WO2015027594A1 - 彩膜基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

彩膜基板及其制备方法、显示装置 Download PDF

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WO2015027594A1
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layer
color filter
black matrix
color
transparent conductive
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PCT/CN2013/088309
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耿淼
高章飞
刘俊豪
程孟德
孔益
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合肥京东方光电科技有限公司
京东方科技集团股份有限公司
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Definitions

  • Color film substrate preparation method thereof, and display device
  • the present invention relates to the field of display technologies, and in particular, to a color film substrate, a preparation method thereof, and a display device. Background technique
  • the black matrix 2 is used as the first
  • the transparent conductive layer 4 of the color filter substrate for example, an ITO (Indium Tin Oxide) layer
  • the penultimate process before the spacer 5 is formed
  • the conductive layer 4 is exposed on the uppermost layer of the color filter substrate.
  • the specific process steps are as follows: First, a black matrix 2 and a color filter layer 3 are formed on the base substrate 1; then, a transparent conductive layer 4 is formed; finally, a spacer 5 is formed.
  • the transparent conductive layer 4 of the color filter substrate or the surface of the transparent conductive layer 6 of the array substrate has micro-particles
  • the transparent conductive layer 4 on the color filter substrate is passed through the micro-particles and the array substrate.
  • the transparent conductive layer 6 is abnormally turned on and off, causing undesirable phenomena such as bright spots or bright lines, and reducing product yield. Summary of the invention
  • the present invention provides a color filter substrate including a base substrate, a black matrix, a color filter layer, and a transparent conductive layer, the transparent conductive layer being formed on the base substrate and the color filter layer between.
  • the color filter substrate further includes a transparent protective layer, and the transparent protective layer is formed Formed on a color filter layer and a black matrix.
  • the color filter substrate further includes a spacer, and the spacer is formed on the transparent protective layer.
  • a display device of the present invention includes the above color film substrate.
  • the step S02 may include:
  • the step S02 may include:
  • Development is performed after the back exposure to form a pixel resin layer of the color; and the above steps are repeated to form a pixel resin layer of another color, and finally the patterning of the entire color filter layer is completed.
  • the step S02 may include:
  • the transparent conductive layer of the color film substrate is disposed between the substrate substrate and the color filter layer, breaking the conventional design idea and realizing the color film substrate
  • the isolation of the transparent conductive layer and the transparent conductive layer of the array substrate effectively avoids the transparent conductive layer and the array substrate of the color filter substrate due to the transparent conductive layer of the color filter substrate or the microparticles deposited on the transparent conductive layer of the array substrate.
  • the transparent conductive layer is not normally turned on, which causes undesirable phenomena such as bright lines or bright spots.
  • the present invention also provides a display device comprising the color filter substrate of the above technical solution, which can improve the display effect of the display device.
  • FIG. 2 is a schematic view showing the abnormal conduction of the conventional color filter substrate and the array substrate;
  • FIG. 3 is a schematic structural view of the color filter substrate of the present invention.
  • a color filter substrate of the present invention includes a base substrate 10, a black matrix 20, a color filter layer 30, and a transparent conductive layer (ie, a transparent conductive layer of a color filter substrate) 40, wherein A transparent conductive layer 40 of the film substrate is formed between the base substrate 10 and the color filter layer 30.
  • the transparent conductive layer 40 of the color filter substrate is disposed between the base substrate 10 and the color filter layer 30, which breaks the conventional design idea, and realizes the transparent conductive layer 40 of the color filter substrate and the transparent conductive layer of the array substrate.
  • the isolation effectively avoiding the transparent conductive layer 40 of the color filter substrate and the transparent conductive layer of the array substrate from being abnormally turned on due to the transparent conductive layer 40 of the color filter substrate or the fine particles deposited on the transparent conductive layer of the array substrate , causing undesirable phenomena such as bright lines or bright spots.
  • the transparent conductive layer 40 of the color filter substrate may be an ITO (indium tin oxide) layer.
  • the base substrate 10 may be made of a material such as glass, quartz or a transparent resin.
  • the color filter substrate of the present invention further includes a spacer 50, and the spacer 50 is formed on the transparent protective layer 60.
  • the present invention also provides a display device comprising the above color film substrate.
  • the color film substrate of the above technical solution can prevent the display device from being caused by the transparent conductive layer of the color filter substrate or the microparticles deposited on the transparent conductive layer of the array substrate.
