WO2014157259A1 - 熱電変換素子の製造方法および熱電変換層用分散物の製造方法 - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 783
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 381
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 169
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 141
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 50
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 claims description 167
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 103
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 98
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 95
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 89
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 50
- 239000002109 single walled nanotube Substances 0.000 claims description 43
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 42
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 21
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims description 17
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 14
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002134 carbon nanofiber Substances 0.000 claims description 8
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 claims description 8
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 7
- 239000011852 carbon nanoparticle Substances 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 claims 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 abstract 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 519
- -1 peapods) Chemical compound 0.000 description 155
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 109
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 90
- 239000010408 film Substances 0.000 description 82
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 75
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 58
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 55
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 54
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 47
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 47
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 41
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 41
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 41
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 40
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 30
- 239000002585 base Substances 0.000 description 26
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 25
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 23
- 229910021392 nanocarbon Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 21
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 19
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 19
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 19
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 18
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 17
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 17
- 125000003983 fluorenyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 15
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 14
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 13
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 10
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 10
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 9
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 9
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical group [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 7
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 7
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 6
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 6
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 5
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 5
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical group C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 4
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000002048 multi walled nanotube Substances 0.000 description 4
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 4
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 4
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 4
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 3
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 3
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 238000001241 arc-discharge method Methods 0.000 description 3
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 3
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical group N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006443 Buchwald-Hartwig cross coupling reaction Methods 0.000 description 2
- KFCMUZONUPOPAC-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2[SiH2]C3=CC=CC=C3C2=C1 Chemical group C1=CC=C2[SiH2]C3=CC=CC=C3C2=C1 KFCMUZONUPOPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical class CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005421 aryl sulfonamido group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- OTAFHZMPRISVEM-UHFFFAOYSA-N chromone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C=COC2=C1 OTAFHZMPRISVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical group C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- JUWSSMXCCAMYGX-UHFFFAOYSA-N gold platinum Chemical compound [Pt].[Au] JUWSSMXCCAMYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical group C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKCYHJWLYTUGCC-UHFFFAOYSA-N nonan-2-one Chemical compound CCCCCCCC(C)=O VKCYHJWLYTUGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical group C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N pteridine Chemical group N1=CN=CC2=NC=CN=C21 CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 2
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N selenophene Chemical group C=1C=C[se]C=1 MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003967 siloles Chemical group 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]thiophene Chemical group S1C=CC2=C1C=CS2 VJYJJHQEVLEOFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940048102 triphosphoric acid Drugs 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAGVANYWTGRDOU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(S(=O)(=O)O)=CC(=O)C2=C1 IAGVANYWTGRDOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 1-Isopropyl-2-methylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C WWRCMNKATXZARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZBFMJOASEONC-UHFFFAOYSA-N 1-Methyl-2-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1C YQZBFMJOASEONC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C)=C1 IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUAJZTAVXLCEGA-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)OC(=O)C=C TUAJZTAVXLCEGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPWXVNZFDXZIMS-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)OC(=O)C=C CPWXVNZFDXZIMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJVYYDCBKKKIPD-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n,2-n,2-n-tetramethylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1N(C)C CJVYYDCBKKKIPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQLIGMASAVJVON-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=CC=CC2=C1 QQLIGMASAVJVON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHJASYAPFSVYHD-UHFFFAOYSA-N 1-oxofluorene-2,3-dicarbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C3=CC(C#N)=C(C#N)C(=O)C3=CC2=C1 SHJASYAPFSVYHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XBNGYFFABRKICK-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentafluorophenol Chemical compound OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F XBNGYFFABRKICK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(dodecylsulfanylmethyl)-6-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCCCCCC)=C1 VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMHSUNDEGHRBNV-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloropyrimidine-5-carbonitrile Chemical compound ClC1=NC=C(C#N)C(Cl)=N1 KMHSUNDEGHRBNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBVDUUXRXJTAJC-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromothiophene Chemical compound BrC1=CC=C(Br)S1 KBVDUUXRXJTAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSIXDIVVMZXRMJ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydropyrrolo[3,4-c]pyrrole-3,6-dione Chemical group O=C1NC=C2C(=O)NC=C21 SSIXDIVVMZXRMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZVHYFUVMQIGGM-UHFFFAOYSA-N 2-Hexylthiophene Chemical compound CCCCCCC1=CC=CS1 QZVHYFUVMQIGGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)COC(C)CO JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 2-[3-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,2,4-oxadiazol-5-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NOC(=N1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 SXAMGRAIZSSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXHWGNYCZPISET-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dicyanomethylidene)-2,3,5,6-tetrafluorocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]propanedinitrile Chemical compound FC1=C(F)C(=C(C#N)C#N)C(F)=C(F)C1=C(C#N)C#N IXHWGNYCZPISET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRPAUEVGEGEPFQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]pyrazol-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C=1C=NN(C=1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 ZRPAUEVGEGEPFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical group N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZORYGRKQHUBCY-UHFFFAOYSA-N 3-butylthiophene Chemical compound [CH2]CCCC=1C=CSC=1 BZORYGRKQHUBCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHFKGYGDXXLQQ-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexyloxythiophene Chemical compound C1CCCCC1OC1=CSC=C1 QRHFKGYGDXXLQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGHYZEFIPLFAOC-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylthiophene Chemical compound C1CCCCC1C1=CSC=C1 FGHYZEFIPLFAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWCYHUDGBIAFEG-UHFFFAOYSA-N 3-dodecoxy-4-methylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CSC=C1C QWCYHUDGBIAFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQKVUWMATDWFJI-UHFFFAOYSA-N 3-dodecoxythiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=1C=CSC=1 HQKVUWMATDWFJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFKWIEFTBMACPZ-UHFFFAOYSA-N 3-dodecylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=1C=CSC=1 RFKWIEFTBMACPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDEGOEYUQCUBPE-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxythiophene Chemical compound CCOC=1C=CSC=1 RDEGOEYUQCUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFJHLDVJFOQWLT-UHFFFAOYSA-N 3-hexoxythiophene Chemical compound CCCCCCOC=1C=CSC=1 GFJHLDVJFOQWLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)CCOC(=O)C=C JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHMRZSHXNJVGHN-UHFFFAOYSA-N 3-methoxythiophene Chemical compound COC=1C=[C]SC=1 RHMRZSHXNJVGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUGLMATUSUVYMV-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[2.2.1]hepta-1,3,5-triene Chemical class C1=C(O2)C=CC2=C1 DUGLMATUSUVYMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODPYDILFQYARBK-UHFFFAOYSA-N 7-thiabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-triene Chemical class C1=CC=C2SC2=C1 ODPYDILFQYARBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003026 Acene Polymers 0.000 description 1
- 239000005964 Acibenzolar-S-methyl Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001152 Bi alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- YLIAWYPQYFNYRS-UHFFFAOYSA-N C#C.C1=CC=CC2=CC=CC=C21 Chemical group C#C.C1=CC=CC2=CC=CC=C21 YLIAWYPQYFNYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRRHFELSWGJIPQ-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)OC(CCC)O Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)OC(CCC)O YRRHFELSWGJIPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910002422 La(NO3)3·6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000914 Metallic fiber Polymers 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910019800 NbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LYXFCGCYJQCSRL-UHFFFAOYSA-N OOSO Chemical compound OOSO LYXFCGCYJQCSRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N Octadecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN REYJJPSVUYRZGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000280 Poly(3-octylthiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018287 SbF 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N Tetrazine Chemical compound C1=CN=NN=N1 DPOPAJRDYZGTIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006887 Ullmann reaction Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 1
- STLLXWLDRUVCHL-UHFFFAOYSA-N [2-[1-[2-hydroxy-3,5-bis(2-methylbutan-2-yl)phenyl]ethyl]-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(C(C)C=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC)C(C)(C)CC)OC(=O)C=C)=C1O STLLXWLDRUVCHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N [2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenyl] prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)OC(=O)C=C)=C1O IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUNDPJSOVHMPJ-UHFFFAOYSA-N [Bi].[Pt].[Fe] Chemical compound [Bi].[Pt].[Fe] NBUNDPJSOVHMPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLWKBZDEWGQMOW-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Sn].[Pt] Chemical compound [Fe].[Sn].[Pt] FLWKBZDEWGQMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJZRYMAJUOARDZ-UHFFFAOYSA-N [Pb].[Pt].[Fe] Chemical compound [Pb].[Pt].[Fe] QJZRYMAJUOARDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOBIJTFWSZQXPN-UHFFFAOYSA-N [Rh].[Ag] Chemical compound [Rh].[Ag] IOBIJTFWSZQXPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIYFFLYGSHJWFF-UHFFFAOYSA-N [Zn].N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 Chemical compound [Zn].N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 YIYFFLYGSHJWFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDHWWBZFRZWVHO-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(phosphonooxy)phosphoryl] phosphono hydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O YDHWWBZFRZWVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000005571 adamantylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006177 alkyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005093 alkyl carbonyl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005576 amination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- KZOWNALBTMILAP-JBMRGDGGSA-N ancitabine hydrochloride Chemical compound Cl.N=C1C=CN2[C@@H]3O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@@H]3OC2=N1 KZOWNALBTMILAP-JBMRGDGGSA-N 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005427 anthranyl group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000002812 cholic acid derivative Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000000366 colloid method Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- IUNUQZUNCWXDMP-UHFFFAOYSA-N copper iron platinum Chemical compound [Fe][Pt][Cu] IUNUQZUNCWXDMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPPWAISRWKKERW-UHFFFAOYSA-N copper palladium Chemical compound [Cu].[Pd] XPPWAISRWKKERW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N cyclooctylcyclooctane Chemical group C1CCCCCCC1C1CCCCCCC1 NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZVGSSNIUNSOFA-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran-1-carboxylic acid Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2C(=O)O UZVGSSNIUNSOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 238000001595 flow curve Methods 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- PQTCMBYFWMFIGM-UHFFFAOYSA-N gold silver Chemical compound [Ag].[Au] PQTCMBYFWMFIGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N hexanal Chemical compound CCCCCC=O JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000981 high-pressure carbon monoxide method Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetone Chemical compound CC(=O)CO XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002467 indacenes Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229930002839 ionone Natural products 0.000 description 1
- 150000002499 ionone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PWBYYTXZCUZPRD-UHFFFAOYSA-N iron platinum Chemical compound [Fe][Pt][Pt] PWBYYTXZCUZPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002462 isocyano group Chemical group *[N+]#[C-] 0.000 description 1
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006256 n-propyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002116 nanohorn Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- YZMHQCWXYHARLS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC=C21 YZMHQCWXYHARLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- BSIDXUHWUKTRQL-UHFFFAOYSA-N nickel palladium Chemical compound [Ni].[Pd] BSIDXUHWUKTRQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHFUZHODSMOHU-UHFFFAOYSA-N nonanal Chemical compound CCCCCCCCC=O GYHFUZHODSMOHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 125000005574 norbornylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N octanal Chemical compound CCCCCCCC=O NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N p-methylisopropylbenzene Natural products CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N pentachloro-phenol Natural products OC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- QCCDLTOVEPVEJK-UHFFFAOYSA-N phenylacetone Chemical compound CC(=O)CC1=CC=CC=C1 QCCDLTOVEPVEJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000001420 photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000001955 polymer synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003220 pyrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- YEYHFKBVNARCNE-UHFFFAOYSA-N pyrido[2,3-b]pyrazine Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CN=C21 YEYHFKBVNARCNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000029058 respiratory gaseous exchange Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000005082 selenophenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NRHMKIHPTBHXPF-TUJRSCDTSA-M sodium cholate Chemical compound [Na+].C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC([O-])=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 NRHMKIHPTBHXPF-TUJRSCDTSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- TULWUZJYDBGXMY-UHFFFAOYSA-N tellurophene Chemical group [Te]1C=CC=C1 TULWUZJYDBGXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- JTQAPFZZCXWQNQ-UHFFFAOYSA-N thiirene Chemical class S1C=C1 JTQAPFZZCXWQNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMJFYMAHEGJHFH-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VMJFYMAHEGJHFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000005199 ultracentrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002918 waste heat Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- FUTVBRXUIKZACV-UHFFFAOYSA-L zinc;3-[18-(2-carboxyethyl)-8,13-bis(ethenyl)-3,7,12,17-tetramethylporphyrin-21,23-diid-2-yl]propanoic acid Chemical compound [Zn+2].[N-]1C(C=C2C(=C(C=C)C(C=C3C(=C(C=C)C(=C4)[N-]3)C)=N2)C)=C(C)C(CCC(O)=O)=C1C=C1C(CCC(O)=O)=C(C)C4=N1 FUTVBRXUIKZACV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/01—Manufacture or treatment
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- H10N10/80—Constructional details
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- H10N10/851—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
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Definitions
- the present invention relates to a method for producing a thermoelectric conversion element and a method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer.
- thermoelectric conversion elements carbon nanotubes having high electrical conductivity have attracted attention as new conductive materials that replace conventional inorganic materials such as ITO (indium tin oxide).
- nano-conductive materials especially carbon nanotubes
- these nanometer-sized conductive materials are prone to agglomerate and therefore have poor dispersibility in dispersion media, improving dispersibility when used as conductive materials. It is hoped to do.
- a method for improving the dispersibility of carbon nanotubes in a dispersion medium a method using a specific carbon fiber dispersant (see, for example, Patent Document 1), a method employing a jet mill or ultrasonic treatment as a dispersing means.
- a preferable dispersion method includes a method of sequentially performing a mechanical homogenizer method and an ultrasonic dispersion method (for example, refer to Patent Document 3).
- thermoelectric conversion layer is a dispersion for forming a thermoelectric conversion layer (referred to as a dispersion for thermoelectric conversion layer in the present invention), a coating liquid of a conductive material having a high solid content concentration and a high viscosity, such as a conductive material. From the viewpoint of productivity, production cost, etc., it is desirable to form by a printing method using a paste of a functional material.
- nano-conductive materials such as carbon nanotubes have a great technical problem of low dispersibility, and both of the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 have dispersibility of carbon nanotubes. It is insufficient. In addition, the film formability and printability of the dispersion for thermoelectric conversion layers are still not sufficient. Therefore, in order to form a thermoelectric conversion layer having high conductivity and excellent thermoelectric conversion performance, the dispersibility of nano-conductive materials, particularly carbon nanotubes, is further improved in addition to the film formability and printability of the dispersion for thermoelectric conversion layers. There is a need to improve.
- thermoelectric conversion layer dispersion having a certain solid content concentration and viscosity can be prepared, and a thermoelectric conversion layer excellent in thermoelectric conversion performance can be formed.
- thermoelectric conversion performance required for thermoelectric conversion elements has been increasing year by year, and in order to achieve the higher thermoelectric conversion performance required in the future, the dispersibility of carbon nanotubes has been further improved, and film formability and printability have been improved. Development of an excellent dispersion for a thermoelectric conversion layer is desired.
- the present invention provides a method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer that is excellent in dispersibility of a nano-conductive material and has high film formability and printability, as well as conductivity and the use of this dispersion for a thermoelectric conversion layer. It aims at providing the manufacturing method of the thermoelectric conversion element excellent in the thermoelectric conversion performance.
- the present inventors have studied various methods for dispersing carbon nanotubes in a dispersion for a thermoelectric conversion layer in order to achieve the above-described problems.
- the dispersion processing object is rotated at a high speed while being pressed against the inner wall surface of the device by centrifugal force in a thin film cylindrical shape, and shear stress generated due to the centrifugal force and the speed difference between the inner wall surface of the device acts on the dispersion processing object.
- carbon nanotubes and dispersion media as dispersion treatment objects are applied to the high-speed swirling thin film dispersion method, carbon nanotubes can be highly dispersed in the dispersion medium, and film formability and printability can be improved. .
- thermoelectric conversion layer having high thermoelectric conversion performance in order to produce a thermoelectric conversion layer having high thermoelectric conversion performance by a printing method, a dispersion for a thermoelectric conversion layer having a high solid content concentration and a high viscosity is required.
- the higher the solid content concentration and the higher the viscosity the greater the shear stress that acts, and the dispersibility of the carbon nanotubes can be further enhanced.
- a dispersion for a thermoelectric conversion layer capable of forming a thermoelectric conversion layer having high thermoelectric conversion performance can be prepared. The present invention has been completed based on these findings.
- film formability refers to a property related to the film quality of a thermoelectric conversion layer (film) formed by applying a dispersion for a thermoelectric conversion layer to a substrate, for example, there is no aggregate and it is uniform, -The improvement of the layer quality of the thermoelectric conversion layer which is not fragile, and the possibility of thickening the thermoelectric conversion layer to a thickness of, for example, 5 ⁇ m or more were evaluated. Therefore, “excellent in film formability” means that a homogeneous film can be produced, and that a thermoelectric conversion layer can be formed without dripping of the dispersion for the thermoelectric conversion layer.
- thermoelectric conversion layer dispersion relates to material characteristics when the thermoelectric conversion layer dispersion is printed on a substrate to form the thermoelectric conversion layer.
- Excellent printability means, for example, that the thixotropic property of the dispersion for thermoelectric conversion layer is moderately large, can be printed uniformly, and is excellent in moldability.
- thermoelectric conversion element having a first electrode, a thermoelectric conversion layer, and a second electrode on a substrate, wherein at least a nano-conductive material and a dispersion medium are subjected to a high-speed rotating thin film dispersion method.
- a method for producing a thermoelectric conversion element comprising: a step of preparing a dispersion for a thermoelectric conversion layer containing a nanoconductive material; and a step of applying the prepared dispersion for a thermoelectric conversion layer on a substrate and drying the substrate.
- thermoelectric conversion element according to ⁇ 1>, wherein the solid content concentration of the dispersion for the thermoelectric conversion layer is 0.5 to 20 w / v%.
- ⁇ 3> The method for producing a thermoelectric conversion element according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the content of the nanoconductive material in the solid content of the dispersion for the thermoelectric conversion layer is 10% by mass or more.
- ⁇ 4> The method for producing a thermoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the viscosity of the dispersion for the thermoelectric conversion layer is 10 mPa ⁇ s or more.
- thermoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the high-speed swirling thin film dispersion method is performed at a peripheral speed of 10 to 40 m / sec.
- ⁇ 6> The method for producing a thermoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the dispersant is further subjected to a high-speed rotating thin film dispersion method.
- ⁇ 7> The method for producing a thermoelectric conversion element according to ⁇ 6>, wherein the dispersant is a conjugated polymer.
- thermoelectric conversion element any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the non-conjugated polymer is further subjected to a high-speed rotating thin film dispersion method.
- the nanoconductive material is at least one selected from the group consisting of carbon nanotubes, carbon nanofibers, fullerenes, graphite, graphene, carbon nanoparticles, and metal nanowires.
- the nano-conductive material is a single-walled carbon nanotube, the diameter of the single-walled carbon nanotube is 1.5 to 2.0 nm, the length is 1 ⁇ m or more, and the G / D ratio is 30 or more
- the method for producing a thermoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, wherein ⁇ 12> The method for producing a thermoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, wherein the dispersion for a thermoelectric conversion layer is applied onto a substrate by a printing method.
- thermoelectric conversion according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>, wherein the average particle diameter D of the nanoconductive material in the dispersion for the thermoelectric conversion layer measured by a dynamic light scattering method is 1000 nm or less.
- Device manufacturing method ⁇ 14>
- the ratio [dD / D] of the half-value width dD and the average particle diameter D of the particle size distribution of the nano-conductive material in the dispersion for thermoelectric conversion layers measured by the dynamic light scattering method is 5 or less
- the method for producing a thermoelectric conversion element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>.
- thermoelectric conversion layer for forming a thermoelectric conversion layer of a thermoelectric conversion element, wherein at least a nanoconductive material and a dispersion medium are subjected to a high-speed rotating thin film dispersion method
- a method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer in which a material is dispersed in a dispersion medium A method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer in which a material is dispersed in a dispersion medium.
- a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
- the xxx group when the xxx group is referred to as a substituent, the xxx group may have an arbitrary substituent.
- the repeating structure (also referred to as a repeating unit) represented by each formula includes different repeating structures as long as they are within the range represented by the formula, even if they are not exactly the same repeating structure.
- the repeating structure represented by each formula may be only a repeating structure having a methyl group, and has another alkyl group such as an ethyl group in addition to the repeating structure having a methyl group. It may contain a repeating structure.
- thermoelectric conversion layer of the present invention According to the method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer of the present invention, it is possible to produce a dispersion for a thermoelectric conversion layer that is excellent in dispersibility of a nanoconductive material and has high film formability and printability. Moreover, according to the manufacturing method of the thermoelectric conversion element of this invention, the thermoelectric conversion element excellent in electroconductivity and thermoelectric conversion performance can be manufactured.
- thermoelectric conversion element of this invention It is a figure which shows typically the cross section of an example of the thermoelectric conversion element manufactured by the manufacturing method of the thermoelectric conversion element of this invention. It is a figure which shows typically the cross section of another example of the thermoelectric conversion element manufactured by the manufacturing method of the thermoelectric conversion element of this invention. It is sectional drawing which showed the base material used for the inkjet method.
- thermoelectric conversion element manufactured by the method for manufacturing a thermoelectric conversion element of the present invention (sometimes referred to as the thermoelectric conversion element of the present invention) will be described.
- the thermoelectric conversion element of the present invention has a first electrode, a thermoelectric conversion layer, and a second electrode on a substrate, and at least one surface of the thermoelectric conversion layer is in contact with the first electrode and the second electrode. If it arrange
- thermoelectric conversion layer is sandwiched between the first electrode and the second electrode, that is, the thermoelectric conversion element of the present invention has the first electrode, the thermoelectric conversion layer, and the second electrode in this order on the substrate. It may be an embodiment. Further, the thermoelectric conversion layer is disposed on one surface so as to be in contact with the first electrode and the second electrode, that is, the thermoelectric conversion elements of the present invention are formed on the substrate so as to be separated from each other. The aspect which has the thermoelectric conversion layer formed into a film on both electrodes may be sufficient.
- thermoelectric conversion layer is a dispersion for a thermoelectric conversion layer produced by the method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer of the present invention (hereinafter referred to as a dispersion for a thermoelectric conversion layer or simply a dispersion for a thermoelectric conversion layer used in the present invention). Is formed).
- thermoelectric conversion element of the present invention is the structure of the element shown in FIGS.
- the arrows indicate the direction of the temperature difference when the thermoelectric conversion element is used.
- the thermoelectric conversion element 1 shown in FIG. 1 includes a pair of electrodes including a first electrode 13 and a second electrode 15 on a first base material 12, and a thermoelectric conversion layer 14 between the electrodes 13 and 15. ing.
- a second substrate 16 is disposed on the other surface of the second electrode 15, and the metal plates 11 and 17 face each other outside the first substrate 12 and the second substrate 16. Is arranged.
- the metal plates 11 and 17 are not particularly limited, and are formed of a metal material that is usually used for thermoelectric conversion elements.
- the thermoelectric conversion element 1 is configured in the order of a base material 12, a first electrode 13, a thermoelectric conversion layer 14, and a second electrode 15.
- thermoelectric conversion element 1 the first electrode 13 or the second electrode 15 is provided on the surface of each of the two substrates 12 and 16 (the surface on which the thermoelectric conversion layer 14 is formed), and thermoelectric conversion is performed between these electrodes.
- a structure having the layer 14 is preferable.
- thermoelectric conversion element 2 the first electrode 23 and the second electrode 25 are disposed on the first base material 22 so as to cover both the first electrode 23 and the second electrode 25. Is provided with a thermoelectric conversion layer 24. A second base material 26 is provided on the thermoelectric conversion layer 24.
- the thermoelectric conversion element 2 is the same as the thermoelectric conversion element 1 except for the arrangement positions of the first electrode 23 and the second electrode 25 and the presence or absence of a metal plate.
- the thermoelectric conversion element 2 includes a base material 22, a first electrode 23, a second electrode 25, and a thermoelectric conversion layer 24 in this order.
- the surface of the thermoelectric conversion layer is preferably covered with an electrode or a substrate.
- one surface of the thermoelectric conversion layer 14 is covered with the first base material 12 via the first electrode 13, and the other surface is the second electrode via the second electrode 15. It is preferable that the substrate 16 is covered.
- the second electrode 15 may be exposed to the air as the outermost surface without providing the second base material 16 outside the second electrode 15.
- one surface of the thermoelectric conversion layer 24 is covered with the first electrode 23, the second electrode 25, and the first base material 22, and the other surface is also the second base material 26. It is preferable that it is covered with. In this case, the thermoelectric conversion layer 24 may be exposed to air as the outermost surface without providing the second base material 26 outside the thermoelectric conversion layer 24.
- the substrate is preferably provided with a thermoelectric conversion layer in the form of a film (film).
- thermoelectric conversion performance of the thermoelectric conversion element of the present invention can be expressed by a figure of merit ZT represented by the following formula (A).
- Figure of merit ZT S 2 ⁇ ⁇ ⁇ T / ⁇ (A)
- thermoelectric conversion element of the present invention functions to transmit a temperature difference in the thickness direction or the surface direction in a state where a temperature difference is generated in the thickness direction or the surface direction of the thermoelectric conversion layer. Therefore, it is preferable to form the thermoelectric conversion layer by forming the dispersion for a thermoelectric conversion layer of the present invention into a shape having a certain thickness. Therefore, the thermoelectric conversion layer is preferably formed by coating, such as a printing method. In this case, the dispersion for the thermoelectric conversion layer has a high solid content concentration and a high viscosity, and good film formability and Printability is required. The substrate adhesion may be required.
- the high viscosity means that the viscosity at 25 ° C. is at least 4 mPa ⁇ s, preferably 10 mPa ⁇ s or more, more preferably 50 mPa ⁇ s or more.
- the film formability and printability are as described above.
- Basis material adhesion refers to the degree of adhesion of the thermoelectric conversion layer dispersion to the substrate when the dispersion for thermoelectric conversion layer is printed / coated on the substrate, and “excellent substrate adhesion” It means that the coating layer of the conversion layer dispersion does not peel off and is in close contact with the substrate.
- the dispersion for a thermoelectric conversion layer used in the present invention is a dispersion having a high solid content concentration and a high viscosity, in which the dispersibility of the nanoconductive material is good and the film formability and printability are excellent. Therefore, it is also suitable for film formation of a thermoelectric conversion layer, particularly film formation by a coating method such as a printing method.
- the method for producing a thermoelectric conversion element of the present invention includes a step of preparing a dispersion for a thermoelectric conversion layer containing a nanoconductive material by subjecting at least a nanoconductive material and a dispersion medium to a high-speed rotating thin film dispersion method, And applying the dried dispersion for a thermoelectric conversion layer on a substrate and drying.
- the dispersion preparation process which is also the manufacturing method of the dispersion for thermoelectric conversion layers of this invention is implemented, and the dispersion for thermoelectric conversion layers used for this invention is carried out.
- thermoelectric conversion elements of this invention Each component used for the manufacturing method of the dispersion for thermoelectric conversion layers of this invention and the manufacturing method of the thermoelectric conversion element of this invention is demonstrated.
- Components used in these production methods include nano-conductive materials and dispersion media, and optionally dispersants, non-conjugated polymers, dopants, excitation assist agents, metal elements, and other components.
- the nano electroconductive material used for this invention should just be a material which has the length of a nanometer size at least one side, and has electroconductivity.
- a nanoconductive material at least one side is a carbon material having conductivity of a nanometer size (hereinafter sometimes referred to as a nanocarbon material), and at least one side is a nanometer size. Examples thereof include metal materials having a size (hereinafter sometimes referred to as nano metal materials).
- the length of the one side may be the length of any side of the nanoconductive material, and is not particularly limited. However, the non-aggregate of the nanoconductive material (for example, primary particles or one molecule is not aggregated).
- the length in the major axis direction (referring to the state) or the length in the minor axis direction (also referred to as diameter) is preferable.
- the length of one side can be measured by image analysis such as a transmission electron microscope (TEM) or the dynamic light scattering method (particularly in the case of particles).
- the nano conductive material used in the present invention is a nano carbon material or a nano metal material, which will be described later, carbon nanotube (hereinafter also referred to as CNT), carbon nanofiber, fullerene, graphite, graphene, and carbon nanoparticle nanocarbon. Materials and metal nanowires are preferable, and carbon nanotubes are particularly preferable from the viewpoint of improving conductivity and dispersibility in a dispersion medium.
- CNT carbon nanotube
- the nano conductive material may be used alone or in combination of two or more. When two or more types are used together as the nano-conductive material, at least one type of nano-carbon material and nano metal material may be used in combination, or two types of nano-carbon materials or nano-metal materials may be used in combination. .
- Nano-carbon material examples include the above-mentioned nanometer-sized conductive material in which carbon atoms are chemically bonded by a carbon-carbon bond composed of sp 2 hybrid orbitals of carbon atoms.
- fullerenes including metal-encapsulated fullerenes and onion-like fullerenes
- carbon nanotubes including peapods
- carbon nanohorns with one side closed
- carbon nanofibers carbon nanowalls
- carbon Examples thereof include nanofilaments, carbon nanocoils, vapor grown carbon (VGCF), graphite, graphene, carbon nanoparticles, and cup-shaped nanocarbon materials having holes in the heads of carbon nanotubes.
- various carbon blacks having a graphite-type crystal structure and exhibiting conductivity can be used as the nanocarbon material, such as ketjen black (registered trademark) and acetylene black. And carbon black such as (registered trademark).
- nanocarbon materials can be manufactured by a conventional manufacturing method.
- vapor phase growth methods such as catalytic hydrogen reduction of carbon dioxide, arc discharge method, laser evaporation method (laser ablation method), chemical vapor deposition method (hereinafter referred to as CVD method), vapor phase flow method, Examples thereof include a HiPco method and an oil furnace method in which carbon monoxide is reacted with an iron catalyst at high temperature and high pressure to grow in a gas phase.
- the nanocarbon material produced in this way can be used as it is, or a material purified by washing, centrifugation, filtration, oxidation, chromatography, or the like can be used.
- the nanocarbon material should be pulverized using a ball-type kneading device such as a ball mill, vibration mill, sand mill, roll mill, etc., or cut short by chemical or physical treatment, etc., as necessary. You can also.
- a ball-type kneading device such as a ball mill, vibration mill, sand mill, roll mill, etc., or cut short by chemical or physical treatment, etc., as necessary. You can also.
- carbon nanotubes are preferable, and carbon nanotubes are particularly preferable.
- CNT is a single-layer CNT in which a single carbon film (graphene sheet) is wound in a cylindrical shape, a double-layer CNT in which two graphene sheets are wound in a concentric shape, and a plurality of graphene sheets in a concentric shape
- multi-walled CNTs wound around In the present invention, single-walled CNTs, double-walled CNTs, and multilayered CNTs may be used alone or in combination of two or more.
- single-walled CNT and double-walled CNT having excellent properties in terms of conductivity and semiconductor properties are preferable, and single-walled CNT is more preferable.
- single-walled CNT the symmetry of the helical structure based on the hexagonal orientation of the graphene sheet graphene is called axial chiral, and the two-dimensional lattice vector from the reference point of the 6-membered ring on the graphene is chiral. It is called a vector.
- the (n, m) obtained by indexing this chiral vector is called a chiral index, and can be classified into metallic and semiconducting properties by this chiral index.
- a material having nm that is a multiple of 3 indicates metallic properties
- a material that is not a multiple of 3 indicates semiconductor properties.
- Single-walled CNTs may be semiconducting or metallic, and both may be used in combination.
- the CNT may contain a metal or the like, or may contain a molecule such as fullerene.
- CNT can be produced by an arc discharge method, a CVD method, a laser ablation method, or the like.
- the CNT used in the present invention may be obtained by any method, but is preferably obtained by an arc discharge method and a CVD method.
- fullerenes, graphite, and amorphous carbon may be produced as by-products at the same time. You may refine
- the method for purifying CNTs is not particularly limited. In addition to the above-described purification methods, acid treatment with nitric acid, sulfuric acid or the like and ultrasonic treatment are effective for removing impurities. In addition, it is more preferable to perform separation and removal using a filter from the viewpoint of improving purity.
- CNT After purification, the obtained CNT can be used as it is. Moreover, since CNT is generally produced in a string shape, it may be cut into a desired length depending on the application. CNTs can be cut into short fibers by acid treatment with nitric acid, sulfuric acid or the like, ultrasonic treatment, freeze pulverization method or the like. In addition, it is also preferable to perform separation using a filter from the viewpoint of improving purity. In the present invention, not only cut CNTs but also CNTs produced in the form of short fibers in advance can be used in the same manner.
- Such short fibrous CNTs form a catalytic metal such as iron or cobalt on a substrate, and thermally decompose carbon compounds on the surface at 700 to 900 ° C. using a CVD method to vapor-phase CNTs. By doing so, it is obtained in a shape oriented in the direction perpendicular to the substrate surface.
- the short fiber CNTs thus produced can be taken out by a method such as peeling off from the substrate.
- the short fibrous CNTs can be obtained by supporting a catalytic metal on a porous support such as porous silicon or an anodic oxide film of alumina and growing the CNTs on the surface by the CVD method.
- the average length (also simply referred to as length) of the CNTs used in the present invention is not particularly limited, but is 0.01 ⁇ m or more and 2000 ⁇ m from the viewpoint of durability, transparency, film formability, conductivity, and the like. The following is preferable, and 0.01 ⁇ m or more and 1000 ⁇ m or less is more preferable. Furthermore, 1 micrometer or more is preferable and 1 micrometer or more and 1000 micrometers or less are especially preferable.
- the diameter of the CNT used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.4 nm or more and 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and still more preferably 15 nm from the viewpoints of durability, transparency, film formability, conductivity, and the like. It is as follows. In particular, when single-walled CNT is used, 0.5 nm to 3 nm is preferable, more preferably 1.0 nm to 3 nm, still more preferably 1.5 nm to 2.5 nm, and particularly preferably 1.5 nm or more. 2.0 nm. The diameter can be measured by the method described later.
- CNTs used in the present invention may contain defective CNTs. Such CNT defects are preferably reduced because the conductivity of the dispersion for the thermoelectric conversion layer and the like is lowered.
- the amount of CNT defects can be estimated by the intensity ratio G / D (hereinafter referred to as G / D ratio) of the G-band and D-band of the Raman spectrum. It can be estimated that the higher the G / D ratio, the less the amount of defects, the CNT material.
- the G / D ratio is preferably 10 or more, and more preferably 30 or more.
- the length in the major axis direction is not particularly limited. Is the same as the above CNT.
- the nanocarbon material is carbon nanowall, graphite, or graphene, it is not particularly limited, but the film thickness is preferably 1 to 100 nm and the length (average value) of one side is preferably 1 to 100 ⁇ m.
- the nanocarbon material is carbon nanoparticles, the diameter (average particle diameter) is not particularly limited, but is preferably 1 to 1000 nm.
- Nanometallic material is a fibrous or particulate metallic material, and specifically, fibrous metallic material (also referred to as metallic fiber), particulate metallic material (also referred to as metallic nanoparticle), etc. Is mentioned.
- the metal nanowire described later is preferable as the nanometal material.
- the metal fiber preferably has a solid structure or a hollow structure.
- a metal fiber having a solid structure with an average minor axis length of 1 to 1,000 nm and an average major axis length of 1 to 100 ⁇ m is called a metal nanowire, and an average minor axis length of 1 to 1,000 nm.
- a metal fiber having an average major axis length of 0.1 to 1,000 ⁇ m and having a hollow structure is called a metal nanotube.
- the metal fiber material may be any metal having conductivity and can be appropriately selected according to the purpose.
- it consists of at least one metal element selected from the group consisting of the metal elements of the 4th period, 5th period and 6th period of the Long Periodic Table (International Pure and Applied Chemistry Union (IUPAC), 1991 revision) Metal is preferred.
- a metal composed of at least one metal element selected from Group 2 to Group 14 is more preferable.
- Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, Group 13 And a metal composed of at least one metal element selected from Group 14 is more preferred.
- metals examples include copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantel, titanium, bismuth, antimony, Lead or an alloy thereof can be used.
- silver and silver alloys are preferable in terms of excellent conductivity.
- the metal used in the silver alloy include platinum, osmium, palladium, iridium and the like.
- the metal is particularly preferably contained as a main component, and may be used alone or in combination of two or more.
- the shape of the metal nanowire is not particularly limited as long as the metal nanowire is made of the above-described metal and has a solid structure, and can be appropriately selected according to the purpose.
- it can take any shape such as a columnar shape, a rectangular parallelepiped shape, a columnar shape with a polygonal cross section, and the corners of the cylindrical shape and the polygonal shape of the cross section are rounded in that the transparency of the thermoelectric conversion layer is increased.
- a cross-sectional shape is preferred.
- the cross-sectional shape of the metal nanowire can be examined by observing with a transmission electron microscope (TEM).
- TEM transmission electron microscope
- the average minor axis length (sometimes referred to as an average minor axis diameter or an average diameter) of the metal nanowire is preferably 50 nm or less, more preferably 1 to 50 nm, from the same viewpoint as the above-described nanoconductive material. 40 nm is more preferable, and 15 to 35 nm is particularly preferable.
- the average minor axis length can be calculated as the average value of the minor axis lengths of 300 metal nanowires using, for example, a transmission electron microscope (TEM; JEM-2000FX, manufactured by JEOL Ltd.).
- TEM transmission electron microscope
- JEM-2000FX manufactured by JEOL Ltd.
- the average major axis length (sometimes referred to as the average length) of the metal nanowire is preferably 1 ⁇ m or more, more preferably 1 to 40 ⁇ m, still more preferably 3 to 35 ⁇ m, and particularly preferably 5 to 30 ⁇ m.
- the average major axis length can be calculated as an average value of the major axis lengths of 300 metal nanowires using, for example, a transmission electron microscope (TEM; JEM-2000FX, manufactured by JEOL Ltd.).
- TEM transmission electron microscope
- JEM-2000FX manufactured by JEOL Ltd.
- the long axis length is a value calculated from the radius and the curvature in consideration of a circle having the arc.
- the metal nanowire may be manufactured by any manufacturing method, but the metal ions are reduced while heating in a solvent in which a halogen compound and a dispersion additive are dissolved, as described in JP 2012-230881 A. It is preferable to manufacture by a manufacturing method. Details of halogen compounds, dispersion additives and solvents, heating conditions, and the like are described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-230881. In addition to this production method, for example, JP 2009-215594 A, JP 2009-242880 A, JP 2009-299162 A, JP 2010-84173 A, and JP 2010-86714 A. A metal nanowire can also be manufactured by the manufacturing method described in each of the above.
- the shape of the metal nanotube is not particularly limited as long as it is formed of the above-described metal in a hollow structure, and may be a single layer or a multilayer.
- the metal nanotubes are preferably single-walled in that they are excellent in conductivity and thermal conductivity.
- the thickness of the metal nanotube (difference between the outer diameter and the inner diameter) is preferably 3 to 80 nm and more preferably 3 to 30 nm from the viewpoints of durability, transparency, film formability, conductivity, and the like.
- the average long axis length of the metal nanotubes is preferably 1 to 40 ⁇ m, more preferably 3 to 35 ⁇ m, and even more preferably 5 to 30 ⁇ m, from the same viewpoint as the above-described nanoconductive material.
- the average minor axis length of the metal nanotube is preferably the same as the average minor axis length of the metal nanowire.
- the metal nanotube may be manufactured by any manufacturing method, for example, by the manufacturing method described in US Patent Application Publication No. 2005/0056118.
- the metal nanoparticles need only be the above-mentioned metal-formed, particulate (including powder) metal fine particles, and the surface of the metal fine particles or metal fine particles may be coated with a protective agent. What was disperse
- distributed in the dispersion medium may be used.
- Preferred examples of the metal used for the metal nanoparticles include silver, copper, gold, palladium, nickel, rhodium and the like. Also, an alloy composed of at least two of these, an alloy of at least one of these and iron, and the like can be used.
- Examples of the two alloys include platinum-gold alloy, platinum-palladium alloy, gold-silver alloy, silver-palladium alloy, palladium-gold alloy, platinum-gold alloy, rhodium-palladium alloy, silver-rhodium alloy, Examples thereof include copper-palladium alloy and nickel-palladium alloy.
- Examples of iron alloys include iron-platinum alloys, iron-platinum-copper alloys, iron-platinum-tin alloys, iron-platinum-bismuth alloys, and iron-platinum-lead alloys. These metals or alloys can be used alone or in combination of two or more.
- the average particle diameter (dynamic light scattering method) of the metal nanoparticles is preferably 1 to 150 nm from the viewpoint of excellent conductivity.
- a protective agent described in JP2012-2222055 is preferably exemplified, and a protective agent having a linear or branched alkyl chain having 10 to 20 carbon atoms, particularly a fatty acid.
- aliphatic amines, aliphatic thiols or aliphatic alcohols are more preferable.
- the carbon number is 10 to 20
- the storage stability of the metal nanoparticles is high and the conductivity is excellent.
- the fatty acids, aliphatic amines, aliphatic thiols and aliphatic alcohols are preferably those described in JP-A-2012-2222055.
- the metal nanoparticles may be produced by any production method, for example, gas deposition method, sputtering method, metal vapor synthesis method, colloid method, alkoxide method, coprecipitation method, uniform precipitation method, thermal decomposition. Method, chemical reduction method, amine reduction method and solvent evaporation method.
- gas deposition method for example, gas deposition method, sputtering method, metal vapor synthesis method, colloid method, alkoxide method, coprecipitation method, uniform precipitation method, thermal decomposition.
- Method chemical reduction method, amine reduction method and solvent evaporation method.
- a known reducing agent or the like can be appropriately used in addition to selecting and using the above-mentioned protective agent as necessary.
- the thermoelectric conversion layer dispersion used in the present invention preferably contains a dispersant.
- the dispersant used in the present invention is not particularly limited as long as it assists in inhibiting aggregation of the nanoconductive material and dispersing it in the dispersion medium.
- the dispersant is preferably a low molecular dispersant and a conjugated polymer in terms of dispersibility of the nano-conductive material, and more preferably a conjugated polymer in terms of enhancing the thermoelectric conversion performance of the thermoelectric conversion element.
- the low molecular dispersant may be any one having a molecular weight smaller than that of the conjugated polymer described later, and examples thereof include amine compounds, porphyrin compounds, and pyrene compounds.
- examples thereof include amine compounds, porphyrin compounds, and pyrene compounds.
- amine compounds porphyrin compounds, and pyrene compounds.
- octadecylamine, 5,10,15,20-tetrakis (hexadecyloxyphenyl) -21H, 23H-porfine, zinc porphyrin, zinc protoporphyrin and the like can be mentioned.
- surfactant is also mentioned.
- Surfactants include ionic (anionic, cationic and zwitter (amphoteric)) and nonionic (nonionic), and any of them can be used in the present invention.
- anionic surfactant examples include fatty acid salts and cholates as carboxylic acids and sodium linear alkylbenzene sulfonate and sodium lauryl sulfate as sulfonic acids.
- cationic surfactant examples include alkyl trimethyl ammonium salt, dialkyl dimethyl ammonium salt, alkyl benzyl dimethyl ammonium salt, and dialkyl imidazolium salt.
- zwitterionic surfactant examples include alkyl dimethylamine oxide and alkyl carboxybetaine.
- nonionic surfactant examples include polyoxyethylene alkyl ether, fatty acid sorbitan ester, alkyl polyglucoside, fatty acid diethanolamide, alkyl monoglyceryl ether, and the like.
- the dispersion for thermoelectric conversion layers used in the present invention may be a single low molecular dispersant or a combination of two or more low molecular dispersants.
- the conjugated polymer is not particularly limited as long as it has a structure in which the main chain is conjugated with ⁇ electrons or lone electron pairs.
- Examples of such a conjugated structure include a structure in which a single bond and a double bond are alternately linked in a carbon-carbon bond on the main chain.
- conjugated polymers examples include thiophene compounds, pyrrole compounds, aniline compounds, acetylene compounds, p-phenylene compounds, p-phenylene vinylene compounds, p-phenylene ethynylene compounds, p-fluorenylene vinylene compounds, fluorene compounds, Aromatic polyamine compounds (also called arylamine compounds), polyacene compounds, polyphenanthrene compounds, metal phthalocyanine compounds, p-xylylene compounds, vinylene sulfide compounds, m-phenylene compounds, naphthalene vinylene compounds, p-phenylene oxide compounds, phenylene sulfide compounds , Furan compounds, selenophene compounds, azo compounds and metal complex compounds, and hydrogen atoms of these compounds are substituted with substituents (hereinafter referred to as introducing substituents into compounds)
- the derivatives as monomers, by polymerizing or copolymerizing the monomer, a conjug
- a conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing at least one selected compound or derivative is preferable in terms of dispersibility and thermoelectric conversion performance of the nanoconductive material.
- the substituent to be introduced into the above compound is not particularly limited, but is intended to enhance the dispersibility of the conjugated polymer in the dispersion medium in consideration of compatibility with other components and the type of dispersion medium used. Is preferred. Such substituents are not particularly limited, and preferred examples include substituents that can be taken by R 1 to R 13 in the following structural formulas (1) to (5).
- substituent when an organic solvent is used as a dispersion medium, in addition to a linear, branched or cyclic alkyl group, alkoxy group, thioalkyl (alkylthio) group, an alkoxyalkyleneoxy group, an alkoxyalkyleneoxyalkyl group, a crown An ether ring group, an aryl group and the like can be preferably used. These groups may further have a substituent.
- the number of carbon atoms of the substituent is not particularly limited, but is preferably 1 to 12, more preferably 4 to 12, and particularly a long-chain alkyl group, alkoxy group, thioalkyl group, alkoxyalkylene having 6 to 12 carbon atoms.
- each monomer or the substituent further has a hydrophilic group such as a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a hydroxyl group, or a phosphoric acid group.
- dialkylamino group monoalkylamino group, amino group in which alkyl group is not substituted, carboxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, amide group, carbamoyl group, nitro group, cyano group,
- An isocyanate group, an isocyano group, a halogen atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkoxy group or the like can be introduced as a substituent, which is preferable.
- the number of substituents is not particularly limited, and one or more substituents can be appropriately introduced in consideration of dispersibility, compatibility, conductivity, and the like of the conjugated polymer.
- the thiophene conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a thiophene compound and a derivative thereof may be any one having a thiophene compound and a derivative thereof as a repeating structure.
- polythiophene and thiophene containing a repeating structure derived from thiophene examples include conjugated polymers containing a repeating structure derived from a derivative of a thiophene compound having a substituent introduced into the ring, and conjugated polymers containing a repeating structure derived from a thiophene compound having a condensed polycyclic structure containing a thiophene ring.
- the thiophene-based conjugated polymer is preferably a conjugated polymer including a repeating structure derived from a derivative and a conjugated polymer including a repeating structure derived from a thiophene compound having the condensed polycyclic structure.
- Examples of the conjugated polymer including a repeating structure derived from a derivative of a thiophene compound in which a substituent is introduced into the thiophene ring include a conjugated polymer including a repeating structure represented by the following structural formula (1).
