WO2015072297A1 - ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法 - Google Patents

ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法 Download PDF

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澁谷　崇
圭輔 花島
脩 本間
鈴木　克巳
清久 中村
暢彦 竹下
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    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping

Definitions

  • the present invention relates to a cover glass for a pen input device and a manufacturing method thereof.
  • the pen input device has a feature that an input pen can be used to perform an input operation as if a character, a figure, and the like are drawn on paper.
  • Such a pen input device is configured by arranging a cover member such as glass or resin on the front surface of a display device such as a liquid crystal display.
  • a cover member such as glass or resin
  • Various input operations can be performed intuitively by bringing the input pen into contact with and moving the cover member.
  • Patent Document 1 describes using a resin sheet having an antiglare layer on the surface as a cover member of a pen input device. By using such a cover member, it is disclosed that the writing feeling ("writing taste") at the time of pen input is enhanced and the fingerprint attached to the surface is less noticeable.
  • an antiglare layer is disposed on the surface of the resin sheet in order to enhance the writing feeling ("writing taste") of the input pen.
  • This invention is made
  • a cover glass for a pen input device The haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2,
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k in the region approximated by a straight line is 0.14 or more and 0.50 or less, and the standard deviation ⁇ (N) of the dynamic friction force F k (N) is 0.03 or less
  • the moving member has a pen tip made of a polyacetal resin having a Rockwell hardness of M90, and the pen tip is a pen having a radius of curvature of 700 ⁇ m.
  • a cover glass for a pen input device The haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2, The surface of the cover glass, when moving the movable member in one direction, when the dynamic friction force and F k (N), the standard deviation of the animal frictional force F k (N) which was sigma (N), sigma A cover glass having a value Y of / Fk of 0.05 or less is provided.
  • a cover glass for an input device into which information is input by a user The haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2,
  • the dynamic friction force and F k (N) when the standard deviation of the animal frictional force F k (N) which was sigma (N), the surface of the cover glass, synthetic leather subjected to a load of 50 gf (0.49 N) Is moved in one direction at a speed of 1 mm / second at room temperature, the dynamic friction coefficient ⁇ k in the region where the relationship between the dynamic friction force F k (N) and time is approximated by a straight line is 0.9 or more,
  • a cover glass having a value Y of ⁇ / Fk of 0.05 or less is provided.
  • a method for manufacturing a cover glass for a pen input device (A) contacting the surface of the glass substrate with a processing gas containing hydrogen fluoride (HF) gas, After the step (a), The haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2,
  • the dynamic friction force and F k (N) when the standard deviation of the animal frictional force F k (N) which was ⁇ (N), ⁇ / F k value Y is provided.
  • a method of manufacturing a cover glass for a pen input device (A) contacting the surface of the glass substrate with a processing gas containing hydrogen fluoride (HF) gas, After the step (a),
  • HF hydrogen fluoride
  • the haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2
  • a pen having a Rockace hardness of M90 and made of polyacetal resin, the pen tip having a radius of curvature of 700 ⁇ m is unidirectional at a speed of 10 mm / sec at a load of 150 gf (1.47 N) at room temperature.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k in a region where the relationship between the dynamic friction force F k (N) and time is approximated by a straight line is 0.14 to 0.50, and the dynamic friction force F k (N)
  • a cover glass manufacturing method is provided in which the glass substrate having a standard deviation ⁇ (N) of 0.03 or less is obtained.
  • the present invention it is possible to provide a cover glass for a high-definition pen input device as well as excellent writing feeling ("writing taste"). Moreover, in this invention, the manufacturing method of the cover glass for such a pen input device can be provided.
  • FIG. 3 is a diagram showing an example of a cross-sectional photograph of a cover glass according to Example 1-1.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a surface photograph of a cover glass according to Example 1-1.
  • 6 is a diagram showing an example of a cross-sectional photograph of a cover glass according to Example 3-1.
  • FIG. 6 is a diagram showing an example of a surface photograph of a cover glass according to Example 3-1.
  • Example 6 is a diagram showing an example of a surface photograph of a cover glass according to Example 1-2. It is the figure which showed an example of the surface photograph of the cover glass concerning Example 3-2. It is the figure which showed the evaluation test result of the friction behavior in the cover glass which concerns on Example 1-3 and Example 3-3 compared with the result in the glass substrate which implemented only the chemical strengthening process and the AFP coating process.
  • an antiglare layer is disposed on the surface of the resin sheet in order to enhance the writing feeling ("writing taste”) of the input pen.
  • the installation of such an antiglare layer is a factor that reduces the transparency of the cover member due to its antiglare property.
  • the haze value is 6% or more. With such a cover member having a relatively high haze value, it seems difficult to meet the needs for future high-definition pen input devices.
  • a cover glass for a pen input device The haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2, The surface of the cover glass, when moving the moving member (synthetic leather) in one direction, the dynamic friction force and F k (N), the standard deviation of the animal frictional force F k (N) sigma (N) and Then, a cover glass having a value Y of ⁇ / Fk of 0.05 or less is provided.
  • the dynamic friction force F k (N) and time The dynamic friction coefficient ⁇ k in a region where the relationship is approximated by a straight line may be 0.9 or more.
  • the haze value is an index representing the opacity of the cover glass.
  • the haze value is measured by a method based on JIS K7361-1.
  • the cover glass has a low haze value of less than 1% because it does not have an antiglare structure. That is, the cover glass according to an embodiment of the present invention is characterized by high transparency.
  • the cover glass according to the embodiment of the present invention can sufficiently meet the needs for the high definition of the pen input device due to the high definition of the display device in the future.
  • the Martens hardness is an index representing the softness of the surface of the cover glass, and is measured by a method based on ISO 14577 in the present application.
  • the Martens hardness contributes to “dents” when operating the input pen. That is, if the Martens hardness is too small, the scratch resistance is lowered. On the other hand, if the Martens hardness is too large, the cover glass will have less “dents” and will feel harder, which may lead to a sense of incongruity when operating the input pen, and may be tiring.
  • the cover glass has a Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2.
  • an appropriate “dent” is obtained sensuously, and the writing feeling is improved.
  • the cover glass by one Example of this invention has the Martens hardness of 2000 N / mm ⁇ 2 > or more, the accompanying effect that durability of a cover glass improves is also acquired.
  • the Martens hardness is preferably in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2, and more preferably in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 3500N / mm 2.
  • the dynamic friction force F when a synthetic leather subjected to a load of 50 gf (0.49 N) is moved in one direction at a speed of 1 mm / second on the surface of the cover glass, the dynamic friction force F
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k in a region where the relationship between k (N) and time is approximated by a straight line is 0.9 or more, and the standard deviation of the dynamic friction force F k (N) in the region is ⁇ (N)
  • ⁇ / F k value Y is 0.05 or less.
  • the Y value is preferably 0.05 or less, and more preferably 0.04 or less.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k is preferably in the range of 0.9 to 4.0, more preferably in the range of 0.9 to 3.5. If the Y value is 0.05 or more, the resistance applied to the input pen becomes irregular, so that the input pen gets caught (chattered) and the writing quality is impaired. On the other hand, when the Y value is 0.04 or less, the writing quality is further improved.
  • the lower limit of the Y value is not particularly limited, but the smaller the Y value, the smaller the feeling of catching and the “writing quality” becomes smoother.
  • the Y value is 0.05 or less, the sounding of sound during the operation of the input pen is significantly suppressed, and the user's discomfort can be eliminated or reduced.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k When the dynamic friction coefficient ⁇ k is 0.9 or less, the writing feel is light, and when it is 4.0 or more, it becomes heavy.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k value can be appropriately set depending on the application, but may be within the above range in the present embodiment.
  • the cover glass according to one embodiment of the present invention can significantly improve the writing feeling ("writing taste").
  • FIG. 1 schematically shows the relationship between the time t (or the moving distance) and the frictional force F when moving at a constant speed on a surface (hereinafter referred to as “moving surface”) on which an object has received a constant load P. Show.
  • FIG. 2 shows the behavior obtained when the moving surface is very smooth.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k is small, the Y value tends to increase and it becomes easy to feel a catch. Further, the dynamic friction coefficient ⁇ k is reduced, and accordingly, the dynamic friction force F k is also reduced.
  • FIG. 3 shows the behavior obtained when the moving surface has severe irregularities.
  • the variation of the dynamic friction coefficient ⁇ k during the movement of the object increases, and accordingly, the variation of the dynamic friction force F k also increases.
  • the Y value increases and it becomes easier to feel the catch.
  • the Y value becomes small, the dynamic friction force F k and the dynamic friction coefficient ⁇ k show moderately large values, and the fluctuations of the dynamic friction force F k and the dynamic friction coefficient ⁇ k are significantly suppressed.
  • the dynamic friction force F k in the area (see t 1 after the time of FIGS. 1-4) the time relationship between the dynamic friction force F k (N) is approximated by a straight line (N ),
  • the value Y of ⁇ / F k is 0.05 or less.
  • the surface of the cover glass, between the dynamic friction force F k (N) and the time t are adjusted so that the relationship as shown in FIG. 4 is obtained, thereby , Can improve the writing feeling ("writing taste").
  • region where the said writing taste is obtained should just be provided in at least one part of a cover glass.
  • the surface of the cover glass may be composed of a plurality of areas having values Y different sigma / F k from each other. Thereby, the predetermined position on the cover glass can be recognized by the difference in writing feeling.
  • the cover glass has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) in the range of 0.2 nm to 20 nm, and a surface roughness Rz (maximum height roughness) of 3.5 nm to A range of 200 nm is preferable.
  • the surface roughness Ra is, for example, in the range of 1 nm to 15 nm.
  • the surface roughness Rz is, for example, in the range of 20 nm to 150 nm.
  • surface roughness Ra and surface roughness Rz shall mean the value obtained based on JISB0601 (2001).
  • the contact angle with respect to a water droplet is 100 degrees or more on the surface of a cover glass.
  • the contact angle with respect to the water droplet may be 110 ° or more, for example.
  • the second cover glass The haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2,
  • the relationship between dynamic friction force F k (N) and time was The dynamic friction coefficient ⁇ k in the region approximated by a straight line is 0.14 or more and 0.50 or less, and the standard deviation ⁇ (N) of the dynamic friction force F k (N) is 0.03 or less
  • the moving member has a pen tip made of a polyacetal resin having a Rockwell height of M90, and the pen tip has a radius of curvature of 700 ⁇ m.
  • region where the said writing taste is obtained should just be provided in at least one part of a cover glass.
  • the surface of the cover glass may be composed of a plurality of regions having different dynamic friction coefficient numbers ⁇ k and standard deviations ⁇ of dynamic friction forces. Thereby, the predetermined position on the cover glass can be recognized by the difference in writing feeling.
  • composition of cover glass is not particularly limited.
  • the cover glass may be made of, for example, soda lime silicate glass, aluminosilicate glass, alkali-free glass, or the like.
  • the glass composition of the cover glass is 61-77% SiO 2 , 1-18% Al 2 O 3 , 8-18% Na 2 O, 0-6% K 2 O, 0- Contains 15% MgO, 0-8% B 2 O 3 , 0-9% CaO, 0-1% SrO, 0-1% BaO, and 0-4 mol% ZrO 2 .
  • SiO 2 is a component constituting the skeleton of glass and essential. If it is less than 61 mol%, cracks are likely to occur when the glass surface is scratched, the weather resistance is lowered, the specific gravity is increased, or the liquid phase temperature is increased and the glass becomes unstable. , Preferably it is 63 mol% or more. If SiO 2 exceeds 77 mol%, the temperature T2 at which the viscosity becomes 10 2 dPa ⁇ s or the temperature T4 at which the viscosity becomes 10 4 dPa ⁇ s rises, and it becomes difficult to melt or mold the glass, or the weather resistance decreases. Since it is easy, it is preferably 70 mol% or less.
  • Al 2 O 3 is a component that improves ion exchange performance and weather resistance and is essential. If it is less than 1 mol%, the desired surface compressive stress or compressive stress layer thickness is difficult to obtain by ion exchange, or the weather resistance tends to decrease, and so on, and therefore it is preferably 5 mol% or more. If it exceeds 18 mol%, T2 or T4 rises and it becomes difficult to melt or mold the glass, or the liquidus temperature becomes high and it tends to devitrify.
  • Na 2 O is a component that reduces variations in surface compressive stress during ion exchange, forms a surface compressive stress layer by ion exchange, or improves the meltability of glass, and is essential. If it is less than 8 mol%, it becomes difficult to form a desired surface compressive stress layer by ion exchange, or T2 or T4 rises and it becomes difficult to melt or mold the glass. . If Na 2 O exceeds 18 mol%, the weather resistance is lowered, or cracks are likely to occur from the indentation.
  • K 2 O is not essential, but is a component that increases the ion exchange rate, and may be contained up to 6 mol%. If it exceeds 6 mol%, the variation in surface compressive stress during ion exchange increases, cracks tend to occur from indentations, or weather resistance decreases.
  • MgO is a component that improves meltability and may be contained. If MgO exceeds 15 mol%, the variation in surface compressive stress at the time of ion exchange increases, the liquidus temperature rises and devitrification easily occurs, or the ion exchange rate decreases, so it is preferably 12 mol% or less.
  • B 2 O 3 is preferably at most 8 mol% for improving the meltability. If it exceeds 8 mol%, it is difficult to obtain a homogeneous glass, and it may be difficult to mold the glass.
  • CaO may be contained up to 9 mol% in order to improve the meltability at high temperature or to prevent devitrification, but the variation in surface compressive stress during ion exchange increases, or the ion exchange rate or cracks. There is a risk that the resistance to occurrence will be reduced.
  • SrO may be contained in an amount of 1 mol% or less in order to improve the meltability at high temperature or to prevent devitrification.
  • the variation in surface compressive stress during ion exchange increases, or the ion exchange rate. Or there exists a possibility that the tolerance with respect to crack generation may fall.
  • BaO may be contained in an amount of 1 mol% or less in order to improve the meltability at high temperature or to prevent devitrification.
  • the variation in surface compressive stress during ion exchange increases, or the ion exchange rate or There is a risk that resistance to cracking may be reduced.
  • ZrO 2 is not an essential component, but may be contained up to 4 mol% in order to increase the surface compressive stress or improve the weather resistance. If it exceeds 4 mol%, the variation in surface compressive stress at the time of ion exchange increases, or the resistance to cracking decreases.
  • the dimensions and shape of the cover glass are not particularly limited.
  • the cover glass may have a thickness of 0.3 mm to 2.0 mm, for example.
  • the shape of the cover glass may be a substantially circular shape, a substantially oval shape, or the like in addition to a substantially rectangular shape.
  • the cover glass may be flat or slightly curved.
  • the cover glass may be chemically strengthened. Thereby, the intensity
  • FIG. 5 schematically shows a cross section of an example of a pen input device including a first cover glass according to an embodiment of the present invention.
  • the pen input device 100 includes a cover glass 110, a display device 120, and a digitizer circuit 130.
  • the cover glass 110 is a first cover glass according to an embodiment of the present invention having the above-described characteristics, and is disposed on the front surface of the display device 120.
  • the display device 120 is not particularly limited as long as it can display an image.
  • the display device 120 may be configured by, for example, a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescent (EL) display, a cathode ray tube (CRT) display, or the like.
  • LCD liquid crystal display
  • PDP plasma display
  • EL electroluminescent
  • CRT cathode ray tube
  • the digitizer circuit 130 is disposed on the rear surface of the display device 120, and includes an electrode 140, a spacer 150, a grid 160, and a detection circuit 170.
  • the input pen 180 is used when performing an input operation on such a pen input device 100.
  • the input pen 180 has a shape simulating a writing instrument such as a pencil or a ballpoint pen, and an input operation can be performed by bringing the input pen 180 into contact with the surface of the cover glass 110 and performing a drawing operation.
  • the input pen 180 may have a circuit in the input pen 180 itself.
  • the input pen 180 and the pen input device 100 constitute an input system using electromagnetic induction.
  • the cover glass 110 has a feature that it does not have an anti-glare structure and is highly transparent. For this reason, even when a high-definition device is used for the display device 120, the problem that the high-definition property of the display device 120 is impaired by the cover glass 110 is significantly suppressed.
  • the pen input device 100 it is possible to perform high-definition drawing and more delicate input operations than in the past.
