TW201324001A - 濾光層基板及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
一種濾光層基板包括一透光基板、一黑色矩陣層、一濾光層、一保護層、一第一光阻間隔物以及一第二光阻間隔物。黑色矩陣層設置於透光基板上。濾光層設置於透光基板及黑色矩陣層上。保護層覆蓋於濾光層上。第一光阻間隔物對應於濾光層而設置於保護層上。第二光阻間隔物對應於濾光層而設置於保護層上,且第一光阻間隔物之底面與第二光阻間隔物之底面具有一高度差。本發明亦揭露一種顯示裝置。本發明可使液晶填充量之容許範圍較大,也可避免顯示面板因應力、觸碰或震動時所產生的問題。
Description
本發明係關於一種基板及裝置,特別關於一種濾光層基板及顯示裝置。
隨著液晶顯示技術之發展愈來愈成熟,使得液晶顯示裝置已普遍應用於各種資訊產品中,例如筆記型電腦、個人數位助理、智慧型手機,或平板電腦等攜帶式資訊產品上。液晶顯示裝置的主要元件包括液晶顯示面板,而液晶顯示面板包括一薄膜電晶體基板、一濾光基板以及設置於薄膜電晶體基板與濾光基板之間的一液晶層。其中,薄膜電晶體基板與濾光基板係藉由框膠與間隔物(spacer)來維持兩基板之間的間隙。
請參照圖1A所示,其為一種習知之液晶顯示面板1的剖視圖。液晶顯示面板1包括一濾光基板11、一薄膜電晶體基板12以及設置於濾光基板11與薄膜電晶體基板12之間的一液晶層13。
濾光基板11具有一透光基板111、一黑色矩陣層BM、一濾光層112、一保護層113。其中,黑色矩陣層BM、濾光層112及保護層113係依序形成於透光基板111之上。濾光層112可具有一紅色濾光部112a、一綠色濾光部112b及一藍色濾光部112c。另外,間隔物S1、S2分別為一光阻材料,並分別對應於黑色矩陣層BM,且設置於保護層113之上。圖1A之液晶顯示面板1係以一平面切換(in-plane switch,IPS)式液晶顯示面板為例,因此,濾光基板11上並沒有透明導電層。不過,在其他的垂直切換式的液晶顯示面板中,例如扭轉向列型(Twisted Nematic,TN)型液晶顯示面板,保護層113與間隔物S1、S2之間則會具有一透明導電層以作為共同電極。此外,薄膜電晶體基板12具有一透光基板121以及一薄膜電晶體層122,薄膜電晶體層122係設置於透光基板121之一側。
另外,現行常用的液晶填充技術係以液晶滴注法(one drop fill,ODF)為主,其中,液晶顯示面板1的液晶填充量之容許範圍(liquid crystal margin)會直接影響液晶滴注法製程的良率與產量。
為了使液晶顯示面板1的液晶填充量之容許範圍較大,請參照圖1B所示,其為圖1A中間隔物S1、S2分別於另一角度的示意圖。其中,圖1B未顯示薄膜電晶體基板12。
習知技術中,係設置如圖1B所示之兩個不同高度之間隔物S1、S2。其中,兩間隔物S1、S2係位於同一平面上,但由於其厚度係不相同,故兩間隔物S1、S2的兩頂面係具有一高度差H,使液晶填充量之容許範圍較大,如此,可改善液晶滴注法製程的良率與產量。
本發明之目的為提供一種兩個間隔物之底面具有高度差之濾光基板及顯示裝置,除了可使液晶填充量之容許範圍較大之外,也可避免顯示面板因後續製程產生應力的問題,或者可避免因外力碰撞或震動時所造成的問題。
為達上述目的,依據本發明之一種濾光層基板包括一透光基板、一黑色矩陣層、一濾光層、一保護層、一第一光阻間隔物以及一第二光阻間隔物。黑色矩陣層設置於透光基板上。濾光層設置於透光基板及黑色矩陣層上。保護層覆蓋於濾光層上。第一光阻間隔物對應於濾光層而設置於保護層上。第二光阻間隔物對應於濾光層而設置於保護層上,且第一光阻間隔物之底面與第二光阻間隔物之底面具有一高度差。
在一實施例中,濾光層與黑色矩陣層重疊之處具有至少一開口,保護層係覆蓋濾光層及黑色矩陣層,第二光阻間隔物對應開口設置。
