JP2016071148A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の内面側にそれぞれ形成された第1画素電極及び第2画素電極と、を備えたアレイ基板と、第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板の内面に形成され前記第1画素電極と対向する第1カラーフィルターと、前記第2画素電極と対向するとともに前記第1カラーフィルターとは異なる色の第2カラーフィルターと、前記第1カラーフィルターの前記アレイ基板と対向する側に形成され前記第2カラーフィルターと同一材料で形成される構造体と、を備えた対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置。【選択図】 図4
Description
本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、表示装置として各種分野で利用されている。液晶表示装置は、赤、緑、青の3色の画素でカラー表示をするのが一般的であったが、近年、透過率を向上させる目的で白画素を追加した4色の画素を配置する構成が提案されている。
また一方で、オーバーコート層の形成後に遮光層の欠陥が発見された場合、欠陥部の直上のオーバーコート層上に、修正用インクを塗膜する方法が知られている。
本実施形態の目的は、製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供することにある。
本実施形態によれば、第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の内面側にそれぞれ形成された第1画素電極及び第2画素電極と、を備えたアレイ基板と、第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板の内面に形成され前記第1画素電極と対向する第1カラーフィルターと、前記第2画素電極と対向するとともに前記第1カラーフィルターとは異なる色の第2カラーフィルターと、前記第1カラーフィルターの前記アレイ基板と対向する側に形成され前記第2カラーフィルターと同一材料で形成される構造体と、を備えた対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置が提供される。
本実施形態によれば、第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の内面側にそれぞれ形成された第1乃至第4画素電極と、を備えたアレイ基板と、第2絶縁基板と、前記第1画素電極と対向する赤色の第1カラーフィルターと、前記第2画素電極と対向する緑色の第2カラーフィルターと、前記第3画素電極と対向する青色の第3カラーフィルターと、前記第1乃至第3カラーフィルターを覆うオーバーコート層と、前記オーバーコート層の前記アレイ基板と対向する内面に形成され前記第4画素電極と対向し前記第1乃至第3カラーフィルターとは異なる色の第4カラーフィルターと、前記オーバーコート層の内面に形成され前記第4カラーフィルターと同一材料で形成される構造体と、を備えた対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、を備えた液晶表示装置が提供される。
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、本実施形態の液晶表示装置を構成する表示パネルPNLの構成及び等価回路を概略的に示す図である。ここでは、X−Y平面における平面図を示している。
すなわち、液晶表示装置は、アクティブマトリクスタイプの透過型の表示パネルPNLと、表示パネルPNLに接続された駆動ICチップ2及びフレキシブル配線基板3と、を備えている。表示パネルPNLは、アレイ基板ARと、アレイ基板ARに対向して配置された対向基板CTと、これらのアレイ基板ARと対向基板CTとの間に保持された液晶層LQと、を備えている。アレイ基板ARは、所定のセルギャップを介して、シール材SEによって対向基板CTと貼り合わせられている。なお、液晶層LQは、シール材SEによって囲まれた領域の内側に封入されている。セルギャップは、アレイ基板ARまたは対向基板CTに形成された図示しない柱状のスペーサによって形成されている。
アレイ基板ARは、第1方向Xに延出したゲート線G、第1方向Xに略直交する第2方向Yに延出したソース線S、各画素PXでソース線S及びゲート線Gに電気的に接続されたスイッチング素子SW、スイッチング素子SWと電気的に接続された画素電極PEなどを備えている。共通電極CEは、アレイ基板AR又は対向基板CTに備えられ、画素電極PEとの間で電界を形成し、液晶層LQ内の液晶分子の配向を制御する。
表示パネルPNLは、シール材SEによって囲まれた内側に、画像を表示するアクティブエリアACTを備えている。アクティブエリアACTは、例えば、略長方形状であり、マトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。
