WO2013058299A1 - はんだバンプ形成方法および装置 - Google Patents

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injection head
solder
molten solder
heater unit
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彰 高口
勇 佐藤
孝 名内
Issaku SATO (佐藤 一策)
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千住金属工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a method and apparatus for forming solder bumps on components such as substrates and electronic components.
  • Boards and electronic parts made of ceramics cannot be soldered as they are. Therefore, a pad made of a plating film is provided on the surface of the substrate and the electronic component, and a solder bump is formed on the pad. Thereafter, soldering is performed via bumps.
  • solder paste is often used as a solder bump forming method. After applying the solder paste onto the plating film of the electronic component with a printer or dispenser, the solder paste is melted by reflow heating to form bumps. Similarly, bumps can be formed on the substrate. This method is inexpensive. However, bumps corresponding to fine circuit patterns cannot be formed.
  • solder balls There is also a bump formation method using solder balls.
  • a fine solder ball is mounted on a pad of an electronic component or a substrate, and bumps are formed by reflow heating this. This method can form bumps corresponding to fine circuit patterns.
  • the cost of the solder ball itself is high, the overall cost is high.
  • IMS injection Molded Solder
  • a required amount of molten solder is dropped onto a device in a non-oxidizing atmosphere from a nozzle opening of a container containing molten solder (Japanese Patent Laid-Open No. 54-82341).
  • a slit is provided in a nozzle head made of a flexible material, and this is used as a nozzle.
  • a controlled inert gas pressure to the molten solder inside the nozzle head, the molten solder is discharged from the nozzle to form a conductor pattern.
  • a necessary amount of molten solder is supplied through an opening of a mask having a corresponding opening pattern (Japanese Patent Laid-Open No. 11-040937).
  • JP 54-083341 A JP-A-2-015698 Japanese Patent Laid-Open No. 11-040937
  • the amount of molten solder dripped is controlled by the amount of variation in the gap between the tapered tip end of the rod (stopper) passing through the nozzle opening and the nozzle opening.
  • it is difficult to repeatedly reproduce a constant supply amount. It is also difficult to supply a fine amount of molten solder.
  • the molten solder is supplied to the substrate by filling the opening of the mask with molten solder.
  • no measures have been taken with respect to the treatment of excess molten solder. That is, when the nozzle head is lifted from the mask after work, there is a possibility that the molten solder already discharged from the slit nozzle is simultaneously lifted and scattered. Further, the molten solder inside the nozzle head may be newly leaked by being pulled by the molten solder that has already been discharged. Furthermore, a gap is formed between the mask and the substrate by the force when lifting the nozzle head from the mask, and there is a possibility that unsolidified molten solder flows there. Either can cause unwanted bridges.
  • an object of the present invention is to provide a solder bump forming method and apparatus that can form a small amount of solder bumps and that does not cause the occurrence of bridging due to excess molten solder.
  • a solder bump forming method A component on which solder bumps are to be formed on the upper surface, and a component having a mask having an opening at a position corresponding to the position on which the bumps are to be formed are carried onto a work stage; , Preheating the component with a first heater unit; A step of lowering an injection head that is capable of supplying molten solder contained therein from a lower nozzle to be brought into contact with the upper surface of the mask disposed on the component; Bringing the upper surface of the second heater unit into contact with the lower surface of the component and heating the component that has already been preheated to its working temperature; Heating the solder in the injection head to its working temperature by a third heater unit; While the injection head slides on the mask, the molten solder raised to the working temperature is discharged from the nozzle to flow into the opening of the mask and scrapes excess molten solder on the upper surface of the mask.
  • the component, and the mask Forcibly cooling the injection head by heat transfer through the step of lowering the temperature of the molten solder inside the injection head to a temperature at which the molten solder does not sag from the nozzle; After the temperature of the molten solder inside the injection head has dropped to a temperature at which the molten solder does not sag from the nozzle, the injection head is raised and separated from the mask; Forcibly cooling the molten solder supplied onto the component by the second cooling unit to solidify the bumps; Unloading the component having the bump formed on the upper surface from the work stage; A method for forming a solder bump is provided.
  • the work stage is cyclically movable between the first to fourth index positions;
  • the step of carrying the component onto the work stage is performed at a first index position, Preheating the component is performed at a second index position;
  • Contacting the top surface of the mask with the injection head heating the component to its working temperature, heating the solder in the injection head to its working temperature, and molten solder in the injection head Supplying onto the element, stopping the operation of the second heater unit and the third heater unit, cooling the injection head to lower the temperature of the molten solder inside the injection head, and
  • the step of raising the injection head away from the mask is performed at the third index position,
  • the step of cooling the molten solder on the component to solidify the bumps is performed at a fourth index position;
  • the step of unloading the component having the bump formed on the upper surface from the work stage may be performed at the first index position.
  • the mask may be a metal or resin sheet member or a resist film.
  • the step of cooling the injection head to lower the temperature of the molten solder inside the injection head may include blowing an inert gas to the injection head.
  • a solder bump forming device A work stage for placing a component disposed on the upper surface with a mask having an opening at a position corresponding to a position where the bump is to be formed as a component on which a solder bump is to be formed on the upper surface; A heater unit for heating the component in direct or indirect contact with the lower surface of the component; An injection head that can accommodate molten solder inside and has a nozzle at the bottom, and is ejected from the nozzle by horizontally moving the nozzle in contact with the upper surface of the mask on the component.
  • An injection head that fills the opening of the mask with molten molten solder, thereby supplying a predetermined amount of molten solder onto the component;
  • a first cooling unit that can selectively come into contact with the lower surface of the heater unit after the operation is stopped, and supplies the heater unit and molten solder when contacting the lower surface of the heater unit after the operation is stopped.
  • a first cooling unit capable of forcibly cooling the injection head through the component and the mask, A solder bump forming apparatus is also provided.
  • the heater unit includes a first heater unit for preheating the component by directly or indirectly contacting the lower surface of the component, and a lower surface of the component instead of the first heater unit.
  • a second heater unit for direct or indirect contact to heat the component further to the working temperature.
  • the solder bump forming apparatus is configured to replace the second heater unit and the first cooling unit directly or indirectly in contact with the lower surface of the component and supply the component supplied with molten solder.
  • a second cooling unit capable of forced cooling can be further provided.
  • the solder bump forming apparatus can further include a work stage transfer device.
  • the work stages are first to fourth work stages supported by the work stage transfer device, and are spaced apart from each other at an angle of 90 degrees around the rotation axis of the work stage transfer device.
  • First to fourth work stages may be included.
  • the work stage transfer device intermittently suspends the first to fourth work stages so that each of the first to fourth work stages occupies one of the fixed first to fourth index positions in turn. Can be rotated.
  • the solder bump forming apparatus can further include a supply stage for carrying the component in and out from the work stage positioned at the first index position.
  • the first heater unit is disposed at the second index position, and the second heater unit, the injection head, and the first cooling unit are disposed at the third index position. Then, the second cooling unit may be arranged at the fourth index position.
