CN107402470A - 彩色滤光板及其制造方法、显示面板、显示器、存储介质 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供彩色滤光板及其制造方法、显示面板、显示器、存储介质，属于显示器领域。所述彩色滤光板包括：本发明实施例提供一种用于显示面板的彩色滤光板，该彩色滤光板包括：透明衬底；透明导电层，形成于所述透明衬底的一表面上；像素单元，形成于所述透明导电层上；透明保护膜，该透明保护膜覆盖所述像素单元；黑色矩阵，形成于所述透明衬底的另一表面上；以及间隔结构，形成于所述黑色矩阵上。该彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法能够显著提高间隔结构厚度的均一性，从而提高显示面板和显示器的品质。

Description

彩色滤光板及其制造方法、显示面板、显示器、存储介质
技术领域
本发明涉及显示器领域，具体地涉及彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法、显示面板、显示器、存储介质。
背景技术
随着半导体技术的演进，也带动了平板显示器的发展，在众多类型的平板显示器中，液晶显示器因低空间占有率、低功耗、低辐射以及低电磁干扰而逐渐成为市场的主流。液晶显示器包括TFT(Thin Film Transistor)板以及CF(Colour Filter，彩色滤光)板，TFT板和CF板之间注入有液晶，TFT板上形成有控制液晶偏转的薄膜晶体管回路，CF板上形成有红(R)、绿(G)、蓝(B)滤光结构以及其它结构。
液晶显示器的液晶驱动方式主要有TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)和IPS(In-Plane Switching，共面转换型)等技术，上述两者对应的CF板在结构上有所不同。其中IPS技术用的CF(Color Filter，彩色滤光)板中，PS(Photo Spacer，感光间隙子)光阻膜层因其下层有R、G、B三原色光阻膜层。但是因透光性需要或工艺控制等原因，R、G、B三原色光阻膜层的膜厚度可能会不均一，而PS层在涂布时，是以湿膜形态涂布的，由此，PS涂布后无法有效控制湿膜的流动性，从而会导致PS光阻膜厚均匀性差；而PS膜厚又决定了CF基板和TFT基板之间单元间隙(Cell Gap)。因此，PS膜厚均匀度直接影响单元间隙的均一性。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法、显示面板、显示器、存储介质，该彩色滤光板及制造彩色滤光板的方法能够显著提高间隔结构厚度的均一性，从而提高显示面板和显示器的品质。
为了实现上述目的，本发明实施例提供一种用于显示面板的彩色滤光板，该彩色滤光板包括：透明衬底；透明导电层，形成于所述透明衬底的一表面上；像素单元，形成于所述透明导电层上；透明保护膜，该透明保护膜覆盖所述像素单元；黑色矩阵，形成于所述透明衬底的另一表面上；以及间隔结构，形成于所述黑色矩阵上。
其中，所述透明导电层上可以形成有标识，所述像素单元和所述黑色矩阵根据所述标识被形成。
其中，所述透明保护膜的硬度优选为4H以上，并且所述透明保护膜的透过率优选为90％以上。
其中，所述透明衬底优选为玻璃基板。
其中，所述像素单元包括R(Red，红色)光阻膜、G(Green，绿色)光阻膜、B(Blue，蓝色)光阻膜，并且所述黑色矩阵优选地形成于所述R光阻膜与所述G光阻膜相临的位置、所述G光阻膜与所述B光阻膜相临的位置以及所述B光阻膜与所述R光阻膜相临的位置。
根据本发明的另一方面，还提供一种制造彩色滤光板的方法，该彩色滤光板用于显示面板，该方法包括：在透明衬底的一表面形成透明导电层；在所述透明电极上形成像素单元；形成透明保护膜，所述透明保护膜覆盖所述像素单元；在所述透明衬底的另一表面形成黑色矩阵；以及在所述黑色矩阵上形成间隔结构。