  • the pen input device 100 is a tablet image drawing device, a more delicate and rich expression can be performed.
  • the cover glass 110 as described above, Martens hardness is adjusted in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2. For this reason, during operation with the input pen 180, a moderate “dent” is obtained on the cover glass 110 sensuously, and the writing feeling with the input pen 180 is improved.
  • the durability of the cover glass 110 is improved, and as a result, the pen input device 100 having excellent durability can be provided.
  • the input pen 180 when used with respect to the pen input device 100, the input pen 180 slips too much with respect to the cover glass 110, or on the contrary, the slippage becomes worse, and the light pen 180 moves easily. The problem of damage is less likely to occur.
  • the operability of the input pen 180 is improved, and a good writing quality can be realized.
  • the pen input device 100 shown in FIG. 5 is merely an example, and the cover glass according to the embodiment of the present invention can be applied to a pen input device having any structure.
  • the pen input device may be a tablet portable information terminal, an electronic notebook, an image drawing pen tablet, a tablet personal computer, or the like.
  • FIG. 6 shows a schematic flow of a first cover glass manufacturing method (hereinafter referred to as “first manufacturing method”) according to an embodiment of the present invention.
  • this first manufacturing method is: (A) a step of bringing a processing gas containing hydrogen fluoride (HF) gas into contact with the surface of the glass substrate (step S110); (B) a step of chemically strengthening the glass substrate (step S120); (C) coating the glass substrate with a fingerprint adhesion preventing material (step S130); Have
  • step S120 and step S130 are arbitrarily performed steps, and either one or both may be omitted.
  • Step S110 First, a glass substrate is prepared.
  • the type of glass substrate is not particularly limited.
  • the glass substrate may be soda lime silicate glass, aluminosilicate glass, or non-alkali glass.
  • the glass substrate needs to contain an alkali metal element.
  • a fluorine compound tends to remain in the vicinity of the surface of the glass substrate during the treatment with hydrogen fluoride (HF) gas.
  • Such a residual fluorine compound contributes to the improvement of the light transmittance of the glass substrate. That is, the refractive index (n 1 ) of the residual fluorine compound usually has a refractive index between the refractive index (n 2 ) of the glass substrate and the refractive index of air (n 0 ). For this reason, the light transmittance of a glass substrate improves by arrange
  • the glass substrate preferably has a high transmittance in the wavelength region of 350 nm to 800 nm, for example, a transmittance of 80% or more. Further, it is desirable that the glass substrate has sufficient insulation and high chemical and physical durability.
  • the manufacturing method of the glass substrate is not particularly limited.
  • the glass substrate may be manufactured by a float method, for example.
  • the thickness of the glass substrate is preferably 2 mm or less, and may be in the range of 0.3 mm to 1.5 mm, for example.
  • the thickness of the glass substrate is more preferably in the range of 0.5 mm to 1.1 mm.
  • the prepared glass substrate is exposed to a processing gas containing hydrogen fluoride (HF) gas, and “etching processing” of the glass substrate is performed.
  • HF hydrogen fluoride
  • etching process means a process of bringing a processing gas containing hydrogen fluoride into contact with the surface of the glass substrate regardless of the actual etching amount. Therefore, actually, even a process with a very small etching amount (for example, a process at a level at which unevenness on the order of 1 nm to 200 nm is formed) is included in the “etching process”.
  • This step is performed to form a treatment layer made of fine irregularities on the surface of the glass substrate, for example, on the order of 1 nm to 200 nm. Due to the presence of these fine irregularities, the glass substrate exhibits antireflection properties, and a highly transparent glass substrate can be obtained.
  • the temperature of the etching process is not particularly limited, but the etching process is usually performed in the range of 400 ° C. to 800 ° C.
  • the temperature of the etching treatment is preferably in the range of 500 ° C. to 700 ° C., and more preferably in the range of 550 ° C. to 650 ° C.
  • the processing gas may include a carrier gas and a dilution gas in addition to the hydrogen fluoride gas.
  • the carrier gas and the dilution gas are not limited to this, but, for example, nitrogen and / or argon are used. Moreover, you may add water.
  • the concentration of hydrogen fluoride gas in the processing gas is not particularly limited as long as the surface of the glass substrate is appropriately etched.
  • the concentration of hydrogen fluoride gas in the treatment gas is, for example, in the range of 0.1 vol% to 10 vol%, preferably in the range of 0.3 vol% to 5 vol%, and in the range of 0.5 vol% to 4 vol%. It is more preferable that At this time, the concentration (vol%) of the hydrogen fluoride gas in the processing gas is obtained from the fluorine gas flow rate / (fluorine gas flow rate + carrier gas flow rate + dilution gas flow rate).
  • the etching treatment of the glass substrate may be performed in a reaction vessel, but if necessary, such as when the glass substrate is large, the etching treatment of the glass substrate may be performed with the glass substrate being conveyed. In this case, the processing can be performed more quickly and efficiently than the processing in the reaction vessel.
  • the etching treatment is preferably performed under the condition that the glass substrate is not excessively etched. This is because, when an excessive etching process is performed on the glass substrate, the writing quality of the obtained cover glass is lowered.
  • etching strength is used as a relative index combining these conditions. I will use the term.
  • the “etching strength” is smaller than the condition having a “standard” value. Can be expressed. In this case, the degree of etching on the glass substrate is small compared to the conditions having “standard” values.
  • the “etching strength” is higher than the condition in which these have “standard” values. It can be expressed as large. In this case, the degree of etching of the glass substrate is greater than the conditions having “standard” values.
  • the “etching strength” is preferably small in the first manufacturing method.
  • FIG. 7 shows a configuration example of a processing apparatus used when performing an etching process on a glass substrate.
  • the processing apparatus shown in FIG. 7 can perform the etching process of a glass substrate in the state which conveyed the glass substrate.
  • the processing apparatus 300 includes an injector 310 and a transport unit 350.
  • the transport means 350 can transport the glass substrate 380 placed on the top in the horizontal direction (X direction) as indicated by an arrow F301.
  • the injector 310 is disposed above the conveying means 350 and the glass substrate 380.
  • the injector 310 has a plurality of slits 315, 320, and 325 that serve as flow paths for the processing gas. That is, the injector 310 is provided along the vertical direction (Z direction) so as to surround the first slit 315 provided in the central portion along the vertical direction (Z direction). A second slit 320 and a third slit 325 provided along the vertical direction (Z direction) so as to surround the second slit 320 are provided.
  • One end (upper part) of the first slit 315 is connected to a hydrogen fluoride gas source (not shown) and a carrier gas source (not shown), and the other end (lower part) of the first slit 315. ) Is oriented towards the glass substrate 380.
  • one end (upper part) of the second slit 320 is connected to a dilution gas source (not shown), and the other end (lower part) of the second slit 320 is oriented toward the glass substrate 380. Is done.
  • One end (upper part) of the third slit 325 is connected to an exhaust system (not shown), and the other end (lower part) of the third slit 325 is oriented toward the glass substrate 380.
  • an arrow from a hydrogen fluoride gas source (not shown) is passed through the first slit 315.
  • Hydrogen fluoride gas is supplied in the direction of F305.
  • a diluent gas such as nitrogen is supplied from a diluent gas source (not shown) through the second slit 320 in the direction of arrow F310. These gases are moved in the horizontal direction (X direction) along the arrow F315 by the exhaust system, and then discharged to the outside of the processing apparatus 300 through the third slit 325.
  • a carrier gas such as nitrogen may be simultaneously supplied to the first slit 315 in addition to the hydrogen fluoride gas.
  • the conveying means 350 is operated. Thereby, the glass substrate 380 moves in the direction of arrow F301.
  • the glass substrate 380 comes into contact with the processing gas (hydrogen fluoride gas + carrier gas + dilution gas) supplied from the first slit 315 and the second slit 320 when passing under the injector 310. Thereby, the surface of the glass substrate 380 is etched.
  • the processing gas hydrogen fluoride gas + carrier gas + dilution gas
  • processing gas supplied to the surface of the glass substrate 380 moves as indicated by an arrow F315 and is used for an etching process, and then moves as indicated by an arrow F320 to be connected to an exhaust system. It is discharged to the outside of the processing apparatus 300 via 325.
  • a processing apparatus 300 By using such a processing apparatus 300, it is possible to carry out surface etching with a processing gas while conveying a glass substrate. In this case, the processing efficiency can be improved as compared with a method of performing an etching process using a reaction vessel. In addition, when such a processing apparatus 300 is used, an etching process can be performed on a large glass substrate.
  • the supply speed of the processing gas to the glass substrate 380 is not particularly limited.
  • the supply speed of the processing gas may be, for example, in the range of 5 SLM to 1000 SLM.
  • SLM is an abbreviation for Standard Litter per Minute (flow rate in a standard state).
  • the passage time of the glass substrate 380 through the injector 310 (the time for passing the distance S in FIG. 7) is in the range of 1 second to 120 seconds, preferably in the range of 2 seconds to 60 seconds, and from 3 seconds to More preferably, it is in the range of 30 seconds.
  • the processing apparatus 300 it is possible to perform the etching process on the glass substrate in the transported state.
  • the processing apparatus 300 illustrated in FIG. 7 is merely an example, and the etching process of the glass substrate with a processing gas containing hydrogen fluoride gas may be performed using another apparatus.
  • the glass substrate 380 moves relative to the stationary injector 310.
  • the injector may be moved in the horizontal direction with respect to the stationary glass substrate.
  • both the glass substrate and the injector may be moved in directions opposite to each other.
  • the injector 310 has a total of three slits 315, 320, and 325.
  • the number of slits is not particularly limited.
  • the number of slits may be two.
  • one slit may be used for supplying a processing gas (mixed gas of carrier gas, hydrogen fluoride gas, and dilution gas), and another slit may be used for exhaust.
  • one or more slits may be provided between the slit 320 and the exhaust slit 325, and an etching gas, a carrier gas, and a dilution gas may be supplied.
  • the second slit 320 of the injector 310 is disposed so as to surround the first slit 315, and the third slit 325 includes the first slit 315 and the second slit 320. Is provided so as to surround.
  • the first slit, the second slit, and the third slit may be arranged in a line along the horizontal direction (X direction). In this case, the processing gas moves along the surface of the glass substrate along one direction, and then is exhausted through the third slit.
  • a plurality of injectors 310 may be arranged on the conveying means 350 along the horizontal direction (X direction).
  • a layer mainly composed of silicon oxide may be laminated on the same surface as the etched surface by another apparatus or the like. By laminating the layer, the chemical durability of the etched surface can be improved.
  • At least one surface of the glass substrate is etched.
  • Step S120 Next, if necessary, a chemical strengthening process is performed on the etched glass substrate.
  • “chemical strengthening treatment (method)” means that a glass substrate is immersed in a molten salt containing an alkali metal, and an alkali metal (ion) having a small atomic diameter present on the outermost surface of the glass substrate is dissolved in the molten salt. Is a generic term for technologies that replace alkali metals (ions) with large atomic diameters.
  • an alkali metal (ion) having a larger atomic diameter than the original atoms before the treatment is disposed on the surface of the treated glass substrate. For this reason, a compressive stress layer can be formed on the surface of the glass substrate, thereby improving the strength of the glass substrate.
  • the glass substrate contains sodium (Na)
  • this sodium is replaced with, for example, potassium (K) in the molten salt (for example, nitrate) during the chemical strengthening treatment.
  • the lithium is replaced with, for example, sodium (Na) and / or potassium (K) in a molten salt (for example, nitrate). Also good.
  • the conditions for the chemical strengthening treatment performed on the glass substrate are not particularly limited.
  • molten salt examples include alkali metal nitrates, alkali metal sulfates, and alkali metal chloride salts such as sodium nitrate, potassium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, sodium chloride, and potassium chloride. These molten salts may be used alone or in combination of two or more.
  • the treatment temperature (temperature of the molten salt) varies depending on the type of molten salt used, but may be in the range of 350 ° C. to 550 ° C., for example.
  • the chemical strengthening treatment may be performed, for example, by immersing the glass substrate in a molten potassium nitrate salt at 350 ° C. to 550 ° C. for about 2 minutes to 20 hours. From an economical and practical viewpoint, it is preferably carried out at 350 to 500 ° C. for 1 to 10 hours.
  • this step S120 is not an essential process.
  • the bending strength of the glass substrate can be increased by performing the chemical strengthening process on the glass substrate.
  • the shatter resistance of the cover glass against the contact of the input pen is improved.
  • strength of the whole cover glass improves.
  • Step S130 Next, if necessary, an anti-fingerprint material is coated on the etched surface of the glass substrate. This process is hereinafter referred to as “AFP coating process”.
  • the AFP coating process is carried out to prevent dirt such as fingerprints and oils and fats from adhering to the surface of the cover glass, and to easily remove such dirt.
  • the AFP coating treatment is carried out by treating the glass surface with a fluorine-based silane coupling agent containing a functional group that binds to the glass substrate and fluorine.
  • the fingerprint adhesion preventing material is formed by exchanging hydrogen of the terminal OH group of the glass substrate with a fluorine-based part. This exchange is carried out, for example, according to the following reaction:
  • R F represents C 1 -C 22 alkyl perfluorocarbon or C 1 -C 22 alkyl perfluoropolyether, preferably C 1 -C 10 alkyl perfluorocarbon, more preferably C 1 -C 10 alkyl perfluoropolyether.
  • Ether n is an integer in the range of 1 to 3
  • X is a hydrolyzable group that can be exchanged for the terminal OH group of the glass.
  • Preferred alkoxysilanes are, trimethoxysilane a RFSi (OMe) 3.
  • Additional perfluorocarbon moieties include (RF) 3 SiCl, RF-C (O) -Cl, RF-C (O) -NH 2 , and others having end groups exchangeable with glass hydroxyl (OH) groups Perfluorocarbon moiety.
  • perfluorocarbon refers to compounds having a hydrocarbon group as described herein, where substantially all C—H bonds are present. Is converted to a CF bond.
  • hydrolysis condensate may be prepared in advance with an acid or an alkali and then used.
  • the AFP coating treatment may be performed by a dry method or a wet method.
  • a fluorine-based silane coupling agent is formed on a glass substrate by a film formation process such as vapor deposition.
  • a substrate treatment may be performed on the glass substrate as necessary.
  • heat treatment and humidification treatment may be performed.
  • the glass substrate is dried to coat the fingerprint adhesion preventing material.
  • a substrate treatment may be performed on the glass substrate as necessary.
  • heat treatment and humidification treatment may be performed.
  • the surface of the cover glass is modified by the AFP coating process, and the wettability with respect to the liquid changes. For example, it is possible to obtain a surface having a contact angle with water droplets exceeding 100 °.
  • this step S130 is not an essential process.
  • AFP coating process by performing the AFP coating process on the glass substrate, it is possible to suppress the adhesion of dirt such as fingerprints to the surface of the cover glass, or to facilitate the removal of the dirt.
  • a desired region on the surface of the glass substrate can be partially AFP-coated by performing an AFP coating process after masking the glass substrate in advance. Thereby, the predetermined position on the cover glass can be recognized by the difference in writing feeling.
  • step S130 the synthetic leather having received the load of 50 gf (0.49 N) on the surface of the cover glass is moved in one direction at a speed of 1 mm / second at the room temperature.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k in a region where the relationship between the dynamic friction force F k (N) and time is approximated by a straight line is 0.9 or more, and the standard deviation of the dynamic friction force F k (N) in the region is ⁇
  • a surface having a feature that the value Y of ⁇ / F k is 0.05 or less can be obtained relatively easily.
  • the 2nd cover glass by one Example of this invention can be manufactured with the manufacturing method similar to the manufacturing method of the 1st cover glass as mentioned above.
  • the configuration of the cover glass for the pen input device according to the embodiment of the present invention and the manufacturing method thereof have been specifically described above.
  • the input means is not necessarily limited to a pen.
  • input means in recent years, many input devices capable of touch input with a finger in addition to input with a pen have been recognized.
  • the cover glass according to an embodiment of the present invention can also be applied as a cover glass for a device capable of inputting using such a finger.
