CN106201043A - 触控结构及其应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种触控结构及其应用，该触控结构包括：透光基板与至少一个感测单元(touch sensing unit)，设于透光基板上，且各此感测单元包括第一图案化电极、第二图案化电极、导电架桥以及图案化遮光层。第二图案化电极被第一图案化电极至少分隔成第一部分以及第二部分。导电架桥电连接第一部分和第二部分，并与第一图案化电极隔离。图案化遮光层位于导电架桥与内侧表面之间，且在透光基板的垂直投影方向上与导电架桥至少部分重叠。

Description

触控结构及其应用
技术领域
本发明涉及一种触控结构及其应用，且特别是涉及一种具有导桥遮光层的触控结构及其应用。
背景技术
随着显示科技的进步，目前触控面板已经广泛应用于各显示装置。触控面板提供使用者直觉式操作功能，使用者可以直接以手势下达指令，也可直接点选画面上的选项来下达指令。
以电容式触控面板为例，其通常包括一基板与在该基板上沿第一轴向分布的第一感测电极和沿第二轴向分布的第二感测电极。两相邻第一感测电极之间以一导线连接。两相邻第二感测电极分别置于该导线的两侧边，而以横跨导线的桥接线(bridge)连接彼此，其中桥接线与导线之间彼此电性绝缘。由于，这些桥接线通常是由反射率偏高的金属材料所制成。因此，当使用上述具有触控功能的显示装置时，这些桥接线会反射从外界而来的光线，以至于触控显示装置的荧幕可能会出现许多亮点，从而影响画面品质。
因此，仍有需要提供一种先进的触控结构及其应用，以改善现有技术所面临的问题。
发明内容
本发明的一个方面是有关于一种触控结构，包括：透光基板至少一个感测单元(touch sensing unit)，设于透光基板上，且此感测单元包括第一图案化电极、第二图案化电极导电架桥以及图案化遮光层。第二图案化电极被第一图案化电极至少分隔成第一部分以及第二部分。导电架桥电连接第一部分和第二部分，并与第一图案化电极在空间上彼此隔离(spatially insulated)。图案化遮光层位于导电架桥与透光基板之间，且在透光基板的垂直投影方向上与导电架桥至少部分重叠。
本发明的另一个方面是有关于一种触控显示装置，其包括先前所述的触控结构以及位于触控结构的一侧的显示面板。
本发明的另一个方面是有关于一种图案显示结构包括：具有图案显示表面的金属层、感光遮光层以及位于感光遮光层上的覆盖玻璃基板。感光遮光层位于金属表面上，且具有多个开口将一部分金属表面暴露于外，用于在感光遮光层中定义出多个显示图案以及位于显示图案中的多个遮光部，其中每一个遮光部的径向尺寸实质小于100微米(μm)。
根据上述，本发明的实施例是在提供一种触控结构以及应用该触控结构的触控显示装置。其是利用在透光基板(玻璃覆盖基板)的内侧表面与触控感测电极的导电架桥之间提供一图案化遮光层，使其与导电架桥至少部分重叠，来遮蔽穿过透光基板进入触控结构的外界光线，通过调整图案化遮光层与导电架桥的重叠位置和重叠尺寸，来改善因导电架桥反射外界光线，而影响画面品质的问题。
附图说明
图1A至图1E为本发明的一实施例所绘示的一系列形成触控结构100的制作工艺结构局部区域的剖面示意图；
图2A为本发明的一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构的部分结构俯视图；
图2B为本发明的另一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构的部分结构俯视图；
图2C为本发明的再一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构的部分结构俯视图；
图3A为本发明的又一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构的部分结构俯视图；
图3B为图3A的切线S3所绘示的触控结构的部分结构剖面示意图；
图4A为本发明的又另一实施例所绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构的部分结构俯视图；
图4B为沿着图4A的切线S4所绘示的触控结构的部分结构剖面示意图；
