WO2013191285A1 - 赤外線反射機能付き透光性基板 - Google Patents

赤外線反射機能付き透光性基板 Download PDF

Info

Publication number
WO2013191285A1
WO2013191285A1 PCT/JP2013/067130 JP2013067130W WO2013191285A1 WO 2013191285 A1 WO2013191285 A1 WO 2013191285A1 JP 2013067130 W JP2013067130 W JP 2013067130W WO 2013191285 A1 WO2013191285 A1 WO 2013191285A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
infrared
substrate
reflective
translucent substrate
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/067130
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
徳寿 小阪
潤一 藤澤
大森　裕
Original Assignee
日東電工株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=49768876&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=WO2013191285(A1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 日東電工株式会社 filed Critical 日東電工株式会社
Priority to EP13807056.0A priority Critical patent/EP2865519B1/en
Priority to JP2014521527A priority patent/JP6326368B2/ja
Priority to CN201380033062.6A priority patent/CN104411486B/zh
Priority to US14/409,925 priority patent/US9477023B2/en
Priority to ES13807056.0T priority patent/ES2639557T3/es
Priority to KR1020157001035A priority patent/KR102041003B1/ko
Publication of WO2013191285A1 publication Critical patent/WO2013191285A1/ja

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/16—Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/20—Inorganic coating
    • B32B2255/205—Metallic coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
    • B32B2307/304—Insulating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/414—Translucent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/416—Reflective
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/584—Scratch resistance
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2419/00—Buildings or parts thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2605/00—Vehicles

