造方法について説明する。
 まず、押出成形法、プレス成形法や鋳込み成形法などによって、所望の形状の基体21の成形体を形成する。次に、基体21の成形体を焼成(例えば、900℃~1450℃、1時間~100時間)して基体21を形成する。
 次に、所望粒径の多孔質材料と有機バインダとpH調整剤と界面活性剤などを調製した中間層用スラリーを基体21の表面に成膜することによって中間層22の成形体を形成する。次に、中間層22の成形体を焼成(例えば、900℃~1450℃、1時間~100時間)して中間層22を形成する。
 次に、所望粒径の多孔質材料と有機バインダとpH調整剤と界面活性剤などを調製した表層用スラリーを中間層22の表面に成膜することによって表層23の成形体を形成する。次に、表層23の成形体を焼成(例えば、900℃~1450℃、1時間~100時間)して表層23を形成する。この際、昇温速度を30℃/h以下とすることによって、表層23のD50を0.050μm以上0.150μm以下に制御するとともに、表層23のD90を0.050μm以上0.180μm以下に制御することができる。
 次に、ゼオライトを含む核(以下、「核」という。)を準備する。核は、ゼオライト結晶、又は、ゼオライト結晶とアモルファスシリカとの混合物であることが好ましい。核の平均粒子径は、0.100μm以上0.250μm以下とすることができる。核の平均粒子径とは、レーザ回折散乱法により測定される核の体積累積粒度分布における50%径(いわゆる、D50)である。核の製造方法は特に限定されない。
 次に、核、シリカ及び構造規定剤としての1-アダマンタンアミンを含有する原料溶液(原料ゾル)を調製する。原料溶液は、水、エチレンジアミンなどを含有していてもよい。
 次に、原料溶液を130~180℃で4時間以上加熱(水熱合成)することによって種結晶を生成する。この際、昇温速度を50℃/h以下とすることによって、レーザ回折散乱法により測定される種結晶の体積累積粒度分布における10%径(いわゆる、D10)を0.050μm以上0.150μm以下に制御することができる。その結果、表層23のD90に対する種結晶のD10の比が0.5以上に調整される。
 次に、種結晶が1質量%以下になるように溶媒(水、エタノール、又はエタノール水溶液など)に希釈した種付け用スラリーを調整する。
 次に、流下法やディップ法などによって種付け用スラリーを表層23の表面に塗布する。この際、表層23のD50が0.050μm以上0.150μm以下であり、かつ、表層23のD90に対する種結晶のD10の比が0.5以上であるため、表層23の内部への種結晶の拡散が抑制される。
 次に、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源及び水などを含む原料溶液が入った耐圧容器に種結晶が付着した多孔質支持体20を浸漬させる。原料溶液には有機テンプレートが含まれていてもよい。
 次に、耐圧容器を乾燥器に入れ、100~200℃で1~240時間ほど加熱(水熱合成)することによって、種結晶を膜状に結晶成長させる。これによって、第1ゼオライト層31が最表層23aと複合的に形成されるとともに、第2ゼオライト層32が最表層23a上に形成される。この際、上述の通り、表層23の内部への種結晶の拡散が抑制されているため、表層23の内部で結晶成長する第1ゼオライト層31の平均厚みは5.4μm以下に抑えられる。
 次に、ゼオライト膜30が形成された多孔質支持体20を洗浄して、80~100℃で乾燥する。
 その後、原料溶液中に有機テンプレートが含まれていた場合には、多孔質支持体20を電気炉に入れて大気中で加熱(400~800℃、1~200時間)することによって有機テンプレートを燃焼除去する。
 (他の実施形態)
 上記実施形態において、多孔質支持体20は、基体21と中間層22と表層23を有することとしたが、中間層22と表層23の一方又は両方を有していなくてもよい。多孔質支持体20が表層23を有していない場合、最表層23aは中間層22に形成される。多孔質支持体20が中間層22と表層23を有していない場合、最表層23aは基体21に形成される。
 上記実施形態において、分離膜構造体10は、多孔質支持体20とゼオライト膜30を備えることとしたが、ゼオライト膜30上に積層された機能膜又は保護膜をさらに備えていてもよい。このような膜としては、ゼオライト膜、炭素膜及びシリカ膜などの無機膜やポリイミド膜やシリコーン膜などの有機膜を用いることができる。
 以下において本発明の実施例について説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではない。
 (サンプルNo.1~20の作製)
 まず、平均粒径50μmのアルミナ粒子100質量部に対して無機結合材20質量部を添加し、さらに、水、分散剤及び増粘剤を加えて混練することによって坏土を作製した。
 次に、坏土を押出成形することによって、55本の貫通孔を有する基体の成形体を形成した。続いて、基体の成形体を焼成(1250℃、1時間)した。
