JPWO2018179959A1 - 分離膜構造体の検査方法、分離膜モジュールの製造方法、及び分離膜構造体の製造方法 - Google Patents

分離膜構造体の検査方法、分離膜モジュールの製造方法、及び分離膜構造体の製造方法 Download PDF

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Abstract

分離膜モジュール(10)の検査方法は、多孔質基材(11)と分離膜(12)とを有する分離膜構造体(1)をケーシング(2)内に封止する組み付け工程と、分離膜(12)の第1主面側に満たされた検査用液体を加圧する検査工程とを備える。検査用液体は、分離膜構造体(1)を検査用液体に60分間浸漬した後に150℃で24時間乾燥した場合、分離膜のHe透過速度低下率が10%以下になる特性を有する。

Description

本発明は、分離膜構造体の検査方法、分離膜モジュールの製造方法、及び分離膜構造体の製造方法に関する。
従来、多孔質基材と分離膜とを有する分離膜構造体について、出荷前に強度検査が行われたり、或いは、モジュールへの組み付け後にリーク検査が行われたりしている。
例えば、特許文献1では、モジュールに組み付けられた分離膜の第1主面側にろ過液を充填した状態で第2主面側に加圧気体を供給することによって、分離膜の欠陥や分離膜のシール不良などを検査する手法が提案されている。しかしながら、特許文献1の手法では、検査のために多量の加圧気体が必要であるため高コストになるという問題がある。
そこで、特許文献2では、分離膜の第1主面側に充填された液体を加圧することによって、分離膜の強度を検査する手法が提案されている。
特開平5−157654号公報 特開2014−46286号公報
しかしながら、特許文献2の手法では、分離膜の細孔に液体が吸着すると、検査後に分離膜の透過性能が低下してしまうという問題がある。
本発明は、上述の状況に鑑みてなされたものであり、分離膜の透過性能の低下を抑制可能な分離膜構造体の検査方法、分離膜モジュールの製造方法、及び分離膜構造体の製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る分離膜構造体の検査方法は、多孔質基材と分離膜とを有する分離膜構造体をケーシング内に封止する組み付け工程と、分離膜の第1主面側に満たされた検査用液体を加圧する検査工程とを備える。検査用液体は、分離膜構造体を検査用液体に60分間浸漬した後に150℃で24時間乾燥した場合、分離膜のHe透過速度低下率が10%以下になる特性を有する。
本発明によれば、分離膜の透過性能の低下を抑制可能な分離膜構造体の検査方法、分離膜モジュールの製造方法、及び分離膜構造体の製造方法を提供することができる。
分離膜モジュールの断面図 検査用液体の選定方法を説明するための模式図 検査用液体の選定方法を説明するための模式図 検査用液体の選定方法を説明するための模式図 検査用液体を用いた検査方法を説明するための模式図 検査用液体を用いた検査方法を説明するための模式図
(分離膜モジュール10)
図1は、分離膜モジュール10の断面図である。分離膜モジュール10は、分離膜構造体1とケーシング2とを備える。
1.分離膜構造体1
分離膜構造体1は、モノリス型である。モノリス型とは、長手方向に貫通した複数のセルを有する形状を意味し、ハニカムを含む概念である。分離膜構造体1は、ケーシング2の内部に配置される。
分離膜構造体1は、多孔質基材11と分離膜12とを有する。
多孔質基材11は、長手方向に延びる円柱状に形成される。多孔質基材11の内部には、複数のセルCLが形成されている。各セルCLは、長手方向に延びる。各セルCLは、多孔質基材11の両端面に連なる。
多孔質基材11は、骨材と結合材によって構成される。骨材としては、アルミナ、炭化珪素、チタニア、ムライト、セルベン、及びコージェライトなどを用いることができる。結合材としては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の少なくとも一方と、ケイ素(Si)と、アルミニウム(Al)とを含むガラス材料を用いることができる。基材11における結合材の含有率は、20体積%以上40体積%以下とすることができ、25体積%以上35体積%以下が好ましい。