Definitions

  • the present invention relates to a light-transmitting substrate with an infrared reflection function having high reflectivity in the infrared light region.
  • an infrared reflecting film having a function of reflecting infrared rays is widely known.
  • Such an infrared reflecting film is mainly used for suppressing the thermal effect of the emitted sunlight (sunlight).
  • this type of infrared reflective film is attached to a light-transmitting substrate such as glass or a transparent resin plate installed in an automobile, a railroad, a house, etc., so that infrared rays incident on the room through the light-transmitting substrate ( In particular, near infrared rays) are shielded. Thereby, the temperature rise in the room is suppressed.
  • the infrared reflective film described in Patent Document 1 has an aluminum vapor-deposited layer having a visible light transmittance of 15 to 75% on one surface of a polyester film and a hard coat layer made of a resin that is cured by ultraviolet rays or electron beams. It is the laminated film which laminated
  • the infrared reflective film described in Patent Document 2 is cured with a metal thin film layer having a visible light transmittance of at least 70% on one surface of a thermoplastic resin film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film and heat or ultraviolet rays.
  • a thermoplastic resin film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film and heat or ultraviolet rays.
  • PET biaxially stretched polyethylene terephthalate
  • Is a laminated film in which a hard coat layer made of resin is sequentially laminated and an acrylic pressure-sensitive adhesive is provided on the other surface, and the laminated film is affixed to a window glass so that it is included in sunlight by the metal thin film layer. Infrared rays are reflected.
  • the solar radiation includes electromagnetic waves having a plurality of wavelengths from the ultraviolet region to the infrared region, but the solar radiation includes only electromagnetic waves up to the near infrared region having a wavelength of about 2500 ⁇ m in the infrared region, and the wavelength is 2500 ⁇ m. It is known that electromagnetic waves in the far-infrared region exceeding are hardly included. Therefore, green glass or smoke glass that absorbs and / or reflects solar radiation is used for the window glass, or a thermal barrier film is laminated on the indoor side of the glass to suppress the incidence of solar radiation into the room. It was thought that a sufficient reduction in cooling load could be obtained. However, there is a problem that it is difficult to sufficiently reduce the indoor cooling load only by using the glass or the heat shielding film.
  • the glass has a high solar absorptivity, so it absorbs near-infrared electromagnetic waves contained in solar radiation and suppresses the incidence of solar radiation (near infrared) into the room, while the glass itself is It is conceivable that the temperature rises due to near infrared rays.
  • the amount of solar radiation can be suppressed by laminating a thermal barrier film on the indoor side of the glass, but since the emissivity of the indoor surface is high, the re-radiation of far infrared rays from the glass to the indoor side is suppressed. It is considered that the room temperature rises due to the effect of re-radiant heat.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, it is possible to suppress the re-radiation heat entering the indoor side by re-radiation from the translucent substrate layer having a high solar absorptance, and to suppress an increase in the indoor temperature, Another object of the present invention is to provide a light-transmitting substrate with an infrared reflecting function that can have good durability (scratch resistance).
  • the translucent substrate with an infrared reflecting function includes a translucent substrate layer disposed so as to separate the room from the outside, and an infrared reflecting function laminated on the surface of the translucent substrate layer on the indoor side.
  • the solar radiation absorptivity of the translucent substrate layer is 30% or more
  • the infrared reflection functional layer includes a reflection layer for reflecting infrared rays, and a protective layer laminated on the indoor surface of the reflection layer.
  • the vertical emissivity of the surface on the protective layer side is 0.50 or less.
  • the solar radiation transmittance is reduced by the infrared reflection functional layer. Therefore, it is possible to suppress sunlight (near infrared rays) that is directly incident on the room from the outside through the light-transmitting substrate layer. Further, when sunlight (near infrared rays) incident from the outside toward the room reaches the light transmissive substrate layer disposed so as to separate the room from the room, the light is transmitted through and reflected by the light transmissive substrate layer. Alternatively, the light-transmitting substrate layer is absorbed.
  • the temperature of the translucent substrate layer increases accordingly.
  • the temperature of the reflective layer and the protective layer also rises due to conduction heat from the translucent substrate layer, and the temperature of the reflective layer and the protective layer becomes substantially the same temperature as the translucent substrate layer. Become. If it does so, far infrared rays will be re-radiated toward the room
  • the infrared reflective functional layer includes a protective layer, the reflective layer having low scratch resistance is not exposed and can have good durability (scratch resistance).
  • the spectral reflectance ⁇ n is measured in the wavelength range of 5 to 50 ⁇ m of room temperature thermal radiation.
  • the wavelength region of 5 to 50 ⁇ m is the far infrared region, and the vertical emissivity decreases as the reflectance in the far infrared wavelength region increases.
  • Another translucent substrate with an infrared reflecting function is disposed so as to separate the room from the outside, and the translucent substrate layer having a visible light transmittance of 50% or more, and the translucency
  • An infrared reflection functional layer that is laminated on the indoor surface of the substrate layer and has a visible light transmittance of 50% or less, and the solar radiation absorption rate of the translucent substrate layer is 30% or more, and the infrared reflection function
  • the layer includes a reflective layer for reflecting infrared rays and a protective layer laminated on a surface on the indoor side of the reflective layer, and a vertical emissivity of the infrared reflective functional layer on the protective layer side surface is 0.50. It is as follows.
  • a translucent substrate layer having a visible light transmittance of 50% or more is used for the translucent substrate with an infrared reflection function having the above-described configuration. Therefore, although the visible light transmittance is lower than the translucent substrate layer of the translucent substrate with an infrared reflecting function of less than 50%, the translucent substrate layer itself has a lower solar absorptance, but the translucent substrate layer itself. The solar transmittance of is increased. So, according to the translucent board
  • an infrared reflective functional layer on the translucent substrate layer, the solar absorptance increases, but reradiant heat from far infrared rays reradiated from the translucent substrate layer to the indoor side is suppressed. Therefore, the temperature rise in the room can be suppressed.
  • an infrared reflective functional layer with a low visible light transmittance is laminated on a light transmissive substrate layer with a high visible light transmittance, it is difficult to see the room from the outside through the light transmissive substrate layer, for example, providing privacy protection can do.
  • the infrared reflecting functional layer is preferably an infrared reflecting film attached to a surface on the indoor side of the translucent substrate layer. According to such a configuration, since the translucent substrate layer and the infrared reflective functional layer can be formed separately, the infrared reflective functional layer is installed in a general automobile, railway, house, etc. It can be applied to a conductive substrate and has high versatility.
  • the translucent substrate layer is preferably a glass or a resin substrate.
  • the protective layer includes a hard coat layer laminated on the reflective layer. According to such a configuration, the hard coat layer imparts scratch resistance to the protective layer.
  • the light transmissive substrate with an infrared reflecting function according to the present invention, re-radiation heat entering the indoor side by re-radiation from the light transmissive substrate layer having a high solar absorptivity is suppressed, and the indoor temperature is increased. It is possible to achieve an excellent effect of being able to be suppressed and having good durability (abrasion resistance).
  • substrate with an infrared reflective function which concerns on this embodiment is formed for the purpose of heat insulation and heat insulation.
  • the translucent substrate with an infrared reflecting function is laminated on a translucent substrate layer 10 disposed so as to separate the room from the outdoor, and on the indoor surface of the translucent substrate layer 10.
  • the thickness of the translucent substrate layer 10 is shown smaller than the actual thickness with respect to the thickness of the infrared reflective functional layer 20.
  • the solar absorptivity of the translucent substrate layer 10 according to the present embodiment is 30% or more.
  • green glass, smoked glass, or the like having high solar absorptance is employed.
  • green glass, smoked glass or the like is employed as the translucent substrate layer 10, but is not limited thereto, and may be a resin substrate such as resin glass, for example.
  • the solar radiation absorption rate may be 30% or more, but may be 40% or more, or 50% or more, for example.
  • the infrared reflective functional layer 20 is an infrared reflective film that is laminated (attached) to the indoor surface of the translucent substrate layer 10.
  • the infrared reflection functional layer 20 includes a reflection layer 22 for reflecting infrared rays, and a protective layer 23 laminated on the indoor side surface of the reflection layer 22. More specifically, the infrared reflective functional layer 20 has a layer structure in which a reflective layer 22 and a protective layer 23 are laminated in that order on one surface 21a of a base material 21, and an adhesive layer 24 is provided on the other surface 21b. It has become.
  • the vertical emissivity of the surface of the infrared reflecting functional layer 20 on the protective layer 23 side is set to 0.50 or less based on the experimental results described later.
  • the vertical emissivity of the surface of the infrared reflection functional layer 20 on the protective layer 23 side is preferably 0.40 or less, more preferably 0.30 or less.
  • a polyester film is used as the substrate 21 .
  • a film made of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexylene methylene terephthalate, or a mixed resin in which two or more of these are combined is used.
  • a polyethylene terephthalate (PET) film is preferable from the viewpoint of performance, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film is particularly preferable.
  • the reflection layer 22 is a vapor deposition layer formed on the surface (one surface) 21a of the base material 21 by vapor deposition.
  • the method for forming the vapor deposition layer include physical vapor deposition (PVD) such as sputtering, vacuum vapor deposition, and ion plating.
  • PVD physical vapor deposition
  • the reflective layer 22 is formed on the base material 21 by heating and evaporating the vapor deposition material by a method such as resistance heating, electron beam heating, laser beam heating, arc discharge or the like in vacuum.
  • Ion plating is a vapor deposition method that combines vacuum vapor deposition and sputtering. In this method, in a vacuum, the evaporation layer released by heating is ionized and accelerated in an electric field, and is deposited on the substrate 21 in a high energy state, whereby the reflective layer 22 is formed.
  • the reflective layer 22 has a multilayer structure in which a semi-transparent metal layer 22a is sandwiched between a pair of transparent layers 22b and 22c.
  • the reflective layer 22 is formed by depositing the transparent layer 22b on the surface (one surface) 21a of the substrate 21, and then forming the translucent metal layer 22a on the transparent layer 22b. Finally, a transparent layer 22c is deposited on the semitransparent metal layer 22a.
  • Examples of the material for forming the translucent metal layer 22a include aluminum (Al), silver (Ag), silver alloys (MgAg, APC (AgPdCu), AgCu, AgAuCu, AgPd, AgAu, etc.), aluminum alloys (AlLi, AlCa, AlMg or the like) or a metal material in which two or more of these are combined is used.
  • the translucent metal layer 22a may be formed in two or more layers using these metal materials.
  • the transparent layers 22b and 22c are for imparting transparency to the reflective layer 22 and preventing the translucent metal layer 22a from deteriorating.
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium titanium oxide
  • oxidized Oxides such as indium zinc (IZO), gallium zinc oxide (GZO), aluminum zinc oxide (AZO), and gallium indium oxide (IGO) are used.
  • the protective layer 23 includes a resin layer 23a laminated on the reflective layer 22 and a hard coat layer 23b formed on the resin layer 23a, and is adhered to the reflective layer 22 using an adhesive. That is, the protective layer 23 has a multilayer structure including an adhesive layer 23c, a resin layer 23a, and a hard coat layer 23b in order from the reflective layer 22 side, and the hard coat layer 23b is an infrared reflective functional layer according to this embodiment. 20 surfaces (outermost layers).
  • the resin layer 23a for example, an olefin film is used, and as the olefin film, for example, high density polyethylene obtained by singly or copolymerizing ethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene, propylene alone or A film made of copolymerized polypropylene, polymethylpentene, or a mixed resin in which two or more of these are combined is used.
  • the resin layer 23a is preferably a polypropylene (PP) film, and particularly preferably a biaxially oriented polypropylene (OPP) film.
  • the thickness of the resin layer 23a is preferably 5 to 30 ⁇ m.
  • the resin layer 23a may be a layer having a cross-linked structure of polymers including the repeating unit A represented by the following chemical formula I.
  • the resin layer 23a is preferably a layer containing a polymer containing at least any two or more of repeating units A, B and C represented by the following chemical formula II.
  • R1 in Chemical Formula II H or a methyl group can be used.
  • R2 to R5 in Chemical Formula II H and an alkyl group or alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms can be used.
  • hydrogenated nitrile rubber (HNBR) is composed of repeating units A, B and C, and H is used as R1 to R5.
  • the repeating number k is preferably 10 to 1000.
  • acrylonitrile (repeating unit D) and derivatives thereof as shown in Chemical Formula III
  • alkyl having 4 carbon atoms (repeating unit E) and derivatives thereof
  • butadiene And a copolymer of the repeating unit F1 or F2) and derivatives thereof.
  • R6 represents H or a methyl group
  • R7 to R18 represent H or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • F1 and F2 represents a repeating unit in which butadiene is polymerized, and F1 is a main repeating unit.
  • nitrile rubber or nitrile rubber which is a copolymer of acrylonitrile (repeating unit D) and its derivatives of formula III, 1,3-butadiene (repeating unit F1) and its derivatives.
  • Hydrogenated nitrile rubber in which part or all of the double bond is hydrogenated may be used.
  • the butadiene on the left side is bonded to the side to which the cyano group (—CN) of acrylonitrile is bonded, and the butadiene on the right side is formed to the side to which the cyano group (—CN) of acrylonitrile is not bonded.
  • one repeating unit A, one repeating unit B, and two repeating units C are included.
  • the repeating unit A includes a carbon atom in which the carbon atom on the right side of the butadiene on the left side is bonded to the cyano group (—CN) of acrylonitrile, and the repeating unit B is bonded to the cyano group (—CN) of acrylonitrile.
  • the resin layer 23a is prepared by dissolving the above-described polymer in a solvent (with a crosslinking agent if necessary), preparing a solution, applying the solution on the reflective layer 22, and then drying the solution (solvent Is volatilized).
  • a configuration in which the protective layer 23 does not have an adhesive layer may be employed.
  • the solvent is a solvent in which the above-described polymer is soluble.
  • a solvent such as methyl ethyl ketone (MEK) or methylene chloride (dichloromethane) is used.
  • Methyl ethyl ketone and methylene chloride are low boiling point solvents (methyl ethyl ketone is 79.5 ° C., methylene chloride is 40 ° C.). Therefore, when these solvents are used, since the solvent can be volatilized at a low drying temperature, the base material 21 (or the reflective layer 22) is not damaged by heat.
  • the thickness of the resin layer 23a is 1 ⁇ m or more as a lower limit. Preferably, it is 3 ⁇ m or more. Moreover, as an upper limit, it is 20 micrometers or less. Preferably, it is 15 ⁇ m or less. More preferably, it is 10 ⁇ m or less. If the thickness of the resin layer 23a is small, the infrared reflection characteristics are enhanced, but the scratch resistance is impaired, and the function as the protective layer 23a cannot be sufficiently exhibited. When the thickness of the resin layer 23a is large, the heat insulating property of the infrared reflective film is deteriorated. If the thickness of the resin layer 23a is within the above range, the resin layer 23a that can absorb the infrared rays and can appropriately protect the reflective layer 22 is obtained.
  • L: m 5 to 25:60 to 90: 0 to 20 is more preferable
  • k: l: m 15 to 25:65 to 85: 0 to 10 is more preferable.
  • the resin layer 23a preferably has a cross-linked structure between polymers. Since the solvent resistance of the resin layer 23a is improved by cross-linking the polymers, the resin layer 23a is prevented from being eluted even when a solvent soluble in the polymer contacts the resin layer 23a. can do.
  • the cumulative irradiation dose of the electron beam is 50 kGy or more as a lower limit value. Preferably, it is 100 kGy or more. More preferably, it is 200 kGy or more. Moreover, as an upper limit, it is 1000 kGy or less. Preferably, it is 600 kGy or less. More preferably, it is 400 kGy or less.
  • the cumulative irradiation dose refers to the irradiation dose when the electron beam is irradiated once, and the total irradiation dose when the electron beam is irradiated a plurality of times.
  • the single irradiation dose of the electron beam is preferably 300 kGy or less. If the integrated irradiation dose of the electron beam is within the above range, sufficient crosslinking between the polymers can be obtained. Moreover, if the integrated irradiation dose of the electron beam is within the above range, yellowing of the polymer and the substrate 1 generated by the electron beam irradiation can be minimized, and an infrared reflective film with less coloring can be obtained. Can do.
  • These electron beam irradiation conditions are irradiation conditions at an acceleration voltage of 150 kV.
  • a crosslinking agent such as a polyfunctional monomer such as a radical polymerization type monomer when the polymer is dissolved in the solvent or after the polymer is dissolved in the solvent.
  • a polyfunctional monomer such as a radical polymerization type monomer
  • radical polymerization monomers of (meth) acrylate monomers are preferred.
  • the accumulated irradiation dose of the electron beam can be completed with a low irradiation dose. Moreover, since the cumulative irradiation dose of the electron beam is reduced, yellowing of the polymer and the substrate 21 can be further suppressed, and productivity can be improved.
  • the amount of the additive added increases, the vertical emissivity of the surface of the infrared reflecting film on the resin layer 23a side (based on the reflective layer 22) deteriorates.
  • the amount of the additive added is preferably 1 to 35% by weight with respect to the polymer. More preferably, it is 2 to 25% by weight based on the polymer.
  • the hard coat layer 23b has transparency similar to the base material 21 and the resin layer 23a, and also has scratch resistance to prevent the surface from being scratched and scratched during cleaning and the like to reduce transparency.
  • the hard coat layer 23b is not particularly limited as long as it exhibits sufficient scratch resistance (hardness) such as an ionizing radiation curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin.
  • the hard coat layer 23b is preferably an ionizing radiation curable resin such as an ultraviolet curable resin that is easy to form and easily increases the pencil hardness to a desired value.
  • an ultraviolet curable acrylic-urethane hard coat is used as the ionizing radiation curable resin.
  • the hard coat layer 23b is formed using an ionizing radiation curable resin
  • the ionizing radiation curable resin is diluted as it is or with an organic solvent to an appropriate concentration, and the resulting solution is coated on the resin layer 23a with a coater.
