CN109387976A - 一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏 - Google Patents
一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109387976A CN109387976A CN201811478019.1A CN201811478019A CN109387976A CN 109387976 A CN109387976 A CN 109387976A CN 201811478019 A CN201811478019 A CN 201811478019A CN 109387976 A CN109387976 A CN 109387976A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- color
- substrate
- membrane substrates
- transparent conductive
- conductive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 95
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 81
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 30
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 17
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
本发明提供了一种彩膜基板的制备工艺、利用该彩膜基板的制备工艺制备的彩膜基板以及具有该彩膜基板的显示屏，其中，一种彩膜基板的制备工艺包括如下步骤：在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵；在所述透明导电薄膜或者黑矩阵上涂布色阻形成像素单元。本发明在基板衬底与色阻之间溅射透明导电薄膜，使得透明导电薄膜位于基板衬底与色阻之间，以使彩膜基板在进入后续的热制程后不会因表面覆盖有一层透明导电薄膜而阻碍色阻中的水汽释出，从而避免了无法释出的水汽在彩膜基板的成品中存在气泡影响显示屏的显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示器领域，特别涉及一种彩膜基板的制备工艺、利用该彩膜基板的制备工艺制备的彩膜基板以及具有该彩膜基板的显示屏。
背景技术
液晶显示器广泛应用于多种电器设备，如电视、电脑显示器，彩膜基板是液晶显示器彩色化的关键部分，在显示屏中占的成本最高。现有的彩膜基板在经过透明导电薄膜制程后，还需进入热制程，如配向膜的印刷制程(温度高达90℃)，由于在进入热制程前色阻中还存在水份，进入热制程后，高温使得水份从色阻中蒸发，导致液晶显示器的成品出现气泡，影响显示效果。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种彩膜基板的制备工艺，旨在解决显示器的成品出现气泡，影响显示效果的问题。
为实现上述目的，本发明提出一种彩膜基板的制备工艺，包括如下步骤：在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵；在所述透明导电薄膜或者黑矩阵上涂布色阻形成像素单元。
可选的，所述在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵的步骤包括：在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层；在透明导电薄膜层上通过涂布操作形成黑矩阵。
可选的，所述在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵的步骤包括：在基板衬底上通过涂布操作形成黑矩阵；在黑矩阵上通过溅射制程形成透明导电薄膜层。
本发明还提出一种彩膜基板，所述彩膜基板通过如上所述的任一项彩膜基板的制备工艺制备而成，所述彩膜基板位于显示器中液晶层的出光侧，所述彩膜基板包括：基板衬底、透明导电薄膜及色阻，所述透明导电薄膜及色阻均设置在所述基板衬底上，其中所述透明导电薄膜位于所述基板衬底与所述色阻之间，且所述透明导电薄膜至少覆盖所述色阻围成的区域。
可选的，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述透明导电薄膜与所述色阻之间，所述色阻涂布在所述黑矩阵上。
可选的，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述透明导电薄膜与所述基板衬底之间，所述色阻涂布在所述透明导电薄膜上。
可选的，所述色阻包括红、绿、蓝三种基色色阻，或所述色阻包括红、绿、蓝及黄四种基色色阻，或所述色阻包括红、绿、蓝及白四种基色色阻。
本发明还提出一种显示屏，所述显示屏包括如上所述的任一项彩膜基板。
可选的，所述显示屏还包括液晶及阵列基板，所述液晶位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，光从所述阵列基板一侧经液晶传播至彩膜基板，并透过色阻传出彩膜基板。
