JP2017114992A - 光硬化性組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明の目的は、塗工適性及び遮蔽部の硬化性に優れ、接着性並びに高温下又は高湿下における部材の寸法変化及び反り等への追従性に優れる硬化物を与える接着用光硬化性組成物を提供することである。【解決手段】 活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)を含有するラジカル開始剤(A)、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を含有する重合性物質(D)及び蛍光物質(G)を含有する接着用光硬化性組成物であって、前記(A)の重量に対する前記(A1)の重量割合が70〜100重量%であり、前記(D1)が、所定の方法で計算される38℃でのチクソトロピーインデックスが1.0〜1.4であり、平均官能基数が1以上2未満である(メタ)アクリレートである接着用光硬化性組成物。【選択図】なし
Description
本発明は、光硬化組成物に関する。詳しくは表示パネルを構成する光学部材の貼り合わせに用いられる接着力に優れた光硬化組成物に関する。
従来、表示パネルにおいて、化粧板とタッチパネルとの貼り合わせや、アイコンシートとタッチパネルとの貼り合わせや、静電容量式タッチパネルにおける透明電極を形成した透明基板と透明板との貼り合わせを、シート状の両面粘着シートを用いて行うか、被着体の片面に粘着加工して行っていた。このような粘着材を使用する技術では、接着が不十分であったり、貼り合わせ面に気泡が混入するという問題があった。特に、貼り合わせ面に印刷加工がしてあると、印刷のあるところとないところの段差部分に気泡が残りやすいという問題があった。
また、近年液晶ディスプレイ(LCD)等の表示パネルのガラスが薄くなってきている。ガラスが薄くなると外部応力でLCDが変形しやすくなる。この薄いガラスのLCD等の表示パネルと、アクリル板やポリカーボネート板等の光学部材とを貼り合わせる場合、貼り合わせ後の表示パネルを高温環境下又は高湿環境下にさらすと、ガラスとアクリル等の線膨張係数の違いによる応力発生、アクリル板及びカーボネート版等のプラスチック成形材の成形時に生じた歪みの緩和、吸湿並びに乾燥等に起因する寸法変化及び反り等の面精度変化がおきる。
従来の接着剤(例えば、特許文献1及び特許文献2)でこの変形を抑えようとした場合は、接着面が剥がれたり、LCDが割れたり、それに起因するLCDの表示ムラが生じるという問題があった。
従来の接着剤(例えば、特許文献1及び特許文献2)でこの変形を抑えようとした場合は、接着面が剥がれたり、LCDが割れたり、それに起因するLCDの表示ムラが生じるという問題があった。
また、光硬化性の接着剤は、貼り合わせ時に所定の膜厚を得るために、流れ出し等が起こらないように粘度の高い組成にする必要があるが、反応性オリゴマーのような高分子量成分を添加した場合、分子鎖の絡み合いや、極性基同士の相互作用によって擬塑性が生じ、シアのかかり方によって粘度が異なってくる。つまり、塗工中期は一定のシアがかかっているため粘度一定となるが、塗工初期及び終期ではかかっているシアが小さくなるため粘度が高くなり、塗工適性が悪化する問題があった(特許文献3)。
また、LCD等における光透過性カバー基材の周縁部には、表示画像の輝度やコントラスト向上のために遮光部が形成されている。このため、特許文献1及び特許文献2の記載の接着剤では、活性光線硬化型樹脂組成物のうち遮光部の影になる部分には充分な活性光線が到達せず、硬化不良になる。このように遮蔽部の硬化性が不十分であるため、十分な接着強度が得られず、基材どうしの剥離や、基材間への水分の侵入による画像品質の低下等の問題があった。
本発明の目的は、塗工適性及び遮蔽部の硬化性に優れ、接着性並びに高温下又は高湿下における部材の寸法変化及び反り等への追従性に優れる硬化物を与える接着用光硬化性組成物を提供することである。
本発明者は、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、本発明に到達した。
即ち本発明は、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)を含有するラジカル開始剤(A)、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を含有する重合性物質(D)及び蛍光物質(G)を含有する接着用光硬化性組成物であって、前記ラジカル開始剤(A)の重量に対する前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)の重量割合が70〜100重量%であり、前記ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)が、下記計算式(1)で規定される38℃でのチクソトロピーインデックスが1.0〜1.4であり、平均官能基数が1以上2未満である(メタ)アクリレートである接着用光硬化性組成物;前記接着用光硬化性組成物を用いて貼り合わされている光学部材を有する表示パネルである。
チクソトロピーインデックス=(せん断速度0.01/sにおける38℃での粘度)/(せん断速度10/sにおける38℃での粘度) (1)
即ち本発明は、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)を含有するラジカル開始剤(A)、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を含有する重合性物質(D)及び蛍光物質(G)を含有する接着用光硬化性組成物であって、前記ラジカル開始剤(A)の重量に対する前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)の重量割合が70〜100重量%であり、前記ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)が、下記計算式(1)で規定される38℃でのチクソトロピーインデックスが1.0〜1.4であり、平均官能基数が1以上2未満である(メタ)アクリレートである接着用光硬化性組成物;前記接着用光硬化性組成物を用いて貼り合わされている光学部材を有する表示パネルである。
チクソトロピーインデックス=(せん断速度0.01/sにおける38℃での粘度)/(せん断速度10/sにおける38℃での粘度) (1)
本発明の光硬化性組成物は塗工適性及び遮蔽部の硬化性に優れ、この光硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物は、接着性並びに高温下又は高湿下における部材の寸法変化及び反り等への追従性に優れる。
本発明の光硬化性組成物は塗工適性に優れるため気泡の発生が抑制でき、また遮蔽部の硬化性に優れるため、遮蔽部を有する部位においても十分に硬化できる。更にその硬化物は高温下又は高湿下における部材の寸法変化及び反り等への追従性に優れるため、接着剤として使用した場合に接着面が剥がれることによる表示パネルの表示ムラが生じない。
本発明の光硬化性組成物は塗工適性に優れるため気泡の発生が抑制でき、また遮蔽部の硬化性に優れるため、遮蔽部を有する部位においても十分に硬化できる。更にその硬化物は高温下又は高湿下における部材の寸法変化及び反り等への追従性に優れるため、接着剤として使用した場合に接着面が剥がれることによる表示パネルの表示ムラが生じない。
本発明の光硬化性組成物は、ラジカル開始剤(A)、重合性物質(D)及び蛍光物質(G)を必須成分として含有する。
本発明におけるラジカル開始剤(A)とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも1種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、並びに酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)等の公知の化合物を用いることができる。
但し、組成物の硬化性の観点から、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)をラジカル開始剤(A)の全重量に基づいて少なくとも70重量%以上含むことが必須である。
但し、組成物の硬化性の観点から、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)をラジカル開始剤(A)の全重量に基づいて少なくとも70重量%以上含むことが必須である。
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)としては、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A121)、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A122)、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A123)、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A124)、ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A125)、オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A126)及びチタノセン誘導体系重合開始剤(A127)等は活性光線、酸又は塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で(A1)又は(A2)のいずれとしても好ましく用いることができる。
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)としては、光硬化性の観点から、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A121)及びα−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A124)であることが好ましい。
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)と併用できるラジカル開始剤(A)としては、酸及び/又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)が挙げられ、有機過酸化物系重合開始剤(A21)、アゾ化合物系重合開始剤(A22)及びその他のラジカル開始剤(A23)等は、酸及び/又は塩基によってラジカルを発生させることが可能である。
なお、(A121)は、(A1)及び(A2)のいずれとしても適用できる化合物(A12)の1番目の例であることを示す。
なお、(A121)は、(A1)及び(A2)のいずれとしても適用できる化合物(A12)の1番目の例であることを示す。
アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(A121)としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド[BASFジャパン(株)製(LUCIRINTPO)]及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド[BASFジャパン(株)製(IRGACURE819)]等が挙げられる。
α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A122)としては、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 907)]、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 369)]及び1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 379)]等が挙げられる。
ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(A123)としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 651)]等が挙げられる。
α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(A124)としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 184)]、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン[BASFジャパン(株)製(DAROCUR(登録商標) 1173)]、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 2959)]及び2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 127)]等が挙げられる。
ベンゾイン誘導体系重合開始剤(A125)としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
オキシムエステル誘導体系重合開始剤(A126)としては、1,2−オクタンジオン−1−(4−[フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)][BASFジャパン(株)製(IRGACURE OXE 01)]及びエタノン−1−(9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)[BASFジャパン(株)製(IRGACURE OXE 02)]等が挙げられる。
チタノセン誘導体系重合開始剤(A127)としては、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム[BASFジャパン(株)製(IRGACURE 784)]等が挙げられる。
有機過酸化物系重合開始剤(A21)としては、ベンゾイルパーオキサイド(BPO)、tert−ブチルパーオキシアセテート、2,2−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル4,4−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ−(2−tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−tert−ヘキシルパーオキサイド、2,5,−ジメチル−2,5,−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3,−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、tert−ブチルハイドロパーオキサイド及びtert−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。
アゾ化合物系重合開始剤(A22)としては、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)及び2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等が挙げられる。
その他の重合開始剤(A23)としては、2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン等が挙げられる。