  • the hard coat layer 23b is formed by irradiating with ionizing radiation irradiation lamps for several seconds to several minutes.
  • an organic solvent solution of the thermosetting resin is applied onto the resin layer 23a with a coating machine (coater), a release sheet is provided thereon, and a laminator or the like is provided. After deaeration, perform thermosetting and thermocompression bonding.
  • the release sheet is not used, the hard coat layer 23b is formed by putting a drying step and evaporating the solvent before drying and heating so that the surface does not stick.
  • the thickness of the hard coat layer 23b is preferably 0.5 to 10 ⁇ m.
  • the adhesive layer 23c is formed using a polyester-based adhesive. And after forming the hard coat layer 23b on the olefin film used as the resin layer 23a, the polyester adhesive is apply
  • the thickness of the adhesive layer 23c is preferably 0.1 to 1.5 ⁇ m.
  • the translucent substrate with an infrared reflection function employs a two-layer structure of the resin layer 23 a and the hard coat layer 23 b as the protective layer 23.
  • the hard coat layer 23b does not have better adhesion to the reflective layer 22 than the resin layer 23a (more precisely, the adhesive layer 23c). Accordingly, when the hard coat layer 23b is directly laminated on the reflective layer 22 without the resin layer 23a, water or the like enters from the interface between the reflective layer 22 and the hard coat layer 23b, and the reflective layer 22 deteriorates. It is assumed that the scratch resistance is impaired. However, since the hard coat layer 23b is formed through the resin layer 23a in the translucent substrate with an infrared reflection function according to the present embodiment, there is no such concern.
  • the solar light transmittance is reduced by the infrared reflecting function layer 20, so that the light passes through the light-transmitting substrate layer 10 from the outside to the room.
  • Directly incident sunlight can be suppressed.
  • the translucent substrate layer 10 is transmitted, reflected, or absorbed by the translucent substrate layer 10. Will come to be.
  • the infrared reflective functional layer 20 includes the protective layer 23, the reflective layer 22 having low scratch resistance is not exposed and can have good durability (scratch resistance).
  • the inventors produced a light-transmitting substrate with an infrared reflecting function according to the above embodiment (Examples 1 to 4), and also produced a light-transmitting substrate with an infrared reflecting function for comparison.
  • Examples 1 to 3 The production methods in Examples 1 to 3 are as follows. First, the reflective layer 22 is laminated on one surface 21a of the base material 21 by the DC magnetron sputtering method. Specifically, first, a transparent layer 22b is laminated on one surface 21a of the substrate 21 by a DC magnetron sputtering method, then a semi-transparent metal layer 22a is laminated by a DC magnetron sputtering method, and then DC magnetron sputtering.
  • the transparent layer 22c is laminated by the method. Further, a hard coat agent is applied to the surface of the resin layer 23a (“acryl-urethane hard coat PC1097” manufactured by DIC) and cured by irradiating with ultraviolet rays to form the hard coat layer 23b. Then, a polyester-based adhesive is applied to the opposite surface of the resin layer 23a, and the laminate of the resin layer 23a / hard coat layer 23b is bonded to the surface of the reflective layer 22 via the adhesive layer 23c. Thus, the infrared reflective functional layer 20 was produced. The produced infrared reflective functional layer 20 was laminated on the translucent substrate layer (green glass) 10 via an adhesive layer to produce a translucent substrate with an infrared reflective function. Conditions such as the composition / component and thickness of each layer are shown in Table 1 below.
  • Comparative Example 1 the manufacturing method in Comparative Example 1 is as follows. A PET layer was provided on the hard coat layer 23b of the infrared reflective functional layer 20 produced by the above production method via an adhesive layer. And the produced infrared reflective function layer 20 is laminated
  • Example 1 A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 ⁇ m was used as the base material 21. Further, a transparent layer 22b made of indium tin oxide (ITO) is formed on the substrate 21 with a thickness of 35 nm, and a translucent metal layer 22a made of APC (AgPdCu) is formed thereon with a thickness of 11.5 nm. A transparent layer 22c made of indium tin oxide (ITO) was formed thereon with a thickness of 35 nm, and this was used as the reflective layer 22.
  • PET polyethylene terephthalate
  • ITO indium tin oxide
  • APC AgPdCu
  • a hard coat layer 23b is formed to a thickness of 1 ⁇ m on a resin layer 23a made of a biaxially oriented polypropylene (OPP) film having a thickness of 15 ⁇ m, and this is formed on the reflective layer 22 via an adhesive layer 23c having a thickness of 1 ⁇ m.
  • the protective layer 23 was formed by laminating on the top.
  • the produced infrared reflective functional layer 20 was laminated
  • Example 2 A transparent layer 22b made of indium titanium oxide (ITO) is formed on the base material 21 with a thickness of 31 nm, and a translucent metal layer 22a made of APC (AgPdCu) is formed thereon with a thickness of 14 nm.
  • Example 1 is the same as Example 1 except that a transparent layer 22c made of indium titanium oxide (ITO) is formed to a thickness of 31 nm.
  • Example 3 A transparent layer 22b made of indium titanium oxide (ITO) is formed on the substrate 21 with a thickness of 31 nm, and a translucent metal layer 22a made of APC (AgPdCu) is formed thereon with a thickness of 18 nm.
  • Example 1 is the same as Example 1 except that a transparent layer 22c made of indium titanium oxide (ITO) is formed to a thickness of 31 nm.
  • Example 4 Using the same base material 21 as in Example 1, a transparent layer 22b made of indium zinc oxide (IZO) is formed on one surface 21a of the base material 21 with a thickness of 30 nm, and AP (AgPd) is made thereon. A semi-transparent metal layer 22a was formed with a thickness of 14 nm, and a transparent layer 22c made of indium zinc oxide (IZO) was formed thereon with a thickness of 30 nm. A resin layer 23a was formed on the reflective layer 22 by a coating method.
  • IZO indium zinc oxide
  • a hydrogenated nitrile rubber (trade name “Terban 5065” manufactured by LANXESS [k: 33.3, l: 63, m: 3.7, R1 to R3: H] is manufactured on the reflective layer 22.
  • a 10% methyl ethyl ketone (MEK) solution was applied using an applicator, placed in an air-circulating drying oven, and dried for 2 minutes at 120 ° C.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • the electron beam was irradiated from the surface side of the resin layer using an electron beam irradiation apparatus (product name “EC250 / 30/20 mA” manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) to form the resin layer 23a.
  • the line speed was 3 m / min, the acceleration voltage was 150 kV, and the irradiation dose was 100 kGy.
  • the same hard coat layer 23b as in Example 1 was laminated in the same manner as in Example 1 to form the protective layer 23.
  • substrate with an infrared reflective function was carried out similarly to Example 1, and produced the translucent board
  • Example 1 is the same as Example 1 except that an adhesive layer is formed with a thickness of 25 ⁇ m on the hard coat layer 23b and a PET layer is formed with a thickness of 50 ⁇ m thereon.
  • Example 3 is the same as Example 3 except that the protective layer 23 is not formed.
  • the solar heat acquisition rate is based on the rate at which near infrared rays pass through the green glass 10 (sunlight transmittance) and the rate at which far infrared rays pass through the green glass 10 by re-radiation (sunlight absorption rate). ing. More specifically, the solar heat acquisition rate is the sum of the radiant flux of the solar radiation that is transmitted through the glass portion and the heat flux that is absorbed by the glass and transmitted to the indoor side, with respect to the solar radiation that is perpendicularly incident on the glass surface. , Expressed as the ratio of incident solar radiation to radiant flux. The visible light transmittance is expressed as a ratio of the transmitted light beam to the incident light beam with respect to the daylight beam incident perpendicularly to the glass surface.
  • the solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and visible light transmittance were measured according to JIS R3106 using a Hitachi spectrophotometer U4100.
  • the light incident surface was a glass surface.
  • the method for measuring the vertical emissivity is as follows. Using a Fourier transform infrared spectroscopic (FT-IR) apparatus (manufactured by Varian) equipped with a variable angle reflection accessory, the regular reflectance of infrared light with a wavelength of 5 microns to 25 microns was measured, and JISR 3106-2008 It calculated
  • the light incident surface was from the infrared reflective functional layer 20 side.
  • the green glass 10 and the infrared reflection function are measured by measuring the vertical emissivity of the surface of the infrared reflection functional layer 20 on the protective layer 23 side of far infrared rays re-radiated from the infrared reflection functional layer 20 to the indoor side.
  • the radiation characteristics of far infrared rays re-radiated from the layer 20 to the indoor side were examined. These results are shown in Table 1.
  • each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 3 was subjected to a scratch resistance evaluation test.
  • the first test and the second test were performed.
  • a ten-point pen tester was used, steel wool (Bonster # 0000) was used as the rubbing means, and the rubbing means was brought into contact with the specimen (Examples and Comparative Examples).
  • a test of reciprocating 10 times while applying a load of is performed.
  • a Gakushin abrasion tester is used, and cloth (Kanakin No. 3) is used as the rubbing means.
  • the rubbing means is brought into contact with the specimen (Example and Comparative Example), and a load of 500 g is used.
  • the solar radiation absorption rates in the light-transmitting substrates with infrared reflection functions of Examples 1 to 4 were 50.2%, 50.5%, 56.4%, respectively. 51.9%, which is higher than the solar radiation absorption rate (35.4%) of the green glass 10 alone of Comparative Example 2.
  • the visible light transmittances in the light-transmitting substrates with infrared reflection functions of Examples 1 to 4 are 68.8%, 67.6%, 57.6%, and 67.1%, which is lower than the visible light transmittance (81.0%) of the green glass 10 alone of Comparative Example 2.
  • the vertical emissivity of the green glass 10 alone of Comparative Example 2 shows a value (0.88) significantly higher than 0.50, and the rate of re-radiation of far-infrared rays from the green glass 10 into the room is increased. Yes.
  • the vertical emissivities of the light-transmitting substrates with infrared reflection functions of Examples 1 to 4 are values significantly lower than 0.50 (0.26, 0.22, 0.19, 0.12 respectively). ), The rate at which far-infrared rays are re-radiated from the green glass 10 to the outside increases.
  • the ratio of re-radiation of far infrared rays from the green glass 10 into the room is low (the far infrared radiation characteristics are good) and good. Shows thermal insulation.
  • the solar transmittance of the green glass 10 of Comparative Example 2 is 58.5%, whereas the solar transmittance of the light-transmitting substrates with infrared reflecting functions of Examples 1 to 4 is 39. 3%, 38.5%, 31.0%, and 36.3%.
  • the translucent substrates with infrared reflection functions of Examples 1 to 4 by providing the infrared reflection functional layer 20 on the green glass 10, the solar radiation transmittance is significantly reduced as compared with the case of the green glass 10 alone. It has become. Therefore, the translucent substrates with infrared reflection functions of Examples 1 to 4 exhibit good reflection performance (heat shielding properties) of sunlight (near infrared rays).
  • both the solar radiation transmittance and the vertical emissivity are better than those of the green glass 10 of Comparative Example 2 alone.
  • the thickness of the semi-transparent metal layer 22a which consists of APC (AgPdCu) is thick ( 14 ⁇ m and 18 ⁇ m, respectively). Accordingly, in the translucent substrates with infrared reflection function of Examples 1, 2, and 3, the value of solar transmittance gradually decreases in that order (as the thickness of the semitransparent metal layer 22a increases) ( 39.3%, 38.5%, and 31.0%, respectively).
  • the value of the vertical emissivity is also decreasing gradually in that order (as the thickness of the semi-transparent metal layer 22a becomes thick, respectively). 0.26, 0.22, 0.19). From these results, it can be seen that the thicker the translucent metal layer 22a, the lower the solar transmittance and the vertical emissivity, and the higher the effect of suppressing the temperature rise.
  • the adhesion layer is formed in the thickness of 25 micrometers on the hard-coat layer 23b, and the PET layer is formed in the thickness of 50 micrometers on it. Therefore, although the solar radiation transmittance shows the same value as that of the translucent substrate with the infrared reflecting function of Examples 1 to 3, the vertical emissivity is a value significantly higher than 0.50 (0.85). Show. For this reason, in the translucent board
  • Comparative Example 3 the solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, solar heat acquisition rate, and visible light transmittance showed the same values as those of the light-transmitting substrates with infrared reflecting function of Examples 1 to 4.
  • Comparative Example 3 since the protective layer 23 was not formed, the vertical emissivity shows a value significantly lower than 0.50 (0.03), but the reflective layer 20 with low scratch resistance is exposed. Therefore, as shown below, the problem of poor durability remains.
  • Example 5 Two light vehicles of the same kind were prepared, and the infrared reflection functional layer (infrared reflection film) 20 used in Example 1 was attached to the indoor side of all the window glasses of the light vehicle. Then, the cooling intensity of the air conditioner installed in the vehicle was set to 5 out of 6 stages, and the air volume of the air conditioning was set to 5 out of 8 stages to circulate the inside air. Then, with the front of the light vehicle stopped toward the southwest, the mannequin is placed on the driver seat side of the rear seat, and the surface temperature of the mannequin is measured by thermography (in Table 2 and Table 3 below, the interior (thermography) Measured).
  • the space temperature of about 5 cm indoor side from the driver seat side window of the rear seat (in Tables 2 and 3 below, referred to as the interior of the vehicle (at the window)) was measured with a thermocouple coated with aluminum foil.
  • the temperature of the indoor side surface of the window (the surface of the infrared reflecting film 20 or the surface of the green glass 10) (in the following Tables 2 and 3, referred to as the vehicle interior (window surface)) was measured with a thermocouple. Note that the measurement was performed on August 11, 2011 at 13:30.
  • Example 5 is the same as Example 5 except that the infrared reflective functional layer (infrared reflective film) 20 used in Comparative Example 1 is attached to the indoor side of all the window glasses of the minicar. These results are shown in Table 2.
  • Example 5 is lower in the vehicle (thermography) and in the vehicle (by the window) than the result of Comparative Example 4.
  • the infrared emissivity function used in Comparative Example 4 is the vertical emissivity (0.26) of the infrared reflective functional layer (infrared reflective film) 20 used in Example 5 (same as Example 1). It was confirmed that the temperature rise suppression effect in the vehicle (thermography) and in the vehicle (by the window) due to being significantly lower than the vertical emissivity (0.85) of the layer (infrared reflective film) 20 was high.
  • Example 6 The same measurement as in Example 5 was performed except that the front of the light vehicle was stopped toward the south. The measurement was performed at 15:30 on August 14, 2011.
  • Example 6 is the same as Example 6 except that the infrared reflective functional layer (infrared reflective film) 20 is not provided. These results are shown in Table 3.
  • Example 6 since the infrared reflective functional layer (infrared reflective film) 20 used in Example 1 is affixed to the indoor side of all the window glass of the mini vehicle, the infrared reflective functional layer (infrared reflective film) 20 is used. Compared to Comparative Example 5 that was not provided, it was confirmed that the temperature rise suppression effect in the vehicle (thermography) and in the vehicle (by the window) due to low solar transmittance and vertical emissivity was high.
  • the translucent substrate with an infrared reflecting function according to the present embodiment is formed to make it difficult to see the room from the outside through the translucent substrate layer, for example, for the purpose of providing privacy protection.
  • the translucent substrate with an infrared reflecting function according to the present embodiment is disposed so as to separate the room from the outside, and the translucent substrate layer having a visible light transmittance of 50% or more, and the translucent substrate layer And an infrared reflection functional layer having a visible light transmittance of 50% or less, which is laminated on the indoor surface.
  • the visible light transmittance of the translucent substrate layer is 50% or more, and the visible light transmittance of the infrared reflecting functional layer 20 is 50. Since the configuration is the same as that of the translucent substrate with the infrared reflection function according to the first embodiment except that it is% or less, the same configuration is denoted by the same reference numeral and detailed description is given. Do not repeat.
  • the solar absorptivity of the translucent substrate layer according to this embodiment is 30% or more.
  • Examples of such a translucent substrate layer include glass and a transparent resin substrate.
  • a smoke film is employed for the infrared reflective functional layer according to the present embodiment.
  • a smoke film is employed as the infrared reflection functional layer, but the present invention is not limited to this, and the visible light transmittance may be 50% or less.
  • the infrared reflection functional layer includes a reflection layer for reflecting infrared rays, and a protective layer laminated on the indoor side surface of the reflection layer.
  • the vertical emissivity of the protective layer side surface of the infrared reflective functional layer is set to 0.50 or less.
  • the visible light transmittance of the translucent substrate layer according to the present embodiment is 50% or more as described above, and compared with the translucent substrate layer of the translucent substrate with infrared reflection function according to the first embodiment.
  • the solar absorptivity of the translucent substrate layer itself is lowered, but the solar transmissivity of the translucent substrate layer itself is increased.
  • solar radiation transmittance is reduced by the infrared reflective functional layer. Therefore, it is possible to suppress sunlight (near infrared rays) that is directly incident on the room from the outside through the light-transmitting substrate layer.
  • the infrared reflective functional layer is formed on the translucent substrate layer.
  • the solar radiation absorptivity is increased.
  • far infrared rays absorbed by the translucent substrate layer from the translucent substrate layer to the indoor side Since re-radiant heat due to far-infrared rays re-radiated to the sun is suppressed, the temperature rise in the room can be suppressed.
  • an infrared reflective functional layer with a low visible light transmittance is laminated on a light transmissive substrate layer with a high visible light transmittance, it is difficult to see the room from the outside through the light transmissive substrate layer, for example, providing privacy protection can do.
  • substrate with an infrared reflective function which concerns on this invention is not limited to said each embodiment, A various change is possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.
  • the reflective layer 2 is formed by vapor deposition.
  • the reflective layer is prepared separately from the base material, such as using a reflective film, and the reflective layer is attached to the base material. You may make it do.
  • the infrared reflective functional layer (infrared reflective film) is laminated (attached) to the translucent substrate layer via the adhesive layer, but is not limited thereto.
  • an infrared reflection functional layer may be directly formed on the light transmissive substrate layer.
  • the protective layer is formed by laminating a hard coat layer on the resin layer, but the protective layer may be a resin layer, more specifically, an olefin resin layer alone, Only the hard coat layer may be used. However, from the viewpoint of scratch resistance, the protective layer preferably includes a hard coat layer.
  • the resin layer is bonded to the surface of the reflective layer using an adhesive, but the present invention is not limited to this.