可选的，所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物设置于所述彩膜基板的主体上，以支撑容纳液晶的空间。
本发明技术方案通过在基板衬底与色阻之间溅射透明导电薄膜，使得透明导电薄膜位于基板衬底与色阻之间，以使彩膜基板在进入后续的热制程后不会因表面覆盖有一层透明导电薄膜而阻碍色阻中的水汽释出，从而避免了无法释出的水汽在彩膜基板的成品中存在气泡。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明一种彩膜基板的制备工艺的流程示意图；
图2为图1中步骤1的一实施例的流程示意图；
图3为图1中步骤1的另一实施例的流程示意图；
图4为本发明彩膜基板一实施例的结构示意图；
图5为本发明彩膜基板另一实施例的结构示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
请参照图1，本发明提出了一种彩膜基板的制备工艺，包括如下步骤：
步骤S10：在基板衬底10上通过溅射制程形成透明导电薄膜50层及通过涂布操作形成黑矩阵20；
步骤S20：所述透明导电薄膜50或者黑矩阵20上涂布色阻30形成像素单元。
如图4、图5所示，在本实施例中，色阻30位于彩膜基板的最外层，透明导电薄膜50位于基板衬底10与色阻30之间，透明导电薄膜50通过溅射制程覆盖于基板衬底10或黑矩阵20上，也即，只要透明导电薄膜50位于基板衬底10与色阻30之间即可，至于透明导电薄膜50是覆盖在基板底衬底还是黑矩阵20上，均对彩膜基板本身的性能没有任何影响。
透明导电薄膜50是一种透明的导电氧化物，由氧化铟锡形成(Indium TinOxides，ITO)，在透明导电薄膜50的溅射制程中，薄膜的厚度可通过溅射的工艺条件和沿积的时间来调整。在基板衬底10上溅射透明导电薄膜50之前需要先清洗基板衬底10，避免基板上的脏污影响薄膜涂布的均匀性或给薄膜造成污染。
如图4所示，在透明导电薄膜50处于基板衬底10与黑矩阵20之间的实施例中，透明导电薄膜50直接溅射在基板衬底10上。如图2所示，透明导电薄膜50的溅射制程完成后，在透明导电薄膜50上进行黑矩阵20的涂布制程，黑矩阵20的涂布使得透明导电薄膜50背离基板衬底10的一面均覆盖了黑矩阵20涂料，但在彩膜基板中，黑矩阵20的主要作用之一是防止色阻30中的各基色间混色，提高显示图像的色纯度，因此，如图4及图5所示，色阻30不能与黑矩阵20完全重叠，这就需要将部分黑矩阵20的涂料除去以涂布色阻30。
在彩膜基板的制备工艺中，利用光刻与显影去除不需要的黑矩阵20涂料，其中，光刻工艺利用紫外线对黑矩阵20中需要留下的部位进行照射，黑矩阵20材料具有负性光刻胶的特性，在显影制程中，未照射到的黑矩阵20材料被碱性显影液除去，留下被照射到的部分，形成黑矩阵图案20。
色阻30涂布在黑矩阵图案20上，在本实施例中，色阻30包括红、绿、蓝三种基色色阻30，三种基色色阻30之间依次排列(排列顺序不受限制，只要任何相邻的三个基色均包括红、绿、蓝三种基色色阻30即可)，但两两色阻30之间间隔有黑矩阵20涂料，以防止各基色间混色，影响显示效果。色阻30的涂布依次进行，顺序可根据需要而定，并无先后的限制，以先涂布红色色阻31为例，红色色阻31的涂料直接涂布在经过光刻及显影后形成的黑矩阵图案20上，再经光刻及显影将不需要留下的红色色阻涂料除去，形成红色色阻31。此时，彩膜基板上已经具有黑矩阵20与红色色阻31两种图案，再在其上涂布绿色色阻32涂料，再通过光刻与显影将不需要的绿色色阻涂料除去，留下需要的部分，形成绿色色阻32。最后涂布蓝色色阻33涂料，再经光刻与显影形成蓝色色阻33。至此，彩膜基板的色阻30制程完成。
如图2及图5所示，在透明导电薄膜50处于黑矩阵20与色阻30之间的实施例中，黑矩阵涂料涂布在基板衬底10上，经过光刻与显影后形成黑矩阵图案20，之后在黑矩阵图案20上进行透明导电薄膜50的溅射制程，使透明导电薄膜50形成于黑矩阵图案20上。色阻30涂布于透明导电薄膜50上，以红、绿、蓝三种基色色阻为例，首先在透明导电薄膜50上涂布红色色阻涂料，然后经光刻与显影将不需要的红色色阻材料去掉形成红色色色阻30，再进行绿色色阻32的涂布、光刻及显影形成绿色色阻32，最后进入蓝色色阻33的制程。
由于色阻30处于彩膜基板的最外层，色阻30在制备过程中未能完全释放的水份还留存在色阻30中，或者，彩膜基板制作完成后的存放过程中，色阻30也会从空气中吸收一定量的水份，透明导电薄膜50位于基板衬底10与色阻30之间的方式使得彩膜基板在后续的热制程中能够自由释放其中的水份，不受透明导电薄膜50的阻碍，因此，不会存在水汽形成的气泡出现在彩膜基板的成品中，当彩膜基板应用于显示器中时，显示屏上不会出现气泡点影响显示效果。
本发明还提出一种彩膜基板，所述彩膜基板通过如上所述的任一项彩膜基板的制备工艺制备而成，所述彩膜基板位于显示器中液晶层的出光侧，所述彩膜基板包括：基板衬底10、透明导电薄膜50及色阻30，所述透明导电薄膜50及色阻30均设置在所述基板衬底10上，其中所述透明导电薄膜50位于所述基板衬底10与所述色阻30之间，且所述透明导电薄膜50至少覆盖所述色阻30围成的区域。
在本实施例中，透明导电薄膜50是一整片完整的薄膜，至少覆盖了色阻30所围成的区域，当彩膜基板应用于显示屏时，透明导电薄膜50的主要是作为一公共电极，与液晶另一侧的电极共同作用使液晶产生偏转，因此透明导电薄膜50也可以将整个基板衬底10覆盖，这并不影响彩膜基板的使用性能。