  • the transparent conductive layer of the color filter substrate and the transparent conductive layer of the array substrate are not normally turned on to cause undesirable phenomena such as bright lines or bright spots, thereby improving the display effect.
  • the invention also provides a preparation method of a color film substrate, and lists three preferred embodiments, as follows:
  • the substrate 10 made of a material such as glass, quartz or transparent resin is first cleaned, and then the transparent conductive layer 40 is formed on the clean substrate 10 by coating, sputtering, spraying, or the like (for example, the ITO layer), as shown in Figure 4;
  • a color filter layer 30 (generally an RGB (red, green, blue) filter layer) in the open area;
  • the pixel resin 22 of one color is first coated, and the pixel resin layer of the color is formed at the opening area of the predetermined color filter layer by front side exposure and development (as shown by one sub-pixel 31 in FIG. 7).
  • the above steps are repeated to sequentially form pixel resin layers of other colors, and finally a color filter layer 30 is formed, as shown in FIG.
  • a method for preparing a color film substrate according to Embodiment 2 of the present invention includes the following steps:
  • the base substrate 10 made of a material such as glass, quartz or transparent resin is first cleaned, and then a transparent conductive layer 40 is formed on the clean base substrate 10 by a process such as coating, sputtering, spraying, or the like (for example, the ITO layer).
  • This step S100 is the same as step S1 in the first embodiment.
  • a black matrix layer 21 is formed on the base substrate 10 on which the transparent conductive layer 40 is formed, and a color filter layer 30 is formed on the black matrix layer 21 (taking the RGB filter layer as an example).
  • the black matrix layer 21 is formed on the base substrate 10 on which the transparent conductive layer 40 is formed by sputtering, coating, or evaporation, and is formed by using a mask having a light-transmitting region and a light-shielding region.
  • Exposure development as shown in FIG. 9, the mask is a light-transmissive region only in one pixel region (such as a red pixel region), and therefore, an opening of a pixel region is first formed, as shown in FIG. 10; a pixel region is formed
  • the open base substrate 10 is coated with a color pixel resin 22, and is subjected to back exposure, as shown in FIG. 11, after performing backside exposure, development is performed to form the sub-pixel 31 of the color, as shown in FIG. Similarly, the above steps are repeated to pattern other sub-pixels, and finally the entire color filter layer 30 is patterned.
  • step S400 may be further included to form a transparent protective layer 60 (shown in FIG. 8) on the substrate 10 on which the color filter layer 30 and the black matrix 20 are formed.
  • step S500 may be further included, and the spacer is coated on the transparent protective layer 60 to form a spacer (shown in FIG. 3) by exposure and development with a photoresist.
  • the spacers can be made synchronously by the process of fabricating the color filter layer, and only a different mask can be provided. In other words, the spacers are stacked by using a plurality of color filter layers.
  • a method for preparing a color film substrate according to Embodiment 3 of the present invention includes the following steps:
  • the substrate 10 made of a material such as glass, quartz or transparent resin is first cleaned, and then the transparent conductive layer 40 is formed on the clean substrate 10 by coating, sputtering, spraying, or the like (for example, the ITO layer).
  • This step is the same as the corresponding steps of the first embodiment and the second embodiment.
  • a red pixel resin is formed on the base substrate on which the transparent conductive layer 40 is formed, and is exposed and developed by a patterned mask to obtain a red filter layer.
  • a green filter layer and a blue filter layer are obtained on the base substrate while forming the red filter layer; and a alignment mark of the blue filter layer is formed on the base substrate while forming the green filter layer;
  • the order of formation of the three colors in the above-mentioned red, green, and blue color filter layers may be arbitrarily changed.
  • a black matrix 20 is formed on the color filter layer 30, as shown in FIG. 14; specifically, a black matrix photoresist is formed on the base substrate 10 on which the color filter layer 30 is formed, and is used for forming A special mask of the black matrix is exposed, developed, and etched to obtain a black matrix pattern.
  • step S40 may be further included to form a transparent protective layer 60 (shown in FIG. 8) on the substrate 10 on which the color filter layer 30 and the black matrix 20 are formed.
  • step S50 may be further included, and the spacer is coated on the transparent protective layer 60, and the spacer is formed by exposure and development with a photoresist (as shown in FIG. 3). Or, you can In order to simultaneously form the spacers by using the process of fabricating the color filter layer, it is only necessary to provide different masks. In other words, the spacers are stacked by using a plurality of color filter layers.