  • a mask having an opening at a position corresponding to a position where a bump is to be formed is disposed on the upper surface of a component such as a substrate and an electronic component.
  • the injection head that is in contact with the mask on the component is forcibly cooled by the cooling unit, so that the molten solder drips from the injection head when the injection head is raised. Can be prevented. Further, during this forced cooling, the molten solder supplied onto the component is naturally forcedly cooled, so that the possibility that these solders form a bridge is extremely low.
  • FIG. 3 is a top view of the work stage transfer device as in FIG. (A) is a top view of the work stage transfer device rotated by 1/4, and (b) is a side view of the work stage transfer device at that time as viewed from the second index position side together with the first heater unit.
  • (A) is a top view of the work stage transfer device further rotated by 1 ⁇ 4, and (b) shows the work stage transfer device at that time together with the injection head, the second heater unit, and the first cooling unit.
  • (A) is a top view of the work stage transfer device further rotated by 1 ⁇ 4, and (b) is a side view of the work stage transfer device at that time viewed from the third index position side together with the second cooling unit.
  • FIG. 1 is a block diagram showing each step of a solder bump forming method according to the present invention.
  • the component is typically a substrate, an electronic component, or the like on which solder bumps are to be formed.
  • the component may include a support member (jig) such as a base or a frame for supporting the substrate and the electronic component.
  • the support member can support a plurality of substrates and electronic components.
  • the board and the electronic component may have a conductive pad at a place where a solder bump is to be formed.
  • a mask having an opening at a position corresponding to a solder bump formation location is arranged.
  • the mask may be a metal or resin sheet member or a resist film.
  • step 2 the components are preheated. For example, when lead-free solder having a melting point of 220 ° C. is used, preheating is performed until the component reaches 190 ° C.
  • step 3 the injection head that accommodates the solder descends, and the nozzle of the injection head contacts the surface of the mask.
  • the solder in the injection head has already been heated to a standby temperature (for example, 190 ° C.).
  • step 4 the component is heated to the working temperature.
  • a lead-free solder having a melting point of 220 ° C. is used, it is heated to 230 ° C.
  • step 5 the solder in the injection head is heated to a working temperature (for example, 230 ° C.).
  • the heated molten solder in the injection head receives a predetermined pressure and has a viscosity that can be discharged from the nozzle.
  • step 6 the injection head in a state where the nozzle is in contact with the mask on the component discharges the molten solder from the nozzle while sliding horizontally on the mask.
  • the discharge of the molten solder from the nozzle may be performed by applying an inert gas such as pressurized nitrogen gas to the molten solder in the injection head.
  • the molten solder discharged from the nozzle flows into an opening provided in the mask.
  • surplus molten solder on the mask is scraped off by the horizontally moving injection head.
  • step 7 the supply of the discharge pressure applied to the molten solder in the injection nozzle is stopped, and the supply of the molten solder is also stopped. Thereafter, the operation of the heater that has heated the substrate and the heater that has heated the injection nozzle is stopped.
  • step 8 the injection head is forcibly cooled.
  • This forced cooling is performed using a cooling unit through a heater for heating the component (already stopped), the component and the mask. Further, forcible cooling may be supported by blowing an inert gas such as nitrogen gas to the injection head.
  • the forced cooling is performed until the molten solder inside the injection head falls to a temperature at which it does not sag from the nozzle. The temperature required to prevent dripping will vary depending on the opening degree and form of the nozzle. Since forced cooling of the injection nozzle is performed via the component, the solder for bump formation supplied on the component is also cooled.
  • step 9 the forcedly cooled injection head is raised and separated from the mask. At this time, the temperature of the molten solder inside the injection head is sufficiently lowered, and the molten solder does not sag from the nozzle. Also, the solder on the component does not form an undesirable bridge.
  • step 10 the molten solder supplied onto the component is forcibly cooled to promote solidification and form solder bumps.
  • step 11 the component on which the bump is formed is unloaded from the work stage.
  • solder bump forming method described above can be implemented in the solder bump forming apparatus according to the present invention in which the work element stage moves cyclically between the first to fourth index positions.
  • the step 1 is performed at a first index position
  • the step 2 is performed at a second index position
  • the steps 3 to 9 are performed at a third index position
  • Step 10 may be performed at the fourth index position
  • step 11 may be performed at the first index position.
  • FIG. 2A is a top view of the work stage transfer device 1 of the solder bump forming apparatus
  • FIG. 2B is a side view of the same.
  • the apparatus 1 includes four work stages 3 a to 3 d attached to a central support plate 2.
  • the central support plate 2 is supported by a shaft 4 so as to be rotatable and vertically movable.
  • Each of the work stages 3a to 3d moves cyclically counterclockwise as viewed in FIG. 2 so as to sequentially occupy the fixed first to fourth index positions 5a to 5d.
  • a column member 7 disposed on the base 6 and accommodating the shaft 4 incorporates a mechanism for rotating the shaft and a mechanism for moving the shaft 4 up and down.
  • Step 1 of the solder bump forming method is performed in a state where the work stage 3a is at the index position 5a.
  • the substrate 8 on which solder bumps are to be formed is transferred from the supply stage 9 onto the work stage 3a with a mask (not shown) disposed on the upper surface.
  • the substrate 8 may be an electronic component.
  • substrate or the electronic component may be supported by support members, such as a stand and a flame
  • the substrate or the electronic component is a “component” in the appended claims, alone or together with the support member.
  • step 11 is performed prior to step 1 at the first index position 5a. That is, the substrate on which the solder bumps are already formed is transferred from the work stage 3a onto the supply stage 9 and transferred to the next process, and then step 1 is performed.
  • FIG. 4A shows a state where the work stage 3a is positioned at the second index position 5b.
  • FIG. 4B is a side view of the work stage transfer device 1 at this time as viewed from the second index position 5b side.
  • Step 2 is performed at the second index position 5b.
  • the solder bump forming apparatus includes a heater unit (first heater unit) 10 fixedly disposed at the second index position 5b.
  • the work stage 3a When the work stage 3a is positioned at the second index position 5b, the work stage 3a is lowered together with the other work stages 3b to 3d attached to the central support plate 2 by the up and down movement of the work stage transfer device 1.
  • the lower surface of the stage 3 a is in contact with the upper surface of the fixed heater unit 10.
  • the heater unit 10 is always maintained at a temperature of, for example, 190 degrees C.
  • the substrate 8 is preheated to 190 ° C. by the heater unit 10, for example.
  • the contact with the substrate 8 and heat transfer may be performed through the support member. Further, the contact with the substrate 8 and heat transfer may be performed via a part of members constituting the work stage.
  • step 2 is being performed at the second index position 5b, at the first index 5a, step 11 is performed on the substrate on which solder bumps have already been formed, and step 1 is performed on a new substrate. Has been done.
  • the respective steps are executed at other index positions (third index position 5c and fourth index position 5d) (described later).
  • FIG. 5A shows a state in which the work stage 3a is positioned at the third index position 5c.
  • FIG. 5B is a side view of the work stage transfer device 1 at this time as viewed from the second index position 5b side. At the third index position 5c, steps 3 to 9 are executed.
