CN108572474A - 触控显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触控显示面板及其制作方法，该制作方法包括先在一基板上形成触控层，所述触控层包括遮光层、触控图案层、桥接层、周围走线和绑定垫；再在所述触控层上形成彩膜层，以形成彩膜触控基板，所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻以及保护层；最后将所述彩膜触控基板、薄膜晶体管基板与液晶或OLED显示层进行封装,以形成所述触控显示面板。本发明通过在彩膜基板上先制作触控层再制作彩膜层，使得彩膜工艺与触控工艺互不干涉，提高了触控显示面板的成品率；另外，桥接层与周围走线和绑定垫通过一次构图工艺制成，简化了制作工艺，节约了制造成本。

Description

触控显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板及其制作方法。
背景技术
随着信息时代的发展及生活节奏的加快，触控技术由于其人性化的设计及简单快捷的输入等特点，已逐渐取代传统的鼠标和键盘，广泛地应用到各种电子产品中，其中，电容式触摸屏由于具有反应速度快，灵敏度高，可靠性佳等优点而被广泛使用。
根据触控感测层在显示面板中的设置方式不同，触控显示面板分为外挂式(Addon Mode)、内嵌式(In-cell)和外嵌式(On-cell)等结构。内嵌式触摸屏将触控功能整合于显示屏内，因而能够有效的减少整个显示器的厚度并简化生产工艺，使得产品更加轻薄，生产成本更低。对于内嵌式(in-cell)触摸屏，现有技术通常是将触摸屏结构直接设置在阵列基板上，主要是在阵列基板中将用于传输显示信号的一些结构部件复用为触控电极，例如，将数据线和扫描线、或者是将公共光阻层复用为触控电极，然后控制这些结构部件分时地传递显示信号和触控信号。
这种结构的内嵌式触摸屏：在结构上，由于触控电极是复用了用于传输显示信号的结构部件，阵列基板上结构部件的集成度很高，其制备工艺难度很大；其次，由于结构部件的集成度很高，触控信号的稳定性也难以控制、集成的触控结构对显示性能的干扰也显得更加严重；另外，在信号的驱动方面，采用分时驱动的方式，对驱动芯片的要求极为苛刻，大幅度增加了成本。
综上所述，现有的内嵌式(in-cell)触控显示面板，存在触控信号不稳定，触控结构干扰其显示性能的问题，进而导致显示面板的成品率不高。
发明内容
本发明提供一种触控显示面板的制作方法，以解决现有的触控显示面板，由于触控信号难以控制，且触控结构对显示性能干扰严重，进而影响显示的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种触控显示面板的制作方法，包括：
步骤S 10，提供一基板，在所述基板上形成触控层，其中，所述触控层包括遮光层，触控图案层，绝缘层，桥接层，周围走线、和绑定垫；
步骤S20，在所述触控层上形成平坦层，所述平坦层覆盖所述触控图案层和所述桥接层；
步骤S30，在所述平坦层上形成彩膜层，以形成触控彩膜基板；所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻、保护层和/或光阻层；
步骤S40，将所述触控彩膜基板、薄膜晶体管基板和显示层进行封装，以形成所述触控显示面板。
根据本发明一优选实施例，所述桥接层采用ITO或者石墨烯制备；所述周围走线和所述绑定垫采用金属材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述桥接层、所述周围走线和所述绑定垫均采用同种金属材料制备。
根据本发明一优选实施例，通过一次构图工艺形成所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫。
根据本发明一优选实施例，所述桥接层的宽度小于或等于所述黑色矩阵的宽度。
根据本发明一优选实施例，所述触控图案层采用ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)或者石墨烯等透光性良好的材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述绝缘层采用氮化硅材料或者有机绝缘材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述平坦层采用透明有机材料制备。
本发明还提供一种触控显示面板，包括薄膜晶体管基板，显示层，触控彩膜基板，其中，所述触控彩膜基板包括：基板；触控层，形成于所述基板之上，所述触控层包括遮光层，触控图案层，绝缘层，桥接层，周围走线、和绑定垫；平坦层，形成于所述触控层之上，所述平坦层覆盖所述触控图案层和所述桥接层；彩膜层，形成于所述平坦层之上，所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻、保护层和/或光阻层。
根据本发明一优选实施例，所述桥接层采用ITO或者石墨烯制备；所述周围走线和所述绑定垫采用金属材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述桥接层、所述周围走线和所述绑定垫均采用同种金属材料制备。
根据本发明一优选实施例，通过一次构图工艺形成所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫。