多孔質基材11の気孔率は特に制限されないが、例えば25%〜50%とすることができる。多孔質基材11の気孔率は、水銀圧入法によって測定できる。多孔質基材11の平均細孔径は特に制限されないが、0.1μm〜50μmとすることができる。多孔質基材11の平均細孔径は、細孔径の大きさに応じて、水銀圧入法、ASTM F316に記載のエアフロー法、パームポロメトリー法によって測定できる。
分離膜12は、各セルCLの内表面に形成される。分離膜12は、筒状に形成される。分離膜12は、分離対象である混合流体に含まれる透過成分を透過させる。混合流体は、分離膜12の内表面側に供給され、透過成分は、分離膜12の外表面側から流出する。分離膜12の内表面は、セルCLの内表面でもある。分離膜12の外表面は、多孔質基材11との接続面である。本実施形態において、分離膜12の内表面は、「第1主面」の一例であり、分離膜12の外表面は、「第2主面」の一例である。
なお、分離対象である混合流体は、混合液体であってもよいし、混合気体であってもよいが、本実施形態では特に混合液体が分離対象として想定されている。
分離膜12としては、ゼオライト膜(例えば、特開2004−66188号公報参照)、シリカ膜(例えば、国際公開第2008/050812号パンフレット参照)、炭素膜(例えば、特開2003−286018号公報参照)、有機無機ハイブリッド膜(例えば、特開2013−203618号公報)、セラミック膜(例えば、特開2008−246304号公報参照)などが挙げられる。
分離膜12の平均細孔径は、要求される濾過性能及び分離性能に基づいて適宜決定されればよいが、例えば0.0003μm〜1.0μmとすることができる。なお、本願の検査方法は、平均細孔径10nm以下の分離膜において特に有用であり、平均細孔径1nm以下の分離膜において更に有用である。分離膜12の平均細孔径は、細孔径の大きさに応じて、適宜測定方法を選択することができる。
例えば、分離膜12がゼオライト膜の場合、ゼオライトの細孔を形成する骨格が酸素n員環以下の環からなる場合の酸素n員環細孔の短径と長径の算術平均を平均細孔径とする。酸素n員環とは、細孔を形成する骨格を構成する酸素原子の数がn個であって、Si原子、Al原子、P原子の少なくとも1種を含み、各酸素原子がSi原子、Al原子またはP原子などと結合して環状構造をなす部分のことである。ゼオライトが、nが等しい複数の酸素n員環細孔を有する場合には、全ての酸素n員環細孔の短径と長径の算術平均をゼオライトの平均細孔径とする。このように、ゼオライト膜の平均細孔径は骨格構造によって一義的に決定され、The International Zeolite Association (IZA) “Database of Zeolite Structures” [online]、インターネット<URL:http://www.iza-structure.org/databases/>に開示されている値から求めることができる。
例えば、分離膜12がシリカ膜、炭素膜、有機無機ハイブリッド膜の場合、平均細孔径は以下の式(1)に基づいて求めることができる。式(1)において、dは平均細孔径、fは正規化されたクヌーセン型パーミアンス、dk,iはクヌーセン拡散試験に用いられる分子の直径、dk,Heはヘリウム分子の直径である。
f=(1−dk,i/d/(1−dk,He/d ・・・(1)
クヌーセン拡散試験や平均細孔径の求め方の詳細は、Hye Ryeon Leeほか4名、“Evaluation and fabrication of pore−size−tuned silica membranes with tetraethoxydimethyl disiloxane for gas separation”、AIChE Journal volume57、Issue10、2755−2765、October 2011に開示されている。
例えば、分離膜12がセラミック膜の場合、平均細孔径は、細孔径の大きさに応じて、パームポロメトリー法やナノパームポロメトリー法によって求めることができる。
2.ケーシング2