  • the solder bump forming apparatus includes an injection head 11, a fixed heater unit (second heater unit) 12, and a cooling unit (second cooling unit) 13 provided at the third index position 5c.
  • the injection head 11 is disposed above the work stage transfer device 1, can move up and down, and can slide in the horizontal direction.
  • the injection head 11 incorporates a heater unit 14 (third heater unit), and can accommodate the molten solder 15 therein. When pressure is applied to the molten solder 15 in the injection head 11, the molten solder 15 can be discharged from the nozzle 16 below the injection head 11.
  • the heater unit 12 is fixedly disposed below the work stage transfer device 1.
  • the cooling unit 13 is disposed below the heater unit 12 and can move up and down.
  • the work stage 3a When the work stage 3a is positioned at the third index 5c, the work stage 3a is lowered together with the other work stages by the vertical movement of the work stage transfer device 1, and the lower surface of the substrate 8 comes into contact with the upper surface of the fixed heater unit 12. .
  • the injection head 11 is lowered and comes into contact with a mask disposed on the substrate 8 (step 3).
  • the substrate 8 that has already been preheated is further heated by the fixed heater unit 12 (step 4).
  • the fixed heater unit 12 may always maintain a temperature of 230 degrees C.
  • the substrate 8 is heated to its working temperature, for example, 230 degrees C. by the fixed heater unit 12.
  • the solder 15 in the injection head 11 is also heated to its working temperature, for example, 230 ° C. by the internal heater unit 14 (step 5).
  • the molten solder in the injection head 11 may be heated to a temperature of about 190 ° C. in advance.
  • both the substrate 8 and the molten solder 15 are heated to a set heating temperature (for example, 230 ° C.), the injection head 11 starts to slide in the horizontal direction on the mask disposed on the substrate 8, and at the same time, the injection The pressure of an inert gas (for example, nitrogen gas) is applied to the molten solder 15 inside the head 11.
  • the molten solder 15 to which pressure is applied is discharged from the nozzle 16.
  • the nozzle may be a slit nozzle formed in a flexible elastic material such as silicon rubber.
  • the injection head 11 causes the discharged molten solder to flow into an opening provided in the mask while sliding horizontally on the mask. At the same time, the sliding injection head 11 performs an operation of scraping excess molten solder discharged onto the upper surface of the mask. By these operations, molten solder is filled into the opening of the mask (step 6). Since the opening of the mask is provided at a position corresponding to “the place where the solder bump is to be formed on the substrate 8”, the molten solder filled in the opening of the mask is “supplied on the substrate 8. , A predetermined amount of molten solder for forming solder bumps.
  • step 8 the cooling unit 13 is raised, and the upper surface of the cooling unit 13 is brought into contact with the lower surface of the fixed heater unit 12 whose operation has already been stopped (step 8).
  • the main purpose of this step 8 is to forcibly cool the injection head 11 and eventually the molten solder 15 in the injection head 11, and even if the injection head 11 is lifted and separated from the mask, the molten solder does not drop from the nozzle 16.
  • the temperature is lowered to such a temperature.
  • the slit nozzle as described above is employed, the molten solder in the injection head 11 is not likely to sag when the temperature reaches 190 ° C. or less.
  • the cooling unit 13 may keep a predetermined standby temperature in advance.
  • the forced cooling of the injection head 11 in step 8 is performed via the fixed heater unit 12 whose operation has been stopped.
  • Another method is also conceivable in which the heater unit 12 is shifted laterally so that the cooling unit 13 directly contacts the substrate 8.
  • the work time at other index positions in particular, the work time required for step 1 and step 11 (substrate loading and unloading) at the first index position 5a exceeds the total work time at the third index position 5c.
  • the injection head 11 is cooled in step 8 through the substrate 8 and the mask, the molten solder supplied to the substrate 8 is also cooled at the same time. Therefore, after the temperature of the molten solder 15 inside the injection head 11 has dropped to a temperature at which the molten solder 15 does not sag from the nozzle 16, the injection head 11 is raised and separated from the mask (step 9). There is no concern that the solder on the substrate 8 forms an undesirable bridge in the molten state.
  • the cooling unit 13 is lowered. After the cooling unit 13 is lowered and separated from the fixed heater unit 12, the fixed heater unit 12 is actuated again to reach a standby temperature. The heater unit 14 of the injection head 11 also operates again, and raises the solder in the injection head 11 to the standby temperature. The injection head 11 can move to the home position and stand by.
  • the work stage transfer device 1 raises the work stages 3a to 3d on the condition that the work at the other index positions 5a, 5b, and 5d has been completed, and further 1 / Rotate 4 times.
  • FIG. 6A shows a state where the work stage 3a is positioned at the fourth index position 5d.
  • FIG. 6B is a side view of the work stage transfer device 1 at this time as viewed from the third index position 5c side.
  • the solder bump forming apparatus includes a cooling unit (second cooling unit) 17 fixedly arranged at the fourth index position 5d.
  • the cooling unit 17 is located below the work stage 3a positioned at the fourth index position 5d.
  • the molten solder supplied onto the substrate 8 at step 6 at the third index position 5c is completely cooled and solidified by the cooling unit 17 to form solder bumps on the substrate 8 (step 10). For example, when the substrate 8 reaches 50 ° C., it can be considered that the substrate 8 is completely cooled.
  • step 10 the work stage transfer device 1 raises the work stages 3a to 3d on the condition that the work at the other index positions 5a, 5b, and 5c is finished, and further 1 ⁇ 4. Rotate. In this way, the work stage 3a returns to the first index position 5a again.
  • the substrate 8 on which solder bumps have already been formed is carried out from the work stage 3a onto the supply stage 9 (step 11). After the substrate 8 is transferred from the supply stage 9 to the next process, step 1 is executed as described above.
  • the operation cycle of the work stage transfer apparatus 1 that cyclically rotates the work stages 3a to 3d by a quarter is determined by the longest work time performed at any index position. At the index position where the work has already been completed, when the work at any of the other index positions has not been completed, the standby state is taken.
  • an embodiment of the solder bump forming device disclosed in the present specification and drawings includes an injection head 11, heater units 10, 12, 14, and cooling units 13, 17.
  • 1 Work stage transfer device 2 Central support plate, 3a-3d work stage, 4 axis, 5a-5d index position, 6 base, 7 pillar member, 8 substrate, 9 supply stage, 10 1st heater unit, 11 injection head , 12 second heater unit, 13 first cooling unit, 14 third heater unit, 15 molten solder, 16 nozzles, 17 second cooling unit.

