CN205809499U - 一种阵列基板、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种阵列基板、显示面板和显示装置，包括第一基板；设置于第一基板表面的多条栅极线、多条数据线和色阻层，多条栅极线和多条数据线绝缘交叉限定出多个子像素区，色阻层包括多个色阻，色阻与子像素区对应设置；其中，多个色阻包括至少三种颜色的色阻，至少三种颜色的色阻包括绿色色阻，绿色色阻的厚度小于其他颜色的色阻的厚度。由于绿色色阻是最后形成的色阻，因此，降低绿色色阻的厚度可以减小绿色色阻制作过程中曝光显影的时间，从而在加快制作工艺进程的同时，可以避免先形成的其他颜色色阻的色度频谱发生偏移，使得先形成的其他颜色色阻的色度和稳定性较好。

Description

一种阵列基板、显示面板和显示装置

技术领域

本实用新型涉及显示设备技术领域，更具体地说，涉及一种阵列基板、显示面板和显示装置。

背景技术

参考图1和图2，图1为现有的一种显示面板的色阻层的平面结构示意图，图2为图1所示的色阻层的剖面结构示意图，该色阻层包括厚度相等的红色色阻10、蓝色色阻11和绿色色阻12。

上述色阻层的制作过程为：先在基板1上形成覆盖整个基板的红色色阻层，然后通过曝光和显影等工序在红色色阻层上形成图案化的光刻胶层，并采用该光刻胶层作为掩膜对红色色阻层进行刻蚀，形成图1所示的红色色阻10。之后采用同样的工序依次形成蓝色色阻11和绿色色阻12。

但是，由于后形成的色阻的曝光、显影和烘烤等工序会对先形成的色阻的材料产生不利影响，如先形成的色阻的色度频谱在制作后续色阻的过程中会发生偏移，因此，会导致显示面板中先形成的色阻的色度和稳定性较差。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种阵列基板、显示面板和显示装置，以解决现有技术中先形成的色阻的色度频谱在制作后续色阻的过程中发生偏移问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种阵列基板，包括：

第一基板；

设置于所述第一基板表面的多条栅极线、多条数据线和色阻层，所述多条栅极线和所述多条数据线绝缘交叉限定出多个子像素区，所述色阻层包括多个色阻，所述色阻与所述子像素区对应设置；

其中，所述多个色阻包括至少三种颜色的色阻，所述至少三种颜色的色阻包括绿色色阻，所述绿色色阻的厚度小于其他颜色的色阻的厚度。

一种显示面板，包括本实用新型提供的阵列基板。

一种显示装置，包括本实用新型提供的显示面板。

与现有技术相比，本实用新型所提供的技术方案具有以下优点：

本实用新型所提供的阵列基板、显示面板和显示装置，绿色色阻的厚度小于其他颜色的色阻的厚度，由于绿色色阻是最后形成的色阻，因此，降低绿色色阻的厚度可以减小绿色色阻制作过程中曝光显影的时间，从而在加快制作工艺进程的同时，可以避免先形成的其他颜色色阻的色度频谱发生偏移，使得先形成的其他颜色色阻的色度和稳定性较好。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为现有的一种显示面板的色阻层的平面结构示意图；

图2为图1所示的色阻层的剖面结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的一种阵列基板的部分平面结构示意图；

图4为图3所示的阵列基板的剖面结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图6为本实用新型实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图；

图7为本实用新型实施例提供的一种触控电极的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的实施例提供了一种阵列基板，参考图3和图4，图3为本实用新型实施例提供的一种阵列基板的部分平面结构示意图，图4为图3所示的阵列基板的剖面结构示意图，该阵列基板包括第一基板20、设置于第一基板20表面的多条栅极线21、多条数据线22和色阻层23。

其中，多条栅极线21和多条数据线22绝缘交叉限定出多个阵列排布的子像素区，每个子像素区对应设置一个子像素，每个子像素都包括薄膜晶体管25和像素电极26。参考图4，该薄膜晶体管25包括栅极250、源极251和漏极252，其中，栅极250与对应的栅极线21相连、源极251与对应的数据线22相连、漏极与像素电极26相连。此外，该阵列基板还包括公共电极27，该公共电极27与多个子像素对应设置，以通过公共电极27和像素电极26之间的电压差驱动相应的子像素进行图像的显示。

本实施例中，色阻层23包括多个色阻，具体地，色阻层23包括黑矩阵230以及由黑矩阵230限定出的多个色阻区域，每个色阻区域对应设置一个色阻，并且，一个色阻与一个子像素对应设置，当然，本实用新型并不仅限于此，在其他实施例中，一个色阻还可以与多个子像素对应设置。