駆動ICチップ2及びフレキシブル配線基板3などの表示パネルPNLの駆動に必要な信号供給源は、アクティブエリアACTよりも外側の周辺エリアPRPに位置している。図示した例では、駆動ICチップ2及びフレキシブル配線基板3は、対向基板CTの基板端部CTEよりも外側に延出したアレイ基板ARの実装部MTに実装されている。周辺エリアPRPは、アクティブエリアACTを囲むエリアであり、シール材SEが配置されるエリアを含み、矩形枠状に形成されている。
図2は、図1に示したアレイ基板ARにおける画素構造を概略的に示す図である。図2においては、画素PX1及び画素PX2が示されている。ここでは、X−Y平面における平面図を示している。
ゲート線G1及びゲート線G2は、第1方向Xに沿ってそれぞれ延出している。ソース線S1及びソース線S2は、第2方向Yに沿って延出し、それぞれゲート線G1及びゲート線G2と交差している。画素PX1は、ゲート線G1及びゲート線G2と、ソース線S1及びソース線S2によって区画され、スイッチング素子SW1及び画素電極PE1を備えている。画素PX2は、第1方向Xに沿って画素PX1に隣接し、スイッチング素子SW2及び画素電極PE2を備えている。
画素PX1において、スイッチング素子SW1は、ゲート配線G2とソース配線S1との交差部付近に位置し、ゲート配線G2及びソース配線S1に電気的に接続されている。画素電極PE1は、スイッチング素子SW1と電気的に接続されている。画素PX2において、スイッチング素子SW2は、ゲート配線G2とソース配線S2との交差部付近に位置し、ゲート配線G2及びソース配線S2に電気的に接続されている。画素電極PE2は、スイッチング素子SW2に電気的に接続されている。スイッチング素子SW1及びスイッチング素子SW2は、例えば薄膜トランジスタ(TFT)である。
図3は、本実施形態における各画素と構造体とのレイアウトの一例を概略的に示す図である。ここでは、X−Y平面における平面図を示している。
第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC、第4画素PXD、及び、第5画素PXEは、この順に第1方向Xに沿って並び、例えば、いずれも同等のサイズに形成されている。なお、第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC、第4画素PXD、及び、第5画素PXEは、それぞれ図2に示した画素PX1または画素PX2の画素構造を有している。
図示した例では、第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC、第4画素PXDは、それぞれ異なる色を表示する画素であり、これらの4つの画素が単位画素PUを構成している。単位画素PUとは、アクティブエリアに表示されるカラー画像を構成する最小単位である。単位画素PUについては、例えば第1方向Xに沿った長さと第2方向Yに沿った長さとが同等であり、正方形状に形成されている。なお、第5画素PXEは、例えば第1画素PXAと同一色を表示する画素である。
第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、第4カラーフィルターCFD、及び、第5カラーフィルターCFEは、この順に第1方向Xに沿って並び、いずれも第2方向Yに沿って延在し、帯状に形成されている。第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、第5カラーフィルターCFEは、赤、緑、青のいずれかの色のカラーフィルターである。第4カラーフィルターCFDは、赤、緑、青のいずれとも異なる色のカラーフィルターである。
例えば、第1カラーフィルターCFA及び第5カラーフィルターCFEは、赤色(R)のカラーフィルターである。第2カラーフィルターCFBは、緑(G)のカラーフィルターである。第3カラーフィルターCFCは、青色(B)のカラーフィルターである。第4カラーフィルターCFDは、透明あるいは白色(W)のカラーフィルターである。なお、図示した例では、第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、第4カラーフィルターCFD、及び、第5カラーフィルターCFEは、それぞれの間に隙間が形成されているが、互いに隣接する端部が重なっていても良い。
構造体Tは、第4カラーフィルターCFDと一体的に形成されている。図示した例では、構造体Tは、第1カラーフィルターCFAと第2カラーフィルターCFBとが互いに対向する端部に重なり、第2方向Yに延出している。また、構造体Tは、第2カラーフィルターCFBと第3カラーフィルターCFCとが互いに対向する端部に重なり、第2方向Yに延出している。さらに、構造体Tは、第2方向Yに沿って隣り合う画素の間において、第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、及び、第5カラーフィルターCFEに重なり、第1方向Xに延出している。
図4は、図3のA−B線における表示パネルPNLの断面を概略的に示す図である。なお、図4は、一例として、縦電界を利用して液晶分子の配向を制御するモードの表示パネルPNLを示している。ここでアレイ基板ARにおいて、液晶層LQ側を内面側とし、その反対側を外面側とする。また、対向基板CTにおいて、液晶層LQ側を内面側とし、その反対側を外面側とする。