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Abstract

 微細量のはんだバンプの形成が可能であり、且つ、余分な溶融はんだによるブリッジ発生のおそれのない、はんだバンプ形成方法を提供する。 基板8上に配置された開口付きマスクにノズル部16を接した、溶融はんだ供給用インジェクションヘッド11が、供給作業終了後、冷却用ユニット13から、作動を停止したヒータユニット12を介した伝熱により強制冷却される。冷却された、インジェクションヘッド11内の溶融はんだ15は、インジェクションヘッド11上昇時にノズル部16から垂れ落ちない。

Description

はんだバンプ形成方法および装置
 本発明は、基板および電子部品等の構成要素にはんだバンプを形成する方法および装置に関する。
 セラミックスなどで形成された基板および電子部品はそのままでははんだ付けできない。そこで、基板および電子部品の表面にメッキ皮膜からなるパッドを設け、該パッドの上にはんだバンプ(こぶ)を形成する。その後、バンプを介したはんだ付けが行われる。
 はんだバンプ形成方法として従来多く用いられているのは、はんだペーストを用いる方法である。印刷機やディスペンサではんだペーストを電子部品のメッキ皮膜上に塗布した後、はんだペーストをリフロー加熱して溶融させ、バンプを形成させる。同様にして、基板上にバンプを形成することもできる。この方法は、コストが安い。しかしながら、微細な回路パターンに対応したバンプは形成できない。
 はんだボールを利用したバンプ形成方法もある。電子部品または基板のパッド上に微細なはんだボールを搭載し、これをリフロー加熱することによりバンプを形成させる。この方法は、微細な回路パターンに対応したバンプを形成することができる。しかしながら、はんだボール自体のコストが高いため、全体として高コストとなる。
 低コストで微細回路パターンに対応できるバンプを形成する方法として、IMS(Injection Molded Solder)法を利用することが注目されている。IMS法においては、溶融はんだを収容する容器のノズル開口部から必要量の溶融はんだを非酸化雰囲気中で素子上に滴下する(特開昭54-82341号公報)。
 基板上を水平方向に走査するようにして複数箇所への溶融はんだの供給を効率よくしたはんだ付着装置も知られている(特願平2-015698号公報)。
 また、柔軟な素材で形成されたノズルヘッドにスリットを設けてこれをノズルとし、ノズルヘッド内部の溶融はんだに制御された不活性ガス圧を加えることによりノズルから溶融はんだを吐出し、導体パターンに対応した開口パターンを有するマスクの開口を通して必要量の溶融はんだを供給するようにしたものも知られている(特開平11-040937号公報) 
特開昭54-082341号公報 特開平2-015698号公報 特開平11-040937号公報
 IMS法を利用したはんだバンプ形成においては、電子部品または基板の実装面にバンプを形成するため、溶融はんだの供給量のコントロールが難しい。また、余剰の溶融はんだが好ましくないブリッジを形成するおそれがある。
 特許文献1の装置では、ノズル開口部を通過するロッド(ストッパ)が有するテーパ付き先端部とノズル開口部との間の隙間の変動量により滴下される溶融はんだ量をコントロールしている。しかし、かかるコントロール法では、一定の供給量を繰り返し再現することは難しい。また、微細量の溶融はんだの供給も難しい。
 特許文献2の装置では、基板上に供給された過剰な量の溶融はんだをブレードにより分断して所定量としている。したがって、この装置でも、微細量の溶融はんだの供給は難しい。また、供給作業後に大きな供給口から吐出している余剰の溶融はんだを処理する手段はとられていない。
 特許文献3の装置では、マスクの開口に溶融はんだを充填することで、基板への微細量の溶融はんだの供給を可能にしている。しかしながら、余剰溶融はんだの処理については対策がとられていない。すなわち、ノズルヘッドを作業後にマスクから持ち上げるときに、スリットノズルから既に吐出されている溶融はんだが同時に持ち上げられて飛散する可能性がある。また、既に吐出されている溶融はんだに引っ張られるようにして、ノズルヘッド内部の溶融はんだが新たに漏出するおそれがある。さらに、ノズルヘッドをマスクから持ち上げるときの力によってマスクと基板との間に隙間ができ、そこに未固化の溶融はんだが流動するおそれもある。いずれも、好ましくないブリッジを発生させる可能性がある。
 そこで本発明の課題は、微細量のはんだバンプの形成が可能であり、且つ、余分な溶融はんだによるブリッジ発生のおそれのない、はんだバンプ形成方法および装置を提供することにある。
 本発明によれば、
 はんだバンプ形成方法であって、
 上面にはんだバンプを形成されるべき構成要素であって、バンプを形成すべき位置に対応する位置に開口を有するマスクをその上面に配置された構成要素を、作業ステージ上へと搬入するステップと、
 第1のヒータユニットにより前記構成要素を予備加熱するステップと、
 インジェクションヘッドにして、内部に収容する溶融はんだを下部のノズルから供給可能となされたインジェクションヘッドを降下させ、前記構成要素上に配置された前記マスクの上面に接触させるステップと、
 第2のヒータユニットの上面と、前記構成要素の下面とを接触させ、既に予備加熱されている前記構成要素をその作業温度まで加熱するステップと、
 第3のヒータユニットにより、前記インジェクションヘッド内のはんだをその作業温度まで加熱するステップと、
 前記インジェクションヘッドが、前記マスク上をスライドしながら、作業温度にまで高められた溶融はんだを前記ノズルから吐出して前記マスクの前記開口内に流動させるとともに、前記マスクの上面の余剰溶融はんだを掻き取ることにより、前記マスクの前記開口内に溶融はんだを充填し、それによって前記構成要素上に所定量の溶融はんだを供給するステップと、
 前記インジェクションヘッドによる溶融はんだの供給が終了した後、前記第2のヒータユニットおよび第3のヒータユニットの作動を停止させるステップと、
 第1の冷却用ユニットの上面と、既に作動を停止された前記第2のヒータユニットの下面とを接触させ、前記第1の冷却用ユニットから前記第2のヒータユニット、前記構成要素および前記マスクを介した伝熱により前記インジェクションヘッドを強制冷却し、該インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度を、溶融はんだが前記ノズルから垂れ落ちない温度にまで降下させるステップと、
 前記インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度が、溶融はんだが前記ノズルから垂れ落ちない温度にまで降下した後、前記インジェクションヘッドを上昇させて前記マスクから離すステップと、
 第2の冷却用ユニットにより、前記構成要素上に供給された溶融はんだを強制冷却してバンプを固化させるステップと、
 上面にバンプを形成された前記構成要素を前記作業ステージ上から搬出するステップと、
 を備える、はんだバンプ形成方法が提供される。
 上記のはんだバンプ形成方法において、
 前記作業ステージが第1ないし第4のインデックス位置間をサイクリッックに移動可能であり、
 前記構成要素を前記作業ステージ上へと搬入するステップは第1のインデックス位置で行われ、
 前記構成要素を予備加熱するステップは第2のインデックス位置で行われ、
