WO2014117496A1 - 碱显影型感光性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板 - Google Patents

碱显影型感光性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板 Download PDF

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WO2014117496A1
WO2014117496A1 PCT/CN2013/081148 CN2013081148W WO2014117496A1 WO 2014117496 A1 WO2014117496 A1 WO 2014117496A1 CN 2013081148 W CN2013081148 W CN 2013081148W WO 2014117496 A1 WO2014117496 A1 WO 2014117496A1
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WO
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photosensitive resin
resin composition
alkali
coating film
carboxyl group
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PCT/CN2013/081148
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Inventor
加藤贤治
顾华民
吴长宏
Original Assignee
太阳油墨(苏州)有限公司
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer

Definitions

  • Alkali development type photosensitive resin composition dry film thereof and cured product thereof, and printed circuit board formed using the same
  • the present invention relates to an alkali-developable photosensitive resin composition and a cured product thereof which are suitable for use in formation of a solder resist of a printed circuit board, and more particularly to an image which can be formed by ultraviolet exposure and development with a dilute aqueous alkali solution, particularly blast-resistant
  • An alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in adhesion, foam resistance, and adhesion to copper in TH (through hole) and crack resistance, and a cured coating film, and a cured product thereof, and a printed circuit board.
  • an alkali-developing type liquid solder resist using a dilute aqueous alkali solution as a developing solution is, for example, an activity obtained by adding a polybasic acid anhydride to a reaction product of a novolac type epoxy compound and an unsaturated monocarboxylic acid as described in Patent Document 1.
  • a liquid solder resist composition formed of an energy ray curable resin, a photopolymerization initiator, a diluent, and an epoxy compound is widely used.
  • solder leveler solder leveller
  • air bubble the phenomenon of overflow of the coating film filled in TH during post-cure and solder leveling
  • a circuit board in which all the through holes of a circuit board such as a copper TH circuit board are filled with a liquid solder resist composition is in the mainstream, and it is necessary to develop a response to the bubble.
  • a solder mask composition for the problem of blasting holes is used in combination, as described in Patent Document 2 or Patent Document 3.
  • the printed circuit board uses a printed circuit board which is thinner and younger and has various apertures.
  • a solder resist composition having the space resistance and blast resistance is used for a printed circuit board having a hole diameter of ⁇ 500 or more
  • the adhesion between the copper and the solder resist composition in the TH may be insufficient. Bad condition of the crack.
  • Figure 1 shows the shape of the problem.
  • Such an unfavorable situation may cause the following new problems:
  • the flux When the flux is applied, the flux easily enters the TH, the flux reflows to the opposite side of the flux coated surface, and the surface of the substrate is contaminated, and the residual flux in the TH is behind. Since the treatment causes expansion at the time of leveling, it is desired to develop a solder resist composition which is excellent in blast resistance, cavitation resistance, and adhesion to copper in TH and crack resistance.
  • Patent Document 1 Japanese Special Open No. 61-243869
  • Patent Document 2 Japanese Special Open 2008-116813
  • Patent Document 3 International Publication No. 2003-059975
  • Patent Document 4 Japanese Patent Publication No. 2002-256060 SUMMARY OF THE INVENTION
  • An object of the present invention is to provide an alkali-developing photosensitive resin composition which is excellent in blast resistance, cavitation resistance, adhesion to copper in TH, and crack resistance, and which can obtain a cured coating film, and a cured product thereof And a printed circuit board.
  • a main object of the present invention is to provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in adhesion to copper in TH and crack resistance and which is suitable for a solder resist composition for a printed circuit board.
  • the alkali-developing photosensitive resin composition As described below can solve the above problems, and the present invention, the alkali-developing photosensitive resin composition It is characterized by containing (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent solvent, (D) a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule, and (E)
  • the talc as the (A) carboxyl group-containing resin, contains an esterified product of an epoxy group formed by esterification of at least one bisphenol epoxy compound (a) with an unsaturated carboxylic acid (b), and saturated or
  • the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention contains (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent solvent, and (D) two or more in one molecule.
  • a compound of an ethylenically unsaturated group and (E) talc as (A) a carboxyl group-containing resin, comprising esterification of at least one bisphenol epoxy compound (a) with an unsaturated carboxylic acid (b)
  • thermosetting component (G) a thermosetting component
  • the dry film of the present invention is obtained by applying the alkali-developable photosensitive resin composition onto a carrier film and drying it.
  • the cured product of the present invention is obtained by photocuring a coating film obtained by applying the alkali-developing photosensitive resin composition onto copper and drying it. Coating the film or coating the photosensitive resin composition on a carrier film and drying the resulting photocurable A coating film obtained by laminating a dry film on copper.
  • the printed wiring board of the present invention is obtained by photocuring a coating film obtained by thermally curing the coating film, and applying the alkali developing type photosensitive resin composition to a substrate.
  • the most technical feature of the photosensitive resin composition of the present invention is that the (A) carboxyl group-containing resin contains at least one bisphenol epoxy compound (a) and an unsaturated carboxylic acid (b).
  • the carboxyl group-containing resin (A-1) obtained by reacting the esterified product of the epoxy group with the saturated or unsaturated polybasic acid anhydride (c), and the content of the (E) talc is 10% by weight or more based on the total amount. 60% by weight or less.
  • the carboxyl group-containing resin (A-1) having flexibility is used as the (A) carboxyl group-containing resin, and the content of the (E) talc is 10% by weight or more based on the total amount.
  • the amount is 60% by weight or less, the hardness of the cured product can be made soft, and the photosensitive resin composition can be imparted with flexibility.
  • the curing shrinkage at the time of curing of the photosensitive resin composition at the time of post-curing can be alleviated, and the photosensitive resin composition can satisfactorily follow the unevenness of the copper surface in TH due to the flexibility of the photosensitive resin composition.
  • Curing is performed, whereby cracks at the interface between the copper in the TH and the photosensitive resin composition can be prevented. Further, the fluidity of the alkali-developable photosensitive resin composition is improved, and the embedding property into the TH during printing becomes good.
  • the conventional solder resist composition having cavitation resistance, although the foam resistance is obtained, the adhesion to copper in TH cannot be sufficiently obtained.
  • the conventional solder resist composition contains the carboxyl group-containing resin (A-1) and (F) filler, but the (F) filler generally uses barium sulfate having a high Mohs hardness as a measure of the hardness of the mineral. (Mohs hardness: 3), silica (Mohs hardness: 7).
  • the scale of the hardness of the Mohs hardness is an integer value of 1 to 10, and the larger the number, the higher the hardness of the mineral.
  • the conventional photosensitive resin composition is insufficient in sufficient flexibility, and it is difficult to impart adhesion to copper in the TH. Therefore, in the present invention, the above problem is solved by using (E) talc having a Mohs hardness of 1 and one of the softest minerals in minerals.
  • Fig. 1 a is a view showing that the copper of the TH and the coating film are not peeled off.
  • b is a graph showing the peeling of the copper and the coating film of TH.
  • the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention is characterized in that (E) talc is contained as a necessary component, and therefore, (E) talc will be described first.
  • the (E) talc used in the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention is used for improving the adhesion to copper in the TH and the crack resistance.
  • the mother rock is magnesium carbonate, serpentine, silica/silicon dioxide- Any one of alumina and magnesium deposits may be one of the so-called silicate minerals, and the shape may be in the form of a block or a fine powder. It may or may not be surface treated.
  • the compounding ratio of these (E) talc is suitably 10% by weight or more and 60% by weight or less based on the total amount.
  • the amount is less than 10% by weight, the adhesion to the copper in the TH and the crack resistance are not sufficiently obtained.
  • the amount is more than 60% by weight, the fluidity of the alkali-developable photosensitive resin composition is deteriorated, and the film is buried in the TH during printing. Incompatibility is deteriorated, so it is not preferable.
  • At least one bisphenol type epoxy compound (a) used in the production of such a carboxyl group-containing resin (A-1) is used on an alcoholic hydroxyl group of a bisphenol A type or a bisphenol F type with respect to an alcohol A compound obtained by adding an epihalohydrin such as epichlorohydrin to an equivalent amount of 1 equivalent or more of the hydroxyl group.
  • Examples of the unsaturated carboxylic acid (b) to be added to the epoxy group of the bisphenol epoxy compound include acrylic acid, a dimer of acrylic acid, methacrylic acid, and hydroxyethyl (meth)acrylate. Hydroxypropyl acrylate (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, phenyl glycidyl (meth) acrylate, caprolactone (meth) acrylate lactone, etc. a meta-anhydride adduct and the like. Among them, acrylic acid and methacrylic acid are particularly preferable. These unsaturated group-containing monocarboxylic acids may be used singly or in combination.
  • the saturated or unsaturated polybasic acid anhydride (c) which reacts with an alcoholic hydroxyl group in the esterified product formed by the esterification reaction of the bisphenol type epoxy compound and the unsaturated carboxylic acid may, for example, be a methyl group.
  • Such a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride is preferably used in the obtained carboxyl group-containing resin.
  • the acid value of (A-l) is added in the range of 45 to 120 mgKOH/g.
