JP2016031500A - 画像表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 密着性及び遮光部の硬化性に優れた画像表示装置を生産性良く得る製造方法を提供する。
【解決手段】 貼り合わせる一つの光学基材が遮光部を有し、以下の工程（１）〜（４）を有する、光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置の製造方法。
工程（１）：光学基材に、重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する活性光線硬化型樹脂組成物を塗布する工程、
工程（２）：樹脂組成物に対して、活性光線を照射して仮硬化させることにより仮硬化樹脂層を得る工程、
工程（３）：仮硬化樹脂層に対して他の光学基材を貼り合わせ、仮硬化樹脂を有する光学部材を得る工程、
工程（４）：光学部材に対して、活性光線を照射して基材間に挟まれた仮硬化樹脂層を本硬化させることにより、本硬化樹脂層を介して光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置を得る工程。
【選択図】なし

Description

本発明は、遮光部を有する光学基材と他の光学基材とを、活性光線硬化型樹脂層を介して貼り合わせて画像表示装置を製造する方法に関する。

近年、タブレット端末やスマートフォンに用いられている液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の画像表示装置は、液晶パネルや有機ＥＬパネル等の光学基材に、タッチパネルを貼り合わせたものが広く利用されている。このタッチパネルは、透明電極が形成された透明基板がわずかな空隙を空けて貼り合わせられており、必要に応じて、タッチ面の上に、表面を保護するための光透過性カバー基材を貼り合わせた構造を有している。

タッチパネルにおける透明電極が形成された透明基板と光透過性カバー基材との貼り合わせ、又は、タッチパネルと画像表示基材との貼り合わせの技術の一つに、柔軟性のある活性光線硬化型樹脂組成物を介して貼り合わせる方法がある。

一方、光透過性カバー基材の周縁部には、表示画像の輝度やコントラスト向上のために遮光部が形成されている。このため、活性光線硬化型樹脂組成物のうち遮光部の影になる部分には充分な活性光線が到達せず、硬化不良になる。そのため十分な接着強度が得られず、基材どうしの剥離や、基材間への水分の侵入による画像品質の低下等の問題が発生する。

遮光部の樹脂の硬化性を向上させる技術として、熱重合開始剤を活性光線硬化型樹脂組成物に含有させ、活性光線照射して硬化させた後に、加熱処理することにより、遮光部の樹脂を硬化する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、樹脂を十分に硬化させるために長時間の加熱処理が必要であるため生産性に乏しく、また画像表示基材等に熱ダメージを与える懸念があった。

また、カチオン重合性の活性光線硬化型樹脂の遅延硬化性を利用する技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。この方法では、遮光部及び非遮光部共に十分な初期密着性が得られるが、硬化後の樹脂の柔軟性及び伸び性が劣り、更に耐久性試験後の密着性が不足する懸念があった。

特開２００８−１２６８６０号公報 特開２０１０−２４８３８７号公報

本発明の目的は、密着性（初期密着性及び密着耐久性）及び遮光部の硬化性に優れた画像表示装置を生産性良く得る製造方法を提供することにある。

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち本発明は、貼り合わせる少なくとも一つの光学基材が遮光部を有し、以下の工程（１）〜（４）を有する、少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置の製造方法；及び前記製造方法で製造された画像表示装置である。
工程（１）：少なくとも一つの光学基材に、重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する活性光線硬化型樹脂組成物を塗布する工程、
工程（２）：前記塗布された活性光線硬化型樹脂組成物に対して、活性光線を照射して仮硬化させることにより仮硬化樹脂層を得る工程、
工程（３）：前記仮硬化樹脂層に対して他の光学基材を貼り合わせ、少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた、仮硬化樹脂を有する光学部材を得る工程、
工程（４）：前記貼り合わされた一対の光学部材に対して、活性光線を照射して基材間に挟まれた仮硬化樹脂層を本硬化させることにより、本硬化樹脂層を介して少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置を得る工程。

本発明の製造方法により、密着性（初期密着性及び密着耐久性）及び遮光部の硬化性に優れた画像表示装置を生産性良く得ることができる。

本発明の少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置の製造方法は、貼り合わせる少なくとも一つの光学基材が遮光部を有し、以下の工程（１）〜（４）を有する。
工程（１）：少なくとも一つの光学基材に、重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する活性光線硬化型樹脂組成物を塗布する工程、
工程（２）：前記塗布された活性光線硬化型樹脂組成物に対して、活性光線を照射して仮硬化させることにより仮硬化樹脂層を得る工程、
工程（３）：前記仮硬化樹脂層に対して他の光学基材を貼り合わせ、少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた、仮硬化樹脂を有する光学部材を得る工程、
工程（４）：前記貼り合わされた一対の光学部材に対して、活性光線を照射して基材間に挟まれた仮硬化樹脂層を本硬化させることにより、本硬化樹脂層を介して少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置を得る工程。

以下に、本発明の画像表示装置の製造方法における工程（１）〜（４）の具体的な実施の形態について、詳細に説明する。

本発明における工程（１）とは、少なくとも一つの光学基材に、重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する活性光線硬化型樹脂組成物を塗布する工程である。

重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する活性光線硬化型樹脂組成物を、少なくとも一つの光学基材の表面に平坦になるように塗布する。

活性光線型樹脂組成物の塗布方法としては、スリットコート、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びにスクリーン印刷等の印刷法を適用できる。

活性光線硬化型樹脂の硬化物の厚みは、画像表示装置の光学特性の観点から、通常３０〜５００μｍ、好ましくは５０〜４００μｍ、更に好ましくは５０〜３５０μｍである。樹脂組成物の塗布は、必要な厚みが得られるのであれば１回でもよいし、２回以上塗布してもよい。

本発明における工程（２）とは、塗布された活性光線硬化型樹脂組成物に対して、活性光線を照射して仮硬化させることにより仮硬化樹脂層を得る工程である。

本発明における仮硬化とは、遮光部の硬化性、初期密着性及び生産性を向上させる目的で、後述の仮硬化樹脂層が本硬化する条件よりも弱い条件で行う硬化である。樹脂組成物を仮硬化させることにより、塗布された樹脂組成物の漏れ出しを防ぐことができるため貼り合わせる光学基材間の樹脂層を排除することなく十分に光硬化させることができ、また樹脂組成物の流動による位置ずれがなくなり気泡の発生を防ぐことができることから生産性が向上する。加えて、貼り合わせ前に仮硬化させることで遮光部の硬化性および初期密着性を確保でき、硬化収縮も低減することができる。

樹脂組成物を仮硬化させた後の仮硬化樹脂の反応率は、初期密着性の観点から、好ましくは１０〜７５％、更に好ましくは２５〜６０％である。

本発明における樹脂の反応率とは、活性光線照射前の樹脂組成物中の末端二重結合の存在量に対する活性光線照射後の仮硬化樹脂中の末端二重結合の存在量の割合であり、この数値が大きいほど、反応が進行していることを示す。

尚、本発明における樹脂の反応率は、活性光線照射前の樹脂組成物のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの８１０ｃｍ^-1付近の吸収ピーク高さ（Ｚ）と、活性光線照射後の樹脂組成物層のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの８１０ｃｍ^-1付近の吸収ピーク高さ（Ｙ）とを、以下の式（１）に代入することにより算出することができる。

