CN112241080A - 滤光片基板及形成方法、液晶显示器及形成方法 - Google Patents

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Abstract

一种滤光片基板及形成方法、液晶显示器及形成方法，滤光片基板包括：基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；位于所述基板透光区上及部分遮光层上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板表面；电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间、或者位于所述滤光结构第二面上。所述滤光片基板形成的液晶显示器性能得到提升。

Description

滤光片基板及形成方法、液晶显示器及形成方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种滤光片基板及其形成方法、一种液晶显示器及其形成方法。
背景技术
液晶显示器以其高显示品质、价格低廉、携带方便等优点，是目前使用最广泛的一种平板显示器，其已经逐渐成为各种电子设备如移动电话、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕所广泛应用具有高分辨率彩色屏幕的显示器。
目前普遍采用的液晶显示装置通过利用填充在液晶显示面板内的液晶层，控制来自光源的出射光的光学特性而进行显示，一般具有有源矩阵基板、滤光片基板、和被装置在它们之间的液晶层，利用配置在基板间的间隔物保持液晶层的厚度(单元间隙)。滤光片基板是具有红色(R)、蓝色(B)、绿色(G)等的着色层，在液晶显示装置等显示装置中实现彩色显示的部件。
然而，现有的液晶显示器的性能还有待改善。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种滤光片基板及其形成方法、一种液晶显示器及其形成方法，以改善液晶显示器的性能。
为解决上述技术问题，本发明技术方案提供一种滤光片基板，其特征在于，包括：基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；位于所述基板透光区上及部分遮光层上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板表面；电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间、或者位于所述滤光结构第二面上。
可选的，所述第一电极层对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％；所述第二电极层对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％。
可选的，所述第一电极层的材料包括金属氧化物；所述第二电极层的材料包括金属氧化物。
可选的，所述第一电极层的材料包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌；所述第二电极层的材料包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。
可选的，所述电极结构的厚度范围为1100埃～1600埃。
可选的，所述第一电极层的厚度为所述电极结构的厚度的40％～60％。
可选的，所述第二电极层的厚度为所述电极结构的厚度的40％～60％。
可选的，所述基板包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区；所述遮光区位于相邻透光区之间。
可选的，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个所述滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
可选的，每个所述像素区包括3个～4个透光区；每个所述像素区上具有至少一个红色滤光层、至少一个绿色滤光层以及至少一个蓝色滤光层。
可选的，还包括：间隔柱，当所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间时，所述间隔柱位于所述遮光区上的滤光结构第二面表面；当所述电极结构位于所述滤光结构第二面上时，所述间隔柱位于所述遮光区上的电极结构表面。
相应的，本发明技术方案还提供一种形成上述任一项滤光片基板的方法，包括：提供基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；在所述基板透光区上及部分遮光层上形成滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，所述第一面朝向所述基板表面；在形成所述滤光结构之前，在所述基板表面和所述滤光结构第一面之间形成电极结构；或者，在所述滤光结构第二面上形成电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层。
可选的，所述第一电极层的形成工艺包括沉积工艺或涂覆工艺；所述第二电极层的形成工艺包括沉积工艺或涂覆工艺。
可选的，当所述基板包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区，所述滤光结构包括若干滤光层，每个所述透光区上具有一个所述滤光层，每个所述滤光层的形成工艺包括曝光显影工艺。