 前記インジェクションヘッドを前記マスクの上面に接触させるステップ、前記構成要素をその作業温度まで加熱するステップ、前記インジェクションヘッド内のはんだをその作業温度まで加熱するステップ、前記インジェクションヘッド内の溶融はんだを前記構成要素上に供給するステップ、前記第2のヒータユニットおよび第3のヒータユニットの作動を停止させるステップ、前記インジェクションヘッドを冷却して該インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度を降下させるステップ、および、前記インジェクションヘッドを上昇させて前記マスクから離すステップは第3のインデックス位置で行われ、
 前記構成要素上の溶融はんだを冷却してバンプを固化させるステップは第4のインデックス位置で行われ、
 上面にバンプを形成された前記構成要素を前記作業ステージ上から搬出するステップは第1のインデックス位置で行われる、ようにすることができる。
 また、上記のはんだバンプ形成方法において、
 前記マスクは金属製または樹脂製のシート部材としてもよいし、レジストフィルムとしてもよい。
 さらに上記のはんだバンプ形成方法において、
 前記インジェクションヘッドを冷却して該インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度を降下させるステップが、不活性ガスを前記インジェクションヘッドに吹き付けることを含むようにしてもよい。
 また本発明によれば、
 はんだバンプ形成装置であって、
 上面にはんだバンプを形成されるべき構成要素にして、バンプを形成すべき位置に対応する位置に開口を有するマスクをその上面に配置された構成要素を乗せるための作業ステージと、
 前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して前記構成要素を加熱するためのヒータユニットと、
 内部に溶融はんだを収容可能であり、且つ、下部にノズルを有するインジェクションヘッドであって、前記構成要素上の前記マスクの上面に前記ノズルを接触させたまま水平移動することにより、前記ノズルから吐出した溶融はんだを前記マスクの前記開口内に充填させ、それによって前記構成要素上に所定量の溶融はんだを供給するインジェクションヘッドと、
 作動停止後の前記ヒータユニットの下面に選択的に接触可能な第1の冷却用ユニットであって、作動停止後の前記ヒータユニットの下面に接触したときに、該ヒータユニットと、溶融はんだを供給された前記構成要素と、前記マスクとを介して前記インジェクションヘッドを強制冷却可能な第1の冷却用ユニットと、
 を備える、はんだバンプ形成装置も提供される。
 前記ヒータユニットは、前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して前記構成要素を予備加熱するための第1のヒータユニットと、該第1のヒータユニットに替わって前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して前記構成要素をさらに作業温度にまで加熱するための第2のヒータユニットとを含むことができる。この場合、前記第1の冷却用ユニットは、作動停止後の前記第2のヒータユニットの下面に接触したときに、該第2のヒータユニットと、溶融はんだを供給された前記構成要素と、前記マスクとを介して前記インジェクションヘッドを強制冷却する。また、はんだバンプ形成装置は、前記第2のヒータユニットおよび前記第1の冷却用ユニットに替わって前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して、溶融はんだを供給された前記構成要素をさらに強制冷却可能な第2の冷却用ユニットをさらに備えることができる。
 また、はんだバンプ形成装置は、さらに作業ステージ移送装置を備えることができる。この場合、前記作業ステージは、前記作業ステージ移送装置に支持された第1ないし第4の作業ステージにして、前記作業ステージ移送装置の回転軸の回りに互いに90度の角度をもって離間配置された第1ないし第4の作業ステージを含むことができる。前記作業ステージ移送装置は、前記第1ないし第4の作業ステージのそれぞれが、固定された第1ないし第4のインデックス位置を順次交代して占めるように前記第1ないし第4の作業ステージを間欠的に回転可能である。
 また、はんだバンプ形成装置は、前記第1のインデックス位置に位置づけられた前記作業ステージとの間で前記構成要素を搬入および搬出するための供給ステージをさらに備えることができる。また、前記第1のヒータユニットを前記第2のインデックス位置に配置し、前記第2のヒータユニットと、前記インジェクションヘッドと、前記第1の冷却用ユニットとを、前記第3のインデックス位置に配置し、前記第2の冷却用ユニットを前記第4のインデックス位置に配置してもよい。
 本発明のはんだバンプ形成方法および装置によれば、バンプを形成すべき位置に対応する位置に開口を有するマスクが、基板および電子部品等である構成要素の上面に配置されており、該マスクに設けられた開口内に溶融はんだを充填する方法をとることにより、構成要素上に微細量のはんだバンプを形成することが可能となる。
 また、構成要素に溶融はんだを供給した後、構成要素上のマスクに接触したままのインジェクションヘッドを冷却用ユニットにより強制冷却することにより、インジェクションヘッド上昇時に該インジェクションヘッドからの溶融はんだの垂れ落ちを防止することができる。さらに、この強制冷却時には、構成要素上に供給された溶融はんだも当然強制冷却されるので、これらのはんだがブリッジを形成する可能性は極めて少ない。
本発明によるはんだバンプ形成方法の各ステップを示すブロック図。 (a)は、本発明によるはんだバンプ形成装置の一実施形態における作業ステージ移送装置の上面図、(b)は作業ステージ移送装置を第2インデックス位置側から見た側面図。 図2(a)と同じく、作業ステージ移送装置の上面図。 (a)は、1/4回転した作業ステージ移送装置の上面図、(b)は、そのときの作業ステージ移送装置を第1のヒータユニットとともに第2インデックス位置側から見た側面図。 (a)は、さらに1/4回転した作業ステージ移送装置の上面図、(b)は、そのときの作業ステージ移送装置を、インジェクションヘッド、第2のヒータユニットおよび第1の冷却用ユニットとともに第2インデックス位置側から見た側面図。 (a)は、さらに1/4回転した作業ステージ移送装置の上面図、(b)は、そのときの作業ステージ移送装置を第2の冷却用ユニットとともに第3インデックス位置側から見た側面図。
 図1は、本発明によるはんだバンプ形成方法の各ステップを示すブロック図である。ステップ1では、構成要素が作業ステージ上へと搬入される。構成要素は、典型的には、上面にはんだバンプを形成されるべき基板、電子部品等である。構成要素は、基板および電子部品等を支持するための台、フレームなどの支持部材(治具)を含んでいてもよい。支持部材は、複数の基板および電子部品を支持することができる。基板および電子部品は、はんだバンプを形成すべき箇所に導電性パッドを有していてもよい。構成要素の上面には、はんだバンプ形成箇所に対応した位置に開口を有するマスクが配置されている。マスクは、金属製または樹脂製のシート部材でもよいし、レジストフィルムでもよい。
 ステップ2では、構成要素が予備加熱される。例えば融点が220度Cの鉛フリーはんだを用いる場合、構成要素が190度Cになるまで予備加熱する。
 ステップ3では、内部にはんだを収容するインジェクションヘッドが降下し、該インジェクションヘッドのノズルがマスクの表面に接触する。インジェクションヘッド内のはんだは、既に待機温度(例えば190度C)にまで加熱されている。
 ステップ4では、構成要素が作業温度まで加熱される。例えば融点が220度Cの鉛フリーはんだを用いる場合、230度Cまで加熱される。
 ステップ5では、インジェクションヘッド内のはんだが作業温度(例えば230度C)にまで加熱される。インジェクションヘッド内の加熱された溶融はんだは、所定の圧力を受けてノズルから吐出可能な粘度となる。