其中，该方法还包括：在所述透明导电层上形成标识，其中所述像素单元和所述黑色矩阵根据所述标识被形成。
其中，所述透明保护膜的硬度优选为4H以上，并且所述透明保护膜的透过率优选为90％以上。
其中，所述透明衬底优选为玻璃基板。
其中，所述像素单元包括R(Red，红色)光阻膜、G(Green，绿色)光阻膜、B(Blue，蓝色)光阻膜，并且所述黑色矩阵优选地形成于所述R光阻膜与所述G光阻膜相临的位置、所述G光阻膜与所述B光阻膜相临的位置以及所述B光阻膜与所述R光阻膜相临的位置。
根据本发明的另一方面，还提供一种显示面板，该显示面板包括上述彩色滤光板。
根据本发明的再一方面，还提供一种显示器，该显示器包括所述的显示面板。
根据本发明的再一方面，还提供一种机器可读存储介质，该机器可读存储介质上存储有指令，该指令用于使得机器执行上述内容中所述制造彩色滤光板的方法。
通过上述技术方案，将像素单元和间隔结构形成在透明衬底的不同面上，间隔结构的下面只有黑色矩阵，因而显著降低了前工序对间隔结构均一性的影响，从而显著提高了间隔结构高度(或厚度)的均一性，并降低了间隔结构形成工艺的控制难度，提高了生产效率。此外，基于上述优点，在生产显示面板时，在压合TFT板和CF板的过程中，能够有效保证单元间隙的均一度，从而提高了显示面板的品质，进而能够提高显示器的画质。
本发明实施例的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明实施例，但并不构成对本发明实施例的限制。在附图中：
图1是现有技术的显示面板中彩色滤光板的结构示意图；
图2是根据本发明一实施例的彩色滤光板的结构示意图；
图3是根据本发明一实施例的显示面板的结构示意图；以及
图4是根据本发明一实施例的制造显示面板的方法的流程图。
附图标记说明
1：玻璃基板 2：ITO导电层
3：黑色矩阵 4：R光阻膜
5：G光阻膜 6：B光阻膜
7：OC光阻膜 8：感光间隙子
9：TFT板 10：液晶
21：透明衬底 22：透明导电层
23：R光阻膜 24：G光阻膜
25：B光阻膜 26：透明保护膜
27：黑色矩阵 28：间隔结构
具体实施方式
以下结合附图对本发明实施例的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明实施例，并不用于限制本发明实施例。
图1是现有技术的显示面板中彩色滤光板的结构示意图。如图1所示，是现有技术中IPS技术中常用的彩色滤光板(CF板)，其中，玻璃基板1的一表面上形成有ITO导电层2，另一面上形成有黑色矩阵(BM)3、R光阻膜4、G光阻膜5、B光阻膜6，并形成有用于保护R、G、B三原色光阻膜的OC光阻膜7，感光间隙子(PS)8形成于透明保护膜上。当CF板与TFT板压合时，形成有R、G、B三原色光阻膜的一面与TFT板相对，并在CF板与TFT板之间注入有液晶。
从图1中可以看出，在现有技术中，感光间隙子8在形成之前，玻璃基板1上已形成有黑色矩阵3、R光阻膜4、G光阻膜5、B光阻膜6、OC光阻膜7。由于R、G、B三原色光阻膜可以选用的材料不同，其透过率不同，实践中为了使显色均衡，三原色光阻膜的厚度可能互不相同，并且由于制造工艺的限制，每层结构的厚度都不可能是绝对均一的，因此，在形成感光间隙子8时，很难保证感光间隙子高度的均一性，由此在压合TFT板和CF板之后，TFT板与CF板之间的单元间隙的均一性也难以得到保证。这进一步会影响到显示面板乃至显示器的显示品质，并且增加了显示面板生产过程的控制难度。
图2是根据本发明一实施例的彩色滤光板的结构示意图。如图2所示，该彩色滤光板包括：透明衬底21，例如可以是玻璃基板；透明导电层22，形成于所述透明衬底21的一表面上；像素单元，形成于所述透明导电层22上，其中，像素单元包括RGB三原色光阻膜，即R光阻膜23、G光阻膜24、B光阻膜25；透明保护膜26，该透明保护膜26覆盖所述像素单元，以保护所述像素单元；黑色矩阵27，形成于所述透明衬底21的另一表面上；以及间隔结构28，形成于所述黑色矩阵27上。