  • the compounds listed below (which may be any of an oligomer and a polymer) are preferable.
  • a carboxyl group-containing copolymer resin obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid such as (meth)acrylic acid with one or more compounds having an unsaturated double bond,
  • a glycidyl (meth)acrylate or a (meth)acrylic acid 3 is used.
  • a photosensitive carboxyl group obtained by adding an ethylenically unsaturated group such as a compound having an epoxy group to an unsaturated double bond or a (meth)acrylic acid chloride or the like as a side chain such as 4-epoxycyclohexylmethyl ester.
  • a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid to react a generated hydroxyl group with a saturated or unsaturated polybasic acid anhydride
  • the carboxyl group-containing resin obtained by reacting the polybasic acid anhydride is further reacted with a compound having an epoxyethylene ring and one or more ethylenically unsaturated groups in the molecule.
  • the obtained carboxyl group-containing photosensitive resin or the like is not limited to these.
  • (meth) acrylate is a term collectively referred to as acrylate, methacrylate, and a mixture thereof, and the same applies to other similar expressions.
  • the carboxyl group-containing resin (A) as described above has a plurality of free carboxyl groups in the side chain of the main chain polymer, and thus can be developed by using a dilute aqueous alkali solution.
  • the acid value of the carboxyl group-containing resin (A) is preferably in the range of 40 to 200 mgKOH/g, and more preferably in the range of 45 to 120 mgKOH/g.
  • the acid value of the carboxyl group-containing resin is less than 40 mgKOH/g, it is difficult to develop alkali.
  • it exceeds 200 mgKOH/g the developer is dissolved in the exposed portion, so that the line becomes finer than necessary, and sometimes the exposure is performed. The portion and the unexposed portion are dissolved and peeled off by the developer without distinction, and it is difficult to draw a normal resist pattern, which is not preferable.
  • the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing resin (A) varies depending on the resin skeleton, and is usually preferably in the range of 2,000 to 150,000, more preferably 5,000 to 100,000.
  • the weight average molecular weight is less than 2,000, the non-sticking property after application to the substrate and drying may be deteriorated, and the moisture resistance of the coating film after exposure may be deteriorated, the film may be reduced during development, and the resolution may be greatly deteriorated.
  • the weight average molecular weight exceeds 150,000, the developability may be remarkably deteriorated, and the storage stability may be deteriorated.
  • the compounding amount of the carboxyl group-containing resin (A) is desirably 20 to 60% by mass of the total composition.
  • the range is preferably 30 to 50% by mass.
  • the compounding amount of the carboxyl group-containing resin (A) is less than the above range, the coating film strength is lowered, which is not preferable.
  • the viscosity of the composition becomes high, or the coatability and the like are lowered, which is not preferable.
  • the photopolymerization initiator (B) which can be suitably used in the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention is exemplified by:
  • Acetophenone 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1- Acetophenones such as [4-(4-benzoylphenylsulfonyl)-2-methyl-2-(4-methylphenylsulfonyl)]propan-1-one;
  • Anthraquinones such as 2-methylhydrazine, 2-ethylhydrazine, 2-tert-butylhydrazine, 1-chloroindole;
  • a thioxanthone such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone or 2,4-diisopropylthioxanthone;
  • ketal such as acetophenone dimethyl ketal or benzil dimethyl ketal
  • Benzophenones such as benzophenone or xanthone
  • An acylphosphine oxide such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide or ethyl 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphonate;
  • 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinoacetone-1 is used as a commercial product, and examples thereof include: Manufactured by Ciba-Geigy Company IRGACURE 907 and so on.
  • the compounding ratio of the photopolymerization initiator (B) is preferably 0.01 to 30 parts by mass, preferably 5 to 25 parts by mass, per 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A).
  • the amount of the photopolymerization initiator used is less than the above range, the photocurability of the composition is deteriorated. On the other hand, when the amount is too large, the properties of the solder resist are lowered, which is not preferable.
  • the organic solvent (C) used in the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention may be prepared by synthesizing the carboxyl group-containing resin (A), preparing a composition, or adjusting the viscosity so as to be coated on a substrate or a carrier film. Use an organic solvent.
  • organic solvent examples include ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycol ether acetates, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, petroleum solvents, and the like. More specifically, it is a ketone such as methyl ethyl ketone or cyclohexanone; an aromatic hydrocarbon such as toluene, xylene or tetramethylbenzene; cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, and methyl carbene.
  • ketone such as methyl ethyl ketone or cyclohexanone
  • aromatic hydrocarbon such as toluene, xylene or tetramethylbenzene
  • cellosolve methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, and methyl carbene.
  • the above organic solvents may be used singly or in the form of a mixture of two or more.
  • the compound (D) having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule used in the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention is photocured by irradiation with an active energy ray to render the carboxyl group-containing resin (A) insoluble.
  • Specific examples of such a compound include:
  • a monoacrylate or a diol of a glycol such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol or propylene glycol Acrylates;
  • Anthraquinones such as hydrazine, hydrazine-dimethyl acrylamide, hydrazine-hydroxymethyl acrylamide, hydrazine, hydrazine-dimethylaminopropyl acrylamide;
  • Acrylic acid aminoguanidino esters such as hydrazine, hydrazine-dimethylaminoethyl ester, hydrazine acrylate, hydrazine-dimethylaminopropyl acrylate;
  • a polyhydric alcohol such as a diol such as hexanediol, trimethylolpropene, pentaerythritol, dipentaerythritol or trishydroxyethyl isocyanurate or an epoxy oxime adduct or a propylene oxide adduct thereof.
  • An acrylate of a glycidyl ether such as glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, trimethylol propyl triglycidyl ether or triglycidyl isocyanurate;
  • an epoxy acrylate resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy resin such as a cresol novolak epoxy resin with acrylic acid, a hydroxyl group of the epoxy acrylate resin, and pentaerythritol triacrylate may be used.
  • the compounding amount of the compound (D) having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule is desirably from 5 to 100 parts by mass, more preferably 10, based on 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A). ⁇ 70 parts by mass ratio.
  • the compounding amount is less than 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A)
  • the photocurability of the obtained alkali-developable photosensitive resin composition is lowered, and it is difficult to pass the active energy ray after irradiation.
  • the alkali development forms a pattern and is therefore not preferred.
  • it exceeds 100 parts by mass the solubility in the aqueous alkali solution is lowered, and the cured coating film becomes brittle, which is not preferable.
  • the (F) filler can be used for the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention.
  • Examples of such (F) fillers include barium sulfate, barium titanate, silica powder, spherical silica, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, glass fiber, carbon fiber, and mica powder. Etc. commonly known inorganic or organic fillers. Such (F) fillers may or may not be surface treated.
  • the compounding ratio of such a (F) filler is suitably 0.01% by weight or more and 50% by weight or less based on the total amount.
  • the amount is less than 0.01% by weight, the adhesion to the copper in the TH and the heat resistance are not sufficiently obtained.
  • the amount is more than 50% by weight, the fluidity of the alkali-developable photosensitive resin composition is deteriorated, and it is in the TH during printing. The embedding property is deteriorated, which is not preferable.
  • the alkali-developing photosensitive resin composition has at least one of two or more reactive groups (a cyclic ether group and a cyclic thioether group) in order to impart heat resistance and crack resistance.
  • a thermosetting component (G) of the above hereinafter referred to as a cyclic (thio)ether group).
  • the thermosetting component (G) is a compound having one or two or more of a cyclic ether group or a cyclic thioether group having a three-membered ring, a four-membered ring or a five-membered ring in the molecule, for example, Examples of the compound having at least two epoxy groups in the molecule, that is, a polyfunctional epoxy compound (G-1), and a compound having at least two or more oxetanyl groups in the molecule, that is, a polyfunctional oxetane
  • the compound (G-2) is a compound having at least two or more thioether groups in the molecule, that is, an episulfide resin (G-3).
  • polyfunctional epoxy compound (G-1) for example, EPICOAT828, EPICOAT834, EPICOAT100K EPICOAT1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Epiclon 840, Epiclon 850, Epiclon 050, Epiclon 2055 manufactured by DIC, manufactured by Dongdu Chemical Co., Ltd. Epotote YD-011, YD-013, YD-127, YD-128, DER317, DER33K DER661, DER664 manufactured by Dow Chemical Company, manufactured by Sumitomo Chemical Industries Sumiepoxy ESA-011, ESA-014, ELA-115, ELA-128, AER330, AER33K AER661, AER664, etc.
  • ELM-120, etc. Glycidylamine type epoxy resin; Hydantoin type epoxy resin; Cel OX ide2021 manufactured by DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
  • Epoxy epoxy Resin YL-933 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, ⁇ , ⁇ -50 ⁇ EPPN-502, manufactured by Dow Chemical Company, etc.
  • Epoxy epoxy Resin YL-933 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, ⁇ , ⁇ -50 ⁇ EPPN-502, manufactured by Dow Chemical Company, etc.