在一實施例中,第一光阻間隔物與第二光阻間隔物分別對應不同厚度的保護層。
在一實施例中,第一光阻間隔物與第二光阻間隔物實質上具有相同的高度。
在一實施例中,第一光阻間隔物之高度係大於第二光阻間隔物之高度。
在一實施例中,第一光阻間隔物之底面係指第一光阻間隔物與保護層連結之處,第二光阻間隔物之底面係指第二光阻間隔物與保護層連結之處。
為達上述目的,依據本發明之一種顯示裝置包括一濾光層基板以及一驅動基板。濾光層基板具有一透光基板、一黑色矩陣層、一濾光層、一保護層、一第一光阻間隔物以及一第二光阻間隔物。黑色矩陣層設置於透光基板上。濾光層設置於透光基板及黑色矩陣層上。保護層覆蓋於濾光層上。第一光阻間隔物對應於濾光層而設置於保護層上。第二光阻間隔物對應於濾光層而設置於保護層上,且第一光阻間隔物之底面與第二光阻間隔物之底面具有一高度差。驅動基板與濾光層基板相對而設。
在一實施例中,濾光層與黑色矩陣層重疊之處具有至少一開口,保護層係覆蓋濾光層及黑色矩陣層,第二光阻間隔物對應開口設置。
在一實施例中,第一光阻間隔物與第二光阻間隔物分別對應不同厚度的保護層。
在一實施例中,第一光阻間隔物與第二光阻間隔物具有實質上相同的高度。
在一實施例中,第一光阻間隔物之高度係大於第二光阻間隔物之高度。
在一實施例中,第一光阻間隔物之底面係指第一光阻間隔物與保護層連結之處,第二光阻間隔物之底面係指第二光阻間隔物與保護層連結之處。
在一實施例中,顯示裝置更包括一液晶層,其設置於濾光層基板與驅動基板之間。
在一實施例中,驅動基板係為一薄膜電晶體基板或一有機發光二極體基板。
在一實施例中,有機發光二極體基板具有一基板及一有機發光二極體層,有機發光二極體層係設置於基板面向濾光層基板之一側。
承上所述,因本發明之濾光層基板及顯示裝置之第一光阻間隔物係對應於濾光層而設置於保護層上,第二光阻間隔物係對應於濾光層而設置於保護層上,且第一光阻間隔物之底面與第二光阻間隔物之底面具有一高度差。藉此,可使第一光阻間隔物與第二光阻間隔物之頂面具有一高度差,跟不具有二種高度不同間隔物的液晶顯示面板相比,可以使液晶填充量之容許範圍較大,如此,可改善液晶滴注法製程的良率與產量。另外,頂面具高度差之第一光阻間隔物與第二光阻間隔物的設置,可吸收顯示面板因後續製程所產生的側向應力,也可避免因外力碰撞或震動時造成顯示畫面漏光或對比不均的問題。
以下將參照相關圖式,說明依本發明較佳實施例之一種濾光層基板及顯示裝置,其中相同的元件將以相同的參照符號加以說明。
請同時參照圖2A及圖2B所示,其中,圖2A為本發明較佳實施例之一種濾光層基板2的俯視圖,而圖2B為圖2A中,直線A-A及直線B-B之剖視圖。其中,濾光層基板2包括一基板21、一黑色矩陣層22、一濾光層23、一保護層24、一第一光阻間隔物S1以及一第二光阻間隔物S2。為清楚表現本發明特徵,圖2A未繪示基板21及保護層24。如圖2B所示,本實施例之顯示裝置係以應用於平面切換(in-plane switch,IPS)式顯示裝置為例,因此,濾光層基板2上並沒有透明導電層。不過,在其他的垂直切換式的液晶顯示裝置中,例如扭轉向列型(Twisted Nematic,TN)型液晶顯示裝置,濾光層基板上之保護層24與間隔物S1、S2之間則可具有一透明導電層以作為共同電極。
基板21為可透光材質,且表面均勻且平整,其材質可例如為玻璃基板、石英基板或塑膠基板。
黑色矩陣層22設置於基板21上,而濾光層23係設置於基板21及黑色矩陣層22上,其中黑色矩陣層22為不透光材質,例如為金屬或樹脂,而金屬例如可為鉻、氧化鉻或氮氧鉻化合物。由於黑色矩陣層22為不透光材質,因此於透光基板21上形成不透光的區域,進而界定出可透光的區域。另外,濾光層23可包含一紅色、一綠色及一藍色濾光部,而其材料為可透光材質,例如可為顏料或染料,並可透過染色法、顏料分散法、印刷法、乾膜法或電著法等方式將不同顏色的濾光部分別形成於透光基板21及黑色矩陣層22之上。於此,濾光層23並不限定為紅色、綠色或藍色。