樹脂の反応率（％）＝｛（Ｚ−Ｙ）／Ｘ｝×１００ （１）
仮硬化樹脂層を形成する仮硬化樹脂の２５℃での貯蔵弾性率は、遮光部の硬化性及び硬化収縮低減の観点から好ましくは１．０×１０²〜１．０×１０⁶Ｐａ、更に好ましくは１．０×１０²〜１．０×１０⁵Ｐａであり、２５℃での損失正接（以下、ｔａｎδと略記）は、遮光部の硬化性及び硬化収縮低減の観点から好ましくは０．３〜１．０、更に好ましくは０．４〜１．０である。尚、ｔａｎδとは、貯蔵弾性率（Ｅ’）と損失弾性率（Ｅ”）の比（Ｅ”／Ｅ’）であり、本発明における貯蔵弾性率及びｔａｎδは、後述の方法で測定することができる。

樹脂組成物を仮硬化させるときの活性光線の照射方法は、仮硬化樹脂が上述の範囲になるように仮硬化させることができる限り、光源の種類、出力、積算光量に特に制限はなく、公知の方法を使用することができる。

活性光線としては、可視光線及び紫外線等が挙げられる。本発明の画像表示装置の製造方法で使用される活性光線硬化型樹脂組成物は、３６０〜８３０ｎｍの活性光線の照射でも光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等が使用できる。また、ＬＥＤ光源を使用した照射装置も好適に使用できる。

仮硬化させるときの積算光量は、初期密着性の観点から１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましい。

本発明における工程（３）とは、仮硬化樹脂層に対して他の光学基材を貼り合わせ、少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた仮硬化樹脂を有する光学部材を得る工程である。

仮硬化樹脂層に対して他の光学基材を貼り合わせる方法としては、光学基材上の仮硬化樹脂層と仮硬化樹脂層を有しない光学基材の表面を対向させて張り合わせる方法等が挙げられる。貼り合わせは、大気中及び真空中のいずれでもできるが、貼り合わせの際に気泡が生じることを防ぐためには、真空中で貼り合わせることが好適である。

本発明における工程（４）とは、貼り合わされた一対の光学部材に対して、活性光線を照射して基材間に挟まれた仮硬化樹脂層を本硬化させることにより、本硬化樹脂層を介して少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置を得る工程である。光学部材に活性光線を照射して本硬化させることにより、画像表示装置を得る。この本硬化工程により、仮硬化樹脂層を十分に硬化させて、少なくとも二つ以上の光学基材を接着し積層することができる。

本発明における本硬化とは、少なくとも二つ以上の光学基材を密着させるために、前述の仮硬化樹脂層の条件よりも強い条件で行う硬化である。

仮硬化樹脂層を本硬化させた後の本硬化樹脂層の反応率は、好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上である。

本硬化樹脂層を形成する本硬化樹脂の２５℃での貯蔵弾性率は、生産性及び密着耐久性の観点から好ましくは１．０×１０³〜１．０×１０⁷Ｐａ、更に好ましくは１．０×１０³〜１．０×１０⁶Ｐａであり、２５℃でのｔａｎδは、生産性及び密着耐久性の観点から仮硬化樹脂のｔａｎδよりも大きいことが好ましい。

仮硬化樹脂を本硬化させるときの活性光線の照射方法は、本硬化樹脂層が上述の範囲になるように本硬化させることができる限り、樹脂組成物を仮硬化の場合と同様である。

本硬化させるときの積算光量は、仮硬化樹脂の硬化性の観点から５００〜６０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましい。

本明細書における光学基材とは、遮光部を有しない光学基材と、遮光部を有する光学基材の両方を意味する。本発明の画像表示装置の製造方法においては、少なくとも二つ以上の光学基材を用いるが、貼り合わせる少なくとも一つの光学基材が遮光部を有していればよい。

本発明における光学基材としては、好ましくは透明基板（透明電極が形成してあるもの）、透明板（ガラス板、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート及びポリカーボネート板等）、化粧板、タッチパネル、アイコンシート及び画像表示部材［液晶モジュール（電極を形成した一対の基板間に液晶材料が封入された液晶パネルに偏光板、駆動回路、信号入力ケーブル及びバックライトユニットが備わったもの）及び有機ＥＬモジュール等］であり、光学基材は１種を用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

光学基材が有する遮光部は、表示画像のコントラスト向上等のために形成されるものである。遮光部を有する透明板とは、ガラス板、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート及びポリカーボネート板等の透明板の貼り合わせ面の表面上に、黒色枠状の遮光部が形成されたものである。

光学基材における遮光部の位置は、特に限定されないが、好ましくは光学基材の周縁部であり、遮光部の幅は好ましくは０．０５〜２０ｍｍ、更に好ましくは０．１〜１５ｍｍ、特に好ましくは０．１〜１０ｍｍである。遮光部は、テープの貼付、塗料の塗布又は印刷等によって形成することができる。

本発明における活性光線硬化型樹脂組成物は、重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する。

本発明における重合性物質（Ａ）としては、ラジカル重合性化合物（Ａ１）及びイオン重合性化合物（Ａ２）等の公知の化合物を用いることができる。（Ａ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

ラジカル重合性化合物（Ａ１）としては、エチレン性不飽和結合を有する公知の化合物を用いることができる。エチレン性不飽和結合とは、ビニル基、プロペニル基、（メタ）アクリロイル基などがあげられる。これらの内、活性光線硬化性の観点から（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（Ａ１１）を含有するのが好ましい。

尚、上記及び以下において、「アクリロイル」、「メタクリロイル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリロイル」と、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリル」と、それぞれ記載する。

（メタ）アクリレート（Ａ１１）〔後述するポリイソプレンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１５）、ポリブタジエンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１６）、ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１７）及びポリエステルを骨格にもつ（メタ）アクリレート（Ａ１８）を除く。〕としては、炭素数が４〜５０のものが好ましく、例えば単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１１）、２官能（メタ）アクリレート（Ａ１１２）及び３官能以上の（メタ）アクリレート（Ａ１１３）が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１１）としては、エチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロへキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシプロピレンモノ（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシルカルビトール（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２，２，２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２，４，５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノビニルエーテルモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと略記）（１〜４０モル、以下同様）付加フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ付加クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ付加ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと略記）（１〜４０モル、以下同様）付加ノニルフェノール（メタ）アクリレート及びＥＯ付加２−エチルヘキシルアルコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。

これらの内、光学基材の密着性の観点から好ましいのは、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート及びジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレートであり、硬化物の耐水性の観点から好ましいのは２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート及びジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレートである。

２官能（メタ）アクリレート（Ａ１１２）としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート及びトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの内、光学基材の密着性の観点から好ましいのは、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレートである。

３官能以上の（メタ）アクリレート（Ａ１１３）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド（ＥＯ及びＰＯ等、以下のアルキレンオキサイドも同じ）（１〜４０モル、以下同様）付加物トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド付加物トリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールのＥＯ付加物テトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド付加物ヘキサ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

これらの内、組成物の柔軟性及び伸び性の観点から好ましいのは、単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１１）であり、その含有量が、重合性物質（Ａ）全体に占める（Ａ１１１）の割合が５０〜９９．９重量％であることが更に好ましい。

ラジカル重合性化合物（Ａ１）としては、前記（メタ）アクリレート（Ａ１１）以外に、（メタ）アクリルアミド化合物（Ａ１２）、芳香族ビニル化合物（Ａ１３）、ビニルエーテル化合物（Ａ１４）、ポリイソプレンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１５）、ポリブタジエンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１６）、ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１７）及びポリエステルを骨格にもつ（メタ）アクリレート（Ａ１８）及びその他のラジカル重合性化合物（Ａ１９）を用いることができる。