  • trihydroxyphenylformamidine type epoxy resin Mitsubishi Chemical Ethyl xylenol type or bisphenol type epoxy resin such as YL-6056, YX-4000, YL-6121 (all trade names) manufactured by the company, or a mixture thereof; EBPS-200 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Electrochemical industry company The EPX-30, EXA-1514 (trade name) manufactured by DIC bisphenol S type epoxy resin; manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation Bisphenol A novolac type epoxy resin such as EPICOAT157S (trade name); EPICOAT YL-931 (all are trade names) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, tetrakis phenyl acetonitrile type epoxy resin; Nissan Chemical Industry Co., Ltd. TEPIC, etc. (all are trade names) Heterocyclic epoxy resin; Blemmer DGT and other phthalic acid diglycidyl ester resins manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.; Zw-1063 and other tetraglycidyl 2 manufactured by Dongdu Chemical Co., Ltd.
  • Tetraglycidyl xylenoyl ethane resin ESN-190, ESN-360 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., HP-4032, EXA-4750, EXA-4700 and other naphthalene-based epoxy resins manufactured by DIC; Epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton such as HP-7200 or HP-7200H; glycidyl methacrylate copolymer epoxy resin such as CP-50S and CP-50M manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.; and cyclohexylma Copolymerized epoxy resin of imide and glycidyl methacrylate; epoxy modified polybutadiene rubber derivative (such as PB-3600 manufactured by DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.), CTBN modified epoxy resin (E.g Manufactured by Kasei YR-102, YR-450, etc.) and the like, but is not limited thereto.
  • the polyfunctional oxetane compound (G-2) may, for example, be bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]ether or bis[(3-ethyl) 3-oxetanylmethoxy)methyl]ether, 1,4-bis[(3-methyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, 1,4-bis[( 3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene, (3-methyl-3-oxetanyl)methyl acrylate, acrylic acid (3-ethyl-3-oxetanyl) Methyl ester, methyl (3-methyl-3-oxetanyl) methacrylate, methyl ( 3 -ethyl- 3 -oxetanyl) methacrylate, oligomers or copolymers thereof
  • polyfunctional oxetane, and oxetane with novolac resin poly(p-hydroxystyren
  • the compound (G-3) having two or more cyclic thioether groups in the molecule for example, : bisphenol A type episulfide resin YL7000 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Further, an episulfide resin obtained by replacing the oxygen atom of the epoxy group of the novolac type epoxy resin with a sulfur atom by the same synthesis method may be used.
  • the compounding amount of the (G) thermosetting component having two or more cyclic (thio)ether groups in the molecule is preferably a cyclic (thio)ether with respect to 1 equivalent of the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin (A).
  • the base is in the range of 0.6 to 2.0 equivalents, more preferably in the range of 0.8 to 1.5 equivalents.
  • the amount of the thermosetting component (G) having two or more cyclic (thio)ether groups in the molecule is less than 0.6, the carboxyl group remains in the solder resist film, and heat resistance, alkali resistance, electrical insulation, and the like are left. It is lowered, so it is not preferable.
  • the amount is more than 2.0 equivalents, since a low molecular weight cyclic (thio)ether group remains in the dried coating film, the strength of the coating film or the like is lowered, which is not preferable.
  • thermosetting component (G) having two or more cyclic (thio)ether groups in the molecule it is preferred to contain a thermosetting catalyst.
  • a thermosetting catalyst include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-phenylimidazole, and 1 -Imidazole derivatives such as cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4-methylimidazole; dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (two Methylamino)-N,N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N,N-dimethylbenzylamine, 4-methyl-N,N-dimethylbenzylamine and other amine compounds; a hydrazide compound such as an acid dihydrazide or azelaic acid
  • thermosetting catalyst for an epoxy resin a thermosetting catalyst for an oxetane compound, or a catalyst for promoting the reaction of at least one of an epoxy group and an oxetan group with a carboxyl group.
  • it may be used alone or in combination of two or more.
  • guanamine, methyl decylamine, benzoguanamine, melamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s-triazine, 2-vinyl-2,4 can also be used.
  • a triazine derivative such as a triazine-isocyanuric acid adduct is preferably used in combination with the above-mentioned thermosetting catalyst.
  • the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention may further contain, as needed, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene blue black, and the like.
  • colorants hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butyl catechol, pyrogallol, phenothiazine and other commonly used thermal polymerization inhibitors, fine powder silica, organic bentonite, montmorillonite A known thickener, a defoaming agent such as a silicone-based, a fluorine-based or a polymer-based compound, and a flow-through agent, and an adhesion-imparting agent such as an imidazole-based, a thiazole-based or a triazole-based, or a silicon-germanium coupler.
  • Commonly used additives such as a crosslinking agent.
  • the alkali-developing photosensitive resin composition of the present invention When used in forming a solder resist of a printed circuit board, it is adjusted to a viscosity suitable for the coating method as needed, and then subjected to screen printing, curtain printing, and spraying.
  • a method such as a method or a roll coating method, for example, it is applied to a printed circuit board on which a circuit is formed in advance, and if necessary, for example, by drying at a temperature of about 60 to 100 ° C, a coating film which is not sticky can be formed.
  • a resist pattern can be formed, and further, for example, by heating to about 140 to 180°.
  • the temperature of C is thermally cured, whereby the curing reaction of the thermosetting component and the polymerization of the photosensitive resin component can be promoted, and the heat resistance, solvent resistance, acid resistance, and moisture absorption resistance of the obtained resist film can be improved. , PCT tolerance, adhesion, electrical properties and other characteristics.
  • an aqueous alkali solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia or an amine can be used.
  • a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a semiconductor laser, a solid laser, a xenon lamp or a metal halide lamp or the like is suitable.
  • Example 1 The present invention will be described in more detail based on examples and comparative examples, but the scope of the invention and the embodiments thereof are not limited thereto.
  • the "parts” or “%” in the examples and comparative examples are based on weight unless otherwise specified.
  • the property value test of the composition of the present example was carried out by the method described below.
  • the reaction product was cooled to 80 to 90 ° C, and 190 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added to carry out a reaction for 8 hours.
  • the carboxyl group-containing photosensitive resin obtained in this manner had a nonvolatile content of 65%, and the solid content had an acid value of 100 mgKOH/g.
  • the resin solution is referred to as varnish A.
  • the obtained reaction product was cooled to 80 to 90 ° C, and 91.2 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added thereto to carry out a reaction for 8 hours, and after cooling, it was taken out.
  • the carboxyl group-containing photopolymerizable unsaturated compound thus obtained had a nonvolatile content of 65% and an acid value of a solid component of 87.5 mgKOH/g. Following, the counter The solution of the product to be produced is called varnish B.
  • Each of the alkali-developable photosensitive resin compositions of the above Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 was filled in a substrate of ⁇ 0.5 and 0.8 mm, and then cured by photocuring and thermal curing to obtain a cured coating film according to JIS.
  • the above coating film was immersed in a solder bath at 288 ° C for 3 seconds 3 times using a rosin-based and water-soluble flux. Then, the state of the coating film of the TH portion was visually observed.
  • the evaluation criteria are as follows.
  • The protrusion of the coating film in the TH500 hole of ⁇ 500 is less than 5
  • the protrusion of the coating film in the TH500 hole of ⁇ 500 is more than 5
  • Each of the alkali developing types of the above Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 was filled into the substrates of ⁇ 0.5 and 0.8 mmt.
  • photosensitive resin composition photocuring and thermal curing were carried out to obtain a cured coating film, and the coating film was immersed in a solder bath at 288 ° C for 10 seconds using a rosin-based and water-soluble flux according to the test method of JIS C6481. Times. Then, the tape was peeled off, and the peeling state around the TH was confirmed.
  • the evaluation criteria are as follows.
  • ⁇ : ⁇ 500 produces less than 5 vacuoles in the TH500 hole
  • Each of the alkali-developable photosensitive resin compositions of the above Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 was filled in a substrate of ⁇ 0.5 and 0.8 mmt, and then photocured and thermally cured to form a cured coating film. Then, the cross-sectional state of the substrate was confirmed by an optical microscope.
  • the evaluation criteria are as follows. A schematic view of the cross-sectional shape is shown.
  • The copper of TH and the coating film are not peeled off, etc.
  • Each of the alkali-developable photosensitive resin compositions of Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 was filled in a substrate of ⁇ 0.5 and 0.8 mmt, and then photocured and thermally cured to form a cured coating film. Then, the state of the coating film of the TH portion was observed with an optical microscope.
  • the evaluation criteria are as follows.