RGB三原色光阻膜用于显色，通过控制施加在TFT板和CF板之间的电场来控制液晶的偏转，可控制RGB三原色光阻膜的透光量，从而可以显示出画面中的各种颜色。黑色矩阵优选为设置在RGB三原色光阻膜各自相临的位置，如图2所示，R光阻膜23与G光阻膜24之间、G光阻膜24与B光阻膜25之间以及B光阻膜25与R光阻膜23之间，黑色矩阵起到遮光的作用，避免三原色之间的干扰。
现有技术中RGB三原色光阻膜和BM形成在玻璃基板的一面上，因而BM与RGB三原色光阻膜之间重叠(Overlay)的部分较大，因而只能如图1所示，将BM形成于一组RGB与另一组RGB相临的位置，以在对各像素点进行遮光的同时，不影响显色效果，否则BM将会过度挡光，影响显色效果。
但是在本发明中，RGB三原色光阻膜与BM形成于玻璃基板的不同表面上，因而在制造过程中，RGB三原色光阻膜之间以及RGB三原色光阻膜之间重叠的部分明显被减少，因此为了更好地避免三原色光阻膜之间出现混色，可在R光阻膜23与G光阻膜24之间、G光阻膜24与B光阻膜25之间以及B光阻膜25与R光阻膜23之间都形成有BM。
间隔结构28可以是如图1所示的感光间隙子，用于在CF板与TFT板压合时，维持CF板与TFT之间注入液晶的间隙。
透明保护膜26可以是OC光阻膜，主要起到保护像素单元的作用，即使透明保护膜在生产过程中出现划伤，也不会影响到像素单元。此外，由于像素单元形成于透明衬底的背面(即与TFT板压合后露在外面的一面)，所述透明保护膜26的硬度优选为4H以上，从而保证在生产过程中不会因搬运等原因对像素单元造成划伤，并且所述透明保护膜的透过率优选为90％以上，以保证显色效果。
在其它实施例中，透明导导电层22可以是ITO导电层，也可以是由如IZO等能够透光并能导电的材料制成的导电层。在形成透明导电层22的过程中，可优选地在透明导电层22上形成标识，该标识用于在形成像素单元和黑色矩阵和/或间隔结构时，起到定位作用。该标识例如可以通过在显示器领域中熟知的Photo(光刻)工艺和刻蚀(Etch)工艺形成，即可通过在透明导电层上涂布光阻剂，然后进行曝光、显影，从而在透明导电层上形成。该工艺是显示器领域的公知技术，在此不进行详细描述。
图3是根据本发明一实施例的显示面板的结构示意图。如图3所示，在形成显示面板后，彩色滤光板上形成有BM和间隔结构的一面与TFT板9相对，并且其间注入有液晶10。由此形成的显示面板，由于间隔结构的高度具有良好的均一性，因而能够保证显示面板的单元间隙的均一性，从而液晶能够均匀分布，显示面度厚度均一，并且能够显著提高画质。
图4是根据本发明一实施例的制造显示面板的方法的流程图。如图4所示，该方法包括以下步骤：
在步骤S410中，在透明衬底的一表面形成透明导电层。该透明导电层在显示面板结构中用于驱动液晶旋转，其可以是ITO导电层。透明衬底例如可以是玻璃基板。
在形成透明保护膜时，可以优选地在透明保护膜上形成标识，该标识用于在形成像素单元、黑色矩阵、间隔结构时起到定位作用，以使像素单元、黑色矩阵、间隔结构能够精确地形成在相应的位置上。
在步骤S420中，在所述透明电极上形成像素单元。像素单元包括R光阻膜、G光阻膜、B光阻膜。
在步骤S430中，形成透明保护膜，所述透明保护膜覆盖所述像素单元。透明保护膜可以是OC光阻膜，用于保护像素单元，为了提高保护作用以及透光率，透明保护膜优选为由硬度为4H以上、透过率优选为90％以上的材料形成。
在步骤S440中，在所述透明衬底的另一表面形成黑色矩阵。
如上所述，黑色矩阵优选为设置在RGB三原色光阻膜各自相临的位置，即R光阻膜23与G光阻膜24之间、G光阻膜24与B光阻膜25之间以及B光阻膜25与R光阻膜23之间，黑色矩阵起到遮光的作用，避免三原色之间的干扰。
