WO2012121235A1 - 感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法 - Google Patents

感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2012121235A1
WO2012121235A1 PCT/JP2012/055634 JP2012055634W WO2012121235A1 WO 2012121235 A1 WO2012121235 A1 WO 2012121235A1 JP 2012055634 W JP2012055634 W JP 2012055634W WO 2012121235 A1 WO2012121235 A1 WO 2012121235A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
acid
meth
acrylate
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2012/055634
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
梓平 元藤
晋太郎 樋口
浩信 徳永
向井 孝夫
剛史 大高
水野 雄介
康裕 進藤
英嗣 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority to CN201280012001.7A priority Critical patent/CN103415540B/zh
Priority to KR1020137025734A priority patent/KR101666263B1/ko
Priority to PH1/2013/501817A priority patent/PH12013501817A1/en
Priority to US14/002,219 priority patent/US20140045966A1/en
Priority to KR1020167027619A priority patent/KR101710319B1/ko
Publication of WO2012121235A1 publication Critical patent/WO2012121235A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F22/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
    • C08F22/10Esters
    • C08F22/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. ethylene glycol dimethacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F4/00Polymerisation catalysts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/32Polyhydroxy compounds; Polyamines; Hydroxyamines
    • C08G18/3203Polyhydroxy compounds
    • C08G18/3206Polyhydroxy compounds aliphatic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48Polyethers
    • C08G18/4854Polyethers containing oxyalkylene groups having four carbon atoms in the alkylene group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/65Low-molecular-weight compounds having active hydrogen with high-molecular-weight compounds having active hydrogen
    • C08G18/6505Low-molecular-weight compounds having active hydrogen with high-molecular-weight compounds having active hydrogen the low-molecular compounds being compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38
    • C08G18/6511Low-molecular-weight compounds having active hydrogen with high-molecular-weight compounds having active hydrogen the low-molecular compounds being compounds of group C08G18/32 or polyamines of C08G18/38 compounds of group C08G18/3203
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/6705Unsaturated polymers not provided for in the groups C08G18/671, C08G18/6795, C08G18/68 or C08G18/69
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/687Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/20Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/40Esters of unsaturated alcohols, e.g. allyl (meth)acrylate