图5为本发明的又一实施例所绘示的触控结构的部分结构剖面示意图；
图6为本发明的又另一实施例所绘示的触控结构的部分结构剖面示意图；
图7A至图7D为本发明的又一实施例所绘示的一系列形成触控结构的制作工艺结构局部区域的剖面示意图；
图8为分别根据本发明的另一实施例绘示通过图7A至图7D所述方法制备而成的触控显示装置的部分结构剖面示意图；
图9为分别根据本发明的再一实施例绘示通过图7A至图7D所述方法制备而成的触控显示装置的部分结构剖视图；
图10为本发明的一实施例所绘示的一种具有触控功能的触控显示装置的示意图；
图11为本发明的一实施例绘示触控显示装置的结构分解示意图；
图12A为本发明的一实施例所绘示的一种图案显示结构的示意图；
图12B为沿着图12A的切线S12所绘示的图案显示结构局部区域的结构剖视图。
符号说明
10、70、80、90：触控显示装置
11、71：显示面板 11a：出光面
100：触控结构 100a：感测单元
101：透光基板 101a：触控表面
101b：透光基板的内侧表面
102：图案化遮光层 103：图案化电极层
103a：第一图案化电极 103b：第二图案化电极
103b1：第二图案化电极的第一部分
103b2：第二图案化电极的第二部分
104：介电层 105：图案化金属层
105a：导电架桥 106：保护层
107：彩色遮光层 111：次像素
111a：次像素的长轴 120：图案显示结构
121a：金属表面 121：金属层
122：感光遮光层 122a：遮光部
122b：开口 123：覆盖板
124：显示图案
200A、200B、200C：触控结构
300：触控结构 302：图案化遮光层
302a1、302a2、302a3、302a4、302a5：遮光部
302b：开口 400：触控结构
402：图案化遮光层 403a：第一图案化电极
403b：第二图案化电极 500：触控结构
502：图案化遮光层 503a：第一图案化电极
503b：第二图案化电极 503c：间隙
503b1：第二图案化电极的第一部分
503b2：第二图案化电极的第二部分
505a：导电架桥 600：触控结构
602：图案化遮光层
602a1、602a2、602a3、602a4、602a5：遮光部
603a：第一图案化电极 603b：第二图案化电极
700：触控结构 702：图案化遮光层
703：图案化电极层 703a：第一图案化电极
703b：第二图案化电极
703b1：第二图案化电极的第一部分
703b2：第二图案化电极的第二部分
705：图案化金属层 705a：导电架桥
711：透明基板 711a：透明基板的表面
800：触控结构 802：图案化遮光层
802a1、802a2、802a3、802a4、802a5：遮光部
900：触控结构 902：图案化遮光层
1052：金属走线 1022：遮光图案
L：外界光线 θ：非平角
S3、S4、S12：切线 D1：第一长度
D2：第二长度 W1：第一宽度
W2：第二宽度
P：透光基板的垂直投影方向
具体实施方式
本发明是提供一种应用于显示装置中的触控结构及其应用，可以减少触控感测面板反射从外界而来的光线，达到改善触控显示装置的显示品质的效果。为了对本发明的上述实施例及其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举数个优选实施例，并配合所附的附图作详细说明。
但必须注意的是，这些特定的实施案例与方法，并非用以限定本发明。本发明仍可采用其他特征、元件、方法及参数来加以实施。优选实施例的提出，仅用以例示本发明的技术特征，并非用以限定本发明的权利要求。该技术领域中具有通常知识者，将可根据以下说明书的描述，在不脱离本发明的精神范围内，作均等的修饰与变化。在不同实施例与附图之中，相同的元件，将以相同的元件符号加以表示。