如图4、图5所示，所述彩膜基板还包括黑矩阵20，黑矩阵20具有涂布于透明导电薄膜50与基板衬底10之间或涂布于透明导电薄膜50与色阻30之间两种方式，黑矩阵20的作用是遮挡液晶层的杂乱散射光，使光线只从色阻30中穿过，以防止各基色间混色，并防止环境光照射到薄膜晶体管沟道，影响显示效果。因此，两两色阻30之间间隔有黑矩阵20涂料，且最外层的色阻30四周也包围有黑矩阵材料，使得照射到色阻30的光线均来自于液晶。色阻30的边缘部分可以与黑矩阵20重叠，以防止从色阻30边缘位置射入的光线发生混色现象，也即，色阻30只需存在不被黑矩阵20材料覆盖的部分使光线能够穿过色阻30即可。
进一步地，所述色阻30包括红、绿、蓝三种基色色阻，或所述色阻30包括红、绿、蓝及黄四种基色色阻，或所述色阻30包括红、绿、蓝及白四种基色色阻。
光线无法穿过具有黑矩阵涂料的部位，光线经过色阻30后经色阻30过滤，只留下特定颜色的光。
具体地，基板衬底10透明，能够透过可光电。
由于色阻30处于彩膜基板的最外层，色阻30在制备过程中未能完全释放的水份还留存在色阻30中，或者，彩膜基板制作完成后的存放过程中，色阻30也会从空气中吸收一定量的水份，透明导电薄膜50位于基板衬底10与色阻30之间的方式使得彩膜基板在后续的热制程中能够自由释放其中的水份，不受透明导电薄膜50的阻碍，因此，不会存在水汽形成的气泡出现在彩膜基板的成品中。
本发明还提出一种显示屏，所述显示屏包括如上所述的任一项彩膜基板。所述显示屏还包括液晶(图中未标示)及阵列基板(图中未标示)，所述液晶位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，光从所述阵列基板一侧经液晶传播至彩膜基板，并透过色阻30传出彩膜基板。所述彩膜基板还包括隔垫物40，所述隔垫物40设置于所述彩膜基板的主体上，以支撑容纳液晶的空间。
在本实施例中，彩膜基板位于液晶层的出光侧，阵列基板位于液晶层的入光侧，彩膜基板与阵列基板上各有一公共电极，两个公共电极通电后，液晶在电场的作用下发生偏转，当光从所述阵列基板一侧经液晶传播至彩膜基板时，液晶的“光阀”特性调制穿过液晶层光线的透过率变化，光从液晶层射入彩膜基板时，彩膜基板中对光线进行过滤分光，最终使显示屏实现画面显示。
而隔垫物40设置于彩膜基板的主体上，维持阵列基板与彩膜基板间的间隙，支撑起容纳液晶的空间，使得液晶盒厚稳定。
由于彩膜基板的成品中不存在水汽形成的气泡，因此，显示屏上不会出现气泡点影响显示效果，能够进一步保证显示屏的生产质量。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种彩膜基板的制备工艺，其特征在于，所述彩膜基板的制备工艺包括如下步骤：
在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵；
在所述透明导电薄膜或者黑矩阵上涂布色阻形成像素单元。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备工艺，其特征在于，所述在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵的步骤包括：
在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层；
在透明导电薄膜层上通过涂布操作形成黑矩阵。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制备工艺，其特征在于，所述在基板衬底上通过溅射制程形成透明导电薄膜层及通过涂布操作形成黑矩阵的步骤包括：
在基板衬底上通过涂布操作形成黑矩阵；
在黑矩阵上通过溅射制程形成透明导电薄膜层。
4.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板通过如权利要求1-3任一项所述的彩膜基板的制备工艺制备而成，所述彩膜基板位于显示器中液晶层的出光侧，所述彩膜基板包括：
基板衬底、透明导电薄膜及色阻，所述透明导电薄膜及色阻均设置在所述基板衬底上，其中所述透明导电薄膜位于所述基板衬底与所述色阻之间，且所述透明导电薄膜至少覆盖所述色阻围成的区域。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述透明导电薄膜与所述色阻之间，所述色阻涂布在所述黑矩阵上。
6.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述透明导电薄膜与所述基板衬底之间，所述色阻涂布在所述透明导电薄膜上。
7.根据权利要求5或6所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻包括红、绿、蓝三种基色色阻，或所述色阻包括红、绿、蓝及黄四种基色色阻，或所述色阻包括红、绿、蓝及白四种基色色阻。
8.一种显示屏，其特征在于，包括如权利要求4-7任一项所述的彩膜基板。
9.根据权利要求8所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏还包括液晶及阵列基板，所述液晶位于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，光从所述阵列基板一侧经液晶传播至彩膜基板，并透过色阻传出彩膜基板。