- conjugated polymers include, for example, poly-3-methylthiophene, poly-3-butylthiophene, poly-3-hexylthiophene, poly-3-cyclohexylthiophene, poly-3- (2′-ethylhexyl) thiophene, poly Poly (alkyl-substituted thiophene) -based conjugated polymers such as -3-octylthiophene, poly-3-dodecylthiophene, poly-3- (2′-methoxyethoxy) methylthiophene, poly-3- (methoxyethoxyethoxy) methylthiophene , Poly-3-methoxythiophene, poly-3-ethoxythiophene, poly-3-hexyloxythiophene, poly-3-cyclohexyloxythiophene, poly-3- (2′-ethylhexyloxy) thiophene, poly-3-dodecyl
- thiophene-based conjugated polymer a conjugated polymer having a repeating structure represented by the following structural formula (1) is preferable.
- a poly (3-alkyl-substituted thiophene) -based conjugated polymer, poly (3 -Alkoxy-substituted thiophene) conjugated polymers are preferred.
- the proportion of these binding modes can be measured by nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR).
- the ratio of the HT conjugate in the thiophene-based conjugated polymer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more.
- a conjugated polymer including a repeating structure derived from a derivative of a thiophene compound in which a substituent is introduced into the thiophene ring and a conjugated polymer including a repeating structure derived from a thiophene compound having the condensed polycyclic structure.
- molecules include the following A-1 to A-17. Also included are conjugated polymers having a repeating structure of A-18 to A-26 described later.
- n represents an integer of 10 or more
- t Bu represents a t -butyl group.
- the pyrrole-based conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a pyrrole compound and a derivative thereof may be any one having a repeating structure of a pyrrole compound and a derivative thereof.
- polypyrrole or pyrrole containing a repeating structure derived from pyrrole examples thereof include conjugated polymers containing a repeating structure derived from a derivative of a pyrrole compound having a substituent introduced into the ring, and conjugated polymers containing a repeating structure derived from a pyrrole compound having a condensed polycyclic structure containing a pyrrole ring.
- Examples of the pyrrole conjugated polymer include the following B-1 to B-8. In the following formula, n represents an integer of 10 or more.
- the aniline-based conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing an aniline compound and a derivative thereof may be any one having a repeating structure of an aniline compound or a derivative thereof, for example, polyaniline or aniline containing a repeating structure derived from aniline.
- aniline-based conjugated polymers include the following C-1 to C-8.
- n represents an integer of 10 or more
- y represents a molar ratio when the total number of moles of the copolymerization component is 1, exceeding 0 and less than 1.
- C-1 indicates the copolymer component and its molar ratio, and the bonding mode of the copolymer component is not limited to the following.
- the acetylene-based conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing an acetylene compound and a derivative thereof may be any one having a repeating structure of an acetylene compound or a derivative thereof, and examples thereof include the following D-1 to D-3. .
- n represents an integer of 10 or more.
- the p-phenylene-based conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a p-phenylene compound and a derivative thereof may be any one having a repeating structure of a p-phenylene compound or a derivative thereof.
- An example is E-9.
- n represents an integer of 10 or more.
- E-2 below, Ac represents an acetyl group.
- the p-phenylene vinylene conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the p-phenylene vinylene compound and its derivative may be any compound having a repeating structure of the p-phenylene vinylene compound or its derivative.
- ⁇ F-3 can be exemplified.
- n represents an integer of 10 or more.
- the p-phenylene ethynylene conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the p-phenylene ethynylene compound and its derivative may be any one having a repeating structure of the p-phenylene ethynylene compound or its derivative. Examples include G-1 and G-2. In the following formula, n represents an integer of 10 or more.
- the conjugated polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a compound other than the above and a derivative thereof may be any one having a repeating structure of a compound other than the above or a derivative thereof, and examples thereof include the following H-1 to H-13. .
- n represents an integer of 10 or more.
- a linear conjugated polymer is obtained, for example, in the case of a polythiophene conjugated polymer or a polypyrrole conjugated polymer, by linking the thiophene ring or pyrrole ring of each monomer at the 2,5-positions, respectively. .
- the poly-p-phenylene conjugated polymer, poly-p-phenylene vinylene conjugated polymer, and poly-p-phenylene ethynylene conjugated polymer the phenylene group of each monomer is bonded at the para position (1, 4 position). Can be obtained.
- the conjugated polymer used in the present invention may have one or more of the above-mentioned repeating structures (hereinafter, the monomer that gives this repeating structure is also referred to as “first monomer (group)”). You may do it. Further, in addition to the first monomer, it may have a repeating structure derived from a monomer having another structure (hereinafter referred to as “second monomer”). In the case of a conjugated polymer composed of a plurality of types of repeating structures, it may be a block copolymer, a random copolymer, or a graft polymer.
- the repeating structure of the second monomer having another structure used in combination with the first monomer includes those derived from a carbazole compound, a dibenzo [b, d] silole group, cyclopenta [2,1-b 3,4-b ′] dithiophene group, pyrrolo [3,4-c] pyrrole-1,4 (2H, 5H) -dione group, benzo [2,1,3] thiadiazole-4,8-diyl group; Those derived from compounds having an azo group, 5H-dibenzo [b, d] silole group, thiazole group, imidazole group, oxadiazole group, thiadiazole group, triazole group, etc., and derivatives obtained by introducing substituents into these compounds Can be mentioned. Examples of the substituent to be introduced include the same substituents as described above.
- the conjugated polymer used in the present invention preferably has a total of 50% by mass or more of a repeating structure derived from one or more types of monomers selected from the first monomer group in the conjugated polymer. , More preferably 70% by mass or more, and still more preferably consisting of only a repeating structure derived from one or more monomers selected from the first monomer group. Particularly preferred is a conjugated polymer comprising only a single repeating structure selected from the first monomer group.
- a polythiophene conjugated polymer containing a repeating structure derived from at least one of a thiophene compound and a derivative thereof is more preferably used.
- a polythiophene-based conjugated polymer having a repeating structure derived from a compound represented by the following structural formulas (1) to (5), a derivative, or a thiophene compound having a condensed polycyclic structure (thiophene ring-containing condensed aromatic ring structure) Is preferred.
- R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a fluorine atom-substituted alkyl group, a fluorine atom-substituted alkoxy group, an amino group, or an alkylthio
- Y represents a carbon atom, a nitrogen atom or a silicon atom.
- n represents 1 when Y is a nitrogen atom, and 2 when Y is a carbon atom or a silicon atom. * Represents the bonding position of each repeating structure.
- examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms, and a fluorine atom and a chlorine atom are preferable.
- Alkyl groups include linear, branched and cyclic alkyl groups, preferably alkyl groups having 1 to 14 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, t -Butyl, s-butyl, n-pentyl, t-amyl, n-hexyl, 2-ethylhexyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, tetradecyl and the like.
- an alkoxy group having 1 to 14 carbon atoms is preferable. Specifically, methoxy, ethoxy, n-propyloxy, i-propyloxy, n-butoxy, t-butoxy, s-butoxy, n-pentyloxy , T-amyloxy, n-hexyloxy, 2-ethylhexyloxy, octyloxy, nonyloxy, decyloxy, dodecyloxy, tetradecyloxy and the like.
- an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms substituted with a fluorine atom is preferable.
- CF 3- CF 3 CF 2- , n-C 3 F 7- , i-C 3 F 7- , n-C 4 F 9- , t-C 4 F 9- , s-C 4 F 9 -, n-C 5 F 11 -, CF 3 CF 2 C (CF 3) 2 -, n-C 6 F 13 -, C 8 F 17 -, C 9 F 19 -, C 10 F 21 - Perfluoroalkyl groups such as
- a part of hydrogen atoms such as CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 —, CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 —, and CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 — were substituted with fluorine atoms.
- the fluorine atom-substituted alkoxy group is preferably a C 1-10 alkoxy group substituted with a fluorine atom.
- CF 3 O-, CF 3 CF 2 O-, nC 3 F 7 O-, i-C 3 F 7 O-, n-C 4 F 9 O-, t-C 4 F 9 O-, s-C 4 F 9 O-, nC 5 F 11 O-, CF 3 CF 2 C (CF 3 ) 2 O-, n-C 6 F 13 O-, C 8 F 17 O- Examples thereof include perfluoroalkoxy groups such as C 9 F 19 O— and C 10 F 21 O—.
- CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 O—, CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 O—, and CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 O— are fluorine atoms.
- an alkoxy group substituted with is fluorine atoms.
- the amino group includes an alkylamino group and an arylamino group, and is preferably an amino group having 0 to 16 carbon atoms, specifically, amino, monoethylamino, diethylamino, monohexylamino, dihexylamino, dioctylamino, monododecyl Amino, diphenylamino, dixylamino, ditolylamino, monophenylamino and the like can be mentioned.
- the alkylthio group an alkylthio group having 1 to 14 carbon atoms is preferable.
- the polyalkyleneoxy group is preferably a polyalkyleneoxy group having 3 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include polyethyleneoxy and polypropyleneoxy.
- an acyloxy group an acyloxy group having 1 to 14 carbon atoms is preferable. Specific examples include acetyloxy, ethylcarbonyloxy, butylcarbonyloxy, octylcarbonyloxy, dodecylcarbonyloxy, phenylcarbonyloxy and the like.
- the alkyloxycarbonyl group an alkyloxycarbonyl group having 1 to 14 carbon atoms is preferable.
- R 1 to R 13 are preferably an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a polyalkyleneoxy group, and a hydrogen atom, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, and a polyalkyleneoxy group, Particularly preferred are an alkyl group, an alkoxy group, and a polyalkyleneoxy group.
- Y is preferably a carbon atom or a nitrogen atom, more preferably a carbon atom.
- repeating structure represented by the structural formulas (1) to (5) include the following compounds A-18 to A-26, but are not limited thereto.
- the molecular weight of each conjugated polymer described above is not particularly limited, and may be a high molecular weight oligomer or an oligomer having a lower molecular weight (for example, a weight average molecular weight of about 1000 to 10,000).
- the conjugated polymer is preferably one that is not easily decomposed by acid, light, and heat.
- the molecular weight of the conjugated polymer is preferably large to some extent.
- the molecular weight of the conjugated polymer used in the present invention is preferably 5000 or more in terms of weight average molecular weight, more preferably 7000 to 300,000, and 8000. More preferable is 100,000.
- the weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC).
- conjugated polymers can be produced by polymerizing the above monomers by a method according to a normal oxidation polymerization method.
- Commercially available products can also be used, and examples thereof include poly (3-hexylthiophene-2,5-diyl) regioregular products manufactured by Aldrich.
- conjugated polymer used in the present invention examples include conjugated polymers containing at least a fluorene structure represented by the following general formula (1A) or (1B) as a repeating structure in addition to the above-described conjugated polymers.
- R 1A and R 2A each independently represent a substituent.
- R 3A and R 4A each independently represents an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, an alkyl group or an alkoxy group.
- R 3A and R 4A may be bonded to each other to form a ring.
- n11 and n12b each independently represents an integer of 0 to 3, and n12 represents an integer of 0 to 2.
- L a represents a single bond, -N (Ra1) -, or a divalent aromatic hydrocarbon ring group, a divalent aromatic heterocyclic group, and -N (Ra1) - a group selected from the group consisting of Represents a combined linking group.
- L b represents a single bond, a divalent aromatic hydrocarbon ring group, a divalent aromatic heterocyclic group, —N (Ra1) —, or a linking group obtained by combining these groups.
- Ra1 represents a substituent.
- X b represents a trivalent aromatic hydrocarbon ring group, a trivalent aromatic heterocyclic group or> N—. * Represents a bonding position.
- R 1A and R 2A examples include the following substituent W1.
- substituent W1 examples include a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, an aryl group (also referred to as an aromatic hydrocarbon ring group), a diarylboryl group, a dihydroboryl group, and a dialkoxyboryl group.
- Heterocyclic groups including heteroaryl groups (also referred to as aromatic heterocyclic groups), and the ring atoms are preferably oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, boron atoms), alkoxy groups, aryloxy groups , Alkylthio group, arylthio group, alkyl or aryl sulfonyl group, alkyl or aryl sulfinyl group, amino group (including amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group), acylamino group, alkyl or aryl A sulfonamide group, alkyl or Reel carbamoyl group, alkyl or aryl sulfamoyl group, alkyl or aryl sulfonamido group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, ureido group,
- aromatic hydrocarbon ring groups, heterocyclic groups, alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, amino groups, and hydroxy groups are preferred, aromatic hydrocarbon ring groups, heterocyclic groups, alkyl groups, alkoxy groups, hydroxyl groups.
- Group is more preferable, an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, an alkyl group and an alkoxy group are more preferable, and an alkyl group is particularly preferable.
- R 1A and R 2A are alkylthio groups
- the number of carbon atoms is preferably 1 to 24, more preferably 1 to 20, and still more preferably 6 to 16.
- the alkylthio group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- Examples of the alkylthio group include methylthio, ethylthio, isopropylthio, t-butylthio, n-hexylthio, n-octylothio, 2-ethylhexylthio, and n-octadecylthio.
- R 1A and R 2A are amino groups
- the amino groups preferably have 0 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 1 to 16 carbon atoms.
- the amino group include amino, methylamino, N, N-diethylamino, phenylamino, and N-methyl-N-phenylamino, with alkylamino and arylamino groups being preferred.
- the alkyl, aryl, or heterocyclic amino group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- R 1A and R 2A are an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, an alkyl group, and an alkoxy group, an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, and an alkyl group in R 3A and R 4A described later And an alkoxy group.
- the preferred carbon number of the alkyl group or alkoxy group is 1-18, more preferably 1-12, and still more preferably 1-8.
- the preferred ranges of the aromatic hydrocarbon ring group and the aromatic heterocyclic group are the same as those for R 3A and R 4A .
- N11 and n12 are preferably 0 or 1.
- the aromatic hydrocarbon ring of the aromatic hydrocarbon ring group in R 3A and R 4A preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 18 carbon atoms.
- the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring and a naphthalene ring, and the ring may be condensed with a ring such as an aromatic hydrocarbon ring, an aliphatic hydrocarbon ring, or a hetero ring.
- the aromatic hydrocarbon ring group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, and a hydroxy group are preferable, an alkyl group, an alkoxy group, and a hydroxy group are more preferable, and an alkyl group and an alkoxy group are further preferable.
- the aromatic heterocyclic ring of the aromatic heterocyclic group in R 3A and R 4A preferably has 2 to 24 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, and still more preferably 3 to 18 carbon atoms.
- the ring-constituting hetero atom is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and preferably a 5- or 6-membered ring.
- the ring may be condensed with a ring such as an aromatic hydrocarbon ring, an aliphatic hydrocarbon ring or a hetero ring.
- the aromatic hydrocarbon ring group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- Aromatic heterocycles include pyrrole ring, thiophene ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, pyrazine ring, triazine ring, indole ring, isoindole ring, quinoline ring , Isoquinoline ring, quinazoline ring, phthalazine ring, pteridine ring, coumarin ring, chromone ring, 1,4-zenzodiazepine ring, benzimidazole ring, benzofuran ring, purine ring, acridine ring, phenox
- the alkyl group in R 3A and R 4A preferably has 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 16 carbon atoms.
- the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, n-hexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, and n-octadecyl.
- the alkoxy group in R 3A and R 4A preferably has 1 to 24 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 16 carbon atoms.
- the alkoxy group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- Examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n-hexyloxy, n-octyloxy, 2-ethylhexyloxy and n-octadecyloxy.
- At least one of R 3A and R 4A is preferably an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group.
- R 3A and R 4A may combine with each other to form a ring, and the ring is preferably a 3- to 7-membered ring, which is a saturated hydrocarbon ring, an unsaturated hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring, a hetero ring Even if it is a ring (including an aromatic heterocycle), the formed ring may be a single ring, or it may be condensed and polycyclic.
- the formed ring may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- these formed rings are preferably fluorene rings, and preferably have a spiro structure at the 9-position, that is, the following structure.
- R 1A, R 2A, n11 and n12 are the same meaning as R 1A, R 2A, n11 and n12 in the above general formula (1A) or (1B), and the preferred range is also the same.
- R 1A ′, R 2A ′ and n12 ′ have the same meanings as R 1A , R 2A and n12, and preferred ranges are also the same.
- n11 ′ represents an integer of 0 to 4.
- Rx represents a bond in the case of the general formula (1A) (that is, in the case where it is incorporated into the polymer main chain by two benzene rings of the fluorene ring), and in the case of the general formula (1B) (that is, one (When the benzene ring is bonded to the polymer main chain) represents a hydrogen atom or a substituent.
- Rx examples include the above-described substituent W1, among which an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, and a hydroxy group are preferable, an alkyl group, An alkoxy group and a hydroxy group are more preferable, and an alkyl group is more preferable.
- Rx ′ represents a hydrogen atom or a substituent.
- Examples of the substituent in Rx ′ include the above-described substituent W1, among which an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, and a hydroxy group are preferable, and an alkyl group , An alkoxy group and a hydroxy group are more preferable, and an alkoxy group is more preferable.
- W1 an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, and a hydroxy group are preferable, and an alkyl group , An alkoxy group and a hydroxy group are more preferable, and an alkoxy group is more preferable.
- * Represents a bonding position.
- the aromatic hydrocarbon ring of the divalent aromatic hydrocarbon ring group in L a and L b preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 18 carbon atoms.
- the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring and a naphthalene ring, and the ring may be condensed with a ring such as an aromatic hydrocarbon ring, an aliphatic hydrocarbon ring, or a hetero ring.
- the aromatic hydrocarbon ring group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, and a hydroxy group are preferable, an alkyl group, an alkoxy group, and a hydroxy group are more preferable, and an alkyl group and an alkoxy group are further preferable.
- the aromatic hydrocarbon ring is preferably a benzene ring, a naphthalene ring, or a fluorene ring.
- the aromatic heterocyclic ring of the divalent aromatic heterocyclic group in L a and L b has preferably 2 to 24 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, and further preferably 3 to 18 carbon atoms.
- the ring-constituting hetero atom is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and preferably a 5- or 6-membered ring.
- the ring may be condensed with a ring such as an aromatic hydrocarbon ring, an aliphatic hydrocarbon ring or a hetero ring.
- the aromatic hydrocarbon ring group may have a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- an alkyl group, an alkoxy group, and an alkylthio group are preferable, an alkyl group and an alkoxy group are more preferable, and an alkyl group is further preferable.
- the aromatic heterocycle is, for example, thiazole ring, pyrrole ring, furan ring, pyrazole ring, imidazole ring, imidazole ring, triazole ring, thiadiazole ring, oxadiazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, Triazine ring, benzothiazole ring, indole ring, benzothiadiazole ring, quinoxaline ring, phenoxazine ring, dibenzofuran ring, dibenzothiazole ring, dibenzosilanocyclopentadiene ring, carbazole ring, phenothiazine ring, thiophene ring, isothiazole ring, indole ring, Isoindole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, phthal
- Ra1 in —N (Ra1) — in L a and L b represents a substituent, and examples of the substituent include the substituent W1.
- Ra1 is preferably an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and each of these groups may further have a substituent. Examples of the substituent that may be substituted on the group include the substituent W1.
- the alkyl group in Ra1 preferably has 1 to 18 carbon atoms.
- the aryl group in Ra1 preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
- the heterocyclic group in Ra1 is preferably an aromatic heterocyclic group, and more preferably an aromatic heterocyclic group in R 3A and R 4A .
- a divalent aromatic hydrocarbon ring group, a divalent aromatic heterocyclic group or a linking group that combines —N (Ra) — is a group that combines two or more of these.
- Any combination may be used.
- a bivalent aromatic hydrocarbon ring group, a bivalent aromatic hydrocarbon ring group, a bivalent aromatic heterocyclic group, a bivalent aromatic heterocyclic group, and a bivalent aromatic group is a group that combines two or more of these.
- L a is a divalent aromatic hydrocarbon ring group, a divalent aromatic heterocyclic group, and the -N (Ra1) - linking group is a group selected from the group consisting of combined two or more are preferred .
- L b is preferably a divalent aromatic hydrocarbon ring group, a divalent aromatic heterocyclic group, —N (Ra1) — or a linking group obtained by combining these groups.
- L a is a linking group preferably represented by the following formula (a) or (b).
- X a0 represents a single bond, a divalent aromatic hydrocarbon ring group or a divalent aromatic heterocyclic group
- X a1 and X a2 each independently represent a divalent aromatic hydrocarbon ring group or 2 Represents a valent aromatic heterocyclic group
- R a0 represents a substituent
- n a0 represents an integer of 0 to 5.
- R a0 examples include the substituent W1, which are preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom, and an alkoxycarbonyl group is particularly preferable.
- n a0 is preferably 0 or 1.
- Examples of the aromatic hydrocarbon ring in the trivalent aromatic hydrocarbon ring group for X b include the aromatic hydrocarbon rings for L a and L b , and the preferred ranges are also the same. Among these, a benzene ring is preferable, and a fluorene ring having a benzene ring bonded to the 5-position of the phenylene group constituting the polymer main chain with a 1,3-phenylene group is preferable.
- Examples of the aromatic heterocyclic ring in the trivalent aromatic heterocyclic group for X b include the aromatic heterocyclic ring for L a and L b , and the preferred ranges are also the same. Of these, those in which the benzene ring of the fluorene ring is bonded to the 10th position of the phenoxazine ring, the 10th position of the phenothiazine ring, the 9th position of the carbazole ring, and the 1st position of the pyrrole are preferable.
- X b is atom
- X b are preferably has either a carbon atom or nitrogen atom forming a carbon atom or an aromatic heterocyclic ring to form an aromatic hydrocarbon ring, or X b is> N-, > N- is particularly preferred.
- the weight average molecular weight of the conjugated polymer containing at least the fluorene structure represented by the general formula (1A) or (1B) as a repeating structure is not particularly limited, but is 4000 to 100,000. Preferably, 6000 to 80000 is more preferable, and 8000 to 50000 is particularly preferable.
- the terminal group of the conjugated polymer containing at least the fluorene structure represented by the general formula (1A) or (1B) as the repeating structure is, for example, a parenthesis of the repeating structure represented by the above general formula (1A) or (1B).
- Substituents that serve as terminal groups vary depending on the polymer synthesis method. However, halogen atoms (for example, fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms) derived from synthetic raw materials, boron-containing substituents, and side reactions of the polymerization reaction Or the like, and can be a phosphorus-containing substituent derived from a catalyst ligand.
- Conjugated polymers containing at least the fluorene structure represented by the general formula (1A) or (1B) as a repeating structure are exemplified by Chem. Rev. , 2011, 111, pp. It can be produced by polymerizing the compound having the above fluorene structure by a method according to a known method described in No. 1417 or a method according to a normal coupling polymerization method.
- conjugated polymer used in the present invention examples include, in addition to the above-described conjugated polymers, conjugated polymers containing at least a structure represented by the following general formula (1) as a repeating structure.
- Ar 11 and Ar 12 each independently represent an arylene group or a heteroarylene group.
- Ar 13 represents an arylene group or a heteroarylene group.
- R 1B , R 2B and R 3B each independently represent a substituent.
- R 1B and R 2B , R 1B and R 3B , R 2B and R 3B may be bonded to each other to form a ring.
- L represents a single bond or a linking group represented by any of the following formulas (l-1) to (1-5).
- n1B represents an integer of n2B and n3B are each independently 0 ⁇ 4, n 1 represents an integer of 5 or more.
- Ar 14 and Ar 16 each independently represent an arylene group or a heteroarylene group
- Ar 15 represents an aryl group or a heteroaryl group
- R 4B to R 6B each independently represents a substituent.
- R 4B and R 2B , R 5B and R 2B , R 6B and R 2B , R 5B and R 6B may be bonded to each other to form a ring.
- n4B to n6B each independently represents an integer of 0 to 4.
- X 1 represents arylene carbonyl arylene group or arylene sulfonyl arylene group
- X 2 represents an arylene group, heteroarylene group or linking group formed by combining these.
- Ar 11 and Ar 12 each independently represent an arylene group or a heteroarylene group
- Ar 13 represents an aryl group or a heteroaryl group.
- the aromatic hydrocarbon ring (aromatic ring) and aromatic heterocycle of these groups are Preferred are the following rings.
- the number of carbon atoms in the aromatic ring is preferably 6 to 50, more preferably 6 to 40, and even more preferably 6 to 20.
- Examples of the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, an indacene ring, and a fluorene ring, and the ring may be monocyclic or condensed with another ring.
- Examples of the ring that may be condensed include an aromatic ring, an alicyclic ring, an aromatic heterocyclic ring, and a non-aromatic heterocyclic ring.
- the carbon number of the aromatic heterocycle is preferably 2 to 50, more preferably 2 to 40, still more preferably 2 to 20, and particularly preferably 3 to 20.
- the ring-constituting hetero atom in the aromatic heterocycle is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or a silicon atom.
- aromatic heterocycle examples include a thiophene ring, a furan ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyridine ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, and a benzo condensed ring thereof (for example, benzothiophene) or a dibenzo condensed ring.
- Body for example, dibenzothiophene, carbazole).
- R 1B , R 2B and R 3B represent a substituent
- examples of the substituent W2 include a diarylboryl group, and the above-described substituent W1 excluding a dihydroboryl group and a dialkoxyboryl group.
- R 1B , R 2B and R 3B are alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, alkoxy groups, alkylthio groups, amino groups, acyl groups, acylamino groups, alkyl or aryl sulfonamido groups, alkoxycarbonyl groups, alkyl or aryl groups.
- a carbamoyl group, an alkyl or aryl sulfamoyl group is preferred.
- the aromatic ring in the aryl group is preferably a benzene ring, naphthalene ring or fluorene ring
- the hetero ring in the heterocyclic group is preferably a carbazole ring, dibenzothiophene ring or 9-silafluorene ring.
- L represents a single bond or a linking group represented by any one of the above formulas (l-1) to (1-5), and preferably any one of the above formulas (l-1) to (1-4) It is a coupling group represented by these.
- Ar 14 and Ar 16 are synonymous with Ar 11 and Ar 12 , and preferred ranges are also the same.
- Ar 15 has the same meaning as Ar 13 and the preferred range is also the same.
- R 4B to R 6B have the same meanings as R 1B to R 3B , and preferred ranges are also the same.
- X 1 represents an arylenecarbonylarylene group or an arylenesulfonylarylene group, and is represented as —Ar a —C ( ⁇ O) —Ar b —, —Ar a —SO 2 —Ar b —.
- Ar a and Ar b each independently represent an arylene group, and the arylene group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent W2.
- the aromatic ring in the arylene group includes the aromatic ring in Ar 11 described above.
- Ar a and Ar b are preferably phenylene groups, and more preferably 1,4-phenylene groups.
- X 2 represents an arylene group, a heteroarylene group, or a linking group obtained by combining these, and examples of the ring of these groups include the rings described above for Ar 11 , and the preferred range is also the same as Ar 11 .
- R 1B and R 2B , R 1B and R 3B , R 2B and R 3B , R 4B and R 2B , R 5B and R 2B , R 6B and R 2B , R 5B and R 6B combine to form a ring. May be.
- the ring formed by these may be an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and examples thereof include a naphthalene ring, a fluorene ring, a carbazole ring, a dibenzothiophene ring, and a 9-silafluorene ring.
- R 1B and R 3B , R 2B and R 4B or R 5B are preferably bonded to each other to form a ring, and the formed ring is preferably a carbazole ring.
- the formed carbazole ring groups the following groups are preferred.
- Ra has the same meaning as R 2B to R 3B and the preferred range is also the same.
- na has the same meaning as n1B to n3B, and the preferred range is also the same.
- na is preferably 0 or 1, more preferably 1, and Ra is preferably an alkyl group.
- N1B, n2B, and n3B are integers of 0 to 4, preferably 0 to 2, and more preferably 0 to 1.
- n1B, n2B, and n3B may be the same or different, and are preferably different.
- Ar 11 and X 2 are particularly preferably the case where the basic skeleton is the following group. These rings may have a substituent.
- Z represents —C (Rb) 2 — or —Si (Rb) 2 —
- Rb represents an alkyl group
- Ar 11 to Ar 16 , R 1B to R 6B , n1B to n6B, X 1 and X 2 are Ar 11 to Ar 16 , R 1B to R 1 in the general formula (1). It is synonymous with R 6B , n1B to n6B, X 1 and X 2 .
- the structure represented by the general formula (3), (4) or (5) is preferable, and is represented by the general formula (4). Among these, the structure is preferable.
- n 1 is an integer of 5 or more, and the preferred range varies depending on the molecular weight of the repeating structure, but the conjugated polymer having the repeating structure is preferably 5000 to 100,000 in terms of weight average molecular weight (measured by GPC in terms of polystyrene), preferably 8000 to 50000 is more preferable, and 10,000 to 20000 is particularly preferable.
- the terminal group of the conjugated polymer is a substituent located outside the parentheses of the repeating structure represented by the general formulas (1) to (6) and bonded to the repeating structure.
- the substituents serving as the terminal groups are as described above.
- the conjugated polymer having a repeating structure having the structure represented by the general formula (1) is usually obtained by one or more kinds of raw material compounds having part or all of the structure represented by the general formula (1). It can be produced by polymerizing by a method according to the oxidation polymerization method or coupling polymerization method. The synthesis of the raw material compound can be carried out according to a usual method. Of the raw materials of the present invention, those not available can be synthesized by amination of aryl compounds, and classically can be synthesized by the Ullmann reaction and the surrounding reaction techniques. In recent years, arylamination using a palladium complex catalyst has been developed so much that it can be synthesized by the Buchwald-Hartwig reaction and its surrounding reaction techniques. Representative examples of the Buchwald-Hartwig reaction include Organic Synthesis, 78, 23, Journal of American Chemical Society, 1994, 116, 7901.
- the above conjugated polymers can be used alone or in combination of two or more.
- thermoelectric conversion layer dispersion preferably contains a non-conjugated polymer.
- the non-conjugated polymer is not particularly limited as long as it is a polymer compound having no molecular structure to be conjugated, that is, a polymer in which the polymer main chain is not conjugated with ⁇ electrons or lone electron pairs.
- a non-conjugated polymer does not necessarily need to be a high molecular weight compound, and also includes an oligomer compound.
- Such a nonconjugated polymer is not particularly limited, and a conventionally known nonconjugated polymer can be used.
- the polymer comprises a polyvinyl polymer obtained by polymerizing a vinyl compound, poly (meth) acrylate, polycarbonate, polyester, polyamide, polyimide, a fluoropolymer containing a component derived from a fluorine compound as a repeating structure, and polysiloxane.
- a polymer selected from the group is used.
- “(meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate, and includes a mixture thereof.
- vinyl compound forming the polyvinyl polymer examples include styrene, vinyl pyrrolidone, vinyl carbazole, vinyl pyridine, vinyl naphthalene, vinyl phenol, vinyl acetate, styrene sulfonic acid, vinyl triamine, and other vinyl arylamines, vinyl Examples thereof include vinyl trialkylamines such as tributylamine.
- (meth) acrylate compounds that form poly (meth) acrylates include unsubstituted alkyl acrylate-containing hydrophobic acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, and butyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, Acrylic such as 1-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 1-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 1-hydroxybutyl acrylate Acrylate monomers such as acid hydroxyalkyl esters, methacrylate monomers obtained by replacing the acryloyl group of these monomers with methacryloyl groups Chromatography, and the like.
- alkyl acrylate-containing hydrophobic acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, and butyl acryl
- polycarbonate examples include general-purpose polycarbonate composed of bisphenol A and phosgene, Iupizeta (trade name, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), Panlite (trade name, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.), and the like.
- the compound forming the polyester examples include polyalcohols, polycarboxylic acids, and hydroxy acids such as lactic acid.
- Specific examples of polyester include Byron (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and the like.
- polyamide examples include PA-100 (trade name, manufactured by T & K TOKA).
- polyimide examples include Solpy 6,6-PI (trade name, manufactured by Solpy Kogyo Co., Ltd.).
- fluorine compound examples include vinylidene fluoride and vinyl fluoride.
- polysiloxane examples include polydiphenylsiloxane and polyphenylmethylsiloxane.
- the non-conjugated polymer may be a homopolymer or a copolymer with each of the above-described compounds.
- the non-conjugated polymer is preferably hydrophobic and more preferably has no hydrophilic group such as sulfonic acid or hydroxyl group in the molecule. Further, a non-conjugated polymer having a solubility parameter (SP value) of 11 or less is preferable.
- the solubility parameter indicates the Hildebrand SP value, and a value based on the Fedors estimation method is adopted.
- thermoelectric conversion performance of the thermoelectric conversion element can be improved.
- the mechanism is still unclear, but (1) the non-conjugated polymer is between the highest occupied orbital (HOMO) high molecular orbital (LUMO) level and the lowest unoccupied orbital (LUMO) level. Since the gap (band gap) is wide, the Seebeck coefficient can be maintained at a higher level than the system that does not contain a non-conjugated polymer in that the carrier concentration in the conjugated polymer can be kept moderately low. It is presumed that the coexistence of the polymer and the nano-conductive material forms a carrier transport route and can maintain high conductivity.
- thermoelectric conversion performance (ZT) Value) is greatly improved.
- the non-conjugated polymer can be used alone or in combination of two or more in the dispersion for thermoelectric conversion layer.
- a dispersion medium In the method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer of the present invention, a dispersion medium is used. That is, the dispersion for the thermoelectric conversion layer contains a dispersion medium, and the nano conductive material is dispersed in the dispersion medium.
- the dispersion medium only needs to be able to disperse the nanoconductive material, and water, an organic solvent, and a mixed solvent thereof can be used.
- organic solvents such as 1-methoxy-2-propanol (PGME), aliphatic halogen solvents such as chloroform, aprotic polar solvents such as DMF, NMP, DMSO, chlorobenzene, dichlorobenzene, benzene, Aromatic solvents such as toluene, xylene, mesitylene, tetralin, tetramethylbenzene and pyridine, ketone solvents such as cyclohexanone, acetone and methylethylkenton, diethyl ether, THF, t-butyl methyl ether, dimethoxyethane, diglyme, propylene glycol Ether solvents such as 1-monomethyl ether-2-acetate (PGMEA) are preferred, aliphatic halogen solvents such as chloroform, aprotic polar solvents such as DMF and NMP, dichlorobenzene, xylene, and t
- the dispersion medium is preferably deaerated beforehand.
- the dissolved oxygen concentration in the dispersion medium is preferably 10 ppm or less.
- Examples of the degassing method include a method of irradiating ultrasonic waves under reduced pressure, a method of bubbling an inert gas such as argon, and the like.
- the dispersion medium is preferably dehydrated in advance.
- the amount of water in the dispersion medium is preferably 1000 ppm or less, and more preferably 100 ppm or less.
- a method for dehydrating the dispersion medium a known method such as a method using molecular sieve or distillation can be used.
- ⁇ Dopant> In the method for producing a dispersion for a thermoelectric conversion layer of the present invention, it is also preferable to use a dopant.
- the dispersion of the present invention preferably contains a conjugated polymer and a dopant.
- the dopant is a compound doped into the conjugated polymer described above, and protonates the conjugated polymer or removes electrons from the ⁇ -conjugated system of the conjugated polymer, thereby doping the conjugated polymer with a positive charge (p That can be type doped).
- the following onium salt compounds, oxidizing agents, acidic compounds, electron acceptor compounds and the like can be used.
- Onium salt compound used as a dopant is preferably a compound (acid generator, acid precursor) that generates an acid upon application of energy such as irradiation of active energy rays (radiation, electromagnetic waves, etc.) or application of heat.
- onium salt compounds include sulfonium salts, iodonium salts, ammonium salts, carbonium salts, phosphonium salts, and the like.
- sulfonium salts, iodonium salts, ammonium salts and carbonium salts are preferable, sulfonium salts, iodonium salts and carbonium salts are more preferable, and sulfonium salts and iodonium salts are particularly preferable.
- anion moiety constituting the salt include a strong acid counter anion.
- the compound represented by the following general formula (I) or (II) is used as the sulfonium salt
- the compound represented by the following general formula (III) is used as the iodonium salt
- the following general formula is used as the ammonium salt.
- the compound represented by (IV) and the carbonium salt include compounds represented by the following general formula (V), which are preferably used in the present invention.
- R 21 to R 23 , R 25 to R 26 and R 31 to R 33 each independently represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, or an aromatic heterocyclic group.
- R 27 to R 30 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an aromatic heterocyclic group, an alkoxy group, or an aryloxy group.
- R 24 represents an alkylene group or an arylene group.
- the substituents of R 21 to R 33 may be further substituted with a substituent.
- X ⁇ represents an anion of a strong acid.
- the alkyl group includes a linear, branched or cyclic alkyl group, and the linear or branched alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, n-butyl, sec-butyl, t-butyl, hexyl, octyl, dodecyl and the like.
- cyclic alkyl group an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms is preferable, and specific examples include cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, bicyclooctyl, norbornyl, adamantyl and the like.
- the aralkyl group is preferably an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms, and specific examples include benzyl and phenethyl.
- the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and specific examples include phenyl, naphthyl, anthranyl, phenanthyl, pyrenyl and the like.
- aromatic heterocyclic group pyridine ring group, pyrazole ring group, imidazole ring group, benzimidazole ring group, indole ring group, quinoline ring group, isoquinoline ring group, purine ring group, pyrimidine ring group, oxazole ring group, Examples include a thiazole ring group and a thiazine ring group.
- the alkoxy group is preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples include methoxy, ethoxy, i-propoxy, butoxy, hexyloxy and the like.
- the aryloxy group is preferably an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, and specific examples include phenoxy and naphthyloxy.
- the alkylene group includes a linear, branched, or cyclic alkylene group, and an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms is preferable.
- the linear or branched alkylene group include ethylene, propylene, butylene, hexylene and the like.
- the cyclic alkylene group is preferably a cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms, and specific examples include cyclopentylene, cyclohexylene, bicyclooctylene, norbornylene, adamantylene and the like.
- the arylene group an arylene group having 6 to 20 carbon atoms is preferable, and specific examples include phenylene, naphthylene, anthranylene, and the like.
- the substituent of R 21 to R 33 further has a substituent
- the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, iodine).
- aryl group having 6 to 10 carbon atoms aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, cyano group, hydroxy group, carboxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, alkylcarbonylalkyl Group, arylcarbonyl group, arylcarbonylalkyl group, nitro group, alkylsulfonyl group, trifluoromethyl group, —S—R 41 and the like.
- the substituents of R 41 has the same meaning as above R 21.
- X ⁇ is preferably an arylsulfonic acid anion, a perfluoroalkylsulfonic acid anion, a perhalogenated Lewis acid anion, a perfluoroalkylsulfonimide anion, a perhalogenate anion, or an alkyl or arylborate anion. These may further have a substituent, and examples of the substituent include a fluorine atom.
- anions of aryl sulfonic acid include p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 ⁇ , C 6 H 5 SO 3 ⁇ , an anion of naphthalene sulfonic acid, an anion of naphthoquinone sulfonic acid, an anion of naphthalenedisulfonic acid, anthraquinone Examples include sulfonic acid anions.
- Specific examples of the anion of perfluoroalkylsulfonic acid include CF 3 SO 3 ⁇ , C 4 F 9 SO 3 ⁇ , and C 8 F 17 SO 3 — .
- the anion of the perhalogenated Lewis acid include PF 6 ⁇ , SbF 6 ⁇ , BF 4 ⁇ , AsF 6 ⁇ and FeCl 4 ⁇ .
- Specific examples of the anion of perfluoroalkylsulfonimide include CF 3 SO 2 —N —— SO 2 CF 3 and C 4 F 9 SO 2 —N —— SO 2 C 4 F 9 .
- Specific examples of the perhalogenate anion include ClO 4 ⁇ , BrO 4 ⁇ and IO 4 ⁇ .
- alkyl or aryl borate anion examples include (C 6 H 5 ) 4 B ⁇ , (C 6 F 5 ) 4 B ⁇ , (p-CH 3 C 6 H 4 ) 4 B ⁇ , (C 6 H 4 F) 4 B -, and the like.
- onium salts are shown below, but the present invention is not limited thereto.
- X ⁇ represents PF 6 ⁇ , SbF 6 ⁇ , CF 3 SO 3 ⁇ , p—CH 3 C 6 H 4 SO 3 ⁇ , BF 4 ⁇ , (C 6 H 5 ) 4 B ⁇ . , RfSO 3 ⁇ , (C 6 F 5 ) 4 B ⁇ , or an anion represented by the following formula, and Rf represents a perfluoroalkyl group.
- an onium salt compound represented by the following general formula (VI) or (VII) is particularly preferable.
- Y represents a carbon atom or a sulfur atom
- Ar 1 represents an aryl group
- Ar 2 to Ar 4 each independently represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group.
- Ar 1 to Ar 4 may be further substituted with a substituent.
- Ar 1 is preferably a fluoro-substituted aryl group or an aryl group substituted with at least one perfluoroalkyl group, more preferably a pentafluorophenyl group or a phenyl group substituted with at least one perfluoroalkyl group And particularly preferably a pentafluorophenyl group.
- the aryl group and aromatic heterocyclic group of Ar 2 to Ar 4 have the same meanings as the aryl group and aromatic heterocyclic group of R 21 to R 23 and R 25 to R 33 described above, and preferably an aryl group Yes, more preferably a phenyl group. These groups may be further substituted with a substituent, and examples of the substituent include the above-described substituents R 21 to R 33 .
- Ar 1 represents an aryl group
- Ar 5 and Ar 6 each independently represent an aryl group or an aromatic heterocyclic group.
- Ar 1 , Ar 5 and Ar 6 may be further substituted with a substituent.
- Ar 1 has the same meaning as Ar 1 in the general formula (VI), and the preferred range is also the same.
- Ar 5 and Ar 6 have the same meanings as Ar 2 to Ar 4 in the general formula (VI), and preferred ranges thereof are also the same.
- the onium salt compound can be synthesized by a usual synthesis method. Moreover, a commercially available reagent etc. can also be used. As an embodiment of the method for synthesizing the onium salt compound, a method for synthesizing triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate is shown below, but the present invention is not limited to this. Other onium salts can also be synthesized by a synthesis method according to the following synthesis method.
- the acidic compound examples include polyphosphoric acid, hydroxy compound, carboxy compound, or sulfonic acid compound, protonic acid (HF, HCl, HNO 3 , H 2 SO 4 , HClO 4 , FSO 3 H, CISO 3 H, CF 3 shown below. SO 3 H, various organic acids, amino acids, etc.).
- electron acceptor compounds examples include TCNQ (tetracyanoquinodimethane), tetrafluorotetracyanoquinodimethane, halogenated tetracyanoquinodimethane, 1,1-dicyanovinylene, 1,1,2-tricyanovinylene, benzoquinone.
- Polyphosphoric acid- Polyphosphoric acid includes diphosphoric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, tetraphosphoric acid, metaphosphoric acid and polyphosphoric acid, and salts thereof. A mixture thereof may be used.
- the polyphosphoric acid is preferably diphosphoric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, or polyphosphoric acid, and more preferably polyphosphoric acid.
- Polyphosphoric acid can be synthesized by heating H 3 PO 4 with sufficient P 4 O 10 (anhydrous phosphoric acid) or by heating H 3 PO 4 to remove water.
- the hydroxy compound may be a compound having at least one hydroxyl group, and preferably has a phenolic hydroxyl group.
- a compound represented by the following general formula (VIII) is preferable.
- R represents a sulfo group, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, or an alkoxycarbonyl group
- n represents 1 to 6
- m represents 0 to 5.
- R is preferably a sulfo group, an alkyl group, an aryl group, a carboxy group, or an alkoxycarbonyl group, and more preferably a sulfo group.
- n is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and still more preferably 1 to 3.
- m is 0 to 5, preferably 0 to 4, and more preferably 0 to 3.
- the carboxy compound may be a compound having at least one carboxy group, and a compound represented by the following general formula (IX) or (X) is preferable.
- A represents a divalent linking group.
- the divalent linking group a combination of an alkylene group, an arylene group or an alkenylene group and an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is preferable, and a combination of an alkylene group or an arylene group and an oxygen atom or a sulfur atom is more preferable.
- the divalent linking group is a combination of an alkylene group and a sulfur atom
- the compound also corresponds to a thioether compound.
- the use of such a thioether compound is also suitable.
- the divalent linking group represented by A includes an alkylene group, the alkylene group may have a substituent. As the substituent, an alkyl group is preferable, and a carboxy group is more preferable as a substituent.
- R represents a sulfo group, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, or an alkoxycarbonyl group
- n represents 1 to 6
- m represents 0 to 5.
- R is preferably a sulfo group, an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group or an alkoxycarbonyl group, more preferably a sulfo group or an alkoxycarbonyl group.
- n is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and still more preferably 1 to 3.
- m is 0 to 5, preferably 0 to 4, and more preferably 0 to 3.
- the sulfonic acid compound is a compound having at least one sulfo group, and a compound having two or more sulfo groups is preferable.
- the sulfonic acid compound is preferably one substituted with an aryl group or an alkyl group, and more preferably one substituted with an aryl group.
- the compound which has a sulfo group as a substituent is classified into a hydroxy compound and a carboxy compound as mentioned above. Therefore, the sulfonic acid compound does not include a hydroxy compound having a sulfo group and a carboxy compound.
- dopants it is not essential to use these dopants.
- the use of dopants is preferable because further improvement in thermoelectric conversion characteristics can be expected due to improvement in conductivity.
- a dopant it can be used alone or in combination of two or more.
- an onium salt compound from the viewpoint of improving the dispersibility of the dispersion for thermoelectric conversion layer and improving the film formability.
- the onium salt compound is neutral in a state before acid release, and decomposes upon application of energy such as light and heat to generate an acid, and this acid exhibits a doping effect. Therefore, after the dispersion for the thermoelectric conversion layer is formed into a desired shape on the thermoelectric conversion layer, doping can be performed by light irradiation or the like to develop a doping effect.
- the components such as the conjugated polymer and the nano-conductive material are uniformly distributed in the dispersion for the thermoelectric conversion layer without aggregating and precipitating the conjugated polymer. Dissolve or disperse. Due to the uniform solubility or dispersibility of this dispersion for thermoelectric conversion layer, it is possible to exhibit excellent conductivity after doping, and furthermore, good coating properties and film formability can be obtained. Also excellent.
- a dopant can be used to adjust the electrical properties such as the conductivity improvement and pn polarity of the nanoconductive material used, particularly CNT.
- the kind and amount of the dopant it is possible to adjust the conductivity and pn polarity of the nano-conductive material, particularly CNT.
- the above-described onium salt compounds, oxidizing agents, acidic compounds, electron acceptor compounds and the like can be suitably used.
- n-type dopant known ones can be used.
- amine compounds such as ammonia and tetramethylphenylenediamine
- imine compounds such as polyethyleneimine
- alkali metals such as potassium
- phosphine compounds such as triphenylphosphine and trioctylphosphine
- metals such as sodium borohydride and lithium aluminum hydride
- a reducing substance such as hydride or hydrazine, an electron donor compound, or the like can be used.
- known compounds as described in Scientific Reports 3,3344 can be used.
- doping of the nanotube may be performed by introducing a trace element other than carbon into the tube at the time of nanotube synthesis to adjust the electrical properties of the CNT.
- a known method as described in US Patent Application No. 11 / 488,387 can be used.
- thermoelectric conversion layer dispersion preferably contains a conjugated polymer and a thermal excitation assist agent.
- the thermal excitation assist agent is a substance having a molecular orbital having a specific energy level difference with respect to the energy level of the molecular orbital of the conjugated polymer described above. The thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion layer can be improved.