请参照图1A至图1E，图1A至图1E是根据本发明的一实施例所绘示的一系列形成触控结构100的制作工艺结构局部区域的剖面示意图。其中形成触控结构100的方法包含下述步骤：首先提供一个透光基板101(如图1A所绘示)。在本发明的一些实施例之中，透光基板101可以是一种用来提供使用者直接触碰或点选画面的可透光覆盖基板(cover lens)。换句话说，透光基板101可以是一般的玻璃基板、无碱玻璃基板(例如LCD基板)、或是以物理或是化学方式处理后的强化玻璃基板(例如玻璃覆盖板cover glass)。透光基板101也可以是塑胶基板例如材质是采用聚对苯二甲二乙酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚环烯烃高分子(COP)…等。在本实施例之中，透光基板101具有可与外界环境直接触或让使用者直接碰触的触控表面101a以及与触控表面101a相对的内侧表面101b。
接着，在透光基板101的内侧表面101b上形成图案化遮光层102(如图1B所绘示)。在本发明的一些实施例之中，图案化遮光层102可以是一种图案化的感光层(例如是感光性的光致抗蚀剂材料)，也可以是油墨材料。在本实施例之中，可利用涂布、压印或其他合适的方式，先在透光基板101的内侧表面101b上形成光致抗蚀剂层，再通过光掩模显影来移除一部分光致抗蚀剂层，用于将一部分透光基板101的内侧表面101b暴露出来，形成如图1B所绘示的图案化遮光层102。在本实施例中，形成图案化遮光层102的同时，可在同一道制作工艺中以剩余的光致抗蚀剂层在靠近透光基板101边缘的位置上形成可以遮蔽形成于透光基板101边缘的金属走线1052的遮光图案1022(详细的实施方式请参见下述实施例)。因此，制作工艺中除了形成图案化遮光层102之外，不用再额外加一道制作工艺制作另一个遮光层来遮蔽金属走线1052。换句话说，图案化遮光层102与遮光图案1022可以同一道制作工艺一起制作完成，节省制造工序与成本。
然后，在图案化遮光层102上形成至少一层图案化电极层103。在本发明的一些实施例之中，图案化电极层103是一种由薄层金属、金属氮化物材质，例如氮化铝金属化合物(Al-X-N)，金属氧化物，例如氧化铟锡(Indium TinOxides，ITO)或氧化铟锌(Indium Zinc Oxides，IZO)，或是石墨烯、纳米银丝…等所构成的透明电极层。其中，图案化电极层103包括至少一个第一图案化电极103a和至少一个第二图案化电极103b。且第二图案化电极103b被第一图案化电极103a至少分隔成第一部分103b1以及第二部分103b2(如图1C所绘示为图案化电极层103的局部区域)。
虽然，在本实施例之中，第一图案化电极103a和第二图案化电极103b位于同一图案化电极层103中，但在本发明的其他实施例中，第一图案化电极103a和第二图案化电极103b可以分别位于不同平面上的不同图案化电极层中(未绘示)。
之后，在图案化电极层103上形成图案化的介电层104，以覆盖至少部分的第一图案化电极103a和至少部分的第二图案化电极103b，并将第二图案化电极103b的第一部分103b1和第二部分103b2部分地暴露出来(如图1D所绘示)。
在形成介电层104之后，再于介电层104上方形成图案化金属层105，使图案化金属层105通过介电层104与第一图案化电极103a隔离，且使一部分的图案化金属层105与第二图案化电极103b暴露在外的第一部分103b1和第二部分103b2电连接，用于定义出跨接于第二图案化电极103b的第一部分103b1和第二部分103b2之间的导电架桥105a。换言之，导电架桥105a导通了第二图案化电极103b的第一部分103b1和第二部分103b2，并且通过介电层104在空间上与第一图案化电极103a彼此隔离，进而形成至少一个感测单元(touch sensing unit)100a。其中，导电架桥105a在透光基板101的垂直投影方向P(即沿着透光基板101的厚度方向)上与图案化遮光层102至少部分重叠。
另外在本实施例中，形成于遮光图案1022上方的一部分图案化金属层105，可以做为触控结构100的金属走线1052使用。换言之，图案化金属层105与触控结构100的金属走线1052可以在同一道金属层图案化制作工艺中形成。但在本发明的其他实施例中，并不以此为限。
后续，经由一连串的后段制作工艺(downstream process)，例如可以是制作保护层、功能性光学膜层、连接电路板、组装…等制作工艺，完成触控结构100的制备，如图1E所绘示，并在图案化金属层105上形成一保护层106。此保护层106可以是有机或是无机的材质。另外，在图案化电极层103与透光基板101之间可以有设置一层或是多层的膜层，材质可以选用有机或是无机的材质，例如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、耐高温有机材料(大于摄氏200度)…等，以提供例如透光率提升或是玻璃强度提升的功能。
