WO2013179605A1 - フィルムコンデンサ - Google Patents

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WO2013179605A1
WO2013179605A1 PCT/JP2013/003179 JP2013003179W WO2013179605A1 WO 2013179605 A1 WO2013179605 A1 WO 2013179605A1 JP 2013003179 W JP2013003179 W JP 2013003179W WO 2013179605 A1 WO2013179605 A1 WO 2013179605A1
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WO
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electrode layer
electrode
film
small
dielectric
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PCT/JP2013/003179
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竹岡 宏樹
康大 平木
Original Assignee
パナソニック株式会社
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    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004Details
    • H01G9/08Housing; Encapsulation
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    • H01G9/15Solid electrolytic capacitors
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    • Y02T10/60Other road transportation technologies with climate change mitigation effect
    • Y02T10/70Energy storage systems for electromobility, e.g. batteries

Definitions

  • the present invention relates to a film capacitor used for various electronic devices, electrical devices, industrial devices, automobiles, and the like, and more particularly, for smoothing motor drive inverter circuits in hybrid vehicles, for filters, and for snubbers.
  • HEVs hybrid vehicles
  • Film capacitors are generally classified into those using metal foil as an electrode and those using a metal film formed on a dielectric film by vapor deposition or the like as an electrode.
  • the film capacitor which uses the metal film formed by vapor deposition etc. as an electrode has a small volume which an electrode occupies compared with the thing of metal foil, and can attain size reduction and weight reduction.
  • the electrode layer formed by vapor deposition, etc. evaporates and scatters around the defective part that caused the insulation failure, and the function of the capacitor is recovered.
  • a self-healing function generally called self-healing is obtained, and dielectric breakdown occurs. High reliability. The thinner the electrode layer, the easier it is to evaporate and scatter and the better the self-healing property, the higher the withstand voltage.
  • FIG. 7 is a perspective view of a capacitor element 1 of a conventional film capacitor.
  • Capacitor element 1 has a pair of metallized films 4 formed each having dielectric film 2 and electrode layer 3 formed on dielectric film 2. The pair of metallized films 4 are wound so that the respective electrode layers 3 face each other with the dielectric film 2 therebetween. A pair of external electrodes 6 are formed on both end faces of the capacitor element 1.
  • the electrode layer 3 is divided into a plurality of small electrode portions 7, and the plurality of small electrode portions 7 are connected by fuses 8.
  • a small electrode portion 7 of the plurality of small electrode portions 7 is short-circuited and an overcurrent flows, the fuse 8 connected to the small electrode portion 7 is melted and this small electrode portion 7 becomes another small electrode portion. 7, and the insulation of the entire plurality of small electrode portions 7 is restored. Therefore, the capacity is slightly reduced by this operation, but the withstand voltage can be kept high.
  • a resin film such as polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or polyphenyl sulfide is used.
  • a styrenic polymer having a syndiotactic structure has been used as a new film material in order to increase heat resistance.
  • Patent Document 1 A conventional film capacitor using a film made of a styrene polymer having a syndiotactic structure is described in Patent Document 1, for example.
  • the film capacitor includes first and second electrode layers, and a dielectric film disposed between the first and second electrode layers.
  • the dielectric film mainly contains a styrenic polymer having a syndiotactic structure.
  • the first electrode layer includes a plurality of first small electrode portions and a first fuse connecting the plurality of first small electrode portions. A value obtained by dividing the area of each of the plurality of first small electrode portions by the cube of the film thickness of the dielectric film is 0.4 ⁇ 10 13 / m or more and 5.0 ⁇ 10 13 / m or less.
  • FIG. 1 is a perspective view of a capacitor element of a film capacitor according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a top view of the electrode layer of the capacitor element according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram showing the evaluation results of the film capacitor in the embodiment.
  • FIG. 4 is a diagram showing the evaluation results of the film capacitor in the embodiment.
  • FIG. 5 is a top view of an electrode layer of another capacitor element according to the embodiment.
  • FIG. 6 is a top view of an electrode layer of still another capacitor element according to the embodiment.
  • FIG. 7 is a perspective view of a conventional capacitor element.
  • FIG. 1 is a perspective view of a capacitor element 9 of a film capacitor according to an embodiment.
  • Capacitor element 9 includes metallized films 51 and 52 and external electrodes 15A and 15B.
  • the metallized film 51 has a dielectric film 12 and an electrode layer 10 provided on the dielectric film 12.
  • the metallized film 52 includes the dielectric film 13 and the electrode layer 11 provided on the dielectric film 13.
  • the electrode layer 10 is a positive electrode layer and the electrode layer 11 is a negative electrode layer.
  • the polarity may be reversed, or the polarity may be nonpolar.
  • the dielectric film 12 has a surface 12A and a surface 12B opposite to the surface 12A, and the electrode layer 10 is provided on the surface 12A.
  • the dielectric film 13 has a surface 13A and a surface 13B opposite to the surface 13A, and the electrode layer 11 is provided on the surface 13A.
  • the metallized films 51 and 52 are laminated and wound so that the electrode layer 11 is located on the surface 12B of the dielectric film 12 and the electrode layer 10 is located on the surface 13B of the dielectric film 13. .
  • the dielectric film 12 is disposed between the electrode layer 10 and the electrode layer 11 in a certain layer, and the electrode layer 10 and the electrode are disposed in a layer adjacent to the layer.
  • a dielectric film 13 is disposed between the layer 11.
  • the dielectric films 12 and 13 are made of a resin containing, as a main material, a styrene polymer having a syndiotactic structure.
  • the main material of the resin is a material that occupies 50 wt% or more of the resin.
  • At least one of the electrode layer 10 and the electrode layer 11 has a plurality of small electrode portions 14 and a plurality of fuses connecting the plurality of small electrode portions 14.
  • the A value which is a value obtained by dividing the area of each of the plurality of small electrode portions 14 by the cube of the film thickness of the dielectric films 12, 13, is 0.4 ⁇ 10 13 / m or more and 5.0 ⁇ 10 13 / m or less. It is.
  • the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are made of a conductive material such as aluminum, zinc, magnesium, silicon, or an alloy thereof.
  • the dielectric films 12 and 13 are biaxially stretched films containing a styrene polymer having a syndiotactic structure as a main constituent component.
  • the dielectric films 12 and 13 may further contain additives such as an antioxidant, an amorphous polymer, and inert fine particles in addition to the styrene polymer.
  • the styrenic polymer having a syndiotactic structure has a three-dimensional structure in which phenyl groups and substituted phenyl groups as side chains are alternately located in opposite directions with respect to the main chain formed from carbon-carbon bonds.
  • tacticity is quantified by nuclear magnetic resonance (13C-NMR) with isotope carbon, and the abundance ratio of a plurality of consecutive structural units, for example, dyad for two, triad for three, In the case of a piece, it can be indicated by a pentad or the like.
  • 13C-NMR nuclear magnetic resonance
  • the syndiotactic styrenic polymer is 75% or more, preferably 85% or more by racemic diad (r), or 30% or more by racemic pentad (rrrr), preferably Is 50% or more of syndiotactic polystyrene, poly (alkyl styrene), poly (halogenated styrene), poly (alkoxy styrene), poly (vinyl benzoate), or some of these benzene rings are hydrogen It refers to a polymer or a mixture thereof, or a copolymer containing these structural units.
  • poly (alkyl styrene) examples include poly (methyl styrene), poly (ethyl styrene), poly (propyl styrene), poly (butyl styrene), poly (phenyl styrene), poly (vinyl naphthalene), poly (vinyl styrene), Poly (acenaphthylene) etc.
  • poly (halogenated styrene) examples include poly (chlorostyrene), poly (bromostyrene), and poly (fluorostyrene).
  • poly (alkoxystyrene) examples include poly (methoxystyrene) and poly (ethoxystyrene).