（メタ）アクリルアミド化合物（Ａ１２）としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド及び（メタ）アクリロイルモルフォリン等が挙げられる。

芳香族ビニル化合物（Ａ１３）としては、ビニルチオフェン、ビニルフラン、ビニルピリジン、スチレン、メチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、３−エチルスチレン、４−エチルスチレン、３−プロピルスチレン、４−プロピルスチレン、３−ブチルスチレン、４−ブチルスチレン、３−ヘキシルスチレン、４−ヘキシルスチレン、３−オクチルスチレン、４−オクチルスチレン、３−（２−エチルヘキシル）スチレン、４−（２−エチルヘキシル）スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルスチレン、４−メトキシスチレン及び４−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン等が挙げられる。

ビニルエーテル化合物（Ａ１４）としては、単官能又は多官能ビニルエーテル等が挙げられる。

単官能ビニルエーテルとしては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフリフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。

多官能ビニルエーテルとしては、ジビニルエーテル類（エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテル等）、トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ＥＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＰＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びＰＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。

ポリイソプレンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１５）は、（メタ）アクリル変性ポリイソプレンとも呼ばれ、好ましくは１，０００〜１００，０００、更に好ましくは１０，０００〜５０，０００の数平均分子量（以下、Ｍｎと略記）を有する。ポリイソプレンは１，２付加物であっても１，４付加物であっても特に区別なく使用できる。市販品として、例えば、（株）クラレ製の「ＵＣ−１」（Ｍｎ２５，０００）がある。

ポリブタジエンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１６）は、（メタ）アクリル変性ポリブタジエンとも呼ばれ、好ましくは５００〜１００，０００、更に好ましくは１，０００〜３０，０００のＭｎを有する。１，２付加物であっても１，４付加物であっても特に区別なく使用できる。市販品として、例えば、新日本石油（株）製の「ＴＥ２０００」（Ｍｎ２，０００）、大阪有機化学工業（株）製の「ＢＡＣ−４５」（Ｍｎ１０，０００）がある。

ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１７）は、（メタ）アクリル変性ポリウレタンとも呼ばれ、好ましくは１，０００〜１００，０００、更に好ましくは１０，０００〜５０，０００のＭｎを有する。

ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、イソシアネート（Ｉ）に水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られる化合物等が挙げられ、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体２当量を触媒としてスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。

ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーの原料となるイソシアネート（Ｉ）としては特に限定されず、イソホロンジイソシアネート、２，４−又は２，６−トリレンジイソシアネート（以下、ＴＤＩと略記）、ヘキサメチレンジイソシアネート（以下、ＨＤＩと略記）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（以下、ＭＤＩと略記）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（以下、ＸＤＩと略記）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート及び１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。

また、上記イソシアネートとしては、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール及びポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も用いることができる。

ポリウレタンを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマーの原料となる水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては特に限定されず、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール及びポリエチレングリコール等の２価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン及びグリセリン等の３価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート並びにビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

市販品としては、ライトケミカル（株）製の「ＵＡ−１」及び大阪有機化学工業（株）製の「ＵＶ−４１０８Ｆ」（Ｍｎ１０，０００）等がある。

ポリエステルを骨格にもつ（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ１８）は、（メタ）アクリル変性ポリエステルとも呼ばれ、好ましくは１，０００〜１００，０００、更に好ましくは１０，０００〜５０，０００のＭｎを有する。２価のカルボン酸（ａ１８１）と２価のアルコール（ａ１８２）の縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの両末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。

２価のカルボン酸（ａ１８１）としては、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバンチン酸、アゼライン酸、マロン酸、ｎ−ドデセニルコハク酸、イソドデセニルコハク酸、ｎ−ドデシルコハク酸、イソドデシルコハク酸、ｎ−オクテニルコハク酸、イソオクテニルコハク酸、ｎ−オクチルコハク酸、イソオクチルコハク酸及びこれらの無水物又は低級アルキルエステル等が挙げられる。

２価のアルコール（ａ１８２）としては、アルキレングリコール（エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、１，４−ブテンジオール、１，５−ペンタンジオール及び１，６−ヘキサンジオール等）、アルキレンエーテルグリコール類（ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等）、脂環式ジオール類（１，４−シクロヘキサンジメタノール及び水素添加ビスフェノールＡ等）、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ及びビスフェノールＳ等）及びビスフェノール類のアルキレンオキサイド（ＥＯ、ＰＯ及びブチレンオキサイド等）２〜８モル付加物等が挙げられる。

市販品として、東亜合成（株）製の「アロニックスＭ６５００」等が挙げられる。

本発明におけるＭｎの測定は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記）を用いて以下の条件で測定することができる。

＜ＧＰＣ測定条件＞
［１］装置 ：ＧＰＣ
「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、東ソー（株）製
［２］カラム ：「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＸＬ」２本＋「ＴＳＫｇｅｌ
Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ 」、東ソー（株）製
［３］溶離液 ：テトラヒドロフラン
［４］基準物質：標準ポリスチレン
（ＴＳＫｓｔａｎｄａｒｄ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ）、
東ソー（株）製
［５］注入条件：サンプル濃度０．２５重量％、カラム温度４０℃
その他のラジカル重合性化合物（Ａ１９）としては、アクリロニトリル、ビニルエステル化合物（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及びバーサチック酸ビニル等）、アリルエステル化合物（酢酸アリル等）、ハロゲン含有単量体（塩化ビニリデン及び塩化ビニル等）及びオレフィン化合物（エチレン及びプロピレン等）等が挙げられる。

イオン重合性化合物（Ａ２）としては、炭素数３〜２０のエポキシ化合物（Ａ２１）及び炭素数４〜２０のオキセタン化合物等（Ａ２２）が挙げられる。

炭素数３〜２０のエポキシ化合物（Ａ２１）としては、単官能又は多官能エポキシ化合物等が挙げられる。

単官能エポキシ化合物としては、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ―ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド及び３−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。

多官能エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１，３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン及び１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。

これらの内、硬化速度の観点から、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、脂環式エポキシドが更に好ましい。

炭素数４〜２０のオキセタン化合物（Ａ２２）としては、オキセタン環を１個〜６個有する化合物等が挙げられる。

オキセタン環を１個有する化合物としては、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（メタ）アリルオキシメチル−３−エチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４−フルオロ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、４−メトキシ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）エチル］フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−エチルヘキシル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−テトラブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−トリブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシプロピル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ブトキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタクロロフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル及びボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。

オキセタン環を２〜６個有する化合物としては、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル及びＥＯ変性ビスフェノールＦ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。

これらの内、硬化速度の観点から、オキセタン環を１〜２個有する化合物が好ましい。

本発明においてラジカル開始剤（Ｂ）とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも１種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｂ１）並びに酸及び／又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｂ２）等の公知の化合物を用いることができる。

例えば、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ｂ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ｂ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ｂ１２６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２７）等は活性光線、酸及び塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で（Ｂ１）、（Ｂ２）のいずれとしても適用できる。

また、有機過酸化物系重合開始剤（Ｂ２１）、アゾ化合物系重合開始剤（Ｂ２２）、その他のラジカル開始剤（Ｂ２３）等は、酸及び／又は塩基によってラジカルを発生させることが可能である。

（Ｂ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

尚、（Ｂ１２１）は、（Ｂ１）、（Ｂ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｂ１２）の１番目の例であることを示す。

アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ｂ１２１）としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン社製（ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ）］及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）］等が挙げられる。