在本发明的一些实施例之中，通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构，可通过调整图案化遮光层102与图案化金属层105的导电架桥105a的重叠位置和重叠尺寸，而产生不同的光学效果。
例如请参照图2A，图2A是根据本发明的一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构200A的部分结构俯视图。在本实施例中，沿透光基板101的垂直投影方向P上(俯视)来看，图案化遮光层102的第一长度(D1)与第一宽度(W1)都实质大于或等于导电架桥105a的第二长度(D1)与第二宽度(W2)；且图案化遮光层102与导电架桥105a完全重叠。因此，穿过透光基板101的外界光线L可完全被图案化遮光层102所遮蔽，而不会被导电架桥105a所反射(如图1E所绘示)。
请再参照图2B，图2B是根据本发明的另一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构200B的部分结构俯视图。在本实施例中，图案化遮光层102的长度(第一长度D1)实质等于导电架桥105a的长度(第二长度D2)，但图案化遮光层102的宽度(第一宽度W1)则实质小于导电架桥105a的宽度(第二宽度W2)。虽然图案化遮光层102与导电架桥105a横向部分完全重叠，但穿过透光基板101的外界光线，仍有一部分未被图案化遮光层102所遮蔽，而会被导电架桥105a所反射(未绘示)。在本实施例中，导电架桥105a没有被图案化遮光层102重叠到的俯视面积(roof square)占原本导电架桥105a顶面的俯视面积的比值，可以实质介于40％至70％之间。换句话说，沿透光基板101的垂直投影方向P上来看导电架桥105a与图案化遮光层102，两者的俯视面积不同。
请再参照图2C，图2C是根据本发明的再一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构200C的部分结构俯视图。在本实施例中，图案化遮光层102的长度(第一长度D1)与宽度(第一宽度W1)都实质等于导电架桥105a的长度(第二长度D2)与宽度(第二宽度W2)。不过，由于图案化遮光层102并未与导电架桥105a完全对准，图案化遮光层102的侧边横向偏离导电架桥105a的侧边。因此图案化遮光层102与导电架桥105a二者仅部分重叠。其中，导电架桥105a的顶面未与图案化遮光层102重叠的面积与导电架桥105a的顶面俯视面积的比值，可以实质小于50％。在一优选的实施例中，导电架桥105a的宽度约3～10微米，而图案化遮光层102的侧边横向偏离导电架桥105a的侧边约1.5～5微米。另外，图案化遮光层102的长度与宽度也可以不等于导电架桥105a的长度与宽度，但是仍然有横向的偏移设计，使导电架桥105a顶面俯视面积有部分没有被图案化遮光层102遮住而裸露，裸露面积实质小于50％以内都属于本发明的范围内。补充说明的是，在上述的图2A～图2C的实施例俯视图中，为了清楚起见而省略介电层104没有绘示出来。
请参照图3A和图3B，图3A是根据本发明的又一实施例绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构300的部分结构俯视图。图3B是沿着图3A的切线S3所绘示的触控结构300的部分结构剖面示意图。其中，触控结构300的结构大致与触控结构100类似，差别只在于触控结构300的图案化遮光层302包括至少一个(例如多个)开口302b(也可为间隙)，可将图案化遮光层302区隔成彼此分离的多个遮光部302a1、302a2、302a3、302a4和302a5。