ケーシング2は、本体部20、供給路21、第1回収路22及び第2回収路23を有する。
本体部20は、分離膜構造体1を収容する。本体部20は、金属部材(例えば、ステンレスなど)によって構成することができる。分離膜構造体1の両端部は、Oリング3を介して、本体部20の内部に封止される。ただし、Oリング3周辺、すなわち分離膜構造体1とケーシング2との接合部分からリークが生じる場合があるため、検査用液体を用いてリーク検査を行う必要がある。検査用液体を用いたリーク検査については後述する。
供給路21は、分離対象である混合流体を本体部20に供給するための配管である。供給路21は、金属部材(例えば、ステンレスなど)によって構成することができる。
第1回収路22は、分離膜構造体1のセルCLを通過した、残りの混合流体を外部に排出するための配管である。第1回収路22は、金属部材(例えば、ステンレスなど)によって構成することができる。
第2回収路23は、分離膜構造体1の分離膜12を透過した透過成分を外部に排出するための配管である。第2回収路23は、金属部材(例えば、ステンレスなど)によって構成することができる。
(分離膜モジュール10の作製方法)
分離膜モジュール10の作製方法の一例について説明する。
1.多孔質基材11の作製
まず、骨材と結合材にメチルセルロースなどの有機バインダと分散材と水を加えて混練することによって坏土を調製する。
次に、真空押出成形機を用いた押出成形法、プレス成型法、又は鋳込み成型法により、調製した坏土を用いてモノリス型成形体を形成する。
次に、モノリス型成形体を焼成(例えば、500℃〜1500℃、0.5時間〜80時間)することによって、複数のセルCLを有する多孔質基材11を形成する。
2.分離膜12の作製
多孔質基材11の各セルCLの内表面に分離膜12を形成する(分離膜形成工程)。分離膜12の形成には、分離膜12の膜種に適した手法を用いればよい。
3.分離膜12の組み付け
分離膜構造体1の両端部にOリング3を装着して、ケーシング2の内部に封止する(組み付け工程)。
4.分離膜モジュール10の検査
次に、分離膜モジュール10の検査を実施する。以下においては、検査用液体を用いた検査の一例として、Oリング3周辺、すなわち分離膜構造体1とケーシング2との接合部分からのリーク検査について説明する。
(1)検査用液体の選定
まず、リーク検査に用いられる検査用液体の選定手法について説明する。
リーク検査に用いられる検査用液体は、分離膜12の細孔に吸着しにくい特性を有していることが好ましい。そのため、検査用液体が分離膜12の細孔に吸着しにくいものであることを、以下の手法で予め確認しておく必要がある。
まず、分離膜構造体1の重量を計測する。
次に、分離膜構造体1にOリング3を取り付けてケーシング2内に封止する。
次に、図2に示すように、供給路21から0.1MPaGのHe(ヘリウム)ガスを本体部20内に充填する。この際、第1回収路22を封止弁で封止してもよい。
次に、分離膜12を透過して第2回収路23から流出するHeガスの透過流量に基づいて、Heガス透過速度[nmol/msPa]を測定する。
次に、分離膜構造体1をケーシング2から取り出して、図3に示すように、分離膜構造体1を検査用液体に60分間浸漬する。ただし、浸漬は検査用液体が分離膜12に接していればよく、セル内のみに検査用液体を充填する方法でもよい。
次に、図4に示すように、分離膜構造体1を検査用液体から引き揚げて、分離膜構造体1を150℃で24時間、乾燥気体中で乾燥する。乾燥気体は、水分を含んでいないことが好ましい。具体的に、乾燥気体における含水率は、500ppm以下が好ましく、100ppm以下がより好ましい。
次に、乾燥させた分離膜構造体1の重量を再計測して、検査用液体への浸漬前の重量に対する増加分が1%以下であることを確認する。
次に、分離膜構造体1にOリング3を取り付けてケーシング2内に再度封止する。
次に、図2に示すように、供給路21から0.1MPaGのHeガスを本体部20内に再充填する。
次に、分離膜12を透過して第2回収路23から流出するHeガスの透過流量に基づいて、Heガス透過速度[nmol/msPa]を再測定する。