相应的，本发明技术方案还提供一种采用上述任一项滤光片基板形成的液晶显示器，包括：上述任一项所述的滤光片基板；与所述滤光片基板重叠的有源矩阵基板；位于滤光片基板和有源矩阵基板之间的液晶层。
相应的，本发明技术方案还提供一种形成上述任一项液晶显示器的方法。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下有益效果：
本发明技术方案的滤光片基板，在所述滤光层第一面和基板之间形成电极结构，或者在所述滤光层第二面表面形成电极结构，所述电极结构包括第一电极层和位于第一电极层上的第二电极层，所述第一电极层和第二电极层叠加后，根据朗伯-比尔定律，在可见光范围内，短波段380nm～480nm范围的透过率在可见光范围内的透过率占比提升；所述短波段380nm～480nm为蓝光波段，则可见光透过所述第一电极层和第二电极层后，蓝光占比偏高，则所述滤光基板的目视颜色偏蓝，从而提升了所述滤光片基板的色温，使得所述滤光基板显示效果更好。
附图说明
图1至图6是本发明一实施例中滤光片基板形成过程的剖面结构示意图；
图7至图9是本发明另一实施例中滤光片基板形成过程的剖面结构示意图；
图10至图11是本发明一实施例中液晶显示器形成过程的剖面结构示意图；
图12为本发明另一实施例中液晶显示器形成过程的剖面结构示意图。
具体实施方式
如背景技术所述，现有的液晶显示器的性能还有待改善。
具体的，目前的滤光片基板采用铟锡氧化物层作为透明电极层，所述透明电极层需同时满足透光性能和导电性能，所述导电性能要求所述透明电极层厚度不能太薄，而所述透光性能要求所述透明电极层厚度不能太厚；同时，光线在经过滤光层时必然会经过所述透明电极层，则所述透明电极层的光学性能影响透过所述滤光片基板的光的光学特性。
为了同时满足透光性能和导电性能，所述透明电极层的厚度1100埃～1600埃范围内，通过实验验证，所述透明电极层在可见光范围内的透过率，蓝光波段的透过率占比较低，红色波段和绿色波段的透过率占比较高，从而使得所述彩色滤光基板的目视颜色偏黄，使得所述彩色滤光基板显示的色温偏低，显示效果失真，不符合大众的视觉习惯。
为了解决上述问题，本发明技术方案提供了一种滤光片基板及其形成方法、以及采用所述滤光片基板形成的液晶显示器，在所述滤光层第一面和基板之间形成电极结构，或者在所述滤光层第二面表面形成电极结构，所述电极结构包括第一电极层和位于第一电极层上的第二电极层，所述第一电极层和第二电极层叠加后，在可见光范围内，短波段380nm～480nm范围的透过率在可见光范围内的透过率占比提升，则蓝光占比偏高，则所述滤光基板的目视颜色偏蓝，从而提升了所述滤光片基板的色温，使得所述滤光基板显示效果更好。
为使本发明的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
图1至图6是本发明实施例中滤光片基板形成过程的剖面结构示意图。
请参考图1，提供基板100，所述基板100包括透光区A和遮光区B，所述遮光区B表面具有遮光层101。
所述基板100包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区A；所述遮光区B位于相邻透光区A之间。
每个所述像素区包括3个～4个透光区A。
在本实施例中，每个所述像素区包括3个透光区A。
所述遮光层101用于防止后续在相邻所述透光区A上形成的滤光层之间的光串扰。
在本实施例中，所述遮光层101的材料包括黑色有机材料；所述黑色有机材料包括黑色光刻胶。
所述遮光层101的形成方法包括：在所述基板100表面形成遮光材料层(未图示)；对所述遮光材料层进行曝光、显影处理，在所述遮光区B表面形成遮光层101。
在其他实施例中，所述遮光层的材料包括金属。
所述金属材料的遮光层的形成方法包括：在所述基板表面形成遮光材料层(未图示)；在所述遮光材料层表面形成图形化的掩膜层(未图示)；以所述图形化的掩膜层为掩膜刻蚀所述遮光材料层，在在所述遮光区B表面形成遮光层。
所述基板100的材料包括氧化硅、聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或者三醋酸纤维素(TAC)。
在本实施例中，所述基板100的材料包括氧化硅。
请参考图2，在所述基板100透光区A上及部分遮光层101上形成滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，所述第一面朝向所述基板100表面。
所述滤光结构使得光线通过所述滤光结构后变成单色光，以满足器件的需求。
所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区A上具有一个所述滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
每个所述像素区上具有至少一个红色滤光层、至少一个绿色滤光层以及至少一个蓝色滤光层。
在本实施例中，每个所述像素区上具有一个红色滤光层102、一个绿色滤光层103以及一个蓝色滤光层104。
所述滤光层的材料包括透过单色光的光刻胶。
在本实施例中，所述红色滤光层102的材料包括透过红色光的光刻胶；所述绿色滤光层103的材料包括透过绿色光的光刻胶；所述蓝色滤光层104的材料包括透过蓝色光的光刻胶。