根据本发明一优选实施例，所述桥接层的宽度小于或等于所述黑色矩阵的宽度。
根据本发明一优选实施例，所述触控图案层采用ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)或者石墨烯等透光性良好的材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述绝缘层采用氮化硅材料或者有机绝缘材料制备。
根据本发明一优选实施例，所述平坦层采用透明有机材料制备。
本发明的有益效果为：本发明提供的触控显示面板及其制作方法，通过先在彩膜基板上制作触控层再制作彩膜层，使得彩膜工艺与触控工艺互不干涉，提高了触控显示面板的成品率；另外，桥接层与周围走线和绑定垫通过一次构图工艺制成，简化了制作工艺，节约了制造成本。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明优选实施例一的触控显示面板的制作方法的步骤流程图；
图2～图8为本发明优选实施例一的触控显示面板的结构示意图；
图9为本发明优选实施例二的触控显示面板的制作方法的步骤流程图；
图10为本发明优选实施例二的触控显示面板的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有的触控显示面板，由于将触控功能设置在阵列基板上，触控信号和传输显示信号共用一部分结构，导致触控信号难以控制，触控结构会干扰显示性能的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。
如图1所示，图1为本优选实施例的触控显示面板的制作方法步骤流程图，该方法包括：
步骤S10，提供一基板11，在所述基板11上形成触控层，其中，所述触控层包括遮光层12，触控图案层13，绝缘层14，桥接层15，周围走线16、和绑定垫17，如图2所示，图2为本实施例所述步骤S10完成后的所述触控层的结构示意图；
所述步骤S10具体包括以下步骤：
步骤S101，在所述基板11的表面边缘形成所述遮光层12；
首先，在所述基板11的表面沉积第一膜层，然后对所述第一膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，在所述基板11上形成所述遮光层12，所述遮光层12围绕所述基板11的边缘制作，用于遮挡所述周边走线16；所述第一膜层的材料为黑色遮光材料；
步骤S102，在所述基板表面形成所述触控图案层13，所述触控图案层13包括第一触控电极131和第二触控电极132；
如图3所示，首先，在所述基板11的表面沉积第二膜层，然后，对所述第二膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述触控图案层13，即所述第一触控电极131和所述第二触控电极132，所述遮光层12围绕所述触控图案层13；由于所述遮光层13需要具有透光的特性，所以所述第二膜层的材料为ITO，也可以为石墨烯等透光性良好的材料；
步骤S103，在所述触控图案层13上形成所述绝缘层14；
如图4所示，首先，在所述触控图案层上沉积第三膜层，然后对所述第三膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述绝缘层14，在所述绝缘层14中形成第一接触孔141和第二接触孔142；所述绝缘层14对透光性也有一定的要求，所述第三膜层采用氮化硅制作成透明薄膜，也可采用有机绝缘材料制作；
步骤S104，在所述绝缘层14上形成所述桥接层15；
首先，在所述绝缘层14表面沉积第四膜层，然后，对所述第四膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述桥接层15，所述桥接层15同样对透光性有要求，所述第四膜层材料为ITO,也可以为石墨烯等透光性良好的材料；
其中，所述桥接层15通过所述第一接触孔141和所述第二接触孔142与所述触控图案层13连接，每一所述桥接层15连接两个同一行的所述第一触控电极131和两个同一列的所述第二触控电极132，所述桥接层间隔一列所述第二触控电极132设置，请同时参照图2和图5；
步骤S105，在所述遮光层12表面形成所述周围走线16和所述绑定垫17；
首先，在所述遮光层12表面沉积一层金属层，再对所述金属层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述周围走线16和所述绑定垫17，所述周围走线16用以连接同一行的所述第一触控电极131，所述周围走线16用以连接同一列的所述第二触控电极132，所述绑定垫17用以连接每一周围走线16；
步骤S20，在所述触控层上形成平坦层18，所述平坦层18覆盖所述触控图案层13和所述桥接层15；
如图6所示，首先，在所述桥接层15上沉积第五膜层，然后，对所述第五膜层进行曝光、显影等图案化处理后，以形成所述平坦层18，所述平坦层18对透光性也有要求，所述第五膜层采用透明有机材料制作；
其中，所述平坦层18覆盖所述桥接层15和所述触控图案层13，所述平坦层18用以保护所述触控层，以及为所述彩膜层提供一平坦的基底。
步骤S30，在所述平坦层18上形成彩膜层，以形成触控彩膜基板；所述彩膜层包括黑色矩阵19、彩色色阻20、保护层21以及光阻层22；