  • particularly preferred styrenic polymers include polystyrene, poly (p-methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (pt-butylstyrene), poly (p-chlorostyrene), and poly (p-chlorostyrene).
  • polystyrene poly (p-methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (pt-butylstyrene), poly (p-chlorostyrene), and poly (p-chlorostyrene).
  • M-chlorostyrene poly (p-fluorostyrene)
  • a copolymer of styrene and p-methylstyrene are particularly preferred styrene.
  • a copolymer component can be added to a styrene polymer and used as a copolymer.
  • olefin monomers such as ethylene, propylene, butene, hexene and octene
  • diene monomers such as butadiene and isoprene
  • cyclic diene monomers and methacrylic acid are used as monomers to be bonded to the monomers constituting the above-mentioned styrenic polymer.
  • examples thereof include polar vinyl monomers such as methyl, maleic anhydride and acrylonitrile.
  • Such a styrene polymer having a syndiotactic structure is much more excellent in heat resistance than a styrene polymer having an atactic structure.
  • an additive such as an antistatic agent can be blended with the styrenic polymer having a syndiotactic structure in the embodiment, if necessary.
  • the compounding quantity of an additive 10 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of styrene-type polymers.
  • the compounding amount of the additive exceeds 10 parts by mass, the dielectric films 12 and 13 are liable to break during stretching, and the dielectric films 12 and 13 may not be stably produced.
  • the antioxidant added to the styrene polymer is preferably a primary antioxidant, and among them, a phenolic antioxidant is particularly preferable.
  • the primary antioxidant is excellent in corrosion resistance and can further increase the dielectric breakdown voltage.
  • the antioxidant is contained in the dielectric films 12 and 13 by 0.1 mass% or more and 8.0 mass% or less based on the mass of the dielectric films 12 and 13.
  • Dielectric films 12 and 13 having a high breakdown voltage can be obtained by containing the antioxidant in the above-mentioned range.
  • the addition effect of antioxidant is not enough, a dielectric breakdown voltage falls, and it is inferior to an electrical property.
  • antioxidants may aggregate in the dielectric films 12 and 13, and a dielectric breakdown voltage may become low.
  • examples of the amorphous polymer blended in the styrene polymer include amorphous polymers having a glass transition temperature of 130 ° C. or higher.
  • the amorphous polymer preferably has a glass transition temperature higher than that of the styrene polymer.
  • the glass transition temperature as a mixture of the styrene polymer and the amorphous polymer is increased, the heat resistance is improved, and the dielectric breakdown voltage at a high temperature is increased. Get higher. Furthermore, the thermal contraction of the dielectric films 12 and 13 can be suppressed.
  • the amorphous polymer include polyphenylene ether.
  • the content of the amorphous polymer is preferably about 5.0% by mass or more and 48% by mass or less with respect to the above-mentioned styrenic polymer.
  • the electrical characteristics and heat resistance can be improved by setting the ratio of the amorphous polymer content to the antioxidant content to about 5 to 30. .
  • the dielectric films 12 and 13 of the embodiment may contain inert fine particles.
  • the dielectric films 12 and 13 are easily slid and wound easily by the inert fine particles. Further, air permeation of the dielectric films 12 and 13 can be prevented while maintaining a high dielectric breakdown voltage.
  • the average particle diameter of the inert fine particles is preferably 0.05 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less.
  • the inert fine particles may be organic fine particles or inorganic fine particles. A mixture thereof may also be used.
  • organic fine particles examples include polystyrene resin particles, silicone resin particles, and acrylic resin particles. These inert fine particles are preferably spherical.
  • the spherical silicone resin particles have particularly high heat resistance due to a synergistic effect when polyphenylene ether is used as the amorphous polymer.
  • examples of inorganic fine particles include calcium carbonate particles and silica particles.
  • the inorganic fine particles are also preferably spherical.
  • the content of inert fine particles is preferably about 5.0% by mass or less when the dielectric films 12 and 13 are 100% by mass as a whole.
  • additives include, for example, resins such as an atactic styrene polymer, an isotactic styrene polymer, and a styrene-maleic anhydride copolymer. These resins are easily compatible with the styrenic polymer having a syndiotactic structure, and are effective in controlling crystallization when producing a preform for stretching. Further, it is possible to obtain a film having improved stretchability, easy control of stretching conditions, and excellent mechanical properties.
  • the content of these resins is preferably 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the styrenic polymer having a syndiotactic structure.
  • the dielectric films 12 and 13 have low compatibility with styrenic polymers such as polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides such as nylon 6 and nylon 6, 6, and polyvinyl alcohol.
  • styrenic polymers such as polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamides such as nylon 6 and nylon 6, 6, and polyvinyl alcohol.
  • a small amount of resin may be added.
  • Such an incompatible resin can be dispersed in an island shape in a styrenic polymer having a syndiotactic structure, can give a suitable gloss after stretching, and can improve surface slipperiness.
  • the content of the incompatible resin component is preferably 20 parts by mass or less.
  • Additives such as antistatic agents, colorants, weathering agents and the like can be further added to
  • Capacitor element 9 in the embodiment has a high withstand voltage and a long life as described below.
  • Example 1 A sample of Example 1 of the capacitor element 9 of the film capacitor in the embodiment was prepared.
  • the electrode layer 10 is formed on the surface 12A of the dielectric film 12 by vapor deposition.
  • the electrode layer 11 is formed on the surface 13A of the dielectric film 13 by vapor deposition.
  • the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are wound through dielectric films 12 and 13.
  • the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are formed by vapor deposition on one surface 12A of the dielectric film 12 and one surface 13A of the dielectric film 13, respectively.
  • the electrode layer 10 may be deposited on the surface 12A of the dielectric film 12, and the electrode layer 11 may be deposited on the surface 12B. In this case, the electrode layer is not formed on the dielectric film 13.
  • one of the electrode layer 10 and the electrode layer 11 may be deposited on the dielectric film 12, and the other may be formed of a foil.
  • Example 1 the surface roughness Ra of the surfaces 12A and 13A of the dielectric films 12 and 13 on which the electrode layers 10 and 11 are formed is 45 nm, and the surface roughness Ra of the opposite surfaces 12B and 13B is 15 nm. Thus, the surface roughness of the surfaces 12A and 13A is larger than that of the surfaces 12B and 13B, respectively.
  • Example 1 the main component of the electrode layer 10 and the electrode layer 11 is aluminum.
  • external electrodes 15A and 15B are formed on both ends of the capacitor element 9.
  • the external electrodes 15A and 15B can be formed, for example, by spraying zinc on the end of the capacitor element 9.
  • the external electrode 15A is electrically connected to the electrode layer 10
  • the external electrode 15B is electrically connected to the electrode layer 11 to draw out the respective electrodes.
  • the dielectric film 12 extends in the width direction DW and has opposite ends 12C and 12D.
  • the dielectric film 13 extends in the width direction DW and has opposite ends 13C and 13D.
  • the end portions 12C, 13D of the dielectric films 12, 13 are positioned in the same direction with respect to the dielectric films 12, 13, and the end portions 12D, 13C of the dielectric films 12, 13 are positioned in the same direction with respect to the dielectric films 12, 13. .
  • the end portion 12C of the dielectric film 12 coincides with the end portion 10A of the electrode layer 10
  • the end portion 13C of the dielectric film 13 coincides with the end portion 11A of the electrode layer 11.
  • the external electrode 15A is provided on the end portions 12C and 13D of the dielectric films 12 and 13, and the external electrode 15B is provided on the end portions 12D and 13C of the dielectric films 12 and 13.
  • the external electrode 15A is connected to the end 10A of the electrode layer 10.
  • a low resistance portion 16A having a locally increased film thickness is formed at the end portion 10A.
  • the low resistance portion 16 ⁇ / b> A can be formed by depositing a metal such as zinc or aluminum on the electrode layer 10 made of aluminum, and has a lower resistance value than the electrode layer 10.
