CN104298010A - 显示基板及其制造方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板及其制造方法和显示装置。该显示基板包括衬底基板、黑矩阵、覆盖层、主隔垫物和副隔垫物，所述黑矩阵位于所述衬底基板的上方，所述覆盖层位于所述黑矩阵的上方，所述主隔垫物和所述副隔垫物位于所述覆盖层之上且位于所述黑矩阵的上方，所述覆盖层上设置有第一凹槽，所述副隔垫物位于所述第一凹槽内。本发明通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。

Description

显示基板及其制造方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法和
显示装置。
背景技术
液晶显示器是目前最常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是液晶显示器中的主流产品。显示装置是液晶显示器中的重要部件。通常显示装置包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板(Color Filter，简称CF)，阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层。为使得显示装置具备一定的盒厚(Cell Gap)，需要在阵列基板和彩膜基板之间设置隔垫物(Photo Spacer，简称PS)。彩膜基板可包括衬底基板和形成于衬底基板上方的黑矩阵、彩色矩阵图形，黑矩阵和彩色矩阵图形的上方形成有覆盖层，隔垫物可形成于覆盖层上。可在覆盖层上沉积隔垫物材料层，再对隔垫物材料层进行构图工艺以形成隔垫物，其中，构图工艺可包括曝光、显影和刻蚀。通常，隔垫物可分为主隔垫物(Main PS)和副隔垫物(Sub PS)，主隔垫物和副隔垫物位于表面平坦的覆盖层上，且主隔垫物的高度大于副隔垫物的高度，因此主隔垫物和副隔垫物之间存在主副段差(M-S段差)，该主副段差即主隔垫物的顶端和副隔垫物的顶端之间的高度差。当彩膜基板和阵列基板对盒后，主隔垫物直接支撑在阵列基板上以起到主要支撑作用，而正常情况下副隔垫物不与阵列基板接触，只在受外力作用时副隔垫物才起到辅助支撑作用，以防止主隔垫物压缩量过大造成损坏。
主隔垫物和副隔垫物是通过一次构图工艺同步制成。若需要制成主副段差小于0.2μm的主隔垫物和副隔垫物时，在构图工艺中仅需调节工艺参数即可实现；若需要制成主副段差小于0.6μm且大于0.2μm的主隔垫物和副隔垫物时，可通过在构图工艺中使用半色调掩膜板(Half-toneMask)来实现，半色调掩膜板上与主隔垫物对应部位的透过率和与副隔垫物对应部位的透过率不同，从而在曝光工艺中实现了局部不同强度的曝光，进而最终形成高度不同的主隔垫物和副隔垫物，但是在实际应用中采用半色调掩膜板难以形成主副段差大于0.6μm的主隔垫物和副隔垫物。
综上所述，现有技术的技术方案形成的主隔垫物和副隔垫物之间的主副段差较小，难以形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
发明内容
本发明提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于实现形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括衬底基板、黑矩阵、覆盖层、主隔垫物和副隔垫物，所述黑矩阵位于所述衬底基板的上方，所述覆盖层位于所述黑矩阵的上方，所述主隔垫物和所述副隔垫物位于所述覆盖层之上且位于所述黑矩阵的上方，所述覆盖层上设置有第一凹槽，所述副隔垫物位于所述第一凹槽内。
可选地，还包括位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形，所述覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上，位于所述黑矩阵之上的彩色矩阵图形在所述黑矩阵之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方，部分所述覆盖层位于所述第二凹槽内以使所述覆盖层上形成所述第一凹槽。
可选地，所述第二凹槽的纵截面的形状为方形、梯形或者阶梯形。
可选地，所述第一凹槽底部的宽度大于或者等于所述副隔垫物底部的宽度。