如图7所示，图7为所述触控层与所述彩膜层的位置示意图，所述彩膜层位于所述触控层下方，为了显示触控层与彩膜层位置关系，这里将所述触控层设置为显层示意。
所述步骤S30具体包括以下步骤：
步骤S301，在所述平坦层18表面形成所述黑色矩阵19；
首先，在所述平坦层18表面沉积黑色矩阵层，再对所述黑色矩阵层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，在所述平坦层18表面形成所述黑色矩阵19；所述黑色矩阵19用以遮盖相邻像素之间的区域，防止漏光现象产生；
步骤S302，在所述平坦层18表面形成所述彩色色阻20；
首先，在所述平坦层18表面沉积彩色色阻层，然后对所述彩色色阻层进行曝光、显影等图案化处理后，在所述平坦层18上形成红、绿、蓝等所述彩色色阻20；其中，所述彩色色阻20用以将白光转换为彩色光，以显示相应的色彩图像，所述黑色矩阵19设置在相邻的所述彩色色阻20之间；
步骤S303，在所述彩色色阻20上形成所述保护层21；
在所述彩色色阻20上形成所述保护层21，所述保护层21覆盖所述黑色矩阵19和所述彩色色阻20；
步骤S304，在所述保护层21表面形成所述光阻层22；
如图8所示，完成上述步骤S304之后，即完成了所述触控彩膜基板的制作。
步骤S40，对所述触控彩膜基板、薄膜晶体管基板和液晶进行封装，以形成所述触控显示面板；
具体地，现将所述彩膜基板与所述薄膜晶体管进行对盒处理，以形成相应的液晶盒，将所述液晶注入所述液晶盒中，即完成了本优选实施例的触控显示面板的制作方法的制作过程。
如图9所示，图9为本优选实施例的触控显示面板的制作方法流程图，本优选实施例的触控显示面板的制作方法包括：
步骤S10，提供一基板11，在所述基板11上形成触控层，其中，所述触控层包括遮光层12，触控图案层13，绝缘层14，桥接层15，周围走线16、和绑定垫17；
所述步骤S10具体包括以下步骤：
步骤S101，在所述基板11的表面边缘形成所述遮光层12；
首先，在所述基板11的表面沉积第一膜层，然后对所述第一膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，在所述基板11上形成所述遮光层12，所述遮光层12围绕所述基板11的边缘制作，用于遮挡所述周边走线16；所述第一膜层的材料为黑色遮光材料；
步骤S102，在所述基板表面形成所述触控图案层13，所述触控图案层13包括第一触控电极131和第二触控电极132；
请参考上述实施例的图2，首先，在所述基板11的表面沉积第二膜层，然后，对所述第二膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述触控图案层13，即所述第一触控电极131和所述第二触控电极132，所述遮光层12围绕所述触控图案层13；由于所述遮光层13需要具有透光的特性，所以所述第二膜层的材料为ITO，也可以为石墨烯等透光性良好的材料；
步骤S103，在所述触控图案层13上形成所述绝缘层14；
请参考上述实施例的图4，首先，在所述触控图案层上沉积第三膜层，然后对所述第三膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述绝缘层14，在所述绝缘层14中形成第一接触孔141和第二接触孔142；所述绝缘层14对透光性也有一定的要求，所述第三膜层采用氮化硅制作成透明薄膜，也可采用有机绝缘材料制作；
步骤S104，在所述绝缘层上形成所述桥接层15、所述周围走线16和所述绑定垫17；
请参考上述实施例的图2和图5，首先，在所述绝缘层表面沉积第四膜层，然后，对所述第四膜层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，以形成所述桥接层15、所述周围走线16以及所述绑定垫17，所述第四膜层采用金属材料制备；
其中，所述桥接层15通过所述第一接触孔141和所述第二接触孔142与所述触控图案层13连接，每一桥接层连接两个同一行的所述第一触控电极131和两个同一列的所述第二触控电极132，所述桥接层间隔一列所述第二触控电极132设置；
所述周围走线16用以连接同一行的所述第一触控电极131，所述周围走线16用以连接同一列的所述第二触控电极132，所述绑定垫17用以连接每一周围走线16；
步骤S20，在所述触控层上形成平坦层18，所述平坦层18覆盖所述触控图案层13和所述桥接层15；
首先，在所述桥接层15上沉积第五膜层，然后，对所述第五膜层进行曝光、显影等图案化处理后，以形成所述平坦层18，所述平坦层18对透光性也有要求，所述第五膜层采用透明有机材料制作；
其中，所述平坦层18覆盖所述桥接层15和所述触控图案层13，所述平坦层18用以保护所述触控层，以及为所述彩膜层提供一平坦的基底。
步骤S30，在所述平坦层18上形成彩膜层，以形成触控彩膜基板；所述彩膜层包括黑色矩阵19、彩色色阻20、保护层21以及光阻层22，请参考上述实施例的图7；
所述步骤S30具体包括以下步骤：
步骤S301，在所述平坦层18表面形成所述黑色矩阵19；
如图10所示，首先，在所述平坦层18表面沉积黑色矩阵层，再对所述黑色矩阵层进行曝光、显影、蚀刻、剥离等图案化处理后，在所述平坦层18表面形成所述黑色矩阵19；
由于所述桥接层15采用金属制作，所述金属具有不透光和反光的特性，所以所述桥接层15位于所述黑色矩阵19的正投影之中，即所述黑色矩阵19的宽度大于所述桥接层15的宽度，所述黑色矩阵19具有吸光特性，可减少光线在所述桥接层15上的反射作用，也用以遮盖相邻像素之间的区域，防止漏光现象产生；