α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２２）としては、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）］、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９）］及び１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９）］等が挙げられる。

ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ｂ１２３）としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１）］等が挙げられる。

α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２４）としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）］、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３）］、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ２９５９）］及び２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７）］等が挙げられる。

ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２５）としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。

オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ｂ１２６）としては、１，２−オクタンジオン−１−（４−［フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１）］及びエタノン−１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（０−アセチルオキシム）［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２）］等が挙げられる。

チタノセン誘導体系重合開始剤（Ｂ１２７）としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［ＢＡＳＦジャパン社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４）］等が挙げられる。

有機過酸化物系重合開始剤（Ｂ２１）としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−（２−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキサイド、２，５，−ジメチル−２，５，−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３，−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド及びｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。

アゾ化合物系重合開始剤（Ｂ２２）としては、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）及び２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。

その他の重合開始剤（Ｂ２３）としては、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等が挙げられる。

酸及び／又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ｂ２）としては、有機過酸化物系重合開始剤（Ｂ２１）及び／又はアゾ化合物系重合開始剤（Ｂ２２）が好ましい。

これらのラジカル開始剤（Ｂ）の中では、活性光線硬化型組成物の貯蔵安定性の観点から、熱によってもラジカルが発生する有機過酸化物系重合開始剤やアゾ化合物系重合開始剤以外のもの、即ち活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤が好ましい。

本発明の活性光線硬化型組成物中のラジカル開始剤（Ｂ）の含有量は、重合性物質（Ａ）に対して、光硬化性と耐候性の観点から、好ましくは０．１〜２０重量％、更に好ましくは０．２〜１０重量％である。

本発明において酸発生剤（Ｃ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｃ１）並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｃ２）等の公知の化合物が挙げられる。

例えば、スルホニウム塩誘導体（Ｃ１２１）及びヨードニウム塩誘導体（Ｃ１２２）等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、（Ｃ１）又は（Ｃ２）として適用できる。

また、スルホン酸エステル誘導体（Ｃ２１）、酢酸エステル誘導体（Ｃ２２）及びホスホン酸エステル（Ｃ２３）等は酸及び／又は塩基によって酸を発生させることが可能で、（Ｃ２）として適用できる。

（Ｃ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

尚、（Ｃ１２１）は、（Ｃ１）、（Ｃ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｃ１２）の１番目の例であることを示す。

これら（Ｃ）の中では、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｃ１）〔（Ｃ１２）を含む〕が好ましい。

本発明におけるスルホニウム塩誘導体（Ｃ１２１）としては、下記一般式（１）又は下記一般式（２）で示される化合物等が挙げられる。

一般式（１）又は（２）において、Ａ¹は下記一般式（３）〜（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ¹〜Ａｒ⁷はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってＡｒ¹〜Ａｒ⁴、Ａｒ⁶及びＡｒ⁷は１価の基、Ａｒ⁵は２価の基であり、（Ｘ¹）^-及び（Ｘ²）^-は陰イオンを表し、ａは０〜２の整数、ｂは１〜３の整数で、かつａ＋ｂは２又は３でＡ¹の価数と同じ整数である。

一般式（５）〜（８）におけるＲ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ⁴とＲ⁵及びＲ⁶とＲ⁷は互いに結合して環構造を形成していてもよい。

一般式（２）におけるＡ¹として、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式（５）及び一般式（７）〜（１０）で表される基であり、一般式（５）及び（８）〜（１０）で表される基が更に好ましい。

一般式（１）及び一般式（２）におけるＡｒ¹〜Ａｒ⁷は、一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。

Ａｒ¹〜Ａｒ⁷におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４である。

ベンゼン環骨格を１個有する場合の例としては、ベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン及びクマリン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。

ベンゼン環骨格を２個有する場合の例としては、ナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。

ベンゼン環骨格を３個有する場合の例としては、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。

ベンゼン環骨格を４個有する場合の例としては、ナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。

ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。

炭素数１〜２０のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。

炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピル基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。

炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−、ｉｓｏ−、又はｎｅｏ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。

炭素数１〜２０のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。

炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でも構わない。

Ａｒ¹〜Ａｒ⁷の置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１５のアルキルチオ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。

Ａｒ¹〜Ａｒ⁴、Ａｒ⁶及びＡｒ⁷として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）フェニル基及びｍ−クロロフェニル基である。

Ａｒ⁵として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、２−又は３−メチルフェニレン基、２−又は３−メトキシフェニレン基、２−又は３−ブチルフェニレン基及び２−又は３−クロロフェニレン基である。

一般式（１）又は（２）において（Ｘ¹）^-又は（Ｘ²）^-で表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数１〜４のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン（安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン及びフェニルグリオキシル酸アニオン等）、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン（トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等）、６フッ化アンチモネートアニオン（ＳｂＦ₆ ^-）、リンアニオン［６フッ化リンアニオン（ＰＦ₆ ^-）及び３フッ化トリス（パーフルオロエチル）リンアニオン（ＰＦ₃（Ｃ₂Ｆ₅）₃ ^-）等］及びボレートアニオン（テトラフェニルボレート、テトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン等）等が挙げられ、酸発生効率の観点から、フッ素原子を含有するホスフェートアニオン又はボレートアニオンが好ましい。更に好ましくはヘキサフルオロホスフェートアニオン、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンであり、特に好ましくはトリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンである。

スルホニウム塩誘導体（Ｃ１２１）として、酸発生効率の観点から好ましいのは、トリフェニルスルホニウムカチオン、トリ−ｐ−トリルスルホニウムカチオン又は［ｐ−（フェニルメルカプト）フェニル］ジフェニルスルホニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物及び下記一般式（１１）〜（１４）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１１）〜（１４）で示される化合物である。

一般式（１１）〜（１４）における（Ｘ³）^-〜（Ｘ⁶）^-は陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ¹）^-又は（Ｘ²）^-として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。

本発明におけるヨードニウム塩誘導体（Ｃ１２２）としては、下記一般式（１５）又は下記一般式（１６）で示される化合物等が挙げられる。

式中、Ａ²は前記一般式（３）〜（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ⁸〜Ａｒ¹²はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ａｒ⁸〜Ａｒ¹⁰及びＡｒ¹²は１価の基、Ａｒ¹¹は２価の基であり、（Ｘ⁷）^-及び（Ｘ⁸）^-は陰イオンを表し、ｃは０〜２の整数、ｄは１〜３の整数で、かつｃ＋ｄは２又は３でＡ²の価数と同じ整数である。

ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。

一般式（１６）におけるＡ²として、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、前記一般式（５）及び一般式（７）〜（１０）で表される基であり、一般式（５）及び（８）〜（１０）で表される基が更に好ましい。

一般式（１５）又は一般式（１６）におけるＡｒ⁸〜Ａｒ¹²は、一般式（１５）又は一般式（１６）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。

Ａｒ⁸〜Ａｒ¹²におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４であり、Ａｒ⁸〜Ａｒ¹²の具体例としては、一般式（１）又は一般式（２）のＡｒ¹〜Ａｒ⁷として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。

（Ｘ⁷）^-及び（Ｘ⁸）^-としては、一般式（１）又は（２）における（Ｘ¹）^-又は（Ｘ²）^-として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。

ヨードニウム塩誘導体（Ｃ１２２）として、酸発生効率の観点から好ましいのは、（４−メチルフェニル）｛４−（２−メチルプロピル）フェニル｝ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）］ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）］トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ヨードニウムカチオン及び［ビス（４−メトキシフェニル）］ヨードニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物並びにこれら以外の下記一般式（１７）〜（２０）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１７）〜（２０）で示される化合物（例示した化合物を含む）である。

