KR20180092850A - 편광판, 편광판의 제작 방법 및 표시 장치 - Google Patents

Abstract

[과제] 광 누설을 방지하는 편광판, 편광판의 제작 방법 및 표시 장치를 제공하는 것.
[해결 수단] 일 방향으로 연신하는 선상부와 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 복수 포함하고, 선상부는 외부로부터 입사하는 가시광의 가장 짧은 파장 이하의 폭을 갖고, 복수의 선상 영역의 사이는 보호막이 포함되고, 보호막은 가시광을 차광하는 것을 특징으로 하는 편광판.

Description

편광판, 편광판의 제작 방법 및 표시 장치{POLARIZING PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING POLARIZING PLATE, AND DISPLAY APPARATUS}

본 발명은 편광판, 편광판의 제작 방법 및 표시 장치에 관한 것이다.

근년, 액정 표시 장치의 고정밀화, 색 재현성 향상, 다이내믹 레인지의 확대가 진행되고 있다. 고정밀화는 개구율이 저하되기 때문에, 표시 휘도를 유지하기 위해서는 광원의 휘도를 높일 필요가 있다. 색 재현성 향상은, 파장 변환이나 파장 선택에 의해 가능한데, 파장 변환 혹은 파장 선택 시에 에너지 손실이 있기 때문에, 표시 휘도를 유지하기 위해서는 광원의 휘도를 높일 필요가 있다. 다이내믹 레인지는, 표시 휘도를 높임으로써 확대할 수 있지만, 표시 휘도를 높이기 위해서는 광원의 휘도를 높일 필요가 있다. 이들 어떠한 경우든, 광원의 휘도를 높이는 점에서, 소비 전력의 증대로 이어진다. 액정 표시 장치의 광원측에 배치되는 편광판 또는 편광자는, 광원의 광으로부터 특정한 방향으로 진동하고 있는 광을 취출하고, 그 광을 액정 셀 내에 입사하는데, 상기 특정 방향이 아닌 광은 대부분이 흡수되어, 액정의 표시에는 이용할 수 없다. 이 이용할 수 없는 광을 이용하는 방법으로서, 반사 편광판 또는 편광자가 제안되고 있다. 반사 편광자의 예로서, 와이어 그리드 편광자(와이어 그리드 편광판, 와이어 그리드 편광판, 와이어 그리드 필름 등으로 불리는 경우도 있다)가 있다. 와이어 그리드 편광자는, 미세한 선형의 부재(선상부, 와이어라고도 한다)를 복수 배열하여 격자상 또는 망상으로 한 선상 영역(와이어 그리드)을 갖는 광학 소자이다. 또한, 와이어 그리드 편광자는, 복수의 당해 광학 소자를 갖고 있어도 된다. 와이어 그리드 편광자는, 광원의 광으로부터 특정한 방향으로 진동하고 있는 광을 취출함과 함께, 상기 특정 방향이 아닌 광을 광원측으로 반사한다. 이 반사한 광은, 광원측의 반사판 등으로 반사되어 다시 와이어 그리드 편광자에 입사를 반복함으로써 리사이클되기 때문에, 광의 이용 효율을 향상시킬 수 있다.

예를 들어, 특허문헌 1은 편광자에 관하여, 와이어 그리드 편광자의 양산성, 제작 정밀도를 향상시키는 방법이 개시되고, 대면적에 의한 시트상판의 제작 방법이 개시되어 있다. 또한, 특허문헌 2는, 액정 표시 패널에 관하여, 와이어 그리드 편광자를, 스텝&리피트 방식에 의해 형성하는 방법이 개시되어 있다.

일본 특허 공개 제2016-103001호 공보 미국 특허 출원 공개 제2012/0140148호 명세서

와이어 그리드 편광자를 사용한 편광판 또는 편광자를 제작하기 위해서는, 전자선 리소그래피나 액침 프로세스 등의 반도체와 마찬가지의 프로세스로 와이어 그리드를 형성하는 것이 필요하여, 대형화에 과제가 있다. 나노임프린트법을 적용하는 경우도, 베이스가 되는 기판은 대형화가 곤란하다. 대형화하기 위하여, 예를 들어 20㎜×20㎜ 정도의 작은 형을 사용하여 편광자의 패턴을 형성하고, 그 패턴을 복수개 배열하거나, 혹은 짜맞추거나 하여, 제작하는 방법이 있지만, 여기서, 배열했을 때의 간극, 혹은 짜맞추는 간극으로부터의 광 누설이 문제가 된다. 또한, 복수개 배열하거나, 혹은 짜맞추거나 할 때에 중첩함으로써 광 누설은 개선되지만, 중첩하는 경우는, 중첩 마진의 확보, 중첩 부분의 단차가 문제가 된다.

이러한 과제를 감안하여, 본 발명의 일 실시 형태는, 광 누설을 방지하는 편광판, 편광판의 제작 방법 및 표시 장치를 제공하는 것을 목적의 하나로 한다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판(와이어 그리드 편광판)은, 일 방향으로 연신하는 선상부와, 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 복수 포함하고, 선상부는 외부로부터 입사하는 가시광의 가장 짧은 파장 이하의 폭을 갖고, 복수의 선상 영역의 사이는 보호막(제3 수지층, 제4 수지층)이 포함되고, 보호막은 가시광을 차광한다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판은, 선상부의 하면은 제1 수지층에 접하고, 선상부의 측면과 상면은 제2 수지층에 접하고, 제1 수지층의 측면과 제2 수지층의 측면은 보호막과 접하도록 해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판은, 선상부의 사이는 제2 수지층이 형성되고, 선상부의 하면은 제1 수지층에 접하고, 제1 수지층의 측면과 제2 수지층의 측면은 보호막과 접하도록 해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판은, 선상부의 하면은 제1 수지층에 접하고, 선상부의 측면과 상기 제1 수지층의 측면은, 보호막과 접하도록 해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판에 포함되는 보호막은, 선상 영역을 덮도록 해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판에 포함되는 선상부는, 도전성 금속 재료를 포함해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판에 포함되는 보호막은, 수지 또는 액정을 포함하는 수지여도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판에 포함되는 보호막은, 굴절률 이방성을 갖는 재료를 포함해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 제작 방법은, 제1 기판 위에 수지층을 형성하는 공정과, 수지층 위에 일 방향으로 연신하는 선상부와 상기 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 형성하는 공정과, 제1 기판과 선상 영역을 분리하는 공정과, 선상 영역을 제2 기판 위에 복수 배열하는 공정과, 제2 기판 위에 복수 배열된 선상 영역의 사이에 가시광을 차광하는 보호막을 형성하는 공정을 포함한다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 제작 방법에 포함되는 선상 영역을 형성하는 공정은, 제1 수지층 위에 금속성 도전막을 형성하고, 금속성 도전막 위에 포토레지스트를 도포하고, 포토마스크를 사용하여, 선상부의 폭보다도 짧은 파장의 광에 의해, 포토레지스트를 노광하는 공정을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 제작 방법에 포함되는 선상 영역을 형성하는 공정은, 제1 수지층 위에 금속성 도전막을 형성하고, 금속성 도전막 위에 포토레지스트를 도포하고, 포토레지스트에, 패턴이 형성된 형의 패턴이 형성된 면을 누르고, 형에 선상부의 폭보다도 짧은 파장의 광을 조사하여, 포토레지스트를 노광하는 공정을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 제작 방법에 포함되는 보호막을 형성하는 공정은, 잉크젯에 의해 행하여져도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 제작 방법에 포함되는 보호막을 형성하는 공정은, 제2 기판 위에 복수 배열된 선상 영역의 사이 외에도, 선상 영역의 상면에도 보호막을 형성해도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치는, 입사하는 가시광의 가장 짧은 파장 이하의 폭을 갖고, 일 방향으로 연신하는 선상부와, 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 복수 포함하고, 복수의 선상 영역의 사이에 설치되고 가시광을 차광하는 보호막을 포함하는 편광판과, 일 방향으로 연신하는 방향과 일 방향으로 연신하는 방향과 교차하는 방향으로 배열되는 복수의 화소와, 차광막과, 제1 기판과, 제2 기판을 포함한다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치에 포함되는 보호막은, 차광막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 차광막과 겹쳐져, 보호막의 폭은 차광막의 폭보다도 좁아도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치에 포함되는 화소는, 일 방향으로 연신하는 방향에 대략 평행하게 형성되는 소스 신호선과, 일 방향으로 연신하는 방향과 교차하는 방향에 대략 평행하게 형성되는 게이트 신호선을 포함하고, 소스 신호선은, 보호막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 보호막과 겹쳐져, 소스 신호선의 폭은 차광막의 폭보다도 좁아도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치에 포함되는 게이트 신호선은, 보호막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 보호막과 겹쳐져, 게이트 신호선의 폭은 차광막의 폭보다도 좁아도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치는, 차광막을 복수 갖고, 복수의 차광막은, 차광막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 선상 영역이 겹쳐지는 차광막과, 선상 영역과 보호막의 양쪽이 겹쳐지는 차광막을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치는, 적색 컬러 필터와 녹색 컬러 필터와 청색 컬러 필터를 더 갖고, 복수의 차광막은 적색 컬러 필터와 녹색 컬러 필터와 접하는 차광막과, 녹색 컬러 필터와 청색 컬러 필터와 접하는 차광막과, 청색 컬러 필터와 적색 컬러 필터와 접하는 차광막을 포함하고 있어도 된다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 표시 장치에 포함되는 편광판은, 제1 기판의 하면과, 제2 기판의 상면의 적어도 한쪽에 배치되어 있어도 된다.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 구성을 도시하는 모식적인 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 구성을 도시하는 모식적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 구성을 도시하는 모식적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 구성을 도시하는 모식적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치의 구성을 도시하는 모식적인 평면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치에 포함되는 화소를 도시하는 모식적인 평면도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치에 포함되는 화소를 도시하는 모식적인 평면도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치에 포함되는 화소 상의 와이어 그리드 편광판을 도시하는 모식적인 평면도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치에 포함되는 3화소분을 도시하는 모식적인 단면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치에 포함되는 3화소분을 도시하는 모식적인 단면도이다.
도 15는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 16은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 17은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 표시 장치의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태를, 도면 등을 참조하면서 설명한다. 단, 본 발명은 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서, 많은 상이한 형태로 실시하는 것이 가능하다. 즉, 이하에 예시하는 실시 형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것은 아니다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확히 하기 위하여, 실제의 형태에 비하여, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대하여 모식적으로 표시되는 경우가 있다. 그러나, 모식적인 도면은 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것은 아니다.