次に、検査用液体への浸漬後に測定したHeガス透過速度を検査用液体への浸漬前に測定したHeガス透過速度で除すことによって、検査用液体への浸漬後におけるHeガス透過速度低下率を算出する。
そして、算出したHeガス透過速度低下率が10%以下であれば、この検査用液体は、分離膜12の細孔に吸着しにくいため、リーク検査に好適であると判断できる。一方、算出したHeガス透過速度低下率が10%より大きい場合には、他の検査用液体についてHeガス透過速度低下率を算出し、再度、10%以下か否かを判定すればよい。
以上のようにHeガス透過速度低下率が10%以下になる特性を有する検査用液体は、分離膜12の種類や組成などによって変わる。そのため、検査用液体は、実際に使用される分離膜12を用いて選定すればよく、その種類は特に制限されるものではないが、例えば、フッ素系液体、シリコーン系液体から選択される少なくとも1種を用いることができる。フッ素系液体としては、例えばフロリナート(登録商標)、ノベック(登録商標)、ガルデン(登録商標)などが挙げられる。シリコーン系液体としては、例えばKF96L(信越化学製)などが挙げられる。なお、検査用液体としては、入手容易性と取り扱い性を考慮すると、フロリナートが特に好ましい。
また、25℃における検査用液体の蒸気圧は、1.0×10Pa以上であることが好ましい。これにより、後述するリーク検査後において、検査用液体を速やかに蒸発させることができる。
また、分離膜12として、SiO/Alが200以下のゼオライト膜を用いる場合には、検査用液体における含水率は20%未満であることが好ましい。SiO/Alが200以下のゼオライト膜では、水分が細孔に吸着して透過速度が低減しやすいため、検査用液体の含水率を20%未満にすることによって、透過速度が低減することを特に抑制できる。検査用液体における含水率は、10%以下がより好ましく、5%以下が特に好ましい。
また、検査用液体は、不燃性であることが好ましい。これにより、検査用液体を用いた検査を安全に実施することができる。
また、検査用液体は、分離膜構造体1及びケーシング2に対して不活性であることが好ましい。これにより、分離膜12が検査用液体と反応して劣化したり、ケーシング2が検査用液体と反応して腐蝕したりすることを抑制できる。
(2)リーク検査
次に、上述の手法で選定された検査用液体を用いたリーク検査について説明する。
上述の組み付け工程において、分離膜構造体1はケーシング2内に封止されている。
まず、図5に示すように、第1回収路22を封止弁24で封止した後、供給路21から検査用液体を本体部20内に充填する。これによって、検査用液体が分離膜12の第1主面側に満たされた状態になる。
次に、図6に示すように、供給路21側から加圧ブースターポンプ30を用いて、分離膜12の第1主面側に満たされた検査用液体を所定圧力(例えば、1MPa〜20MPa)で加圧する。
次に、ブースターポンプ30を止めて、検査用液体の圧力をリアルタイムで計測しながら、そのまま所定時間(例えば、1分〜60分)保持する。
そして、計測開始時の圧力と所定時間経過後の圧力との差を算出して、その差に基づいてリークの程度を判定する(検査工程)。
次に、第1回収路22の封止弁24を開放して、ケーシング2内から検査用液体を抜き取る。
次に、分離膜12を乾燥気体中で乾燥する(乾燥工程)。この際、Oリングの耐熱限界温度以下で分離膜12を乾燥することが好ましい。このようにOリングの耐熱限界温度以下で分離膜12を乾燥するのであれば、分離膜構造体1をケーシング2から取り出さずに乾燥できるため簡便である。また、乾燥気体は、水分を含んでいないことが好ましい。具体的に、乾燥気体における含水率は、500ppm以下が好ましく、100ppm以下がより好ましい。
以上により、分離膜モジュール10が完成する。
(変形例)
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