 ステップ6では、構成要素上のマスクにノズルを接した状態のインジェクションヘッドが、マスク上を水平方向にスライドしながら、ノズルから溶融はんだを吐出する。ノズルからの溶融はんだの吐出は、例えば加圧された窒素ガスのような不活性ガスをインジェクションヘッド内の溶融はんだに適用することによって行ってもよい。ノズルから吐出した溶融はんだは、マスクに設けられた開口内に流動する。一方、マスク上の余剰溶融はんだは、水平移動するインジェクションヘッドによって掻き取られる。これらの作用によって、マスクの開口内に一定量の溶融はんだが充填される。このようにして、構成要素上に溶融はんだが供給される。
 ステップ7では、インジェクションノズル内の溶融はんだに加えられていた吐出圧力の供給が停止され、溶融はんだの供給も停止される。その後、基板を加熱していたヒータとインジェクションノズルを加熱していたヒータとの作動が停止される。
 ステップ8では、インジェクションヘッドが強制冷却される。この強制冷却は、構成要素加熱用のヒータ(既に作動を停止されている)、構成要素およびマスクを介して、冷却用ユニットを用いて行われる。さらに、例えば窒素ガスのような不活性ガスをインジェクションヘッドに吹き付けることにより、強制冷却の支援をするようにしてもよい。強制冷却は、インジェクションヘッド内部の溶融はんだが、ノズルから垂れ落ちない温度に降下するまで行われる。ノズルの開口度や形態などによって、垂れ落ち防止に必要な温度は異なるであろう。インジェクションノズルの強制冷却は構成要素を介して行われるため、構成要素上に供給されたバンプ形成用のはんだも冷却される。
 ステップ9では、強制冷却されたインジェクションヘッドが上昇し、マスクから離される。このとき、インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度は十分に下がっており、溶融はんだがノズルから垂れ落ちることはない。また、構成要素上のはんだが、好ましくないブリッジを形成することはない。
 ステップ10では、構成要素上に供給された溶融はんだが強制冷却されて固化を促進され、はんだバンプを形成する。
 ステップ11では、バンプを形成された構成要素が作業ステージ上から搬出される。
 上述したはんだバンプ形成方法は、作業素ステージが第1ないし第4のインデックス位置間でサイクリックに移動する、本発明によるはんだバンプ形成装置において実施することができる。例えば、かかるはんだバンプ形成装置の一実施形態においては、上記ステップ1を第1インデックス位置で行い、上記ステップ2を第2インデックス位置で行い、上記ステップ3ないし9を第3インデックス位置で行い、上記ステップ10を第4インデックス位置で行い、上記ステップ11を第1インデックス位置で行うようにすることができる。以下、本発明によるはんだバンプ形成装置の一実施形態について説明する。
 図2(a)は、はんだバンプ形成装置の作業ステージ移送装置1の上面図、図2(b)は同じく側面図である。装置1は、中央支持板2に取り付けられた4つの作業ステージ3aないし3dを備えている。中央支持板2は、軸4によって回転可能かつ上下動可能に支持されている。それぞれの作業ステージ3aないし3dは、固定された第1ないし第4のインデックス位置5aないし5dを順次占めるように、図2で見て反時計回りにサイクリックに移動する。ベース6上に配置され、且つ、軸4を収容している柱部材7内には、軸を回転させる機構および軸4を上下動させる機構が内蔵されている。
 図3を参照する。はんだバンプ形成方法のステップ1は、作業ステージ3aがインデックス位置5aにある状態で行われる。はんだバンプを形成されるべき基板8は、上面にマスク(図示せず)を配置された状態で、供給ステージ9から作業ステージ3a上へと移される。基板8は、電子部品であってもよい。また、基板または電子部品は、台、フレームなどの支持部材によって支持されていてもよい。かかる支持部材は、複数の基板または電子部品を支持することができる。基板または電子部品は単独で、または、支持部材とともに、特許請求の範囲における「構成要素」となる。
 第1インデックス位置5aにある作業ステージ3a上に、既に上記ステップ10を終えた基板が載せられていた場合には、第1インデックス位置5aではステップ1に先立ちステップ11が行われる。すなわち、既にはんだバンプを形成された基板が作業ステージ3aから供給ステージ9上へと移送され、次工程へと引き渡された後、ステップ1が行われる。
 次に、他のインデックス位置5bないし5dでの作業(後述する)が終了していることを条件に、作業ステージ移送装置1が1/4回転することにより、作業ステージ3aないし3dは次のインデックス位置へと移動する。図4(a)は、作業ステージ3aが第2インデックス位置5bに位置づけられた状態を示す。図4(b)は、このときの作業ステージ移送装置1を第2インデックス位置5b側から見た側面図である。第2インデックス位置5bにおいては、ステップ2が行われる。はんだバンプ形成装置は、第2インデックス位置5bに固定配置されたヒータユニット(第1のヒータユニット)10を備えている。作業ステージ3aが第2インデックス位置5bに位置づけられると、作業ステージ移送装置1の上下動作により、作業ステージ3aは、中央支持板2に取り付けられた他の作業ステージ3bないし3dとともに下降せしめられ、作業ステージ3aの下面は固定ヒータユニット10の上面に当接する。ヒータユニット10は、例えば190度Cの温度に常に保たれている。基板8は、ヒータユニット10により、例えば190度Cまで予備加熱される。基板8が台、フレームなどの支持部材によって支持されている場合には、基板8への接触および伝熱が支持部材を介して行われることもある。さらに、基板8への接触および伝熱が、作業ステージを構成する部材の一部を介して行われることもある。
 第2インデックス位置5bにおいてステップ2が行われている間、第1インデックス5aにおいては、既にはんだバンプを形成された基板に対してステップ11が行われ、且つ、新たな基板に対してステップ1が行われている。他のインデックス位置(第3インデックス位置5cおよび第4インデックス位置5d)でもそれぞれのステップが実行されている(後述する)。
 基板8の予備加熱が終わると、他のインデックス位置5a、5c、5dでの作業が終了していることを条件に、作業ステージ移送装置1が作業ステージ3aないし3dを上昇させ、且つ、さらに1/4回転させる。図5(a)は、作業ステージ3aが第3インデックス位置5cに位置づけられた状態を示す。図5(b)は、このときの作業ステージ移送装置1を第2インデックス位置5b側から見た側面図である。第3インデックス位置5cでは、ステップ3ないし9が実行される。
 はんだバンプ形成装置は、第3インデックス位置5cに設けられたインジェクションヘッド11、固定ヒータユニット(第2のヒータユニット)12および冷却用ユニット(第2の冷却用ユニット)13を備えている。インジェクションヘッド11は、作業ステージ移送装置1の上方に配置され、上下動可能であり、且つ、水平方向にスライド可能である。インジェクションヘッド11は、ヒータユニット14(第3のヒータユニット)を内蔵し、内部に溶融はんだ15を収容可能である。インジェクションヘッド11内で溶融はんだ15に圧力が加えられることにより、溶融はんだ15はインジェクションヘッド11の下部のノズル16から吐出可能となる。
 ヒータユニット12は、作業ステージ移送装置1の下方に固定配置されている。冷却用ユニット13は、ヒータユニット12の下方に配置され、上下動可能である。