  • the haze value is less than 1%, Martens hardness in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2,
  • the dynamic friction force and F k (N) when the standard deviation of the animal frictional force F k (N) which was sigma (N), the surface of the cover glass, synthetic leather subjected to a load of 50 gf (0.49 N) Is moved in one direction at a speed of 1 mm / second at room temperature, the dynamic friction coefficient ⁇ k in the region where the relationship between the dynamic friction force F k (N) and time is approximated by a straight line is 0.9 or more
  • the cover glass characterized in that the value Y of ⁇ / F k is 0.05 or less can significantly improve the writing feeling while suppressing the chatter feeling similarly to the pen even when a finger is used. .
  • Example 1-1 The glass substrate was etched by the following method to produce a cover glass. Moreover, the characteristic of the obtained cover glass was evaluated.
  • the glass substrate was etched with HF gas.
  • the processing apparatus 300 shown in FIG. 7 was used.
  • hydrogen fluoride gas and nitrogen gas were supplied to the first slit 315 and nitrogen gas was supplied to the second slit 320 so that the concentration of HF gas was 1.4 vol%.
  • the exhaust amount from the third slit 325 was twice the total supply gas amount.
  • the glass substrate was conveyed in a state heated to 580 ° C. with the first surface (surface to be etched) as the upper side (side closer to the injector 310: the processing surface).
  • the temperature of a glass substrate is the value measured, conveying the same kind of glass substrate which has arrange
  • the surface temperature of the glass substrate may be measured directly using a radiation thermometer.
  • Etching time (in FIG. 7, the time for the glass substrate to pass the distance S) was about 5 seconds.
  • the first surface of the glass substrate was etched.
  • the obtained glass substrate is referred to as “glass according to Example 1-1”.
  • Example 2-1, Example 3-1, and Example 4-1 Cover glasses according to Example 2-1, Example 3-1, and Example 4-1, were produced in the same manner as in Example 1-1. However, in these examples, the cover glass was manufactured by changing the concentration of HF gas during the etching process.
  • Example 2-1 the concentration of HF gas was set to 1.9 vol%.
  • Example 3-1 the concentration of HF gas was 2.4 vol%.
  • Example 4-1 the concentration of HF gas was 2.9 vol%.
  • the haze value was measured using a haze meter (HZ-2: Suga Test Machine) based on JIS K7361-1. A C light source was used as the light source.
  • Martens hardness The Martens hardness was measured according to ISO 14577 using (Picodenter HM500: Fisher). A Vickers indenter was used as the indenter.
  • the surface roughness Ra and Rz were measured based on JIS B0601 (2001) using a scanning probe microscope (SPI3800N: manufactured by SII Nano Technology). The measurement was carried out with the number of acquired data being 1024 ⁇ 1024 for a 2 ⁇ m square area of the cover glass.
  • Table 1 summarizes the etching conditions and measurement results of the cover glass according to each example.
  • Table 1 shows simultaneously the measurement results obtained on the glass substrate before the etching process.
  • Example 1-1 As shown in Table 1, from the measurement result of the haze value, in the cover glass according to Example 1-1, the haze value is less than 1%, whereas Example 2-1, Example 3-1, and Example 4- 1 shows that the haze value exceeds 1%. From this result, it was found that as the HF concentration during the etching process, that is, the “etching strength” increases, the haze value increases and the transparency of the cover glass decreases.
  • the HF concentration needs to be less than 1.9 vol% in order to obtain a haze value of 1% or less.
  • the cover glass according to Example 1-1 has a Martens hardness of 2850 N / mm 2 , whereas in Examples 2-1, 3-1 and 4-1. In such a cover glass, it is understood that the Martens hardness is about 1060 N / mm 2 at the maximum and is not so large. From this result, it was found that the Martens hardness is lowered and the hardness of the cover glass is lowered as the HF concentration in the etching process, that is, the “etching strength” is increased.
  • the surface roughness Ra is in the range of 0.2 nm to 20 nm, and the surface roughness Rz is in the range of 3.5 nm to 200 nm. I understood.
  • the surface roughness Ra exceeded 30 nm at a minimum, and the surface roughness Rz exceeded 220 nm at a minimum. .
  • the surface of the cover glass according to Example 3-1 has severe irregularities and is constituted by a large number of fine protrusions and holes distributed three-dimensionally.
  • the surface of the cover glass according to Example 1-1 has a relatively flat and smooth surface form although it includes a large number of fine holes. Therefore, it is expected that this difference in surface form is caused by the characteristic evaluation results between the cover glass according to Example 1-1 and the cover glasses according to Examples 2-1 to 4-1.
  • the cover glass according to Example 1-1 since the etching strength is relatively small and a relatively smooth surface is obtained, the surface roughness Ra and Rz are suppressed to be small. Further, for the same reason, it is considered that the Martens hardness is suppressed from lowering than that of the glass before the etching treatment, and the increase in haze value is suppressed, thereby increasing the transparency.
  • Example 5-1 The glass substrate was etched by the following method to produce a cover glass. Moreover, the characteristic of the obtained cover glass was evaluated.
  • the glass substrate was etched with HF gas.
  • the processing apparatus 300 shown in FIG. 7 was used.
  • hydrogen fluoride gas and nitrogen gas were supplied to the first slit 315, and nitrogen gas was supplied to the second slit 320, so that the concentration of HF gas was 1.2 vol%.
  • the exhaust amount from the third slit 325 was twice the total supply gas amount.
  • the glass substrate was conveyed in a state heated to 580 ° C. with the first surface (surface to be etched) as the upper side (side closer to the injector 310: the processing surface).
  • the temperature of a glass substrate is the value measured, conveying the same kind of glass substrate which has arrange
  • the surface temperature of the glass substrate may be measured directly using a radiation thermometer.
  • Etching time (in FIG. 7, the time for the glass substrate to pass the distance S) was about 5 seconds.
  • the first surface of the glass substrate was etched.
  • the obtained glass substrate is referred to as “glass according to Example 5-1”.
  • Example 6-1 A cover glass according to Example 6-1 was produced in the same manner as in Example 5-1. However, in Example 6-1, the concentration of HF gas was set to 0.5 vol%. Other etching process conditions are the same as in Example 5-1.
  • Table 2 below collectively shows the etching conditions and measurement results of the cover glass according to each example.
  • Table 2 shows simultaneously the measurement results obtained on the glass substrate before the etching process.
  • Example 1-2 A cover glass was produced by the following method. Moreover, the characteristic of the obtained cover glass was evaluated.
  • the cover glass was manufactured by performing an etching process on the glass substrate used in Example 1-1 and then performing a chemical strengthening process.
  • the obtained cover glass is referred to as a cover glass according to Example 1-2.
  • Etching conditions are the same as in the case of Example 1-1 described above. Moreover, the chemical strengthening process was implemented by immersing a glass substrate for 2 hours in 450 degreeC 100% potassium nitrate molten salt.
  • a compressive stress layer was formed on the surface of the glass substrate by the chemical strengthening treatment.
  • the surface compressive stress of the cover glass according to Example 1-2 was measured.
  • the surface compressive stress on the first surface was about 835 MPa.
  • the surface compressive stress on the second surface was about 835 MPa.
  • the thickness (depth) of the compressive stress layer on the surface of the cover glass after the chemical strengthening treatment was measured using the same apparatus.
  • the thickness of the compressive stress layer on the first surface and the second surface was both about 36 ⁇ m.
  • Example 2-2 Example 2-2, Example 3-2 and Example 4-2
  • Cover glasses according to Example 2-2, Example 3-2 and Example 4-2 were produced by the same method as in Example 1-2 described above. However, in these examples, the cover glass was manufactured by changing the concentration of HF gas during the etching process.
  • Example 2-2 the concentration of HF gas was set to 1.9 vol%.
  • Example 3-2 the concentration of HF gas was 2.4 vol%.
  • Example 4-2 the concentration of HF gas was set to 2.9 vol%.
  • Table 3 summarizes the etching conditions and measurement results of the cover glass according to each example.
  • Table 3 shows simultaneously the measurement results obtained on a glass substrate (thickness 1.1 mm) on which only the chemical strengthening process was performed without performing the etching process.
  • Example 3 As shown in Table 3, from the measurement results of the haze value, in the cover glasses according to Example 1-2 and Example 2-2, the haze value is less than 1%, whereas Example 3-2 and Example 4- In the cover glass according to 2, it can be seen that the haze value exceeds 2%. From this result, it was found that as the HF concentration during the etching process, that is, the “etching strength” increases, the haze value increases and the transparency of the cover glass decreases.
  • the HF concentration needs to be less than 2.4 vol%.
  • the Martens hardness is 2950 N / mm 2 in the cover glass according to Example 1-2, whereas in the examples 2-2, 3-2 and 4-2, In such a cover glass, it can be seen that the Martens hardness is about 1390 N / mm 2 at the maximum and is not so large. From this result, it was found that the Martens hardness is lowered and the hardness of the cover glass is lowered as the HF concentration in the etching process, that is, the “etching strength” is increased.
  • the cover glass according to Example 1-2 has a surface roughness Ra in the range of 0.2 nm to 20 nm and a surface roughness Rz in the range of 3.5 nm to 200 nm. I understood. In contrast, in the cover glasses according to Example 2-2, Example 3-2 and Example 4-2, it was found that the surface roughness Ra exceeded 25 nm at a minimum, and the surface roughness Rz exceeded 230 nm at a minimum. .
  • FIG. 12 shows a surface photograph of the cover glass according to Example 1-2.
  • FIG. 13 shows a surface photograph of the cover glass according to Example 3-2.
  • the surface of the cover glass according to Example 3-2 is formed with unevenness and a large number of fine protrusions and holes three-dimensionally distributed.
  • the surface of the cover glass according to Example 1-2 has a relatively flat and smooth surface form although it includes a large number of fine holes.
  • the cover glass according to Example 1-2 has a relatively low etching strength and a relatively smooth surface, the surface roughness Ra and Rz are suppressed to be small. Further, for the same reason, it is considered that the Martens hardness is suppressed from lowering than that of the glass before the etching treatment, and the increase in haze value is suppressed, thereby increasing the transparency.
  • Example 1-3 A cover glass was produced by the following method. Moreover, the characteristic of the obtained cover glass was evaluated.
  • the cover glass was manufactured by performing AFP coating on the surface of the cover glass obtained in Example 1-2.
  • the obtained cover glass is referred to as “cover glass according to Example 1-3”.
  • the AFP coating treatment was performed by depositing KY185 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) on the first surface of the cover glass according to Example 1-2 by vapor deposition.
  • Example 2-3, Example 3-3 and Example 4-3 Cover glasses according to Example 2-3, Example 3-3, and Example 4-3 were produced in the same manner as in Example 1-3 described above. However, in these examples, a cover glass was manufactured using a glass substrate different from that in Example 1-3 as the glass substrate after the chemical strengthening treatment used for the AFP coating treatment.
  • Example 2-3 the cover glass according to Example 2-3 was manufactured by performing AFP coating on the first surface of the cover glass obtained in Example 2-2.
  • Example 3-3 the cover glass according to Example 3-3 was manufactured by performing AFP coating on the first surface of the cover glass obtained in Example 3-2.
  • Example 4-3 the cover glass according to Example 4-3 was manufactured by performing the AFP coating process on the first surface of the cover glass obtained in Example 4-2.
  • Example 1-3 the conditions for the AFP coating treatment are the same as those in Example 1-3.
  • Example 5-3 A chemical strengthening treatment and an AFP coating treatment were performed using the cover glass according to Example 5-1 described above by the following method.
  • the obtained cover glass is referred to as “cover glass according to Example 5-3”.
  • the chemical strengthening treatment was performed by immersing the cover glass according to Example 5-1 for 1 hour in 100% potassium nitrate molten salt at 450 ° C. A compressive stress layer was formed on the surface of the cover glass by the chemical strengthening treatment.
  • the surface compressive stress on the first surface was measured by the method described above.
  • the surface compressive stress was about 760 MPa, and the thickness of the compressive stress layer was about 25 ⁇ m.
  • Example 1-3 The conditions for the AFP coating treatment are the same as in Example 1-3.
  • the contact angle was measured with a water drop 3 seconds after 1 ⁇ l of pure water was dropped on the surface of the cover glass.
  • a contact angle meter (CA-X: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used for the measurement.
  • a planar indenter with a load cell is placed on the first surface of each cover glass with a load of 50 gf (0.49 N).
  • the indenter is moved in the horizontal direction at a constant moving speed (1 mm / second).
  • the moving distance is 20 mm.
  • the dynamic friction force F k (N) and the dynamic friction coefficient ⁇ k generated during the movement of the indenter were measured using a surface property tester (Tripogear TYPE 38: manufactured by Shinto Kagaku Co.).
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k was calculated in a region (hereinafter referred to as “linear region”) in which a linear relationship is approximately established between the dynamic friction force F k (N) and the movement time t (seconds).
  • the Y value was calculated by dividing the standard deviation ⁇ (N) of the dynamic friction force F k (N) in the linear region by the dynamic friction force F k (N).
  • Table 4 summarizes the etching conditions and measurement results of the cover glass according to each example.
  • Table 4 shows simultaneously the measurement results obtained for a glass substrate (plate thickness: 1.1 mm) on which only the chemical strengthening process and the AFP coating process were performed without performing the etching process.
  • the HF concentration needs to be less than 1.9 vol% in order to obtain a haze value of 1% or less.
  • the cover glass of Examples 1-3, Martens hardness is 3300N / mm 2
  • the cover glass of Examples 5-3, Martens hardness at 3850N / mm 2 is there.
  • the Martens hardness is about 920 N / mm 2 at the maximum, which is not so high. From this result, it was found that the Martens hardness is lowered and the hardness of the cover glass is lowered as the HF concentration in the etching process, that is, the “etching strength” is increased.
  • the surface roughness Ra is in the range of 0.2 nm to 20 nm, and the surface roughness Rz is 3.5 nm to 200 nm. It was found to be in the range. In contrast, in the cover glasses according to Example 2-3, Example 3-3, and Example 4-3, it was found that the surface roughness Ra exceeded 24 nm at a minimum, and the surface roughness Rz exceeded 230 nm at a minimum. .
  • the surface of the cover glass according to Example 1-3 was the same as the cover glass according to Example 1-1 and Example 1-2.
  • the surface of the cover glass according to Example 3-3 was almost the same as the cover glass according to Examples 3-1 and 3-2. From this, it was found that the surface morphology hardly changed even when the AFP coating treatment was performed.
  • the contact angle was 100 ° or more in any cover glass.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k was about 0.869 (Example 3-3) at the maximum, and was found not to be very large.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k of the glass substrate after the AFP coating treatment was 0.105, which was found to be extremely small.
  • the Y value is at least about 0.065 (Example 3-3), which is not so small. It was. Incidentally, the Y value of the glass substrate after the AFP coating treatment was 0.115.
  • the HF concentration needs to be less than 1.9 vol% in order to obtain a dynamic friction coefficient ⁇ k of 0.9 or more and a Y value of 0.05 or less.
  • FIG. 14 also shows the evaluation test results of the friction behavior in the cover glasses according to Example 1-3 and Example 3-3.
  • the results obtained on a glass substrate (thickness: 1.1 mm) subjected to only the chemical strengthening process and the AFP coating process without performing the etching process are shown simultaneously.
  • the cover glass according to Example 3-3 has a relationship between the dynamic friction coefficient ⁇ k and the time t that is close to that shown in FIG. 3 described above, and therefore the writing quality of the input pen is expected to be inferior.
  • the relationship between the dynamic friction coefficient ⁇ k and the time t is close to that shown in FIG. 4, and it is expected that a good writing quality can be obtained.
  • the cover glasses according to Example 1-3 and Example 5-3 obtained an appropriate friction feeling during finger input. It was confirmed that good writing feeling was obtained. On the other hand, in the glass substrate subjected to only the chemical strengthening process and the AFP coating process, the finger slips too much, and in the cover glass according to Examples 2-3 to 4-3, a feeling of chatter occurred when the finger was input.
  • Example 5-4 Next, chemical strengthening treatment and AFP coating treatment were performed by the following method using the cover glass according to Example 5-1 described above.
  • the obtained cover glass is referred to as “cover glass according to Example 5-4”.
  • the chemical strengthening treatment was performed by immersing the cover glass according to Example 5-1 for 1 hour in 100% potassium nitrate molten salt at 450 ° C. A compressive stress layer was formed on the surface of the cover glass by the chemical strengthening treatment.