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition that forms a transparent cured product by light irradiation.
  • UV coating which is cured by light irradiation and coats the surface, is expanding its application range such as coating agents and adhesives from the viewpoint of workability (rapid curing) and low VOC.
  • a photocurable coating agent and a photocurable adhesive are composed of a photopolymerization initiator, a radical polymerizable monomer, an oligomer or a polymer, and various additives depending on applications.
  • Patent Document 1 In photocurable coating agents, radical polymerization is subject to inhibition of curing by oxygen, poor curability near the surface, and insufficient hardness and scratch resistance. In order to solve this problem, it has been proposed to use specific inorganic particles (see, for example, Patent Document 1). However, the invention described in Patent Document 1 uses inorganic particles having a specific structure in combination, and is improved in terms of satisfying hardness and scratch resistance, but the adhesion to the substrate becomes poor, And when obtaining hardened
  • FPD flat panel display
  • LCD liquid crystal display
  • PDP plasma display
  • Uses such as an adhesive for filling between and the like have been proposed (see, for example, Patent Document 2).
  • no photocurable filling adhesive that satisfies the required high heat resistance, adhesion to various substrates and high transparency is known.
  • This invention is made
  • the objective of this invention is excellent in the adhesiveness to various base materials, and the photosensitive composition in which transparent hardened
  • Another object of the present invention is to provide a photosensitive composition from which a photocurable coating agent excellent in hardness and scratch resistance can be obtained.
  • the further objective of this invention is providing the photosensitive composition from which the photocurable adhesive agent excellent in heat resistance is obtained.
  • a photosensitive composition comprising the following (1) to (3), wherein at least one of the radical initiator (A), the acid generator (B) and the base generator (C) is an actinic ray
  • the active species (H) is generated by irradiation with the active species, and the active species (H) reacts with the radical initiator (A), the acid generator (B) or the base generator (C) to form a new active species (I).
  • a radical initiator (A), an acid generator (B) and a base generator (C) are contained in combination with any of the following (1) to (4) together with the polymerizable substance (D), and are colored A photosensitive composition containing substantially no agent, metal oxide powder and metal powder.
  • B1 At least one selected from the group consisting of an acid generator (B1) that generates an acid by actinic rays, a radical initiator (A2) that generates a radical by an acid and / or a base, and, if necessary, a radical, an acid and a base Contains a base generator (C2) that generates bases by seeds.
  • a base generator (C1) that generates a base by actinic rays
  • A2 that generates a radical by an acid and / or a base
  • a radical initiator (A2) that generates a radical by an acid and / or a base
  • a radical, an acid and a base Contains an acid generator (B2) that generates an acid depending on the species.
  • active light is light having a wavelength of 360 to 830 nm.
  • the photosensitive composition of the present invention and the cured product of the present invention have the following effects.
  • (1) The cured product of the present invention obtained by curing the composition of the present invention exhibits high adhesion to various substrates.
  • (2) The cured product of the present invention obtained by curing the composition of the present invention exhibits high transparency.
  • (3) The composition of the present invention has good curability with actinic rays.
  • (4) The cured product of the present invention obtained by curing the composition of the present invention exhibits high hardness by appropriately selecting a polymerizable substance.
  • the cured product of the present invention obtained by curing the composition of the present invention exhibits high scratch resistance by appropriately selecting a polymerizable substance.
  • (6) The cured product of the present invention obtained by curing the composition of the present invention exhibits high heat resistance by appropriately selecting a polymerizable substance.
  • the photosensitive composition of the present invention contains the following (1) to (3).
  • (1) Radical initiator (A) (2) Acid generator (B) and / or base generator (C) (3) Polymerizable substance (D)
  • At least one of the radical initiator (A), the acid generator (B) and the base generator (C) is an actinic ray.
  • the active species (H) is generated by irradiation, and the active species (H) reacts with the radical initiator (A), the acid generator (B) and / or the base generator (C) to form a new active species (I ) And the polymerization reaction of the polymerizable substance (D) by the new active species (I) proceeds.
  • examples of the active species (H) and (I) include radicals, acids, and bases.
  • either of the active species (H) or (I) is an acid or a base. is necessary.
  • the active species (H) By diffusing the active species (H), it becomes possible to cure a narrow gap portion such as between the image display unit of the FPD and the front plate, which is difficult to be photocured with a general photopolymerization initiator.
  • the transparency of the obtained cured product and the adhesion to the substrate are improved. These characteristics are thought to be due to uniform curing.
  • a polymerizable substance (D) that does not react with the active species (H).
  • the radical initiator (A) means a compound that generates radicals by at least one of actinic rays, acids, and bases, radical initiator (A1) that generates radicals by actinic rays, and acids.
  • a known compound such as a radical initiator (A2) that generates radicals with a base can be used.
  • acylphosphine oxide derivative polymerization initiator (A121), ⁇ -aminoacetophenone derivative polymerization initiator (A122), benzyl ketal derivative polymerization initiator (A123), ⁇ -hydroxyacetophenone derivative polymerization initiator (A124)
  • the benzoin derivative polymerization initiator (A125), the oxime ester derivative polymerization initiator (A126), the titanocene derivative polymerization initiator (A127), etc. can generate radicals by any of actinic rays, acids and bases. It can be applied as either (A1) or (A2).
  • the organic peroxide polymerization initiator (A21), the azo compound polymerization initiator (A22), the other radical initiator (A23), and the like can generate radicals with an acid and / or a base. .
  • (A) may be used independently and may use 2 or more types together.
  • (A121) shows that it is the 1st example of the compound (A12) applicable as both (A1) and (A2).
  • acylphosphine oxide derivative polymerization initiator A121
  • 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide manufactured by BASF (LUCIRIN TPO)
  • bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenyl And phosphine oxide manufactured by BASF (IRGACURE 819)
  • ⁇ -aminoacetophenone derivative-based polymerization initiator A122
  • 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one [manufactured by BASF (IRGACURE 907)]
  • 2-benzyl -2-Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone [manufactured by BASF (IRGACURE 369)]
  • Examples of the benzyl ketal derivative polymerization initiator (A123) include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one [manufactured by BASF (IRGACURE 651)].
  • ⁇ -hydroxyacetophenone derivative-based polymerization initiator (A124), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone [manufactured by BASF (IRGACURE 184)], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1- ON [BASF (DAROCUR 1173)], 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one [BASF (IRGACURE 2959)] And 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl ⁇ -2-methyl-propan-1-one [manufactured by BASF (IRGACURE 127)] Can be mentioned.
  • benzoin derivative polymerization initiator (A125) examples include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether.
  • oxime ester derivative polymerization initiator (A126), 1,2-octanedione-1- (4- [phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)] [manufactured by BASF (IRGACURE OXE 01)] and ethanone -1- (9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (0-acetyloxime) [manufactured by BASF (IRGACURE OXE 02)] and the like.
  • the titanocene derivative polymerization initiator (A127) includes bis ( ⁇ 5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl). Titanium [manufactured by BASF (IRGACURE 784)] and the like.
  • organic peroxide polymerization initiator (A21) examples include benzoyl peroxide (BPO), t-butyl peroxyacetate, 2,2-di- (t-butylperoxy) butane, t-butyl peroxybenzoate, n-butyl 4,4-di- (t-butylperoxy) valerate, di- (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5,- Dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, 1,1,3 , 3, -Tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl Hydroperoxide and t- buty
  • azo compound polymerization initiator (A22) 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2 Examples include '-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide) and 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane).
  • Examples of other polymerization initiator (A23) include 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane.
  • radical initiator (A2) which generates a radical by an acid and / or a base
  • organic peroxide polymerization initiator (A21) and / or an azo compound polymerization initiator (A22) are preferable.
  • radical initiators (A) from the viewpoint of the storage stability of the photosensitive composition, organic peroxide polymerization initiators (A21) and azo compound polymerization initiators that generate radicals by heat ( Those other than A22), that is, radical initiators (A1) [including (A12)] that generate radicals by actinic rays are preferred.
  • radical initiators (A1) [including (A12)] that generate radicals by actinic rays are preferred.
  • the photosensitive composition contains a base generator (C1) that generates a base by actinic rays, radical generation by the base generated from (C1) is further promoted, and therefore (A12) is used. preferable.
  • the content of the radical initiator (A) in the photosensitive composition of the present invention is preferably 0.05 to 30% by weight based on the weight of the polymerizable substance (D) from the viewpoint of photocurability, and further Preferably, the content is 0.1 to 20% by weight.
  • the acid generator (B) means a compound that generates an acid by at least one of actinic rays, radicals, acids, and bases, and an acid generator (B1) that generates an acid by actinic rays, And known compounds such as an acid generator (B2) that generates an acid with at least one selected from the group consisting of radicals, acids and bases.
  • the sulfonium salt derivative (B121) and the iodonium salt derivative (B122) can generate an acid by actinic rays or radicals, and can be applied as (B1) or (B2).
  • the sulfonic acid ester derivative (B21), the acetic acid ester derivative (B22), the phosphonic acid ester (B23), and the like can generate an acid with an acid and / or a base, and can be applied as (B2).
  • (B) may be used alone or in combination of two or more.
  • (B121) shows that it is the 1st example of the compound (B12) applicable as both (B1) and (B2).
  • Examples of the sulfonium salt derivative (B121) in the present invention include compounds represented by the following general formula (1) or the following general formula (2).
  • a 1 is a divalent or trivalent group represented by any one of the general formulas (3) to (10), and Ar 1 to Ar 7 are each independently benzene. Having at least one ring skeleton, halogen atom, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, carbon number 1 to 20 at least one atom or substituent selected from the group consisting of alkylsilyl group, nitro group, carboxyl group, hydroxyl group, mercapto group, amino group, cyano group, phenyl group, naphthyl group, phenoxy group and phenylthio group
  • An aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may be substituted with Ar 1 to Ar 4 , Ar 6 and Ar 7 are monovalent groups
  • Ar 5 is a divalent group
  • R 1 to R 7 in the general formulas (5) to (8) are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 to 20 alkyl group, an amino group, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, at least one atom or optionally substituted phenyl group which is substituted with a group selected from the group consisting of a phenoxy group and a phenylthio group, R 1 And R 2 , R 4 and R 5 , and R 6 and R 7 may be bonded to each other to form a ring structure.
  • a 1 in formula (2) is preferably a group represented by formulas (5) and (7) to (10) from the viewpoint of acid generation efficiency.
  • the groups represented by 8) to (10) are more preferable.
  • Ar 1 to Ar 7 in the general formula (1) and the general formula (2) are groups in which the compound represented by the general formula (1) or the general formula (2) has absorption in the ultraviolet to visible light region. is there.
  • the number of benzene ring skeletons in Ar 1 to Ar 7 is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 4.
  • a residue obtained by removing one or two hydrogen atoms from benzene or a heterocyclic compound such as benzofuran, benzothiophene, indole, quinoline, coumarin, and the like can be given.
  • Examples of the case of having two benzene ring skeletons include one or two hydrogen atoms from heterocyclic compounds such as naphthalene, biphenyl, fluorene, or dibenzofuran, dibenzothiophene, xanthone, xanthene, thioxanthone, acridine, phenothiazine, and thianthrene. Residues excluded are listed.
  • Examples of having three benzene ring skeletons include, for example, removing one or two hydrogen atoms from a heterocyclic compound such as anthracene, phenanthrene, terphenyl, p- (thioxanthyl mercapto) benzene, and naphthobenzothiophene. Residue.
  • a residue obtained by removing one or two hydrogen atoms from naphthacene, pyrene, benzoanthracene, triphenylene and the like can be mentioned.
  • halogen atom examples include fluorine, chlorine, bromine and iodine, and fluorine and chlorine are preferable.
  • acyl group having 1 to 20 carbon atoms examples include formyl group, acetyl group, propionyl group, isobutyryl group, valeryl group and cyclohexylcarbonyl group.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms examples include methyl group, ethyl group, n- or iso-propyl group, n-, sec- or tert-butyl group, n-, iso- or neo-pentyl group, hexyl group, A heptyl group, an octyl group, etc. are mentioned.
  • alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms examples include methoxy group, ethoxy group, n- or iso-propoxy group, n-, sec- or tert-butoxy group, n-, iso- or neo-pentyloxy group, A hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, etc. are mentioned.
  • alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms examples include methylthio group, ethylthio group, n- or iso-propylthio group, n-, sec- or tert-butylthio group, n-, iso- or neo-pentylthio group, and hexylthio group. , Heptylthio group, octylthio group and the like.
  • alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms examples include trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group and triisopropylsilyl group.
  • the alkyl may be a linear structure or a branched structure.
  • halogen atoms As the atoms or substituents substituted by Ar 1 to Ar 7 , halogen atoms, cyano groups, phenyl groups, naphthyl groups, phenoxy groups, phenylthio groups, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms are preferable from the viewpoint of acid generation efficiency.
  • An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms and an acyl group having 1 to 20 carbon atoms more preferably a cyano group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 15 carbon atoms and an acyl group having 1 to 15 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, An alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.
  • Ar 1 to Ar 4 , Ar 6 and Ar 7 are preferably a phenyl group, a p-methylphenyl group, a p-methoxyphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, 2,4, from the viewpoint of acid generation efficiency. 6-trimethylphenyl group, p- (thioxanthylmercapto) phenyl group and m-chlorophenyl group.
  • Ar 5 is preferably a phenylene group, a 2- or 3-methylphenylene group, a 2- or 3-methoxyphenylene group, a 2- or 3-butylphenylene group, and a 2- or 3-chloro group from the viewpoint of acid generation efficiency.
  • Examples of the anion represented by (X 1 ) ⁇ or (X 2 ) ⁇ in the general formula (1) or (2) include a halide anion, a hydroxide anion, a thiocyanate anion, and those having 1 to 4 carbon atoms.
  • sulfonium salt derivative (B121) a compound having a triphenylsulfonium cation, a tri-p-tolylsulfonium cation, or a [p- (phenylmercapto) phenyl] diphenylsulfonium cation as a cation skeleton is preferable from the viewpoint of acid generation efficiency.
  • Compounds represented by the following general formulas (11) to (14) are preferable, and compounds represented by the following general formulas (11) to (14) are more preferable.
  • (X 3 ) ⁇ to (X 6 ) ⁇ in the general formulas (11) to (14) represent anions, specifically, (X 1 ) ⁇ or (X 2 in the general formula (1) or (2). ) - it includes the same ones as exemplified as, preferable ones are also same.
  • the iodonium salt derivative (B122) in the present invention is represented by the following general formula (15) or the following general formula (16).
  • a 2 is a divalent or trivalent group represented by any one of the general formulas (3) to (10), and Ar 8 to Ar 12 each independently have at least one benzene ring skeleton.
  • Aromatic group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of nitro group, carboxyl group, hydroxyl group, mercapto group, amino group, cyano group, phenyl group, naphthyl group, phenoxy group and phenylthio group A hydrocarbon group or a heterocyclic group, wherein Ar 8 to Ar 10 and Ar 12 are monovalent groups, Ar 11 is a divalent group, and (X 7 ) ⁇ and (X 8 ) ⁇ are anions.
  • C is 0 ⁇ Integer, d is an integer from 1 to 3, and c + d is an integer equal the valence of A 2 in 2 or 3.
  • a halogen atom an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms and an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms; The thing similar to what was described by description of General formula (1) and General formula (2) is illustrated.
  • a 2 is preferably a group represented by the general formula (5) and the general formulas (7) to (10) from the viewpoint of the efficiency of generating an acid. And groups represented by (8) to (10) are more preferred.
  • Ar 8 to Ar 12 in the general formula (15) or the general formula (16) are groups that allow the compound represented by the general formula (15) or the general formula (16) to absorb in the ultraviolet to visible light region. is there.
  • the number of benzene ring skeletons in Ar 8 to Ar 12 is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 4.
  • Specific examples of Ar 8 to Ar 12 include those represented by general formula (1) or general formula (2).
  • Examples of Ar 1 to Ar 7 are the same as those exemplified above, and preferable examples are also the same.
  • iodonium salt derivative (B122) (4-methylphenyl) ⁇ 4- (2-methylpropyl) phenyl ⁇ iodonium cation, [bis (4-t-butylphenyl)] iodonium are preferable from the viewpoint of acid generation efficiency.
  • Compounds having a cationic skeleton and compounds represented by the following general formulas (17) to (20) are preferred, and compounds represented by the following general formulas (17) to (20) are more preferable.
  • R 8 to R 13 are a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, An atom or substitution selected from the group consisting of an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a cyano group, a phenyl group, and a naphthyl group
  • (X 9 ) ⁇ to (X 12 ) ⁇ represent anions.
  • a halogen atom an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms and an alkylsilyl group having 1 to 20 carbon atoms; The thing similar to what was described by description of General formula (1) and General formula (2) is illustrated.
  • R 8 to R 13 are preferably a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an acyl group having 1 to 20 carbon atoms. More preferred are a cyano group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms and an acyl group having 1 to 15 carbon atoms, and particularly preferred are those having 1 to 10 carbon atoms. An alkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.
  • a photopolymerization initiator that can be used for curing in the visible light region (360 nm to 830 nm; see JIS-Z8120) is colored by the initiator itself to absorb visible light, and adversely affects the hue of the cured film.
  • the compound represented by the general formula (2) or the general formula (16) adverse effects on the hue of the cured film can be suppressed.
  • Examples of the sulfonic acid ester derivative (B21) include methanesulfonic acid cyclohexyl ester, ethanesulfonic acid isopropyl ester, benzenesulfonic acid-t-butyl ester, p-toluenesulfonic acid cyclohexyl ester, and naphthalenesulfonic acid cyclohexyl ester.
  • Examples of the acetate derivative (B22) include dichloroacetic acid cyclohexyl ester and trichloroacetic acid isopropyl ester.
  • Examples of the phosphonic acid ester (B23) include triphenylphosphonic acid cyclohexyl ester.
  • the base generator (C) means a compound that generates a base with at least one of actinic rays, radicals, acids and bases, and a base generator (C1) that generates a base with actinic rays,
  • a known compound such as a base generator (C2) that generates a base by at least one selected from the group consisting of radicals, acids and bases can be used.
  • the base generator (C) By including the base generator (C), the sensitivity is increased and the macroscopic reaction rate distribution can be suppressed. Therefore, the cured product of the present invention obtained by curing the photosensitive composition of the present invention has high hardness and high It is presumed that scratch resistance and high transparency can be expressed.
  • the oxime derivative (C121), the quaternary ammonium salt derivative (C122), the quaternary amidine salt derivative (C123) and the like can generate a base by actinic rays or radicals, and are applied as (C1) or (C2). it can. Further, the carbamate derivative (C21) can generate a base with a base and can be applied as (C2). (C) may be used alone or in combination of two or more. In addition, (C121) shows that it is the 1st example of the compound (C12) applicable as both (C1) and (C2).
  • Examples of the oxime derivative (C121) include O-acyloxime.
  • Examples of the carbamate derivative (C21) include 1-Fmoc-4-piperidone and o-nitrobenzoyl carbamate.
  • Examples of the quaternary ammonium salt derivative (C122) and the quaternary amidine salt derivative (C123) include compounds represented by any of the following general formulas (21) to (23).
  • R 14 to R 41 in the general formulas (21) to (23) are each a hydrogen atom, a halogen atom, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms.
  • One is general formula (24) or general It is a substituent represented by (25).
  • R 42 to R 45 are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R 46 to R 48 have 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group.
  • alkyl group, (X 13) - and (X 14) - represents an anion, e is an integer of 2-4.
  • a halogen atom an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, and carbon
  • alkylsilyl group of 1 to 20 are the same as those described in the description of the general formula (1) and the general formula (2).
  • the compound represented by the general formula (21) is an anthracene skeleton
  • the compound represented by the general formula (22) is a thioxanthone skeleton
  • the compound represented by the general formula (23) is a compound having a benzophenone skeleton, i-line (365 nm). It is an example of a compound having a maximum absorption wavelength in the vicinity.
  • R 14 to R 23 are modified in consideration of adjustment of absorption wavelength, adjustment of sensitivity, thermal stability, reactivity, decomposability, etc., and include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, Nitro group, carboxyl group, hydroxyl group, mercapto group, alkyl silyl group having 1 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, amino group, cyano group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, phenyl group, naphthyl group The atom or substituent selected from the group consisting of is modified according to the purpose. However, any one of R 14 to R 23 is a substituent represented by the general formula (24) or the general formula (25).
  • R 14 to R 23 are preferably a halogen atom, a cyano group, a phenyl group, a naphthyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an acyl group having 1 to 20 carbon atoms. More preferred are a cyano group, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms and an acyl group having 1 to 15 carbon atoms, and particularly preferred are those having 1 to 10 carbon atoms. An alkyl group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and an acyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the above alkyl moiety may be linear, branched or cyclic.
  • R 14 to R 23 include the compounds described in the description of R 8 to R 13 in the general formulas (17) to (19).
  • the substituent represented by the general formula (24) is a substituent having a cationized amidine skeleton, and e is an integer of 2 to 4.
  • substituents include a substituent having a structure in which 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene in which e is 4 and a 1,5-diazabicyclo [4. 3.0] -5-Nonene is preferably a substituent having a cationized structure.
  • R 42 and R 43 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. It is.
  • Formula (25) has a quaternary ammonium structure
  • R 44 and R 45 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, More preferred are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 46 to R 48 each represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group, and may be linear, branched or cyclic.
  • R 46 to R 48 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • (X 13 ) ⁇ and (X 14 ) ⁇ in the general formulas (24) and (25) represent anions, specifically, (X 1 ) ⁇ or (X 2 in the general formula (1) or (2). ) - it includes the same as those exemplified as. Of these, aliphatic or aromatic carboxy ions and borate anions are preferred from the viewpoint of photodegradability.
  • the compound represented by the general formula (24) generates a basic compound having an amidine skeleton by cleaving the bond between carbon and nitrogen to which R 42 and R 43 are bonded by irradiation with actinic rays.
  • the compound represented by 25 upon irradiation with actinic rays, a bond between carbon and nitrogen to which R 44 and R 45 are bonded is cleaved to generate a tertiary amine.
  • (X 15 ) ⁇ in the general formula (26) represents an anion, specifically, the same as those exemplified as (X 1 ) ⁇ or (X 2 ) ⁇ in the general formula (1) or (2) Things.
  • aliphatic or aromatic carboxy ions and borate anions are preferred from the viewpoint of photodegradability.
  • Examples of the carbamate derivative (C21) include 1-Z-4-piperidone.
  • the photosensitive composition of the present invention even if any of the acid generator (B) and the base generator (C) is used, excellent adhesiveness to various substrates and a transparent cured product can be obtained. From the viewpoint of yellowing resistance of the cured product, it is preferable to use the acid generator (B).
  • the content of the acid generator (B) and / or the base generator (C) [total of (B) and (C)] in the photosensitive composition of the present invention is a polymerizable substance from the viewpoint of photocurability.
  • the amount is preferably 0.05 to 30% by weight, more preferably 0.1 to 20% by weight, based on the weight of (D).
  • (A1), (A2), (B1), (B2), (C1), or (C2) may be contained in any combination of the following (1) to (4) Preferred [photosensitive composition of the second invention].
  • (1) Contains (A1) and (B2) and / or (C2).
  • (2) Contains (B1), (A2), and (C2) if necessary.
  • (3) Contains (C1), (A2), and (B2) if necessary.
  • radicals are generated as active species (H) upon irradiation with actinic rays, and acids and / or bases are generated as active species (I).
  • an acid is generated as the active species (H) by irradiation with actinic rays, and a radical and, if necessary, a base are generated as the active species (I).