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Abstract

一种碱显影型感光性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电路板。所述感光性树脂组合物的特征在于,含有(A)含羧基树脂、(B)光聚合引发剂、(C)稀释溶剂、(D)在一分子中具有两个以上乙烯性不饱和基团的化合物及(E)滑石,作为(A)含羧基树脂,含有使至少一种双酚型环氧化合物(a)与不饱和羧酸(b)进行酯化反应而生成的环氧基的酯化生成物与饱和或不饱和多元酸酐(c)反应而得到的含羧基树脂(A-1),并且(E)滑石的含有率为总量的10重量%以上且60重量%以下。所述感光性树脂组合物的耐爆孔性、耐空泡性及与通孔(以下称为TH)内的铜的密合性和耐裂纹性优异。

Description

碱显影型感光性树脂组合物、其干膜及其固化物以及使用其而形成的印刷电 路板
技术领域
本发明涉及印刷电路板的阻焊剂等的形成中适用的碱显影型的感光性树 脂组合物及其固化物, 特别涉及通过紫外线曝光及用稀碱水溶液显影时可以 形成图像、 尤其是耐爆孔性、 耐空泡性、 及与 TH (through hole) 内的铜的密 合性和耐裂紋性优异、 可得到固化涂膜的碱显影型的感光性树脂组合物与其 固化物, 以及印刷电路板。 背景技术
从高精度、 高密度的观点出发, 现在, 在一部分民用印刷电路板以及几 乎所有工业用印刷电路板的阻焊剂中,使用紫外线曝光后显影从而形成图像、 并通过热及光照射进行完全固化 (主固化) 的液态显影型阻焊剂。 此外, 从 环境问题的顾虑出发, 使用稀碱水溶液作为显影液的碱显影型液态阻焊剂成 为主流。作为这样的使用稀碱水溶液的碱显影型的阻焊剂, 例如, 专利文献 1 所述的由在酚醛清漆型环氧化合物与不饱和单羧酸的反应生成物上加成多元 酸酐而得到的活性能量射线固化性树脂、 光聚合引发剂、 稀释剂及环氧化合 物形成的液态阻焊剂组合物被广泛使用。
然而,例如以直接充填在具有 TH的电路板上的方法使用所述现有的液态 阻焊剂组合物的情况下, 形成的阻焊剂膜有容易出现在焊料整平 (Solder leveller) 时 TH周边浮起的现象 (以下简称为 "空泡 "); 或在后固化、 焊料整 平时充填在 TH内的涂膜溢出的现象 (以下简称为 "爆孔") 的问题。
特别在以中国为首的亚洲地区,用液态阻焊剂组合物充填铜 TH电路板那 样的电路板的全部贯通孔的方式的电路板为主流,需要开发出应对所述空泡、 爆孔的问题的阻焊剂组合物。 众所周知的有例如专利文献 2或专利文献 3所述 的组合使用具有感光性与碱显影性的双酚型树脂、 甲酚酚醛清漆型树脂、 共 聚型树脂而得到的液态阻焊剂组合物。
另一方面, 印刷电路板使用逐年轻薄短小化及具有各种各样的孔径的印 刷电路板。其中若在孔径为 Φ500以上的印刷电路板中使用具有所述耐空泡与 耐爆孔性的阻焊剂组合物则有时发生由 TH内的铜与阻焊剂组合物的界面的 密合性不足而产生裂紋的不良情况。图 1表示出了该不良情况的形状。这样的 不良情况有可能会引发下述新的不良情况: 在焊剂 (flax) 涂布时焊剂容易 进入 TH内, 焊剂回流至焊剂涂布面的相反面, 污染基板表面、 TH内残留焊 剂在后处理即整平时产生膨胀, 因此期望开发出一种耐爆孔性、 耐空泡性、 及与 TH内的铜的密合性和耐裂紋性优异的阻焊剂组合物。
专利文献 1 : 日本特开昭 61-243869号
专利文献 2: 日本特开 2008-116813号
专利文献 3 : 国际公开号 2003-059975号
专利文献 4: 日本特开 2002-256060号 发明内容
技术问题
本发明的目的在于, 提供耐爆孔性、 耐空泡性、 及与 TH内的铜的密合 性和耐裂紋性优异、可以得到固化涂膜的碱显影型的感光性树脂组合物与其 固化物以及印刷电路板。 本发明的主要目的在于, 提供与 TH内的铜的密合 性和耐裂紋性优异、适合于印刷电路板用的阻焊剂组合物的碱显影型的感光 性树脂组合物。
更具体而言, 本发明的目的在于, 提供不仅阻焊剂所要求的耐爆孔性、 耐空泡性优异、 而且在现有技术中不足的与 TH内的铜的密合性和耐裂紋性 优异的感光性树脂组合物。
解决方案
本发明人等为解决所述问题进行反复深入研究, 结果发现, 如下所述的 碱显影型感光性树脂组合物可解决所述问题, 从而完成本发明, 所述碱显影 型感光性树脂组合物的特征在于, 含有 (A) 含羧基树脂、 (B) 光聚合引发 剂、 (C)稀释溶剂、 (D)在一分子中具有两个以上的乙烯性不饱和基团的化 合物及 (E)滑石, 作为 (A)含羧基树脂, 含有使至少一种双酚型环氧化合 物 (a) 与不饱和羧酸 (b) 进行酯化反应而生成的环氧基的酯化生成物与饱 和或不饱和多元酸酐 (c) 反应而得到的含羧基树脂 (A-1 ), 并且 (E) 滑石 的含有率为总量的 10重量%以上且 60重量%以下。
即, 本发明的碱显影型感光性树脂组合物的特征在于, 含有 (A) 含羧 基树脂、 (B) 光聚合引发剂、 (C) 稀释溶剂、 (D) 在一分子中具有两个以 上的乙烯性不饱和基团的化合物及 (E)滑石, 作为 (A)含羧基树脂, 含有 使至少一种双酚型环氧化合物 (a) 与不饱和羧酸 (b) 进行酯化反应生成的 环氧基的酯化生成物与饱和或不饱和多元酸酐(c)反应而得到的含羧基树脂 (A-1 ), 并且 (E) 滑石的含有率为总量的 10重量%以上且 60重量%以下。
此外, 优选为 TH充填用途。
此外, 优选含有除 (E) 滑石以外的 (F) 填料。
此外, 优选含有 (G) 热固化性成分。
此外, 优选涂布在铜上来使用。
此外, 本发明的干膜的特征在于, 是在载体膜上涂布所述碱显影型感光 性树脂组合物并干燥而得到的。
此外, 本发明的固化物的特征在于, 是将如下的涂膜光固化而得到的, 所述涂膜为: 将所述碱显影型感光性树脂组合物涂布在铜上并干燥而得到的 涂膜; 或将该感光性树脂组合物涂布在载体膜上并干燥, 将所得光固化性的 干膜层压在铜上而得到的涂膜。
此外, 本发明的印刷电路板的特征在于, 是将如下的涂膜光固化后进行 热固化而得到的, 所述涂膜为: 将所述碱显影型感光性树脂组合物涂布在基 材上并干燥而得到的涂膜;或将该感光性树脂组合物涂布在载体膜上并干燥, 将所得光固化性的干膜层压在基材上而得到的涂膜。
本发明的感光性树脂组合物的最大的技术特征在于, 作为 (A) 含羧基 树脂, 含有使至少一种双酚型环氧化合物 (a) 与不饱和羧酸 (b) 进行酯化 反应而生成的环氧基的酯化生成物与饱和或不饱和多元酸酐(c)反应而得到 的含羧基树脂 (A-1 ) , 并且 (E) 滑石的含有率为总量的 10重量%以上且 60 重量%以下。
基于这样的本发明的特征构成, 通过使用具有挠性的所述含羧基树脂 (A-1 ) 作为 (A) 含羧基树脂, 并且使 (E) 滑石的含有率为总量的 10重量 %以上且 60重量%以下, 可以使固化物的硬度柔和、 赋予其感光性树脂组合 物柔软性。 其结果, 可以缓和后固化时的感光性树脂组合物固化时的固化收 缩, 并且, 由于该感光性树脂组合物的柔软性, 感光性树脂组合物能够良好 地追随 TH内的铜表面的凹凸地进行固化, 由此可以防止 TH内的铜与感光性 树脂组合物的界面上的裂紋。 此外, 碱显影型感光性树脂组合物的流动性变 良好, 在印刷时向 TH内的埋入性变良好。
与此相对, 现有的具有耐空泡性的阻焊剂组合物虽然可得到耐空泡性, 但是不能充分得到与 TH内的铜的密合性。其理由是, 现有的阻焊剂组合物虽 然含有所述含羧基树脂 (A-1 ) 和 (F ) 填料, 但 (F) 填料通常使用作为矿 物的硬度的尺度的莫氏硬度高的硫酸钡 (莫氏硬度: 3 )、 二氧化硅 (莫氏硬 度: 7)。 莫氏硬度的硬度的尺度使用 1〜10的整数值, 数字越大, 表明矿物的 硬度越高。 由于使用莫氏硬度高的硫酸钡、 二氧化硅, 因此不能赋予所述感 光性树脂组合物充分的柔软性。 其结果, 后固化时的固化收缩的缓和变得不 充分, 难以充分追随 TH内的铜表面的凹凸进行固化, 不能充分地获得和 TH 内的铜的密合性。