アレイ基板ARは、ガラス基板や樹脂基板などの透明な第1絶縁基板10を用いて形成されている。アレイ基板ARは、第1絶縁基板10の内面側に、図示しないスイッチング素子、ゲート配線、ソース配線の他に、画素電極PE1乃至PE5、第1絶縁膜11、第1配向膜AL1などを備えている。
画素電極PE1乃至PE5は、第1絶縁膜11の上に形成されている。画素電極PE1乃至PE5は、透明な導電材料、例えば、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)やインジウム・ジンク・オキサイド(IZO)などによって形成されている。第1配向膜AL1は、画素電極PE1乃至PE5を覆っている。第1配向膜AL1は、第1絶縁膜11も覆っている。第1配向膜AL1は、垂直配向性を示す材料によって形成され、アレイ基板ARの液晶層LQに接する面に配置されている。
一方、対向基板CTは、ガラス基板や樹脂基板などの透明な第2絶縁基板20を用いて形成されている。対向基板CTは、第2絶縁基板20の内面側に、遮光層BM、第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、第4カラーフィルターCFD、第5カラーフィルターCFE、オーバーコート層OC、構造体T、共通電極CE、第2配向膜AL2などを備えている。
遮光層BMは、第2絶縁基板20の内面20Aに形成されている。遮光層BMは、黒色の樹脂材料や、遮光性の金属材料によって形成されている。このような遮光層BMは、図2に示したソース線Sやゲート線Gの上方に位置するような格子状に形成される。もしくは、遮光層BMは、ソース線Sの上方のみに位置したストライプ状に形成される。
第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、及び、第5カラーフィルターCFEのそれぞれは、第2絶縁基板20の内面20Aに形成されている。第1カラーフィルターCFAは、画素電極PE1と対向している。第2カラーフィルターCFBは、画素電極PE2と対向している。第3カラーフィルターCFCは、画素電極PE3と対向している。第5カラーフィルターCFEは、画素電極PE5と対向している。第1カラーフィルターCFA及び第5カラーフィルターCFEは、赤色に着色された樹脂材料によって形成されている。第2カラーフィルターCFBは、緑色に着色された樹脂材料によって形成されている。第3カラーフィルターCFCは、青色に着色された樹脂材料によって形成されている。
第1カラーフィルターCFA、第2カラーフィルターCFB、第3カラーフィルターCFC、及び、第5カラーフィルターCFEは、それぞれの互いに対向する端部が遮光層BMに重なっている。
オーバーコート層OCは、第1カラーフィルターCFAと、第2カラーフィルターCFBと、第3カラーフィルターCFCと、第5カラーフィルターCFEとを覆っている。オーバーコート層OCは、透明な樹脂材料によって形成されている。
第4カラーフィルターCFDは、オーバーコート層OCの内面(つまり、アレイ基板ARと対向する側の面)OCAに形成されている。第4カラーフィルターCFDは、画素電極PE4と対向している。第4カラーフィルターCFDは、無着色の透明な樹脂材料によって形成されていても良いし、白色の樹脂材料によって形成されていても良いし、薄く着色された樹脂材料によって形成されていても良い。例えば、第4カラーフィルターCFDは、バックライト光の色味をキャンセルするような色に淡く着色された樹脂材料であっても良く、一例として、青色のカラーフィルターよりも薄い青色に着色された樹脂材料であっても良い。
なお、画素電極PE4と対向する位置において、オーバーコート層OC及び第4カラーフィルターCFDの膜厚の総和は、画素電極PE3と対向する位置における第3カラーフィルターCFC及びオーバーコート層OCの膜厚の総和や、画素電極PE5と対向する位置における第5カラーフィルターCFE及びオーバーコート層OCの膜厚の総和などと同等である。つまり、対向基板CTの画素電極PE4と対向する位置において、段差を低減することが可能である。
構造体Tは、オーバーコート層OCの内面OCAに形成されている。構造体Tは、第4カラーフィルターCFDと同一材料(例えば同一な樹脂材料)によって形成されている。図示した例では、構造体Tは、遮光層BMと対向している。また、構造体Tは、第1カラーフィルターCFAと第2カラーフィルターCFBとが互いに対向する端部に重なり、また、第2カラーフィルターCFBと第3カラーフィルターCFCとが互いに対向する端部に重なっている。構造体Tの高さは、第4カラーフィルターCFDの膜厚と略同等であり0.3μm〜2.0μmである。なお、図示した例では、構造体Tは、表示に寄与しない非表示領域に配置されているが、構造体Tが表示に寄与する表示領域(遮光層BMで囲まれた内側の領域)に配置される場合には、構造体Tは透明な樹脂材料によって形成されることが望ましい。
共通電極CEは、オーバーコート層OCの内面OCAに形成されている。構造体T及び第4カラーフィルターCFDは、オーバーコート層OCと共通電極CEとの間に位置している。共通電極CEは、透明な導電材料、例えば、ITOやIZOなどによって形成されている。