  • a base is generated as an active species (H) by irradiation with actinic rays, and a radical and an acid are generated as necessary as an active species (I).
  • the polymerizable substance (D) in the present invention known compounds such as a radical polymerizable compound (D1) and an ionic polymerizable compound (D2) can be used.
  • (D) may be used alone or in combination of two or more.
  • the radically polymerizable compound (D1) is preferable from the viewpoint of curing speed.
  • a polymerization inhibitor such as hydroquinone or methyl ether hydroquinone may be used in combination.
  • radical polymerizable compound (D1) examples include an acrylamide compound (D11), a (meth) acrylate compound (D12), an aromatic vinyl compound (D13), a vinyl ether compound (D14), and other radical polymerizable compounds (D15). It is done.
  • acrylamide compound (D11) a (meth) acrylate compound (D12), an aromatic vinyl compound (D13), a vinyl ether compound (D14), and other radical polymerizable compounds (D15). It is done.
  • the (meth) acrylamide compound (D11) preferably has 3 to 35 carbon atoms.
  • the (meth) acrylate compound (D12) preferably has 4 to 35 carbon atoms, and examples thereof include the following monofunctional to hexafunctional (meth) acrylates.
  • the above “monofunctional to hexafunctional (meth) acrylate” means (meth) acrylate having 1 to 6 (meth) acryloyl groups, and the same description method is used hereinafter.
  • Monofunctional (meth) acrylates include ethyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, tert-octyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 4-n-butylcyclohexyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl ( (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl diglycol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acryl
  • bifunctional (meth) acrylate examples include 1,4-butanedi (meth) acrylate, 1,6-hexanedi (meth) acrylate, polypropylene di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1, 10-decanediol di (meth) acrylate, neopentyl di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,4-dimethyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, butylethylpropanediol di (meth) ) Acrylate, ethoxylated cyclohexanemethanol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, oligoethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-ethyl-2-buty
  • Trifunctional (meth) acrylates include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane alkylene oxide modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ((meth) acryloyloxypropyl) ether, isocyanuric acid alkylene oxide modified tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate propionate, tri ((meta ) Acryloyloxyethyl) isocyanurate, hydroxypivalaldehyde-modified dimethylolpropane tri (meth) acrylate, sorbitol tri (meth) acrylate , Birds 2-4 alkylene oxide 1-30 mole adduct carbon penta
  • tetrafunctional (meth) acrylates pentaerythritol tetra (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetrapropionate ( Examples thereof include tetra (meth) acrylates of 1 to 30 mol adducts of 2 to 4 carbon atoms of meth) acrylate and pentaerythritol.
  • pentafunctional (meth) acrylates examples include sorbitol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
  • hexafunctional (meth) acrylates examples include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, sorbitol hexa (meth) acrylate, phosphazene alkylene oxide-modified hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. It is done.
  • Examples of the aromatic vinyl compound having 6 to 35 carbon atoms (D13) include vinyl thiophene, vinyl furan, vinyl pyridine, styrene, methyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro.
  • Styrene dichlorostyrene, bromostyrene, vinyl benzoic acid methyl ester, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 3-ethylstyrene, 4-ethylstyrene, 3-propylstyrene, 4-propylstyrene, 3-butylstyrene, 4-butyl styrene, 3-hexyl styrene, 4-hexyl styrene, 3-octyl styrene, 4-octyl styrene, 3- (2-ethylhexyl) styrene, 4- (2-ethylhexyl) styrene, allyl styrene, Seo propenyl styrene, butenylstyrene, octenyl styrene, 4-t-butoxycarbonyl styrene
  • the vinyl ether compound (D14) preferably has 3 to 35 carbon atoms, and examples thereof include the following monofunctional or polyfunctional vinyl ethers.
  • the “monofunctional vinyl ether” means a vinyl ether compound having one vinyl group, and the “polyfunctional vinyl ether” means two or more vinyl groups.
  • Examples of the monofunctional vinyl ether include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4-methyl Cyclohexylmethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl ether , Tetrahydrofurfuryl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl
  • polyfunctional vinyl ether examples include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, butylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, bisphenol F alkylene oxide divinyl ether.
  • Divinyl ethers such as: trimethylolethane trivinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl Ether, EO-added trimethylolpropane trivinyl ether, PO-added trimethylolpropane trivinyl ether, EO-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, PO-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, EO-added pentaerythritol tetravinyl ether, PO-added pentaerythritol tetravinyl ether, EO
  • radical polymerizable compounds (D15) include acrylonitrile, vinyl ester compounds (such as vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl versatate), allyl ester compounds (such as allyl acetate), and halogen-containing monomers (vinylidene chloride and chloride). Vinyl) and olefin compounds (ethylene and propylene, etc.).
  • an acrylamide compound having 3 to 35 carbon atoms, a (meth) acrylate compound having 4 to 35 carbon atoms, an aromatic vinyl compound having 6 to 35 carbon atoms, and 3 to 35 carbon atoms are preferable. More preferred are acrylamide compounds having 3 to 35 carbon atoms and (meth) acrylate compounds having 4 to 35 carbon atoms.
  • Examples of the ion polymerizable compound (D2) include an epoxy compound (D21) having 3 to 20 carbon atoms and an oxetane compound having 4 to 20 carbon atoms (D22).
  • Examples of the epoxy compound having 3 to 20 carbon atoms (D21) include the following monofunctional or polyfunctional epoxy compounds.
  • the “monofunctional epoxy compound” means an epoxy compound having one epoxy group
  • the “polyfunctional epoxy compound” means an epoxy compound having two or more epoxy groups.
  • Examples of the monofunctional epoxy compound include phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, and 1,3-butadiene monooxide.
  • 1,2-epoxydodecane epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide and 3-vinylcyclohexene oxide It is done.
  • polyfunctional epoxy compound examples include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol S diglycidyl ether.
  • Epoxy novolac resin hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) Til) adipate, vinylcyclohexene oxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4′-epoxy-6 '-Methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohex
  • aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable from the viewpoint of curing speed, and alicyclic epoxides are particularly preferable.
  • Examples of the oxetane compound (D22) having 4 to 20 carbon atoms include compounds having 1 to 6 oxetane rings.
  • Examples of the compound having one oxetane ring include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3- (meth) allyloxymethyl-3-ethyloxetane, (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene, 4 -Fluoro- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 4-methoxy- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3-ethyl-3 -Oxetanylmethoxy) ethyl] phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3-ethyl-3-oxet
  • Examples of the compound having 2 to 6 oxetane rings include 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 3,3 ′-(1,3- (2-methylenyl) propanediylbis ( Oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane), 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl ] Ethane, 1,3-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenylbis (3-ethyl-3-oxetanyl) Methyl) ether, triethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether,
  • the polymerizable substance (D) it is more preferable to use the radically polymerizable compound (D1) in any combination of the following [1] to [4] according to the purpose and purpose.
  • the trifunctional or higher functional (meth) acrylate (Dc) is contained.
  • Trifunctional or higher functional (meth) acrylate (Dc) and 4- (meth) acryloylmorpholine (Dd) having one or more hydroxyl groups are contained.
  • the combination of the above [1] and the combination of [2] are used as a photosensitive composition for hard coat that gives a cured film exhibiting an excellent surface protection function with high hardness in addition to high adhesion and high transparency.
  • the combination of the above [3] is a photosensitive composition for hard coat that gives a cured film exhibiting an excellent surface protection function, in addition to high adhesion and high transparency, and a resist having excellent developability It is a combination of radically polymerizable compounds (D1) suitable for use as a photosensitive composition.
  • the combination of the above [4] is a radical suitable for use as a photosensitive composition for an adhesive that gives a cured film having high heat resistance, in addition to being excellent in high adhesion, high transparency, and particularly adhesion. It is a combination of a polymerizable compound (D1).
  • a monofunctional (meth) acrylate (Da) having one or more hydroxyl groups contains a functional (meth) acrylate (Db) and a trifunctional or higher functional (meth) acrylate (Dc) having one or more hydroxyl groups.
  • the monofunctional (meth) acrylate (Da) having one or more hydroxyl groups include mono (meth) acrylates of aliphatic or alicyclic polyhydric alcohols having 2 to 80 carbon atoms and the (meth) acrylate compounds (D12). The thing etc.
  • the aliphatic or alicyclic polyhydric alcohol having 2 to 80 carbon atoms may have —O— or —COO— in the molecular chain.
  • (Da) examples include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meta) ) Acrylate, dipentaerythritol mono (meth) acrylate, 3-hydroxy-1-adamantyl (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, general formula (27) to (Meth) acrylate represented by any of (31).
  • (Da) may be used alone or in combination of two or more.
  • R 49 and R 51 to R 60 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and when there are a plurality of R 53 , R 54 , R 56 , R 57 , R 59 or R 60 , a plurality of R 53 , R 54 , R 56 , R 57 , R 59 or R 60 may be the same or different,
  • R 50 is a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and f is 1 to 5 is an integer of 5;
  • g is an integer of 2 to 10;
  • h, i, j, and k are each independently an integer of 0 to 10; h and i are not 0 at the same time; Cannot be zero at the same time.
  • hydroxyalkyl (meth) acrylates having 2 to 4 carbon atoms in the hydroxyalkyl group are preferable from the viewpoint of surface hardness and adhesion, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 4 are more preferable.
  • the content of the monofunctional (meth) acrylate (Da) having one or more hydroxyl groups in the photosensitive composition of the present invention depends on the surface hardness and adhesion. From the viewpoint of safety, it is preferably 1 to 80% by weight, more preferably 3 to 40% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • the monofunctional (meth) acrylate (Db) having a vinyl ether group and / or an allyl ether group and having no hydroxyl group used in the combination [1] of the radical polymerizable compound (D1) is represented by the following general formula (32). At least one (meth) acrylate selected from the group consisting of a (meth) acrylate having a vinyl ether group or an allyl ether group and a (meth) acrylate of an aliphatic or alicyclic diol vinyl ether having 2 to 8 carbon atoms Etc.
  • Z is vinyl or an allyl group
  • R 61, R 62 and R 63 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, a plurality of the case where R 62 or R 63 there is a plurality R 62 or R 63 may be the same or different
  • l is an integer of 1 to 10.
  • Examples of the aliphatic or alicyclic diol having 2 to 8 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 3 -Methylpentanediol, diethylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-bis (hydroxymethyl) cyclohexane and the like.
  • (Db) examples include 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-allyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol vinyl ether (meth) acrylate And ethylene glycol vinyl ether (meth) acrylate.
  • (Db) may be used alone or in combination of two or more.
  • (meth) acrylate having a vinyl ether group or an allyl ether group represented by the general formula (32) is preferable, and 2-vinyloxyethoxy is more preferable.
  • Alkyl (meth) acrylate [alkyl having 2 to 4 carbon atoms] is preferable, and 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate is particularly preferable.
  • the monofunctional (meth) acrylate having a vinyl ether group and / or an allyl ether group and having no hydroxyl group in the photosensitive composition of the present invention ( The content of Db) is preferably 1 to 80% by weight, more preferably 3 to 40% by weight, based on the weight of the photosensitive composition, from the viewpoint of surface hardness and adhesion.
  • Examples of the (meth) acrylate (Dc) having 3 or more functional groups (preferably 3 to 6 functional groups) having one or more hydroxyl groups used in the combination [1] of the radically polymerizable compound (D1) include the above (meth) acrylate compounds ( Among those exemplified as trifunctional (meth) acrylates to hexafunctional (meth) acrylates in D12), those corresponding to, for example, polyvalent aliphatic or alicyclic polyhydric alcohols having 5 to 12 carbon atoms and higher Examples include at least one (meth) acrylate selected from the group consisting of (meth) acrylates and poly (meth) acrylates of adducts of 1 to 30 moles of alkylene oxide having 2 to 4 carbon atoms of the polyhydric alcohol.
  • (Dc) may be used alone or in combination of two or more.
  • pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate Preferred are sorbitol tri (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, sorbitol penta (meth) acrylate and tri (meth) acrylate of 1 to 10 moles of adducts of 2 to 4 carbon atoms of pentaerythritol, more preferably , Pentaerythritol tri (meth) acrylate.
  • the content of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate (Dc) having one or more hydroxyl groups in the photosensitive composition of the present invention is the surface hardness. From the viewpoint of adhesion, it is preferably 1 to 90% by weight, more preferably 5 to 80% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • the combination [2] of the radically polymerizable compound (D1) contains a tri- or higher functional (meth) acrylate (Dc) having one or more hydroxyl groups and 4- (meth) acryloylmorpholine (Dd).
  • Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate (Dc) having one or more hydroxyl groups include those similar to those used in the above combination [1], and preferable ones are also the same.
  • the content of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate (Dc) having one or more hydroxyl groups in the photosensitive composition of the present invention is the surface hardness. From the viewpoint of adhesion, it is preferably 1 to 90% by weight, more preferably 3 to 85% by weight, and particularly preferably 5 to 80% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • the adhesion of the cured product is improved by containing 4- (meth) acryloylmorpholine (Dd).
  • the content of 4- (meth) acryloylmorpholine (Dd) in the photosensitive composition of the present invention is from the viewpoint of surface hardness and adhesion.
  • the amount is preferably 1 to 80% by weight, more preferably 3 to 60% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • ester compound selected from the group consisting of phthalic acid ester, trimellitic acid ester and pyromellitic acid ester having an ethylenically unsaturated bond-containing group ( De) and, if necessary, (meth) acrylate (Df) having a urethane group and / or a urea group.
  • the ester compound (De) is selected from the group consisting of, for example, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group (x) and a hydroxyl group, phthalic acid (including isophthalic acid and terephthalic acid), trimellitic acid, and pyromellitic acid. It can be obtained by reacting with at least one acid.
  • a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a 1-propenyl group, and an allyl group are preferable from the viewpoint of curability, and more preferable. Is an allyl group.
  • the ester compound (De) has a plurality of (x)
  • the plurality of (x) may be the same or different.
  • ester compound (De) examples include compounds represented by general formulas (33) to (35). (De) may be used alone or in combination of two or more.
  • R 64 to R 72 are each independently a monovalent substituent represented by any one of the general formulas (36) to (40).
  • R 73 , R 75 , and R 77 are each independently a divalent aliphatic hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms
  • R 74 , R 76 , and R 78 are each Independently a hydrogen atom or a methyl group
  • * represents that the substituent is bonded to the oxygen atom of the oxycarbonyl group in the general formulas (33) to (35) by the bond to which it is attached.
  • the compound represented by the general formula (33) or (34) is preferable from the viewpoint of surface hardness and adhesion, and more preferable is the general formula It is a compound represented by Formula (34).
  • the substituents represented by the general formulas (36) to (40) are preferable from the viewpoint of surface hardness and adhesion.
  • a substituent represented by the general formula (40) are particularly preferably represented by the general formula (36) in which R 73 is an ethylene group and R 74 is a hydrogen atom in terms of surface hardness and adhesion.
  • R 66 to R 68 in formula (34) are substituents represented by formula (39) wherein R 78 is a hydrogen atom
  • R in formula (34) A compound in which 66 to R 68 are substituents represented by the general formula (40), R 69 to R 72 in the general formula (35), R 73 to an ethylene group, and R 74 to a hydrogen atom 36) and a compound in which R 69 to R 72 in the general formula (35) are a substituent represented by the general formula (39) in which R 78 is a hydrogen atom,
  • R 66 ⁇ R 68 is a compound which is a substituent represented by the general formula (40).
  • the ester compound (De) is, for example, an acid such as trimellitic acid in an organic solvent and a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group (x) and a hydroxyl group, if necessary, an acid catalyst (paratoluenesulfonic acid or the like). After the reaction in the presence of the organic solvent, the organic solvent can be distilled off under reduced pressure.
  • the content of the ester compound (De) in the photosensitive composition of the present invention is determined from the viewpoint of surface hardness and adhesion of the photosensitive composition.
  • the amount is preferably 1 to 80% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, based on the weight.
  • a (meth) acrylate (Df) having a urethane group and / or a urea group can be contained as necessary.
  • the adhesion is further improved.
  • the (meth) acrylate (Df) having a urethane group and / or a urea group is obtained by reacting an active hydrogen component (m) containing a (meth) acrylate having a hydroxyl group with an organic polyisocyanate component (n).
  • (Meth) acrylate etc. are mentioned.
  • (Df) may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the (meth) acrylate having a hydroxyl group in the active hydrogen component (m) include those exemplified as the aforementioned (meth) acrylate compound (D12), such as hydroxyalkyl (meth) acrylate having 5 to 8 carbon atoms [ Examples thereof include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate], pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
  • D12 hydroxyalkyl (meth) acrylate having 5 to 8 carbon atoms
  • Examples thereof include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate], pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipent
  • hydroxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of curability.
  • components other than the (meth) acrylate having a hydroxyl group in the active hydrogen component (m) include polyols and chain extenders.
  • polyol examples include a high molecular polyol having a hydroxyl group equivalent (average molecular weight per hydroxyl group calculated from a hydroxyl value) of 150 or more and a low molecular polyol having a hydroxyl group equivalent of less than 150.
  • Examples of the polymer polyol having a hydroxyl group equivalent of 150 or more include polyether polyol and polyester polyol.
  • polyether polyols examples include aliphatic polyether polyols and aromatic ring-containing polyether polyols.
  • aliphatic polyether polyol examples include polyoxyethylene polyol (polyethylene glycol and the like), polyoxypropylene polyol (polypropylene glycol and the like), polyoxyethylene / propylene polyol and polytetramethylene ether glycol.
  • Aromatic polyether polyols include polyols having a bisphenol skeleton, such as EO addition products of bisphenol A [2 mol addition products, 4 mol addition products, 6 mol addition products, 8 mol addition products, 10 mol addition products, and 20 mol addition products. Etc.] and PO adducts of bisphenol A [2 mol adducts, 3 mol adducts, 5 mol adducts, etc.] and resorcin EO or PO adducts.
  • EO addition products of bisphenol A [2 mol addition products, 4 mol addition products, 6 mol addition products, 8 mol addition products, 10 mol addition products, and 20 mol addition products.
  • Etc. and PO adducts of bisphenol A [2 mol adducts, 3 mol adducts, 5 mol adducts, etc.] and resorcin EO or PO adducts.
  • Polyether polyol is obtained by subjecting an aliphatic or aromatic low molecular weight active hydrogen atom-containing compound to ring-opening addition reaction of EO or PO in the presence of an addition catalyst (a known catalyst such as alkali metal hydroxide and Lewis acid). It is obtained by.
  • an addition catalyst a known catalyst such as alkali metal hydroxide and Lewis acid.
  • the number average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mn) of the polyether polyol is usually 300 or more, preferably 300 to 10,000, more preferably 300 to 6,000.
  • the number average molecular weight of the polyol in the present invention is measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a solvent and polyethylene glycol as a standard.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Mn of the low molecular polyol is a calculated value from the chemical formula.
  • polyester polyol examples include condensed polyester, polylactone polyol, polycarbonate polyol, and castor oil-based polyol.
  • Condensed polyesters are low molecular weight (Mn 300 or less) polyhydric alcohols and polycarboxylic acids or ester-forming derivatives thereof [acid anhydrides, acid halides, or low molecular weight alkyl (alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms) esters] And polyester.
  • Low molecular weight polyhydric alcohols include dihydric to octavalent or higher aliphatic polyhydric alcohols having a hydroxyl group equivalent of 30 to less than 150, and dihydric to octavalent or higher phenols having a hydroxyl group equivalent of 30 to 150.
  • Alkylene oxide low molar adducts can be used.
  • low molecular weight polyhydric alcohols that can be used for the condensation type polyester, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexane glycol, EO or PO low molar addition of bisphenol A is preferred. Products and combinations thereof.
  • polyvalent carboxylic acids or ester-forming derivatives thereof examples include aliphatic dicarboxylic acids (succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, etc.), alicyclic dicarboxylic acids ( Dimer acids, etc.), aromatic dicarboxylic acids (terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, etc.) and trivalent or higher polycarboxylic acids (trimellitic acid, pyromellitic acid, etc.), and their anhydrides (succinic anhydride, Maleic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, etc.), their acid halides (such as adipic acid dichloride), their low molecular weight alkyl esters (such as dimethyl succinate and dimethyl phthalate), and combinations thereof. .
  • aliphatic dicarboxylic acids succinic acid, adipic acid, azelaic acid, se
  • condensation type polyester examples include polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyhexamethylene isophthalate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene propylene adipate diol, polyethylene butylene adipate diol, polybutylene hexamethylene adipate Diol, polydiethylene adipate diol, poly (polytetramethylene ether) adipate diol, poly (3-methylpentylene adipate) diol, polyethylene azelate diol, polyethylene sebacate diol, polybutylene azelate diol, polybutylene sebacate diol and Examples include polyneopentyl terephthalate diol.
  • the polylactone polyol is a polyadduct of lactone to the above low molecular weight polyhydric alcohol.
  • lactone a lactone having 4 to 12 carbon atoms can be used, for example, ⁇ -butyrolactone, ⁇ -valerolactone, ⁇ -caprolactone, etc. Is mentioned.
  • examples of the polylactone polyol include polycaprolactone diol, polyvalerolactone diol, and polycaprolactone triol.
  • the polycarbonate polyol is a polyaddition product of an alkylene carbonate to a low molecular weight polyhydric alcohol.
  • an alkylene carbonate having 2 to 8 carbon atoms can be used, and examples thereof include ethylene carbonate and propylene carbonate.
  • Examples of the polycarbonate polyol include polyhexamethylene carbonate diol.
  • the castor oil-based polyol includes castor oil and castor oil modified with polyol or alkylene oxide. Modified castor oil can be produced by transesterification of castor oil and polyol and / or addition of alkylene oxide. Castor oil-based polyols include castor oil, trimethylolpropane-modified castor oil, pentaerythritol-modified castor oil, and an EO (4 to 30 mol) adduct of castor oil.
  • Low molecular polyols having a hydroxyl equivalent weight of less than 150 include aliphatic dihydric alcohols (ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, etc.) and aliphatic trihydric alcohols (triglycerides). Methylolpropane and glycerin). A polyol may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • chain extenders examples include water, diamines having 2 to 10 carbon atoms (for example, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, isophoronediamine, toluenediamine and piperazine), polyalkylenepolyamines (for example, diethylenetriamine and triethylenetetramine), and hydrazine. Or derivatives thereof (acid hydrazide etc.) (eg dibasic acid dihydrazide such as adipic acid dihydrazide) and amino alcohols having 2 to 10 carbon atoms (eg ethanolamine, diethanolamine, 2-amino-2-methylpropanol and triethanolamine etc.) ) And the like.
  • a chain extender may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the organic polyisocyanate component (n) is an aromatic polyisocyanate having 2 to 3 or more isocyanate groups and having 6 to 20 carbon atoms (excluding carbon in the isocyanate group, the same shall apply hereinafter), 2 to 18 carbon atoms.
  • Aromatic polyisocyanates include, for example, 1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4′- or 2,4′-diphenylmethane diisocyanate, 1,5 Naphthylene diisocyanate, 4,4 ′, 4 ′′ -triphenylmethane triisocyanate, m- or p-isocyanatophenylsulfonyl isocyanate.
  • aliphatic polyisocyanate examples include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanate. Hexanoate is mentioned.
  • alicyclic polyisocyanate examples include isophorone diisocyanate, 4,4-dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate and 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate may be mentioned.
  • Examples of the araliphatic polyisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate and ⁇ , ⁇ , ⁇ ', ⁇ '-tetramethylxylylene diisocyanate.
  • polyisocyanates from the viewpoint of surface hardness and adhesion, isophorone diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 2 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and 1,5-naphthalene diisocyanate.
  • An organic polyisocyanate component (n) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the (meth) acrylate (Df) having a urethane group and / or a urea group can be produced by a usual method, for example, an active hydrogen component (m) containing a (meth) acrylate having a hydroxyl group as an essential component;
  • the organic polyisocyanate component (n) may be reacted together or obtained by reacting the active hydrogen component (m) not containing a (meth) acrylate having a hydroxyl group with the organic polyisocyanate component (n). You may react the urethane / urea prepolymer which has an isocyanate group at the terminal, and the (meth) acrylate which has a hydroxyl group.