- the thermal excitation assisting agent used in the present invention is a compound having a LUMO having an energy level lower than that of the above-described conjugated polymer, and does not form a doped level in the conjugated polymer.
- the aforementioned dopant is a compound that forms a doped level in a conjugated polymer, and forms a doped level regardless of the presence or absence of a thermal excitation assisting agent. Whether or not a doped level is formed in a conjugated polymer can be evaluated by measuring an absorption spectrum. A compound that forms a doped level and a compound that does not form a doped level are those evaluated by the following method. Say.
- the LUMO of the thermal excitation assist agent has a lower energy level than the LUMO of the conjugated polymer described above, and functions as an acceptor level of thermally excited electrons generated from the HOMO of the conjugated polymer. Furthermore, when the absolute value of the HOMO energy level of the conjugated polymer and the absolute value of the LUMO energy level of the thermal excitation assist agent satisfy the following formula (I), the dispersion for the thermoelectric conversion layer is: A thermoelectric conversion layer having an excellent thermoelectromotive force can be formed.
- the above formula (I) represents the energy difference between the LUMO absolute value of the thermal excitation assist agent and the HOMO absolute value of the conjugated polymer.
- the energy difference between the two orbits is preferably within the range of the above formula (I) in terms of improving the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion element.
- this energy difference is 0.1 eV or more (including the case where the LUMO energy level of the thermal excitation assist agent is higher than the HOMO energy level of the conjugated polymer), the HOMO (donor) of the conjugated polymer Since the activation energy of electron transfer between the heat excitation assist agent and the LUMO (acceptor) of the thermal excitation assist agent is increased, aggregation due to a redox reaction is less likely to occur between the conjugated polymer and the thermal excitation assist agent. As a result, the film formability of the dispersant for the thermoelectric conversion layer and the conductivity of the thermoelectric conversion layer are excellent. Further, when the energy difference between the two orbits is 1.9 eV or less, the energy difference is smaller than the thermal excitation energy, so that thermally excited carriers are generated and the effect of adding the thermal excitation assisting agent is exhibited.
- the thermal excitation assist agent and the conjugated polymer are distinguished by the absolute value of the LUMO energy level. Specifically, the thermal excitation assist agent is conjugated with the absolute value of the energy level.
- the HOMO and LUMO energy levels of the conjugated polymer and the thermal excitation assisting agent can be measured by photoelectron spectroscopy with respect to the HOMO energy level by producing a single coating film (glass substrate) for each component.
- the LUMO level can be calculated by measuring the band gap using an ultraviolet-visible spectrophotometer and then adding it to the HOMO energy measured above.
- the HOMO and LUMO energy levels of the conjugated polymer and the thermal excitation assist agent use values measured or calculated by this method.
- thermo excitation assist agent When the thermal excitation assist agent is used, the thermal excitation efficiency is improved and the number of thermally excited carriers is increased, so that the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion element is improved.
- the effect of improving the thermoelectromotive force by such a thermal excitation assist agent is different from the method of improving the thermoelectric conversion performance by the doping effect of the conjugated polymer.
- the thermal excitation assist agent improves the thermoelectric conversion performance by increasing the Seebeck coefficient S.
- thermal excitation assist agent When a thermal excitation assist agent is used, electrons generated by thermal excitation are present in the LUMO of the thermal excitation assist agent, which is the acceptor level. Exists physically apart. Therefore, the doped level of the conjugated polymer is less likely to be saturated by electrons generated by thermal excitation, and the Seebeck coefficient S can be increased.
- conjugated polymer B can be defined as a thermal excitation assist agent and used.
- n represents an integer (preferably an integer of 10 or more), and Me represents a methyl group.
- thermoelectric conversion layer used in the present invention, the above thermal excitation assisting agent can be used alone or in combination of two or more.
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer preferably contains a metal element.
- the metal elements can be used alone or in combination of two or more.
- the metal nanosized by mechanical treatment or the like is used as the metal nanoparticle, and separately from this, for example, it can be used as a submicron sized metal particle. it can.
- the metal element is not particularly limited, but is preferably a metal element having an atomic weight of 45 to 200 in terms of thermoelectric conversion characteristics, more preferably a transition metal element, and zinc, iron, palladium, nickel, cobalt, molybdenum, platinum, and tin. It is particularly preferred.
- an antioxidant, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, a plasticizer, and the like can be used in addition to the above components. That is, the dispersion for a thermoelectric conversion layer may contain an antioxidant, a light-resistant stabilizer, a heat-resistant stabilizer, a plasticizer, and the like.
- Irganox 1010 manufactured by Nippon Ciga-Beegie
- Sumilizer GA-80 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
- Sumilizer GS manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
- Sumilizer GM Sumilizer GM (Sumitomo Chemical Industries, Ltd.)
- the light-resistant stabilizer include TINUVIN 234 (manufactured by BASF), CHIMASSORB 81 (manufactured by BASF), and Siasorb UV-3853 (manufactured by Sun Chemical).
- the heat stabilizer include IRGANOX 1726 (manufactured by BASF).
- the plasticizer include Adeka Sizer RS (manufactured by Adeka).
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer used in the present invention is prepared by subjecting at least the nanoconductive material and the dispersion medium to the high-speed rotating thin film dispersion method.
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer may be subjected to at least the nanoconductive material and the dispersion medium directly in the high-speed swirling thin film dispersion method, but prior to being subjected to the high-speed swirling thin film dispersion method, at least the nanoconductive material and the dispersion medium. It is preferable to prepare a premix by premixing and to subject this premix to the high-speed rotating thin film dispersion method. By premixing at least the nanoconductive material and the dispersion medium, the dispersibility by the high-speed rotating thin film dispersion method can be improved.
- This pre-mixing is carried out under normal pressure by using a normal mixing apparatus or the like with a nano-conductive material, a dispersing agent, a non-conjugated polymer, a dopant, a thermal excitation assisting agent and other components, if necessary, and a dispersion medium. It can be carried out. For example, each component is stirred, shaken and kneaded in a dispersion medium. Sonication may be performed to promote dissolution and dispersion.
- a mechanical homogenizer method, a jaw crusher method, an ultracentrifugation method, a cutting mill method, an automatic mortar method, a disk mill method, a ball mill method, an ultrasonic dispersion method, or the like can be employed. Moreover, you may combine two or more of these methods as needed.
- This premixing can be performed at a temperature of, for example, 0 ° C. or higher. Premixing is preferably performed at room temperature or higher and below the boiling point of the dispersion medium, and more preferably at a temperature of 50 ° C or lower, extending the mixing time, or increasing the applied strength of stirring, soaking, kneading, ultrasonic waves, etc. For example, the dispersibility of the nano-conductive material can be increased to some extent. In addition, when using onium salt, it is good to premix in the state which shielded the radiation, electromagnetic waves, etc. under the temperature which onium salt does not produce
- the premixing can be performed in the atmosphere, but is preferably performed in an inert atmosphere.
- An inert atmosphere refers to a state where the oxygen concentration is lower than the atmospheric concentration.
- the atmosphere has an oxygen concentration of 10% or less.
- Examples of the method for making the inert atmosphere include a method of substituting the atmosphere with a gas such as nitrogen or argon, which is preferably used.
- the pre-mixture preferably has a solid content concentration of 0.2 to 20 w / v%, more preferably 0.5 to 20 w / v% in that a large shear stress is generated by the high-speed rotating thin film dispersion method described later.
- the mixing ratio of the nano-conductive material is preferably 10% by mass or more, more preferably 15 to 100% by mass, and more preferably 20 to 100% in the total solid content of the preliminary mixture in terms of film formability, conductivity and thermoelectric conversion performance. More preferred is mass%.
- the mixing ratio of the conjugated polymer is preferably 0 to 80% by mass in the total solid content of the preliminary mixture in terms of the dispersibility of the nano conductive material, the conductivity of the thermoelectric conversion element, and the thermoelectric conversion performance. 3 to 80% by mass is preferable, 5 to 70% by mass is more preferable, 10 to 60% by mass is further preferable, and 10 to 50% by mass is particularly preferable. Even in the case of including a non-conjugated polymer, the amount of the conjugated polymer mixed is preferably within the above-mentioned range.
- the mixing ratio of the low molecular dispersant is preferably 3 to 80% by mass in the total solid content of the premix from the viewpoint of dispersibility of the nanoconductive material. More preferably, it is more preferably 10 to 60% by mass.
- the mixing ratio of the non-conjugated polymer is preferably 3 to 80% by mass in the total solid content of the premix from the viewpoint of the film formability of the dispersion for the thermoelectric conversion layer. More preferably, it is more preferably 10 to 60% by mass.
- the mixing ratio of the dopant is preferably 1 to 80% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, and more preferably 5 to 60% by mass in the total solid content of the premix from the viewpoint of conductivity of the thermoelectric conversion layer. % Is more preferable.
- the mixing ratio of the thermal excitation assist agent is preferably 0 to 35% by mass, more preferably 3 to 25% by mass, and more preferably 5 to 20% by mass in the total solid content of the premix from the viewpoint of thermoelectric conversion characteristics of the thermoelectric conversion layer. Is more preferable.
- the mixing ratio of the metal element is preferably 50 to 30000 ppm in the total solid content of the premix from the viewpoint of improving thermoelectric conversion characteristics by preventing the occurrence of cracks due to a decrease in physical strength of the thermoelectric conversion layer. 100 to 10,000 ppm is more preferable, and 200 to 5000 ppm is more preferable.
- the metal element concentration (mixing ratio) in the preliminary mixture is, for example, an ICP mass spectrometer (for example, “ICPM-8500” (trade name) manufactured by Shimadzu Corporation), an energy dispersive X-ray fluorescence analyzer (for example, It can be quantified by a known analysis method such as “EDX-720” (trade name) manufactured by Shimadzu Corporation.
- the mixing ratio of the other components is preferably 5% by mass or less, more preferably 0 to 2% by mass, based on the total solid content of the preliminary mixture.
- each component is not particularly limited, but it is preferable to first mix and dissolve the component that dissolves in the dispersion medium and then mix the component that does not dissolve in the dispersion medium.
- the viscosity (25 ° C.) of the preliminary mixture is not particularly limited as long as it is a viscosity that can be used for the high-speed swirling thin film dispersion method.
- ⁇ S is preferable, and 15 to 5000 mPa ⁇ s is more preferable.
- the premixed mixture thus prepared, or the nanoconductive material and the dispersion medium that have not undergone the premixing are subjected to a high-speed swirling thin film dispersion method, and nanoconductive
- the active material is dispersed in a dispersion medium.
- the high-speed swirling thin film dispersion method is a method in which the object to be dispersed is rotated at a high speed while being pressed against the inner surface (inner wall surface) of the apparatus by centrifugal force in a thin film cylindrical shape.
- This is a dispersion method in which a dispersion target is dispersed in a thin film cylindrical dispersion target by applying shear stress generated by the speed difference to the premix and the like.
- Dispersion processing by the high-speed swirling thin film dispersion method includes, for example, a tubular mantle having a circular cross section, a tubular stirring blade disposed in the tubular mantle so as to be concentric with the tubular mantle, and an injection tube that opens below the stirring blade.
- a device having an outer peripheral surface in which the stirring blade faces the inner peripheral surface of the tubular mantle at a slight interval and a large number of through holes that penetrate the tubular wall of the stirring blade in the thickness direction Can be implemented.
- the distance between the inner peripheral surface of the tubular mantle and the outer peripheral surface of the stirring blade is appropriately adjusted according to the amount of the object to be dispersed, the desired degree of dispersion, etc., and is not particularly limited.
- the stirring blade has a tubular structure having the above-described outer peripheral surface.
- a thin film swirl type high-speed mixer “FILMIX” (registered trademark) series manufactured by PRIMIX Corporation
- FILMIX registered trademark
- the above-mentioned premixed material, or a nano-conductive material and a dispersion medium (hereinafter referred to as a premixed material or the like) are used as the dispersion treatment target of the high-speed swirling thin film dispersion method.
- This dispersion method is to disperse the premix and the like by centrifugal force and shear stress, and can suppress the separation, cutting, and generation of defects of the nanoconductive material during the dispersion treatment.
- a preliminary mixture or the like that is, a stirring blade
- a peripheral speed of 5 to 60 m / sec preferably 10 to 50 m / sec, more preferably 10 to 45 m / sec, still more preferably 10
- It can be carried out by rotating at 40 to 40 m / sec, particularly preferably 20 to 40 m / sec, most preferably 25 to 40 m / sec.
- the treatment time can be appropriately determined according to the degree of dispersion of the nanoconductive material, and is preferably 1 to 20 minutes, and more preferably 2 to 10 minutes.
- Dispersion treatment by the high-speed swirling thin film dispersion method can be performed at 0 ° C.
- the dispersion temperature depends on the type of dispersion medium used, but is preferably in the range of 10 ° C. to 55 ° C., more preferably 15 ° C. to 45 ° C. from the viewpoint of safety and maintenance of viscosity.
- this dispersion treatment can be performed in the air or in the above-described inert atmosphere.
- the treatment amount (mixing rate) of each component when the nano-conductive material and the dispersion medium are directly subjected to the high-speed rotating thin film dispersion method is the same as the mixing rate of each component in the preliminary mixing.
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer in which the nano-conductive material is dispersed in the dispersion medium by using the thin film swirl type high-speed mixer “Fillmix”, preferably by subjecting the premix to the high speed swirl thin film dispersion method. can be prepared.
- the prepared dispersion for thermoelectric conversion layer is excellent in printability, can be applied by a printing method, and the thickness of the thermoelectric conversion layer can be increased. 5 to 20 w / v% is more preferable.
- the content of the nanoconductive material is the same as that of the preliminary dispersion, and is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and 25% by mass in terms of conductivity and thermoelectric conversion performance. % Or more is particularly preferable.
- the upper limit is 100% by mass.
- the viscosity of the dispersion for the thermoelectric conversion layer is preferably 10 mPa ⁇ s or more at 25 ° C., more preferably 10 to 100,000 mPa ⁇ s, in view of excellent printability and film formability even when applied by a printing method. 5000 mPa ⁇ s is more preferable, and 10 to 1000 mPa ⁇ s is particularly preferable.
- the nano-conductive material dispersed in the thermoelectric conversion layer dispersion has almost no parting, cutting, or defects.
- the amount of defects is estimated by the intensity ratio [Id / Ig] between the intensity (Id) of the D band and the intensity (Ig) of the G band in Raman spectroscopic analysis. be able to. It can be estimated that the smaller the intensity ratio [Id / Ig], the smaller the amount of defects.
- the strength ratio [Id / Ig] of the nano-conductive material in the dispersion is preferably 0.01 to 1.5, more preferably 0.015 to 1.3, and 0.02 to 1. 2 is more preferable.
- the strength ratio [Id / Ig] is preferably 0.01 to 0.4, more preferably 0.015 to 0.3, and 0.02 to 0. .2 is more preferred.
- the strength ratio [Id / Ig] is preferably 0.2 to 1.5, more preferably 0.5 to 1.5.
- the nanoconductive material dispersed in the dispersion for thermoelectric conversion layer preferably has an average particle diameter D measured by a dynamic light scattering method of 1000 nm or less, more preferably 1000 to 5 nm, More preferably, it is 800 to 5 nm.
- the average particle diameter D of the nanoconductive material in the dispersion for the thermoelectric conversion layer is in the above range, the conductivity of the thermoelectric conversion element and the film formability of the thermoelectric conversion material are excellent.
- the average particle diameter D is obtained as an arithmetic average value of the volume-converted diameter.
- the ratio (dD / D) of the half-value width dD of the particle size distribution of the nanoconductive material in the dispersion for thermoelectric conversion layers and the average particle size D is preferably 5 or less, more preferably 4.5 or less, 4 or less is more preferable.
- the ratio (dD / D) of the nano-conductive material in the dispersion for the thermoelectric conversion layer is in the above range, the printability of the thermoelectric conversion material is excellent.
- thermoelectric conversion layer prepared in the step of preparing the dispersion for the thermoelectric conversion layer is then applied on the substrate and dried, A thermoelectric conversion layer is formed.
- the base material of the thermoelectric conversion element of the present invention for example, the first base material 12 and the second base material 16 in the above-described thermoelectric conversion element 1, base materials such as glass, transparent ceramics, metal, and plastic film are used. Can do.
- a substrate having flexibility can also be used. Specifically, a base material having flexibility in which the number of flexing times MIT measured by a measurement method specified in ASTM D2176 is 10,000 cycles or more is preferable.
- the substrate having such flexibility is preferably a plastic film.
- polyethylene terephthalate polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), Plastics such as polyester resin such as polyethylene-2,6-phthalenedicarboxylate, polyimide, polycarbonate, polypropylene, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyetheretherketone (PEEK), triacetylcellulose (TAC), cycloolefin A film (resin film), glass epoxy, liquid crystalline polyester and the like are preferable.
- polyester resin such as polyethylene-2,6-phthalenedicarboxylate, polyimide, polycarbonate, polypropylene, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyetheretherketone (PEEK), triacetylcellulose (TAC), cycloolefin A film (resin film), glass epoxy, liquid crystalline polyester and the like are preferable.
- polyether ether ketone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, glass epoxy, and liquid crystalline polyester are preferable as a substrate that can be easily printed and is not dissolved by a dispersion medium and can be printed.
- polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, glass epoxy, and liquid crystalline polyester are preferable.
- the copolymer of the said resin or the blended material of these resin and another kind of resin etc. can be used.
- an inorganic filler such as titanium oxide, calcium carbonate, silica, barium sulfate, silicone, etc., acrylic, benzoguanamine,
- An organic filler such as Teflon (registered trademark) and epoxy, an adhesion improver such as polyethylene glycol (PEG) and sodium dodecylbenzenesulfonate, and an antistatic agent can be contained.
- an inorganic filler such as titanium oxide, calcium carbonate, silica, barium sulfate, silicone, etc., acrylic, benzoguanamine
- An organic filler such as Teflon (registered trademark) and epoxy
- an adhesion improver such as polyethylene glycol (PEG) and sodium dodecylbenzenesulfonate
- an antistatic agent can be contained.
- each resin film can be selected from known methods and conditions as appropriate.
- the polyester film can be formed by melt-extrusion of the polyester resin into a film, orientation crystallization by longitudinal and transverse biaxial stretching, and crystallization by heat treatment.
- the thickness of the substrate is preferably 30 to 3000 ⁇ m, more preferably 50 to 1000 ⁇ m, and still more preferably 100 to 1000 ⁇ m from the viewpoints of thermal conductivity, handleability, durability, and prevention of breakage of the thermoelectric conversion layer due to external impact. Particularly preferably, the thickness is 200 to 800 ⁇ m.
- the first electrode and the second electrode are well-known metal electrodes such as copper, silver, gold, platinum, nickel, chromium, and copper alloys, and transparent electrodes such as indium tin oxide (ITO) and zinc oxide (ZnO). It is preferably formed using any of the metals. For example, it is preferably formed using any one of copper, gold, platinum, nickel, copper alloy, and the like, and more preferably formed using any one of gold, platinum, and nickel. Or you may use what solidified the metal paste which atomized the said metal and added the binder and the solvent.
- metal electrodes such as copper, silver, gold, platinum, nickel, chromium, and copper alloys
- transparent electrodes such as indium tin oxide (ITO) and zinc oxide (ZnO). It is preferably formed using any of the metals. For example, it is preferably formed using any one of copper, gold, platinum, nickel, copper alloy, and the like, and more preferably formed using any one of gold, platinum, and nickel. Or you may use what solidified
- the electrode 2 can be formed by a plating method, a patterning method by etching, a sputtering method or an ion plating method using a lift-off method, a sputtering method or an ion plating method using a metal mask.
- a metal paste in which the above-described metal is finely divided and a binder and a solvent are added may be used.
- a screen printing method or a printing method by a dispenser method can be used. After printing, heating for drying and heat treatment for decomposition of the binder and sintering of the metal may be performed.
- the method for applying the dispersion for the thermoelectric conversion layer on the substrate is not particularly limited.
- spin coating, extrusion die coating, blade coating, bar coating, screen printing, and thermoelectric conversion layer dispersion may be applied by an inkjet method.
- a known coating method such as ink jet printing method in which droplets are ejected, stencil printing, roll coating, curtain coating, spray coating, dip coating, or the like can be used.
- the dispersion for thermoelectric conversion layers is preferably a printing method such as screen printing, ink jet printing, or stencil printing because it is excellent in printability even when it has a high solid content concentration and a high viscosity.
- the metal mask printing method which is a kind of screen printing, which prints the dispersion for the thermoelectric conversion layer using a metal mask, can print the dispersion on a thick coating film by one application, and the electrode of the thermoelectric conversion layer It is particularly preferable in that it has excellent adhesion to the surface.
- the screen printing method includes patterning exposure of a photosensitive resin on a normal mesh made of stainless steel, nylon, and polyester, developing it to produce a plate, printing, and producing a plate from an etched metal mask. And printing methods.
- thermoelectric conversion layer dispersion When applying the thermoelectric conversion layer dispersion on the substrate, various masks or the like can be used to apply the thermoelectric conversion layer dispersion to a desired position and size.
- the metal mask printing method will be described in detail later in Examples.
- the inkjet printing method is performed as follows.
- the total solid concentration in the dispersion for thermoelectric conversion layer as an inkjet coating liquid is generally 0.05 to 30 w / v%, more preferably 0.1 to 20 w / v%, still more preferably 0.8. 5 to 10 w / v%.
- the viscosity of the dispersion for thermoelectric conversion layer is appropriately determined at the temperature at the time of discharge from the viewpoint of discharge stability.
- thermoelectric conversion layer is filtered and then applied onto a substrate or electrode as follows.
- the pore size of the filter used for filter filtration is preferably 2.0 ⁇ m or less, more preferably 0.5 ⁇ m or less made of polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
- the organic solvent used as a dispersion medium a conventionally known organic solvent can be appropriately used depending on the organic material or the nanoconductive material.
- the organic solvent include the above-mentioned dispersion media, and examples thereof include known organic solvents such as aromatic solvents, alcohols, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, amide solvents, and aliphatic halogen solvents. In addition to the organic solvents described above, the following may be mentioned.
- aromatic solvent examples include trimethylbenzene, cumene, ethylbenzene, methylpropylbenzene, methylisopropylbenzene, tetrahydronaphthalene and the like. Of these, xylene, cumene, trimethylbenzene, tetramethylbenzene, and tetrahydronaphthalene are more preferable.
- Examples of the alcohol include methanol, ethanol, butanol, benzyl alcohol, cyclohexanol and the like, and benzyl alcohol and cyclohexanol are more preferable.
- ketone solvents include 1-octanone, 2-octanone, 1-nonanone, 2-nonanone, 4-heptanone, 1-hexanone, 2-hexanone, 2-butanone, diisobutylketone, methylcyclohexanone, phenylacetone, methylisobutylketone, Examples include acetylacetone, acetonylacetone, ionone, diacetonyl alcohol, acetylcarbinol, acetophenone, methyl naphthyl ketone, isophorone, propylene carbonate, and the like, and methyl isobutyl ketone and propylene carbonate are preferred.
- Examples of the aliphatic hydrocarbon solvent include pentane, hexane, octane and decane, and octane and decane are preferable.
- amide solvents examples include N-ethyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl- 2-Imidazolidinone is preferred.
- the above solvents may be used alone or in combination of two or more.
- the base material 31 used in the ink jet printing method in which the bank 33 is formed so as to surround the outer periphery of the region 32 where the thermoelectric conversion layer is formed. That is, the region 32 where the thermoelectric conversion layer is formed is all partitioned by the bank 33. For this reason, the dispersion for the thermoelectric conversion layer deposited by the ink jet method by the bank 33 can be retained in the bank 33, and a thermoelectric conversion layer (not shown) having a height can be formed.
- Examples of the cross-sectional shape of the bank 33 include an arc shape (semi-circular shape, semi-elliptical shape), a triangle shape, a parabolic shape, a trapezoidal shape, and the like.
- the upper portion of the bank 33 preferably has no flat portion. Therefore, the cross-sectional shape of the bank 33 is preferably a convex curved surface shape such as a semicircular shape, a semielliptical shape, a triangular shape, or a parabolic shape.
- the bank 33 is more preferably an arc shape or a triangle, and more preferably an arc shape.
- Examples of the material of the bank 33 include polyimide, novolac resin, epoxy resin, acrylic resin, and the like, and polyimide is preferable from the viewpoint of liquid repellency and heat resistance.
- the bank may be subjected to a liquid repellent treatment as necessary.
- a fluorocarbon film is formed on the bank 33 by a CVD method using carbon tetrafluoride (CF 4 ) as a raw material gas, or a silane coupling agent having a long-chain fluoroalkyl group or fluorine.
- the polymer may be mixed into the bank.
- a photosensitive resist including a dry resist, a polyimide, a method using patterning and development by UV light using a photosensitive glass, a resist is laminated on a polyimide capable of alkali development, and UV light is applied. And a method using patterning and development by UV, and a method using patterning by screen printing using an epoxy resin and UV crosslinking.
- the region 32 for forming the thermoelectric conversion layer is a region surrounded by the bank 33, and the dispersion for the thermoelectric conversion layer is applied to this region. If necessary, before and after the application of the thermoelectric conversion layer dispersion to the region 32 for forming the thermoelectric conversion layer, the layer may be formed by applying a liquid containing a component other than the components contained in the thermoelectric conversion layer dispersion. It may be formed.
- the mask or the like is removed as desired.
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer is dried.
- the method and conditions for drying are not particularly limited.
- the entire substrate may be dried, and only the coating film of the thermoelectric conversion layer dispersion is locally dried. Also good.
- a drying method for example, a drying method such as heat drying or blowing hot air can be employed.
- the heating temperature and time after coating are not particularly limited as long as the dispersion for the thermoelectric conversion layer is dried, but the heating temperature is generally preferably 100 to 200 ° C, more preferably 120 to 160 ° C.
- the heating time is generally preferably 1 to 120 minutes, more preferably 1 to 60 minutes, and further preferably 1 to 25 minutes.
- any method such as a method of drying in a low-pressure atmosphere using a vacuum pump or the like, a method of drying while blowing air using a fan, or a method of drying while supplying an inert gas (nitrogen, argon) is used. Can be used.
- thermoelectric conversion layer may be formed thick by repeating application and heat drying by ink jet printing or the like a plurality of times. In addition, about heat drying, it does not matter whether the solvent component completely volatilizes or not.
- thermoelectric conversion layer is formed on the substrate.
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer has a high solid content concentration and a high viscosity and is excellent in printability
- the formed thermoelectric conversion layer is excellent in moldability and, in addition, is thicker than before by one application.
- a thermoelectric conversion layer can be formed.
- the layer thickness of the thermoelectric conversion layer is preferably from 0.1 to 1000 ⁇ m, more preferably from 1 to 100 ⁇ m. By setting the layer thickness within the above range, it is easy to impart a temperature difference, and an increase in resistance in the thermoelectric conversion layer can be prevented. In the present invention, the thickness can be increased particularly within the above-mentioned range.
- thermoelectric conversion element can be easily manufactured as compared with a photoelectric conversion element such as an organic thin film solar cell element.
- a photoelectric conversion element such as an organic thin film solar cell element.
- the dispersion for the thermoelectric conversion layer it is not necessary to consider the light absorption efficiency as compared with the element for an organic thin film solar cell, so that the film can be increased by about 100 to 1000 times. Chemical stability against moisture is improved.
- thermoelectric conversion element of the present invention when the dispersion for a thermoelectric conversion layer contains the above-described onium salt compound as a dopant, the film is subjected to doping treatment by irradiating or heating the film with active energy rays. It is preferable to improve conductivity.
- active energy rays include radiation and electromagnetic waves, and radiation includes particle beams (high-speed particle beams) and electromagnetic radiation.
- Particle rays include alpha rays ( ⁇ rays), beta rays ( ⁇ rays), proton rays, electron rays (which accelerates electrons with an accelerator regardless of nuclear decay), charged particle rays such as deuteron rays,
- Examples of the electromagnetic radiation include gamma rays ( ⁇ rays) and X-rays (X rays, soft X rays).
- Examples of the electromagnetic wave include radio waves, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays (near ultraviolet rays, far ultraviolet rays, extreme ultraviolet rays), X-rays, gamma rays, and the like.
- the line type used in the present invention is not particularly limited.
- an electromagnetic wave having a wavelength near the maximum absorption wavelength of the onium salt compound (acid generator) to be used may be appropriately selected.
- active energy rays ultraviolet rays, visible rays and infrared rays are preferable from the viewpoint of doping effect and safety, and specifically, the maximum is 240 to 1100 nm, preferably 240 to 850 nm, more preferably 240 to 670 nm. It is a light beam having an emission wavelength.
- a radiation or electromagnetic wave irradiation device For irradiation with active energy rays, a radiation or electromagnetic wave irradiation device is used.
- the wavelength of the radiation or electromagnetic wave to be irradiated is not particularly limited, and a radiation or electromagnetic wave in a wavelength region corresponding to the sensitive wavelength of the onium salt compound to be used may be selected.
- Equipment that can emit radiation or electromagnetic waves includes LED lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, deep UV lamps, low-pressure UV lamps and other mercury lamps, halide lamps, xenon flash lamps, metal halide lamps, ArF excimer lamps, and KrF excimer lamps.
- There are exposure apparatuses using a light source such as an excimer lamp, an extreme ultraviolet light lamp, an electron beam, or an X-ray lamp.
- the ultraviolet irradiation can be performed using a normal ultraviolet irradiation device, for example, a commercially available ultraviolet irradiation device for curing / adhe
- the exposure time and the amount of light may be appropriately selected in consideration of the type of onium salt compound to be used and the doping effect.
- the light intensity is 10 mJ / cm 2 to 10 J / cm 2 , preferably 50 mJ / cm 2 to 5 J / cm 2 .
- the formed film When doping is performed by heating, the formed film may be heated above the temperature at which the onium salt compound generates an acid.
- the heating temperature is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 70 to 150 ° C.
- the heating time is preferably 1 to 60 minutes, more preferably 3 to 30 minutes.
- the timing of the doping treatment is not particularly limited, but it is preferably carried out after processing the dispersion for thermoelectric conversion layer such as film formation.
- thermoelectric conversion element of the present invention a step of forming a second electrode on the formed thermoelectric conversion layer and laminating a second base material is carried out as desired. Or the process of laminating
- the second electrode is formed using the electrode material described above.
- the pressure bonding between the second electrode and the thermoelectric conversion layer is preferably performed by heating to about 100 to 200 ° C. from the viewpoint of improving adhesion.
- thermoelectric conversion element having the first electrode, the thermoelectric conversion layer, and the second electrode is manufactured on the base material by the method for manufacturing the thermoelectric conversion element of the present invention.
- thermoelectric conversion layer formed with the dispersion for thermoelectric conversion layers excellent in the dispersibility and printability is excellent in film formability and adhesiveness with a base material. Therefore, the thermoelectric conversion element of this invention provided with this thermoelectric conversion layer achieves both high conductivity and excellent thermoelectric conversion properties.
- thermoelectric conversion element of the present invention can be suitably used as a power generation element of an article for thermoelectric power generation.
- power generation elements include power generators such as hot spring thermal generators, solar thermal generators, waste heat generators, wristwatch power supplies, semiconductor drive power supplies, (small) sensor power supplies, and the like.
- the thermoelectric conversion layer formed from the dispersion for the thermoelectric conversion layer is preferably used as the thermoelectric conversion layer, thermoelectric power generation film or various conductive films of the thermoelectric conversion element of the present invention. A thing is used suitably as these materials, for example, a thermoelectric conversion material, a material for thermoelectric power generation elements.
- conjugated Polymer 102 was synthesized according to the method described in non-patent literature (Y. Kawagoe et al., New J. Chem., 2010, 34, 637.).
- Example 1 and Comparative Example 1 Preparation of Dispersion 101 for Thermoelectric Conversion Layer 100 mg of poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and 100 mg of single-walled carbon nanotube “ASP-100F” (trade name, manufactured by Hanwha-chemical) (single-walled carbon nanotube) In addition, 20 mL of o-dichlorobenzene was added and premixed at 20 ° C. for 15 minutes using a mechanical homogenizer “T10basic” (manufactured by IKA). Obtained. The solid content concentration of the preliminary mixture 101 was 1.0 w / v% (the CNT content in the solid content (hereinafter the same) was 50% by mass).
- the premix 101 was adjusted to a thin film swirl type high speed mixer “Filmix 40-40” (Primics Co., Ltd., the interval between the inner surface of the tubular mantle and the outer surface of the stirring blade was adjusted to 2 mm (hereinafter the same). ).) was used for dispersion for 5 minutes at a peripheral speed of 40 m / sec in a constant temperature layer at 10 ° C. to prepare a dispersion 101 for a thermoelectric conversion layer of the present invention.
- the solid concentration of the dispersion 101 for thermoelectric conversion layer was 1.0 w / v% (CNT content was 50 mass%).
- thermoelectric conversion layer dispersion 101 prepared above was formed on a substrate to form a thermoelectric conversion layer. Specifically, it has an opening 13 ⁇ 13 mm formed by laser processing on a glass substrate having a thickness of 1.1 mm that has been subjected to UV-ozone treatment for 10 minutes after ultrasonic cleaning in isopropyl alcohol, and Using a metal mask having a thickness of 2 mm, the dispersion for thermoelectric conversion layer 101 was injected into the opening and flattened with a squeegee. In this manner, the thermoelectric conversion layer dispersion 101 was printed by a metal mask printing method. Thereafter, the metal mask was removed, and the glass substrate was dried on a hot plate at 80 ° C. for 45 minutes. Thus, the thermoelectric conversion layer 101 was produced on the glass substrate.
- thermoelectric element corresponding to the thermoelectric conversion element 1 of FIG. 1 having the first electrode, the thermoelectric conversion layer, and the second electrode in this order on the base material using the dispersion 101 for the thermoelectric conversion layer.
- a conversion element was manufactured.
- components corresponding to the constituent members of the thermoelectric conversion element 1 in FIG. Specifically, after ultrasonic cleaning in isopropyl alcohol, a metal mask having an opening of 20 ⁇ 20 mm formed by etching on a glass substrate 12 having a size of 40 ⁇ 50 mm and a thickness of 1.1 m is used to form ions.
- a first electrode 13 was formed by depositing chromium with a thickness of 100 nm and then gold with a thickness of 200 nm by a plating method.
- a metal mask having an opening 13 ⁇ 13 mm formed by laser processing and having a thickness of 2 mm was disposed on the substrate 12 so that the opening was on the first electrode 13.
- the thermoelectric conversion layer dispersion 101 is printed by the printing method using the metal mask printing method in the opening of the metal mask as described above, the glass substrate 12 is heated on a hot plate at 80 ° C. for 45 minutes.
- the thermoelectric conversion layer 14 was formed on the first electrode 13 by drying.
- thermoelectric conversion layer 14 a conductive paste “Dotite D-550” (product name, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., silver paste) is printed on the thermoelectric conversion layer 14 by a screen printing method to form a second electrode 15, and the thermoelectric conversion element 101 was produced.
- Dotite D-550 product name, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., silver paste
- thermoelectric conversion layer dispersion 102 and thermoelectric conversion layer 102 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 102 and thermoelectric conversion layer 102 and production of thermoelectric conversion element 102
- poly (3-octylthiophen-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes Except that 200 mg was used, respectively, in the same manner as in the thermoelectric conversion layer dispersion 101, the preliminary mixture 102 (concentration of solid content was 2.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)) and electric Conversion layer dispersion 102 (solid content concentration was 2.0 w / v% (CNT content was 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 102 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 102 was prepared, and the thermoelectric conversion element 102 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer and thermoelectric conversion layer 103 Preparation of dispersion 103 for thermoelectric conversion layer and thermoelectric conversion layer 103 and production of thermoelectric conversion element 103
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotube Were used in the same manner as in the thermoelectric conversion layer dispersion 101 except that 50 mg was used, respectively, and the premix 103 (solid content concentration: 0.5 w / v% (CNT content: 50% by mass)) and thermoelectric Conversion layer dispersion 103 (solid content concentration: 0.5 w / v% (CNT content: 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 103 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 103 was prepared, and the thermoelectric conversion element 103 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 104 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 104 and thermoelectric conversion layer 104 and production of thermoelectric conversion element 104
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes Except that 2 g of each was used in the same manner as the thermoelectric conversion layer dispersion 101 except that the premix 104 (solid content concentration: 20 w / v% (CNT content: 50 mass%)) and the thermoelectric conversion layer Dispersion 104 (solid content concentration was 20 w / v% (CNT content was 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 104 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 104 was prepared, and the thermoelectric conversion element 104 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 105 and thermoelectric conversion layer 105 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 105 and thermoelectric conversion layer 105 and production of thermoelectric conversion element 105
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes Except that 10 mg of each was used in the same manner as dispersion 101 for thermoelectric conversion layer, premix 105 (solid content concentration was 0.1 w / v% (CNT content is 50 mass%)) and thermoelectric A conversion layer dispersion 105 (solid content concentration: 0.1 w / v% (CNT content: 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 105 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 105 was prepared, and the thermoelectric conversion element 105 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 106 and thermoelectric conversion layer 106 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 106 and thermoelectric conversion layer 106 and production of thermoelectric conversion element 106
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes Were used in the same manner as dispersion 101 for thermoelectric conversion layer except that 20 mg was used, respectively, and premix 106 (solid content concentration: 0.2 w / v% (CNT content: 50 mass%)) and thermoelectric A conversion layer dispersion 106 (solid content concentration: 0.2 w / v% (CNT content: 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 106 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 106 was prepared, and the thermoelectric conversion element 106 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 107 and thermoelectric conversion layer 107 production of thermoelectric conversion element 107
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes Except that 500 mg was used, respectively, in the same manner as the dispersion 101 for the thermoelectric conversion layer, the pre-mixture 107 (the solid content concentration was 5.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)) and the thermoelectric A conversion layer dispersion 107 (solid content concentration was 5.0 w / v% (CNT content was 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 107 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 107 was prepared, and the thermoelectric conversion element 107 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer and thermoelectric conversion layer 108 Preparation of dispersion 108 for thermoelectric conversion layer and thermoelectric conversion layer 108 and production of thermoelectric conversion element 108
- poly (3-octylthiophen-2,5-yl) and single-walled carbon nanotube Each except that 1 g was used in the same manner as the dispersion 101 for the thermoelectric conversion layer, and the premix 108 (solid content concentration: 10 w / v% (CNT content: 50 mass%)) and the thermoelectric conversion layer Dispersion 108 (solid content concentration was 10 w / v% (CNT content is 50 mass%)) was prepared.
- thermoelectric conversion layer dispersion 108 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 108 was prepared, and the thermoelectric conversion element 108 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 109 was prepared in preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 101.
- ASP-100F trade name, Hanwha-chemical Co., Ltd.
- thermoelectric conversion layer dispersion 109 solid content concentration is 1.0 w / s
- thermoelectric conversion layer dispersion 109 solid content concentration: 1.0 w / v% (CNT content: 50% by mass)
- thermoelectric conversion layer dispersion 110 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 110 and thermoelectric conversion layer 110 and production of thermoelectric conversion element 110
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes “MC” trade name, manufactured by Meijo Nanocarbon Co., Ltd.
- thermoelectric conversion layer dispersion 110 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 110 was prepared, and the thermoelectric conversion element 110 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 111 and thermoelectric conversion layer 111 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 111 and thermoelectric conversion layer 111 and production of thermoelectric conversion element 111
- a conjugated polymer was used instead of poly (3-octylthiophene-2,5-yl).
- Preliminary mixture 111 solid content concentration: 1.0 w / v% (CNT content: 50% by mass)
- electroconversion layer dispersion except that molecule 101 was used.
- 111 solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%)).
- thermoelectric conversion layer dispersion 111 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- the thermoelectric conversion layer 111 was prepared, and the thermoelectric conversion element 111 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 112 Preparation of Thermoelectric Conversion Layer Dispersion 112 and Thermoelectric Conversion Layer 112 and Production of Thermoelectric Conversion Element 112
- a conjugated polymer was used instead of poly (3-octylthiophene-2,5-yl).
- Preliminary mixture 112 solid content concentration: 1.0 w / v% (CNT content: 50% by mass)
- electroconversion layer dispersion except for using molecule 102 112 (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%)).
- thermoelectric conversion layer dispersion 112 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 112 was prepared, and the thermoelectric conversion element 112 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 113 and thermoelectric conversion layer 113 Preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 113 and thermoelectric conversion layer 113 and manufacture of thermoelectric conversion element 113
- a conjugated polymer was used instead of poly (3-octylthiophene-2,5-yl).
- Preliminary mixture 113 solid content concentration: 1.0 w / v% (CNT content: 50% by mass)
- electroconversion layer dispersion except that molecule 103 was used in the same manner as thermoelectric conversion layer dispersion 101 113 (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)).
- thermoelectric conversion layer dispersion 113 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 113 was prepared, and the thermoelectric conversion element 113 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 114 was prepared in preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 101.
- “ASP-100F” trade name, Hanwa-chemical Co., Ltd.
- Preliminary mixture 114 solid content concentration is 1.0 w / v) in the same manner as dispersion 101 for thermoelectric conversion layer except that “HP” (trade name, manufactured by KH Chemicals) was used instead of % (CNT content: 50% by mass) and thermoelectric conversion layer dispersion 114 (solid content concentration: 1.0 w / v% (CNT content: 50% by mass)).
- thermoelectric conversion layer dispersion 114 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 114 was prepared, and the thermoelectric conversion element 114 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 115 and thermoelectric conversion layer 115 production of thermoelectric conversion element 115
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes “HP” trade name, manufactured by KH Chemicals
- pre-mixture 115 solid content concentration was 2.0 w / v%) (CNT content is 50% by mass)
- dispersion 115 for thermoelectric conversion layer solid content concentration is 2.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)
- thermoelectric conversion layer dispersion 115 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 115 was prepared, and the thermoelectric conversion element 115 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion c101 and thermoelectric conversion layer c101 production of thermoelectric conversion element c101
- poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotubes In the same manner as in the preparation of the thermoelectric conversion layer dispersion 101 except that 2 g of each was used, the preliminary mixture c101 (solid content concentration: 20 w / v% (CNT content: 50% by mass)) was used. Prepared. Further, the preliminary mixture c101 was subjected to ultrasonic homogenizer “VC-750” (trade name, manufactured by SONICS & MATERIALS.
- thermoelectric conversion layer dispersion c101 solid content concentration: 20 w / v% (CNT content: 50 mass%)
- the thermoelectric conversion layer dispersion c101 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used. Attempts were made to manufacture the thermoelectric conversion layer c101 and the thermoelectric conversion element c101, but the thermoelectric conversion layer c101 and the thermoelectric conversion element c101 could not be manufactured.
- thermoelectric conversion layers 101 to 115 and c101 were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
- thermoelectric conversion layer dispersion The viscosity of each thermoelectric conversion layer dispersion is kept constant at 25 ° C., and then the vibration viscometer “VM-10A” (trade name, manufactured by Seniccock) or the rheometer “MARS” (trade name, viscosity / viscoelasticity) Measurement was performed using a measuring apparatus, manufactured by Thermo Fisher Scientific Co., Ltd. In the measurement of viscoelasticity using a rheometer, the viscosity at a shear rate of 1 Hz in the flow curve measurement was employed.
- the average particle diameter D of the single-walled carbon nanotubes in the dispersion for each thermoelectric conversion layer was measured by a dynamic light scattering method using a dense particle size analyzer “FPAR-1000” (trade name, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). went.
- the relative value is 0.1, it has a minimum acceptable printability, and if the relative value is greater than 0.1 and less than 1.1, it has desirable printability. Is 1.1 or more, it can be said that the printability is particularly excellent.
- thermoelectric conversion layer 101 to 115 the film formability, conductivity and thermoelectric performance of each thermoelectric conversion layer 101 to 115, and the thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element 101 to 115 were evaluated as follows. In addition, only the film-forming property of the coating layer of the dispersion for thermoelectric conversion layers was evaluated for the sample c101.
- thermoelectric conversion layer The film formability was evaluated by visual observation based on the size of each thermoelectric conversion layer with respect to the opening of the metal mask, paying attention to the extent of spreading of the coating layer due to the liquid dripping of the dispersion for the thermoelectric conversion layer. Evaluation was performed in four stages of 1, 2, 3, and 4 in order from the superior one. When the evaluation is 1 or 2, since the degree of liquid dripping of the dispersion is small and the moldability is larger, it can be said that the film quality is improved, the film thickness can be increased, and the film formability is excellent. If the evaluation is 3, it has the minimum acceptable film forming property. 1: The size of the thermoelectric conversion layer is 1.5 times or less compared to the opening of the metal mask.
- thermoelectric conversion layer exceeds 1.5 times and is 2.0 times or less compared to the opening of the metal mask.
- 3 The size of the thermoelectric conversion layer exceeds 2.0 times and 2.5 times or less than the opening of the metal mask.
- 4 The size of the thermoelectric conversion layer is 2.5 times that of the opening of the metal mask. Greater than
- thermoelectric conversion layer The electrical conductivity of each thermoelectric conversion layer is measured by measuring the surface resistivity (unit: ⁇ / ⁇ ) of each thermoelectric conversion layer using a low resistivity meter “Loresta GP” (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) In addition, the thickness (unit: cm) of each thermoelectric conversion layer was measured using a stylus type step surface shape measuring device “XP-200” (trade name, manufactured by Ambios Technology), and the conductivity ( S / cm) was calculated.
- (Conductivity) 1 / ((Surface resistivity ( ⁇ / ⁇ )) ⁇ (Film thickness (cm))
- thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element was evaluated as follows. That is, the thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element is between the first electrode 13 and the second electrode 15 when the glass substrate 12 of each thermoelectric conversion element is heated with a hot plate having a surface temperature of 80 ° C. The resulting voltage difference was measured with a digital multimeter R6581 (trade name, manufactured by Advantest). Table 1 shows the thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element as a relative value to the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion element 101.
- thermoelectric conversion elements 101 to 115 were excellent in conductivity and thermoelectric performance. As the solid content concentration of the dispersion for thermoelectric conversion layer increased, the viscosity and thixotropy gradually increased, and the film formability, preferably moldability, and thermoelectric conversion performance were improved. Specifically, Sample No. Sample No. 101 having a solid content concentration higher than 101.
- sample No. c101 with a high solid content concentration prepared by an ultrasonic homogenizer could not be formed because satisfactory dispersion was impossible with the ultrasonic homogenizer, and the thermoelectric conversion performance and the like could not be evaluated.
- Example 2 and Comparative Example 2 Preparation of Thermoelectric Conversion Dispersion 201 and Thermoelectric Conversion Layer 201 and Production of Thermoelectric Conversion Element 201
- thermoelectric conversion layer dispersion 101 a multi-walled carbon nanotube “VGCF-X” was used instead of a single-walled carbon nanotube as a nano-conductive substance.
- thermoelectric conversion layer dispersion 101 (Trade name, average diameter 150 nm, average length 10-20 ⁇ m, manufactured by Showa Denko KK) was used in the same manner as the thermoelectric conversion layer dispersion 101 except that the pre-mixture 201 (solid content concentration was 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass) and thermoelectric conversion layer dispersion 201 (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)). Further, in the preparation of the thermoelectric conversion layer 101 and the manufacture of the thermoelectric conversion element 101, the thermoelectric conversion layer dispersion 201 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used. The thermoelectric conversion layer 201 was prepared, and the thermoelectric conversion element 201 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 101 carbon black “# 3400B” (instead of single-walled carbon nanotubes) was used as the nanoconductive substance.