一般式（１７）〜（２０）において、Ｒ⁸〜Ｒ¹³は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、（Ｘ⁹）^-〜（Ｘ¹²）^-は陰イオンを表す。

ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。

Ｒ⁸〜Ｒ¹³として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基及び炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。

一般式（１７）〜（２０）における（Ｘ⁹）^-〜（Ｘ¹²）^-としては一般式（１）又は（２）における（Ｘ¹）^-又は（Ｘ²）^-として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。

一般に可視光領域（３６０〜８３０ｎｍ；ＪＩＳ−Ｚ８１２０参照）での硬化に使用可能な光重合開始剤は、可視光を吸収するため開始剤自体が着色しており、硬化物の色相に悪影響を与るが、一般式（２）又は一般式（１６）で示される化合物を使用することにより硬化物の色相への悪影響を抑止することができる。

スルホン酸エステル誘導体（Ｃ２１）としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、ｐ−トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。

酢酸エステル誘導体（Ｃ２２）としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。

ホスホン酸エステル（Ｃ２３）としては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。

本発明において塩基発生剤（Ｄ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｄ１）並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｄ２）等の公知の化合物を用いることができる。

例えば、オキシム誘導体（Ｄ１２１）、４級アンモニウム塩誘導体（Ｄ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｄ１２３）等は活性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、（Ｄ１）又は（Ｄ２）として適用できる。

また、カルバメート誘導体（Ｄ２１）は塩基によって塩基を発生させることが可能で、（Ｄ２）として適用できる。

（Ｄ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

尚、（Ｄ１２１）は、（Ｄ１）、（Ｄ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｄ１２）の１番目の例であることを示す。

これら（Ｄ）の中では、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｄ１）〔（Ｄ１２）を含む〕が好ましい。

オキシム誘導体（Ｄ１２１）としては、Ｏ−アシロキシム等が挙げられる。

４級アンモニウム塩誘導体（Ｄ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｄ１２３）としては、下記一般式（２１）〜（２３）のいずれかで示される化合物等が挙げられる。

一般式（２１）〜（２３）におけるＲ¹⁴〜Ｒ⁴¹は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式（２４）で表される置換基及び一般式（２５）で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、Ｒ¹⁴〜Ｒ²³のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基であり、Ｒ²⁴〜Ｒ³¹のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基であり、Ｒ³²〜Ｒ⁴¹のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基である。

一般式（２４）及び（２５）におけるＲ⁴²〜Ｒ⁴⁵は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ⁴⁶〜Ｒ⁴⁸は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、（Ｘ¹³）^-及び（Ｘ¹⁴）^-は、陰イオンを表し、ｅは２〜４の整数である。

一般式（２１）〜（２３）におけるハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。

一般式（２１）で示される化合物はアントラセン骨格、一般式（２２）で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式（２３）で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物であり、それぞれｉ線（３６５ｎｍ）付近に最大吸収波長を有する化合物の一例である。Ｒ¹⁴〜Ｒ²³は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性及び分解性等を考慮して変性させるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、炭素数１〜２０のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基で目的に応じて変性される。但し、Ｒ¹⁴〜Ｒ²³のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基である。

Ｒ¹⁴〜Ｒ²³として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基及び炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。

上記のＲ¹⁴〜Ｒ²³の具体例としては、一般式（１７）〜（１９）のＲ⁸〜Ｒ¹³の説明で記載した化合物が例示される。

一般式（２４）で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、ｅは２〜４の整数である。この置換基としては、ｅが４である１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びｅが２である１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。Ｒ⁴²とＲ⁴³は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数１〜５のアルキル基である。

一般式（２５）は４級アンモニウム構造を有しており、Ｒ⁴⁴とＲ⁴⁵は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。また、Ｒ⁴⁶〜Ｒ⁴⁸は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でもよい。Ｒ⁴⁶〜Ｒ⁴⁸は好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜５のアルキル基である。

一般式（２４）及び（２５）における（Ｘ¹³）^-及び（Ｘ¹⁴）^-は陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ¹）^-又は（Ｘ²）^-として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。

一般式（２４）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ⁴²とＲ⁴³が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式（２５）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ⁴⁴とＲ⁴⁵が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂して３級アミンが生成する。

カルバメート誘導体（Ｄ２１）としては、１−Ｆｍｏｃ−４−ピペリドン、ｏ−ニトロベンゾイルカルバメート及び１−Ｚ−４−ピペリドン等が挙げられる。

酸発生剤（Ｃ）及び塩基発生剤（Ｄ）のいずれかを含むことで、高感度され、マクロ的な反応率分布が抑制できるため欠点が生じにくく、均質性に優れた硬化物が得られる。この結果、伸び性及び密着性も向上すると推定される。酸発生剤（Ｃ）及び塩基発生剤（Ｄ）のいずれを用いても前記の効果が得られるが、光硬化性の観点からは、酸発生剤（Ｃ）を用いるのが好ましい。

本発明の画像表示装置の製造方法においては、ラジカル開始剤（Ｂ）、酸発生剤（Ｃ）及び塩基発生剤（Ｄ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、前記活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ｂ）、酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して、前記新たな活性種（Ｉ）による重合性化合物（Ａ）の重合反応が進行するのが好ましい。ここで、活性種（Ｈ）及び（Ｉ）としては、ラジカル、酸及び塩基等が挙げられるが、上記反応において、活性種（Ｈ）又は（Ｉ）のいずれかは酸又は塩基であることが好ましい。活性種（Ｈ）が拡散することにより硬化がより促進される。また、得られる硬化物の光学基材への密着性が向上する。活性種（Ｈ）が容易に拡散するためには、重合性化合物（Ａ）として、活性種（Ｈ）と反応しないものを使用することが好ましい。

本発明においては、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、又は（Ｄ２）を、以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有することが好ましい。

（１）（Ｂ１）並びに（Ｃ２）及び／又は（Ｄ２）を含有する。

（２）（Ｃ１）、（Ｂ２）及び必要により（Ｄ２）を含有する。

（３）（Ｄ１）、（Ｂ２）及び必要により（Ｃ２）を含有する。

（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。

上記（１）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）としてラジカルが発生し、活性種（Ｉ）として酸及び／又は塩基が発生する。

上記（２）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として酸が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカル及び必要により塩基が発生する。

上記（３）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として塩基が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカル及び必要により酸が発生する。

これらの組合せの中で更に好ましいものは、（１）の内（Ｂ１）及び（Ｃ２）を含有するもの、（２）の内（Ｃ１）及び（Ｂ２）の内前記（Ｂ１）、（Ｂ２）のいずれとしても適用できる前記化合物（Ｂ１２）を含有するもの、並びに（３）の内（Ｄ１）及び（Ｂ２）の内前記（Ｂ１）、（Ｂ２）のいずれとしても適用できる前記化合物（Ｂ１２）を含有するものであり、特に好ましいものは、（Ｂ１）及び（Ｃ２）を含有するもの、並びに（Ｃ１）及び（Ｂ１２）を含有するものである。

本発明の画像表示装置の製造方法に用いる活性光線硬化型樹脂組成物中の酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）の含有量〔（Ｃ）と（Ｄ）の合計〕は、重合性物質（Ａ）の重量に対して、好ましくは０．００５〜１０重量％、更に好ましくは０．０１〜５重量％である。酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）の含有量を前記範囲に調整することにより、遮光部の硬化性と伸び性を両立し、更に密着耐久性が良好な画像表示装置を得ることができる。