可选地，所述主隔垫物的高度与所述副隔垫物的高度相同，所述主隔垫物和所述副隔垫物之间的主副段差为所述第一凹槽的深度。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括相对设置的对置基板和上述显示基板。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括：
在衬底基板的上方形成黑矩阵；
在所述黑矩阵的上方形成覆盖层，所述覆盖层上设置有第一凹槽；
在所述覆盖层之上形成主隔垫物和副隔垫物，所述主隔垫物和所述副隔垫物位于所述黑矩阵的上方，且所述副隔垫物位于所述第一凹槽内。
可选地，所述在所述黑矩阵的上方形成覆盖层，所述覆盖层上设置有第一凹槽包括：
在所述黑矩阵的上方形成覆盖层；
通过构图工艺，在所述覆盖层上形成所述第一凹槽。
可选地，所述在所述黑矩阵的上方形成覆盖层之前还包括：在所述衬底基板的上方形成彩色矩阵图形，位于所述黑矩阵之上的彩色矩阵图形在所述黑矩阵之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方；
所述在所述黑矩阵的上方形成覆盖层包括：在所述彩色矩阵图形之上形成所述覆盖层，部分所述覆盖层位于所述第二凹槽内以使所述覆盖层上形成所述第一凹槽。
可选地，所述主隔垫物的高度与所述副隔垫物的高度相同，所述主隔垫物和所述副隔垫物之间的主副段差为所述第一凹槽的深度。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本发明通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图；
图2为本发明实施例二提供的一种显示基板的结构示意图；
图3为本发明实施例三提供的一种显示基板的结构示意图；
图4为本发明实施例四提供的一种显示基板的制造方法的流程图；
图5a为实施例四中形成黑矩阵和彩色矩阵图形的示意图；
图5b为实施例四中形成覆盖层的示意图；
图5c为涂覆隔垫物材料层的示意图；
图6a为实施例五中形成黑矩阵和彩色矩阵图形的示意图；
图6b为实施例五中形成覆盖层的示意图；
图6c为涂覆隔垫物材料层的示意图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置进行详细描述。
图1为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图，如图1所示，该显示基板可包括衬底基板11、黑矩阵12、覆盖层13、主隔垫物14和副隔垫物15，黑矩阵12位于衬底基板11的上方，覆盖层13位于黑矩阵12的上方，主隔垫物14和副隔垫物15位于覆盖层13之上且位于黑矩阵12的上方，覆盖层13上设置有第一凹槽16，副隔垫物15位于第一凹槽16内。
该显示基板还包括位于衬底基板11上方的彩色矩阵图形，覆盖层13位于彩色矩阵图形之上，位于黑矩阵12之上的彩色矩阵图形在黑矩阵12之上形成第二凹槽17，第二凹槽17位于第一凹槽16的下方，部分覆盖层13位于第二凹槽17内以使覆盖层13上形成第一凹槽16。本实施例中，彩色矩阵图形可以为红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B，衬底基板11上方形成多个彩色矩阵图形，则该多个彩色矩阵图形可包括依次排列的红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B。在实际应用中，彩色矩阵图形还可以为其它颜色的矩阵图形，此处不再一一列举。彩色矩阵图形部分位于衬底基板11之上，部分位于相邻的黑矩阵12之上，位于黑矩阵12之上的相邻的彩色矩阵图形形成第二凹槽17，例如：图1中相邻的绿色矩阵图形G和蓝色矩阵图形B在黑矩阵12之上形成第二凹槽17。
本实施例中，第二凹槽17的纵截面的形状为方形。第二凹槽17的深度以及第二凹槽17的底部的宽度均可根据需要进行设置，只要该第二凹槽17的深度以及底部的宽度设置为能够使得第一凹槽16的各项尺寸满足预定值即可。
为保证副隔垫物15能够平稳的放置于第一凹槽16中，第一凹槽16底部的宽度可大于或者等于副隔垫物15底部的宽度。本实施例中，优选地，第一凹槽16底部的宽度等于副隔垫物15底部的宽度。
当主隔垫物14的高度与副隔垫物15的高度相同时，主隔垫物14和副隔垫物15之间的主副段差d为第一凹槽16的深度。本实施例中，覆盖层13为平坦层，在覆盖层13中第一凹槽16之外的部分为平坦结构，由于副隔垫物15位于第一凹槽16中，而主隔垫物14位于覆盖层13的平坦结构上，因此主隔垫物14的顶部高于副隔垫物15的顶部，从而使得主隔垫物14和副隔垫物15之间存在主副段差。而由于副隔垫物15的底部位于第一凹槽16底部表面上，且主隔垫物14的高度与副隔垫物15的高度又相同，因此第一凹槽16的深度即为主副段差d。