  • the ratio of the active hydrogen equivalent of the active hydrogen component (m) to the equivalent of the isocyanate group of the organic polyisocyanate component (n) is preferably 0.1 to 10, Is particularly preferred.
  • the reaction temperature is preferably 30 to 150 ° C, more preferably 50 to 100 ° C. The end point of the reaction can be confirmed, for example, by disappearance of the isocyanate group absorption (2250 cm ⁇ 1 ) in the infrared absorption spectrum or by determining the isocyanate group content by the method described in JIS K 7301-1995.
  • the content of the (meth) acrylate (Df) having a urethane group and / or a urea group in the photosensitive composition of the present invention is the surface hardness and From the viewpoint of adhesion, it is preferably 0 to 90% by weight, more preferably 1 to 85% by weight, and particularly preferably 5 to 80% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • the combination [4] of the radical polymerizable compound (D1) contains (meth) acrylate (Dg) having a cyclic ether skeleton and alkyl (meth) acrylate (Dh) having 1 to 24 carbon atoms in the alkyl group. Further, the photosensitive composition contains (meth) acrylic resin (E) which is a copolymer of at least two kinds of radical polymerizable monomers.
  • the (meth) acrylate (Dg) having a cyclic ether skeleton is preferably a compound having 6 to 30 carbon atoms.
  • a ring, an oxetane ring, a tetrahydrofuran ring, a dioxolane ring, and a dioxane ring As specific examples of (Dg), (meth) acrylate (Dg1) having an epoxy ring is glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylate (Dg2) having an oxetane ring is (3-ethyl-3- Oxetanyl) methyl (meth) acrylate; Tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate and ⁇ -caprolactone modified tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate; (meth) acrylate having dioxolane ring as tetrahydrofuran (meth) acrylate (Dg3) (Dg4) includes dioxane glycol di (meth) acrylate, (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-y
  • (Dg) may be used individually by 1 type, respectively, and may use 2 or more types together. Among them, preferred are (meth) acrylate (Dg3) having a tetrahydrofuran ring and (meth) acrylate (Dg4) having a dioxolane ring.
  • the content of the (meth) acrylate (Dg) having a cyclic ether skeleton in the photosensitive composition of the present invention is the viewpoint of heat resistance and adhesion. From 1 to 90% by weight, more preferably from 10 to 80% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • the alkyl (meth) acrylate (Dh) having 1 to 24 carbon atoms in the alkyl group used in the combination [4] of the radical polymerizable compound (D1) the monofunctional group in the (meth) acrylate compound (D12) is used.
  • the corresponding ones can be mentioned.
  • (Dh) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Of these, alkyl (meth) acrylates having 12 to 24 carbon atoms are preferred.
  • the content of the alkyl (meth) acrylate (Dh) having 1 to 24 carbon atoms in the photosensitive composition of the present invention is as follows. From the viewpoint of heat resistance and adhesion, it is preferably 1 to 90% by weight, more preferably 2 to 80% by weight, based on the weight of the photosensitive composition.
  • the (meth) acrylic resin (E) used in the photosensitive composition of the present invention is an alkyl (meth) acrylate from the viewpoint of heat resistance and adhesion. It is necessary to be a copolymer of at least two kinds of radically polymerizable monomers containing, and is preferably a copolymer of three or more kinds of radically polymerizable monomers.
  • radical polymerizable monomer examples include (meth) acrylic acid, alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and hydroxyalkyl (meth) acrylate having a hydroxyalkyl group having 1 to 24 carbon atoms. , Glycidyl (meth) acrylate, acrylonitrile, acrylamide, styrene, vinyl acetate and the like.
  • alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms include those similar to the above (Dh).
  • Examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate having a hydroxyalkyl group having 1 to 24 carbon atoms include those exemplified as the monofunctional (meth) acrylate in the (meth) acrylate compound (D12). Can be mentioned.
  • Preferred as the (meth) acrylic resin (E) is a copolymer of at least three radical polymerizable monomers including vinyl acetate (preferably 1 to 40 mol% of all radical polymerizable monomers) (meth). Acrylic resin. (E) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the Mn of the (meth) acrylic resin (E) is preferably 10,000 to 1,000,000, more preferably 20,000 to 800,000. Mn of the (meth) acrylic resin (E) in the present invention is measured under the following conditions. Apparatus: Gel permeation chromatography Solvent: Tetrahydrofuran Reference substance: Polystyrene Sample concentration: 3mg / ml Column stationary phase: PLgel MIXED-B Column temperature: 40 ° C
  • the content of the (meth) acrylic resin (E) in the photosensitive composition of the present invention is photosensitive from the viewpoint of heat resistance and adhesion.
  • the amount is preferably 1 to 80% by weight, more preferably 2 to 60% by weight, based on the weight of the composition.
  • the photosensitive composition of the present invention includes a coloring material (a pigment such as an inorganic pigment and an organic pigment, a dye), a metal oxide, and a metal powder, from the viewpoint of transparency of the resulting cured product. It is necessary to not contain substantially.
  • a coloring material a pigment such as an inorganic pigment and an organic pigment, a dye
  • a metal oxide a metal powder
  • the phrase “not substantially contained” means that the content in the photosensitive composition is less than 1% by weight.
  • the content of the coloring material in the photosensitive composition is preferably 0.8% by weight or less, more preferably 0% by weight.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a solvent, a sensitizer, an adhesion-imparting agent (such as a silane coupling agent) and the like as necessary.
  • Solvents include glycol ethers (ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol alkyl ether).
  • glycol ethers ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, etc.
  • ketones acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.
  • esters ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol alkyl ether.
  • the content of the solvent in the photosensitive composition is preferably 0 to 99% by weight, more preferably 3 to 95% by weight, and particularly preferably 5 to 90% by weight.
  • sensitizer examples include ketocoumarin, fluorene, thioxanthone, anthraquinone, naphthiazoline, biacetyl, benzyl and derivatives thereof, perylene, substituted anthracene, and the like other than (C).
  • the content of the sensitizer is preferably 0 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight, and particularly preferably 2 to 10% by weight with respect to the photosensitive composition.
  • Adhesive agents include ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropyltriethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, ureapropyltri Examples include ethoxysilane, tris (acetylacetonate) aluminum, and acetylacetate aluminum diisopropylate.
  • the content of the adhesion-imparting agent is preferably 0 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight, and particularly preferably 2 to 10% by weight with respect to the photosensitive composition.
  • the photosensitive composition of the present invention further includes a dispersant, an antifoaming agent, a leveling agent, a thixotropy imparting agent, a slip agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, etc. according to the purpose of use. Can be contained.
  • the photosensitive composition of the present invention comprises a radical initiator (A), a polymerizable substance (D), an acid generator (B) and / or a base generator (C), and, if necessary, a solvent and other components.
  • A radical initiator
  • D polymerizable substance
  • B acid generator
  • C base generator
  • solvent and other components can be obtained by kneading with a ball mill or a three-roll mill.
  • the kneading temperature is usually 10 ° C. to 40 ° C., preferably 20 ° C. to 30 ° C.
  • the photosensitive composition of the present invention can be photocured by irradiation with actinic rays of 360 to 830 nm, in addition to commonly used high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, high-power metal halide lamps, etc. (UV The latest trends in EB curing technology, edited by Radtech Research Association, CMC Publishing, 138, 2006) can be used. Moreover, the irradiation apparatus using an LED light source can also be used conveniently. Heating may be performed for the purpose of diffusing the base generated from the photobase generator during and / or after irradiation with actinic rays. The heating temperature is usually 30 ° C. to 200 ° C., preferably 35 ° C. to 150 ° C., more preferably 40 ° C. to 120 ° C.
  • Examples of the method for applying the photosensitive composition of the present invention to a substrate include known coating methods such as spin coating, roll coating, and spray coating, and planographic printing, carton printing, metal printing, offset printing, screen printing, and gravure printing.
  • a known printing method can be applied.
  • the present invention can also be applied to ink jet type coating in which fine droplets are continuously discharged.
  • IRGACURE 819 [manufactured by BASF Corp.] 4.2 parts, p-tolyl sulfoxide [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.] 2.8 parts, potassium nonafluoro-1-butanesulfonate [manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.] 4.1 parts, 1.2 parts of sulfuric acid [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] and 100 parts of acetonitrile were charged and dissolved, followed by stirring at 60 ° C. for 6 hours.
  • the reaction solution was added dropwise to a dispersion composed of 3.0 parts of silver phenylglyoxylate and 20 parts of methanol, and the mixture was further stirred for 1 hour at room temperature (about 25 ° C.), and then the resulting gray solid was removed by filtration. Was distilled off under reduced pressure to obtain 4.5 parts of a brown solid. This brown solid was recrystallized with an ether / hexane mixed solution to obtain 2.6 parts of a base generator (C123-3) (yellow solid).
  • Examples 1 to 22 (examples of radical polymerization) 96.5 parts of dipentaerythritol pentaacrylate as a radical polymerizable compound [“Neomer DA-600” manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.], and the radical initiator (A) and acid generator (B) shown in Table 1 Alternatively, “3 parts of radical initiator (A) and 0.5 part of acid generator (B) or base generator (C)” are kneaded at 25 ° C. for 3 hours using a base generator (C). Thus, photosensitive compositions (Q-1) to (Q-22) of the present invention were produced. However, the breakdown of 0.5 part (B) in Example 10 is 0.3 part (B1) and 0.2 part (B2), and the breakdown of 0.5 part (C) in Example 22 is (C1) 0.4 part and (C2) 0.1 part.
  • Examples 23 to 28 (examples of cationic polymerization) Using 96.5 parts of cyclohexene oxide as an ion polymerizable compound and the radical initiator (A) and acid generator (B) shown in Table 2, 3 parts of radical initiator (A), acid generator (B) 0.5 parts "was kneaded at 25 ° C. for 3 hours using a ball mill to produce photosensitive compositions (Q-23) to (Q-28) of the present invention.
  • the breakdown of (A) 3 parts in Example 28 is (A1) 2 parts and (A2) 1 part, and (B) 0.5 parts breakdown is (B1) 0.3 parts and (B2 ) 0.2 parts.
  • Examples 29 to 34 (examples of anionic polymerization) Using 96.5 parts of cyclohexene oxide as an ion polymerizable compound and the radical initiator (A) and the base generator (C) shown in Table 3, “3 parts of radical initiator (A), base generator (C)” 0.5 parts "was kneaded at 25 ° C. for 3 hours using a ball mill to produce photosensitive compositions (Q-29) to (Q-34) of the present invention.
  • the breakdown of (A) 3 parts in Example 34 is (A1) 2 parts and (A2) 1 part, and (C) 0.5 parts breakdown is (C1) 0.25 parts and (C2 ) 0.25 part.
  • Example 35 4-hydroxybutyl acrylate [Osaka Organic Chemical Co., Ltd. “4-HBA”] (Da-1) 20 parts, 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate [Nippon Shokubai Co., Ltd. “VEEA”] (Db-1) 9 parts, pentaerythritol triacrylate [Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Light acrylate PE-3A (Dc-1) 68 parts, radical initiator (A) 2,4,6-trimethylbenzoyl -Diphenyl-phosphine oxide ["LUCIRIN TPO" manufactured by BASF Corporation] (A-1) 2.45 parts, acid generator (B122-5) 0.3 parts and aminopolyether modified silicone [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ) "KF-889"] 0.25 part in a batch, uniformly mixed and stirred with a disperser, and the photosensitive of the present invention for hard coating Sex composition (Q-35) was obtained.
  • Example 36 Except for changing to 35 parts of 4-hydroxybutyl acrylate (Da-1), 35 parts of 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (Db-1), and 27 parts of pentaerythritol triacrylate (Dc-1) In the same manner as in Example 35, a photosensitive composition (Q-36) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Da-1 4-hydroxybutyl acrylate
  • Db-1 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate
  • Dc-1 pentaerythritol triacrylate
  • Example 37 Except for changing to 5 parts of 4-hydroxybutyl acrylate (Da-1), 20 parts of 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (Db-1) and 72 parts of pentaerythritol triacrylate (Dc-1) In the same manner as in Example 35, a photosensitive composition (Q-37) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Da-1 4-hydroxybutyl acrylate
  • Db-1 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate
  • Dc-1 pentaerythritol triacrylate
  • Example 38 For hard coat in the same manner as in Example 35 except that 4-hydroxybutyl acrylate (Da-1) is changed to 2-hydroxyethyl acrylate [“HEA” (Da-2) manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. Of the photosensitive composition (Q-38) of the present invention was obtained.
  • Example 39 Except for changing to 35 parts of 2-hydroxyethyl acrylate (Da-2), 35 parts of 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (Db-1), and 27 parts of pentaerythritol triacrylate (Dc-1) In the same manner as in Example 38, a photosensitive composition (Q-39) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 40 Except for changing to 5 parts 2-hydroxyethyl acrylate (Da-2), 20 parts 2- (2-vinyloxyethoxy) ethyl acrylate (Db-1), 72 parts pentaerythritol triacrylate (Dc-1) In the same manner as in Example 38, a photosensitive composition (Q-40) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 41 Except for changing 4-hydroxybutyl acrylate (Da-1) to 3-hydroxy-1-adamantyl acrylate [“Adamantate HA” manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.] (Da-3), the same as in Example 35 Thus, a photosensitive composition (Q-41) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 42 Same as Example 35, except that 4-hydroxybutyl acrylate (Da-1) is changed to 1,4-cyclohexanediol monoacrylate [“Fancryl FA-610A” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.] (Da-4). Thus, a photosensitive composition (Q-42) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 43 Example 4 except that 4-hydroxybutyl acrylate (Da-1) is changed to polyethylene glycol monoacrylate of Mn300 [“Fancryl FA-400A” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.] (Da-5). Thus, a photosensitive composition (Q-43) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 44 Except that pentaerythritol triacrylate (Dc-1) is changed to triacrylate of pentaerythritol EO 3.5 mol adduct [“Neomer EA-301” manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.] (Dc-2) In the same manner as in Example 35, a photosensitive composition (Q-44) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 45 Except for changing the acid generator (B122-5) to the base generator (C123-4), in the same manner as in Example 35, the photosensitive composition (Q -45) was obtained.
  • Example 46 Except for changing the acid generator (B122-5) to the base generator (C122-4), in the same manner as in Example 36, the photosensitive composition (Q -46) was obtained.
  • Example 47 Pentaerythritol triacrylate (Dc-1) 66.5 parts, 4-acryloylmorpholine [“ACMO” manufactured by Kojin Co., Ltd.] (Dd-1) 28.5 parts, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl- 4.25 parts of phosphine oxide (A-1), 0.5 part of acid generator (B122-5) and aminopolyether-modified silicone [KF-889 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] 0.24 parts as a leveling agent Were mixed together and stirred uniformly with a disperser to obtain a photosensitive composition (Q-47) of the present invention for hard coating.
  • Example 48 Except for changing to 84.5 parts of pentaerythritol triacrylate (Dc-1) and 10.5 parts of 4-acryloylmorpholine (Dd-1), the photosensitivity of the present invention for hard coating was carried out in the same manner as in Example 47. Sex composition (Q-48) was obtained.
  • Example 49 Except for changing to 39.5 parts of pentaerythritol triacrylate (Dc-1) and 55.5 parts of 4-acryloylmorpholine (Dd-1), the photosensitivity of the present invention for hard coating was carried out in the same manner as in Example 47. Sex composition (Q-49) was obtained.
  • Example 50 The photosensitive composition of the present invention for hard coating was used in the same manner as in Example 47, except that pentaerythritol triacrylate (Dc-1) was changed to triacrylate (Dc-2) of 3.5 mol of pentaerythritol EO. A product (Q-50) was obtained.
  • Example 51 The photosensitive composition (Q of the present invention for adhesives for hard coats was used in the same manner as in Example 47 except that the acid generator (B122-5) was changed to the base generator (C123-4). -51) was obtained.
  • Example 52 Except for changing the acid generator (B122-5) to the base generator (C122-4), in the same manner as in Example 48, the photosensitive composition (Q -52) was obtained.
  • Example 53 16 parts of ester compound (De-1), 67 parts of urethane acrylate (Df-1), 17 parts of urethane acrylate (Df-2), 5 parts of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (A-1) , 0.5 parts of acid generator (B122-5) and 1 part of aminopolyether-modified silicone [“KF-889” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] as a leveling agent are mixed at once and mixed and stirred uniformly with a disperser. Thus, a photosensitive composition (Q-53) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 53 is the same as Example 53 except that “urethane acrylate (Df-1)” is changed to “urethane acrylate (Df-3)” and “urethane acrylate (Df-2)” is changed to “urethane acrylate (Df-4)”. Similarly, the photosensitive composition (Q-54) of the present invention for hard coat was obtained.
  • Example 55 Except for changing “ester compound (De-1)” to “ester compound (De-2)”, in the same manner as in Example 53, the photosensitive composition (Q-55) of the present invention for hard coat was used. Obtained.
  • Example 56 Except for changing “ester compound (De-1)” to “ester compound (De-3)”, in the same manner as in Example 53, the photosensitive composition (Q-56) of the present invention for hard coat was used. Obtained.
  • Example 57 Without using urethane acrylates (Df-1) and (Df-2), “Neomer EA-300 [manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .: pentaerythritol tetraacrylate] 60 parts” was added, and the ester compound (De-1 The photosensitive composition (Q-57) of the present invention for hard coat was obtained in the same manner as in Example 53, except that the amount of charge was changed to 40 parts.
  • Example 58 Except for changing the acid generator (B122-5) to the base generator (C123-4), in the same manner as in Example 53, the photosensitive composition (Q -58) was obtained.
  • Example 59 Ester compound (De-1) 5 parts, urethane acrylate (Df-1) 33 parts, urethane acrylate (Df-2) 6 parts, “Neomer DA-600” [manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .: dipentaerythritol pentaacrylate And a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate], 5 parts, ethanone-1- (9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (0-acetyloxime) [BASF Corporation (IRGACURE OXE 02)] (A-2) 4.5 parts, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one [BASF (DAROCUR 1173)] (A-3) 2 parts , 0.5 part of an acid generator (B122-5), 5 parts of diethylthioxanthone [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Example 60 Example 59 and Example 59 were changed except that “urethane acrylate (Df-1)” was changed to “urethane acrylate (Df-3)” and “urethane acrylate (Df-2)” was changed to “urethane acrylate (Df-4)”. Similarly, a photosensitive composition (Q-60) of the present invention for a negative resist was obtained.
  • Example 61 The photosensitive composition (Q-61) of the present invention for negative resist was treated in the same manner as in Example 59 except that the “ester compound (De-1)” was changed to “ester compound (De-2)”. Got.
  • Example 62 The photosensitive composition of the present invention for negative resist (Q-62) was obtained in the same manner as in Example 59 except that "ester compound (De-1)" was changed to “ester compound (De-3)". Got.
  • Example 63 A photosensitive composition (Q-63) of the present invention for negative resist was obtained in the same manner as in Example 59 except that urethane acrylates (Df-1) and (Df-2) were not used.
  • Example 64 The photosensitive composition of the present invention for an adhesive for a negative resist (in the same manner as in Example 59, except that the acid generator (B122-5) was changed to a base generator (C122-4)) Q-64) was obtained.
  • Example 65 Tetrahydrofurfuryl acrylate [Hitachi Chemical Co., Ltd. “FA-THFA”] (Dg-1) 80 parts, n-stearyl methacrylate [Kyoeisha Chemical Co., Ltd. “Light Ester S”] (Dh-1) 20 parts, (Meth) acrylic acid (Mn: 500,000) (E-1) 20 parts, 2, 4 which is a copolymer of 10 parts (meth) acrylic acid, 9 parts 2-ethylhexyl (meth) acrylate and 2 parts vinyl acetate , 6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (A-1) 5 parts, acid generator (B122-5) 0.5 part, Irganox 1010 [manufactured by BASF Corp.] as an antioxidant and UV absorber Tinuvin 400 [manufactured by BASF Co., Ltd.] 0.6 parts is mixed at once, and uniformly mixed and stirred with a disperser, and the photosensitive composition of the
  • Example 66 Tetrahydrofurfuryl acrylate (Dg-1) was changed from “80 parts” to “49 parts”, and “n-stearyl methacrylate (Dh-1) 20 parts” was changed to “isostearyl acrylate [ISTAR made by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.] ”(Dh-2) 20 parts] and (meth) acrylic resin (E-1) was changed from“ 20 parts ”to“ 22 parts ”in the same manner as in Example 65, for adhesives Of the photosensitive composition (Q-66) of the present invention was obtained.
  • Example 67 Tetrahydrofurfuryl acrylate (Dg-1) from “80 parts” to “15 parts”, n-stearyl methacrylate (Dh-1) from “20 parts” to “75 parts”, (meth) acrylic resin (E— A photosensitive composition (Q-67) of the present invention for an adhesive was obtained in the same manner as in Example 65 except that 1) was changed from “20 parts” to “10 parts”.
  • Example 68 Tetrahydrofurfuryl acrylate (Dg-1) was converted to (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl) methyl acrylate [“MEDOL-10” manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.] (Dg-2
  • the photosensitive composition (Q-68) of the present invention for adhesives was obtained in the same manner as in Example 65 except that the above was changed.
  • Example 69 Except for changing the acid generator (B122-5) to the base generator (C123-4), the photosensitive composition (Q-69) of the present invention for adhesives was used in the same manner as in Example 65. Obtained.
  • Example 70 Except for changing the acid generator (B122-5) to the base generator (C122-4), in the same manner as in Example 65, the photosensitive composition (Q-70) of the present invention for adhesives was used. Obtained.
  • Comparative Examples 1 and 2 Comparative photosensitivity in the same manner as in Example 1 except that no acid generator (B) was used and 3.5 parts of the radical initiator (A) shown in Table 4 was used as the radical initiator (A). Compositions (Q′-1) and (Q′-2) were produced.
  • Comparative Examples 3 to 8 Examples of cationic polymerization
  • a comparative sample was used in the same manner as in Examples 23 to 28 except that the radical initiator (A) was not used and 3.5 parts of the acid generator (B) shown in Table 5 was used as the acid generator (B).
  • Photosensitive compositions (Q′-3) to (Q′-8) were produced.
  • the breakdown of (B) 3.5 parts in Comparative Example 8 is (B1) 2.5 parts and (B2) 1 part.
  • Comparative Examples 9 to 14 Examples of anionic polymerization
  • a comparative sample was used in the same manner as in Examples 29 to 34 except that the radical initiator (A) was not used and 3.5 parts of the base generator (C) shown in Table 6 was used as the base generator (C).
  • Photosensitive compositions (Q′-9) to (Q′-14) were produced. However, the breakdown of (C) 3.5 parts in Comparative Example 14 is (C1) 2.5 parts and (C2) 1 part.
  • Comparative Examples 15 to 16 (when inorganic particles are used) Comparative photosensitive compositions (Q′-15) to (Q′-16) were prepared in the same manner as Comparative Examples 1 and 2, except that 5 parts by weight of silica sol (“Nanocyl C130” manufactured by Nano Resin Co., Ltd.) was further added. Manufactured.
  • LUCIRIN TPO as (A121) is manufactured by BASF
  • 1-Fmoc-piperidone as (C21) is manufactured by Aldrich
  • BPO (benzoyl peroxide) as (A21) is Products manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. were used as “Nyper BW” manufactured by Oil Co., Ltd. and p-toluenesulfonic acid cyclohexyl ester as (B21).
  • the temperature-controlled resin film was visually observed and observed 50 times using a shape measurement microscope (ultra-deep shape measurement microscope VK-8550, manufactured by Keyence Corporation), and evaluated according to the following criteria.
  • X The change before temperature control is already visually recognized.
  • Each of the photosensitive compositions obtained in Examples 1 to 58, 65 to 70 and Comparative Examples 1 to 17 is subjected to surface treatment to the above-mentioned PET film having a thickness of 100 ⁇ m so that the film thickness becomes 20 ⁇ m or 80 ⁇ m using an applicator. It was applied as follows. About the exposure, it implemented using the following 2 types of irradiation apparatuses. (1) It exposed using the said belt conveyor type
  • the curability immediately after light irradiation of the coated film after curing was evaluated by the following evaluation criteria by scratching with a finger and nails.
  • Each of the photosensitive compositions obtained in Examples 1 to 58, 65 to 70 and Comparative Examples 1 to 17 is subjected to a surface treatment on the PET film having a thickness of 100 ⁇ m so that the film thickness becomes 20 ⁇ m using an applicator. It applied and exposed using the said belt conveyor type
  • Each negative resist photosensitive composition obtained in Examples 59 to 64 was applied to the above-mentioned PET film having a thickness of 100 ⁇ m using an applicator so as to have a film thickness of 20 ⁇ m. Subsequently, pre-baking was performed at 80 ° C. for 3 minutes under reduced pressure (4 kPa) to dry the solvent. Next, after setting a linear mask having a width of 15 ⁇ m, exposure was performed using the belt conveyor type UV irradiation apparatus. The exposure dose was 75 mJ / cm 2 and 150 mJ / cm 2 at 365 nm.
  • the test specimen after exposure was immersed in a 1% aqueous NaCO 2 solution for 100 seconds, and then alkali development was performed by spraying ion exchange water. Subsequently, post-baking was performed at 80 ° C. for 3 minutes under reduced pressure (4 kPa). The developability of the coating film after development was visually observed with an optical microscope, and the area (%) where patterning was possible was evaluated according to the following evaluation criteria.
  • Double-circle It has patterned without missing 98% or more.
  • Patterning can be performed without chipping in the range of 95% or more and less than 98%.
  • X The area
  • the photosensitive composition of the present invention is excellent in scratch resistance and can be cured even with a small amount of energy to form a transparent cured product
  • the cathode ray tube, liquid crystal display, plasma display, electroluminescence display, touch panel, flat panel It is extremely useful for forming a buffer layer, coating agent, ink, adhesive, or resist pattern between the image display unit of the display and the front plate.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