本発明の画像表示装置の製造方法に用いる活性光線硬化型樹脂組成物は、密着性及び柔軟性の観点から、更に非重合性ポリマー（Ｆ）を含有することが好ましい。

非重合性ポリマー（Ｆ）としては、単官能ラジカル重合性物質（ｆ１）を構成単位として有するビニルポリマー（Ｆ１）、２価のアルコール（ｆ２１）と２価のカルボン酸（ｆ２２）を構成単位として有するポリエステル樹脂（Ｆ２）、２価のアルコール（ｆ２１）と２価のイソシアネート（ｆ３１）を構成単位として有するポリウレタン樹脂（Ｆ３）、ポリイソプレン又はポリブタジエン骨格を有するポリマー（Ｆ４）等の公知の化合物を用いることができる。上記各構成単位は、１種であっても２種以上であってもよい。

（Ｆ）は単独で用いても良いし、２種以上を併用してもよい。

単官能ラジカル重合性物質（ｆ１）としては、（メタ）アクリル酸、上述の単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１１）、上述の（メタ）アクリルアミド化合物（Ａ１２）、上述の芳香族ビニル化合物（Ａ１３）、上述の炭素数３〜２０のビニルエーテル化合物（Ａ１４）及び上述のその他のラジカル重合性物質（Ａ１９）の内の単官能の化合物等が挙げられる。

ポリエステル樹脂（Ｆ２）の構成単位である２価のカルボン酸（ｆ２２）としては、上述の２価のカルボン酸（ａ１８１）と同様のものが挙げられる。

ポリエステル樹脂（Ｆ２）及びポリウレタン樹脂（Ｆ３）の構成単位である２価のアルコール（ｆ２１）としては、上述の２価のアルコール（ａ１８２）と同様のものが挙げられる。

ポリウレタン樹脂（Ｆ３）の構成単位である２価のイソシアネート（ｆ３１）としては、上述のイソシアネート（Ｉ）の内、２価のものと同様のものが挙げられる。

ポリイソプレン又はポリブタジエン骨格を有するポリマー（Ｆ４）としては、例えば、イソプレンホモポリマー、１，２−ポリブタジエンホモポリマー及びこれらを水素化したもの等が挙げられる。

非重合性ポリマー（Ｆ）として好ましいのは、組成物との相溶性の観点から、単官能ラジカル重合性物質（ｆ１）を構成単位として有するビニルポリマー（Ｆ１）であり、更に好ましくは、炭素数６〜３５の単官能分岐（メタ）アクリレートを構成単位として有するビニルポリマーであり、特に好ましくは、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートを構成単位として５０モル％以上有するビニルポリマーである。

非重合性ポリマー（Ｆ）の重量平均分子量（以下、Ｍｗと略記）は、通常１，０００以上、好ましくは１０，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは１００，０００〜９００，０００である。Ｍｗが１０，０００未満では光学基材に対する密着性が悪くなる。

本発明におけるＭｗの測定は、ＧＰＣを用いて以下の条件で測定することができる。

＜ＧＰＣ測定条件＞
［１］装置 ： ＧＰＣ
「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、東ソー（株）製
［２］カラム ：「ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＸＬ」２本＋「ＴＳＫｇｅｌ
Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ 」、東ソー（株）製
［３］溶離液 ：テトラヒドロフラン
［４］基準物質：標準ポリスチレン
（ＴＳＫｓｔａｎｄａｒｄ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ）、
東ソー（株）製
［５］注入条件：サンプル濃度０．２５重量％、カラム温度４０℃
これらの非重合性ポリマー（Ｆ）を含有することで更に柔軟性及び密着性をあげることができ、接着面が剥がれにくくなる。また、（Ｆ）の含有量は、重合性物質（Ａ）に対して５〜５００重量％含有することが好ましく、更に好ましくは３０〜４００重量％、特に好ましくは５０〜３００重量％である。

本発明における活性光線硬化型樹脂組成物は、使用目的に合わせて、更にその他の成分［重合禁止剤（ハイドロキノン及びメチルエーテルハイドロキノン類等）、密着性付与剤（シランカップリング剤等）、粘着性付与剤、分散剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等］を含有することができる。

本発明における活性光線硬化型樹脂組成物は、重合性物質（Ａ）、光ラジカル開始剤（Ｂ）、光酸発生剤（Ｃ）及び／又は光塩基発生剤（Ｄ）と必要により非重合性ポリマー（Ｆ）及びその他の成分等とを自転公転式攪拌装置、ボールミル又は３本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は好ましくは１０℃〜４０℃、更に好ましくは２０℃〜３０℃である。

以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、％は重量％、部は重量部を示す。
＜酸発生剤（Ｃ）の製造＞
製造例１［酸発生剤（Ｃ１２１−１）｛化学式（２６）で表される化合物｝の合成］

（１）２−（フェニルチオ）チオキサントン［中間体（Ｃ１２１−１−１）］の合成：
２−クロロチオキサントン１１．０部、チオフェノール４．９部、水酸化カリウム２．５部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６２部を均一混合し、１３０℃で９時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：トルエン／ヘキサン＝１／１：容量比）で精製し、中間体（Ｃ１２１−１−１）（黄色固体）３．１部を得た。
（２）２−［（フェニル）スルフィニル］チオキサントン［中間体（Ｃ１２１−１−２）］の合成：
中間体（Ｂ１２１−１−１）１１．２部、アセトニトリル２１５部及び硫酸０．０２部を４０℃で撹拌しながら、これに３０％過酸化水素水溶液４．０部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１４時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／トルエン＝１／３：容量比）にて生成物を精製して、中間体（Ｃ１２１−１−２）（黄色固体）１３．２部を得た。
（３）スルホニウム塩誘導体（Ｃ１２１−１）の合成：
中間体（Ｃ１２１−１−２）４．３部、無水酢酸４．１部及びアセトニトリル１１０部を４０℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸２．４部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水１５０部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のｐＨが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン５０部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約１５分間静置してから上澄みを除く操作を３回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン２１２部に溶かし、１０％カリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝水溶液６５部中に投入してから、室温（約２５℃）で２時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で３回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、スルホニウム塩誘導体である酸発生剤（Ｃ１２１−１）（黄色固体）５．５部を得た。
製造例２［酸発生剤（Ｃ１２２−１）｛化学式（２７）で表される化合物｝の合成］

トルエン６．５部、イソプロピルベンゼン８．１部、ヨウ化カリウム５．３５部及び無水酢酸２０部を酢酸７０部に溶解させ、１０℃まで冷却し、温度を１０±２℃に保ちながら、濃硫酸１２部と酢酸１５部の混合溶液を１時間かけて滴下した。２５℃まで昇温し、２４時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル５０部を加え、水で３回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部を水１００部に溶解させた水溶液を加え、２５℃で２０時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル５００部を加え、水で３回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とするヨードニウム塩誘導体である酸発生剤（Ｃ１２２−１）（淡黄色液体）１４．０部を得た。
＜塩基発生剤（Ｄ）の製造＞
製造例３［塩基発生剤（Ｄ１２２−１）｛化学式（２８）で表される化合物｝の合成］