第2配向膜AL2は、共通電極CEを覆っている。第2配向膜AL2は、垂直配向性を示す材料によって形成され、対向基板CTの液晶層LQに接する面に配置されている。アレイ基板ARと対向基板CTとは、第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2が向かい合うように配置されている。
アレイ基板ARと対向基板CTの間には、図示しないスペーサにより、所定のセルギャップが形成される。アレイ基板ARと対向基板CTとは、所定のセルギャップが形成された状態でシール材によって貼り合わせられている。液晶層LQは、これらのアレイ基板ARの第1配向膜AL1と対向基板CTの第2配向膜AL2との間に封入された液晶分子LMを含む液晶組成物によって構成されている。なお、構造体Tは、アレイ基板ARに接触していない。つまり、アレイ基板ARと構造体Tとの間には、液晶層LQが介在している。
このような構成の表示パネルPNLに対して、その背面側には、バックライトユニットBLが配置されている。バックライトユニットBLとしては、種々の形態が適用可能であるが、詳細な構造については説明を省略する。
アレイ基板ARの外面すなわち第1絶縁基板10の外面には、第1偏光板PL1を含む第1光学素子OD1が配置されている。対向基板CTの外面すなわち第2絶縁基板20の外面には、第2偏光板PL2を含む第2光学素子OD2が配置されている。
図5は、比較例の対向基板CTの構造を模式的に示した図である。ここでは、説明に必要な箇所のみを示している。
遮光層BMは、第2絶縁基板20の内面20Aに形成されている。第1カラーフィルターCFAと、第2カラーフィルターCFBと、第3カラーフィルターCFCと、第4カラーフィルターCFDとは、第2絶縁基板20の内面20Aに形成されている。
オーバーコート層OCは、第1カラーフィルターCFAと、第2カラーフィルターCFBと、第3カラーフィルターCFCと、第4カラーフィルターCFDとを覆っている。構造体Tは、オーバーコート層OCの内面OCAに形成されている。つまり、比較例では、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tは、それぞれオーバーコート層OCを介して異なる層に形成されている。
図6は、本実施形態の対向基板CTの構造を模式的に示した図である。ここでは、説明に必要な箇所のみを示している。
遮光層BMは、第2絶縁基板20の内面20Aに形成されている。第1カラーフィルターCFAと、第2カラーフィルターCFBと、第3カラーフィルターCFCとは、第2絶縁基板20の内面20Aに形成されている。オーバーコート層OCは、第1カラーフィルターCFAと、第2カラーフィルターCFBと、第3カラーフィルターCFCとを覆っている。第4カラーフィルターCFD及び構造体Tは、オーバーコート層OCの内面OCAに形成されている。
つまり、図5の比較例においては、第4カラーフィルターCFDはオーバーコート層OCを介して、構造体Tと異なる層に形成されていたのに対して、図6の本実施形態においては、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tが、同一層つまりオーバーコート層OCの内面OCAに形成されるという点で相違している。このため、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tは、同一材料を用いて同一工程で形成されることが可能となる。
本実施形態によれば、第4カラーフィルターCFDは、オーバーコート層の内面OCAに、構造体Tと同一材料で形成される。このため、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tは、1回の製造工程によって形成することが可能となる。したがって、本実施形態によれば、比較例よりも少ない製造工程数で対向基板CTを製造することが可能となる。これにより、製造コストを削減することが可能となるとともに、製造時間を短縮することが可能である。したがって、製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供することができる。
また、本実施形態によれば、図3及び図4で示したように、構造体Tは、互いに異なる色のカラーフィルターの端部(例えば、第1カラーフィルターCFAと第2カラーフィルターCFBが互いに対向する端部や第2カラーフィルターCFBと第3カラーフィルターCFCが互いに対向する端部)に重なり、第2方向Yに延出している。このため、構造体Tを挟んで隣接する一方の画素がオン状態であり、他方の画素がオフ状態であったとしても、オン状態の画素とオフ状態の画素との間の構造体Tと重なる領域では、セルギャップが薄く、液晶層LQの実効的な変調率を下げているため、液晶分子LMが初期配向状態に近い状態で維持されている。このため、表示パネルPNLを斜め方向から観察した場合であっても、隣接する画素の色が混ざって視認されるいわゆる混色による表示品位の劣化が抑制される。また、混色防止のために遮光層BMの幅を拡大する必要がなくなるため、一画素あたりの表示に寄与する面積を拡大することが可能となる。
次に、本実施形態の変形例1について説明する。