如上所述, 上述现有的感光性树脂组合物的充分的柔软性不足, 难以赋 予与 TH内的铜的密合性。 因此, 本发明中, 通过使用莫氏硬度为 1、 在矿物 中为最柔软的矿物之一的 (E) 滑石, 来谋求改善前述的问题。
有益效果
如上所述可知, 利用本发明, 能够提供与 TH内的铜的密合性、耐爆孔性、 耐空泡性及耐裂紋性优异的感光性树脂组合物及其固化物。 附图说明
【图 1】 a为表示 TH的铜和涂膜没有剥离等异常的图。 b为表示 TH的铜和 涂膜剥离的图。
附图标记说明
1 墨
2 铜
3 基材 具体实施方式
以下,对本发明的碱显影型感光性树脂组合物中的各构成成分进行说明。 本发明的碱显影型感光性树脂组合物的特征在于含有 (E) 滑石作为必 需成分, 因此首先对 (E) 滑石进行说明。
(E) 滑石
本发明的碱显影型感光性树脂组合物中所使用的 (E) 滑石是为了提高 与 TH内的铜的密合性与耐裂紋性而使用的。
作为这样的 (E)滑石, 母岩石为碳酸镁、 蛇紋石、 二氧化硅 /二氧化硅- 氧化铝、 镁沉积物中的任一种即可, 为所谓硅酸盐矿物的一种即可, 形状可 以为块状也可以为微粉状。 可以进行表面处理也可以不进行。
这些(E)滑石的配混比率为总量的 10重量%以上且 60重量%以下是合适 的。 不足 10重量%时, 不能充分得到与 TH内的铜的密合性与耐裂紋性, 超过 60重量%时, 碱显影型感光性树脂组合物的流动性变差, 印刷时向 TH内的埋 入性变差, 因此不优选。
(A) 含羧基树脂
首先, 对作为本发明的含羧基树脂 (A) 的、 至少一种双酚型环氧化合 物 (a) 与不饱和羧酸 (b)进行酯化反应生成的环氧基的酯化生成物与饱和 或不饱和多元酸酐 (c) 反应而得到的含羧基树脂 (A-1 ) 进行说明。
作为在这样的含羧基树脂 (A-1 ) 的制造中使用的至少一种双酚型环氧 化合物 (a), 使用在双酚 A型或双酚 F型的醇性羟基上以相对于醇性羟基 1当 量为 1当量以上的量加成表氯醇等表卤代醇而得到的化合物。
作为向所述双酚型环氧化合物的环氧基上加成的不饱和羧酸(b), 可列 举出: 丙烯酸、 丙烯酸的二聚体、 甲基丙烯酸、 (甲基) 丙烯酸羟乙酯、 (甲 基)丙烯酸羟丙酯、 (甲基)丙烯酸羟丁酯、 (甲基)丙烯酸苯基缩水甘油酯、 (甲基) 丙烯酸己内酯加成物等含羟基丙烯酸酯的不饱和二元酸酐加成物 等。 其中特别优选丙烯酸、 甲基丙烯酸。 这些含不饱和基团的单羧酸可以单 独或混合使用。
作为与由所述双酚型环氧化合物与所述不饱和羧酸的酯化反应生成的 酯化物中的醇性羟基反应的饱和或不饱和多元酸酐 (c), 可列举出: 甲基四 氢邻苯二甲酸酐、 四氢邻苯二甲酸酐、 六氢邻苯二甲酸酐、 甲基六氢邻苯二 甲酸酐、 琥珀酸酐、 马来酸酐、 邻苯二甲酸酐、 衣康酸酐等脂肪族或芳香族 二元酸酐。
此外, 这种饱和或不饱和多元酸酐的使用量优选在得到的含羧基树脂 (A- l ) 的酸值为 45~120mgKOH/g的范围内添加。
接着, 作为其他的含羧基树脂 (A) 的具体例子, 优选为以下列举的化 合物 (为低聚物和聚合物中的任一种即可)。
可列举出:
( 1 ) (甲基)丙烯酸等不饱和羧酸与除其以外的具有不饱和双键的一种 以上化合物共聚而得到的含羧基共聚树脂、
(2 ) 在 (甲基) 丙烯酸等不饱和羧酸与除其以外的具有不饱和双键的 一种以上化合物的共聚体中, 利用 (甲基) 丙烯酸缩水甘油酯、 (甲基) 丙 烯酸 3,4-环氧基环己基甲酯等具有环氧基与不饱和双键的化合物、 (甲基)丙 烯酸氯化物等加成乙烯性不饱和基团作为侧链,从而得到的感光性含羧基共 聚树脂、
(3 ) 使 (甲基) 丙烯酸缩水甘油酯、 (甲基) 丙烯酸 3,4-环氧环己基甲 酯等具有环氧基和不饱和双键的化合物与除其以外的具有不饱和双键的化 合物的共聚物与、 (甲基) 丙烯酸等不饱和羧酸反应, 使生成的仲羟基与多 元酸酐反应而得到的感光性含羧基共聚树脂、
(4) 使马来酸酐等具有不饱和双键的酸酐与除其以外的具有不饱和双 键的化合物的共聚物与、 (甲基) 丙烯酸 2-羟乙酯等具有羟基和不饱和双键 的化合物反应而得到的感光性含羧基共聚树脂、
(5 ) 使多官能环氧化合物和不饱和单羧酸反应, 使生成的羟基与饱和 或不饱和多元酸酐反应而得到的含羧基感光性树脂、
(6) 使聚乙烯醇衍生物等含羟基聚合物与饱和或不饱和多元酸酐反应 后, 使生成的羧酸与一分子中具有环氧基和不饱和双键的化合物反应而获得 的含羟基和羧基的感光性的树脂、
(7) 使多官能环氧化合物、 不饱和单羧酸、 以及一分子中具有至少一 个醇性羟基和与环氧基反应的除醇性羟基以外的一个反应性基团的化合物 的反应产物与、 饱和或不饱和多元酸酐反应而得到的含羧基感光性树脂、
( 8 )使一分子中具有至少 2个氧杂环丁垸环的多官能氧杂环丁垸化合物 与不饱和单羧酸反应,使得到的改性氧杂环丁垸树脂中的伯羟基与饱和或不 饱和多元酸酐反应而得到的含羧基感光性树脂、 和
(9 ) 使多官能环氧树脂与不饱和单羧酸反应后, 使多元酸酐反应得到 的含羧基树脂进一步与分子中具有一个环氧乙垸环与一个以上乙烯性不饱 和基团的化合物反应而得到的含羧基感光性树脂等, 但并不限定于这些物 质。
作为这些例示中特别优选的物质, 为所述 (2 )、 (5 )、 (7)、 (9 ) 的含羧 甘 +J+ R匕
柳曰。 需要说明的是, 在本说明书中, (甲基) 丙烯酸酯是统称丙烯酸酯、 甲 基丙烯酸酯及其混合物的术语, 对其他类似的表达也同样。
上述那样的含羧基树脂 (A) 由于在主链聚合物的侧链上具有多个游离 的羧基, 因此可以利用稀碱水溶液进行显影。
另外, 上述含羧基树脂 (A) 的酸值优选为 40~200mgKOH/g的范围, 更 优选为 45~120mgKOH/g的范围。 含羧基树脂的酸值不足 40mgKOH/g时, 难 以碱显影, 另一方面, 超过 200mgKOH/g时, 会促进显影液对曝光部的溶解, 因此, 线变得比所需要的更细, 有时曝光部和未曝光部无区别地被显影液溶 解剥离, 难以描绘正常的抗蚀图案, 故不优选。
此外, 前述含羧基树脂 (A) 的重均分子量根据树脂骨架而不同, 通常 优选为 2000〜 150000、 进一步优选为 5000〜 100000的范围。 重均分子量不足 2000时, 有时向基板的涂布、 干燥后的不粘手性能变差, 此外, 有时曝光后 的涂膜的耐湿性恶化、 显影时产生膜减少、 分辨率大幅变差。 另一方面, 重 均分子量超过 150000时, 有时显影性会显著劣化、 保存稳定性会变差。
这种含羧基树脂 (A) 的配混量理想的是为全部组合物的 20~60质量%的 范围, 优选为 30~50质量%。 含羧基树脂 (A) 的配混量少于所述范围的情况 下, 涂膜强度降低故不优选。 另一方面, 多于所述范围的情况下、 组合物的 粘性变高或涂布性等降低故不优选。
(B ) 光聚合引发剂
作为本发明的碱显影型感光性树脂组合物中可适宜使用的光聚合引发 剂 (B ) , 可列举出:
苯偶姻、 苯偶姻甲醚、 苯偶姻乙醚、 苯偶姻异丙醚等苯偶姻和苯偶姻垸 基醚类;
苯乙酮、 2,2-二甲氧基 -2-苯基苯乙酮、 2,2-二乙氧基 -2-苯基苯乙酮、 1,1- 二氯苯乙酮、 1-[4- (4-苯甲酰基苯基磺酰基) -2-甲基 -2- (4-甲基苯基磺酰基) ] 丙垸 -1-酮等苯乙酮类;
2-甲基 -1-[4- (甲硫基)苯基] -2-吗啉代丙酮 -1、 2-苄基 -2-二甲氨基 -1- (4- 吗啉代苯基) -丁酮 -1等氨基苯乙酮类;
2-甲基蒽醌、 2-乙基蒽醌、 2-叔丁基蒽醌、 1-氯蒽醌等蒽醌类;
2,4-二甲基噻吨酮、 2,4-二乙基噻吨酮、 2-氯噻吨酮、 2,4-二异丙基噻吨 酮等噻吨酮类;
苯乙酮二甲基缩酮、 苯偶酰二甲基缩酮等缩酮类;
二苯甲酮等二苯甲酮类或咕吨酮类;