本発明は、下記(1)~(3)を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であり、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末のいずれもを実質的に含有しないことを特徴とする感光性組成物。 (1)ラジカル開始剤(A) (2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C) (3)重合性物質(D)

Description

感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法
本発明は、光照射により透明な硬化物を形成する感光性組成物に関する。
光照射により硬化させ表面をコーティングするいわゆるUVコーティングは、その作業性(速硬化性)や低VOC化の観点から、コーティング剤や粘接着剤等適用範囲が広がりつつある。
一般に光硬化性コーティング剤及び光硬化性粘接着剤は、光重合開始剤、ラジカル重合性モノマー、オリゴマー又はポリマー、用途に応じて各種添加剤からなる。
光硬化性コーティング剤において、ラジカル重合では、酸素による硬化阻害を受け、表面付近の硬化性が悪く、硬度、耐擦傷性が十分でない。この問題を解決するために、特定の無機粒子を使用することが提案されている(例えば特許文献1参照)。
しかしながら、特許文献1に記載の発明は特定の構造の無機粒子を併用するものであり、硬度、耐擦傷性を満足する点においては改良されているが、基材への密着性が不良となり、かつ、透明な塗膜等の硬化物を得たい場合、透明性が保持できないという問題がある。
また、光硬化性粘接着剤において、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)等に代表されるフラットパネルディスプレイ(FPD)のコントラストや輝度の向上を目的とした、画像表示ユニットと前面板との間の充填用粘接着剤等の用途が提案されている(例えば特許文献2参照)。しかし、要求される高耐熱性、各種基材への密着性及び高透明性を満たす、光硬化性の充填用粘接着剤は知られていない。
特開2011-076002号公報 特開2009-186957号公報
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、各種基材への密着性に優れ、かつ透明な硬化物(塗膜等)が形成される感光性組成物を提供することにある。
本発明のもう1つの目的は、硬度、耐擦傷性に優れた光硬化性コーティング剤が得られる感光性組成物を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、耐熱性に優れる光硬化性粘接着剤が得られる感光性組成物を提供することにある。
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。即ち、本発明は、下記4発明である。
(I) 下記(1)~(3)を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であり、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末のいずれもを実質的に含有しないことを特徴とする感光性組成物。
 (1)ラジカル開始剤(A)
 (2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)
 (3)重合性物質(D)
(II) 重合性物質(D)と共に、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)を下記(1)~(4)のいずれかの組合せで含有し、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末を実質的に含有しないことを特徴とする感光性組成物。
 (1)活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)及び/又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)を含有する。
 (2)活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)、並びに必要によりラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)を含有する。
 (3)活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)、並びに必要によりラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)を含有する。
 (4)上記(1)~(3)の2種類以上の組合せ。
(III) 上記(I)又は(II)の感光性組成物が活性光線の照射により硬化されてなる硬化物。
(IV) ラジカル開始剤(A)並びに酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)の存在下、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末のいずれもが実質的に不存在下、活性光線の照射により重合性物質(D)を重合させる活性光線硬化物の製造方法であり、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基である活性光線硬化物の製造方法。
尚、本発明において、活性光線とは360nm~830nmの波長を有する光線である。
本発明の感光性組成物及び本発明の硬化物は、以下の効果を奏する。
(1)本発明の組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、各種基材への高密着性を発現する。
(2)本発明の組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、高透明性を発現する。
(3)本発明の組成物は活性光線による硬化性が良好である。
上記の本発明全般における効果に加えて、
(4)本発明の組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、重合性物質を適宜選択することにより高硬度を発現する。
(5)本発明の組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、重合性物質を適宜選択することにより高い耐擦傷性を発現する。
(6)本発明の組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、重合性物質を適宜選択することにより高い耐熱性を発現する。
本発明の感光性組成物は、下記(1)~(3)を含有する。
 (1)ラジカル開始剤(A)
 (2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)
 (3)重合性物質(D)
本発明の感光性組成物及び本発明の活性光線硬化物の製造方法においては、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行する。ここで、活性種(H)及び(I)としては、ラジカル、酸及び塩基等が挙げられるが、上記反応において、活性種(H)又は(I)のいずれかは酸又は塩基であることが必要である。活性種(H)が拡散することにより、一般的な光重合開始剤では光硬化が困難な、FPDの画像表示ユニットと前面板との間等の狭い空隙部分の硬化が可能となる。また、得られる硬化物の透明性や基材への密着性が向上する。これらの特性は、均一硬化するためと考えられる。活性種(H)が容易に拡散するためには、重合性物質(D)として、活性種(H)と反応しないものを使用することが好ましい。
一般的な酸発生剤単独によるカチオン重合、又は塩基発生剤単独によるアニオン重合では、その発生剤が吸収を持たない波長の利用が困難であったが、本発明においては酸発生剤または塩基発生剤が吸収を持っていない波長に関しても、その波長に吸収のあるラジカル開始剤と組み合わせる事で利用することが可能となる。
本発明においてラジカル開始剤(A)とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも1種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、並びに酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A121)、α-アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A122)、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A123)、α-ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A124)、ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A125)、オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A126)及びチタノセン誘導体系重合開始剤(A127)等は活性光線、酸及び塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で(A1)、(A2)のいずれとしても適用できる。
また、有機過酸化物系重合開始剤(A21)、アゾ化合物系重合開始剤(A22)、その他のラジカル開始剤(A23)等は、酸及び/又は塩基によってラジカルを発生させることが可能である。
(A)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
尚、(A121)は、(A1)、(A2)のいずれとしても適用できる化合物(A12)の1番目の例であることを示す。
アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A121)としては、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド[BASF社製(LUCIRIN TPO)]及びビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド[BASF社製(IRGACURE 819)]等が挙げられる。
α-アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A122)としては、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン[BASF社製(IRGACURE 907)]、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)ブタノン[BASF社製(IRGACURE 369)]及び1,2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン[BASF社製(IRGACURE 379)]等が挙げられる。
ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A123)としては、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン[BASF社製(IRGACURE 651)]等が挙げられる。
α-ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A124)としては、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン[BASF社製(IRGACURE 184)]、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン[BASF社製(DAROCUR 1173)]、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン[BASF社製(IRGACURE 2959)]及び2-ヒロドキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン[BASF社製(IRGACURE 127)]等が挙げられる。
ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A125)としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A126)としては、1,2-オクタンジオン-1-(4-[フェニルチオ)-2-(O-ベンゾイルオキシム)][BASF社製(IRGACURE OXE 01)]及びエタノン-1-(9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(0-アセチルオキシム)[BASF社製(IRGACURE OXE 02)]等が挙げられる。
チタノセン誘導体系重合開始剤(A127)としては、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)-フェニル)チタニウム[BASF社製(IRGACURE 784)]等が挙げられる。
有機過酸化物系重合開始剤(A21)としては、ベンゾイルパーオキサイド(BPO)、t-ブチルパーオキシアセテート、2,2-ジ-(t-ブチルパーオキシ)ブタン、t-ブチルパーオキシベンゾエート、n-ブチル4,4-ジ-(t-ブチルパーオキシ)バレレート、ジ-(2-t-ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ-t-ヘキシルパーオキサイド、2,5,-ジメチル-2,5,-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、p-メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3,-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド及びt-ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。
アゾ化合物系重合開始剤(A22)としては、1-[(1-シアノ-1-メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’-アゾビス(N-ブチル-2-メチルプロピオンアミド)、2,2’-アゾビス(N-シクロヘキシル-2-メチルプロピオンアミド)及び2,2’-アゾビス(2,4,4-トリメチルペンタン)等が挙げられる。
その他の重合開始剤(A23)としては、2,3-ジメチル-2,3-ジフェニルブタン等が挙げられる。
酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)としては、有機過酸化物系重合開始剤(A21)及び/又はアゾ化合物系重合開始剤(A22)が好ましい。
これらのラジカル開始剤(A)の中では、感光性組成物の貯蔵安定性の観点から、熱によってもラジカルが発生する有機過酸化物系重合開始剤(A21)やアゾ化合物系重合開始剤(A22)以外のもの、即ち活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)〔(A12)を含む〕が好ましい。特に感光性組成物中に活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)を含む場合は、(C1)から発生した塩基によるラジカル発生がより促進されることから、(A12)を用いるのが好ましい。
本発明の感光性組成物中のラジカル開始剤(A)の含有量は、光硬化性の観点から、重合性物質(D)の重量に対して、好ましくは0.05~30重量%、更に好ましくは0.1~20重量%である。
本発明において酸発生剤(B)とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも1種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)等の公知の化合物が挙げられる。
酸発生剤(B)を含むことで、高感度化され、マクロ的な反応率分布が抑制できる為、本発明の感光性組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、高硬度・高い耐擦傷性、高透明性が発現可能となると推定される。
例えば、スルホニウム塩誘導体(B121)及びヨードニウム塩誘導体(B122)等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、(B1)又は(B2)として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体(B21)、酢酸エステル誘導体(B22)及びホスホン酸エステル(B23)等は酸及び/又は塩基によって酸を発生させることが可能で、(B2)として適用できる。
(B)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
尚、(B121)は、(B1)、(B2)のいずれとしても適用できる化合物(B12)の1番目の例であることを示す。
本発明におけるスルホニウム塩誘導体(B121)としては、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で示される化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
一般式(1)又は(2)において、Aは一般式(3)~(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり、Ar~Arはそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってAr~Ar、Ar及びArは1価の基、Arは2価の基であり、(X及び(Xは陰イオンを表し、aは0~2の整数、bは1~3の整数で、かつa+bは2又は3でAの価数と同じ整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
一般式(5)~(8)におけるR~Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~20のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、RとR、RとR、及びRとRは互いに結合して環構造を形成していてもよい。
一般式(2)におけるAとして、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式(5)及び一般式(7)~(10)で表される基であり、一般式(5)及び(8)~(10)で表される基が更に好ましい。
一般式(1)及び一般式(2)におけるAr~Arは、一般式(1)又は一般式(2)で表される化合物が紫外~可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ar~Arにおけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1~5、更に好ましくは1~4である。
ベンゼン環骨格を1個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を2個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を3個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、p-(チオキサンチルメルカプト)ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を4個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。
炭素数1~20のアシル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
炭素数1~20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-又はiso-プロピル基、n-、sec-又はtert-ブチル基、n-、iso-又はneo-ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。
炭素数1~20のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n-又はiso-プロポキシ基、n-、sec-又はtert-ブトキシ基、n-、iso-、又はneo-ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。
炭素数1~20のアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n-又はiso-プロピルチオ基、n-、sec-又はtert-ブチルチオ基、n-、iso-又はneo-ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。
炭素数1~20のアルキルシリル基としては、例えばトリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でも構わない。
Ar~Arの置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基及び炭素数1~20のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1~15のアルキル基、炭素数1~15のアルコキシ基、炭素数1~15のアルキルチオ基及び炭素数1~15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、炭素数1~10のアルキルチオ基及び炭素数1~10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
Ar~Ar、Ar及びArとして、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、p-メチルフェニル基、p-メトキシフェニル基、p-tert-ブチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、p-(チオキサンチルメルカプト)フェニル基及びm-クロロフェニル基である。
Arとして、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、2-又は3-メチルフェニレン基、2-又は3-メトキシフェニレン基、2-又は3-ブチルフェニレン基及び2-又は3-クロロフェニレン基である。
一般式(1)又は(2)において(X又は(Xで表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数1~4のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン(安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン、及びフェニルグリオキシル酸アニオン等)、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等)、6フッ化アンチモネートアニオン(SbF )、リンアニオン[6フッ化リンアニオン(PF )及び3フッ化トリス(パーフルオロエチル)リンアニオン(PF(C )等]及びボレートアニオン(テトラフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン等)等が挙げられ、酸発生効率の観点から、ホスフィンアニオン、ハロゲンで置換された脂肪族スルホキシアニオン及びボレートアニオンが好ましい。
スルホニウム塩誘導体(B121)として、酸発生効率の観点から好ましいのは、トリフェニルスルホニウムカチオン、トリ-p-トリルスルホニウムカチオン又は[p-(フェニルメルカプト)フェニル]ジフェニルスルホニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物及び下記一般式(11)~(14)で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式(11)~(14)で示される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
一般式(11)~(14)における(X~(Xは陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X又は(Xとして例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
本発明におけるヨードニウム塩誘導体(B122)は下記一般式(15)又は下記一般式(16)で示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
式中、Aは前記一般式(3)~(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり、Ar~Ar12はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ar~Ar10及びAr12は1価の基、Ar11は2価の基であり、(X及び(Xは陰イオンを表し、cは0~2の整数、dは1~3の整数で、かつc+dは2又は3でAの価数と同じ整数である。
ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基及び炭素数1~20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
一般式(16)におけるAとして、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、前記一般式(5)及び一般式(7)~(10)で表される基であり、一般式(5)及び(8)~(10)で表される基が更に好ましい。
一般式(15)又は一般式(16)におけるAr~Ar12は、一般式(15)又は一般式(16)で表される化合物が紫外~可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ar~Ar12におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1~5、更に好ましくは1~4であり、Ar~Ar12の具体例としては、一般式(1)又は一般式(2)のAr~Arとして例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
(X及び(Xとしては、一般式(1)又は(2)における(X又は(Xとして例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
ヨードニウム塩誘導体(B122)として、酸発生効率の観点から好ましいのは、(4-メチルフェニル){4-(2-メチルプロピル)フェニル}ヨードニウムカチオン、[ビス(4-t-ブチルフェニル)]ヨードニウムカチオン、[ビス(4-t-ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ヨードニウムカチオン、[ビス(4-メトキシフェニル)]ヨードニウムカチオン及び[ビス(4-メトキシフェニル)]ヨードニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物及び下記一般式(17)~(20)で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式(17)~(20)で示される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
一般式(17)~(20)において、R~R13は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、(X~(X12は陰イオンを表す。
ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基及び炭素数1~20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
~R13として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基及び炭素数1~20のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1~15のアルキル基、炭素数1~15のアルコキシ基及び炭素数1~15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基及び炭素数1~10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
一般式(17)~(20)における(X~(X12としては一般式(1)又は(2)における(X又は(Xとして例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
一般に可視光領域(360nm~830nm;JIS-Z8120参照)での硬化に使用可能な光重合開始剤は、可視光を吸収するため開始剤自体が着色しており、硬化膜の色相に悪影響を与るが、一般式(2)又は一般式(16)で示される化合物を使用することにより硬化膜の色相への悪影響を抑止することができる。
スルホン酸エステル誘導体(B21)としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸-t-ブチルエステル、p-トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
酢酸エステル誘導体(B22)としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。
ホスホン酸エステル(B23)としては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
本発明において塩基発生剤(C)とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも1種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)等の公知の化合物を用いることができる。
塩基発生剤(C)を含むことで、高感度化され、マクロ的な反応率分布が抑制できる為、本発明の感光性組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、高硬度・高い耐擦傷性、高透明性が発現可能となると推定される。
例えば、オキシム誘導体(C121)、4級アンモニウム塩誘導体(C122)及び4級アミジン塩誘導体(C123)等は活性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、(C1)又は(C2)として適用できる。
また、カルバメート誘導体(C21)は塩基によって塩基を発生させることが可能で、(C2)として適用できる。
(C)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
尚、(C121)は、(C1)、(C2)のいずれとしても適用できる化合物(C12)の1番目の例であることを示す。
オキシム誘導体(C121)としては、例えばO-アシロキシム等が挙げられる。
カルバメート誘導体(C21)としては、例えば1-Fmoc-4-ピペリドン、o-ニトロベンゾイルカルバメート等が挙げられる。
4級アンモニウム塩誘導体(C122)及び4級アミジン塩誘導体(C123)としては、例えば下記一般式(21)~(23)のいずれかで示される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
一般式(21)~(23)におけるR14~R41は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式(24)で表される置換基及び一般式(25)で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、R14~R23のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基であり、R24~R31のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基であり、R32~R41のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
一般式(24)及び(25)におけるR42~R45は水素原子又は炭素数1~20のアルキル基であり、R46~R48は水酸基で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基であり、(X13及び(X14は、陰イオンを表し、eは2~4の整数である。
一般式(21)~(23)におけるハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基及び炭素数1~20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
一般式(21)で示される化合物はアントラセン骨格、一般式(22)で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式(23)で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物であり、それぞれi線(365nm)付近に最大吸収波長を有する化合物の一例である。R14~R23は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性、分解性等を考慮して変性させるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数1~20のアルキルシリル基、炭素数1~20のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基で目的に応じて変性される。但し、R14~R23のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基である。
14~R23として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基及び炭素数1~20のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1~15のアルキル基、炭素数1~15のアルコキシ基及び炭素数1~15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基及び炭素数1~10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
上記のR14~R23の具体例としては、一般式(17)~(19)のR~R13の説明で記載した化合物が例示される。
一般式(24)で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、eは2~4の整数である。この置換基としては、eが4である1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びeが2である1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。R42とR43は水素原子又は炭素数1~20のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数1~10のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数1~5のアルキル基である。
一般式(25)は4級アンモニウム構造を有しており、R44とR45は水素原子又は炭素数1~20のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数1~10のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数1~5のアルキル基である。また、R46~R48は水酸基で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でもよい。R46~R48は好ましくは炭素数1~10のアルキル基、特に好ましくは炭素数1~5のアルキル基である。
一般式(24)及び(25)における(X13及び(X14は陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X又は(Xとして例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
一般式(24)で示される化合物は活性光線の照射により、R42とR43が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式(25)で示される化合物は活性光線の照射により、R44とR45が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂して3級アミンが生成する。
これらの光塩基発生剤(C1)の内、光分解性の観点から、下記一般式(26)で示される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
一般式(26)における(X15は、陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X又は(Xとして例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
カルバメート誘導体(C21)としては、例えば1-Z-4-ピペリドン等が挙げられる。
本発明の感光性組成物中に、酸発生剤(B)と塩基発生剤(C)のいずれを用いても、各種基材への密着性に優れ、かつ透明な硬化物が得られるが、硬化物の耐黄変性の観点からは、酸発生剤(B)を用いるのが好ましい。
本発明の感光性組成物中の酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)の含有量〔(B)と(C)の合計〕は、光硬化性の観点から、重合性物質(D)の重量に対して、好ましくは0.05~30重量%、更に好ましくは0.1~20重量%である。
本発明においては、(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、又は(C2)を、以下の(1)~(4)のいずれかの組合せで含有することが好ましい〔本第2発明の感光性組成物〕。
 (1)(A1)、並びに(B2)及び/又は(C2)を含有する。
 (2)(B1)、(A2)、及び必要により(C2)を含有する。
 (3)(C1)、(A2)、及び必要により(B2)を含有する。
 (4)上記(1)~(3)の2種類以上の組合せ。
上記(1)においては、活性光線の照射により活性種(H)としてラジカルが発生し、活性種(I)として酸及び/又は塩基が発生する。
上記(2)においては、活性光線の照射により活性種(H)として酸が発生し、活性種(I)としてラジカル及び必要により塩基が発生する。
上記(3)においては、活性光線の照射により活性種(H)として塩基が発生し、活性種(I)としてラジカル及び必要により酸が発生する。
これらの組合せの中で更に好ましいものは、(1)の内(A1)及び(B2)を含有するもの、(2)の内(B1)及び(A2)の内上記(A1)、(A2)のいずれとしても適用できる上記化合物(A12)を含有するもの、並びに(3)の内(C1)及び(A2)の内上記(A1)、(A2)のいずれとしても適用できる上記化合物(A12)を含有するものであり、特に好ましいものは、(A1)及び(B2)を含有するもの、並びに(B1)及び(A12)を含有するものである。
本発明における重合性物質(D)としては、ラジカル重合性化合物(D1)及びイオン重合性化合物(D2)等の公知の化合物を用いることができる。(D)は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの内、硬化速度の観点でラジカル重合性化合物(D1)が好ましい。また、必要により、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン類等の重合禁止剤を併用してもよい。
ラジカル重合性化合物(D1)として例えば、アクリルアミド化合物(D11)、(メタ)アクリレート化合物(D12)、芳香族ビニル化合物(D13)、ビニルエーテル化合物(D14)及びその他のラジカル重合性化合物(D15)が挙げられる。
尚、上記及び以下において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリル」と、それぞれ記載することがある。
(メタ)アクリルアミド化合物(D11)としては、炭素数3~35のものが好ましく、例えば、(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-プロピル(メタ)アクリルアミド、N-n-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-t-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド及び(メタ)アクリロイルモルフォリンが挙げられる。
(メタ)アクリレート化合物(D12)としては、炭素数4~35のものが好ましく、例えば以下の単官能~六官能の(メタ)アクリレートが挙げられる。
尚、上記「単官能~六官能の(メタ)アクリレート」とは、(メタ)アクリロイル基の数が1~6個の(メタ)アクリレートを意味し、以下同様の記載法を用いる。
単官能(メタ)アクリレートとしては、エチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、tert-オクチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4-n-ブチルシクロへキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシルジグリコール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2-クロロエチル(メタ)アクリレート、4-ブロモブチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、ブトキシメチル(メタ)アクリレート、メトキシプロピレンモノ(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、アルコキシメチル(メタ)アクリレート、2-エチルへキシルカルビトール(メタ)アクリレート、アルコキシエチル(メタ)アクリレート、2-(2-メトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2-(2-ブトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2,2,2-テトラフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,2H,2H-パーフルオロデシル(メタ)アクリレート、4-ブチルフェニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2,4,5-テトラメチルフェニル(メタ)アクリレート、4-クロロフェニル(メタ)アクリレート、フェノキシメチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジロキシブチル(メタ)アクリレート、グリシジロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノビニルエーテルモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、トリメトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、トリメトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、トリメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイド(メタ)アクリレート、オリゴエチレンオキサイド(メタ)アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、オリゴプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、2-メタクリロイロキシエチルコハク酸、2-メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、2-メタクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド(以下、EOと記載)変性フェノール(メタ)アクリレート、EO変性クレゾール(メタ)アクリレート、EO変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド(以下、POと記載)変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート及びEO変性-2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
二官能(メタ)アクリレートとしては、1,4-ブタンジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,4-ジメチル-1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2-エチル-2-ブチル-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFポリエトキシジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、2-エチル-2-ブチル-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート及びトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
三官能の(メタ)アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ((メタ)アクリロイルオキシプロピル)エーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリ((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数2~4のアルキレンオキサイド1~30モル付加物のトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
四官能の(メタ)アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート及びペンタエリスリトールの炭素数2~4のアルキレンオキサイド1~30モル付加物のテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
五官能の(メタ)アクリレートとしては、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
六官能の(メタ)アクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ(メタ)アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
炭素数6~35の芳香族ビニル化合物(D13)としては、ビニルチオフェン、ビニルフラン、ビニルピリジン、スチレン、メチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、3-メチルスチレン、4-メチルスチレン、3-エチルスチレン、4-エチルスチレン、3-プロピルスチレン、4-プロピルスチレン、3-ブチルスチレン、4-ブチルスチレン、3-ヘキシルスチレン、4-ヘキシルスチレン、3-オクチルスチレン、4-オクチルスチレン、3-(2-エチルヘキシル)スチレン、4-(2-エチルヘキシル)スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、4-t-ブトキシカルボニルスチレン、4-メトキシスチレン及び4-t-ブトキシスチレン等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物(D14)としては、炭素数3~35のものが好ましく、例えば以下の単官能又は多官能ビニルエーテルが挙げられる。
尚、上記「単官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が1個の、「多官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が2個以上の、それぞれビニルエーテル化合物を意味する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、t-ブチルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、n-ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4-メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2-ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイドジビニルエーテル等のジビニルエーテル類;トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、EO付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、PO付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、EO付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、PO付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、EO付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、PO付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、EO付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びPO付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。