- Preliminary mixture 202 solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass) in the same manner as dispersion 101 for thermoelectric conversion layer, except that the brand name, diameter 23 nm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation was used.
- dispersion 202 for thermoelectric conversion layer solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%)).
- thermoelectric conversion layer dispersion 202 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 202 was prepared, and the thermoelectric conversion element 202 was manufactured.
- thermoelectric conversion dispersion c201 and thermoelectric conversion layer c201 production of thermoelectric conversion element c201
- 100 mg of poly (3-octylthiophene-2,5-yl) was used, and nano-conductive Preliminary mixture c201 (in the same manner as dispersion c101 for thermoelectric conversion layer) except that 100 mg of multi-walled carbon nanotubes “VGCF-X” (trade name, manufactured by Showa Denko KK) was used instead of single-walled carbon nanotubes as the active substance.
- VGCF-X trade name, manufactured by Showa Denko KK
- thermoelectric conversion layer dispersion c201 Solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass) and thermoelectric conversion layer dispersion c201 (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)).
- the thermoelectric conversion layer dispersion c201 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- the thermoelectric conversion layer c201 was prepared, and the thermoelectric conversion element c201 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion c201 carbon black “# 3400B” (brand name) instead of multi-walled carbon nanotubes was used as the nanoconductive material.
- the name, diameter 23 nm, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. was used, and the pre-mixture c202 (solid content concentration was 1.0 w / v% (CNT content was 50% by mass).
- thermoelectric conversion layer dispersion c202 solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%). Further, in the preparation of the thermoelectric conversion layer c201 and the manufacture of the thermoelectric conversion element c201, the thermoelectric conversion layer dispersion c202 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion c201, and the thermoelectric conversion layer c201 and the thermoelectric conversion element c201 are used. Thus, a thermoelectric conversion layer c202 was prepared, and a thermoelectric conversion element c202 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersions 201, 202, c201, and c202 were evaluated in the same manner as in Example 1. Further, the film formability, conductivity and thermoelectric performance of each thermoelectric conversion layer 201 and 202 and the thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element 201 and 202 were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
- sample Nos. Prepared by the high-speed swirling thin film dispersion method were used.
- 201 and 202 could be formed into a film.
- sample No. 2 prepared with a mechanical homogenizer and an ultrasonic homogenizer.
- c201 and c202 are sample Nos. Compared with 201 and 202, the dispersibility was poor, the film formability was inferior, and a homogeneous film could not be obtained. Therefore, the surface resistivity and thermoelectric performance could not be measured, and the conductivity, PF and thermoelectromotive force could not be evaluated.
- Example 3 Preparation of Dispersion 301 for Thermoelectric Conversion Layer and Thermoelectric Conversion Layer 301 and Production of Thermoelectric Conversion Element 301 1-Butyl-3-methylimidazolium hexaxine instead of poly (3-octylthiophen-2,5-yl) as a dispersant Sample No. 1 was used except that 100 mg of fluorophosphate was used. In the same manner as in 101, a thermoelectric conversion layer dispersion 301 and a thermoelectric conversion layer 301 were prepared, and a thermoelectric conversion element 301 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer of the present invention The dispersibility of the dispersion 301 for thermoelectric conversion layer of the present invention thus prepared was evaluated in the same manner as in Example 1.
- film forming property, strength ratio [Id / Ig], conductivity and thermoelectric performance of each thermoelectric conversion layer 301, and the thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element 301 are the same as in Example 1 or the following method. Evaluated.
- the PF of the thermoelectric conversion layer 301 and the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion element 301 were obtained as relative values with respect to the PF of the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion element 101. The results are shown in Table 4.
- thermoelectric conversion layer dispersions 401-406 In the preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 101, poly (3-octylthiophene-2,5-yl) and single-walled carbon nanotube “ASP-100F” (trade name, The thermoelectric conversion layer dispersions 401 to 406 were prepared in the same manner as the thermoelectric conversion layer dispersion 101 except that the mass ratio of Hanwha-chemical was changed as shown in Table 5.
- thermoelectric conversion layers 401 to 406 and manufacture of thermoelectric conversion elements 401 to 406 In preparation of thermoelectric conversion layer 101 and manufacture of thermoelectric conversion elements 101, instead of dispersion for thermoelectric conversion layer 101, dispersion for thermoelectric conversion layer 401 to Using 406, thermoelectric conversion layers 401 to 406 were prepared in the same manner as thermoelectric conversion layer 101 and thermoelectric conversion element 101, respectively, and thermoelectric conversion elements 401 to 406 were manufactured. Sample No. Sample No. 403 is Sample No. 101.
- thermoelectric conversion layer dispersions 401 to 406 were evaluated in the same manner as in Example 1. Further, the film formability, conductivity and thermoelectric performance of the thermoelectric conversion layers 401 to 406 and the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion elements 401 to 406 were evaluated in the same manner as in Example 1. The thixotropy, thermoelectric performance, and thermoelectromotive force of each sample are shown in Sample No. The relative value of 101 was obtained. The results are shown in Table 5.
- Nos. 403 to 405 have high viscosity and excellent film formability, and therefore excellent conductivity and thermoelectric performance.
- Example 5 Preparation of Dispersion 501 for Thermoelectric Conversion Layer 90 mg of poly (3-octylthiophen-2,5-yl), 20 mg of polystyrene as a non-conjugated polymer (denoted as “PPS” in Table 6) (degree of polymerization 2000, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) And 20 mL of o-dichlorobenzene were added and completely dissolved using an ultrasonic cleaner “US-2” (trade name, manufactured by Iuchi Seieido Co., Ltd., output 120 W, indirect irradiation).
- PPS polystyrene as a non-conjugated polymer
- US-2 ultrasonic cleaner
- ASP-100F single-walled carbon nanotube
- T10basic mechanical homogenizer
- IKA IKA
- the solid content concentration of the preliminary mixture 501 was 1.0 w / v% (CNT content was 45 mass%).
- the preliminary mixture 501 was mixed at a peripheral speed of 40 m / sec at a peripheral speed of 40 m / sec using a thin film swirl type high speed mixer “Filmix 40-40 type” (trade name, manufactured by Primix).
- the dispersion 501 for thermoelectric conversion layers was prepared by dispersing for a minute.
- thermoelectric conversion layer dispersion 502 In the preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 501, the mass ratio of poly (3-octylthiophene-2,5-yl), single-walled carbon nanotube “HP”, and polystyrene was determined. A thermoelectric conversion layer dispersion 502 (CNT content: 25 mass%) was prepared in the same manner as the thermoelectric conversion layer dispersion 501 except that the composition was changed as described in Table 6.
- thermoelectric conversion layers 501 and 502 and manufacture of thermoelectric conversion elements 501 and 502 In preparation of thermoelectric conversion layer 101 and manufacture of thermoelectric conversion element 101, instead of dispersion 101 for thermoelectric conversion layer, dispersion 501 for thermoelectric conversion layer and The thermoelectric conversion layers 501 and 502 were prepared in the same manner as the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 using 502, and the thermoelectric conversion elements 501 and 502 were manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersions 501 and 502 were evaluated in the same manner as in Example 1. Further, the film formability, conductivity and thermoelectric performance of the thermoelectric conversion layers 501 and 502 and the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion elements 501 and 502 were evaluated in the same manner as in Example 1. The thixotropy, thermoelectric performance, and thermoelectromotive force of each sample were determined as relative values with respect to that of the sample 101. The results are shown in Table 6.
- sample no. In 501 and 502 the CNTs were not easily divided, and the dispersibility and the film forming property were excellent.
- No. 501 also had good electrical conductivity and excellent thermoelectric performance.
- Example 6 Preparation of Dispersion 601 for Thermoelectric Conversion Layer 100 mg of poly (3-octylthiophene-2,5-yl), 100 mg of single-walled carbon nanotube “ASP-100F” (trade name, manufactured by Hanwha-chemical), o-di 20 mL of chlorobenzene was added and premixed using a mechanical homogenizer “T10basic” (trade name, manufactured by IKA) to obtain a premix 601. The solid content concentration of the preliminary mixture 601 was 1.0 w / v% (CNT content was 50% by mass). Next, the premix 601 is used for 5 minutes at a peripheral speed of 25 m / sec in a constant temperature layer at 10 ° C. using a thin film swirl type high speed mixer “Filmix 40-40 type” (trade name, manufactured by Primix). The dispersion 601 for thermoelectric conversion layers was prepared by ultrasonic dispersion.
- thermoelectric conversion layer dispersion 602 for thermoelectric conversion layer
- dispersion 601 for thermoelectric conversion layer
- thermoelectric conversion layer dispersion 602 was prepared in the same manner as the dispersion 601.
- thermoelectric conversion layers 601 and 602 and manufacture of thermoelectric conversion elements 601 and 602 In preparation of thermoelectric conversion layer 101 and manufacture of thermoelectric conversion element 101, instead of dispersion 101 for thermoelectric conversion layer, dispersion 601 for thermoelectric conversion layer and Thermoelectric conversion layers 601 and 602 were prepared in the same manner as thermoelectric conversion layer 101 and thermoelectric conversion element 101 using 602, and thermoelectric conversion elements 601 and 602 were manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersions 601 and 602 were evaluated in the same manner as in Example 1. Further, the film formability, conductivity and thermoelectric performance of the thermoelectric conversion layers 601 and 602 and the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion elements 601 and 602 were evaluated in the same manner as in Example 1. The thixotropy, thermoelectric performance, and thermoelectromotive force of each sample were determined as relative values with respect to that of the sample 101. The results are shown in Table 7.
- sample no. 101, 601 and 602 were all excellent in dispersibility and film formability because CNTs were difficult to break.
- sample no. 101 and sample no. 601 was excellent in film formability, and as a result, conductivity and thermoelectric performance were also high.
- Example 7 Preparation of dispersion 701 for thermoelectric conversion layer 10 mg of single-walled carbon nanotube “MC” (trade name, manufactured by Meijo Nanocarbon Co., Ltd.), 4 mg of TCNQ (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and 20 mL of o-dichlorobenzene were added, and mechanical homogenizer “ Using “T10 basic” (manufactured by IKA), premixed at 20 ° C. for 15 minutes, and filtered through a 1 ⁇ m membrane filter to obtain a carbon nanotube-TCNQ mixture. By repeating this operation five times, about 50 mg of the composition 701 was obtained.
- thermoelectric conversion layer dispersion 701 had a solid content concentration of 0.5 w / v%.
- thermoelectric conversion layer 10 mg of single-walled carbon nanotube “MC” (trade name, manufactured by Meijo Nanocarbon Co., Ltd.), 50 mg of triphenylphosphine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., hereinafter also referred to as TPP), and 20 mL of cyclohexanone are added.
- TPP triphenylphosphine
- cyclohexanone 20 mL
- thermoelectric conversion layer dispersion 702 had a solid content concentration of 0.5 w / v%.
- thermoelectric conversion layers 701 and 702 and manufacture of thermoelectric conversion elements 701 and 702 In preparation of thermoelectric conversion layer 101 and manufacture of thermoelectric conversion element 101, instead of dispersion for thermoelectric conversion layer 101, dispersion for thermoelectric conversion layer 701 and 702, thermoelectric conversion layers 701 and 702 were prepared in the same manner as thermoelectric conversion layer 101 and thermoelectric conversion element 101, respectively, and thermoelectric conversion elements 701 and 702 were manufactured.
- thermoelectric conversion layers 701 and 702 The dispersibility of the prepared dispersions for thermoelectric conversion layers 701 and 702 was evaluated in the same manner as in Example 1 to confirm the polarity. Further, the film formability, conductivity and thermoelectric performance of the thermoelectric conversion layers 701 and 702 and the thermoelectromotive force of the thermoelectric conversion elements 701 and 702 were evaluated in the same manner as in Example 1. In addition, the thermoelectric performance and thermoelectromotive force of each sample were calculated
- sample nos. Nos. 701 and 702 were difficult to divide CNTs, had excellent dispersibility and film formability, and had excellent conductivity.
- Sample No. using a non-conjugated polymer and an n-type dopant was used. In 702, the polarity was changed from p-type to n-type as compared with the case where it was not used.
- Example 8 Preparation of Thermoelectric Conversion Layer Dispersion 801 and Thermoelectric Conversion Layer 801 and Manufacture of Thermoelectric Conversion Element 801
- polystyrene poly (3-octylthiophene-2,5-yl)
- Wako Pure Chemical Industries, degree of polymerization 2000) and “HP” instead of single-walled carbon nanotube “ASP-100F” were used in the same manner as dispersion 101 for thermoelectric conversion layer, except that 100 mg each was used.
- thermoelectric conversion layer dispersion 801 solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%)
- thermoelectric conversion layer dispersion 801 solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50%). Mass%)
- thermoelectric conversion layer dispersion 802 and Thermoelectric Conversion Layer 802 and Production of Thermoelectric Conversion Element 802 In preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 801, 2-vinylnaphthalene was used instead of polystyrene (Wako Pure Chemical Industries, degree of polymerization 2000). Preliminary mixture 802 (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%)) except that 100 mg of Aldrich (molecular weight 175,000) is used. ) And dispersion 802 for thermoelectric conversion layer (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50 mass%)).
- thermoelectric conversion layer dispersion 802 is used instead of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 802 was prepared, and a thermoelectric conversion element 802 was manufactured.
- thermoelectric conversion layer dispersion 803 and Thermoelectric Conversion Layer 803 and Production of Thermoelectric Conversion Element 803 In preparation of thermoelectric conversion layer dispersion 801, instead of polystyrene (Wako Pure Chemical Industries, degree of polymerization 2000), PC-Z type Except for using 100 mg of polycarbonate (manufactured by Teijin Chemicals Ltd., Panlite TS-2020) in the same manner as the dispersion 801 for thermoelectric conversion layer, the pre-mixture 802 (the solid content concentration was 1.0 w / v% (CNT content) And 50% by mass)) and a dispersion 802 for thermoelectric conversion layer (solid content concentration is 1.0 w / v% (CNT content is 50% by mass)).
- PC-Z type Except for using 100 mg of polycarbonate (manufactured by Teijin Chemicals Ltd., Panlite TS-2020) in the same manner as the dispersion 801 for thermoelectric conversion layer, the pre-mixture 802 (the
- thermoelectric conversion layer dispersion 803 is used in place of the thermoelectric conversion layer dispersion 101, and the thermoelectric conversion layer 101 and the thermoelectric conversion element 101 are used.
- thermoelectric conversion layer 803 was prepared, and a thermoelectric conversion element 803 was manufactured.
- thermoelectric conversion layers 801 to 803 were evaluated in the same manner as in Example 1. Further, the film formability, conductivity and thermoelectric performance of each thermoelectric conversion layer 801 to 803 and the thermoelectromotive force of each thermoelectric conversion element 801 to 803 were evaluated in the same manner as in Example 1. The thixotropy, thermoelectric performance, and thermoelectromotive force of each sample are shown in Sample No. The relative value of 114 was obtained. The results are shown in Table 9.
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Abstract
基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有する熱電変換素子の製造方法であって、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供してナノ導電性材料を含有する熱電変換層用分散物を調製する工程と、調製した熱電変換層用分散物を基材上に塗布し、乾燥する工程とを有する熱電変換素子の製造方法、ならびに、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供する熱電変換層用分散物の製造方法。
Description
本発明は、熱電変換素子の製造方法および熱電変換層用分散物の製造方法に関する。
近年、熱電変換素子等のエレクトロニクス分野において、高い電気伝導性を有するカーボンナノチューブ等が、ITO(インジウムスズオキサイド)等の従来の無機材料に変わる新たな導電性材料として、注目されている。
しかし、これらのナノメートルサイズの導電性材料(以下、ナノ導電性材料という)、特にカーボンナノチューブは、凝集しやすいため分散媒への分散性が悪く、導電性材料として利用するに際して分散性を改善することが望まれている。
例えば、カーボンナノチューブの分散媒への分散性を改善する方法として、特定の炭素繊維用分散剤を用いる方法(例えば、特許文献1参照。)、分散手段としてジェットミルまたは超音波処理を採用する方法(例えば、特許文献2参照。)、好ましい分散方法としてメカニカルホモジナイザー法と超音波分散法とを順次実施する方法(例えば、特許文献3参照。)などが挙げられる。
例えば、カーボンナノチューブの分散媒への分散性を改善する方法として、特定の炭素繊維用分散剤を用いる方法(例えば、特許文献1参照。)、分散手段としてジェットミルまたは超音波処理を採用する方法(例えば、特許文献2参照。)、好ましい分散方法としてメカニカルホモジナイザー法と超音波分散法とを順次実施する方法(例えば、特許文献3参照。)などが挙げられる。
ところで、熱電変換素子は、その熱電変換層内で熱を電気に変換するものであるから、熱電変換層をある程度厚くすると優れた熱電変換性能を発揮する。このような熱電変換層は、熱電変換層を形成するための分散物(本発明において、熱電変換層用分散物という)として、高固形分濃度かつ高粘度の導電性材料の塗布液、例えば導電性材料のペーストを用いて、印刷法で形成するのが、生産性、生産コスト等の観点から望ましい。
しかし、上述したように、カーボンナノチューブ等のナノ導電性材料には低分散性という大きな技術的問題があり、特許文献1および特許文献2に記載の方法では、いずれも、カーボンナノチューブの分散性が不十分である。加えて、熱電変換層用分散物の成膜性、および印刷性もいまだ十分ではなかった。したがって、導電性が高く、熱電変換性能に優れた熱電変換層を形成するには、熱電変換層用分散物の成膜性および印刷性とともに、ナノ導電性材料、特にカーボンナノチューブの分散性をさらに改善する必要がある。
また、特許文献3に記載の方法によれば、ある程度の固形分濃度および粘度を有する熱電変換層用分散物を調製可能で熱電変換性能に優れた熱電変換層を形成しうる。
ところが、年々、熱電変換素子に求められる熱電変換性能が高くなっており、今後求められるより高い熱電変換性能を実現するには、カーボンナノチューブの分散性をさらに高めた、成膜性および印刷性に優れる熱電変換層用分散物の開発が望まれている。
ところが、年々、熱電変換素子に求められる熱電変換性能が高くなっており、今後求められるより高い熱電変換性能を実現するには、カーボンナノチューブの分散性をさらに高めた、成膜性および印刷性に優れる熱電変換層用分散物の開発が望まれている。
したがって、本発明は、ナノ導電性材料の分散性に優れ、成膜性および印刷性の高い熱電変換層用分散物の製造方法、ならびに、この熱電変換層用分散物を用いた、導電性および熱電変換性能に優れた熱電変換素子の製造方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を達成するため、熱電変換層用分散物におけるカーボンナノチューブの分散方法を種々検討した。その結果、分散処理対象物を遠心力により装置内壁面に薄膜円筒状に押し付けた状態で高速回転させて、遠心力および装置内壁面との速度差により発生するずり応力を分散処理対象物に作用させる高速旋回薄膜分散法に、分散処理対象物としてのカーボンナノチューブおよび分散媒を適用すると、カーボンナノチューブを分散媒に高度に分散させることができ、成膜性および印刷性をも改善できることを見出した。
上記のように、熱電変換性能の高い熱電変換層を印刷法で作製するには高固形分濃度で高粘度の熱電変換層用分散物が求められる。高速旋回薄膜分散法によれば、高固形分濃度で高粘度であるほど作用するずり応力が大きくなって、カーボンナノチューブの分散性をより一層高めることができる。その結果、熱電変換性能の高い熱電変換層を形成可能な熱電変換層用分散物を調製できることもわかった。
本発明は、これらの知見に基づいて完成された。
本発明は、これらの知見に基づいて完成された。
本発明において、「成膜性」とは、熱電変換層用分散物を基板に塗布して形成した熱電変換層(膜)の膜質に関する性質を指し、例えば、凝集物がなく均一である、破断・脆弱でないといった熱電変換層の層質の良化と、例えば、5μm以上の厚みに熱電変換層を形成できる厚肉化可能性とを評価した。したがって「成膜性に優れる」とは均質な膜の作製が可能であり、また、熱電変換層用分散物の液ダレをなくして、熱電変換層の形成が可能なことをいう。
また、「印刷性」とは、熱電変換層用分散物を基板に印刷して熱電変換層を形成させる際の材料特性に関するものである。「印刷性に優れる」とは、例えば熱電変換層用分散物のチキソトロピー性が適度に大きく、均一に印刷が可能であり、かつ成形性に優れる状態であることをいう。
また、「印刷性」とは、熱電変換層用分散物を基板に印刷して熱電変換層を形成させる際の材料特性に関するものである。「印刷性に優れる」とは、例えば熱電変換層用分散物のチキソトロピー性が適度に大きく、均一に印刷が可能であり、かつ成形性に優れる状態であることをいう。
すなわち、本発明によれば、以下の手段が提供される。
<1>基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有する熱電変換素子の製造方法であって、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を含有する熱電変換層用分散物を調製する工程と、調製した熱電変換層用分散物を基材上に塗布し、乾燥する工程とを有する熱電変換素子の製造方法。
<2>熱電変換層用分散物の固形分濃度が、0.5~20w/v%である<1>に記載の熱電変換素子の製造方法。
<3>熱電変換層用分散物の固形分中のナノ導電性材料の含有率が、10質量%以上である<1>または<2>に記載の熱電変換素子の製造方法。
<4>熱電変換層用分散物の粘度が、10mPa・s以上である<1>~<3>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<5>高速旋回薄膜分散法が、10~40m/secの周速で行われる<1>~<4>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<6>さらに分散剤を高速旋回薄膜分散法に供する<1>~<5>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<7>分散剤が、共役高分子である<6>に記載の熱電変換素子の製造方法。
<8>さらに非共役高分子を高速旋回薄膜分散法に供する<1>~<7>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<9>ナノ導電性材料が、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、フラーレン、グラファイト、グラフェン、カーボンナノ粒子および金属ナノワイヤーからなる群より選択される少なくとも1種である<1>~<8>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<10>ナノ導電性材料が、カーボンナノチューブである<1>~<9>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<11>ナノ導電性材料が、単層カーボンナノチューブであり、単層カーボンナノチューブの直径が1.5~2.0nmであり、その長さが1μm以上であり、かつG/D比が30以上である<1>~<10>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<12>熱電変換層用分散物を印刷法によって基材上に塗布する<1>~<11>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<13>動的光散乱法で測定した、熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の平均粒径Dが、1000nm以下である<1>~<12>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<14>動的光散乱法で測定した、熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の粒径分布の半値幅dDと平均粒径Dとの比[dD/D]が、5以下である<1>~<13>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<15>熱電変換素子の熱電変換層を形成するための熱電変換層用分散物の製造方法であって、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を分散媒に分散させる熱電変換層用分散物の製造方法。
<1>基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有する熱電変換素子の製造方法であって、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を含有する熱電変換層用分散物を調製する工程と、調製した熱電変換層用分散物を基材上に塗布し、乾燥する工程とを有する熱電変換素子の製造方法。
<2>熱電変換層用分散物の固形分濃度が、0.5~20w/v%である<1>に記載の熱電変換素子の製造方法。
<3>熱電変換層用分散物の固形分中のナノ導電性材料の含有率が、10質量%以上である<1>または<2>に記載の熱電変換素子の製造方法。
<4>熱電変換層用分散物の粘度が、10mPa・s以上である<1>~<3>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<5>高速旋回薄膜分散法が、10~40m/secの周速で行われる<1>~<4>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<6>さらに分散剤を高速旋回薄膜分散法に供する<1>~<5>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<7>分散剤が、共役高分子である<6>に記載の熱電変換素子の製造方法。
<8>さらに非共役高分子を高速旋回薄膜分散法に供する<1>~<7>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<9>ナノ導電性材料が、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、フラーレン、グラファイト、グラフェン、カーボンナノ粒子および金属ナノワイヤーからなる群より選択される少なくとも1種である<1>~<8>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<10>ナノ導電性材料が、カーボンナノチューブである<1>~<9>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<11>ナノ導電性材料が、単層カーボンナノチューブであり、単層カーボンナノチューブの直径が1.5~2.0nmであり、その長さが1μm以上であり、かつG/D比が30以上である<1>~<10>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<12>熱電変換層用分散物を印刷法によって基材上に塗布する<1>~<11>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<13>動的光散乱法で測定した、熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の平均粒径Dが、1000nm以下である<1>~<12>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<14>動的光散乱法で測定した、熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の粒径分布の半値幅dDと平均粒径Dとの比[dD/D]が、5以下である<1>~<13>のいずれかに記載の熱電変換素子の製造方法。
<15>熱電変換素子の熱電変換層を形成するための熱電変換層用分散物の製造方法であって、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を分散媒に分散させる熱電変換層用分散物の製造方法。
本発明において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本発明において、置換基に関してxxx基というときには、そのxxx基に任意の置換基を有していてもよい。また、同一の符号で示された基が複数ある場合は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
各式で示される繰り返し構造(繰り返し単位ともいう)は、まったく同じ繰り返し構造でなくとも、式に示される範囲であれば、異なった繰り返し構造をも含む。例えば、繰り返し構造がアルキル基を有する場合、各式で示される繰り返し構造は、メチル基を有する繰り返し構造のみでもよく、メチル基を有する繰り返し構造に加えて、他のアルキル基、例えばエチル基を有する繰り返し構造を含んでいてもよい。
また、本発明において、置換基に関してxxx基というときには、そのxxx基に任意の置換基を有していてもよい。また、同一の符号で示された基が複数ある場合は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
各式で示される繰り返し構造(繰り返し単位ともいう)は、まったく同じ繰り返し構造でなくとも、式に示される範囲であれば、異なった繰り返し構造をも含む。例えば、繰り返し構造がアルキル基を有する場合、各式で示される繰り返し構造は、メチル基を有する繰り返し構造のみでもよく、メチル基を有する繰り返し構造に加えて、他のアルキル基、例えばエチル基を有する繰り返し構造を含んでいてもよい。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法によれば、ナノ導電性材料の分散性に優れ、成膜性および印刷性の高い熱電変換層用分散物を製造できる。また、本発明の熱電変換素子の製造方法によれば、導電性および熱電変換性能に優れた熱電変換素子を製造できる。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
本発明の熱電変換素子の製造方法によって製造される熱電変換素子(本発明の熱電変換素子ということがある)について、説明する。
本発明の熱電変換素子は、基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有し、熱電変換層の少なくとも一方の面が第1の電極および第2の電極に接するように配置されていれば、第1の電極および第2の電極と熱電変換層との位置関係等、その他の構成については特に限定されない。例えば、熱電変換層が第1の電極および第2の電極で挟まれる態様、すなわち、本発明の熱電変換素子が基材上に第1の電極、熱電変換層および第2の電極をこの順に有している態様であってもよい。また、熱電変換層がその一方の面に第1の電極および第2の電極に接するように配置される態様、すなわち、本発明の熱電変換素子が、基材上に互いに離間して形成された両電極上に成膜された熱電変換層を有している態様であってもよい。
熱電変換層は、本発明の熱電変換層用分散物の製造方法によって製造された熱電変換層用分散物(以下、本発明に用いる熱電変換層用分散物または単に熱電変換層用分散物ということがある)で成膜される。
本発明の熱電変換素子は、基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有し、熱電変換層の少なくとも一方の面が第1の電極および第2の電極に接するように配置されていれば、第1の電極および第2の電極と熱電変換層との位置関係等、その他の構成については特に限定されない。例えば、熱電変換層が第1の電極および第2の電極で挟まれる態様、すなわち、本発明の熱電変換素子が基材上に第1の電極、熱電変換層および第2の電極をこの順に有している態様であってもよい。また、熱電変換層がその一方の面に第1の電極および第2の電極に接するように配置される態様、すなわち、本発明の熱電変換素子が、基材上に互いに離間して形成された両電極上に成膜された熱電変換層を有している態様であってもよい。
熱電変換層は、本発明の熱電変換層用分散物の製造方法によって製造された熱電変換層用分散物(以下、本発明に用いる熱電変換層用分散物または単に熱電変換層用分散物ということがある)で成膜される。
本発明の熱電変換素子の構造の一例として、図1および図2に示す素子の構造が挙げられる。図1および図2中、矢印は、熱電変換素子の使用時における温度差の向きを示す。
図1に示す熱電変換素子1は、第1の基材12上に、第1の電極13および第2の電極15を含む一対の電極と、該電極13および15間に熱電変換層14を備えている。第2の電極15の他方の表面には第2の基材16が配設されており、第1の基材12および第2の基材16の外側には互いに対向して金属板11および17が配設されている。金属板11および17は、特に限定されず、熱電変換素子に通常用いられる金属材料で形成されている。
熱電変換素子1は、基材12、第1の電極13、熱電変換層14および第2の電極15の順に構成されている。この熱電変換素子1は、2枚の基材12および16それぞれの表面(熱電変換層14の形成面)に、第1の電極13または第2の電極15を設け、これら電極の間に熱電変換層14を有する構造であることが好ましい。
熱電変換素子1は、基材12、第1の電極13、熱電変換層14および第2の電極15の順に構成されている。この熱電変換素子1は、2枚の基材12および16それぞれの表面(熱電変換層14の形成面)に、第1の電極13または第2の電極15を設け、これら電極の間に熱電変換層14を有する構造であることが好ましい。
図2に示す熱電変換素子2は、第1の基材22上に、第1の電極23および第2の電極25が配設され、第1の電極23および第2の電極25を共に覆うように熱電変換層24が設けられている。また、熱電変換層24上に第2の基材26が設けられている。熱電変換素子2は、第1の電極23および第2の電極25の配設位置、金属板の有無以外は熱電変換素子1と同様である。
熱電変換素子2は、基材22、第1の電極23および第2の電極25、熱電変換層24の順に構成されている。
熱電変換素子2は、基材22、第1の電極23および第2の電極25、熱電変換層24の順に構成されている。
熱電変換層保護の観点から、熱電変換層の表面は電極または基材により覆われることが好ましい。例えば、図1に示すように、熱電変換層14の一方の表面が第1の電極13を介して第1の基材12で覆われ、他方の表面が第2の電極15を介して第2の基材16で覆われていることが好ましい。この場合、第2の電極15の外側に第2の基材16を設けることなく第2の電極15が最表面として空気に晒されていてもよい。
また、図2に示すように、熱電変換層24の一方の表面が第1の電極23及び第2の電極25並びに第1の基材22で覆われ、他方の表面も第2の基材26により覆われることが好ましい。この場合、熱電変換層24の外側に第2の基材26を設けることなく熱電変換層24が最表面として空気に晒されていてもよい。
また、図2に示すように、熱電変換層24の一方の表面が第1の電極23及び第2の電極25並びに第1の基材22で覆われ、他方の表面も第2の基材26により覆われることが好ましい。この場合、熱電変換層24の外側に第2の基材26を設けることなく熱電変換層24が最表面として空気に晒されていてもよい。
本発明の熱電変換素子において、基材は、熱電変換層を膜(フィルム)状に設けたものが好ましい。
本発明の熱電変換素子の熱電変換性能は、下記式(A)で示される性能指数ZTにより表すことができる。
性能指数ZT=S2・σ・T/κ (A)
式(A)において、 S(V/K):絶対温度1K当りの熱起電力(ゼーベック係数)
σ(S/m):導電率
κ(W/mK):熱伝導率
T(K):絶対温度
性能指数ZT=S2・σ・T/κ (A)
式(A)において、 S(V/K):絶対温度1K当りの熱起電力(ゼーベック係数)
σ(S/m):導電率
κ(W/mK):熱伝導率
T(K):絶対温度
本発明の熱電変換素子は、熱電変換層の厚さ方向または面方向に温度差が生じている状態で、厚さ方向または面方向に温度差を伝達するように機能する。したがって、本発明の熱電変換層用分散物をある程度の厚みを持った形状に成形して熱電変換層を形成するのが好ましい。そのため、熱電変換層を、印刷法等、塗布により成膜するのが好ましく、この場合、熱電変換層用分散物には、高固形分濃度および高粘度であること、また良好な成膜性および印刷性等が要求される。基材密着性等が要求されることもある。
ここで、熱電変換層用分散物が高固形分濃度であるとは、その固形分濃度が少なくとも0.1w/v%であり、好ましくは0.5w/v%以上であることを意味し、また高粘度であるとは、その25℃での粘度が少なくとも4mPa・sであり、好ましくは10mPa・s以上であり、より好ましくは50mPa・s以上であることを意味する。
成膜性および印刷性は上述した通りである。
「基材密着性」とは、熱電変換層用分散物を基板に印刷・塗布する際の熱電変換層用分散物の基板に対する密着の度合いを表し、「基材密着性に優れる」とは熱電変換層用分散物の塗布層が剥れることがなく基板に密着している状態になることをいう。
成膜性および印刷性は上述した通りである。
「基材密着性」とは、熱電変換層用分散物を基板に印刷・塗布する際の熱電変換層用分散物の基板に対する密着の度合いを表し、「基材密着性に優れる」とは熱電変換層用分散物の塗布層が剥れることがなく基板に密着している状態になることをいう。
本発明により、熱電変換層用分散物の分散性に加えて、このような成膜性および印刷性に関する要求に応えることができる。すなわち、本発明に用いる熱電変換層用分散物は、ナノ導電性材料の分散性が良好で、成膜性および印刷性に優れた、高固形分濃度および高粘度の分散物となる。したがって、熱電変換層の成膜、特に印刷法等の塗布法による成膜にも適する。
以下、本発明の熱電変換層用分散物の製造方法、および、本発明の熱電変換素子の製造方法等について、説明する。
本発明の熱電変換素子の製造方法は、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を含有する熱電変換層用分散物を調製する工程と、調製した熱電変換層用分散物を基材上に塗布し、乾燥する工程とを有している。
このように、本発明の熱電変換素子の製造方法においては、本発明の熱電変換層用分散物の製造方法でもある分散物調製工程を実施して、本発明に用いる熱電変換層用分散物を調製する。
本発明の熱電変換素子の製造方法は、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を含有する熱電変換層用分散物を調製する工程と、調製した熱電変換層用分散物を基材上に塗布し、乾燥する工程とを有している。
このように、本発明の熱電変換素子の製造方法においては、本発明の熱電変換層用分散物の製造方法でもある分散物調製工程を実施して、本発明に用いる熱電変換層用分散物を調製する。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法および本発明の熱電変換素子の製造方法に用いる各成分について説明する。
これらの製造方法に用いる成分は、ナノ導電性材料および分散媒、所望により、分散剤、非共役高分子、ドーパント、励起アシスト剤、金属元素、他の成分などである。
これらの製造方法に用いる成分は、ナノ導電性材料および分散媒、所望により、分散剤、非共役高分子、ドーパント、励起アシスト剤、金属元素、他の成分などである。
<ナノ導電性材料>
本発明に用いるナノ導電性材料は、少なくとも一辺の長さがナノメートルサイズの大きさで、導電性を有する材料であればよい。このようなナノ導電性材料として、少なくとも一辺の長さがナノメートルサイズの大きさの導電性を有する炭素材料(以下、ナノ炭素材料ということがある)、少なくとも一辺の長さがナノメートルサイズの大きさの金属材料(以下、ナノ金属材料ということがある)等が挙げられる。
ここで、上記一辺の長さは、ナノ導電性材料のどの辺の長さでもよく、特に限定されないが、ナノ導電性材料の非凝集体(例えば一次粒子または分子1個等の凝集していない状態をいう)の長軸方向の長さまたは短軸方向の長さ(直径ともいう)が好ましい。
一辺の長さは、透過型電子顕微鏡(TEM)等の画像解析、または、動的光散乱法(特に粒子の場合)により、測定できる。
本発明に用いるナノ導電性材料は、少なくとも一辺の長さがナノメートルサイズの大きさで、導電性を有する材料であればよい。このようなナノ導電性材料として、少なくとも一辺の長さがナノメートルサイズの大きさの導電性を有する炭素材料(以下、ナノ炭素材料ということがある)、少なくとも一辺の長さがナノメートルサイズの大きさの金属材料(以下、ナノ金属材料ということがある)等が挙げられる。
ここで、上記一辺の長さは、ナノ導電性材料のどの辺の長さでもよく、特に限定されないが、ナノ導電性材料の非凝集体(例えば一次粒子または分子1個等の凝集していない状態をいう)の長軸方向の長さまたは短軸方向の長さ(直径ともいう)が好ましい。
一辺の長さは、透過型電子顕微鏡(TEM)等の画像解析、または、動的光散乱法(特に粒子の場合)により、測定できる。
本発明に用いるナノ導電性材料は、ナノ炭素材料およびナノ金属材料の中でも、それぞれ後述する、カーボンナノチューブ(以下、CNTともいう)、カーボンナノファイバー、フラーレン、グラファイト、グラフェンおよびカーボンナノ粒子のナノ炭素材料、ならびに、金属ナノワイヤーが好ましく、導電性向上および分散媒中での分散性向上の観点で、カーボンナノチューブが特に好ましい。
ナノ導電性材料は、1種のみを単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。ナノ導電性材料として2種以上を併用する場合には、少なくとも1種ずつのナノ炭素材料およびナノ金属材料を併用してもよく、ナノ炭素材料またはナノ金属材料それぞれを2種併用してもよい。
1.ナノ炭素材料
ナノ炭素材料は、炭素原子のsp2混成軌道で構成される炭素-炭素結合によって炭素原子同士が化学結合してなる上記ナノメートルサイズの導電性材料等が挙げられる。具体的には、フラーレン(金属内包フラーレンおよび玉葱状フラーレンを含む。)、カーボンナノチューブ(ピーポッドを含む。)、カーボンナノチューブの片側が閉じた形をしたカーボンナノホーン、カーボンナノファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、気相成長カーボン(VGCF)、グラファイト、グラフェン、カーボンナノ粒子、カーボンナノチューブの頭部に穴があいたコップ型のナノカーボン物質等が挙げられる。また、ナノ炭素材料として、グラファイト型の結晶構造を持ち導電性を示す各種カーボンブラックも用いることができ、例えば、ケッチェンブラック(登録商標)、アセチレンブラック等が挙げられ、具体的には、バルカン(登録商標)等のカーボンブラックが挙げられる。
ナノ炭素材料は、炭素原子のsp2混成軌道で構成される炭素-炭素結合によって炭素原子同士が化学結合してなる上記ナノメートルサイズの導電性材料等が挙げられる。具体的には、フラーレン(金属内包フラーレンおよび玉葱状フラーレンを含む。)、カーボンナノチューブ(ピーポッドを含む。)、カーボンナノチューブの片側が閉じた形をしたカーボンナノホーン、カーボンナノファイバー、カーボンナノウォール、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、気相成長カーボン(VGCF)、グラファイト、グラフェン、カーボンナノ粒子、カーボンナノチューブの頭部に穴があいたコップ型のナノカーボン物質等が挙げられる。また、ナノ炭素材料として、グラファイト型の結晶構造を持ち導電性を示す各種カーボンブラックも用いることができ、例えば、ケッチェンブラック(登録商標)、アセチレンブラック等が挙げられ、具体的には、バルカン(登録商標)等のカーボンブラックが挙げられる。