双 (2,6-二甲氧基苯甲酰基) (2,4,4-三甲基戊基) 氧化膦、 双 (2,4,6-三 甲基苯甲酰基) -苯基氧化膦、 2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、 2,4,6- 三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯等酰基氧化膦类;
各种过氧化物类等, 可以单独或组合使用两种以上这些公知常用的光聚 合引发剂。
作为(B)光聚合引发剂的优选形态,使用 2-甲基 -1-[4- (甲硫基)苯基] -2- 吗啉代丙酮 -1, 作为市售品, 可以列举出: Ciba-Geigy Company制造的 IRGACURE 907等。
对于这些光聚合引发剂 (B) 的配混比例, 相对于 100质量份所述含羧基 树脂 (A) 为 0.01~30质量份是合适的, 优选为 5~25质量份。 光聚合引发剂的 使用量比所述范围少的情况下, 组合物的光固化性变差, 另一方面, 过多的 情况下, 作为阻焊剂的特性降低故不优选。
(C) 有机溶剂
对于本发明的碱显影型感光性树脂组合物中使用的有机溶剂 (C) , 为了 合成前述含羧基树脂 (A)、 制备组合物、 或为了调整粘度以便涂布在基板、 载体膜上, 可使用有机溶剂。
作为这样的有机溶剂, 可列举出: 酮类、 芳香族烃类、 二醇醚类、 二醇 醚乙酸酯类、 酯类、 醇类、 脂肪族烃、 石油系溶剂等。 更具体而言, 为甲乙 酮、 环己酮等酮类; 甲苯、 二甲苯、 四甲苯等芳香族烃类; 溶纤剂、 甲基溶 纤剂、 丁基溶纤剂、 卡必醇、 甲基卡必醇、 丁基卡必醇、 丙二醇单甲醚、 二 丙二醇单甲醚、 二丙二醇二乙醚、 三乙二醇单乙醚等二醇醚类; 醋酸乙酯、 醋酸丁酯、 二丙二醇甲醚乙酸酯、 丙二醇甲醚乙酸酯、 丙二醇乙醚乙酸酯、 丙二醇丁醚乙酸酯等酯类; 乙醇、 丙醇、 乙二醇、 丙二醇等醇类; 辛垸、 癸 垸等脂肪族烃; 石油醚、 石脑油、氢化石脑油、 溶剂石脑油等石油系溶剂等。 上述有机溶剂可以单独使用或以两种以上的混合物的形式使用。
(D) 分子中具有两个以上乙烯性不饱和基团的化合物
本发明的碱显影型感光性树脂组合物中使用的分子中具有两个以上乙 烯性不饱和基团的化合物 (D) 是通过照射活性能量射线进行光固化使前述 含羧基树脂 (A) 不溶于碱水溶液、 或有助于前述含羧基树脂不溶于碱水溶 液的化合物。 作为这样的化合物的具体例子, 可列举出:
丙烯酸 2-羟乙酯、 丙烯酸 2-羟丙酯等丙烯酸羟垸基酯类;
乙二醇、 甲氧基四乙二醇、 聚乙二醇、 丙二醇等二醇的单丙烯酸酯或二 丙烯酸酯类;
Ν,Ν-二甲基丙烯酰胺、 Ν-羟甲基丙烯酰胺、 Ν,Ν-二甲氨基丙基丙烯酰胺 等丙烯酰胺类;
丙烯酸 Ν,Ν-二甲氨基乙酯、丙烯酸 Ν,Ν-二甲氨基丙酯等丙烯酸氨基垸基 酯类;
己二醇、 三羟甲基丙垸、 季戊四醇、 二季戊四醇、 三羟乙基异氰脲酸酯 等多元醇或它们的环氧乙垸加成物或环氧丙垸加成物等的多元丙烯酸酯类; 苯氧基丙烯酸酯、 双酚 Α二丙烯酸酯、 及这些酚类的环氧乙垸加成物或 环氧丙垸加成物等丙烯酸酯类;
甘油二缩水甘油醚、 甘油三缩水甘油醚、 三羟甲基丙垸三缩水甘油醚、 三缩水甘油基异氰脲酸酯等缩水甘油醚的丙烯酸酯类;
及三聚氰胺丙烯酸酯、及与上述丙烯酸酯对应的各甲基丙烯酸酯类的至 少任一种等。
进而, 还可以列举出: 使甲酚酚醛清漆型环氧树脂等多官能环氧树脂与 丙烯酸反应而成的环氧丙烯酸酯树脂、进一步使该环氧丙烯酸酯树脂的羟基 与季戊四醇三丙烯酸酯等羟基丙烯酸酯和异佛尔酮二异氰酸酯等二异氰酸 酯的半氨基甲酸酯(half urethane)化合物反应而成的环氧氨基甲酸酯丙烯酸 酯化合物等。
相对于 100质量份前述含羧基树脂 (A) , 这样的分子中具有两个以上乙 烯性不饱和基团的化合物(D) 的配混量期望为 5~100质量份的比例, 更优选 为 10~70质量份的比例。 所述配混量相对于 100质量份所述含羧基树脂 (A) 不足 5质量份的情况下, 所得到的碱显影型感光性树脂组合物的光固化性降 低, 难以通过活性能量射线照射后的碱显影形成图案, 因此不优选。 另一方 面,超过 100质量份时,对碱水溶液的溶解性降低、固化涂膜变脆,故不优选。
(F) 填料 为了提高耐热性与 TH内的铜的密合性, 本发明的碱显影型感光性树脂 组合物可以使用 (F) 填料。
作为这样的 (F ) 填料, 可列举出: 硫酸钡、 钛酸钡、 氧化硅粉、 球状 二氧化硅、 粘土、 碳酸镁、 碳酸钙、 氧化铝、 氢氧化铝、 玻璃纤维、 碳纤维、 云母粉等公知常用的无机或有机填料。 这样的 (F) 填料可以进行了表面处 理也可以没有进行表面处理。
这样的 (F) 填料的配混比率在总量的 0.01重量%以上且 50重量%以下是 合适的。 不足 0.01重量%时, 不能充分得到与 TH内的铜的密合性与耐热性, 超过 50重量%时, 碱显影型感光性树脂组合物的流动性变差, 在印刷时向 TH 内的埋入性变差, 因此不优选。
(G) 热固化性成分
为了赋予耐热性和耐裂紋性, 本发明中使用的碱显影型感光性树脂组合 物配混分子中具有两个以上反应基团(环状醚基及环状硫醚基中的至少任一 种 (以下简称为环状 (硫) 醚基)) 的热固化性成分 (G)。
热固化性成分 (G) 是分子中具有三元环、 四元环或五元环的环状醚基 或环状硫醚基中的任一种或者两种基团两个以上的化合物,例如,可列举出: 分子内具有至少两个以上环氧基的化合物即多官能环氧化合物 (G-1 ), 分子 内具有至少两个以上氧杂环丁垸基的化合物即多官能氧杂环丁垸化合物 (G-2 ) , 分子内具有至少两个以上硫醚基的化合物即环硫化物树脂 (G-3 ) 等。
作为所述多官能环氧化合物 (G-1 ), 例如, 可列举出: 三菱化学株式会 社制造的 EPICOAT828、 EPICOAT834、 EPICOAT100K EPICOAT1004, DIC 制造的 Epiclon840、 Epiclon850、 Epiclonl050、 Epiclon2055, 东都化成公司制 造的 Epotote YD-011、 YD-013、 YD- 127, YD-128, Dow Chemical Company 制造的 D.E.R.317、 D.E.R.33K D.E.R.661、 D.E.R.664, 住友化学工业公司制 造的 Sumiepoxy ESA-011、 ESA-014、 ELA-115、 ELA-128, 旭化成工业公司 制造的 A.E.R.330、 A.E.R.33K A.E.R.661、 A.E.R.664等 (均为商品名) 双酚 A型环氧树脂; 三菱化学制造的 EPICOAT YL903 , DIC制造的 Epiclonl52、 Epiclonl65 ,东都化成公司制造的 Epotote YDB-400、 YDB-500, Dow Chemical Company制造的 D.E.R.542, 住友化学工业公司制造的 Sumiepoxy ESB-400、 ESB-700, 旭化成工业公司制造的 A.E.R.711、 A.E.R.714等 (均为商品名) 溴 化环氧树脂; 三菱化学株式会社制造的 EPICOAT152、 EPICOAT 154 , Dow Chemical Company制造的 D.E.N.431、 D.E.N.438, DIC制造的 EpiclonN-730、 EpiclonN-770、 EpiclonN-865 , 东都化成公司制造的 Epotote YDCN-701、 YDCN-704 , 日本化药公司制造的 EPPN-201、 EOCN-1025、 EOCN-1020、 EOCN-104S、 RE-306, 住友化学工业公司制造的 Sumiepoxy ESCN-195X, ESCN-220, 旭化成工业公司制造的 A.E.R.ECN-235、 ECN-299等 (均为商品 名) 酚醛清漆型环氧树脂; DIC制造的 EpiclOn830, 三菱化学株式会社制造 EPICOAT807, 东都化成公司制造的 Epotote YDF-170、 YDF-175、 YDF-2004 等 (均为商品名) 双酚 F型环氧树脂; 东都化成公司制造的 Epotote ST-2004、 ST-2007、 ST-3000 (商品名) 等氢化双酚 A型环氧树脂; 三菱化学株式会社 制造的 EPICOAT604, 东都化成公司制造的 Epotote YH-434, 住友化学工业公 司制造的 Sumiepoxy ELM-120等 (均为商品名) 缩水甘油胺型环氧树脂; 乙 内酰脲型环氧树脂; DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.