JP2018054733A - 液晶表示装置及びカラーフィルタ基板 - Google Patents

Abstract

【課題】信頼性を向上することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板と、絶縁基板と、表示領域に配置された第１カラーフィルタと、非表示領域に配置された第２カラーフィルタと、第１カラーフィルタの第１基板側に設けられた第１遮光層と、第２カラーフィルタの第１基板側に設けられた第２遮光層と、表示領域に配置された第１スペーサと、非表示領域に配置された第２スペーサと、を備え、第１基板と対向する第２基板と、非表示領域に配置され、フィラーを有し、第１基板と第２基板とを貼り合わせ、第２スペーサを囲むシール材と、を備え、第１スペーサは、第２基板から第１基板に向かう方向に第２スペーサと同一の高さを有し、第１基板に接し、フィラーは、第２スペーサと第１基板との間に挟持され、絶縁基板の内面から第２スペーサの底面までの厚さは、絶縁基板の内面から第１スペーサの底面までの厚さより小さい、液晶表示装置。
【選択図】図３

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置及びカラーフィルタ基板に関する。

液晶表示装置は、表示装置として各種分野で利用されている。カラー表示タイプの液晶表示装置は、カラーフィルタを備えている。遮光層は、異なる色のカラーフィルタ間に配置され、斜め視野における混色を防止する役割を担っている。更なる広視野角化に伴った斜め視野における混色対策として、液晶表示装置が、カラーフィルタを覆うオーバーコート層を備え、遮光層がオーバーコート層の液晶層側の面に配置される技術が知られている。

また、表示装置は、画像を表示する表示領域と、表示領域を囲む非表示領域と、を有している。表示をオフにした際に、非表示領域が表示領域より明るくなって見える不具合を解消するために、非表示領域に、異なる複数の着色層と、遮光性の着色層と、を積層する技術が知られている。

特開２０１４−１７４４３１号公報 特開２０１４−１６６１７号公報

本実施形態の目的は、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することにある。

本実施形態によれば、
画像を表示する表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、を有し、第１基板と、絶縁基板と、前記表示領域に配置された第１カラーフィルタと、前記非表示領域に配置された第２カラーフィルタと、前記表示領域に配置され前記第１カラーフィルタの前記第１基板側に設けられた第１遮光層と、前記非表示領域に配置され前記第２カラーフィルタの前記第１基板側に設けられた第２遮光層と、前記表示領域に配置された第１スペーサと、前記非表示領域に配置された第２スペーサと、を備え、前記第１基板と対向する第２基板と、非表示領域に配置され、フィラーを有し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせ、前記第２スペーサを囲むシール材と、を備え、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタは、前記絶縁基板の前記第１基板と対向する内面に設けられ、前記第１スペーサは、前記第２基板から前記第１基板に向かう方向に前記第２スペーサと同一の高さを有し、前記第１基板に接し、前記フィラーは、前記第２スペーサと前記第１基板との間に挟持され、前記絶縁基板の内面から前記第２スペーサの底面までの厚さは、前記絶縁基板の内面から前記第１スペーサの底面までの厚さより小さい、液晶表示装置が提供される。
本実施形態によれば、
光透過領域と、光非透過領域と、を有し、絶縁基板と、前記光透過領域に配置された第１遮光層と、前記光非透過領域に配置された第２遮光層と、前記光透過領域に配置され、前記第１遮光層と前記絶縁基板との間に設けられた第１カラーフィルタと、前記光非透過領域に配置され、前記第２遮光層と前記絶縁基板との間に設けられた第２カラーフィルタと、を備え、前記第１遮光層の厚さと前記第２遮光層の厚さとは異なる、カラーフィルタ基板が提供される。

図１は、本実施形態の表示装置を構成する表示パネルの構成及び等価回路を示す図である。 図２は、図１に示した表示装置の表示領域の断面を示す図である。 図３は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面を示す図である。 図４は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。 図５は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。 図６は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。 図７は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。 図８は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。 図９は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。 図１０は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の例を示す図である。

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

まず、本実施形態に係る表示装置について詳細に説明する。
図１は、本実施形態の表示装置ＤＳＰを構成する表示パネルＰＮＬの構成及び等価回路を示す図である。なお、本実施形態においては、表示装置ＤＳＰが液晶表示装置である場合について説明する。

ここで、図１では、互いに交差する第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面における表示パネルＰＮＬの平面図を示している。なお、図示した例では、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、互いに直交しているが、９０°以外の角度で交差していてもよい。

表示パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１と対向する第２基板ＳＵＢ２と、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持された液晶層ＬＱと、を備えている。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、これらの間に所定のセルギャップを形成した状態で、シール材ＳＬによって貼り合わせられている。液晶層ＬＱは、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間のセルギャップにおいてシール材ＳＬによって囲まれた内側に保持されている。表示パネルＰＮＬは、シール材ＳＬによって囲まれた内側に画像を表示する表示領域ＤＡを有している。表示領域ＤＡは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸは、表示領域ＤＡに位置している。なお、表示領域ＤＡは、他の多角形状であっても良いし、そのエッジが曲線状に形成されていても良い。また、表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡを枠状に囲む非表示領域ＮＤＡを有している。
なお、第２基板ＳＵＢ２は、平面視で表示領域ＤＡと重なる領域である光透過領域ＴＡと、平面視で非表示領域ＮＤＡと重なる領域である光非透過領域ＮＴＡを有している。ここで、光透過領域ＴＡにおいては、配線等の遮光性を有する部材が配置されていても良い。

第１基板ＳＵＢ１は、表示領域ＤＡにおいて、第１方向Ｘに沿って延出したゲート配線Ｇ、第２方向Ｙに沿って延出したソース配線Ｓ、各画素ＰＸにおいてゲート配線Ｇ及びソース配線Ｓと電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷ、各画素ＰＸにおいてスイッチング素子ＳＷと電気的に接続された画素電極ＰＥなどを備えている。本実施形態において、第１基板ＳＵＢ１は、共通電極ＣＥを備えている。

表示パネルＰＮＬは、その背面側に配置されたバックライトユニットからの光を選択的に透過することによって画像を表示する透過型パネルとして構成されても良いし、表示パネルＰＮＬに入射する外光を選択的に反射することによって画像を表示する反射型パネルとして構成されても良いし、透過型及び反射型を組み合わせた半透過型パネルとして構成されても良い。