  • the surface compressive stress on the first surface was measured by the method described above.
  • the surface compressive stress was about 760 MPa, and the thickness of the compressive stress layer was about 25 ⁇ m.
  • the AFP coating treatment was carried out by depositing optool DSX (manufactured by Daikin) on the first surface of the cover glass by a vapor deposition method.
  • the amount of AFP coating applied was determined by analyzing the fluorine linear intensity (F-K ⁇ ) using a fluorescent X-ray analyzer. That is, since the AFP coating contains fluorine, the application amount of the AFP coating can be evaluated by evaluating the fluorine.
  • ZSX Primus II (manufactured by Rigaku Corporation: output: Rh 50 kV-72 mA) was used for the fluorescent X-ray measurement apparatus.
  • AFP coating adhesion amount W ⁇ (F-K ⁇ ray intensity of cover glass after AFP coating treatment) ⁇ (F-K ⁇ ray intensity of cover glass before AFP coating) ⁇ / (F-K ⁇ line intensity of standard sample-F-K ⁇ line intensity of cover glass before AFP coating)
  • aluminosilicate glass containing 2 wt% fluorine was used as a standard sample.
  • the AFP coating adhesion amount W was 0.8 in the cover glass subjected to the AFP coating treatment, that is, the cover glass according to Example 5-4.
  • Example 5-5, Example 5-6, and Example 5-7 Cover glasses according to Example 5-5, Example 5-6, and Example 5-7 were produced in the same manner as in Example 5-4 described above. However, in these examples, the cover glass was manufactured by changing the AFP coating adhesion amount W by the AFP coating treatment.
  • the AFP coating adhesion W 2.8
  • Other manufacturing conditions are the same as in Example 5-4.
  • the input pen used was a pen tip made of polyacetal resin (Rockwell hardness M90).
  • the radius of curvature of the nib is about 700 ⁇ m.
  • a planar indenter with a load cell is placed on the first surface of each cover glass with a load of 150 gf (1.47 N).
  • the input pen was vertically arranged on the surface (area 1 cm 2 ) that contacts the cover glass of the indenter.
  • the indenter that is, the input pen
  • the moving distance is 20 mm.
  • the dynamic friction force F k (N) and the dynamic friction coefficient ⁇ k generated during the movement of the indenter were measured using a surface property tester (Tripogear TYPE 38: manufactured by Shinto Kagaku Co.).
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k was calculated in a region (hereinafter referred to as “linear region”) in which a linear relationship is approximately established between the dynamic friction force F k (N) and the movement time t (seconds).
  • the haze value was less than 1%. Further, in the cover glass of each example, Martens hardness, were all in the range of 2000N / mm 2 ⁇ 4000N / mm 2.
  • the standard deviation ⁇ of the dynamic friction force F k (N) is 0.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k is as small as 0.13.
  • the dynamic friction coefficient ⁇ k is in the range of 0.14 to 0.50, and the dynamic friction force F k (N)
  • the standard deviation ⁇ is a value of 0.03 or less.
  • the writing quality of the cover glasses according to Examples 5-6 and 5-7 is caused by the influence of the standard deviation ⁇ of the dynamic friction coefficient ⁇ k and the dynamic friction force F k (N). That is, in the cover glasses according to Examples 5-6 and 5-7, the dynamic friction coefficient ⁇ k is relatively small, or the standard deviation ⁇ of the dynamic friction force F k (N) is relatively large. In contrast, in the cover glasses according to Examples 5-4, 5-5, and 6-4, the dynamic friction coefficient ⁇ k is within a predetermined range, and the standard deviation ⁇ of the dynamic friction force F k (N) is significant. As a result, it is considered that good writing quality was obtained.

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Abstract

　ペン入力装置用のカバーガラスであって、ヘイズ値が１％未満であり、マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、当該カバーガラスの表面において、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重を受けた移動部材を、室温で１０ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋは、０．１４以上０．５０以下であり、前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）は、０．０３以下であり、前記移動部材は、ロックウェル硬度がＭ９０のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が７００μｍの曲率半径を有するペンであることを特徴とするカバーガラス。

Description

ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法
　本発明は、ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法に関する。
　ペン入力装置は、入力ペンを用いて、紙上に文字および図形等を描写する感覚で入力操作を行うことができるという特徴を有し、タブレット型携帯情報端末、電子手帳、画像描画用ペンタブレット、およびタブレット型パーソナルコンピュータ等に、幅広く使用されている。
　このようなペン入力装置は、例えば液晶ディスプレイのようなディスプレイ装置の前面に、例えばガラスや樹脂のようなカバー部材を配置することにより構成される。このカバー部材に対して入力ペンを接触、移動させることにより、様々な入力操作を直感的に行うことができる。
　特許文献１には、ペン入力装置のカバー部材として、表面に防眩層を有する樹脂シートを使用することが記載されている。このようなカバー部材を使用することにより、ペン入力時の筆記感（「書き味」）が高まる上、表面に付着した指紋が目立ち難くなることが開示されている。
特開２００９－１５１４７６号公報
　前述の特許文献１に記載のペン入力装置用カバー部材では、入力ペンの筆記感（「書き味」）を高めるため、樹脂シートの表面に防眩層が配置される。
　しかしながら、このような防眩層は、そのアンチグレア特性のため、カバー部材の透明性を低下させる要因となる。例えば、特許文献１に記載のペン入力装置用カバー部材の場合、ヘイズ値は６％以上であり、比較的透明性が低いという問題がある。
　特に、最近はディスプレイ装置の高精細化が進んでおり、今後、ペン入力装置に対しても、高精細性に関するニーズが高まることが考えられる。従って、このような防眩層を有するカバー部材では、ペン入力装置の高精細化のニーズに応えることは難しくなることが予想される。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、筆記感（「書き味」）に優れるとともに、高精細なペン入力装置用のカバーガラスを提供することを目的とする。また、本発明では、そのようなペン入力装置用のカバーガラスの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスであって、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　当該カバーガラスの表面において、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重を受けた移動部材を、室温で１０ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋは、０．１４以上０．５０以下であり、前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）は、０．０３以下であり、
　前記移動部材は、ロックウェル硬度がＭ９０のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が７００μｍの曲率半径を有するペンであることを特徴とするカバーガラスが提供される。
　また、本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスであって、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　当該カバーガラスの表面において、移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であることを特徴とするカバーガラスが提供される。
　また、本発明では、使用者によって情報が入力される入力装置用のカバーガラスであって、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、当該カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であり、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であることを特徴とするカバーガラスが提供される。
　また、本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
　（ａ）ガラス基板の表面にフッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
　前記（ａ）の工程後に、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下である前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法が提供される。
　さらに、本発明では、ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
　（ａ）ガラス基板の表面にフッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
　前記（ａ）の工程後に、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　ロックウェル硬度がＭ９０のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が７００μｍの曲率半径を有するペンを、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重で、室温で１０ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋは、０．１４以上０．５０以下であり、前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）は、０．０３以下となる前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法が提供される。
　本発明では、筆記感（「書き味」）に優れるとともに、高精細なペン入力装置用のカバーガラスを提供することができる。また、本発明では、そのようなペン入力装置用のカバーガラスの製造方法を提供することができる。
一定荷重Ｐを受けた物体がある表面を一定の速度で移動する際の時間ｔと摩擦力Ｆ（動摩擦力）の関係を模式的に示した図である。 移動表面が第１の状態を有する場合の動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示した図である。 移動表面が第２の状態を有する場合の動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示した図である。 移動表面が第３の状態を有する場合の動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示した図である。 本発明の一実施例によるカバーガラスを備えたペン入力装置の一例の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施例によるカバーガラスの製造方法のフローを概略的に示した図である。 ガラス基板を搬送させた状態で、ガラス基板のエッチング処理を実施するための処理装置の一構成例を示した図である。 例１－１に係るカバーガラスの断面写真の一例を示した図である。 例１－１に係るカバーガラスの表面写真の一例を示した図である。 例３－１に係るカバーガラスの断面写真の一例を示した図である。 例３－１に係るカバーガラスの表面写真の一例を示した図である。 例１－２に係るカバーガラスの表面写真の一例を示した図である。 例３－２に係るカバーガラスの表面写真の一例を示した図である。 例１－３および例３－３に係るカバーガラスにおける摩擦挙動の評価試験結果を、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理のみを実施したガラス基板における結果と比較して示した図である。
　以下、本発明の一形態について詳しく説明する。
　（本発明の一実施例によるカバーガラス（「第１のカバーガラス」とも言う）について）
　前述のように、特許文献１に記載のペン入力装置用カバー部材では、入力ペンの筆記感（「書き味」）を高めるため、樹脂シートの表面に防眩層が配置される。
　しかしながら、このような防眩層の設置は、そのアンチグレア特性のため、カバー部材の透明性を低下させる要因となる。例えば、特許文献１に記載のペン入力装置用カバー部材の場合、ヘイズ値は６％以上である。このような比較的高いヘイズ値を有するカバー部材では、将来のペン入力装置の高精細化のニーズに応えることは難しいと思われる。
　これに対して、本発明の一実施例では、
　ペン入力装置用のカバーガラスであって、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　当該カバーガラスの表面において、移動部材（合成皮革）を一方向に移動させた際に、動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であることを特徴とするカバーガラスが提供される。
　また、当該カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であっても良い。
　ここで、ヘイズ値は、カバーガラスの不透明性を表す指標であり、ヘイズ値が低いほど、カバーガラスの透明性は高くなる。本願では、ヘイズ値は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１に準拠した方法で測定される。
　本発明の一実施例では、カバーガラスは、アンチグレア構造を有さないため、１％未満の低いヘイズ値を示す。すなわち、本発明の一実施例によるカバーガラスは、透明性が高いという特徴を有する。
　従って、本発明の一実施例によるカバーガラスは、今後のディスプレイ装置の高精細化による、ペン入力装置の高精細性に対するニーズにも十分に対応することが可能となる。
　また、マルテンス硬さは、カバーガラスの表面の柔らかさを表す指標であり、本願では、ＩＳＯ　１４５７７に準拠した方法で測定される。
　カバーガラスの表面において、マルテンス硬さは、入力ペンの操作時の「へこみ」に寄与する。すなわち、マルテンス硬さが小さすぎると、耐擦傷性が低下してしまう。一方、マルテンス硬さが大きくなりすぎると、カバーガラスの「へこみ」が少なく硬さを感じるようになり、入力ペン操作時の違和感が高まったり、疲れやすくなったりする。