保護層24係覆蓋於濾光層23上。其中,保護層24之材質可為光阻材料或樹脂材料等等,而其製作方式可包含旋轉式塗佈(spin coating)、狹縫及旋轉式塗佈(slit and spin coating)或非旋轉式塗佈(spinless coating)等方式。於此並不加以限制。保護層24用以使濾光層23之表面平坦,並可保護濾光層23不受後續製程製造時的影響。
第一光阻間隔物S1係對應於黑色矩陣層22而設置於保護層24上,而第二光阻間隔物S2係對應於黑色矩陣層22而設置於保護層24上,且第一光阻間隔物S1之底面B1與第二光阻間隔物S2之底面B2係具有一高度差H1,於此高度差係指以一水平面作為基準時,底面B1、B2所處的位置的高度差異。於此,圖2A係以一個第一光阻間隔物S1及三個第二光阻間隔物S2為例,當然並不以此為限。其中,第一光阻間隔物S1及第二光阻間隔物S2係可使用樹脂類、矽酸鹽類、或玻璃纖維類等感光性光阻材料來製作,而其製作方式可例如使用兩次光罩的方式,或者也可使用多灰階光罩的技術來製作第一光阻間隔物S1及第二光阻間隔物S2。其中,多灰階光罩技術可包含灰階式光罩(gray-tone mask,GTM)及半調式光罩(half-tone mask,HTM)技術。另外,第一光阻間隔物S1及第二光阻間隔物S2的剖面形狀例如可為四邊形、六邊形、八邊形等柱狀體,或可為圓柱體或橢圓柱體,於此係以剖面為略呈梯形的柱狀體為例。
再說明的是,第一光阻間隔物S1之底面B1係指第一光阻間隔物S1與保護層24連結之處,而第二光阻間隔物S2之底面B2係指第二光阻間隔物S2與保護層24連結之處。
在本實施例中,部分的濾光層23與黑色矩陣層22重疊之處,濾光層23係具有至少一開口O,也就是濾光層23於開口O處為斷開或具有凹陷,且保護層24係可完全覆蓋濾光層23及黑色矩陣層22,並使第二光阻間隔物S2對應於濾光層23的開口O設置。於此,第二光阻間隔物S2設置之處的濾光層23與黑色矩陣層22之間係具有開口O;而第一光阻間隔物S1設置之處的濾光層23與黑色矩陣層22之間則不具有開口O。於此,第一光阻間隔物S1的厚度與第二光阻間隔物S2的厚度實質上相同。由於第一光阻間隔物S1設置之處的濾光層23不具有開口O,而第二光阻間隔物S2設置之處的濾光層23具有開口O,因此,雖然第一光阻間隔物S1的厚度h1與第二光阻間隔物S2的厚度h2實質上相等,但是,由於開口O的存在,故使第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2之底面B1、B2具有一高度差H1,進而也使得第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2的頂面T1、T2也具有一高度差H2。於此,高度差H2係實質上係等於高度差H1。
另外,請參照圖3所示,其為本發明另一態樣之濾光層基板2a的示意圖。
濾光層基板2a與濾光層基板2主要不同在於:第一光阻間隔物S1設置之處的濾光層23a不具有開口,第二光阻間隔物S2設置之處的濾光層23a亦不具有開口。而第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2之底面B1、B2具有高度差,則是第二光阻間隔物S2設置於保護層24a之一凹槽O2上。於此,第一光阻間隔物S1設置處之保護層24a的厚度係大於第二光阻間隔物S2設置處之保護層24a的厚度,而造成厚度不相同的方法,則可利用光微影製程(photo lithography process)配合灰階式光罩或半調式光罩,以減薄保護層24a的厚度。因此,雖然,濾光層基板2a之第一光阻間隔物S1的厚度h1與第二光阻間隔物S2的厚度h2係實質上相等,但是,一樣可使第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2的頂面T1、T2仍具有高度差H2。