その他のラジカル重合性化合物(D15)としては、アクリロニトリル、ビニルエステル化合物(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及びバーサチック酸ビニル等)、アリルエステル化合物(酢酸アリル等)、ハロゲン含有単量体(塩化ビニリデン及び塩化ビニル等)及びオレフィン化合物(エチレン及びプロピレン等)等が挙げられる。
これらの内、硬化速度の観点から好ましいのは、炭素数3~35のアクリルアミド化合物、炭素数4~35の(メタ)アクリレート化合物、炭素数6~35の芳香族ビニル化合物及び炭素数3~35のビニルエーテル化合物であり、更に好ましいのは炭素数3~35のアクリルアミド化合物及び炭素数4~35の(メタ)アクリレート化合物である。
イオン重合性化合物(D2)としては、炭素数3~20のエポキシ化合物(D21)及び炭素数4~20のオキセタン化合物等(D22)が挙げられる。
炭素数3~20のエポキシ化合物(D21)としては、例えば以下の単官能又は多官能エポキシ化合物等が挙げられる。
尚、上記「単官能エポキシ化合物」とはエポキシ基の数が1個の、「多官能エポキシ化合物」とはエポキシ基の数が2個以上の、それぞれエポキシ化合物を意味する。
単官能エポキシ化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、p-tert―ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2-ブチレンオキサイド、1,3-ブタジエンモノオキサイド、1,2-エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2-エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3-メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3-アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び3-ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
多官能エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3’,4’-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシ)シクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4-ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4-エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ-2-エチルヘキシル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、1,1,3-テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、1,2,7,8-ジエポキシオクタン及び1,2,5,6-ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物の中でも、硬化速度の観点から、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、脂環式エポキシドが特に好ましい。
炭素数4~20のオキセタン化合物(D22)としては、オキセタン環を1個~6個有する化合物等が挙げられる。
オキセタン環を1個有する化合物としては、例えば、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-(メタ)アリルオキシメチル-3-エチルオキセタン、(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、4-フルオロ-[1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、4-メトキシ-[1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、[1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)エチル]フェニルエーテル、イソブトキシメチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-エチルヘキシル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフルフリル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-テトラブロモフェノキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-トリブロモフェノキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-ヒドロキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、2-ヒドロキシプロピル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル及びボルニル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。
オキセタン環を2~6個有する化合物としては、例えば、3,7-ビス(3-オキセタニル)-5-オキサ-ノナン、3,3’-(1,3-(2-メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス-(3-エチルオキセタン)、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、1,4-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6-ビス(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、PO変性ビスフェノールAビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル及びEO変性ビスフェノールF(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。
これらの内、硬化速度の観点から、オキセタン環を1~2個有する化合物が好ましい。
重合性物質(D)は、用途や目的に応じて、ラジカル重合性化合物(D1)を下記〔1〕~〔4〕のいずれかの組合せで用いるのがさらに好ましい。
 〔1〕水酸基を1つ以上有する1官能(メタ)アクリレート(Da)、ビニルエーテル基及び/又はアリルエーテル基を有し、水酸基を有さない1官能(メタ)アクリレート(Db)並びに水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)を含有する。
 〔2〕水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)及び4-(メタ)アクリロイルモルホリン(Dd)を含有する。
 〔3〕エチレン性不飽和結合含有基を有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステル及びピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(De)並びに必要によりウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)を含有する。
 〔4〕環状エーテル骨格を有する(メタ)アクリレート(Dg)及びアルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレート(Dh)を含有し、感光性組成物中に少なくとも2種のラジカル重合性モノマーの共重合体である(メタ)アクリル樹脂(E)を含有する。
上記〔1〕の組合せ及び〔2〕の組合せは、高密着性、高透明性に加えて、高硬度の優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与えるハードコート用感光性組成物として用いるのに適したラジカル重合性化合物(D1)の組合せである。
上記〔3〕の組合せは、高密着性、高透明性に加えて、硬度が特に高い、優れた表面保護機能を発現する硬化膜を与えるハードコート用感光性組成物、及び現像性に優れるレジスト用感光性組成物として用いるのに適したラジカル重合性化合物(D1)の組合せである。
上記〔4〕の組合せは、高密着性、高透明性、特に密着性に優れることに加えて、高耐熱性の硬化膜を与える粘接着剤用感光性組成物として用いるのに適したラジカル重合性化合物(D1)の組合せである。
上記ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔1〕においては、水酸基を1つ以上有する1官能(メタ)アクリレート(Da)、ビニルエーテル基及び/又はアリルエーテル基を有し、水酸基を有さない1官能(メタ)アクリレート(Db)並びに水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)を含有する。
水酸基を1つ以上有する1官能(メタ)アクリレート(Da)としては、炭素数2~80の脂肪族又は脂環式多価アルコールのモノ(メタ)アクリレート及び前記の(メタ)アクリレート化合物(D12)中の一官能の(メタ)アクリレートとして例示したもののうち該当するもの等が挙げられる。上記の炭素数2~80の脂肪族又は脂環式多価アルコールは、分子鎖中に -O- や -COO- を有していてもよい。
(Da)の具体例としては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、一般式(27)~(31)のいずれかで表される(メタ)アクリレート等が挙げられる。(Da)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
式中、R49及びR51~R60はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、R53、R54、R56、R57、R59又はR60が複数個ある場合、複数個のR53、R54、R56、R57、R59又はR60はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、R50は炭素数1~18の1価の脂肪族炭化水素基であり、fは1~5の整数であり、gは2~10の整数であり、h、i、j、kはそれぞれ独立に0~10の整数であり、hとiは同時に0になることはなく、jとkは同時に0になることはない。
これらの内、表面硬度及び密着性の観点から好ましいのは、ヒドロキシアルキル基の炭素数が2~4のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートであり、さらに好ましいのは2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート及び4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートである。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔1〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中の水酸基を1つ以上有する1官能(メタ)アクリレート(Da)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~80重量%、更に好ましくは3~40重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔1〕で用いる、ビニルエーテル基及び/又はアリルエーテル基を有し、水酸基を有さない1官能(メタ)アクリレート(Db)としては、下記一般式(32)で表されるビニルエーテル基又はアリルエーテル基を有する(メタ)アクリレート及び炭素数2~8の脂肪族又は脂環式ジオールビニルエーテルの(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
式中、Zはビニル基又はアリル基であり、R61、R62及びR63はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、R62又はR63が複数個ある場合複数個のR62又はR63はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、lは1~10の整数である。
上記の炭素数2~8の脂肪族若しくは脂環式ジオールとしては、エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチルペンタンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4-シクロヘキサンジオール及び1,4-ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン等が挙げられる。
(Db)の具体例としては、2-(2-ビニロキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2-(2-アリロキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールビニルエーテル(メタ)アクリレート及びエチレングリコールビニルエーテル(メタ)アクリレートが挙げられる。(Db)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 
これらの内、表面硬度及び密着性の観点から好ましいのは、一般式(32)で表されるビニルエーテル基又はアリルエーテル基を有する(メタ)アクリレートであり、更に好ましいのは、2-ビニロキシエトキシアルキル(メタ)アクリレート〔アルキルの炭素数2~4〕であり、特に好ましいのは2-(2-ビニロキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレートである。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔1〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中のビニルエーテル基及び/又はアリルエーテル基を有し、水酸基を有さない1官能(メタ)アクリレート(Db)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~80重量%、更に好ましくは3~40重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔1〕で用いる水酸基を1つ以上有する3官能以上(好ましくは3~6官能)の(メタ)アクリレート(Dc)としては、前記の(メタ)アクリレート化合物(D12)中の三官能の(メタ)アクリレート~六官能(メタ)アクリレートとして例示したもののうち、該当するもの、例えば炭素数5~12の4価以上の脂肪族若しくは脂環式多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート及び該多価アルコールの炭素数2~4のアルキレンオキサイド1~30モル付加物のポリ(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレートが挙げられる。(Dc)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Dc)としては、表面硬度及び密着性の観点から、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート及びペンタエリスリトールの炭素数2~4のアルキレンオキサイド1~10モル付加物のトリ(メタ)アクリレートが好ましく、更に好ましくは、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートである。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔1〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中の水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~90重量%、更に好ましくは5~80重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔2〕においては、水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)及び4-(メタ)アクリロイルモルホリン(Dd)を含有する。
水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)としては、前記組合せ〔1〕で用いるのと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔2〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中の水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~90重量%、更に好ましくは3~85重量%、特に好ましくは5~80重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔2〕においては、4-(メタ)アクリロイルモルホリン(Dd)を含有することにより硬化物の密着性が向上する。
ラジカル重合性物質(D1)を組合せ〔2〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中の4-(メタ)アクリロイルモルホリン(Dd)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~80重量%、更に好ましくは3~60重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔3〕においては、エチレン性不飽和結合含有基を有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステル及びピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(De)及び必要によりウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)を含有する。
エステル化合物(De)は、例えばエチレン性不飽和結合含有基(x)及び水酸基を有する化合物と、フタル酸(イソフタル酸及びテレフタル酸を含む)、トリメリット酸及びピロメリット酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸とを反応させることにより得ることができる。
エステル化合物(De)が有するエチレン性不飽和結合含有基(x)として、硬化性の観点から好ましいのは、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、1-プロペニル基及びアリル基であり、更に好ましいのはアリル基である。
エステル化合物(De)が複数の(x)を有する場合、複数の(x)はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
エステル化合物(De)の内の好ましいものとしては、例えば一般式(33)~(35)で表される化合物等が挙げられる。(De)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
一般式(33)~(35)において、R64~R72はそれぞれ独立に一般式(36)~(40)のいずれかで表される1価の置換基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
一般式(36)~(40)において、R73、R75、R77はそれぞれ独立に炭素数2~12の2価の脂肪族炭化水素基であり、R74、R76、R78はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、*はそれが付された結合により置換基が前記一般式(33)~(35)におけるオキシカルボニル基の酸素原子と結合することを表す。
一般式(33)~(35)で表される化合物の内、表面硬度及び密着性の観点から好ましいのは一般式(33)又は(34)で表される化合物であり、更に好ましいのは一般式(34)で表される化合物である。一般式(36)~(40)で表される置換基の内、表面硬度及び密着性の観点から好ましいのは一般式(36)、(39)又は(40)で表される置換基であり、更に好ましいのは一般式(40)で表される置換基である。
これらの内、表面硬度及び密着性の観点から特に好ましいのは、一般式(34)におけるR66~R68が、R73がエチレン基でR74が水素原子である一般式(36)で表される置換基である化合物、一般式(34)におけるR66~R68が、R78が水素原子である一般式(39)で表される置換基である化合物、一般式(34)におけるR66~R68が、一般式(40)で表される置換基である化合物、一般式(35)におけるR69~R72が、R73がエチレン基でR74が水素原子である一般式(36)で表される置換基である化合物及び一般式(35)におけるR69~R72が、R78が水素原子である一般式(39)で表される置換基である化合物であり、最も好ましいのは、一般式(34)におけるR66~R68が、一般式(40)で表される置換基である化合物である。
エステル化合物(De)は、例えば、有機溶剤中、トリメリット酸等の酸と、エチレン性不飽和結合含有基(x)及び水酸基を有する化合物とを、必要により酸触媒(パラトルエンスルホン酸等)の存在下で反応させた後、有機溶剤を減圧留去することで得ることができる。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔3〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中のエステル化合物(De)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~80重量%、更に好ましくは5~40重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔3〕においては、必要により、ウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)を含有することができる。(Df)を含有する事により、密着性が更に向上する。
ウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)としては、水酸基を有する(メタ)アクリレートを含有する活性水素成分(m)と有機ポリイソシアネート成分(n)とを反応させて得られる(メタ)アクリレート等が挙げられる。(Df)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
活性水素成分(m)における水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、前記の(メタ)アクリレート化合物(D12)として例示したものの内該当するもの、例えば炭素数5~8のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート[例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート]、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが挙げられる。
これらの内、硬化性の観点から好ましいのは、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートである。
活性水素成分(m)における、水酸基を有する(メタ)アクリレート以外の成分としては、ポリオール及び鎖伸長剤等が挙げられる。
ポリオールとしては、水酸基当量(水酸基価から算出される水酸基1個当たりの平均分子量)150以上の高分子ポリオール及び水酸基当量150未満の低分子ポリオールが挙げられる。
水酸基当量150以上の高分子ポリオールとしては、ポリエーテルポリオール及びポリエステルポリオール等が挙げられる。
ポリエーテルポリオールとしては、脂肪族ポリエーテルポリオール及び芳香族環含有ポリエーテルポリオールが挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えばポリオキシエチレンポリオール(ポリエチレングリコール等)、ポリオキシプロピレンポリオール(ポリプロピレングリコール等)、ポリオキシエチレン/プロピレンポリオール及びポリテトラメチレンエーテルグリコール等が挙げられる。
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、ビスフェノール骨格を有するポリオール、例えばビスフェノールAのEO付加物[2モル付加物、4モル付加物、6モル付加物、8モル付加物、10モル付加物及び20モル付加物等]及びビスフェノールAのPO付加物[2モル付加物、3モル付加物及び5モル付加物等]並びにレゾルシンのEO又はPO付加物等が挙げられる。
ポリエーテルポリオールは、脂肪族又は芳香族低分子量活性水素原子含有化合物に、付加触媒(アルカリ金属水酸化物及びルイス酸等の公知の触媒)の存在下にEO又はPOを開環付加反応させることで得られる。
ポリエーテルポリオールの数平均分子量(以下、Mnと略記)は通常300以上、好ましくは300~10,000、更に好ましくは300~6,000である。
本発明におけるポリオールの数平均分子量の測定は、溶剤としてテトラヒドロフランを用い、ポリエチレングリコールを標準としてゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定される。但し、低分子ポリオールのMnは化学式からの計算値である。
ポリエステルポリオールとしては、縮合型ポリエステル、ポリラクトンポリオール、ポリカーボネートポリオール及びヒマシ油系ポリオールが挙げられる。
縮合型ポリエステルは、低分子量(Mn300以下)多価アルコールと多価カルボン酸又はそのエステル形成性誘導体〔酸無水物、酸ハロゲン化物、若しくは低分子量アルキル(アルキル基の炭素数1~4)エステル〕とのポリエステルである。
低分子量多価アルコールとしては、水酸基当量が30以上150未満の2価~8価又はそれ以上の脂肪族多価アルコール及び水酸基当量が30以上150未満の2価~8価又はそれ以上のフェノールのアルキレンオキサイド低モル付加物が使用できる。
縮合型ポリエステルに使用できる低分子量多価アルコールの内好ましいのは、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサングリコール、ビスフェノールAのEO又はPO低モル付加物及びこれらの併用である。
縮合型ポリエステルに使用できる多価カルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、脂肪族ジカルボン酸(コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、フマル酸及びマレイン酸等)、脂環式ジカルボン酸(ダイマー酸等)、芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸及びフタル酸等)及び3価又はそれ以上のポリカルボン酸(トリメリット酸及びピロメリット酸等)、これらの無水物(無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸及び無水トリメリット酸等)、これらの酸ハロゲン化物(アジピン酸ジクロライド等)、これらの低分子量アルキルエステル(コハク酸ジメチル及びフタル酸ジメチル等)及びこれらの併用が挙げられる。
縮合型ポリエステルとしては、例えばポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオール、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリエチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘキサメチレンアジペートジオール、ポリジエチレンアジペートジオール、ポリ(ポリテトラメチレンエーテル)アジペートジオール、ポリ(3-メチルペンチレンアジペート)ジオール、ポリエチレンアゼレートジオール、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンアゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール及びポリネオペンチルテレフタレートジオール等が挙げられる。
ポリラクトンポリオールは、上記低分子量多価アルコールへのラクトンの重付加物であり、ラクトンとしては、炭素数4~12のラクトンが使用でき、例えばγ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン及びε-カプロラクトン等が挙げられる。
ポリラクトンポリオールとしては、例えばポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクトンジオール及びポリカプロラクトントリオール等が挙げられる。
ポリカーボネートポリオールは、低分子量多価アルコールへのアルキレンカーボネートの重付加物であり、アルキレンカーボネートとしては炭素数2~8のアルキレンカーボネートが使用でき、例えばエチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート等が挙げられる。
ポリカーボネートポリオールとしては、ポリヘキサメチレンカーボネートジオール等が挙げられる。
ポリカーボネートポリオールの市販品としては、ニッポラン980R[Mn=2,000,日本ポリウレタン工業(株)製]、T5652[Mn=2,000、旭化成(株)製]及びT4672[Mn=2,000、旭化成(株)製]が挙げられる。
ヒマシ油系ポリオールには、ヒマシ油及びポリオール又はアルキレンオキサイドで変性されたヒマシ油が含まれる。変性ヒマシ油はヒマシ油とポリオールとのエステル交換及び/又はアルキレンオキサイド付加により製造できる。ヒマシ油系ポリオールとしては、ヒマシ油、トリメチロールプロパン変性ヒマシ油、ペンタエリスリトール変性ヒマシ油及びヒマシ油のEO(4~30モル)付加物等が挙げられる。
水酸基当量150未満の低分子ポリオールとしては、脂肪族2価アルコール(エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール及び1,6-ヘキサンジオール等)及び脂肪族3価アルコール(トリメチロールプロパン及びグリセリン等)が挙げられる。
ポリオールは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
鎖伸長剤としては、水、炭素数2~10のジアミン類(例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、トルエンジアミン及びピペラジン)、ポリアルキレンポリアミン類(例えばジエチレントリアミン及びトリエチレンテトラミン)、ヒドラジン又はその誘導体(酸ヒドラジド等)(例えばアジピン酸ジヒドラジド等の二塩基酸ジヒドラジド)並びに炭素数2~10のアミノアルコール類(例えばエタノールアミン、ジエタノールアミン、2-アミノ-2-メチルプロパノール及びトリエタノールアミン等)等が挙げられる。
鎖伸長剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
有機ポリイソシアネート成分(n)としては、2~3個又はそれ以上のイソシアネート基を有する炭素数6~20(イソシアネート基中の炭素を除く、以下同様)の芳香族ポリイソシアネート、炭素数2~18の脂肪族ポリイソシアネート、炭素数4~15の脂環式ポリイソシアネート及び炭素数8~15の芳香脂肪族ポリイソシアネートが挙げられる。
芳香族ポリイソシアネートとしては、例えば1,3-又は1,4-フェニレンジイソシアネート、2,4-又は2,6-トリレンジイソシアネート、4,4’-又は2,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、4,4’,4”-トリフェニルメタントリイソシアネート、m-又はp-イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネートが挙げられる。
脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えばエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート及び2-イソシアナトエチル-2,6-ジイソシアナトヘキサノエートが挙げられる。
脂環式ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、4,4-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス (2-イソシアナトエチル)-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボキシレート及び2,5-又は2,6-ノルボルナンジイソシアネートが挙げられる。
芳香脂肪族ポリイソシアネートとしては、例えばm-又はp-キシリレンジイソシアネート及びα,α,α’,α’-テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
ポリイソシアネートの内で表面硬度及び密着性の観点から好ましいのは、イソホロンジイソシアネート、4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、2,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート及び1,5-ナフタレンジイソシアネートである。
有機ポリイソシアネート成分(n)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
ウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)は、通常の方法により製造することができ、例えば、水酸基を有する(メタ)アクリレートを必須成分として含有する活性水素成分(m)と有機ポリイソシアネート成分(n)とを一括して反応させてもよいし、水酸基を有する(メタ)アクリレートを含有しない活性水素成分(m)と有機ポリイソシアネート成分(n)とを反応させて得られるイソシアネート基を末端に有するウレタン/ウレアプレポリマーと水酸基を有する(メタ)アクリレートとを反応させてもよい。
有機ポリイソシアネート成分(n)のイソシアネート基の当量に対する活性水素成分(m)の活性水素の当量の比率(活性水素の当量/イソシアネート基の当量)は、0.1~10が好ましく、0.9~1.2が特に好ましい。また、反応温度は、30~150℃が好ましく、50~100℃が更に好ましい。尚、反応の終点は、例えば、赤外線吸収スペクトルにおけるイソシアネート基の吸収(2250cm-1)の消失や、JIS K 7301-1995に記載の方法でイソシアネート基含有率を求めることで確認できる。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔3〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中のウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)の含有量は、表面硬度及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは0~90重量%、更に好ましくは1~85重量%、特に好ましくは5~80重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔4〕においては、環状エーテル骨格を有する(メタ)アクリレート(Dg)及びアルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレート(Dh)を含有し、更に感光性組成物中に少なくとも2種のラジカル重合性モノマーの共重合体である(メタ)アクリル樹脂(E)を含有する。
上記ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔4〕において、環状エーテル骨格を有する(メタ)アクリレート(Dg)としては、炭素数が6~30である化合物が好ましく、環状エーテル骨格としては、例えばエポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環及びジオキサン環が挙げられる。
(Dg)の具体例としては、エポキシ環を有する(メタ)アクリレート(Dg1)としては、グリシジル(メタ)アクリレート;オキセタン環を有する(メタ)アクリレート(Dg2)としては、(3-エチル-3-オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート;テトラヒドロフラン環を有する(メタ)アクリレート(Dg3)としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート及びγ-カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート;ジオキソラン環を有する(メタ)アクリレート(Dg4)としては、ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、(2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル(メタ)アクリレート、(2,2-シクロヘキシル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル(メタ)アクリレート及びジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート;ジオキサン環を有する(メタ)アクリレート(Dg5)としては、(5-メチル-1,3-ジオキサン-5-イル)メチル(メタ)アクリレートが挙げられる。(Dg)はそれぞれ1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中で好ましいものは、テトラヒドロフラン環を有する(メタ)アクリレート(Dg3)及びジオキソラン環を有する(メタ)アクリレート(Dg4)である。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔4〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中の環状エーテル骨格を有する(メタ)アクリレート(Dg)の含有量は、耐熱性及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~90重量%、更に好ましくは10~80重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔4〕に用いるアルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレート(Dh)としては、前記の(メタ)アクリレート化合物(D12)中の単官能(メタ)アクリレートとして例示したもののうち、該当するもの等が挙げられる。(Dh)はそれぞれ1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの中で好ましいものは、炭素数12~24のアルキル(メタ)アクリレートである。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔4〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中のアルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレート(Dh)の含有量は、耐熱性及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~90重量%、更に好ましくは2~80重量%である。
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔4〕で用いる場合に、本発明の感光性組成物に用いる(メタ)アクリル樹脂(E)は、耐熱性及び密着性の観点から、アルキル(メタ)アクリレートを含む少なくとも2種のラジカル重合性モノマーの共重合体である必要があり、3種以上のラジカル重合性モノマーの共重合体である事が好ましい。
上記のラジカル重合性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、アルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル基の炭素数が1~24であるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、アクリルアミド、スチレン及び酢酸ビニル等が挙げられる。
上記アルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレートとしては、前記の(Dh)と同様のものが挙げられる。ヒドロキシアルキル基の炭素数が1~24であるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、前記の(メタ)アクリレート化合物(D12)中の単官能(メタ)アクリレートとして例示したもののうち、該当するもの等が挙げられる。
(メタ)アクリル樹脂(E)として好ましいものは、酢酸ビニル(好ましくは全ラジカル重合性モノマーの1~40モル%)を含む少なくとも3種の上記ラジカル重合性モノマーの共重合体である(メタ)アクリル樹脂である。(E)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(メタ)アクリル樹脂(E)のMnとしては1万~100万である事が好ましく、更に好ましくは2万~80万である。
本発明における(メタ)アクリル樹脂(E)のMnは、下記条件にて測定されるものである。
  装置 : ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
  溶媒 : テトラヒドロフラン
  基準物質 : ポリスチレン
  サンプル濃度 : 3mg/ml
  カラム固定相 : PLgel MIXED-B
  カラム温度 : 40℃
ラジカル重合性化合物(D1)を組合せ〔4〕で用いる場合の、本発明の感光性組成物中の(メタ)アクリル樹脂(E)の含有量は、耐熱性及び密着性の観点から、感光性組成物の重量を基準として、好ましくは1~80重量%、更に好ましくは2~60重量%である。
本発明の感光性組成物は、得られる硬化物の透明性の点から、着色材料である、着色剤(無機顔料及び有機顔料等の顔料、染料)、金属酸化物及び金属粉末のいずれもを実質的に含有しない必要がある。ここで、実質的に含有しないとは、感光性組成物中の含有量が1重量%未満であることを意味する。感光性組成物中の着色材料の含有量は、好ましくは0.8重量%以下、更に好ましくは0重量%である。
本発明の感光性組成物は、必要により溶剤、増感剤及び密着性付与剤(シランカップリング剤等)等を含有することができる。
溶剤としては、グリコールエーテル類(エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等)、エステル類(エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン及びメシチレン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等)及びエーテル類(テトラヒドロフラン及び1,8-シネオール等)が挙げられる。これらは、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
感光性組成物における溶剤の含有量は、0~99重量%であることが好ましく、更に好ましくは3~95重量%、特に好ましくは5~90重量%である。
増感剤としては、ケトクマリン、フルオレン、チオキサントン、アントラキノン、ナフチアゾリン、ビアセチル、ベンジル及びこれらの誘導体、ペリレン並びに置換アントラセン等の内(C)以外のものが挙げられる。増感剤の含有量は、感光性組成物に対して0~20重量%が好ましく、更に好ましくは1~15重量%、特に好ましくは2~10重量%である。
密着性付与剤としては、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス(アセチルアセトネート)アルミニウム及びアセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート等が挙げられる。密着性付与剤の含有量は、感光性組成物に対して0~20重量%が好ましく、更に好ましくは1~15重量%、特に好ましくは2~10重量%である。
本発明の感光性組成物は、更に、使用目的に合わせて、分散剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等を含有することができる。
本発明の感光性組成物は、ラジカル開始剤(A)と、重合性物質(D)と、酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)と、必要により溶剤その他の成分等とをボールミル又は3本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は通常10℃~40℃、好ましくは20℃~30℃である。
本発明の感光性組成物は、360nm~830nmの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等(UV・EB硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)が使用できる。また、LED光源を使用した照射装置も好適に使用できる。活性光線の照射時及び/又は照射後に光塩基発生剤から発生した塩基を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、通常、30℃~200℃であり、好ましくは35℃~150℃、更に好ましくは40℃~120℃である。
本発明の感光性組成物の基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布にも適用できる。
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、%は重量%、部は重量部を示す。
[酸発生剤(B)の製造]
製造例1
[酸発生剤(B121-1){化学式(41)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
(1)2-(フェニルチオ)チオキサントン[中間体(B121-1-1)]の合成:
2-クロロチオキサントン11.0部、チオフェノール4.9部、水酸化カリウム2.5部及びN,N-ジメチルホルムアミド162部を均一混合し、130℃で9時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液:トルエン/ヘキサン=1/1:容量比)で精製し、中間体(B121-1-1)(黄色固体)3.1部を得た。
(2)2-[(フェニル)スルフィニル]チオキサントン[中間体(B121-1-2)]の合成:
中間体(B121-1-1)11.2部、アセトニトリル215部及び硫酸0.02部を40℃で撹拌しながら、これに30%過酸化水素水溶液4.0部を徐々に滴下し、40~45℃で14時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/トルエン=1/3:容量比)にて生成物を精製して、中間体(B121-1-2)(黄色固体)13.2部を得た。
(3)酸発生剤(B121-1)の合成:
中間体(B121-1-2)4.3部、無水酢酸4.1部及びアセトニトリル110部を40℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸2.4部を徐々に滴下し、40~45℃で1時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水150部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のpHが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン50部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約15分間静置してから上澄みを除く操作を3回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン212部に溶かし、10%トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウム水溶液65部中に投入してから、室温(約25℃)で2時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で3回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、酸発生剤(B121-1)(黄色固体)5.5部を得た。