　本発明の一実施例において、カバーガラスは、２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲のマルテンス硬さを有する。この場合、入力ペン操作時に、感覚的に適度な「へこみ」が得られ、筆記感が向上する。また、本発明の一実施例によるカバーガラスは、２０００Ｎ／ｍｍ２以上のマルテンス硬さを有するため、カバーガラスの耐久性が向上するという付随の効果も得られる。
　本発明の一実施例において、マルテンス硬さは、２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であることが好ましく、２０００Ｎ／ｍｍ２～３５００Ｎ／ｍｍ２の範囲であることがより好ましい。
　また、本発明の一実施例では、カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であり、前記領域における前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であると言う特徴を有する。
　Ｙ値は、０．０５以下であることが好ましく、０．０４以下がさらに好ましい。また、動摩擦係数μｋは０．９～４．０の範囲であることが好ましく、０．９～３．５の範囲であることがさらに好ましい。Ｙ値が０．０５以上であると入力ペンにかかる抵抗が不規則になるため、入力ペンの引っかかり（ビビリ）感が大きくなり書き味を損ねる。一方、Ｙ値が０．０４以下であると書き味がさらに向上する。また、Ｙ値の下限に特に制限はないが、Ｙ値が小さい方が、引っかかり感が小さくなり「書き味」がスムースになる。
　また、Ｙ値が０．０５以下である場合、入力ペンの操作の際の音鳴りが有意に抑制され、ユーザの不快感を解消または軽減することができる。
　動摩擦係数μｋが０．９以下になると書き味が軽くなり、４．０以上になると重くなる。動摩擦係数μｋ値は、用途によって適宜設定可能であるが、本実施態様においては、上記の範囲であっても良い。
　このような特徴により、本発明の一実施例によるカバーガラスでは、筆記感（「書き味」）を有意に向上することができる。
　以下、図面を参照して、この効果について詳しく説明する。
　図１には、一定荷重Ｐを受けた物体がある表面（以下、「移動表面」という）を一定の速度で移動する際の時間ｔ（または移動距離）と摩擦力Ｆの関係を模式的に示す。
　図１に示すように、一般に、物体が定常的に動き始めた以降（時間ｔ＝ｔ１以降）は、摩擦力Ｆ（動摩擦力Ｆｋ）と時間ｔの間には、直線的な関係が得られる。特に、この時間領域では、動摩擦力Ｆｋは、時間によらず比較的一定の値となる場合が多い。
　また、一般に、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と荷重Ｐ（Ｎ）の間には以下の関係が成り立つ：
 
　　Ｆｋ＝μｋ×Ｐ　　　　　（１）式
 
　ここで、μｋは動摩擦係数であり、移動表面の状態等によって変化する。
　図２～図４には、移動表面の状態が異なる場合の動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの関係を模式的に示す。
　図２には、移動表面が極めて平滑な場合に得られる挙動を示す。このような移動表面では、動摩擦係数μｋが小さいためＹ値が大きくなりやすく引っかかりを感じやすくなる。また、動摩擦係数μｋが小さくなり、従って、動摩擦力Ｆｋも小さくなる。
　このような表面を有するカバーガラスに対して入力ペンを使用した場合、入力ペンが滑りすぎて、意図する入力操作を行うことが難しくなる。
　次に、図３には、移動表面が激しい凹凸を有する場合に得られる挙動を示す。このような移動表面では、物体の移動中の動摩擦係数μｋの変動が大きくなり、従って、動摩擦力Ｆｋの変動も大きくなる。その結果、Ｙ値が大きくなり、引っかかりをより感じやすくなる。
　このような表面を有するカバーガラスに対して入力ペンを使用した場合、入力ペンが「引っかかる」感覚が生じ、書き味が悪くなるとともに、使用者のストレスが高くなる。
　これに対して、移動表面が両者の中間の状態を有する場合、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの間には、図４に示すような関係が得られる。
　すなわち、そのような移動表面では、Ｙ値が小さくなるとともに、動摩擦力Ｆｋおよび動摩擦係数μｋが適度に大きな値を示し、さらに動摩擦力Ｆｋおよび動摩擦係数μｋの変動が有意に抑制される。
　このような表面を有するカバーガラスに対して入力ペンを使用した場合、入力ペンをカバーガラスに対して移動する際に、適度の抵抗力が得られるため、入力ペンの意図しない滑りが生じにくくなる。また、動摩擦係数μｋの変動が有意に抑制されるため、入力ペンの移動中の「引っかかり」も感じにくくなる。従って、このような表面では、入力ペンをカバーガラスに接触、移動させた際に、筆記感（「書き味」）が向上する。
　ここで本発明の一実施例は、 動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域（図１～図４のｔ１以降の時間参照）における前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であると言う特徴を有する。
　この場合、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの間に図３に示す関係が得られるような移動表面で起こり得る、前述の入力ペンの「引っかかり」が生じにくくなる。従って、入力ペンの操作に対する違和感が少なくなり、入力ペンを意図した通りに移動させることができる。
　このように、本発明の一実施例では、カバーガラスの表面が、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの間に図４に示すような関係が得られるように調整されており、これにより、筆記感（「書き味」）を高めることができる。
　上記書き味が得られる領域は、カバーガラスの少なくとも一部に設けられればよい。また、カバーガラスの表面は、互いに異なるσ／Ｆｋの値Ｙを有する複数の領域で構成されてもよい。これにより、カバーガラス上の所定の位置が、筆記感の相違によって認識可能となる。
　ここで、本発明の一実施例は、カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域（図１～図４のｔ１以降の時間参照）における動摩擦係数μｋが０．９以上であるという特徴を有する。
　この場合、入力ペンをカバーガラスに対して移動する際に、適度の抵抗力が得られる。従って、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間ｔの間に図２に示すような関係が得られるような移動表面で起こり得る、入力ペンの意図しない滑りが生じにくくなる。
　本発明の一実施例において、カバーガラスの表面粗さＲａ（算術平均粗さ）は、０．２ｎｍ～２０ｎｍの範囲であり、表面粗さＲｚ（最大高さ粗さ）は、３．５ｎｍ～２００ｎｍの範囲であることが好ましい。表面粗さＲａは、例えば、１ｎｍ～１５ｎｍの範囲である。また、表面粗さＲｚは、例えば、２０ｎｍ～１５０ｎｍの範囲である。
　なお、本願において、表面粗さＲａおよび表面粗さＲｚは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（２００１年）に準拠して得られた値を意味するものとする。
　また、カバーガラスの表面は、水滴に対する接触角が１００°以上であることが好ましい。この場合、指紋が付着しにくいカバーガラスを得ることができる。水滴に対する接触角は、例えば、１１０°以上であっても良い。なお、そのような効果は、例えば、カバーガラスの表面に、指紋付着防止材をコーティングすることにより発現させても良い。
このコーティングは、カバーガラスの表面の少なくとも一部に適用されればよい。これにより、カバーガラス上の所定の位置が、筆記感の相違によって認識可能となる。
　（本発明の一実施例による別のカバーガラス（「第２のカバーガラス」とも言う）について）
　次に、本発明の一実施例による第２のカバーガラスについて説明する。
　第２のカバーガラスは、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　当該カバーガラスの表面において、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重を受けた移動部材を、室温で１０ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋは、０．１４以上０．５０以下であり、前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）は、０．０３以下であり、
　前記移動部材は、ロックウェル高度がＭ９０のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が７００μｍの曲率半径を有するペンであることを特徴とする。
　このような特徴を有する第２のカバーガラスにおいても、以下に詳しく示すように、前述の第１のカバーガラスと同様の効果、すなわち、
　ペン入力装置の高精細性に対するニーズにも対応可能な高い透明性；
　感覚的に適度な「へこみ」および有意に良好な耐久性；ならびに
　有意に良好な筆記感（書き味）；
を得ることができる。
　ここで、上記書き味が得られる領域は、カバーガラスの少なくとも一部に設けられればよい。また、カバーガラスの表面は、互いに異なる動摩擦係数数μｋおよび動摩擦力の標準偏差σを有する複数の領域で構成されてもよい。これにより、カバーガラス上の所定の位置が、筆記感の相違によって認識可能となる。
　（本発明の一実施例によるカバーガラスの他の特徴について）
　（カバーガラスの組成）
　本発明の一実施例において、カバーガラスの組成は、特に限られない。カバーガラスは、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、および無アルカリガラス等で構成されても良い。
　カバーガラスのガラス組成としては、モル％濃度で６１～７７％のＳｉＯ２、１～１８％のＡｌ２Ｏ３、８～１８％のＮａ２Ｏ、０～６％のＫ２Ｏ、０～１５％のＭｇＯ、０～８％のＢ２Ｏ３、０～９％のＣａＯ、０～１％のＳｒＯ、０～１％のＢａＯ、および０～４モル％のＺｒＯ２を含む。
　ＳｉＯ２はガラスの骨格を構成する成分であり必須である。６１モル％未満では、ガラス表面に傷がついた時にクラックが発生しやすくなる、耐候性が低下する、比重が大きくなる、または液相温度が上昇しガラスが不安定になる等が起こりやすいため、好ましくは６３モル％以上である。ＳｉＯ２が７７モル％超では粘度が１０２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ２または粘度が１０４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ４が上昇しガラスの溶解または成形が困難となる、または耐候性が低下しやすいため、好ましくは７０モル％以下である。
　Ａｌ２Ｏ３はイオン交換性能および耐候性を向上させる成分であり必須である。１モル％未満ではイオン交換により所望の表面圧縮応力や圧縮応力層厚みが得られにくい、または耐候性が低下しやすい等から、好ましくは５モル％以上である。１８モル％超では、Ｔ２もしくはＴ４が上昇しガラスの溶解もしくは成形が困難となる、または液相温度が高くなり失透しやすくなる。
　Ｎａ２Ｏはイオン交換時の表面圧縮応力のばらつきを小さくする、イオン交換により表面圧縮応力層を形成させる、またはガラスの溶融性を向上させる成分であり、必須である。８モル％未満ではイオン交換により所望の表面圧縮応力層を形成することが困難となる、または、Ｔ２もしくはＴ４が上昇しガラスの溶解もしくは成形が困難となるため、好ましくは１０モル％以上である。Ｎａ２Ｏが１８モル％超では耐候性が低下する、または圧痕からクラックが発生しやすくなる。
　Ｋ２Ｏは必須ではないがイオン交換速度を増大させる成分であり、６モル％まで含有してもよい。６モル％超ではイオン交換時の表面圧縮応力のばらつきが大きくなる、圧痕からクラックが発生しやすくなる、または耐候性が低下する。
　ＭｇＯは溶融性を向上させる成分であり含有しても良い。ＭｇＯが１５モル％超ではイオン交換時の表面圧縮応力のばらつきが大きくなる、液相温度が上昇し失透しやすくなる、またはイオン交換速度が低下するため、好ましくは１２モル％以下である。
　Ｂ２Ｏ３は溶融性向上のために８モル％以下であることが好ましい。８モル％超では均質なガラスを得にくくなり、ガラスの成型が困難になるおそれがある。
　ＣａＯは高温での溶融性を向上させる、または失透を起こりにくくするために９モル％まで含有してもよいが、イオン交換時の表面圧縮応力のばらつきが大きくなる、またはイオン交換速度もしくはクラック発生に対する耐性が低下するおそれがある。
　ＳｒＯは高温での溶融性を向上させる、または失透を起こりにくくするために１モル％以下で含有してもよいが、イオン交換時の表面圧縮応力のばらつきが大きくなる、または、イオン交換速度もしくはクラック発生に対する耐性が低下するおそれがある。
　ＢａＯは高温での溶融性を向上させる、または失透を起こりにくくするために１モル％以下で含有してもよいが、イオン交換時の表面圧縮応力のばらつきが大きくなる、またはイオン交換速度もしくはクラック発生に対する耐性が低下するおそれがある。
　ＺｒＯ２は必須成分ではないが、表面圧縮応力を大きくする、または耐候性を向上させる等のため、４モル％まで含有してもよい。４モル％超ではイオン交換時の表面圧縮応力のばらつきが大きくなる、またはクラック発生に対する耐性が低下する。
　（寸法）
　カバーガラスの寸法および形状は、特に限られない。カバーガラスは、例えば、０．３ｍｍ～２．０ｍｍの厚さを有しても良い。また、カバーガラスの形状は、略矩形状の他、略円形、および略楕円形等であっても良い。また、カバーガラスは、平坦であっても、若干湾曲していても良い。
　（化学強化処理）
　カバーガラスは、化学強化処理されていても良い。これにより、カバーガラスの強度を高めることができる。
　（ペン入力装置について）
　次に、図５を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施例によるカバーガラスの適用例について説明する。
　なお、ここでは、前述の第１のカバーガラスを例に、本発明の一実施例によるカバーガラスの適用例について説明する。ただし、前述の第２のカバーガラスにおいても、同様の説明が適用できることは、当業者には明らかであろう。
　図５には、本発明の一実施例による第１のカバーガラスを備えたペン入力装置の一例の断面を概略的に示す。
　図５に示すように、このペン入力装置１００は、カバーガラス１１０と、ディスプレイ装置１２０と、デジタイザー回路１３０とを有する。
　カバーガラス１１０は、前述のような特徴を有する本発明の一実施例による第１のカバーガラスであり、ディスプレイ装置１２０の前面に配置される。
　ディスプレイ装置１２０は、画像を表示できる装置であれば特に限られない。ディスプレイ装置１２０は、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセント（ＥＬ）ディスプレイ、またはブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ等で構成されても良い。
　デジタイザー回路１３０は、ディスプレイ装置１２０の後面に配置され、電極１４０、スペーサー１５０、グリッド１６０、および検出回路１７０を有する。
　このようなペン入力装置１００に入力操作を行う際には、入力ペン１８０が使用される。
　入力ペン１８０は、鉛筆またはボールペン等の筆記用具を模擬した形状となっており、入力ペン１８０をカバーガラス１１０の表面に接触させ、描画する動作を行うことにより、入力操作が可能となる。例えば、入力ペン１８０は、該入力ペン１８０自体に回路を有しても良く、この場合、入力ペン１８０とペン入力装置１００とにより、電磁誘導を利用した入力システムが構築される。
　前述のように、カバーガラス１１０は、アンチグレア構造を有さず、透明性が高いという特徴を有する。このため、ディスプレイ装置１２０に高精細な装置が使用された場合であっても、カバーガラス１１０によって、ディスプレイ装置１２０の高精細性が損なわれるという問題が有意に抑制される。
　従って、ペン入力装置１００では、従来に比べて、高精細な描画およびより繊細な入力操作が可能となる。例えば、ペン入力装置１００がタブレット式画像描画装置の場合、より繊細で豊かな表現を行うことができるようになる。
　また、カバーガラス１１０は、前述のように、マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲に調整されている。このため、入力ペン１８０による操作時に、カバーガラス１１０には感覚的に適度な「へこみ」が得られ、入力ペン１８０による筆記感が向上する。
　また、カバーガラス１１０の耐久性が向上し、その結果、耐久性に優れたペン入力装置１００を提供することができる。
　さらに、カバーガラス１１０は、前述のように、カバーガラス１１０の表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であり、前記領域における前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であるという特徴を有する。
　このため、ペン入力装置１００に対して入力ペン１８０を使用した際に、カバーガラス１１０に対して入力ペン１８０が滑りすぎたり、反対に滑りが悪くなったりして、入力ペン１８０の軽快な動きが損なわれるという問題が生じ難くなる。
　従って、ペン入力装置１００では、入力ペン１８０の操作性が高まり、良好な書き味を実現することが可能となる。
　なお、図５に示したペン入力装置１００は、単なる一例に過ぎず、本発明の一実施例によるカバーガラスは、いかなる構造のペン入力装置にも適用することができる。例えば、ペン入力装置は、タブレット型携帯情報端末、電子手帳、画像描画用ペンタブレット、およびタブレット型パーソナルコンピュータ等であっても良い。
　（本発明の一実施例によるカバーガラスの製造方法）
　次に、図６を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施例による第１のカバーガラスの製造方法について説明する。
　図６には、本発明の一実施例による第１のカバーガラスの製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）の概略的なフローを示す。図６に示すように、この第１の製造方法は、
　（ａ）ガラス基板の表面に、フッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスを接触させる工程（ステップＳ１１０）と、
　（ｂ）前記ガラス基板を化学強化処理する工程（ステップＳ１２０）と、
　（ｃ）前記ガラス基板に指紋付着防止材をコーティングする工程（ステップＳ１３０）と、
　を有する。ただし、ステップＳ１２０およびステップＳ１３０は、任意に実施されるステップであり、何れか一方または両方は、省略されても良い。
　以下、各工程について説明する。
　（ステップＳ１１０）
　まず、ガラス基板が準備される。
　ガラス基板の種類は、特に限られない。例えば、ガラス基板は、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、または無アルカリガラスであっても良い。ただし、次工程（ステップＳ１２０）において化学強化処理を実施する場合、ガラス基板は、アルカリ金属元素を含む必要がある。
　なお、ガラス基板に、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、および／またはアルミニウムが含まれる場合、フッ化水素（ＨＦ）ガスによる処理の際に、ガラス基板の表面近傍にフッ素化合物が残留しやすくなる。
　このような残留フッ素化合物は、ガラス基板の光透過率の向上に寄与する。すなわち、残留フッ素化合物の屈折率（ｎ１）は、通常、ガラス基板の屈折率（ｎ２）と、空気の屈折率（ｎ０）の間の屈折率を有する。このため、ガラス基板、フッ素化合物、および空気がこの順に配置されることにより、ガラス基板の光透過率が向上する。
　ガラス基板は、３５０ｎｍ～８００ｎｍの波長領城に高い透過率、例えば８０％以上の透過率を有することが好ましい。また、ガラス基板は、十分な絶縁性を有し、化学的物理的耐久性が高いことが望ましい。
　ガラス基板の製造方法は、特に限られない。ガラス基板は、例えばフロート法で製造しても良い。