図7は、本実施形態における各画素と構造体とのレイアウトの他の例を概略的に示す図である。ここでは、X−Y平面における平面図を示している。図7に示した構成は、図3に示した構成と比較して、構造体T1乃至T3を備えた点で異なっている。なお、ここに示す構造体T1乃至T3は、いずれも非表示領域に形成されている。
図7に示した例では、構造体T1は、第1方向Xに延在する長方形状に形成され、第1カラーフィルターCFA及び第2カラーフィルターCFBに重なっている。なお、構造体T1と対向する位置には、後述する台座13が配置されている。図示した例では、台座13は、第2方向Yに延在する長方形状に形成されている。つまり、台座部13と構造体T1とは互いの長辺が略直交している。
構造体T2は、第2方向Yに延在する長方形状に形成され、互いに異なる色のカラーフィルターの端部に部分的に重なっている。図示した例では、構造体T2は、第2カラーフィルターCFBと第3カラーフィルターCFCとの端部に重なっているが、第1カラーフィルターCFAと第2カラーフィルターCFBとの端部に重なっていても良い。
構造体T3は、第4カラーフィルターCFDから第1方向Xに突出した突起状に形成され、第3カラーフィルターCFCに重なっている。図7において、構造体T1及びT3は、第1方向Xに沿って同一直線上に形成されている。
図8は、図7のC−D線における表示パネルPNLの断面を概略的に示す図である。
アレイ基板ARは、第1絶縁膜11の内面に形成された台座部13を備えている。台座部13は、第1配向膜AL1によって覆われている。構造体T1乃至T3は、オーバーコート層OCの内面OCAに形成されている。台座部13は、第1配向膜AL1、第2配向膜AL2、及び、共通電極CEを介して構造体T1を支持している。つまり、構造体T1は、台座部13とともにスペーサを形成し、液晶層LQを保持するためのセルギャップを形成している。なお、アレイ基板ARと構造体T2及びT3との間には、液晶層LQが介在している。
図7及び図8に示した変形例によれば、台座部13とともにスペーサとして機能する構造体T1、或いは、アレイ基板ARから離間した構造体T2及びT3は、第4カラーフィルターCFDと同一材料を用いて同一工程で形成可能である。このため、製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供することができる。
また、構造体T1は、アレイ基板ARにおいて対向基板CTに向かって突出した台座部13によって支持されている。このため、外部から表示パネルPNLに応力が加わって構造体T1がずれたとしても、構造体T1が画素電極上の第1配向膜AL1に接触することがなく、第1配向膜AL1の損傷に起因した液晶分子の配向不良を抑制することが可能となる。勿論、外部から応力が加わった際、台座部13が第2配向膜AL2に接触することはなく、第2配向膜AL2の損傷に起因した液晶分子の配向不良を抑制することも可能である。また、台座部13の延出方向は、構造体T1の延出方向に対して略垂直に位置している。これによって、アレイ基板ARと対向基板CTとの合わせずれが第1方向X及び第2方向Yの双方に生じた場合であっても、台座部13が構造体T1を支持することが可能である。
さらに、構造体T2及びT3は、液晶層LQを介して、アレイ基板ARと対向している。これにより、表示パネルPNLに外部から局所的な衝撃力が加わったときに、構造体T2及びT3は、アレイ基板ARに接触することで、衝撃力が分散し、表示パネルPNLへのダメージを軽減することが可能である。
次に、本実施形態の変形例2について説明する。この変形例2における液晶表示装置は、各画素が反射領域及び透過領域を有する半透過型液晶表示装置である。
図9は、本実施形態における各画素と構造体とのレイアウトの他の例を概略的に示す図である。ここでは、X−Y平面における平面図を示している。図9に示した構成は、図3に示した構成と比較して、構造体Tが複数の画素に亘って形成された点で異なっている。
図9に図示した例では、第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC及び第5画素PXEは、それぞれ反射領域30及び透過領域40を有している。構造体Tは、第4カラーフィルターCFDと一体的に形成され、第1方向Xに延出し、第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC及び第5画素PXEのそれぞれの反射領域30に重なっている。
図10は、図9の線E−Fにおける表示パネルの断面を概略的に示す図である。ここでは、画素PXBの断面構造について説明するが、他の画素についても同様の断面構造を有している。図10に示した光路a、光路bは、表示パネルPNLを透過する光路の一例を示している。
図10に示した例では、画素PXBにおいて、第1絶縁膜11の内面に、画素電極PE2が形成されている。反射層12は、画素電極PE内の反射領域30に形成されている。反射層12は、対向基板CTの外面側からの外光を反射する。反射層12は、アルミニウムや銀などの反射率が高い金属材料で形成されることが望ましい。反射層12は、ITOなどによって形成された画素電極PEによって覆われている。なお、画素PXBにおいて、反射層12が形成されていない領域は、透過領域40に相当する。