これらのラジカル開始剤(A)の内、光硬化性組成物の貯蔵安定性の観点から、熱によってもラジカルが発生する有機過酸化物系重合開始剤(A21)やアゾ化合物系重合開始剤(A22)以外のもの、即ち活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)が好ましい。
(A)は1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(A)は1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
本発明における活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)の重量割合は、ラジカル開始剤(A)に対して、通常70〜100重量%であり、好ましくは80〜100重量%である。
(A1)の重量割合がこの範囲であれば、接着性に優れ、接着面が剥がれにくくなる。
(A1)の重量割合がこの範囲であれば、接着性に優れ、接着面が剥がれにくくなる。
本発明の接着用光硬化性組成物中のラジカル開始剤(A)の重量割合は、重合性物質(D)に対して、光硬化性の観点から、好ましくは0.1〜30重量%、更に好ましくは1〜20重量%である。
本発明における重合性物質(D)は、38℃でのチクソトロピーインデックスが1.0〜1.4かつ平均官能基数1以上2未満であるポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を必須成分として含有する。
尚、上記及び下記において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリル」と、それぞれ記載することがある。
ここで、本発明における38℃でのチクソトロピーインデックスは下記計算式(1)で規定されるものである。
チクソトロピーインデックス=(せん断速度0.01/sにおける38℃での粘度)/(せん断速度10/sにおける38℃での粘度) (1)
本発明において、上記のチクソトロピーインデックスは、以下の測定条件で、粘度を測定し、チクソトロピーインデックスを算出する。
(1)(メタ)アクリレート(D1)を38℃に温調する。
(2)レオメーター(例えばTA Instruments製「AR−2000」)とコーンローター(例えば「コーン角度2°×コーン半径R60mm」等)を用いて、まずせん断速度:0.01/sでの粘度を測定する。
(3)5分間かけて等速でせん断速度を10/sまで上昇させ、粘度を測定する。
(4)上記計算式(1)でチクソトロピーインデックスを算出する。
(1)(メタ)アクリレート(D1)を38℃に温調する。
(2)レオメーター(例えばTA Instruments製「AR−2000」)とコーンローター(例えば「コーン角度2°×コーン半径R60mm」等)を用いて、まずせん断速度:0.01/sでの粘度を測定する。
(3)5分間かけて等速でせん断速度を10/sまで上昇させ、粘度を測定する。
(4)上記計算式(1)でチクソトロピーインデックスを算出する。
(メタ)アクリレート(D1)のチクソトロピーインデックスは1.0〜1.4であり、好ましくは1.0〜1.2、更に好ましくは1.0〜1.05である。
塗工の中期は一定のシアがかかっているため粘度一定となるが、チクソトロピーインデックスが1.0未満又は1.4より大きい場合は、塗工の初期及び終期ではかかっているシアが小さくなるため、粘度が大きく低下するか、又は上昇して、塗工適性が悪化する。
塗工の中期は一定のシアがかかっているため粘度一定となるが、チクソトロピーインデックスが1.0未満又は1.4より大きい場合は、塗工の初期及び終期ではかかっているシアが小さくなるため、粘度が大きく低下するか、又は上昇して、塗工適性が悪化する。
(D1)のチクソトロピーインデックスは、重合性物質(D1)の数平均分子量(以下、Mnと略記することがある。)や、(D)が後述の(D13)を含有する場合はそのウレタン基濃度を適正な範囲にすることにより、上記範囲に調整することができる。
尚、本発明におけるMnは、例えばゲルパーミエイションクロマトグラフィー(以下、GPCと略記することがある。)を用いて以下の条件で測定することができる。
<GPC測定条件>
[1]装置 :GPC
型式「HLC−8120GPC」、東ソー(株)製
[2]カラム :「TSKgel GMHXL」2本+「TSKgel
Multipore HXL−M 」(いずれも製品名)、東ソー(株)製
[3]溶離液 :テトラヒドロフラン
[4]基準物質:標準ポリスチレン
(TSKstandard POLYSTYRENE)、
東ソー(株)製
[5]注入条件:サンプル濃度0.25重量%、カラム温度40℃
<GPC測定条件>
[1]装置 :GPC
型式「HLC−8120GPC」、東ソー(株)製
[2]カラム :「TSKgel GMHXL」2本+「TSKgel
Multipore HXL−M 」(いずれも製品名)、東ソー(株)製
[3]溶離液 :テトラヒドロフラン
[4]基準物質:標準ポリスチレン
(TSKstandard POLYSTYRENE)、
東ソー(株)製
[5]注入条件:サンプル濃度0.25重量%、カラム温度40℃
ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)は、高温下又は高湿下における部材への追従性の観点から、ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11)、ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12)及びポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)からなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレートであることが好ましく、ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)を含有することが更に好ましい。
ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11)は、(メタ)アクリル変性ポリイソプレンとも呼ばれ、(D11)のMnは、塗工適性の観点から、好ましくは2,000〜100,000であり、更に好ましくは10,000〜50,000である。ポリイソプレンは、1,2付加物であっても1,4付加物であっても特に区別なく使用できる。
(D11)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(D11)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11)は、例えばポリイソプレンに無水マレイン酸を付加させ、更に後述の活性水素基を有する(メタ)アクリレート(Q)を第3級アミン類等の触媒存在下で反応させることによって得ることができる。
ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12)は、(メタ)アクリル変性ポリブタジエンとも呼ばれ、(D12)のMnは、塗工適性の観点から、好ましくは2,000〜100,000であり、更に好ましくは10,000〜50,000である。ポリブタジエンは、1,2付加物であっても1,4付加物であっても特に区別なく使用できる。
(D12)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(D12)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)は、例えばポリブタジエンと無水マレイン酸をアゾ系触媒存在下で反応させ、更に後述の活性水素基を有する(メタ)アクリレート(Q)を第3級アミン類などの触媒存在下で反応させることによって得ることができる。
ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)は、(メタ)アクリル変性ポリウレタンとも呼ばれ、(D13)のMnは、塗工適性の観点から、好ましくは2,000〜100,000であり、更に好ましくは10,000〜50,000である。
ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)としては、数平均分子量が200〜10,000であるポリエーテルエステルジオール(S)と、炭素数6〜15の有機ジイソシアネート(P)と、炭素数が4〜100である活性水素を含む基を有する(メタ)アクリレート(Q)を用いて反応されてなる化合物等が挙げられる。
(S)、(P)、(Q)以外に更に炭素数1〜18の1価のアルコール(R)を用いて反応されて得られるポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレートが好ましい。
(D13)のうち、塗工適性の観点から、Mnが1,000〜100,000であるポリエーテルエステルジオール(S)、炭素数6〜15の有機ジイソシアネート(P)及び炭素数が4〜100である活性水素を含む基を有する(メタ)アクリレート(Q)を必須構成成分とする重合物が好ましく、更に好ましくは(S)、(P)、(Q)及び炭素数1〜18の1価のアルコール(R)を必須構成成分とする重合物が好ましい。
炭素数6〜15の有機ジイソシアネート(P)としては、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(以下、MDIと略記)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(以下、XDIと略記)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート及び1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
(P)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(P)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
炭素数が4〜100である活性水素を含む基を有する(メタ)アクリレート(Q)としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートや二価のアルコール(エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール及びポリエチレングリコール等)のモノ(メタ)アクリレート、三価のアルコール(トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン及びグリセリン等)のモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA変性エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(Q)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(Q)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
炭素数が1〜18である1価のアルコール(R)としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノール、イソペンタノール、tert−ペンタノール、n−ヘキサノール、tert−ヘキサノール、n−ヘプタノール、イソヘプタノール、tert−ヘプタノール、n−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、tert−オクタノール、n−ノニルアルコール、イソノニルアルコール、tert−ノニルアルコール、n−デカノール、イソデカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル及びジプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
(R)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(R)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Mnが1,000〜100,000であるポリエーテルエステルジオール(S)としては、Mnが200〜10,000であるポリエーテルジオール(S1)と炭素数が2〜20であるジカルボン酸(S2)とを必須構成成分とする重縮合物が好ましい。
(S)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(S)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Mnが200〜10,000であるポリエーテルジオール(S1)のうち、塗工適性の観点から好ましいのは、炭素数2〜10のアルキレングリコール(エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール及びネオペンチルグリコール等)から選ばれる少なくとも1種と炭素数2〜12の環状エーテル(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン及び2,2−ジメチルオキセタン等)から選ばれる少なくとも1種との(共)重合体であり、更に好ましいのは、ネオペンチルグリコール、3−メチルテトラヒドロフラン及び2,2−ジメチルオキセタンから選ばれる少なくとも1種とテトラヒドロフランとの共重合体であり、特に好ましいのはネオペンチルグリコールとテトラヒドロフランとの共重合体である。
(S1)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(S1)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
炭素数が2〜20であるジカルボン酸(S2)としては、脂肪族ジカルボン酸(シュウ酸、マロン酸、ジプロピルマロン酸、コハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、アジピン酸、3−メチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2,6,6−テトラメチルピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ペンタデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等)及び芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸、2−メチルテレフタル酸、4,4−スチルベンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、4,4−ビフェニルジカルボン酸、オルトフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸及びジフェニルスルホンジカルボン酸等)等が挙げられる。
(S2)のうち、塗工適性の観点から好ましいものは、脂肪族ジカルボン酸であり、更に好ましくはジプロピルマロン酸、2,2−ジメチルコハク酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、3−メチルアジピン酸、ピメリン酸及び2,2,6,6−テトラメチルピメリン酸である。
(S2)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(S2)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