Abstract

　室内と室外とを隔てるように配置される透光性基板層と、該透光性基板層の室内側の表面に積層される赤外線反射機能層とを備え、前記透光性基板層の日射吸収率が３０％以上であり、前記赤外線反射機能層は、赤外線を反射するための反射層と、該反射層の室内側の表面に積層される保護層とを含み、前記保護層側表面の垂直放射率が０．５０以下である赤外線反射機能付き透光性基板が提供される。

Description

赤外線反射機能付き透光性基板
　本発明は、赤外光領域において高い反射性を有する赤外線反射機能付き透光性基板に関する。
　従来より、赤外線を反射する機能を備えた赤外線反射フィルムが広く知られている。かかる赤外線反射フィルムは、主に、放射される太陽光（日射）の熱影響を抑制するために用いられる。例えば、この種の赤外線反射フィルムが自動車、鉄道、住宅等に設置されたガラスや透明樹脂板等の透光性基板に貼られることで、透光性基板を通って室内に入射される赤外線（特に、近赤外線）が遮蔽される。これによって、室内の温度上昇が抑制される。
　特許文献１に記載された赤外線反射フィルムは、ポリエステル系フィルムの一方の面に、可視光線透過率が１５～７５％のアルミニウム蒸着層及び紫外線や電子線などで硬化する樹脂からなるハードコート層を順に積層し、他方の面に粘着剤層を設けた積層フィルムであり、該積層フィルムが窓ガラスに貼られることにより、アルミニウム蒸着層によって太陽光に含まれる近赤外線を反射するようにしている。
　特許文献２に記載された赤外線反射フィルムは、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムといった熱可塑性樹脂フィルムの一方の面に可視光線透過率が少なくとも７０％の金属薄膜層及び熱や紫外線などで硬化する樹脂からなるハードコート層を順に積層し、他方の面にアクリル系粘着剤を設けた積層フィルムであり、該積層フィルムが窓ガラスに貼られることにより、金属薄膜層によって太陽光に含まれる近赤外線を反射するようにしている。
日本国特開２００５－３４３１１３号公報 日本国特開２００１－１７９８８７号公報
　ところで、例えば、室外から自動車の窓ガラスを通じて室内に日射が入射すると、入射した日射の熱影響によって室内温度が上昇し、これに伴って、室内の冷房負荷が増加する。このため、室内への日射の入射を抑制し、室内の冷房負荷を低減することを目的として、日射を吸収及び／又は反射させるグリーンガラスやスモークガラスを窓ガラスに用いるか、或いは、上記のような日射を反射する機能を有する遮熱フィルムをガラスに積層することが行われている。
　日射は紫外線領域から赤外線領域までの複数の波長の電磁波を含んでいるが、該日射は、赤外線側領域では、波長が２５００μｍ程度の近赤外線領域までの電磁波しか含んでおらず、波長が２５００μｍを超える遠赤外線領域の電磁波はほとんど含まれていないことが、知られている。従って、日射を吸収及び／又は反射させるグリーンガラスやスモークガラスを窓ガラスに用いるか、或いは、ガラスの室内側に遮熱フィルムを積層することにより、室内への日射の入射を抑制し、室内の冷房負荷の十分な低減が得られると考えられていた。しかしながら、上記ガラスや遮熱フィルムを用いるだけでは、室内の冷房負荷を十分に低減することは困難であるという問題がある。
　その理由として、上記ガラスは日射吸収率が高いため、日射に含まれる近赤外領域の電磁波を吸収し、室内への日射（近赤外線）の入射を抑制するが、一方で上記ガラス自体は、近赤外線によって温度上昇するためであることが考えられる。
　また、一般的に、全ての物質は、常温付近では遠赤外線領域の電磁波を含む電磁波を放射し、温度上昇に伴い遠赤外線領域の電磁波の放射量が増加することが知られており、このように、温度上昇したガラスからも、遠赤外線領域を含む電磁波が室内側及び室外側へ放射される。このため、温度上昇したガラスから放射される遠赤外線が室内に再放射されることにより、かかる遠赤外線の再放射熱の影響を十分に防ぐことができず、再放射熱の影響によって室内温度が上昇することが考えられる。
　この場合、ガラスの室内側に遮熱フィルムを積層することで、日射の透過量は抑制できるが、室内側表面の放射率が高いため、ガラスから室内側への遠赤外線の再放射を抑制することができず、再放射熱の影響によって室内温度が上昇することが考えられる。
　或いは、例えば、ガラスに金属層を直接蒸着させて反射層を形成し、室内側表面を低放射率化することにより、ガラスから室内側への遠赤外線の再放射を抑制することが考えられる。しかしながら、この場合、耐擦傷性の低い反射層が露出しているため、耐久性が悪いといった問題が残る。
　本発明は、かかる事情に鑑みてなされたもので、日射吸収率の高い透光性基板層から再放射によって室内側に入る再放射熱を抑制し、室内温度の上昇を抑制することができ、且つ、良好な耐久性（耐擦傷性）を有することができる赤外線反射機能付き透光性基板を提供することを課題とする。
　本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、室内と室外とを隔てるように配置される透光性基板層と、該透光性基板層の室内側の表面に積層される赤外線反射機能層とを備え、
前記透光性基板層の日射吸収率が３０％以上であり、前記赤外線反射機能層は、赤外線を反射するための反射層と、該反射層の室内側の表面に積層される保護層とを含み、前記保護層側表面の垂直放射率が０．５０以下である。
　上記構成の赤外線反射機能付き透光性基板によれば、赤外線反射機能層により日射透過率が低減される。そのため、室外から透光性基板層を通って室内に直接入射される太陽光（近赤外線）を抑制することができる。また、室外から室内に向かって入射される太陽光（近赤外線）は、室内と室外とを隔てるように配置される透光性基板層に達すると、該透光性基板層を透過、反射、又は透光性基板層に吸収されるようになる。
　太陽光（近赤外線）が透光性基板層に吸収されると、それに伴い、透光性基板層の温度が上昇する。透光性基板層の温度が上昇すると、透光性基板層からの伝導熱により反射層および保護層の温度も上昇し、反射層及び保護層の温度が透光性基板層とほぼ同じ温度になる。そうすると、温度が上昇した赤外線反射機能層付き透光性基板の室内側表面から、遠赤外線が室内へ向かって再放射される。ここで、表面温度Ｔ［Ｋ］の物体が出す放射熱流束（Ｅ［Ｗ/ｍ２］）は、ステファン・ボルツマンの法則により、Ｅ＝εσＴ４（ε：放射率、σ：ステファン・ボルツマン係数（５．６７×１０－８Ｗ／ｍ２Ｋ４）、Ｔ：表面温度［Ｋ］）で表わされ、放射熱流束は放射率に比例することが知られている。よって、上記構成の赤外線反射機能付き透光性基板によれば、保護層側表面の垂直放射率が０．５０以下と低いため、室内への再放射熱は抑制される。その結果、日射吸収率の高い透光性基板層の室内側表面から再放射によって室内に再放射される再放射熱を抑制し、室内温度の上昇を抑制することができる。また、赤外線反射機能層が保護層を備えるため、耐擦傷性の低い反射層が露出することがなく、良好な耐久性（耐擦傷性）を有することができる。
　なお、垂直放射率とは、ＪＩＳ　Ｒ３１０６で規定される通り、垂直放射率（εｎ）＝１－分光反射率（ρｎ）で表わされる。分光反射率ρｎは、常温の熱放射の波長域５～５０μｍで測定される。５～５０μｍの波長域は遠赤外線領域であり、遠赤外線の波長域の反射率が高くなるほど、垂直放射率は小さくなる。
　また、別の本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、室内と室外とを隔てるように配置され、可視光線透過率が５０％以上である透光性基板層と、該透光性基板層の室内側の表面に積層され、可視光線透過率が５０％以下である赤外線反射機能層とを備え、前記透光性基板層の日射吸収率が３０％以上であり、前記赤外線反射機能層は、赤外線を反射するための反射層と、該反射層の室内側の表面に積層される保護層とを含み、前記赤外線反射機能層の前記保護層側表面の垂直放射率が０．５０以下である。
　上記構成の赤外線反射機能付き透光性基板には、可視光線透過率が５０％以上の透光性基板層が使用される。従って、可視光線透過率が５０％未満の赤外線反射機能付き透光性基板の透光性基板層に比し、透光性基板層自体の日射吸収率は低くなるが、透光性基板層自体の日射透過率が高くなる。そこで、上記構成の赤外線反射機能付き透光性基板によれば、赤外線反射機能層により、日射透過率が低減される。そのため、室外から透光性基板層を通って室内に直接入射される太陽光（近赤外線）が抑制されることができる。また、透光性基板層の上に赤外線反射機能層を形成することで、日射吸収率は高くなるが、透光性基板層から室内側へと再放射される遠赤外線による再放射熱が抑制されるため、室内の温度上昇が抑制されることができる。また、可視光線透過率が高い透光性基板層に可視光線透過率が低い赤外線反射機能層が積層されるため、室外から透光性基板層を通して室内が見えにくくなり、例えば、プライバシー保護を付与することができる。
　ここで、本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板においては、前記赤外線反射機能層は、前記透光性基板層の室内側の表面に貼付されている赤外線反射フィルムであるのが好ましい。かかる構成によれば、透光性基板層と赤外線反射機能層とが別体で形成されることができるため、赤外線反射機能層が、一般的な自動車、鉄道、住宅等に設置された透光性基板に適用されることができ、汎用性が高い。
　本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板においては、前記透光性基板層は、ガラス又は樹脂基板であるのが好ましい。
　また、本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板においては、前記保護層は、前記反射層に積層されるハードコート層を含むのが好ましい。かかる構成によれば、ハードコート層によって保護層に耐擦傷性が付与される。
　以上の如く、本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板によれば、日射吸収率の高い透光性基板層から再放射よって室内側に入る再放射熱を抑制し、室内温度の上昇を抑制することができ、且つ、良好な耐久性（耐擦傷性）を有することができるといった優れた効果を奏することができる。
本発明の一実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板の積層構造を説明するための概要図を示す。
　以下、本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板の一実施形態について、図１を参酌しつつ説明する。
（第一の実施形態）
　本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、遮熱及び断熱を目的として形成されている。図１に示すように、赤外線反射機能付き透光性基板は、室内と室外とを隔てるように配置される透光性基板層１０と、該透光性基板層１０の室内側の表面に積層される赤外線反射機能層２０とを備える。なお、図１においては、便宜上、赤外線反射機能層２０の厚みに対して、透光性基板層１０の厚みを実際の厚みより薄く図示している。
　本実施形態に係る透光性基板層１０の日射吸収率は３０％以上である。透光性基板層１０として、日射吸収率が高いグリーンガラスやスモークガラス等が採用されている。本実施形態においては、透光性基板層１０として、グリーンガラスやスモークガラス等が採用されているが、これに限定されるものではなく、例えば、樹脂ガラス等の樹脂基板であってもよく、日射吸収率が３０％以上であればよいが、例えば４０％以上、又は５０％以上であってもよい。
　本実施形態に係る赤外線反射機能層２０は、透光性基板層１０の室内側の表面に積層（貼付）される赤外線反射フィルムである。赤外線反射機能層２０は、赤外線を反射するための反射層２２と、該反射層２２の室内側の表面に積層される保護層２３とを含む。より具体的には、赤外線反射機能層２０は、基材２１の一方の面２１ａに、反射層２２及び保護層２３をその順に積層し、他方の面２１ｂに粘着層２４を設けた層構造となっている。赤外線反射機能層２０の保護層２３側表面の垂直放射率は、後述する実験結果に基づき、０．５０以下に設定されている。赤外線反射機能層２０の保護層２３側表面の垂直放射率は、好ましくは０．４０以下、さらに好ましくは０．３０以下である。
　基材２１は、ポリエステル系フィルムが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンメチレンテレフタレート、あるいはこれらを２種以上組み合わせた混合樹脂からなるフィルムが用いられる。なお、これらの中で、性能面から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましく、特に２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好適である。
　反射層２２は、基材２１の表面（一方の面）２１ａに蒸着により形成される蒸着層である。該蒸着層の形成方法としては、例えば、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等の物理蒸着（ＰＶＤ）が挙げられる。ここで、真空蒸着においては、真空中で抵抗加熱、電子ビーム加熱、レーザ光加熱、アーク放電等の方法で蒸着物質を加熱蒸発させることで、基材２１上に反射層２２が形成される。また、スパッタリングにおいては、アルゴンなどの不活性ガスが存在する真空中で、グロー放電などにより加速されたＡｒ+などの陽イオンをターゲット（蒸着物質）に撃突させて蒸着物質をスパッタ蒸発させることで、基材２１上に反射層２２が形成される。イオンプレーティングは、真空蒸着とスパッタリングとを組み合わせた形態の蒸着法である。この方法では、真空中において、加熱により放出された蒸発原子を、電界中でイオン化と加速を行い、高エネルギー状態で基材２１上に付着させることで、反射層２２が形成される。
　反射層２２は、半透明金属層２２ａを一対の透明層２２ｂ，２２ｃで挟み込んだ複層構造となっている。この反射層２２は、上記蒸着層の形成方法を用い、まず、基材２１の表面（一方の面）２１ａに透明層２２ｂを蒸着し、次に、透明層２２ｂ上に半透明金属層２２ａを蒸着し、最後に、半透明金属層２２ａ上に透明層２２ｃを蒸着して形成される。半透明金属層２２ａの形成材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銀合金（ＭｇＡｇ、ＡＰＣ（ＡｇＰｄＣｕ）、ＡｇＣｕ、ＡｇＡｕＣｕ、ＡｇＰｄ、ＡｇＡｕ等）、アルミニウム合金（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、あるいはこれらを２種以上組み合わせた金属材料が用いられる。また、半透明金属層２２ａは、これら金属材料を用いて２層以上に形成されてもよい。透明層２２ｂ，２２ｃは、反射層２２に透明性を付与し、半透明金属層２２ａの劣化を防止するためのものであり、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウムチタン（ＩＴｉＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化ガリウム亜鉛（ＧＺＯ）、酸化アルミニウム亜鉛（ＡＺＯ）、酸化ガリウムインジウム（ＩＧＯ）等の酸化物が用いられる。