所述红色滤光层102的形成方法包括：在所述基板100表面和所述遮光层101表面形成红色滤光层材料(未图示)；对所述红色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A及部分遮光层101上形成红色滤光层102。
所述绿色滤光层103的形成方法包括：在所述基板100表面和所述遮光层101表面形成绿色滤光层材料(未图示)；对所述绿色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A及部分遮光层101上形成绿色滤光层103。
所述蓝色滤光层104的形成方法包括：在所述基板100表面和所述遮光层101表面形成蓝色滤光层材料(未图示)；对所述蓝色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A及部分遮光层101上形成蓝色滤光层104。
所述红色滤光层102、绿色滤光层103以及蓝色滤光层104的形成顺序没有先后的区分。
接下来，在所述滤光结构第二面上形成电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板100表面方向重叠的第一电极层和第二电极层。所述电极结构的形成方法如图3至图4所示。
所述电极结构为后续位于所述滤光片基板与所述有源矩阵基板之间的液晶层提供公共电极。
用于所述滤光片基板的电极结构需同时满足导电性能和透光性能的要求，所述电极结构的方块电阻需小于40欧姆，则所述电极结构需要一定的厚度；所述电极结构的透过率越高越好，则所述电极结构的厚度不能过厚。
在本实施例中，所述电极结构的厚度范围为1100埃～1600埃。
所述厚度范围为1100埃～1600埃的电极结构，能够满足应用在所述滤光片基板的电极结构需要同时具备的良好导电性能和透光性能。
在满足所述电极结构导电性能和透光性能的厚度情况下，所述滤光片基板的色温也需要提升，色温高，则所述滤光片基板目视效果更接近真实场景。提升色温，则需要提升蓝色光在所述显示效果中的占比，使所述滤光片基板的目视效果偏蓝，则需要提升所述电极结构在短波段(380nm～480nm)的透过率在所述可见光波段范围内的透过率占比。
在本实施例中，所述电极结构包括沿垂直于基板100表面方向重叠的第一电极层和第二电极层，所述第一电极层和第二电极层重叠后在短波段380nm～480nm的透过率在所述可见光波段范围内的透过率占比提升，所述滤光片基板的色温得到提升，显示效果更好。
请参考图3，在所述滤光结构第二面上形成第一电极层105。
在本实施例中，所述第一电极层105的厚度为所述电极结构厚度的40％～60％。
在所述厚度范围内的所述第一电极层105与所述第二电极层重叠后，根据朗伯-比尔定律，在可见光范围内，短波段380nm～480nm范围的透过率在可见光范围内的透过率占比提升，对所述滤光片基板的色温提升效果较好。
在本实施例中，所述第一电极层105对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％。
当所述第一电极层105对于380nm～480nm波段光波的透过率高时，则后续与所述第二电极层叠加后的透过率高，所形成的滤光片基板显示效果的均匀性较好。
所述第一电极层105的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。
在本实施例中，所述第一电极层105的材料包括氧化铟锡。
形成所述第一电极层105的工艺包括沉积工艺或涂覆工艺。
在本实施例中，形成所述第一电极层105的工艺包括沉积工艺；所述沉积工艺包括化学气相沉积工艺。
请参考图4，在所述第一电极层105上形成第二电极层106。
在本实施例中，所述第二电极层106的厚度为所述电极结构厚度的40％～60％。
在所述厚度范围内的所述第二电极层106与所述第一电极层105重叠后，根据朗伯-比尔定律，在可见光范围内，短波段380nm～480nm范围的透过率在可见光范围内的透过率占比提升，对所述滤光片基板的色温提升效果较好。
在本实施例中，所述第二电极层106对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％。
当所述第二电极层106对于380nm～480nm波段光波的透过率高时，与所述第一电极层叠加后，所形成的滤光片基板显示效果的均匀性较好。
所述第二电极层106的材料包括金属氧化物，所述金属氧化物包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。
在本实施例中，所述第二电极层106的材料包括氧化铟锡。
形成所述第二电极层106的工艺包括沉积工艺或涂覆工艺。
在本实施例中，形成所述第二电极层106的工艺包括沉积工艺；所述沉积工艺包括化学气相沉积工艺。
请参考图5，图5为所述电极结构在可见光380nm～780nm波长范围内的透过率曲线。
单独的所述第一电极层105与单独的所述第二电极层106在短波段380nm～480nm范围的透过率占比提升效果不明显，在所述电极结构厚度范围为1100埃～1600埃、所述第一电极层105的厚度为所述电极结构厚度的40％～60％以及所述第二电极层106的厚度为所述电极结构厚度的40％～60％的情况下，所述第一电极层105和第二电极层106叠加后，根据朗伯-比尔定律，在可见光范围内，短波段380nm～480nm范围的透过率在可见光范围内的透过率占比提升。
结合图5所述，所述短波段380nm～480nm为蓝光波段，则可见光透过所述第一电极层105和第二电极层106后，蓝光占比偏高，则所述滤光片基板的目视颜色偏蓝，从而提升了所述滤光片基板的色温，使得所述滤光基板显示效果更好。
