JP2017191276A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/02—Materials and properties organic material
Abstract
【課題】小型化及び狭額縁化が可能な表示装置を提供する。
【解決手段】スイッチング素子と、画素電極と、を備える第1基板と、絶縁基板と、表示領域を囲む枠状の非表示領域において前記絶縁基板を覆い、第1凹部が形成された有機膜と、前記第1凹部を覆う遮光層と、を備える第2基板と、前記非表示領域において前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール材と、前記第1基板、前記第2基板及び前記シール材で囲まれた空間に配置された液晶層と、を備える液晶表示装置。
【選択図】図3
【解決手段】スイッチング素子と、画素電極と、を備える第1基板と、絶縁基板と、表示領域を囲む枠状の非表示領域において前記絶縁基板を覆い、第1凹部が形成された有機膜と、前記第1凹部を覆う遮光層と、を備える第2基板と、前記非表示領域において前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール材と、前記第1基板、前記第2基板及び前記シール材で囲まれた空間に配置された液晶層と、を備える液晶表示装置。
【選択図】図3
Description
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、表示装置として各種分野で利用されている。カラー表示タイプの液晶表示装置は、カラーフィルタを備えている。遮光層は、異なる色のカラーフィルタ間に配置され、斜め視野における混色を防止する役割を担っている。更なる広視野角化に伴った斜め視野における混色対策として、液晶表示装置が、カラーフィルタを覆うオーバーコート層を備え、遮光層がオーバーコート層の液晶層側の面に配置される技術が知られている。
また、表示装置は、画像を表示する表示領域と、表示領域を囲む非表示領域を有している。表示をオフにした際に、非表示領域が表示領域より明るくなって見える不具合を解消するために、非表示領域に、異なる複数の着色層と、遮光性の着色層と、を積層する技術が知られている。
本実施形態の目的は、信頼性を向上することが可能な液晶表示装置を提供することにある。
本実施形態によれば、スイッチング素子と、画素電極と、を備える第1基板と、絶縁基板と、表示領域を囲む枠状の非表示領域において前記絶縁基板を覆い、第1凹部が形成された有機膜と、前記第1凹部を覆う遮光層と、を備える第2基板と、前記非表示領域において前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール材と、前記第1基板、前記第2基板及び前記シール材で囲まれた空間に配置された液晶層と、を備える液晶表示装置が提供される。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
まず、本実施形態に係る表示装置について詳細に説明する。
図1は、本実施形態の表示装置DSPを構成する表示パネルPNLの構成及び等価回路を示す図である。なお、本実施形態においては、表示装置DSPが液晶表示装置である場合について説明する。
図1は、本実施形態の表示装置DSPを構成する表示パネルPNLの構成及び等価回路を示す図である。なお、本実施形態においては、表示装置DSPが液晶表示装置である場合について説明する。
ここで、図1では、互いに交差する第1方向X及び第2方向Yで規定されるX−Y平面における表示パネルPNLの平面図を示している。なお、図示した例では、第1方向X及び第2方向Yは、互いに直交しているが、90°以外の角度で交差していてもよい。
表示パネルPNLは、第1基板SUB1と、第1基板SUB1に対向配置された第2基板SUB2と、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間に保持された液晶層LQと、を備えている。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態で、シール材SLによって貼り合わせられている。液晶層LQは、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間のセルギャップにおいてシール材SLによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルPNLは、シール材SLによって囲まれた内側に画像を表示する表示領域DAを備えている。表示領域DAは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素PXは、表示領域DAに位置している。なお、表示領域DAは、他の多角形状であっても良いし、そのエッジが曲線状に形成されていても良い。
第1基板SUB1は、表示領域DAにおいて、第1方向Xに沿って延出したゲート配線G、第2方向Yに沿って延出したソース配線S、各画素PXにおいてゲート配線G及びソース配線Sと電気的に接続されたスイッチング素子SW、各画素PXにおいてスイッチング素子SWと電気的に接続された画素電極PEなどを備えている。本実施形態において、共通電極CEは、第1基板SUB1に備えられている。
表示パネルPNLは、その背面側に配置されたバックライトユニットからの光を選択的に透過することによって画像を表示する透過型パネルとして構成されても良いし、表示パネルPNLに入射する外光を選択的に反射することによって画像を表示する反射型パネルとして構成されても良いし、透過型及び反射型を組み合わせた半透過型パネルとして構成されても良い。