본 명세서와 각 도면에 있어서, 기출되는 도면에 있어서 설명한 내용과 마찬가지의 요소에는, 동일한 부호(또는 숫자 뒤에 a, b 등을 부여한 부호)를 부여하고, 설명을 적절히 생략하는 경우가 있다. 또한, 각 요소에 부기되는 「제1」, 「제2」의 문자는, 각 요소를 구별하기 위하여 사용되는 편의적인 표지이며, 특별한 설명이 없는 한 그 이상의 의미를 갖지 않는다.

본 명세서에 있어서, 「위」란, 어느 물체 또는 영역 위에 바로 접하도록 배치되는 경우뿐만 아니라, 다른 물체 또는 영역을 사이에 두고 배치되는 경우도 포함한다. 「아래」라는 용어에 대해서도 마찬가지이다. 또한, 「위」, 「아래」라는 용어는, 물체 또는 영역 사이의 상대적인 상하 관계를 나타내는 것이며, 절대적인 상하 관계를 의미함은 아니다. 구체적으로는, 기판의 주면(소자 등이 형성되는 면)을 기준으로 하여, 기판의 주면측을 「위」라고 정의하고, 기판의 주면의 반대측을 「아래」라고 정의한다.

어느 하나의 막을 가공하여 복수의 패턴을 형성한 경우, 이들 복수의 패턴은, 각각이 상이한 기능 및 또는 역할을 갖는 경우가 있다. 그러나, 이들 복수의 패턴은 동일한 공정에 있어서 동일한 층으로서 형성된 막에서 유래한다. 즉, 이들 복수의 패턴은 동일한 층 구조를 갖고, 동일한 재료를 포함한다. 따라서, 본 명세서에 있어서는, 이들 복수의 패턴은, 동일한 층에 존재하고 있는 것이라고 정의한다.

본 발명의 편광판을 설명한다. 또한, 본 발명의 편광판은 와이어 그리드(이하의 설명에서는 WG(Wire Grid)라고 기재하는 경우가 있다) 편광판이다. WG 편광판에 있어서, 편광층은, 선상부가 일 방향으로 연신하는 방향과 평행한 방향으로 복수 형성된 선상 영역을 갖는다. WG 편광판에 있어서는, 복수개의 선상 영역이 타일상으로 배열되어 있다. 타일상으로 배열된 선상 영역과 선상 영역 사이는, 가시광을 차광하는 수지 또는 굴절률 이방성을 갖는 재료 등이 설치된다. 선상 영역과 선상 영역 사이에 가시광을 차광하는 수지나 굴절률 이방성을 갖는 재료 등을 설치함으로써, 광 누설을 억제 가능한 WG 편광판을 제공할 수 있다. 또한, 선상 영역과 선상 영역을 겹칠 필요가 없기 때문에, 중첩 마진을 고려하지 않고 선상 영역을 형성하면 되며, 중첩 단차도 걱정할 필요가 없는 WG 편광판을 제공할 수 있다. 여기서, 가시광을 차광하는 수지는, 본 명세서 중에 있어서, 제3 수지층을 형성하는 재료이다. 또한, 굴절률 이방성을 갖는 재료는, 본 명세서 중에 있어서, 굴절률 이방성을 갖는 재료를 갖는 층을 형성하는 재료 또는 제4 수지층을 형성하는 재료이다. 또한, 제3 수지층과 제4 수지층은 모두 보호막이다.

(제1 실시 형태)

본 실시 형태에서는, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 구성을 설명한다. 또한, 중복하는 구성에 관해서는 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 1은 제1 실시 형태에 있어서의 WG 편광판(200)의 구성을 도시하는 모식적인 단면도이다.

도 1에 도시하는 WG 편광판(200)은, 유리 기판(20)과, 편광자층(60)과, 선상 영역(126)을 포함한다.

선형 영역(126)은, 제1 수지층(61)과, 선상부(62)를 포함한다. 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이는, 제3 수지층(64), 또는 굴절률 이방성을 갖는 재료를 포함하는 층(65)을 포함한다. 또한, 굴절률 이방성을 갖는 재료를 포함하는 층(65)은 제4 수지층(65)이다. 또한, 제3 수지층(64) 및 제4 수지층(65)은 모두 보호막이다.

도 2는 도 1에 도시한 WG 편광판(200)의 A1과 A2 사이의 모식적인 단면도이다.

도 2의 (A)는, 유리 기판(20)과, 편광자층(60)을 포함한다. 편광자층(60)은, 선상 영역(126)과, 제3 수지층(64)을 포함한다. 선상 영역(126)은, 제1 수지층(61)과, 선상부(62)와, 제2 수지층(63)을 포함한다. 선상부(62)의 측면 및 상면은 제2 수지층(63)과 접한다. 선상부(62)의 하면은 제1 수지층(61)의 상면의 일부와 접한다. 제1 수지층(61)의 상면의 일부는 제2 수지층(63)과 접한다. 즉, 제2 수지층(63)은 선상부(62) 및 제1 수지층(61)을 덮고 있다. 제1 수지층(61)의 측면은 제3 수지층(64)과 접한다. 제2 수지층(63)의 측면은 제3 수지층(64)과 접한다. 제1 수지층의 하면은 유리 기판(20)의 상면과 접한다. 제3 수지층(64)의 하면은 유리 기판(20)의 상면과 접한다. 또한, 도 2의 (A)에서는, 선상 영역(126)의 측단부가 제2 수지층인 예를 나타내고 있지만, 선상 영역(126)의 측단부가 선상부(62)여도 된다. 그 경우, 선상부(62)가 제3 수지층(64)의 측면과 접한다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 제1 수지층(61)은, 제1 수지층(61)을 형성하는 재료의 경화물이며, 제2 수지층(63)은, 제2 수지층(63)을 형성하는 재료의 경화물이며, 제3 수지층(64)은, 제3 수지층(64)을 형성하는 재료의 경화물이다.

제1 수지층(61)은, 가시광의 영역이고 투명성이 높은 것, 내열성이 높은 것, 유리 기판(20)과, 선상부(62)와, 제2 수지층(63)과, 제3 수지층(64)의 밀착성이 높은 것이 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 제1 수지층(61)을 형성하는 재료는, 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 폴리이미드계 등의 자외선 경화성 수지나 열 경화성 수지를 들 수 있다. 또한, 제1 수지층(61)은 2층 구조로 해도 된다. 예를 들어, 유리 기판(20)과 접하는 측은, 밀착성이 보다 높은 접착제를 사용하고, 선상부(62)과 접하는 수지층은 상술한 자외선 경화성 수지나 열 경화성 수지로 해도 된다.

선상부(62)는 직선형이고, 일 방향으로 연신하는 방향으로 복수 배열된다. 또한, 선상부(62)는, 입사하는 가시광의 가장 짧은 파장 이하의 폭을 갖는다. 또한, 선상부(62)는, 제1 수지층(61) 위에 도전성 금속 재료를 사용하여 형성된다. 도 2에 있어서, 선상부(62)가 배열되는 간격은 주기적인 예를 나타내고 있지만, 비주기적이어도 된다. 예를 들어, 폭이 상이한 2종류의 선상부(62)를 동일 평면 위에 형성하는 경우, 광을 편광하는 기능과, 차광의 기능을 동시에 갖게 할 수 있다.