これらのナノ炭素材料は、従来の製造方法によって製造できる。具体的には、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法(レーザー・アブレーション法)、化学気相成長法(以下、CVD法という)などの気相成長法、気相流動法、一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒と共に反応させて気相で成長させるHiPco法、オイルファーネス法等が挙げられる。このようにして製造されたナノ炭素材料は、そのまま用いることもでき、また、洗浄、遠心分離、ろ過、酸化、クロマトグラフ等によって精製されたものを用いることもできる。さらに、ナノ炭素材料は、必要に応じて、ボールミル、振動ミル、サンドミル、ロールミル等のボール型混練装置等を用いて粉砕したもの、化学的、物理的処理によって短く切断されたもの等を用いることもできる。
ナノ炭素材料は、上述の中でも、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、グラファイト、グラフェンおよびカーボンナノ粒子が好ましく、カーボンナノチューブが特に好ましい。
以下、CNTについて説明する。CNTは、1枚の炭素膜(グラフェン・シート)が円筒状に巻かれた単層CNT、2枚のグラフェン・シートが同心円状に巻かれた2層CNT、および複数のグラフェン・シートが同心円状に巻かれた多層CNTがある。本発明においては、単層CNT、2層CNT、多層CNTを各々単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。特に、導電性および半導体特性において優れた性質を持つ単層CNTおよび2層CNTが好ましく、単層CNTがより好ましい。
単層CNTの場合、グラフェン・シートのグラフェンの六角形の向きに基づく螺旋構造の対称性を軸性カイラルといい、グラフェン上にある6員環の基準点からの2次元格子ベクトルのことをカイラルベクトルという。このカイラルベクトルを指数化した(n,m)をカイラル指数といい、このカイラル指数によって金属性と半導体性に分類できる。具体的には、n-mが3の倍数であるものが金属性を示し、3の倍数でないものが半導体性を示す。
単層CNTは、半導体性のものであっても、金属性のものであってもよく、両者を併せて用いてもよい。
単層CNTは、半導体性のものであっても、金属性のものであってもよく、両者を併せて用いてもよい。
また、CNTには金属などが内包されていてもよく、フラーレン等の分子が内包されたものを用いてもよい。
CNTはアーク放電法、CVD法、レーザー・アブレーション法等によって製造することができる。本発明に用いられるCNTは、いずれの方法によって得られたものであってもよいが、好ましくはアーク放電法およびCVD法により得られたものである。
CNTを製造する際には、同時にフラーレンやグラファイト、非晶性炭素が副生成物として生じることがある。これら副生成物を除去するために精製してもよい。CNTの精製方法は特に限定されないが、上述の精製法の他に、硝酸、硫酸等による酸処理、超音波処理が不純物の除去には有効である。併せて、フィルターによる分離除去を行うことも、純度を向上させる観点からより好ましい。
CNTを製造する際には、同時にフラーレンやグラファイト、非晶性炭素が副生成物として生じることがある。これら副生成物を除去するために精製してもよい。CNTの精製方法は特に限定されないが、上述の精製法の他に、硝酸、硫酸等による酸処理、超音波処理が不純物の除去には有効である。併せて、フィルターによる分離除去を行うことも、純度を向上させる観点からより好ましい。
精製の後、得られたCNTをそのまま用いることもできる。また、CNTは一般に紐状で生成されるため、用途に応じて所望の長さにカットして用いてもよい。CNTは、硝酸、硫酸等による酸処理、超音波処理、凍結粉砕法等により短繊維状にカットすることができる。また、併せてフィルターによる分離を行うことも、純度を向上させる観点から好ましい。
本発明においては、カットしたCNTだけではなく、あらかじめ短繊維状に作製したCNTも同様に使用できる。このような短繊維状CNTは、例えば、基板上に鉄、コバルト等の触媒金属を形成し、その表面にCVD法を用いて700~900℃で炭素化合物を熱分解してCNTを気相成長させることによって、基板表面に垂直方向に配向した形状で得られる。このようにして作製された短繊維状CNTは基板から剥ぎ取る等の方法で取り出すことができる。また、短繊維状CNTは、ポーラスシリコンのようなポーラスな支持体や、アルミナの陽極酸化膜上に触媒金属を担持させ、その表面にCNTをCVD法にて成長させることもできる。触媒金属を分子内に含む鉄フタロシアニンのような分子を原料とし、アルゴン/水素のガス流中でCVD法を行うことによって基板上にCNTを作製する方法でも、配向した短繊維状CNTを作製することができる。さらには、エピタキシャル成長法によってSiC単結晶表面に配向した短繊維状CNTを得ることもできる。
本発明においては、カットしたCNTだけではなく、あらかじめ短繊維状に作製したCNTも同様に使用できる。このような短繊維状CNTは、例えば、基板上に鉄、コバルト等の触媒金属を形成し、その表面にCVD法を用いて700~900℃で炭素化合物を熱分解してCNTを気相成長させることによって、基板表面に垂直方向に配向した形状で得られる。このようにして作製された短繊維状CNTは基板から剥ぎ取る等の方法で取り出すことができる。また、短繊維状CNTは、ポーラスシリコンのようなポーラスな支持体や、アルミナの陽極酸化膜上に触媒金属を担持させ、その表面にCNTをCVD法にて成長させることもできる。触媒金属を分子内に含む鉄フタロシアニンのような分子を原料とし、アルゴン/水素のガス流中でCVD法を行うことによって基板上にCNTを作製する方法でも、配向した短繊維状CNTを作製することができる。さらには、エピタキシャル成長法によってSiC単結晶表面に配向した短繊維状CNTを得ることもできる。
本発明で用いるCNTの長軸方向の平均長さ(単に長さともいう。)は、特に限定されないが、耐久性、透明性、成膜性、導電性等の観点から、0.01μm以上2000μm以下が好ましく、0.01μm以上1000μm以下がより好ましい。さらには1μm以上が好ましく、1μm以上1000μm以下が特に好ましい。
本発明で用いるCNTの直径は、特に限定されないが、耐久性、透明性、成膜性、導電性等の観点から、0.4nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは50nm以下、さらに好ましくは15nm以下である。特に、単層CNTを用いる場合には、0.5nm以上3nm以下が好ましく、より好ましくは1.0nm以上3nm以下、さらに好ましくは1.5nm以上2.5nmであり、特に好ましくは1.5nm以上2.0nmである。直径は後述する方法で測定できる。
本発明で用いるCNTには、欠陥のあるCNTが含まれていることがある。このようなCNTの欠陥は、熱電変換層用分散物などの導電性を低下させるため、低減することが好ましい。CNTの欠陥の量は、ラマンスペクトルのG-バンドとD-バンドの強度比G/D(以下、G/D比という。)で見積もることができる。G/D比が高いほど欠陥の量が少ないCNT材料であると推定できる。特に、単層CNTを用いる場合には、G/D比が10以上であることが好ましく、30以上であることがより好ましい。
ナノ炭素材料が、カーボンナノホーン、カーボンナノファイバー、カーボンナノフィラメント、カーボンナノコイル、気相成長カーボン(VGCF)、コップ型のナノカーボン物質等である場合、長軸方向の長さは、特に限定されないが、上記CNTと同様である。
ナノ炭素材料が、カーボンナノウォール、グラファイトおよびグラフェンである場合、特に限定はされないが、膜厚は1~100nm、一辺の長さ(平均値)は、1~100μmが好ましい。
ナノ炭素材料が、カーボンナノ粒子である場合、直径(平均粒径)は、特に限定されないが、1~1000nmが好ましい。
ナノ炭素材料が、カーボンナノウォール、グラファイトおよびグラフェンである場合、特に限定はされないが、膜厚は1~100nm、一辺の長さ(平均値)は、1~100μmが好ましい。
ナノ炭素材料が、カーボンナノ粒子である場合、直径(平均粒径)は、特に限定されないが、1~1000nmが好ましい。
2.ナノ金属材料
ナノ金属材料は、繊維状または粒子状の金属材料等であり、具体的には、繊維状の金属材料(金属繊維ともいう)、粒子状の金属材料(金属ナノ粒子ともいう)等が挙げられる。ナノ金属材料は、後述する金属ナノワイヤーが好ましい。
ナノ金属材料は、繊維状または粒子状の金属材料等であり、具体的には、繊維状の金属材料(金属繊維ともいう)、粒子状の金属材料(金属ナノ粒子ともいう)等が挙げられる。ナノ金属材料は、後述する金属ナノワイヤーが好ましい。
金属繊維は、中実構造または中空構造が好ましい。平均短軸長さが1~1,000nmであって平均長軸長さが1~100μmの中実構造を持つ金属繊維を金属ナノワイヤーといい、平均短軸長さが1~1,000nm、平均長軸長さが0.1~1,000μmであって中空構造を持つ金属繊維を金属ナノチューブという。
金属繊維の材料としては、導電性を有する金属であればよく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、長周期律表(国際純正および応用化学連合(IUPAC)、1991改訂)の第4周期、第5周期および第6周期の各金属元素からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属元素からなる金属が好ましい。第2族~第14族から選ばれる少なくとも1種の金属元素からなる金属がより好ましく、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族および第14族から選ばれる少なくとも1種の金属元素からなる金属が更に好ましい。
このような金属として、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、またはこれらの合金等が挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、および銀の合金が好ましい。銀の合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウム等が挙げられる。金属は、主成分として含むことが特に好ましく、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
このような金属として、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、またはこれらの合金等が挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、および銀の合金が好ましい。銀の合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウム等が挙げられる。金属は、主成分として含むことが特に好ましく、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
金属ナノワイヤーは、上述の金属で中実構造に形成されていれば、その形状は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができ、熱電変換層の透明性が高くなる点で、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。金属ナノワイヤーの断面形状は、透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより調べることができる。
金属ナノワイヤーの平均短軸長さ(平均短軸径または平均直径と称することがある)は、上述のナノ導電性材料と同じ観点から、50nm以下が好ましく、1~50nmがより好ましく、10~40nmがさらに好ましく、15~35nmが特に好ましい。平均短軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子社製、JEM-2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーの短軸長さを求め、これらの平均値として算出できる。なお、金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとする。
金属ナノワイヤーの平均長軸長さ(平均長さと称することがある)は、同様に、1μm以上が好ましく、1~40μmがより好ましく、3~35μmがさらに好ましく、5~30μmが特に好ましい。平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子社製、JEM-2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーの長軸長さを求め、これらの平均値として算出できる。なお、金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径および曲率から算出される値を長軸長さとする。
金属ナノワイヤーの平均長軸長さ(平均長さと称することがある)は、同様に、1μm以上が好ましく、1~40μmがより好ましく、3~35μmがさらに好ましく、5~30μmが特に好ましい。平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子社製、JEM-2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーの長軸長さを求め、これらの平均値として算出できる。なお、金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径および曲率から算出される値を長軸長さとする。
金属ナノワイヤーは、いかなる製造方法で製造してもよいが、特開2012-230881号公報に記載されている、ハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元する製造方法で製造するのが好ましい。ハロゲン化合物、分散添加剤および溶媒ならびに加熱条件等の詳細は特開2012-230881号公報に記載されている。
また、この製造方法以外にも、例えば、特開2009-215594号公報、特開2009-242880号公報、特開2009-299162号公報、特開2010-84173号公報、特開2010-86714号公報等にそれぞれ記載の製造方法によって、金属ナノワイヤーを製造することもできる。
また、この製造方法以外にも、例えば、特開2009-215594号公報、特開2009-242880号公報、特開2009-299162号公報、特開2010-84173号公報、特開2010-86714号公報等にそれぞれ記載の製造方法によって、金属ナノワイヤーを製造することもできる。
金属ナノチューブは、上述の金属で中空構造に形成されていれば、その形状は特に限定されず、単層であっても多層であってもよい。導電性および熱伝導性に優れる点で、金属ナノチューブは単層が好ましい。
金属ナノチューブの厚み(外径と内径との差)は、耐久性、透明性、成膜性、導電性等の観点から、3~80nmが好ましく、3~30nmがより好ましい。金属ナノチューブの平均長軸長さは、上述のナノ導電性材料と同じ観点から、1~40μmが好ましく、3~35μmがより好ましく、5~30μmがさらに好ましい。金属ナノチューブの平均短軸長さは金属ナノワイヤーの平均短軸長さと同様であるのが好ましい。
金属ナノチューブの厚み(外径と内径との差)は、耐久性、透明性、成膜性、導電性等の観点から、3~80nmが好ましく、3~30nmがより好ましい。金属ナノチューブの平均長軸長さは、上述のナノ導電性材料と同じ観点から、1~40μmが好ましく、3~35μmがより好ましく、5~30μmがさらに好ましい。金属ナノチューブの平均短軸長さは金属ナノワイヤーの平均短軸長さと同様であるのが好ましい。
金属ナノチューブは、いかなる製造方法で製造してもよく、例えば、米国特許出願公開第2005/0056118号明細書に記載の製造方法等で製造することができる。
金属ナノ粒子は、上述の金属形成された、粒子状(粉末状を含む)の金属微粒子であればよく、金属微粒子、金属微粒子の表面を保護剤で被覆したものでもよく、さらに、表面を被覆したものを分散媒体中に分散させたものでもよい。
金属ナノ粒子に使用される金属としては、上述した中でも、銀、銅、金、パラジウム、ニッケル、ロジウムなどが好ましく挙げられる。また、これらの少なくとも2種からなる合金、これらの少なくとも1種と鉄との合金等も使用できる。2種からなる合金としては、例えば、白金-金合金、白金-パラジウム合金、金-銀合金、銀-パラジウム合金、パラジウム-金合金、白金-金合金、ロジウム-パラジウム合金、銀-ロジウム合金、銅-パラジウム合金、ニッケル-パラジウム合金等が挙げられる。また、鉄の合金としては、例えば、鉄-白金合金、鉄-白金-銅合金、鉄-白金-スズ合金、鉄-白金-ビスマス合金および鉄-白金-鉛合金等が挙げられる。
これらの金属または合金は、単独でまたは2種以上を併用することができる。
金属ナノ粒子に使用される金属としては、上述した中でも、銀、銅、金、パラジウム、ニッケル、ロジウムなどが好ましく挙げられる。また、これらの少なくとも2種からなる合金、これらの少なくとも1種と鉄との合金等も使用できる。2種からなる合金としては、例えば、白金-金合金、白金-パラジウム合金、金-銀合金、銀-パラジウム合金、パラジウム-金合金、白金-金合金、ロジウム-パラジウム合金、銀-ロジウム合金、銅-パラジウム合金、ニッケル-パラジウム合金等が挙げられる。また、鉄の合金としては、例えば、鉄-白金合金、鉄-白金-銅合金、鉄-白金-スズ合金、鉄-白金-ビスマス合金および鉄-白金-鉛合金等が挙げられる。
これらの金属または合金は、単独でまたは2種以上を併用することができる。
金属ナノ粒子の平均粒径(動的光散乱法)は、導電性に優れる点で、1~150nmが好ましい。
金属微粒子の保護剤は、例えば、特開2012-222055号公報に記載の保護剤が好適に挙げられ、炭素数10~20の直鎖状または分枝状のアルキル鎖を有する保護剤、特に脂肪酸類または脂肪族アミン類、脂肪族チオール類もしくは脂肪族アルコール類等がさらに好適に挙げられる。ここで、炭素数が10~20であると、金属ナノ粒子の保存安定性が高く、かつ導電性にも優れる。脂肪酸類、脂肪族アミン類、脂肪族チオール類および脂肪族アルコール類は特開2012-222055号公報に記載のものが好適である。
金属ナノ粒子は、いかなる製造方法で製造されてもよく、製造方法として、例えば、ガス中蒸着法、スパッタリング法、金属蒸気合成法、コロイド法、アルコキシド法、共沈法、均一沈殿法、熱分解法、化学還元法、アミン還元法および溶媒蒸発法等が挙げられる。これら製造方法は、それぞれ特有の特徴を備えるが、特に大量生産を目的とする場合には化学還元法、アミン還元法を用いるのが好ましい。これらの製造方法を実施するに当たっては、必要に応じて上述の保護剤を選択して使用するほか、公知の還元剤等を適宜用いることができる。
<分散剤>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、分散剤を用いるのが、ナノ導電性材料を高度に分散できる点で、好ましい。すなわち、本発明に用いる熱電変換層用分散物は分散剤を含有しているのが好ましい。
本発明に用いる分散剤は、ナノ導電性材料の凝集を阻害して分散媒に分散させるのを補助するものであれば特に制限されない。分散剤は、ナノ導電性材料の分散性の点で低分子分散剤および共役高分子が好ましく、熱電変換素子の熱電変換性能を高めることができる点で共役高分子がさらに好ましい。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、分散剤を用いるのが、ナノ導電性材料を高度に分散できる点で、好ましい。すなわち、本発明に用いる熱電変換層用分散物は分散剤を含有しているのが好ましい。
本発明に用いる分散剤は、ナノ導電性材料の凝集を阻害して分散媒に分散させるのを補助するものであれば特に制限されない。分散剤は、ナノ導電性材料の分散性の点で低分子分散剤および共役高分子が好ましく、熱電変換素子の熱電変換性能を高めることができる点で共役高分子がさらに好ましい。
1.低分子分散剤
低分子分散剤は、後述する共役高分子よりも分子量の小さいものであればよく、例えば、アミン化合物、ポルフィリン化合物、ピレン化合物が挙げられる。例えば、オクタデシルアミン、5,10,15,20-テトラキス(ヘキサデシロキシフェニル)-21H,23H-ポルファイン、亜鉛ポルフィリン、亜鉛プロトポルフィリンなどが挙げられる。
また、界面活性剤も挙げられる。界面活性剤は、イオン性(アニオン性、カチオン性、双性(両性))のものと非イオン性(ノニオン性)のものがあり、本発明ではいずれも用いることができる。アニオン性界面活性剤としては、例えば、カルボン酸系として脂肪酸塩やコール酸塩、スルホン酸系として直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムやラウリル硫酸ナトリウムなどが挙げられる。カチオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルベンジルジメチルアンモニウム塩、ジアルキルイミダゾリウム塩が挙げられる。双性界面活性剤としては、例えば、アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタインなどが挙げられる。また、非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、脂肪酸ソルビタンエステル、アルキルポリグルコシド、脂肪酸ジエタノールアミド、アルキルモノグリセリルエーテルなどが挙げられる。
本発明に用いる熱電変換層用分散物には低分子分散剤を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
低分子分散剤は、後述する共役高分子よりも分子量の小さいものであればよく、例えば、アミン化合物、ポルフィリン化合物、ピレン化合物が挙げられる。例えば、オクタデシルアミン、5,10,15,20-テトラキス(ヘキサデシロキシフェニル)-21H,23H-ポルファイン、亜鉛ポルフィリン、亜鉛プロトポルフィリンなどが挙げられる。
また、界面活性剤も挙げられる。界面活性剤は、イオン性(アニオン性、カチオン性、双性(両性))のものと非イオン性(ノニオン性)のものがあり、本発明ではいずれも用いることができる。アニオン性界面活性剤としては、例えば、カルボン酸系として脂肪酸塩やコール酸塩、スルホン酸系として直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムやラウリル硫酸ナトリウムなどが挙げられる。カチオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルベンジルジメチルアンモニウム塩、ジアルキルイミダゾリウム塩が挙げられる。双性界面活性剤としては、例えば、アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタインなどが挙げられる。また、非イオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、脂肪酸ソルビタンエステル、アルキルポリグルコシド、脂肪酸ジエタノールアミド、アルキルモノグリセリルエーテルなどが挙げられる。
本発明に用いる熱電変換層用分散物には低分子分散剤を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
2.共役高分子
共役高分子は、主鎖がπ電子または孤立電子対で共役する構造を有する化合物であれば特に限定されない。このような共役構造として、例えば、主鎖上の炭素-炭素結合において、一重結合と二重結合とが交互に連なる構造が挙げられる。
共役高分子は、主鎖がπ電子または孤立電子対で共役する構造を有する化合物であれば特に限定されない。このような共役構造として、例えば、主鎖上の炭素-炭素結合において、一重結合と二重結合とが交互に連なる構造が挙げられる。
このような共役高分子としては、チオフェン化合物、ピロール化合物、アニリン化合物、アセチレン化合物、p-フェニレン化合物、p-フェニレンビニレン化合物、p-フェニレンエチニレン化合物、p-フルオレニレンビニレン化合物、フルオレン化合物、芳香族ポリアミン化合物(アリールアミン化合物ともいう)、ポリアセン化合物、ポリフェナントレン化合物、金属フタロシアニン化合物、p-キシリレン化合物、ビニレンスルフィド化合物、m-フェニレン化合物、ナフタレンビニレン化合物、p-フェニレンオキシド化合物、フェニレンスルフィド化合物、フラン化合物、セレノフェン化合物、アゾ化合物および金属錯体化合物、ならびに、これらの化合物の水素原子等を置換基で置換(以下、化合物に置換基を導入という)した誘導体等をモノマーとし、該モノマーを重合または共重合してなる、該モノマーの繰り返し構造を有する共役高分子が挙げられる。なお、上記化合物はいずれも置換基を有しないものをいい、置換基を有するものを誘導体という。
これらの中でも、チオフェン化合物、ピロール化合物、アニリン化合物、アセチレン化合物、p-フェニレン化合物、p-フェニレンビニレン化合物、p-フェニレンエチニレン化合物、フルオレン化合物およびアリールアミン化合物、ならびに、これらの誘導体からなる群より選択される少なくとも1種の化合物または誘導体を重合または共重合してなる共役高分子が、ナノ導電性材料の分散性および熱電変換性能の点で、好ましい。
上記の化合物に導入される置換基としては、特に制限はないが、他の成分との相溶性、用いる分散媒の種類等を考慮して、分散媒への共役高分子の分散性を高めるものが好ましい。
このような置換基は、特に限定されず、例えば、下記構造式(1)~(5)のR1~R13がとり得る置換基が好ましく挙げられる。
このような置換基は、特に限定されず、例えば、下記構造式(1)~(5)のR1~R13がとり得る置換基が好ましく挙げられる。
例えば、置換基の一例として、分散媒として有機溶媒を用いる場合、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルコキシ基、チオアルキル(アルキルチオ)基のほか、アルコキシアルキレンオキシ基、アルコキシアルキレンオキシアルキル基、クラウンエーテル環基、アリール基等を好ましく用いることができる。これらの基は、さらに置換基を有してもよい。
また、置換基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは1~12、より好ましくは4~12であり、特に炭素数6~12の長鎖のアルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基、アルコキシアルキレンオキシ基、アルコキシアルキレンオキシアルキル基が好ましい。
一方、分散媒として水系媒体を用いる場合は、各モノマーまたは上記置換基が、さらに、カルボン酸基、スルホン酸基、水酸基、リン酸基等の親水性基を有することが好ましい。他にも、ジアルキルアミノ基、モノアルキルアミノ基、アルキル基が置換していないアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアネート基、イソシアノ基、ハロゲン原子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基などを置換基として導入することができ、好ましい。
また、置換基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは1~12、より好ましくは4~12であり、特に炭素数6~12の長鎖のアルキル基、アルコキシ基、チオアルキル基、アルコキシアルキレンオキシ基、アルコキシアルキレンオキシアルキル基が好ましい。
一方、分散媒として水系媒体を用いる場合は、各モノマーまたは上記置換基が、さらに、カルボン酸基、スルホン酸基、水酸基、リン酸基等の親水性基を有することが好ましい。他にも、ジアルキルアミノ基、モノアルキルアミノ基、アルキル基が置換していないアミノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアネート基、イソシアノ基、ハロゲン原子、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基などを置換基として導入することができ、好ましい。
置換基の数も特に制限されず、共役高分子の分散性や相溶性、導電性等を考慮して、1個または複数個の置換基を適宜導入することができる。
チオフェン化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるチオフェン系共役高分子としては、チオフェン化合物およびその誘導体を繰り返し構造として有するものであればよく、例えば、チオフェンに由来する繰り返し構造を含むポリチオフェン、チオフェン環に置換基が導入されたチオフェン化合物の誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子、および、チオフェン環を含む縮合多環構造を有するチオフェン化合物に由来する繰り返し構造を含む共役高分子が挙げられる。
チオフェン系共役高分子は、誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子、および、上記縮合多環構造を有するチオフェン化合物に由来する繰り返し構造を含む共役高分子が好ましい。
チオフェン系共役高分子は、誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子、および、上記縮合多環構造を有するチオフェン化合物に由来する繰り返し構造を含む共役高分子が好ましい。
チオフェン環に置換基が導入されたチオフェン系化合物の誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子としては、下記構造式(1)で表される繰り返し構造を含む共役高分子が挙げられる。共役高分子の一例として、例えば、ポリ-3-メチルチオフェン、ポリ-3-ブチルチオフェン、ポリ-3-ヘキシルチオフェン、ポリ-3-シクロヘキシルチオフェン、ポリ-3-(2’-エチルヘキシル)チオフェン、ポリ-3-オクチルチオフェン、ポリ-3-ドデシルチオフェン、ポリ-3-(2’-メトキシエトキシ)メチルチオフェン、ポリ-3-(メトキシエトキシエトキシ)メチルチオフェンなどのポリ(アルキル置換チオフェン)系共役高分子、ポリ-3-メトキシチオフェン、ポリ-3-エトキシチオフェン、ポリ-3-ヘキシルオキシチオフェン、ポリ-3-シクロヘキシルオキシチオフェン、ポリ-3-(2’-エチルヘキシルオキシ)チオフェン、ポリ-3-ドデシルオキシチオフェン、ポリ-3-メトキシ(ジエチレンオキシ)チオフェン、ポリ-3-メトキシ(トリエチレンオキシ)チオフェン、ポリ-(3,4-エチレンジオキシチオフェン)などのポリ(アルコキシ置換チオフェン)系共役高分子、ポリ-3-メトキシ-4-メチルチオフェン、ポリ-3-ヘキシルオキシ-4-メチルチオフェン、ポリ-3-ドデシルオキシ-4-メチルチオフェンなどのポリ(3-アルコキシ置換-4-アルキル置換チオフェン)系共役高分子、ポリ-3-チオヘキシルチオフェン、ポリ-3-チオオクチルチオフェン、ポリ-3-チオドデシルチオフェンなどのポリ(3-チオアルキルチオフェン)系共役高分子が挙げられる。
チオフェン系共役高分子としては、下記構造式(1)で表される繰り返し構造を含む共役高分子が好ましく、上記例のなかでも、ポリ(3-アルキル置換チオフェン)系共役高分子、ポリ(3-アルコキシ置換チオフェン)系共役高分子が好ましい。
3位に置換基を有するポリチオフェン系共役高分子に関しては、チオフェン環の2,5位での結合の向きにより異方性が生じる。3-置換チオフェンの重合において、チオフェン環の2位同士が結合したもの(HH結合体:head-to-head)、2位と5位が結合したもの(HT結合体:head-to-tail)、5位同士が結合したもの(TT結合体:tail-to-tail)の混合物になるが、2位と5位が結合したものの割合が多いほど、重合体主鎖の平面性が向上し、ポリマー間のπ-πスタッキング構造を形成しやすく、電荷の移動を容易にする上で好ましい。これら結合様式の割合は、核磁気共鳴分光法(1H-NMR)により測定することができる。HT結合体のチオフェン系共役高分子中における割合は50質量%以上が好ましく、さらに好ましくは70質量%以上、特に90質量%以上のものが好ましい。
より具体的に、チオフェン環に置換基が導入されたチオフェン系化合物の誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子、および、上記縮合多環構造を有するチオフェン化合物に由来する繰り返し構造を含む共役高分子として、下記A-1~A-17が例示できる。また、後述するA-18~A-26の繰り返し構造を含む共役高分子も挙げられる。なお、下記式中、nは10以上の整数を示し、tBuはt-ブチル基を表す。
ピロール化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるピロール系共役高分子としては、ピロール化合物およびその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、例えば、ピロールに由来する繰り返し構造を含むポリピロール、ピロール環に置換基が導入されたピロール化合物の誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子、および、ピロール環を含む縮合多環構造を有するピロール化合物に由来する繰り返し構造を含む共役高分子が挙げられる。
ピロール系共役高分子として、例えば、下記B-1~B-8が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。
ピロール系共役高分子として、例えば、下記B-1~B-8が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。
アニリン化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるアニリン系共役高分子としては、アニリン化合物またはその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、例えば、アニリンに由来する繰り返し構造を含むポリアニリン、アニリンのベンゼン環に置換基が導入されたアニリン化合物の誘導体に由来する繰り返し構造を含む共役高分子、および、アニリンのベンゼン環を含む縮合多環構造を有するアニリン化合物に由来する繰り返し構造を含む共役高分子が挙げられる。
アニリン系共役高分子としては、下記C-1~C-8が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示し、yは共重合成分の全モル数を1としたときのモル比を示し、0を超え1未満である。
なお、下記C-1は、共重合体成分およびそのモル比を示すものであり、共重合成分の結合様式は下記ものに限定されない。
アニリン系共役高分子としては、下記C-1~C-8が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示し、yは共重合成分の全モル数を1としたときのモル比を示し、0を超え1未満である。
なお、下記C-1は、共重合体成分およびそのモル比を示すものであり、共重合成分の結合様式は下記ものに限定されない。
アセチレン化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるアセチレン系共役高分子としては、アセチレン化合物またはその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、例えば、下記D-1~D-3が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。
p-フェニレン化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるp-フェニレン系共役高分子としては、p-フェニレン化合物またはその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、例えば、下記E-1~E-9が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。また、下記E-2において、Acはアセチル基を表す。
p-フェニレンビニレン化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるp-フェニレンビニレン系共役高分子としては、p-フェニレンビニレン化合物またはその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、下記F-1~F-3が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。
p-フェニレンエチニレン化合物およびその誘導体を重合または共重合してなるp-フェニレンエチニレン系共役高分子としては、p-フェニレンエチニレン化合物またはその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、下記G-1およびG-2が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。
上記以外の化合物およびその誘導体を重合または共重合してなる共役高分子としては、上記以外の化合物またはその誘導体の繰り返し構造を有するものであればよく、下記H-1~H-13が例示できる。なお下記式中、nは10以上の整数を示す。
上記共役高分子のなかでも、直鎖状の共役高分子を用いることが好ましい。このような直鎖状の共役高分子は、例えば、ポリチオフェン系共役高分子、ポリピロール系共役高分子の場合、各モノマーのチオフェン環またはピロール環が、それぞれ2,5位で結合することにより得られる。ポリ-p-フェニレン系共役高分子、ポリ-p-フェニレンビニレン系共役高分子、ポリ-p-フェニレンエチニレン系共役高分子では、各モノマーのフェニレン基がパラ位(1,4位)で結合することにより得られる。
本発明で用いる共役高分子は、上述の繰り返し構造(以下、この繰り返し構造を与えるモノマーを「第1のモノマー(群)」とも称する)を1種単独で有しても、2種以上を有していてもよい。また、第1のモノマーに加えて、他の構造を有するモノマー(以下、「第2のモノマー」と称する)から誘導される繰り返し構造を有していてもよい。複数種の繰り返し構造からなる共役高分子の場合、ブロック共重合体であっても、ランダム共重合体であっても、グラフト重合体であってもよい。
上記第1のモノマーと併用される、他の構造を有する第2のモノマーの繰り返し構造としては、カルバゾール化合物に由来するもの、また、ジベンゾ[b,d]シロール基、シクロペンタ[2,1-b;3,4-b’]ジチオフェン基、ピロロ[3,4-c]ピロール-1,4(2H,5H)-ジオン基、ベンゾ[2,1,3]チアジアゾール-4,8-ジイル基、アゾ基、5H-ジベンゾ[b、d]シロール基、チアゾール基、イミダゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、トリアゾール基等を有する化合物およびこれらの化合物に置換基を導入した誘導体に由来するものが挙げられる。導入する置換基としては、上述した置換基と同様のものが挙げられる。
本発明で用いる共役高分子は、第1のモノマー群から選択された1種または複数種のモノマーから誘導される繰り返し構造を共役高分子中、合計で50質量%以上有していることが好ましく、70質量%以上有していることがより好ましく、第1のモノマー群から選択された1種または複数種のモノマーから誘導される繰り返し構造のみからなることが更に好ましい。特に好ましくは、第1のモノマー群から選択された単一の繰り返し構造のみからなる共役高分子である。
第1のモノマー群のなかでも、チオフェン化合物およびその誘導体の少なくとも1つから誘導される繰り返し構造を含むポリチオフェン系共役高分子がより好ましく用いられる。特に、下記の構造式(1)~(5)で表される化合物、誘導体または縮合多環構造を有するチオフェン化合物(チオフェン環含有縮合芳香環構造)に由来する繰り返し構造を有するポリチオフェン系共役高分子が好ましい。
上記構造式(1)~(5)中、R1~R13は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フッ素原子置換アルキル基、フッ素原子置換アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、ポリアルキレンオキシ基、アシルオキシ基またはアルキルオキシカルボニル基を表し、Yは炭素原子、窒素原子またはケイ素原子を表す。nは、Yが窒素原子のとき1を表し、Yが炭素原子またはケイ素原子のとき2を表す。また*は、各繰り返し構造の結合位置を表す。
R1~R13において、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素の各原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子が好ましい。
アルキル基には直鎖、分岐、環状のアルキル基が含まれ、炭素数1~14のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、t-ブチル、s-ブチル、n-ペンチル、t-アミル、n-ヘキシル、2-エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル等が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数1~14のアルコキシ基が好ましく、具体的にはメトキシ、エトキシ、n-プロピルオキシ、i-プロピルオキシ、n-ブトキシ、t-ブトキシ、s-ブトキシ、n-ペンチルオキシ、t-アミルオキシ、n-ヘキシルオキシ、2-エチルヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ、テトラデシルオキシ等が挙げられる。
アルキル基には直鎖、分岐、環状のアルキル基が含まれ、炭素数1~14のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、t-ブチル、s-ブチル、n-ペンチル、t-アミル、n-ヘキシル、2-エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル等が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数1~14のアルコキシ基が好ましく、具体的にはメトキシ、エトキシ、n-プロピルオキシ、i-プロピルオキシ、n-ブトキシ、t-ブトキシ、s-ブトキシ、n-ペンチルオキシ、t-アミルオキシ、n-ヘキシルオキシ、2-エチルヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ、テトラデシルオキシ等が挙げられる。
フッ素原子置換アルキル基としては、フッ素原子が置換した炭素数1~10のアルキル基が好ましい。具体的には、CF3-、CF3CF2-、n-C3F7-、i-C3F7-、n-C4F9-、t-C4F9-、s-C4F9-、n-C5F11-、CF3CF2C(CF3)2-、n-C6F13-、C8F17-、C9F19-、C10F21-等のパーフルオロアルキル基が挙げられる。また、CF3(CF2)2CH2-、CF3(CF2)4CH2-、CF3(CF2)5CH2CH2-等の水素原子の一部がフッ素原子で置換されたアルキル基が挙げられる。
フッ素原子置換アルコキシ基としては、フッ素原子が置換した炭素数1~10のアルコキシ基が好ましい。具体的には、CF3O-、CF3CF2O-、n-C3F7O-、i-C3F7O-、n-C4F9O-、t-C4F9O-、s-C4F9O-、n-C5F11O-、CF3CF2C(CF3)2O-、n-C6F13O-、C8F17O-、C9F19O-、C10F21O-等のパーフルオロアルコキシ基が挙げられる。また、CF3(CF2)2CH2O-、CF3(CF2)4CH2O-、CF3(CF2)5CH2CH2O-等の、水素原子の一部がフッ素原子で置換されたアルコキシ基が挙げられる。
フッ素原子置換アルコキシ基としては、フッ素原子が置換した炭素数1~10のアルコキシ基が好ましい。具体的には、CF3O-、CF3CF2O-、n-C3F7O-、i-C3F7O-、n-C4F9O-、t-C4F9O-、s-C4F9O-、n-C5F11O-、CF3CF2C(CF3)2O-、n-C6F13O-、C8F17O-、C9F19O-、C10F21O-等のパーフルオロアルコキシ基が挙げられる。また、CF3(CF2)2CH2O-、CF3(CF2)4CH2O-、CF3(CF2)5CH2CH2O-等の、水素原子の一部がフッ素原子で置換されたアルコキシ基が挙げられる。
アミノ基は、アルキルアミノ基およびアリールアミノ基を含み、炭素数0~16のアミノ基が好ましく、具体的には、アミノ、モノエチルアミノ、ジエチルアミノ、モノヘキシルアミノ、ジヘキシルアミノ、ジオクチルアミノ、モノドデシルアミノ、ジフェニルアミノ、ジキシリルアミノ、ジトリルアミノ、モノフェニルアミノ等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、炭素数1~14のアルキルチオ基が好ましく、具体的にはCH3S-、CH3CH2S-、n-C3H7S-、i-C3H7S-、n-C4H9S-、t-C4H9S-、s-C4H9S-、n-C5H11S-、CH3CH2C(CH3)2S-、n-C6H13S-、cyclo-C6H11S-、CH3(CH2)5CH2CH2S-、C6H13S-、C8H17S-、C9H19S-、C10H21S-、2-エチルヘキシルチオ等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、炭素数1~14のアルキルチオ基が好ましく、具体的にはCH3S-、CH3CH2S-、n-C3H7S-、i-C3H7S-、n-C4H9S-、t-C4H9S-、s-C4H9S-、n-C5H11S-、CH3CH2C(CH3)2S-、n-C6H13S-、cyclo-C6H11S-、CH3(CH2)5CH2CH2S-、C6H13S-、C8H17S-、C9H19S-、C10H21S-、2-エチルヘキシルチオ等が挙げられる。
ポリアルキレンオキシ基としては、炭素数3~20のポリアルキレンオキシ基が好ましく、具体的には、ポリエチレンオキシ、ポリプロピレンオキシが挙げられる。
アシルオキシ基としては、炭素数1~14のアシルオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、ドデシルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
アルキルオキシカルボニル基としては、炭素数1~14のアルキルオキシカルボニル基が好ましく、具体的にはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、n-ヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル等が挙げられる。
これらの基は、さらに置換されていてもよい。
アシルオキシ基としては、炭素数1~14のアシルオキシ基が好ましく、具体的には、例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、ドデシルカルボニルオキシ、フェニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
アルキルオキシカルボニル基としては、炭素数1~14のアルキルオキシカルボニル基が好ましく、具体的にはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、n-ヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル等が挙げられる。
これらの基は、さらに置換されていてもよい。
R1~R13として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、ポリアルキレンオキシ基、水素原子であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ポリアルキレンオキシ基であり、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシ基である。
Yは、炭素原子または窒素原子が好ましく、炭素原子がより好ましい。
上記構造式(1)~(5)で表される繰り返し構造として、具体的には下記化合物A-18~A-26が例示できるが、これらに限定されるものではない。
上述した各共役高分子の分子量は特に限定されず、高分子量のものはもちろん、それ未満の分子量のオリゴマー(例えば重量平均分子量1000~10000程度)であってもよい。
高い導電性を実現する観点から、共役高分子は、酸、光、熱に対して分解されにくいものが好ましい。高い導電性を得るためには、共役高分子の長い共役鎖を介した分子内のキャリア伝達、および分子間のキャリアホッピングを生じるのが好ましい。そのためには、共役高分子の分子量がある程度大きいことが好ましく、この観点から、本発明で用いる共役高分子の分子量は、重量平均分子量で5000以上が好ましく、7000~300,000がより好ましく、8000~100,000がさらに好ましい。該重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定できる。
高い導電性を実現する観点から、共役高分子は、酸、光、熱に対して分解されにくいものが好ましい。高い導電性を得るためには、共役高分子の長い共役鎖を介した分子内のキャリア伝達、および分子間のキャリアホッピングを生じるのが好ましい。そのためには、共役高分子の分子量がある程度大きいことが好ましく、この観点から、本発明で用いる共役高分子の分子量は、重量平均分子量で5000以上が好ましく、7000~300,000がより好ましく、8000~100,000がさらに好ましい。該重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定できる。
これらの共役高分子は、上記モノマーを通常の酸化重合法に準じた方法より重合させて製造できる。
また、市販品を用いることもでき、例えば、アルドリッチ社製のポリ(3-ヘキシルチオフェン-2,5ージイル) レジオレギュラー品が挙げられる。
また、市販品を用いることもでき、例えば、アルドリッチ社製のポリ(3-ヘキシルチオフェン-2,5ージイル) レジオレギュラー品が挙げられる。
本発明で用いる共役高分子としては、上述の各共役高分子の他に、下記一般式(1A)または(1B)で表されるフルオレン構造を繰り返し構造として少なくとも含む共役高分子も挙げられる。
式中、R1AおよびR2Aは各々独立に置換基を表す。R3AおよびR4Aは各々独立に、芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基またはアルコキシ基を表す。ここで、R3AとR4Aが互いに結合して環を形成してもよい。n11およびn12bは各々独立に0~3の整数を表し、n12は0~2の整数を表す。Laは、単結合、-N(Ra1)-、または、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基および-N(Ra1)-からなる群より選択される基を組み合わせた連結基を表す。Lbは、単結合、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基、-N(Ra1)-、またはこれらの基を組み合わせた連結基を表す。ここで、Ra1は置換基を表す。Xbは、3価の芳香族炭化水素環基、3価の芳香族ヘテロ環基または>N-を表す。*は結合位置を表す。
R1A、R2Aにおける置換基としては、下記置換基W1が挙げられる。
(置換基W1)
置換基W1としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基(芳香族炭化水素環基ともいう)、ジアリールボリル基、ジヒドロボリル基、ジアルコキシボリル基、ヘテロ環基(ヘテロアリール基(芳香族ヘテロ環基ともいう)を含み、環構成原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子、ホウ素原子が好ましい)、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスフィニル基、アミノ基(アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む)、アシルアミノ基、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、ウレイド基、ウレタン基、イミド基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
置換基W1としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基(芳香族炭化水素環基ともいう)、ジアリールボリル基、ジヒドロボリル基、ジアルコキシボリル基、ヘテロ環基(ヘテロアリール基(芳香族ヘテロ環基ともいう)を含み、環構成原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子、ホウ素原子が好ましい)、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスフィニル基、アミノ基(アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む)、アシルアミノ基、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、ウレイド基、ウレタン基、イミド基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
これらのうち、芳香族炭化水素環基、ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、芳香族炭化水素環基、ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基がより好ましく、芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基がさらに好ましく、アルキル基が特に好ましい。
R1A、R2Aがアルキチオ基の場合、炭素数は1~24が好ましく、1~20がより好ましく、6~16がさらに好ましい。アルキルチオ基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、上記置換基W1が挙げられる。
アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、t-ブチルチオ、n-ヘキシルチオ、n-オクチルオチオ、2-エチルヘキシルチオ、n-オクタデシルチオが挙げられる。
アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、t-ブチルチオ、n-ヘキシルチオ、n-オクチルオチオ、2-エチルヘキシルチオ、n-オクタデシルチオが挙げられる。
R1A、R2Aがアミノ基の場合、該アミノ基は、炭素数は0~24が好ましく、1~20がより好ましく、1~16がさらに好ましい。アミノ基としては、例えば、アミノ、メチルアミノ、N,N-ジエチルアミノ、フェニルアミノ、N-メチル-N-フェニルアミノが挙げられ、アルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましい。
アルキル、アリールもしくはヘテロ環アミノ基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、上記置換基W1が挙げられる。
アルキル、アリールもしくはヘテロ環アミノ基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、上記置換基W1が挙げられる。
R1A、R2Aが芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基の場合、後述のR3A、R4Aにおける芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基が挙げられる。
なお、アルキル基、アルコキシ基の好ましい炭素数は、いずれも1~18であり、1~12がより好ましく、1~8がさらに好ましい。
芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基の好ましい範囲は、R3A、R4Aと同じである。
なお、アルキル基、アルコキシ基の好ましい炭素数は、いずれも1~18であり、1~12がより好ましく、1~8がさらに好ましい。
芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基の好ましい範囲は、R3A、R4Aと同じである。
n11、n12は0または1が好ましい。
R3A、R4Aにおける芳香族炭化水素環基の芳香族炭化水素環は、炭素数は6~24が好ましく、6~20がより好ましく、6~18がさらに好ましい。芳香族炭化水素環はベンゼン環、ナフタレン環が挙げられ、該環は芳香族炭化水素環、脂肪族炭化水素環、ヘテロ環などの環で縮環していてもよい。また、芳香族炭化水素環基は置換基を有してもよく、該置換基としては上記置換基W1が挙げられる。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基がより好ましく、アルキル基、アルコキシ基がさらに好ましい。
R3A、R4Aにおける芳香族ヘテロ環基の芳香族ヘテロ環は、炭素数は2~24が好ましく、3~20がより好ましく、3~18がさらに好ましい。芳香族ヘテロ環は、環構成ヘテロ原子が、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、5または6員環が好ましい。該環は芳香族炭化水素環、脂肪族炭化水素環、ヘテロ環などの環で縮環していてもよい。また、芳香族炭化水素環基は置換基を有してもよく、該置換基としては上記置換基W1が挙げられる。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
芳香族ヘテロ環としては、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、トリアジン環、インドール環、イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、プテリジン環、クマリン環、クロモン環、1,4-ゼンゾジアゼピン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾフラン環、プリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フラン環、セレノフェン環、テルロフェン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ピリドン-2-オン環、セレノピラン環、テルロピラン環等が挙げられ、チオフェン環、ピロール環、フラン環、イミダゾール環、ピリジン環、キノリン環、インドール環が好ましい。
芳香族ヘテロ環としては、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、トリアジン環、インドール環、イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、プテリジン環、クマリン環、クロモン環、1,4-ゼンゾジアゼピン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾフラン環、プリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フラン環、セレノフェン環、テルロフェン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ピリドン-2-オン環、セレノピラン環、テルロピラン環等が挙げられ、チオフェン環、ピロール環、フラン環、イミダゾール環、ピリジン環、キノリン環、インドール環が好ましい。
R3A、R4Aにおけるアルキル基は、炭素数は1~24が好ましく、1~20がより好ましく、6~16がさらに好ましい。アルキル基は直鎖状、分岐状または環状でも、さらに置換基を有していてもよく、該置換基としては、上記置換基W1が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、t-ブチル、n-ヘキシル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、n-オクタデシルが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、t-ブチル、n-ヘキシル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、n-オクタデシルが挙げられる。
R3A、R4Aにおけるアルコキシ基は、炭素数は1~24が好ましく、1~20がより好ましく、6~16がさらに好ましい。アルコキシ基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、上記置換基W1が挙げられる。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t-ブトキシ、n-ヘキシルオキシ、n-オクチルオキシ、2-エチルヘキシルオキシ、n-オクタデシルオキシが挙げられる。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、t-ブトキシ、n-ヘキシルオキシ、n-オクチルオキシ、2-エチルヘキシルオキシ、n-オクタデシルオキシが挙げられる。
R3AおよびR4Aの少なくとも一方は、芳香族炭化水素環基または芳香族ヘテロ環基が好ましい。
R3AおよびR4Aは、互いに結合して環を形成してもよく、該環としては、3~7員環が好ましく、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、芳香族炭化水素環、ヘテロ環(芳香族ヘテロ環を含む)であっても、形成された環が単環であっても、縮環されて多環であっても構わない。また形成された環が置換基を有していてもよく、該置換基としては置換基W1が挙げられる。
本発明では、これらの形成された環は、フルオレン環が好ましく、9位でスピロ構造、すなわち、下記構造のものが好ましい。
本発明では、これらの形成された環は、フルオレン環が好ましく、9位でスピロ構造、すなわち、下記構造のものが好ましい。
ここで、R1A、R2A、n11およびn12は上記一般式(1A)または(1B)におけるR1A、R2A、n11およびn12と同義であり、好ましい範囲も同じである。
R1A’、R2A’およびn12’は、R1A、R2A、n12と同義であり、好ましい範囲も同じである。n11’は0~4の整数を表す。
Rxは、一般式(1A)の場合(すなわち、フルオレン環の2個のベンゼン環でポリマー主鎖に組み込まれる場合)は、結合手を表し、一般式(1B)の場合(すなわち、1個のベンゼン環がポリマー主鎖に結合する場合)は、水素原子または置換基を表す。Rxにおける置換基としては上記置換基W1が挙げられ、なかでも、芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
Rx’は、水素原子または置換基を表す。Rx’における置換基としては上記置換基W1が挙げられ、なかでも、芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基がより好ましく、アルコキシ基がさらに好ましい。
*は結合位置を表す。
R1A’、R2A’およびn12’は、R1A、R2A、n12と同義であり、好ましい範囲も同じである。n11’は0~4の整数を表す。
Rxは、一般式(1A)の場合(すなわち、フルオレン環の2個のベンゼン環でポリマー主鎖に組み込まれる場合)は、結合手を表し、一般式(1B)の場合(すなわち、1個のベンゼン環がポリマー主鎖に結合する場合)は、水素原子または置換基を表す。Rxにおける置換基としては上記置換基W1が挙げられ、なかでも、芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
Rx’は、水素原子または置換基を表す。Rx’における置換基としては上記置換基W1が挙げられ、なかでも、芳香族炭化水素環基、芳香族ヘテロ環基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基がより好ましく、アルコキシ基がさらに好ましい。
*は結合位置を表す。
LaおよびLbにおける2価の芳香族炭化水素環基の芳香族炭化水素環は、炭素数は6~24が好ましく、6~20がより好ましく、6~18がさらに好ましい。芳香族炭化水素環はベンゼン環、ナフタレン環が挙げられ、該環は芳香族炭化水素環、脂肪族炭化水素環、ヘテロ環などの環で縮環していてもよい。また、芳香族炭化水素環基は置換基を有してもよく、該置換基としては上記置換基W1が挙げられる。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基がより好ましく、アルキル基、アルコキシ基がさらに好ましい。
上記芳香族炭化水素環は、好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環である。
上記芳香族炭化水素環は、好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環である。
LaおよびLbにおける2価の芳香族ヘテロ環基の芳香族ヘテロ環は、炭素数は2~24が好ましく、3~20がより好ましく、3~18がさらに好ましい。芳香族ヘテロ環は、環構成ヘテロ原子が、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、5または6員環が好ましい。該環は芳香族炭化水素環、脂肪族炭化水素環、ヘテロ環などの環で縮環していてもよい。また、芳香族炭化水素環基は置換基を有してもよく、該置換基としては上記置換基W1が挙げられる。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
上記芳香族ヘテロ環は、例えば、チアゾール環、ピロール環、フラン環、ピラゾール環、イミダゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、ベンゾチアゾール環、インドール環、ベンゾチアジアゾール環、キノキサリン環、フェノキサジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチアゾール環、ジベンゾシラノシクロペンタジエン環、カルバゾール環、フェノチアジン環、チオフェン環、イソチアゾール環、インドール環、イソインドール環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、プテリジン環、クマリン環、クロモン環、1,4-ゼンゾジアゼピン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾフラン環、プリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フラン環、セレノフェン環、テルロフェン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ピリドン-2-オン環、セレノピラン環、テルロピラン環等が挙げられる。
LaおよびLbにおける-N(Ra1)-のRa1は、置換基を表すが、該置換基としては上記置換基W1が挙げられる。
Ra1は、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。該基に置換してもよい置換基は、上記置換基W1が挙げられる。
Ra1におけるアルキル基は、炭素数は1~18が好ましい。Ra1におけるアリール基は、炭素数は6~24が好ましく、6~20がより好ましく、6~12がさらに好ましい。
Ra1におけるヘテロ環基は、芳香族ヘテロ環基が好ましく、R3A、R4Aにおける芳香族ヘテロ環基が好ましい。
Ra1は、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。該基に置換してもよい置換基は、上記置換基W1が挙げられる。
Ra1におけるアルキル基は、炭素数は1~18が好ましい。Ra1におけるアリール基は、炭素数は6~24が好ましく、6~20がより好ましく、6~12がさらに好ましい。