駆動ＩＣチップ２及びフレキシブル・プリンテッド・サーキット（ＦＰＣ）基板３などの表示パネルＰＮＬの駆動に必要な信号供給源は、非表示領域ＮＤＡに位置している。図示した例では、駆動ＩＣチップ２及びＦＰＣ基板３は、第２基板ＳＵＢ２の１つの基板側縁ＳＵＢ２ｅよりも外側に延出した第１基板ＳＵＢ１の実装部ＭＴに実装されている。実装部ＭＴは、第１基板ＳＵＢ１の１つの基板側縁ＳＵＢ１ｅに沿って形成されている。図示した例では、基板側縁ＳＵＢ１ｅ及びＳＵＢ２ｅは、第１方向Ｘに沿って互いに略平行に形成されている。詳述しないが、第１基板ＳＵＢ１は、実装部ＭＴに信号供給源を接続するためのパッドを有している。パッドには、上記のゲート配線Ｇやソース配線Ｓなどと電気的に接続されたものが含まれる。なお、図示した例では、第２基板ＳＵＢ２の他の３つの基板側縁は、第１基板ＳＵＢ１の他の３つの基板側縁と対向している。

シール材ＳＬは、非表示領域ＮＤＡに配置され、表示領域ＤＡを取り囲んでいる。図示した例では、シール材ＳＬは、矩形状に形成されている。

図２は、図１に示した表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡの断面を示す図である。本実施形態においては、第１基板ＳＵＢ１は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方を備えており、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＩＰＳモードの１種であるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードなどの基板主面に沿った横電界を利用するモードに適用される。

なお、本実施形態においては、第３方向Ｚの正の向き、あるいは、第１基板ＳＵＢ１から第２基板ＳＵＢ２に向かう方向を上又は上方と定義し、第３方向Ｚの負の向き、あるいは、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かう方向を下又は下方と定義する。また、「第１部材の上方の第２部材」及び「第１部材の下方の第２部材」とした場合、第２部材は、第１部材に接していてもよく、又は第１部材から離れて位置していてもよい。第２部材が第１部材から離れて位置している場合、第１部材と第２部材との間に、第３部材が介在していてもよい。一方、「第１部材の上の第２部材」及び「第１部材の下の第２部材」とした場合、第２部材は第１部材に接している。

第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基板１０、スイッチング素子ＳＷ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４、第５絶縁膜１５、第１配向膜ＡＬ１等を備えている。

第１絶縁基板１０は、ガラス基板や樹脂基板等の光透過性を有する基板である。第１絶縁膜１１は、第１絶縁基板１０を覆っている。

スイッチング素子ＳＷの半導体層ＳＣは、第１絶縁膜１１の上に位置し、第２絶縁膜１２によって覆われている。第２絶縁膜１２は、第１絶縁膜１１の上にも配置されている。スイッチング素子ＳＷのゲート電極ＷＧは、第２絶縁膜１２の上においてゲート配線Ｇと一体的に形成され、半導体層ＳＣの上方に位置している。ゲート電極ＷＧは、ゲート配線Ｇとともに第３絶縁膜１３によって覆われている。第３絶縁膜１３は、第２絶縁膜１２の上にも配置されている。

スイッチング素子ＳＷのソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、第３絶縁膜１３の上に形成されている。また、ソース配線Ｓも同様に第３絶縁膜１３の上に形成されている。ソース電極ＷＳは、ソース配線Ｓと一体的に形成されている。ソース電極ＷＳは、第２絶縁膜１２及び第３絶縁膜１３を貫通するコンタクトホールＣＨ１を介して半導体層ＳＣにコンタクトしている。ドレイン電極ＷＤは、第２絶縁膜１２及び第３絶縁膜１３を貫通するコンタクトホールＣＨ２を介して半導体層ＳＣにコンタクトしている。第４絶縁膜１４は、スイッチング素子ＳＷとソース配線Ｓを覆っている。第４絶縁膜１４は、第３絶縁膜１３の上にも配置されている。

共通電極ＣＥは、第４絶縁膜１４の上に形成されている。共通電極ＣＥは、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）等を用いて形成された透明電極である。第５絶縁膜１５は、共通電極ＣＥを覆っている。第５絶縁膜１５は、第４絶縁膜１４の上にも配置されている。

画素電極ＰＥは、第５絶縁膜１５の上に形成され、共通電極ＣＥと対向している。画素電極ＰＥは、スリット１００を有している。それぞれのスリット１００は、共通電極ＣＥの上方に形成されている。画素電極ＰＥは、透明な導電材料、例えば、ＩＴＯやＩＺＯ等を用いて形成された透明電極である。画素電極ＰＥは、コンタクトホールＣＨ３を介してスイッチング素子ＳＷのドレイン電極ＷＤにコンタクトしている。コンタクトホールＣＨ３は、第４絶縁膜１４をドレイン電極ＷＤまで貫通したコンタクトホールＣＨ３１と、第５絶縁膜１５をドレイン電極ＷＤまで貫通したコンタクトホールＣＨ３２によって構成されている。

第１配向膜ＡＬ１は、画素電極ＰＥを覆っている。第１配向膜ＡＬ１は、第５絶縁膜１５も覆っている。第１配向膜ＡＬ１は、水平配向性を示す材料によって形成され、第１基板ＳＵＢ１の液晶層ＬＱに接する面に配置されている。

上記のような第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、及び、第５絶縁膜１５は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物等の無機系材料を用いて形成されている。また、第４絶縁膜１４は、例えば、透明な樹脂等の有機系材料を用いて形成されている。

一方、第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基板２０、カラーフィルタＣＦ、遮光層ＢＭ、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２等を備えている。

第２絶縁基板２０は、ガラス基板や樹脂基板等の光透過性を有する基板である。
カラーフィルタＣＦは、第２絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１と対向する内面２０Ａに配置されている。カラーフィルタＣＦは、互いに異なる複数の色、例えば赤色、青色、緑色にそれぞれ着色された樹脂材料によって形成されている。赤色のカラーフィルタＣＦＲは赤色画素に対応して配置され、緑色のカラーフィルタＣＦＧは緑色画素に対応して配置され、青色のカラーフィルタＣＦＢは青色画素に対応して配置されている。