　保護層２３は、反射層２２に積層される樹脂層２３ａと、該樹脂層２３ａ上に形成されるハードコート層２３ｂとを備え、反射層２２上に接着剤を用いて接着される。即ち、保護層２３は、反射層２２側から順に、接着層２３ｃ、樹脂層２３ａ、ハードコート層２３ｂを有する複層構造となっており、ハードコート層２３ｂが本実施形態に係る赤外線反射機能層２０の表面（最外層）となっている。
　樹脂層２３ａとしては、例えばオレフィン系フィルムが用いられ、該オレフィン系フィルムとしては、例えば、エチレンを単独又は共重合させた高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、プロピレンを単独又は共重合させたポリプロピレン、ポリメチルペンテン、あるいはこれらを２種以上組み合わせた混合樹脂からなるフィルムが用いられる。なお、これらの中で、性能面から、樹脂層２３ａは、ポリプロピレン（ＰＰ）フィルムが好ましく、特に２軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルムが好適である。なお、樹脂層２３ａがオレフィン系フィルムである場合、樹脂層２３ａの厚みは５～３０μｍであるのが好ましい。
　また、樹脂層２３ａは、下記化学式Iで繰り返し単位Ａを含む高分子同士の架橋構造を有する層であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　また、樹脂層２３ａは、下記化学式IIの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣのうち、少なくともいずれか二つ以上の繰り返し単位を含む高分子を含む層であることが好ましい。化学式II中のＲ１として、Ｈやメチル基を用いることができる。また、化学式II中のＲ２～Ｒ５として、Ｈ、炭素数が１～４のアルキル基又はアルケニル基を用いることができる。ちなみに、繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣで構成され、Ｒ１～Ｒ５としてＨを用いたものは、水素化ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）である。
　繰り返し数ｋとしては、１０～１０００が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　これらの高分子を得るためのモノマー成分としては、例えば、化学式IIIで示すようなアクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）及びその誘導体、炭素数が４のアルキル（繰り返し単位Ｅ）及びその誘導体、並びに、ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１又はＦ２）及びそれらの誘導体の共重合体等が挙げられる。ここで、Ｒ６は、Ｈ又はメチル基、Ｒ７～Ｒ１８は、Ｈ又は炭素数が１～４のアルキル基を示す。なお、Ｆ１，Ｆ２のそれぞれは、ブタジエンが重合する繰り返し単位を示しており、Ｆ１がメインの繰り返し単位となっている。また、これらの高分子は、化学式IIIのアクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）及びその誘導体、１，３－ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）及びその誘導体の共重合体であるニトリルゴムや、ニトリルゴム中に含まれる二重結合の一部又は全部が水素化された水素化ニトリルゴムであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  
　上記共重合体を部分的に切り出した化学式IVを用いて、アクリロニトリル、ブタジエン及びアルキルが重合された共重合体と、それぞれの繰り返し単位Ａ、Ｂ及びＣとの関係を説明する。化学式IVは、樹脂層２３ａに用いられる高分子鎖の一部を切り出しており、１，３－ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）、アクリロニトリル（繰り返し単位Ｄ）、及び１，３－ブタジエン（繰り返し単位Ｆ１）が順に結合されている。なお、化学式IVはＲ７，Ｒ１１～Ｒ１４がＨの結合例を示している。化学式IVは、左側のブタジエンにはアクリロニトリルのシアノ基（－ＣＮ）が結合された側が結合しており、アクリロニトリルのシアノ基（－ＣＮ）が結合していない側に右側のブタジエンが形成されている。この様な結合例においては、１個の繰り返し単位Ａ、１個の繰り返し単位Ｂ、及び２個の繰り返し単位Ｃが含まれている。この中で、繰り返し単位Ａは左側のブタジエンの右側の炭素原子とアクリロニトリルのシアノ基（－ＣＮ）とが結合した炭素原子を含んでおり、繰り返し単位Ｂはアクリロニトリルのシアノ基（－ＣＮ）が結合していない炭素原子と右側のブタジエンの左側の炭素原子とを含んだ組合せである。そして、左側のブタジエンの一番左側の炭素原子と、右側のブタジエンの一番右側の炭素原子は、結合する分子の種類により繰り返し単位Ａ又は繰り返し単位Ｂの一部の炭素原子となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　かかる樹脂層２３ａは、上述した高分子を（必要に応じて架橋剤とともに）溶剤に溶解させて溶液を調製し、この溶液を反射層２２の上に塗布し、次いで、溶液を乾燥させる（溶剤を揮発させる）、という手順で形成される。なお、この場合、保護層２３が接着層を有しない構成を採用し得る。溶剤は、上述した高分子を可溶な溶剤であり、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、塩化メチレン（ジクロロメタン）等の溶剤が用いられる。なお、メチルエチルケトンや塩化メチレンは、低沸点の溶剤（メチルエチルケトンは７９．５℃、塩化メチレンは４０℃）である。従って、これらの溶剤を用いると、低い乾燥温度で溶剤を揮発させることができるため、基材２１（や反射層２２）が熱ダメージを受けることはない。
　樹脂層２３ａが上記のような高分子を有する層である場合、樹脂層２３ａの厚さは、下限値としては、１μｍ以上である。好ましくは、３μｍ以上である。また、上限値としては、２０μｍ以下である。好ましくは、１５μｍ以下である。より好ましくは、１０μｍ以下である。樹脂層２３ａの厚さが小さいと、赤外線の反射特性は高くなるものの、耐擦傷性が損なわれ、保護層２３ａとしての機能を十分に発揮することができない。樹脂層２３ａの厚さが大きいと、赤外線反射フィルムの断熱特性が悪くなる。樹脂層２３ａの厚さが上記範囲内であれば、赤外線の吸収が小さく且つ反射層２２を適切に保護することができる樹脂層２３ａが得られる。
　化学式Ｉ中のｋとｌとｍの比率は、ｋとｌとｍの合計を１００としたとき、ｋ：ｌ：ｍ＝３～３０：２０～９５：０～６０であることが好ましく、ｋ：ｌ：ｍ＝５～２５：６０～９０：０～２０であることがより好ましく、ｋ：ｌ：ｍ＝１５～２５：６５～８５：０～１０であることがさらに好ましい。
　また、化学式Ｉの繰り返し単位ＡとＢとＣの各総重量の比率は、Ａ：Ｂ：Ｃ＝５～５０重量％：２５～８５重量％：０～６０重量％（但し、ＡとＢとＣの合計は１００重量％）となるのが好ましい。より好ましくは、Ａ：Ｂ：Ｃ＝１５～４０重量％：５５～８５重量％：０～２０重量％（但し、ＡとＢとＣの合計は１００重量％）である。さらに好ましくは、Ａ：Ｂ：Ｃ＝２５～４０重量％：５５～７５重量％：０～１０重量％（但し、ＡとＢとＣの合計は１００重量％）である。
　ところで、樹脂層２３ａに良好な耐溶剤性を付与する観点から、樹脂層２３ａは、高分子同士の架橋構造を有することが好ましい。高分子同士を架橋させることにより、樹脂層２３ａの耐溶剤性が向上するため、高分子を可溶な溶剤が樹脂層２３ａに接触した場合であっても、樹脂層２３ａが溶出するのを防止することができる。
　高分子同士に架橋構造を付与する手段としては、溶液を乾燥させた後に、電子線を照射することが挙げられる。電子線の積算照射線量は、下限値としては、５０ｋＧｙ以上である。好ましくは、１００ｋＧｙ以上である。より好ましくは、２００ｋＧｙ以上である。また、上限値としては、１０００ｋＧｙ以下である。好ましくは、６００ｋＧｙ以下である。より好ましくは、４００ｋＧｙ以下である。なお、積算照射線量とは、電子線を１回照射する場合であれば、その照射線量をいい、電子線を複数回照射する場合であれば、その照射線量の合計をいう。電子線の１回の照射線量は、３００ｋＧｙ以下であるのが好ましい。電子線の積算照射線量が上記範囲内であれば、高分子同士の十分な架橋を得ることができる。また、電子線の積算照射線量が上記範囲内であれば、電子線の照射によって発生する高分子や基材１の黄変を最小限に抑えることができ、着色の少ない赤外線反射フィルムを得ることができる。なお、これら電子線の照射条件は、加速電圧が１５０ｋＶでの照射条件である。
　また、高分子を溶剤に溶解させる際に、あるいは、高分子を溶剤に溶解させた後に、ラジカル重合型モノマー等の多官能モノマーといった架橋剤を添加することが好ましい。特に、（メタ）アクリレート系モノマーのラジカル重合型モノマーが好ましい。多官能モノマーを添加すると、多官能モノマーに含まれる官能基がそれぞれの高分子鎖と反応（結合）することにより、高分子同士が（多官能モノマーを介して）架橋されやすくなる。従って、電子線の積算照射線量を（５０ｋＧｙ程度に）引き下げても高分子同士の十分な架橋を得ることができる。そのため、電子線の積算照射線量を低照射線量で済ませることができる。また、電子線の積算照射線量が低下することで、高分子や基材２１の黄変をさらに抑制することができ、しかも、生産性を向上させることができる。
　しかしながら、添加剤の添加量が多くなれば、赤外線反射フィルムの（反射層２２を基準とした）樹脂層２３ａ側表面の垂直放射率が悪化する。垂直放射率が悪化すると、赤外線反射フィルムにおける赤外線の反射特性が低下し、赤外線反射フィルムの断熱特性が悪くなる。そのため、添加剤の添加量は、高分子に対して１～３５重量％であるのが好ましい。より好ましくは、高分子に対して２～２５重量％である。
　ハードコート層２３ｂは、基材２１や樹脂層２３ａと同様、透明性を有し、また、清掃などの際に表面に擦傷キズが入って透明性が低下するのを防ぐために耐擦傷性を有する。ハードコート層２３ｂは、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等、十分な耐擦傷性（硬度）を発現するものなら特に限定はされない。なお、これらの中で、ハードコート層２３ｂは、層形成が容易で鉛筆硬度を所望の値に容易に高めやすい紫外線硬化性樹脂等の電離放射線硬化性樹脂が好適である。該電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル－ウレタン系ハードコートが用いられる。
　電離放射線硬化性樹脂を用いてハードコート層２３ｂを形成する場合、電離放射線硬化性樹脂をそのまま又は有機溶剤で適当な濃度に希釈し、得られた溶液を塗布機（コーター）で樹脂層２３ａ上に塗布し、必要により乾燥した後、電離放射線照射ランプにて電離放射線を数秒～数分間照射することで、ハードコート層２３ｂが形成される。熱硬化性樹脂を用いてハードコート層２３ｂを形成する場合、熱硬化性樹脂の有機溶剤溶液を塗布機（コーター）で樹脂層２３ａ上に塗布し、その上に剥離シートを設け、ラミネータ等にて脱気後、熱硬化、熱圧着を行う。剥離シートを用いない場合は、加熱、圧着前に、乾燥工程を入れて溶剤を蒸発させて表面が粘着しない程度に乾燥させることで、ハードコート層２３ｂが形成される。なお、ハードコート層２３ｂの厚みは、０．５～１０μｍであるのが好ましい。
　接着層２３ｃは、ポリエステル系接着剤を用いて形成される。そして、樹脂層２３ａとなるオレフィン系フィルム上にハードコート層２３ｂを形成した後、オレフィン系フィルムのハードコート層２３ｂとは反対面にポリエステル系接着剤を塗布し、これを反射層２２上に積層し、乾燥させることで、本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板が完成する。なお、接着層２３ｃの厚みは０．１～１．５μｍであるのが好ましい。
　また、本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、保護層２３として、樹脂層２３ａとハードコート層２３ｂの２層構造を採用している。ハードコート層２３ｂは、反射層２２との密着性が樹脂層２３ａ（正確には、接着層２３ｃ）よりも良くない。従って、樹脂層２３ａを無くしてハードコート層２３ｂを反射層２２上に直接積層すると、反射層２２及びハードコート層２３ｂの界面から水などが侵入して、反射層２２が劣化したり、また、耐擦傷性が損なわれたりといったことが想定される。しかし、本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、樹脂層２３ａを介してハードコート層２３ｂが形成されるため、かかる懸念はない。
　以上の構成からなる本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板によれば、赤外線反射機能層２０により日射透過率が低減されるため、室外から透光性基板層１０を通って室内に直接入射される太陽光（近赤外線）を抑制することができる。また、室外から室内に向かって入射される太陽光（近赤外線）は、透光性基板層１０に達すると、該透光性基板層１０を透過、反射、又は透光性基板層１０に吸収されるようになる。透光性基板層１０に吸収された太陽光（近赤外線）によって透光性基板層１０の温度が上昇し、透光性基板層１０の温度が上昇すると、透光性基板層１０からの伝導熱により反射層２２および保護層２３の温度も上昇し、反射層２２及び保護層２３の温度が透光性基板層１０とほぼ同じ温度になる。そうすると、温度が上昇した透光性基板層１０の室内側表面から、遠赤外線が室内へ向かって再放射される。ここで、表面温度Ｔ［Ｋ］の物体が出す放射熱流束（Ｅ［Ｗ/ｍ２］）は、ステファン・ボルツマンの法則により、Ｅ＝εσＴ４（ε：放射率、σ：ステファン・ボルツマン係数（５．６７×１０－８Ｗ／ｍ２Ｋ４）、Ｔ：表面温度［Ｋ］）で表わされ、放射熱流束は放射率に比例することが知られている。よって、本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板によれば、保護層２３側表面の垂直放射率が０．５０以下と低いため、室内への再放射熱が抑制される。その結果、日射吸収率の高い透光性基板層１０の室内側表面から再放射によって室内に再放射される再放射熱を抑制し、室内温度の上昇を抑制することができる。さらに、赤外線反射機能層２０が保護層２３を備えるため、耐擦傷性の低い反射層２２が露出することがなく、良好な耐久性（耐擦傷性）を有することができる。