  • the electrode layer 10 is not formed on the end portion 12D of the dielectric film 12, and constitutes an insulation margin portion 17A.
  • the insulation margin portion 17A can secure an insulation distance between the electrodes.
  • the electrode layer 11 is connected to the end portion 11 ⁇ / b> A of the electrode layer 11 with the external electrode 15 ⁇ / b> B.
  • a low resistance portion 16B having a locally increased film thickness is formed at the end portion 11A.
  • the low resistance portion 16B can be formed by vapor-depositing a metal such as zinc or aluminum on the electrode layer 11 made of aluminum, and has a lower resistance value than the electrode layer 11.
  • the electrode layer 11 is not formed on the end portion 13D of the dielectric film 13, and constitutes an insulation margin portion 17B.
  • the insulation margin part 17B can secure an insulation distance between the electrodes.
  • FIG. 2 is a top view of the electrode layer 10 formed on the dielectric film 12 and the electrode layer 11 formed on the dielectric film 13.
  • the electrode layer 10 and the electrode layer 11 have effective electrode portions 10E and 11E that face each other and form a capacitance of a capacitor.
  • the effective electrode portion 10E of the electrode layer 10 includes a large electrode portion 18 located on the end portion 10A side and a plurality of small electrode portions 14 located on the end portion 10B side in a direction DX connecting the external electrodes 15A and 15B. It comprises a plurality of fuses 20 connecting the large electrode portion 18 and the plurality of small electrode portions 14.
  • the plurality of small electrode portions 14 are separated by slits 19 in the length direction DL and the width direction DW.
  • the electrode layer 10 is not formed in the slit 19.
  • the small electrode portions 14 are arranged in two rows in the length direction DL.
  • a plurality of small electrode portions 14 separated by the slits 19 and the small electrode portions 14 and the large electrode portions 18 are electrically connected by a fuse 20.
  • the fuse 20 is a part of the electrode layer 10 and is formed integrally with the large electrode portion 18 and the small electrode portion 14 to constitute the electrode layer 10.
  • the large electrode portion 18 is not divided by the slit 19.
  • the entire effective electrode portion 10E may be formed by a plurality of small electrode portions 14, but a plurality of small electrode portions 14 and a large electrode portion 18 may be combined as in the first embodiment.
  • the large electrode portion 18 is disposed closer to the external electrode 15 ⁇ / b> A than the plurality of small electrode portions 14. Since a large current flows through the portion of the electrode layer 10 close to the external electrode 15A, the heat generation of the capacitor element 9 can be suppressed by reducing the resistance of the portion close to the external electrode 15A.
  • the effective electrode portion 11E of the electrode layer 11 includes a large electrode portion 18 located on the end portion 11A side, a plurality of small electrode portions 14 located on the end portion 11B side, a large electrode portion 18 and a plurality of small electrode portions. It consists of a plurality of fuses 20 connecting the electrode part 14.
  • the plurality of small electrode portions 14 are separated by slits 19 in the length direction DL and the width direction DW.
  • the electrode layer 11 is not formed in the slit 19.
  • the small electrode portions 14 are arranged in two rows in the length direction DL.
  • a plurality of small electrode portions 14 separated by the slits 19 and the small electrode portions 14 and the large electrode portions 18 are electrically connected by a fuse 20.
  • the fuse 20 is a part of the electrode layer 11 and is formed integrally with the large electrode portion 18 and the small electrode portion 14 to constitute the electrode layer 11.
  • the large electrode portion 18 is not divided by the slit 19.
  • the entire effective electrode portion 11E may be formed by a plurality of small electrode portions 14, but a plurality of small electrode portions 14 and a large electrode portion 18 may be combined as in the first embodiment.
  • the large electrode portion 18 is disposed closer to the external electrode 15 ⁇ / b> B than the plurality of small electrode portions 14. Since a large current flows through a portion of the electrode layer 11 close to the external electrode 15B, heat generation of the capacitor element 9 can be suppressed by reducing the resistance of the portion close to the external electrode 15B.
  • the plurality of small electrode portions 14 of the electrode layer 10 are opposed to the large electrode portion 18 of the electrode layer 11 through the dielectric films 12 and 13, and the plurality of small electrode portions 14 of the electrode layer 11 are connected to the dielectric films 12 and 13. It faces the large electrode portion 18 of the electrode layer 10.
  • the dielectric films 12 and 13 of the capacitor element 9 of Example 1 contain a styrenic polymer having a syndiotactic structure as a main component, and further contain polyphenylene ether as an amorphous polymer. Further contains fine particles.
  • the surface 12A, the thickness d 1 is the distance between 12B of the dielectric film 12 is 2.0 .mu.m, 2.5 [mu] m, a 3.0 [mu] m.
  • the area of the plurality of small electrode portions 14 is substantially the same for both the electrode layer 10 and the electrode layer 11. Moreover, the area of the small electrode part 14 was changed for every sample.
  • FIG. 3 shows the evaluation result of Example 1 of the capacitor element 9 of the film capacitor according to the embodiment.
  • a value, safety and life characteristics are shown.
  • the security means that when an insulation failure occurs around a part of the small electrode parts 14 of the plurality of small electrode parts 14, the fuse 20 connected to the part of the small electrode parts 14 operates. Refers to the ability to melt and prevent a short circuit between the electrode layer 10 and the electrode layer 11.
  • the length L 1 is the length of the small electrode portion 14 in the length direction DL shown in FIG.
  • Width W 1 is the width of the small electrode portions 14 in the width direction DW.
  • the film thickness d 1 is the film thickness of the dielectric films 12 and 13.
  • security is defined as follows.
  • the voltage between the external electrodes 15A and 15B is boosted from zero at a constant voltage under the condition that the environmental temperature is 125 ° C., and the voltage is increased until the capacitance change from the initial capacitance of the capacitor element 9 becomes ⁇ 50%.
  • the pressure was increased. Thereafter, the capacitor element 9 was disassembled and visually observed.
  • a sample in which the fuse 20 operated normally is indicated by “G”.
  • the fuse 20 operated almost normally, but a small dielectric breakdown occurred in a part of the dielectric films 12 and 13.
  • a sample in which a trace is seen is indicated by “F”, and a sample in which a large dielectric breakdown trace is seen in the dielectric films 12 and 13 and the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are short-circuited is indicated by “NG”.
  • the life characteristics are defined as follows.
  • a sample whose capacity reduction rate is within 5% of the initial capacity is indicated by “G”, and the capacity reduction rate is 5
  • Samples greater than 10% and less than or equal to 10% are denoted by “F”
  • samples with a capacity reduction rate greater than 10% are denoted by “NG”.
  • sample No. A value is less than 0.4 ⁇ 10 13 / m 6 and 11 have low security.
  • Sample No. A having an A value of 0.4 ⁇ 10 13 / m No. 12 has good security. Also, other samples having an A value larger than 0.4 ⁇ 10 13 / m have good security.
  • the fuse 20 operates stably with the energy applied to the small electrode portion 14.
  • the dielectric films 12 and 13 have a film thickness d 1 and a dielectric constant ⁇ , and the area of the small electrode portion 14 is the area S 1 , the applied voltage V is static between the electrode layer 10 and the electrode layer 11.
  • the energy E applied to one small electrode portion 14 forming the capacitance C can be obtained by the following equation.
  • Example 1 as the dielectric films 12 and 13, a polystyrene polymer having a syndiotactic structure is used, and by setting the A value to 0.4 ⁇ 10 13 / m or more, the small electrode portion 14 has an appropriate size. Thus, when an excessive voltage is applied, the fuse 20 operates stably. As a result, the self-healing property of the film capacitor is increased and the withstand voltage can be increased.
  • sample A value is less than 0.4 ⁇ 10 13 / m or more 5.0 ⁇ 10 13 / m No. In 1 to 3, 7 to 10, and 12 to 15, the rate at which the capacitance of the capacitor element 9 decreases is slow and the life is long.