製造例2
[酸発生剤(B121-2){化学式(42)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
反応容器にIRGACURE 819[BASF社製]4.2部、p-トリルスルホキシド[東京化成工業(株)製]2.8部、ノナフルオロ-1-ブタンスルホン酸カリウム[東京化成工業(株)製]4.1部、硫酸[和光純薬工業(株)製]1.2部及びアセトニトリル100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B121-2)(黄色固体)6.7部を得た。
製造例3
[酸発生剤(B121-3){化学式(43)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
反応容器にLUCIRIN TPO[BASF社製]3.5部、ジフェニルスルホキシド[東京化成工業(株)製]2.4部、ヘキサフルオロリン酸カリウム[東京化成工業(株)製]2.2部、硫酸[和光純薬工業(株)製]1.2部及びアセトニトリル100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B121-3)(黄色固体)5.4部を得た。
製造例4
[酸発生剤(B121-4){化学式(44)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
反応容器にIRGACURE 907[BASF社製]2.8部、ブロモベンゼン[東京化成工業(株)製]1.7部、テトラフルオロホウ酸銀[東京化成工業(株)製]2.3部及びテトラヒドロフラン100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B121-4)(淡黄色固体)3.3部を得た。
製造例5
[酸発生剤(B122-1){化学式(45)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
t-ブチルベンゼン[東京化成工業(株)製]8.1部、ヨウ化カリウム[東京化成工業(株)製]5.35部及び無水酢酸20部を酢酸70部に溶解させ、10℃まで冷却し、温度を10±2℃に保ちながら、濃硫酸12部と酢酸15部の混合溶液を1時間かけて滴下した。25℃まで昇温し、24時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル50部を加え、水で3回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部を水100部に溶解させた水溶液を加え、25℃で20時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル500部を加え、水で3回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤(B122-1)(淡黄色液体)14.0部を得た。
製造例6
[酸発生剤(B122-2){化学式(46)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
「t-ブチルベンゼン8.1部」を「メトキシベンゼン[東京化成工業(株)製]7.5部」に、「カリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部」を「カリウムヘキサフルオロホスフェート[東京化成工業(株)製]80部」に変更した以外、製造例5と同様にして酸発生剤(B122-2)(淡黄色液体)12.1部を得た。
製造例7
[酸発生剤(B122-3){化学式(47)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
「t-ブチルベンゼン8.1部」を「フェノキシ酢酸メチル[東京化成工業(株)製]9.2部」、「カリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部」を「カリウムテトラキス(パーフルオロフェニル)ボレート[東京化成工業(株)製]140部」に変更した以外、製造例5と同様にして酸発生剤(B122-3)(淡黄色液体)13.3部を得た。
製造例8
[酸発生剤(B122-4){化学式(48)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
反応容器にIRGACURE 651[BASF社製]2.4部、ヨウ化カリウム[東京化成工業(株)製]4.0部、ヘキサフルオロアンチモン酸銀[東京化成工業(株)製]8.2部、硫酸[和光純薬工業(株)製]2.4部、ベンゼン5.0部及びアセトニトリル100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B122-4)10.7部(淡黄色固体)を得た。
製造例9
[酸発生剤(B122-5){化学式(49)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
「t-ブチルベンゼン8.1部」を「トルエン[東京化成工業(株)製]6.5部」及び「イソプロピルベンゼン[東京化成工業(株)製]8.1部」に変更した以外、製造例5と同様にして酸発生剤(B122-5)(淡黄色液体)5.0部を得た。
[塩基発生剤(C)の製造]
製造例10
[塩基発生剤(C122-1){化学式(50)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
9-クロロメチルアントラセン(アルドリッチ社製)2.0部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部を少量ずつ加え(添加後若干の発熱が見られた。)、このまま室温(約25℃)で1時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩4.0部及び水40部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に1時間室温(約25℃)で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体7.1部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤(C122-1)(白色固体)6.2部を得た。
製造例11
[塩基発生剤(C122-2){化学式(51)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
(1)メチルチオキサントン[中間体(C122-2-1)]の合成:
ジチオサリチル酸[和光純薬工業(株)製]10部を硫酸139部に溶解させ、1時間室温(約25℃)で攪拌した後、氷浴にて冷却して冷却溶液を得た。ついで、この冷却溶液の液温を20℃以下に保ちながら、トルエン25部を少しずつ滴下した後、室温(約25℃)にもどし、更に2時間攪拌して反応液を得た。水815部に反応液を少しずつ加えた後、析出した黄色固体を濾別した。この黄色固体をジクロロメタン260部に溶解させ、水150部を加え、更に24%KOH水溶液6.7部を加えて水層をアルカリ性とし、1時間攪拌した後、分液操作にて水層を除去し、有機層を130部の水で3回洗浄した。ついで有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、有機溶剤を減圧留去して、中間体(C122-2-1)(黄色固体)8.7部を得た。尚、中間体(C122-2-1)は、2-メチルチオキサントンと3-メチルチオキサントンの混合物である。
(2)2-ブロモメチルチオキサントン[中間体(C122-2-2)]の合成:
中間体(C122-2-1)2.1部をシクロヘキサン120部に溶解させ、これにN-ブロモスクシンイミド[和光純薬工業(株)製]8.3部及び過酸化ベンゾイル[和光純薬工業(株)製]0.1部を加え、還流下で4時間反応させた後(3-メチルチオキサントンは反応しない)、溶剤(シクロヘキサン)を留去し、そこへクロロホルム50部を加えて残渣を再溶解させてクロロホルム溶液を得た。クロロホルム溶液を30部の水で3回洗浄し、分液操作により水層を除去した後、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体1.7部を得た。これを酢酸エチルで再結晶させて(3-メチルチオキサントンはここで除かれる)、中間体(C122-2-2)(黄色固体)1.5部を得た。
(3)N-(9-オキソ-9H-チオキサンテン-2-イル)メチル-N,N,N-トリス(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムブロマイド[中間体(C122-2-3)]の合成:
中間体(C122-2-2)(2-ブロモメチルチオキサントン)1.0部をジクロロメタン85gに溶解し、これにトリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.5部を滴下した後(滴下後発熱した)、室温(約25℃)下、1時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、白色固体2.2部を得た。この白色固体をテトラヒドロフラン/ジクロロメタン混合溶液で再結晶させて、中間体(C122-2-3)(褐色固体)1.0部を得た。
(4)塩基発生剤(C122-2)の合成:
ナトリウムテトラフェニルボレート塩[ナカライテスク(株)製]0.8部を水17部で溶解させた水溶液に、あらかじめクロロホルム50部に中間体(C122-2-3)1.0部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、1時間室温(約25℃)で攪拌し、水層を分液操作により除き、有機層を30部の水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をアセトニトリル/エーテル混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤(C122-2)(微黄色粉末)1.3部を得た。
製造例12
[塩基発生剤(C122-3){化学式(52)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
(1)N-(9-オキソ-9H-チオキサンテン-2-イル)メチル-N,N-ジメチル-N-(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムブロマイド[中間体(C122-3-3)]の合成:
「トリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.5部」を「ジメチルエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.3部」に変更した以外、製造例11の(1)~(3)と同様にして中間体(C122-3-3)(褐色固体)0.8部を得た。
(2)塩基発生剤(C122-3)の合成:
「中間体(C122-2-3)1.0部」を「中間体(C122-3-3)0.8部」に変更した以外、製造例11の(4)と同様にして塩基発生剤(C122-3)(白色粉末)1.0部を得た。
製造例13
[塩基発生剤(C122-4){化学式(53)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1-アザビシクロ[2.2.2]オクタン1.0部」に変更したこと以外、製造例10と同様にして、塩基発生剤(C122-4)(白色固体)4.4部を得た。
製造例14
[塩基発生剤(C123-1){化学式(54)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]1.3部」に変更したこと以外、製造例10と同様にして、塩基発生剤(C123-1)(白色固体)4.7部を得た。
製造例15
[塩基発生剤(C123-2){化学式(55)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン[サンアプロ(株)製「DBN」]1.1部」に変更したこと以外、製造例10と同様にして、塩基発生剤(C123-2)(白色固体)4.6部を得た。
製造例16
[塩基発生剤(C123-3){化学式(56)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
(1)フェニルグリオキシル酸銀の調製:
フェニルグリオキシル酸(アルドリッチ社製)3.9部をメタノール20部に溶解させ、そこへ水酸化ナトリウム[和光純薬工業(株)製]0.9部を少しずつ加え(中和による発熱がみられた)、1時間攪拌し、そこへ1mol/L硝酸銀水溶液[和光純薬工業(株)製]10.4部を加えた後、析出した灰色固体を濾別し、メタノールで洗浄し、乾燥して、フェニルグリオキシル酸銀(灰色固体)4.4部を得た。
(2)塩基発生剤(C123-3)の合成:
9-クロロメチルアントラセン(アルドリッチ社製)2.0部をメタノール40gに溶解させ、そこへ1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]1.3部を少量ずつ加え(添加後若干の発熱が見られた。)、このまま室温(約25℃)で1時間攪拌して反応液を得た。フェニルグリオキシル酸銀3.0部及びメタノール20部からなる分散液に、反応液を少しずつ滴下し、更に1時間室温(約25℃)で攪拌した後、生じた灰色固体を濾過により除いた濾液を減圧留去して、褐色固体4.5部を得た。この褐色固体をエーテル/ヘキサン混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤(C123-3)(黄色固体)2.6部を得た。
製造例17
[塩基発生剤(C123-4){化学式(57)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
(1)8-(9-オキソ-9H-チオキサンテン-2-イル)メチル-1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセニウムブロマイド[中間体(C123-4-3)]の合成:
「トリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]」を「1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]」に変更した以外、製造例11の(1)~(3)と同様にして中間体(C123-4-3)(白色固体)2.2部を得た。
(2)塩基発生剤(C123-4)の合成:
「中間体(C122-2-3)」を「中間体(C123-4-3)」に変更した以外、製造例11(4)と同様にして塩基発生剤(C123-4)(淡黄白色粉末)1.3部を得た。
製造例18
[塩基発生剤(C123-5){化学式(58)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
(1)2,4-ジ-tert-ブチル-7-メチルチオキサントン[中間体(C123-5-1)]の合成:
中間体(C122-2-1)2.1部をジクロロメタン85部に溶解させ、これに塩化アルミニウム(III)[和光純薬工業(株)製]0.5部と2-クロロ-2-メチルプロパン[和光純薬工業(株)製]1.9部を加え、23時間室温(約25℃)で攪拌した。水層を分液操作により除き、有機層を30部の水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体を酢酸エチル/ヘキサン混合溶液にて再結晶させて、中間体(C123-5-1)(黄色粉末)0.5部を得た。
(2)2,4-ジ-tert-ブチル-7-ブロモメチルチオキサントン[中間体(C123-5-2)]の合成:
「中間体(C122-2-1)2.1部」を「中間体(C123-5-1)1.0部」に変更した以外、製造例11の(2)と同様にして中間体(C123-5-2)(黄色粉末)1.2部を得た。
(3)8-(2,4-ジ-tert-ブチル-9-オキソ-9H-チオキサンテン-7-イル)メチル-1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセニウムブロマイド[中間体(C123-5-3)]の合成:
「中間体(C122-2-2)」を「中間体(C123-5-2)」に変更した以外、製造例11の(3)と同様にして中間体(C123-5-3)(微黄色粉末)1.3部を得た。
(4)塩基発生剤(C123-5)の合成:
「中間体(C122-2-2)1.0部」を「中間体(C123-5-3)0.8部」に変更した以外、製造例11の(4)と同様にして塩基発生剤(C123-5)(微黄色粉末)1.0部を得た。
製造例19
[塩基発生剤(C123-6){化学式(59)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
(1)4-ブロモメチルベンゾフェノン[中間体(C123-6-1)]の合成:
4-メチルベンゾフェノン(アルドリッチ社製)25.1部、N-ブロモスクシンイミド[和光純薬工業(株)製]22.8部、過酸化ベンゾイル[20%含水:和光純薬工業(株)製]0.54部及びアセトニトリル80部を加え、80℃まで加熱し、還流下2時間反応させ、冷却した後、有機溶剤を減圧留去して、メタノール160部で再結晶させて、中間体(C123-6-1)(白色結晶)26部を得た。
(2)8-(4-ベンゾイルフェニル)メチル-1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセニウムブロマイド[中間体(C123-6-2)]の合成:
中間体(C123-6-1)25.8部をアセトニトリル100部に溶解させ、これに1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]14.6部を滴下した後(滴下後発熱した。)、室温(約25℃)下、18時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をアセトニトリルで再結晶を行い、中間体(C123-6-2)(白色固体)28.2部を得た。
(3)塩基発生剤(C123-6)の合成:
ナトリウムテトラフェニルボレート塩[ナカライテスク(株)製]0.8部を水17部に溶解させ、あらかじめクロロホルム50部に中間体(C123-6-2)6.8部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、2時間室温(約25℃)で攪拌して反応液を得た。反応液を濾過し、濾液を減圧留去して得た黄色液体をアセトニトリルに溶解して再結晶して、塩基発生剤(C123-6)(白色固体)7.6部を得た。
製造例20
[塩基発生剤(C123-7){化学式(60)で表される化合物}の合成]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
(1)8-(9-ナフタリルメチル)-1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセニウムブロマイド[(C123-7-1)]の合成:
「中間体(C123-6-1)25.8部」を「2-ブロモメチルナフタレン[東京化成工業(株)製]1.1部」に変更した以外、製造例19(2)と同様にして中間体(C123-7-1)(白色粉末)1.3部を得た。
(2)塩基発生剤(C123-7)の合成:
「中間体(C123-6-2)6.8部」を「中間体(C123-7-1)0.8部」に変更した以外、製造例19の(3)と同様にして塩基発生剤(C123-7)(微黄色粉末)1.3部を得た。
実施例1~22(ラジカル重合の例)
ラジカル重合性化合物としてのジペンタエリスリトールペンタアクリレート[三洋化成工業(株)製「ネオマーDA-600」]96.5部、及び表1に示すラジカル開始剤(A)と、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)とを用いて「ラジカル開始剤(A)3部、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)0.5部」をボールミルを用いて25℃で3時間混練して、本発明の感光性組成物(Q-1)~(Q-22)を製造した。
但し、実施例10における(B)0.5部の内訳は、(B1)0.3部及び(B2)0.2部であり、実施例22における(C)0.5部の内訳は、(C1)0.4部及び(C2)0.1部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
実施例23~28(カチオン重合の例)
イオン重合性化合物としてのシクロヘキセンオキサイド96.5部、及び表2に示すラジカル開始剤(A)及び酸発生剤(B)を用いて「ラジカル開始剤(A)3部、酸発生剤(B)0.5部」をボールミルを用いて25℃で3時間混練して、本発明の感光性組成物(Q-23)~(Q-28)を製造した。
但し、実施例28における(A)3部の内訳は、(A1)2部及び(A2)1部であり、(B)0.5部の内訳は、(B1)0.3部及び(B2)0.2部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
実施例29~34(アニオン重合の例)
イオン重合性化合物としてのシクロヘキセンオキサイド96.5部、及び表3に示すラジカル開始剤(A)及び塩基発生剤(C)を用いて「ラジカル開始剤(A)3部、塩基発生剤(C)0.5部」をボールミルを用いて25℃で3時間混練して、本発明の感光性組成物(Q-29)~(Q-34)を製造した。
但し、実施例34における(A)3部の内訳は、(A1)2部及び(A2)1部であり、(C)0.5部の内訳は、(C1)0.25部及び(C2)0.25部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
[実施例35~46(ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔1〕の例)]
実施例35
4-ヒドロキシブチルアクリレート[大阪有機化学工業(株)製「4-HBA」](Da-1)20部、2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート[日本触媒(株)製「VEEA」](Db-1)9部、ペンタエリスリトールトリアクリレート[共栄社化学(株)製「ライトアクリレートPE-3A」](Dc-1)68部、ラジカル開始剤(A)として2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド[BASF社製「LUCIRIN TPO」](A-1)2.45部、酸発生剤(B122-5)0.3部及びレベリング剤としてアミノポリエーテル変性シリコーン[信越化学(株)製「KF-889」]0.25部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-35)を得た。
実施例36
4-ヒドロキシブチルアクリレート(Da-1)35部、2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート(Db-1)35部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)27部に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-36)を得た。
実施例37
4-ヒドロキシブチルアクリレート(Da-1)5部、2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート(Db-1)20部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)72部に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-37)を得た。
実施例38
4-ヒドロキシブチルアクリレート(Da-1)を2-ヒドロキシエチルアクリレート[大阪有機化学工業(株)製「HEA」(Da-2)に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-38)を得た。
実施例39
2-ヒドロキシエチルアクリレート(Da-2)35部、2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート(Db-1)35部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)27部に変更する以外は、実施例38と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-39)を得た。
実施例40
2-ヒドロキシエチルアクリレート(Da-2)5部、2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート(Db-1)20部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)72部に変更する以外は、実施例38と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-40)を得た。
実施例41
4-ヒドロキシブチルアクリレート(Da-1)を3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート[出光興産(株)製「アダマンテートHA」](Da-3)に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-41)を得た。
実施例42
4-ヒドロキシブチルアクリレート(Da-1)を1、4-シクロヘキサンジオールモノアクリレート[日立化成(株)製「ファンクリルFA-610A」](Da-4)に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-42)を得た。
実施例43
4-ヒドロキシブチルアクリレート(Da-1)を、Mn300のポリエチレングリコールのモノアクリレート[日立化成(株)製「ファンクリルFA-400A」](Da-5)に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-43)を得た。
実施例44
ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)を、ペンタエリスリトールEO3.5モル付加物のトリアクリレート[三洋化成工業(株)製「ネオマーEA-301」](Dc-2)に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-44)を得た。 
実施例45
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C123-4)に変更する以外は、実施例35と同様にして、ハードコート用の粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-45)を得た。
実施例46
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C122-4)に変更する以外は、実施例36と同様にして、ハードコート用の粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-46)を得た。
[実施例47~52(ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔2〕の例)]
実施例47
ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)66.5部、4-アクリロイルモルホリン[(株)興人製「ACMO」](Dd-1)28.5部、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド(A-1)4.25部、酸発生剤(B122-5)0.5部及びレベリング剤としてアミノポリエーテル変性シリコーン[信越化学(株)製「KF-889」]0.24部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-47)を得た。
実施例48
ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)84.5部、4-アクリロイルモルホリン(Dd-1)10.5部、に変更する以外は、実施例47と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-48)を得た。
実施例49
ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)39.5部、4-アクリロイルモルホリン(Dd-1)55.5部、に変更する以外は、実施例47と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-49)を得た。
実施例50
ペンタエリスリトールトリアクリレート(Dc-1)をペンタエリスリトールEO3.5モル付加物のトリアクリレート(Dc-2)に変更する以外は、実施例47と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-50)を得た。
実施例51
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C123-4)に変更する以外は、実施例47と同様にして、ハードコート用の粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-51)を得た。
実施例52
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C122-4)に変更する以外は、実施例48と同様にして、ハードコート用の粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-52)を得た。
[実施例53~64(ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔3〕の例)]
製造例21
<エステル化合物(De-1)の合成>
温度計、空気・窒素混合気体の導入管、撹拌機、分水器、還流冷却器を備えたフラスコに、トリメリット酸210部、2-ヒドロキシエチルアクリレート365.4部、トルエン70部、p-トルエンスルホン酸5部及びp-メトキシフェノール2部を仕込み、空気・窒素混合気体の気流下で撹拌しながら120℃まで昇温して、生成する水を分水器により連続的に系外へ除去しながら、反応液の酸価が5以下となるまで反応した。反応終了後、トルエンを減圧下に留去して、アクリロイル基を有するトリメリット酸エステル(De-1)を得た。
製造例22
<エステル化合物(De-2)の合成> 
温度計、空気・窒素混合気体の導入管、撹拌機、分水器、還流冷却器を備えたフラスコに、ピロメリット酸254部、酢酸ビニル344部、水酸化カルシウム5部及びトルエン70部を仕込み、空気・窒素混合気体の気流下で撹拌しながら、120℃の油浴中で還流下12時間反応させた。冷却後、水で3回洗浄し、トルエンを減圧下に留去して、ビニル基を有するピロメリット酸エステル(De-2)を得た。
製造例23
<エステル化合物(De-3)の合成> 
温度計、空気・窒素混合気体の導入管、撹拌機、分水器、還流冷却器を備えたフラスコに、トリメリット酸210部、アリルクロライド76.5部、トルエン70部及びトリエチルアミン101部を仕込み、25℃にて空気・窒素混合気体の気流下で20時間撹拌した。反応終了後、析出物を濾過により除去し、トルエンを減圧下に留去して、アリル基を有するトリメリット酸エステル(De-3)を得た。
製造例24
<ウレタンアクリレート(Df-1)の合成>
撹拌機、空気・窒素混合気体の導入管、冷却管及び温度計を備えたフラスコに、酢酸ブチル568部、ヘキサメチレンジイソシアネート168部、p-メトキシフェノール1.2部及びジブチル錫ジアセテート1.2部を仕込み、空気・窒素混合気体の気流下で70℃に昇温した後、温度を70±10℃に維持しながら「ライトアクリレートPE3A」[共栄社化学(株)製:ペンタエリスリトールジアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物(重量比は約5:60:35)]795部を1時間かけて滴下した。滴下終了後、空気・窒素混合気体の気流下のまま70℃で3時間反応させて、酢酸ブチルを減圧下に留去して、ウレタンアクリレート(Df-1)を得た。
製造例25
<ウレタンアクリレート(Df-2)の合成>
『「ライトアクリレートPE3A」795部』を「2-ヒドロキシエチルアクリレート243.6部」に変更する以外は製造例24と同様にして、ウレタンアクリレート(Df-2)を得た。
製造例26
<ウレタンアクリレート(Df-3)の合成>
「ヘキサメチレンジイソシアネート 168部」を「4,4’-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート262部」に、『「ライトアクリレートPE3A」795部』を『「ネオマーDA-600」(三洋化成工業(株)製:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物)831部』に変更する以外は製造例24と同様にして、ウレタンアクリレート(Df-3)を得た。
製造例27
<ウレタンアクリレート(Df-4)の合成>
『「ライトアクリレートPE3A」795部』を「2-ヒドロキシエチルアクリレート243.6部」に、「ヘキサメチレンジイソシアネート 168部」を「イソホロンジイソシアネート222部」に変更する以外は製造例24と同様にして、ウレタンアクリレート(Df-4)を得た。
実施例53
エステル化合物(De-1)16部、ウレタンアクリレート(Df-1)67部、ウレタンアクリレート(Df-2)17部、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド(A-1)5部、酸発生剤(B122-5)0.5部及びレベリング剤としてアミノポリエーテル変性シリコーン[信越化学(株)製「KF-889」]1部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合撹拌し、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-53)を得た。
実施例54
「ウレタンアクリレート(Df-1)」を「ウレタンアクリレート(Df-3)」に、「ウレタンアクリレート(Df-2)」を「ウレタンアクリレート(Df-4)」に変更する以外は、実施例53と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-54)を得た。
実施例55
「エステル化合物(De-1)」を「エステル化合物(De-2)」に変更する以外は、実施例53と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-55)を得た。
実施例56
「エステル化合物(De-1)」を「エステル化合物(De-3)」に変更する以外は、実施例53と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-56)を得た。
実施例57
ウレタンアクリレート(Df-1)及び(Df-2)を使用せず、「ネオマーEA-300[三洋化成工業(株)製:ペンタエリスリトールテトラアクリレート]60部」を追加し、エステル化合物(De-1)の仕込量を40部に変更する以外は、実施例53と同様にして、ハードコート用の本発明の感光性組成物(Q-57)を得た。
実施例58
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C123-4)に変更する以外は、実施例53と同様にして、ハードコート用の粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-58)を得た。
実施例59
エステル化合物(De-1)5部、ウレタンアクリレート(Df-1)33部、ウレタンアクリレート(Df-2)6部、「ネオマーDA-600」[三洋化成工業(株)製:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物]5部、エタノン-1-(9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(0-アセチルオキシム)[BASF社製(IRGACURE OXE 02)](A-2)4.5部、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン[BASF社製(DAROCUR 1173)](A-3)2部、酸発生剤(B122-5)0.5部、ジエチルチオキサントン[日本化薬(株)製「カヤキュアDETX-S」]5部、CCR-1314H[日本化薬(株)製]24部、エチレングリコールモノメチルエーテル[東京化成工業(株)製]15部をボールミルを用いて25℃で3時間混練して、ネガ型レジスト用の本発明の感光性組成物(Q-59)を製造した。
実施例60
「ウレタンアクリレート(Df-1)」を「ウレタンアクリレート(Df-3)」に、「ウレタンアクリレート(Df-2)」を「ウレタンアクリレート(Df-4)」に変更する以外は、実施例59と同様にして、ネガ型レジスト用の本発明の感光性組成物(Q-60)を得た。
実施例61
「エステル化合物(De-1)」を「エステル化合物(De-2)」に変更する以外は、実施例59と同様にして、ネガ型レジスト用の本発明の感光性組成物(Q-61)を得た。
実施例62
「エステル化合物(De-1)」を「エステル化合物(De-3)」に変更する以外は、実施例59と同様にして、ネガ型レジスト用の本発明の感光性組成物(Q-62)を得た。
実施例63
ウレタンアクリレート(Df-1)及び(Df-2)を使用しない以外は、実施例59と同様にして、ネガ型レジスト用の本発明の感光性組成物(Q-63)を得た。
実施例64
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C122-4)に変更する以外は、実施例59と同様にして、ネガ型レジスト用の粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-64)を得た。
[実施例65~70(ラジカル重合性化合物(D1)の組合せ〔4〕の例)]
実施例65
テトラヒドロフルフリルアクリレート[日立化成(株)製「FA-THFA」](Dg-1)80部、n-ステアリルメタクリレート[共栄社化学(株)製「ライトエステルS」](Dh-1)20部、(メタ)アクリル酸10部と2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート9部と酢酸ビニル2部の共重合体である(メタ)アクリル樹脂(Mn:50万)(E-1)20部、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイド(A-1)5部、酸発生剤(B122-5)0.5部、酸化防止剤としてイルガノックス1010[BASF社製]1部及び紫外線吸収剤としてチヌビン400[BASF社製]0.6部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-65)を得た。
実施例66
テトラヒドロフルフリルアクリレート(Dg-1)を「80部」から「49部」に、「n-ステアリルメタクリレート(Dh-1)20部」を「イソステアリルアクリレート[大阪有機化学工業(株)製「ISTA」(Dh-2)20部]に、(メタ)アクリル樹脂(E-1)を「20部」から「22部」に変更する以外は、実施例65と同様にして、粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-66)を得た。
実施例67
テトラヒドロフルフリルアクリレート(Dg-1)を「80部」から「15部」に、n-ステアリルメタクリレート(Dh-1)を「20部」を「75部」に、(メタ)アクリル樹脂(E-1)を「20部」から「10部」に変更する以外は、実施例65と同様にして、粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-67)を得た。
実施例68
テトラヒドロフルフリルアクリレート(Dg-1)を(2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチルアクリレート[大阪有機化学工業(株)製「MEDOL-10」](Dg-2)に変更する以外は、実施例65と同様にして、粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-68)を得た。
実施例69
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C123-4)に変更する以外は、実施例65と同様にして、粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-69)を得た。
実施例70
酸発生剤(B122-5)を塩基発生剤(C122-4)に変更する以外は、実施例65と同様にして、粘接着剤用の本発明の感光性組成物(Q-70)を得た。
比較例1~2(ラジカル重合の例)
酸発生剤(B)を使用せず、ラジカル開始剤(A)として表4に示すラジカル開始剤(A)を3.5部使用する以外は実施例1と同様にして、比較用の感光性組成物(Q’-1)及び(Q’-2)を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
比較例3~8(カチオン重合の例)
ラジカル開始剤(A)を使用せず、酸発生剤(B)として表5に示す酸発生剤(B)を3.5部使用する以外は実施例23~28と同様にして、比較用の感光性組成物(Q’-3)~(Q’-8)を製造した。
但し、比較例8における(B)3.5部の内訳は、(B1)2.5部及び(B2)1部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
比較例9~14(アニオン重合の例)
ラジカル開始剤(A)を使用せず、塩基発生剤(C)として表6に示す塩基発生剤(C)を3.5部使用する以外は実施例29~34と同様にして、比較用の感光性組成物(Q’-9)~(Q’-14)を製造した。
但し、比較例14における(C)3.5部の内訳は、(C1)2.5部及び(C2)1部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
比較例15~16(無機粒子を用いた場合)
シリカゾル(ナノレジン社製「Nanoclyl C130」を5重量部をさらに添加する以外は、比較例1~2と同様にして比較用の感光性組成物(Q’-15)~(Q’-16)を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
表1~7に記載の化合物に関して、(A121)としてのLUCIRIN TPOはBASF社製、(C21)としての1-Fmoc-ピペリドンはアルドリッチ社製、(A21)としてのBPO(ベンゾイルパーオキサイド)は日油(株)製「ナイパーBW」、(B21)としてのp-トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステルは東京化成工業(株)製の商品を用いた。
[密着性]
実施例1~58、65~70及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[東洋紡(株)製コスモシャインA4300、以下の評価にも同じものを用いた。]及び厚さ125μmのPMMA(ポリメチルメタクリレート)フィルム[三菱レイヨン(株)製アクリプレンHBS010P]に、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布し、ベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス(株)製「ECS-151U」、以下の評価にも同じ装置を用いた。)を使用して露光を行った。露光量は365nmとして150mJ/cmであった。
PETフィルム及びPMMAフィルムに塗工した硬化後の塗膜について、JIS K-5400に準拠し、碁盤目セロハンテープ剥離試験により密着性を評価した。
[透明性(透過率及びヘイズ)]
実施例1~58、65~70及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布し、上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして150mJ/cmであった。
硬化後の塗膜をJIS-K7105に準拠し、全光線透過率測定装置[商品名「haze-garddual」BYK gardner(株)製]を用いて透過率及びヘイズを測定した。いずれも単位は%である。
[鉛筆硬度]
実施例1~58及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布し、上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして150mJ/cmであった。
硬化後の塗膜について、JIS K-5400に準拠して、鉛筆硬度を測定した。
[耐擦傷性]
実施例1~58及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布し、上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして150mJ/cmであった。
硬化後の塗膜を、スチールウール#0000を用い、1cmあたり250gの荷重をかけて30往復擦傷後、外観を目視により下記の基準で評価した。
  ◎:全く傷が付かない。
  ○:引っかき傷が数本程度認められる。
  ×:多数の引っかき傷が認められ、表面が白濁する。
[耐熱性]
実施例1~34、65~70及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布して、上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして150mJ/cmであった。
上記硬化後塗膜を85℃の送風定温恒温器(DKN302:ヤマト科学(株)製)に入れ、100時間又は300時間温調した。温調後の樹脂フィルムを目視、及び形状測定顕微鏡(超深度形状測定顕微鏡VK-8550、キーエンス(株)製)を用いて50倍で観察し、以下の基準により評価した。
  ◎:温調前と外観変化が全く認められなず、かつ変色無し。
  ○:温調前と外観変化が全く認められないが、変色有り。
  △:目視では変化がないが、顕微鏡にて温調前と変化が認められる。
  ×:目視で既に温調前と変化が認められる。
[硬化性]
実施例1~58、65~70及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μm又は80μmとなるように塗布した。露光については下記2種の照射装置を用いて実施した。
(1)上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして150mJ/cmであった。
(2)スポット式LED照射装置(フォセオン・テクノロジー社製「RX FireFlex」)を使用して露光を行なった。露光量は150mJ/cmであった。
硬化後塗膜の光照射直後の硬化性を、指触及び爪で強く引っ掻くことにより、以下の評価基準で評価した。
  ◎:表面にタックがなく爪で傷つかない。
  ○:表面にタックはないが、爪で傷つく。
  △:表面にタックがあり、爪で傷つく。
  ×:未硬化。
[耐黄変性]
実施例1~58、65~70及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布して、上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして10,000mJ/cmであった。外観を目視にて観察し、以下の基準により評価した。
  ◎:黄変なし。
  ○:白色紙の上で観察すると僅かに黄変有り。
  △:蛍光灯下で黄変が認められる。
  ×:激しい黄変が認められる。
[貯蔵安定性]
実施例1~58、65~70及び比較例1~17で得た各感光性組成物を、40℃にて1週間静置し、外観を目視にて観察し、以下の基準により評価した。
  ◎:温調前と粘度変化、変色が全く認められない。
  ○:温調前と粘度変化は全く認められないが、僅かに変色有り。
  △:温調前と粘度変化が認められ、変色有り。
  ×:温調後、完全に固化し、変色有り。
[塗膜現像性]
実施例59~64で得た各ネガ型レジスト用感光性組成物を、表面処理を施した厚さ100μmの上記PETフィルムに、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布した。続いて減圧下(4kPa)で、80℃で3分間、プレベークを行い、溶剤を乾燥させた。次に幅が15μmの線状マスクをセットした後、上記ベルトコンベア式UV照射装置を使用して露光を行った。露光量は365nmとして75mJ/cm及び150mJ/cmであった。
露光後の試験体を1%NaCO水溶液に100秒浸漬した後、イオン交換水を噴霧することでアルカリ現像を行った。続いて減圧下(4kPa)で、80℃で3分間、ポストベークを行った。
現像後塗膜の現像性を、光学顕微鏡にて目視観察し、以下の評価基準でパターニングできている面積(%)を評価した。
  ◎:98%以上欠けることなくパターニングできている。
  ○:95%以上、98%未満の範囲で欠けることなくパターニングできている。
  △:90%以上、95%未満の範囲で欠けることなくパターニングできている。
  ×:欠けていない領域が90%未満で、パターニングできていない。
これらの評価結果を表8~表12に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
本発明の感光性組成物は、耐擦傷性に優れかつ、少エネルギー量でも硬化して透明な硬化物を形成可能であるため、ブラウン管、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、タッチパネル、フラットパネルディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層、コーティング剤、インキ、粘接着剤又はレジストパターン形成用として極めて有用である。