　ここで、本発明者らは、上記実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板を作製し（実施例１～４）、併せて、比較用の赤外線反射機能付き透光性基板を作製した（比較例１～３）。実施例１～３における作製方法は次のとおりである。まず、基材２１の一方の面２１ａにＤＣマグネトロンスパッタ法により反射層２２を積層する。詳しくは、最初に、基材２１の一方の面２１ａにＤＣマグネトロンスパッタ法により透明層２２ｂを積層し、次に、ＤＣマグネトロンスパッタ法により半透明金属層２２ａを積層し、次に、ＤＣマグネトロンスパッタ法により透明層２２ｃを積層する。また、樹脂層２３ａの表面にハードコート剤を塗布し（ＤＩＣ社製「アクリル－ウレタン系ハードコート　ＰＣ１０９７」）、紫外線を照射して硬化させてハードコート層２３ｂを形成する。そして、樹脂層２３ａの反対側の表面にポリエステル系接着剤を塗布し、反射層２２の表面に接着層２３ｃを介して樹脂層２３ａ・ハードコート層２３ｂ積層体を貼り合わせる。このようにして赤外線反射機能層２０を作製した。作製された赤外線反射機能層２０を、粘着層を介して透光性基板層（グリーンガラス）１０の上に積層し、赤外線反射機能付き透光性基板を作製した。各層の組成・成分、厚み等の条件は下記の表１に記載する。
　また、比較例１における作製方法は次のとおりである。上記作製方法よって作製された赤外線反射機能層２０のハードコート層２３ｂに粘着層を介してＰＥＴ層を設けた。そして、作製された赤外線反射機能層２０を粘着層を介して透光性基板層（以下の実施例及び比較例では、グリーンガラスという）１０の上に積層し、赤外線反射機能付き透光性基板を作製した。各層の組成・成分、厚み等の条件は下記の表１に記載する。
　＜実施例１＞
　厚みが５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを基材２１として用いた。また、基材２１の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる透明層２２ｂを３５ｎｍの厚みで形成し、その上にＡＰＣ（ＡｇＰｄＣｕ）からなる半透明金属層２２ａを１１．５ｎｍの厚みで形成し、その上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる透明層２２ｃを３５ｎｍの厚みで形成し、これを反射層２２とした。また、厚みが１５μｍの２軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルムからなる樹脂層２３ａの上にハードコート層２３ｂを１μｍの厚みで形成し、これを厚みが１μｍの接着層２３ｃを介して反射層２２の上に積層し、保護層２３を形成した。そして、作製された赤外線反射機能層２０を厚みが１２μｍの粘着層を介して厚みが３．８６ｍｍのグリーンガラス１０の上に積層し、赤外線反射機能付き透光性基板を作製した。
　＜実施例２＞
　基材２１の上に酸化インジウムチタン（ＩＴｉＯ）からなる透明層２２ｂを３１ｎｍの厚みで形成し、その上にＡＰＣ（ＡｇＰｄＣｕ）からなる半透明金属層２２ａを１４ｎｍの厚みで形成し、その上に酸化インジウムチタン（ＩＴｉＯ）からなる透明層２２ｃを３１ｎｍの厚みで形成した点以外は、実施例１と同じである。
　＜実施例３＞
　基材２１の上に酸化インジウムチタン（ＩＴｉＯ）からなる透明層２２ｂを３１ｎｍの厚みで形成し、その上にＡＰＣ（ＡｇＰｄＣｕ）からなる半透明金属層２２ａを１８ｎｍの厚みで形成し、その上に酸化インジウムチタン（ＩＴｉＯ）からなる透明層２２ｃを３１ｎｍの厚みで形成した点以外は、実施例１と同じである。
　＜実施例４＞
　実施例１と同じ基材２１を用い、この基材２１の一方の面２１ａに、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）からなる透明層２２ｂを３０ｎｍの厚みで形成し、その上にＡＰ（ＡｇＰｄ）からなる半透明金属層２２ａを１４ｎｍの厚みで形成し、その上に酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）からなる透明層２２ｃを３０ｎｍの厚みで形成し、これを反射層２２とした。
　また、反射層２２の上に、塗工法により樹脂層２３ａを形成した。具体的には、反射層２２の上に、水素化ニトリルゴム（ランクセス社製　商品名「テルバン５０６５」〔ｋ：３３．３、ｌ：６３、ｍ：３．７、Ｒ１～Ｒ３：Ｈ〕の１０％メチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶液をアプリケータを用いて塗布し、空気循環式の乾燥オーブンに入れ、１２０℃で２分間乾燥を行った。これにより、厚さが５μｍの樹脂層を形成した。その後、電子線照射装置（岩崎電気株式会社製　製品名「ＥＣ２５０／３０／２０ｍＡ」）を用いて樹脂層の表面側から電子線を照射し、樹脂層２３ａを形成した。電子線の照射条件は、ライン速度を３ｍ／ｍｉｎ、加速電圧を１５０ｋＶ、照射線量を１００ｋＧｙとした。
　そして、樹脂層２３ａの上に、実施例１と同じハードコート層２３ｂを実施例１と同様に積層して、保護層２３を形成した。
　それ以外は実施例１と同様にして、赤外線反射機能付き透光性基板を作製した。
　＜比較例１＞
　ハードコート層２３ｂの上に粘着層を２５μｍの厚みで形成し、その上にＰＥＴ層を５０μｍの厚みで形成した点以外は、実施例１と同じである。
　＜比較例２＞
　グリーンガラス１０のみを用いた。
　＜比較例３＞
　保護層２３を形成しない点以外は、実施例３と同じである。
　＜測定及び評価＞
　そして、実施例１～４、比較例１～３のそれぞれについて、上記実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板における日射透過率、日射反射率、垂直放射率、日射熱取得率及び可視光透過率を測定した。日射透過率（日射反射率）は、ガラス面に垂直に入射する日射の放射束について、透過放射束（反射放射束）の日射放射束に対する比として表される。そして、得られた日射透過率、日射反射率の値を用いて、日射吸収率を算出した。具体的には、日射吸収率は、１００％－（日射透過率＋日射反射率）として算出した。また、日射熱取得率は、近赤外線がグリーンガラス１０を透過する割合（日射透過率）と、遠赤外線が再放射によってグリーンガラス１０を透過する割合（日射吸収率）とに基づいたものとなっている。より具体的には、日射熱取得率は、ガラス面に垂直に入射する日射について、ガラス部分を透過する日射の放射束と、ガラスに吸収されて室内側に伝達される熱流束との和の、入射する日射の放射束に対する比として表される。そして、可視光透過率は、ガラス面に垂直に入射する昼光の光束について、透過光束の入射光束に対する比として表される。
　日射透過率、日射反射率、日射吸収率、可視光線透過率については、日立分光光度計Ｕ４１００を用いて、ＪＩＳ　Ｒ３１０６に準じて測定した。なお、光の入射する面をガラス面からとした。また、垂直放射率の測定方法は、次のとおりである。角度可変反射アクセサリを装着したフーリエ変換型赤外分光（ＦＴ－ＩＲ）装置（Ｖａｒｉａｎ社製）を用いて、波長５ミクロン～２５ミクロンの赤外光の正反射率を測定し、ＪＩＳＲ ３１０６－２００８（板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法）に準じて求めた。なお、光の入射する面を赤外線反射機能層２０側からとした。
　なお、室外からグリーンガラス１０に入射された太陽光（近赤外線）がグリーンガラス１０に吸収されると、グリーンガラス１０の温度が上昇し、温度が上昇したグリーンガラス１０の室外側表面から、遠赤外線が室外側へ、又は、遠赤外線が赤外線反射機能層２０から室内側へと再放射されることになる。本実施例では、赤外線反射機能層２０から室内側へ再放射される遠赤外線について赤外線反射機能層２０の保護層２３側の面の垂直放射率を測定することで、グリーンガラス１０及び赤外線反射機能層２０から室内側へと再放射される遠赤外線の放射特性を調べた。これらの結果を表１に示す。
　次に、実施例１～４、比較例１，３のそれぞれについて、耐擦傷性の評価試験を行った。耐擦傷性試験は、第一の試験と第二の試験とを行った。第一の試験では、１０連式ペン試験機を用い、擦動手段として、スチールウール（ボンスター♯００００番）を用い、試験体（実施例や比較例）に擦動手段を当接させ、２５０ｇの荷重を掛けつつ１０回往復運動させる試験を行う。第二の試験では、学振摩耗試験機を用い、擦動手段として、布（かなきん３号）を用い、試験体（実施例や比較例）に擦動手段を当接させ、５００ｇの荷重を掛けつつ１０００回往復運動させる試験を行う。第一の試験及び第二の試験において、良好な耐擦傷性を示す場合を○とし、良好な耐擦傷性を示さない場合を×とした。これらの結果を表１に示す。なお、比較例２においては、耐擦傷性の評価試験を行っていない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  
　（温度抑制効果について）
　表１より、日射吸収率の観点から見ると、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板における日射吸収率は、それぞれ、５０．２％，５０．５％，５６．４％，５１．９％であり、比較例２のグリーンガラス１０単体の日射吸収率（３５．４％）より高くなっている。また、可視光線透過率の観点から見ると、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板における可視光線透過率は、それぞれ、６８．８％，６７．６％，５７．６％，６７．１％であり、比較例２のグリーンガラス１０単体の可視光線透過率（８１．０％）より低くなっている。しかしながら、比較例２のグリーンガラス１０単体の垂直放射率は、０．５０より有意に高い値（０．８８）を示し、グリーンガラス１０から室内への遠赤外線の再放射の割合が高くなっている。その一方で、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板における垂直放射率は、０．５０より有意に低い値（それぞれ、０．２６，０．２２，０．１９，０．１２）を示すことから、遠赤外線がグリーンガラス１０から室外に再放射される割合が高くなる。それに伴って、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板では、グリーンガラス１０から室内への遠赤外線の再放射の割合が低くなり（遠赤外線の放射特性が良好となり）、良好な断熱性を示す。
　また、比較例２のグリーンガラス１０の日射透過率は、５８．５％であるのに対して、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板における日射透過率は、それぞれ、３９．３％，３８．５％，３１．０％，３６．３％である。実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板では、グリーンガラス１０に赤外線反射機能層２０を設けることによって、グリーンガラス１０単体の場合に比し、日射透過率が有意に低減されるようになっている。従って、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板は、太陽光（近赤外線）の良好な反射性能（遮熱性）を示す。
　以上により、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板では、日射透過率、垂直放射率ともに、比較例２のグリーンガラス１０単体の場合より良好な値を示すことから、良好な遮熱性及び断熱性を示し、例えば、本実施例の赤外線反射機能付き透光性基板が日射吸収率の高いグリーンガラス等の透光性基板に使用された場合、室内の温度上昇を抑制することができる。
　なお、実施例１の赤外線反射機能付き透光性基板に比し、実施例２、３の赤外線反射機能付き透光性基板では、ＡＰＣ（ＡｇＰｄＣｕ）からなる半透明金属層２２ａの厚みが厚く（それぞれ、１４μｍ，１８μｍに）設定されている。それに伴って、実施例１，２，３の赤外線反射機能付き透光性基板では、その順番に（半透明金属層２２ａの厚みが厚くなるにつれて）、日射透過率の値が漸減している（それぞれ、３９．３％，３８．５％，３１．０％）。また、実施例１，２，３の赤外線反射機能付き透光性基板では、その順番に（半透明金属層２２ａの厚みが厚くなるにつれて）、垂直放射率の値も漸減している（それぞれ、０．２６，０．２２，０．１９）。これらの結果より、半透明金属層２２ａの厚みが厚い方が、日射透過率及び垂直放射率が低くなり、温度上昇の抑制効果がより高いことが分かる。
　そして、比較例１の赤外線反射機能付き透光性基板では、上述のように、ハードコート層２３ｂの上に粘着層を２５μｍの厚みで形成し、その上にＰＥＴ層を５０μｍの厚みで形成しているため、日射透過率は、実施例１～３の赤外線反射機能付き透光性基板と同様の値を示すものの、垂直放射率は、０．５０より有意に高い値（０．８５）を示す。このため、比較例１の赤外線反射機能付き透光性基板では、再放射による遠赤外線の熱影響（再放射熱）を防ぐことができず、温度上昇の良好な抑制効果を示さなかった。
　比較例３では、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、日射熱取得率及び可視光透過率は、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板と同様の値を示した。また、比較例３では、保護層２３を形成しなかったため、垂直放射率は、０．５０より有意に低い値（０．０３）を示すが、耐擦傷性の低い反射層２０が露出しているため、以下に示すように、耐久性が悪いといった問題が残る。
　（耐擦傷性の評価試験について）
　そして、耐擦傷性の評価試験の結果については、比較例３の赤外線反射機能付き透光性基板では、保護層２３を形成しなかったため、耐擦傷性試験の第一の試験と第二の試験とにおいて良好な結果が得られなかったのに対して、実施例１～４の赤外線反射機能付き透光性基板、及び比較例１の赤外線反射機能付き透光性基板では、良好な耐擦傷性を示した。これにより、赤外線反射機能付き透光性基板が保護層を備えることで、耐擦傷性の低い反射層が露出することがなく、良好な耐久性（耐擦傷性）を有することが分かった。
　次に、上記実施例及び比較例で使用した赤外線反射機能付き透光性基板（赤外線反射機能層２０）のそれぞれを用いて、以下の実施例５，６、及び比較例４，５における自動車の車内温度の比較実験を行った。
　＜実施例５＞
　同種の軽自動車を２台準備し、該軽自動車の全ての窓ガラスの室内側に実施例１で用いた赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０を貼り付けた。そして、車内に設置された空調の冷房強度を６段階中の５段階に設定するとともに、空調の風量を８段階中の５段階に設定し、内気循環させた。そして、軽自動車の前方を南西に向けて停車させた状態で、後部座席の運転席側にマネキンを乗せ、サーモグラフィでマネキンの表面の温度（以下の表２及び表３中では、車内（サーモグラフィ）という）を測定した。また、後部座席の運転席側の窓から約５ｃｍ室内側の空間温度（以下の表２及び表３中では、車内（窓際）という）をアルミ箔で被覆した熱電対で測定した。さらに、窓の室内側の表面（赤外線反射フィルム２０の表面又はグリーンガラス１０の表面）（以下の表２及び表３中では、車内（窓表面）という）の温度を熱電対で測定した。なお、測定は、２０１１年８月１１日１３時３０分に行った。
　＜比較例４＞
　軽自動車の全ての窓ガラスの室内側に比較例１で用いた赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０を貼り付けた点以外は、実施例５と同じである。これらの結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
  