遮光層ＢＭは、カラーフィルタＣＦの第１基板ＳＵＢ１と対向する側の面に配置されている。遮光層ＢＭは、各画素ＰＸを区画するように配置されており、第１基板ＳＵＢ１に配置されたゲート配線Ｇやソース配線Ｓ、スイッチング素子ＳＷなどの配線部やコンタクトホールＣＨ３などに対向するように配置されている。詳述しないが、ゲート配線Ｇ及びソース配線Ｓにそれぞれ対向するように形成された遮光層ＢＭの形状は、格子状またはストライプ状をなしている。異なる色のカラーフィルタＣＦ間の境界は、遮光層ＢＭと重なる位置にある。

オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭを覆っている。このオーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭの表面の凹凸を平坦化する。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂材料によって形成されている。

第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣを覆っている。第２配向膜ＡＬ２は、水平配向性を示す材料によって形成され、第２基板ＳＵＢ２の液晶層ＬＱに接する面に配置されている。上述した第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２は、ラビング処理が施されても良いし、光配向処理が施されても良い。

上述したような第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、第１配向膜ＡＬ１及び第２配向膜ＡＬ２が向かい合うように配置されている。このとき、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間には、後述するスペーサにより、所定のセルギャップが形成される。第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、セルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層ＬＱは、上記セルギャップに封入された液晶組成物によって構成されている。

第１基板ＳＵＢ１の外面すなわち第１絶縁基板１０の外面１０Ｂには、第１偏光板ＰＬ１を含む第１光学素子ＯＤ１が配置されている。また、第２基板ＳＵＢ２の外面すなわち第２絶縁基板２０の外面２０Ｂには、第２偏光板ＰＬ２を含む第２光学素子ＯＤ２が配置されている。第１偏光板ＰＬ１の第１吸収軸と第２偏光板ＰＬ２の第２吸収軸とは、例えば、クロスニコルの位置関係にある。

図３は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面を示す図である。図３は、表示領域ＤＡ及び非表示領域ＮＤＡにおける表示パネルＰＮＬの断面を示している。
図示した例では、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、及び、第４絶縁膜１４は、表示領域ＤＡから非表示領域ＮＤＡまで延在し、第１絶縁基板１０の基板端部１０Ｅと重なる位置まで延在している。また、第５絶縁膜１５及び第１配向膜ＡＬ１も非表示領域ＮＤＡまで延在して配置されているが、第１絶縁基板１０の基板端部１０Ｅと重なる位置まで延在していない。非表示領域ＮＤＡにおいて、第５絶縁膜１５と第１配向膜ＡＬ１との間には、透明導電層ＰＥＬが配置されている。この透明導電層ＰＥＬは、図２に示したような表示領域ＤＡに配置された画素電極ＰＥと同一材料で、同一工程で形成されるが、画素電極ＰＥとは互いに絶縁した状態にある。

第４絶縁膜１４は、シール材ＳＬと重なる領域に凹部ＣＣ１を有している。凹部ＣＣ１は、第３絶縁膜１３まで貫通している。図示した例では、第５絶縁膜１５は、凹部ＣＣ１の内部に配置され、凹部ＣＣ１の側面ＣＣ１ｅを覆っている。透明導電層ＰＥＬは、凹部ＣＣ１の内部に配置され、側面ＣＣ１ｅに沿って配置されている。透明導電層ＰＥＬは、凹部ＣＣ１の内部で第５絶縁膜１５を覆っている。第１配向膜ＡＬ１は、凹部ＣＣ１の内部において、透明導電層ＰＥＬを覆っている。

例えば、透明導電層ＰＥＬが第５絶縁膜１５を覆っていない場合には、第１配向膜ＡＬ１が第５絶縁膜１５に接する。このとき、第１配向膜ＡＬ１の光配向処理を行う際に、第１配向膜ＡＬ１に照射された紫外線が、第１配向膜ＡＬ１と第５絶縁膜１５の界面に達し、第１配向膜ＡＬ１と第５絶縁膜１５との間の接着強度が低下する場合がある。図示した例では、透明導電層ＰＥＬが第５絶縁膜１５を覆っているため、第１配向膜ＡＬ１が剥がれるのを抑制することができる。さらに、上記のように第５絶縁膜１５が、凹部ＣＣ１の側面ＣＣ１ｅを覆っていることにより、側面ＣＣ１ｅから、第４絶縁膜１４へ水分が侵入するのを抑制することができる。また、第１配向膜ＡＬ１は、凹部ＣＣ１の内部で第３絶縁膜１３に接している。そのため、第４絶縁膜１４、第５絶縁膜１５、透明導電層ＰＥＬのそれぞれの間の界面から水分が侵入するのを抑制することができる。

図示したように、カラーフィルタＣＦは、表示領域ＤＡに配置された第１カラーフィルタＣＦ１と、非表示領域ＮＤＡに配置された第２カラーフィルタと、を備えている。すなわち、第２基板ＳＵＢ２において、カラーフィルタＣＦ１は光透過領域ＴＡに配置され、カラーフィルタＣＦ２は光非透過領域ＮＴＡに配置されている。第１カラーフィルタＣＦ１及び第２カラーフィルタＣＦ２は、同層に配置されており、いずれも内面２０Ａに設けられている。また、図示した例では、第２カラーフィルタＣＦ２は、第１カラーフィルタＣＦ１と接している。また、カラーフィルタＣＦ１の厚さＴ１１及びカラーフィルタＣＦ２の厚さＴ１２は、同一である。また、カラーフィルタＣＦ１及びカラーフィルタＣＦ２は、例えば、同色である。カラーフィルタＣＦは、第２カラーフィルタＣＦ２の第１基板ＳＵＢ１と対向する側の面に配置された部分ＣＦＡを備えている。第２カラーフィルタＣＦ２及び部分ＣＦＡは、表示領域ＤＡのカラーフィルタＣＦＲ，ＣＦＧ、ＣＦＢのうち、何れかと同一材料で形成されている。なお、第２カラーフィルタＣＦ２及び部分ＣＦＡは、互いに異なる色に着色された樹脂材料によって形成されている。本実施形態においては、例えば、第２カラーフィルタＣＦ２は、青色のカラーフィルタＣＦＢと同一材料で形成され、部分ＣＦＡは、赤色のカラーフィルタＣＦＲと同一材料で形成されている。また、第１カラーフィルタＣＦ１は、第２カラーフィルタＣＦ２と同一材料によって形成されていても良いし、第２カラーフィルタＣＦ２とは異なる色に着色された樹脂材料によって形成されていても良い。カラーフィルタＣＦは、凹部ＣＣ１と第３方向Ｚに対向する位置に凹部ＣＣ２を有している。