再者,請參照圖4所示,其為本發明又一態樣之濾光層基板2b的示意圖。
濾光層基板2b與濾光層基板2主要不同在於:保護層24b更具有一凹槽O3,且凹槽O3係對應濾光層23的開口O設置,且第二光阻間隔物S2係對應設置於凹槽O3上。於此,第一光阻間隔物S1設置處之保護層24b的厚度係大於第二光阻間隔物S2設置處之保護層24b的厚度。因此,雖然,濾光層基板2b之第一光阻間隔物S1的厚度h1與第二光阻間隔物S2的厚度h2係實質上相等,但是,一樣可使第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2之頂面T1、T2具有一高度差H4,且高度差H4係大於圖2及圖3之高度差H2。其中,第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2之高度差H4越大,液晶填充量之容許範圍越大,更可提升液晶滴注法製程的良率與產量。另外,高度差H4越大,越可抵抗後續之貼膜過程所產生的側向應力,也更可避免因外力碰撞或震動時造成顯示畫面漏光或對比不均的問題。
接著,請參照圖5所示,其為本發明又一態樣之濾光層基板2c的示意圖。
濾光層基板2c與濾光層基板2b主要不同在於:第一光阻間隔物S1之厚度h1係大於第二光阻間隔物S2之厚度h3,使得第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2的頂面T1、T2之間具有一更大的高度差H5(高度差H5大於高度差H4)。
不過,要提醒的是,本態樣之不同高度的第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2可應用於圖2及圖3之濾光層基板2及2a上,也可使第一光阻間隔物S1與第二光阻間隔物S2之頂面具有較大的高度差。
此外,濾光層基板2a、2b、2c其它元件的技術特徵可參照濾光層基板2,於此不再贅述。
請參照圖6所示,其為本發明較佳實施例之一種顯示裝置3的示意圖。
顯示裝置3包括一濾光層基板2以及一驅動基板4,驅動基板4係與濾光層基板2相對而設。其中,濾光層基板2包括一透光基板21、一黑色矩陣層22、一濾光層23、一保護層24、一第一光阻間隔物S1以及一第二光阻間隔物S2。濾光層基板2的技術特徵可參照上述,當然,濾光層基板2的技術特徵也可參照上述之濾光層基板2a、2b、2c,於此不再贅述。
顯示裝置3若為一液晶顯示裝置時,則驅動基板4係可為一薄膜電晶體基板。薄膜電晶體基板可具有一薄膜電晶體矩陣41及一透光基板42,薄膜電晶體矩陣41係設置於透光基板42面向濾光層基板2之一側。另外,顯示裝置3更可包括一液晶層5,液晶層5係設置於濾光層基板2與驅動基板4之間。
另外,顯示裝置3若為一有機發光二極體顯示裝置,驅動基板4係可為一有機發光二極體基板。有機發光二極體基板可具有一基板43及一有機發光二極體層44,有機發光二極體層44係設置於基板43面向濾光層基板2之一側。
綜上所述,因本發明之濾光層基板及顯示裝置之第一光阻間隔物係對應於黑色矩陣層而設置於保護層上,第二光阻間隔物係對應於黑色矩陣層而設置於保護層上,且第一光阻間隔物之底面與第二光阻間隔物之底面具有一高度差。藉此,可使第一光阻間隔物與第二光阻間隔物之頂面具有一高度差,跟不具有二種高度不同間隔物的液晶顯示面板相比,可以使液晶填充量之容許範圍較大,如此,可改善液晶滴注法製程的良率與產量。另外,頂面具高度差之第一光阻間隔物與第二光阻間隔物的設置,可吸收顯示面板因後續製程所產生的側向應力,也可避免因外力碰撞或震動時造成顯示畫面漏光或對比不均的問題。