선상부(62)의 투과성은, 선상부(62)와 인접하는 선상부(62)의 간격, 입사광의 파장, 입사광의 각도(입사각), 기재가 되는 재료의 굴절률 관계로 표시됨이 잘 알려져 있다. 예를 들어, 선상부(62)의 폭은 180㎚, 선상부(62)가 배열되는 간격은 360㎚로 함으로써, 파장이 360㎚보다도 큰 영역의 광을 투과할 수 있다. 즉, WG 편광판(200)은 가시광을 투과할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 선상부(62)와 인접하는 선상부(62)의 간격은, 선상부(62)의 폭 중심부터, 인접하는 선상부(62)의 폭 중심까지의 거리이다. 또한, 선상부(62)의 폭은 간격의 1/2 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 선상부(62)의 투과성은, 막 두께(높이라고도 칭한다)와도 관계가 있다. 예를 들어, 선상부(62)의 막 두께는 선상부(62)를 투과하는 광의 투과율이 1％ 이하가 되는 막 두께로 하면 된다. 예를 들어, 선상부(62)의 막 두께는 30㎚ 이상이 바람직하다. 구체적으로는, 선상부(62)와 인접하는 선상부(62)의 간격이 360㎚인 경우, 선상부(62)의 막 두께도 360㎚로 하면 된다. 이와 같이 함으로써, 파장이 360㎚보다도 큰 영역의 광을 투과할 수 있다. 즉, WG 편광판(200)은 가시광을 투과할 수 있다. 선상부(62)의 막 두께가 너무 얇으면, 투과광을 무시할 수 없게 되어, 특정한 파장의 범위의 광을 취출할 수 없게 된다. 한편, 선상부(62)의 막 두께가 너무 두꺼우면, 광의 이용 효율이 저하될 가능성이 있기 때문에, 선 폭 마찬가지로, 막 두께도 간격의 1/2 이하가 바람직하다.

선상부(62)를 형성하는 도전성 금속 재료는, 투과광에 대하여 반사율이 높은 것, 제1 수지층(61) 및 제2 수지층(63)과의 밀착성이 높은 것이 바람직하다. 예를 들어, 선상부(62)를 형성하는 도전성 금속 재료는, 알루미늄, 은, 백금, 크롬 등, 또는 이들의 합금 등인 것이 바람직하지만, 이들에 한정되지 않는다.

제2 수지층(63)은, 제1 수지층(61)과 마찬가지의 특성을 갖고 있는 것이 바람직하다. 즉, 제2 수지층(63)의 특성은, 가시광의 영역이고 투명성이 높은 것, 내열성이 높은 것, 유리 기판(20)과, 선상부(62)와, 제1 수지층(61)과, 제3 수지층(64)의 밀착성이 높은 것이 바람직하다. 제2 수지층(63)을 형성하는 재료는, 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 폴리이미드계 등의 자외선 경화성 수지나 열 경화성 수지를 들 수 있다. 제2 수지층(63)이 선상부(62)의 상면에 접함으로써, WG 편광판(200)이 낙하했을 때 등에 충격을 완화시킬 수 있다. 즉, 선상부(62)를 보호하여, WG 편광판(200)의 강도를 증가할 수 있다.

「가시광」이란, 380 내지 780㎚의 파장을 갖는 광선을 의미하고, 본 발명에 있어서의 보호막의 가시광의 투과율 5％ 이하로 하는 것이 바람직하다.

제3 수지층(64)은, 가시광을 차단하는 기능을 갖고, 선상 영역(126)과 선상 영역(126)을 구획하는 역할도 갖고, 제3 수지층(64)의 표면에 대하여 위 또는 아래에 대한 광의 투과율이 1％ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 제3 수지층(64)의 특성은, 내열성이 높은 것, 유리 기판(20)과, 선상부(62)와, 제1 수지층(61)과, 제2 수지층(63)의 밀착성이 높은 것이 바람직하다. 제3 수지층(64)을 형성하는 재료는, 예를 들어 카본 블랙 등의 탄소의 입자, 안료, 염료 등의 착색제와, 수지, 중합성 단량체, 광중합 개시제 등을 혼합한 조성물을 사용할 수 있다. 이러한 착색 조성물을 도포하고, 광 또는 열로 도포막을 경화하여 흑색으로 착색한 수지층을 형성할 수 있다. 제3 수지층(64)을 형성하는 재료로서는 상기한 바와 같이 형성된 수지층인 것이 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.

제3 수지층(64)을 형성하는 조성물로서는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2006-053569호 공보, WO2009/010521 공보, 일본 특허 공개 제2014-146029호 공보 등에 기재된 조성물을 사용할 수 있다.

이상과 같은 구성으로 함으로써, 선상 영역(126)과 제3 수지층과 선상 영역(126)의 밀착성이 높고, 선상 영역(126)과 선상 영역(126)의 간극은 가시광이 투명하지 않게 할 수 있다. 즉, 광 누설을 억제한 WG 편광판을 제공할 수 있다. 또한, 선상 영역(126)과 선상 영역(126)의 중첩 마진을 고려할 필요가 없고, 중첩 단차도 걱정할 필요가 없다. 즉, 종래와 비교하여, 선상 영역(126)의 배치의 자유도가 증가된, WG 편광판을 제공할 수 있다.

도 2의 (B)는, 도 2의 (A)의 구조와 비교하여, 선상부(62)의 상면을 제2 수지층(63)으로 덮지 않은 구성을 도시하고 있다. 그 이외의 구조는, 도 2의 (A)와 마찬가지이기 때문에, 설명은 생략한다. 또한, 도 2의 (A)와 마찬가지로, 도 2의 (B)에서는, 선상 영역(126)의 측단부가 제2 수지층인 예를 나타내고 있지만, 선상 영역(126)의 측단부가 선상부(62)여도 된다. 그 경우, 선상부(62)가 제3 수지층(64)의 측면과 접한다. 도 2의 (B)의 구조의 WG 편광판(200)은 상면에 제2 수지층(63)이 없는 점에서, 상면의 광의 굴절의 영향을 받기 어렵게 할 수 있어, 투과광이 많이 출사된다. 즉, 광의 이용 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 광 누설을 억제하여, 종래와 비교하여, 선상 영역(126)의 배치의 자유도가 증가된, WG 편광판을 제공할 수 있다.

도 2의 (C)는, 도 2의 (B)의 구조와 비교하여, 선상부(62)와 인접하는 선상부(62) 사이를 제2 수지로 충전하지 않고, 선상부(62)와 제3 수지층(64)이 접하고 있는 구성을 나타내고 있다. 그 이외의 구조는, 도 2의 (B)와 마찬가지이기 때문에, 설명은 생략한다. 도 2의 (C)의 구조의 WG 편광판(200)은 선상부(62)의 상면 및 측면에 제2 수지층(63)이 없는 점에서, 제2 수지층(63)이 있는 경우와 비교하여, 제2 수지층(63)의 광의 굴절의 영향을 받기 어렵게 할 수 있어, 투과광이 많이 출사된다. 즉, 광의 이용 효율을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 광 누설을 억제하여, 종래와 비교하여, 선상 영역(126)의 배치의 자유도가 증가된, WG 편광판을 제공할 수 있다.

도 3의 (A), 도 3의 (B) 및 도 3의 (C)는, 도 1에 도시한 WG 편광판(200)의 A1과 A2 사이의 모식적인 단면도이다. 도 3의 (A), 도 3의 (B) 및 도 3의 (C) 각각은, 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이의 구성을, 도 2의 (A), 도 2의 (B) 및 도 2의 (C)의 각각에 도시한 제3 수지층(64)으로부터, 굴절률 이방성을 갖는 재료를 갖는 층(제4 수지층)(65)으로 바꾼 예를 도시하고 있다. 기타는, 도 2의 (A), 도 2의 (B) 및 도 2의 (C)에 도시한 구성과 마찬가지이며, 설명은 생략한다.

굴절률 이방성을 갖는 재료를 갖는 층(제4 수지층)(65)은, 가시광을 차단하는 기능을 갖고, 선상 영역(126)과 선상 영역(126)을 구획하는 역할도 갖고, 광의 투과율이 1％ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 내열성이 높은 것, 유리 기판(20)과, 선상부(62)와, 제1 수지층(61)과, 제2 수지층(63)의 밀착성이 높은 것이 바람직하다. 예를 들어, 리오트로픽 액정이나, 서모트로픽 액정 등을 사용할 수 있다. 리오트로픽 액정은, 물과 용매, 혹은 용액과 용매의 화합물이며, 예를 들어 계면 활성제와 물 또는 용액의 혼합에 의해 액정 상태가 되고, 용매의 농도나, 혼합액을 도포한 방향을 조정함으로써 액정을 배향시킬 수 있다. 서모트로픽 액정은, 예를 들어 있는 온도 범위에서 중간상으로서 안정된 거동을 나타내고, 온도의 변화에 따라 액정 상태가 된다. 예를 들어, 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이에, 리오트로픽 액정을 도포하고, 도포된 방향으로 배향시켜 고화시킴으로써, 가시광을 차광할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 굴절률 이방성을 갖는 재료를 갖는 층(65)을 제4 수지층(65)이라고 기재하기도 한다.