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Abstract

一种彩膜基板及其制备方法，以及一种包括该彩膜基板的显示装置，涉及显示技术领域，该彩膜基板包括衬底基板（10）、黑矩阵（20）、彩色滤光层（30）和透明导电层（40），该透明导电层（40）形成于衬底基板（10）和彩色滤光层（30）之间。通过将彩膜基板的透明导电层（40）设于衬底基板和彩色滤光层之间，实现了彩膜基板的透明导电层（40）和阵列基板的透明导电层的隔离，有效地避免了由于彩膜基板的透明导电层或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层不正常导通，进而造成亮线或亮点等不良现象。

Description

彩膜基板及其制备方法、 显示装置 技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及其制备方 法、 显示装置。 背景技术
目前 TN (扭曲向列）模式的 TFT-LCD(薄膜晶体管 -液晶显示器） 制作工艺中， 如图 1的现有彩膜基板的结构示意图所示， 在制备彩膜 基板时， 黑矩阵 2作为第一步在衬底基板 1上形成， 而彩膜基板的透 明导电层 4(例如为 ITO (铟锡氧化物）层）为倒数第二道工序制成 (在 形成隔垫物 5之前)， 透明导电层 4裸露在彩膜基板的最上层。 具体 工艺步骤为： 首先在衬底基板 1上形成黑矩阵 2和彩色滤光层 3; 然 后形成透明导电层 4; 最后形成隔垫物 5。
如图 2所示，当彩膜基板的透明导电层 4或阵列基板的透明导电 层 6的表面存在微颗粒时，则会使得彩膜基板上的透明导电层 4通过 微颗粒与阵列基板上的透明导电层 6上下不正常地导通，而引起亮点 或亮线等不良现象， 降低产品成品率。 发明内容
(一）要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是如何避免现有技术中存在的由于彩 膜基板的透明导电层或阵列基板的透明导电层上存在微颗粒而造成 两者之间不正常导通从而引起亮点或亮线的问题。
(二）技术方案
为了解决上述技术问题， 本发明提供一种彩膜基板， 其包括衬底 基板、 黑矩阵、 彩色滤光层和透明导电层， 所述透明导电层形成于所 述衬底基板和彩色滤光层之间。
进一步地， 所述彩膜基板还包括透明保护层， 所述透明保护层形 成于彩色滤光层和黑矩阵上。
进一步地， 所述彩膜基板还包括隔垫物， 所述隔垫物形成于所述 透明保护层上。
本发明一种显示装置， 其包括上述的彩膜基板。
本发明一种彩膜基板的制备方法， 其包括以下步骤：
51、 在衬底基板上形成透明导电层； 以及
S02、 在形成有透明导电层的衬底基板上形成包括黑矩阵和彩色 滤光层的图形。
其中， 步骤 S02可以包括：
52、在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层， 并在黑矩 阵层上形成用于形成彩色滤光层的开口区域； 以及
53、 在所述开口区域形成彩色滤光层。
其中， 步骤 S02可以包括：
在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层；
釆用一个具有透光区域和遮光区域的掩膜板进行曝光显影，该掩 膜板只在一个像素区域为透光区域以首先形成一个像素区域的开口； 在形成有一个像素区域的开口的衬底基板上涂敷一种颜色的像 素树脂；
进行背面曝光后进行显影以形成该种颜色的像素树脂层； 以及 重复上述步骤形成其他颜色的像素树脂层，最后完成整个彩色滤 光层的构图。
其中， 步骤 S02可以包括：
S20、 在形成有透明导电层的衬底基板上形成彩色滤光层；
S30、 在所述彩色滤光层上形成黑矩阵。
进一步地， 所述透明导电层为 ITO层。
进一步地， 在步骤 02之后还包括步骤 S04, 在形成有彩色滤光 层和黑矩阵的衬底基板上形成透明保护层。 进一步地， 在步骤 S04之后还包括步骤 S05, 在所述透明保护层 上形成隔垫物。
(三）有益效果
上述技术方案所提供的一种彩膜基板及其制备方法，将彩膜基板 的透明导电层设于衬底基板和彩色滤光层之间，打破了常规的设计思 路， 实现了彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层的隔离， 有效地避免了由于彩膜基板的透明导电层或阵列基板的透明导电层 上所沉积的微颗粒而导致彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明 导电层不正常导通， 进而造成亮线或亮点等不良现象。本发明还提供 一种包括上述技术方案的彩膜基板的显示装置，可提高显示装置的显 示效果。 附图说明