  • Sample No. A having an A value of 5.0 ⁇ 10 13 / m 4 the life can be made relatively long. Compared with 1-3, 7-10, 12-15, the life is slightly shorter.
  • Sample No. A having an A value of 7.5 ⁇ 10 13 / m 5 the lifetime is short, and the capacity of the capacitor element 9 decreases quickly.
  • each small electrode portion 14 has an appropriate size, and when the fuse 20 is operated, the insulation is efficiently recovered, and electrostatic The influence on the capacity can be reduced.
  • Sample No. A having an A value of 0.2 ⁇ 10 13 / m. 11, since the fuse 20 is difficult to operate, the life of the capacitor element 9 is short, and the capacity is quickly reduced.
  • the A value is set to 0.4 ⁇ 10 13 / m or more and 5.0 ⁇ 10 13 / m or less, so that the safety of the capacitor element 9 is improved and the long life characteristics are obtained. Can be realized. Further, as shown in FIG. 3, a film capacitor having an A value of 0.4 ⁇ 10 13 / m or more and 1.3 ⁇ 10 13 / m or less in this range of A values is relatively excellent in life characteristics. . A film capacitor having an A value of 3.8 ⁇ 10 13 / m or more and 5.0 ⁇ 10 13 / m or less is relatively excellent in security. A film capacitor having an A value of 1.3 ⁇ 10 13 / m or more and 3.8 ⁇ 10 13 / m or less is compatible with both life characteristics and security.
  • Example 2 the surface roughness Ra of the surfaces 12A and 13A on which the electrode layers 10 and the electrode layers 11 of the dielectric films 12 and 13 are formed is 15 nm, 20 nm, 45 nm, 100 nm, and 150 nm, respectively. Compared.
  • the width W 1 of the small electrode portion 14 in each sample is 2.0 cm, the length L 1 is 5.0 cm, the area S 1 is 10 cm 2 , and the film thickness d 1 of the dielectric films 12 and 13 is 2.5 ⁇ m.
  • Fig. 4 shows the security of each sample.
  • the security is defined as follows in the same manner as in Example 1.
  • the voltage between the external electrodes 15A and 15B is boosted from zero at a constant voltage under the condition that the environmental temperature is 125 ° C., and the voltage is increased until the capacitance change from the initial capacitance of the capacitor element 9 becomes ⁇ 50%.
  • the pressure was increased. Thereafter, the capacitor element 9 was disassembled and visually observed.
  • a sample in which the fuse 20 operated normally is indicated by “G”.
  • the fuse 20 operated almost normally, but a small dielectric breakdown occurred in a part of the dielectric films 12 and 13.
  • a sample in which a trace is seen is indicated by “F”, and a sample in which a large dielectric breakdown trace is seen in the dielectric films 12 and 13 and the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are short-circuited is indicated by “NG”.
  • FIG. 4 the same as in Example 1.
  • the life characteristics are defined as follows. When the capacitor element 9 is left for 2000 hours under the conditions of an environmental temperature of 125 ° C. and an applied voltage of 600 V, a sample whose capacity reduction rate is within 5% of the initial capacity is indicated by “G”, and the capacity reduction rate is 5 Samples greater than 10% and less than or equal to 10% are denoted by “F”, and samples with a capacity reduction rate greater than 10% are denoted by “NG”.
  • the security is good.
  • the reason is that by forming the electrode layer 10 and the electrode layer 11 on the surface having a surface roughness Ra of 20 nm or more, an appropriate gap is provided between the dielectric films 12 and 13 and the electrode layer 10 and the electrode layer 11. This is because the fuse 20 is easily scattered. As described above, since the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are easily scattered, the fuse 20 operates easily, and as a result, the withstand voltage of the film capacitor can be increased.
  • the life characteristics can be improved by setting the surface roughness Ra of the surfaces 12A and 13A of the dielectric films 12 and 13 to less than 150 nm.
  • the surface roughness Ra is 150 nm or more, the gap between the dielectric films 12 and 13 and the electrode layer 10 and the electrode layer 11 becomes wide, so that the fuse 20 operates excessively and the life characteristics are deteriorated.
  • the surface roughness Ra of the surfaces 12A and 13A is 20 nm or more, the withstand voltage can be increased, and when the surface roughness Ra is less than 150 nm, the life characteristics can be improved.
  • the surfaces 12B and 13B of the dielectric films 12 and 13 on which the electrode layer 10 and the electrode layer 11 are not formed are preferably smooth.
  • the surface roughness Ra of the surfaces 12A and 13A of the dielectric films 12 and 13 is adjusted by the particles added to the dielectric films 12 and 13. Since the addition of particles reduces the insulation performance, it is better to have as few particles as possible.
  • FIG. 5 is a top view of electrode layer 10 and electrode layer 111 of another capacitor element 109 in the embodiment.
  • FIG. 6 is a top view of electrode layer 110 and electrode layer 11 of still another capacitor element 209 according to the embodiment. 5 and 6, the same reference numerals are assigned to the same portions as those of the capacitor element 9 shown in FIGS. 1 and 2.
  • both the electrode layer 10 and the electrode layer 11 have a plurality of small electrode portions 14, and the area of these small electrode portions 14 is reduced to a dielectric film.
  • the A value divided by the cube of the film thickness of 12 and 13 is set to 0.4 ⁇ 10 13 / m or more and 5.0 ⁇ 10 13 / m or less.
  • only one of the electrode layer 10 and the electrode layer 11 includes a plurality of small electrode portions 14, and the area of these small electrode portions 14 is the film of the dielectric films 12 and 13.
  • the A value divided by the cube of the thickness may be 0.4 ⁇ 10 13 / m or more and 5.0 ⁇ 10 13 / m or less.
  • the electrode layer 111 is not divided by the slits 19 and faces the large electrode portion 18 and the plurality of small electrode portions 14 of the electrode layer 10 through the dielectric films 12 and 13. .
  • the electrode layer 10 includes a plurality of small electrode portions 14, and an A value obtained by dividing the area of these small electrode portions 14 by the cube of the thickness of the dielectric films 12 and 13 is 0.4 ⁇ 10 13 / m or more. It is 5.0 ⁇ 10 13 / m or less. This also increases the withstand voltage of the film capacitor.
  • the electrode layer 110 is not divided by the slit 19, and faces the large electrode portion 18 and the plurality of small electrode portions 14 of the electrode layer 11 through the dielectric films 12 and 13. .
  • the electrode layer 11 includes a plurality of small electrode portions 14, and an A value obtained by dividing the area of the small electrode portions 14 by the cube of the film thickness of the dielectric films 12 and 13 is 0.4 ⁇ 10 13 / m or more. It is 5.0 ⁇ 10 13 / m or less. This also increases the withstand voltage of the film capacitor.
  • the film capacitor according to the present invention has an excellent withstand voltage, and can be suitably used as a capacitor for use in various electronic devices, electrical devices, industrial equipment, automobiles, and the like, and particularly for automobiles where high withstand voltage characteristics are required. Useful for.