　ガラス基板の厚さは、２ｍｍ以下であることが好ましく、例えば、０．３ｍｍ～１．５ｍｍの範囲であっても良い。ガラス基板の厚さは、０．５ｍｍ～１．１ｍｍの範囲であることがより好ましい。ガラス基板の厚さが２ｍｍ以上の場合、重量が上昇して軽量化が難しくなり、また原材料コストが上昇してしまう。
　次に、準備されたガラス基板がフッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスに晒され、ガラス基板の「エッチング処理」が実施される。
　なお、本願において、「エッチング処理」とは、実際のエッチング量にかかわらず、フッ化水素を含む処理ガスを、ガラス基板の表面に接触させる処理を意味する。従って、実際には、エッチング量が極めて少ない処理（例えば、１ｎｍ～２００ｎｍオーダの凹凸が形成されるレベルの処理）であっても、そのような処理は、「エッチング処理」に含まれる。
　この工程は、ガラス基板の表面に、例えば１ｎｍ～２００ｎｍのオーダの微細な凹凸からなる処理層を形成するために実施される。これらの微細な凹凸の存在により、ガラス基板に反射防止性が発現し、透過性の高いガラス基板を得ることができる。
　エッチング処理の温度は、特に限られないが、通常、エッチング処理は、４００℃～８００℃の範囲で実施される。エッチング処理の温度は、５００℃～７００℃の範囲であることが好ましく、５５０℃～６５０℃の範囲であることがより好ましい。
　ここで、処理ガスは、フッ化水素ガスの他、キャリアガスおよび希釈ガスを含んでも良い。キャリアガス、希釈ガスとしては、これに限られるものではないが、例えば、窒素および／またはアルゴン等が使用される。また、水を加えても構わない。
　処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度は、ガラス基板の表面が適正にエッチング処理される限り、特に限られない。処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度は、例えば、０．１ｖｏｌ％～１０ｖｏｌ％の範囲であり、０．３ｖｏｌ％～５ｖｏｌ％の範囲であることが好ましく、０．５ｖｏｌ％～４ｖｏｌ％の範囲であることがより好ましい。このとき、処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度（ｖｏｌ％）は、フッ素ガス流量／（フッ素ガス流量＋キャリアガス流量＋希釈ガス流量）より求められる。
　ガラス基板のエッチング処理は、反応容器中で実施しても良いが、ガラス基板が大きい場合など、必要な場合、ガラス基板のエッチング処理は、ガラス基板を搬送させた状態で実施しても良い。この場合、反応容器中での処理に比べて、より迅速かつ高効率な処理が可能となる。
　ここで、後述するように、本発明による第１の製造方法において、エッチング処理は、ガラス基板が過度にエッチングされない条件で実施されることが好ましい。ガラス基板に対して、過度のエッチング処理を実施した場合、得られるカバーガラスの書き味が低下するからである。
　なお、ガラス基板のエッチングの程度は、処理温度、フッ化水素ガスの濃度、および処理時間等に大きな影響を受けるため、本願では、これらの条件を組み合わせた相対的な指標として、「エッチング強度」と言う用語を使用することにする。
　例えば、処理温度、フッ化水素ガスの濃度、および処理時間の少なくとも一つが比較的小さな値を示す条件では、これらが「標準的な」値を有する条件に比べて、「エッチング強度」が小さいと表現することができる。この場合、ガラス基板に対するエッチングの程度は、「標準的な」値を有する条件に比べて小さくなる。
　また、例えば、処理温度、フッ化水素ガスの濃度、および処理時間の少なくとも一つが比較的大きな値を示す条件では、これらが「標準的な」値を有する条件に比べて、「エッチング強度」が大きいと表現することができる。この場合、ガラス基板に対するエッチングの程度は、「標準的な」値を有する条件に比べて大きくなる。
　このような表現を使用した場合、第１の製造方法では、「エッチング強度」が小さいことが好ましいと言える。
　（エッチング処理に使用される装置について）
　ここで、ステップＳ１１０におけるエッチング処理に使用され得る装置の一例について簡単に説明する。
　図７には、ガラス基板のエッチング処理を実施する際に使用される処理装置の一構成例を示す。図７に示す処理装置は、ガラス基板を搬送させた状態で、ガラス基板のエッチング処理を実施することができる。
　図７に示すように、この処理装置３００は、インジェクタ３１０と、搬送手段３５０とを備える。
　搬送手段３５０は、上部に置載されたガラス基板３８０を、矢印Ｆ３０１に示すように、水平方向（Ｘ方向）に搬送することができる。
　インジェクタ３１０は、搬送手段３５０およびガラス基板３８０の上方に配置される。
　インジェクタ３１０は、処理ガスの流通路となる複数のスリット３１５、３２０、および３２５を有する。すなわち、インジェクタ３１０は、中央部分に鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第１のスリット３１５と、該第１のスリットを取り囲むように、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第２のスリット３２０と、該第２のスリット３２０を取り囲むように、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第３のスリット３２５とを備える。
　第１のスリット３１５の一端（上部）は、フッ化水素ガス源（図示されていない）とキャリアガス源(図示されていない)とに接続されており、第１のスリット３１５の他端（下部）は、ガラス基板３８０の方に配向される。同様に、第２のスリット３２０の一端（上部）は、希釈ガス源（図示されていない）に接続されており、第２のスリット３２０の他端（下部）は、ガラス基板３８０の方に配向される。第３のスリット３２５の一端（上部）は、排気系（図示されていない）に接続されており、第３のスリット３２５の他端（下部）は、ガラス基板３８０の方に配向される。
　このように構成された処理装置３００を使用して、ガラス基板３８０のエッチング処理を実施する場合、まず、フッ化水素ガス源（図示されていない）から、第１のスリット３１５を介して、矢印Ｆ３０５の方向に、フッ化水素ガスが供給される。また、希釈ガス源（図示されていない）から、第２のスリット３２０を介して、矢印Ｆ３１０の方向に、窒素等の希釈ガスが供給される。これらのガスは、排気系により、矢印Ｆ３１５に沿って水平方向（Ｘ方向）に移動した後、第３のスリット３２５を介して、処理装置３００の外部に排出される。
　なお、第１のスリット３１５には、フッ化水素ガスに加えて、窒素などのキャリアガスを同時に供給しても良い。
　次に、搬送手段３５０が稼働される。これにより、ガラス基板３８０が矢印Ｆ３０１の方向に移動する。
　ガラス基板３８０は、インジェクタ３１０の下側を通過する際に、第１のスリット３１５および第２のスリット３２０から供給された処理ガス（フッ化水素ガス＋キャリアガス＋希釈ガス）に接触する。これにより、ガラス基板３８０の表面がエッチング処理される。
　なお、ガラス基板３８０の表面に供給された処理ガスは、矢印Ｆ３１５のように移動してエッチング処理に使用された後、矢印Ｆ３２０のように移動して、排気系に接続された第３のスリット３２５を介して、処理装置３００の外部に排出される。
　このような処理装置３００を使用することにより、ガラス基板を搬送しながら、処理ガスによる表面のエッチング処理を実施することができる。この場合、反応容器を使用してエッチング処理を実施する方法に比べて、処理効率を向上させることができる。また、このような処理装置３００を使用した場合、大型のガラス基板に対してもエッチング処理を実施することができる。
　ここで、ガラス基板３８０への処理ガスの供給速度は、特に限られない。処理ガスの供給速度は、例えば、５ＳＬＭ～１０００ＳＬＭの範囲であっても良い。ここで、ＳＬＭとは、Ｓｔａｎｄａｒｄ　Ｌｉｔｔｅｒ　ｐｅｒ　Ｍｉｎｕｔｅ（標準状態における流量）の略である。また、ガラス基板３８０のインジェクタ３１０の通過時間（図７の距離Ｓを通過する時間）は、１秒～１２０秒の範囲であり、２秒～６０秒の範囲であることが好ましく、３秒～３０秒の範囲であることがより好ましい。ガラス基板３８０のインジェクタ３１０の通過時間を３２０秒以下とすることにより、迅速なエッチング処理を実施することができる。
　このように、処理装置３００を使用することにより、搬送状態のガラス基板に対して、エッチング処理を実施することができる。
　なお、図７に示した処理装置３００は、単なる一例に過ぎず、その他の装置を使用して、フッ化水素ガスを含む処理ガスによるガラス基板のエッチング処理を実施しても良い。例えば、図７の処理装置３００では、静止しているインジェクタ３１０に対して、ガラス基板３８０が相対的に移動する。しかしながら、これとは逆に、静止しているガラス基板に対して、インジェクタを水平方向に移動させても良い。あるいは、ガラス基板とインジェクタの両者を、相互に反対方向に移動させても良い。
　また、図７の処理装置３００では、インジェクタ３１０は、合計３つのスリット３１５、３２０、３２５を有する。しかしながら、スリットの数は、特に限られない。例えば、スリットの数は、２つであっても良い。この場合、一つのスリットが処理ガス（キャリアガスとフッ化水素ガスと希釈ガスとの混合ガス）供給用に利用され、別のスリットが排気用に利用されても良い。また、スリット３２０と排気用スリット３２５との間に１つ以上のスリットを設けて、エッチングガス、キャリアガス、希釈ガスを供給させても良い。
　さらに、図７の処理装置３００では、インジェクタ３１０の第２のスリット３２０は、第１のスリット３１５を取り囲むように配置され、第３のスリット３２５は、第１のスリット３１５および第２のスリット３２０を取り囲むように設けられている。しかしながら、この代わりに、第１のスリット、第２のスリット、および第３のスリットを、水平方向（Ｘ方向）に沿って一列に配列しても良い。この場合、処理ガスは、ガラス基板の表面を、一方向に沿って移動し、その後、第３のスリットを介して排気される。
　さらに、複数個のインジェクタ３１０を搬送手段３５０の上に、水平方向（Ｘ方向）に沿って配置させても良い。
　さらに、別装置等によって、エッチング処理した面と同じ面に酸化ケイ素を主成分とする層を積層させても良い。該層を積層させることにより、エッチング処理した面の化学的耐久性を向上させることができる。
　以上の工程により、ガラス基板の少なくとも一方の表面がエッチングされる。
　また、ガラス基板上に予めマスクを施した上でエッチング処理を行うことにより、ガラス基板表面の所望の領域を部分的にエッチング処理したり、領域によって異なるエッチング条件を適用したりすることが可能である。
　（ステップＳ１２０）
　次に、必要な場合、エッチング処理されたガラス基板に対して、化学強化処理が実施される。
　ここで、「化学強化処理（法）」とは、アルカリ金属を含む溶融塩中にガラス基板を浸漬させ、ガラス基板の最表面に存在する原子径の小さなアルカリ金属（イオン）を、溶融塩中に存在する原子径の大きなアルカリ金属（イオン）と置換する技術の総称を言う。「化学強化処理（法）」では、処理されたガラス基板の表面には、処理前の元の原子よりも原子径の大きなアルカリ金属（イオン）が配置される。このため、ガラス基板の表面に圧縮応力層を形成することができ、これによりガラス基板の強度が向上する。
　例えば、ガラス基板がナトリウム（Ｎａ）を含む場合、化学強化処理の際、このナトリウムは、溶融塩（例えば硝酸塩）中で、例えばカリウム（Ｋ）と置換される。あるいは、例えば、ガラス基板がリチウム（Ｌｉ）を含む場合、化学強化処理の際、このリチウムは、溶融塩（例えば硝酸塩）中で、例えばナトリウム（Ｎａ）および／またはカリウム（Ｋ）と置換されても良い。
　ガラス基板に対して実施される化学強化処理の条件は、特に限られない。
　溶融塩の種類としては、例えば、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化ナトリウム、および塩化カリウム等の、アルカリ金属硝酸塩、アルカリ金属硫酸塩、およびアルカリ金属塩化物塩などが挙げられる。これらの溶融塩は、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いても良い。
　処理温度（溶融塩の温度）は、使用される溶融塩の種類によっても異なるが、例えば、３５０℃～５５０℃の範囲であっても良い。
　化学強化処理は、例えば、３５０℃～５５０℃の溶融硝酸カリウム塩中に、ガラス基板を２分～２０時間程度浸演することにより、実施しても良い。経済的かつ実用的な観点からは、３５０～５００℃、１～１０時間で実施されることが好ましい。
　これにより、表面に圧縮応力層が形成されたガラス基板を得ることができる。
　前述のように、このステップＳ１２０は、必須の工程ではない。しかしながら、ガラス基板に対して化学強化処理を実施することにより、ガラス基板の曲げ強度を高めることができる。この場合、入力ペンの当接に対するカバーガラスの耐破砕性が向上する。また、カバーガラス全体の強度が向上する。
　（ステップＳ１３０）
　次に、必要な場合、ガラス基板のエッチング処理表面に対して、指紋付着防止材がコーティングされる。この処理を、以下、「ＡＦＰコーティング処理」と称する。
　ここで、ＡＦＰコーティング処理は、カバーガラスの表面に指紋や油脂などの汚れが付着することを防止したり、そのような汚れの除去を容易にするために実施される。
　ＡＦＰコーティング処理は、ガラス基板と結合する官能基およびフッ素を含むフッ素系シランカップリング剤を用いて、ガラス表面を処理することにより実施される。
　なお、指紋付着防止材は、ガラス基板の末端ＯＨ基の水素をフッ素系部分と交換することにより形成される。この交換は、例えば、下記の反応に従って行われる：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 　ここで、ＲＦは、Ｃ１－Ｃ２２アルキルペルフルオロカーボンまたはＣ１－Ｃ２２アルキルパーフルオロポリエーテル、好ましくはＣ１－Ｃ１０アルキルペルフルオロカーボン、さらに好ましくはＣ１－Ｃ１０アルキルパーフルオロポリエーテルであり、ｎは１～３の範囲の整数であり、Ｘはガラスの末端ＯＨ基と交換することができる加水分解性基である。
　Ｘは、フッ素以外のハロゲンまたはアルコキシ基（－ＯＲ）であることが好ましく、ここで、Ｒは１～６の炭素原子の直鎖または分岐鎖炭化水素であり、例えば、－ＣＨ３、－Ｃ２Ｈ５、－ＣＨ（ＣＨ３）２の炭化水素が挙げられる。一部の実施の形態では、ｎ＝２または３である。好ましいハロゲンは、塩素である。好ましいアルコキシシランは、トリメトキシシラン、ＲＦＳｉ（ＯＭｅ）３である。
　追加のペルフルオロカーボン部分としては、（ＲＦ）３ＳｉＣｌ、ＲＦ－Ｃ（Ｏ）－Ｃｌ、ＲＦ－Ｃ（Ｏ）－ＮＨ２、およびガラスのヒドロキシル（ＯＨ）基と交換可能な末端基を有する他のペルフルオロカーボン部分が挙げられる。
　本願では、「ペルフルオロカーボン」、「フッ化炭素」およびパーフルオロポリエーテルとは、本明細書に記載される炭化水素基を有する化合物を意味し、ここで、実質的にすべてのＣ－Ｈ結合はＣＦ結合に転換されている。
　これらは、単独で使用しても、混合して使用しても良い。また、予め、酸またはアルカリなどで部分的に加水分解縮合物を作製してから、使用しても良い。
　ＡＦＰコーティング処理は、乾式法で実施されても、湿式法で実施されても良い。
　このうち乾式法では、蒸着法等の成膜プロセスにより、ガラス基板上にフッ素系シランカップリング剤が成膜される。この処理の前には、必要に応じて、ガラス基板に対して下地処理を実施しても良い。また、コーティングの密着力向上のため、加熱処理および加湿処理等を実施しても良い。
　一方、湿式法では、フッ素系シランカップリング剤を含む溶液をガラス基板に塗布した後、ガラス基板を乾燥することにより、指紋付着防止材をコーティングすることができる。この処理の前には、必要に応じて、ガラス基板に対して下地処理を実施しても良い。また、コーティングの密着力向上のため、加熱処理および加湿処理等を実施しても良い。
　ＡＦＰコーティング処理により、カバーガラスの表面が改質され、液体に対する濡れ性が変化する。例えば、水滴に対する接触角が１００°を超える表面を得ることができる。
　なお、前述のように、このステップＳ１３０は、必須の工程ではない。
　しかしながら、ガラス基板に対してＡＦＰコーティング処理を実施することにより、カバーガラスの表面に指紋などの汚れが付着することを抑制したり、汚れの除去を容易化することができる。この時、ガラス基板上に予めマスキングを施した上でＡＦＰコーティング処理を行うことにより、ガラス基板の表面の所望の領域を部分的にＡＦＰコーティングすることも可能である。これにより、カバーガラス上の所定の位置が、筆記感の相違によって認識可能となる。
　また、ステップＳ１３０を実施することにより、前述の特徴、すなわち、カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であり、前記領域における前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であるという特徴を有する表面を、比較的容易に得ることが可能になる。
　以上の工程を経て、前述のような特徴を有する本発明の一実施例による第１のカバーガラスを製造することができる。
　なお、上記の製造方法は、単なる一例であって、本発明の一実施例による第１のカバーガラスは、別の方法で製造されても良い。
　（本発明の一実施例による第２のカバーガラスの製造方法）
　本発明の一実施例による第２のカバーガラスは、前述のような第１のカバーガラスの製造方法と同様の製造方法により、製造することができる。
　以上、本発明の一実施例によるペン入力装置用のカバーガラスの構成およびその製造方法について、具体的に説明した。ただし、本発明の一実施例によるペン入力装置用のカバーガラスは、入力手段が必ずしもペンに限られるものではない。特に、最近では、入力手段として、ペンによる入力に加えて、指によるタッチ入力が可能な入力装置が多く認められるようになってきている。
　本発明の一実施例によるカバーガラスは、そのような指を用いて入力することが可能な装置用のカバーガラスとしても適用が可能である。例えば、
　ヘイズ値が１％未満であり、
　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
　動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、当該カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であり、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であることを特徴とするカバーガラスは、指を使用した場合も、ペンと同様にビビリ感を抑制しながら、筆記感を有意に高めることができる。
　次に、本発明の実施例について説明する。
　（例１－１）
　以下の方法により、ガラス基板に対してエッチング処理を実施して、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
　（エッチング処理）
　まず、フロート法で製造した厚さ１．１ｍｍのアルミノシリケートガラス基板を準備した。
　次に、このガラス基板に対して、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。エッチング処理には、前述の図７に示した処理装置３００を使用した。
　処理装置３００において、第１のスリット３１５には、フッ化水素ガスと窒素ガスを、第２のスリット３２０には窒素ガスを供給し、ＨＦガスの濃度が１．４ｖｏｌ%となるようにした。
　第３のスリット３２５からの排気量は、全供給ガス量の２倍とした。
　ガラス基板は、第１の表面（被エッチング処理面）を上側（インジェクタ３１０に近い側：すなわち処理面）とし、５８０℃に加熱した状態で搬送した。なお、ガラス基板の温度は、熱電対を配置した同種のガラス基板を、同様の熱処理条件で搬送しながら測定した値である。ただし、ガラス基板の表面温度は、直接放射温度計を用いて測定しても良い。
　エッチング処理時間（図７において、ガラス基板が距離Ｓを通過する時間）は、約５秒とした。
　この処理により、ガラス基板の第１の表面がエッチング処理された。以下、得られたガラス基板を「例１－１に係るガラス」と称する。
　（例２－１、例３－１および例４－１）
　例１－１と同様の方法により、例２－１、例３－１および例４－１に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、エッチング処理の際のＨＦガスの濃度を変えて、カバーガラスを製造した。