　表２より、比較例４の結果に比し、実施例５の結果の方が、車内（サーモグラフィ）及び車内（窓際）の温度が低いことが分かる。実施例５で用いた（実施例１と同じ）赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０の垂直放射率（０．２６）が、比較例４で用いた（比較例１と同じ）赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０の垂直放射率（０．８５）に比し有意に低いことによる車内（サーモグラフィ）及び車内（窓際）の温度上昇抑制効果が高いことが認められた。
　＜実施例６＞
　軽自動車の前方を南に向けて停車させた点以外は、実施例５と同様の測定を行った。なお、測定は、２０１１年８月１４日１５時３０分に行った。
　＜比較例５＞
　赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０を設けなかった点以外は、実施例６と同じである。これらの結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
  
　表３より、比較例５の結果に比し、実施例６の結果の方が、車内（サーモグラフィ）及び車内（窓際）の温度が低いことが分かる。実施例６では、軽自動車の全ての窓ガラスの室内側に実施例１で用いた赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０を貼り付けているため、赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）２０を設けていない比較例５に比し、日射透過率及び垂直放射率が低いことによる車内（サーモグラフィ）及び車内（窓際）の温度上昇抑制効果が高いことが認められた。
　また、表３より、比較例５に比し、実施例６の方が、車内（窓表面）の温度が高いことが分かる。これは、実施例６の日射吸収率が、比較例５の日射吸収率より高いためであると考えられる。
　（第二の実施形態）
　以下、本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板の第二の実施形態について説明する。
　本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、室外から透光性基板層を通して室内を見えにくくし、例えば、プライバシー保護を付与する目的で形成されている。本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、室内と室外とを隔てるように配置され、可視光線透過率が５０％以上である透光性基板層と、該透光性基板層の室内側の表面に積層され、可視光線透過率が５０％以下である赤外線反射機能層とを備える。
　本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板では、上述のように、透光性基板層の可視光線透過率が５０％以上である点、赤外線反射機能層２０の可視光線透過率が５０％以下である点以外は、第一の実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板と同一の構成であるため、同一の構成については、同一の参照符号を付して、詳細な説明を繰り返さない。
　本実施形態に係る透光性基板層の日射吸収率は、３０％以上である。このような透光性基板層として、ガラスや透明樹脂基板等が挙げられる。
　本実施形態に係る赤外線反射機能層には、スモークフィルムが採用されている。本実施形態においては、赤外線反射機能層としてスモークフィルムが採用されているが、これに限定されるものではなく、可視光線透過率が５０％以下であればよい。赤外線反射機能層は、赤外線を反射するための反射層と、該反射層の室内側の表面に積層される保護層とを備える。赤外線反射機能層の保護層側表面の垂直放射率は、０．５０以下に設定されている。
　本実施形態に係る透光性基板層の可視光線透過率は、上述のように５０％以上であり、第一の実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板の透光性基板層に比し、透光性基板層自体の日射吸収率は低くなるが、透光性基板層自体の日射透過率が高くなる。そこで、本実施形態に係る赤外線反射機能付き透光性基板によれば、赤外線反射機能層により日射透過率が低減される。そのため、室外から透光性基板層を通って室内に直接入射される太陽光（近赤外線）を抑制することができる。また、透光性基板層の上に赤外線反射機能層を形成することで、日射吸収率は高くなるが、透光性基板層に吸収された遠赤外線のうち、透光性基板層から室内側へと再放射される遠赤外線による再放射熱が抑制されるため、室内の温度上昇が抑制されることができる。また、可視光線透過率が高い透光性基板層に可視光線透過率が低い赤外線反射機能層が積層されるため、室外から透光性基板層を通して室内が見えにくくなり、例えば、プライバシー保護を付与することができる。
　なお、本発明に係る赤外線反射機能付き透光性基板は、上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
　例えば、上記各実施形態においては、反射層２を蒸着により形成したが、反射性フィルムを用いる等、反射層を基材とは別に用意し、反射層を基材に貼着する等して形成するようにしてもよい。
　また、上記各実施形態においては、赤外線反射機能層（赤外線反射フィルム）を、粘着層を介して透光性基板層に積層（貼付）するようにしたが、これに限定されるものではなく、例えば、透光性基板層に赤外線反射機能層を直接形成するようにしてもよい。
　また、上記各実施形態においては、樹脂層にハードコート層を積層したものを保護層としたが、保護層は、樹脂層、より詳しくは、オレフィン系樹脂層だけであってもよく、また、ハードコート層だけであってもよい。ただ、耐擦傷性の観点から、保護層は、ハードコート層を含んでいるのが好ましい。
　また、上記各実施形態においては、樹脂層を反射層の表面に接着剤を用いて接着したが、これに限定されるものではない。
　１０…透光性基板層、２０…赤外線反射機能層、２１…基材、２１ａ…一方の面、２１ｂ…他方の面、２２…反射層、２２ａ…半透明金属層、２２ｂ，２２ｃ…透明層、２３…保護層、２３ａ…樹脂層、２３ｂ…ハードコート層、２３ｃ…接着層、２４…粘着層
 