駆動ICチップ2及びフレキシブル・プリンテッド・サーキット(FPC)基板3などの表示パネルPNLの駆動に必要な信号供給源は、表示領域DAを枠状に囲む非表示領域NDAに位置している。図示した例では、駆動ICチップ2及びFPC基板3は、第2基板SUB2の1つの基板側縁SUB2eよりも外側に延出した第1基板SUB1の実装部MTに実装されている。実装部MTは、第1基板SUB1の1つの基板側縁SUB1eに沿って形成されている。詳述しないが、第1基板SUB1は、実装部MTに信号供給源と接続するためのパッドを有している。パッドには、上記のゲート配線Gやソース配線Sなどと電気的に接続されたものが含まれる。なお、図示した例では、第2基板SUB2の他の3つの基板側縁は、第1基板SUB1の他の3つの基板側縁と対向している。
シール材SLは、非表示領域NDAにおいて、表示領域DAを取り囲む額縁状に形成されている。図示した例では、シール材SLは、矩形状に形成されている。シール材SLは、第1シール部SL1、第2シール部SL2、第3シール部SL3、及び、第4シール部SL4を有している。第1シール部SL1及び第4シール部SL4は、何れも第1方向Xに沿って延出し、表示領域DAを挟んで対向している。第2シール部SL2及び第3シール部SL3は、何れも第2方向Yに沿って延出し、表示領域DAを挟んで対向している。第1シール部SL1は、実装部MTに沿って配置されている。第1シール部SL1の第2方向Yに沿った幅W10は、第4シール部SL4の第2方向Yに沿った幅W20より大きい。また、図示した例では、第2シール部SL2の第1方向Xに沿った幅、第3シール部SL3の第1方向Xに沿った幅は、第4シール部SL4の幅W20と略同等の大きさである。すなわち、第1シール部SL1は、実装部MT側に配置されているため、第2シール部SL2、第3シール部SL3、第4シール部SL4より幅広に形成されている。
図2は、図1に示した表示装置DSPの表示領域DAの画素PX及び層構造を示す断面図である。本実施形態においては、表示パネルPNLは、画素電極PE及び共通電極CEの双方が第1基板SUB1に備えられており、IPS(In−Plane Switching)モード、IPSモードの1種であるFFS(Fringe Field Switching)モードなどの基板主面に沿った横電界を利用するモードに適用される。
なお、本実施形態においては、第3方向Zの正の向き、あるいは、第1基板SUB1から第2基板SUB2に向かう方向を上又は上方と定義し、第3方向Zの負の向き、あるいは、第2基板SUB2から第1基板SUB1に向かう方向を下又は下方と定義する。また、「第1部材の上方の第2部材」及び「第1部材の下方の第2部材」とした場合、第2部材は、第1部材に接していてもよく、又は第1部材から離れて位置していてもよい。第2部材が第1部材から離れて位置している場合、第1部材と第2部材との間に、第3部材が介在していてもよい。一方、「第1部材の上の第2部材」及び「第1部材の下の第2部材」とした場合、第2部材は第1部材に接している。
第1基板SUB1は、第1絶縁基板10、スイッチング素子SW、共通電極CE、画素電極PE、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、第4絶縁膜14、第5絶縁膜15、第1配向膜AL1等を備えている。
第1絶縁基板10は、ガラス基板や樹脂基板等の光透過性を有する基板である。第1絶縁膜11は、第1絶縁基板10を覆っている。
スイッチング素子SWの半導体層SCは、第1絶縁膜11の上に位置し、第2絶縁膜12によって覆われている。第2絶縁膜12は、第1絶縁膜11の上にも配置されている。スイッチング素子SWのゲート電極WGは、第2絶縁膜12の上においてゲート配線Gと一体的に形成され、半導体層SCの上方に位置している。ゲート電極WGは、ゲート配線Gとともに第3絶縁膜13によって覆われている。第3絶縁膜13は、第2絶縁膜12の上にも配置されている。
スイッチング素子SWのソース電極WS及びドレイン電極WDは、第3絶縁膜13の上に形成されている。また、ソース配線Sも同様に第3絶縁膜13の上に形成されている。ソース電極WSは、ソース配線Sと一体的に形成されている。ソース電極WSは、第2絶縁膜12及び第3絶縁膜13を貫通するコンタクトホールCH1を介して半導体層SCにコンタクトしている。ドレイン電極WDは、第2絶縁膜12及び第3絶縁膜13を貫通するコンタクトホールCH2を介して半導体層SCにコンタクトしている。第4絶縁膜14は、スイッチング素子SWとソース配線Sを覆っている。第4絶縁膜14は、第3絶縁膜13の上にも配置されている。
共通電極CEは、第4絶縁膜14の上に形成されている。共通電極CEは、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)等を用いて形成された透明電極である。第5絶縁膜15は、共通電極CEを覆っている。第5絶縁膜15は、第4絶縁膜14の上にも配置されている。
画素電極PEは、第5絶縁膜15の上に形成され、共通電極CEと対向して位置している。画素電極PEは、スリット100を有している。それぞれのスリット100は、共通電極CEの上方に形成されている。画素電極PEは、透明な導電材料、例えば、ITOやIZO等を用いて形成された透明電極である。画素電極PEは、コンタクトホールCH3を介してスイッチング素子SWのドレイン電極WDにコンタクトしている。コンタクトホールCH3は、第4絶縁膜14をドレイン電極WDまで貫通したコンタクトホールCH31と、第5絶縁膜15をドレイン電極WDまで貫通したコンタクトホールCH32によって構成されている。