　すなわち、例２－１では、ＨＦガスの濃度を１．９ｖｏｌ％とした。また、例３－１では、ＨＦガスの濃度を２．４ｖｏｌ％とした。さらに、例４－１では、ＨＦガスの濃度を２．９ｖｏｌ％とした。
　その他の条件は、例１－１の場合と同様である。
　（評価）
　例１－１、２－１、３－１、および４－１に係るカバーガラスを用いて、以下の各値を測定した。
　（ヘイズ値）
　ヘイズ値の測定には、ヘーズメータ（ＨＺ－２：スガ試験機）を使用し、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１に基づいて実施した。光源には、Ｃ光源を使用した。
　（マルテンス硬さ）
　マルテンス硬さの測定には、（Ｐｉｃｏｄｅｎｔｅｒ　ＨＭ５００：Ｆｉｓｈｅｒ社製）を使用し、ＩＳＯ　１４５７７に基づいて実施した。圧子には、ビッカース圧子を使用した。
　（表面粗さ）
　表面粗さＲａおよびＲｚの測定には、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＩ３８００Ｎ：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を使用し、ＪＩＳ　Ｂ０６０１（２００１年）に基づいて実施した。測定は、カバーガラスの２μｍ四方の領域に対して、取得データ数１０２４×１０２４として実施した。
　以下の表１には、各例に係るカバーガラスのエッチング処理条件および測定結果をまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　なお、表１には、参考のため、エッチング処理を実施する前のガラス基板において得られた各測定結果を同時に示した。
　表１に示すように、ヘイズ値の測定結果から、例１－１に係るカバーガラスでは、ヘイズ値は１％未満であるのに対して、例２－１、例３－１および例４－１に係るカバーガラスでは、ヘイズ値は１％を超えることがわかる。この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、ヘイズ値が大きくなり、カバーガラスの透明性が低下することがわかった。
　本実験条件では、１％以下のヘイズ値を得るには、ＨＦ濃度は、１．９ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　一方、マルテンス硬さの測定結果から、例１－１に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは２８５０Ｎ／ｍｍ２であるのに対して、例２－１、例３－１および例４－１に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは、最大でも１０６０Ｎ／ｍｍ２程度であり、あまり大きくないことがわかる。この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、マルテンス硬さが低下し、カバーガラスの硬さが低下することがわかった。
　本実験条件では、２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲のマルテンス硬さを得るには、ＨＦ濃度は、１．９ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　また、表面粗さの測定結果から、例１－１に係るカバーガラスでは、表面粗さＲａは０．２ｎｍ～２０ｎｍの範囲にあり、表面粗さＲｚは３．５ｎｍ～２００ｎｍの範囲にあることがわかった。これに対して、例２－１、例３－１および例４－１に係るカバーガラスでは、表面粗さＲａは最小でも３０ｎｍを超え、表面粗さＲｚは最小でも２２０ｎｍを超えることがわかった。
　この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、表面粗さＲａ、Ｒｚが増加し、カバーガラスの表面の凹凸が激しくなる傾向にあることがわかった。
　図８および図９には、それぞれ、例１－１に係るカバーガラスの断面写真および表面写真を示す。また、図１０および図１１には、それぞれ、例３－１に係るカバーガラスの断面写真および表面写真を示す。
　これらの写真から、例３－１に係るカバーガラスの表面は、凹凸が激しく、多数の微細な突起および孔が３次元的に分布されて構成されていることがわかる。これに対して、例１－１に係るカバーガラスの表面は、多数の微細な孔を含むものの、比較的平面的で平滑な表面形態を有することがわかる。従って、この表面形態の違いが、例１－１に係るカバーガラスと例２－１～例４－１に係るカバーガラスにおける特性評価結果に起因しているものと予想される。
　すなわち、例１－１に係るカバーガラスでは、エッチング強度が比較的小さく、比較的平滑な表面が得られるため、表面粗さＲａ、Ｒｚが小さく抑制される。また、同じ理由により、エッチング処理前のガラスに比べてマルテンス硬さの低下が抑制されるとともに、ヘイズ値の上昇が抑制され、透明性が高まるものと考えられる。
　（例５－１）
　以下の方法により、ガラス基板に対してエッチング処理を実施して、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
　（エッチング処理）
　まず、フロート法で製造した厚さ０．７ｍｍのアルミノシリケートガラス基板を準備した。
　次に、このガラス基板に対して、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。エッチング処理には、前述の図７に示した処理装置３００を使用した。
　処理装置３００において、第１のスリット３１５には、フッ化水素ガスと窒素ガスを、第２のスリット３２０には窒素ガスを供給し、ＨＦガスの濃度が１．２ｖｏｌ%となるようにした。
　第３のスリット３２５からの排気量は、全供給ガス量の２倍とした。
　ガラス基板は、第１の表面（被エッチング処理面）を上側（インジェクタ３１０に近い側：すなわち処理面）とし、５８０℃に加熱した状態で搬送した。なお、ガラス基板の温度は、熱電対を配置した同種のガラス基板を、同様の熱処理条件で搬送しながら測定した値である。ただし、ガラス基板の表面温度は、直接放射温度計を用いて測定しても良い。
　エッチング処理時間（図７において、ガラス基板が距離Ｓを通過する時間）は、約５秒とした。
　この処理により、ガラス基板の第１の表面がエッチング処理された。以下、得られたガラス基板を「例５－１に係るガラス」と称する。
　（例６－１）
　例５－１と同様の方法により、例６－１に係るカバーガラスを製造した。ただし、この例６－１では、ＨＦガスの濃度を０．５ｖｏｌ％とした。その他のエッチング処理条件は、例５－１の場合と同様である。
　（評価）
　例５－１および６－１に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、および表面粗さの各値を測定した。
　以下の表２には、各例に係るカバーガラスのエッチング処理条件および測定結果をまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 　なお、表２には、参考のため、エッチング処理を実施する前のガラス基板において得られた各測定結果を同時に示した。
　（例１－２）
　以下の方法により、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
　カバーガラスは、例１－１において使用したガラス基板に対してエッチング処理を実施した後、化学強化処理を行うことにより製造した。得られたカバーガラスを、例１－２に係るカバーガラスと称する。
　エッチング処理の条件は、前述の例１－１の場合と同様である。また、化学強化処理は、４５０℃の１００％硝酸カリウム溶融塩中に、ガラス基板を２時間浸漬することにより、実施した。
　化学強化処理により、ガラス基板の表面に、圧縮応力層が形成された。
　ガラス表面応力計（ＦＳＭ－６０００ＬＥ：折原製作所製）を用いて、例１－２に係るカバーガラスの表面圧縮応力を測定した。測定の結果、第１の表面（エッチング処理した表面）における表面圧縮応力は、約８３５ＭＰａであった。また、第２の表面（第１の表面とは反対側の表面）における表面圧縮応力も、同様に約８３５ＭＰａであった。
　また、同装置を用いて、化学強化処理後のカバーガラスの表面の圧縮応力層の厚さ（深さ）を測定した。測定の結果、第１の表面および第２の表面における圧縮応力層の厚さは、いずれも約３６μｍであった。
　（例２－２、例３－２および例４－２）
　前述の例１－２と同様の方法により、例２－２、例３－２および例４－２に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、エッチング処理の際のＨＦガスの濃度を変えて、カバーガラスを製造した。
　すなわち、例２－２では、ＨＦガスの濃度を１．９ｖｏｌ％とした。また、例３－２では、ＨＦガスの濃度を２．４ｖｏｌ％とした。さらに、例４－２では、ＨＦガスの濃度を２．９ｖｏｌ％とした。
　その他の条件は、例１－２の場合と同様である。
　（評価）
　例１－２、２－２、３－２、および４－２に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、および表面粗さＲａ、Ｒｚの各測定を実施した。
　以下の表３には、各例に係るカバーガラスのエッチング処理条件および測定結果をまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 　なお、表３には、参考のため、エッチング処理を実施せず、化学強化処理のみを実施したガラス基板（厚さ１．１ｍｍ）において得られた各測定結果を同時に示した。
　表３に示すように、ヘイズ値の測定結果から、例１－２および例２－２に係るカバーガラスでは、ヘイズ値は１％未満であるのに対して、例３－２および例４－２に係るカバーガラスでは、ヘイズ値は２％を超えることがわかる。この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、ヘイズ値が大きくなり、カバーガラスの透明性が低下することがわかった。
　本実験条件では、１％以下のヘイズ値を得るには、ＨＦ濃度は、２．４ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　一方、マルテンス硬さの測定結果から、例１－２に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは２９５０Ｎ／ｍｍ２であるのに対して、例２－２、例３－２および例４－２に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは、最大でも１３９０Ｎ／ｍｍ２程度であり、あまり大きくないことがわかる。この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、マルテンス硬さが低下し、カバーガラスの硬さが低下することがわかった。
　本実験条件では、２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲のマルテンス硬さを得るには、ＨＦ濃度は、１．９ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　また、表面粗さの測定結果から、例１－２に係るカバーガラスでは、表面粗さＲａは０．２ｎｍ～２０ｎｍの範囲にあり、表面粗さＲｚは３．５ｎｍ～２００ｎｍの範囲にあることがわかった。これに対して、例２－２、例３－２および例４－２に係るカバーガラスでは、表面粗さＲａは最小でも２５ｎｍを超え、表面粗さＲｚは最小でも２３０ｎｍを超えることがわかった。
　この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、表面粗さＲａ、Ｒｚが増加し、カバーガラスの表面の凹凸が激しくなる傾向にあることがわかった。
　図１２には、例１－２に係るカバーガラスの表面写真を示す。また、図１３には、例３－２に係るカバーガラスの表面写真を示す。
　図１２および図９の比較、ならびに図１３と図１１の比較から、化学強化処理の前後で、カバーガラスの表面形態は、ほとんど変化しないことがわかる。
　すなわち、例３－２に係るカバーガラスの表面は、凹凸が激しく、多数の微細な突起および孔が３次元的に分布されて構成されていることがわかる。これに対して、例１－２に係るカバーガラスの表面は、多数の微細な孔を含むものの、比較的平面的で平滑な表面形態を有することがわかる。
　このように、例１－２に係るカバーガラスでは、エッチング強度が比較的小さく、比較的平滑な表面が得られるため、表面粗さＲａ、Ｒｚが小さく抑制される。また、同じ理由により、エッチング処理前のガラスに比べてマルテンス硬さの低下が抑制されるとともに、ヘイズ値の上昇が抑制され、透明性が高まるものと考えられる。
　（例１－３）
　以下の方法により、カバーガラスを製造した。また、得られたカバーガラスの特性を評価した。
　カバーガラスは、例１－２で得られたカバーガラスの表面に、ＡＦＰコーティング処理を実施することにより製造した。得られたカバーガラスを、「例１－３に係るカバーガラス」と称する。
　ＡＦＰコーティング処理は、蒸着法により、例１－２に係るカバーガラスの第１の表面に、ＫＹ１８５（信越化学社製）を成膜することにより実施した。
　（例２－３、例３－３および例４－３）
　前述の例１－３と同様の方法により、例２－３、例３－３および例４－３に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、ＡＦＰコーティング処理に供される化学強化処理後のガラス基板として、例１－３の場合とは異なるガラス基板を使用して、カバーガラスを製造した。
　すなわち、例２－３では、例２－２で得られたカバーガラスの第１の表面に、ＡＦＰコーティング処理を実施することにより、例２－３に係るカバーガラスを製造した。また、例３－３では、例３－２で得られたカバーガラスの第１の表面に、ＡＦＰコーティング処理を実施することにより、例３－３に係るカバーガラスを製造した。さらに、例４－３では、例４－２で得られたカバーガラスの第１の表面に、ＡＦＰコーティング処理を実施することにより、例４－３に係るカバーガラスを製造した。
　なお、これらの例において、ＡＦＰコーティング処理の条件は、例１－３の場合と同様である。
　（例５－３）
　以下の方法により、前述の例５－１に係るカバーガラスを用いて、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理を実施した。得られたカバーガラスを「例５－３に係るカバーガラス」と称する。
　化学強化処理は、４５０℃の１００％硝酸カリウム溶融塩中に、例５－１に係るカバーガラスを１時間浸漬することにより実施した。化学強化処理により、カバーガラスの表面に、圧縮応力層が形成された。
　化学強化処理後のカバーガラスにおいて、前述の方法により、第１の表面（エッチング処理した表面）における表面圧縮応力を測定した。測定の結果、表面圧縮応力は、約７６０ＭＰａであり、圧縮応力層の厚さは、約２５μｍであった。
　次に、化学強化処理後のカバーガラスを用いて、ＡＦＰコーティング処理を実施した。
　ＡＦＰコーティング処理の条件は、例１－３の場合と同様である。
　（評価）
　例１－３、２－３、３－３、４－３、および例５－３に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、および表面粗さＲａ、Ｒｚの各測定を実施した。
　また、例１－３、２－３、３－３、４－３、および例５－３に係るカバーガラスを用いて、以下の方法により、接触角の測定、摩擦挙動の評価、および書き味の評価試験を実施した。
　（接触角の測定）
　接触角は、カバーガラスの表面に純水１μｌを滴下してから３秒後の水滴で測定した。測定には、接触角計（ＣＡ－Ｘ：協和界面科学社製）を使用した。
　（摩擦挙動の評価）
　以下の方法により、各例に係るカバーガラスの動摩擦係数μｋおよびＹ値（＝σ／Ｆｋ）を測定した。
　まず、各カバーガラスの第１の表面に、ロードセル付きの平面型圧子を５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重で配置する。圧子の少なくともカバーガラスと接触する面（面積１ｃｍ２）には、合成皮革（厚さ０．６ｍｍ、表面粗さＲａ＝１５μｍ）を配置した。
　次に、圧子を水平方向に一定の移動速度（１ｍｍ／秒）で移動させる。移動距離は、２０ｍｍである。そして、圧子の移動中に生じる動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）および動摩擦係数μｋを、表面性試験機（トライポギア　ＴＹＰＥ３８：新東科学社製）を用いて測定した。
　動摩擦係数μｋは、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と移動時間ｔ（秒）の間に、近似的に直線関係が成立する領域（以下、「直線領域」という）において算出した。
　また、Ｙ値は、直線領域における動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）を、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）で除することにより算定した。
　なお、この実験は、室温（２５℃）で実施した。
　（書き味の評価試験）
　例１－３、２－３、３－３、４－３、および例５－３に係るカバーガラスを用いて、書き味の評価試験（官能試験）を実施した（○×評価）。
　試験では、入力ペン（ワコム社製　プロペンＫＰ－５０３Ｅ）を使用して、実際にカバーガラスの上に描画した際に、ＨＢの鉛筆で普通紙に書いたときの感覚と近いものを○とし、書きづらい場合を×として、書き味を判定した。
　以下の表４には、各例に係るカバーガラスのエッチング処理条件および測定結果をまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 　なお、表４には、参考のため、エッチング処理を実施せず、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理のみを実施したガラス基板（板厚１．１ｍｍ）において得られた各測定結果を同時に示した。
　表４に示すように、ヘイズ値の測定結果から、例１－３および例５－３に係るカバーガラスでは、ヘイズ値は１％未満であるのに対して、例２－３、例３－３、および４－３に係るカバーガラスでは、ヘイズ値は１％を超えることがわかる。この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、ヘイズ値が大きくなり、カバーガラスの透明性が低下することがわかった。
　本実験条件では、１％以下のヘイズ値を得るには、ＨＦ濃度は、１．９ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　一方、マルテンス硬さの測定結果から、例１－３に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは３３００Ｎ／ｍｍ２であり、例５－３に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは３８５０Ｎ／ｍｍ２である。これに対して、例２－３、例３－３および例４－３に係るカバーガラスでは、マルテンス硬さは、最大でも９２０Ｎ／ｍｍ２程度であり、あまり大きくないことがわかる。この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、マルテンス硬さが低下し、カバーガラスの硬さが低下することがわかった。
　本実験条件では、２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲のマルテンス硬さを得るには、ＨＦ濃度は、１．９ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　また、表面粗さの測定結果から、例１－３および例５－３に係るカバーガラスでは、表面粗さＲａは０．２ｎｍ～２０ｎｍの範囲にあり、表面粗さＲｚは３．５ｎｍ～２００ｎｍの範囲にあることがわかった。これに対して、例２－３、例３－３および例４－３に係るカバーガラスでは、表面粗さＲａは最小でも２４ｎｍを超え、表面粗さＲｚは最小でも２３０ｎｍを超えることがわかった。
　この結果から、エッチング処理の際のＨＦ濃度、すなわち「エッチング強度」が大きいほど、表面粗さＲａ、Ｒｚが増加し、カバーガラスの表面の凹凸が激しくなる傾向にあることがわかった。