なお、図示したカラーフィルタＣＦにおいては、部分ＣＦＡが第２カラーフィルタＣＦ２に接触しているが、カラーフィルタＣＦは、さらに第２カラーフィルタＣＦ２と部分ＣＦＡとの間、第２絶縁基板２０と第２カラーフィルタＣＦ２との間、もしくは、部分ＣＦＡとオーバーコート層ＯＣとの間に、第２カラーフィルタＣＦ２及び部分ＣＦＡとは異なる色の樹脂材料によって形成されたもう１層のカラーフィルタを有していても良い。

遮光層ＢＭは、表示領域ＤＡに配置された第１遮光層ＢＭ１と、非表示領域ＮＤＡに配置された第２遮光層ＢＭ２と、を備えている。すなわち、第２基板ＳＵＢ２において、第１遮光層ＢＭ１は光透過領域ＴＡに配置され、第２遮光層ＢＭ２は光非透過領域ＮＴＡに配置されている。第１遮光層ＢＭ１は、第１カラーフィルタＣＦ１の第１基板ＳＵＢ１側に設けられている。第２遮光層ＢＭ２は、第２カラーフィルタＣＦ２の第１基板ＳＵＢ１側に設けられている。換言すると、カラーフィルタＣＦ１は、第１遮光層ＢＭ１と第２絶縁基板２０との間に設けられている。また、カラーフィルタＣＦ２は、第２遮光層ＢＭ２と第２絶縁基板２０との間に設けられている。第２遮光層ＢＭ２は、第２カラーフィルタＣＦ２の略全体を覆っている。

ここで、第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１と第２遮光層ＢＭ２の厚さＴ２とは異なっている。図示した例では、厚さＴ１は、厚さＴ２より厚い。すなわち、表示領域ＤＡにおいては、第１カラーフィルタＣＦ１を含んだ複数のカラーフィルタが隣り合って接して配置されているのに対して、非表示領域ＮＤＡにおいては、１つの第２カラーフィルタが延在している。また、カラーフィルタＣＦ１は、第１方向Ｘに幅Ｗ１を有し、カラーフィルタＣＦ２は、第１方向Ｘに幅Ｗ２を有する。幅Ｗ１は、幅Ｗ２より小さく形成されている。遮光層ＢＭを形成する際に塗布されるレジストは、下地の面が平坦であるほど広がりやすく、より薄く形成され、下地の面が凹凸であるほど広がりにくく、より厚く形成される。そのため、図示した例では、遮光層ＢＭを形成するためにレジストを塗布する際に、隣り合うカラーフィルタの境界付近に段差を有する表示領域ＤＡよりも比較的平坦な非表示領域ＮＤＡにおいてレジストが広がりやすく、第２遮光層ＢＭ２の厚さＴ２は、第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１より薄く形成される。

第２遮光層ＢＭ２は、凹部ＣＣ２と重なる位置にスリット２００を有している。このため、第２遮光層ＢＭ２を伝わる水分や、第２遮光層ＢＭ２と第２カラーフィルタＣＦ２との界面あるいは第２遮光層ＢＭ２とオーバーコート層ＯＣとの界面を伝わる水分の侵入経路をスリット２００において遮断することができる。また、第１基板ＳＵＢ１は、スリット２００と重なる位置において、周辺配線Ｇ’を備えている。周辺配線Ｇ’は、例えばゲート配線Ｇと同一層の配線であるが、ソース配線Ｓと同一層の配線であっても良い。このため、スリット２００からの光漏れを抑制することができる。なお、第１基板ＳＵＢ１は、スリット２００と重なる位置において、他の配線を備えていても良い。

第２遮光層ＢＭ２は、非表示領域ＮＤＡの液晶層ＬＱと重なる領域において、スリット３００を有している。このため、第２遮光層ＢＭ２を介した表示領域ＤＡへの電荷の移動経路をスリット３００において遮断することができる。これにより、表示パネルＰＮＬの製造工程において、静電気が表示領域ＤＡに集中するのを抑制し、表示パネルＰＮＬが損傷するのを抑制することが可能である。また、第１基板ＳＵＢ１は、スリット３００と重なる位置において、周辺配線Ｓ’を備えている。周辺配線Ｓ’は、例えばソース配線Ｓと同一層の配線であるが、ゲート配線Ｇと同一層の配線であっても良い。このため、スリット３００からの光漏れを抑制することができる。なお、第１基板ＳＵＢ１は、スリット３００と重なる位置において、他の配線を備えていても良い。また、部分ＣＦＡはスリット３００内に配置されている。すなわち、スリット３００と重なる位置において、第２カラーフィルタＣＦ２及び部分ＣＦＡは、第３方向Ｚに重なって配置されている。このため、周辺配線Ｓ’の周囲を透過した光に対してもスリット３００からの光漏れを抑制することができる。

オーバーコート層ＯＣは、表示領域ＤＡにおいて第１遮光層ＢＭ１を覆うとともに、非表示領域ＮＤＡにおいても、第２遮光層ＢＭ２を覆っている。

第２基板ＳＵＢ２は、表示領域ＤＡに配置された第１スペーサＳＰ１と、非表示領域ＮＤＡに配置された第２スペーサＳＰ２と、を備えている。第１スペーサＳＰ１及び第２スペーサＳＰ２は、オーバーコート層ＯＣの第１基板ＳＵＢ１と対向する側に配置されている。第１スペーサＳＰ１は、液晶層ＬＱに囲まれている。第１スペーサＳＰ１は、第１基板ＳＵＢ１側の面ＳＰ１ａと、オーバーコート層ＯＣに接する面（底面）ＳＰ１ｂと、を有している。面ＳＰ１ａは、第１基板ＳＵＢ１に接している。第１スペーサＳＰ１は、第１カラーフィルタＣＦ１、第１遮光層ＢＭ１、及び、オーバーコート層ＯＣと重なる位置に配置されている。第２スペーサＳＰ２は、シール材ＳＬによって囲まれている。第２スペーサＳＰ２は、第１基板ＳＵＢ１側の面ＳＰ２ａと、オーバーコート層ＯＣに接する面（底面）ＳＰ２ｂと、を有している。面ＳＰ２ａは、第１基板ＳＵＢ１から距離Ｄだけ離間しており、第１基板ＳＵＢ１に接触していない。第２スペーサＳＰ２は、第２カラーフィルタＣＦ２、第２遮光層ＢＭ２、及び、オーバーコート層ＯＣと重なる位置に配置されている。本実施形態において、例えば、面ＳＰ１ａ及びＳＰ２ａの第１方向Ｘに沿った幅は約１０μｍであり、面ＳＰ１ｂ及びＳＰ２ｂの第１方向Ｘに沿った幅は、約１５μｍである。