本实施例中，优选地，覆盖层13的厚度为1.5μm至2μm，彩色矩阵图形的厚度为1.5μm至2μm。
本实施例中，主隔垫物14和副隔垫物15之间的主副段差d可以为0.6μm以上。
本实施例提供的显示基板的技术方案中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本实施例通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
图2为本发明实施例二提供的一种显示基板的结构示意图，如图2所示，本实施例中的显示基板与上述实施例一中的显示基板的区别在于，第二凹槽17的纵截面的形状为梯形。具体地，该第二凹槽17的纵截面的形状为倒梯形。本实施例的显示基板中其余结构与上述实施例一相同，此处不再重复描述。
在实际应用中，第二凹槽17的形状还可以为其它形状，例如：阶梯形。
本实施例提供的显示基板的技术方案中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本实施例通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
图3为本发明实施例三提供的一种显示基板的结构示意图，如图2所示，该显示基板可包括衬底基板11、黑矩阵12、覆盖层13、主隔垫物14和副隔垫物15，黑矩阵12位于衬底基板11的上方，覆盖层13位于黑矩阵12的上方，主隔垫物14和副隔垫物15位于覆盖层13之上且位于黑矩阵12的上方，覆盖层13上设置有第一凹槽16，副隔垫物15位于第一凹槽16内。
该显示基板还包括位于衬底基板11上方的彩色矩阵图形，覆盖层13位于彩色矩阵图形之上。本实施例中，彩色矩阵图形可以为红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B，衬底基板11上方形成多个彩色矩阵图形，则该多个彩色矩阵图形可包括依次排列的红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B。在实际应用中，彩色矩阵图形还可以为其它颜色的矩阵图形，此处不再一一列举。彩色矩阵图形部分位于衬底基板11之上，部分位于相邻的黑矩阵12之上。
本实施例中的显示基板与上述实施例一中的显示基板的区别在于，位于黑矩阵12之上的相邻的彩色矩阵图形未形成第二凹槽，例如：图3中相邻的绿色矩阵图形G和蓝色矩阵图形B在黑矩阵12之上未形成第二凹槽。
为保证副隔垫物15能够平稳的放置于第一凹槽16中，第一凹槽16底部的宽度可大于或者等于副隔垫物15底部的宽度。本实施例中，优选地，第一凹槽16底部的宽度等于副隔垫物15底部的宽度。
当主隔垫物14的高度与副隔垫物15的高度相同时，主隔垫物14和副隔垫物15之间的主副段差d为第一凹槽16的深度。本实施例中，覆盖层13为平坦层，在覆盖层13中第一凹槽16之外的部分为平坦结构，由于副隔垫物15位于第一凹槽16中，而主隔垫物14位于覆盖层13的平坦结构上，因此主隔垫物14的顶部高于副隔垫物15的顶部，从而使得主隔垫物14和副隔垫物15之间存在主副段差。而由于副隔垫物15的底部位于第一凹槽16底部表面上，且主隔垫物14的高度与副隔垫物15的高度又相同，因此第一凹槽16的深度即为主副段差d。
本实施例中，优选地，覆盖层13的厚度为1.5μm至2μm，彩色矩阵图形的厚度为1.5μm至2μm。
本实施例中，主隔垫物14和副隔垫物15之间的主副段差d可以为0.6μm以上。
本实施例提供的显示基板的技术方案中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本实施例通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
本发明实施例四提供了一种显示装置，该显示装置可包括相对设置的对置基板和显示基板。其中，显示基板可采用上述实施例一、实施例二或者实施例三提供的显示基板，此处不再赘述。
对置基板和显示基板之间可设置有液晶层。
可选地，显示基板为彩膜基板，则对置基板为阵列基板。
可选地，显示基板为彩膜阵列基板(color filter on array，简称COA)，则对置基板为透明基板。