 作業ステージ3aが第3インデックス5cに位置づけられると、作業ステージ移送装置1の上下動作により、作業ステージ3aは他の作業ステージとともに下降せしめられ、基板8の下面が固定ヒータユニット12の上面に当接する。次いで、インジェクションヘッド11が降下し、基板8の上に配置されたマスクに当接する(ステップ3)。
 また、既に予備加熱されている基板8は、固定ヒータユニット12によってさらに加熱される(ステップ4)。固定ヒータユニット12は、常時230度Cの温度を保つようにしてもよい。基板8は、固定ヒータユニット12によりその作業温度、例えば230度Cにまで加熱される。
 一方、インジェクションヘッド11内のはんだ15も、内部ヒータユニット14によってその作業温度、例えば230度Cにまで加熱される(ステップ5)。インジェクションヘッド11内の溶融はんだは、あらかじめ190度C程度の温度にまで加熱されていてもよい。
 基板8および溶融はんだ15がともに設定加熱温度(例えば230度C)にまで加熱されたなら、インジェクションヘッド11が、基板8上に配置されたマスク上を水平方向にスライドを開始し、同時に、インジェクションヘッド11内部の溶融はんだ15に不活性ガス(例えば窒素ガス)の圧力が加えられる。圧力を加えられた溶融はんだ15は、ノズル16から吐出する。ノズルは、例えばシリコンゴムのような柔軟な弾性材料に形成されたスリットノズルとすることができる。
 インジェクションヘッド11は、マスク上を水平方向にスライドしながら、吐出した溶融はんだを、マスクに設けられた開口内に流動させる。これと同時に、スライドするインジェクションヘッド11は、マスク上面に吐出された余剰の溶融はんだを掻き取る動作を行う。これらの動作により、マスクの開口内に溶融はんだが充填される(ステップ6)。マスクの開口は、「基板8上の、はんだバンプを形成すべき箇所」に対応する位置に設けられているので、マスクの開口内に充填された溶融はんだは、「基板8上に供給された、所定量のはんだバンプ形成用の溶融はんだ」となる。
 基板8上への溶融はんだの供給が完了したら、インジェクションヘッド11内の溶融はんだ15に対する加圧を停止し、インジェクションヘッド11のスライド移動を停止する。そして、基板8を加熱していた固定ヒータユニット12およびインジェクションヘッド11のヒートユニット14の作動を停止する(ステップ7)。
 次いで、冷却用ユニット13を上昇させ、既に作動を停止された固定ヒータユニット12の下面に冷却用ユニット13の上面を当接させる(ステップ8)。このステップ8の主たる目的は、インジェクションヘッド11、ひいては、インジェクションヘッド11内の溶融はんだ15を強制的に冷却し、インジェクションヘッド11を上昇させてマスクから離しても溶融はんだがノズル16から垂れ落ちないような温度にまで降下させることである。上述したようなスリットノズルを採用した場合、インジェクションヘッド11内の溶融はんだは、190度C以下の温度になれば垂れ落ちの心配はない。冷却用ユニット13は、あらかじめ所定の待機温度を保つようにしてもよい。
 ステップ8におけるインジェクションヘッド11の強制冷却は、作動を停止された固定ヒータユニット12を介して行われる。ヒータユニット12を横へシフトして、冷却用ユニット13を直接基板8に当接させる別の手法も考えられる。しかしながら、他のインデックス位置での作業時間、特に、第1インデックス位置5aにおけるステップ1およびステップ11(基板の搬入および搬出)に要する作業時間が、第3インデックス位置5cでの全体作業時間を上回ること、ヒータユニット12を横へシフトするための機構を付加するとコストも付加されること、などを考慮すると、作動を停止された固定ヒータユニット12を介しての伝熱による冷却の方が合理的であることが判明した。
 また、ステップ8におけるインジェクションヘッド11の冷却は、基板8およびマスクを介して行われるため、基板8に供給された溶融はんだも同時に冷却される。したがって、インジェクションヘッド11内部の溶融はんだ15の温度が、溶融はんだ15がノズル16から垂れ落ちない温度にまで降下した後、インジェクションヘッド11を上昇させてマスクから離す(ステップ9)動作を行ったとき、基板8上のはんだが溶融状態で好ましくないブリッジを形成する心配はない。
 インジェクションヘッド11が上昇するとき、冷却用ユニット13は下降する。冷却用ユニット13が下降して固定ヒータユニット12から離れた後、固定ヒータユニット12は再び作動し、待機温度とされる。インジェクションヘッド11のヒータユニット14も再び作動し、インジェクションヘッド11内のはんだを待機温度まで上昇させる。インジェクションヘッド11は、ホームポジションまで移動して待機することができる。
 インジェクションヘッド11が上昇したら、作業ステージ移送装置1は、他のインデックス位置5a、5b、5dでの作業が終了していることを条件に、作業ステージ3aないし3dを上昇させ、且つ、さらに1/4回転させる。
 図6(a)は、作業ステージ3aが第4インデックス位置5dに位置づけられた状態を示す。図6(b)は、このときの作業ステージ移送装置1を第3インデックス位置5c側から見た側面図である。はんだバンプ形成装置は、第4インデックス位置5dに固定配置された冷却用ユニット(第2の冷却用ユニット)17を備えている。冷却用ユニット17は、第4インデックス位置5dに位置づけられた作業ステージ3aの下方に位置している。作業ステージ3aが他の作業ステージとともに下降せしめられることにより、基板8の下面が固定冷却用ユニット17の上面に当接する。第3インデックス位置5cにてステップ6により基板8上に供給された溶融はんだは、冷却用ユニット17により完全に冷却固化され、基板8上にはんだバンプを形成する(ステップ10)。例えば、基板8が50度Cになったら、完全に冷却されたものと考えることができる。
 ステップ10が終了すると、作業ステージ移送装置1は、他のインデックス位置5a、5b、5cでの作業が終了していることを条件に、作業ステージ3aないし3dを上昇させ、且つ、さらに1/4回転させる。このようにして、作業ステージ3aは再び第1インデックス位置5aに戻る。第1インデックス位置5aでは、前述したように、既にはんだバンプを形成された基板8が作業ステージ3aから供給ステージ9上へと搬出される(ステップ11)。基板8が供給ステージ9から次工程へと引き渡された後、前述したようにステップ1が実行される。
 明らかなように、サイクリックに作業ステージ3aないし3dを1/4回転する作業ステージ移送装置1の作動周期は、いずれかのインデックス位置で行われる最も長い作業時間によって決定される。既に作業が完了しているインデックス位置では、他のいずれかのインデックス位置での作業が完了していなかったとき、待機状態がとられる。
 本明細書および図面に開示したはんだバンプ形成装置の一実施形態には、作業ステージ移送装置1のほか、インジェクションヘッド11、ヒータユニット10,12,14、冷却用ユニット13,17が含まれる。
1 作業ステージ移送装置、2 中央支持板、3a―3d 作業ステージ、4 軸、5a-5d インデックス位置、6 ベース、7 柱部材、8 基板、9 供給ステージ、10 第1のヒータユニット、11 インジェクションヘッド、12 第2のヒータユニット、13 第1の冷却用ユニット、14 第3のヒータユニット、15 溶融はんだ、16 ノズル、17 第2の冷却用ユニット。

Claims (9)

  1.  はんだバンプ形成方法であって、
     上面にはんだバンプを形成されるべき構成要素であって、バンプを形成すべき位置に対応する位置に開口を有するマスクをその上面に配置された構成要素を、作業ステージ上へと搬入するステップと、
     第1のヒータユニットにより前記構成要素を予備加熱するステップと、