第1配向膜AL1は、画素電極PEを覆っている。第1配向膜AL1は、第5絶縁膜15も覆っている。第1配向膜AL1は、水平配向性を示す材料によって形成され、第1基板SUB1の液晶層LQに接する面に配置されている。
上記のような第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、及び、第5絶縁膜15は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物等の無機系材料を用いて形成されている。また、第4絶縁膜14は、例えば、透明な樹脂等の有機系材料を用いて形成されている。
一方、第2基板SUB2は、第2絶縁基板20、カラーフィルタCF、オーバーコート層OC、遮光層BM、第2配向膜AL2等を備えている。
第2絶縁基板20は、ガラス基板や樹脂基板等の光透過性を有する基板である。
カラーフィルタCFは、第2絶縁基板20の内面20Aに配置されている。カラーフィルタCFは、互いに異なる複数の色、例えば赤色、青色、緑色にそれぞれ着色された樹脂材料によって形成されている。赤色のカラーフィルタCFRは赤色画素に対応して配置され、緑色のカラーフィルタCFGは緑色画素に対応して配置され、青色のカラーフィルタCFBは青色画素に対応して配置されている。
カラーフィルタCFは、第2絶縁基板20の内面20Aに配置されている。カラーフィルタCFは、互いに異なる複数の色、例えば赤色、青色、緑色にそれぞれ着色された樹脂材料によって形成されている。赤色のカラーフィルタCFRは赤色画素に対応して配置され、緑色のカラーフィルタCFGは緑色画素に対応して配置され、青色のカラーフィルタCFBは青色画素に対応して配置されている。
オーバーコート層OCは、カラーフィルタCFを覆っている。このオーバーコート層OCは、カラーフィルタCFの表面の凹凸を平坦化する。オーバーコート層OCは、透明な樹脂材料によって形成されている。
遮光層BMは、オーバーコート層OCの第1基板SUB1と対向する側の面に配置されている。遮光層BMは、各画素PXを区画するように配置されており、第1基板SUB1に配置されたゲート配線Gやソース配線S、スイッチング素子SWなどの配線部やコンタクトホールCH3などに対向するように配置されている。詳述しないが、ゲート配線G及びソース配線Sにそれぞれ対向するように形成された遮光層BMの形状は、格子状をなしている。異なる色のカラーフィルタCF間の境界は、遮光層BMと重なる位置にある。
第2配向膜AL2は、遮光層BMを覆っている。第2配向膜AL2は、オーバーコート層OCも覆っている。第2配向膜AL2は、水平配向性を示す材料によって形成され、第2基板SUB2の液晶層LQに接する面に配置されている。
上述したような第1基板SUB1及び第2基板SUB2は、第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2が向かい合うように配置されている。このとき、第1基板SUB1と第2基板SUB2との間には、図示しないスペーサにより、所定のセルギャップが形成される。第1基板SUB1と第2基板SUB2とは、セルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層LQは、上記セルギャップに封入された液晶組成物によって構成されている。
第1基板SUB1の外面すなわち第1絶縁基板10の外面10Bには、第1偏光板PL1を含む第1光学素子OD1が配置されている。また、第2基板SUB2の外面すなわち第2絶縁基板20の外面20Bには、第2偏光板PL2を含む第2光学素子OD2が配置されている。第1偏光板PL1の第1吸収軸と第2偏光板PL2の第2吸収軸とは、例えば、クロスニコルの位置関係にある。
図3は、図1に示した表示パネルPNLの領域Aを拡大した図である。
カラーフィルタCFは、非表示領域NDAにも配置されている。カラーフィルタCFは、非表示領域NDAにおいて、第1部分CF1、第2部分CF2、第3部分CF3を有している。第2部分CF2は、第3部分CF3より外周側に配置され、第1部分CF1より内周側に配置されている。第1部分CF1の幅W1は、第2部分CF2の幅W2より大きい。また、第3部分CF3の幅W3は、例えば、第2部分CF2の幅W2と同等である。第1部分CF1及び第2部分CF2は、平面視でシール材SLと重なって配置されている。第3部分CF3は、例えば、平面視でシール材SLとは重ならない領域に配置されている。なお、図示した例では、幅W1、W2、W3は、第1方向Xに沿った幅である。
カラーフィルタCFは、非表示領域NDAにも配置されている。カラーフィルタCFは、非表示領域NDAにおいて、第1部分CF1、第2部分CF2、第3部分CF3を有している。第2部分CF2は、第3部分CF3より外周側に配置され、第1部分CF1より内周側に配置されている。第1部分CF1の幅W1は、第2部分CF2の幅W2より大きい。また、第3部分CF3の幅W3は、例えば、第2部分CF2の幅W2と同等である。第1部分CF1及び第2部分CF2は、平面視でシール材SLと重なって配置されている。第3部分CF3は、例えば、平面視でシール材SLとは重ならない領域に配置されている。なお、図示した例では、幅W1、W2、W3は、第1方向Xに沿った幅である。
図4は、図3のB−C線における表示パネルPNLの断面を示す図である。
図示した例では、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、及び、第4絶縁膜14は、非表示領域NDAまで延在し、第1絶縁基板10の基板端部10Eまで延在している。また、第5絶縁膜15及び第1配向膜AL1も非表示領域NDAまで延在して配置されているが、第1絶縁基板10の基板端部10Eまで延在していない。なお、第5絶縁膜15と第1配向膜AL1との間には、透明導電層PELが配置されている。この透明導電層PELは、表示領域DAに配置された画素電極PEとは、絶縁した状態にある。また、透明導電層PELは、表示領域DAに配置された画素電極PEと同一材料で、同一工程で形成される。