  • Electrode layer (first electrode layer) 11 Electrode layer (second electrode layer) 12 Dielectric film 12A Surface of dielectric film 12 (first surface) 12B Surface of dielectric film 12 (second surface) 13 Dielectric film 14 Small electrode portion (first small electrode portion, second small electrode portion) 20 fuses (first fuse, second fuse)

Abstract

 フィルムコンデンサは、第1と第2の電極層と、第1と第2の電極層の間に配置された誘電体フィルムとを備える。誘電体フィルムは、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体を主に含有する。第1の電極層は、複数の第1の小電極部と、複数の第1の小電極部を連結する第1のヒューズとを有する。複数の第1の小電極部のそれぞれの面積を誘電体フィルムの膜厚の三乗で除した値が0.4×1013/m以上かつ5.0×1013/m以下である。このフィルムコンデンサは高い耐電圧を有する。

Description

フィルムコンデンサ
 本発明は各種電子機器、電気機器、産業機器、自動車等に使用され、特に、ハイブリッド自動車のモータ駆動用インバータ回路の平滑用、フィルタ用、スナバ等に用いられるフィルムコンデンサに関する。
 近年、環境保護の観点から、あらゆる電気機器がインバータ回路で制御され、省エネルギー化、高効率化が進められている。中でも自動車業界においては、電気モータとエンジンで走行するハイブリッド車(以下、HEVと呼ぶ)が市場導入される等、地球環境に優しく、省エネルギー化、高効率化に関する技術の開発が活発化している。
 このようなHEV用の電気モータは使用電圧領域が数百ボルトと高いため、この電気モータに関連して使用されるコンデンサとして、高耐電圧で低損失の電気特性を有するフィルムコンデンサが注目されている。
 フィルムコンデンサは、一般に金属箔を電極に用いるものと、誘電体フィルム上に蒸着等で形成した金属膜を電極に用いるものとに大別される。中でも、蒸着等で形成した金属膜を電極とするフィルムコンデンサは、金属箔のものに比べて電極の占める体積が小さく、小型軽量化が図れる。また、蒸着等で形成した電極層では、絶縁不良を起こした欠陥部の周辺の部分が蒸発・飛散し、コンデンサの機能が回復する、一般にセルフヒーリング性と呼ばれる自己回復機能が得られ、絶縁破壊に対する高い信頼性を有する。電極層は薄いほど蒸発・飛散しやすく、セルフヒーリング性が良くなるため、耐電圧が高くなる。
 図7は従来のフィルムコンデンサのコンデンサ素子1の斜視図である。コンデンサ素子1は、誘電体フィルム2と、誘電体フィルム2上に形成された電極層3とをそれぞれ有する形成した一対の金属化フィルム4を有する。一対の金属化フィルム4は夫々の電極層3が誘電体フィルム2を介して対向するように重ね合わせて巻回されている。コンデンサ素子1の両端面には一対の外部電極6が形成されている。
 電極層3は複数の小電極部7に分割され、複数の小電極部7間はヒューズ8で連結されている。複数の小電極部7のうちのある小電極部7が短絡して過電流が流れると、この小電極部7と接続されたヒューズ8が溶断してこの小電極部7が他の小電極部7から切り離され、複数の小電極部7全体の絶縁を回復させる。したがって、この動作により容量は若干減少するが、耐電圧を高く保つことが出来る。
 誘電体フィルム2として、ポリプロピレンやポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルサルファイド等の樹脂フィルムが用いられている。しかし、近年、耐熱性を上げるため、新たなフィルム材料として、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体が用いられてきている。
 シンジオタクチック構造のスチレン系重合体よりなるフィルムを用いた従来のフィルムコンデンサは、例えば、特許文献1に記載されている。
国際公開第2011/065585号
 フィルムコンデンサは、第1と第2の電極層と、第1と第2の電極層の間に配置された誘電体フィルムとを備える。誘電体フィルムは、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体を主に含有する。第1の電極層は、複数の第1の小電極部と、複数の第1の小電極部を連結する第1のヒューズとを有する。複数の第1の小電極部のそれぞれの面積を誘電体フィルムの膜厚の三乗で除した値が0.4×1013/m以上かつ5.0×1013/m以下である。
図1は実施の形態におけるフィルムコンデンサのコンデンサ素子の斜視図である。 図2は実施の形態におけるコンデンサ素子の電極層の上面図である。 図3は実施の形態におけるフィルムコンデンサの評価結果を示す図である。 図4は実施の形態におけるフィルムコンデンサの評価結果を示す図である。 図5は実施の形態における他のコンデンサ素子の電極層の上面図である。 図6は実施の形態におけるさらに他のコンデンサ素子の電極層の上面図である。 図7は従来のコンデンサ素子の斜視図である。
 図1は実施の形態におけるフィルムコンデンサのコンデンサ素子9の斜視図である。コンデンサ素子9は、金属化フィルム51、52と外部電極15A、15Bを備える。金属化フィルム51は、誘電体フィルム12と、誘電体フィルム12上に設けられた電極層10とを有する。金属化フィルム52は、誘電体フィルム13と、誘電体フィルム13上に設けられた電極層11とを有する。実施の形態では、電極層10は正極層であり、電極層11は負極層であるが、極性はこの逆であってもよく、また、無極性でもよい。誘電体フィルム12は、面12Aと、面12Aの反対側の面12Bとを有し、電極層10は面12A上に設けられている。誘電体フィルム13は、面13Aと、面13Aの反対側の面13Bとを有し、電極層11は面13A上に設けられている。電極層11が誘電体フィルム12の面12B上に位置し、かつ電極層10が誘電体フィルム13の面13B上に位置するように、金属化フィルム51、52が積層されて巻回されている。このように、積層されて巻回されたコンデンサ素子9では、ある層では電極層10と電極層11との間に誘電体フィルム12が配置され、その層に隣り合う層では電極層10と電極層11との間に誘電体フィルム13が配置される。
 誘電体フィルム12、13はシンジオタクチック構造のスチレン系重合体を主材料として含有する樹脂よりなる。ここで、樹脂の主材料とは、樹脂の50wt%以上を占める材料である。
 電極層10と電極層11のうちの少なくとも一方は、複数の小電極部14と、複数の小電極部14を連結する複数のヒューズとを有する。複数の小電極部14のそれぞれの面積を誘電体フィルム12、13の膜厚の三乗で除した値であるA値は0.4×1013/m以上5.0×1013/m以下である。
 電極層10、電極層11は、アルミニウムや亜鉛、マグネシウム、シリコンなどの導電材料や、これらの合金からなる。
 誘電体フィルム12、13は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体を主な構成成分とする二軸延伸フィルムである。誘電体フィルム12、13はスチレン系重合体に加えて、酸化防止剤や非晶性ポリマー、不活性微粒子等の添加剤をさらに含有していてもよい。
 シンジオタクチック構造のスチレン系重合体は、炭素-炭素結合から形成される主鎖に対して、側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有する。
 一般にタクティシティーは、同位体炭素による核磁気共鳴法(13C-NMR法)により定量され、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペンタッド等によって示すことができる。
 実施の形態におけるフィルムコンデンサでは、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体とは、ラセミダイアッド(r)で75%以上、好ましくは85%以上、あるいはラセミペンタッド(rrrr)で30%以上、好ましくは50%以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル安息香酸エステル)、あるいはこれらのベンゼン環の一部が水素化された重合体やこれらの混合物、またはこれらの構造単位を含む共重合体を指称する。