上記実施形態では、本発明に係る検査用液体を用いた検査方法を、分離膜モジュール10のリーク検査に適用した場合について説明したが、それ以外の様々な検査に適用することができる。例えば、本発明に係る検査用液体を用いた検査方法は、分離膜構造体1の検査に適用することができる。分離膜構造体1の検査とは、例えば、特許文献2(特開2014−46286号公報)に開示された強度試験などである。このように、本発明に係る検査用液体を用いた検査方法を分離膜構造体1の検査に適用した場合には、分離膜形成工程の後、検査工程が終了した時点で分離膜構造体1が完成したとみなすことができる。
上記実施形態において、分離モジュール10の検査工程では、検査用液体の圧力変化に基づいてリーク検査することとしたが、これに限られるものではない。例えば、検査用液体を加圧する加圧ブースター30からの吐出量、圧縮量及び加圧終了までの経過時間の少なくとも1つに基づいてリーク検査することができる。或いは、分離膜12の第2主面側にガスを満たし、そのガスを加圧した際における検査用液体中の発泡状況に基づいてリーク検査することもできる。
上記実施形態では、分離膜12が多孔質基材11上に直接形成されることとしたが、分離膜12と多孔質基材11との間には1層ないし複数層の中間層が配置されていてもよい。中間層は、多孔質基材11と同様の材料によって構成することができる。中間層の細孔径は、多孔質基材11の細孔径よりも小さいことが好ましい。
(サンプルNo.1)
1.分離膜構造体の作製
まず、平均粒径12μmのアルミナ粒子(骨材)70体積%に対して無機結合材30体積%を添加し、更に有機バインダ等の成形助剤や造孔剤を添加して乾式混合した後、水、界面活性剤を加えて混合し混練することにより坏土を調製した。無機結合材としては、平均粒径が1〜5μmであるタルク、カオリン、長石、粘土等をSiO(70質量%)、Al(16質量%)、アルカリ土類金属およびアルカリ金属(11質量%)の混合物を用いた。
次に、坏土を押出成形して、モノリス型の多孔質基材の成形体を作成した。そして、多孔質基材の成形体を焼成(1250℃、1時間)して、多数のセルを有するアルミナ基体を得た。
次に、アルミナ粉末にPVA(有機バインダ)を添加してスラリーを調製し、スラリーを用いた濾過法によってアルミナ基体のセルの内表面上に中間層の成形体を形成した。続いて、中間層の成形体を焼成(1250℃、1時間)することによって中間層を形成した。
次に、アルミナ基体の両端面をガラスでシールした。以上により、モノリス型の多孔質基材が完成した。
次に、国際公開番号WO2011105511に記載の方法に基づき、多孔質基材の各セルの内表面の中間層上にDDR型ゼオライト膜(細孔径:0.40nm)を分離膜として形成した。以上により、DDR型ゼオライト膜と、DDR型ゼオライト膜が形成された多孔質基材とによって構成されるサンプルNo.1に係る分離膜構造体が完成した。
2.検査用液体としてのフロリナートについての検討
まず、分離膜構造体の重量を計測した。
次に、図2に示したように、分離膜構造体をケーシング内にセットし、0.1MPaGのHeガスを供給路から供給しながら、第2回収路から流出するHeガスの透過流量に基づいて、Heガス透過速度を測定した。検査用液体への浸漬前のHeガス透過速度は、149[nmol/msPa]であった。
次に、分離膜構造体をケーシングから取り出して、図3に示したように、分離膜構造体を検査用液体であるフロリナート中に60分間浸漬した。
次に、図4に示したように、分離膜構造体をフロリナートから引き揚げて、分離膜構造体1を150℃で24時間、乾燥気体中で乾燥した。乾燥気体にはHeを用いた。
次に、乾燥させた分離膜構造体の重量を再計測して、フロリナートへの浸漬前の重量に対する増加分が1%以下であることを確認した。
次に、分離膜構造体にOリングを取り付けてケーシング2内に再度封止し、図2に示したように、0.1MPaGのHeガスを供給路から供給しながら、第2回収路から流出するHeガスの透過流量に基づいて、Heガス透過速度を再測定した。フロリナートへの浸漬前のHeガス透過速度は、149[nmol/msPa]であった。
そして、フロリナートへの浸漬後に測定したHeガス透過速度をフロリナートへの浸漬前に測定したHeガス透過速度で除すことによって、フロリナートへの浸漬後におけるHeガス透過速度低下率を算出した。
サンプルNo.1の分離膜構造体におけるHeガス透過速度低下率は、0%であったため、フロリナートはDDRゼオライト膜のリーク検査に好適であることが確認された。