ポリエーテルエステルジオール(S)は、例えばポリエーテルジオール(S1)とジカルボン酸(S2)を、触媒(スズ系化合物等)存在下でエステル化することで得ることができる。
ポリウレタンを骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)のウレタン基濃度は、塗工適性の観点から、0.01〜0.2mmol/gが好ましく、更に好ましくは0.02〜0.18mmol/gであり、特に好ましくは0.04〜0.15mmol/gである。
(メタ)アクリレート(D1)の平均官能基数は、1以上2未満であり、好ましくは1.05〜1.8であり、更に好ましくは1.1〜1.6である。平均官能基数が1未満の場合、硬化樹脂の耐熱性が低くなるため耐熱試験において剥がれが生じ、平均官能基数が2以上の場合は、硬化樹脂の貯蔵弾性率が大きくなり、硬化時に発生する応力を緩和できず、耐熱試験において剥がれが発生する。
本発明におけるポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)の平均官能基数は、例えば実施例に記載の方法で算出される。
本発明の接着用光硬化性組成物は、接着性の点から、重合性物質(D)として、更に、(D1)以外の環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)を含有することが好ましい。
環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)としては、フェノールエチレンオキサイド1〜10モル付加物(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド1〜10モル付加物(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート及びノルボネン(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(D2)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(D2)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(D2)としては、接着性の観点からフェノールエチレンオキサイド1〜10モル付加物(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド1〜10モル付加物(メタ)アクリレート及びテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレートであることが好ましい。
本発明の接着用光硬化性組成物は、重合性物質(D)の相溶性が悪い場合あるいは粘度が高く作業性が悪い場合には、反応希釈剤として、環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)以外の一般的な(メタ)アクリレートモノマー(D3)を含有することができる。
一般的な(メタ)アクリレートモノマー(D3)としては、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、iso−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及び1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(D3)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
一般的な(メタ)アクリレートモノマー(D3)としては、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、iso−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及び1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(D3)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
重合性物質(D)の重量に対するポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)の重量割合は、好ましくは20〜100重量%であり、更に好ましくは20〜99重量%であり、特に好ましくは30〜90重量%であり、最も好ましくは40〜70重量%である。
また、重合性物質(D)の重量に対する環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)の重量割合は、好ましくは0〜70重量%であり、更に好ましくは0.1〜70重量%であり、特に好ましくは5〜60重量%であり、最も好ましくは10〜55重量%である。
(D1)及び(D2)の重量割合がこの範囲であれば、接着性に優れ、接着面が剥がれにくくなる。
また、重合性物質(D)の重量に対する環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)の重量割合は、好ましくは0〜70重量%であり、更に好ましくは0.1〜70重量%であり、特に好ましくは5〜60重量%であり、最も好ましくは10〜55重量%である。
(D1)及び(D2)の重量割合がこの範囲であれば、接着性に優れ、接着面が剥がれにくくなる。
本発明における蛍光物質(G)とは、アセトニトリル中での蛍光波長が350〜450nmである化合物を意味する。
本発明における蛍光物質(G)としては、ナフタレン、クマリン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ベンゾピレン、ペリレン及びこれらの化合物の芳香環に結合する水素原子を電子供与性基で置換した化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の蛍光物質等が挙げられる。
前記電子供与性基としては、ヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基及等)、アミノ基、炭素数1〜4のアルキルアミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等)及び炭素数1〜4のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)等が挙げられる。
前記電子供与性基としては、ヒドロキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基及等)、アミノ基、炭素数1〜4のアルキルアミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等)及び炭素数1〜4のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)等が挙げられる。
(G1)の内、遮蔽部硬化性の観点から好ましいのはクマリン、アントラセン、ピレン及びこれらの化合物の芳香環に結合する水素原子を電子供与性基で置換した化合物であり、更に好ましいのは、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン及び9,10−ジブトキシアントラセンである。
(G)は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(G)は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
本発明の接着用光硬化性組成物中の蛍光物質(G)の重量割合は、重合性物質(D)に対して、遮蔽部の硬化性の観点から、好ましくは0.001〜3重量%、更に好ましくは0.005〜1重量%である。
本発明の接着用光硬化性組成物は、硬化性の観点から、更に酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)を含有することが好ましい。
本発明において酸発生剤(B)とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも1種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)等の公知の化合物が挙げられる。
例えば、スルホニウム塩誘導体及びヨードニウム塩誘導体等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、(B1)又は(B2)として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体、酢酸エステル誘導体及びホスホン酸エステル等は酸及び/又は塩基によって酸を発生させることが可能で、(B2)として適用できる。
(B)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
例えば、スルホニウム塩誘導体及びヨードニウム塩誘導体等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、(B1)又は(B2)として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体、酢酸エステル誘導体及びホスホン酸エステル等は酸及び/又は塩基によって酸を発生させることが可能で、(B2)として適用できる。
(B)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
本発明におけるスルホニウム塩誘導体としては、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で示される化合物等が挙げられる。
一般式(1)又は(2)において、A1は化学式(3)、化学式(4)、一般式(5)〜(8)、化学式(9)又は化学式(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり、Ar1〜Ar7はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってAr1〜Ar4、Ar6及びAr7は1価の基、Ar5は2価の基であり、(X1)−及び(X2)−は陰イオンを表し、aは0〜2の整数、bは1〜3の整数で、かつa+bは2又は3でA1の価数と同じ整数である。
一般式(5)〜(8)におけるR1〜R7は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、R1とR2、R4とR5、及びR6とR7は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
一般式(2)におけるA1として、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式(5)、一般式(7)、一般式(8)、化学式(9)及び化学式(10)で表される基であり、一般式(5)、一般式(8)、化学式(9)及び化学式(10)で表される基が更に好ましい。
一般式(1)及び一般式(2)におけるAr1〜Ar7は、一般式(1)又は一般式(2)で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ar1〜Ar7におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4である。
ベンゼン環骨格を1個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を2個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を3個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、p−(チオキサンチルメルカプト)ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を4個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
Ar1〜Ar7におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4である。
ベンゼン環骨格を1個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を2個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を3個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、p−(チオキサンチルメルカプト)ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を4個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を1個又は2個除いた残基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。
炭素数1〜20のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−又はiso−プロピル基、n−、sec−又はtert−ブチル基、n−、iso−又はneo−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。
炭素数1〜20のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−又はiso−
プロポキシ基、n−、sec−又はtert−ブトキシ基、n−、iso−、又はneo−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。
プロポキシ基、n−、sec−又はtert−ブトキシ基、n−、iso−、又はneo−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。
炭素数1〜20のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n−又はiso−プロピルチオ基、n−、sec−又はtert−ブチルチオ基、n−、iso−又はneo−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。
炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でもよい。
Ar1〜Ar7の置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基、炭素数1〜15のアルキルチオ基及び炭素数1〜15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数1〜10のアルキルチオ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
Ar1〜Ar4、Ar6及びAr7として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、p−メチルフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−tert−ブチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、p−(チオキサンチルメルカプト)フェニル基及びm−クロロフェニル基である。
Ar5として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、2−又は3−メチルフェニレン基、2−又は3−メトキシフェニレン基、2−又は3−ブチルフェニレン基及び2−又は3−クロロフェニレン基である。