９−クロロメチルアントラセン２．０部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン３．１部を少量ずつ加え（添加後若干の発熱が見られた。）、このまま室温（約２５℃）で１時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩４．０部及び水４０部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に１時間室温（約２５℃）で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で３回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体７．１部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤（Ｃ１２２−１）（白色固体）６．２部を得た。
＜非重合性ポリマー（Ｆ）の製造＞
製造例４［ビニルポリマー（Ｆ１−１）の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、溶剤としての酢酸エチル１３０部を仕込み８０℃まで昇温した。溶剤還流下、アクリル酸５０部、２−エチルヘキシルアクリレート４００部、酢酸ビニル５０部及び酢酸エチル２００部を配合したモノマー配合液と、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２４５部を酢酸エチル５０部に溶解した開始剤溶液とを反応容器内に窒素を吹き込みながら、滴下ロートで４時間かけて連続的に滴下した。続いて、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．４９０部を酢酸エチル３０部に溶解した開始剤溶液を滴下ロートを用いて２時間かけて連続的に追加し、溶剤還流下で４時間反応させた。反応終了後、温度１２０℃、圧力５ｋＰａの条件下で２時間かけて酢酸エチルを留去して、Ｍｎ＝３００，０００のアクリル酸／２−エチルヘキシルアクリレート／酢酸ビニル＝１０／８０／１０の共重合物である非重合性ポリマー（Ｆ１−１）を得た。
製造例５［ポリエステル樹脂（Ｆ２−１）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管、空気・窒素混合気体の導入管、分水器を備えた反応容器に、アジピン酸２９０部、ネオペンチルグリコール２６０部、トルエン７０部及びｐ−トルエンスルホン酸５部を仕込み、空気・窒素混合気体の気流下で攪拌しながら１２０℃まで昇温して、生成する水を分水器により連続的に系外へ除去しながら、反応液の酸価が５以下となるまで反応した。反応終了後、１２０℃、圧力５ｋＰａの条件下で４時間かけてトルエンを留去することにより、Ｍｗ＝１２，０００のポリエステル樹脂である非重合性ポリマー（Ｆ２−１）を得た。
＜活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ）の製造＞
製造例６〜１５及び比較製造例１〜２
表１に示す部数の重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）、光酸発生剤（Ｃ）及び／又は光塩基発生剤（Ｄ）並びに、必要により非重合性ポリマー（Ｆ）を配合し、自転公転式攪拌装置を用いて２５℃で１５分混合して、活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ−１）〜（Ｑ−１２）及び（Ｑ’−１）〜（Ｑ’−２）を製造した。

尚、、表１中の記号が示す内容は以下の通りである。
（Ａ１−１）ＩＯＡＡ：イソオクチルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製、平均官能基数＝１］
（Ａ１−２）ライトアクリレートＬ−Ａ：ラウリルアクリレート［共栄社化学（株）製、平均官能基数＝１］
（Ａ１−３）ライトエステルＬ：ラウリルメタクリレート［共栄社化学（株）製、平均官能基数＝１］
（Ａ１−４）４−ＨＢＡ：４−ヒドロキシブチルアクリレート［大阪有機化学工業（株）製、平均官能基数＝１］
（Ａ１−５）ライトアクリレートＴＨＦ−Ａ：テトラヒドロフルフリルアクリレート［共栄社化学（株）製、平均官能基数＝１］
（Ａ１−６）ライトアクリレート１，６ＨＸ−Ａ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート［共栄社化学（株）製、平均官能基数＝２］
（Ａ１−７）ライトアクリレート１，９ＮＤ−Ａ：１，９−ノナンジオールジアクリレート［共栄社化学（株）製、平均官能基数＝２］
（Ａ１−８）ＵＶ−４１０８Ｆ：ポリウレタンアクリレートオリゴマー［大阪有機化学工業（株）製、Ｍｎ＝１０，０００］
（Ａ１−９）ＵＣ−１：ポリイソプレンメタクリレートオリゴマー［（株）クラレ製、Ｍｎ＝２５，０００］
（Ｂ１２１−１）イルガキュア８１９：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン（株）製］
（Ｂ１２１−２）ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン（株）製］
（Ｂ１２４−１）イルガキュア１８４：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［ＢＡＳＦジャパン（株）製］
＜画像表示装置（Ｐ）の製造＞
実施例１〜１０及び比較例１〜４
［工程（１）］
熱硬化性の黒色インク［ＭＲＸインキ、帝国インキ製造（株）製］を、ガラス板［ゴリラガラス、コーニング社製（５０ｍｍ×１００ｍｍ×厚さ０．７ｍｍ）］の周縁部全域にスクリーン印刷により塗布、乾燥させることにより、５ｍｍ幅の遮光部を有するガラス板を用意した。この遮光部を有するガラス板の表面全体に、樹脂用ディスペンサーを用いて厚みが平均１５０μｍとなるように活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ）を塗布した。
［工程（２）］
工程（１）で塗布した活性光線硬化型樹脂組成物にベルトコンベア式ＵＶ照射装置［アイグラフィックス（株）製「ＥＣＳ−１５１Ｕ」、以下同様］を用いて、積算光量が３６５ｎｍとして４００ｍＪ／ｃｍ²となるように、照度１００ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を大気中で４秒照射し、樹脂組成物を仮硬化させ、仮硬化樹脂層を得た。
［工程（３）］
工程（２）で得た仮硬化樹脂層と液晶モジュール［５０ｍｍ×８０ｍｍ×厚み０．９ｍｍ］の偏光板が積層された面が対向するように重ね、ガラス板と液晶ジュールを貼り合わせた光学部材を得た。
［工程（４）］
工程（３）で得た光学部材に、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置を用いてガラス板側から照度１００ｍＷ／ｃｍ²の紫外線を３０秒照射し、仮硬化樹脂層を本硬化させガラス板と液晶モジュールが密着した画像表示装置を得た。
比較例３〜４
工程（２）を行わない以外は実施例１と同様にして、画像表示装置（Ｐ’−３）〜（Ｐ’−４）を得た。
＜貯蔵弾性率及びｔａｎδ＞
（１）仮硬化樹脂評価用の試験片の作製
工程（１）において、フッ素系離型剤［ダイキン工業（株）製、ダイフリーＧＡ−７５００、以下同様］を塗布した厚さ１ｍｍのスライドガラス［松浪硝子工業（株）製 Ｓ１１１１、以下同様）］の上に、活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ）を隙間ゲージ［（株）永井ゲージ製作所製 １．００ｍｍ］を用いて幅５．０ｍｍ、長さ３０ｍｍ、膜厚１．０ｍｍとなるように塗布する以外は、実施例及び比較例の工程（１）及び工程（２）と同様の工程を行い、仮硬化樹脂層を得た。その後、スライドガラスを剥離することにより、仮硬化樹脂評価用の試験片を得た。
（２）本硬化樹脂評価用の試験片の作製
上記（１）で得られた仮硬化樹脂層に対して、実施例の工程（３）及び工程（４）と同様の工程を行い本硬化樹脂層を得た。その後、スライドガラスを剥離することにより本硬化樹脂評価用の試験片を得た。
（３）貯蔵弾性率及びｔａｎδの測定
上記（１）又は（２）で得た試験片を使用して、ＪＩＳ−Ｋ７２４４−４に準拠し、動的粘弾性測定装置［「Ｒｈｅｏｇｅｌ−Ｅ４０００」、ユービーエム（株）製］を用いて、１０Ｈｚ、引張モードにて２５℃での貯蔵弾性率（Ｅ’）及び損失弾性率（Ｅ”）を測定した。得られた貯蔵弾性率（Ｅ’）と損失弾性率（Ｅ”）より、２５℃でのｔａｎδを算出した。
＜柔軟性＞
活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ）を膜厚が１ｃｍとなるように円柱状の型に流しこみ、積算光量が６０００ｍＪ／ｃｍ²であった以外は実施例及び比較例の工程（２）と同様の工程を行い、柔軟性評価用の試験片を得た。この試験片を使用して、ＪＩＳ−Ｋ７２１５に準拠し、デュロメータ硬度計（タイプＥ）［アスカーゴム硬度計、高分子計器（株）社製］を用いてデュロメータＥ硬さを測定した。

