JP5736913B2 - カラーフィルタ基板及びそれを備えた液晶表示装置 - Google Patents
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前記裏面の膜面の一層目に透明導電膜が形成されており、かつ、前記透明導電膜を覆う形で膜面の二層目に無機透明絶縁膜が形成されており、この無機透明絶縁膜上に前記カラーフィルタ層を構成する着色画素が配置されており、
前記無機透明絶縁膜が、酸化ケイ素を主成分とし、酸化インジウム又は酸化錫を混合した絶縁膜から成ることを特徴とするカラーフィルタ基板である。
TOが露出せずに、表面にガラス基板の表面が露出している場合には、フォトリソ工程でレジスト樹脂成分が画素開口部に残らないことは、従来からのカラーフィルタ製造の中で技術的に確立されていた。そこで、本発明では、開口部となる部分のITOの表面をガラス基板表面と同様の無機透明絶縁膜で覆うことで、ブラックマトリックス形成時および着色層形成時に、残渣が開口部に残ることなく、パネル透過率の低下を防ぐことが出来る。この無機透明絶縁膜としては、酸化ケイ素(SiO2)を含むガラス薄膜が好適である。
よって互いに絶縁され、X軸方向に整列する第1の透光性電極の各々は第1の透光性電極上の透明絶縁膜のコンタクトホールを通じてX軸方向及びY軸方向に配列される導電性材料からなる複数のジャンパーによって相互に電気的に接続される。また、第1の透光性電極と第2の透光性電極とのそれぞれのパネル端部には電気信号を検出するための図示しない検出器に接続されている金属電極を備える。さらに、その上に感光性透明樹脂で形成される保護膜を備える。なお、本発明のカラーフィルタ基板は、表面側のタッチパネル電極の構成に制限されるものではない。
次に、ITO等インジウム、スズ、ガリウム、亜鉛などの金属酸化物の複合酸化物の透光性導電材料を用いて、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の真空成膜手法を用いた同一工程で、上記した絶縁膜とジャンパーを有する透明基板2の上全面に透明導電膜を形成する。その後、この透明導電膜を公知の手法でパターニングして、所定形状の第1の透光性電極と第2の透光性電極を形成する。
次に、透明導電膜7及び無機透明絶縁膜9が形成された透明基板1の上に、画素部に対応する開口領域を画定する樹脂ブラックマトリックス2を形成する。この場合、前記したタッチパネル電極10のジャンパーが、基板表示面を垂直方向から見たときに、この樹脂ブラックマトリックス2と重なる所定の位置となるようにブラックマトリックスのピッチ及び形状を設計する。本実施形態においては、このジャンパーと樹脂ブラックマトリックス2の位置の条件を満たす範囲であれば、第1の透光性電極と第2の透光性電極のそれぞれのピッチは、例えば、赤色画素(R)、緑色画素(G)、青色画素(B)で構成される単位画素毎にも、あるいは、所定個数の単位画素毎にも形成することができ、その形状も矩形以外の各種形状を選択することが可能である。なお、本実施形態では、樹脂ブラックマトリックスの幅は3〜30μmの範囲が好ましい。
の着色層3を形成する。そしてさらに、この上全面にオーバーコート層4を形成する。
することができる。例えば、ネマティック液晶やスメクチック液晶が良好な表示を得るために用いられる。スメクチック液晶には強誘電性液晶や反強誘電性液晶などが含まれる。ネマティック液晶としては、表示方式に応じて誘電異方性の正のもの、負のものを適宜用いることができる。前述したように、本発明のカラーフィルタ基板はIPS方式液晶パネル用として好適に用いることが出来る。
4・・・オーバーコート層 5・・・フォトスペーサー 6・・・「裏面ITO」
7・・・(膜面最下層)ITO、透明導電膜 8・・・残渣 9・・・無機透明絶縁膜
10・・・タッチパネル電極
Claims (3)
- 同一の透明基板の、表面に静電容量型のタッチパネル電極と、裏面にカラーフィルタ層と、が形成されたカラーフィルタ基板において、
前記裏面の膜面の一層目に透明導電膜が形成されており、かつ、前記透明導電膜を覆う形で膜面の二層目に無機透明絶縁膜が形成されており、この無機透明絶縁膜上に前記カラーフィルタ層を構成する着色画素が配置されており、
前記無機透明絶縁膜が、酸化ケイ素を主成分とし、酸化インジウム又は酸化錫を混合した絶縁膜から成ることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 前記無機透明絶縁膜上に、画素部に対応する開口領域を画定する樹脂ブラックマトリックスを備えていると共に、この開口領域に前記着色画素が配置されており、前記無機透明絶縁膜は、少なくとも樹脂ブラックマトリックスで画定される開口領域全体に形成されていることを特徴とする請求項1に記載するカラーフィルタ基板。
- 請求項1又は2に記載するカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする液晶表示装置。
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