対向基板CTにおいては、構造体Tは、オーバーコート層の内面OCAに形成されている。構造体Tは、反射層12と対向して形成されている。つまり、構造体Tは、画素PXBのうち、反射領域30のみに形成され、透過領域40には形成されていない。このような構造体Tは、例えば、透過領域40におけるセルギャップの約1/2の厚さを有する。
図10において、光路aは、透過領域40において表示パネルPNLを透過する光路を示している。また、光路bは、反射領域30において表示パネルPNLを透過する光路を示している。ここで、透過領域40における第1配向膜AL1の内面と第2配向膜AL2の内面との間のアレイ基板AR又は対向基板CTの法線方向の距離を距離dとする。反射領域30においては、第1配向膜AL1の内面と第2配向膜AL2の内面との間の法線方向の距離が約d/2となるように構造体Tが形成されている。このため、光路aの液晶層LQにおける光路長は、光路bの液晶層LQにおける光路長と略同等となる。つまり、反射領域30での液晶層LQにおける光路長と透過領域40の液晶層LQにおける光路長が略等しくなる。
図9及び図10に示した変形例によれば、半透過型液晶表示装置の反射領域30において、液晶層LQ中の光路長を調整する構造体Tは、第4カラーフィルターCFDと同一材料を用いて同一工程で形成可能である。このため、製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供することができる。
次に、本実施形態の変形例3について説明する。この変形例3における液晶表示装置は、VA(Vertical Aligned)モードを適用した液晶表示装置である。
図11は、本実施形態における各画素と構造体とのレイアウトの他の例を概略的に示す断面図である。ここでは、X−Y平面における平面図を示している。図11に示した構成は、図3に示した構成と比較して、構造体Tが複数の画素を横切るように形成された点で異なっている。
図11に図示した例では、第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC及び第5画素PXEは、いずれも第2方向Yに延出した長方形状に形成されている。構造体Tは、第1方向Xに延出し、第1画素PXA、第2画素PXB、第3画素PXC及び第5画素PXEにおける略中央部を横切っている。
図12は、図11の線D−D‘における表示パネルの断面を概略的に示す図である。ここでは、画素PXBの断面構造について説明するが、他の画素についても同様の断面構造を有している。
構造体Tは、オーバーコート層OCの内面OCAに形成されている。構造体Tは、画素電極PE2に対向している。画素電極PEと共通電極CEとの間に電界が形成された際に、構造体Tの周辺で、アレイ基板AR或いは対向基板CTの法線に対して傾斜した電界が形成される。つまり、構造体Tは、VAモードの液晶層LQにおいてオン状態での液晶分子の配向方向を決定するための電界の傾きを形成する。
図11及び図12に示した変形例によれば、VAモードの液晶表示装置において、液晶分子LMの配向方向を決定する構造体Tは、第4カラーフィルターCFDと同一材料を用いて同一工程で形成可能である。このため、製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供することができる。
本実施形態では、VAモードへの適用例について説明したが、図3及び図4の構成例、図7及び図8の構成例、及び、図9及び図10の構成例については、他のモードにも適用可能である。他のモードについては表示パネルPNLの詳細な構成については説明を省略するが、TN(Twisted Nematic)モード、OCB(Optically Compensated Bend)モード、VA(Vertical Aligned)モードなどの主として縦電界を利用するモードでは、画素電極PEがアレイ基板ARに備えられる一方で、共通電極CEが対向基板CTに備えられている。また、IPS(In−Plane Switching)モード、FFS(Fringe Field Switching)モードなどの主として横電界を利用するモードでは、画素電極PE及び共通電極CEの双方がアレイ基板ARに備えられている。
また、本実施形態では、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tがオーバーコート層OCの内面OCAに形成された例について説明したが、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tが同一層に形成されていれば良く、オーバーコート層OCを省略しても良い。また、第4カラーフィルターCFD及び構造体Tを形成した後に、オーバーコート層OCを形成しても良い。
以上説明したように、本実施形態によれば、製造効率の向上が可能な液晶表示装置を提供することができる。
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
T…構造体 PXA…第1画素 PXB…第2画素 PXC…第3画素
PXD…第4画素 PXE…第5画素 CFA…第1カラーフィルター
CFB…第2カラーフィルター CFC…第3カラーフィルター
CFD…第4カラーフィルター CFE…第5カラーフィルター
PU…単位画素
PXD…第4画素 PXE…第5画素 CFA…第1カラーフィルター