步骤S302，在所述平坦层18表面形成所述彩色色阻20；
首先，在所述平坦层18表面沉积彩色色阻层，然后对所述彩色色阻层进行曝光、显影等图案化处理后，在所述平坦层18上形成红、绿、蓝等所述彩色色阻20；其中，所述彩色色阻20用以将白光转换为彩色光，以显示相应的色彩图像，所述黑色矩阵19设置在相邻的所述彩色色阻20之间；
步骤S303，在所述彩色色阻20上形成所述保护层21；
在所述彩色色阻20上形成所述保护层21，所述保护层21覆盖所述黑色矩阵19和所述彩色色阻20；
完成上述步骤S303之后，即完成了所述触控彩膜基板的制作。
步骤S40，对所述触控彩膜基板、薄膜晶体管基板和OLED显示层进行封装，以形成所述触控显示面板。
请参考上述实施例一的图8，本发明提供一种触控显示面板，包括薄膜晶体管基板，液晶层，触控彩膜基板，其中，所述触控彩膜基板包括：一基板11；触控层，形成于所述基板11之上，所述触控层包括遮光层12，触控图案层13，绝缘层14，桥接层15，周围走线16和绑定垫；平坦层18，形成于所述触控层之上，所述平坦层18覆盖所述触控图案层13和所述桥接层15；彩膜层，形成于所述平坦层18之上，所述彩膜层包括黑色矩阵19、彩色色阻20、保护层21以及光阻层22。
其中，所述桥接层15、所述周围走线16和所述绑定垫均采用同种金属材料制备；通过一次构图工艺形成所述桥接层15、所述周围走线16以及所述绑定垫。
请参考上述实施例二的图10，本发明还提供一种触控显示面板，包括薄膜晶体管基板，OLED显示层，触控彩膜基板，其中，所述触控彩膜基板包括：一基板11；触控层，形成于所述基板11之上，所述触控层包括遮光层12，触控图案层13，绝缘层14，桥接层15，周围走线16和绑定垫；平坦层18，形成于所述触控层之上，所述平坦层18覆盖所述触控图案层13和所述桥接层15；彩膜层，形成于所述平坦层18之上，所述彩膜层包括黑色矩阵19，彩色色阻20以及保护层21；
其中，所述桥接层15、所述周围走线16以及所述绑定垫通过同一构图工艺形成；所述桥接层15、所述周围走线16以及所述绑定垫采用金属材料制备。
有益效果本发明提供的触控显示面板的制作方法，通过先在彩膜基板上制作触控层再制作彩膜层，使得彩膜工艺与触控工艺互不干涉，提高了触控显示面板的成品率；另外，桥接层与周围走线和绑定垫通过一次构图工艺制成，简化了制作工艺，节约了制造成本。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种触控显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
步骤S10，提供一基板，在所述基板上形成触控层，其中，所述触控层包括遮光层，触控图案层，绝缘层，桥接层，周围走线、和绑定垫；
步骤S20，在所述触控层上形成平坦层，所述平坦层覆盖所述触控图案层和所述桥接层；
步骤S30，在所述平坦层上形成彩膜层，以形成触控彩膜基板；所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻、保护层和/或光阻层；
步骤S40，将所述触控彩膜基板、薄膜晶体管基板和显示层进行封装，以形成所述触控显示面板。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述桥接层采用ITO或者石墨烯制备；所述周围走线和所述绑定垫采用金属材料制备。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫均采用同种金属材料制备。
4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，通过一次构图工艺形成所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述桥接层的宽度小于或等于所述黑色矩阵的宽度。
6.一种触控显示面板，包括薄膜晶体管基板，显示层，触控彩膜基板，其特征在于，所述触控彩膜基板包括：
基板；
触控层，形成于所述基板之上，所述触控层包括遮光层，触控图案层，绝缘层，桥接层，周围走线和绑定垫；
平坦层，形成于所述触控层之上，所述平坦层覆盖所述触控图案层和所述桥接层；
彩膜层，形成于所述平坦层之上，所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻、保护层和/或光阻层。
7.根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，所述桥接层采用ITO或者石墨烯制备；所述周围走线和所述绑定垫采用金属材料制备。
8.根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫均采用同种金属材料制备。
9.根据权利要求8所述的触控显示面板，其特征在于，通过一次构图工艺形成所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫。
10.根据权利要求9所述的触控显示面板，其特征在于，所述桥接层的宽度小于或等于所述黑色矩阵的宽度。
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