请参考图6，在所述滤光结构上形成所述电极结构之后，在所述电极结构表面形成间隔柱107。
所述间隔柱用于后续采用所述滤光片基板形成液晶显示器之后，支撑所述滤光片基板和所述有源矩阵基板，为位于所述滤光片基板和所述有源矩阵基板之间的液晶层留够空间。
所述间隔柱107位于所述遮光区B上的电极结构表面。
所述间隔柱107位于所述遮光区B上的电极结构表面，则对所述透光区A光线的透过影响较小。
所述间隔柱107的材料包括有机材料。
在本实施例中，所述间隔柱107的材料包括光刻胶。
形成所述间隔柱107的工艺包括曝光显影工艺。
至此，本实施例形成的滤光片基板的色温得到了提升，所述滤光片基板的显示效果更好。
相应的，本发明实施例还提供一种采用上述方法所形成的滤光片基板，请继续参考图6，包括：
基板100，所述基板100包括透光区A和遮光区B，所述遮光区B表面具有遮光层101；
位于所述基板100透光区A上及部分遮光层101上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板100表面，所述滤光结构包括红色滤光层102、绿色滤光层103以及蓝色滤光层104；
位于所述滤光结构第二面上的电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层105和第二电极层106。
所述滤光片基板还包括位于所述电极结构上的间隔柱107，所述间隔柱107位于所述遮光区B上的电极结构表面。
在本发明另一实施例中，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间，具体形成过程请参考如下。
图7至图9是本发明另一实施例中滤光片基板形成过程的剖面结构示意图。
请继续参考图1，提供基板100，所述基板100包括透光区A和遮光区B，所述遮光区B表面具有遮光层101。
所述基板100包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区A；所述遮光区B位于相邻透光区A之间。
每个所述像素区包括3个～4个透光区A。
在本实施例中，每个所述像素区包括3个透光区A。
所述遮光层101用于防止后续在相邻所述透光区A上形成的滤光层之间的光串扰。
在本实施例中，所述遮光层101的材料包括黑色有机材料；所述黑色有机材料包括黑色光刻胶。
所述遮光层101的形成方法包括：在所述基板100表面形成遮光材料层(未图示)；对所述遮光材料层进行曝光、显影处理，在所述遮光区B表面形成遮光层101。
在其他实施例中，所述遮光层的材料包括金属。
所述金属材料的遮光层的形成方法包括：在所述基板表面形成遮光材料层(未图示)；在所述遮光材料层表面形成图形化的掩膜层(未图示)；以所述图形化的掩膜层为掩膜刻蚀所述遮光材料层，在在所述遮光区B表面形成遮光层。
所述基板100的材料包括氧化硅、聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或者三醋酸纤维素(TAC)。
在本实施例中，所述基板100的材料包括氧化硅。
请参考图7，在所述基板100和所述遮光层101上形成电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板100表面方向重叠的第一电极层205和第二电极层206。
所述第一电极层205的具体形成方法请参考图3，所述第二电极层206的具体形成方法请参考图4，所述电极结构的性能请参考图5所述，在此不再赘述。
请参考图8，在所述电极结构表面形成滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，所述第一面朝向所述基板100表面。
所述滤光结构使得光线通过所述滤光结构后变成单色光，以满足器件的需求。
所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区A上具有一个所述滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
每个所述像素区上具有至少一个红色滤光层、至少一个绿色滤光层以及至少一个蓝色滤光层。
在本实施例中，每个所述像素区上具有一个红色滤光层202、一个绿色滤光层203以及一个蓝色滤光层204。
所述滤光层的材料包括透过单色光的光刻胶。
在本实施例中，所述红色滤光层202的材料包括透过红色光的光刻胶；所述绿色滤光层203的材料包括透过绿色光的光刻胶；所述蓝色滤光层204的材料包括透过蓝色光的光刻胶。
所述红色滤光层202的形成方法包括：在所述电极结构表面形成红色滤光层材料(未图示)；对所述红色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A上的电极结构表面形成红色滤光层202。
所述绿色滤光层203的形成方法包括：在所述电极结构表面形成绿色滤光层材料(未图示)；对所述绿色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A上的电极结构表面形成绿色滤光层203。
所述蓝色滤光层204的形成方法包括：在所述电极结构表面形成蓝色滤光层材料(未图示)；对所述蓝色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A上的电极结构表面形成蓝色滤光层204。
所述红色滤光层202、绿色滤光层203以及蓝色滤光层204的形成顺序没有先后的区分。