도 3의 (A)에 도시한 WG 편광판(200)은, 선상 영역(126)과 제4 수지층(65)과 선상 영역(126)의 밀착성이 높고, 선상 영역(126)과 선상 영역(126)의 간극은 가시광이 투명하지 않게 할 수 있다. 즉, 광 누설을 억제한 WG 편광판을 제공할 수 있다. 또한, 선상 영역(126)과 선상 영역(126)의 중첩 마진을 고려할 필요가 없고, 중첩 단차도 걱정할 필요가 없다. 즉, 종래와 비교하여, 선상 영역(126)의 배치의 자유도가 증가된, WG 편광판을 제공할 수 있다.

도 3의 (B)에 도시한 WG 편광판(200)은, 상면에 제2 수지층(63)이 없는 점에서, 상면의 광의 굴절의 영향을 받기 어렵게 할 수 있다. 즉, 광의 이용 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 광 누설을 억제한, WG 편광판을 제공할 수 있다.

도 3의 (C)에 도시한 WG 편광판(200)은, 선상부(62)의 상면 및 측면에 제2 수지층(63)이 없는 점에서, 제2 수지층(63)이 있는 경우와 비교하여, 제2 수지층(63)의 광의 굴절의 영향을 받기 어렵게 할 수 있다. 즉, 광의 이용 효율을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 광 누설을 억제한, WG 편광판을 제공할 수 있다.

도 4의 (A), 도 4의 (B) 및 도 4의 (C)는, 도 1에 도시한 WG 편광판(200)의 A1과 A2 사이의 모식적인 단면도이다. 도 4의 (A), 도 4의 (B) 및 도 4의 (C)의 각각은, 도 3의 (A), 도 3의 (B) 및 도 3의 (C)의 각각에 도시한 구성으로부터, 제4 수지층(65)을, 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이뿐만 아니라, 선상 영역(126)의 상면에도 형성하는 예를 나타내고 있다. 기타는, 도 3에 도시한 구성과 마찬가지이며, 설명은 생략한다. 또한, 도 4의 (A), 도 4의 (B) 및 도 4의 (C)에 있어서는, 제4 수지층(65)을 보기 쉽게 하기 위하여, 선상 영역(126)의 상면에 형성된 제4 수지층(65)의 층의 두께를 실제보다도 두껍게 도시하고 있다. 제4 수지층(65)은 차광성을 갖는 재료이며, 선상 영역(126)의 상면을 광이 투과하도록, 제4 수지층(65)은 얇게 형성되어 있다.

도 4의 (A), (B) 및 (C)에 도시한 WG 편광판(200)은, 도 3의 구성으로부터 선상 영역(126)의 상면도 제4 수지층(65)으로 덮도록 함으로써, 도 3의 (A), 도 3의 (B) 및 도 3의 (C)의 설명에 있어서 설명한 특징 외에도, 편광판의 강도를 증가할 수 있다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판이 갖는 선상부(62)의 단면 형상은, 직사각형인 예를 나타냈지만, 형상은 직사각형에 한정되는 것은 아니다. 선상부(62)의 단면 형상은, 정사각형이어도 되고, 사다리꼴이어도 되고, 삼각형이어도 되고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서, 다양한 형상을 채용할 수 있다.

이상과 같이, 선상 영역과 선상 영역 사이에 가시광을 차광하는 재료 등을 설치함으로써, 광 누설을 억제할 수 있는 WG 편광판을 제공할 수 있다. 또한, 선상 영역과 선상 영역의 중첩 마진을 고려할 필요가 없어, 중첩 단차가 불필요해진 WG 편광판을 제공할 수 있다.

(제2 실시 형태)

본 실시 형태에서는, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 편광판의 제작 공정을 설명한다. 또한, 제작 방법은, 이 방법에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 기술 분야에서 통상 사용되는 방법을 채용할 수 있다. 또한, 제1 실시 형태와 마찬가지의 구성에 관해서는 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 5는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 WG 편광판의 제작 방법을 나타내는 흐름도이다.

WG 편광판의 제작 방법은, 제작을 개시하는 스텝 20(S20)과, 제1 기판 위에 수지층을 형성하는 스텝 21(S21)과, 수지층 위에 선상 영역을 형성하는 스텝 22(S22)와, 제1 기판과 선상 영역을 분리하는 스텝(S23)과, 선상 영역을 제2 기판 위에 복수 배열하는 스텝(S24)과, 제2 기판 위에 복수 배열된 선상 영역 사이에 가시광을 차광하는 보호막을 형성하는 스텝(S25)과, 제작을 종료하는 스텝(S26)을 포함한다.

도 6은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 WG 편광판의 제작 방법에 있어서, 제작을 개시하는 스텝 20(S20)과, 제1 기판 위에 수지층을 형성하는 스텝 21(S21)과, 수지층 위에 선상 영역을 형성하는 스텝 22(S22)와, 제1 기판과 선상 영역을 분리하는 스텝(S23)을 설명하기 위한, 구체적인 단면도를 도시하고 있다.

도 6의 (A)는 제작을 개시하는 스텝 20(S20)과, 제1 기판 위에 제1 수지층(61)을 형성하는 스텝 21(S21)을 포함한다. 구체적으로는, 제조를 개시하는 S20 후에, 유리 기판(121) 위에 제1 수지층(61)을 형성한다. 제1 수지층(61)은, 유리 기판(121)의 요철을 완화시켜, 이 다음 형성되는 선상부(62)과 접촉하는 면을 평탄하게 하는 역할을 갖는다. 제1 수지층(61)을 형성하는 방법은, 예를 들어 스크린 인쇄법, 스핀코팅법이나 디핑법 등을 사용할 수 있다.

도 6의 (B) 내지 도 6의 (E)는, 수지층 위에 선상 영역을 형성하는 스텝 22(S22)를 포함한다. 포토리소그래피 기술을 사용하여, 선상부(62)를 형성하는 방법을 나타낸다. 구체적으로는, 제1 수지층(61) 위에 금속성 도전막(66)을 성막하고, 포토레지스트(67)를 도포한다. 또한, 마스크(68)를 사용하여, 포토리소그래피 기술에 의해, 포토레지스트(67)를 노광한다. 금속성 도전막(66)의 성막은, 예를 들어 CVD 장치 등을 사용하여 화학적으로 형성하는 방법, 또는 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등을 사용하여 물리적으로 형성하는 방법을 사용할 수 있다. 또한, 포토레지스트(67)를 도포하는 방법은, 예를 들어 스핀코팅법이나 디핑법 등을 사용할 수 있다. 노광된 레지스트(67)를 현상하고, 포토레지스트(67)를 마스크로 하여, 에칭을 행하여, 포토레지스트(67)를 제거함으로써, 선상부(62)를 형성할 수 있다. 계속하여, 제2 수지층(63)을 형성한다. 이렇게 하여, 선상 영역(126)을 형성할 수 있다. 또한, 수지층 위에 선상 영역을 형성하는 스텝 22에 있어서, 선상부(62)의 형성은, 포토리소그래피 기술을 사용하는 방법을 나타냈지만, 본 발명의 기술 분야에서 통상 사용되는 방법이면 채용할 수 있다. 예를 들어, 전자선 묘화 장치를 사용하여, 선상부(62)를 형성해도 된다. 또한, 포토레지스트가 네거티브형 레지스트를 사용하고 있는 경우에는, 현상에 의해, 광이 조사된 부분을 남길 수 있다. 한편, 포토레지스트가 포지티브형 레지스트를 사용하고 있는 경우에는, 현상에 의해, 광이 조사되지 않는 부분을 남길 수 있다. 또한, 도 6의 (B)는 네거티브형 레지스트를 사용한 예를 나타내고 있다.

도 6의 (F)는 유리 기판(121)과 선상 영역(126)을 분리하는 스텝(S23)을 포함한다. 유리 기판(121)과 선상 영역(126)의 분리는, 기계적으로 박리하는 방법을 사용해도 되고, 제2 수지층(63)의 상면에 필름을 더 붙이고, 제1 기판 전체면에 레이저를 조사하여 박리해도 되고, 본 발명의 기술 분야에서 통상 사용되는 방법을 채용할 수 있다.

도 7은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 WG 편광판의 제작 방법에 있어서, 제작을 개시하는 스텝 20(S20)과, 제1 기판 위에 수지층을 형성하는 스텝 21(S21)과, 수지층 위에 선상 영역을 형성하는 스텝 22(S22)와, 제1 기판과 선상 영역을 분리하는 스텝(S23)을 설명하기 위한, 도 6과는 상이한 구체적인 단면도를 도시하고 있다. 도 6과 마찬가지의 설명은 생략한다.