図示した例では、第1絶縁膜11、第2絶縁膜12、第3絶縁膜13、及び、第4絶縁膜14は、非表示領域NDAまで延在し、第1絶縁基板10の基板端部10Eまで延在している。また、第5絶縁膜15及び第1配向膜AL1も非表示領域NDAまで延在して配置されているが、第1絶縁基板10の基板端部10Eまで延在していない。なお、第5絶縁膜15と第1配向膜AL1との間には、透明導電層PELが配置されている。この透明導電層PELは、表示領域DAに配置された画素電極PEとは、絶縁した状態にある。また、透明導電層PELは、表示領域DAに配置された画素電極PEと同一材料で、同一工程で形成される。
第4絶縁膜14は、凹部CC1を有している。凹部CC1は、第3絶縁膜13まで貫通して形成されている。図示した例では、第5絶縁膜15は、凹部CC1の内部に配置され、凹部CC1の側面CC1eを覆っている。透明導電層PELは、凹部CC1の内部に配置され、凹部CC1の側面CC1eに沿って配置されている。透明導電層PELは、凹部CC1の内部で第5絶縁膜15を覆っている。第1配向膜AL1は、凹部CC1の内部において、透明導電層PELを覆っている。
例えば、透明導電層PELが凹部CC1で第5絶縁膜15を覆っていない場合には、第1配向膜AL1が凹部CC1で第5絶縁膜15に接する。このとき、第1配向膜AL1の光配向処理を行う際に、第1配向膜AL1に照射された紫外線が、第1配向膜AL1と第5絶縁膜15の界面に達し、第1配向膜AL1と第5絶縁膜15との間の接着強度が低下する場合がある。図示した例では、シール材SLと重なる領域において、透明導電層PELが第5絶縁膜15を覆っているため、第1配向膜AL1が剥がれるのを抑制することができる。さらに、上記のように第5絶縁膜15が、凹部CC1の側面CC1eを覆っていることにより、側面CC1eから、第4絶縁膜14へ水分が侵入するのを抑制する。また、第1配向膜AL1は、凹部CC1の内部で第3絶縁膜13に接している。そのため、第4絶縁膜14、第5絶縁膜15、透明導電層PELのそれぞれの間の界面から水分が侵入するのを抑制する。
図3に示したように、カラーフィルタCFは、非表示領域NDAにも配置されている。表示領域DA及び非表示領域NDAにおいて、カラーフィルタCFは同層に配置されている。また、図3に示したように、第1部分CF1の幅W1は、第2部分CF2の幅W2より大きい。本実施形態においては、例えば、幅W1は、約50〜60μmであり、幅W2は、約20μmである。図示した例では、第3部分CF3の幅W3は、第2部分CF2の幅W2と略同等であり、約20μmである。また、第1部分CF1は、第3方向Zに沿って高さH1を有し、第2部分CF2は、第3方向Zに沿って高さH2を有している。高さH1は、高さH2より低い。本実施形態においては、例えば、高さH1は、約2〜3μmであり、高さH2は、約4〜6μmである。図示した例では、第3部分CF3の高さH3は、第2部分CF2の高さH2と同等であり、約4〜6μmである。隣り合う第2部分CF2の間の幅W4は、例えば、約30μm以上である。
図示した例では、第1部分CF1は、第1層CFaを有しており、単層で構成されている。第2部分CF2は、第1層CFa及び第2層CFbを有しており、第1層CFa及び第2層CFbの積層体で構成されている。また、第3部分CF3は、第1層CFa及び第2層CFbを有しており、第1層CFa及び第2層CFbの積層体で構成されている。第1層CFaは、第2絶縁基板20の下に配置され、第2層CFbは、第1層CFaの下に配置されている。第1部分CF1の第1層CFaと、第2部分CF2の第1層CFaとは、例えば、第3方向Zに同一の高さを有している。
第1部分CF1の第1層CFaと、第2部分CF2の第1層CFaと、第3部分CF3の第1層CFaとは、同一材料を用いて形成されており、表示領域DAのカラーフィルタCFR,CFG、CFBのうち、何れかと同一材料で形成されている。また、第2部分CF2の第2層CFbと、第3部分CF3の第2層CFbとは、同一材料を用いて形成されており、表示領域DAのカラーフィルタCFR,CFG、CFBのうち、何れかと同一材料で形成されている。なお、第1層CFa及び第2層CFbは、互いに異なる色に着色された樹脂材料によって形成されている。本実施形態においては、例えば、第1層CFaは、青色のカラーフィルタCFBと同一材料で形成され、第2層CFbは、赤色のカラーフィルタCFRと同一材料で形成されている。
なお、第2部分CF2及び第3部分CF3は、第2層CFbの下に第3層を有していても良く、第1層CFa、第2層CFb、第3層の積層体で構成されていても良い。このとき、第1層CFa、第2層CFb、第3層は、それぞれ異なる色に着色された樹脂材料によって形成されている。
隣り合う第1部分CF1の間、隣り合う第2部分CF2の間、隣り合う第1部分CF1及び第2部分CF2の間には、凹部CC2が形成されている。凹部CC2は、第2絶縁基板20まで貫通して形成されている。
オーバーコート層OCは、非表示領域NDAにおいても、カラーフィルタCFを覆っている。本実施形態において、第2部分CF2の下に配置されているオーバーコート層OCの第3方向Zに沿った厚みTは、約0.5〜1μmである。オーバーコート層OCは、凹部CC2にも配置されている。オーバーコート層OCは、カラーフィルタCFの凹部CC2と重なる位置に、凹部CC3を有している。隣り合う第1部分CF1の間に配置された凹部CC2及びCC3は、第1基板SUB1に配置された凹部CC1と対向する位置に配置されている。