◎：１０未満（非常に柔軟性に優れる。）
○：１０以上１６未満（柔軟性に優れる。）
×：１６以上（柔軟性が劣る。）
＜伸び性＞
樹脂組成物を幅５．０ｍｍ、長さ４０ｍｍ、膜厚１．０ｍｍとなるように塗布する以外は、本硬化樹脂用評価用の試験片の作製方法と同様にして、試験片を得た。この試験片の長辺の両端１０ｍｍの部分それぞれにビニールテープを巻いて補強し、引張試験機を用いて引張速度１０ｍｍ／ｓで引張り試験を行い、以下の式（２）により伸び率を算出した。

伸び率（％）＝Ｌ／Ｌ₀×１００ （２）
尚、式（２）中、Ｌは破断するまでの変位長さであり、Ｌ₀は試験前のシートの長さ（Ｌ₀＝２０ｍｍ）である。
＜硬化収縮率＞
（１）活性光線硬化型樹脂組成物の比重の測定
ＪＩＳ Ｚ−８８０４に準拠し、２５ｍＬ比重瓶を用いて活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ）の活性光線硬化型樹脂組成物の比重を測定した。
（２）硬化物比重の測定
スライドガラスに代えて厚さ２５μｍのポリプロピレンフィルム［ウィンテックＷＦＸ４ＴＡ、日本ポリプロ（株）製］を使用する以外は、上述の本硬化樹脂評価用の試験片の作製方法と同様にして、硬化物比重測定用の試験片を得た。この試験片を用い、ＪＩＳ−Ｋ７１１２に準拠し水中置換法により硬化物比重を測定した。
（３）硬化収縮率の算出
硬化収縮率を以下の式（３）から算出した。

硬化収縮率（％）＝｛１−（ａ／ｂ）｝×１００ （３）
尚、式（３）中、ａは液比重であり、ｂは硬化物の比重である。
＜初期密着性＞
厚さ１ｍｍのスライドガラス上に、活性光線硬化型樹脂組成物（Ｑ）を約０．１ｍＬ滴下し、隙間ゲージを用いて、もう一枚用意したスライドガラスとの間に膜厚１５０μｍとなるように円形に成形する以外は上述の本硬化樹脂評価用の試験片の作製方法と同様にして、初期密着性評価用の試験片を得た。。この試験片を使用して、ＪＩＳ Ｋ−６８４９に準拠し、引張試験機［オートグラフＡＧ−ＩＳ、（株）嶋津製作所製、以下同様］により密着強度を測定した。
＜密着耐久性＞
（１）耐熱試験後の密着強度
耐熱試験（８５℃で１０００ｈｒ）後の初期密着性評価用の試験片を使用して、ＪＩＳ Ｋ−６８４９に準拠し、引張試験機により密着強度を測定した。
（２）耐湿試験後の密着強度
耐湿試験（６０℃、９５％ＲＨで１０００ｈｒ）後の初期密着性評価用の試験片を使用して、ＪＩＳ Ｋ−６８４９に準拠し、引張試験機により密着強度を測定した。
＜気泡の有無＞
得られた画像表示装置（Ｐ）をガラス板側から目視観察し、遮光部と樹脂層の境界部分の気泡の有無を、以下の基準で評価した。

○：気泡が確認されなかった。

×：気泡が確認された。
＜遮光部の硬化性＞
実施例で得られた画像表示装置（Ｐ）から透明板を剥がして、遮光部の本硬化樹脂層をメタノールで洗浄し、本硬化樹脂層中の未硬化の樹脂組成物を除去した。メタノール洗浄後の本硬化樹脂層を目視観察し、以下の基準で評価した。

○：未硬化の樹脂組成物が除去された形跡がない。（硬化）
△：硬化物が残存しているが、一部未硬化の樹脂組成物が除去された形跡がある。（半硬化）
×：硬化物が全く残存していない。（未硬化）
実施例１〜１０及び比較例１〜４について、貯蔵弾性率、ｔａｎδ、柔軟性、伸び性、硬化収縮率、初期密着性、密着耐久性、生産性（気泡の有無）及び遮光部の硬化性を評価した結果を表２に示す。

尚、比較例２の伸び率は、樹脂強度が弱く引張試験機にセットする際に試験片が破損し、測定できなかった。

本発明の画像表示装置の製造方法においては、生産性が良好で、柔軟性や伸び性に優れ、また遮光部の硬化性が高く、初期密着性及び密着耐久性の優れた画像表示装置を得ることができる。したがって、本発明の製造方法は、タッチパネルを備えたタブレット端末やスマートフォン等の画像表示装置の工業的製造にきわめて有用である。

Claims (10)

1. 貼り合わせる少なくとも一つの光学基材が遮光部を有し、以下の工程（１）〜（４）を有する、少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置の製造方法。
   工程（１）：少なくとも一つの光学基材に、重合性物質（Ａ）、ラジカル開始剤（Ｂ）並びに酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｄ）を含有する活性光線硬化型樹脂組成物を塗布する工程、
   工程（２）：前記塗布された活性光線硬化型樹脂組成物に対して、活性光線を照射して仮硬化させることにより仮硬化樹脂層を得る工程、
   工程（３）：前記仮硬化樹脂層に対して他の光学基材を貼り合わせ、少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた、仮硬化樹脂を有する光学部材を得る工程、
   工程（４）：前記貼り合わされた一対の光学部材に対して、活性光線を照射して基材間に挟まれた仮硬化樹脂層を本硬化させることにより、本硬化樹脂層を介して少なくとも二つの光学基材が貼り合わされた光学部材を有する画像表示装置を得る工程。
2. 前記ラジカル開始剤（Ｂ）、酸発生剤（Ｃ）及び塩基発生剤（Ｄ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、前記活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ｂ）、酸発生剤（Ｃ）又は塩基発生剤（Ｄ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して前記新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ａ）の重合反応が進行し、前記活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基である請求項１に記載の製造方法。
3. 前記工程（２）で得られる仮硬化樹脂層を形成する仮硬化樹脂の２５℃での貯蔵弾性率が１．０×１０²〜１．０×１０⁶Ｐａであり、２５℃での損失正接が０．３〜１．０である請求項１又は２に記載の製造方法。
4. 前記工程（４）で得られる本硬化樹脂層を形成する本硬化樹脂の２５℃での貯蔵弾性率が１．０×１０³〜１．０×１０⁷Ｐａであり、２５℃での損失正接が、前記仮硬化樹脂層を形成する仮硬化樹脂の損失正接よりも大きい請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
5. 前記重合性物質（Ａ）が、単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１１）を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
6. 前記単官能（メタ）アクリレート（Ａ１１１）の含有量が、前記重合性物質（Ａ）の重量に基づいて５０〜９９．９重量％である請求項５に記載の製造方法。
7. 前記活性光線硬化型樹脂組成物が、更に非重合性ポリマー（Ｆ）を含有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
8. 前記酸発生剤（Ｃ）が塩であり、そのアニオン部がフッ素原子を含有するホスフェートアニオン又はボレートアニオンである請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
9. 前記光学基材が、透明基板、透明板、化粧板、タッチパネル、アイコンシート又は画像表示部材である請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法で製造された画像表示装置。