第１スペーサＳＰ１は、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって高さＨ１を有している。第２スペーサＳＰ２は、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって高さＨ２を有している。高さＨ２は、高さＨ１と同一である。すなわち、面ＳＰ１ａから面ＳＰ１ｂまでの間の第３方向Ｚに沿った距離と、面ＳＰ２ａから面ＳＰ２ｂまでの間の第３方向Ｚに沿った距離とは等しい。

なお、第１スペーサＳＰ１は、例えば、ソース配線Ｓ及びゲート配線Ｇの交点と重なる位置において、１画素ごとに点在した柱状に形成されている。また、第２スペーサＳＰ２は、非表示領域ＮＤＡの全周に連続した壁状に形成されていても良いし、不連続の壁状に形成されていても良いし、点在した柱状に形成されていても良い。

なお、図示した例では、シール材ＳＬと重なる位置に、１つの第２スペーサＳＰ２が配置されているが、後述するように表示装置の額縁の第１方向Ｘに沿った幅に応じて、複数のスペーサが配置されていても良い。

上記したように、第２遮光層ＢＭ２の厚さＴ２は、第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１より薄く形成されている。そのため、第２絶縁基板２０の内面２０Ａから第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ｂまでの厚さＴ４は、第２絶縁基板２０の内面２０Ａから第１スペーサＳＰ１の面ＳＰ１ｂまでの厚さＴ３より小さい。

さらに、第２基板ＳＵＢ２は、非表示領域ＮＤＡにおいて、オーバーコート層ＯＣの第１基板ＳＵＢ１と対向する側に、突出部６を備えている。突出部６の端部６Ｅと、第１絶縁基板１０の基板端部１０Ｅと、第２絶縁基板２０の基板端部２０Ｅとは第３方向Ｚに沿って略直線上に位置している。突出部６は、表示領域ＤＡを囲む連続した壁状に形成されていても良いし、不連続の壁状に形成されても良いし、点在した柱状に形成されていても良い。また、突出部６は、第１基板ＳＵＢ１に配置されていても良い。

表示パネルＰＮＬは、例えば、複数の第１基板ＳＵＢ１を形成するための第１マザー基板と、複数の第２基板ＳＵＢ２を形成するための第２マザー基板とをシール材ＳＬで貼り合わせた後にそれぞれカットすることで製造される。この際、第１マザー基板及び第２マザー基板のそれぞれのカットラインに突出部６が配置されることにより、カットラインにおいてシール材ＳＬがほとんど介在しない。このため、カットの際に加えられた外部応力が突出部６に向かって集中し、第１マザー基板及び第２マザー基板のカット不良の発生を抑制することができる。また、カットラインに沿った位置には、シール材ＳＬがほとんど存在しないため、切り出した表示パネルＰＮＬを容易に分離することができる。

第２配向膜ＡＬ２は、図示した例では、非表示領域ＮＤＡまで延在して配置されているが、第２絶縁基板２０の基板端部２０Ｅと重なる位置まで延在せずに途切れている。ただし、第２配向膜ＡＬ２が第２絶縁基板２０の基板端部２０Ｅと重なる位置まで延在して配置される構成であっても良い。

シール材ＳＬは、非表示領域ＮＤＡにおいて第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に配置されている。シール材ＳＬは、例えば熱硬化型のエポキシ系の樹脂又は光硬化型（例えば、紫外線硬化型）のアクリル系の樹脂を利用して形成することができる。後者の場合において、シール材ＳＬを形成する材料がエポキシ系の樹脂を含有することにより、シール材ＳＬと基板（第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２）との接着強度を高めることができる。

シール材ＳＬは、例えば、複数のフィラーＦを有している。本実施形態においては、フィラーＦは略球状に形成されている。シール材ＳＬは、フィラーＦの含有量によって、粘度、接着強度、及び線膨張率の制御等を行うことができる。また、シール材ＳＬは、フィラーＦを含有することによって、温度や湿度の変化によらず、接着力を維持することが可能であり、信頼性を向上することができる図示した例では、フィラーＦは、第２スペーサＳＰ２と第１基板ＳＵＢ１との間に挟持されている。ここで、第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ａの第１方向Ｘに沿った幅Ｗは、フィラーＦの径ＤＭよりも大きい。図示した例では、面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間に１個のフィラーＦが介在しているが、複数のフィラーＦが介在していても良い。本実施形態においては、フィラーＦの径ＤＭは、例えば、約１μｍである。ここで、径ＤＭは、第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間の距離Ｄとほぼ等しい。

フィラーが無機材料によって形成されている場合には、フィラーは、例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、チタン酸カリウム、カオリン、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等を含んでいる。また、フィラーが有機材料によって形成されている場合には、ポリスチレン、およびスチレンと、それと共重合可能なモノマーとを共重合させて得られる共重合体、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ゴム微粒子等を含んでいる。シール材ＳＬの線膨張率を低減し、シール材ＳＬの形状を良好に保持できることから、フィラーには、無機フィラーを用いることが好ましく、二酸化ケイ素、タルクなどを用いるのが特に好ましい。

本実施形態によれば、表示領域ＤＡに位置する第１スペーサＳＰ１と非表示領域ＮＤＡに位置する第２スペーサＳＰ２とが同一の高さを有し、第２絶縁基板２０の内面２０Ａから第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ｂまでの厚さＴ４は、第２絶縁基板２０の内面２０Ａから第１スペーサＳＰ１の面ＳＰ１ｂまでの厚さＴ３より小さく形成される。したがって、第１スペーサＳＰ１が第１基板ＳＵＢ１に接触した際に、第２スペーサＳＰ２は第１基板ＳＵＢ１から離間し、第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間がフィラーの１つの径ＤＭと同等の距離Ｄだけ離間し、第２スペーサＳＰ２と第１基板ＳＵＢ１との間にフィラーＦが挟持されている。そのため、表示領域ＤＡ及び非表示領域ＮＤＡにおいて、表示パネルＰＮＬの厚さを略同等に維持することができる。よって、表示領域ＤＡの非表示領域ＮＤＡと隣接する周縁部において、表示領域ＤＡの中央部と同等のセルギャップを形成することができ、セルギャップの不均一に起因した表示ムラを抑制することができる。