10.根据权利要求9所述的显示屏，其特征在于，所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物设置于所述彩膜基板的主体上。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811478019.1A CN109387976A (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏 |
| US17/044,725 US20210149244A1 (en) | 2018-12-04 | 2018-12-19 | Preparation process of color film substrate, color film substrate thereof, and display device |
| PCT/CN2018/121902 WO2020113682A1 (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-19 | 一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201811478019.1A CN109387976A (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109387976A true CN109387976A (zh) | 2019-02-26 |
Family
ID=65429857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201811478019.1A Pending CN109387976A (zh) | 2018-12-04 | 2018-12-04 | 一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210149244A1 (zh) |
| CN (1) | CN109387976A (zh) |
| WO (1) | WO2020113682A1 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114509889A (zh) * | 2022-02-08 | 2022-05-17 | 武汉华星光电技术有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006106164A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板及びその製造方法 |
| CN103424942A (zh) * | 2013-08-30 | 2013-12-04 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 彩膜基板及其制备方法、显示装置 |
| EP2749932A1 (en) * | 2012-12-31 | 2014-07-02 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Touch panel and touch display device |
| CN103984164A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-08-13 | 昆山龙腾光电有限公司 | 液晶显示装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20070121126A (ko) * | 2006-06-21 | 2007-12-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치 |
| KR20080043428A (ko) * | 2006-11-14 | 2008-05-19 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치 |
| CN101702040A (zh) * | 2009-11-16 | 2010-05-05 | 深圳莱宝高科技股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制造方法 |
| JP5659768B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-01-28 | 凸版印刷株式会社 | 斜め電界液晶表示装置 |
| CN104614893A (zh) * | 2015-03-03 | 2015-05-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板及其制作方法、显示装置 |
| CN104730607A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-06-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩色滤光片及其制作方法、显示装置 |
-
2018
- 2018-12-04 CN CN201811478019.1A patent/CN109387976A/zh active Pending
- 2018-12-19 WO PCT/CN2018/121902 patent/WO2020113682A1/zh active Application Filing