在步骤S450中，在所述黑色矩阵上形成间隔结构。
以上结合附图详细描述了本发明例的可选实施方式，但是，本发明实施例并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明实施例的技术构思范围内，可以对本发明实施例的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明实施例的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明实施例对各种可能的组合方式不再另行说明。
本领域技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一个(可以是单片机，芯片等)或处理器(processor)执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(ROM，Read-OnlyMemory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
此外，本发明实施例的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明实施例的思想，其同样应当视为本发明实施例所公开的内容。

Claims (11)

1.一种用于显示面板的彩色滤光板，其特征在于，该彩色滤光板包括：
透明衬底；
透明导电层，形成于所述透明衬底的一表面上；
像素单元，形成于所述透明导电层上；
透明保护膜，该透明保护膜覆盖所述像素单元；
黑色矩阵，形成于所述透明衬底的另一表面上；以及
间隔结构，形成于所述黑色矩阵上。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光板，其特征在于，所述透明导电层上形成有标识，其中所述像素单元和所述黑色矩阵根据所述标识被形成。
3.根据权利要求1所述的彩色滤光板，其特征在于，所述透明保护膜的硬度为4H以上，并且所述透明保护膜的透过率为90％以上。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的彩色滤光板，其特征在于，所述像素单元包括R光阻膜、G光阻膜、B光阻膜，并且所述黑色矩阵形成于所述R光阻膜与所述G光阻膜相临的位置、所述G光阻膜与所述B光阻膜相临的位置以及所述B光阻膜与所述R光阻膜相临的位置。
5.一种制造彩色滤光板的方法，该彩色滤光板用于显示面板，其特征在于，该方法包括：
在透明衬底的一表面形成透明导电层；
在所述透明电极上形成像素单元；
形成透明保护膜，所述透明保护膜覆盖所述像素单元；
在所述透明衬底的另一表面形成黑色矩阵；以及
在所述黑色矩阵上形成间隔结构。
6.根据权利要求5所述的制造彩色滤光板的方法，其特征在于，该方法还包括：
在所述透明导电层上形成标识，其中所述像素单元和所述黑色矩阵根据所述标识被形成。
7.根据权利要求5所述的制造彩色滤光板的方法，其特征在于，所述透明保护膜的硬度为4H以上，并且所述透明保护膜的透过率为90％以上。
8.根据权利要求5-7中任一项所述的制造彩色滤光板的方法，其特征在于，其特征在于，所述像素单元包括R光阻膜、G光阻膜、B光阻膜，并且所述黑色矩阵形成于所述R光阻膜与所述G光阻膜相临的位置、所述G光阻膜与所述B光阻膜相临的位置以及所述B光阻膜与所述R光阻膜相临的位置。
9.一种显示面板，其特征在于，该显示面板包括权利要求1-4中任一项所述的彩色滤光板。
10.一种显示器，其特征在于，该显示器包括权利要求9所述的显示面板。
11.一种机器可读存储介质，该机器可读存储介质上存储有指令，该指令用于使得机器执行权利要求5-8中任一项所述制造彩色滤光板的方法。
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