なお、本実施形態において、カラーフィルタCF及びオーバーコート層OCは、非表示領域NDAにおいて、第2絶縁基板20を覆う有機膜に相当する。カラーフィルタCFは第1有機絶縁膜に相当し、オーバーコート層OCは第2有機絶縁膜に相当する。
遮光層BMは、非表示領域NDAにおいて、オーバーコート層OCを覆っている。
遮光層BMは、オーバーコート層OCの凹部CC3を覆っている。すなわち、遮光層BMは、カラーフィルタCFの凹部CC2と重なる位置に配置されている。遮光層BMの第1基板SUB1と対向する側の面には、凹部CC3の形状に沿って形成された凹部CC4が形成されている。本実施形態においては、遮光層BMの凹部CC4の深さD1は、約1.5〜1.7μmである。
遮光層BMは、オーバーコート層OCの凹部CC3を覆っている。すなわち、遮光層BMは、カラーフィルタCFの凹部CC2と重なる位置に配置されている。遮光層BMの第1基板SUB1と対向する側の面には、凹部CC3の形状に沿って形成された凹部CC4が形成されている。本実施形態においては、遮光層BMの凹部CC4の深さD1は、約1.5〜1.7μmである。
遮光層BMは、凹部CC2と重なる位置にスリット200を有している。このため、遮光層BMを伝わる水分や遮光層BMの界面を伝わる水分の侵入経路をスリット200において遮断することができる。また、第1基板SUB1は、スリット200と重なる位置において、ゲート配線Gと同一層の周辺配線G’を備えている。このため、スリット200からの光漏れを抑制することができる。なお、第1基板SUB1は、スリット200と重なる位置において、他の配線を備えていても良い。
遮光層BMは、非表示領域NDAの液晶層LQと重なる領域において、スリット300を有している。このため、表示パネルPNLの製造工程において、静電気が表示領域DAに集中するのを抑制し、表示パネルPNLが損傷するのを抑制することが可能である。また、第1基板SUB1は、スリット300と重なる位置において、ソース配線Sと同一層の周辺配線S’を備えている。このため、スリット200からの光漏れを抑制することができる。なお、第1基板SUB1は、スリット200と重なる位置において、他の配線を備えていても良い。また、第3部分CF3はスリット300と重なる位置に配置されている。第3部分CF3は、異なる色の第1層CFa及び第2層CFbが第3方向Zに重なって構成されているため、さらにスリット300からの光漏れを抑制することができる。第3部分CF3の第1方向Xに沿った幅は、スリット300の第1方向Xに沿った幅より大きい。
第2基板SUB2は、非表示領域NDAにおいて、遮光層BMの第1基板SUB1と対向する側に、スペーサSP1、SP2、SP3を備えている。スペーサSP1は、シール材SL内部に配置されている。スペーサSP2、SP3は、液晶層LQと重なる位置に配置されている。なお、後述するが、スペーサSP1、SP2、SP3は、非表示領域NDAの全周に連続した壁状に形成されていても良いし、不連続の壁状に形成されていても良いし、点在した柱状に形成されていても良い。スペーサSP1は、第1基板SUB1及び第2基板SUB2が貼り合わせられる工程のシール材SLが硬化されていない状態において、液晶層LQの広がりを抑制する。このため、液晶層LQがシール材SLと第1基板SUB1及び第2基板SUB2との界面に侵入することによる接着強度の低下を抑制することが可能となる。また、スペーサSP2、SP3は、同様の状態において、シール材SLが液晶層LQに広がるのを抑制する。さらに、スペーサSP2、SP3は、第2配向膜AL2が塗布される際に、第2配向膜AL2の広がりを抑制する。なお、形成されるスペーサSP1の数や、スペーサSP2、SP3の数は特に限定されない。
さらに、第2基板SUB2は、非表示領域NDAにおいて、遮光層BMの第1基板SUB1と対向する側に、突出部6を備えている。突出部6の端部と、第1絶縁基板10の基板端部10Eと、第2絶縁基板20の基板端部20Eとは第3方向Zに沿って略直線上に位置している。突出部6は、表示領域DAを囲む連続した壁状に形成されていても良いし、不連続の壁状に形成されても良いし、点在した柱状に形成されていても良い。また、突出部6は、第1基板SUB1に配置されていても良い。
表示パネルPNLは、例えば、複数の第1基板SUB1を形成するための第1マザー基板と、複数の第2基板SUB2を形成するための第2マザー基板とをシール材SLで貼り合わせた後にそれぞれカットすることで製造される。この際、第1マザー基板及び第2マザー基板のそれぞれのカットラインに突出部6が配置されることにより、カットラインにおいてシール材SLがほとんど介在しない。このため、カットの際に加えられた外部応力が突出部6に向かって集中し、第1マザー基板及び第2マザー基板のカット不良の発生を抑制することができる。また、カットラインに沿った位置には、シール材SLがほとんど存在しないため、切り出した表示パネルPNLを容易に分離することができる。
第2配向膜AL2は、非表示領域NDAまで延在して配置されているが、第2絶縁基板20の基板端部20Eまで延在せずに途切れている。ただし、第2配向膜AL2が第2絶縁基板20の基板端部20Eまで延在して配置される構成であっても良い。
シール材SLは、第1基板SUB1に形成された凹部CC1の内部にも配置されている。また、シール材SLは、遮光層BMと接し、遮光層BMの凹部CC4の内部にも配置されている。シール材SLは、第2配向膜AL2にも接している。シール材SLは、凹部CC3を覆う遮光層BMと重なる位置において第2配向膜AL2と接している。シール材SLは、例えば熱硬化型のエポキシ系の樹脂又は光硬化型(例えば、紫外線硬化型)のアクリル系の樹脂を利用して形成することができる。後者の場合において、シール材SLを形成する材料がエポキシ系の樹脂を含有することにより、シール材SLと基板(第1基板SUB1及び第2基板SUB2)との接着強度を高めることができる。