3.リーク検査
まず、分離膜構造体をケーシング内に封止して、あらかじめCOとCHの混合ガスをDDR型ゼオライト膜に供給して、ガス分離性能を測定した。分離係数(α)は120[nmol/msPa]であり、COの透過速度は744[nmol/msPa]であった。
次に、図5に示したように、供給路からフロリナートを充填した。そして、図6に示したように、供給路側から加圧ブースターポンプを用いて、分離膜の第1主面側に満たされたフロリナートを10MPaで加圧した。
次に、ブースターポンプを止めて、フロリナートの圧力をリアルタイムで計測しながら、そのまま10分保持し、計測開始時の圧力と10分経過後の圧力との差を基づいてリークの程度を判定した。
次に、ケーシング2からフロリナートを抜き取って、供給路側から乾燥気体であるHeを供給することによって、DDR型ゼオライト膜を150℃で乾燥した。
4.ガス分離試験
上記リーク検査後、リーク検査前に行ったガス分離試験と同様に、COとCHの混合ガスをDDR型ゼオライト膜に供給して、ガス分離性能を再測定した。
Heガス透過速度低下率が0%であるフロリナートを用いてリーク検査を行ったサンプルNo.1において、DDR型ゼオライト膜の分離係数(α)は120[nmol/msPa]であり、CO2透過速度は、744[nmol/msPa]であった。すなわち、リーク検査後における分離係数及び透過速度の低下率は、0%であった。
(サンプルNo.2)
サンプルNo.1と同じ分離膜構造体を作製し、検査用液体としてガルデン(登録商標)を用いてHeガス透過速度低下率を測定したところ、−2%であったため、ガルデンはDDRゼオライト膜のリーク検査に好適であることが確認された。
また、サンプルNo.1と同様に、ガルデンを用いたリーク検査の前後でガス分離試験を行ったところ、リーク検査後における透過速度の低下率は0%と良好であった。
(サンプルNo.3)
サンプルNo.1と同じ分離膜構造体を作製し、検査用液体としてKF96L(信越化学製)を用いてHeガス透過速度低下率を測定したところ、−8%であったため、KF96LはDDRゼオライト膜のリーク検査に好適であることが確認された。
また、サンプルNo.1と同様に、KF96Lを用いたリーク検査の前後でガス分離試験を行ったところ、リーク検査後における透過速度の低下率は、−5%と良好であった。
(サンプルNo.4)
分離膜としてAEI型ゼオライト膜(細孔径:0.38nm)を形成した以外は、サンプルNo.1と同じ手法で分離膜構造体を作製した。AEI型ゼオライト膜は、国際公開番号WO2014/157324に記載の方法に基づき作製した。
そして、サンプルNo.1と同じ手法でHeガス透過速度低下率を測定したところ、0%であったため、フロリナートはAEI型ゼオライト膜のリーク検査に好適であることが確認された。
また、サンプルNo.1と同様に、フロリナートを用いたリーク検査の前後でガス分離試験を行ったところ、リーク検査後における透過速度の低下率は、0%と良好であった。
(サンプルNo.5)
分離膜としてシリカ膜(細孔径:1.0nm)を形成した以外は、サンプルNo.1と同じ手法で分離膜構造体を作製した。シリカ膜は、国際公開番号WO2011118252に記載の方法に基づき作製した。
そして、サンプルNo.1と同じ手法でHeガス透過速度低下率を測定したところ、0%であったため、フロリナートはシリカ膜のリーク検査に好適であることが確認された。
また、サンプルNo.1と同様に、フロリナートを用いたリーク検査の前後でガス分離試験を行ったところ、リーク検査後における透過速度の低下率は、0%と良好であった。
(サンプルNo.6)
分離膜として炭素膜(細孔径:0.3nm)を形成した以外は、サンプルNo.1と同じ手法で分離膜構造体を作製した。炭素膜は、国際公開番号WO2013145863に記載の方法に基づき作製した。
そして、サンプルNo.1と同じ手法でHeガス透過速度低下率を測定したところ、0%であったため、フロリナートは炭素膜のリーク検査に好適であることが確認された。
また、サンプルNo.1と同様に、フロリナートを用いたリーク検査の前後でガス分離試験を行ったところ、リーク検査後における透過速度の低下率は、0%と良好であった。