 ポリ(アルキルスチレン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ(エチルスチレン)、ポリ(プロピルスチレン)、ポリ(ブチルスチレン)、ポリ(フェニルスチレン)、ポリ(ビニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレン)、ポリ(アセナフチレン)等がある。
 ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロスチレン)、ポリ(ブロモスチレン)、ポリ(フロオロスチレン)等がある。
 ポリ(アルコキシスチレン)としては、ポリ(メトキシスチレン)、ポリ(エトキシスチレン)等がある。
 これらのうち、特に好ましいスチレン系重合体としては、ポリスチレン、ポリ(p-メチルスチレン)、ポリ(m-メチルスチレン)、ポリ(p-t-ブチルスチレン)、ポリ(p-クロロスチレン)、ポリ(m-クロロスチレン)、ポリ(p-フルオロスチレン)、またスチレンとp-メチルスチレンとの共重合体が挙げられる。
 さらに、スチレン系重合体に共重合成分を含有させて共重合体として使用することもできる。この共重合体において、上述のスチレン系重合体を構成するモノマーに結合させるモノマーとして、エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン、イソプレン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリル酸メチル、無水マレイン酸、アクリロニトリル等の極性ビニルモノマー等が挙げられる。
 このようなシンジオタクチック構造のスチレン系重合体は、アタクチック構造のスチレン系重合体に比べて耐熱性が格段に優れている。
 実施の形態におけるシンジオタクチック構造のスチレン系重合体には、必要に応じて帯電防止剤等の添加剤を適量配合することができる。添加剤の配合量は、スチレン系重合体100質量部に対して10質量部以下が好ましい。添加剤の配合量が10質量部を越えると、延伸時に誘電体フィルム12、13の破断を起こしやすくなり、安定して誘電体フィルム12、13を生産できなくなる場合がある。
 上記スチレン系重合体に添加する酸化防止剤は、一次酸化防止剤が好ましく、そのなかでもフェノール系酸化防止剤が特に好ましい。一次酸化防止剤は、耐腐食性に優れ、絶縁破壊電圧をより高めることができる。
 酸化防止剤は、誘電体フィルム12、13の質量を基準として0.1質量%以上8.0質量%以下だけ誘電体フィルム12、13に含有される。酸化防止剤を上記範囲の含有量で含有することによって、高い絶縁破壊電圧を有する誘電体フィルム12、13が得られる。酸化防止剤が少なすぎる場合は、酸化防止剤の添加効果が十分でなく、絶縁破壊電圧が低下し、電気的特性に劣る。他方、酸化防止剤が多すぎる場合は、誘電体フィルム12、13中において酸化防止剤が凝集し、絶縁破壊電圧が低くなる場合がある。
 また上記スチレン系重合体に配合する非晶性ポリマーは、ガラス転移温度が130℃以上の非晶性ポリマーが挙げられる。
 非晶性ポリマーとしては、スチレン系重合体のガラス転移温度より高いガラス転移温度を有することが好ましい。スチレン系重合体にこのような非晶性ポリマーを配合すると、スチレン系重合体と非晶性ポリマーの混合体としてのガラス転移温度が高くなり、耐熱性が向上し、かつ高温における絶縁破壊電圧が高くなる。さらに誘電体フィルム12、13の熱収縮を抑制できる。非晶性ポリマーとしては、例えばポリフェニレンエーテルが挙げられる。
 非晶性ポリマーの含有量は、前述のスチレン系重合体に対し、5.0質量%以上48質量%以下程度が好ましい。
 また実施の形態における誘電体フィルム12、13では、上述の非晶性ポリマーの含有量の酸化防止剤の含有量に対する比を5~30程度とすることで、電気的特性および耐熱性を高くできる。
 実施の形態の誘電体フィルム12、13は不活性微粒子を含んでいてもよい。不活性微粒子により誘電体フィルム12、13が容易に滑り、巻取りやすくなる。また高い絶縁破壊電圧を保ったまま、誘電体フィルム12、13のエアー透過を防止することができる。
 不活性微粒子の平均粒径は、0.05μm以上3.0μm以下が好ましい。不活性微粒子は、有機系微粒子であってもよいし、無機系微粒子であってもよい。またこれらの混合物であってもよい。
 有機系微粒子としては、例えばポリスチレン樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子などが挙げられる。これらの不活性微粒子は球状であることが好ましい。球状のシリコーン樹脂粒子は、上述の非晶性ポリマーとしてポリフェニレンエーテルを用いた際に、相乗効果によってとりわけ耐熱性が高くなる。
 また、無機系微粒子としては、炭酸カルシウム粒子、シリカ粒子が挙げられる。無機系微粒子も球状であることが好ましい。
 不活性微粒子の含有量は、誘電体フィルム12、13が全体で100質量%とした場合に、5.0質量%以下程度が好ましい。
 その他の添加剤としては、例えばアタクチック構造のスチレン系重合体、アイソタクチック構造のスチレン系重合体、スチレン-無水マレイン酸共重合体等の樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と相溶しやすく、延伸用予備成形体を作製するときの結晶化の制御に有効である。またその後の延伸性が向上し、延伸条件の制御が容易で、かつ力学物性に優れたフィルムを得ることができる。これら樹脂の含有割合は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体100質量部に対して20質量部以下が好ましい。
 また、誘電体フィルム12、13にポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン6やナイロン6,6等のポリアミド、ポリビニルアルコール等、スチレン系重合体と相溶性の低い樹脂を少量添加してもよい。このような非相溶成樹脂はシンジオタクチック構造のスチレン系重合体中に島状に分散させることができ、延伸後に程良い光沢を与えたり、表面の滑り性を改良したりできる。非相溶性樹脂成分の含有割合は、20質量部以下が好ましい。誘電体フィルム12、13にさらに、帯電防止剤、着色剤、耐候剤等の添加剤を加えることができる。
 図7に示す従来のコンデンサ素子1において、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体の誘電体フィルム2を用いると、電極層3が飛散しにくくなり、ヒューズ8が切れにくくなる。したがって、耐熱性を向上できる一方で、フィルムコンデンサの耐電圧が低下する。実施の形態におけるコンデンサ素子9は、以下に述べるように、高い耐電圧を有し、かつ長寿命である。
 (実施例1)
 実施の形態におけるフィルムコンデンサのコンデンサ素子9の実施例1のサンプルを作成した。
 電極層10は、誘電体フィルム12の面12Aに蒸着によって形成されている。電極層11は、誘電体フィルム13の面13Aに蒸着によって形成されている。電極層10、電極層11は誘電体フィルム12、13を介して巻回されている。
 なお、実施例1では誘電体フィルム12の一方の面12Aと誘電体フィルム13の一方の面13Aに電極層10、電極層11をそれぞれ蒸着で形成する。別の方法として、例えば誘電体フィルム12の面12Aに電極層10を蒸着し、面12Bに電極層11を蒸着してもよく、この場合には誘電体フィルム13には電極層は形成されない。さらに、電極層10と電極層11のうちの一方を誘電体フィルム12上に蒸着し、他方は箔で形成してもよい。
 実施例1において、電極層10、電極層11が形成された誘電体フィルム12、13の面12A、13Aの表面粗度Raは45nmであり、反対側の面12B、13Bの表面粗度Raは15nmである。このように、面12A、13Aの方がそれぞれ面12B、13Bよりも表面粗度が大きい。
 実施例1では、電極層10、電極層11の主成分はアルミニウムである。