なお、図３に示した構成例によれば、第２カラーフィルタＣＦ２は、第１カラーフィルタＣＦ１と接して形成され、第２カラーフィルタＣＦ２の第１方向Ｘに沿った幅は、１つの第１カラーフィルタＣＦ１の第１方向Ｘに沿った幅より大きく形成されている。そのため、第２遮光層ＢＭ２の厚さＴ２は、第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１より薄く形成されており、厚さＴ４は、厚さＴ３より小さく形成される。但し、厚さＴ４を厚さＴ３より小さくするための手法は、図３の構成例に限らず、後に図５乃至図１０を参照して説明するいずれの構成例も適用可能である。

また、本実施形態によれば、遮光層ＢＭは、カラーフィルタＣＦよりも第１基板ＳＵＢ１側に配置されている。このため、表示パネルＰＮＬを斜め方向から観察した場合であっても、混色による表示品位の劣化を抑制することができる。また、混色防止のために遮光層ＢＭの幅を拡大する必要がなくなるため、一画素あたりの表示に寄与する面積の縮小を抑制し、高精細化、及び、高輝度化に伴い、開口率を向上することが可能である。

以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置を得ることができる。

なお、上記実施形態では、液晶表示装置は、面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間にフィラーが介在する状態で、表示領域ＤＡ及び非表示領域ＮＤＡにおいて、表示パネルＰＮＬの厚さを略同等に維持するため、面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間の距離Ｄが１個分のフィラーＦの径ＤＭと同等であることが望ましい。但し、距離Ｄは、径ＤＭに対して僅かに小さくなったり大きくなったりしていても良い。

また、表示領域ＤＡにおける第２絶縁基板２０の内面２０Ａから第１スペーサＳＰ１の面ＳＰ１ｂまでの厚さＴ３と第１スペーサＳＰ１の高さＨ１との和（Ｔ３＋Ｈ１）は、非表示領域ＮＤＡにおける第２絶縁基板２０の内面２０Ａから第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ｂまでの厚さＴ４と、第２スペーサＳＰ２の高さＨ２と、面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間の距離Ｄとの和（Ｔ４＋Ｈ２＋Ｄ）と略同等である。

次に、他の構成例について説明する。
図４は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図４に示した構成例は、図３に示した構成例と比較して、第２カラーフィルタＣＦ２が第１カラーフィルタＣＦ１から離間している点で異なっている。また、図４に示した構成例は、図３に示した構成例と比較して、表示パネルＰＮＬが非表示領域ＮＤＡにおいて、２本のスペーサを備えている点で異なっている。以下、主な相違点について説明する。

表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡに配置された第３スペーサＳＰと、非表示領域ＮＤＡに配置された第４スペーサＳＰ４と、を備えている。

第３スペーサＳＰ３は、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって高さＨ３を有している。高さＨ３は、高さＨ１より小さい。第３スペーサＳＰ３は、第１基板ＳＵＢ１に接していない。第４スペーサＳＰ４は、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって高さＨ４を有している。高さＨ４は、高さＨ１と同一である。すなわち、高さＨ４は、高さＨ２とも同一である。第４スペーサＳＰ４は、第３スペーサＳＰ３と同様に、第１基板ＳＵＢ１に接していない。また、突出部６は、第２基板ＳＵＢ２から第１基板ＳＵＢ１に向かって高さＨ５を有している。高さＨ５は、高さＨ３と同一である。

すなわち、表示領域ＤＡにおいて、第１スペーサＳＰ１は、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間隔（セルギャップ）を保つためのメインスペーサとして機能し、第３スペーサＳＰ３は、第２基板ＳＵＢ２に外圧が加わった場合に補助的に機能するサブスペーサとして機能する。

第２カラーフィルタＣＦ２は、突出部６、第２スペーサＳＰ２及び第４スペーサＳＰ４と重なっている。第２カラーフィルタＣＦ２の第１方向Ｘに沿った幅Ｗ２は、１つの第１カラーフィルタＣＦ１の第１方向Ｘに沿った幅Ｗ１より大きい。そのため、第２遮光層ＢＭ２の厚さＴ２は、第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１より薄く形成される。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

なお、第２基板ＳＵＢ２は、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との間に間隙ＧＰを有している。遮光層ＢＭは、間隙ＧＰに配置された第３遮光層ＢＭ３を有している。第３遮光層ＢＭ３は、第２絶縁基板２０に接している。図示した例では、第３遮光層ＢＭ３は、間隙ＧＰにおいてスリット３００を有している。図示した例では、カラーフィルタＣＦの部分ＣＦＡは、第１層ＣＦａ及び第２層ＣＦｂを有しており、第１層ＣＦａ及び第２層ＣＦｂの積層体で構成されている。第１層ＣＦａは、第２絶縁基板２０の下に配置されスリット３００内に配置されている。第２層ＣＦｂは、第１層ＣＦａの下に重なって配置されている。
本実施形態において、例えば、第１層ＣＦａ及び第２層ＣＦｂのうち一方はカラーフィルタＣＦ１と同色であり、もう一方は、カラーフィルタＣＦ１と異なる色であり、例えば、第１層ＣＦａ及び第２層ＣＦｂのうち一方は青色のカラーフィルタであり、もう一方は、赤色のカラーフィルタである。なお、第１層ＣＦａは、第３カラーフィルタに相当し、第２層ＣＦｂは、第４カラーフィルタに相当する。
ここで、第１層ＣＦａは第３方向Ｚに沿った厚さＴ１３を有し、第２層ＣＦｂは第３方向Ｚに沿った厚さＴ１４を有している。また、第３遮光層ＢＭ３は第３方向Ｚに沿った厚さＴ１５を有している。第１層ＣＦａの厚さＴ１３と第２層ＣＦｂの厚さＴ１４の和は、第３遮光層ＢＭ３の厚さＴ１５より大きい。すなわち、部分ＣＦＡのうち、第２層ＣＦｂは、オーバーコート層ＯＣ側に突出している。

図５は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図５に示した構成例は、図３に示した構成例と比較して、カラーフィルタＣＦが非表示領域ＮＤＡに配置された第３カラーフィルタＣＦ３を備えている点で異なっている。