图 1是现有的彩膜基板的结构示意图；
图 2是现有的彩膜基板和阵列基板发生不正常导通的示意图； 图 3是本发明的彩膜基板的结构示意图；
图 4-图 8是本发明实施例一的彩膜基板的制备方法中的某些步骤 所形成的结构示意图；
图 9-图 12是本发明实施例二的彩膜基板的制备方法中的某些步 骤所形成的结构示意图； 以及
图 13-图 14是本发明实施例三的彩膜基板的制备方法的某些步骤 所形成的结构示意图。
其中， 1/10、 衬底基板； 2/20、 黑矩阵； 21、 黑矩阵层； 22、 像 素树脂； 3/30、 彩色滤光层； 31、 子像素； 4/40、 彩膜基板的透明导 电层； 5/50、 隔垫物； 6、 阵列基板的透明导电层； 60、 透明保护层。 具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细 描述。 以下实施例用于说明本发明， 但不用来限制本发明的范围。 在本发明的描述中， 需要说明的是， 术语 "上"、 "下"、 "正面"、 "背面" 等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关 系， 仅是为了便于描述本发明和简化描述， 而不是指示或暗示所指的 装置或元件必须具有特定的方位、 以特定的方位构造和操作， 因此不 能理解为对本发明的限制。此外，在本发明的描述中，除非另有说明， "多个" 的含义是两个或两个以上。 如图 3所示， 本发明的一种彩膜基板， 其包括衬底基板 10、 黑 矩阵 20、 彩色滤光层 30和透明导电层 （即彩膜基板的透明导电层） 40, 其中， 彩膜基板的透明导电层 40形成于衬底基板 10和彩色滤光 层 30之间。
本发明将彩膜基板的透明导电层 40设于衬底基板 10和彩色滤光 层 30之间， 打破了常规的设计思路， 实现了彩膜基板的透明导电层 40 和阵列基板的透明导电层的隔离， 有效地避免了由于彩膜基板的 透明导电层 40或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致彩 膜基板的透明导电层 40和阵列基板的透明导电层不正常导通， 进而 造成亮线或亮点等不良现象。 优选地， 彩膜基板的透明导电层 40可 为 ITO (铟锡氧化物）层。
衬底基板 10可由玻璃、 石英或透明树脂等材质制成。
本发明的彩膜基板还包括透明保护层 60, 所述透明保护层 60形 成于彩色滤光层 30和黑矩阵 20上。
本发明的彩膜基板还包括隔垫物 50, 所述隔垫物 50形成于所述 透明保护层 60上。 本发明还提供了一种显示装置， 其特征在于，包括上述的彩膜基 板。釆用上述技术方案的彩膜基板， 可避免显示装置出现由于彩膜基 板的透明导电层或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致 彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层不正常导通进而造 成亮线或亮点等不良现象， 从而提高了显示效果。 本发明还提供了一种彩膜基板的制备方法，并列举三种优选的实 施例， 如下： 实施例一
根据本发明实施例一的一种彩膜基板的制备方法包括以下步骤：
51、 在衬底基板上形成透明导电层 40;
具体为： 首先要将由玻璃、 石英或透明树脂等材质制成的衬底基 板 10清洗干净， 然后在洁净的衬底基板 10上釆用涂覆、 溅射、 喷涂 等工艺形成透明导电层 40 (例如， ITO层）， 如图 4所示；
52、 在形成有透明导电层 40的衬底基板 10上形成黑矩阵层 21 , 并在黑矩阵层 21上形成用于形成彩色滤光层的开口区域；
具体为： 如图 5所示， 先在形成有透明导电层 40的衬底基板 10 上釆用溅射、 涂覆或蒸镀等工艺形成黑矩阵层 21 , 然后釆用一具有 透光区域和遮光区域的掩模板进行正面曝光、显影形成具有多个用于 形成彩色滤光层的开口区域， 剩余的黑矩阵层部分为黑矩阵 20 (如 图 6所示）；
53、 在开口区域形成彩色滤光层 30 (一般为 RGB (红绿蓝）滤 光层）；
具体为： 首先涂覆一种颜色的像素树脂 22, 通过正面曝光并显 影而在预定彩色滤光层的开口区域处形成该种颜色的像素树脂层（如 图 7中的一个子像素 31所示）；重复上述的步骤依次形成其它颜色的 像素树脂层， 最后形成彩色滤光层 30, 如图 8所示。