一般式(1)又は(2)において(X1)−又は(X2)−で表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数1〜4のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン(安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン、及びフェニルグリオキシル酸アニオン等)、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等)、ヘキサフルオロアンチモネートアニオン(SbF6 −)、リンアニオン[ヘキサフルオロホスフェートアニオン(PF6 −)及びトリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェートアニオン(PF3(C2F5)3 −)等]及びボレートアニオン(テトラフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン、テトラキス(パーフルオロフェニル)ボレートアニオン等)等が挙げられ、酸発生効率の観点から、リンアニオン、ハロゲンで置換された脂肪族スルホキシアニオン及びボレートアニオンが好ましく、更にヘキサフルオロホスフェートアニオン(PF6 −)、トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェートアニオン(PF3(C2F5)3 −)、テトラキス(パーフルオロフェニル)ボレートアニオン)が特に好ましい。
本発明におけるヨードニウム塩誘導体としては、下記一般式(11)又は下記一般式(12)で示される化合物等が挙げられる。
式中、A2は前記化学式(3)、化学式(4)、一般式(5)〜(8)、化学式(9)又は化学式(10)のいずれかで表される2価又は3価の基であり、Ar8〜Ar12はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも1個有し、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ar8〜Ar10及びAr12は1価の基、Ar11は2価の基であり、(X3)−及び(X4)−は陰イオンを表し、cは0〜2の整数、dは1〜3の整数で、かつc+dは2又は3でA2の価数と同じ整数である。
ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
一般式(12)におけるA2として、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、前記一般式(5)、一般式(7)、一般式(8)、化学式(9)及び化学式(10)で表される基であり、一般式(5)、一般式(8)、化学式(9)及び化学式(10)で表される基が更に好ましい。
一般式(11)又は一般式(12)におけるAr8〜Ar12は、一般式(11)又は一般式(12)で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ar8〜Ar12におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4であり、Ar8〜Ar12の具体例としては、一般式(1)又は一般式(2)のAr1〜Ar7として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
Ar8〜Ar12におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4であり、Ar8〜Ar12の具体例としては、一般式(1)又は一般式(2)のAr1〜Ar7として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
(X3)−及び(X4)−としては、一般式(1)又は(2)における(X1)−又は(X2)−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
ヨードニウム塩誘導体として、酸発生効率の観点から好ましいのは、(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}ヨードニウムカチオン、[ビス(4−tert−ブチルフェニル)]ヨードニウムカチオン、[ビス(4−tert−ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ヨードニウムカチオン及び[ビス(4−メトキシフェニル)]ヨードニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物、並びにこれら以外の下記一般式(13)〜(16)で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式(13)〜(16)で示される化合物(例示した化合物を含む)である。
一般式(13)〜(16)において、R8〜R13は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、(X5)−〜(X8)−は陰イオンを表す。
ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
R8〜R13として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアシル基及び炭素数1〜20のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基及び炭素数1〜15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
一般式(13)〜(16)における(X5)−〜(X8)−としては一般式(1)又は(2)における(X1)−又は(X2)−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
スルホン酸エステル誘導体としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸−tert−ブチルエステル、p−トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
酢酸エステル誘導体としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。
ホスホン酸エステルとしては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
本発明において塩基発生剤(C)とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも1種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、オキシム誘導体、4級アンモニウム塩誘導体及び4級アミジン塩誘導体等は活
性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、(C1)又は(C2)として適用できる。
また、カルバメート誘導体は塩基によって塩基を発生させることが可能で、(C2)として適用できる。
(C)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
例えば、オキシム誘導体、4級アンモニウム塩誘導体及び4級アミジン塩誘導体等は活
性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、(C1)又は(C2)として適用できる。
また、カルバメート誘導体は塩基によって塩基を発生させることが可能で、(C2)として適用できる。
(C)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
オキシム誘導体としては、例えばO−アシロキシム等が挙げられる。
カルバメート誘導体としては、1−Z−4−ピペリドン、1−Fmoc−4−ピペリドン及びo−ニトロベンゾイルカルバメート等が挙げられる。
4級アンモニウム塩誘導体及び4級アミジン塩誘導体としては、例えば下記一般式(17)〜(19)のいずれかで示される化合物が挙げられる。
一般式(17)〜(19)におけるR14〜R41は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式(20)で表される置換基及び一般式(21)で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、R14〜R23のいずれか1つは一般式(20)又は一般式(21)で表される置換基であり、R24〜R31のいずれか1つは一般式(20)又は一般式(21)で表される置換基であり、R32〜R41のいずれか1つは一般式(20)又は一般式(21)で表される置換基である。
一般式(20)及び(21)におけるR42〜R45は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基であり、R46〜R48は水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基であり、(X9)−及び(X10)−は、陰イオンを表し、eは2〜4の整数である。
一般式(17)〜(19)におけるハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
一般式(17)〜(19)におけるハロゲン原子、炭素数1〜20のアシル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルチオ基及び炭素数1〜20のアルキルシリル基としては、一般式(1)及び一般式(2)の説明で記載したものと同様のものが例示される。
一般式(17)で示される化合物はアントラセン骨格、一般式(18)で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式(19)で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物である。R14〜R23は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性、分解性等を考慮して変性させるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数1〜20のアルキルシリル基、炭素数1〜20のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基で目的に応じて変性される。但し、R14〜R23のいずれか1つは一般式(20)又は一般式(21)で表される置換基である。
R14〜R23として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアシル基及び炭素数1〜20のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアルコキシ基及び炭素数1〜15のアシル基、特に好ましいのは、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基及び炭素数1〜10のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
上記のR14〜R23の具体例としては、一般式(13)〜(15)のR8〜R13の説明で記載した化合物が例示される。
一般式(20)で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、eは2〜4の整数である。この置換基としては、eが4である1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びeが2である1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。R42とR43は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数1〜10のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数1〜5のアルキル基である。
一般式(21)は4級アンモニウム構造を有しており、R44とR45は水素原子又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基である。また、R46〜R48は水酸基で置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でもよい。R46〜R48は好ましくは炭素数1〜10のアルキル基、特に好ましくは炭素数1〜5のアルキル基である。
一般式(20)及び(21)における(X9)−及び(X10)−は陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X1)−又は(X2)−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
一般式(20)で示される化合物は活性光線の照射により、R42とR43が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式(21)で示される化合物は活性光線の照射により、R44とR45が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂して3級アミンが生成する。
これらの塩基発生剤(C)の内、光分解性の観点から、下記一般式(22)で示される化合物が好ましい。
一般式(22)における(X11)−は、陰イオンを表し、具体的には一般式(1)又は(2)における(X1)−又は(X2)−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
本発明の接着用光硬化性組成物中に、酸発生剤(B)と塩基発生剤(C)のいずれを用いても、接着性に優れた硬化物が得られるが、硬化物の耐黄変性の観点からは、酸発生剤(B)を用いるのが好ましい。
本発明の接着用光硬化性組成物中の酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)の重量割合〔(B)と(C)の合計〕は、光硬化性の観点から、重合性物質(D)の重量に対して、好ましくは0〜30重量%、更に好ましくは0.05〜30重量%、特に好ましくは0.5〜10重量%である。
本発明の接着用光硬化性組成物においては、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、活性種(H)がラジカル開始剤(B)、酸発生剤(C)及び/又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して、新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行するのが好ましい。ここで、活性種(H)及び(I)としては、ラジカル、酸及び塩基等が挙げられるが、上記反応において、活性種(H)又は(I)は酸又は塩基であることが好ましい。活性種(H)が拡散することにより硬化がより促進され、硬化性が向上する。また、得られる硬化物の接着性が向上する。活性種(H)が容易に拡散するためには、重合性物質(D)として、活性種(H)と反応しないものを使用することが好ましい。
本発明においては、(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、又は(C2)を、以下の(1)〜(4)のいずれかの組合せで含有することが好ましい。
(1)(A1)、並びに(B2)及び/又は(C2)を含有する。
(2)(B1)、(A2)、及び必要により(C2)を含有する。