 次に、アルミナとチタニアにPVAを添加して調製した中間層用スラリーをろ過法によって貫通孔の内表面に堆積させて中間層の成形体を形成した。続いて、中間層の成形体を焼成(1250℃、2時間)して中間層を形成した。
 次に、アルミナにPVAを添加して調製した表層用スラリーをろ過法によって中間層の表面に堆積させて表層の成形体を形成した。続いて、表層の成形体を焼成(1250℃、1時間)して表層を形成した。この際、サンプルNo.1~18では昇温速度を25℃/hとし、サンプルNo.19,20では昇温速度を50℃/hとした。
 以上により、モノリス状の多孔質支持体(直径30mm×長さ160mm)が完成した。
 続いて、以下のようにしてDDR型ゼオライト種結晶を準備した。
 まず、フッ素樹脂製の密閉容器にエチレンジアミン(和光純薬工業社製)を入れた後、1-アダマンタンアミン(シグマアルドリッチ社製)を加えて、超音波によって1-アダマンタンアミンを完全に溶解した。
 次に、別の容器に核としてのDDR型ゼオライト結晶を含む水溶液を入れ、シリカを含むシリカゾル(スノーテックスS、日産化学工業社製)を加えて攪拌することによって核を含むシリカゾルを得た。核としてのDDR型ゼオライト結晶は、国際公開第2010/090049A1に記載の方法に基づいて、平均粒子径2.9μのDDR型ゼオライト粉末をアシザワ・ファインテック社製ビーズミル(商品名:スターミル)によって粉砕した後に遠心分離で粗粒子を取り除いた。
 次に、1-アダマンタンアミンを溶解したエチレンジアミンの入った密閉容器に核を含むシリカゾルを素早く加え、密閉容器内の混合液が透明になるまで攪拌することによって原料溶液(原料ゾル)を得た。
 次に、フッ素樹脂製内筒付きステンレス製耐圧容器に原料溶液を入れて150℃で15時間加熱(水熱合成)した。この際、サンプルNo.1~18では昇温速度を50℃/hとし、サンプルNo.19,20では昇温速度を25℃/hとした。
 次に、pH10程度となるまで水洗することによって、ゼオライト種結晶が分散した分散液を得た。
 次に、種結晶分散液を超音波にさらした後、種結晶分散液をエタノール中に滴下して攪拌することによって種結晶の濃度が0.075質量%の種付け用スラリーを作製した。
 次に、縦置きした多孔質支持体の上方から種付け用スラリーを注いで、種付け用スラリーを多孔質支持体に形成された55本のセルに流し込んだ。
 次に、セルに風速2~7m/秒で空気を室温にて10分間流すことによって、セルの壁面に塗布された種付け用スラリーを乾燥させた。
 次に、フッ素樹脂製容器にエチレンジアミン(和光純薬工業社製)を入れた後に1-アダマンタンアミン(シグマアルドリッチ社製)を加えて完全に溶解させた。
 次に、別の容器にシリカを含むシリカゾル(スノーテックスS、日産化学工業社製)とイオン交換水を入れて軽く攪拌することによってシリカ分散液を調製した。
 次に、1-アダマンタンアミンを溶解させたエチレンジアミン溶液をシリカ分散液に加えて攪拌することによって膜形成用原料溶液を調製した。
 次に、フッ素樹脂製内筒付きステンレス製耐圧容器内に種結晶が付着した多孔質支持体を配置した。
 次に、膜形成用原料溶液を容器に入れて125℃で20時間加熱(水熱合成)することによって、1-アダマンタンアミンを含有するゼオライト膜を多孔質支持体のセル壁面に形成した。
 次に、容器から多孔質支持体を取り出して水で洗浄した。
 次に、DDR型ゼオライト膜を450℃で100時間加熱することによって、1-アダマンタンアミンを燃焼除去した。その後、DDR型ゼオライト膜の洗浄と乾燥(80℃)を行った。
 (種結晶の細孔径測定)
 各サンプルの種結晶分散液を約20mlの水に滴下して測定可能な濃度にした後、超音波で5分以上分散させることによって種結晶の懸濁液を得た。
 次に、動的光散乱式粒子径分布測定装置(日機装社製、商品名:Nanotrac)を用いて、レーザ回折散乱法により種結晶の体積累積細孔径分布を得た。
 そして、表1に示すように、体積累積細孔径分布から種結晶の10%径(D10)を算出した。
 (多孔質支持体の細孔径測定)
 各サンプルを弱アルカリ溶液(NaOH溶液)に浸してDDR型ゼオライト膜を溶解することによって、多孔質支持体の表層を露出させた。
 次に、細孔径分布測定装置(Automated Perm Porometer、多孔質材料自動細孔径分布測定システム、Porous Materials, Inc.社製、試薬フロリナート(表面張力16dynes/cm、3M社製))を用いて、ASTM F316-86に基づいて多孔質支持体の体積累積細孔径分布を得た。
 そして、表1に示すように、体積累積細孔径分布から多孔質支持体の50%径(D50)と90%径(D90)を算出した。
 なお、上述の細孔径分布測定装置を用いると、多孔質支持体のうち最も細孔径の小さい層の体積累積細孔径分布が得られる。そのため、表1に示されるD50及びD90は表層の最表層に係る値である。