本実施形態によれば、第2基板SUB2は、非表示領域NDAにおいて、凹部CC3が形成されたオーバーコート層OCと、オーバーコート層OCを覆う遮光層BMと、を備えている。遮光層BMの第1基板SUB1と対向する側の面には、凹部CC3の形状に沿って凹部CC4が形成されている。シール材SLが、遮光層BMに接し、凹部CC4の内部に配置されている。このため、遮光層BMが略平坦に形成されている場合と比べて、シール材SLと遮光層BMとの接触面積を拡大することができる。したがって、シール材SLと第2基板SUB2との接着強度を向上することができる。
また、第1基板SUB1は、非表示領域NDAにおいて、凹部CC1が形成された第4絶縁膜14を備えている。シール材SLは、凹部CC1の内部まで配置されている。このため、シール材SLと第1基板SUB1との接触面積を拡大することができる。したがって、シール材SLと第1基板SUB1との接着強度を向上することができる。
上記より、シール材SLによる第1基板SUB1と第2基板SUB2との接着強度を向上することができる。
また、シール材SLと遮光層BMとの間の接着強度が向上されたことにより、表示パネルPNLの外部から侵入した水分がシール材SLと遮光層BMとの間の界面を伝わって、液晶層LQに侵入するのを抑制することができる。よって、液晶層LQに水分が侵入することによる、表示の黒ムラの発生を抑制することが可能である。
また、カラーフィルタCFに凹部CC2を形成することにより、オーバーコート層OCの凹部CC3が凹部CC2と重畳する位置に形成される。すなわち、予め、凹部CC2を設けてカラーフィルタCFを形成した後に、カラーフィルタCFとその凹部CC2を覆うオーバーコート層OCを形成することにより、カラーフィルタCFの下に配置された部分と、凹部CC2に位置する部分とで段差が生じ、凹部CC3を形成することができる。このため、オーバーコート層OCを形成する際に、部分的に透過率の異なるフォトマスクを用意する必要がなく、また、フォトレジストをパターニングしてオーバーコート層OCを部分的にエッチングするなどの工程も不要である。したがって、製造プロセスを簡素化することが可能となるとともに、製造コストを削減することが可能となる。
また、非表示領域NDAのカラーフィルタCFは、表示領域DAのカラーフィルタCFR、CFG、CRBと同層に設けられ、また、カラーフィルタCFR、CFG、CFBの何れかと同一材料製であるため、カラーフィルタCFR,CFG、CFBを形成する工程で同時に形成することができる。このため、非表示領域NDAにおいてカラーフィルタCFを形成するための別途の工程が不要である。
また、本実施形態によれば、遮光層BMは、カラーフィルタCFよりも第1基板SUB1側に配置され、オーバーコート層OCの第1基板SUB1と対向する側に配置されている。このため、表示パネルPNLを斜め方向から観察した場合であっても、混色による表示品位の劣化を抑制することができる。また、混色防止のために遮光層BMの幅を拡大する必要がなくなるため、一画素あたりの表示に寄与する面積の縮小を抑制し、高精細化、及び、高輝度化に伴い、開口率を向上することが可能である。
なお、図示した例では、カラーフィルタCFが凹部CC2を有することにより、オーバーコート層OCに凹部CC3が形成されていたが、これに限らない。カラーフィルタCFに凹部CC2が形成されずに、オーバーコート層OCに凹部CC3が形成されていても良い。その場合、例えば、オーバーコート層OCの凹部CC3はハーフトーン露光によって形成される。
また、第2部分CF2が形成されていなくても良く、オーバーコート層OCに凹部CC3を形成することによって、遮光層BMの面に凹部CC4を形成しても良い。
また、第2部分CF2が形成されていなくても良く、オーバーコート層OCに凹部CC3を形成することによって、遮光層BMの面に凹部CC4を形成しても良い。
図5は、図1に示した表示パネルPNLを示す平面図であり、スペーサSP1、SP2、SP3の位置を示す図である。
図示例では、スペーサSP1、SP2、SP3は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。このようにスペーサSP1を配置することで、第1基板SUB1及び第2基板SUB2を貼り合わせる際に、液晶層LQの広がりを非表示領域NDAの全周に亘ってスペーサSP1でせき止めることができる。また、このようにスペーサSP2、SP3を配置することで、第1基板SUB1及び第2基板SUB2を貼り合わせる際に、シール材SLが液晶層LQに広がるのを非表示領域NDAの全周に亘って抑制することができる。
図示例では、スペーサSP1、SP2、SP3は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。このようにスペーサSP1を配置することで、第1基板SUB1及び第2基板SUB2を貼り合わせる際に、液晶層LQの広がりを非表示領域NDAの全周に亘ってスペーサSP1でせき止めることができる。また、このようにスペーサSP2、SP3を配置することで、第1基板SUB1及び第2基板SUB2を貼り合わせる際に、シール材SLが液晶層LQに広がるのを非表示領域NDAの全周に亘って抑制することができる。
図6は、図1に示した表示パネルPNLを示す平面図であり、遮光層BMに形成されたスリット200、200の位置を示す図である。図6は、非表示領域NDAに配置された遮光層BMを示しており、表示領域DAに配置された遮光層BMについては、その図示を省略する。