Claims (17)

  1. 下記(1)~(3)を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であり、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末のいずれもを実質的に含有しないことを特徴とする感光性組成物。
     (1)ラジカル開始剤(A)
     (2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)
     (3)重合性物質(D)
  2. 前記ラジカル開始剤(A)が、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、又は酸及び/若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)であり、前記酸発生剤(B)が、活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)であり、前記塩基発生剤(C)が、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)であって、(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、又は(C2)を以下の(1)~(4)のいずれかの組合せで含有する請求項1記載の感光性組成物。
     (1)(A1)、並びに(B2)及び/又は(C2)を含有する。
     (2)(B1)、(A2)、及び必要により(C2)を含有する。
     (3)(C1)、(A2)、及び必要により(B2)を含有する。
     (4)上記(1)~(3)の2種類以上の組合せ。
  3. 重合性物質(D)と共に、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)を下記(1)~(4)のいずれかの組合せで含有し、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末を実質的に含有しないことを特徴とする感光性組成物。
    (1)活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)及び/又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)を含有する。
    (2)活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)、並びに必要によりラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)を含有する。
    (3)活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)、並びに必要によりラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)を含有する。
    (4)上記(1)~(3)の2種類以上の組合せ。
  4. 前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、又は前記酸及び/若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)が、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A121)、α-アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A122)、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A123)、α-ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A124)、ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A125)、オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A126)、チタノセン誘導体系重合開始剤(A127)、有機過酸化物系重合開始剤(A21)及びアゾ化合物系重合開始剤(A22)からなる群から選ばれる少なくとも1種のラジカル開始剤である請求項2又は3記載の感光性組成物。
  5. 前記活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、又は前記ラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)が、スルホニウム塩誘導体(B121)、ヨードニウム塩誘導体(B122)、スルホン酸エステル誘導体(B21)、酢酸エステル誘導体(B22)及びホスホン酸エステル(B23)からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸発生剤である請求項2~4のいずれか記載の感光性組成物。
  6. 前記スルホニウム塩誘導体(B121)が、一般式(1)又は一般式(2)で示される化合物である請求項5記載の感光性組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    [式中、Aは一般式(3)~(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり;Ar~Arはそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってAr~Ar、Ar及びArは1価の基、Arは2価の基であり;(X及び(Xは、それぞれ陰イオンを表し;aは0~2の整数、bは1~3の整数で、かつa+bは2又は3でAの価数と同じ整数である。]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    [式中、R~Rは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1~20のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、RとR、RとR、及びRとRは互いに結合して環構造を形成していてもよい。]
  7. 前記ヨードニウム塩誘導体(B122)が、一般式(15)又は一般式(16)で示される化合物である請求項5又は6記載の感光性組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    [式中、Aは一般式(3)~(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり;Ar~Ar12はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ar~Ar10及びAr12は1価の基、Ar11は2価の基であり;(X及び(Xは、それぞれ陰イオンを表し;cは0~2の整数、dは1~3の整数で、かつc+dは2又は3でAの価数と同じ整数である。]
  8. 前記活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、又は前記ラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)が、オキシム誘導体(C121)、4級アンモニウム塩誘導体(C122)、4級アミジン塩誘導体(C123)及びカルバメート誘導体(C21)からなる群から選ばれる少なくとも1種の塩基発生剤である請求項2~7のいずれか記載の感光性組成物。
  9. 前記活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、又は前記ラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)が、一般式(21)~(23)のいずれかで示される化合物である請求項2~8のいずれか記載の感光性組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    [式中、R14~R41はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20のアシル基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数1~20のアルキルチオ基、炭素数1~20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式(24)で表される置換基及び一般式(25)で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、R14~R23のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基であり;R24~R31のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基であり;R32~R41のいずれか1つは一般式(24)又は一般式(25)で表される置換基である。]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    [式中、R42~R45はそれぞれ水素原子又は炭素数1~20のアルキル基であり;R46~R48はそれぞれ水酸基で置換されていてもよい炭素数1~20のアルキル基であり;(X13及び(X14は、それぞれ陰イオンを表し;eは2~4の整数である。]
  10. 前記重合性物質(D)が、ラジカル重合性化合物(D1)及び/又はイオン重合性化合物(D2)である請求項1~9のいずれか記載の感光性組成物。
  11. 前記ラジカル重合性化合物(D1)が、アクリルアミド化合物、(メタ)アクリレート化合物、芳香族ビニル化合物及びビニルエーテル化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有する請求項10記載の感光性組成物。
  12. 前記ラジカル重合性化合物(D1)が、下記〔1〕~〔4〕の組合せのいずれかである請求項10又は11記載の感光性組成物。
    〔1〕水酸基を1つ以上有する1官能(メタ)アクリレート(Da)、ビニルエーテル基及び/又はアリルエーテルを有し、水酸基を有さない1官能(メタ)アクリレート(Db)並びに水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)を含有する。
    〔2〕水酸基を1つ以上有する3官能以上の(メタ)アクリレート(Dc)及び4-(メタ)アクリロイルモルホリン(Dd)を含有する。
    〔3〕エチレン性不飽和結合含有基を有するフタル酸エステル、トリメリット酸エステル及びピロメリット酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも1種のエステル化合物(De)並びに必要によりウレタン基及び/又はウレア基を有する(メタ)アクリレート(Df)を含有する。
    〔4〕環状エーテル骨格を有する(メタ)アクリレート(Dg)及びアルキル基の炭素数が1~24であるアルキル(メタ)アクリレート(Dh)を含有し、感光性組成物中に少なくとも2種のラジカル重合性モノマーの共重合体である(メタ)アクリル樹脂(E)を含有する。
  13. 前記イオン重合性化合物(D2)が、炭素数3~20のエポキシ化合物(D21)及び/又は炭素数4~20のオキセタン化合物(D22)である請求項10~12のいずれか記載の感光性組成物。
  14. 重合性物質(D)に対するラジカル開始剤(A)の添加量が0.05~30重量%、重合性物質(D)に対する酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)の添加量〔(B)と(C)の合計〕が0.05~30重量%である請求項1~13のいずれか記載の感光性組成物。
  15. ブラウン管、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、タッチパネル、フラットパネルディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層、コーティング剤、インキ、粘接着剤又はレジストパターン形成用である請求項1~14のいずれか記載の感光性組成物。
  16. 請求項1~15のいずれか記載の感光性組成物が活性光線の照射により硬化されてなる硬化物。
  17. ラジカル開始剤(A)並びに酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)の存在下、着色剤、金属酸化物粉末及び金属粉末のいずれもが実質的に不存在下、活性光線の照射により重合性物質(D)を重合させる活性光線硬化物の製造方法であり、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基である活性光線硬化物の製造方法。
PCT/JP2012/055634 2011-03-07 2012-03-06 感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法 Ceased WO2012121235A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201280012001.7A CN103415540B (zh) 2011-03-07 2012-03-06 感光性组合物、固化物以及活性光线固化物的制造方法
KR1020137025734A KR101666263B1 (ko) 2011-03-07 2012-03-06 감광성 조성물, 경화물, 및, 활성 광선 경화물의 제조 방법
PH1/2013/501817A PH12013501817A1 (en) 2011-03-07 2012-03-06 Photosensitive composition, cured article, and method for producing actinically cured article
US14/002,219 US20140045966A1 (en) 2011-03-07 2012-03-06 Photosensitive composition. cured article, and method for producing actinically cured article
KR1020167027619A KR101710319B1 (ko) 2011-03-07 2012-03-06 감광성 조성물, 경화물, 및, 활성 광선 경화물의 제조 방법

Applications Claiming Priority (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-049470 2011-03-07
JP2011049470 2011-03-07
JP2011101435 2011-04-28
JP2011-101435 2011-04-28
JP2011153236 2011-07-11
JP2011-153236 2011-07-11
JP2011-176838 2011-08-12
JP2011176838 2011-08-12
JP2011-194210 2011-09-06
JP2011194210 2011-09-06

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2012121235A1 true WO2012121235A1 (ja) 2012-09-13

Family

ID=46798193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/055634 Ceased WO2012121235A1 (ja) 2011-03-07 2012-03-06 感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20140045966A1 (ja)
KR (2) KR101710319B1 (ja)
CN (1) CN103415540B (ja)
PH (1) PH12013501817A1 (ja)
TW (2) TWI559086B (ja)
WO (1) WO2012121235A1 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013057049A (ja) * 2011-03-07 2013-03-28 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性組成物
JP2014108974A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性組成物
JP2014114386A (ja) * 2012-12-10 2014-06-26 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性組成物及び硬化物
WO2015029940A1 (ja) * 2013-08-30 2015-03-05 三洋化成工業株式会社 感光性組成物、硬化物及び画像表示装置
CN105473674A (zh) * 2013-08-30 2016-04-06 迪睿合株式会社 自由基聚合型粘接剂组合物和电连接体的制造方法
JP2019509962A (ja) * 2016-02-29 2019-04-11 アグフア−ゲヴエルト エッチング処理されたガラス製品を製造する方法
WO2019160079A1 (ja) * 2018-02-16 2019-08-22 株式会社Adeka ラジカル重合開始剤、これを含有する組成物、その硬化物、その製造方法、および化合物
TWI734251B (zh) * 2018-11-09 2021-07-21 日商互應化學工業股份有限公司 覆膜的製造方法及印刷線路板
US20210355354A1 (en) * 2020-05-18 2021-11-18 Samsung Display Co., Ltd. Resin composition, adhesive member, and display device including the same
CN115179545A (zh) * 2017-12-29 2022-10-14 科思创(荷兰)有限公司 用于加成制造的组合物和制品及其使用方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6384234B2 (ja) * 2014-09-25 2018-09-05 デクセリアルズ株式会社 ラジカル重合型接着剤組成物、及び電気接続体の製造方法
EP3000853B1 (en) * 2014-09-29 2020-04-08 Agfa-Gevaert Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns
TWI586751B (zh) 2014-11-10 2017-06-11 財團法人工業技術研究院 熱塑性聚酯彈性體與其形成方法
CN107001888B (zh) * 2014-12-25 2020-01-21 三菱化学株式会社 粘合剂组合物、粘合剂、粘合片材、两面粘合片材、透明电极用粘合剂、触摸面板及图像显示装置
JP2016156856A (ja) * 2015-02-23 2016-09-01 三洋化成工業株式会社 カラーフィルター形成用感光性組成物
JP6117457B1 (ja) 2015-10-27 2017-04-19 Dicグラフィックス株式会社 低温焼付け対応レジストインキ
EP3210947A1 (en) * 2016-02-29 2017-08-30 Agfa-Gevaert Method of manufacturing an etched glass article
EP3210946B1 (en) * 2016-02-29 2020-07-08 Agfa-Gevaert Method of manufacturing an etched glass article
CN108017747B (zh) * 2016-10-31 2021-03-05 固安鼎材科技有限公司 一种碱溶性树脂聚合物、其制备方法和感光性树脂组合物
CN110139903B (zh) * 2016-11-11 2022-01-28 汉伯公司 包含新型碳基可水解聚合物的防污涂料组合物
JP7159633B2 (ja) * 2018-06-15 2022-10-25 昭和電工マテリアルズ株式会社 ダイシング・ダイボンディング一体型フィルム及びこれに用いる粘着フィルム
CN112485963A (zh) * 2020-11-27 2021-03-12 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种KrF厚膜光刻胶添加剂及含其的光刻胶组合物
US12105416B2 (en) * 2021-01-28 2024-10-01 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition comprising an organic ionic compound
WO2022195221A1 (fr) * 2021-03-17 2022-09-22 Bostik Sa Composition a base de monomeres (meth)acrylate
CN121135615B (zh) * 2025-11-18 2026-04-14 江西初源新材料有限公司 一种用于感光树脂组合物的蒽甲硫代水杨酸及其应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002105110A (ja) * 2000-10-04 2002-04-10 Mitsubishi Chemicals Corp 硬化性組成物、その硬化物および用途
JP2004503616A (ja) * 2000-06-15 2004-02-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多光子感光化システム
JP2004196949A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Tokuyama Corp 光重合開始剤組成物および光重合組成物
JP2007269853A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Chiba Univ 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー
WO2010095390A1 (ja) * 2009-02-18 2010-08-26 サンアプロ株式会社 感光性樹脂組成物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI360722B (en) * 2003-08-21 2012-03-21 Nissan Chemical Ind Ltd Dye-containing resist composition and color filter
JP4809006B2 (ja) 2005-07-05 2011-11-02 太陽ホールディングス株式会社 着色感光性樹脂組成物及びその硬化物
JP4788404B2 (ja) * 2006-03-06 2011-10-05 大日本印刷株式会社 光学積層体、及びその製造方法
JP2009186957A (ja) 2007-04-09 2009-08-20 Sony Chemical & Information Device Corp 樹脂組成物及び表示装置
US8853290B2 (en) * 2009-06-08 2014-10-07 Sanyo Chemical Industries, Ltd. Photosensitive composition
JP4561936B1 (ja) * 2009-09-04 2010-10-13 東洋インキ製造株式会社 偏光板及び偏光板形成用光硬化性接着剤
JP2011076002A (ja) 2009-10-01 2011-04-14 Nof Corp 透明ハードコートフィルム
JP5617476B2 (ja) * 2010-09-22 2014-11-05 Jsr株式会社 シロキサンポリマー組成物、硬化膜及び硬化膜の形成方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503616A (ja) * 2000-06-15 2004-02-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多光子感光化システム
JP2002105110A (ja) * 2000-10-04 2002-04-10 Mitsubishi Chemicals Corp 硬化性組成物、その硬化物および用途
JP2004196949A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Tokuyama Corp 光重合開始剤組成物および光重合組成物
JP2007269853A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Chiba Univ 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー
WO2010095390A1 (ja) * 2009-02-18 2010-08-26 サンアプロ株式会社 感光性樹脂組成物

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013057049A (ja) * 2011-03-07 2013-03-28 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性組成物
JP2014108974A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性組成物
JP2014114386A (ja) * 2012-12-10 2014-06-26 Sanyo Chem Ind Ltd 感光性組成物及び硬化物
WO2015029940A1 (ja) * 2013-08-30 2015-03-05 三洋化成工業株式会社 感光性組成物、硬化物及び画像表示装置
CN105473674A (zh) * 2013-08-30 2016-04-06 迪睿合株式会社 自由基聚合型粘接剂组合物和电连接体的制造方法
JP2019509962A (ja) * 2016-02-29 2019-04-11 アグフア−ゲヴエルト エッチング処理されたガラス製品を製造する方法
CN115179545A (zh) * 2017-12-29 2022-10-14 科思创(荷兰)有限公司 用于加成制造的组合物和制品及其使用方法
WO2019160079A1 (ja) * 2018-02-16 2019-08-22 株式会社Adeka ラジカル重合開始剤、これを含有する組成物、その硬化物、その製造方法、および化合物
JPWO2019160079A1 (ja) * 2018-02-16 2021-02-04 株式会社Adeka ラジカル重合開始剤、これを含有する組成物、その硬化物、その製造方法、および化合物
US11618742B2 (en) 2018-02-16 2023-04-04 Adeka Corporation Radical polymerization initiator, composition containing same, cured product of composition, production method for cured product, and compound
JP7372904B2 (ja) 2018-02-16 2023-11-01 株式会社Adeka ラジカル重合開始剤、これを含有する組成物、その硬化物、その製造方法、および化合物
TWI734251B (zh) * 2018-11-09 2021-07-21 日商互應化學工業股份有限公司 覆膜的製造方法及印刷線路板
US20210355354A1 (en) * 2020-05-18 2021-11-18 Samsung Display Co., Ltd. Resin composition, adhesive member, and display device including the same
US11851590B2 (en) * 2020-05-18 2023-12-26 Samsung Display Co., Ltd. Resin composition, adhesive member, and display device including the same

Also Published As

Publication number Publication date
US20140045966A1 (en) 2014-02-13
CN103415540A (zh) 2013-11-27
KR20160120793A (ko) 2016-10-18
KR101710319B1 (ko) 2017-02-24
KR101666263B1 (ko) 2016-10-13
PH12013501817A1 (en) 2013-10-14
TWI595318B (zh) 2017-08-11
TW201245871A (en) 2012-11-16
CN103415540B (zh) 2016-03-23
TWI559086B (zh) 2016-11-21
TW201546553A (zh) 2015-12-16
KR20130132627A (ko) 2013-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101710319B1 (ko) 감광성 조성물, 경화물, 및, 활성 광선 경화물의 제조 방법
JP5723933B2 (ja) 感光性組成物
JP5602189B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物
JP5940259B2 (ja) 感光性組成物
JP2012167271A (ja) 感光性組成物
JP2012167262A (ja) 感光性組成物
JP5989469B2 (ja) 感光性組成物
JP5964131B2 (ja) 感光性組成物及び硬化物
JP2014056122A (ja) 感光性組成物
JP6095964B2 (ja) 感光性組成物及び硬化物
JP2012168526A (ja) 感光性組成物
JP2015086371A (ja) 活性光線硬化型接着剤組成物
WO2015029940A1 (ja) 感光性組成物、硬化物及び画像表示装置
JP2014108974A (ja) 感光性組成物
JP2012167263A (ja) マイクロ波硬化型組成物
JP2014074165A (ja) 感光性組成物
JP5583707B2 (ja) 感光性組成物
JP2014055241A (ja) 感光性組成物
JP2012167266A (ja) 感光性組成物
JP2016031500A (ja) 画像表示装置の製造方法
KR20200113530A (ko) 바인더 수지, 이를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 이를 포함하는 표시 장치
JP2012167264A (ja) 超音波硬化型組成物

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201280012001.7

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12754304

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20137025734

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14002219

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12754304

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1