Ra1におけるヘテロ環基は、芳香族ヘテロ環基が好ましく、R3A、R4Aにおける芳香族ヘテロ環基が好ましい。
LaおよびLbにおける、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基または-N(Ra)-を組み合わせた連結基は、これらを2個以上組み合わせた基であれば、どのように組み合わされてもよい。
例えば、-2価の芳香族炭化水素環基-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族ヘテロ環基-2価の芳香族ヘテロ環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-2価の芳香族ヘテロ環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族ヘテロ環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族ヘテロ環基-2価の芳香族ヘテロ環基-2価の芳香族ヘテロ環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、が挙げられる。
例えば、-2価の芳香族炭化水素環基-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族ヘテロ環基-2価の芳香族ヘテロ環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-2価の芳香族ヘテロ環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族ヘテロ環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族ヘテロ環基-2価の芳香族ヘテロ環基-2価の芳香族ヘテロ環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-2価の芳香族炭化水素環基-N(Ra1)-2価の芳香族炭化水素環基-、が挙げられる。
Laは、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基、および上記-N(Ra1)-からなる群より選択される基が2個以上組み合わさった連結基が好ましい。
Lbは、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基または-N(Ra1)-もしくはこれらの基を組み合わせた連結基が好ましい。
Lbは、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基または-N(Ra1)-もしくはこれらの基を組み合わせた連結基が好ましい。
Laは、好ましくは下記式(a)または(b)で表される連結基である。
式中、Xa0は単結合、2価の芳香族炭化水素環基または2価の芳香族ヘテロ環基を表し、Xa1およびXa2は各々独立に2価の芳香族炭化水素環基または2価の芳香族ヘテロ環基を表す。Ra0は置換基を表し、na0は0~5の整数を表す。
Xa0、Xa1、Xa2における2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基は、Laにおける、2価の芳香族炭化水素環基、2価の芳香族ヘテロ環基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ra0における上記置換基は置換基W1が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子であり、アルコキシカルボニル基が特に好ましい。
na0は0または1が好ましい。
Ra0における上記置換基は置換基W1が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子であり、アルコキシカルボニル基が特に好ましい。
na0は0または1が好ましい。
Xbにおける3価の芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環は、LaおよびLbにおける芳香族炭化水素環が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
なかでも、ベンゼン環が好ましく、1,3-フェニレン基でポリマー主鎖を構成しているフェニレン基の5位に、フルオレン環のベンゼン環が結合するものが好ましい。
なかでも、ベンゼン環が好ましく、1,3-フェニレン基でポリマー主鎖を構成しているフェニレン基の5位に、フルオレン環のベンゼン環が結合するものが好ましい。
Xbにおける3価の芳香族ヘテロ環基における芳香族ヘテロ環は、LaおよびLbにおける芳香族ヘテロ環が挙げられ、好ましい範囲も同じである。
なかでも、フェノキサジン環の10位、フェノチアジン環の10位、カルバゾール環の9位、ピロールの1位に、フルオレン環のベンゼン環が結合するものが好ましい。
なかでも、フェノキサジン環の10位、フェノチアジン環の10位、カルバゾール環の9位、ピロールの1位に、フルオレン環のベンゼン環が結合するものが好ましい。
Xbは、Xbの原子が、芳香族炭化水素環を形成する炭素原子または芳香族ヘテロ環を形成する炭素原子もしくは窒素原子であるか、またはXbが>N-であるものが好ましく、>N-が特に好ましい。
一般式(1A)または(1B)で表されるフルオレン構造を繰り返し構造として少なくとも含む共役高分子の重量平均分子量(ポリスチレン換算GPC測定値)は、特に限定されるものではないが、4000~100000が好ましく、6000~80000がより好ましく、8000~50000が特に好ましい。
一般式(1A)または(1B)で表されるフルオレン構造を繰り返し構造として少なくとも含む共役高分子の末端基は、例えば、上記一般式(1A)または(1B)で表される繰り返し構造の括弧の外に位置し、繰り返し構造に結合した置換基である。該末端基となる置換基は、高分子の合成方法により変わるが、合成原料由来のハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子)、含ホウ素置換基、さらに重合反応の副反応等による水素原子、触媒配位子に由来する含リン置換基となりうる。重合後、還元反応、置換反応によって、末端基を水素原子またはアリール基とすることも好ましい。
一般式(1A)または(1B)で表されるフルオレン構造の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例において、*は結合位置を表す。
以下に示す、Meはメチル基、Prはプロピル基を表す。
以下に示す、Meはメチル基、Prはプロピル基を表す。
一般式(1A)または(1B)で表されるフルオレン構造を繰り返し構造として少なくとも含む共役高分子は、例えば、Chem. Rev.,2011年,111巻,pp.1417等に記載の公知の方法に準じた方法により、または、通常のカップリング重合法に準じた方法により、上記フルオレン構造を有する化合物を重合させて、製造できる。
本発明で用いる共役高分子としては、上述の各共役高分子の他に、下記一般式(1)で表される構造を繰り返し構造として少なくとも含む共役高分子も挙げられる。
一般式(1)中、Ar11およびAr12は各々独立にアリーレン基またはヘテロアリーレン基を表す。Ar13はアリーレン基またはヘテロアリーレン基を表す。R1B、R2BおよびR3Bは各々独立に置換基を表す。ここで、R1BとR2B、R1BとR3B、R2BとR3Bが互いに結合して環を形成してもよい。Lは単結合または下記式(l-1)~(l-5)のいずれかで表される連結基を表す。n1B、n2Bおよびn3Bは各々独立に0~4の整数を表し、n1は5以上の整数を表す。
式中、Ar14およびAr16は各々独立にアリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、Ar15はアリール基またはヘテロアリール基を表す。R4B~R6Bは各々独立に置換基を表す。ここで、R4BとR2B、R5BとR2B、R6BとR2B、R5BとR6Bが互いに結合して環を形成してもよい。n4B~n6Bは各々独立に0~4の整数を表す。X1はアリーレンカルボニルアリーレン基またはアリーレンスルホニルアリーレン基を表し、X2はアリーレン基、ヘテロアリーレン基もしくはこれらを組み合わせた連結基を表す。
Ar11およびAr12は各々独立にアリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、Ar13はアリール基またはヘテロアリール基を表すが、これらの基の芳香族炭化水素環(芳香環)、芳香族ヘテロ環は好ましくは、以下の環である。
芳香環の炭素数は、6~50が好ましく、6~40がより好ましく、6~20がさらに好ましい。芳香環は例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、インダセン環、フルオレン環が挙げられ、該環は単環でも他の環で縮環していてもよい。縮環してもよい環としては、芳香環、脂環、芳香族ヘテロ環、非芳香族のヘテロ環が挙げられる。
芳香族ヘテロ環の炭素数は、2~50が好ましく、2~40がより好ましく、2~20がさらに好ましく、3~20が特に好ましい。芳香族ヘテロ環における環構成ヘテロ原子は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子が好ましい。芳香族ヘテロ環は他の環で縮環していてもよい。縮環してもよい環としては、芳香環、脂環、芳香族ヘテロ環、非芳香族のヘテロ環が挙げられる。芳香族ヘテロ環としては、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、オキサゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、およびこれらのベンゾ縮環体(例えば、ベンゾチオフェン)またはジベンゾ縮環体(例えば、ジベンゾチオフェン、カルバゾール)が挙げられる。
芳香環の炭素数は、6~50が好ましく、6~40がより好ましく、6~20がさらに好ましい。芳香環は例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、インダセン環、フルオレン環が挙げられ、該環は単環でも他の環で縮環していてもよい。縮環してもよい環としては、芳香環、脂環、芳香族ヘテロ環、非芳香族のヘテロ環が挙げられる。
芳香族ヘテロ環の炭素数は、2~50が好ましく、2~40がより好ましく、2~20がさらに好ましく、3~20が特に好ましい。芳香族ヘテロ環における環構成ヘテロ原子は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子が好ましい。芳香族ヘテロ環は他の環で縮環していてもよい。縮環してもよい環としては、芳香環、脂環、芳香族ヘテロ環、非芳香族のヘテロ環が挙げられる。芳香族ヘテロ環としては、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、オキサゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、およびこれらのベンゾ縮環体(例えば、ベンゾチオフェン)またはジベンゾ縮環体(例えば、ジベンゾチオフェン、カルバゾール)が挙げられる。
R1B、R2BおよびR3Bは置換基を表すが、該置換基W2としては、ジアリールボリル基、および、ジヒドロボリル基、ジアルコキシボリル基を除く上述の置換基W1が挙げられる。
R1B、R2BおよびR3Bはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましい。
ここで、アリール基における芳香環は、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環が好ましく、ヘテロ環基におけるヘテロ環は、カルバゾール環、ジベンゾチオフェン環、9-シラフルオレン環が好ましい。
Lは単結合または上記式(l-1)~(l-5)のいずれかで表される連結基を表すが、好ましくは、上記式(l-1)~(l-4)のいずれかで表される連結基である。
Ar14およびAr16は、Ar11、Ar12と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ar15はAr13と同義であり、好ましい範囲も同じである。R4B~R6BはR1B~R3Bと同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ar14およびAr16は、Ar11、Ar12と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ar15はAr13と同義であり、好ましい範囲も同じである。R4B~R6BはR1B~R3Bと同義であり、好ましい範囲も同じである。
X1はアリーレンカルボニルアリーレン基またはアリーレンスルホニルアリーレン基を表し、-Ara-C(=O)-Arb-、-Ara-SO2-Arb-として表される。ここでAra、Arbは各々独立にアリーレン基を表し、該アリーレン基は置換基を有してもよい。該置換基としては置換基W2が挙げられる。アリーレン基における芳香環は上記Ar11における芳香環が挙げられる。Ara、Arbはフェニレン基が好ましく、1,4-フェニレン基がより好ましい。
X2はアリーレン基、ヘテロアリーレン基もしくはこれらを組み合わせた連結基を表すが、これらの基の環は、上記Ar11で挙げた環が挙げられ、好ましい範囲もAr11と同じである。
R1BとR2B、R1BとR3B、R2BとR3B、R4BとR2B、R5BとR2B、R6BとR2B、R5BとR6Bは互いに結合して環を形成してもよい。これらにより形成される環としては、芳香環でも芳香族ヘテロ環でもよく、例えば、ナフタレン環、フルオレン環、カルバゾール環、ジベンゾチオフェン環、9-シラフルオレン環が挙げられる。
ここで、R1BとR3B、R2BとR4BもしくはR5Bが互いに結合して環を形成するものが好ましく、形成された環はカルバゾール環が好ましい。
形成されたカルバゾール環の基は、なかでも下記の基が好ましい。
ここで、R1BとR3B、R2BとR4BもしくはR5Bが互いに結合して環を形成するものが好ましく、形成された環はカルバゾール環が好ましい。
形成されたカルバゾール環の基は、なかでも下記の基が好ましい。
ここで、Raは、R2B~R3Bと同義であり好ましい範囲も同じである。naは、n1B~n3Bと同義であり、好ましい範囲も同じである。
naは0または1が好ましく、1がより好ましく、Raはアルキル基が好ましい。
naは0または1が好ましく、1がより好ましく、Raはアルキル基が好ましい。
n1B、n2B、n3Bは0~4の整数であり、0~2が好ましく、0~1がより好ましい。n1B、n2B、n3Bは同一であっても異なってもよく、異なることが好ましい。
ここで、Ar11、X2は、基本骨格が下記の基の場合が特に好ましい。なお、これらの環は、置換基を有してもよい。
ここで、Zは-C(Rb)2-、-Si(Rb)2-を表し、Rbはアルキル基を表す。
上記一般式(1)で表される繰り返し構造のうち、下記一般式(2)~(6)のいずれかで表される構造が好ましい。
一般式(2)~(6)中、Ar11~Ar16、R1B~R6B、n1B~n6B、X1およびX2は、上記一般式(1)におけるAr11~Ar16、R1B~R6B、n1B~n6B、X1およびX2と同義である。
上記一般式(2)~(6)で表される繰り返し構造のうち、上記一般式(3)、(4)または(5)で表される構造が好ましく、上記一般式(4)で表される構造がなかでも好ましい。
n1は5以上の整数であり、その好ましい範囲は繰り返し構造の分子量によって変わるが、該繰り返し構造を有する共役高分子が重量平均分子量(ポリスチレン換算GPC測定値)で5000~100000が好ましく、8000~50000がより好ましく、10000~20000が特に好ましい。
共役高分子の末端基は、一般式(1)~(6)で表される繰り返し構造の括弧の外に位置し、繰り返し構造に結合した置換基である。該末端基となる置換基は上記の通りである。
一般式(1)で表される共役高分子を構成する繰り返し構造の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記具体例において、*は結合位置を表す。
以下に示す、Etはエチル基、Bu(n)はn-ブチル基、Phはフェニル基(-C6H5)を表す。
以下に示す、Etはエチル基、Bu(n)はn-ブチル基、Phはフェニル基(-C6H5)を表す。
上述の一般式(1)で表される構造を繰り返し構造とする共役高分子は、一般式(1)で表される構造の一部または全部を有する1種または複数種の原料化合物を、通常の酸化重合法またはカップリング重合法に準じた方法により、重合させて製造できる。
原料化合物の合成は通常の方法にしたがって行うことができる。本発明の原料のうち入手できないものはアリール化合物のアミネーションによって合成することができ、古典的にはウルマン反応およびその周辺の反応技術によって合成できる。近年ではパラジウム錯体触媒を用いたアリールアミネーションが非常に発達しており、ブッフバルト・ハートウィッグ反応およびその周辺の反応技術によって合成できる。ブッフバルト・ハートウィッグ反応の代表例は、Organic Synthesis, 78巻, 23頁、Journal of American Chemical Society, 1994年, 116巻, 7901頁を挙げることができる。
原料化合物の合成は通常の方法にしたがって行うことができる。本発明の原料のうち入手できないものはアリール化合物のアミネーションによって合成することができ、古典的にはウルマン反応およびその周辺の反応技術によって合成できる。近年ではパラジウム錯体触媒を用いたアリールアミネーションが非常に発達しており、ブッフバルト・ハートウィッグ反応およびその周辺の反応技術によって合成できる。ブッフバルト・ハートウィッグ反応の代表例は、Organic Synthesis, 78巻, 23頁、Journal of American Chemical Society, 1994年, 116巻, 7901頁を挙げることができる。
本発明に用いる熱電変換層用分散物には上記共役高分子を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
<非共役高分子>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、非共役高分子を用いるのが、熱電変換層用分散物の成膜性をさらに向上できる点で、好ましい。すなわち、熱電変換層用分散物は好適には非共役高分子を含有している。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、非共役高分子を用いるのが、熱電変換層用分散物の成膜性をさらに向上できる点で、好ましい。すなわち、熱電変換層用分散物は好適には非共役高分子を含有している。
非共役高分子は、共役する分子構造を有しない高分子化合物、すなわち、ポリマー主鎖がπ電子または孤立電子対で共役しない高分子であれば特に限定されない。このような非共役高分子は、必ずしも高分子量化合物である必要はなく、オリゴマー化合物をも含む。
このような非共役高分子としては、特に限定されず、通常知られている非共役高分子を用いることができる。好ましくは、ビニル化合物を重合してなるポリビニル高分子、ポリ(メタ)アクリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、フッ素化合物に由来する構成成分を繰り返し構造として含むフッ素高分子、および、ポリシロキサンからなる群より選ばれる高分子を用いる。
本発明において、「(メタ)アクリレート」はアクリレートおよびメタクリレートの双方またはいずれかを表すものであり、これらの混合物をも包含するものである。
このような非共役高分子としては、特に限定されず、通常知られている非共役高分子を用いることができる。好ましくは、ビニル化合物を重合してなるポリビニル高分子、ポリ(メタ)アクリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、フッ素化合物に由来する構成成分を繰り返し構造として含むフッ素高分子、および、ポリシロキサンからなる群より選ばれる高分子を用いる。
本発明において、「(メタ)アクリレート」はアクリレートおよびメタクリレートの双方またはいずれかを表すものであり、これらの混合物をも包含するものである。
ポリビニル高分子を形成するビニル化合物として、具体的には、スチレン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、ビニルナフタレン、ビニルフェノール、酢酸ビニル、スチレンスルホン酸、ビニルトリフェニルアミン等のビニルアリールアミン、ビニルトリブチルアミン等のビニルトリアルキルアミン等が挙げられる。
ポリ(メタ)アクリレートを形成する(メタ)アクリレート化合物として、具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート等の無置換アクリル酸アルキル基含有疎水性アクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、1-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、1-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、3-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、1-ヒドロキシブチルアクリレート等のアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等のアクリレートモノマー、これらのモノマーのアクリロイル基をメタクリロイル基に換えたメタクリレートモノマー等が挙げられる。
ポリ(メタ)アクリレートを形成する(メタ)アクリレート化合物として、具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート等の無置換アクリル酸アルキル基含有疎水性アクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、1-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、1-ヒドロキシプロピルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、3-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、1-ヒドロキシブチルアクリレート等のアクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等のアクリレートモノマー、これらのモノマーのアクリロイル基をメタクリロイル基に換えたメタクリレートモノマー等が挙げられる。
ポリカーボネートの具体例として、ビスフェノールAとホスゲンからなる汎用ポリカーボネート、ユピゼータ(商品名、三菱ガス化学社製)、パンライト(商品名、帝人化成社製)等が挙げられる。
ポリエステルを形成する化合物として、ポリアルコールおよびポリカルボン酸、乳酸等のヒドロキシ酸が挙げられる。ポリエステルの具体例として、バイロン(商品名、東洋紡績社製)等が挙げられる。
ポリアミドの具体例として、PA-100(商品名、T&K TOKA社製)等が挙げられる。
ポリイミドの具体例として、ソルピー6,6-PI(商品名、ソルピー工業社製)等が挙げられる。
フッ素化合物として、具体的には、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル等が挙げられる。
ポリシロキサンとして、具体的には、ポリジフェニルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサン等が挙げられる。
ポリエステルを形成する化合物として、ポリアルコールおよびポリカルボン酸、乳酸等のヒドロキシ酸が挙げられる。ポリエステルの具体例として、バイロン(商品名、東洋紡績社製)等が挙げられる。
ポリアミドの具体例として、PA-100(商品名、T&K TOKA社製)等が挙げられる。
ポリイミドの具体例として、ソルピー6,6-PI(商品名、ソルピー工業社製)等が挙げられる。
フッ素化合物として、具体的には、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル等が挙げられる。
ポリシロキサンとして、具体的には、ポリジフェニルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサン等が挙げられる。
非共役高分子は、可能であれば、単独重合体でも、上述の各化合物等との共重合体であってもよい。
本発明では、非共役高分子として、ビニル化合物を重合してなるポリビニル高分子を用いることがより好ましい。
本発明では、非共役高分子として、ビニル化合物を重合してなるポリビニル高分子を用いることがより好ましい。
非共役高分子は、疎水性であることが好ましく、スルホン酸や水酸基等の親水性基を分子内に有しないことがより好ましい。また、溶解度パラメータ(SP値)が11以下の非共役高分子が好ましい。本発明において、溶解度パラメータはヒルデブランドのSP値を示し、Fedorsの推算法による値を採用する。
熱電変換層用分散物の調製に、共役高分子と共に非共役高分子を用いると、熱電変素子の熱電変換性能を向上させることができる。そのメカニズムについては、まだ定かではないが、(1)非共役高分子は最高被占軌道(HOMO;Highest Occupied Molecular Orbital)準位と最低空軌道(LUMO;Lowest Unoccupied Molecular Orbital)準位の間のギャップ(バンドギャップ)が広いため、共役高分子中のキャリア濃度を適度に低く保てる点で、非共役高分子を含まない系よりもゼーベック係数を高いレベルで保持でき、(2)一方で、共役高分子とナノ導電性材料との共存によりキャリアの輸送経路が形成され、高い導電率を保持できるため、と推定される。すなわち、材料中に、ナノ導電性材料、非共役高分子および共役高分子の3成分を共存させることで、ゼーベック係数と導電率の双方を向上させることが可能となり、結果として熱電変換性能(ZT値)が大きく向上する。
熱電変換層用分散物には上記非共役高分子を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
<分散媒>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、分散媒を用いる。すなわち、熱電変換層用分散物は分散媒を含有し、この分散媒にナノ導電性材料が分散されている。
分散媒は、ナノ導電性材料を分散できればよく、水、有機溶媒およびこれらの混合溶媒を用いることができる。好ましくは有機溶媒であり、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)等のアルコール、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン溶媒、DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性の極性溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、テトラメチルベンゼン、ピリジン等の芳香族溶媒、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケントン等のケトン溶媒、ジエチルエーテル、THF、t-ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセタート(PGMEA)等のエーテル溶媒等が好ましく、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン溶媒、DMF、NMP等の非プロトン性の極性溶媒、ジクロロベンゼン、キシレン、テトラリン、メシチレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族溶媒、THF等のエーテル溶媒等がより好ましい。また、後述するインクジェット印刷法に用いる有機溶媒も好ましい。
熱電変換層用分散物には分散媒を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、分散媒を用いる。すなわち、熱電変換層用分散物は分散媒を含有し、この分散媒にナノ導電性材料が分散されている。
分散媒は、ナノ導電性材料を分散できればよく、水、有機溶媒およびこれらの混合溶媒を用いることができる。好ましくは有機溶媒であり、1-メトキシ-2-プロパノール(PGME)等のアルコール、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン溶媒、DMF、NMP、DMSO等の非プロトン性の極性溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、テトラメチルベンゼン、ピリジン等の芳香族溶媒、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケントン等のケトン溶媒、ジエチルエーテル、THF、t-ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム、プロピレングリコール-1-モノメチルエーテル-2-アセタート(PGMEA)等のエーテル溶媒等が好ましく、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン溶媒、DMF、NMP等の非プロトン性の極性溶媒、ジクロロベンゼン、キシレン、テトラリン、メシチレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族溶媒、THF等のエーテル溶媒等がより好ましい。また、後述するインクジェット印刷法に用いる有機溶媒も好ましい。
熱電変換層用分散物には分散媒を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
また、分散媒は、あらかじめ脱気しておくことが好ましい。分散媒中における溶存酸素濃度を、10ppm以下とすることが好ましい。脱気の方法としては、減圧下超音波を照射する方法、アルゴン等の不活性ガスをバブリングする方法等が挙げられる。
さらに、分散媒は、あらかじめ脱水しておくことが好ましい。分散媒中における水分量を、1000ppm以下とすることが好ましく、100ppm以下とすることがより好ましい。分散媒の脱水方法としては、モレキュラーシーブを用いる方法、蒸留等、公知の方法を用いることができる。
さらに、分散媒は、あらかじめ脱水しておくことが好ましい。分散媒中における水分量を、1000ppm以下とすることが好ましく、100ppm以下とすることがより好ましい。分散媒の脱水方法としては、モレキュラーシーブを用いる方法、蒸留等、公知の方法を用いることができる。
<ドーパント>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、ドーパントを用いることも好ましい。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、ドーパントを用いることも好ましい。
A.上述の共役高分子を用いる場合
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、上述の共役高分子を用いる場合は、さらにドーパントを用いるのが、キャリア濃度の増加によって熱電変換層の導電性をさらに向上させることができる点で、好ましい。すなわち、本発明の分散物は、好ましくは共役高分子とドーパントとを含有している。
ドーパントは、上述の共役高分子にドープされる化合物で、この共役高分子をプロトン化するまたは共役高分子のπ共役系から電子を取り除くことで、該共役高分子を正の電荷でドーピング(p型ドーピング)することができるものが挙げられる。具体的には、下記のオニウム塩化合物、酸化剤、酸性化合物、電子受容体化合物等を用いることができる。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、上述の共役高分子を用いる場合は、さらにドーパントを用いるのが、キャリア濃度の増加によって熱電変換層の導電性をさらに向上させることができる点で、好ましい。すなわち、本発明の分散物は、好ましくは共役高分子とドーパントとを含有している。
ドーパントは、上述の共役高分子にドープされる化合物で、この共役高分子をプロトン化するまたは共役高分子のπ共役系から電子を取り除くことで、該共役高分子を正の電荷でドーピング(p型ドーピング)することができるものが挙げられる。具体的には、下記のオニウム塩化合物、酸化剤、酸性化合物、電子受容体化合物等を用いることができる。
1.オニウム塩化合物
ドーパントとして用いるオニウム塩化合物は、活性エネルギー線(放射線や電磁波等)の照射、熱の付与等のエネルギー付与によって酸を発生する化合物(酸発生剤、酸前駆体)であることが好ましい。このようなオニウム塩化合物として、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、カルボニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。なかでも、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、カルボニウム塩が好ましく、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、カルボニウム塩がより好ましく、スルホニウム塩、ヨードニウム塩が特に好ましい。該塩を構成するアニオン部分としては、強酸の対アニオンが挙げられる。
ドーパントとして用いるオニウム塩化合物は、活性エネルギー線(放射線や電磁波等)の照射、熱の付与等のエネルギー付与によって酸を発生する化合物(酸発生剤、酸前駆体)であることが好ましい。このようなオニウム塩化合物として、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、カルボニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。なかでも、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、カルボニウム塩が好ましく、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、カルボニウム塩がより好ましく、スルホニウム塩、ヨードニウム塩が特に好ましい。該塩を構成するアニオン部分としては、強酸の対アニオンが挙げられる。
具体的には、スルホニウム塩としては下記一般式(I)または(II)で表される化合物が、ヨードニウム塩としては下記一般式(III)で表される化合物が、アンモニウム塩としては下記一般式(IV)で表される化合物が、カルボニウム塩としては下記一般式(V)で表される化合物がそれぞれ挙げられ、本発明において好ましく用いられる。
上記一般式(I)~(V)中、R21~R23、R25~R26およびR31~R33は、それぞれ独立にアルキル基、アラルキル基、アリール基、芳香族へテロ環基を表す。R27~R30は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、芳香族へテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基を表す。R24は、アルキレン基、アリーレン基を示す。R21~R33の置換基は、さらに置換基で置換されていてもよい。X-は、強酸のアニオンを表す。
一般式(I)においてR21~R23のいずれか2つの基、一般式(II)においてR21およびR23、一般式(III)においてR25およびR26、一般式(IV)においてR27~R30のいずれか2つの基、および、一般式(V)においてR31~R33のいずれか2つの基が、各一般式中において互いに結合して脂肪族炭化水素環、芳香環、ヘテロ環を形成してもよい。
一般式(I)においてR21~R23のいずれか2つの基、一般式(II)においてR21およびR23、一般式(III)においてR25およびR26、一般式(IV)においてR27~R30のいずれか2つの基、および、一般式(V)においてR31~R33のいずれか2つの基が、各一般式中において互いに結合して脂肪族炭化水素環、芳香環、ヘテロ環を形成してもよい。
R21~R23、R25~R33において、アルキル基には直鎖、分岐、環状のアルキル基が含まれ、直鎖または分岐のアルキル基としては、炭素数1~20のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル等が挙げられる。
環状アルキル基としては、炭素数3~20のアルキル基が好ましく、具体的には、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ビシクロオクチル、ノルボルニル、アダマンチル等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7~15のアラルキル基が好ましく、具体的には、ベンジル、フェネチル等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数6~20のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル、ナフチル、アントラニル、フェナンシル、ピレニル等が挙げられる。
芳香族へテロ環基としては、ピリジン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、インドール環基、キノリン環基、イソキノリン環基、プリン環基、ピリミジン環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、チアジン環基等が挙げられる。
環状アルキル基としては、炭素数3~20のアルキル基が好ましく、具体的には、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ビシクロオクチル、ノルボルニル、アダマンチル等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数7~15のアラルキル基が好ましく、具体的には、ベンジル、フェネチル等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数6~20のアリール基が好ましく、具体的には、フェニル、ナフチル、アントラニル、フェナンシル、ピレニル等が挙げられる。
芳香族へテロ環基としては、ピリジン環基、ピラゾール環基、イミダゾール環基、ベンゾイミダゾール環基、インドール環基、キノリン環基、イソキノリン環基、プリン環基、ピリミジン環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、チアジン環基等が挙げられる。
R27~R30において、アルコキシ基としては、炭素数1~20の直鎖または分岐のアルコキシ基が好ましく、具体的には、メトキシ、エトキシ、i-プロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。
アリールオキシ基としては、炭素数6~20のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、フェノキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
アリールオキシ基としては、炭素数6~20のアリールオキシ基が好ましく、具体的には、フェノキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
R24において、アルキレン基には直鎖、分岐、環状のアルキレン基が含まれ、炭素数2~20のアルキレン基が好ましい。直鎖または分岐のアルキレン基としては、具体的には、エチレン、プロピレン、ブチレン、へキシレン等が挙げられる。環状のアルキレン基としては、炭素数3~20の環状のアルキレン基が好ましく、具体的には、シクロペンチレン、シクロへキシレン、ビシクロオクチレン、ノルボニレン、アダマンチレン等が挙げられる。
アリーレン基としては、炭素数6~20のアリーレン基が好ましく、具体的には、フェニレン、ナフチレン、アントラニレン等が挙げられる。
アリーレン基としては、炭素数6~20のアリーレン基が好ましく、具体的には、フェニレン、ナフチレン、アントラニレン等が挙げられる。
R21~R33の置換基が更に置換基を有する場合、置換基として好ましくは、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子)、炭素数6~10のアリール基、炭素数6~10のアリールオキシ基、炭素数2~6のアルケニル基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアルキル基、アリールカルボニル基、アリールカルボニルアルキル基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、トリフルオロメチル基、-S-R41等が挙げられる。なお、R41の置換基は上述のR21と同義である。
X-としては、アリールスルホン酸のアニオン、パーフルオロアルキルスルホン酸のアニオン、過ハロゲン化ルイス酸のアニオン、パーフルオロアルキルスルホンイミドのアニオン、過ハロゲン酸アニオン、または、アルキルもしくはアリールボレートアニオンが好ましい。これらは、さらに置換基を有してもよく、置換基としてはフッ素原子が挙げられる。
アリールスルホン酸のアニオンとして具体的には、p-CH3C6H4SO3 -、C6H5SO3 -、ナフタレンスルホン酸のアニオン、ナフトキノンスルホン酸のアニオン、ナフタレンジスルホン酸のアニオン、アントラキノンスルホン酸のアニオンが挙げられる。
パーフルオロアルキルスルホン酸のアニオンとして具体的には、CF3SO3 -、C4F9SO3 -、C8F17SO3 -が挙げられる。
過ハロゲン化ルイス酸のアニオンとして具体的には、PF6 -、SbF6 -、BF4 -、AsF6 -、FeCl4 -が挙げられる。
パーフルオロアルキルスルホンイミドのアニオンとして具体的には、CF3SO2-N--SO2CF3、C4F9SO2-N--SO2C4F9が挙げられる。
過ハロゲン酸アニオンとして具体的には、ClO4 -、BrO4 -、IO4 -が挙げられる。
アルキルもしくはアリールボレートアニオンとして具体的には、(C6H5)4B-、(C6F5)4B-、(p-CH3C6H4)4B-、(C6H4F)4B-が挙げられる。
アリールスルホン酸のアニオンとして具体的には、p-CH3C6H4SO3 -、C6H5SO3 -、ナフタレンスルホン酸のアニオン、ナフトキノンスルホン酸のアニオン、ナフタレンジスルホン酸のアニオン、アントラキノンスルホン酸のアニオンが挙げられる。
パーフルオロアルキルスルホン酸のアニオンとして具体的には、CF3SO3 -、C4F9SO3 -、C8F17SO3 -が挙げられる。
過ハロゲン化ルイス酸のアニオンとして具体的には、PF6 -、SbF6 -、BF4 -、AsF6 -、FeCl4 -が挙げられる。
パーフルオロアルキルスルホンイミドのアニオンとして具体的には、CF3SO2-N--SO2CF3、C4F9SO2-N--SO2C4F9が挙げられる。
過ハロゲン酸アニオンとして具体的には、ClO4 -、BrO4 -、IO4 -が挙げられる。
アルキルもしくはアリールボレートアニオンとして具体的には、(C6H5)4B-、(C6F5)4B-、(p-CH3C6H4)4B-、(C6H4F)4B-が挙げられる。
オニウム塩の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、上記具体例中のX-は、PF6
-、SbF6
-、CF3SO3
-、p-CH3C6H4SO3
-、BF4
-、(C6H5)4B-、RfSO3
-、(C6F5)4B-、または下記式で表されるアニオンを表し、Rfはパーフルオロアルキル基を表す。
本発明においては、特に下記一般式(VI)または(VII)で表されるオニウム塩化合物が好ましい。
一般式(VI)中、Yは炭素原子または硫黄原子を表し、Ar1はアリール基を表し、Ar2~Ar4は、それぞれ独立にアリール基、芳香族へテロ環基を表す。Ar1~Ar4は、さらに置換基で置換されていてもよい。
Ar1としては、好ましくはフルオロ置換アリール基または少なくとも1つのパーフルオロアルキル基で置換されたアリール基であり、より好ましくはペンタフルオロフェニル基、または少なくとも1つのパーフルオロアルキル基で置換されたフェニル基であり、特に好ましくはペンタフルオロフェニル基である。
Ar2~Ar4のアリール基、芳香族へテロ環基は、上述のR21~R23、R25~R33のアリール基、芳香族へテロ環基と同義であり、好ましくはアリール基であり、より好ましくはフェニル基である。これらの基は、さらに置換基で置換されていてもよく、置換基としては上述のR21~R33の置換基が挙げられる。
Ar1としては、好ましくはフルオロ置換アリール基または少なくとも1つのパーフルオロアルキル基で置換されたアリール基であり、より好ましくはペンタフルオロフェニル基、または少なくとも1つのパーフルオロアルキル基で置換されたフェニル基であり、特に好ましくはペンタフルオロフェニル基である。
Ar2~Ar4のアリール基、芳香族へテロ環基は、上述のR21~R23、R25~R33のアリール基、芳香族へテロ環基と同義であり、好ましくはアリール基であり、より好ましくはフェニル基である。これらの基は、さらに置換基で置換されていてもよく、置換基としては上述のR21~R33の置換基が挙げられる。
一般式(VII)中、Ar1はアリール基を表し、Ar5およびAr6は、それぞれ独立にアリール基、芳香族へテロ環基を表す。Ar1、Ar5およびAr6は、さらに置換基で置換されていてもよい。
Ar1は、上記一般式(VI)のAr1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ar5およびAr6は、上記一般式(VI)のAr2~Ar4と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ar1は、上記一般式(VI)のAr1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ar5およびAr6は、上記一般式(VI)のAr2~Ar4と同義であり、好ましい範囲も同様である。
上記オニウム塩化合物は、通常の合成方法により合成することができる。また、市販の試薬等を用いることもできる。
オニウム塩化合物の合成方法の一実施態様として、トリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートの合成方法を下記に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。他のオニウム塩に関しても、下記合成方法に準じた合成方法等により合成することができる。
トリフェニルスルホニウムブロミド(東京化成製)2.68g、リチウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート-エチルエーテルコンプレックス(東京化成製)5.00gおよびエタノール146mlを500ml三口フラスコに入れ、25℃(本願明細書では、25℃を室温ともいう)にて2時間撹拌した後、純水200mlを添加し、析出した白色固形物を濾過により分取する。この白色固体を純水およびエタノールにて洗浄および真空乾燥することにより、オニウム塩としてトリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを6.18g得ることができる。
オニウム塩化合物の合成方法の一実施態様として、トリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートの合成方法を下記に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。他のオニウム塩に関しても、下記合成方法に準じた合成方法等により合成することができる。
トリフェニルスルホニウムブロミド(東京化成製)2.68g、リチウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート-エチルエーテルコンプレックス(東京化成製)5.00gおよびエタノール146mlを500ml三口フラスコに入れ、25℃(本願明細書では、25℃を室温ともいう)にて2時間撹拌した後、純水200mlを添加し、析出した白色固形物を濾過により分取する。この白色固体を純水およびエタノールにて洗浄および真空乾燥することにより、オニウム塩としてトリフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートを6.18g得ることができる。
2.酸化剤、酸性化合物、電子受容体化合物
本発明でドーパントとして用いる酸化剤としては、ハロゲン(Cl2、Br2、I2、ICl、ICl3、IBr、IF)、ルイス酸(PF5、AsF5、SbF5、BF3、BCl3、BBr3、SO3)、遷移金属化合物(FeCl3、FeOCl、TiCl4、ZrCl4、HfCl4、NbF5、NbCl5、TaCl5、MoF5、MoCl5、WF6、WCl6、UF6、LnCl3(Ln=La、Ce、Pr、Nd、Sm等のランタノイド)、その他、O2、O3、XeOF4、(NO2 +)(SbF6 -)、(NO2 +)(SbCl6 -)、(NO2 +)(BF4 -)、FSO2OOSO2F、AgClO4、H2IrCl6、La(NO3)3・6H2O等が挙げられる。
本発明でドーパントとして用いる酸化剤としては、ハロゲン(Cl2、Br2、I2、ICl、ICl3、IBr、IF)、ルイス酸(PF5、AsF5、SbF5、BF3、BCl3、BBr3、SO3)、遷移金属化合物(FeCl3、FeOCl、TiCl4、ZrCl4、HfCl4、NbF5、NbCl5、TaCl5、MoF5、MoCl5、WF6、WCl6、UF6、LnCl3(Ln=La、Ce、Pr、Nd、Sm等のランタノイド)、その他、O2、O3、XeOF4、(NO2 +)(SbF6 -)、(NO2 +)(SbCl6 -)、(NO2 +)(BF4 -)、FSO2OOSO2F、AgClO4、H2IrCl6、La(NO3)3・6H2O等が挙げられる。
酸性化合物としては、下記に示すポリリン酸、ヒドロキシ化合物、カルボキシ化合物、またはスルホン酸化合物、プロトン酸(HF、HCl、HNO3、H2SO4、HClO4、FSO3H、CISO3H、CF3SO3H、各種有機酸、アミノ酸等)が挙げられる。
電子受容体化合物としては、TCNQ(テトラシアノキノジメタン)、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、ハロゲン化テトラシアノキノジメタン、1,1-ジシアノビニレン、1,1,2-トリシアノビニレン、ベンゾキノン、ペンタフルオロフェノール、ジシアノフルオレノン、シアノ-フルオロアルキルスルホニル-フルオレノン、ピリジン、ピラジン、トリアジン、テトラジン、ピリドピラジン、ベンゾチアジアゾール、ヘテロサイクリックチアジアゾール、ポルフィリン、フタロシアニン、ボロンキノレート化合物、ボロンジケトネート化合物、ボロンジイソインドメテン化合物、カルボラン化合物、その他ホウ素原子含有化合物、または、Chemistry Letters,1991,p.1707-1710に記載の電子受容性化合物等が挙げられる。
-ポリリン酸-
ポリリン酸には、二リン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸、メタリン酸及ポリリン酸、およびこれらの塩が含まれる。これらの混合物であってもよい。本発明ではポリリン酸は、二リン酸、ピロリン酸、三リン酸、ポリリン酸であることが好ましく、ポリリン酸であることがより好ましい。ポリリン酸は、H3PO4を充分なP4O10(無水リン酸)とともに加熱することにより、またはH3PO4を加熱して水を除去することにより、合成できる。
ポリリン酸には、二リン酸、ピロリン酸、三リン酸、四リン酸、メタリン酸及ポリリン酸、およびこれらの塩が含まれる。これらの混合物であってもよい。本発明ではポリリン酸は、二リン酸、ピロリン酸、三リン酸、ポリリン酸であることが好ましく、ポリリン酸であることがより好ましい。ポリリン酸は、H3PO4を充分なP4O10(無水リン酸)とともに加熱することにより、またはH3PO4を加熱して水を除去することにより、合成できる。
-ヒドロキシ化合物-
ヒドロキシ化合物は水酸基を少なくとも1つ有する化合物であればよく、フェノール性水酸基を有することが好ましい。ヒドロキシ化合物としては、下記一般式(VIII)で表される化合物が好ましい。
ヒドロキシ化合物は水酸基を少なくとも1つ有する化合物であればよく、フェノール性水酸基を有することが好ましい。ヒドロキシ化合物としては、下記一般式(VIII)で表される化合物が好ましい。
一般式(VIII)中、Rはスルホ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基を表し、nは1~6を示し、mは0~5を示す。
Rとしては、スルホ基、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、スルホ基がより好ましい。
nは、1~5が好ましく、1~4がより好ましく、1~3が更に好ましい。
mは、0~5であり、0~4が好ましく、0~3が更に好ましい。
Rとしては、スルホ基、アルキル基、アリール基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、スルホ基がより好ましい。
nは、1~5が好ましく、1~4がより好ましく、1~3が更に好ましい。
mは、0~5であり、0~4が好ましく、0~3が更に好ましい。
-カルボキシ化合物-
カルボキシ化合物としてはカルボキシ基を少なくとも1つ有する化合物であればよく、下記一般式(IX)または(X)で表される化合物が好ましい。
カルボキシ化合物としてはカルボキシ基を少なくとも1つ有する化合物であればよく、下記一般式(IX)または(X)で表される化合物が好ましい。
一般式(IX)中、Aは二価の連結基を表す。該二価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基またはアルケニレン基と、酸素原子、硫黄原子または窒素原子との組み合わせが好ましく、アルキレン基またはアリーレン基と、酸素原子または硫黄原子との組み合わせがより好ましい。なお、二価の連結基がアルキレン基と硫黄原子との組み合わせの場合、該化合物はチオエーテル化合物にも該当する。このようなチオエーテル化合物の使用も好適である。
Aで表される二価の連結基がアルキレン基を含むとき、該アルキレン基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、アルキル基が好ましく、カルボキシ基を置換基として有することがより好ましい。
Aで表される二価の連結基がアルキレン基を含むとき、該アルキレン基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、アルキル基が好ましく、カルボキシ基を置換基として有することがより好ましい。
一般式(X)中、Rはスルホ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基を表し、nは1~6を示し、mは0~5を示す。
Rとしては、スルホ基、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、スルホ基、アルコキシカルボニル基がより好ましい。
nは、1~5が好ましく、1~4がより好ましく、1~3が更に好ましい。
mは、0~5であり、0~4が好ましく、0~3が更に好ましい。
Rとしては、スルホ基、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、スルホ基、アルコキシカルボニル基がより好ましい。
nは、1~5が好ましく、1~4がより好ましく、1~3が更に好ましい。
mは、0~5であり、0~4が好ましく、0~3が更に好ましい。
-スルホン酸化合物-
スルホン酸化合物は、スルホ基を少なくとも1つ有する化合物であり、スルホ基を2つ以上有する化合物が好ましい。スルホン酸化合物として好ましくは、アリール基、アルキル基に置換されたものであり、より好ましくは、アリール基に置換されたものである。
なお、上記で説明したヒドロキシ化合物およびカルボキシ化合物において、置換基としてスルホ基を有する化合物は、上述のように、ヒドロキシ化合物およびカルボキシ化合物に分類する。したがって、スルホン酸化合物は、スルホ基を有するヒドロキシ化合物およびカルボキシ化合物を包含しない。
スルホン酸化合物は、スルホ基を少なくとも1つ有する化合物であり、スルホ基を2つ以上有する化合物が好ましい。スルホン酸化合物として好ましくは、アリール基、アルキル基に置換されたものであり、より好ましくは、アリール基に置換されたものである。
なお、上記で説明したヒドロキシ化合物およびカルボキシ化合物において、置換基としてスルホ基を有する化合物は、上述のように、ヒドロキシ化合物およびカルボキシ化合物に分類する。したがって、スルホン酸化合物は、スルホ基を有するヒドロキシ化合物およびカルボキシ化合物を包含しない。
本発明において、これらのドーパントを用いることは必須ではないが、ドーパントを使用すると導電率向上により熱電変換特性の更なる向上が期待でき、好ましい。ドーパントを使用する場合、1種類単独でまたは2種以上を併用することができる。
熱電変換層用分散物の分散性や成膜性向上の観点から、上記ドーパントの中でも、オニウム塩化合物を用いることが好ましい。オニウム塩化合物は、酸放出前の状態では中性で、光や熱等のエネルギー付与により分解して酸を発生し、この酸によりドーピング効果が発現する。そのため、熱電変換層用分散物を熱電変換層に所望の形状に成膜した後に、光照射等によりドーピングを行って、ドーピング効果を発現させることができる。さらに、酸放出前は中性であるため、上述の共役高分子を凝集・析出等させることなく、該共役高分子やナノ導電性材料等の各成分が熱電変換層用分散物中に均一に溶解または分散する。この熱電変換層用分散物の均一溶解性または分散性により、ドーピング後には優れた導電性を発揮でき、さらに、良好な塗布性や成膜性が得られるため、熱電変換層等の成膜にも優れる。
B.共役高分子を用いない場合
共役高分子を用いない場合においても、用いるナノ導電性物質、特にCNTの導電性向上やpn極性などの電気的性質を調整する上でドーパントを用いることができる。ドーパントの種類や量を適宜選択することで、ナノ導電性物質、特にCNTの導電性やpn極性を調整することができる。
共役高分子を用いない場合においても、用いるナノ導電性物質、特にCNTの導電性向上やpn極性などの電気的性質を調整する上でドーパントを用いることができる。ドーパントの種類や量を適宜選択することで、ナノ導電性物質、特にCNTの導電性やpn極性を調整することができる。
p型ドーパントとしては、上述のオニウム塩化合物、酸化剤、酸性化合物、電子受容体化合物等を好適に用いることができる。
n型ドーパントとしては、公知のものを用いることができる。例えば、アンモニア、テトラメチルフェニレンジアミンなどのアミン化合物、ポリエチレンイミンなどのイミン化合物、カリウム等のアルカリ金属、トリフェニルホスフィン、トリオクチルホスフィンなどのホスフィン化合物、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウムなどの金属水素化物、ヒドラジンなど、還元性物質や電子供与体化合物等を用いることができる。具体的には、Scientific Reports 3,3344に記載されるような公知の化合物を用いることができる。
また、上記のドーパントを併用するほか、ナノチューブ合成時に炭素以外の微量元素をチューブに導入してドーピングを行い、CNTの電気的性質を調整してもよい。具体的には、米国特許出願11/488,387に記載されるような公知の方法を用いることができる。
<熱励起アシスト剤>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、上述の共役高分子を用いる場合は、さらに熱励起アシスト剤を用いるのが、熱電変換特性がさらに向上する点で、好ましい。すなわち、熱電変換層用分散物は、好ましくは共役高分子と熱励起アシスト剤とを含有している。
熱励起アシスト剤は、上述の共役高分子の分子軌道のエネルギー準位に対して特定のエネルギー準位差の分子軌道を持った物質であり、該共役高分子とともに用いることで、熱励起効率を高め、熱電変換層の熱起電力を向上させることができる。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、上述の共役高分子を用いる場合は、さらに熱励起アシスト剤を用いるのが、熱電変換特性がさらに向上する点で、好ましい。すなわち、熱電変換層用分散物は、好ましくは共役高分子と熱励起アシスト剤とを含有している。
熱励起アシスト剤は、上述の共役高分子の分子軌道のエネルギー準位に対して特定のエネルギー準位差の分子軌道を持った物質であり、該共役高分子とともに用いることで、熱励起効率を高め、熱電変換層の熱起電力を向上させることができる。
本発明で用いる熱励起アシスト剤とは、上述の共役高分子のLUMOよりもエネルギー準位の低いLUMOを有する化合物であって、共役高分子にドープ準位を形成しない化合物をいう。前述のドーパントは共役高分子にドープ準位を形成する化合物であり、熱励起アシスト剤の有無にかかわらずドープ準位を形成するものである。
共役高分子にドープ準位が形成されるか否かは吸収スペクトルの測定により評価でき、ドープ準位を形成する化合物およびドープ準位を形成しない化合物とは、下記の方法によって評価されたものをいう。
共役高分子にドープ準位が形成されるか否かは吸収スペクトルの測定により評価でき、ドープ準位を形成する化合物およびドープ準位を形成しない化合物とは、下記の方法によって評価されたものをいう。
-ドープ準位形成の有無の評価法-
ドーピング前の共役高分子Aと別成分Bとを質量比1:1で混合し、薄膜化したサンプルの吸収スペクトルを観測する。その結果、共役高分子A単独または成分B単独の吸収ピークとは異なる新たな吸収ピークが発生し、かつこの新たな吸収ピーク波長が共役高分子Aの吸収極大波長よりも長波長側である場合にドープ準位が発生したと判断する。この場合、成分Bをドーパントと定義する。一方、サンプルの吸収スペクトルに新たな吸収ピークが存在しない場合、成分Bを熱励起アシスト剤と定義する。
ドーピング前の共役高分子Aと別成分Bとを質量比1:1で混合し、薄膜化したサンプルの吸収スペクトルを観測する。その結果、共役高分子A単独または成分B単独の吸収ピークとは異なる新たな吸収ピークが発生し、かつこの新たな吸収ピーク波長が共役高分子Aの吸収極大波長よりも長波長側である場合にドープ準位が発生したと判断する。この場合、成分Bをドーパントと定義する。一方、サンプルの吸収スペクトルに新たな吸収ピークが存在しない場合、成分Bを熱励起アシスト剤と定義する。
熱励起アシスト剤のLUMOは、上述の共役高分子のLUMOよりもエネルギー準位が低く、該共役高分子のHOMOから発生した熱励起電子のアクセプター準位として機能する。
さらに、該共役高分子のHOMOのエネルギー準位の絶対値と熱励起アシスト剤のLUMOのエネルギー準位の絶対値とが下記数式(I)を満たす関係にあるとき、熱電変換層用分散物は優れた熱起電力を備えた熱電変換層を形成できるものとなる。
さらに、該共役高分子のHOMOのエネルギー準位の絶対値と熱励起アシスト剤のLUMOのエネルギー準位の絶対値とが下記数式(I)を満たす関係にあるとき、熱電変換層用分散物は優れた熱起電力を備えた熱電変換層を形成できるものとなる。
数式(I)
0.1eV≦|共役高分子のHOMO|-|熱励起アシスト剤のLUMO|≦1.9eV
0.1eV≦|共役高分子のHOMO|-|熱励起アシスト剤のLUMO|≦1.9eV
上記数式(I)は、熱励起アシスト剤のLUMOの絶対値と共役高分子のHOMOの絶対値とのエネルギー差を表す。両軌道のエネルギー差は、熱電変換素子の熱起電力の向上の点で、上記数式(I)の範囲内であることが好ましい。すなわち、このエネルギー差が0.1eV以上である場合(熱励起アシスト剤のLUMOのエネルギー準位が共役高分子のHOMOのエネルギー準位よりも高い場合を含む)、共役高分子のHOMO(ドナー)と熱励起アシスト剤のLUMO(アクセプター)との間の電子移動の活性化エネルギーが大きくなるため、共役高分子と熱励起アシスト剤との間で酸化還元反応による凝集が起こりにくくなる。その結果、熱電変換層用分散剤の成膜性や熱電変換層の導電率が優れる。また、両軌道のエネルギー差が1.9eV以下である場合、該エネルギー差が熱励起エネルギーよりも小さくなるため、熱励起キャリアが発生し、熱励起アシスト剤の添加効果が発揮される。
このように、本発明において、熱励起アシスト剤と共役高分子とはLUMOのエネルギー準位の絶対値で区別し、具体的には、熱励起アシスト剤はエネルギー準位の絶対値が併用する共役高分子よりも低いLUMO、好ましくは上記数式を満たすLUMOを有する化合物である。
なお、共役高分子および熱励起アシスト剤のHOMOおよびLUMOのエネルギー準位は、HOMOエネルギーレベルに関しては、単一の各成分の塗布膜(ガラス基板)をそれぞれ作製し、光電子分光法により測定できる。LUMO準位に関しては、紫外可視分光光度計を用いてバンドギャップを測定した後、上記で測定したHOMOエネルギーに加えることにより、算出できる。本発明において共役高分子および熱励起アシスト剤のHOMOおよびLUMOのエネルギー準位は、該方法により測定または算出された値を用いる。
熱励起アシスト剤を用いると、熱励起効率が向上し、熱励起キャリア数が増加するため、熱電変換素子の熱起電力が向上する。このような熱励起アシスト剤による熱起電力向上効果は、共役高分子のドーピング効果によって熱電変換性能を向上させる手法とは異なるものである。
上述の式(A)からわかるように、熱電変換素子の熱電変換性能を高めるためには、熱電変換層のゼーベック係数Sの絶対値および導電率σを大きくし、熱伝導率κを小さくすればよい。
熱励起アシスト剤はゼーベック係数Sを高めることで、熱電変換性能を向上させるものである。熱励起アシスト剤を用いた場合には、熱励起によって発生した電子がアクセプター準位である熱励起アシスト剤のLUMOに存在するため、共役高分子上の正孔と熱励起アシスト剤上の電子とが物理的に離れて存在している。そのため、共役高分子のドープ準位が熱励起によって発生した電子によって飽和されにくくなり、ゼーベック係数Sを高めることができる。
上述の式(A)からわかるように、熱電変換素子の熱電変換性能を高めるためには、熱電変換層のゼーベック係数Sの絶対値および導電率σを大きくし、熱伝導率κを小さくすればよい。
熱励起アシスト剤はゼーベック係数Sを高めることで、熱電変換性能を向上させるものである。熱励起アシスト剤を用いた場合には、熱励起によって発生した電子がアクセプター準位である熱励起アシスト剤のLUMOに存在するため、共役高分子上の正孔と熱励起アシスト剤上の電子とが物理的に離れて存在している。そのため、共役高分子のドープ準位が熱励起によって発生した電子によって飽和されにくくなり、ゼーベック係数Sを高めることができる。
熱励起アシスト剤としては、ベンゾチアジアゾール骨格、ベンゾチアゾール骨格、ジチエノシロール骨格、シクロペンタジチオフェン骨格、チエノチオフェン骨格、チオフェン骨格、フルオレン骨格、およびフェニレンビニレン骨格から選ばれる少なくとも1種の骨格を含む高分子化合物、フラーレン化合物、フタロシアニン化合物、ペリレンジカルボキシイミド化合物、またはテトラシアノキノジメタン化合物が好ましく、ベンゾチアジアゾール骨格、ベンゾチアゾール骨格、ジチエノシロール骨格、シクロペンタジチオフェン骨格、およびチエノチオフェン骨格から選ばれる少なくとも1種の骨格を含む高分子化合物、フラーレン化合物、フタロシアニン化合物、ペリレンジカルボキシイミド化合物、またはテトラシアノキノジメタン化合物がより好ましい。
なお、上記熱励起アシスト剤として好ましい化合物としては、「共役高分子」と同様に用いることができる化合物も含まれる。2種類の共役高分子A、Bを併用する場合、下記の数式(II)が成立つ共役高分子の組合せの場合、共役高分子Bを熱励起アシスト剤として定義し、これを用いることができる。
数式(II)
0.1eV≦|共役高分子AのHOMO|-|共役高分子BのLUMO|≦1.9eV
上記数式(II)は、共役高分子BのLUMOの絶対値と共役高分子AのHOMOの絶対値とのエネルギー差を表す。
0.1eV≦|共役高分子AのHOMO|-|共役高分子BのLUMO|≦1.9eV
上記数式(II)は、共役高分子BのLUMOの絶対値と共役高分子AのHOMOの絶対値とのエネルギー差を表す。