以上所述僅為舉例性,而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇,而對其進行之等效修改或變更,均應包含於後附之申請專利範圍中。
1...液晶顯示面板
11、2、2a、2b、2c...濾光層基板
111、121、21、42...透光基板
112、23、23a...濾光層
112a、112b、112c...濾光部
113...透明層
12...薄膜電晶體基板
122、41...薄膜電晶體層
13、5...液晶層
24、24a、24b...保護層
3...顯示裝置
4...驅動基板
43...基板
44...有機發光二極體層
A-A、B-B...直線
B1、B2...底面
BM、22...黑色矩陣層
h1、h2、h3...厚度
H、H1、H2、H3、H4、H5...高度差
O...開口
O2、O3...凹槽
S1...第一光阻間隔物
S2...第二光阻間隔物
T1、T2...頂面
圖1A為一種習知之液晶顯示面板的剖視圖;
圖1B為圖1A中,沿直線A-A及直線B-B的剖視圖;
圖2A為本發明較佳實施例之一種濾光層基板的俯視圖;
圖2B為圖2A中,直線A-A及直線B-B之剖視圖;
圖3至圖5分別為本發明另一態樣之濾光層基板的示意圖;以及
圖6為本發明較佳實施例之一種顯示裝置的示意圖。
2...濾光層基板
21...透光基板
22...黑色矩陣層
23...濾光層
24...保護層
h1、h2...厚度
H1、H2...高度差
O...開口
S1...第一光阻間隔物
S2...第二光阻間隔物
Claims (9)
- 一種顯示裝置,包括:一濾光層基板,包括:一基板;一黑色矩陣層,設置於該基板上;一濾光層,覆蓋於該基板及該黑色矩陣層上;一保護層,設置於該濾光層上;一第一光阻間隔物,對應該黑色矩陣層而設置於該保護層上;及一第二光阻間隔物,對應該黑色矩陣層而設置於該保護層上,其中該第一光阻間隔物之底面與該第二光阻間隔物之底面具有一高度差。
- 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置,其中該濾光層具有至少一開口,且該開口用以曝露出該黑色矩陣層之表面,該保護層係覆蓋該濾光層及該黑色矩陣層,且對應該開口處具有一凹槽,且該第二光阻間隔物對應設置於該凹槽上。
- 如申請專利範圍第2項所述之顯示裝置,其中該第一光阻間隔物與該第二光阻間隔物的厚度相同或該第一光阻間隔物的厚度係大於該第二光阻間隔物。
- 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置,其中該保護層具有一凹槽,且該第二光阻間隔物係對應設置於該凹槽上。
- 如申請專利範圍第4項所述之顯示裝置,其中該保護層具有一第二凹槽,且該第二凹槽係對應該開口設置,而該第二光阻間隔物係對應設置於該第二凹槽上。
- 如申請專利範圍第4項所述之顯示裝置,其中該第一光阻間隔物之厚度係與該第二光阻間隔物之厚度相同,或該第一光阻間隔物之厚度係大於該第二光阻間隔物之厚度。
- 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置,其中該第一光阻間隔物之底面係指該第一光阻間隔物與該保護層連結之處,該第二光阻間隔物之底面係指該第二光阻間隔物與該保護層連結之處。
- 如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置,更包括:一驅動基板,與該濾光層基板相對而設;以及一液晶層,設置於該濾光層基板與該驅動基板之間。
- 如申請專利範圍第8項所述之顯示裝置,其中該驅動基板係為一薄膜電晶體基板或一有機發光二極體基板。
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