在本实施例中，每一个遮光部302a1、302a2、302a3、302a4和302a5至少都与导电架桥105a部分重叠。不过由于遮光部302a1、302a2、302a3、302a4和302a5并未遮蔽整个导电架桥105a。因此，穿过透光基板101的外界光线L，仍有一部分会被导电架桥105a所反射。在本实施例中，导电架桥105a顶面未与图案化遮光层302重叠的俯视面积与导电架桥105a的顶面俯视面积的比值，可以实质介于40％至50％之间(如图3B所绘示)，换句话说，导电架桥105a的裸露面积介于40％至50％之间。
另外，由于图案化遮光层302中具有多个开口302b，因此，在后续形成图案化电极层303时，会有一部分的第一图案化电极303a或一部分的第二图案化电极303b，亦或上述二者，穿过开口302b而与透光基板101的内侧表面101b接触(如图3B所绘示)。同样地，在上述的图3A、图3B的实施例俯视图中，为了清楚起见而省略介电层104没有绘示出来。图案化遮光层302中具有多个开口302b的这种设计，好处是因为有开口302b，所以不会完全遮挡到显示器的子像素，尤其是高分辨率的显示器的子像素，其尺寸大小可能会小于一个图案化遮光层302的大小，本实施例的设计可以确保每一个子像素的光线可以由这些开口302b穿过，避免有些颜色的子像素被完全屏蔽掉。
请参照图4A和图4B，图4A是根据本发明的又另一实施例所绘示通过图1A至图1E所述的方法制备而成的触控结构400的部分结构俯视图。图4B是沿着图4A的切线S4所绘示的触控结构400的部分结构剖面示意图。其中，触控结构400的结构大致与触控结构100类似，差别只在于触控结构400的图案化遮光层402的宽度则实质大于导电架桥105a的宽度，但图案化遮光层402的长度实质小于导电架桥105a的长度(如图4A所绘示)。
在本实施例中，导电架桥105a横向宽度与图案化遮光层402完全重叠而被遮蔽，但导电架桥105a长轴的两端并未与图案化遮光层402重叠。导电架桥105a未与图案化遮光层402重叠的俯视面积与导电架桥105a俯视面积的比值，可以实质介于20％至30％之间。穿过透光基板101的外界光线L，仍有一部分未被图案化遮光层402所遮蔽，而会被导电架桥105a所反射。
另外，由于图案化遮光层402的长度较短而未与导电架桥105a的两端重叠。因此在后续形成图案化电极层403时，会有一部分的第一图案化电极403a和第二图案化电极403b，沿着图案化遮光层402的长轴两端的侧壁向下延伸，而与透光基板101的内侧表面101b接触(如图4B所绘示)。
请参照图5，图5是根据本发明的又一实施例所绘示的触控结构500的部分结构剖面示意图。其中，触控结构500的结构大致与触控结构400类似，差别只在于触控结构500的第一图案化电极503a和第二图案化电极503b位于透光基板101的内侧表面101b与图案化遮光层502之间；且触控结构500的图案化电极层503直接与透光基板101的内侧表面101b接触。另外，在图案化电极层503与透光基板101之间可以有设置一层或是多层的膜层，材质可以选用有机或是无机的材质，例如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、耐高温有机材料(大于摄氏200度)…等，以提供例如透光率提升或是玻璃强度提升的功能。
在本实施例之中，由于触控结构500的第一图案化电极503a、第二图案化电极503b、透光基板101以及图案化遮光层502与触控结构400中相似结构的相对位置不同，因此制作触控结构500的步骤顺序与制作触控结构400的步骤顺序也有所差别。其中，制作触控结构500的步骤，是先在透光基板101的内侧表面101b上形成具有第一图案化电极503a和第二图案化电极503b的图案化电极层503。之后，再于图案化电极层503上依序形成图案化遮光层502、介电层104、图案化金属层505以及保护层106。如同前述的图案化遮光层102、302一般，图案化遮光层502在透光基板101的外侧以同一道制作工艺形成可以遮蔽多数条金属走线1052的遮光图案1022。其中，金属走线1052可以与感测单元中的第一图案化电极503a以及第二图案化电极503b电连接。
由于，图案化电极层503第一图案化电极503a和第二图案化电极503b之间具有至少一个(多个)用来隔离第一部分503b1和第二部分503b2的间隙503c。因此，当后续在图案化电极层503上形成图案化遮光层502时，会有一部分的图案化遮光层502穿过第一图案化电极503a和第二图案化电极503b之间的间隙503c而与透光基板101的内侧表面101b接触。