上述の特徴を満たす熱励起アシスト剤の具体例として下記のものが例示できるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記の例示化合物中、nは整数(好ましくは10以上の整数)を、Meはメチル基を表す。
本発明に用いる熱電変換層用分散物には上記熱励起アシスト剤を1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
<金属元素>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、金属元素を、単体、イオン等として、用いるのが、熱電変換特性がさらに向上する点で、好ましい。すなわち、熱電変換層用分散物は好ましくは金属元素を含有している。金属元素は1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
ここで、金属元素を単体として用いる場合、機械的処理等で金属をナノサイズ化したものは上記金属ナノ粒子として用いられ、これとは別に、例えば、サブミクロンサイズ化した金属粒子として用いることができる。
熱電変換層用分散物に金属元素を添加すると、形成される熱電変換層中において、金属元素により電子の輸送が促進されるため、熱電変換特性が向上すると考えられる。金属元素は、特に限定されないが、熱電変換特性の点で、原子量45~200の金属元素が好ましく、遷移金属元素が更に好ましく、亜鉛、鉄、パラジウム、ニッケル、コバルト、モリブデン、白金、錫であることが特に好ましい。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、金属元素を、単体、イオン等として、用いるのが、熱電変換特性がさらに向上する点で、好ましい。すなわち、熱電変換層用分散物は好ましくは金属元素を含有している。金属元素は1種単独でまたは2種以上を併用することができる。
ここで、金属元素を単体として用いる場合、機械的処理等で金属をナノサイズ化したものは上記金属ナノ粒子として用いられ、これとは別に、例えば、サブミクロンサイズ化した金属粒子として用いることができる。
熱電変換層用分散物に金属元素を添加すると、形成される熱電変換層中において、金属元素により電子の輸送が促進されるため、熱電変換特性が向上すると考えられる。金属元素は、特に限定されないが、熱電変換特性の点で、原子量45~200の金属元素が好ましく、遷移金属元素が更に好ましく、亜鉛、鉄、パラジウム、ニッケル、コバルト、モリブデン、白金、錫であることが特に好ましい。
<他の成分>
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、上記成分の他に、酸化防止剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、可塑剤等を用いることができる。すなわち、熱電変換層用分散物は、酸化防止剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、可塑剤等を含有していてもよい。
酸化防止剤としては、イルガノックス1010(日本チガバイギー社製)、スミライザーGA-80(住友化学工業(株)製)、スミライザーGS(住友化学工業(株)製)、スミライザーGM(住友化学工業(株)製)等が挙げられる。耐光安定剤としては、TINUVIN 234(BASF社製)、CHIMASSORB 81(BASF社製)、サイアソーブUV-3853(サンケミカル社製)等が挙げられる。耐熱安定剤としては、IRGANOX 1726(BASF社製)が挙げられる。可塑剤としては、アデカサイザーRS(アデカ社製)等が挙げられる。
本発明の熱電変換層用分散物の製造方法において、上記成分の他に、酸化防止剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、可塑剤等を用いることができる。すなわち、熱電変換層用分散物は、酸化防止剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、可塑剤等を含有していてもよい。
酸化防止剤としては、イルガノックス1010(日本チガバイギー社製)、スミライザーGA-80(住友化学工業(株)製)、スミライザーGS(住友化学工業(株)製)、スミライザーGM(住友化学工業(株)製)等が挙げられる。耐光安定剤としては、TINUVIN 234(BASF社製)、CHIMASSORB 81(BASF社製)、サイアソーブUV-3853(サンケミカル社製)等が挙げられる。耐熱安定剤としては、IRGANOX 1726(BASF社製)が挙げられる。可塑剤としては、アデカサイザーRS(アデカ社製)等が挙げられる。
<熱電変換層用分散物の調製>
本発明に用いる熱電変換層用分散物は、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供することにより、調製される。
熱電変換層用分散物は、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを直接高速旋回薄膜分散法に供してもよいが、高速旋回薄膜分散法に供するに先立って少なくともナノ導電性材料と分散媒とを予備混合して予備混合物を調製しておき、この予備混合物を高速旋回薄膜分散法に供するのが好ましい。少なくともナノ導電性材料と分散媒とを予備混合することにより、高速旋回薄膜分散法による分散性を向上させることができる。
本発明に用いる熱電変換層用分散物は、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供することにより、調製される。
熱電変換層用分散物は、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを直接高速旋回薄膜分散法に供してもよいが、高速旋回薄膜分散法に供するに先立って少なくともナノ導電性材料と分散媒とを予備混合して予備混合物を調製しておき、この予備混合物を高速旋回薄膜分散法に供するのが好ましい。少なくともナノ導電性材料と分散媒とを予備混合することにより、高速旋回薄膜分散法による分散性を向上させることができる。
この予備混合は、ナノ導電性材料と、所望により分散剤、非共役高分子、ドーパント、熱励起アシスト剤およびその他の成分等と、分散媒とを、通常の混合装置等を用いて常圧下で行うことができる。例えば、各成分を分散媒中で撹拌、振とう、混練する。溶解や分散を促進するために超音波処理を行ってもよい。予備混合には、例えば、メカニカルホモジナイザー法、ジョークラッシャ法、超遠心粉砕法、カッティングミル法、自動乳鉢法、ディスクミル法、ボールミル法、超音波分散法等を採用することができる。また、必要に応じ、これらの方法を2つ以上組み合わせてもよい。
この予備混合は、例えば0℃以上の温度で行うことができる。予備混合は、好ましくは室温以上、分散媒の沸点以下の温度、より好ましくは50℃以下の温度で加熱する、混合時間を延ばす、または撹拌、浸とう、混練、超音波等の印加強度を上げる等によって、ナノ導電性材料の分散性をある程度高めることができる。なお、オニウム塩を用いる場合は、オニウム塩が酸を生成しない温度下、放射線や電磁波等を遮った状態で、予備混合するのがよい。
予備混合は、大気下で行うこともできるが、不活性雰囲気において行うことが好ましい。不活性雰囲気とは、酸素濃度が大気中濃度よりも少ない状態のことをいう。好ましくは、酸素濃度が10%以下の雰囲気である。不活性雰囲気にする方法としては、窒素、アルゴンなどの気体で大気を置換させる方法が挙げられ、好ましく用いられる。
予備混合物は、後述する高速旋回薄膜分散法による強大なずり応力が発生する点で、固形分濃度が0.2~20w/v%が好ましく、0.5~20w/v%がより好ましい。
ナノ導電性材料の混合率は、成膜性、導電性および熱電変換性能の点で、予備混合物の全固形分中、10質量%以上が好ましく、15~100質量%がより好ましく、20~100質量%がさらに好ましい。
分散剤のうち共役高分子の混合率は、ナノ導電性材料の分散性、熱電変換素子の導電性および熱電変換性能の点で、予備混合物の全固形分中、0~80質量%が好ましく、3~80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、10~60質量%がさらに好ましく、10~50質量%が特に好ましい。なお、非共役高分子を含む場合も共役高分子の混合量は上述の範囲内が好ましい。
分散剤として低分子分散剤を用いる場合、低分子分散剤の混合率は、ナノ導電性材料の分散性の点で、予備混合物の全固形分中、3~80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、10~60質量%がさらに好ましい。
分散剤として低分子分散剤を用いる場合、低分子分散剤の混合率は、ナノ導電性材料の分散性の点で、予備混合物の全固形分中、3~80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、10~60質量%がさらに好ましい。
非共役高分子を用いる場合、非共役高分子の混合率は、熱電変換層用分散物の成膜性の点で、予備混合物の全固形分中、3~80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、10~60質量%がさらに好ましい。
ドーパントを用いる場合、ドーパントの混合率は、熱電変換層の導電性の点で、予備混合物の全固形分中、1~80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、5~60質量%がさらに好ましい。
熱励起アシスト剤の混合率は、熱電変換層の熱電変換特性の点で、予備混合物の全固形分中、0~35質量%が好ましく、3~25質量%がより好ましく、5~20質量%がさらに好ましい。
金属元素を用いる場合、金属元素の混合率は、熱電変換層の物理強度低下によるクラックの発生防止等による、熱電変換特性の向上の点で、予備混合物の全固形分中、50~30000ppmが好ましく、100~10000ppmがより好ましく、200~5000ppmがさらに好ましい。予備混合物の中の金属元素濃度(混合率)は、例えば、ICP質量分析装置(例えば、株式会社島津製作所製「ICPM-8500」(商品名))、エネルギー分散型蛍光X線分析装置(例えば、株式会社島津製作所製「EDX-720」(商品名))等の公知の分析法により定量することができる。
他の成分の混合率は、予備混合物の全固形分中、5質量%以下が好ましく、0~2質量%がさらに好ましい。
ドーパントを用いる場合、ドーパントの混合率は、熱電変換層の導電性の点で、予備混合物の全固形分中、1~80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、5~60質量%がさらに好ましい。
熱励起アシスト剤の混合率は、熱電変換層の熱電変換特性の点で、予備混合物の全固形分中、0~35質量%が好ましく、3~25質量%がより好ましく、5~20質量%がさらに好ましい。
金属元素を用いる場合、金属元素の混合率は、熱電変換層の物理強度低下によるクラックの発生防止等による、熱電変換特性の向上の点で、予備混合物の全固形分中、50~30000ppmが好ましく、100~10000ppmがより好ましく、200~5000ppmがさらに好ましい。予備混合物の中の金属元素濃度(混合率)は、例えば、ICP質量分析装置(例えば、株式会社島津製作所製「ICPM-8500」(商品名))、エネルギー分散型蛍光X線分析装置(例えば、株式会社島津製作所製「EDX-720」(商品名))等の公知の分析法により定量することができる。
他の成分の混合率は、予備混合物の全固形分中、5質量%以下が好ましく、0~2質量%がさらに好ましい。
予備混合において、各成分を混合する順は、特に限定されないが、分散媒に溶解する成分を先に分散媒に混合、溶解し、次いで、分散媒に溶解しない成分を混合するのが好ましい。例えば、分散剤、非共役高分子等を分散媒に混合して溶解させた後に、ナノ導電性材料を混合するのが好ましい。
予備混合物の粘度(25℃)は、高速旋回薄膜分散法に供することができる粘度であれば特に限定されないが、取扱性、高速旋回薄膜分散法による分散効率向上の点で、例えば、10~100000mPa・sが好ましく、15~5000mPa・sがさらに好ましい。
本発明の熱電変換素子の製造方法においては、このようにして予備混合された予備混合物、または、予備混合を経ないナノ導電性材料および分散媒を、高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を分散媒に分散させる。
ここで、高速旋回薄膜分散法とは、上述のように、分散処理対象物を遠心力により装置内面(内壁面)に薄膜円筒状に押し付けた状態で高速回転させて、遠心力および装置内面との速度差により発生するずり応力を予備混合物等に作用させることにより、薄膜円筒状の分散処理対象物内で分散対象物を分散させる分散方法である。
ここで、高速旋回薄膜分散法とは、上述のように、分散処理対象物を遠心力により装置内面(内壁面)に薄膜円筒状に押し付けた状態で高速回転させて、遠心力および装置内面との速度差により発生するずり応力を予備混合物等に作用させることにより、薄膜円筒状の分散処理対象物内で分散対象物を分散させる分散方法である。
高速旋回薄膜分散法による分散処理は、例えば、断面が円形の管状外套と、管状外套内に管状外套と同心に回転可能に配置された管状の撹拌羽根と、撹拌羽根の下方に開口する注入管とを備え、撹拌羽根が、管状外套の内周面にわずかな間隔を開けて面する外周面と、撹拌羽根の管状壁に厚さ方向に貫通する多数の貫通孔を有する装置を用いて、実施できる。管状外套の内周面と撹拌羽根の外周面との間隔は、分散処理対象物の処理量、目的とする分散度等に応じて適宜に調整され、特に限定されないが、例えば、5~0.1mmが好ましく、2.5~0.1mmがより好ましい。このように撹拌羽根は上述の外周面を有する管状構造になっている。
このような装置としては、例えば、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス」(登録商標)シリーズ(プライミックス社製)を好適に用いることができる。
このような装置としては、例えば、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス」(登録商標)シリーズ(プライミックス社製)を好適に用いることができる。
本発明の熱電変換素子の製造方法においては、高速旋回薄膜分散法の分散処理対象物として、上述の予備混合物、または、ナノ導電性材料および分散媒(以下、予備混合物等という)を用いる。この分散方法は遠心力とずり応力とで予備混合物等を分散させるものであり、分散処理時にナノ導電性材料の分断、切断も欠陥の発生も抑えることができる。
高速旋回薄膜分散法による分散処理は、予備混合物等、すなわち撹拌羽根を、例えば、周速5~60m/sec、好ましくは10~50m/sec、より好ましくは10~45m/sec、さらに好ましくは10~40m/sec、特に好ましくは20~40m/sec、最も好ましくは25~40m/secで回転させて行うことができる。
処理時間は、ナノ導電性材料の分散度等に応じて適宜に決定でき、例えば、1~20分が好ましく、2~10分がより好ましい。
高速旋回薄膜分散法による分散処理は、0℃~室温、もしくは加温状態、常圧下で行うことができる。分散する温度は用いる分散媒の種類にもよるが、安全上の観点および粘性維持の観点から、10℃~55℃の範囲が好ましく、15℃~45℃の温度で行うことがより好ましい。また、この分散処理は、大気下で行うこともでき、また上述の不活性雰囲気で行うこともできる。
処理時間は、ナノ導電性材料の分散度等に応じて適宜に決定でき、例えば、1~20分が好ましく、2~10分がより好ましい。
高速旋回薄膜分散法による分散処理は、0℃~室温、もしくは加温状態、常圧下で行うことができる。分散する温度は用いる分散媒の種類にもよるが、安全上の観点および粘性維持の観点から、10℃~55℃の範囲が好ましく、15℃~45℃の温度で行うことがより好ましい。また、この分散処理は、大気下で行うこともでき、また上述の不活性雰囲気で行うこともできる。
ナノ導電性材料および分散媒等を直接高速旋回薄膜分散法に供する場合の各成分の処理量(混合率)は、予備混合における各成分の混合率と同じである。
このようにして、好ましくは薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス」を用いて、予備混合物等を高速旋回薄膜分散法に供することにより、ナノ導電性材料が分散媒に分散した熱電変換層用分散物を調製できる。
調製される熱電変換層用分散物は、印刷性に優れ、印刷法で塗布でき、しかも、熱電変換層を厚くできる点で、固形分濃度が0.2~20w/v%が好ましく、0.5~20w/v%がより好ましい。
この固形分中、ナノ導電性材料の含有率は、上記予備分散物と同じであり、導電性および熱電変換性能の点で、10質量%以上が好ましく、15質量%以上がさらに好ましく、25質量%以上が特に好ましい。なお、上限は100質量%である。
この固形分中、ナノ導電性材料の含有率は、上記予備分散物と同じであり、導電性および熱電変換性能の点で、10質量%以上が好ましく、15質量%以上がさらに好ましく、25質量%以上が特に好ましい。なお、上限は100質量%である。
熱電変換層用分散物の粘度は、印刷法で塗布しても印刷性および成膜性に優れる点で、25℃において、10mPa・s以上が好ましく、10~100000mPa・sがより好ましく、10~5000mPa・sがさらに好ましく、10~1000mPa・sが特に好ましい。
熱電変換層用分散物に分散されているナノ導電性材料は、上述のように、分断、切断も欠陥もほとんど抑えられている。例えば、ナノ導電性材料が上記ナノ炭素材料である場合、欠陥の量は、ラマン分光分析におけるDバンドの強度(Id)とGバンドの強度(Ig)との強度比[Id/Ig]で見積もることができる。この強度比[Id/Ig]が小さいほど欠陥の量が少ないと推定できる。
本発明においては、分散物中のナノ導電性材料の強度比[Id/Ig]は、0.01~1.5が好ましく、0.015~1.3がより好ましく、0.02~1.2がさらに好ましい。
ナノ導電性材料が単層カーボンナノチューブである場合には、強度比[Id/Ig]は、0.01~0.4が好ましく、0.015~0.3がより好ましく、0.02~0.2がさらに好ましい。また、多層カーボンナノチューブである場合には、強度比[Id/Ig]は、0.2~1.5が好ましく、0.5~1.5がより好ましい。
本発明においては、分散物中のナノ導電性材料の強度比[Id/Ig]は、0.01~1.5が好ましく、0.015~1.3がより好ましく、0.02~1.2がさらに好ましい。
ナノ導電性材料が単層カーボンナノチューブである場合には、強度比[Id/Ig]は、0.01~0.4が好ましく、0.015~0.3がより好ましく、0.02~0.2がさらに好ましい。また、多層カーボンナノチューブである場合には、強度比[Id/Ig]は、0.2~1.5が好ましく、0.5~1.5がより好ましい。
この熱電変換層用分散物に分散されているナノ導電性材料は、動的光散乱法で測定した平均粒径Dが、1000nm以下であるのが好ましく、1000~5nmであるのがより好ましく、800~5nmであるのがさらに好ましい。熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の平均粒径Dが上述の範囲にあると、熱電変換素子の導電性、熱電変換材料の成膜性に優れる。なお、平均粒径Dは体積換算径の算術平均値として求める。
また、熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の粒径分布の半値幅dDと平均粒径Dとの比(dD/D)は、5以下が好ましく、4.5以下がより好ましく、4以下がさらに好ましい。熱電変換層用分散物中のナノ導電性材料の比(dD/D)が上述の範囲にあると熱電変換材料の印刷性に優れる。
本発明の熱電変換素子の製造方法においては、次いで、熱電変換層用分散物を調製する工程で調製した熱電変換層用分散物を、基材上に塗布し、乾燥する工程を実施して、熱電変換層を形成する。
本発明の熱電変換素子の基材、例えば、上述の熱電変換素子1における第1の基材12および第2の基材16は、ガラス、透明セラミックス、金属、プラスチックフィルム等の基材を用いることができる。本発明において、フレキシビリティー(可撓性)を有する基材を用いることもできる。具体的には、ASTM D2176に規定の測定法による耐屈曲回数MITが1万サイクル以上であるフレキシビリティーを有する基材が好ましい。このようなフレキシビリティーを有する基材は、プラスチックフィルムが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレン-2,6-フタレンジカルボキシレート等のポリエステル樹脂、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィン、等のプラスチックフィルム(樹脂フィルム)、ガラスエポキシ、液晶性ポリエステル等が好ましい。
このうち、入手の容易性、経済性の観点および分散媒による溶解が無く、印刷が可能な基材として、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ガラスエポキシ、液晶性ポリエステルが好ましく、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ガラスエポキシ、液晶性ポリエステルが好ましい。
また、基材としての効果を損なわない限りにおいて、上記樹脂の共重合体、またはこれらの樹脂と他の種類の樹脂とのブレンド物なども用いることができる。
また、基材としての効果を損なわない限りにおいて、上記樹脂の共重合体、またはこれらの樹脂と他の種類の樹脂とのブレンド物なども用いることができる。
さらに、上記樹脂フィルムの中には、滑り性を良くするために少量の無機または有機の微粒子、例えば、酸化チタン、炭酸カルシュウム、シリカ、硫酸バリウム、シリコーン等のような無機フィラー、アクリル、ベンゾグアナミン、テフロン(登録商標)、エポキシ等のような有機フィラー、ポリエチレングリコール(PEG)、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ等の接着性向上剤や帯電防止剤を含有させることができる。
各樹脂フィルムの製造方法は、公知の方法や条件を適宜選択して用いることができる。例えば、ポリエステルフィルムは、前記のポリエステル樹脂を溶融押出しでフィルム状にし、縦および横二軸延伸による配向結晶化および熱処理による結晶化させることにより形成し得る。
基材の厚さは、熱伝導率、取り扱い性、耐久性、外部衝撃による熱電変換層の破損防止等の点から、好ましくは30~3000μm、より好ましくは50~1000μm、さらに好ましくは100~1000μm、特に好ましくは200~800μmである。
特に、この工程においては、熱電変換層との圧着面に電極を設けた基材を用いることが好ましい。
第1の電極および第2の電極は、銅、銀、金、白金、ニッケル、クロム、銅合金などの金属電極、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明電極などの公知の金属のいずれかを用いて、形成されるのが好ましい。例えば、好ましくは、銅、金、白金、ニッケル、銅合金等のいずれかを用いて形成され、より好ましくは、金、白金、ニッケルのいずれかを用いて、形成される。または上記金属を微粒子化し、バインダーと溶剤を添加した金属ペーストを固化したものを用いても良い。
電極2の形成は、めっき法、エッチングによるパターニンング法、リフトオフ法を用いたスパッタ法やイオンプレーティング法、メタルマスクを用いたスパッタ法やイオンプレーティング法により、行うことができる。または、前述した金属を微粒子化し、バインダーと溶剤を添加した金属ペーストを用いても良い。金属ペーストを用いる場合には、スクリーン印刷法、ディスペンサー法による印刷法を用いることができる。印刷後、乾燥のための加熱や、バインダーの分解や金属の焼結のための加熱処理を行ってもよい。
第1の電極および第2の電極は、銅、銀、金、白金、ニッケル、クロム、銅合金などの金属電極、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明電極などの公知の金属のいずれかを用いて、形成されるのが好ましい。例えば、好ましくは、銅、金、白金、ニッケル、銅合金等のいずれかを用いて形成され、より好ましくは、金、白金、ニッケルのいずれかを用いて、形成される。または上記金属を微粒子化し、バインダーと溶剤を添加した金属ペーストを固化したものを用いても良い。
電極2の形成は、めっき法、エッチングによるパターニンング法、リフトオフ法を用いたスパッタ法やイオンプレーティング法、メタルマスクを用いたスパッタ法やイオンプレーティング法により、行うことができる。または、前述した金属を微粒子化し、バインダーと溶剤を添加した金属ペーストを用いても良い。金属ペーストを用いる場合には、スクリーン印刷法、ディスペンサー法による印刷法を用いることができる。印刷後、乾燥のための加熱や、バインダーの分解や金属の焼結のための加熱処理を行ってもよい。
この基材上に熱電変換層用分散物を塗布する方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、エクストルージョンダイコート、ブレードコート、バーコート、スクリーン印刷、熱電変換層用分散物をインクジェット法により打滴して印刷するインクジェット印刷法、ステンシル印刷、ロールコート、カーテンコート、スプレーコート、ディップコート等、公知の塗布方法を用いることができる。これらの中でも、熱電変換層用分散物は、高固形分濃度で高粘度であっても印刷性に優れる点で、スクリーン印刷、インクジェット印刷法、ステンシル印刷等の印刷法が好ましい。特に、スクリーン印刷の1種である、メタルマスクを用いて熱電変換層用分散物を印刷するメタルマスク印刷法が1回の塗布で厚い塗布膜に分散物を印刷できるうえ、熱電変換層の電極への密着性に優れる点で特に好ましい。
なお、スクリーン印刷法は、通常のステンレス、ナイロン、ポリエステル製のメッシュ上に感光性樹脂をパターニング露光し、現像して版を作製して印刷する方法のほか、エッチングされたメタルマスクから版を作製し、印刷する方法などがある。
なお、スクリーン印刷法は、通常のステンレス、ナイロン、ポリエステル製のメッシュ上に感光性樹脂をパターニング露光し、現像して版を作製して印刷する方法のほか、エッチングされたメタルマスクから版を作製し、印刷する方法などがある。
基材上に熱電変換層用分散物を塗布するに際して、所望の位置および大きさに熱電変換層用分散物を塗布するために、各種のマスク等を用いることができる。
メタルマスク印刷法については、後に実施例にて詳述する。
インクジェット印刷法は下記のように行う。
インクジェットの塗布液としての熱電変換層用分散物中の全固形分濃度は、一般的には0.05~30w/v%、より好ましくは0.1~20w/v%、更に好ましくは0.5~10w/v%である。
この熱電変換層用分散物の粘度は、吐出安定性の観点から、吐出時の温度において適宜決定される。
インクジェット印刷法は下記のように行う。
インクジェットの塗布液としての熱電変換層用分散物中の全固形分濃度は、一般的には0.05~30w/v%、より好ましくは0.1~20w/v%、更に好ましくは0.5~10w/v%である。
この熱電変換層用分散物の粘度は、吐出安定性の観点から、吐出時の温度において適宜決定される。
この熱電変換層用分散物は、フィルター濾過した後、次のように基材または電極上に塗布して用いる。フィルター濾過に用いるフィルターのポアサイズは2.0μm以下、より好ましくは0.5μm以下のポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製またはナイロン製のものが好ましい。
インクジェット印刷の熱電変換層用分散物において、分散媒として用いる有機溶媒としては、上記有機物やナノ導電性材料に応じて適宜従来公知の有機溶媒を適宜使用可能である。
有機溶媒としては、上述の分散媒などが挙げられ、例えば、芳香族溶媒、アルコール、ケトン溶媒、脂肪族炭化水素溶媒、アミド溶媒、脂肪族ハロゲン溶媒等の公知の有機溶媒を挙げることができる。これら有機溶媒として上記したもの以外に下記のものが挙げられる。
有機溶媒としては、上述の分散媒などが挙げられ、例えば、芳香族溶媒、アルコール、ケトン溶媒、脂肪族炭化水素溶媒、アミド溶媒、脂肪族ハロゲン溶媒等の公知の有機溶媒を挙げることができる。これら有機溶媒として上記したもの以外に下記のものが挙げられる。
芳香族溶媒としては、トリメチルベンゼン、クメン、エチルベンゼン、メチルプロピルベンゼン、メチルイソプロピルベンゼン、テトラヒドロナフタレン等が挙げられる。なかでも、キシレン、クメン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、テトラヒドロナフタレンがより好ましい。
アルコールとしては、メタノール、エタノール、ブタノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等が挙げられ、ベンジルアルコール、シクロヘキサノールがより好ましい。
ケトン溶媒としては、1-オクタノン、2-オクタノン、1-ノナノン、2-ノナノン、4-ヘプタノン、1-ヘキサノン、2-ヘキサノン、2-ブタノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネート等が挙げられ、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネートが好ましい。
脂肪族炭化水素溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、オクタン、デカン等が挙げられ、オクタン、デカンが好ましい。
アミド溶媒としては、N-エチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、1、3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等が挙げられ、N-メチル-2-ピロリドン、1、3-ジメチル-2-イミダゾリジノンが好ましい。
上記溶媒は単独で使用してもよいし、2種類以上を併用してもよい。
図3に示すように、インクジェット印刷法に用いる基材31には、熱電変換層が形成される領域32の外周を囲うようにバンク33が形成されたものを用いることが好ましい。すなわち、熱電変換層を形成する領域32は、バンク33により全て仕切られている。このため、バンク33によってインクジェット法で打滴した熱電変換層用分散物をバンク33内の留めることができ、高さを有する熱電変換層(図示せず)を形成することが可能になる。
バンク33の断面形状としては、円弧形状(半円形、半楕円形)、三角形、放物線形状、台形等が挙げられる、バンク33の上部は平坦部を有しないことが好ましい。したがって、バンク33の断面形状は、半円形、半楕円形、三角形、放物線形状等の凸曲面形状が好ましい。バンク33の上面に平坦部を有しないことにより、バンク33に付着した液滴はバンク33上面に留まり難くなり、バンク33の凸曲面からなる側面を伝わってより効率的に熱電変換層を形成する領域32へと移動することができる。バンク33は、より好ましくは円弧形状、三角形であり、さらに好ましくは円弧形状である。
バンク33の材質としては、ポリイミド、ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等が挙げられ、撥液性や耐熱性の観点から、好ましくはポリイミドが挙げられる。
なお、バンクは必要に応じて撥液処理を施してもよい。具体的な方法としては、四フッ化炭素(CF4)を原料ガスに用いてCVD法によりフルオロカーボン膜をバンク33に成膜し、または、長鎖のフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤やフッ素ポリマーをバンクに混合してもよい。
なお、バンクは必要に応じて撥液処理を施してもよい。具体的な方法としては、四フッ化炭素(CF4)を原料ガスに用いてCVD法によりフルオロカーボン膜をバンク33に成膜し、または、長鎖のフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤やフッ素ポリマーをバンクに混合してもよい。
バンク33の形成方法としては、ドライレジストを含む感光性レジストやポリイミド、感光性ガラスを用いたUV光によるパターニングと現像を用いる方法、アルカリ現像が可能なポリイミド上にレジストを積層塗布し、UV光によるパターニングと現像を用いる方法、エポキシ樹脂を用いたスクリーン印刷によるパターニングとUV架橋を用いる方法などが挙げられる。
熱電変換層を形成する領域32はバンク33により囲まれてなる領域であり、この領域に熱電変換層用分散物が塗布される。なお必要に応じ、熱電変換層を形成する領域32への熱電変換層用分散物の塗布の前後に、熱電変換層用分散物に含まれる成分以外の成分を含む液を塗布することにより層を形成してもよい。
このようにして熱電変換層用分散物を塗布した後に、所望によりマスク等を取り外す。
次いで、熱電変換層用分散物を乾燥する。乾燥は、分散媒を揮発させることができれば、その方法および条件は特に限定されず、例えば、基材ごと乾燥してもよく、熱電変換層用分散物の塗膜のみを局所的に乾燥してもよい。乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥、熱風の吹き付け等の乾燥方法を採用できる。
例えば、塗布後の加熱温度及び時間は、熱電変換層用分散物が乾燥する限り特に限定されないが、加熱温度は一般的に100~200℃が好ましく、120~160℃がより好ましい。加熱時間は一般的に1~120分が好ましく、1~60分がより好ましく、1~25分がさらに好ましい。
さらに、真空ポンプ等を用いて、低圧雰囲気で乾燥させる方法、ファンを用いて、送風しながら乾燥させる方法、または不活性ガス(窒素、アルゴン)を供給しながら乾燥させる方法など、任意の方法を用いることができる。
さらに、真空ポンプ等を用いて、低圧雰囲気で乾燥させる方法、ファンを用いて、送風しながら乾燥させる方法、または不活性ガス(窒素、アルゴン)を供給しながら乾燥させる方法など、任意の方法を用いることができる。
なお、インクジェット印刷等による塗布および加熱乾燥を複数回繰り返すことで熱電変換層を厚く成膜してもよい。なお、加熱乾燥については完全に溶媒成分が揮発しても、しなくてもどちらでもよい。
このようにして基材上に熱電変換層が形成される。このとき、熱電変換層用分散物は高固形分濃度かつ高粘度であって印刷性に優れるから、形成される熱電変換層は、成形性に優れ、加えて1回の塗布によって従来よりも厚い熱電変換層を形成することができる。
熱電変換層の層厚は、0.1~1000μmが好ましく、1~100μmがより好ましい。層厚を上記範囲にすることで、温度差を付与しやすく、熱電変換層内の抵抗の増大を防ぐことができる。本発明においては、上述の範囲の中でも、特に厚くすることができる。
熱電変換層の層厚は、0.1~1000μmが好ましく、1~100μmがより好ましい。層厚を上記範囲にすることで、温度差を付与しやすく、熱電変換層内の抵抗の増大を防ぐことができる。本発明においては、上述の範囲の中でも、特に厚くすることができる。
一般に、熱電変換素子では、有機薄膜太陽電池用素子等の光電変換素子と比べて、簡便に素子を製造できる。特に、熱電変換層用分散物を用いると有機薄膜太陽電池用素子と比較して光吸収効率を考慮する必要がないため100~1000倍程度の厚膜化が可能であり、空気中の酸素や水分に対する化学的な安定性が向上する。
本発明の熱電変換素子の製造方法において、熱電変換層用分散物がドーパントとして上述のオニウム塩化合物を含有する場合は、成膜後に、該膜に活性エネルギー線を照射または加熱してドーピング処理を行い、導電性を向上させることが好ましい。この処理によって、オニウム塩化合物から酸が発生し、この酸が上述の共役高分子をプロトン化することにより該共役高分子が正の電荷でドーピング(p型ドーピング)される。
活性エネルギー線には、放射線や電磁波が包含され、放射線には粒子線(高速粒子線)と電磁放射線が包含される。粒子線としては、アルファ線(α線)、ベータ線(β線)、陽子線、電子線(原子核崩壊によらず加速器で電子を加速するものを指す)、重陽子線等の荷電粒子線、非荷電粒子線である中性子線、宇宙線等が挙げられ、電磁放射線としては、ガンマ線(γ線)、エックス線(X線、軟X線)が挙げられる。電磁波としては、電波、赤外線、可視光線、紫外線(近紫外線、遠紫外線、極紫外線)、X線、ガンマ線等が挙げられる。本発明において用いる線種は特に限定されず、例えば、使用するオニウム塩化合物(酸発生剤)の極大吸収波長付近の波長を有する電磁波を適宜選べばよい。
これらの活性エネルギー線のうち、ドーピング効果および安全性の観点から好ましいのは紫外線、可視光線、赤外線であり、具体的には240~1100nm、好ましくは240~850nm、より好ましくは240~670nmに極大発光波長を有する光線である。
活性エネルギー線には、放射線や電磁波が包含され、放射線には粒子線(高速粒子線)と電磁放射線が包含される。粒子線としては、アルファ線(α線)、ベータ線(β線)、陽子線、電子線(原子核崩壊によらず加速器で電子を加速するものを指す)、重陽子線等の荷電粒子線、非荷電粒子線である中性子線、宇宙線等が挙げられ、電磁放射線としては、ガンマ線(γ線)、エックス線(X線、軟X線)が挙げられる。電磁波としては、電波、赤外線、可視光線、紫外線(近紫外線、遠紫外線、極紫外線)、X線、ガンマ線等が挙げられる。本発明において用いる線種は特に限定されず、例えば、使用するオニウム塩化合物(酸発生剤)の極大吸収波長付近の波長を有する電磁波を適宜選べばよい。
これらの活性エネルギー線のうち、ドーピング効果および安全性の観点から好ましいのは紫外線、可視光線、赤外線であり、具体的には240~1100nm、好ましくは240~850nm、より好ましくは240~670nmに極大発光波長を有する光線である。
活性エネルギー線の照射には、放射線または電磁波照射装置が用いられる。照射する放射線または電磁波の波長は特に限定されず、使用するオニウム塩化合物の感応波長に対応する波長領域の放射線または電磁波を照射できるものを選べばよい。
放射線または電磁波を照射できる装置としては、LEDランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、DeepUVランプ、低圧UVランプ等の水銀ランプ、ハライドランプ、キセノンフラッシュランプ、メタルハライドランプ、ArFエキシマランプ、KrFエキシマランプ等のエキシマランプ、極端紫外光ランプ、電子ビーム、X線ランプを光源とする露光装置がある。紫外線照射は、通常の紫外線照射装置、例えば、市販の硬化/接着/露光用の紫外線照射装置(ウシオ電機社SP9-250UB等)を用いて行うことができる。
放射線または電磁波を照射できる装置としては、LEDランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、DeepUVランプ、低圧UVランプ等の水銀ランプ、ハライドランプ、キセノンフラッシュランプ、メタルハライドランプ、ArFエキシマランプ、KrFエキシマランプ等のエキシマランプ、極端紫外光ランプ、電子ビーム、X線ランプを光源とする露光装置がある。紫外線照射は、通常の紫外線照射装置、例えば、市販の硬化/接着/露光用の紫外線照射装置(ウシオ電機社SP9-250UB等)を用いて行うことができる。
露光時間および光量は、用いるオニウム塩化合物の種類およびドーピング効果を考慮して適宜選択すればよい。具体的には、光量10mJ/cm2~10J/cm2、好ましくは50mJ/cm2~5J/cm2で行うことが挙げられる。
加熱によってドーピングを行う場合は、成膜した膜を、オニウム塩化合物が酸を発生する温度以上で加熱すればよい。加熱温度として、好ましくは50~200℃、より好ましくは70~150℃である。加熱時間は、好ましくは1~60分、より好ましくは3~30分である。
ドーピング処理の時期は特に限定されないが、熱電変換層用分散物を成膜等、加工処理した後に行うことが好ましい。
本発明の熱電変換素子の製造方法においては、所望により、形成した熱電変換層上に第2の電極を形成し、第2の基材を積層する工程を実施する。または、形成した熱電変換層上に、第2の電極を有する第2の基材を積層する工程を実施する。第2の電極は上述した電極材料を用いて形成される。第2の電極と熱電変換層との圧着は、密着性向上の観点から100~200℃程度に加熱して行うことが好ましい。
このようにして、本発明の熱電変換素子の製造方法によって、基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有する熱電変換素子が製造される。そして、分散性が高く印刷性に優れた熱電変換層用分散物で形成される熱電変換層は成膜性および基材との密着性に優れる。したがって、この熱電変換層を備えた本発明の熱電変換素子は高い導電性と優れた熱電変換性とを両立する。
したがって、本発明の熱電変換素子は、熱電発電用物品の発電素子として好適に用いることができる。このような発電素子として、具体的には、温泉熱発電機、太陽熱発電機、廃熱発電機等の発電機、腕時計用電源、半導体駆動電源、(小型)センサー用電源等が挙げられる。
また、熱電変換層用分散物で形成される熱電変換層は、本発明の熱電変換素子の熱電変換層、熱電発電用膜もしくは各種導電性膜として好適に用いられ、また、熱電変換層用分散物は、これらの材料、例えば、熱電変換材料、熱電発電素子用材料として好適に用いられる。
また、熱電変換層用分散物で形成される熱電変換層は、本発明の熱電変換素子の熱電変換層、熱電発電用膜もしくは各種導電性膜として好適に用いられ、また、熱電変換層用分散物は、これらの材料、例えば、熱電変換材料、熱電発電素子用材料として好適に用いられる。
以下、実施例によって本発明をより詳しく説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
実施例および比較例において、共役高分子として下記ポリチオフェン重合体もしくは共役高分子101~103、または、低分子分散剤として下記イミダゾリウム塩を用いた。
<共役高分子>
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)(レジオランダム、Aldrich社製、重量平均分子量:98,000、P3OTとも表記する)
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)(レジオランダム、Aldrich社製、重量平均分子量:98,000、P3OTとも表記する)
共役高分子101(Lumtec社製、分子量=7,000~20,000)
共役高分子102(重量平均分子量=72000)
共役高分子103(重量平均分子量=29000)
共役高分子102の合成
非特許文献(Y.Kawagoeら、New J.Chem., 2010,34,637.)に記載の方法に準じて、合成した。
非特許文献(Y.Kawagoeら、New J.Chem., 2010,34,637.)に記載の方法に準じて、合成した。
共役高分子103の合成
非特許文献(L.EUNHEEYら、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 551,130.)に記載の方法に準じて、チオフェン原料として2,5-ジブロモチオフェンを用いて、合成した。
非特許文献(L.EUNHEEYら、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 551,130.)に記載の方法に準じて、チオフェン原料として2,5-ジブロモチオフェンを用いて、合成した。
<低分子分散剤>
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート(Aldrich社製)
1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート(Aldrich社製)
実施例1および比較例1
1.熱電変換層用分散物101の調製
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)100mgと、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)100mg(単層カーボンナノチューブの質量に換算、以下同じ。)とに、o-ジクロロベンゼン20mLを加えて、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、予備混合物101を得た。この予備混合物101の固形分濃度は1.0w/v%(固形分中のCNT含有率(以下、同じ)は50質量%)であった。
次いで、この予備混合物101を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」(プライミクス社製、管状外套の内周面と撹拌羽根の外周面との間隔を2mmに調整した(以下、同じ)。)を用いて、10℃の恒温層中、周速40m/secにて5分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、本発明の熱電変換層用分散物101を調製した。この熱電変換層用分散物101の固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%)であった。
1.熱電変換層用分散物101の調製
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)100mgと、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)100mg(単層カーボンナノチューブの質量に換算、以下同じ。)とに、o-ジクロロベンゼン20mLを加えて、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、予備混合物101を得た。この予備混合物101の固形分濃度は1.0w/v%(固形分中のCNT含有率(以下、同じ)は50質量%)であった。
次いで、この予備混合物101を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」(プライミクス社製、管状外套の内周面と撹拌羽根の外周面との間隔を2mmに調整した(以下、同じ)。)を用いて、10℃の恒温層中、周速40m/secにて5分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、本発明の熱電変換層用分散物101を調製した。この熱電変換層用分散物101の固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%)であった。
2.熱電変換層101の作製
上記で調製した熱電変換層用分散物101を基材上に成膜して熱電変換層を形成した。具体的には、イソプロピルアルコール中で超音波洗浄した後、10分間UV-オゾン処理を行った厚み1.1mmのガラス基材上に、レーザー加工で形成した開口部13×13mmを有し、かつ厚み2mmのメタルマスクを用いて、この開口部内に熱電変換層用分散物101を注入しスキージで平坦化した。このようにして熱電変換層用分散物101をメタルマスク印刷法にて印刷した。その後、メタルマスクを取り外して、ガラス基材を80℃のホットプレート上で45分間加熱して乾燥させた。このようにしてガラス基材上に熱電変換層101を作製した。
上記で調製した熱電変換層用分散物101を基材上に成膜して熱電変換層を形成した。具体的には、イソプロピルアルコール中で超音波洗浄した後、10分間UV-オゾン処理を行った厚み1.1mmのガラス基材上に、レーザー加工で形成した開口部13×13mmを有し、かつ厚み2mmのメタルマスクを用いて、この開口部内に熱電変換層用分散物101を注入しスキージで平坦化した。このようにして熱電変換層用分散物101をメタルマスク印刷法にて印刷した。その後、メタルマスクを取り外して、ガラス基材を80℃のホットプレート上で45分間加熱して乾燥させた。このようにしてガラス基材上に熱電変換層101を作製した。
3.熱電変換素子101の作製
熱電変換層用分散物101を用いて、基材上に第1の電極、熱電変換層および第2の電極をこの順に有する、図1の熱電変換素子1に対応する熱電変換素子を製造した。以下、図1の熱電変換素子1の構成部材に相当するものには図1の熱電変換素子1と同じ符号を付す。
具体的には、イソプロピルアルコール中で超音波洗浄した後、大きさ40×50mm、厚み1.1mのガラス基材12上に、エッチングにより形成した開口部20×20mmのメタルマスクを用いて、イオンプレーティング法によりクロムを100nm、次に金を200nm積層成膜することにより、第1の電極13を形成した。
次に、レーザー加工で形成した開口部13×13mmを有し、かつ厚み2mmのメタルマスクを、その開口部が第1の電極13上になるように、基材12上に配置した。このメタルマスクの開口部内に熱電変換層用分散物101を上述のようにしてメタルマスク印刷法にて印刷法にて印刷した後に、ガラス基材12を80℃のホットプレート上で45分間加熱して乾燥させて、第1の電極13上に熱電変換層14を形成した。
次に、導電性ペースト「ドータイトD-550」(製品名、藤倉化成製、銀ペースト)をスクリーン印刷法により熱電変換層14上に印刷して第2の電極15を成膜し、熱電変換素子101を製造した。
熱電変換層用分散物101を用いて、基材上に第1の電極、熱電変換層および第2の電極をこの順に有する、図1の熱電変換素子1に対応する熱電変換素子を製造した。以下、図1の熱電変換素子1の構成部材に相当するものには図1の熱電変換素子1と同じ符号を付す。
具体的には、イソプロピルアルコール中で超音波洗浄した後、大きさ40×50mm、厚み1.1mのガラス基材12上に、エッチングにより形成した開口部20×20mmのメタルマスクを用いて、イオンプレーティング法によりクロムを100nm、次に金を200nm積層成膜することにより、第1の電極13を形成した。
次に、レーザー加工で形成した開口部13×13mmを有し、かつ厚み2mmのメタルマスクを、その開口部が第1の電極13上になるように、基材12上に配置した。このメタルマスクの開口部内に熱電変換層用分散物101を上述のようにしてメタルマスク印刷法にて印刷法にて印刷した後に、ガラス基材12を80℃のホットプレート上で45分間加熱して乾燥させて、第1の電極13上に熱電変換層14を形成した。
次に、導電性ペースト「ドータイトD-550」(製品名、藤倉化成製、銀ペースト)をスクリーン印刷法により熱電変換層14上に印刷して第2の電極15を成膜し、熱電変換素子101を製造した。
4.熱電変換層用分散物102および熱電変換層102の調製ならびに熱電変換素子102の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、200mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物102(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物102(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物102を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層102を調製し、熱電変換素子102を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、200mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物102(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物102(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物102を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層102を調製し、熱電変換素子102を製造した。
5.熱電変換層用分散物103および熱電変換層103の調製ならびに熱電変換素子103の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、50mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物103(固形分濃度は0.5w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物103(固形分濃度は0.5w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物103を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層103を調製し、熱電変換素子103を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、50mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物103(固形分濃度は0.5w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物103(固形分濃度は0.5w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物103を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層103を調製し、熱電変換素子103を製造した。
6.熱電変換層用分散物104および熱電変換層104の調製ならびに熱電変換素子104の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、2g用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物104(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物104(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物104を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層104を調製し、熱電変換素子104を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、2g用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物104(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物104(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物104を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層104を調製し、熱電変換素子104を製造した。
7.熱電変換層用分散物105および熱電変換層105の調製ならびに熱電変換素子105の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、10mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物105(固形分濃度は0.1w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物105(固形分濃度は0.1w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物105を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層105を調製し、熱電変換素子105を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、10mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物105(固形分濃度は0.1w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物105(固形分濃度は0.1w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物105を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層105を調製し、熱電変換素子105を製造した。
8.熱電変換層用分散物106および熱電変換層106の調製ならびに熱電変換素子106の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、20mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物106(固形分濃度は0.2w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物106(固形分濃度は0.2w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物106を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層106を調製し、熱電変換素子106を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、20mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物106(固形分濃度は0.2w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物106(固形分濃度は0.2w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物106を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層106を調製し、熱電変換素子106を製造した。
9.熱電変換層用分散物107および熱電変換層107の調製ならびに熱電変換素子107の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、500mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物107(固形分濃度は5.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物107(固形分濃度は5.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物107を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層107を調製し、熱電変換素子107を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、500mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物107(固形分濃度は5.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物107(固形分濃度は5.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物107を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層107を調製し、熱電変換素子107を製造した。
10.熱電変換層用分散物108および熱電変換層108の調製ならびに熱電変換素子108の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、1g用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物108(固形分濃度は10w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物108(固形分濃度は10w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物108を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層108を調製し、熱電変換素子108を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、1g用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物108(固形分濃度は10w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物108(固形分濃度は10w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物108を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層108を調製し、熱電変換素子108を製造した。
11.熱電変換層用分散物109および熱電変換層109の調製ならびに熱電変換素子109の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、単層カーボンナノチューブとして「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)の代わりに「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)を用いたこと用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物109(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物109(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物109を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層109を調製し、熱電変換素子109を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、単層カーボンナノチューブとして「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)の代わりに「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)を用いたこと用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物109(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物109(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物109を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層109を調製し、熱電変換素子109を製造した。
12.熱電変換層用分散物110および熱電変換層110の調製ならびに熱電変換素子110の製造
熱電変換層用分散物109の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブ「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)を、ぞれぞれ、200mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物109と同様にして予備混合物110(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物110(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物110を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層110を調製し、熱電変換素子110を製造した。
熱電変換層用分散物109の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブ「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)を、ぞれぞれ、200mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物109と同様にして予備混合物110(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物110(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物110を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層110を調製し、熱電変換素子110を製造した。
13.熱電変換層用分散物111および熱電変換層111の調製ならびに熱電変換素子111の製造
熱電変換層用分散物101の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりに共役高分子101を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物111(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物111(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物111を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層111を調製し、熱電変換素子111を製造した。
熱電変換層用分散物101の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりに共役高分子101を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物111(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物111(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物111を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層111を調製し、熱電変換素子111を製造した。
14.熱電変換層用分散物112および熱電変換層112の調製ならびに熱電変換素子112の製造
熱電変換層用分散物101の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりに共役高分子102を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物112(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物112(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物112を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層112を調製し、熱電変換素子112を製造した。
熱電変換層用分散物101の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりに共役高分子102を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物112(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物112(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物112を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層112を調製し、熱電変換素子112を製造した。
15.熱電変換層用分散物113および熱電変換層113の調製ならびに熱電変換素子113の製造
熱電変換層用分散物101の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりに共役高分子103を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物113(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物113(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物113を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層113を調製し、熱電変換素子113を製造した。