第３カラーフィルタＣＦ３は、第２カラーフィルタＣＦ２から離間して配置されている。図示した例では、第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３の第１方向Ｘに沿った幅は、１つの第１カラーフィルタＣＦ１の第１方向Ｘに沿った幅より小さく形成されている。ここで、例えば、第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３は、同色のカラーフィルタであり、同一工程で形成される。第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３は、第３方向Ｚにおいて、第２スペーサＳＰ２と重ならない。つまり、非表示領域ＮＤＡにおいて、第２遮光層ＢＭ２は、第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３をそれぞれ覆うとともに、第２カラーフィルタＣＦ２と第３カラーフィルタＣＦ３との間において内面２０Ａを覆っている。第２スペーサＳＰ２は、第２カラーフィルタＣＦ２と第３カラーフィルタＣＦ３との間に配置された第２遮光層ＢＭ２と重なっている。つまり、第２スペーサＳＰ２と第２絶縁基板２０との間には、第２遮光層ＢＭ２及びオーバーコート層ＯＣが介在し、いずれのカラーフィルタも介在していない。ここで、第２遮光層ＢＭ２は、第２カラーフィルタＣＦ２と第３カラーフィルタＣＦ３との間に凹部ＣＣ３を有している。第２スペーサＳＰ２の面ＳＰ２ｂが配置される領域は、第３方向Ｚで見たときに、凹部ＣＣ３の底面ＣＣ３ｅが位置する領域に含まれている。底面ＣＣ３ｅと第２絶縁基板２０との間には、カラーフィルタＣＦが配置されておらず、そのため、厚さＴ４は、厚さＴ３より小さくなる。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

図６は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図６に示した構成例は、図３に示した構成例と比較して、第２カラーフィルタＣＦ２が第１カラーフィルタＣＦ１から離間しており、第２カラーフィルタＣＦ２が第１カラーフィルタＣＦ１より薄く形成されている点で相違している。

第２カラーフィルタＣＦ２は、第２スペーサＳＰ２と第３方向Ｚに重なる位置に配置されている。第２カラーフィルタＣＦ２の厚さＴ６は、第１カラーフィルタＣＦ１の厚さＴ５より小さい。このようなカラーフィルタＣＦは、例えば、カラーフィルタの材料として、ポジ型レジストを選択し、カラーフィルタＣＦを形成する過程で、ハーフトーン露光を適用することで形成可能である。すなわち、ポジ型レジストを成膜した後、第１カラーフィルタＣＦ１の領域を遮光し、第２カラーフィルタＣＦ２の領域についてはハーフトーンマスクを介して露光する。その後、ポジ型レジストを現像液にて現像する。このとき、ポジ型レジストのうち、露光された表層のみが現像液によって除去される。その後、ポジ型レジストを焼成することによって、図示したようなカラーフィルタＣＦが形成される。なお、第１遮光層ＢＭ１の厚さは、第２遮光層ＢＭ２の厚さとほぼ同等である。したがって、厚さＴ４は、厚さＴ３より小さくなる。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

図７は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図７に示した構成例は、図６に示した構成例と比較して、第１カラーフィルタＣＦ１の厚さＴ５と第２カラーフィルタＣＦ２の厚さＴ６とが等しく、第２遮光層ＢＭ２の厚さＴ２が第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１より薄く形成されている点で相違している。

第２遮光層ＢＭ２は、第２スペーサＳＰ２と第３方向Ｚに重なる位置に配置されている。このとき、例えば、図６に示したカラーフィルタＣＦを形成する工程と同様に、遮光層ＢＭを形成する過程で、ハーフトーン露光を適用することで図示したような遮光層ＢＭが形成可能である。したがって、厚さＴ４は、厚さＴ３より小さくなる。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

なお、図６に示したように、第２カラーフィルタＣＦ２を第１カラーフィルタＣＦ１より薄くする構成例と、図７に示したように第２遮光層ＢＭ２を第１遮光層ＢＭ１より薄くする構成例は組み合わせても良い。

上記の図３から図７に示した構成例では、面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間の距離ＤがフィラーＦの径ＤＭより小さくなるのを抑制するための構成を示した。以下の図８から図１０に示す構成例では、面ＳＰ２ａと第１基板ＳＵＢ１との間の距離ＤがフィラーＦの径ＤＭより大きくなるのを抑制するための構成を示す。

図８は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図８に示した構成例は、図７に示した構成例と比較して、カラーフィルタＣＦ２がスリット４００を有している点で相違している。

第２カラーフィルタＣＦ２は、第２スペーサＳＰ２と第３方向Ｚに重なる位置に配置されている。図示した例では、第２カラーフィルタＣＦ２は、２本のスリット４００を有している。カラーフィルタＣＦ１の厚さＴ５及びカラーフィルタＣＦ２の厚さＴ６は、略同等である。第２遮光層ＢＭ２の第２カラーフィルタＣＦ２と重なっている部分の厚さＴ２は第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１に比べて薄いが、第２遮光層ＢＭ２は、第２カラーフィルタＣＦ２がスリット４００を有していない場合に比べて厚く形成されている。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

図９は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図９に示した構成例は、図７に示した構成例と比較して、カラーフィルタＣＦが非表示領域ＮＤＡに配置された第３カラーフィルタＣＦ３を備えている点で異なっている。

第３カラーフィルタＣＦ３は、第２カラーフィルタＣＦ２の隣に接している。第２遮光層ＢＭ２は、第２カラーフィルタ及び第３カラーフィルタを覆っている。第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタの第３方向Ｚに沿った厚さは同等である。第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３の第１方向Ｘに沿った幅は、第１カラーフィルタＣＦ１の１つのカラーフィルタの第１方向Ｘに沿った幅より大きく形成されている。そのため、第２遮光層ＢＭ２の第２カラーフィルタＣＦ２及び第３カラーフィルタＣＦ３と重なっている部分の厚さＴ２は第１遮光層ＢＭ１の厚さＴ１に比べて薄いが、第２遮光層ＢＭ２は、図３に示したように第２カラーフィルタＣＦ２が第１カラーフィルタＣＦ３とつながって形成されている場合と比べて厚く形成されている。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

図１０は、図１のＡ−Ｂ線における表示パネルＰＮＬの断面の他の構成例を示す図である。図１０に示した構成例は、図９に示した構成例と比較して、カラーフィルタＣＦが表示領域ＤＡの第１カラーフィルタＣＦ１から非表示領域ＮＤＡの第２カラーフィルタＣＦ２まで連続して形成されている点で異なっている。