도 7의 (B) 내지 도 7의 (E)는, 수지층 위에 선상 영역을 형성하는 스텝 22(S22)를 포함한다. 나노임프린트법을 사용하여, 선상부(62)를 형성하는 방법을 나타낸다. 나노임프린트법은, 공지 기술이며, 상세한 설명은 생략한다. 예를 들어, 나노임프린트법은, 석영 유리 등에 요철을 형성한 형을 제작하고, 그 형을 사용하여, 패턴을 형성하는 방법이 있다. 예를 들어, 금속성 도전막(66)으로서, 알루미늄을 제1 수지층(61) 위에 스퍼터 장치를 사용하여 성막한다. 또한, 금속성 도전막(66) 위에 포토레지스트(67)를 도포하고, 전술한 형을 레지스트에 누르고, UV 광을 조사한다. 계속하여, 포토레지스트(67)를 마스크로 하여, 에칭을 행하여, 포토레지스트(67)를 제거함으로써, 선상부(62)를 형성할 수 있다. 또한, 나노임프린트법의 다른 예로서, 금속성 도전막(66) 위에 레지스트를 도포하고, 전술한 형을 레지스트에 누르고, 레지스트를 열 경화시키는 방법을 사용해도 된다. 나노임프린트법의 구체적인 예는, 일본 특허 공개 제2016-103001호 공보나, 미국 특허 출원 공개 제2012/0140148호 명세서에 개시되어 있다. 또한, 도 7의 (F)는 도 6의 (F)에서 설명한 내용과 마찬가지인 제작 방법을 채용할 수 있다.

도 8은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 WG 편광판의 제작 방법에 있어서, 선상 영역을 제2 기판 위에 복수 배열하는 스텝(S24)과, 제2 기판 위에 복수 배열된 선상 영역 사이에 가시광을 차광하는 보호막을 형성하는 스텝(S25)과, 제작을 종료하는 스텝(S26)을 설명하기 위한, 구체적인 단면도를 도시하고 있다.

도 8의 (G), 도 8의 (H) 및 도 8의 (I) 또는 도 8의 (G), 도 8의 (H) 및 도 8의 (J)는, 선상 영역을 제2 기판 위에 복수 배열하는 스텝(S24)과, 제2 기판 위에 복수 배열된 선상 영역 사이에 가시광을 차광하는 보호막을 형성하는 스텝(S25)과, 제작을 종료하는 스텝(S26)을 포함한다.

도 8의 (G)와 도 8의 (H)는, 선상 영역(126)을 유리 기판(20) 위에 복수 배열하는 스텝(S24)을 도시하고 있다. 예를 들어, 선상 영역(126)을 픽업하여, 유리 기판(20) 위에 배열하는 방법을 채용해도 된다. 배열하는 방법은, 이 방법에 한정되지 않는다. 또한, 배열할 때에 선상 영역(126)의 제1 수지층(61)에 접착제를 도포해도 된다.

계속하여, 도 8의 (I)와, 도 8의 (J)는, 제2 기판 위에 복수 배열된 선상 영역의 사이에 가시광을 차광하는 보호막을 형성하는 스텝(S25)과, 제작을 종료하는 스텝(S26)을 나타내고 있다. 도 8의 (I)는, 제4 수지층(65)을 형성하는 방법을 나타내고 있다. 예를 들어, 액정 적하 장치, 잉크젯 인쇄기, 스크린 인쇄기, 슬릿 코터, 노즐 디스펜서 등을 사용하여, 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이 및 선상 영역(126)의 상면에, 제4 수지층(65)을 도포한다. 제4 수지층(65)을 형성하는 재료는, 예를 들어 리오트로픽 액정 또는 서모트로픽 액정이다. 리오트로픽 액정 또는 서모트로픽 액정을 배향시키는 방법으로서는, 배향제를 사용하는 방법과 특정한 리오트로픽 액정을 직접 도포하여 액정을 배향시키는 방법이 있다.

배향제를 사용하는 방법으로서는, 배향제를 기판 위에 도포하여 고화하고, 상기 배향막의 러빙을 행하고, 그 후 액정을 배향막 위에 적하함으로써 액정을 배향시킬 수 있다. 이러한 배향제를 사용하는 방법의 구체예로서는, 일본 특허 공개 제2015-26050호 공보, 일본 특허 공개 제2017-16089호 공보 등을 들 수 있다.

리오트로픽 액정을 직접 도포하여 액정을 배향시키는 방법으로서는, 자기 조직화할 수 있는 수용성 화합물을 사용할 수 있고, 구체적인 화합물로서, 공액계 중합체 등의 중합체 주쇄가 강직하며, 또한 측쇄에 수용성을 나타내는 친수성기를 갖는 중합체를 포함하는 조성물을 들 수 있다. 또한 2색성 색소 화합물도 포함할 수 있다. 이러한 화합물을 포함하는 조성물을 기재에 도포하고, 가열하여 막 중에 잔존하는 수분을 제거함으로써, 광학 이방성을 갖는 이방성 막을 형성할 수 있다.

이러한 리오트로픽 액정을 직접 도포하여 액정을 배향시키는 방법의 구체예로서는, WO2007/080419호 공보, WO2009/130675호 공보, WO2012/007923호 공보 등을 들 수 있다.

또한, 도 4의 (A), 도 4의 (B) 및 도 4의 (C)와 마찬가지로, 도 8의 (I)에 있어서도, 제4 수지층(65)을 보기 쉽게 하기 위하여, 선상 영역(126)의 상면에 형성된 제4 수지층(65)의 층의 두께를 실제보다도 두껍게 도시하고 있다. 제4 수지층(65)은 차광성을 갖는 재료이며, 선상 영역(126)의 상면을 광이 투과하도록, 제4 수지층(65)은 얇게 형성되어 있다. 또한, 도 3의 (A), 도 3의 (B) 및 도 3의 (C)와 마찬가지로, 선상 영역(126)의 상면에는, 제4 수지층(65)을 형성하지 않아도 된다. 예를 들어, 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이에 슬릿이 형성된 인쇄판에 의해, 선상 영역(126)의 상면에 제4 수지층(65)을 형성하지 않고, 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이에 제4 수지층(65)을 형성하도록 하면 된다. 도 8의 (J)는 선상 영역(126)과 선상 영역(126) 사이에 잉크젯에 의해, 제3 수지층(64)을 형성하는 방법을 나타내고 있다. 또한, 선상 영역 사이에 보호막을 형성하는 방법은, 이들 방법에 한정되지 않는다. 예를 들어, 인쇄판을 제작하고, 스크린 인쇄에 의해 보호막을 형성해도 된다.

이상과 같은 제작 방법에 의해, 선상 영역과 선상 영역 사이의 광 누설을 억제한 WG 편광판을 제공할 수 있다. 또한, 선상 영역과 선상 영역의 중첩 단차가 없는, WG 편광판을 제공할 수 있다.

(제3 실시 형태)

본 실시 형태에서는, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 액정 표시 장치를 설명한다. 또한, 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태와 마찬가지의 구성에 관해서는 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 9는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 액정 표시 장치(300)의 구성을 도시하는 모식적인 평면도이다.

액정 표시 장치(300)는, 유리 기판(123), 표시 영역(104), 게이트측 구동 회로(108 및 109), 소스측 구동 회로(112), 커넥터(114) 및 집적 회로(116)를 포함한다.

유리 기판(123) 위에 표시 영역(104), 게이트측 구동 회로(108 및 109), 소스측 구동 회로(112)가 형성된다. 커넥터(114)는 유리 기판(123)에 접속된다. 집적 회로(116)는 커넥터(114) 위에 설치된다. 표시 영역(104)의 크기에 맞게, 커넥터(114)의 수를 바꾸어도 된다.

표시 영역(104)은, 복수의 화소(106)를 포함하고 있다. 복수의 화소(106)는, 일 방향 및 일 방향에 교차하는 방향을 따라 배열된다. 복수의 화소(106)의 배열수는 임의이다. 예를 들어, 일 방향을 따른 방향을 X 방향, 일 방향에 교차하는 방향을 따른 방향을 Y 방향으로 하고, X 방향으로 m개, Y 방향으로 n개의 화소(106)를 배열할 수 있다. m과 n은 각각 독립적으로, 1보다도 큰 자연수이다. 화소(106)의 각각은, 표시 소자를 갖고, 표시 소자는 액정 소자를 포함한다.

예를 들어, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 삼원색에 대응하는 표시 소자를 3개의 화소 각각에 할당할 수 있다. 각 화소에 256단계의 전압을 공급함으로써, 풀컬러의 표시 장치를 제공할 수 있다. 또한, 복수의 화소(106)의 배열은, 예를 들어 스트라이프 배열을 채용할 수 있다. 또한, 복수의 화소(106)의 배열은, 이 배열에 한정되지 않고, 델타 배열이나, 펜타일과 같은 배열 등을 채용해도 된다. 또한, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 액정 표시 장치(300)는, 복수의 화소(106)의 배열이, 스트라이프 배열인 예를 설명한다.

커넥터(114)는, 영상 신호와, 회로의 동작을 제어하는 타이밍 신호와, 전원 등을, 게이트측 구동 회로(108 및 109)와, 소스측 구동 회로(112)와, 집적 회로(116)에 공급하는 역할을 갖는다. 커넥터(114)는, 플렉시블 프린트 회로(FPC)를 사용해도 된다. 영상 신호와, 회로의 동작을 제어하는 타이밍 신호와 전원 등이, 액정 표시 장치(300)의 외부에 있는 회로, 혹은 장치로부터 커넥터(114)를 통하여, 게이트측 구동 회로(108 및 109)와, 소스측 구동 회로(112)와, 집적 회로(116)에 공급된다.