図示した例では、スリット200、200は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。このようにスリット200を配置することで、非表示領域NDAの全周に亘って、遮光層BMを伝わる水分や遮光層BMの界面を伝わる水分が液晶層LQに侵入するのを抑制することができる。また、このようにスリット300を配置することで、静電気が表示領域DAに集中するのを抑制することができる。第3部分CF3は、非表示領域NDAの全周に亘ってスリット300と対向している。
図7は、上記実施形態に係る表示装置の変形例を示す断面図である。図6に示した構成は、図4に示した構成と比較して、オーバーコート層OCに形成された凹部CC3が、第2絶縁基板20まで貫通して形成されている点で相違している。
遮光層BMは、凹部CC3の内部において、第2絶縁基板20と接している。上記した実施形態と比較して、本変形例の遮光層BMの凹部CC4の深さがより大きく形成されており、そのため、シール材SLと遮光層BMとの接触面積をより拡大することが可能となる。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
なお、本変形例において、第2部分CF2が形成されていなくても良く、その場合にも、オーバーコート層OCに第2絶縁基板20まで貫通する凹部CC3が形成されることにより、上記したのと同様の効果が得られる。このとき、オーバーコート層OCは、光硬化によってパターニングされ、凹部CC3が形成される。
図8は、図1に示した表示パネルPNLを示す平面図であり、凹部CC4の位置を示す図である。
図8に示した例では、遮光層の凹部CC4は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。つまり、カラーフィルタの凹部とオーバーコート層の凹部は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。このように凹部CC4を配置することで、シール材SLと第2基板SUB2との接着強度を非表示領域NDAの全周に亘って向上することができる。
図8に示した例では、遮光層の凹部CC4は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。つまり、カラーフィルタの凹部とオーバーコート層の凹部は、非表示領域NDAの全周に連続して配置されている。このように凹部CC4を配置することで、シール材SLと第2基板SUB2との接着強度を非表示領域NDAの全周に亘って向上することができる。
図9は、上記実施形態に係る凹部CC4の第1の変形例を示す断面図である。図9に示した構成は、図8に示した構成と比較して、凹部CC4が、非表示領域NDAの4隅に形成されている点で異なっている。このとき、カラーフィルタの凹部とオーバーコート層の凹部は非表示領域NDAの4隅に形成されている。
表示パネルPNLは、その4隅において、水分が第1方向X及び第2方向Yから侵入しやすいため、シール材SLと、第1基板SUB1及び第2基板SUB2との接着強度が弱まることが懸念される。図示したように、表示パネルPNLの4隅に凹部CC4が配置されることで、シール材SLと第2基板SUB2との接着強度を向上することができる。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
図10は、上記実施形態に係る凹部CC4の第2の変形例を示す断面図である。図10に示した構成は、図8に示した構成と比較して、凹部CC4が、非表示領域NDAの2隅に形成されている点で異なっている。このとき、カラーフィルタの凹部とオーバーコート層の凹部は非表示領域NDAの2隅に形成されている。
凹部CC4は、表示パネルPNLの実装部MT側とは反対側である反端子側の2隅に配置されている。図1に示したように、表示パネルPNLの反端子側のシール部SL4の幅は、実装部MT側のシール部SL1の幅と比べて小さく形成されている。そのため、実装部MTとは反対側の2隅は、実装部MT側の2隅と比べて水分が侵入し易い。図示したように凹部CC4を配置することで、実装部MTとは反対側の2隅において、シール材SLと第2基板SUB2との接着強度を向上し、水分侵入を抑制することができる。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
図11は、上記実施形態に係る凹部CC4の第3の変形例を示す断面図である。
図11に示した例では、凹部CC4は、市松状に形成されている。このとき、例えば、カラーフィルタが、シール材SLと重なる領域において、市松状に配置されている。つまり、カラーフィルタの凹部が市松状に形成されていることによって、オーバーコート層OCに凹部CC3が市松状に形成されている。そのため、遮光層の凹部CC4が市松状に形成される。もしくは、例えば、カラーフィルタに凹部が形成されず、オーバーコート層OCに凹部が市松状に形成されていてもよい。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
図11に示した例では、凹部CC4は、市松状に形成されている。このとき、例えば、カラーフィルタが、シール材SLと重なる領域において、市松状に配置されている。つまり、カラーフィルタの凹部が市松状に形成されていることによって、オーバーコート層OCに凹部CC3が市松状に形成されている。そのため、遮光層の凹部CC4が市松状に形成される。もしくは、例えば、カラーフィルタに凹部が形成されず、オーバーコート層OCに凹部が市松状に形成されていてもよい。
このような変形例においても上記したのと同様の効果が得られる。