　なお、顕微鏡観察の結果、例１－３に係るカバーガラスの表面は、例１－１および例１－２に係るカバーガラスと同様であった。また、例３－３に係るカバーガラスの表面は、例３－１および例３－２に係るカバーガラスとほぼ同様であった。このことから、ＡＦＰコーティング処理を実施しても、表面形態はほとんど変化しないことがわかった。
　また、接触角の測定の結果、いずれのカバーガラスにおいても、接触角は、１００°以上であることがわかった。
　また、摩擦挙動の評価の結果、例１－３に係るカバーガラスは、動摩擦係数μｋ＝１．４９であり、例５－３に係るカバーガラスは、動摩擦係数μｋ＝１．５２３であることがわかった。一方、例２－３、例３－３および例４－４に係るカバーガラスでは、動摩擦係数μｋは、最大でも０．８６９程度（例３－３）であり、あまり大きくないことがわかった。ちなみに、ＡＦＰコーティング処理後のガラス基板の動摩擦係数μｋは、０．１０５であり、極めて小さいことがわかった。
　さらに、例１－３に係るカバーガラスでは、Ｙ値＝０．０１８であり、例５－３に係るカバーガラスは、Ｙ値＝０．０１０であることがわかった。これに対して、例２－３、例３－３および例４－４に係るカバーガラスでは、Ｙ値は、最小でも０．０６５程度（例３－３）であり、あまり小さくないことがわかった。ちなみに、ＡＦＰコーティング処理後のガラス基板のＹ値は、０．１１５であった。
　本実験条件では、０．９以上の動摩擦係数μｋおよび０．０５以下のＹ値を得るには、ＨＦ濃度は、１．９ｖｏｌ％未満であることが必要であると言える。
　図１４には、例１－３および例３－３に係るカバーガラスにおける摩擦挙動の評価試験結果をあわせて示す。なお、この図には、参考のため、エッチング処理を実施せず、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理のみを実施したガラス基板（厚さ１．１ｍｍ）において得られた結果が同時に示されている。
　図１４から、例３－３に係るカバーガラスは、動摩擦係数μｋと時間ｔの関係が、前述の図３に示したものに近く、このため、入力ペンの書き味が劣るものと予想される。これに対して、例１－３に係るカバーガラスは、動摩擦係数μｋと時間ｔの関係が、前述の図４に示したものに近く、このため良好な書き味が得られるものと予想される。
　書き味の評価試験の結果、例２－３～例４－３に係るカバーガラスでは、入力ペンの移動の際に、入力ペンが引っかかる感覚が生じることがわかった。また、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理のみを実施したガラス基板では、入力ペンが滑り過ぎ、この場合も書きにくいことがわかった。これに対して、例１－３および例５－３に係るカバーガラスでは、入力ペンの引っかかりや滑りがなく、良好な書き味が得られることが確認された。
　また、指による入力（以下、指入力ともいう）により、同様に摩擦感を評価したところ、例１－３および例５－３に係るカバーガラスでは、指入力の際に適度な摩擦感が得られ、良好な筆記感が得られることが確認された。一方、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理のみを実施したガラス基板では、指が滑り過ぎ、例２－３～例４－３に係るカバーガラスでは、指入力の際に、ビビリ感が生じた。
　（例５－４）
　次に、以下の方法により、前述の例５－１に係るカバーガラスを用いて、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理を実施した。得られたカバーガラスを「例５－４に係るカバーガラス」と称する。
　化学強化処理は、４５０℃の１００％硝酸カリウム溶融塩中に、例５－１に係るカバーガラスを１時間浸漬することにより実施した。化学強化処理により、カバーガラスの表面に、圧縮応力層が形成された。
　化学強化処理後のカバーガラスにおいて、前述の方法により、第１の表面（エッチング処理した表面）における表面圧縮応力を測定した。測定の結果、表面圧縮応力は、約７６０ＭＰａであり、圧縮応力層の厚さは、約２５μｍであった。
　次に、化学強化処理後のカバーガラスを用いて、ＡＦＰコーティング処理を実施した。
　ＡＦＰコーティング処理は、蒸着法により、カバーガラスの第１の表面に、ｏｐｔｏｏｌ　ＤＳＸ（ダイキン社製）を成膜することにより実施した。
　ＡＦＰコーティング処理後に、蛍光Ｘ線分析装置を用いて、フッ素の線強度（Ｆ－Ｋα）を分析することにより、ＡＦＰコーティングの塗布量を把握した。すなわち、ＡＦＰコーティングは、フッ素を含有するため、フッ素の評価により、ＡＦＰコーティングの塗布量を評価することができる。
　蛍光Ｘ線測定装置には、ＺＳＸ　ＰｒｉｍｕｓＩＩ（（株）リガク社製：出力：Ｒｈ５０ｋＶ－７２ｍＡ）を使用した。
　ＡＦＰコーティング付着量Ｗの評価の際には、以下の式を使用した：
 
　　ＡＦＰコーティング付着量Ｗ＝｛（ＡＦＰコーティング処理後のカバーガラスのＦ－Ｋα線強度）－（ＡＦＰコーティング施工前のカバーガラスのＦ－Ｋα線強度）｝
　　　／（標準試料のＦ－Ｋα線強度－ＡＦＰコーティング施工前のカバーガラスのＦ－Ｋα線強度）
 
　なお、標準試料には、フッ素を２ｗｔ％含有するアルミノシリケートガラスを使用した。
　評価の結果、ＡＦＰコーティング処理されたカバーガラス、すなわち例５－４に係るカバーガラスにおいて、ＡＦＰコーティング付着量Ｗ＝０．８であった。
　（例５－５、例５－６、および例５－７）
　前述の例５－４と同様の方法により、例５－５、例５－６および例５－７に係るカバーガラスをそれぞれ製造した。ただし、これらの例では、ＡＦＰコーティング処理によるＡＦＰコーティング付着量Ｗを変化させて、カバーガラスを製造した。
　すなわち、例５－５に係るカバーガラスでは、ＡＦＰコーティング付着量Ｗ＝１．３とし、例５－６に係るカバーガラスでは、ＡＦＰコーティング付着量Ｗ＝０．６とし、例５－７に係るカバーガラスでは、ＡＦＰコーティング付着量Ｗ＝２．８とした。その他の製造条件は、例５－４の場合と同様である。
　（例６－４）
　前述の例５－４と同様の方法により、例６－４に係るカバーガラスを製造した。ただし、この例６－４では、前述の例６－１に係るカバーガラスを用いて、化学強化処理およびＡＦＰコーティング処理を実施した。また、ＡＦＰコーティング処理によるＡＦＰコーティング付着量Ｗ＝０．２であった。その他の製造条件は、例５－４の場合と同様である。
　（評価）
　例５－４、５－５、５－６、５－７および６－４に係るカバーガラスを用いて、前述の方法により、ヘイズ値、マルテンス硬さ、表面粗さＲａ、Ｒｚ、および接触角の各測定を実施した。
　また、これらのカバーガラスを用いて、以下の方法により、入力ペンによる摩擦挙動の評価試験を実施した。
　入力ペンには、ペン先がポリアセタール系樹脂（ロックウェル硬度Ｍ９０）で構成されているものを使用した。ペン先の曲率半径は、約７００μｍである。
　摩擦挙動の評価は、各カバーガラスの第１の表面に、ロードセル付きの平面型圧子を１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重で配置する。圧子のカバーガラスと接触する面（面積１ｃｍ２）に、入力ペンを垂直に配置した。
　次に、圧子（すなわち入力ペン）を水平方向に一定の移動速度（１０ｍｍ／秒）で移動させる。移動距離は、２０ｍｍである。そして、圧子の移動中に生じる動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）および動摩擦係数μｋを、表面性試験機（トライポギア　ＴＹＰＥ３８：新東科学社製）を用いて測定した。
　動摩擦係数μｋは、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と移動時間ｔ（秒）の間に、近似的に直線関係が成立する領域（以下、「直線領域」という）において算出した。
　また、直線領域における動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σを算定した。
　なお、この評価試験は、室温（２５℃）で実施した。
　また、摩擦挙動の評価試験に使用したものと同じ入力ペンを使用して、各カバーガラスにおける書き味の官能試験を実施した。
　以下の表５には、各例に係るカバーガラスの測定結果をまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 　表５に示すように、各例に係るカバーガラスにおいて、ヘイズ値は、いずれも１％未満であった。また、各例に係るカバーガラスにおいて、マルテンス硬さは、いずれも２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であった。
　しかしながら、書き味の官能試験の結果、例５－６に係るカバーガラスでは、入力ペンによる操作の際に、大きな引っかかり（ビビリ）感が感じられ、あまり良い書き味は得られなかった。また、例５－７に係るカバーガラスでは、入力ペンが滑りすぎて、しばしば、意図した入力操作を行うことが難しくなることがわかった。
　これに対して、例５－４、５－５、６－４に係るカバーガラスでは、入力ペンの引っかかりや、意図しない入力ペンの滑りが生じにくく、良好な書き味が得られた。
　ここで、動摩擦係数μｋおよび動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σの測定結果を参照すると、例５－６に係るカバーガラスでは、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σが０．０４と大きくなっており、例５－７に係るカバーガラスでは、動摩擦係数μｋが０．１３と小さくなっている。これに対して、例５－４、５－５、６－４に係るカバーガラスでは、いずれも動摩擦係数μｋが０．１４～０．５０の範囲にあり、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σは、０．０３以下の値となっている。
　従って、例５－６および例５－７に係るカバーガラスの書き味の低下は、動摩擦係数μｋ、および動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σの影響によるものであると考えられる。すなわち、例５－６および例５－７に係るカバーガラスでは、動摩擦係数μｋが比較的小さく、あるいは動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σが比較的大きくなっている。これに対して、例５－４、５－５、６－４に係るカバーガラスでは、動摩擦係数μｋが所定の範囲に収まっている上、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σが有意に小さく抑制されており、この結果、良好な書き味が得られたものと考えられる。
　本願は、２０１３年１１月１４日に出願した日本国特許出願２０１３－２３５８７０号、および２０１４年４月１６日に出願した日本国特許出願２０１４－０８４２５４号に基づく優先権を主張するものであり同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１００　　　ペン入力装置
　１１０　　　カバーガラス
　１２０　　　ディスプレイ装置
　１３０　　　デジタイザー回路
　１４０　　　電極
　１５０　　　スペーサー
　１６０　　　グリッド
　１７０　　　検出回路
　１８０　　　入力ペン
　３００　　　処理装置
　３１０　　　インジェクタ
　３１５　　　第１のスリット
　３２０　　　第２のスリット
　３２５　　　第３のスリット
　３５０　　　搬送手段
　３８０　　　ガラス基板

Claims (22)

  1. 　ペン入力装置用のカバーガラスであって、
    　ヘイズ値が１％未満であり、
    　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
    　当該カバーガラスの表面において、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重を受けた移動部材を、室温で１０ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋは、０．１４以上０．５０以下であり、前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）は、０．０３以下であり、
    　前記移動部材は、ロックウェル硬度がＭ９０のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が７００μｍの曲率半径を有するペンであることを特徴とするカバーガラス。
  2. 　当該カバーガラスの前記表面は、複数の領域を有し、該複数の領域は、相互に異なる動摩擦係数μｋおよび動摩擦力の標準偏差σを有することを特徴とする請求項１に記載のカバーガラス。
  3. 　ペン入力装置用のカバーガラスであって、
    　ヘイズ値が１％未満であり、
    　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
    　当該カバーガラスの表面において、移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であることを特徴とするカバーガラス。
  4. 　当該カバーガラスの前記表面は、複数の領域を有し、該複数の領域は、相互に異なる動摩擦係数μｋおよび動摩擦力の標準偏差σを有することを特徴とする請求項３に記載のカバーガラス。
  5. 　前記マルテンス硬さは、２０００Ｎ／ｍｍ２～３５００Ｎ／ｍｍ２の範囲であることを特徴とする請求項３または４に記載のカバーガラス。
  6. 　前記移動部材は合成皮革であり、
    　当該カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた前記移動部材を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか一つに記載のカバーガラス。
  7. 　表面粗さＲａ（算術平均粗さ）が０．２ｎｍ～２０ｎｍの範囲であり、
    　表面粗さＲｚ（最大高さ粗さ）が３．５ｎｍ～２００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一つに記載のカバーガラス。
  8. 　前記表面には、指紋付着防止材がコーティングされていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一つに記載のカバーガラス。
  9. 　前記指紋付着防止材は、前記表面の少なくとも一部の領域にコーティングされていることを特徴とする請求項８に記載のカバーガラス。
  10. 　当該カバーガラスのガラス組成として、モル％濃度で
    　ＳｉＯ２　６１～７７％、
    　Ａｌ２Ｏ３　１～１８％、
    　Ｎａ２Ｏ　８～１８％、
    　Ｋ２Ｏ　０～６％、
    　ＭｇＯ　０～１５％、
    　Ｂ２Ｏ３　０～８％、
    　ＣａＯ　０～９％、
    　ＳｒＯ　０～１％、
    　ＢａＯ　０～１％、
    　ＺｒＯ２　０～４％、
    を含むことを特徴とする、請求項１乃至９のいずれか一つに記載のカバーガラス。
  11. 　化学強化処理されていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一つに記載のカバーガラス。
  12. 　水滴に対する接触角が１００°以上であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一つに記載のカバーガラス。
  13. 　使用者によって情報が入力される入力装置用のカバーガラスであって、
    　ヘイズ値が１％未満であり、
    　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
    　動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、当該カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた合成皮革を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させた際に、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であり、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下であることを特徴とするカバーガラス。
  14. 　当該入力装置用のカバーガラスは、使用者が指で触れて入力することを特徴とする請求項１３に記載のカバーガラス。
  15. 　当該入力装置用のカバーガラスは、ペンで触れて入力することを特徴とする請求項１３に記載のカバーガラス。
  16. 　ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
    　（ａ）ガラス基板の表面にフッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
    　前記（ａ）の工程後に、
    　ヘイズ値が１％未満であり、
    　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
    　移動部材を一方向に移動させた際に、動摩擦力をＦｋ（Ｎ）とし、該動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差をσ（Ｎ）としたとき、σ／Ｆｋの値Ｙが０．０５以下である前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法。
  17. 　前記マルテンス硬さは、２０００Ｎ／ｍｍ２～３５００Ｎ／ｍｍ２の範囲であることを特徴とする請求項１６に記載のカバーガラスの製造方法。
  18. 　前記移動部材は合成皮革であり、
    　前記カバーガラスの表面において、５０ｇｆ（０．４９Ｎ）の荷重を受けた前記移動部材を、室温で１ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋが０．９以上であることを特徴とする請求項１６または１７に記載のカバーガラスの製造方法。
  19. 　ペン入力装置用のカバーガラスの製造方法であって、
    　（ａ）ガラス基板の表面にフッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスを接触させる工程であって、
    　前記（ａ）の工程後に、
    　ヘイズ値が１％未満であり、
    　マルテンス硬さが２０００Ｎ／ｍｍ２～４０００Ｎ／ｍｍ２の範囲であり、
    　ロックウェル硬度がＭ９０のポリアセタール系樹脂製のペン先を有し、該ペン先が７００μｍの曲率半径を有するペンを、１５０ｇｆ（１．４７Ｎ）の荷重で、室温で１０ｍｍ／秒の速度で一方向に移動させたとき、動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）と時間の関係が直線で近似される領域における動摩擦係数μｋは、０．１４以上０．５０以下であり、前記動摩擦力Ｆｋ（Ｎ）の標準偏差σ（Ｎ）は、０．０３以下となる前記ガラス基板が得られることを特徴とするカバーガラスの製造方法。
  20. 　前記（ａ）の工程後の前記ガラス基板の表面粗さＲａは、０．２ｎｍ～２０ｎｍの範囲であり、
    　前記（ａ）の工程後の前記ガラス基板の表面粗さＲｚは、３．５ｎｍ～２００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１６乃至１９のいずれか一つに記載のカバーガラスの製造方法。
  21. 　さらに、前記（ａ）の工程の後に、
    　（ｃ）前記ガラス基板に指紋付着防止材をコーティングする工程
    　を有することを特徴とする請求項１６乃至２０のいずれか一つに記載のカバーガラスの製造方法。
  22. 　前記（ｃ）の工程が存在しない場合、
    　さらに、前記（ａ）の工程の後に、
    　（ｂ）前記ガラス基板を化学強化処理する工程
    　を有し、
    　前記（ｃ）の工程が存在する場合、
    　さらに、前記（ａ）の工程の後であって、前記（ｃ）の工程の前に、
    　（ｂ）前記ガラス基板を化学強化処理する工程
    　を有することを特徴とする請求項１６乃至２１のいずれか一つに記載のカバーガラスの製造方法。
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