CN103345083A - Cf玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种CF玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置。该液晶显示装置的CF玻璃基板包括上表面(11)和下表面(12),所述上表面(11)上依次设有黑色矩阵、导电薄膜(30)以及支撑体(40),所述下表面(12)上设有多个像素,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处,所述支撑体(40)位于所述黑色矩阵中的黑体(20)的上方。本发明的CF玻璃基板是将三原色(即红色、绿色和蓝色)子像素形成在玻璃基板的下表面,并未将其形成在具有黑色矩阵、导电薄膜和支撑体的上表面,避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导致PS光阻涂布后形成的湿膜的流动难以控制的情况出现,从而改善PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚均一性。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示领域。更具体地讲,涉及一种CF玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置。
背景技术
在大尺寸面板的生产中,多采用狭缝式(Slit)或非旋转式(Spinless)涂布机来进行光阻的涂布。随着玻璃基板尺寸的增大,涂布机的喷嘴(Nozzle)也随之加长,在这种情况下,在整块玻璃基板上涂布的光阻的膜厚均一性成为日益突出的问题。该问题在涂布PS(Photo Spacer,感光间隙子)光阻时表现得尤其明显,其原因是:1、PS光阻的膜厚决定TFT(Thin Film Transistor,薄膜场效应晶体管)玻璃基板与CF(Color Filter,彩色滤光片)玻璃基板对组后的液晶盒厚度(Cell Gap),Cell Gap是液晶显示装置中特别重要的参数,这就要求PS光阻的膜厚有很高的精度;2、在进行PS光阻涂布时,玻璃基板的一表面上已经形成有黑色矩阵(Black Matrix,简称BM),RGB三原色子像素,ITO(IndiumTinOxides,氧化铟锡)导电薄膜等,而由于在设计过程中要考虑色域NTSC(National Television Systems Committee)值,RGB三原色子像素的膜厚的值各不相同,那么PS光阻并不是在一个平整的玻璃基板的表面上进行涂布,使得PS光阻涂布后形成的湿膜的流动变得难以控制。在不同尺寸面板的设计上,RGB三原色子像素的膜厚和排版不尽相同,导致利用涂布机来控制涂布后的PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板变得困难。
发明内容
为了解决上述现有技术存在的问题,本发明的目的在于提供一种CF玻璃基板包括上表面和下表面,所述上表面上依次设有黑色矩阵、导电薄膜以及支撑体,所述下表面上设有多个像素。
此外,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
此外,所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。
本发明的另一目的还在于提供一种CF玻璃基板的制作方法,包括:在所述玻璃基板的上表面上形成黑色矩阵;在所述玻璃基板的上表面上形成导电薄膜;在所述玻璃基板的上表面上形成支撑体;在所述玻璃基板的下表面上形成多个像素。
此外,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
此外,所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。
本发明的另一目的还在于提供一种液晶显示装置,包括CF玻璃基板以及与所述CF玻璃基板相对平行设置的TFT玻璃基板,所述CF玻璃基板与所述TFT玻璃基板相对的表面上依次设有黑色矩阵、导电薄膜以及支撑体,所述CF玻璃基板与所述TFT玻璃基板相背的表面上设有多个像素。
此外,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
此外,所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。
本发明的CF玻璃基板是将三原色(即红色、绿色和蓝色)子像素形成在玻璃基板的下表面,并未将其形成在具有黑色矩阵、导电薄膜和支撑体的上表面,避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导致PS光阻涂布后形成的湿膜的流动难以控制的情况出现,同时消除了PS光阻膜厚的变异而对测量结果产生的不良影响,从而改善PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚的均一性。而且在不同尺寸面板的设计上,由于涂布PS光阻的表面上未形成三原色子像素,可较易地利用涂布机来控制涂布后的PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板。
附图说明
图1是根据本发明的实施例的CF玻璃基板的示意图。
图2是具有图1所示CF玻璃基板的液晶显示装置的示意图。
具体实施方式
现在对本发明的实施例进行详细的描述,其示例表示在附图中,其中,相同的标号始终表示相同部件。下面通过参照附图对实施例进行描述以解释本发明。在附图中,为了清晰起见,可以夸大层和区域的厚度。在下面的描述中,为了避免公知结构和/或功能的不必要的详细描述所导致的本发明构思的混淆,可省略公知结构和/或功能的不必要的详细描述。
图1是根据本发明的实施例的CF玻璃基板的示意图。