CFB…第2カラーフィルター CFC…第3カラーフィルター
CFD…第4カラーフィルター CFE…第5カラーフィルター
PU…単位画素
Claims (8)
- 第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の内面側にそれぞれ形成された第1画素電極及び第2画素電極と、を備えたアレイ基板と、
第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板の内面に形成され前記第1画素電極と対向する第1カラーフィルターと、前記第2画素電極と対向するとともに前記第1カラーフィルターとは異なる色の第2カラーフィルターと、前記第1カラーフィルターの前記アレイ基板と対向する側に形成され前記第2カラーフィルターと同一材料で形成される構造体と、を備えた対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、
を備えた液晶表示装置。 - 前記対向基板は、さらに、前記第1カラーフィルターを覆うとともに前記第2絶縁基板と前記第2カラーフィルターとの間に介在するオーバーコート層を備えた、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記第2カラーフィルター及び前記構造体は、透明あるいは白色の樹脂材料によって形成された、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記アレイ基板と前記構造体との間に前記液晶層が介在する、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記アレイ基板は、さらに、前記対向基板と対向する側に形成され前記構造体を支持する台座部を備えた、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記アレイ基板は、さらに、反射層を有し、前記構造体は、前記反射層に対向して形成される、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記対向基板は、さらに、前記第1画素電極及び前記第2画素電極と対向する共通電極を備え、前記構造体は、前記第1画素電極及び前記第2画素電極と対向する位置で液晶分子の配向を制御する、請求項1に記載の液晶表示装置。
- 第1絶縁基板と、前記第1絶縁基板の内面側にそれぞれ形成された第1乃至第4画素電極と、を備えたアレイ基板と、
第2絶縁基板と、前記第1画素電極と対向する赤色の第1カラーフィルターと、前記第2画素電極と対向する緑色の第2カラーフィルターと、前記第3画素電極と対向する青色の第3カラーフィルターと、前記第1乃至第3カラーフィルターを覆うオーバーコート層と、前記オーバーコート層の前記アレイ基板と対向する内面に形成され前記第4画素電極と対向し前記第1乃至第3カラーフィルターとは異なる色の第4カラーフィルターと、前記オーバーコート層の内面に形成され前記第4カラーフィルターと同一材料で形成される構造体と、を備えた対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間に保持された液晶層と、
を備えた液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014200388A JP2016071148A (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014200388A JP2016071148A (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 液晶表示装置 |
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JP2016071148A true JP2016071148A (ja) | 2016-05-09 |
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ID=55866814
Family Applications (1)
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JP2014200388A Pending JP2016071148A (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 液晶表示装置 |
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JP (1) | JP2016071148A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019144423A (ja) * | 2018-02-21 | 2019-08-29 | 日本放送協会 | 液晶表示素子及び空間光変調器 |
-
2014
- 2014-09-30 JP JP2014200388A patent/JP2016071148A/ja active Pending
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