又由于在本实施例之中，导电架桥505a的两端必须分别与位于图案化遮光层502下方的第二图案化电极503b的第一部分503b1和第二部分503b电性接触，因此图案化遮光层502的长度必须小于导电架桥505a的长度，以容许导电架桥505a的两端沿着介电层104和图案化金属层505长轴两端的侧壁向下延伸至第二图案化电极503b的第一部分503b1和第二部分503b。
另外，图案化遮光层502的是采用光掩模显影来加以定义，图案化遮光层502两侧的侧壁，呈现由上至下逐渐扩大的剖面轮廓，具有较平缓的延伸坡度。因此，当使用厚度较薄的图案化金属层505来建构导电架桥505a，以电连接第二图案化电极503b的第一部分503b1和第二部分503b的连接部505a1时，有利于提高图案化金属层505(导电架桥505a)的制作工艺可靠度。
在本发明的一些实施例之中，由于图案化遮光层502的绝缘阻抗与介电层104相似，因此也可以选择性地省略介电层104的使用，而直接在图案化遮光层502上形成包括导电架桥505a的图案化金属层505。
请参照图6，图6是根据本发明的又另一实施例所绘示的触控结构600的部分结构剖面示意图。其中，触控结构600与的结构与制作方法大致与触控结构300类似，差别只在于触控结构600的第一图案化电极603a和第二图案化电极603b位于透光基板101的内侧表面101b与图案化遮光层602之间；且触控结构600的图案化电极层603直接与透光基板101的内侧表面101b接触。
在本实施例之中，触控结构600的图案化遮光层602包括至少一个(例如多个)开口602b，可将图案化遮光层602区隔成彼此分离的遮光部602a1、602a2、602a3、602a4和602a5。由于遮光部602a1、602a2、602a3、602a4和602a5并未遮蔽整个导电架桥105a。因此，穿过透光基板101的外界光线L，仍有一部分未被图案化遮光层602所遮蔽，而会被导电架桥105a所反射。
图7A至图7D，图7A至图7D是根据本发明的又一实施例所绘示的一系列形成触控结构700的制作工艺结构局部区域的剖面示意图。其中触控结构700形成于显示面板71出光面的透明基板711上。形成触控结构700的方法包括下述步骤：首先在透明基板711远离液晶层的表面711a上形成包含有第一图案化电极703a和第二图案化电极703b的图案化电极层703(如图7A所绘示)。
接着，在图案化电极层703上形成一介电层104，以覆盖第一图案化电极703a和第二图案化电极703b，并将第二图案化电极703b的第一部分703b1和第二部分703b2部分地露出来(如图7B所绘示)。
然后，在介电层104上形成图案化金属层705，使第一图案化电极703a通过介电层104与图案化金属层705隔离，并使一部分的图案化金属层705与第二图案化电极703b暴露于外的第一部分703b1和第二部分703b2部分地电连接，用于定义出跨接于第二图案化电极703b的第一部分703b1和第二部分703b2之间的导电架桥705a(如图7C所绘示)。
之后，在介电层104上形成图案化遮光层702，并使图案化遮光层702与导电架桥705a至少部分重叠；再贴附覆盖玻璃基板(透光基板)701之后完成触控结构700的制备(如图7D所绘示)。在本发明的一些实施例中，还可选择性地在图案化遮光层702上涂布一层保护层106。由于，触控结构700的制备与显示面板70是整合在一起。因此，可再经由后续的一连串后段制作工艺，例如可以是制作保护层、功能性光学膜层、连接电路板、组装…等制作工艺，而形成触控显示装置70。
在本实施例中，图案化遮光层702的长度与宽度都实质大于或等于导电架桥705a的长度与宽度；且图案化遮光层702与导电架桥705a完全重叠。因此，穿过覆盖玻璃基板701的外界光线L可完全被图案化遮光层702所遮蔽，而不会被导电架桥705a所反射。