需要说明的是，本实施例中子像素的颜色是由其对应设置的色阻的颜色决定的，也就是说，色阻的颜色是红色，则其对应的子像素的显示颜色也为红色，色阻的颜色是绿色，则其对应的子像素的显示颜色也为绿色，色阻的颜色是蓝色，则其对应的子像素的显示颜色也为蓝色。基于此，可通过不同颜色的子像素进行图像的显示。

本实施例中，阵列基板上的多个色阻包括至少三种颜色的色阻，这至少三种颜色的色阻包括绿色色阻233，其中绿色色阻233最后形成在第一基板20上，且绿色色阻233的厚度d₁小于其他颜色的色阻的厚度。本实施例中，色阻的厚度都是指色阻在垂直于第一基板20方向上的长度，其中，垂直于第一基板20的方向为如图4中箭头所示的X方向。需要说明的是，本实施例中的色阻层23表面还具有透明有机膜层234，以使得色阻层23背离第一基板20的表面为平整的表面。

具体地，阵列基板上的多个色阻包括三种颜色的色阻，即包括第一颜色色阻231、第二颜色色阻232和绿色色阻233，其中，绿色色阻233的厚度小于第一颜色色阻231的厚度，且绿色色阻233的厚度小于第二颜色色阻232的厚度。其中，第一颜色色阻231、第二颜色色阻232和绿色色阻233依次形成在第一基板20上，需要说明的是，第一颜色色阻231、第二颜色色阻232和绿色色阻233的形成过程都包括曝光显影的工序。

在本实施例的一个具体实施方式中，如图4所示，第一颜色色阻231和第二颜色色阻232的厚度相等，即第一颜色色阻231和第二颜色色阻232的厚度都为d₂，且第一颜色色阻231和第二颜色色阻232的厚度d₂大于绿色色阻233的厚度d₁。由于绿色色阻233是最后形成的色阻，因此，降低绿色色阻233的厚度可以减少绿色色阻233制作过程中曝光显影的时间，从而在加快制作工艺进程的同时，可以尽量减少绿色色阻233的制作工艺对第一颜色色阻231和第二颜色色阻232的色度和稳定性的影响。需要说明的是，本实施例中，以色阻层23夹持设置在薄膜晶体管25所在膜层和像素电极26所在膜层之间为例进行说明，但本实用新型对色阻层23在阵列基板中的膜层位置不做具体限制，同时，像素电极26和公共电极27的相对位置关系也并不构成对本实施例的限定，例如，在本实用新型的其他实施例中，色阻层23可以设置在像素电极26所在膜层和公共电极27所在膜层之间。

在另一具体实施方式中，如图5所示，图5为本实用新型实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，第一颜色色阻231的厚度d₂大于第二颜色色阻232的厚度d₃，且第二颜色色阻232的厚度d₃大于绿色色阻233的厚度d₁，即第一颜色色阻231、第二颜色色阻232和绿色色阻233的厚度按照形成顺序依次减小。基于此，降低第二颜色色阻232的厚度可以减少其曝光显影的时间，从而减少第二颜色色阻232的制作工艺对第一颜色色阻231的色度和稳定性的影响；进一步地，降低绿色色阻233的厚度可以减少其曝光显影的时间，从而减少绿色色阻233的制作工艺对第一颜色色阻231和第二颜色色阻232的色度和稳定性的影响。

在上述任一实施方式的基础上，绿色色阻233的厚度大于或等于第二颜色色阻232厚度的70％，且绿色色阻233的厚度小于第二颜色色阻232厚度的100％。可选的，第二颜色色阻232的厚度大于或等于1.4um，且第二颜色色阻232的厚度小于或等于3um。

需要说明的是，本实施例中，在不考虑膜层制作工艺误差的情况下，不同色阻对应的黑矩阵230的厚度相等，当然，本实用新型并不仅限于此，在其他实施例中，色阻四周的黑矩阵230的厚度可以与该色阻的厚度相等。

本实施例中，第一颜色色阻231为红色色阻，第二颜色色阻232为蓝色色阻；或者，第一颜色色阻231为蓝色色阻，第二颜色色阻232为红色色阻。也就是说，当第一基板20上色阻的制作顺序是红蓝绿时，第一颜色色阻231为红色色阻，第二颜色色阻232为蓝色色阻；当第一基板20上色阻的制作顺序是蓝红绿时，第一颜色色阻231为蓝色色阻，第二颜色色阻232为红色色阻。