制造的 CelOXide2021等 (均为商品名) 脂环式环氧树脂; 三菱化学株式会社制造的 YL-933 , Dow Chemical Company制造的 Τ·Ε·Ν·、 ΕΡΡΝ-50Κ EPPN-502等(均 为商品名)三羟基苯基甲垸型环氧树脂; 三菱化学株式会社制造的 YL-6056、 YX-4000、 YL-6121 (均为商品名)等联二甲苯酚型或双酚型环氧树脂或它们 的混合物; 日本化药公司制造的 EBPS-200, 旭电化工业公司制造的 EPX-30, DIC制造的 EXA-1514 (商品名) 等双酚 S型环氧树脂; 三菱化学株式会社制 造的 EPICOAT157S (商品名) 等双酚 A酚醛清漆型环氧树脂; 三菱化学株式 会社制造的 EPICOAT YL-931等(均为商品名)四羟苯基乙垸型环氧树脂; 日 产化学工业公司制造的 TEPIC等 (均为商品名) 杂环式环氧树脂; 日本油脂 公司制造的 Blemmer DGT等邻苯二甲酸二缩水甘油酯树脂; 东都化成公司制 造的 ZX-1063等四缩水甘油基二甲苯酚乙垸(tetraglycidyl xylenoyl ethane)树 脂; 新日铁化学公司制造的 ESN-190、 ESN-360 , DIC制造的 HP-4032、 EXA-4750, EXA-4700等含萘基环氧树脂; DIC制造的 HP-7200、 HP-7200H 等具有二环戊二烯骨架的环氧树脂; 日本油脂公司制造的 CP-50S、 CP-50M 等甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚系环氧树脂; 以及环己基马来酰亚胺与甲基丙 烯酸缩水甘油酯的共聚环氧树脂; 环氧改性聚丁二烯橡胶衍生物 (例如 DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.制造的 PB-3600等)、 CTBN改性环氧 树脂(例如东都化成公司制造的 YR-102、 YR-450等)等, 但不限于这些。 这 些环氧树脂可以单独或组合使用两种以上。 在它们中特别优选双酚 A型环氧 树脂或它们的混合物。
作为前述多官能氧杂环丁垸化合物 (G-2 ), 可列举出: 双 [(3-甲基 -3-氧杂 环丁垸基甲氧基)甲基]醚、双 [(3-乙基 -3-氧杂环丁垸基甲氧基)甲基]醚、 1,4- 双 [(3-甲基 -3-氧杂环丁垸基甲氧基) 甲基]苯、 1,4-双 [(3-乙基 -3-氧杂环丁垸基 甲氧基) 甲基]苯、 丙烯酸 (3-甲基 -3-氧杂环丁垸基) 甲酯、 丙烯酸 (3-乙基 -3- 氧杂环丁垸基) 甲酯、 甲基丙烯酸 (3-甲基 -3-氧杂环丁垸基) 甲酯、 甲基丙烯 酸 (3-乙基 -3-氧杂环丁垸基) 甲酯、它们的低聚物或共聚物等多官能氧杂环丁 垸类、 以及氧杂环丁醇与酚醛清漆树脂、聚 (对羟基苯乙烯)、 cardo型双酚类、 杯芳烃类、 间苯二酚杯芳烃 calixresorcinarene ) 类或倍半硅氧垸 (silsesquioxane)等具有羟基的树脂的醚化物等。 另外, 还可列举出具有氧杂 环丁垸环的不饱和单体与 (甲基) 丙烯酸垸基酯的共聚物等。
作为所述分子中具有两个以上环状硫醚基的化合物 (G-3 ), 例如可列举 出: 三菱化学公司制的双酚 A型环硫化物树脂 YL7000等。 另外, 也可以使用 采用同样的合成方法将酚醛清漆型环氧树脂的环氧基的氧原子置换成硫原子 而得到的环硫树脂等。
所述分子中具有两个以上环状 (硫) 醚基的 (G) 热固化性成分的配混 量,相对于所述含羧基树脂(A)的羧基 1当量,优选环状(硫)醚基为 0.6~2.0 当量, 更优选为 0.8~1.5当量的范围。 分子中具有两个以上环状 (硫) 醚基的 热固化性成分 (G) 的配混量不足 0.6的情况下, 阻焊剂膜中残存羧基, 耐热 性、 耐碱性、 电绝缘性等降低, 因此不优选。 另一方面, 超过 2.0当量的情况 下, 由于在干燥涂膜中残存低分子量的环状 (硫) 醚基, 因此涂膜的强度等 降低, 故不优选。
使用所述分子中具有两个以上环状 (硫) 醚基的热固化性成分 (G) 的 情况下, 优选含有热固化催化剂。作为这样的热固化催化剂, 例如可列举出: 咪唑、 2-甲基咪唑、 2-乙基咪唑、 2-乙基 -4-甲基咪唑、 2-苯基咪唑、 4-苯基咪 唑、 1-氰乙基 -2-苯基咪唑、 1- (2-氰乙基) -2-乙基 -4-甲基咪唑等咪唑衍生物; 双氰胺、 苄基二甲胺、 4- (二甲氨基) -N,N-二甲基苄胺、 4-甲氧基 -N,N-二 甲基苄胺、 4-甲基 -N,N-二甲基苄胺等胺化合物; 己二酸二酰肼、 癸二酸二酰 肼等酰肼化合物; 三苯基膦等磷化合物等, 另外, 作为市售品, 例如可列举 出四国化成工业公司制造的 2MZ-A、 2MZ-OK、 2PHZ、 2P4BHZ、 2P4MHZ (均 为咪唑系化合物的商品名:), SAN-APRO公司制造的 U-CAT3503N、 U-CAT3502T(均为二甲胺的封闭异氰酸酯化合物的商品名)、 DBU、 DBN、 U-CATSA102、 U-CAT5002(均为二环式脒化合物及其盐)等。并不特别限定于 这些化合物, 是环氧树脂的热固化催化剂、 氧杂环丁垸化合物的热固化催化 剂、或促进环氧基和氧杂环丁垸基的至少任一种与羧基的反应的催化剂即可, 可以单独使用或混合两种以上使用。 此外, 也可以使用胍胺、 甲基胍胺、 苯 并胍胺、三聚氰胺、 2,4-二氨基 -6-甲基丙烯酰氧基乙基-均三嗪、 2-乙烯基 -2,4- 二氨基-均三嗪、 2-乙烯基 -4,6-二氨基-均三嗪 ·异氰脲酸加成物、 2,4-二氨基 -6-甲基丙烯酰氧基乙基-均三嗪 ·异氰脲酸加成物等均三嗪衍生物,优选将这 些还作为密合性赋予剂起作用的化合物与前述热固化催化剂组合使用。
其他成分
本发明的碱显影型感光性树脂组合物可以根据需要进一步配混酞菁 ·蓝、 酞菁 ·绿、 碘 ·绿、 双偶氮黄、 结晶紫、 氧化钛、 炭黑、 萘蓝黑等公知常用 的着色剂, 氢醌、 氢醌单甲基醚、 叔丁基儿茶酚、 连苯三酚、 吩噻嗪等公知 常用的热阻聚剂,微粉二氧化硅、有机膨润土、蒙脱土等公知常用的增稠剂, 有机硅系、 氟系、 高分子系等消泡剂及平流剂的至少任一种, 咪唑系、 噻唑 系、 三唑系等密合性赋予剂、 硅垸偶联剂等公知常用的添加剂类。
在形成印刷电路板的阻焊剂时使用本发明的碱显影型感光性树脂组合 物的情况下, 根据需要调整至与涂布方法适应的粘度后, 通过丝网印刷法、 帘幕印刷法、 喷涂法、 辊涂法等方法将其涂布在例如在预先形成有电路的印 刷电路板上, 根据需要例如通过以约 60~100°C的温度进行干燥处理, 可形成 不粘手的涂膜。 然后, 透过形成有规定的曝光图案的光掩模, 选择性地利用 活性光线进行曝光, 通过碱性水溶液显影未曝光部, 可以形成抗蚀图案, 进 而, 例如通过加热至约 140~180°C的温度使其热固化, 从而可以促进所述热 固化性成分的固化反应和感光性树脂成分的聚合, 提高得到的抗蚀覆膜的耐 热性、 耐溶剂性、 耐酸性、 耐吸湿性、 PCT耐受性、 密合性、 电特性等各种 特性。