本实施例提供的显示装置的技术方案中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本实施例通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
图4为本发明实施例四提供的一种显示基板的制造方法的流程图，如图4所示，该方法包括：
步骤101、在衬底基板的上方形成黑矩阵。
可选地，本实施例还可以包括：
步骤102、在衬底基板的上方形成彩色矩阵图形，位于黑矩阵之上的彩色矩阵图形在黑矩阵之上形成第二凹槽。
图5a为实施例四中形成黑矩阵和彩色矩阵图形的示意图，如图5a所示，通过构图工艺在衬底基板11之上形成黑矩阵12，再通过构图工艺在衬底基板11之上形成彩色矩阵图形，彩色矩阵图形可以为红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B，衬底基板11上方形成多个彩色矩阵图形，则该多个彩色矩阵图形可包括依次排列的红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B。位于黑矩阵12之上的彩色矩阵图形在黑矩阵12之上形成第二凹槽17。其中，构图工艺可包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离等工艺。在曝光过程中使用的掩膜板可以为对传统的掩膜板进行修改而得到或者为直接制作出的新的掩膜板。
步骤103、在黑矩阵的上方形成覆盖层，覆盖层上设置有第一凹槽，第二凹槽位于第一凹槽的下方。
图5b为实施例四中形成覆盖层的示意图，如图5b所示，步骤103具体包括：在彩色矩阵图形之上形成覆盖层13，部分覆盖层13位于第二凹槽17内以使覆盖层13上形成第一凹槽16。
步骤105、在覆盖层之上形成主隔垫物和副隔垫物，主隔垫物和副隔垫物位于黑矩阵的上方，且副隔垫物位于第一凹槽内。
图5c为涂覆隔垫物材料层的示意图，如图5c所示，在覆盖层13之上涂覆隔垫物材料层18，由于覆盖层13上形成有第一凹槽16，因此位于第一凹槽16上方的隔垫物材料层18也呈凹槽状。通过掩膜板对隔垫物材料层18进行曝光。如图1所示，对曝光后的隔垫物材料层18进行显影和刻蚀以得到主隔垫物14和副隔垫物15。优选地，当主隔垫物14的高度与副隔垫物15的高度相同时，主隔垫物14和副隔垫物15之间的主副段差为第一凹槽16的深度，此时在第一凹槽16的作用下无需再生成高度不同的主隔垫物14和副隔垫物15，因此可采用普通的掩膜板(即：不同部位透过率相同的掩膜板)对隔垫物材料层18进行曝光，无需使用半色调掩膜板对隔垫物材料层18进行曝光，从而降低了掩膜板的成本。
本实施例提供的显示基板的制造方法可用于制造实施例一或者实施例二提供的显示基板，对显示基板的具体描述可参见上述实施例一或者实施例二。
本实施例提供的显示基板的制造方法制造出的显示基板中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本实施例通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
本发明实施例五提供了一种显示基板的制造方法，该方法包括：
步骤201、在衬底基板的上方形成黑矩阵。
可选地，本实施例还可以包括：
步骤202、在衬底基板的上方形成彩色矩阵图形。
图6a为实施例五中形成黑矩阵和彩色矩阵图形的示意图，如图6a所示，通过构图工艺在衬底基板11之上形成黑矩阵12，再通过构图工艺在衬底基板11之上形成彩色矩阵图形，彩色矩阵图形可以为红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B，衬底基板11上方形成多个彩色矩阵图形，则该多个彩色矩阵图形可包括依次排列的红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G或者蓝色矩阵图形B。其中，构图工艺可包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离等工艺。
步骤203、在黑矩阵的上方形成覆盖层，覆盖层上设置有第一凹槽。
图6b为实施例五中形成覆盖层的示意图，如图6b所示，在黑矩阵的上方形成覆盖层13，通过构图工艺在覆盖层13上形成第一凹槽16。构图工艺可包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离等工艺。其中，优选地，曝光工艺可采用普通的掩膜板对光刻胶进行曝光，无需采用半色调掩膜板对光刻胶进行曝光，从而降低了掩膜板的成本。