当然，在其他实施例中，阵列基板上的多个色阻可以包括四种颜色的色阻，如红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻和白色色阻，本实用新型并不仅限于此。同样，在该实施例中，绿色色阻的厚度小于红色色阻、蓝色色阻和白色色阻的厚度，在此不再赘述。

在本实用新型的实施例中，色阻层23位于阵列基板上，且该阵列基板还包括设置于第一基板20表面的薄膜晶体管层、像素电极层和公共电极层，其中，薄膜晶体管25所在的膜层即为薄膜晶体管层，像素电极26所在的膜层即为像素电极层，公共电极27所在的膜层即为公共电极层。其中，色阻层23位于第一基板20、薄膜晶体管层、像素电极层和公共电极层中任意两层之间。

可选的，本实施例中的色阻层23位于薄膜晶体管层和像素电极层之间，如图4和图5所示，色阻层23位于薄膜晶体管25所在膜层和像素电极26所在膜层之间。并且，薄膜晶体管25的漏极252通过贯穿对应色阻的过孔260与该色阻表面的像素电极26相连。

在图4和图5所示的结构中，公共电极27所在膜层位于像素电极26所在膜层表面，但是，本实用新型并不仅限于此，在其他实施例中，如图6所示，图6为本实用新型实施例提供的又一种阵列基板的剖面结构示意图，公共电极27所在膜层位于像素电极26所在膜层和色阻层23之间，此时，薄膜晶体管25的漏极252通过贯穿对应色阻和对应公共电极27的过孔261与该色阻表面的像素电极26相连。当然，该薄膜晶体管25的栅极还与对应的栅极线21相连，该薄膜晶体管25的源极还与对应的数据线22相连，在此不再赘述。

进一步地，本实施例中的公共电极27可以复用为触控电极，如图7所示，图7为本实用新型实施例提供的一种触控电极的结构示意图，该触控电极为呈阵列式排布的块状电极。当然，本实用新型并不仅限于此，在其他实施例中，该触控电极可以为其他形状的电极。

本实施例提供的阵列基板，绿色色阻的厚度小于其他颜色的色阻的厚度，由于绿色色阻是最后形成的色阻，因此，降低绿色色阻的厚度可以减小绿色色阻制作过程中曝光显影的时间，从而在加快制作工艺进程的同时，可以避免先形成的其他颜色色阻的色度频谱发生偏移，使得先形成的其他颜色色阻的色度和稳定性较好。

本实用新型实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括阵列基板和、该阵列基板相对设置的对置基板以及位于阵列基板和对置基板之间的液晶层等，该阵列基板为上述任一实施例提供的阵列基板。由于阵列基板上绿色色阻的厚度小于其他颜色的色阻的厚度，且绿色色阻是最后形成的色阻，因此，可以通过降低绿色色阻的厚度减小绿色色阻制作过程中曝光显影的时间，在加快制作工艺进程的同时，可以避免先形成的其他颜色色阻的色度频谱发生偏移，使得先形成的其他颜色色阻的色度和稳定性较好。

本实用新型实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述实施例提供的显示面板。其中，该显示装置可以为液晶显示器等。该显示装置的制作时间短、显示色度和显示稳定性都较好。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

第一基板；

设置于所述第一基板表面的多条栅极线、多条数据线和色阻层，所述多条栅极线和所述多条数据线绝缘交叉限定出多个子像素区，所述色阻层包括多个色阻，所述色阻与所述子像素区对应设置；

其中，所述多个色阻包括至少三种颜色的色阻，所述至少三种颜色的色阻包括绿色色阻，所述绿色色阻的厚度小于其他颜色的色阻的厚度。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述其他颜色的色阻包括第一颜色色阻和第二颜色色阻，所述绿色色阻的厚度小于所述第一颜色色阻的厚度，且所述绿色色阻的厚度小于所述第二颜色色阻的厚度。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二颜色色阻的厚度小于所述第一颜色色阻的厚度。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述绿色色阻的厚度大于或等于所述第二颜色色阻厚度的70％、小于所述第二颜色色阻厚度的100％。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第二颜色色阻的厚度大于或等于1.4um且小于或等于3um。

6.根据权利要求2～5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一颜色色阻为红色色阻，所述第二颜色色阻为蓝色色阻；

或者，所述第一颜色色阻为蓝色色阻，所述第二颜色色阻为红色色阻。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素区设置有薄膜晶体管和像素电极，所述色阻层位于所述薄膜晶体管所在膜层和所述像素电极所在膜层之间。

8.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1～7任一项所述的阵列基板。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的显示面板。