 (DDR型ゼオライト膜の厚み測定)
 各サンプルの断面をSEMで観察することによって、DDR型ゼオライト膜のうち表層の内部に入り込んだ層(第1ゼオライト層)の平均厚みと、DDR型ゼオライト膜のうち表層の外部に出ている層(第2ゼオライト層)の平均厚みを測定した。SEM画像上で均等に離れた3箇所で測定した厚みの算術平均値を平均厚みとした。
 (水フラックスの測定)
 まず、エタノールを50体積%含む水溶液(以下、「供給液」という。)を50度に加熱した。
 次に、真空ポンプによって基材本体の外周面の外側を減圧しながら、各サンプルのDDR型ゼオライト膜の内側(すなわち、セル)内に供給液を循環させた。
 次に、各サンプルから回収された透過液の質量を電子天秤にて秤量した。また、各サンプルの外周面から回収された透過液の組成をガスクロマトグラフィにて解析した。
 そして、表1に示すように、透過液の解析結果から水フラックス(kg/mh)を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 
 表1に示すように、第1ゼオライト層の平均厚みが5.4μm以下とし、かつ、多孔質支持体のD50を0.050μm以上0.150μm以下としたサンプルNo.1~18では、水フラックスを0.21kg/mh以上にすることができた。これは、多孔質支持体の最表層のD90に対する種結晶のD10の比を0.5以上とし、かつ、最表層のD90を0.050μm以上0.180μm以下とすることによって、多孔質支持体の内部への種結晶の拡散を抑制することができたためである。なお、サンプルNo.1~18において、第1ゼオライト層の平均厚みの第2ゼオライト層の平均厚みに対する比は、2.0以下であった。
 また、第1ゼオライト層の平均厚みを2.5μm以下としたサンプルNo.1~3,6~12では、水フラックスを1.04kg/mh以上にすることができた。これは、最表層のD90に対する種結晶のD10の比を1.3以上とし、かつ、最表層のD90を0.080以下とすることによって、多孔質支持体の内部への種結晶の拡散をより抑制することができたためである。
 さらに、第1ゼオライト層の平均厚みを0.8μm以下としたサンプルNo.1,2,6では、水フラックスを1.60kg/mh以上にすることができた。これは、最表層のD90に対する種結晶のD10の比を1.9以上とし、かつ、最表層のD90を0.074以下とすることによって、多孔質支持体の内部への種結晶の拡散をさらに抑制することができたためである。
 本発明によれば、ゼオライト膜構造体の透過性を向上させることができるため、分離膜分野において有用である。
10   分離膜構造体
20   多孔質支持体
21   基体
22   中間層
23   表層
23a  最表層
23b  内部層
30   ゼオライト膜
31   第1ゼオライト層
32   第2ゼオライト層

Claims (5)

  1.  多孔質支持体と、
     ゼオライト膜と、
    を備え、
     前記ゼオライト膜は、前記多孔質支持体の表面の内側に配置される第1ゼオライト層と、前記多孔質支持体の前記表面の外側に配置され、前記第1ゼオライト層と一体形成される第2ゼオライト層とを有し、
     前記多孔質支持体は、前記第1ゼオライト層が配置される最表層を有し、
     前記第1ゼオライト層の平均厚みは、5.4μm以下であり、
     細孔径分布測定装置により測定される前記最表層の体積累積細孔径分布における50%径は、0.050μm以上0.150μm以下である、
    ゼオライト膜構造体。
  2.  前記第1ゼオライト層の平均厚みの前記第2ゼオライト層の平均厚みに対する比は、2.0以下である、
    請求項1に記載のゼオライト膜構造体。
  3.  前記第1ゼオライト層の平均厚みは、2.5μm以下である、
    請求項1又は2に記載のゼオライト膜構造体。
  4.  ゼオライト種結晶を含有する種付け用スラリーを多孔質支持体の表面に塗布する工程と、
     前記ゼオライト種結晶を結晶成長させる工程と、
    を備え、
     細孔径分布測定装置により測定される前記多孔質支持体の体積累積細孔径分布における90%径に対する、レーザ回折散乱法により測定される前記ゼオライト種結晶の体積累積粒度分布における10%径の比は、0.5以上であり、
     細孔径分布測定装置により測定される前記多孔質支持体の体積累積細孔径分布における90%径は、0.050μm以上0.180μm以下である、
    ゼオライト膜構造体の製造方法。
  5.  前記多孔質支持体の前記90%径に対する前記ゼオライト種結晶の前記10%径の比は、1.3以上であり、
     前記多孔質支持体の前記90%径は、0.080μm以下である、
    請求項4に記載のゼオライト膜構造体の製造方法。
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