步骤205、在覆盖层之上形成主隔垫物和副隔垫物，主隔垫物和副隔垫物位于黑矩阵的上方，且副隔垫物位于第一凹槽内。
图6c为涂覆隔垫物材料层的示意图，如图6c所示，在覆盖层13之上涂覆隔垫物材料层18，由于覆盖层13上形成有第一凹槽16，因此位于第一凹槽16上方的隔垫物材料层18也呈凹槽状。通过掩膜板对隔垫物材料层18进行曝光。如图3所示，对曝光后的隔垫物材料层18进行显影和刻蚀以得到主隔垫物14和副隔垫物15。优选地，当主隔垫物14的高度与副隔垫物15的高度相同时，主隔垫物15和副隔垫物15之间的主副段差为第一凹槽1的深度，此时可采用普通的掩膜板(即：不同部位透过率相同的掩膜板)对隔垫物材料层18进行曝光，无需使用半色调掩膜板对隔垫物材料层18进行曝光，从而降低了掩膜板的成本。
本实施例提供的显示基板的制造方法可用于制造实施例三提供的显示基板，对显示基板的具体描述可参见上述实施例三。
本实施例提供的显示基板的制造方法制造出的显示基板中，主隔垫物和副隔垫物位于覆盖层之上且位于黑矩阵的上方，覆盖层上设置有第一凹槽，副隔垫物位于第一凹槽内以使主隔垫物和副隔垫物之间形成主副段差，本实施例通过在覆盖层上设置第一凹槽，使得主隔垫物和副隔垫物之间形成的主副段差较大，从而实现了形成主副段差较大的主隔垫物和副隔垫物。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板、黑矩阵、覆盖层、主隔垫物和副隔垫物，所述黑矩阵位于所述衬底基板的上方，所述覆盖层位于所述黑矩阵的上方，所述主隔垫物和所述副隔垫物位于所述覆盖层之上且位于所述黑矩阵的上方，所述覆盖层上设置有第一凹槽，所述副隔垫物位于所述第一凹槽内。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形，所述覆盖层位于所述彩色矩阵图形之上，位于所述黑矩阵之上的彩色矩阵图形在所述黑矩阵之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方，部分所述覆盖层位于所述第二凹槽内以使所述覆盖层上形成所述第一凹槽。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二凹槽的纵截面的形状为方形、梯形或者阶梯形。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一凹槽底部的宽度大于或者等于所述副隔垫物底部的宽度。
5.根据权利要求1至4任一所述的显示基板，其特征在于，所述主隔垫物的高度与所述副隔垫物的高度相同，所述主隔垫物和所述副隔垫物之间的主副段差为所述第一凹槽的深度。
6.一种显示装置，其特征在于，包括相对设置的对置基板和上述权利要求1至5任一所述的显示基板。
7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的上方形成黑矩阵；
在所述黑矩阵的上方形成覆盖层，所述覆盖层上设置有第一凹槽；
在所述覆盖层之上形成主隔垫物和副隔垫物，所述主隔垫物和所述副隔垫物位于所述黑矩阵的上方，且所述副隔垫物位于所述第一凹槽内。
8.根据权利要求7所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述黑矩阵的上方形成覆盖层，所述覆盖层上设置有第一凹槽包括：
在所述黑矩阵的上方形成覆盖层；
通过构图工艺，在所述覆盖层上形成所述第一凹槽。
9.根据权利要求7所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述黑矩阵的上方形成覆盖层之前还包括：在所述衬底基板的上方形成彩色矩阵图形，位于所述黑矩阵之上的彩色矩阵图形在所述黑矩阵之上形成第二凹槽，所述第二凹槽位于所述第一凹槽的下方；
所述在所述黑矩阵的上方形成覆盖层包括：在所述彩色矩阵图形之上形成所述覆盖层，部分所述覆盖层位于所述第二凹槽内以使所述覆盖层上形成所述第一凹槽。
10.根据权利要求7至9任一所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述主隔垫物的高度与所述副隔垫物的高度相同，所述主隔垫物和所述副隔垫物之间的主副段差为所述第一凹槽的深度。
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