- 2018-12-19 US US17/044,725 patent/US20210149244A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006106164A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Sharp Corp | カラーフィルタ基板及びその製造方法 |
| EP2749932A1 (en) * | 2012-12-31 | 2014-07-02 | Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. | Touch panel and touch display device |
| CN103424942A (zh) * | 2013-08-30 | 2013-12-04 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 彩膜基板及其制备方法、显示装置 |
| CN103984164A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-08-13 | 昆山龙腾光电有限公司 | 液晶显示装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114509889A (zh) * | 2022-02-08 | 2022-05-17 | 武汉华星光电技术有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2020113682A1 (zh) | 2020-06-11 |
| US20210149244A1 (en) | 2021-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN205862051U (zh) | 一种彩膜基板及显示装置 | |
| CN107039352B (zh) | Tft基板的制作方法及tft基板 | |
| CN103033981B (zh) | 彩色滤光片基板及其制造方法和液晶面板 | |
| US9709864B2 (en) | Array substrate and its manufacturing method and display device | |
| US7713596B2 (en) | Light shading structure, and color filter substrate, active device array substrate, liquid crystal display panel thereof | |
| CN104749843B (zh) | 阵列基板及其制作方法、驱动方法及显示装置 | |
| CN104330917B (zh) | 一种彩膜基板及显示装置 | |
| CN104020902B (zh) | 一种触摸屏及显示装置 | |
| WO2015043219A1 (zh) | 彩膜基板、触控显示装置及彩膜基板的制作方法 | |
| CN103901659B (zh) | 用于ips模式液晶显示面板的滤光板、液晶显示装置 | |
| CN105655290B (zh) | 液晶显示面板、阵列基板及其制造方法 | |
| JP2003207788A (ja) | 液晶表示装置の柱状スペーサー形成方法 | |
| CN102213857A (zh) | 一种彩色滤光基板及其制作方法 | |
| CN202013464U (zh) | 一种彩膜基板、液晶面板及显示设备 | |
| US20190265544A1 (en) | Mask plate, display substrate and method for manufacturing the same, display panel and display device | |
| CN103424942A (zh) | 彩膜基板及其制备方法、显示装置 | |
| CN102955288A (zh) | 一种彩膜基板、制作方法及液晶触摸显示装置 | |
| CN108572474A (zh) | 触控显示面板及其制作方法 | |
| CN104571716B (zh) | 上基板及制备方法、触控显示面板及制备方法 | |
| CN108227293A (zh) | 一种显示基板、其制备方法及显示装置 | |
| CN105974643A (zh) | 彩膜基板及其制造方法 | |
| CN106773417A (zh) | 显示装置 | |
| CN109387976A (zh) | 一种彩膜基板的制备工艺、彩膜基板及显示屏 | |
| CN105467661A (zh) | 一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置 | |
| US20070019135A1 (en) | Color filter substrate, liquid crystal display panel including the same and manufacture method thereof |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190226 |