Claims (8)

  1. 　室内と室外とを隔てるように配置される透光性基板層と、該透光性基板層の室内側の表面に積層される赤外線反射機能層とを備え、
    　前記透光性基板層の日射吸収率が３０％以上であり、
    　前記赤外線反射機能層は、赤外線を反射するための反射層と、該反射層の室内側の表面に積層される保護層とを含み、
    　前記保護層側表面の垂直放射率が０．５０以下である
    　赤外線反射機能付き透光性基板。
  2. 　室内と室外とを隔てるように配置され、可視光線透過率が５０％以上である透光性基板層と、該透光性基板層の室内側の表面に積層され、可視光線透過率が５０％以下である赤外線反射機能層とを備え、
    　前記透光性基板層の日射吸収率が３０％以上であり、
    　前記赤外線反射機能層は、赤外線を反射するための反射層と、該反射層の室内側の表面に積層される保護層とを含み、
    　前記赤外線反射機能層の前記保護層側表面の垂直放射率が０．５０以下である
    　赤外線反射機能付き透光性基板。
  3. 　前記赤外線反射機能層は、前記透光性基板層の室内側の表面に貼付される赤外線反射フィルムである請求項１に記載の赤外線反射機能付き透光性基板。
  4. 　前記赤外線反射機能層は、前記透光性基板層の室内側の表面に貼付される赤外線反射フィルムである請求項２に記載の赤外線反射機能付き透光性基板。
  5. 　前記透光性基板層は、ガラス又は樹脂基板である請求項１に記載の赤外線反射機能付き透光性基板。
  6. 　前記透光性基板層は、ガラス又は樹脂基板である請求項２に記載の赤外線反射機能付き透光性基板。
  7. 　前記保護層は、前記反射層に積層されるハードコート層を含む請求項１に記載の赤外線反射機能付き透光性基板。
  8. 　前記保護層は、前記反射層に積層されるハードコート層を含む請求項２に記載の赤外線反射機能付き透光性基板。
     
PCT/JP2013/067130 2012-06-21 2013-06-21 赤外線反射機能付き透光性基板 WO2013191285A1 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP13807056.0A EP2865519B1 (en) 2012-06-21 2013-06-21 Light transmitting substrate with infrared light reflecting function
JP2014521527A JP6326368B2 (ja) 2012-06-21 2013-06-21 赤外線反射機能付き透光性基板
CN201380033062.6A CN104411486B (zh) 2012-06-21 2013-06-21 带红外线反射功能的透光性基板
US14/409,925 US9477023B2 (en) 2012-06-21 2013-06-21 Visible light-transmissive and infrared-reflective substrate
ES13807056.0T ES2639557T3 (es) 2012-06-21 2013-06-21 Substrato de transmisión de luz con función de reflexión de luz infrarroja
KR1020157001035A KR102041003B1 (ko) 2012-06-21 2013-06-21 적외선 반사 기능이 있는 투광성 기판

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012-140105 2012-06-21
JP2012140105 2012-06-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013191285A1 true WO2013191285A1 (ja) 2013-12-27

Family

ID=49768876

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/067130 WO2013191285A1 (ja) 2012-06-21 2013-06-21 赤外線反射機能付き透光性基板

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9477023B2 (ja)
EP (1) EP2865519B1 (ja)
JP (1) JP6326368B2 (ja)
KR (1) KR102041003B1 (ja)
CN (1) CN104411486B (ja)
ES (1) ES2639557T3 (ja)
WO (1) WO2013191285A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160066594A (ko) * 2014-12-02 2016-06-13 삼성디스플레이 주식회사 편광 부재 및 이를 포함하는 표시 장치
JP2016186627A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 日立マクセル株式会社 透明スクリーン機能を備えた透明遮熱部材
JP2020503545A (ja) * 2016-12-16 2020-01-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 赤外線を反射する光学的に透明なアセンブリ及びその製造方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108697053B (zh) * 2016-02-29 2021-01-01 帝人薄膜解决有限公司 农用棚、使用该农用棚的植物栽培方法和热射线反射膜结构体
US10838126B2 (en) * 2016-09-19 2020-11-17 Apple Inc. Electronic devices with infrared blocking filters
JP2019044461A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 立川ブラインド工業株式会社 日射遮蔽装置およびスラット
KR102341650B1 (ko) * 2017-09-28 2021-12-21 동우 화인켐 주식회사 포스 터치 센서 및 그 제조방법
CN113739244A (zh) * 2021-08-18 2021-12-03 浙江大学 一种可见光透明辐射散热组件

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5810228B2 (ja) * 1977-12-21 1983-02-24 帝人株式会社 積層体
JPS6151762B2 (ja) * 1979-05-10 1986-11-10 Teijin Ltd
JPH0710609A (ja) * 1993-06-29 1995-01-13 Central Glass Co Ltd 熱遮断ガラスおよびそれを用いた複層ガラス
JPH07315889A (ja) * 1994-03-30 1995-12-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd 熱線遮蔽ガラスおよび熱線遮蔽ガラス複合体
JPH11157881A (ja) * 1997-09-18 1999-06-15 Central Glass Co Ltd 低放射ガラス積層体
JP2001179887A (ja) 1999-12-27 2001-07-03 Teijin Ltd 窓貼用熱線反射フィルム
JP2001310407A (ja) * 2000-04-28 2001-11-06 Teijin Ltd 透明積層フィルム
JP2005343113A (ja) 2004-06-07 2005-12-15 Lintec Corp 日射遮蔽フィルム及びその製造方法
JP2011207223A (ja) * 2010-03-12 2011-10-20 Toray Ind Inc 遠赤外線反射性積層体
JP2012013965A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Dainippon Printing Co Ltd 選択波長反射フィルム
JP2012018228A (ja) * 2010-07-06 2012-01-26 Dainippon Printing Co Ltd 選択波長反射フィルム
JP2012032759A (ja) * 2010-06-30 2012-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 選択波長反射フィルム
WO2013122227A1 (ja) * 2012-02-16 2013-08-22 日東電工株式会社 赤外線反射基板の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4166876A (en) 1977-03-28 1979-09-04 Teijin Limited Transparent, electrically conductive laminated structure and process for production thereof
US5956175A (en) * 1998-07-31 1999-09-21 Msc Specialty Films Inc Solar control window film
US6602608B2 (en) * 2001-11-09 2003-08-05 Guardian Industries, Corp. Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same
CN101072735B (zh) 2004-12-06 2011-08-10 日本板硝子株式会社 具有光催化剂功能和红外线反射功能的玻璃构件以及使用该玻璃构件的多层玻璃
JPWO2006112370A1 (ja) * 2005-04-15 2008-12-11 旭硝子株式会社 赤外線遮蔽層付きガラス板およびその製造方法
CN101288007A (zh) * 2005-10-26 2008-10-15 中央硝子株式会社 近红外线反射基板和利用该基板的近红外线反射层叠玻璃、近红外线反射双层玻璃
US20090237782A1 (en) 2005-10-26 2009-09-24 Central Glass Company, Limited Near Infrared Ray Reflective Substrate And Near Infrared Ray Reflective Laminated Glass Employing That Substrate, Near Infrared Ray Reflective Double Layer Glass
CN100562767C (zh) * 2007-01-26 2009-11-25 日鹤实业股份有限公司 多层隔热膜贴片
CN101156765A (zh) 2007-11-07 2008-04-09 西安西川医疗器械有限公司 便携式电子内窥镜
CN102834258B (zh) * 2010-03-01 2016-01-20 Cp菲林有限公司 低发射率的emi屏蔽窗膜
CN201773236U (zh) * 2010-08-23 2011-03-23 潘彩玲 光能驱动变色膜
KR101248597B1 (ko) 2011-11-07 2013-03-28 한국전력기술 주식회사 태양광발전모듈의 적층시스템

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5810228B2 (ja) * 1977-12-21 1983-02-24 帝人株式会社 積層体
JPS6151762B2 (ja) * 1979-05-10 1986-11-10 Teijin Ltd
JPH0710609A (ja) * 1993-06-29 1995-01-13 Central Glass Co Ltd 熱遮断ガラスおよびそれを用いた複層ガラス
JPH07315889A (ja) * 1994-03-30 1995-12-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd 熱線遮蔽ガラスおよび熱線遮蔽ガラス複合体
JPH11157881A (ja) * 1997-09-18 1999-06-15 Central Glass Co Ltd 低放射ガラス積層体
JP2001179887A (ja) 1999-12-27 2001-07-03 Teijin Ltd 窓貼用熱線反射フィルム
JP2001310407A (ja) * 2000-04-28 2001-11-06 Teijin Ltd 透明積層フィルム
JP2005343113A (ja) 2004-06-07 2005-12-15 Lintec Corp 日射遮蔽フィルム及びその製造方法
JP2011207223A (ja) * 2010-03-12 2011-10-20 Toray Ind Inc 遠赤外線反射性積層体
JP2012013965A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Dainippon Printing Co Ltd 選択波長反射フィルム
JP2012032759A (ja) * 2010-06-30 2012-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 選択波長反射フィルム
JP2012018228A (ja) * 2010-07-06 2012-01-26 Dainippon Printing Co Ltd 選択波長反射フィルム
WO2013122227A1 (ja) * 2012-02-16 2013-08-22 日東電工株式会社 赤外線反射基板の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2865519A4

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160066594A (ko) * 2014-12-02 2016-06-13 삼성디스플레이 주식회사 편광 부재 및 이를 포함하는 표시 장치
KR102353632B1 (ko) * 2014-12-02 2022-01-20 삼성디스플레이 주식회사 편광 부재 및 이를 포함하는 표시 장치
JP2016186627A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 日立マクセル株式会社 透明スクリーン機能を備えた透明遮熱部材
JP2020503545A (ja) * 2016-12-16 2020-01-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 赤外線を反射する光学的に透明なアセンブリ及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2865519A1 (en) 2015-04-29
JPWO2013191285A1 (ja) 2016-05-26
KR102041003B1 (ko) 2019-11-05
CN104411486A (zh) 2015-03-11
CN104411486B (zh) 2017-07-21
EP2865519A4 (en) 2016-01-20
JP6326368B2 (ja) 2018-05-16
KR20150023769A (ko) 2015-03-05
US20150192716A1 (en) 2015-07-09
EP2865519B1 (en) 2017-08-09
ES2639557T3 (es) 2017-10-27
US9477023B2 (en) 2016-10-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6326368B2 (ja) 赤外線反射機能付き透光性基板
JP5859476B2 (ja) 赤外線反射フィルム
JP2013010341A (ja) 赤外線反射フィルム
WO2013089185A1 (ja) 赤外線反射フィルム
JP2011509193A5 (ja)
WO2016021543A1 (ja) 赤外線反射フィルム
WO2013122227A1 (ja) 赤外線反射基板の製造方法
JP6163196B2 (ja) 赤外線反射フィルム
JP2014141015A (ja) 積層フィルム
WO2013115233A1 (ja) 赤外線反射フィルム
JP2015001625A (ja) 赤外線反射フィルム
KR20180012357A (ko) 근적외선 흡수 및 원적외선 반사 기능을 동시에 갖는 적외선 차단 필름
JP2017185669A (ja) 遮熱フィルムと遮熱合わせガラス
WO2013089187A1 (ja) 赤外線反射フィルム
WO2013115237A1 (ja) 低摩擦基材の製造方法
JP2013144426A (ja) 赤外線反射フィルム
JP2015001624A (ja) 赤外線反射フィルム
JP2013145357A (ja) 赤外線反射フィルム
JP2020049757A (ja) 光学用光透過性積層体および光学用光透過性積層体の製造方法
JP2013257391A (ja) 赤外線反射フィルムの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13807056

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014521527

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14409925

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2013807056

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013807056

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20157001035

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A