 実施例1では、コンデンサ素子9の両端に外部電極15A、15Bが形成されている。外部電極15A、15Bは、例えばコンデンサ素子9の端部に亜鉛を溶射して形成できる。外部電極15Aは電極層10と電気的に接続され、外部電極15Bは電極層11と電気的に接続され、それぞれの電極を引き出している。誘電体フィルム12は幅方向DWに延びて互いに反対側の端部12C、12Dを有し、誘電体フィルム13は幅方向DWに延びて互いに反対側の端部13C、13Dを有する。誘電体フィルム12、13の端部12C、13Dは誘電体フィルム12、13について同じ方向に位置し誘電体フィルム12、13の端部12D、13Cは誘電体フィルム12、13について同じ方向に位置する。誘電体フィルム12の端部12Cは電極層10の端部10Aに一致しており、誘電体フィルム13の端部13Cは電極層11の端部11Aに一致している。外部電極15Aは誘電体フィルム12、13の端部12C、13Dに設けられており、外部電極15Bは誘電体フィルム12、13の端部12D、13Cに設けられている。
 電極層10の端部10Aに外部電極15Aが接続される。端部10Aには局部的に膜厚を大きくした低抵抗部16Aが形成されている。低抵抗部16Aはアルミニウムからなる電極層10上に亜鉛やアルミニウムなどの金属を蒸着して形成でき、電極層10より低い抵抗値を有する。
 誘電体フィルム12の端部12Dには電極層10が形成されておらず、絶縁マージン部17Aを構成している。絶縁マージン部17Aにより、電極間での絶縁距離を確保できる。
 電極層11も電極層10と同様に、電極層11の端部11Aに外部電極15Bが接続される。端部11Aには局部的に膜厚を大きくした低抵抗部16Bが形成されている。低抵抗部16Bはアルミニウムからなる電極層11上に亜鉛やアルミニウムなどの金属を蒸着して形成でき、電極層11より低い抵抗値を有する。
 誘電体フィルム13の端部13Dには電極層11が形成されておらず、絶縁マージン部17Bを構成している。絶縁マージン部17Bにより、電極間での絶縁距離を確保できる。
 図2に誘電体フィルム12上に形成された電極層10と誘電体フィルム13上に形成された電極層11の上面図である。電極層10と電極層11とは互いに対向してコンデンサの容量を形成する有効電極部10E、11Eをそれぞれ有する。
 電極層10の有効電極部10Eは、外部電極15A、15B間を結ぶ方向DXにおいて、端部10A側に位置する大電極部18と、端部10B側に位置する複数の小電極部14と、大電極部18と複数の小電極部14とを接続する複数のヒューズ20からなる。
 複数の小電極部14は、長さ方向DLと、幅方向DWとにおいてスリット19によって分離されている。スリット19には、電極層10が形成されていない。実施例1では、小電極部14は、長さ方向DLで二列に配列されている。
 図2に示すように、スリット19によって分離された複数の小電極部14間と、小電極部14と大電極部18との間はヒューズ20によって電気的に接続されている。ヒューズ20は電極層10の一部であり、大電極部18や小電極部14と一体に形成されて電極層10を構成している。
 大電極部18はスリット19によって区切られていない。有効電極部10Eは全体を複数の小電極部14によって形成してもよいが、実施例1のように複数の小電極部14と大電極部18とを組み合わせてもよい。大電極部18と小電極部14とを組み合わせる場合は、大電極部18を複数の小電極部14に比べて外部電極15Aの近くに配置する。電極層10の外部電極15Aに近い部分には大電流が流れるので、外部電極15Aに近い部分の抵抗を下げることで、コンデンサ素子9の発熱を抑制できる。
 電極層11の有効電極部11Eは、方向DXにおいて、端部11A側に位置する大電極部18と、端部11B側に位置する複数の小電極部14と、大電極部18と複数の小電極部14とを接続する複数のヒューズ20からなる。
 複数の小電極部14は、長さ方向DLと、幅方向DWとにおいてスリット19によって分離されている。スリット19には、電極層11が形成されていない。実施例1では、小電極部14は、長さ方向DLで二列に配列されている。
 図2に示すように、スリット19によって分離された複数の小電極部14間と、小電極部14と大電極部18との間はヒューズ20によって電気的に接続されている。ヒューズ20は電極層11の一部であり、大電極部18や小電極部14と一体に形成されて電極層11を構成している。
 大電極部18はスリット19によって区切られていない。有効電極部11Eは全体を複数の小電極部14によって形成してもよいが、実施例1のように複数の小電極部14と大電極部18とを組み合わせてもよい。大電極部18と小電極部14とを組み合わせる場合は、大電極部18を複数の小電極部14に比べて外部電極15Bの近くに配置する。電極層11の外部電極15Bに近い部分には大電流が流れるので、外部電極15Bに近い部分の抵抗を下げることで、コンデンサ素子9の発熱を抑制できる。
 電極層10の複数の小電極部14は誘電体フィルム12、13を介して電極層11の大電極部18に対向し、電極層11の複数の小電極部14は誘電体フィルム12、13を介して電極層10の大電極部18に対向する。
 実施例1のコンデンサ素子9の誘電体フィルム12、13は、上述したとおり、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体を主成分として含有し、非晶性ポリマーとしてポリフェニレンエーテルをさらに含有し、不活性微粒子をさらに含有する。
 実施例1のサンプルでは、誘電体フィルム12の面12A、12B間の距離である膜厚dは2.0μm、2.5μm、3.0μmである。
 コンデンサ素子9の1つのサンプルにおいて、複数の小電極部14の面積は、電極層10、電極層11ともに全て実質的に同じである。またサンプルごとに小電極部14の面積を変えた。
 図3は実施の形態におけるフィルムコンデンサのコンデンサ素子9の実施例1の評価結果を示し、夫々のサンプルにおける小電極部14の長さL(cm)、幅W(cm)、面積S(cm)、誘電体フィルム12、13の膜厚d(μm)と、小電極部14のそれぞれの面積Sを誘電体フィルム12、13の膜厚の三乗で除した値であるA値と、保安性、寿命特性を示す。保安性とは、複数の小電極部14のうちの一部の小電極部14の周囲で絶縁不良を起こした際に、その一部の小電極部14に接続されているヒューズ20が動作して溶断し、電極層10と電極層11との間の短絡を防ぐ性能を指す。
 長さLは、図1に示す長さ方向DLにおける小電極部14の長さである。幅Wは、幅方向DWにおける小電極部14の幅である。膜厚dは誘電体フィルム12、13の膜厚である。
 図3において保安性は以下のように定義する。コンデンサ素子9を環境温度125℃の条件下で外部電極15A、15B間の電圧をゼロから一定電圧ずつ昇圧し、コンデンサ素子9の初期の容量からの容量の変化が-50%となるまで電圧を昇圧させた。その後、コンデンサ素子9を解体して目視し、ヒューズ20が正常に動作したサンプルを「G」で示し、ヒューズ20がほぼ正常に動作したが、誘電体フィルム12、13の一部に小さな絶縁破壊痕が見られたサンプルを「F」で示し、誘電体フィルム12、13に大きな絶縁破壊痕が見られて電極層10と電極層11がショートしたサンプルを「NG」で示す。
 図3において寿命特性は以下のように定義する。コンデンサ素子9を環境温度125℃、印加電圧600Vの条件下、2000時間放置した場合において、容量の減少率が初期の容量の5%以内のサンプルを「G」で示し、容量の減少率が5%より多く10%以下のサンプルを「F」で示し、容量の減少率が10%より多いサンプルを「NG」で示す。
 図3に示すように、A値が0.4×1013/m未満であるサンプルNo.6、11では保安性が低い。A値が0.4×1013/mであるサンプルNo.12は保安性が良好となる。またA値が0.4×1013/mより大きいその他のサンプルにおいても保安性は良好となる。
 A値を0.4×1013/mより大きくすることで、小電極部14に印加されるエネルギーでヒューズ20が安定して動作すると考えられる。誘電体フィルム12、13が膜厚dと誘電率εを有し、小電極部14の面積が面積Sである場合に、電極層10と電極層11との間に印加電圧Vが静電容量Cを形成する1つの小電極部14に印加されるエネルギーEは以下の式によって求めることができる。
E=(1/2)・C・V
C=ε・(S/d
E=(1/2)・ε・(S/d)・V
 更に、印加電圧Vを、膜厚あたりの電圧(V/d)に置き換え、誘電体フィルム12、13の誘電率εと印加電圧Vを一定と考えると、小電極部14に印加されるエネルギーは、小電極部14の面積Sを誘電体フィルム12、13の膜厚dの三乗で除した値、すなわち上記A値に比例する。