如图1所示,提供一玻璃基板10,并对该玻璃基板10进行清洗,以使该玻璃基板洗净。在该玻璃基板10的上表面11上形成黑色矩阵,该黑色矩阵是由黑体20以及黑体20之间的空白构成,并且该黑色矩阵可通过黑色矩阵光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板10的上表面11上。接着,在该玻璃基板10的上表面11上形成导电薄膜30,例如ITO(Indium Tin Oxides,氧化铟锡)透明导电薄膜,该导电薄膜30可通过溅射沉积或者其它镀膜工艺沉积在玻璃基板10的上表面11上,图中可见,该导电薄膜30覆盖了黑色矩阵的黑体20以及黑体20之间的空白。再接着,在该玻璃基板10的上表面11,即导电薄膜30上形成支撑体40,该支撑体40可通过PS(Photo Spacer,感光间隙子)光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板10的上表面11上。在该玻璃基板10的下表面12上形成多个红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B,一个红色子像素R、一个绿色子像素G和一个蓝色子像素B形成一个像素(Pixel),其中,红色子像素R可通过红色光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板10的下表面12上,绿色子像素G可通过绿色光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板10的下表面12上,蓝色子像素B可通过蓝色光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板10的下表面12上。这样,通过上述的制作过程,形成了本发明的实施例的CF(Color Filter,彩色滤光片)玻璃基板。
在本实施例中,优选地,每个子像素的位置对应于黑色矩阵的黑体20之间的空白处,以避免黑色矩阵的黑体20将子像素发出的光遮挡。另外,为了避免支撑体40将子像素发出的光遮挡,优选地,支撑体40形成于黑色矩阵的黑体20的上方。当然,应当理解,在本发明中,支撑体40无需形成于每个黑体20的上方,可根据实际需求在任意多个黑体20的上方设置,例如,支撑体40可间隔一个黑体20而设置。
本发明的CF玻璃基板与现有技术的CF玻璃基板相比,将三原色(即红色、绿色和蓝色)子像素形成在玻璃基板的下表面,并未将其形成在具有黑色矩阵、导电薄膜和支撑体的上表面,避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导致形成支撑体40的PS光阻涂布后形成的湿膜的流动难以控制的情况出现。此外,在形成支撑体40的制程过程中需要对涂布后的PS光阻膜厚(PS光阻膜厚是指支撑体顶端到支撑体底端的距离的百分之九十)进行实时测量以控制PS光阻膜厚,由于本发明的技术方案已经有效地改善了支撑体底端的膜厚的均匀性,因而消除了在制程过程中由于PS光阻膜厚的变异而对测量结果产生的不良影响,从而改善PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚的均一性。而且在不同尺寸面板的设计上,由于涂布PS光阻的表面上未形成三原色子像素,可较易地利用涂布机来控制涂布后的PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板。
以下文中,将对具有上述的CF玻璃基板的液晶显示装置进行描述。
图2是具有图1所示CF玻璃基板的液晶显示装置的示意图。
如图2所示,液晶显示装置20包括CF玻璃基板21、TFT(Thin FilmTransistor,薄膜场效应晶体管)玻璃基板22和背光模组23。其中,TFT玻璃基板22可通过成膜、曝光、刻蚀和剥离等现有技术的工序制作而成,在此不再赘述。
具体而言,CF玻璃基板21与TFT玻璃基板22相对平行设置,并与TFT玻璃基板22对盒组装形成液晶显示面板,其中,CF玻璃基板21为图1所示的CF玻璃基板,并且该CF玻璃基板21的形成有黑色矩阵、导电薄膜以及支撑体的表面相对于TFT玻璃基板22,CF玻璃基板21的形成有三原色子像素的表面背对于TFT玻璃基板22。背光模组23设于TFT玻璃基板22的下方,提供显示光源给形成的液晶显示面板,以使液晶显示面板显示影像。
尽管已经参照其示例性实施例具体显示和描述了本发明,但是本领域的技术人员应该理解,在不脱离权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下,可以对其进行形式和细节上的各种改变。
Claims (9)
1.一种CF玻璃基板,包括上表面(11)和下表面(12),其特征在于,所述上表面(11)上依次设有黑色矩阵、导电薄膜(30)以及支撑体(40),所述下表面(12)上设有多个像素。
2.根据权利要求1所述的CF玻璃基板,其特征在于,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
3.根据权利要求1所述的CF玻璃基板,其特征在于,所述支撑体(40)位于所述黑色矩阵中的黑体(20)的上方。
4.一种CF玻璃基板的制作方法,其特征在于,包括:
在所述玻璃基板的上表面(11)上形成黑色矩阵;
在所述玻璃基板的上表面(11)上形成导电薄膜(30);
在所述玻璃基板的上表面(11)上形成支撑体(40);
在所述玻璃基板的下表面(12)上形成多个像素。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
6.根据权利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述支撑体(40)位于所述黑色矩阵中的黑体(20)的上方。
7.一种液晶显示装置,包括CF玻璃基板(21)以及与所述CF玻璃基板(21)相对平行设置的TFT玻璃基板(22),其特征在于,所述CF玻璃基板(21)与所述TFT玻璃基板(22)相对的表面上依次设有黑色矩阵、导电薄膜(30)以及支撑体(40),所述CF玻璃基板(21)与所述TFT玻璃基板(22)相背的表面上设有多个像素。
8.根据权利要求7所述的液晶显示装置,其特征在于,所述像素包括三个子像素,所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
9.根据权利要求7所述的液晶显示装置,其特征在于,所述支撑体(40)位于所述黑色矩阵中的黑体(20)的上方。
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