     インジェクションヘッドにして、内部に収容する溶融はんだを下部のノズルから供給可能となされたインジェクションヘッドを降下させ、前記構成要素上に配置された前記マスクの上面に接触させるステップと、
     第2のヒータユニットの上面と、前記構成要素の下面とを接触させ、既に予備加熱されている前記構成要素をその作業温度まで加熱するステップと、
     第3のヒータユニットにより、前記インジェクションヘッド内のはんだをその作業温度まで加熱するステップと、
     前記インジェクションヘッドが、前記マスク上をスライドしながら、作業温度にまで高められた溶融はんだを前記ノズルから吐出して前記マスクの前記開口内に流動させるとともに、前記マスクの上面の余剰溶融はんだを掻き取ることにより、前記マスクの前記開口内に溶融はんだを充填し、それによって前記構成要素上に所定量の溶融はんだを供給するステップと、
     前記インジェクションヘッドによる溶融はんだの供給が終了した後、前記第2のヒータユニットおよび第3のヒータユニットの作動を停止させるステップと、
     第1の冷却用ユニットの上面と、既に作動を停止された前記第2のヒータユニットの下面とを接触させ、前記第1の冷却用ユニットから前記第2のヒータユニット、前記構成要素および前記マスクを介した伝熱により前記インジェクションヘッドを強制冷却し、該インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度を、溶融はんだが前記ノズルから垂れ落ちない温度にまで降下させるステップと、
     前記インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度が、溶融はんだが前記ノズルから垂れ落ちない温度にまで降下した後、前記インジェクションヘッドを上昇させて前記マスクから離すステップと、
     第2の冷却用ユニットにより、前記構成要素上に供給された溶融はんだを強制冷却してバンプを固化させるステップと、
     上面にバンプを形成された前記構成要素を前記作業ステージ上から搬出するステップと、
     を備える、はんだバンプ形成方法。
  2.  請求項1に記載のはんだバンプ形成方法において、
     前記作業ステージが第1ないし第4のインデックス位置間をサイクリッックに移動可能であり、
     前記構成要素を前記作業ステージ上へと搬入するステップは第1のインデックス位置で行われ、
     前記構成要素を予備加熱するステップは第2のインデックス位置で行われ、
     前記インジェクションヘッドを前記マスクの上面に接触させるステップ、前記構成要素をその作業温度まで加熱するステップ、前記インジェクションヘッド内のはんだをその作業温度まで加熱するステップ、前記インジェクションヘッド内の溶融はんだを前記構成要素上に供給するステップ、前記第2のヒータユニットおよび第3のヒータユニットの作動を停止させるステップ、前記インジェクションヘッドを冷却して該インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度を降下させるステップ、および、前記インジェクションヘッドを上昇させて前記マスクから離すステップは第3のインデックス位置で行われ、
     前記構成要素上の溶融はんだを冷却してバンプを固化させるステップは第4のインデックス位置で行われ、
     上面にバンプを形成された前記構成要素を前記作業ステージ上から搬出するステップは第1のインデックス位置で行われる、
     はんだバンプ形成方法。
  3.  請求項2に記載のはんだバンプ形成方法において、
     前記マスクが金属製または樹脂製のシート部材である、
     はんだバンプ形成方法。
  4.  請求項2に記載のはんだバンプ形成方法において、
     前記マスクがレジストフィルムである、
     はんだバンプ形成方法。
  5.  請求項2に記載のはんだバンプ形成方法において、
     前記インジェクションヘッドを冷却して該インジェクションヘッド内部の溶融はんだの温度を降下させるステップが、不活性ガスを前記インジェクションヘッドに吹き付けることを含む、
     はんだバンプ形成方法。
  6.  はんだバンプ形成装置であって、
     上面にはんだバンプを形成されるべき構成要素にして、バンプを形成すべき位置に対応する位置に開口を有するマスクをその上面に配置された構成要素を乗せるための作業ステージと、
     前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して前記構成要素を加熱するためのヒータユニットと、
     内部に溶融はんだを収容可能であり、且つ、下部にノズルを有するインジェクションヘッドであって、前記構成要素上の前記マスクの上面に前記ノズルを接触させたまま水平移動することにより、前記ノズルから吐出した溶融はんだを前記マスクの前記開口内に充填させ、それによって前記構成要素上に所定量の溶融はんだを供給するインジェクションヘッドと、
     作動停止後の前記ヒータユニットの下面に選択的に接触可能な第1の冷却用ユニットであって、作動停止後の前記ヒータユニットの下面に接触したときに、該ヒータユニットと、溶融はんだを供給された前記構成要素と、前記マスクとを介して前記インジェクションヘッドを強制冷却可能な第1の冷却用ユニットと、
     を備える、はんだバンプ形成装置。
  7.  前記ヒータユニットが、前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して前記構成要素を予備加熱するための第1のヒータユニットと、該第1のヒータユニットに替わって前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して前記構成要素をさらに作業温度にまで加熱するための第2のヒータユニットとを含んでおり、
     前記第1の冷却用ユニットは、作動停止後の前記第2のヒータユニットの下面に接触したときに、該第2のヒータユニットと、溶融はんだを供給された前記構成要素と、前記マスクとを介して前記インジェクションヘッドを強制冷却するようになされており、
     前記第2のヒータユニットおよび前記第1の冷却用ユニットに替わって前記構成要素の下面に直接または間接的に接触して、溶融はんだを供給された前記構成要素をさらに強制冷却可能な第2の冷却用ユニットをさらに備える、
     請求項6に記載のはんだバンプ形成装置。
  8.  さらに作業ステージ移送装置を備え、
     前記作業ステージが、前記作業ステージ移送装置に支持された第1ないし第4の作業ステージにして、前記作業ステージ移送装置の回転軸の回りに互いに90度の角度をもって離間配置された第1ないし第4の作業ステージを含み、
     前記作業ステージ移送装置は、前記第1ないし第4の作業ステージのそれぞれが、固定された第1ないし第4のインデックス位置を順次交代して占めるように前記第1ないし第4の作業ステージを間欠的に回転させるようになされている、
     請求項7に記載のはんだバンプ形成装置。
  9.  前記第1のインデックス位置に位置づけられた前記作業ステージとの間で前記構成要素を搬入および搬出するための供給ステージをさらに備え、
     前記第1のヒータユニットが前記第2のインデックス位置に配置されており、
     前記第2のヒータユニットと、前記インジェクションヘッドと、前記第1の冷却用ユニットとが、前記第3のインデックス位置に配置されており、
     前記第2の冷却用ユニットが前記第4のインデックス位置に配置されている、
     請求項8に記載のはんだバンプ形成装置。
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