熱電変換層用分散物101の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりに共役高分子103を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物113(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および電変換層用分散物113(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物113を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層113を調製し、熱電変換素子113を製造した。
16.熱電変換層用分散物114および熱電変換層114の調製ならびに熱電変換素子114の製造
熱電変換層用分散物101の調整において、単層カーボンナノチューブとして「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)の代わりに「HP」(商品名、KH Chemicals社製)を用いたこと用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物114(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物114(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物114を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層114を調製し、熱電変換素子114を製造した。
熱電変換層用分散物101の調整において、単層カーボンナノチューブとして「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)の代わりに「HP」(商品名、KH Chemicals社製)を用いたこと用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物114(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物114(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物114を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層114を調製し、熱電変換素子114を製造した。
17.熱電変換層用分散物115および熱電変換層115の調製ならびに熱電変換素子115の製造
熱電変換層用分散物114の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブ「HP」(商品名、KH Chemicals社製)を、ぞれぞれ、200mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物114と同様にして予備混合物115(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物115(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物115を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層115を調製し、熱電変換素子115を製造した。
熱電変換層用分散物114の調整において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブ「HP」(商品名、KH Chemicals社製)を、ぞれぞれ、200mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物114と同様にして予備混合物115(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物115(固形分濃度は2.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物115を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層115を調製し、熱電変換素子115を製造した。
18.熱電変換層用分散物c101および熱電変換層c101の調製ならびに熱電変換素子c101の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、2g用いたこと以外は熱電変換層用分散物101の調製と同様にして、予備混合物c101(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
さらに、予備混合物c101を、超音波ホモジナイザー「VC-750」(商品名、SONICS&MATERIALS.Inc製、テーパーマイクロチップ(プローブ径6.5mm)を使用、出力40W、直接照射、Duty比50%)を用いて、30℃で30分間超音波分散して、比較のための熱電変換層用分散物c101(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物c101を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層c101および熱電変換素子c101の製造を試みたが、熱電変換層c101および熱電変換素子c101を製造できなかった。
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)および単層カーボンナノチューブを、ぞれぞれ、2g用いたこと以外は熱電変換層用分散物101の調製と同様にして、予備混合物c101(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
さらに、予備混合物c101を、超音波ホモジナイザー「VC-750」(商品名、SONICS&MATERIALS.Inc製、テーパーマイクロチップ(プローブ径6.5mm)を使用、出力40W、直接照射、Duty比50%)を用いて、30℃で30分間超音波分散して、比較のための熱電変換層用分散物c101(固形分濃度は20w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物c101を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層c101および熱電変換素子c101の製造を試みたが、熱電変換層c101および熱電変換素子c101を製造できなかった。
このようにして調製した熱電変換層用分散物101~115およびc101の粘度、平均粒径D、分散性およびチキソトロピー性を次のようにして評価した。結果を表1に示す。
[粘度、平均粒径D]
粘度は、各熱電変換層用分散物を25℃で一定にした後に、振動式粘度計「VM-10A」(商品名、セニコック社製)もしくはレオメーター「MARS」(商品名、粘度・粘弾性測定装置、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)を用いて測定した。レオメーターによる粘弾性測定においてはフローカーブ測定におけるせん断速度1Hzのときの粘度を採用した。
各熱電変換層用分散物中の単層カーボンナノチューブの平均粒径Dは、濃厚系粒径アナライザー「FPAR-1000」(商品名、大塚電子製)を用い、動的光散乱法にて測定を行った。
粘度は、各熱電変換層用分散物を25℃で一定にした後に、振動式粘度計「VM-10A」(商品名、セニコック社製)もしくはレオメーター「MARS」(商品名、粘度・粘弾性測定装置、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)を用いて測定した。レオメーターによる粘弾性測定においてはフローカーブ測定におけるせん断速度1Hzのときの粘度を採用した。
各熱電変換層用分散物中の単層カーボンナノチューブの平均粒径Dは、濃厚系粒径アナライザー「FPAR-1000」(商品名、大塚電子製)を用い、動的光散乱法にて測定を行った。
[分散性評価]
単層カーボンナノチューブの分散性は、各熱電変換層用分散物をスライドガラスに滴下し、カバーガラスをのせた後、光学顕微鏡により観察した。評価は、優れる方から順に、1、2、3、4、および5の5段階で行った。評価が1~3のいずれかであると、カーボンナノチューブの分散性に優れるといえる。
1:黒色の凝集物が確認できなかった。
2:大きさ500μm未満の黒色の凝集物を確認できた。
3:大きさ500μm以上1mm未満の黒色の凝集物を確認できた。
4:大きさ500μm以上1mm未満の黒色の凝集物を多数(10個以上)確認できた。
5:大きさ1mm以上の凝集物を多数(10個以上)確認できた。
単層カーボンナノチューブの分散性は、各熱電変換層用分散物をスライドガラスに滴下し、カバーガラスをのせた後、光学顕微鏡により観察した。評価は、優れる方から順に、1、2、3、4、および5の5段階で行った。評価が1~3のいずれかであると、カーボンナノチューブの分散性に優れるといえる。
1:黒色の凝集物が確認できなかった。
2:大きさ500μm未満の黒色の凝集物を確認できた。
3:大きさ500μm以上1mm未満の黒色の凝集物を確認できた。
4:大きさ500μm以上1mm未満の黒色の凝集物を多数(10個以上)確認できた。
5:大きさ1mm以上の凝集物を多数(10個以上)確認できた。
[チキソトロピー性の評価]
チキソトロピー性の評価は、レオメーター「MARS」(商品名、製粘度・粘弾性測定装置、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)を用いて、30℃、6rpmでの粘度と30℃、60rpmでの粘度とを測定し、回転数と粘度との積の比率(TI値、チキソトロピーインデックス値)を算出して行った。各熱電変換層用分散物のTI値を、熱電変換層101のTI値に対する相対値として、表1に示す。TI値が大きいほどチキソトロピー性が大きい。
本発明においては、上記相対値が0.1あれば許容できる最低限の印刷性を有し、相対値が0.1よりも大きく1.1未満であると望ましい印刷性を有し、相対値が1.1以上であると特に印刷性に優れるといえる。
チキソトロピー性の評価は、レオメーター「MARS」(商品名、製粘度・粘弾性測定装置、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)を用いて、30℃、6rpmでの粘度と30℃、60rpmでの粘度とを測定し、回転数と粘度との積の比率(TI値、チキソトロピーインデックス値)を算出して行った。各熱電変換層用分散物のTI値を、熱電変換層101のTI値に対する相対値として、表1に示す。TI値が大きいほどチキソトロピー性が大きい。
本発明においては、上記相対値が0.1あれば許容できる最低限の印刷性を有し、相対値が0.1よりも大きく1.1未満であると望ましい印刷性を有し、相対値が1.1以上であると特に印刷性に優れるといえる。
また、各熱電変換層101~115の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子101~115の熱起電力を下記のようにして評価した。なお、試料c101は熱電変換層用分散物の塗布層の成膜性のみ評価した。
[成膜性]
成膜性は、熱電変換層用分散物の液ダレによる塗布層の広がり具合に着目し、メタルマスクの開口部に対する各熱電変換層の大きさを基準にして目視により評価した。評価は、優れる方から順に、1、2、3および4の4段階で行った。評価が1または2であると、分散物の液ダレの度合いが小さく、より成形性が大きいため、膜質が良化で、厚膜化することができ、成膜性により優れるといえる。評価が3であると、許容できる最低限の成膜性を有する。
1:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが1.5倍以下
2:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが1.5倍を超え2.0倍以下
3:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが2.0倍を超え、2.5倍以下
4:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが2.5倍より大きい
成膜性は、熱電変換層用分散物の液ダレによる塗布層の広がり具合に着目し、メタルマスクの開口部に対する各熱電変換層の大きさを基準にして目視により評価した。評価は、優れる方から順に、1、2、3および4の4段階で行った。評価が1または2であると、分散物の液ダレの度合いが小さく、より成形性が大きいため、膜質が良化で、厚膜化することができ、成膜性により優れるといえる。評価が3であると、許容できる最低限の成膜性を有する。
1:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが1.5倍以下
2:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが1.5倍を超え2.0倍以下
3:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが2.0倍を超え、2.5倍以下
4:メタルマスクの開口部にくらべ、熱電変換層の大きさが2.5倍より大きい
[導電率測定]
各熱電変換層の導電率は、低抵抗率計「ロレスタGP」(商品名、(株)三菱化学アナリテック製)を用いて各熱電変換層の表面抵抗率(単位:Ω/□)を測定し、また触針式段差表面形状測定装置「XP-200」(商品名、Ambios Technology社製)を用いて各熱電変換層の膜厚(単位:cm)を測定し、下記式より導電率(S/cm)を算出した。
式:(導電率)=1/((表面抵抗率(Ω/□))×(膜厚(cm))
各熱電変換層の導電率は、低抵抗率計「ロレスタGP」(商品名、(株)三菱化学アナリテック製)を用いて各熱電変換層の表面抵抗率(単位:Ω/□)を測定し、また触針式段差表面形状測定装置「XP-200」(商品名、Ambios Technology社製)を用いて各熱電変換層の膜厚(単位:cm)を測定し、下記式より導電率(S/cm)を算出した。
式:(導電率)=1/((表面抵抗率(Ω/□))×(膜厚(cm))
[熱電性能:PF]
各熱電変換層の熱電性能は、熱電特性測定装置「MODEL RZ2001i」(商品名、オザワ科学社製)を用いて、温度100℃の大気雰囲気で、ゼーベック係数S(μV/k)と導電率σ(S/m)を測定した。得られたゼーベック係数Sと導電率σから、熱電性能としてPower Factor(PF)を下記式より算出した。各熱電変換層のPFを、熱電変換層101のPFに対する相対値として、表1に示す。
式:PF(μW/(m・K))=(ゼーベック係数S)2×(導電率σ)
各熱電変換層の熱電性能は、熱電特性測定装置「MODEL RZ2001i」(商品名、オザワ科学社製)を用いて、温度100℃の大気雰囲気で、ゼーベック係数S(μV/k)と導電率σ(S/m)を測定した。得られたゼーベック係数Sと導電率σから、熱電性能としてPower Factor(PF)を下記式より算出した。各熱電変換層のPFを、熱電変換層101のPFに対する相対値として、表1に示す。
式:PF(μW/(m・K))=(ゼーベック係数S)2×(導電率σ)
[熱起電力]
各熱電変換素子の熱起電力を下記のようにして評価した。すなわち、各熱電変換素子の熱起電力は、各熱電変換素子のガラス基材12を表面温度80℃のホットプレートで加熱した際に、第1の電極13と第2の電極15との間で生じる電圧差を、デジタルマルチメーターR6581(商品名、アドバンテスト社製)で測定した。各熱電変換素子の熱起電力を、熱電変換素子101の熱起電力に対する相対値として、表1に示す。
各熱電変換素子の熱起電力を下記のようにして評価した。すなわち、各熱電変換素子の熱起電力は、各熱電変換素子のガラス基材12を表面温度80℃のホットプレートで加熱した際に、第1の電極13と第2の電極15との間で生じる電圧差を、デジタルマルチメーターR6581(商品名、アドバンテスト社製)で測定した。各熱電変換素子の熱起電力を、熱電変換素子101の熱起電力に対する相対値として、表1に示す。
[単層カーボンナノチューブの長さの測定]
各例に用いた単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」、「HP」および「MC」それぞれの長さを下記のようにして評価した。すなわち、各単層カーボンナノチューブをコール酸ナトリウムを分散剤として超音波ホモジナイザーにて孤立分散させた希薄分散液を、ガラス基板上にドロップキャストし、原子間力顕微鏡(AFM)で観察して、50個の単層カーボンナノチューブの長さを測定し、平均を求めた。結果を表2に示す。
各例に用いた単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」、「HP」および「MC」それぞれの長さを下記のようにして評価した。すなわち、各単層カーボンナノチューブをコール酸ナトリウムを分散剤として超音波ホモジナイザーにて孤立分散させた希薄分散液を、ガラス基板上にドロップキャストし、原子間力顕微鏡(AFM)で観察して、50個の単層カーボンナノチューブの長さを測定し、平均を求めた。結果を表2に示す。
[単層カーボンナノチューブの直径の算出]
各例に用いた単層カーボンナノチューブそれぞれの直径を下記のようにして評価した。すなわち、単層カーボンナノチューブそれぞれの532nm励起光でのラマンスペクトルを測定し(励起波長532nm)、ラジアルブリージング(RBM)モードのシフト ω(RBM)(cm-1)より、下記算出式を用いて、直径を算出した。結果を表2に示す。
算出式:直径(nm)=248/ω(RBM)
各例に用いた単層カーボンナノチューブそれぞれの直径を下記のようにして評価した。すなわち、単層カーボンナノチューブそれぞれの532nm励起光でのラマンスペクトルを測定し(励起波長532nm)、ラジアルブリージング(RBM)モードのシフト ω(RBM)(cm-1)より、下記算出式を用いて、直径を算出した。結果を表2に示す。
算出式:直径(nm)=248/ω(RBM)
[単層カーボンナノチューブのG/D比の算出]
532nmの励起光にてラマンスペクトルを測定し、各単層カーボンナノチューブのGバンド(1590cm-1付近、グラフェン面内振動)とDバンド(1350cm-1付近、sp2炭素ネットワークの欠陥由来)の強度比G/D比を算出した。この強度比G/D比が大きいと、カーボンナノチューブの欠陥が少ないことを、示す。結果を表2に示す。
532nmの励起光にてラマンスペクトルを測定し、各単層カーボンナノチューブのGバンド(1590cm-1付近、グラフェン面内振動)とDバンド(1350cm-1付近、sp2炭素ネットワークの欠陥由来)の強度比G/D比を算出した。この強度比G/D比が大きいと、カーボンナノチューブの欠陥が少ないことを、示す。結果を表2に示す。
表1に示されるように、高速旋回薄膜分散法により調製した試料No.101~115の熱電変換層用分散物は、CNTが分断等せずに、粘度が高く、分散性も良好であり、チキソトロピー性にも優れていた。そのため、成膜性および印刷性が良好であった。したがって、試料No.101~115の熱電変換素子は導電性および熱電性能が優れていた。
熱電変換層用分散物の固形分濃度が濃くなると、粘度およびチキソトロピー性などが次第に高くなって、成膜性、好ましくは成形性、熱電変換性能が向上した。
具体的には、試料No.101よりも固形分濃度が濃い試料No.102、104、107および108は、粘度が高くかつ分散性のよいペーストであったため、成膜性がさらに良好であった。特に、固形分濃度が最も濃い試料No.104は、チキソトロピー性がさらに高く印刷時の成形性に優れるため成膜性が良化し、また、熱電変換性能もさらに優れていた。
熱電変換層用分散物の固形分濃度が濃くなると、粘度およびチキソトロピー性などが次第に高くなって、成膜性、好ましくは成形性、熱電変換性能が向上した。
具体的には、試料No.101よりも固形分濃度が濃い試料No.102、104、107および108は、粘度が高くかつ分散性のよいペーストであったため、成膜性がさらに良好であった。特に、固形分濃度が最も濃い試料No.104は、チキソトロピー性がさらに高く印刷時の成形性に優れるため成膜性が良化し、また、熱電変換性能もさらに優れていた。
また、表1および表2より、長さが1μmより大きく、直径が1.7~2.0nmで、G/D比が33である単層カーボンナノチューブ「MC」を用いた試料No.109および110は、それぞれ、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」を用いた試料No.101および102、ならびに、「HP」を用いた試料No.114および115よりも、成膜性が同等以上であった。そのため、導電率およびPFが優れ、熱起電力も同等以上であった。
一方、超音波ホモジナイザーにより調製した、固形分濃度が濃い試料No.c101は、超音波ホモジナイザーでは満足な分散が不可能であったため成膜できず、熱電変換性能などの評価ができなかった。
実施例2および比較例2
1.熱電変換用分散物201および熱電変換層201の調製ならびに熱電変換素子201の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ナノ導電性物質として単層カーボンナノチューブの代わりに多層カーボンナノチューブ「VGCF-X」(商品名、平均直径150nm、平均長さ10~20μm、昭和電工社製)を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物201を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層201を調製し、熱電変換素子201を製造した。
1.熱電変換用分散物201および熱電変換層201の調製ならびに熱電変換素子201の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ナノ導電性物質として単層カーボンナノチューブの代わりに多層カーボンナノチューブ「VGCF-X」(商品名、平均直径150nm、平均長さ10~20μm、昭和電工社製)を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物201を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層201を調製し、熱電変換素子201を製造した。
2.熱電変換用分散物202および熱電変換層202の調製ならびに熱電変換素子202の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ナノ導電性物質として単層カーボンナノチューブの代わりにカーボンブラック「#3400B」(銘柄名、直径23nm、三菱化学社製)を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物202を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層202を調製し、熱電変換素子202を製造した。
熱電変換層用分散物101の調製において、ナノ導電性物質として単層カーボンナノチューブの代わりにカーボンブラック「#3400B」(銘柄名、直径23nm、三菱化学社製)を用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物202を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層202を調製し、熱電変換素子202を製造した。
3.熱電変換用分散物c201および熱電変換層c201の調製ならびに熱電変換素子c201の製造
熱電変換層用分散物c101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)を100mg用い、ナノ導電性物質として単層カーボンナノチューブの代わりに多層カーボンナノチューブ「VGCF-X」(商品名、昭和電工社製)を100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物c101と同様にして、予備混合物c201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物c201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物c201を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層c201を調製し、熱電変換素子c201を製造した。
熱電変換層用分散物c101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)を100mg用い、ナノ導電性物質として単層カーボンナノチューブの代わりに多層カーボンナノチューブ「VGCF-X」(商品名、昭和電工社製)を100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物c101と同様にして、予備混合物c201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物c201(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物c201を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層c201を調製し、熱電変換素子c201を製造した。
4.熱電変換用分散物c202および熱電変換層c202の調製ならびに熱電変換素子c202の製造
熱電変換層用分散物c201の調製において、ナノ導電性物質として多層カーボンナノチューブの代わりにカーボンブラック「#3400B」(銘柄名、直径23nm、三菱化学社製)を用いたこと以外は熱電変換層用分散物c201と同様にして、予備混合物c202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物c202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層c201の調製および熱電変換素子c201の製造において、熱電変換層用分散物c201に代えて熱電変換層用分散物c202を用いて、熱電変換層c201および熱電変換素子c201と同様にして熱電変換層c202を調製し、熱電変換素子c202を製造した。
熱電変換層用分散物c201の調製において、ナノ導電性物質として多層カーボンナノチューブの代わりにカーボンブラック「#3400B」(銘柄名、直径23nm、三菱化学社製)を用いたこと以外は熱電変換層用分散物c201と同様にして、予備混合物c202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物c202(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層c201の調製および熱電変換素子c201の製造において、熱電変換層用分散物c201に代えて熱電変換層用分散物c202を用いて、熱電変換層c201および熱電変換素子c201と同様にして熱電変換層c202を調製し、熱電変換素子c202を製造した。
このようにして調製した熱電変換層用分散物201、202、c201およびc202の粘度、分散性およびチキソトロピー性を実施例1と同様にして評価した。
また、各熱電変換層201および202の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子201および202の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。
結果を表3に示す。
また、各熱電変換層201および202の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子201および202の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。
結果を表3に示す。
表3に示されるように、高速旋回薄膜分散法により調製した試料No.201および202は、製膜が可能であった。
一方、メカニカルホモジナイザーおよび超音波ホモジナイザーにより調製した試料No.c201およびc202は、試料No.201および202と比較して分散性が悪く、成膜性に劣り、均質な膜が得られなかった。そのため、表面抵抗率と熱電性能の測定ができず、導電率、PFおよび熱起電力を評価できなかった。
一方、メカニカルホモジナイザーおよび超音波ホモジナイザーにより調製した試料No.c201およびc202は、試料No.201および202と比較して分散性が悪く、成膜性に劣り、均質な膜が得られなかった。そのため、表面抵抗率と熱電性能の測定ができず、導電率、PFおよび熱起電力を評価できなかった。
実施例3
1.熱電変換層用分散物301および熱電変換層301の調製ならびに熱電変換素子301の製造
分散剤としてポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代りに1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート100mgを用いたこと以外は試料No.101と同様にして熱電変換層用分散物301および熱電変換層301を調製し、熱電変換素子301を製造した。
1.熱電変換層用分散物301および熱電変換層301の調製ならびに熱電変換素子301の製造
分散剤としてポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代りに1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート100mgを用いたこと以外は試料No.101と同様にして熱電変換層用分散物301および熱電変換層301を調製し、熱電変換素子301を製造した。
このようにして調製した、本発明の熱電変換層用分散物301の分散性を実施例1と同様にして評価した。
また、各熱電変換層301の成膜性、強度比[Id/Ig]、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子301の熱起電力を、実施例1と同様にして、または下記方法により、評価した。
なお、熱電変換層301のPFおよび熱電変換素子301の熱起電力を、熱電変換層101のPFおよび熱電変換素子101の熱起電力に対する相対値として、求めた。
結果を表4に示す。
また、各熱電変換層301の成膜性、強度比[Id/Ig]、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子301の熱起電力を、実施例1と同様にして、または下記方法により、評価した。
なお、熱電変換層301のPFおよび熱電変換素子301の熱起電力を、熱電変換層101のPFおよび熱電変換素子101の熱起電力に対する相対値として、求めた。
結果を表4に示す。
[強度比[Id/Ig]]
熱電変換層用分散物の強度比[Id/Ig]として、上述のG/D比の算出と同様にしてラマンスペクトルを測定し、熱電変換層中の単層カーボンナノチューブのGバンドとDバンドの強度比[Id/Ig]を算出した。この強度比[Id/Ig]が小さいと、カーボンナノチューブの欠陥が少なく、分散時のダメージが小さいことを、示す。
熱電変換層用分散物の強度比[Id/Ig]として、上述のG/D比の算出と同様にしてラマンスペクトルを測定し、熱電変換層中の単層カーボンナノチューブのGバンドとDバンドの強度比[Id/Ig]を算出した。この強度比[Id/Ig]が小さいと、カーボンナノチューブの欠陥が少なく、分散時のダメージが小さいことを、示す。
表4に示されるように、高速旋回薄膜分散法により調製した試料No.301は、分散性も良好であり、そのため成膜性が良好であった。また、強度比[Id/Ig]が小さく分散物へのダメージが小さく、そのため導電率が大きく、熱電性能が良好であった。
実施例4
1.熱電変換層用分散物401~406の調製
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)と、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)の質量比を表5に記載のとおりに変更したこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして熱電変換層用分散物401~406を調製した。
1.熱電変換層用分散物401~406の調製
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)と、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)の質量比を表5に記載のとおりに変更したこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして熱電変換層用分散物401~406を調製した。
2.熱電変換層401~406の調製および熱電変換素子401~406の製造
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物401~406を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして、熱電変換層401~406を調製し、熱電変換素子401~406を製造した。
なお、試料No.403は試料No.101と同じである。
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物401~406を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして、熱電変換層401~406を調製し、熱電変換素子401~406を製造した。
なお、試料No.403は試料No.101と同じである。
調製した熱電変換層用分散物401~406の粘度、平均粒径D、分散性およびチキソトロピー性を実施例1と同様にして評価した。
また、熱電変換層401~406の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子401~406の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料No.101のそれに対する相対値として、求めた。
結果を表5に示す。
また、熱電変換層401~406の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子401~406の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料No.101のそれに対する相対値として、求めた。
結果を表5に示す。
表5に示されるように、試料No.401~406は、いずれも、CNTが分断等しにくく、分散性および成膜性が優れていた。熱電変換層用分散物の固形分中のCNTの質量比が10以上(含有率10質量%以上)である試料No.401~405、特に50以上(含有率50質量%以上)である試料No.403~405は、粘度が高く成膜性に優れ、そのため、導電率および熱電性能にも優れていた。
実施例5
1.熱電変換層用分散物501の調製
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)90mg、非共役高分子としてポリスチレン(表6において「PPS」と表記する)20mg(重合度2000、和光純薬製)、o-ジクロロベンゼン20mLを加え、超音波洗浄機「US-2」(商品名、井内盛栄堂(株)製、出力120W、間接照射)を用いて完溶させた。次いで、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)90mg加えて、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて予備混合して、予備混合物501を得た。この予備混合物501の固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は45質量%)であった。
次に、この予備混合物501を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」(商品名、プライミクス社製)を用いて、10℃の恒温層中にて周速40m/secにて5分間分散し、熱電変換層用分散物501を調製した。
1.熱電変換層用分散物501の調製
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)90mg、非共役高分子としてポリスチレン(表6において「PPS」と表記する)20mg(重合度2000、和光純薬製)、o-ジクロロベンゼン20mLを加え、超音波洗浄機「US-2」(商品名、井内盛栄堂(株)製、出力120W、間接照射)を用いて完溶させた。次いで、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)90mg加えて、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて予備混合して、予備混合物501を得た。この予備混合物501の固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は45質量%)であった。
次に、この予備混合物501を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」(商品名、プライミクス社製)を用いて、10℃の恒温層中にて周速40m/secにて5分間分散し、熱電変換層用分散物501を調製した。
2.熱電変換層用分散物502の調製
熱電変換層用分散物501の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)と、単層カーボンナノチューブ「HP」と、ポリスチレンとの質量比を表6の記載のとおりに変更したこと以外は熱電変換層用分散物501と同様にして熱電変換層用分散物502(CNT含有率は25質量%)を調製した。
熱電変換層用分散物501の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)と、単層カーボンナノチューブ「HP」と、ポリスチレンとの質量比を表6の記載のとおりに変更したこと以外は熱電変換層用分散物501と同様にして熱電変換層用分散物502(CNT含有率は25質量%)を調製した。
3.熱電変換層501および502の調製ならびに熱電変換素子501および502の製造
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物501および502を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層501および502を調製し、熱電変換素子501および502を製造した。
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物501および502を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層501および502を調製し、熱電変換素子501および502を製造した。
調製した熱電変換層用分散物501および502の粘度、平均粒径D、分散性およびチキソトロピー性を実施例1と同様にして評価した。
また、熱電変換層501および502の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子501および502の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料101のそれに対する相対値として、求めた。
結果を表6に示す。
また、熱電変換層501および502の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子501および502の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料101のそれに対する相対値として、求めた。
結果を表6に示す。
表6に示されるように、非共役高分子を用いた試料No.501および502は、CNTが分断等しにくく、分散性および成膜性に優れていた。特に、熱電変換層用分散物の固形分中の非共役高分子の質量比が10(含有率10質量%)である試料No.501は、導電率も良好であり、熱電性能にも優れていた。
実施例6
1.熱電変換層用分散物601の調製
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)100mgと、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)100mgと、o-ジクロロベンゼン20mLを加えて、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(商品名、IKA社製)を用いて予備混合して、予備混合物601を得た。この予備混合物601の固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%)であった。次に、予備混合物601を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」(商品名、プライミクス社製)を用いて、10℃の恒温層中にて周速25m/secにて5分間超音波分散し、熱電変換層用分散物601を調製した。
1.熱電変換層用分散物601の調製
ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)100mgと、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」(商品名、Hanwha-chemical社製)100mgと、o-ジクロロベンゼン20mLを加えて、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(商品名、IKA社製)を用いて予備混合して、予備混合物601を得た。この予備混合物601の固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%)であった。次に、予備混合物601を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」(商品名、プライミクス社製)を用いて、10℃の恒温層中にて周速25m/secにて5分間超音波分散し、熱電変換層用分散物601を調製した。
2.熱電変換層用分散物602の調製
熱電変換層用分散物601の調製において、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」の周速を10m/secに変更したこと以外は熱電変換層用分散物601と同様にして熱電変換層用分散物602を調製した。
熱電変換層用分散物601の調製において、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」の周速を10m/secに変更したこと以外は熱電変換層用分散物601と同様にして熱電変換層用分散物602を調製した。
3.熱電変換層601および602の調製ならびに熱電変換素子601および602の製造
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物601および602を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして、熱電変換層601および602を調製し、熱電変換素子601および602を製造した。
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物601および602を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして、熱電変換層601および602を調製し、熱電変換素子601および602を製造した。
調製した熱電変換層用分散物601および602の粘度、平均粒径D、分散性およびチキソトロピー性を実施例1と同様にして評価した。
また、熱電変換層601および602の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子601および602の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料101のそれに対する相対値として、求めた。結果を表7に示す。
また、熱電変換層601および602の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子601および602の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料101のそれに対する相対値として、求めた。結果を表7に示す。
表7に示されるように、試料No.101、601および602は、いずれも、CNTが分断等しにくく、分散性および成膜性が優れていた。特に、高速旋回薄膜分散法における周速が大きい試料No.101および試料No.601は、成膜性に優れており、結果として導電率および熱電性能も高かった。
実施例7
1.熱電変換層用分散物701の調製
単層カーボンナノチューブ「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)10mgと、TCNQ(東京化成社製)4mgと、o-ジクロロベンゼン20mLを加え、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、1μmのメンブレンフィルタでろ過し、カーボンナノチューブ-TCNQ混合物を得た。この操作を5回繰り返し集約することで、約50mgの組成物701を得た。
次いで、組成物701 50mgと、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)50mgとに、o-ジクロロベンゼン20mLを加えて、さらにメカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、予備混合物701を得た。この予備混合物701の固形分濃度は0.5w/v%であった。
次いで、この予備混合物701を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」を用いて、10℃の恒温層中、周速40m/secにて5分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、本発明の熱電変換層用分散物701を調製した。この熱電変換層用分散物701の固形分濃度は0.5w/v%であった。
1.熱電変換層用分散物701の調製
単層カーボンナノチューブ「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)10mgと、TCNQ(東京化成社製)4mgと、o-ジクロロベンゼン20mLを加え、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、1μmのメンブレンフィルタでろ過し、カーボンナノチューブ-TCNQ混合物を得た。この操作を5回繰り返し集約することで、約50mgの組成物701を得た。
次いで、組成物701 50mgと、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)50mgとに、o-ジクロロベンゼン20mLを加えて、さらにメカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、予備混合物701を得た。この予備混合物701の固形分濃度は0.5w/v%であった。
次いで、この予備混合物701を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」を用いて、10℃の恒温層中、周速40m/secにて5分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、本発明の熱電変換層用分散物701を調製した。この熱電変換層用分散物701の固形分濃度は0.5w/v%であった。
2.熱電変換層用分散物702の調製
単層カーボンナノチューブ「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)10mgとトリフェニルホスフィン(和光純薬製、以下、TPPとも表記)50mgと、シクロヘキサノン20mLを加え、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、1μmのメンブレンフィルタでろ過し、カーボンナノチューブ-TPP混合物を得た。この操作を5回繰り返し集約することで、約50mgの組成物702を得た。
ついで、組成物702 50mgと、ポリスチレン50mgとに、シクロヘキサノン20mLを加えて、さらにメカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、予備混合物702を得た。この予備混合物702の固形分濃度は0.5w/v%であった。
次いで、この予備混合物702を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」を用いて、10℃の恒温層中、周速40m/secにて5分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、本発明の熱電変換層用分散物702を調製した。この熱電変換層用分散物702の固形分濃度は0.5w/v%であった。
単層カーボンナノチューブ「MC」(商品名、名城ナノカーボン社製)10mgとトリフェニルホスフィン(和光純薬製、以下、TPPとも表記)50mgと、シクロヘキサノン20mLを加え、メカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、1μmのメンブレンフィルタでろ過し、カーボンナノチューブ-TPP混合物を得た。この操作を5回繰り返し集約することで、約50mgの組成物702を得た。
ついで、組成物702 50mgと、ポリスチレン50mgとに、シクロヘキサノン20mLを加えて、さらにメカニカルホモジナイザー「T10basic」(IKA社製)を用いて、20℃で15分間、予備混合して、予備混合物702を得た。この予備混合物702の固形分濃度は0.5w/v%であった。
次いで、この予備混合物702を、薄膜旋回型高速ミキサー「フィルミックス40-40型」を用いて、10℃の恒温層中、周速40m/secにて5分間高速旋回薄膜分散法にて分散処理し、本発明の熱電変換層用分散物702を調製した。この熱電変換層用分散物702の固形分濃度は0.5w/v%であった。
3.熱電変換層701および702の調製ならびに熱電変換素子701および702の製造
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物701および702を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして、熱電変換層701および702を調製し、熱電変換素子701および702を製造した。
熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物701および702を用いて、それぞれ、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして、熱電変換層701および702を調製し、熱電変換素子701および702を製造した。
調製した熱電変換層用分散物701および702の分散性を実施例1と同様にして評価し、極性を確認した。
また、熱電変換層701および702の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子701および702の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料の熱電性能および熱起電力を試料109のそれに対する相対値として、求めた。
結果を表8に示す。
また、熱電変換層701および702の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、熱電変換素子701および702の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料の熱電性能および熱起電力を試料109のそれに対する相対値として、求めた。
結果を表8に示す。
表8から明らかなように、高速旋回薄膜分散法により調製し、かつドーパントを用いた試料No.701および702は、CNTが分断等しにくく、分散性、成膜性に優れ、かつ導電率にも優れていた。また、非共役高分子とn型ドーパントを用いた試料No.702においては、用いない場合と比較して、極性がp型からn型に変換された。
実施例8
1.熱電変換層用分散物801および熱電変換層801の調製ならびに熱電変換素子801の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりにポリスチレン(和光純薬製、重合度2000)、および、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」の代わりに「HP」を、ぞれぞれ、100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物801(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物801(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物801を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層801を調製し、熱電変換素子801を製造した。
1.熱電変換層用分散物801および熱電変換層801の調製ならびに熱電変換素子801の製造
熱電変換層用分散物101の調製において、ポリ(3-オクチルチオフェン-2,5-イル)の代わりにポリスチレン(和光純薬製、重合度2000)、および、単層カーボンナノチューブ「ASP-100F」の代わりに「HP」を、ぞれぞれ、100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物101と同様にして予備混合物801(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物801(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物801を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層801を調製し、熱電変換素子801を製造した。
2.熱電変換層用分散物802および熱電変換層802の調製ならびに熱電変換素子802の製造
熱電変換層用分散物801の調製において、ポリスチレン(和光純薬製、重合度2000)の代わりに2-ビニルナフタレン(Aldrich製、分子量175,000)を100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物801と同様にして予備混合物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物802を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層802を調製し、熱電変換素子802を製造した。
熱電変換層用分散物801の調製において、ポリスチレン(和光純薬製、重合度2000)の代わりに2-ビニルナフタレン(Aldrich製、分子量175,000)を100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物801と同様にして予備混合物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物802を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層802を調製し、熱電変換素子802を製造した。
3.熱電変換層用分散物803および熱電変換層803の調製ならびに熱電変換素子803の製造
熱電変換層用分散物801の調製において、ポリスチレン(和光純薬製、重合度2000)の代わりにPC-Z型ポリカーボネート(帝人化成株式会社製、パンライトTS-2020)を100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物801と同様にして予備混合物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物803を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層803を調製し、熱電変換素子803を製造した。
熱電変換層用分散物801の調製において、ポリスチレン(和光純薬製、重合度2000)の代わりにPC-Z型ポリカーボネート(帝人化成株式会社製、パンライトTS-2020)を100mg用いたこと以外は熱電変換層用分散物801と同様にして予備混合物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))および熱電変換層用分散物802(固形分濃度は1.0w/v%(CNT含有率は50質量%))を調製した。
また、熱電変換層101の調製および熱電変換素子101の製造において、熱電変換層用分散物101に代えて熱電変換層用分散物803を用いて、熱電変換層101および熱電変換素子101と同様にして熱電変換層803を調製し、熱電変換素子803を製造した。
調製した各熱電変換層用分散物801~803の粘度、平均粒径D、分散性およびチキソトロピー性を実施例1と同様にして評価した。
また、各熱電変換層801~803の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子801~803の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料No.114のそれに対する相対値として、求めた。結果を表9に示す。
また、各熱電変換層801~803の成膜性、導電率および熱電性能、ならびに、各熱電変換素子801~803の熱起電力を実施例1と同様にして評価した。なお、各試料のチキソトロピー性、熱電性能および熱起電力を試料No.114のそれに対する相対値として、求めた。結果を表9に示す。
表9から明らかなように、高速旋回薄膜分散法により調製した試料No.801、802、803は、いずれも、CNTが分断等しにくく、分散性、成膜性に優れ、そのため導電率および熱電性能も高かった。
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
本願は、2013年3月28日に日本国で特許出願された特願2013-069028、および、2014年3月4日に日本国で特許出願された特願2014-041690に基づく優先権を主張するものであり、これらはいずれもここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
1、2 熱電変換素子
11、17 金属板
12、22 第1の基材
13、23 第1の電極
14、24 熱電変換層
15、25 第2の電極
16、26 第2の基材
31 基材
32 熱電変換層が形成される領域
33 バンク
11、17 金属板
12、22 第1の基材
13、23 第1の電極
14、24 熱電変換層
15、25 第2の電極
16、26 第2の基材
31 基材
32 熱電変換層が形成される領域
33 バンク
Claims (15)
- 基材上に、第1の電極、熱電変換層および第2の電極を有する熱電変換素子の製造方法であって、
少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、前記ナノ導電性材料を含有する熱電変換層用分散物を調製する工程と、
調製した熱電変換層用分散物を前記基材上に塗布し、乾燥する工程とを有する熱電変換素子の製造方法。 - 前記熱電変換層用分散物の固形分濃度が、0.5~20w/v%である請求項1に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記熱電変換層用分散物の固形分中の前記ナノ導電性材料の含有率が、10質量%以上である請求項1または2に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記熱電変換層用分散物の粘度が、10mPa・s以上である請求項1~3のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記高速旋回薄膜分散法が、10~40m/secの周速で行われる請求項1~4のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- さらに分散剤を高速旋回薄膜分散法に供する請求項1~5のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記分散剤が、共役高分子である請求項6に記載の熱電変換素子の製造方法。
- さらに非共役高分子を高速旋回薄膜分散法に供する請求項1~7のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記ナノ導電性材料が、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、フラーレン、グラファイト、グラフェン、カーボンナノ粒子および金属ナノワイヤーからなる群より選択される少なくとも1種である請求項1~8のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記ナノ導電性材料が、カーボンナノチューブである請求項1~9のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記ナノ導電性材料が、単層カーボンナノチューブであり、該単層カーボンナノチューブの直径が1.5~2.0nmであり、その長さが1μm以上であり、かつG/D比が30以上である請求項1~10のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 前記熱電変換層用分散物を印刷法によって前記基材上に塗布する請求項1~11のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 動的光散乱法で測定した、前記熱電変換層用分散物中の前記ナノ導電性材料の平均粒径Dが、1000nm以下である請求項1~12のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 動的光散乱法で測定した、前記熱電変換層用分散物中の前記ナノ導電性材料の粒径分布の半値幅dDと平均粒径Dとの比[dD/D]が、5以下である請求項1~13のいずれか1項に記載の熱電変換素子の製造方法。
- 熱電変換素子の熱電変換層を形成するための熱電変換層用分散物の製造方法であって、少なくともナノ導電性材料と分散媒とを高速旋回薄膜分散法に供して、ナノ導電性材料を分散媒に分散させる熱電変換層用分散物の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201480018311.9A CN105103317A (zh) | 2013-03-28 | 2014-03-25 | 热电转换元件的制造方法和热电转换层用分散物的制造方法 |
US14/862,220 US20160013392A1 (en) | 2013-03-28 | 2015-09-23 | Method of producing thermoelectric conversion element and method of preparation dispersion for thermoelectric conversion layer |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013-069028 | 2013-03-28 | ||
JP2013069028 | 2013-03-28 | ||
JP2014-041690 | 2014-03-04 | ||
JP2014041690A JP5960178B2 (ja) | 2013-03-28 | 2014-03-04 | 熱電変換素子の製造方法および熱電変換層用分散物の製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US14/862,220 Continuation US20160013392A1 (en) | 2013-03-28 | 2015-09-23 | Method of producing thermoelectric conversion element and method of preparation dispersion for thermoelectric conversion layer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2014157259A1 true WO2014157259A1 (ja) | 2014-10-02 |
Family
ID=51624225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2014/058388 WO2014157259A1 (ja) | 2013-03-28 | 2014-03-25 | 熱電変換素子の製造方法および熱電変換層用分散物の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160013392A1 (ja) |
JP (1) | JP5960178B2 (ja) |
CN (1) | CN105103317A (ja) |
TW (1) | TWI619275B (ja) |
WO (1) | WO2014157259A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5775960B1 (ja) * | 2014-11-17 | 2015-09-09 | ニッタ株式会社 | カーボンナノチューブ分散液、機能性膜および複合素材 |
JP6499450B2 (ja) * | 2015-01-07 | 2019-04-10 | 株式会社日本触媒 | 酸化グラフェン複合組成物 |
JP2016153367A (ja) * | 2015-02-13 | 2016-08-25 | 株式会社Nextコロイド分散凝集技術研究所 | カーボンナノチューブ分散液、その製造方法、カーボンナノチューブ含有熱電変換素子及びその製造方法 |
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- 2014-03-25 CN CN201480018311.9A patent/CN105103317A/zh active Pending
- 2014-03-25 WO PCT/JP2014/058388 patent/WO2014157259A1/ja active Application Filing
- 2014-03-27 TW TW103111360A patent/TWI619275B/zh active
-
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JP7108651B2 (ja) | 2020-03-11 | 2022-07-28 | 株式会社小松製作所 | 熱電発電装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI619275B (zh) | 2018-03-21 |
CN105103317A (zh) | 2015-11-25 |
JP2014209573A (ja) | 2014-11-06 |
US20160013392A1 (en) | 2016-01-14 |
JP5960178B2 (ja) | 2016-08-02 |
TW201442307A (zh) | 2014-11-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 201480018311.9 Country of ref document: CN |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 14772952 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
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