请参照图8，图8是分别根据本发明的另一实施例绘示通过图7A至图7D所述方法制备而成的触控显示装置80的部分结构剖面示意图。其中，触控结构800的结构与制作方法大致与触控结构700类似，差别只在于触控结构800的图案化遮光层802包括至少一个(例如多个)开口802b，可将图案化遮光层802区隔成彼此分离的遮光部802a1、802a2、802a3、802a4和802a5。在本实施例之中，每一个遮光部802a1、802a2、802a3、802a4和802a5至少都与导电架桥705a部分重叠。不过由于遮光部802a1、802a2、802a3、802a4和802a5并未遮蔽整个导电架桥705a。因此，穿过覆盖玻璃基板701的外界光线L，仍有一部分未被图案化遮光层802所遮蔽，而会被导电架桥705a所反射。
请参照图9，图9是分别根据本发明的再一实施例绘示通过图7A至图7D所述方法制备而成的触控显示装置90的部分结构剖视图。其中，触控结构900与的结构与制作方法大致与触控结构700类似，差别只在于触控结构900的图案化遮光层902的长度实质小于导电架桥705a的长度。在本实施例中，导电架桥705a横向(即平行导电架桥705a的短轴的方向)与图案化遮光层902完全重叠，但导电架桥705a的两端并未与图案化遮光层902重叠。因此，穿过覆盖玻璃基板701的外界光线L，仍有一部分未被图案化遮光层902所遮蔽，而会被导电架桥705a所反射。
前述以透光基板101为基底形触控结构的实施例，例如触控结构100，也可与显示面板11结合而形成具有触控功能的触控显示装置10。例如请参照图10，图10是根据本发明的一实施例所绘示的一种具有触控功能的触控显示装置10。其中，触控显示装置10的触控结构100邻接于显示面板11的出光面11a。在本实施例中，触控结构100保护层106a面对显示面板11的出光面11a。
另外，触控结构100也可以包括一个形成在透光基板101的内侧表面101a的周边，围绕第一图案化电极103a、第二图案化电极103b、导电架桥105a和图案化遮光层102的图案化的彩色遮光层107。在本发明的一些实施例中，彩色遮光层107可以由多层白色或彩色油墨所堆叠而成。为了边缘线性的美观，优选会利用图案化遮光层102在彩色遮光层107内侧设置内框1022。
例如，在本实施例之中，在形成图案化遮光层102的同时，会在透光基板外侧同时形成一遮光图案1022用来作为触控结构100的内框，之后再形成彩色遮光层107。彩色遮光层107会部分覆盖遮光图案1022并使其邻接彩色遮光层107。此时由透光基板101的垂直投影方向P(俯视)来看，遮光图案1022可以构成一个内框。另外，还可以在将一部分图案化的金属层105堆叠于彩色遮光层107上，用于形成多数条金属走线1052(如图10所绘示)。其中，金属走线1052可以与感测单元中的第一图案化电极103a以及第二图案化电极103b电连接。
请参照图11，图11是根据本发明的一实施例绘示触控显示装置10的结构分解示意图。在本发明的一些实施例之中，触控显示装置10的显示面板11具有多个次像素(sub-pixels)111，且至少会有一个次像素111与触控结构100重叠。由于，每一个次像素111的尺寸例如为20微米×60微米，而每一个图案化遮光层102的尺寸例如为260微米×10微米。为了减少次像素111被图案化遮光层102遮蔽的面积，可以使次像素111的长轴111a与导电架桥105a的长轴夹有一非平角θ。在本实施例之中，次像素111的长轴111a与导电架桥105a的长轴之间所夹的非平角θ为85°～90°。亦即，若次像素111的长轴111a与导电架桥105a的长轴是水平方向排列，次像素111有可能被导电架桥105a大面积的遮蔽，导致显示品质下降。
请参照图12A和图12B，图12A是根据本发明的一实施例所绘示的一种图案显示结构120。图12B为沿着图12A的切线S12所绘示的图案显示结构120部分结构剖视图。其中，图案显示结构120包括：具有金属表面121a的金属层121、感光遮光层122以及位于感光遮光层122上的覆盖板123(例如强化玻璃基板或是塑胶基板)。换句话说，感光遮光层122先设置于覆盖板123上，金属层121再依序设于感光遮光层122上。其中，感光遮光层122经过图案化后具有多个开口122b以及多个遮光部。开口122b可以将一部分金属表面121a暴露于外，用于在感光遮光层122中定义出至少一个显示图案124，其中每一个遮光部122a的径向尺寸实质小于100微米(μm)。金属层121对应开口122b与遮光部122a的位置覆盖感光遮光层122。图12B仅为示意，实际上金属层121有可能会填满多开口122b。感光遮光层122可以例如是前述实施例所提及的遮光图案1022。显示图案124例如可以是商标、文字、花纹图案…等，并不予限定。