(サンプルNo.7)
サンプルNo.1と同じ分離膜構造体を作製し、検査用液体としてイオン交換水を用いてHeガス透過速度低下率を測定したところ、−28%であったため、イオン交換水はDDRゼオライト膜のリーク検査に好適ではないことが確認された。
また、サンプルNo.1と同様の手法で、イオン交換水を用いたリーク検査の前後でガス分離試験を行ったところ、リーク検査後における透過速度の低下率は−31%と過大であった。
Figure 2018179959
表1に示すように、分離膜構造体を60分間浸漬した後に150℃で24時間乾燥した場合の分離膜のHeガス透過速度低下率が10%以下になる特性を有する検査用液体を用いてリーク試験を実施したサンプルNo.1〜6では、リーク検査後に透過速度が低下することを抑制できた。これは、各分離膜に適した検査用液体が選定されているため、リーク検査中に検査用液体が分離膜の細孔に吸着することを抑制できたためである。
一方、サンプルNo.7では、リーク検査中に検査用液体が分離膜の細孔に吸着したため、リーク検査後に透過速度が大幅に低下してしまった。
10 分離膜モジュール
1 分離膜構造体
11 多孔質基材
12 分離膜
2 ケーシング
21 供給路
22 第1回収路
23 第2回収路
CL セル

Claims (11)

  1. 多孔質基材と分離膜とを有する分離膜構造体の検査方法であって、
    前記分離膜の第1主面側に満たされた検査用液体を加圧する検査工程を備え、
    前記検査用液体は、前記分離膜構造体を前記検査用液体に60分間浸漬した後に150℃で24時間乾燥した場合、前記分離膜のHeガス透過速度低下率が10%以下になる特性を有する、
    分離膜構造体の検査方法。
  2. 前記検査工程では、前記検査用液体の圧力変化に基づいてリーク検査する、
    請求項1に記載の分離膜構造体の検査方法。
  3. 前記検査工程では、前記検査用液体を加圧ブースターで加圧し、前記加圧ブースターの吐出量、圧縮量及び加圧終了までの経過時間の少なくとも1つに基づいてリーク検査する、
    請求項1に記載の分離膜構造体の検査方法。
  4. 前記検査工程では、前記分離膜の第2主面側に満たされたガスを加圧した際における前記検査用液体中の発泡状況に基づいてリーク検査する、
    請求項1に記載の分離膜構造体の検査方法。
  5. 25℃における前記検査用液体の蒸気圧は、1.0×10Pa以上である、
    請求項1乃至4のいずれかに記載の分離膜構造体の検査方法。
  6. 前記検査用液体は、フッ素系液体である、
    請求項1乃至5のいずれかに記載の分離膜構造体の検査方法。
  7. 前記検査工程後に、前記分離膜をOリングの耐熱限界温度以下で乾燥させる乾燥工程を備える、
    請求項1乃至6のいずれかに記載の分離膜構造体の検査方法。
  8. 前記分離膜は、SiO/Alが200以下のゼオライト膜である、
    請求項1乃至7のいずれかに記載の分離膜構造体の検査方法。
  9. 前記検査用液体における含水率は、20%未満である、
    請求項8に記載の分離膜構造体の検査方法。
  10. 多孔質基材と分離膜とを有する分離膜構造体をケーシング内に封止する組み付け工程と、
    前記分離膜の第1主面側に満たされた検査用液体を加圧する検査工程と、
    を備え、
    前記検査用液体は、前記分離膜構造体を前記検査用液体に60分間浸漬した後に150℃で24時間乾燥した場合、前記分離膜のHe透過速度低下率が10%以下になる特性を有する、
    分離膜モジュールの製造方法。
  11. 多孔質基材の表面に分離膜を形成する分離膜形成工程と、
    前記分離膜の第1主面側に満たされた検査用液体を加圧する検査工程と、
    を備え、
    前記検査用液体は、前記分離膜構造体を前記検査用液体に60分間浸漬した後に150℃で24時間乾燥した場合、前記分離膜のHe透過速度低下率が10%以下になる特性を有する、
    分離膜構造体の製造方法。
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