在步骤 S3之后还可包括步骤 S4, 在形成有彩色滤光层 30的衬 底基板上形成透明保护层 60, 如图 8所示。 在步骤 S4之后还可包括步骤 S5, 在透明保护层 60上涂覆隔垫 物用光刻胶经过曝光显影形成隔垫物 （如图 3所示）。 或者， 也可以 利用制作彩色滤光层的工艺同步制成隔垫物，只需设置不同的掩模板 即可， 换言之， 隔垫物是用多个彩色滤光层堆叠而成。 实施例二
根据本发明实施例二的一种彩膜基板的制备方法包括以下步骤：
S100、 在衬底基板 10上形成透明导电层 40。
具体地， 首先要将由玻璃、 石英或透明树脂等材质制成的衬底基 板 10清洗干净， 然后釆用涂覆、 溅射、 喷涂等工艺在洁净的衬底基 板 10上形成透明导电层 40 (例如， ITO层）。 该步骤 S100与实施例 一中的步骤 S1相同。
S200、 在形成有透明导电层 40的衬底基板 10上形成黑矩阵层 21 , 并在黑矩阵层 21上形成彩色滤光层 30 (以 RGB滤光层为例）。
具体地： 先在形成有透明导电层 40的衬底基板 10上釆用溅射、 涂覆或蒸镀等工艺形成黑矩阵层 21 , 并釆用一个具有透光区域和遮 光区域的掩模板进行曝光显影， 如图 9所示， 该掩模板只在一个像素 区域（如红色像素区域）为透光区域， 因此， 首先形成一个像素区域 的开口， 如图 10所示； 在形成有一个像素区域的开口的衬底基板 10 上涂覆一种颜色像素树脂 22, 并进行背面曝光， 如图 11所示， 在进 行背面曝光后进行显影形成该种颜色的子像素 31 , 如图 12所示； 同 理， 重复上述的步骤进行其他子像素的构图， 最后完成整个彩色滤光 层 30的构图。
在步骤 S200之后还可包括步骤 S400, 在形成有彩色滤光层 30 和黑矩阵 20的衬底基板 10上形成透明保护层 60 (如图 8所示）。
在步骤 S400之后还可包括步骤 S500, 在透明保护层 60上涂覆 隔垫物用光刻胶经过曝光显影形成隔垫物 （如图 3所示）。 或者， 也 可以利用制作彩色滤光层的工艺同步制成隔垫物，只需设置不同的掩 模板即可， 换言之， 隔垫物是用多个彩色滤光层堆叠而成。 实施例三
根据本发明实施例三的一种彩膜基板的制备方法包括以下步骤：
S10、 在衬底基板 10上形成透明导电层 40;
具体为： 首先要将由玻璃、 石英或透明树脂等材质制成的衬底基 板 10清洗干净， 然后在洁净的衬底基板 10上釆用涂覆、 溅射、 喷涂 等工艺形成透明导电层 40 (例如， ITO层）。 该步骤与实施例一和实 施例二的对应步骤相同。
S20、 在形成有透明导电层 40的衬底基板 10上形成彩色滤光层 30 (以 RGB滤光层为例）， 如图 13所示；
具体为： 在形成有透明导电层 40的衬底基板上形成红色像素树 脂， 并通过刻画有图形的掩模板曝光并显影而得到红色滤光层。 重复 上述步骤得到绿色滤光层和蓝色滤光层。其中， 在形成红色滤光层的 同时在衬底基板上形成绿色滤光层的对位标记；在形成绿色滤光层的 同时在衬底基板上形成蓝色滤光层的对位标记； 其中， 上述红、 绿、 蓝三种颜色的滤光层的制作方法中该三种颜色的形成顺序可任意变 化。
S30、 在彩色滤光层 30上形成黑矩阵 20, 如图 14所示； 具体为：在形成有彩色滤光层 30的衬底基板 10上形成黑矩阵用 光刻胶， 并以用于形成黑矩阵的专用掩膜板进行曝光、 显影及刻蚀而 得到黑矩阵图形。
在步骤 S30之后还可包括步骤 S40, 在形成有彩色滤光层 30和 黑矩阵 20的衬底基板 10上形成透明保护层 60 (如图 8所示）。
在步骤 S40之后还可包括步骤 S50, 在透明保护层 60上涂覆隔 垫物用光刻胶经过曝光显影形成隔垫物 （如图 3所示）。 或者， 也可 以利用制作彩色滤光层的工艺同步制成隔垫物，只需设置不同的掩模 板即可， 换言之， 隔垫物是用多个彩色滤光层堆叠而成。 以上所述仅是本发明的优选实施方式， 应当指出， 对于本技术领 域的普通技术人员来说， 在不脱离本发明技术原理的前提下， 还可以 做出若干改进和替换， 这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。

Claims

权 利 要 求 书
1、 一种彩膜基板， 包括衬底基板、 黑矩阵、 彩色滤光层和透明 导电层， 其特征在于， 所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤 光层之间。
2、 如权利要求 1所述的彩膜基板， 其特征在于， 还包括透明保 护层， 所述透明保护层形成于彩色滤光层和黑矩阵上。