게이트측 구동 회로(108 및 109)와, 소스측 구동 회로(112)와, 집적 회로(116)는, 공급된 영상 신호와, 회로의 동작을 제어하는 타이밍 신호와, 전원 등을 사용하여, 각 화소(106)를 구동하여, 표시 영역(104)에 영상을 표시하는 역할을 갖는다.

게이트측 구동 회로(108 및 109)와, 소스측 구동 회로(112) 모두가, 유리 기판(123) 위에 형성되어 있지 않아도 된다. 예를 들어, 게이트측 구동 회로와, 소스측 구동 회로의 일부의 기능을 포함하는 집적 회로(IC)가, 유리 기판(123) 위, 혹은 커넥터(114) 위에 배치되어 있어도 된다. 또한, 도 9에 도시한 액정 표시 장치(300)에 포함되는 집적 회로(116)는, 게이트측 구동 회로와, 소스측 구동 회로의 일부의 기능을 갖고 있다.

도 10은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 액정 표시 장치(300)에 포함되는 화소를 도시하는 모식적인 평면도이다. 도 10에서 나타낸 화소는, 도면에 수직인 방향, 즉, 유리 기판(123)에 수직인 방향으로 전압을 인가하여, 액정 소자를 제어하는 VA(Vertical Alignment) 방식이나 TN(Twisted Nematic) 방식에 적용할 수 있다. 또한, 도 10은 컬러 필터층과, 제2 투광성 도전층(110)과, 제1 배향막(80)과, 액정층(90)과, 제2 배향막(100)과, 제2 투광성 도전층(110)과, 유리 기판(123)과, 편광판(130)은 도시하지 않았다. 이들 층과, 막 등은, 후술하는 액정 표시 장치(300)의 제작 방법으로 설명된다.

도 10에 도시하는 화소(106)는, 박막 트랜지스터(190)와, 용량 소자(196)와, 소스 신호선(191)과, 게이트 신호선(192)과, 용량 전위선(193)과, 제1 투광성 도전층(70)을 포함한다. 박막 트랜지스터(190)는, 반도체층(32)과, 게이트 전극(34)과, 소스 드레인 전극(36 및 38)과, 제1 개구부(39a 및 39b)를 포함한다. 소스 드레인 전극(36 및 38)은, 제1 개구부(39a 및 39b)를 개재하여, 반도체층(32)과 전기적으로 접속되어 있다. 제1 투광성 도전층(70)은, 제2 개구부(194)를 개재하여, 소스 드레인 전극(38)과 전기적으로 접속되어 있다. 소스 드레인 전극(38)과, 후술하는 게이트 절연막(33)과, 용량 전위선(193)에 의해, 용량 소자(196)가 형성된다. 소스 드레인 전극(36)과 소스 신호선(191)은 전기적으로 접속되어 있다. 게이트 전극(34)과 게이트 신호선(192)은 전기적으로 접속되어 있다. 제1 투광성 도전층(70)과, 후술하는 제2 투광성 도전층(110)의, 각각에 전압을 인가함으로써, 유리 기판(123)과 수직인 방향으로 전계가 발생하여, 액정층(90)에 포함되는 액정 소자가 제어되고, 액정 표시 장치(300)는 영상을 표시할 수 있다.

도 11은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 액정 표시 장치(300)에 포함되는 화소(106)의 다른 예를 도시하는 모식적인 평면도이다. 도 11에서 나타낸 화소는, 유리 기판(123)에 수평한 방향으로 전압을 인가하여 액정 소자를 제어하는 IPS(In Plane Switching) 방식에 적용할 수 있다. 또한, 도 11은 컬러 필터층과, 제1 배향막(80)과, 액정층(90)과, 제2 배향막(100)과, 제2 투광성 도전층(110)과, 유리 기판(123)과, 편광판(130)은 도시하지 않았다. 이들 층과, 막 등은, 후술하는 액정 표시 장치(300)의 제작 방법으로 설명된다.

도 11에 도시하는 화소(106)는, 박막 트랜지스터(190), 용량 소자(196), 소스 신호선(191), 게이트 신호선(192), 용량 전위선(193), 제1 투광성 도전층(70), 커먼 전위선(197)을 포함한다. 박막 트랜지스터(190)는, 반도체층(32), 게이트 전극(34), 소스 드레인 전극(36 및 38), 제1 개구부(39a 및 39b)를 포함한다. 소스 드레인 전극(36 및 38)은, 제1 개구부(39a 및 39b)를 개재하여, 반도체층(32)과 전기적으로 접속되어 있다. 제1 투광성 도전층(70)은, 제2 개구부(194)를 개재하여, 소스 드레인 전극(38)과 전기적으로 접속되어 있다. 소스 드레인 전극(38)과, 후술하는 게이트 절연막(33)과, 용량 전위선(193)에 의해 용량 소자(196)가 형성된다. 소스 드레인 전극(36)과 소스 신호선(191)은 전기적으로 접속되어 있다. 게이트 전극(34)과 게이트 신호선(192)은 전기적으로 접속되어 있다. 커먼 전위선(197)은 표시 영역(104)에 포함되는 모든 화소(106)에 커먼 전위를 공급하는 역할을 갖는다. 커먼 전위선(197)은 표시 영역(104)에 포함되는 모든 화소(106)에서 공유되어 있어도 되고, X 방향의 화소마다 공급되어도 되고, Y 방향의 화소마다 공유되어도 된다. 제1 투광성 도전층(70)과, 커먼 전위선(197)의, 각각에 전압을 인가함으로써, 유리 기판(20)과 수평한 방향으로 전계가 발생하여, 액정층(90)에 포함되는 액정 소자가 제어되고, 액정 표시 장치(300)는 영상을 표시할 수 있다.

도 12는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 와이어 그리드 편광판을 갖는 액정 표시 장치(300)에 포함되는 화소(106) 위의 와이어 그리드 편광판을 도시하는 모식적인 평면도이다. 도 10 및 도 11의 지면을 향하여 상면에, 도 12가 겹쳐진다. 도면을 보기 쉽게 하기 위하여, 도 10 및 도 11과 도 12를 나누어 도시하고 있다. 선상부(62)의 폭과, 선상부(62)와 선상부(62)의 간격은, 이해하기 쉽게 하기 위하여, 그 크기를 도면에서 인식할 수 있는 크기로 하고 있지만, 크기는 이 크기에 한정되지 않는다. 선상부(62)의 폭은, 입사광의 파장보다도 가늘면 된다.

또한, 도 12는 선상 영역(126)과, 선상 영역(126) 사이의, 제3 수지층(64), 혹은 제4 수지층(65)도 도시하고 있다. 제3 수지층(64), 혹은 제4 수지층(65)은, 제3 수지층(64), 혹은 제4 수지층(65)에 연직된 방향에 있어서, 소스 신호선(191)과, 게이트 신호선(192)과 겹쳐지도록 배치되어 있다. 제3 수지층(64), 혹은 제4 수지층(65)은, 소스 신호선(191)과, 게이트 신호선(192)의 폭보다도 굵다. 보호막이, 소스 신호선과, 게이트 신호선을 가림으로써, 광 누설을 억제할 수 있다.

이상과 같은 구성으로 함으로써, WG 편광층을 갖는 표시 장치는, 광 누설을 방지할 수 있다. 따라서, 흑색과 백색의 명암의 차나, 흑색과 각 색의 색의 차 등이 명확해져, 선명한 영상을 표시하는 표시 장치를 제공할 수 있다.

(제4 실시 형태)

본 실시 형태에서는, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 액정 표시 장치의 제작 방법을 설명한다. 또한, 제1 실시 형태 내지 제3 실시 형태와 마찬가지의 구성에 관해서는 설명을 생략하는 경우가 있다.

도 13 또는 도 14 및 도 15 내지 도 17을 사용하여, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 WG 편광판(200)을 갖는 액정 표시 장치(300)의 제조 방법을 설명한다.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 액정 표시 장치의 제조 방법은, 액정 표시 장치의 제조에 있어서, 일반적으로 사용되는 포토리소그래피 기술을 이용하는 것을 예로 들어 설명된다. 또한, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 액정 표시 장치의 제조는, 포토리소그래피 기술에 한하지 않고, 본 발명의 기술 분야에서 통상 사용되는 방법을 사용해도 된다.

도 13은, 도 10의 화소 구성을 적용한 경우의, WG 편광판(200)을 갖는 액정 표시 장치(300)의 제조 방법을 도시하는 모식적인 단면도이다. 액정 표시 장치에 포함되는 3화소분을 확대한 모식적인 단면도이다. 또한, 도 10에 도시한 화소의 B1과 B2의 단면이, 도면의 오른쪽에 상당한다.

도 14는, 도 11의 화소의 구성을 적용한 경우의, WG 편광판(200)을 갖는 액정 표시 장치(300)의 제조 방법을 도시하는 모식적인 단면도이다. 액정 표시 장치에 포함되는 3화소분을 확대한 모식적인 단면도이다. 또한, 도 11에 도시한 화소의 C1과 C2의 단면이, 도면의 오른쪽에 상당한다.