(3)(C1)、(A2)、及び必要により(B2)を含有する。
(4)上記(1)〜(3)の2種類以上の組合せ。
(1)(A1)、並びに(B2)及び/又は(C2)を含有する。
(2)(B1)、(A2)、及び必要により(C2)を含有する。
(3)(C1)、(A2)、及び必要により(B2)を含有する。
(4)上記(1)〜(3)の2種類以上の組合せ。
上記(1)においては、活性光線の照射により活性種(H)としてラジカルが発生し、活性種(I)として酸及び/又は塩基が発生する。
上記(2)においては、活性光線の照射により活性種(H)として酸が発生し、活性種(I)としてラジカル及び必要により塩基が発生する。
上記(3)においては、活性光線の照射により活性種(H)として塩基が発生し、活性種(I)としてラジカル及び必要により酸が発生する。
上記(2)においては、活性光線の照射により活性種(H)として酸が発生し、活性種(I)としてラジカル及び必要により塩基が発生する。
上記(3)においては、活性光線の照射により活性種(H)として塩基が発生し、活性種(I)としてラジカル及び必要により酸が発生する。
本発明の接着用光硬化性組成物は、接着性の観点から非重合性ポリマー(E)を含有することが好ましい。非重合性ポリマー(E)は、光硬化性のような反応性のポリマーではなく、デッドポリマーである。
(E)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
(E)は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
非重合性ポリマー(E)としては、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)と相溶するポリマー及びオリゴマー等が挙げられ、ポリイソプレン系又はポリブタジエン系のオリゴマー又はポリマー及びポリエーテル等が挙げられる。
ポリイソプレン系又はポリブタジエン系のオリゴマー又はポリマーは、(株)クラレからLIRシリーズ、デグッサ社からポリオイルシリーズとして市販されている。
ポリエーテルとしては、テトラヒドロフランとネオペンチルグリコールとの共重合体、テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランとの共重合体、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
非重合性ポリマー(E)の内、組成物の硬化性の観点から好ましいのはポリエーテルである。
非重合性ポリマー(E)のMnは、塗工適性の観点から1,000〜100,000が好ましい。
本発明の接着用光硬化性組成物中の非重合性ポリマー(E)の重量割合は、重合性物質(D)に対して0〜500重量%であることが好ましく、更に好ましくは30〜400重量%、特に好ましくは50〜300重量%である。
本発明の接着用光硬化性組成物は、更に、酸化防止剤(F)を含有することができる。
酸化防止剤(F)としては、BHT、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、オクチル化ジフェニルアミン、2,4,−ビス[(オクチルチオ)メチル]−O−クレゾール、イソオクチル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート及びジブチルヒドロキシトルエン等が挙げられる。
これらの酸化防止剤(F)は1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
酸化防止剤(F)としては、BHT、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、オクチル化ジフェニルアミン、2,4,−ビス[(オクチルチオ)メチル]−O−クレゾール、イソオクチル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート及びジブチルヒドロキシトルエン等が挙げられる。
これらの酸化防止剤(F)は1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
酸化防止剤(F)の重量割合は、重合性物質(D)に基づいて、好ましくは0〜10重量%、更に好ましくは0.01〜8重量%、特に好ましくは0.5〜5重量%である
本発明の接着用光硬化性組成物は、必要に応じて他の添加剤(可塑剤、シランカップリング剤、接着性付与剤、粘着性付与剤、保存安定剤及び紫外線吸収剤等)を含有してもよい。
本発明の接着用光硬化性組成物は、ラジカル開始剤(A)、重合性物質(D)及び必要により使用する成分を自転公転式攪拌装置、ボールミル又は3本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は好ましくは10℃〜40℃、更に好ましくは20℃〜30℃である。
本発明の接着用光硬化性組成物を硬化するのに用いる活性光線としては、可視光線及び紫外線等が挙げられる。
本発明の接着用光硬化性組成物は、360nm〜830nmの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等「UV・EB硬化技術の最新動向」(ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)が使用できる。また、LED光源を使用した照射装置も好適に使用できる。更に、太陽光、低圧水銀灯及び半導体レーザー等も使用できる。
本発明の接着用光硬化性組成物は、360nm〜830nmの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等「UV・EB硬化技術の最新動向」(ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)が使用できる。また、LED光源を使用した照射装置も好適に使用できる。更に、太陽光、低圧水銀灯及び半導体レーザー等も使用できる。
本発明の接着用光硬化性組成物は、表示パネルを構成する光学部材の張り合わせに用いることができ、本発明の接着用光硬化性組成物を用いて製造された表示パネルは、テレビ、デジカメ、携帯電話、パソコン及びモニター等の電子機器の部材として使用することができる。
光学部材としては、板、シート、タッチパネル及び透明電極が形成してある透明基板等が挙げられる。
シートとしては、アイコンシート、保護シート及び化粧シート等が挙げられ、その材質は、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと略記)、ポリカーボネート(以下、PCと略記)、シクロオレフィンコポリマー(以下、COCと略記)及びシクロオレフィンポリマー(以下、COPと略記)等が挙げられる。
板としては、透明板、化粧板及び保護板等が挙げられ、その材質は、PET、ガラス、PC、アクリル(以下、PMMAと略記)、PCとPMMAの複合体、COC及びCOP等が挙げられる。
シートとしては、アイコンシート、保護シート及び化粧シート等が挙げられ、その材質は、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと略記)、ポリカーボネート(以下、PCと略記)、シクロオレフィンコポリマー(以下、COCと略記)及びシクロオレフィンポリマー(以下、COPと略記)等が挙げられる。
板としては、透明板、化粧板及び保護板等が挙げられ、その材質は、PET、ガラス、PC、アクリル(以下、PMMAと略記)、PCとPMMAの複合体、COC及びCOP等が挙げられる。
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、%は重量%、部は重量部を示す。
[酸発生剤(B)の製造]
製造例1
[酸発生剤(B−1){化学式(23)で表される化合物}の合成]
製造例1
[酸発生剤(B−1){化学式(23)で表される化合物}の合成]
(1)2−(フェニルチオ)チオキサントン[中間体(b−1)]の合成:
2−クロロチオキサントン11.0部、チオフェノール4.9部、水酸化カリウム2.5部及びN,N−ジメチルホルムアミド162部を均一混合し、130℃で9時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液の容量比:トルエン/ヘキサン=1/1)で精製し、中間体(b−1)(黄色固体)3.1部を得た。
2−クロロチオキサントン11.0部、チオフェノール4.9部、水酸化カリウム2.5部及びN,N−ジメチルホルムアミド162部を均一混合し、130℃で9時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液の容量比:トルエン/ヘキサン=1/1)で精製し、中間体(b−1)(黄色固体)3.1部を得た。
(2)2−[(フェニル)スルフィニル]チオキサントン[中間体(b−2)]の合成:
中間体(b−1)11.2部、アセトニトリル215部及び硫酸0.02部を40℃で撹拌しながら、これに30%過酸化水素水溶液4.0部を徐々に滴下し、40〜45℃で14時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液の容量比:酢酸エチル/トルエン=1/3)にて生成物を精製して、中間体(b−2)(黄色固体)13.2部を得た。
中間体(b−1)11.2部、アセトニトリル215部及び硫酸0.02部を40℃で撹拌しながら、これに30%過酸化水素水溶液4.0部を徐々に滴下し、40〜45℃で14時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水200部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のpHが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー(溶離液の容量比:酢酸エチル/トルエン=1/3)にて生成物を精製して、中間体(b−2)(黄色固体)13.2部を得た。
(3)酸発生剤の合成:
中間体(b−2)4.3部、無水酢酸4.1部及びアセトニトリル110部を40℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸2.4部を徐々に滴下し、40〜45℃で1時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水150部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のpHが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン50部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約15分間静置してから上澄みを除く操作を3回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン212部に溶かし、10%トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウム水溶液65部中に投入してから、室温(約25℃)で2時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で3回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、酸発生剤(B−1)(黄色固体)5.5部を得た。
中間体(b−2)4.3部、無水酢酸4.1部及びアセトニトリル110部を40℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸2.4部を徐々に滴下し、40〜45℃で1時間反応させた後、反応溶液を室温(約25℃)まで冷却し、蒸留水150部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のpHが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン50部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約15分間静置してから上澄みを除く操作を3回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン212部に溶かし、10%トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸カリウム水溶液65部中に投入してから、室温(約25℃)で2時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で3回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、酸発生剤(B−1)(黄色固体)5.5部を得た。
製造例2
[酸発生剤(B−2){化学式(24)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−2){化学式(24)で表される化合物}の合成]
反応容器にIRGACURE 819[BASFジャパン社製]4.2部、p−トリルスルホキシド[東京化成工業(株)製]2.8部、ノナフルオロ−1−ブタンスルホン酸カリウム[東京化成工業(株)製]4.1部、硫酸[和光純薬工業(株)製]1.2部及びアセトニトリル100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B−2)(黄色固体)6.7部を得た。
製造例3
[酸発生剤(B−3){化学式(25)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−3){化学式(25)で表される化合物}の合成]
反応容器にLUCIRIN TPO[BASFジャパン社製]3.5部、ジフェニルスルホキシド[東京化成工業(株)製]2.4部、ヘキサフルオロりん酸カリウム[東京化成工業(株)製]2.2部、硫酸[和光純薬工業(株)製]1.2部及びアセトニトリル100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B−3)(黄色固体)5.4部を得た。
製造例4
[酸発生剤(B−4){化学式(26)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−4){化学式(26)で表される化合物}の合成]
反応容器にIRGACURE 907[BASFジャパン社製]2.8部、ブロモベンゼン[東京化成工業(株)製]1.7部、テトラフルオロホウ酸銀[東京化成工業(株)製]2.3部及びテトラヒドロフラン100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B−4)(淡黄色固体)3.3部を得た。
製造例5
[酸発生剤(B−5){化学式(27)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−5){化学式(27)で表される化合物}の合成]
tert−ブチルベンゼン[東京化成工業(株)製]8.1部、ヨウ化カリウム[東京化成工
業(株)製]5.35部及び無水酢酸20部を酢酸70部に溶解させ、10℃まで冷却し、温度を10±2℃に保ちながら、濃硫酸12部と酢酸15部の混合溶液を1時間かけて滴下した。25℃まで昇温し、24時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル50部を加え、水で3回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部を水100部に溶解させた水溶液を加え、25℃で20時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル500部を加え、水で3回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤(B−5)(淡黄色液体)14.0部を得た。