请参考图9，在形成所述滤光结构后，在所述滤光结构第二面表面形成间隔柱207。
所述间隔柱207的具体形成方法请参考图5及相关说明，在此不再赘述。
相应的，本发明实施例还提供一种采用上述方法所形成的滤光片基板，请继续参考图9，包括：
基板100，所述基板100包括透光区A和遮光区B，所述遮光区B表面具有遮光层101；
位于所述基板100透光区A上及部分遮光层101上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板100表面,所述滤光结构包括红色滤光层202、绿色滤光层203以及蓝色滤光层204；
电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板100表面方向重叠的第一电极层205和第二电极层206，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板100之间。
所述滤光片基板还包括位于所述滤光结构上的间隔柱207，所述间隔柱207位于所述遮光区B上的滤光结构表面。
图10至图11是本发明一实施例中液晶显示器形成过程的剖面结构示意图。
请参考图6，提供上述方法所形成的滤光片基板。
在本实施例中，所述滤光片基板如图6所述。所述滤光片基板的形成方法、结构、材料及功能如图1至图6及相关说明所述，在此不作赘述。
在另一实施例中，提供如图9所述的滤光片基板。
请参考图10，提供有源矩阵基板，所述有源矩阵基板包括下基板300、位于下基板300表面的薄膜晶体管矩阵301以及位于所述薄膜晶体管矩阵301表面的导电结构(未图示)。
所述薄膜晶体管矩阵301包含多个薄膜晶体管，每个薄膜晶体管对应一个像素区。
所述导电结构与所述滤光片基板上的电极结构在通电情况下形成电场对所述液晶分子进行控制，所述薄膜晶体管驱动所述电场发生变化，从而所述液晶分子的排列方式发生变化，以达到调节显示效果的作用。
请参考图11，将所述有源矩阵基板和所述滤光片基板重叠，所述有源矩阵基板的薄膜晶体管矩阵301表面朝向所述滤光片基板的间隔柱表面；用框胶将所述有源矩阵基板和所述滤光片基板的四边框进行密封，并在其中一边形成液晶灌入口；从所述液晶灌入口注入液晶，在所述有源矩阵基板和所述滤光片基板之间形成液晶层302，所述液晶层302与所述有源矩阵基板和所述滤光片基板形成所述液晶显示器。
相应的，本发明实施例还提供一种采用上述方法所形成的液晶显示器，请继续参考图11，包括：
滤光片基板；
与所述滤光片基板重叠的有源矩阵基板；
位于滤光片基板和有源矩阵基板之间的液晶层302。
所述滤光片基板包括：基板100，所述基板100包括透光区A和遮光区B，所述遮光区B表面具有遮光层101；
位于所述基板100透光区A上及部分遮光层101上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板100表面，所述滤光结构包括红色滤光层102、绿色滤光层103以及蓝色滤光层104；
位于所述滤光结构第二面上的电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层105和第二电极层106；
所述滤光片基板还包括位于所述电极结构上的间隔柱107，所述间隔柱107位于所述遮光区B上的电极结构表面。
所述有源矩阵基板包括：下基板300、位于下基板300表面的薄膜晶体管矩阵301以及位于所述薄膜晶体管矩阵301表面的导电结构(未图示)。
所述液晶显示器的色温得到了提升，所述滤光片基板的显示效果更好。
图12为本发明另一实施例中液晶显示器形成过程的剖面结构示意图。
请参考图9，提供上述方法所形成的滤光片基板。
在本实施例中，所述滤光片基板如图9所述。所述滤光片基板的形成方法、结构、材料及功能如图7至图9及相关说明所述，在此不作赘述。
请参考图10，提供有源矩阵基板，所述有源矩阵基板包括下基板300、位于下基板300表面的薄膜晶体管矩阵301以及位于所述薄膜晶体管矩阵301表面的导电结构(未图示)。
所述薄膜晶体管矩阵301包含多个薄膜晶体管，每个薄膜晶体管对应一个像素区。
所述导电结构与所述滤光片基板上的电极结构在通电情况下形成电场对所述液晶分子进行控制，所述薄膜晶体管驱动所述电场发生变化，从而所述液晶分子的排列方式发生变化，以达到调节显示效果的作用。
请参考图12，将所述有源矩阵基板和所述滤光片基板重叠，所述有源矩阵基板的薄膜晶体管矩阵301表面朝向所述滤光片基板的间隔柱表面；用框胶将所述有源矩阵基板和所述滤光片基板的四边框进行密封，并在其中一边形成液晶灌入口；从所述液晶灌入口注入液晶，在所述有源矩阵基板和所述滤光片基板之间形成液晶层402，所述液晶层402与所述有源矩阵基板和所述滤光片基板形成所述液晶显示器。
相应的，本发明实施例还提供一种采用上述方法所形成的液晶显示器，请继续参考图12，包括：
滤光片基板；
与所述滤光片基板重叠的有源矩阵基板；
位于滤光片基板和有源矩阵基板之间的液晶层402。
所述滤光片基板包括：基板100，所述基板100包括透光区A和遮光区B，所述遮光区B表面具有遮光层101；
位于所述基板100透光区A上及部分遮光层101上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板100表面,所述滤光结构包括红色滤光层202、绿色滤光层203以及蓝色滤光层204；