 実施例1では、誘電体フィルム12、13としてシンジオタクチック構造のポリスチレン系重合体を用い、上記A値を0.4×1013/m以上とすることで小電極部14が適度な大きさとなり、過剰な電圧が印加された時にヒューズ20が安定して動作する。その結果、フィルムコンデンサのセルフヒーリング性が高まり、耐電圧を高めることができる。
 また、図3に示すように、A値が0.4×1013/m以上5.0×1013/m未満のサンプルNo.1~3、7~10、12~15では、コンデンサ素子9の容量が減少する速度が遅く、寿命が長い。A値が5.0×1013/mであるサンプルNo.4では、寿命は比較的長くすることができるが、サンプルNo.1~3、7~10、12~15と比べるとやや寿命が短い。A値が7.5×1013/mであるサンプルNo.5では寿命が短く、コンデンサ素子9の容量が早くに減少する。
 以上のように、A値を5.0×1013/m以下とすることで、それぞれの小電極部14が適度な大きさとなり、ヒューズ20が動作した時に効率よく絶縁が回復され、静電容量に与える影響を低減できる。
 またA値が0.2×1013/mであるサンプルNo.11では、ヒューズ20が動作しにくいので、コンデンサ素子9の寿命が短く、容量が早くに減少する。
 以上述べたように、実施例1では、A値を0.4×1013/m以上5.0×1013/m以下とすることで、コンデンサ素子9の保安性を高め、かつ高寿命特性を実現できる。また、図3に示すように、A値のこの範囲のうちA値が0.4×1013/m以上1.3×1013/m以下であるフィルムコンデンサは比較的寿命特性に優れている。また、A値が3.8×1013/m以上5.0×1013/m以下であるフィルムコンデンサは比較的保安性に優れる。A値が1.3×1013/m以上3.8×1013/m以下であるフィルムコンデンサは寿命特性と保安性の双方がより高いレベルで両立する。
 (実施例2)
 実施例2では、誘電体フィルム12、13の電極層10、電極層11を形成する面12A、13Aの表面粗度Raがそれぞれ15nm、20nm、45nm、100nm、150nmのサンプルを用い、保安性を比較した。
 それぞれのサンプルにおける小電極部14の幅Wは2.0cmであい、長さLは5.0cmであり、面積Sは10cmであり、誘電体フィルム12、13の膜厚dは2.5μmである。
 図4は各サンプルの保安性を示す。保安性は、実施例1と同様に、以下のように定義する。コンデンサ素子9を環境温度125℃の条件下で外部電極15A、15B間の電圧をゼロから一定電圧ずつ昇圧し、コンデンサ素子9の初期の容量からの容量の変化が-50%となるまで電圧を昇圧させた。その後、コンデンサ素子9を解体して目視し、ヒューズ20が正常に動作したサンプルを「G」で示し、ヒューズ20がほぼ正常に動作したが、誘電体フィルム12、13の一部に小さな絶縁破壊痕が見られたサンプルを「F」で示し、誘電体フィルム12、13に大きな絶縁破壊痕が見られて電極層10と電極層11がショートしたサンプルを「NG」で示す。
 図4において、実施例1と同様に。寿命特性は以下のように定義する。コンデンサ素子9を環境温度125℃、印加電圧600Vの条件下、2000時間放置した場合において、容量の減少率が初期の容量の5%以内のサンプルを「G」で示し、容量の減少率が5%より多く10%以下のサンプルを「F」で示し、容量の減少率が10%より多いサンプルを「NG」で示す。
 図4に示すように、誘電体フィルム12、13の面12A、13Aの表面粗度Raが20nm以上の場合は保安性が良好である。その理由は、表面粗度Raが20nm以上の面上に電極層10、電極層11を形成することで、誘電体フィルム12、13と電極層10、電極層11との間に適度な隙間が形成され、ヒューズ20が飛散し易くなるからと考えられる。以上のように電極層10、電極層11が飛散しやすいので、ヒューズ20が容易に動作し、結果としてフィルムコンデンサの耐電圧を高めることができる。
 また誘電体フィルム12、13の面12A、13Aの表面粗度Raを150nm未満とすることで、寿命特性を向上できる。表面粗度Raが150nm以上では、誘電体フィルム12、13と電極層10、電極層11との間の隙間が広くなるので、ヒューズ20が過度に動作し、寿命特性が低下してくる。
 以上より、面12A、13Aの表面粗度Raが20nm以上では耐電圧を高くすることができ、表面粗度Raが150nm未満で、寿命特性を向上できる。なお、電極層10、電極層11を形成しない誘電体フィルム12、13の面12B、13Bは平滑な方が好ましい。誘電体フィルム12、13の面12A、13Aの表面粗度Raは誘電体フィルム12、13に添加する粒子により調整する。粒子の添加は絶縁性能を低下させるため、できるだけ粒子は少ない方がよい。
 図5は実施の形態における他のコンデンサ素子109の電極層10と電極層111の上面図である。図6は実施の形態におけるさらに他のコンデンサ素子209の電極層110と電極層11の上面図である。図5と図6において、図1と図2に示すコンデンサ素子9と同じ部分には同じ参照番号を付す。図1と図2に示すコンデンサ素子9すなわち実施例1、2では、電極層10、電極層11の双方が、複数の小電極部14を備え、これらの小電極部14の面積を誘電体フィルム12、13の膜厚の三乗で除したA値を、0.4×1013/m以上5.0×1013/m以下とする。実施の形態におけるコンデンサ素子9では、電極層10、電極層11のうちのいずれか一方のみが複数の小電極部14を備え、これらの小電極部14の面積を誘電体フィルム12、13の膜厚の三乗で除したA値を、0.4×1013/m以上5.0×1013/m以下としてもよい。
 図5に示すコンデンサ素子109では、電極層111はスリット19で分割されておらず、誘電体フィルム12、13を介して電極層10の大電極部18と複数の小電極部14とに対向する。電極層10は複数の小電極部14を備え、これらの小電極部14の面積を誘電体フィルム12、13の膜厚の三乗で除したA値を、0.4×1013/m以上5.0×1013/m以下である。これによってもフィルムコンデンサの耐電圧を高めることができる。
 図6に示すコンデンサ素子209では、電極層110はスリット19で分割されておらず、誘電体フィルム12、13を介して電極層11の大電極部18と複数の小電極部14とに対向する。電極層11は複数の小電極部14を備え、これらの小電極部14の面積を誘電体フィルム12、13の膜厚の三乗で除したA値を、0.4×1013/m以上5.0×1013/m以下である。これによってもフィルムコンデンサの耐電圧を高めることができる。
 本発明によるフィルムコンデンサは、優れた耐電圧を有しており、各種電子機器、電気機器、産業機器、自動車等に用いられるコンデンサとして好適に採用でき、特に高耐電圧特性が求められる自動車用分野に有用である。
9  コンデンサ素子
10  電極層(第1の電極層)
11  電極層(第2の電極層)
12  誘電体フィルム
12A  誘電体フィルム12の面(第1の面)
12B  誘電体フィルム12の面(第2の面)
13  誘電体フィルム
14  小電極部(第1の小電極部、第2の小電極部)
20  ヒューズ(第1のヒューズ、第2のヒューズ)

Claims (4)

  1. 第1の電極層と、
    第2の電極層と、
    前記第1の電極層と前記第2の電極層との間に配置された誘電体フィルムと、
    を備え、
    前記誘電体フィルムは、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体を主に含有し、
    前記第1の電極層は、複数の第1の小電極部と、前記複数の第1の小電極部を連結する第1のヒューズとを有し、
    前記複数の第1の小電極部のそれぞれの面積を前記誘電体フィルムの膜厚の三乗で除した値が0.4×1013/m以上かつ5.0×1013/m以下とした、フィルムコンデンサ。
  2. 前記誘電体フィルムは、第1の面と、前記第1の面の反対側の第2の面とを有し、
    前記第1の面は前記第2の面よりも表面粗度が大きく、
    前記第1の電極層は、前記誘電体フィルムの前記第1の面に設けられている、請求項1に記載のフィルムコンデンサ。
  3. 前記第2の電極層は、複数の第2の小電極部と、前記複数の第2の小電極部を連結する第2のヒューズとを有する、請求項1に記載のフィルムコンデンサ。
  4. 前記複数の第2の小電極部のそれぞれの面積を前記誘電体フィルムの前記膜厚の三乗で除した値が0.4×1013/m以上かつ5.0×1013/m以下とした、請求項3に記載のフィルムコンデンサ。
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