以上説明したように、本実施形態によれば、信頼性を向上することが可能な液晶表示装置を得ることができる。
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
DSP…表示装置、SW…スイッチング素子、PE…画素電極、
SUB1…第1基板、SUB2…第2基板、20…第2絶縁基板、
DA…表示領域、NDA…非表示領域、
CC1、CC2、CC3…凹部、CC1e…側面、
CF…カラーフィルタ、OC…オーバーコート層、
BM…遮光層、SL…シール材、LQ…液晶層、
AL1…第1配向膜、AL2…第2配向膜、
CF1…第1部分、CF2…第2部分、CF3…第3部分、
W1、W2…幅、H1、H2…高さ、
100、200…スリット、G…ゲート配線、
14…第4絶縁膜、SP…スペーサ、MT…実装部。
SUB1…第1基板、SUB2…第2基板、20…第2絶縁基板、
DA…表示領域、NDA…非表示領域、
CC1、CC2、CC3…凹部、CC1e…側面、
CF…カラーフィルタ、OC…オーバーコート層、
BM…遮光層、SL…シール材、LQ…液晶層、
AL1…第1配向膜、AL2…第2配向膜、
CF1…第1部分、CF2…第2部分、CF3…第3部分、
W1、W2…幅、H1、H2…高さ、
100、200…スリット、G…ゲート配線、
14…第4絶縁膜、SP…スペーサ、MT…実装部。
Claims (16)
- スイッチング素子と、画素電極と、を備える第1基板と、
絶縁基板と、表示領域を囲む枠状の非表示領域において前記絶縁基板を覆い、第1凹部が形成された有機膜と、前記第1凹部を覆う遮光層と、を備える第2基板と、
前記非表示領域において前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせるシール材と、
前記第1基板、前記第2基板及び前記シール材で囲まれた空間に配置された液晶層と、
を備える液晶表示装置。 - さらに、前記第2基板は、前記非表示領域において前記遮光層を覆う第2配向膜を備える請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記シール材は、前記第1凹部を覆う前記遮光層と重なる位置において前記第2配向膜と接する請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記有機膜は、第1有機絶縁膜と、前記第1有機絶縁膜を覆う第2有機絶縁膜と、を有し、前記第2有機絶縁膜は前記第1凹部を有し、前記遮光層は前記第2有機絶縁膜を覆う請求項1乃至3の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記有機膜は、第1有機絶縁膜と、前記第1有機絶縁膜を覆う第2有機絶縁膜と、を有し、前記第1有機絶縁膜は前記第1凹部を有し、前記遮光層は前記第2有機絶縁膜を覆い、前記第1凹部と重なる請求項1乃至3の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1有機絶縁膜は、第1部分及び第2部分を有し、前記第1部分の幅は前記第2部分の幅より大きく、前記第1部分の高さは前記第2部分の高さより低い請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記第1部分は単層であり、前記第2部分は2層以上の積層体で構成されている請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記遮光層は、前記第1凹部と重なる位置に第1スリットを有しており、前記第1基板は、前記第1スリットと重なる位置に配線を備える請求項1乃至7の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1有機絶縁膜は、さらに、第3部分を有し、前記遮光層は、前記非表示領域に第2スリットを有し、前記第3部分は、2層以上の積層であり、前記第2スリットと重なる位置に配置される請求項7に記載の液晶表示装置。
- 前記第1基板は、さらに、
前記第1凹部と対向する位置に第2凹部を備える第3有機絶縁膜と、
前記画素電極を覆う第1配向膜と、前記第2凹部の側面に配置された透明電極と、を備え、
前記第1配向膜は、前記第2凹部の側面に配置された前記透明電極を覆い、前記シール材は、前記第2凹部の内部に配置される請求項1乃至9の何れか1項に記載の液晶表示装置。 - 前記第2基板は、さらに、前記シール材内部に配置されたスペーサを備えており、前記スペーサは、前記非表示領域の全周に連続して形成される請求項1乃至10の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記遮光層は、前記第1凹部の内部において、前記絶縁基板に接する請求項1乃至11の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1凹部は、前記非表示領域の全周に連続して配置される請求項1乃至12の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1凹部は、前記非表示領域の4隅に配置される請求項1乃至12の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- さらに、前記第1基板の端部に配置された実装部を備え、前記第1凹部は、前記非表示領域の前記実装部側とは反対側の2隅に配置される請求項1乃至12の何れか1項に記載の液晶表示装置。
- 前記第1凹部は、市松状に配置される請求項1乃至15の何れか1項に記載の液晶表示装置。
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