电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板100表面方向重叠的第一电极层205和第二电极层206，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板100之间；
所述滤光片基板还包括位于所述滤光结构上的间隔柱207，所述间隔柱207位于所述遮光区B上的滤光结构表面。
所述有源矩阵基板包括：下基板300、位于下基板300表面的薄膜晶体管矩阵301以及位于所述薄膜晶体管矩阵301表面的导电结构(未图示)。
所述液晶显示器的色温得到了提升，所述滤光片基板的显示效果更好。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (16)

1.一种滤光片基板，其特征在于，包括：
基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；
位于所述基板透光区上及部分遮光层上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板表面；
电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间、或者位于所述滤光结构第二面上。
2.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％；所述第二电极层对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％。
3.如权利要求2所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层的材料包括金属氧化物；所述第二电极层的材料包括金属氧化物。
4.如权利要求3所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层的材料包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌；所述第二电极层的材料包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。
5.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，所述电极结构的厚度范围为1100埃～1600埃。
6.如权利要求5所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层的厚度为所述电极结构的厚度的40％～60％。
7.如权利要求5所述的滤光片基板，其特征在于，所述第二电极层的厚度为所述电极结构的厚度的40％～60％。
8.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，所述基板包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区；所述遮光区位于相邻透光区之间。
9.如权利要求8所述的滤光片基板，其特征在于，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个所述滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
10.如权利要求8所述的滤光片基板，其特征在于，每个所述像素区包括3个～4个透光区；每个所述像素区上具有至少一个红色滤光层、至少一个绿色滤光层以及至少一个蓝色滤光层。
11.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，还包括：间隔柱，当所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间时，所述间隔柱位于所述遮光区上的滤光结构第二面表面；当所述电极结构位于所述滤光结构第二面上时，所述间隔柱位于所述遮光区上的电极结构表面。
12.一种形成如权利要求1至11任一项滤光片基板的方法，其特征在于，包括：
提供基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；
在所述基板透光区上及部分遮光层上形成滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，所述第一面朝向所述基板表面；
在形成所述滤光结构之前，在所述基板表面和所述滤光结构第一面之间形成电极结构；或者，在所述滤光结构第二面上形成电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层。
13.如权利要求12所述的滤光片基板的形成方法，其特征在于，所述第一电极层的形成工艺包括沉积工艺或涂覆工艺；所述第二电极层的形成工艺包括沉积工艺或涂覆工艺。
14.如权利要求12所述的滤光片基板的形成方法，其特征在于，当所述基板包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区，所述滤光结构包括若干滤光层，每个所述透光区上具有一个所述滤光层，每个所述滤光层的形成工艺包括曝光显影工艺。
15.一种液晶显示器，其特征在于，包括：
如权利要求1至11任一项所述的滤光片基板；
与所述滤光片基板重叠的有源矩阵基板；
位于滤光片基板和有源矩阵基板之间的液晶层。
16.一种形成如权利要求15所述的液晶显示器的方法。
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