도 13 및 도 14에 있어서는, 제3 수지층(64)이, 차광막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 차광막과 겹쳐지는 예를 도시하고 있다. 또한, 도 13 및 도 14에 있어서는, 차광막(40)의 폭이 제3 수지층(64)의 폭보다도 넓은 예를 나타내고 있지만, 차광막(40)의 폭이 제3 수지층(64)의 폭보다도 좁아도 된다. 액정 표시 장치(300)에 있어서, 차광막(40) 외에도, 제3 수지층(64)을 가짐으로써, 선상 영역(126)을 배열하는 스텝 24(S24)에 있어서의, 기판에 대한 선상 영역(126)의 맞댐 정밀도를 보상할 수 있다. 따라서, 광 누설을 방지한 WG 편광판을 갖는 표시 장치를 제공할 수 있다. 여기서, 차광막(40)은, 액정 표시 장치에서 일반적으로 사용되는 블랙 매트릭스를 의미한다.

도 15는, 도 14에 도시한 WG 편광판(200)을 갖는 액정 표시 장치(300)의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.

처음에, 도 15의 (A)에 도시한 바와 같이, TFT 어레이(30)가, 유리 기판(123) 위에 형성된다. TFT 어레이(30)는 하지막(31)과, 반도체층(32)과, 게이트 절연막(33)과, 게이트 전극(34)과, 층간막(35)과, 소스 드레인 전극(36 및 38)과, 제1 개구부(39a 및 39b)와, 용량 전위선(193)과, 층간막(37)을 포함한다. TFT 어레이(30)에, 박막 트랜지스터(190)와, 용량 소자(196)가 형성되어 있다.

층간막(37)은, 층간막(37)보다도 아래의 층의 막과, 배선과, 트랜지스터 등을 형성했을 때의 요철을 완화하는 역할을 갖는다. 따라서, 층간막(37) 이후에 형성되는 막이나 패턴은 평탄한 면 위에 형성할 수 있다. 층간막(37)을 형성하는 재료의 특성은, 가시광 영역이고 투명성이 높은 재료인 것, 내열성이 높은 재료인 것, 소스 드레인 전극(36 및 38)과, 제1 투광성 도전층(70)과, 커먼 전위선(197)의 밀착성이 높은 것이 바람직하다. 층간막(37)의 재료는, 제1 수지층(61)이나 제2 수지층(63)으로 나타낸 재료와 마찬가지의 재료를 채용할 수 있다. 예를 들어, 아크릴계 수지, 폴리이미드계 수지 등을 포함하는 감광성 수지 조성물을 채용할 수 있다.

TFT 어레이(30)의 형성 방법, 박막 트랜지스터(190) 및 용량 소자(196)의 구조, 각각의 막, 층 및 각 부분의 재료는, 공지된 것을 채용할 수 있다. 즉, 본 발명의 기술 분야에서 통상 사용되는 방법의 것을 채용할 수 있다.

이어서, 도 15의 (B)에 도시한 바와 같이, 제1 투광성 도전층(70)과, 소스 드레인 전극(38)을 전기적으로 접속하기 위한, 제2 개구부(194)를 형성한다. 제2 개구부(194)는 층간막(37)을 개구한다. 제1 투광성 도전층(70)은, 층간막(37)의 상면 및 측벽에 접하도록 배치된다. 제1 투광성 도전층(70)을 형성하는 공정에 있어서, 커먼 전위선(197)이, 제1 투광성 도전층(70)과 동일한 층에 형성된다. 제1 투광성 도전층(70)은, 화소의 소스 드레인 전극(38)과 접속되고, 영상 신호에 상당하는 전압이 인가되고, 커먼 전위선(197)과의 전계에 의해, 액정층(90)이 갖는 액정 소자를 구동하는 역할을 갖는다. 제1 투광성 도전층(70)을 형성하는 재료는, 예를 들어 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등의, 광을 투과하는 재료를 사용할 수 있다. 제1 투광성 도전층(70) 위에는, 제1 배향막(80)이 형성된다. 제1 배향막(80)을 형성하는 재료는, 예를 들어 폴리이미드계 등의 수지가 사용된다. 또한, 제1 투광성 도전층(70) 및 커먼 전위선(197)과, 제1 배향막(80) 사이에, 차광막이 형성된 층이 있어도 되고, 무기 화합물이 형성된 층이 있어도 된다. 차광막은 가시광을 차단하는 역할을 갖고, 무기 화합물은 수분이나 불순물의 침입을 방지할 수 있다. 여기에서는, 유리 기판(20) 위에 제1 배향막(80)까지를 형성한 기판을, TFT측 기판이라고 기재하기로 한다.

계속하여, 액정층(90)을 사이에 두고, TFT측 기판과 대향하는 측의 기판의 제작 방법을 설명한다. 여기에서는, TFT측 기판과 대향하는 측의 기판을, 대향측 기판이라고 기재하기로 한다.

도 16에 도시한 바와 같이, 대향측 기판은, 유리 기판(123)과, 차광막(40)과, 적색 컬러 필터층(50)과, 녹색 컬러 필터층(51)과, 청색 컬러 필터층(52)을 포함하는 컬러 필터층과, 제2 배향막(100)으로 구성된다. 차광막(40)은, 예를 들어 금속성 도전막을 성막하고, 포토리소그래피 기술에 의해 형성된다. 컬러 필터층이 더 형성된다. 각 컬러 필터층의 형성의 순서는 적절히 선택하면 된다. 예를 들어, 적색 컬러 필터층(50)을 형성하고, 녹색 컬러 필터층(51)을 형성하고, 청색 컬러 필터층(52)을 형성해도 된다. 각 컬러 필터층은 차광막(40)과 접하도록 형성된다. 각 컬러 필터층은 각 컬러 필터층을 형성하는 재료를 도포한 후에, 포토마스크를 사용하여, 포토리소그래피 기술에 의해 형성해도 된다. 또한, 형성 방법은 이 방법에 한정되지 않는다. 또한, 제2 배향막(100)이 전체면에 형성된다. 제2 배향막(100)을 형성하는 재료는, 예를 들어 폴리이미드계 등의 수지가 사용된다. 제2 배향막(100)은 컬러 필터층을 보호하는 역할을 갖는다. 예를 들어, 이렇게 하여 형성된 대향측 기판과, TFT측 기판을 시일재 등을 사용하여, 액정층(90)을 사이에 두고, 맞댄다. 또한, WG 편광판(200)을 유리 기판(120)에 접합함으로써, 액정 표시 장치(300)를 제작할 수 있다.

또한, 도 17에 도시한 바와 같이, WG 편광판(200)을 2장 준비하고, 각각 유리 기판(120)과, 유리 기판(123)에 접합해도 된다.

또한, 도 11의 화소 구성을 적용한 경우의 도 14에 도시한 WG 편광판(200)을 갖는 액정 표시 장치(300)의 제조 방법에 있어서는, 제1 투광성 도전층(70)을 형성하는 공정에 있어서, 커먼 전위선(197)을 형성하지 않는다. 또한, 컬러 필터층과, 유리 기판(120) 사이에, 제2 투광성 도전층(110)이 형성된다. 제2 투광성 도전층(110)은, 제2 투광성 도전층(110)과 제1 투광성 도전층(70) 사이에 배치되는 액정층(90)에 포함되는 액정 소자에, 수직으로 전압을 인가하여, 액정 소자를 제어하는 역할을 갖는다. 제2 투광성 도전층(110)을 형성하는 재료는, 예를 들어 ITO, IZO 등의, 광을 투과하는 재료를 사용할 수 있다. 제2 배향막(100)은, 제2 투광성 도전층(110)과 액정층(90)과 대향하는 측에 형성되는 제1 투광성 도전층(70)이 도통하지 않도록, 즉 절연하는 역할을 갖는다.

이상과 같은 제작 방법을 사용함으로써 광 누설을 방지한 WG 편광판을 갖는 표시 장치를 제공할 수 있다.

(제5 실시 형태)

본 실시 형태에서는, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 액정 표시 장치에 사용하는 제4 수지층(65)의 일례를 설명한다. 상술한 바와 같이, 제4 수지층(65)은 보호막이며, 굴절률 이방성을 갖는 재료를 갖는 층이다. 또한, 제1 실시 형태 내지 제4 실시 형태와 마찬가지의 구성에 관해서는 설명을 생략하는 경우가 있다.

리오트로픽 액정의 구체예로서는, 액정성을 갖고 자기 조직화할 수 있는 수용성 화합물을 사용할 수 있고, 구체적인 화합물로서, 공액계 중합체 등의 중합체 주쇄가 강직하며, 또한 측쇄에 수용성을 나타내는 친수성기를 갖는 중합체를 포함하는 조성물을 들 수 있다. 또한 게스트-호스트형의 2색성 색소 화합물도 포함할 수 있다. 게스트-호스트형의 2색성 색소 화합물은, 다환식 화합물이고 분자 장축 방향으로 큰 흡광도를 갖고, 그것과 직교하는 단축 방향의 흡수는 작아지는 점에서, 1분자에서 2 이상의 상이한 굴절률을 발현할 수 있다. 이러한 화합물을 포함함으로써 광학적으로 이방성이 있는 막을 제작할 수 있다.