業(株)製]5.35部及び無水酢酸20部を酢酸70部に溶解させ、10℃まで冷却し、温度を10±2℃に保ちながら、濃硫酸12部と酢酸15部の混合溶液を1時間かけて滴下した。25℃まで昇温し、24時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル50部を加え、水で3回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部を水100部に溶解させた水溶液を加え、25℃で20時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル500部を加え、水で3回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤(B−5)(淡黄色液体)14.0部を得た。
製造例6
[酸発生剤(B−6){化学式(28)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−6){化学式(28)で表される化合物}の合成]
「tert−ブチルベンゼン8.1部」を「メトキシベンゼン[東京化成工業(株)製]7.5部」に、「カリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部」を「カリウムヘキサフルオロホスフェート[東京化成工業(株)製]80部」に変更した以外、製造例5と同様にして酸発生剤(B−6)(淡黄色液体)12.1部を得た。
製造例7
[酸発生剤(B−7){化学式(29)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−7){化学式(29)で表される化合物}の合成]
「tert−ブチルベンゼン8.1部」を「フェノキシ酢酸メチル[東京化成工業(株)製]9.2部」、「カリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部」を「カリウムテトラキス(パーフルオロフェニル)ボレート[東京化成工業(株)製]140部」に変更した以外、製造例5と同様にして酸発生剤(B−7)(淡黄色液体)13.3部を得た。
製造例8
[酸発生剤(B−8){化学式(30)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−8){化学式(30)で表される化合物}の合成]
反応容器にIRGACURE 651[BASFジャパン社製]2.4部、ヨウ化カリウム[東京化成工業(株)製]4.0部、ヘキサフルオロアンチモン酸銀[東京化成工業(株)製]8.2部、硫酸[和光純薬工業(株)製]2.4部、ベンゼン5.0部及びアセトニトリル100部を仕込んで溶解させ、60℃で6時間攪拌した。ジクロロメタン200部を加え、イオン交換水200部で3回有機層を洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで酸発生剤(B−8)10.7部(淡黄色固体)を得た。
製造例9
[酸発生剤(B−9){化学式(31)で表される化合物}の合成]
[酸発生剤(B−9){化学式(31)で表される化合物}の合成]
「tert−ブチルベンゼン8.1部」を「トルエン[東京化成工業(株)製]6.5部」及び「イソプロピルベンゼン[東京化成工業(株)製]8.1部」に変更した以外、製造例5と同様にして酸発生剤(B−9)(淡黄色液体)5.0部を得た。
[塩基発生剤(C)の製造]
製造例10
[塩基発生剤(C−1){化学式(32)で表される化合物}の合成]
製造例10
[塩基発生剤(C−1){化学式(32)で表される化合物}の合成]
9−クロロメチルアントラセン(アルドリッチ社製)2.0部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部を少量ずつ加え(添加後若干の発熱が見られた。)、このまま室温(約25℃)で1時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩4.0部及び水40部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に1時間室温(約25℃)で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体7.1部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤(C−1)(白色固体)6.2部を得た。
製造例11
[塩基発生剤(C−2){化学式(33)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−2){化学式(33)で表される化合物}の合成]
(1)メチルチオキサントン[中間体(c−1)]の合成:
ジチオサリチル酸[和光純薬工業(株)製]10部を硫酸139部に溶解させ、1時間室温(約25℃)で攪拌した後、氷浴にて冷却して冷却溶液を得た。ついで、この冷却溶液の液温を20℃以下に保ちながら、トルエン25部を少しずつ滴下した後、室温(約25℃)にもどし、更に2時間攪拌して反応液を得た。水815部に反応液を少しずつ加えた後、析出した黄色固体を濾別した。この黄色固体をジクロロメタン260部に溶解させ、水150部を加え、更に24%KOH水溶液6.7部を加えて水層をアルカリ性とし、1時間攪拌した後、分液操作にて水層を除去し、有機層を130部の水で3回洗浄した。ついで有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、有機溶剤を減圧留去して、中間体(c−1)(黄色固体)8.7部を得た。尚、中間体(c−1)は、2−メチルチオキサントンと3−メチルチオキサントンの混合物である。
ジチオサリチル酸[和光純薬工業(株)製]10部を硫酸139部に溶解させ、1時間室温(約25℃)で攪拌した後、氷浴にて冷却して冷却溶液を得た。ついで、この冷却溶液の液温を20℃以下に保ちながら、トルエン25部を少しずつ滴下した後、室温(約25℃)にもどし、更に2時間攪拌して反応液を得た。水815部に反応液を少しずつ加えた後、析出した黄色固体を濾別した。この黄色固体をジクロロメタン260部に溶解させ、水150部を加え、更に24%KOH水溶液6.7部を加えて水層をアルカリ性とし、1時間攪拌した後、分液操作にて水層を除去し、有機層を130部の水で3回洗浄した。ついで有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、有機溶剤を減圧留去して、中間体(c−1)(黄色固体)8.7部を得た。尚、中間体(c−1)は、2−メチルチオキサントンと3−メチルチオキサントンの混合物である。
(2)2−ブロモメチルチオキサントン[中間体(c−2)]の合成:
中間体(c−1)2.1部をシクロヘキサン120部に溶解させ、これにN−ブロモスクシンイミド[和光純薬工業(株)製]8.3部及び過酸化ベンゾイル[和光純薬工業(株)製]0.1部を加え、還流下で4時間反応させた後(3−メチルチオキサントンは反応しない)、溶剤(シクロヘキサン)を留去し、そこへクロロホルム50部を加えて残渣を再溶解させてクロロホルム溶液を得た。クロロホルム溶液を30部の水で3回洗浄し、分液操作により水層を除去した後、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体1.7部を得た。これを酢酸エチルで再結晶させて(3−メチルチオキサントンはここで除かれる)、中間体(c−2)(黄色固体)1.5部を得た。
中間体(c−1)2.1部をシクロヘキサン120部に溶解させ、これにN−ブロモスクシンイミド[和光純薬工業(株)製]8.3部及び過酸化ベンゾイル[和光純薬工業(株)製]0.1部を加え、還流下で4時間反応させた後(3−メチルチオキサントンは反応しない)、溶剤(シクロヘキサン)を留去し、そこへクロロホルム50部を加えて残渣を再溶解させてクロロホルム溶液を得た。クロロホルム溶液を30部の水で3回洗浄し、分液操作により水層を除去した後、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体1.7部を得た。これを酢酸エチルで再結晶させて(3−メチルチオキサントンはここで除かれる)、中間体(c−2)(黄色固体)1.5部を得た。
(3)N−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−N,N,N−トリス(2−ヒドロキシエチル)アンモニウムブロマイド[中間体(c−3)]の合成:
中間体(C122−2−2)(2−ブロモメチルチオキサントン)1.0部をジクロロメタン85gに溶解し、これにトリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.5部を滴下した後(滴下後発熱した)、室温(約25℃)下、1時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、白色固体2.2部を得た。この白色固体をテトラヒドロフランとジクロロメタンの混合溶液で再結晶させて、中間体(c−3)(褐色固体)1.0部を得た。
中間体(C122−2−2)(2−ブロモメチルチオキサントン)1.0部をジクロロメタン85gに溶解し、これにトリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.5部を滴下した後(滴下後発熱した)、室温(約25℃)下、1時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、白色固体2.2部を得た。この白色固体をテトラヒドロフランとジクロロメタンの混合溶液で再結晶させて、中間体(c−3)(褐色固体)1.0部を得た。
(4)塩基発生剤(C−2)の合成:
ナトリウムテトラフェニルボレート塩[ナカライテスク(株)製]0.8部を水17部
で溶解させた水溶液に、あらかじめクロロホルム50部に中間体(c−3)1.0部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、1時間室温(約25℃)で攪拌し、水層を分液操作により除き、有機層を30部の水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をアセトニトリルとエーテルの混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤(C−2)(微黄色粉末)1.3部を得た。
ナトリウムテトラフェニルボレート塩[ナカライテスク(株)製]0.8部を水17部
で溶解させた水溶液に、あらかじめクロロホルム50部に中間体(c−3)1.0部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、1時間室温(約25℃)で攪拌し、水層を分液操作により除き、有機層を30部の水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をアセトニトリルとエーテルの混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤(C−2)(微黄色粉末)1.3部を得た。
製造例12
[塩基発生剤(C−3){化学式(34)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−3){化学式(34)で表される化合物}の合成]
(1)N−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−N,N−ジメチル−N−(2−ヒドロキシエチル)アンモニウムブロマイド[中間体(c−4)]の合成:
「トリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.5部」を「ジメチルエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.3部」に変更した以外、製造例11の(1)〜(3)と同様にして中間体(c−4)(褐色固体)0.8部を得た。
「トリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.5部」を「ジメチルエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]0.3部」に変更した以外、製造例11の(1)〜(3)と同様にして中間体(c−4)(褐色固体)0.8部を得た。
(2)塩基発生剤(C−3)の合成:
「中間体(c−3)1.0部」を「中間体(c−4)0.8部」に変更した以外、製造例11の(4)と同様にして塩基発生剤(C−3)(白色粉末)1.0部を得た。
「中間体(c−3)1.0部」を「中間体(c−4)0.8部」に変更した以外、製造例11の(4)と同様にして塩基発生剤(C−3)(白色粉末)1.0部を得た。
製造例13
[塩基発生剤(C−4){化学式(35)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−4){化学式(35)で表される化合物}の合成]
「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1−アザビシクロ[2.2.2]オクタン1.0部」に変更したこと以外、製造例10と同様にして、塩基発生剤(C−4)(白色固体)4.4部を得た。
製造例14
[塩基発生剤(C−5){化学式(36)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−5){化学式(36)で表される化合物}の合成]
「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]1.3部」に変更したこと以外、製造例10と同様にして、塩基発生剤(C−5)(白色固体)4.7部を得た。
製造例15
[塩基発生剤(C−6){化学式(37)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−6){化学式(37)で表される化合物}の合成]
「トリオクチルアミン[和光純薬工業(株)製]3.1部」を「1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン[サンアプロ(株)製「DBN」]1.1部」に変更したこと以外、製造例10と同様にして、塩基発生剤(C−6)(白色固体)4.6部を得た。
製造例16
[塩基発生剤(C−7){化学式(38)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−7){化学式(38)で表される化合物}の合成]
(1)フェニルグリオキシル酸銀の調製:
フェニルグリオキシル酸(アルドリッチ社製)3.9部をメタノール20部に溶解させ、そこへ水酸化ナトリウム[和光純薬工業(株)製]0.9部を少しずつ加え(中和による発熱がみられた)、1時間攪拌し、そこへ1mol/L硝酸銀水溶液[和光純薬工業(株)製]10.4部を加えた後、析出した灰色固体を濾別し、メタノールで洗浄し、乾燥して、フェニルグリオキシル酸銀(灰色固体)4.4部を得た。
フェニルグリオキシル酸(アルドリッチ社製)3.9部をメタノール20部に溶解させ、そこへ水酸化ナトリウム[和光純薬工業(株)製]0.9部を少しずつ加え(中和による発熱がみられた)、1時間攪拌し、そこへ1mol/L硝酸銀水溶液[和光純薬工業(株)製]10.4部を加えた後、析出した灰色固体を濾別し、メタノールで洗浄し、乾燥して、フェニルグリオキシル酸銀(灰色固体)4.4部を得た。
(2)塩基発生剤(C−7)の合成:
9−クロロメチルアントラセン(アルドリッチ社製)2.0部をメタノール40gに溶解させ、そこへ1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンア株)製「DBU」]1.3部を少量ずつ加え(添加後若干の発熱が見られた。)、このまま室温(約25℃)で1時間攪拌して反応液を得た。フェニルグリオキシル酸銀3.0部及びメタノール20部からなる分散液に、反応液を少しずつ滴下し、更に1時間室温(約25℃)で攪拌した後、生じた灰色固体を濾過により除いた濾液を減圧留去して、褐色固体4.5部を得た。この褐色固体をエーテルとヘキサンの混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤(C−7)(黄色固体)2.6部を得た。
9−クロロメチルアントラセン(アルドリッチ社製)2.0部をメタノール40gに溶解させ、そこへ1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンア株)製「DBU」]1.3部を少量ずつ加え(添加後若干の発熱が見られた。)、このまま室温(約25℃)で1時間攪拌して反応液を得た。フェニルグリオキシル酸銀3.0部及びメタノール20部からなる分散液に、反応液を少しずつ滴下し、更に1時間室温(約25℃)で攪拌した後、生じた灰色固体を濾過により除いた濾液を減圧留去して、褐色固体4.5部を得た。この褐色固体をエーテルとヘキサンの混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤(C−7)(黄色固体)2.6部を得た。
製造例17
[塩基発生剤(C−8){化学式(39)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−8){化学式(39)で表される化合物}の合成]
(1)8−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イル)メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムブロマイド[中間体(c−5)]の合成:
「トリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]」を「1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]」に変更した以外、製造例11の(1)〜(3)と同様にして中間体(c−5)(白色固体)2.2部を得た。
「トリエタノールアミン[和光純薬工業(株)製]」を「1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]」に変更した以外、製造例11の(1)〜(3)と同様にして中間体(c−5)(白色固体)2.2部を得た。
(2)塩基発生剤(C−8)の合成:
「中間体(c−3)」を「中間体(c−5)」に変更した以外、製造例11(4)と同様にして塩基発生剤(C−8)(淡黄白色粉末)1.3部を得た。
「中間体(c−3)」を「中間体(c−5)」に変更した以外、製造例11(4)と同様にして塩基発生剤(C−8)(淡黄白色粉末)1.3部を得た。
製造例18
[塩基発生剤(C−9){化学式(40)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−9){化学式(40)で表される化合物}の合成]
(1)2,4−ジ−tert−ブチル−7−メチルチオキサントン[中間体(c−6)]の合成:
中間体(c−1)2.1部をジクロロメタン85部に溶解させ、これに塩化アルミニウム(III)[和光純薬工業(株)製]0.5部と2−クロロ−2−メチルプロパン[和光純薬工業(株)製]1.9部を加え、23時間室温(約25℃)で攪拌した。水層を分液操作により除き、有機層を30部の水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、淡黄色
固体を得た。この淡黄色固体を酢酸エチルとヘキサンの混合溶液にて再結晶させて、中間体(c−6)(黄色粉末)0.5部を得た。
中間体(c−1)2.1部をジクロロメタン85部に溶解させ、これに塩化アルミニウム(III)[和光純薬工業(株)製]0.5部と2−クロロ−2−メチルプロパン[和光純薬工業(株)製]1.9部を加え、23時間室温(約25℃)で攪拌した。水層を分液操作により除き、有機層を30部の水で3回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、淡黄色
固体を得た。この淡黄色固体を酢酸エチルとヘキサンの混合溶液にて再結晶させて、中間体(c−6)(黄色粉末)0.5部を得た。
(2)2,4−ジ−tert−ブチル−7−ブロモメチルチオキサントン[中間体(c−7)]の合成:
「中間体(c−1)2.1部」を「中間体(c−6)1.0部」に変更した以外、製造例11の(2)と同様にして中間体(c−7)(黄色粉末)1.2部を得た。
「中間体(c−1)2.1部」を「中間体(c−6)1.0部」に変更した以外、製造例11の(2)と同様にして中間体(c−7)(黄色粉末)1.2部を得た。
(3)8−(2,4−ジ−tert−ブチル−9−オキソ−9H−チオキサンテン−7−イル)メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムブロマイド[中間体(c−8)]の合成:
「中間体(c−2)」を「中間体(c−7)」に変更した以外、製造例11の(3)と同様にして中間体(c−8)(微黄色粉末)1.3部を得た。
「中間体(c−2)」を「中間体(c−7)」に変更した以外、製造例11の(3)と同様にして中間体(c−8)(微黄色粉末)1.3部を得た。
(4)塩基発生剤(C−9)の合成:
「中間体(c−3)1.0部」を「中間体(c−8)0.8部」に変更した以外、製造例11の(4)と同様にして塩基発生剤(C−9)(微黄色粉末)1.0部を得た。
「中間体(c−3)1.0部」を「中間体(c−8)0.8部」に変更した以外、製造例11の(4)と同様にして塩基発生剤(C−9)(微黄色粉末)1.0部を得た。
製造例19
[塩基発生剤(C−10){化学式(41)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−10){化学式(41)で表される化合物}の合成]
(1)4−ブロモメチルベンゾフェノン[中間体(c−9)]の合成:
4−メチルベンゾフェノン(アルドリッチ社製)25.1部、N−ブロモスクシンイミド[和光純薬工業(株)製]22.8部、過酸化ベンゾイル[20%含水:和光純薬工業(株)製]0.54部及びアセトニトリル80部を加え、80℃まで加熱し、還流下2時間反応させ、冷却した後、有機溶剤を減圧留去して、メタノール160部で再結晶させて、中間体(c−9)(白色結晶)26部を得た。
4−メチルベンゾフェノン(アルドリッチ社製)25.1部、N−ブロモスクシンイミド[和光純薬工業(株)製]22.8部、過酸化ベンゾイル[20%含水:和光純薬工業(株)製]0.54部及びアセトニトリル80部を加え、80℃まで加熱し、還流下2時間反応させ、冷却した後、有機溶剤を減圧留去して、メタノール160部で再結晶させて、中間体(c−9)(白色結晶)26部を得た。
(2)8−(4−ベンゾイルフェニル)メチル−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムブロマイド[中間体(c−10)]の合成:
中間体(c−10)25.8部をアセトニトリル100部に溶解させ、これに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]14.6部を滴下した後(滴下後発熱した。)、室温(約25℃)下、18時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をアセトニトリルで再結晶を行い、中間体(c−10)(白色固体)28.2部を得た。
中間体(c−10)25.8部をアセトニトリル100部に溶解させ、これに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン[サンアプロ(株)製「DBU」]14.6部を滴下した後(滴下後発熱した。)、室温(約25℃)下、18時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をアセトニトリルで再結晶を行い、中間体(c−10)(白色固体)28.2部を得た。
(3)塩基発生剤(C−10)の合成:
ナトリウムテトラフェニルボレート塩[ナカライテスク(株)製]0.8部を水17部に溶解させ、あらかじめクロロホルム50部に中間体(c−10)6.8部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、2時間室温(約25℃)で攪拌して反応液を得た。反応液を濾過し、濾液を減圧留去して得た黄色液体をアセトニトリルに溶解して再結晶して、塩基発生剤(C−10)(白色固体)7.6部を得た。
ナトリウムテトラフェニルボレート塩[ナカライテスク(株)製]0.8部を水17部に溶解させ、あらかじめクロロホルム50部に中間体(c−10)6.8部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、2時間室温(約25℃)で攪拌して反応液を得た。反応液を濾過し、濾液を減圧留去して得た黄色液体をアセトニトリルに溶解して再結晶して、塩基発生剤(C−10)(白色固体)7.6部を得た。
製造例20
[塩基発生剤(C−11){化学式(42)で表される化合物}の合成]
[塩基発生剤(C−11){化学式(42)で表される化合物}の合成]
(1)8−(9−ナフタリルメチル)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセニウムブロマイド[中間体(c−11)]の合成:
「中間体(c−10)25.8部」を「2−ブロモメチルナフタレン[東京化成工業(株)製]1.1部」に変更した以外、製造例19(2)と同様にして中間体(c−11)(白色粉末)1.3部を得た。
「中間体(c−10)25.8部」を「2−ブロモメチルナフタレン[東京化成工業(株)製]1.1部」に変更した以外、製造例19(2)と同様にして中間体(c−11)(白色粉末)1.3部を得た。
(2)塩基発生剤(C−11)の合成:
「中間体(c−10)6.8部」を「中間体(c−12)0.8部」に変更した以外、製造例19の(3)と同様にして塩基発生剤(C−11)(微黄色粉末)1.3部を得た。
「中間体(c−10)6.8部」を「中間体(c−12)0.8部」に変更した以外、製造例19の(3)と同様にして塩基発生剤(C−11)(微黄色粉末)1.3部を得た。
[(メタ)アクリレート(D1)の製造]
製造例21
[ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11−1)の合成]
攪拌機、コンデンサー、滴下装置及び温度計を備えた反応容器に、ポリイソプレン[(株)クラレ製「LIR−30」:Mn28,000、ガラス転移点−63℃]100部に無水マレイン酸0.5部を加え、180℃で15時間反応させることにより、1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数が1.5個である無水マレイン酸変性ポリイソプレンを得た。次に、この無水マレイン酸変性ポリイソプレン100部に0.67部のメタクリル酸2−ヒドロキシエチル[日本触媒(株)製「HEMA」]を加え、遮光した後に120℃で8時間反応させることにより、ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11−1)を得た。得られた(D11−1)のチクソトロピーインデックスは1.002、(メタ)アクリロイル基の平均官能基数は1.5、Mnは30,100であった。
製造例21
[ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11−1)の合成]
攪拌機、コンデンサー、滴下装置及び温度計を備えた反応容器に、ポリイソプレン[(株)クラレ製「LIR−30」:Mn28,000、ガラス転移点−63℃]100部に無水マレイン酸0.5部を加え、180℃で15時間反応させることにより、1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数が1.5個である無水マレイン酸変性ポリイソプレンを得た。次に、この無水マレイン酸変性ポリイソプレン100部に0.67部のメタクリル酸2−ヒドロキシエチル[日本触媒(株)製「HEMA」]を加え、遮光した後に120℃で8時間反応させることにより、ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11−1)を得た。得られた(D11−1)のチクソトロピーインデックスは1.002、(メタ)アクリロイル基の平均官能基数は1.5、Mnは30,100であった。
製造例22
[ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12−1)の合成]
攪拌機、コンデンサー、滴下装置及び温度計を備えた反応容器に、ポリブタジエン[クレーバレー社製「Ricon134」:Mn16,000、融点25℃以下]97部、無水マレイン酸1.5部、トルエン91部を加えた後、115±2℃に加温した。別途作製した触媒溶液{2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬(株)製「V−65」:10時間半減期温度51℃、1時間半減期温度68℃)1.7部及びトルエン7.0部の混合溶液}を滴下ポンプにて反応容器へ滴下し、75±2℃に保ちながら、4時間撹拌した。25℃まで冷却した後、反応溶液をアセトン1000部に加え、沈殿液体を分液回収し、80℃で1時間減圧乾燥し、1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数が1.3個である無水マレイン酸変性ポリブタジエンを得た。次に、この得られた無水マレイン酸変性ポリブタジエン50部に、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル[日本触媒(株)製「HEMA」]0.71部、トルエン50部、ベンジルジメチルアミン(和光純薬製)0.24部を一括で投入し、空気をバブリングしつつ、温度を100±5度に保ちながら6時間反応した。25℃まで冷却した後、反応溶液をアセトン500部に加え、沈殿溶液を分液回収し、80℃で1時間減圧乾燥し、ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12−1)(淡黄色粘調液体)40部を得た。得られた(D12−1)のチクソトロピーインデックスは1.001、(メタ)アクリロイル基の平均官能基数は1.3、Mnは20,100であった。
[ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12−1)の合成]