作为上述显影时使用的碱水溶液, 可以使用氢氧化钾、 氢氧化钠、 碳酸 钠、 碳酸钾、 磷酸钠、 硅酸钠、 氨、 胺类等的碱水溶液。 此外, 作为用于光 固化的照射光源, 低压汞灯、 中压汞灯、 高压汞灯、 超高压汞灯、 半导体激 光器、 固体激光、 氙气灯或金属卤化物灯等是合适的。
实施例 基于实施例及比较例更详细地对本发明进行说明,但本发明的保护范围 及其实施方式并不限定于这些。 实施例及比较例中的 "份"或"% "若无特别说 明则为重量基准。通过以下叙述的方法, 进行本实施例的组合物的性状值试 验。
合成例 1
向具备气体导入管、 搅拌装置、 冷凝管、 温度计、 及连续滴加用的滴液 漏斗的反应容器中投入羧酸当量 86g/当量的 1,4-环己垸二羧酸 86份与双酚 A 型环氧树脂 (三菱化学公司制造、 EPICOAT 828、 环氧当量 189g/当量) 378 份, 在氮气气氛下, 在搅拌下在 110°C下使其溶解。 然后, 添加 0.3份三苯基 膦, 将反应容器内的温度升温至 150°C, 一边保持温度在 150°C, 一边反应约 90分钟,得到环氧当量 464g/当量的环氧化合物。接着将烧瓶内的温度冷却至 40°C, 添加 390份卡必醇醋酸酯, 加热溶解, 添加 0.46份甲基氢醌和 1.38份三 苯基膦, 加热至 95~105°C, 缓慢滴加 72份丙烯酸, 使其反应 16小时。 将该反 应生成物冷却至 80~90°C, 添加 190份四氢邻苯二甲酸酐, 使其反应 8小时。 如此操作得到的含羧基感光性树脂的不挥发成分为 65%, 固体成分的酸值为 100mgKOH/g。 以下将该树脂溶液称为清漆 A。
合成例 2
向具有搅拌器及回流冷凝管的四口烧瓶中投入 214份甲酚酚醛清漆型环 氧树脂 EPICLON N-695 (DIC制造、环氧当量 =214), 添加 103份卡必醇醋酸 酯、 103份石油系烃溶剂(Japan Energy Corporation制造 商品名: Cactus Fines SF-01 ) 加热溶解。 接着, 添加作为阻聚剂的 0.1份氢醌和作为反应催化剂的 2.0份三苯基膦。将该混合物加热至 95~105°C, 缓慢滴加 72份丙烯酸, 使其反 应 16小时。将得到的反应生成物冷却至 80~90°C,添加 91.2份四氢邻苯二甲酸 酐使其反应 8小时, 冷却后取出。 如此操作得到的含羧基光聚合性不饱和化 合物的不挥发成分为 65%, 固体成分的酸值为 87.5mgKOH/g。 以下, 将该反 应生成物的溶液称为清漆 B。
使用所述合成例 1-2的含羧基树脂溶液(清漆 A、 清漆 B、), 以表 1中所示 的各种成分和比例(质量份)配混, 用搅拌机预混合后, 用 3辊磨混炼, 制备 碱显影型感光性树脂组合物。 在此, 用 ERICHSEN公司制造的粒度测定仪进 行粒度测定, 对得到的碱显影型感光性树脂组合物的分散度进行评价, 结果 为 15μηι以下。
1
Figure imgf000021_0002
Figure imgf000021_0001
性能评价:
(1) 耐爆孔性
向 Φ0.5、 0.8mmt的基板中充填上述实施例 1-4及比较例 1-3的各碱显影型 感光性树脂组合物后, 进行光固化与热固化而得到固化的涂膜, 根据 JIS C6481的试验方法,使用松香系及水溶性焊剂将上述涂膜浸渍在 288°C的焊料 浴中 10秒 3次。 然后目视观察 TH部分的涂膜状态。 评价基准如下所示。
ο: Φ500的 TH500孔中涂膜完全没有突出
Δ: Φ500的 TH500孔中涂膜的突出不足 5个
: Φ500的 TH500孔中涂膜的突出为 5个以上
(2) 耐空泡性
向 Φ0.5、 0.8mmt的基板中充填上述实施例 1-4及比较例 1-3的各碱显影型 感光性树脂组合物后, 进行光固化与热固化而得到固化的涂膜, 根据 JIS C6481的试验方法,使用松香系及水溶性焊剂将上述涂膜浸渍在 288°C的焊料 浴中 10秒 3次。 然后进行胶带剥离, 确认 TH周边的剥离状态。 评价基准如下 所示。
ο : Φ 500的 TH500孔中完全没有产生空泡
Δ : Φ 500的 TH500孔中产生不足 5个空泡
: Φ 500的 TH500孔中产生 5个以上空泡
(3 ) 与 TH内的铜的密合性
向 Φ0.5、 0.8mmt的基板中充填上述实施例 1-4及比较例 1-3的各碱显影型 感光性树脂组合物后, 进行光固化与热固化, 形成固化涂膜。 然后用光学显 微镜确认基板的剖面状态。 评价基准如下所示。 图中示出了剖面形状的示意 图。
ο : TH的铜与涂膜没有剥离等异常
X: TH的铜与涂膜剥离
(4) 耐裂紋性
向 Φ0.5、 0.8mmt的基板中充填所述实施例 1-4及比较例 1-3的各碱显影型 感光性树脂组合物后, 进行光固化与热固化, 形成固化涂膜。 然后用光学显 微镜观察 TH部分的涂膜状态。 评价基准如下所示。
ο : Φ 500的 TH500孔中完全没有裂紋
Δ : Φ 500的 TH500孔中产生不足 5个裂紋
: Φ 500的 TH500孔中产生 5个以上裂紋 实施例 实施例 实施例 实施例 比较例 比较例 比较例
1 2 3 4 1 2 3
: E ) 滑石含有率 18% 18% 11% 36% 6% 18% 0% 与 TH内的铜的密合性 〇 〇 〇 〇 X 〇 X 耐爆孔性 〇 Δ 〇 Δ 〇 X Δ 耐空泡性 〇 〇 〇 Δ Δ X Δ 耐裂纹性 〇 〇 〇 Δ 〇 Δ X 由以上可知, 通过调整为实施例 1-4的组成, 可以得到耐爆孔性、 耐空泡 性、及与 TH内的铜的密合性和耐裂紋性优异的感光性树脂组合物。与此相对, 比较例 1中, 由于 (E)滑石的含有率低而密合性不充分, 其结果, 不能得到 与 TH内的铜的密合性。 比较例 2中, 虽然(E)滑石的含有率充分, 但不含有 含羧基树脂 (A-1 ), 因此柔软性不充分, 其结果, 不能得到耐爆孔性、 耐空 泡性。 比较例 3中, 由于不含有(E)滑石而密合性与柔软性不充分, 其结果, 不能得到与 TH内的铜的密合性和耐裂紋性。

Claims

权 利 要 求 书
1. 一种碱显影型感光性树脂组合物, 其特征在于, 含有 (A)含羧基树 脂、 (B) 光聚合引发剂、 (C) 稀释溶剂、 (D) 在一分子中具有两个以上乙 烯性不饱和基团的化合物及 (E) 滑石, 作为 (A) 含羧基树脂, 含有使至 少一种双酚型环氧化合物 (a) 与不饱和羧酸 (b)进行酯化反应而生成的环 氧基的酯化生成物与饱和或不饱和多元酸酐 (c) 反应而得到的含羧基树脂
(A-1 ), 并且 (E) 滑石的含有率为总量的 10重量%以上且 60重量%以下。
2. 根据权利要求 1所述的碱显影型感光性树脂组合物, 其特征在于, 其 用于通孔 (TH) 充填用途。
3. 根据权利要求 1所述的碱显影型感光性树脂组合物, 其特征在于, 其 含有除 (E) 滑石以外的 (F) 填料。
4. 根据权利要求 1所述的碱显影型感光性树脂组合物, 其特征在于, 其 含有 (G) 热固化性成分。
5. 根据权利要求 1所述的碱显影型感光性树脂组合物, 其特征在于, 其 涂布在铜上来使用。
6. 一种光固化性的干膜, 其特征在于, 其是将权利要求 1~5的任一项所 述的碱显影型感光性树脂组合物涂布在载体膜上并干燥而得到的。
7. 一种固化物, 其特征在于, 其是将如下的涂膜光固化而得到的, 所述 涂膜为: 将权利要求 1~5的任一项所述的碱显影型感光性树脂组合物涂布在 铜上并干燥而得到的涂膜; 或将该感光性树脂组合物涂布在载体膜上并干 燥, 将所得光固化性的干膜层压在铜上而得到的涂膜。
8. —种印刷电路板, 其特征在于, 其具备将如下的涂膜光固化后进行 热固化而得到的固化物, 所述涂膜为: 将权利要求 1~5的任一项所述的碱显 影型感光性树脂组合物涂布在基材上并干燥而得到的涂膜;或将该感光性树 脂组合物涂布在载体膜上并干燥,将所得光固化性的干膜层压在基材上而得 到的涂膜。
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