이러한 리오트로픽 액정도 구체예로서는, WO2007/080419호 공보, WO2009/130675호 공보, WO2012/007923호 공보, WO2014/174381호 공보, WO2015/162495호 공보 등을 들 수 있다. 게스트-호스트형의 2색성 색소 화합물의 구체예로서는, WO2011/024892호 공보 등을 들 수 있다.

이상과 같은 재료를 사용함으로써 광 누설을 방지한 WG 편광판을 갖는 표시 장치를 제공할 수 있다.

상술한 본 발명의 각 실시 형태는, 서로 모순되지 않는 범위에 있어서, 적절히 조합할 수 있다. 또한, 각 실시 형태를 기초로, 당업자가 구성 요소의 추가, 삭제, 혹은 설계 변경을 행한 것, 또는 공정의 추가, 생략, 혹은 조건 변경을 행한 것도, 본 발명의 요지를 구비하고 있는 한, 본 발명의 범위에 포함된다.

또한, 상술한 본 발명의 각 실시 형태 형태에 의해 초래되는 작용 효과와는 상이한 작용 효과여도, 본 명세서의 기재로부터 명확한 것, 또는 당업자에 있어서 용이하게 예측할 수 있는 것에 대해서는, 본 발명에 의해 초래되는 것으로 해석된다.

20, 120, 121, 122, 123: 유리 기판
30: TFT 어레이
31: 하지막
32: 반도체층
33: 게이트 절연막
34: 게이트 전극
35: 층간막
36, 38: 소스 드레인 전극
37: 층간막
39a, 39b: 제1 개구부
40: 차광막
50: 적색 컬러 필터층
51: 녹색 컬러 필터층
52: 청색 컬러 필터층
60: 편광자층
61: 제1 수지층
62: 선상부
63: 제2 수지층
64: 제3 수지층(보호막)
65: 굴절률 이방성을 갖는 재료를 갖는 층(제4 수지층, 보호막)
66: 금속성 도전막
67: 레지스트
68: 마스크
69: 형
70: 제1 투광성 도전층
110: 제2 투광성 도전층
80: 제1 배향막
90: 액정층
100: 제2 배향막
104: 표시 영역
106: 화소
108, 109: 게이트측 구동 회로
112: 소스측 구동 회로
114: 커넥터
116: 집적 회로
126: 선상 영역
130: 편광판
190: 박막 트랜지스터
191: 소스 신호선
192: 게이트 신호선
193: 용량 전위선
194: 제2 개구부
196: 용량 소자
197: 커먼 전위선
200: 와이어 그리드 편광판(WG 편광판)
300: 액정 표시 장치

Claims (20)

1. 일 방향으로 연신하는 선상부와, 상기 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로, 상기 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 복수 포함하고,
   상기 선상부는, 외부로부터 입사하는 가시광의 가장 짧은 파장 이하의 폭을 갖고,
   상기 복수의 선상 영역의 사이는, 보호막이 포함되고,
   상기 보호막은, 가시광을 차광하는
   것을 특징으로 하는 편광판.
2. 제1항에 있어서, 상기 선상부의 하면은 제1 수지층에 접하고,
   상기 선상부의 측면과, 상면은, 제2 수지층에 접하고,
   상기 제1 수지층의 측면과, 상기 제2 수지층의 측면은, 상기 보호막과 접하는
   것을 특징으로 하는 편광판.
3. 제1항에 있어서, 상기 선상부의 사이는 제2 수지층이 형성되고, 상기 선상부의 하면은 제1 수지층에 접하고,
   상기 제1 수지층의 측면과, 상기 제2 수지층의 측면은, 상기 보호막과 접하는
   것을 특징으로 하는 편광판.
4. 제1항에 있어서, 상기 선상부의 하면은 제1 수지층에 접하고,
   상기 선상부의 측면과, 상기 제1 수지층의 측면은, 상기 보호막과 접하는
   것을 특징으로 하는 편광판.
5. 제1항에 있어서, 상기 보호막은, 상기 선상 영역을 덮는 것을 특징으로 하는 편광판.
6. 제1항에 있어서, 상기 선상부는, 도전성 금속 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판.
7. 제1항에 있어서, 상기 보호막은 수지 또는 액정을 포함하는 수지인 것을 특징으로 하는 편광판.
8. 제1항에 있어서, 상기 보호막은 굴절률 이방성을 갖는 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판.
9. 제1 기판 위에 수지층을 형성하는 공정과,
   상기 수지층 위에 일 방향으로 연신하는 선상부와, 상기 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로, 상기 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 형성하는 공정과,
   상기 제1 기판과, 상기 선상 영역을 분리하는 공정과,
   상기 선상 영역을, 제2 기판 위에 복수 배열하는 공정과,
   상기 제2 기판 위에 복수 배열된 상기 선상 영역의 사이에, 가시광을 차광하는 보호막을 형성하는 공정
   을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판의 제작 방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 선상 영역을 형성하는 공정은,
    상기 제1 수지층 위에 금속성 도전막을 형성하고,
    상기 금속성 도전막 위에 포토레지스트를 도포하고,
    포토마스크를 사용하여, 상기 선상부의 폭보다도 짧은 파장의 광에 의해, 포토레지스트를 노광하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판의 제작 방법.
11. 제9항에 있어서, 상기 선상 영역을 형성하는 공정은,
    상기 제1 수지층 위에 금속성 도전막을 형성하고,
    상기 금속성 도전막 위에 포토레지스트를 도포하고,
    상기 레지스트에, 패턴이 형성된 형의 패턴이 형성된 면을 누르고,
    상기 형에, 상기 선상부의 폭보다도 짧은 파장의 광을 조사하여, 포토레지스트를 노광하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판의 제작 방법.
12. 제9항에 있어서, 상기 보호막을 형성하는 공정은, 잉크젯에 의해 행하여지는
    것을 특징으로 하는 편광판의 제작 방법.
13. 제9항에 있어서, 상기 보호막을 형성하는 공정은, 상기 제2 기판 위에 복수 배열된 상기 선상 영역의 사이 외에도, 상기 선상 영역의 상면에도 보호막을 형성하는
    것을 특징으로 하는 편광판의 제작 방법.
14. 입사하는 가시광의 가장 짧은 파장 이하의 폭을 갖고, 일 방향으로 연신하는 선상부와,
    상기 선상부가 연신되는 방향과 대략 평행한 방향으로, 상기 선상부가 복수 배열되는 선상 영역을 복수 포함하고,
    상기 복수의 선상 영역의 사이에 설치되고, 가시광을 차광하는 보호막을 포함하는,
    편광판과,
    상기 일 방향으로 연신하는 방향과, 상기 일 방향으로 연신하는 방향과 교차하는 방향으로 배열되는 복수의 화소와,
    차광막과, 제1 기판과, 제2 기판
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
15. 제14항에 있어서, 상기 보호막은, 상기 차광막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 상기 차광막과 겹쳐지고,
    상기 보호막의 폭은, 상기 차광막의 폭보다도 좁은,
    것을 특징으로 하는 표시 장치.
16. 제14항에 있어서, 상기 화소는,
    상기 일 방향으로 연신하는 방향에 대략 평행하게 형성되는 소스 신호선과,
    상기 일 방향으로 연신하는 방향과 교차하는 방향에 대략 평행하게 형성되는 게이트 신호선
    을 포함하고,
    상기 소스 신호선은, 상기 보호막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 상기 보호막과 겹쳐지고,
    상기 소스 신호선의 폭은, 상기 보호막의 폭보다도 좁은,
    것을 특징으로 하는 표시 장치.
17. 제16항에 있어서, 상기 게이트 신호선은, 상기 보호막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 상기 보호막과 겹쳐지고,
    상기 게이트 신호선의 폭은, 상기 보호막의 폭보다도 좁은,
    것을 특징으로 하는 표시 장치.
18. 제14항에 있어서, 상기 차광막을 복수 갖고,
    상기 복수의 차광막은, 상기 차광막의 표면에 연직된 방향에 있어서, 상기 선상 영역이 겹쳐지는 차광막과, 상기 선상 영역과 상기 보호막의 양쪽이 겹쳐지는 차광막
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
19. 제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 적색 컬러 필터와, 녹색 컬러 필터와, 청색 컬러 필터
    를 더 갖고,
    상기 복수의 차광막은, 상기 적색 컬러 필터와 상기 녹색 컬러 필터와 접하는 차광막과, 상기 녹색 컬러 필터와 상기 청색 컬러 필터와 접하는 차광막과, 상기 청색 컬러 필터와 상기 적색 컬러 필터와 접하는 차광막
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
20. 제14항에 있어서, 상기 편광판은, 상기 제1 기판의 하면과, 상기 제2 기판의 상면의 적어도 한쪽에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.

Images