3、 如权利要求 2所述的彩膜基板， 其特征在于， 还包括隔垫物, 所述隔垫物形成于所述透明保护层上。
4、 如权利要求 1至 3中任意一项所述的彩膜基板， 其特征在于, 所述透明导电层为 ITO层。
5、 一种显示装置， 其特征在于， 包括权利要求 1至 4中任意一 项所述的彩膜基板。
6、 一种彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 包括以下步骤：
51、 在衬底基板上形成透明导电层； 以及
S02、 在形成有透明导电层的衬底基板上形成包括黑矩阵和彩色 滤光层的图形。
7、 如权利要求 6所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 步 骤 S02包括：
52、在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层， 并在黑矩 阵层上形成用于形成彩色滤光层的开口区域； 以及 S3、 在所述开口区域形成彩色滤光层。
8、 如权利要求 7所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 步 骤 S2包括：
在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层； 以及
釆用一个具有透光区域和遮光区域的掩膜板进行正面曝显影以 形成具有多个用于形成彩色滤光层的开口区域，剩下的黑矩阵层部分 为黑矩阵。
9、 如权利要求 7或 8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于, 步骤 S3包括：
涂敷一种颜色的像素树脂，通过正面曝光并显影而在预定彩色滤 光层的开口区域处形成该种颜色的像素树脂层，重复该步骤依次形成 其它颜色的像素树脂层， 最后形成彩色滤光层。
10、 如权利要求 6所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 步 骤 S02包括：
在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层；
釆用一个具有透光区域和遮光区域的掩膜板进行曝光显影，该掩 膜板只在一个像素区域为透光区域以首先形成一个像素区域的开口； 在形成有一个像素区域的开口的衬底基板上涂敷一种颜色的像 素树脂；
进行背面曝光后进行显影以形成该种颜色的像素树脂层； 以及 重复上述步骤形成其他颜色的像素树脂层，最后完成整个彩色滤 光层的构图。
11、 如权利要求 6所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 步 骤 S02包括：
S20、 在形成有透明导电层的衬底基板上形成彩色滤光层； 以及 S30、 在所述彩色滤光层上形成黑矩阵。
12、 如权利要求 11所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 步骤 S20包括：
在形成有透明导电层的衬底基板上形成一种颜色的像素树脂，并 通过掩膜板曝光并显影以形成该种颜色的像素树脂层，重复上述步骤 分别得到其他颜色的像素树脂层， 最终形成彩色滤光层。
13、 如权利要求 12所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 在形成一种颜色的像素树脂层的同时，在衬底基板上形成下一种颜色 的像素树脂层的对位标记。
14、如权利要求 11至 13中的任意一项所述的彩膜基板的制备方 法， 其特征在于， 步骤 S30包括：
在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成黑矩阵用光刻胶， 以及以 用于形成黑矩阵的专用掩膜板进行曝光、 显影及刻蚀而得到黑矩阵。
15、 如权利要求 6至 14中的任意一项所述的彩膜基板的制备方 法， 其特征在于， 所述透明导电层为 ITO层。
16、如权利要求 6至 15中任意一项所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于， 在步骤 S02之后还包括步骤 S04, 在形成有彩色滤光层 和黑矩阵的衬底基板上形成透明保护层。
17、 如权利要求 16所述的彩膜基板的制备方法， 其特征在于, 在步骤 S04之后还包括步骤 S05, 在所述透明保护层上形成隔垫物。
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