カラーフィルタＣＦは、第３カラーフィルタＣＦ３の隣に接する第４カラーフィルタＣＦ４を有している。図示した例では、第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、第３カラーフィルタＣＦ３、第４カラーフィルタＣＦ４は、つながっている。

なお、第３カラーフィルタＣＦ３及びカラーフィルタＣＦ１が接してつながっていても良いし、図示したように第３カラーフィルタと第１カラーフィルタＣＦ１との間に単数もしくは複数のカラーフィルタＣＦが介在していても良い。
したがって、上記したのと同様の効果が得られる。

以上説明したように、本実施形態によれば、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示装置を得ることができる。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

ＤＳＰ…表示装置、ＤＡ…表示領域、ＮＤＡ…非表示領域、
ＳＵＢ１…第１基板、ＳＵＢ２…第２基板、２０…第２絶縁基板、
ＣＦ１…第１カラーフィルタ、ＣＦ２…第２カラーフィルタ、
ＣＦ３…第３カラーフィルタ、ＢＭ１…第１遮光層、ＢＭ２…第２遮光層、
ＳＰ１…第１スペーサ、ＳＰ２…第２スペーサ、ＳＬ…シール材、Ｆ…フィラー、
Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ５、Ｔ６…厚さ、
ＳＰ１ａ、ＳＰ１ｂ、ＳＰ２ａ、ＳＰ２ｂ…面。

Claims (19)

1. 画像を表示する表示領域と、前記表示領域を囲む非表示領域と、を有し、
   第１基板と、
   絶縁基板と、前記表示領域に配置された第１カラーフィルタと、前記非表示領域に配置された第２カラーフィルタと、前記表示領域に配置され前記第１カラーフィルタの前記第１基板側に設けられた第１遮光層と、前記非表示領域に配置され前記第２カラーフィルタの前記第１基板側に設けられた第２遮光層と、前記表示領域に配置された第１スペーサと、前記非表示領域に配置された第２スペーサと、を備え、前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記非表示領域に配置され、フィラーを有し、前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせ、前記第２スペーサを囲むシール材と、を備え、
   前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタは、前記絶縁基板の前記第１基板と対向する内面に設けられ、
   前記第１スペーサは、前記第２基板から前記第１基板に向かう方向に前記第２スペーサと同一の高さを有し、前記第１基板に接し、前記フィラーは、前記第２スペーサと前記第１基板との間に挟持され、前記絶縁基板の内面から前記第２スペーサの底面までの厚さは、前記絶縁基板の内面から前記第１スペーサの底面までの厚さより小さい、液晶表示装置。
2. 前記第２カラーフィルタは、前記第２スペーサと重なる位置に配置され、前記第１カラーフィルタとつながっている、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. さらに、前記非表示領域に配置され、前記第２カラーフィルタから離間した第３カラーフィルタを備え、前記第２スペーサは、前記第２カラーフィルタと前記第３カラーフィルタとの間に配置された前記第２遮光層と重なる、請求項１に記載の液晶表示装置。
4. 前記第２カラーフィルタ及び前記第３カラーフィルタは、同色である、請求項３に記載の液晶表示装置。
5. 前記第２カラーフィルタは、前記第２スペーサと重なる位置に配置され、前記第１カラーフィルタの膜厚より薄い膜厚を有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
6. 前記第２遮光層は、前記第２スペーサと重なる位置に配置され、前記第１遮光層の膜厚より薄い膜厚を有する、請求項１又は５に記載の液晶表示装置。
7. 前記第２スペーサの面の幅は、前記フィラーの径よりも大きい、請求項１乃至６の何れか１項に記載の液晶表示装置。
8. 前記第２カラーフィルタは、前記第２スペーサと重なる位置に配置され、スリットを有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
9. さらに、前記非表示領域に配置され、前記第２カラーフィルタの隣に接する第３カラーフィルタを備え、前記第２遮光層は、前記第２カラーフィルタ及び前記第３カラーフィルタを覆う、請求項１に記載の液晶表示装置。
10. 前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、前記第３カラーフィルタはつながっている、請求項９に記載の液晶表示装置。
11. 光透過領域と、光非透過領域と、を有し、
    絶縁基板と、
    前記光透過領域に配置された第１遮光層と、
    前記光非透過領域に配置された第２遮光層と、
    前記光透過領域に配置され、前記第１遮光層と前記絶縁基板との間に設けられた第１カラーフィルタと、
    前記光非透過領域に配置され、前記第２遮光層と前記絶縁基板との間に設けられた第２カラーフィルタと、を備え、
    前記第１遮光層の第１厚さと前記第２遮光層の第２厚さとは異なる、カラーフィルタ基板。
12. 前記第１カラーフィルタは、第１方向に第１幅を有し、前記第２カラーフィルタは、第１方向に第２幅を有し、
    前記第１幅は前記第２幅よりも小さく、前記第１厚さは前記第２厚さよりも厚い、請求項１１に記載のカラーフィルタ基板。
13. 前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタは同一の厚さを有し、同色である、請求項１１又は１２に記載のカラーフィルタ基板。
14. さらに、前記第１遮光層及び前記第２遮光層を覆うオーバーコート層と、
    前記オーバーコート層を覆う配向膜と、を備える、請求項１１乃至１３の何れか１項に記載のカラーフィルタ基板。
15. 前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの間に間隙を有し、
    前記間隙に配置され、前記絶縁基板に接する第３遮光層を備える、請求項１１乃至１４のうち何れか１項に記載のカラーフィルタ基板。
16. 前記第３遮光層は、前記間隙においてスリットを有し、前記スリットには第３カラーフィルタが配置される、請求項１５に記載のカラーフィルタ基板。
17. 前記第３カラーフィルタに重なる第４カラーフィルタを備える、請求項１６に記載のカラーフィルタ基板。
18. 前記第３カラーフィルタ及び前記第４カラーフィルタの何れか一方は前記第１カラーフィルタと同色であり、もう一方は、前記第１カラーフィルタと異なる色である、請求項１７に記載のカラーフィルタ基板。
19. 前記第３カラーフィルタの厚さと前記第４カラーフィルタの厚さの和は前記第３遮光層の厚さより大きく、前記第４カラーフィルタは前記オーバーコート層側に突出する、請求項１７又は１８に記載のカラーフィルタ基板。

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