在本实施例之中，感光遮光层122可以是一种图案化的光致抗蚀剂层，例如黑色矩阵。图案显示结构120的制备，可利用涂布或压印或其他合适的方式，先在金属层表面121a上形成光致抗蚀剂涂层(感光遮光层122)，再通过光掩模显影来移除一部分光致抗蚀剂涂层，将一部分金属层表面121a暴露出来，用于定义出显示图案124，并同时在显示图案124中余留一部分的感光遮光层122以形成多个遮光部122a。
其中，每一个遮光部122a的外形，可以根据图案显示结构120显示图案124的设计需求而呈现规则或不规则的圆型、矩形、三角形、多边形或其他不规则形状的排列。也可以通过调整位于不同区域中的开口122b的尺寸大小或形状来控制显示图案124中由金属层表面121a反射的光线多寡，达到调整显示图案124的亮度的目的。
根据上述，本发明的实施例是在提供一种触控结构以及应用该触控结构的触控显示装置。其是利用在透光基板(玻璃覆盖基板)的内侧表面与触控感测电极的导电架桥之间提供一图案化遮光层，使其与导电架桥至少部分重叠，来遮蔽穿过透光基板进入触控结构的外界光线，通过调整图案化遮光层与导电架桥的重叠位置和重叠尺寸，来改善因导电架桥反射外界光线，而影响画面品质的问题。
虽然结合以上优选实施例公开了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何该技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。

Claims (10)

1.一种触控结构，包括：
透光基板；以及
至少一感测单元(touch sensing unit)，设于该透光基板上，且各该感测单元包括：
第一图案化电极；
第二图案化电极，被该第一图案化电极至少分隔成一第一部分以及一第二部分；
导电架桥，电连接该第一部分和该第二部分，并与该第一图案化电极在空间上隔离(spatially insulated)；以及
图案化遮光层，位于该导电架桥与该透光基板之间，且在该透光基板的一垂直投影方向上与该导电架桥至少部分重叠。
2.如权利要求1所述的触控结构，其中该图案化遮光层具有与该导电架桥实质相同的一尺寸，且该图案化遮光层与该导电架桥仅部分重叠。
3.如权利要求1所述的触控结构，其中该图案化遮光层包括多个彼此分离的遮光部，且每一该些遮光部至少与该导电架桥部分重叠。
4.如权利要求3所述的触控结构，还包括图案化介电层，位于该图案化遮光层与该导电架桥之间，且该图案化遮光层具有大于该介电层的一长度。
5.如权利要求1所述的触控结构，其中该第一图案化电极和该第二图案化电极位于该导电架桥和该图案化遮光层之间。
6.如权利要求1所述的触控结构，其中该第一图案化电极和该第二图案化电极位于该导电架桥和该透光基板之间。
7.一种触控结构，包括：
透光基板；以及
至少一感测单元，设于该透光基板上，且各该感测单元包括：
第一图案化电极；
第二图案化电极，被该第一图案化电极至少分隔成一第一部分以及一第二部分；
导电架桥，电连接该第一部分和该第二部分，并与该第一图案化电极在空间上隔离；以及
图案化遮光层，位于该导电架桥上，且在该透光基板的一垂直投影方向上与该导电架桥至少部分重叠；
图案化介电层，位于该图案化遮光层与该透光基板之间。
8.一种触控显示装置，包括：
如权利要求1至7中的一者所述的该触控结构；以及
显示面板，位于该触控结构的一侧。
9.如权利要求8所述的触控显示装置，其中该显示面板包括至少一次像素(sub-pixels)，且该次像素具有一长轴，该长轴与该导电架桥的长轴之间所夹的角度为85°～90°度。
10.一种图案显示结构，包括：
覆盖板(cover lens)；
感光遮光层，位于该覆盖板上，且该感光遮光层具有多个开口与多个遮光部，用于在该感光遮光层中定义出至少一显示图案；以及
金属层，对应该些开口与该些遮光部的位置覆盖该感光遮光层；
其中每一该些遮光部具有实质小于100微米(μm)的一径向尺寸。
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