攪拌機、コンデンサー、滴下装置及び温度計を備えた反応容器に、ポリブタジエン[クレーバレー社製「Ricon134」:Mn16,000、融点25℃以下]97部、無水マレイン酸1.5部、トルエン91部を加えた後、115±2℃に加温した。別途作製した触媒溶液{2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬(株)製「V−65」:10時間半減期温度51℃、1時間半減期温度68℃)1.7部及びトルエン7.0部の混合溶液}を滴下ポンプにて反応容器へ滴下し、75±2℃に保ちながら、4時間撹拌した。25℃まで冷却した後、反応溶液をアセトン1000部に加え、沈殿液体を分液回収し、80℃で1時間減圧乾燥し、1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数が1.3個である無水マレイン酸変性ポリブタジエンを得た。次に、この得られた無水マレイン酸変性ポリブタジエン50部に、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル[日本触媒(株)製「HEMA」]0.71部、トルエン50部、ベンジルジメチルアミン(和光純薬製)0.24部を一括で投入し、空気をバブリングしつつ、温度を100±5度に保ちながら6時間反応した。25℃まで冷却した後、反応溶液をアセトン500部に加え、沈殿溶液を分液回収し、80℃で1時間減圧乾燥し、ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12−1)(淡黄色粘調液体)40部を得た。得られた(D12−1)のチクソトロピーインデックスは1.001、(メタ)アクリロイル基の平均官能基数は1.3、Mnは20,100であった。
<無水マレイン酸変性ポリオレフィン(無水マレイン酸変性ポリイソプレン及び無水マレイン酸変性ポリブタジエン)1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数>
製造例21及び製造例22で得た無水マレイン酸変性ポリオレフィンの1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数は、フーリエ変換赤外分光光度計[島津製作所製、「FTIR−8400」]により、ポリオレフィン由来の吸収ピーク(波数3100〜2800cm−1)の面積値とマレイン酸無水物の吸収ピーク(波数1700〜1800cm−1)の面積値を用いて、計算式(2)より算出した。
製造例21及び製造例22で得た無水マレイン酸変性ポリオレフィンの1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数は、フーリエ変換赤外分光光度計[島津製作所製、「FTIR−8400」]により、ポリオレフィン由来の吸収ピーク(波数3100〜2800cm−1)の面積値とマレイン酸無水物の吸収ピーク(波数1700〜1800cm−1)の面積値を用いて、計算式(2)より算出した。
Ma=Mb×(Na/Nb)×(Pa/Pb) (2)
計算式(2)中の記号は以下の通りである。
Ma:試料1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数
Mb:基準物質1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数
Pa:試料のマレイン酸無水物由来の吸収ピーク面積値/ポリオレフィン由来の吸収ピーク面積値
Pb:基準物質のマレイン酸無水物由来の吸収ピーク面積値/ポリオレフィン由来の吸収ピーク面積値
Na:試料1分子中のオレフィンの繰返し数
Nb:基準物質1分子中のオレフィンの繰返し数
Ma:試料1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数
Mb:基準物質1分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数
Pa:試料のマレイン酸無水物由来の吸収ピーク面積値/ポリオレフィン由来の吸収ピーク面積値
Pb:基準物質のマレイン酸無水物由来の吸収ピーク面積値/ポリオレフィン由来の吸収ピーク面積値
Na:試料1分子中のオレフィンの繰返し数
Nb:基準物質1分子中のオレフィンの繰返し数
尚、基準物質のNb、Mbは以下の通りである。
・無水マレイン酸変性ポリイソプレン(Nb=495、Mb=3)[「クラプレンLIR−403」、(株)クラレ製]
・無水マレイン酸変性ポリブタジエン(Nb=94、Mb=8)[「Ricon130MA8」、クレイバレー社製]
・無水マレイン酸変性ポリイソプレン(Nb=495、Mb=3)[「クラプレンLIR−403」、(株)クラレ製]
・無水マレイン酸変性ポリブタジエン(Nb=94、Mb=8)[「Ricon130MA8」、クレイバレー社製]
製造例23〜30及び比較製造例1〜4
[ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13−1)〜(D13−8)及び(D13’−1)〜(D13’−4)の合成]
攪拌機、コンデンサー、温度計及びエアーコンプレッサーを備えたフラスコに、エステル化触媒(日東化成製「ネオスタンU−600」)0.03部と、表1に記載の配合部数のポリエーテルジオール(S1)及びジカルボン酸(S2)を一括で投入し、温度を230±5℃に保ちながら、24時間攪拌した。100℃まで降温させ、エチルメチルケトン1,000部と、表1に記載の配合部数の有機ジイソシアネート(P)を一括で投入し、温度を100±5℃に保ちながら、24時間攪拌し、プレポリマーを得た。その後70℃まで降温させ、エアーコンプレッサーを始動させ、フラスコ内の溶液中へのエアレーションを開始した後、表1に記載の配合部数の活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(Q)及び1価のアルコール(R)を一括で投入し、温度を70±5℃に保ちながら、10時間攪拌した。有機溶剤を40℃で減圧留去することで目的とするポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13−1)〜(D13−8)、及び比較用のポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13’−1)〜(D13’−4)を得た。
[ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13−1)〜(D13−8)及び(D13’−1)〜(D13’−4)の合成]
攪拌機、コンデンサー、温度計及びエアーコンプレッサーを備えたフラスコに、エステル化触媒(日東化成製「ネオスタンU−600」)0.03部と、表1に記載の配合部数のポリエーテルジオール(S1)及びジカルボン酸(S2)を一括で投入し、温度を230±5℃に保ちながら、24時間攪拌した。100℃まで降温させ、エチルメチルケトン1,000部と、表1に記載の配合部数の有機ジイソシアネート(P)を一括で投入し、温度を100±5℃に保ちながら、24時間攪拌し、プレポリマーを得た。その後70℃まで降温させ、エアーコンプレッサーを始動させ、フラスコ内の溶液中へのエアレーションを開始した後、表1に記載の配合部数の活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(Q)及び1価のアルコール(R)を一括で投入し、温度を70±5℃に保ちながら、10時間攪拌した。有機溶剤を40℃で減圧留去することで目的とするポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13−1)〜(D13−8)、及び比較用のポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13’−1)〜(D13’−4)を得た。
尚、製造例21〜30及び比較製造例1〜4で得られたポリウレタン骨格を有する(メ
タ)アクリレート(D11−1)、(D12−1)、(D13−1)〜(D13−8)及び(D13’−1)〜(D13’−4)の物性として、Mn、チクソトロピーインデックス、平均官能基数を、以下の(1)〜(3)の方法を用いて測定した。
タ)アクリレート(D11−1)、(D12−1)、(D13−1)〜(D13−8)及び(D13’−1)〜(D13’−4)の物性として、Mn、チクソトロピーインデックス、平均官能基数を、以下の(1)〜(3)の方法を用いて測定した。
<ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)の物性評価>
(1)Mn
装置 :GPC
「HLC−8120GPC」、東ソー(株)製
カラム :「TSKgel GMHXL」2本+「TSKgel
Multipore HXL−M 」、東ソー(株)製
溶離液 :テトラヒドロフラン
基準物質 :標準ポリスチレン(TSKstandard POLYSTYRENE)、
東ソー(株)製
注入条件 :サンプル濃度0.25%、カラム温度40℃
(1)Mn
装置 :GPC
「HLC−8120GPC」、東ソー(株)製
カラム :「TSKgel GMHXL」2本+「TSKgel
Multipore HXL−M 」、東ソー(株)製
溶離液 :テトラヒドロフラン
基準物質 :標準ポリスチレン(TSKstandard POLYSTYRENE)、
東ソー(株)製
注入条件 :サンプル濃度0.25%、カラム温度40℃
(2)チクソトロピーインデックス
以下の測定条件で、チクソトロピーインデックスを測定した。
[1]装置:レオメーター[TA Instruments製「AR−2000」]
[2]コーンローター:コーン角度2°×コーン半径R60mm
[3]ギャップ:50μm
[4]温度:38℃
[5]せん断速度:0.01/s〜10/s(1分間静置後、等速で5分間かけて速度上昇)
以下の測定条件で、チクソトロピーインデックスを測定した。
[1]装置:レオメーター[TA Instruments製「AR−2000」]
[2]コーンローター:コーン角度2°×コーン半径R60mm
[3]ギャップ:50μm
[4]温度:38℃
[5]せん断速度:0.01/s〜10/s(1分間静置後、等速で5分間かけて速度上昇)
(3)ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)の平均官能基数
(3−1)ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11−1)の平均官能基数
1H−NMR分析を行い、ポリイソプレン骨格に由来する5.1ppm付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する6.1ppm付近のピーク面積の比及びMnから、計算式(3)より平均官能基数を算出した。
(3−1)ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11−1)の平均官能基数
1H−NMR分析を行い、ポリイソプレン骨格に由来する5.1ppm付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する6.1ppm付近のピーク面積の比及びMnから、計算式(3)より平均官能基数を算出した。
平均官能基数={Pm×Mn}/{Pm×(Mnm+Mnma)+Ppi×Mni} (3)
計算式(3)中の記号は以下の通りである。
Mn:(D11)のMn
Mnm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルの化学式量
Mnma:無水マレイン酸の化学式量
Mni:イソプレンの化学式量
Ppi:ポリイソプレンに由来するピーク面積(対応水素1個)
Pm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルに由来するピーク面積(対応水素1個)
Mn:(D11)のMn
Mnm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルの化学式量
Mnma:無水マレイン酸の化学式量
Mni:イソプレンの化学式量
Ppi:ポリイソプレンに由来するピーク面積(対応水素1個)
Pm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルに由来するピーク面積(対応水素1個)
(3−2)ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12−1)の平均官能基数
(3−1)と同様に1H−NMR分析を行い、ポリブタジエンの1,2付加体由来の4.9ppm付近のピーク面積、1,4付加体由来の5.3〜5.4ppm付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する6.1ppm付近のピーク面積の比及びMnから、計算式(4)より平均官能基数を算出した。
(3−1)と同様に1H−NMR分析を行い、ポリブタジエンの1,2付加体由来の4.9ppm付近のピーク面積、1,4付加体由来の5.3〜5.4ppm付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する6.1ppm付近のピーク面積の比及びMnから、計算式(4)より平均官能基数を算出した。
平均官能基数={Pm×Mn}/{Pm×(Mnm+Mnma)+(Ppb/2)×Mnb} (4)
計算式(3)中の記号は以下の通りである。
Mn:(D12)のMn
Mnm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルの化学式量
Mnma:無水マレイン酸の化学式量
Mnb:ブタジエンの化学式量
Ppb:ポリブタジエンに由来する2つのピーク面積の和(対応水素2個)
Pm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルに由来するピーク面積(対応水素1個)
Mn:(D12)のMn
Mnm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルの化学式量
Mnma:無水マレイン酸の化学式量
Mnb:ブタジエンの化学式量
Ppb:ポリブタジエンに由来する2つのピーク面積の和(対応水素2個)
Pm:メタクリル酸−2−ヒドロキシエチルに由来するピーク面積(対応水素1個)
(3−3)ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13−1)〜(D13−8)及び(D13’−1)〜(D13’−4)の平均官能基数
(3−3−1)プレポリマーのイソシアネート基含有量
プレポリマーを、ジ−n−ブチルアミンの0.1%ジメチルホルムアミド溶液に溶解させ、プレポリマー中に残存しているイソシアネート基と反応させた後、指示薬としてブロモフェノールブルーのジメチルホルムアミド溶液を滴下した試料溶液を、1/100Nの塩酸のメタノール溶液で滴定した。また、プレポリマーを含有しない以外は同様にしてブランク溶液も滴定した。これらの滴定量から、計算式(5)によりイソシアネート基含有量を算出した。
(3−3−1)プレポリマーのイソシアネート基含有量
プレポリマーを、ジ−n−ブチルアミンの0.1%ジメチルホルムアミド溶液に溶解させ、プレポリマー中に残存しているイソシアネート基と反応させた後、指示薬としてブロモフェノールブルーのジメチルホルムアミド溶液を滴下した試料溶液を、1/100Nの塩酸のメタノール溶液で滴定した。また、プレポリマーを含有しない以外は同様にしてブランク溶液も滴定した。これらの滴定量から、計算式(5)によりイソシアネート基含有量を算出した。
イソシアネート基含有量[%]=0.042×f×(Zb−Zp)/W (5)
計算式(5)中の記号は以下の通りである。
f:滴定液の力価
Zp:試料溶液を測定したときの滴定量(ml)
Zb:ブランク溶液を測定したときの滴定量(ml)
W:試料溶液中のプレポリマーの重量(g)
f:滴定液の力価
Zp:試料溶液を測定したときの滴定量(ml)
Zb:ブランク溶液を測定したときの滴定量(ml)
W:試料溶液中のプレポリマーの重量(g)
(3−3−2)平均官能基数
ポリエステルポリオール(S)と有機ジイソシアネート(P)を反応させて得たプレポリマーのイソシアネート基含有量を用いて、計算式(6)から平均官能基数を算出した。
ポリエステルポリオール(S)と有機ジイソシアネート(P)を反応させて得たプレポリマーのイソシアネート基含有量を用いて、計算式(6)から平均官能基数を算出した。
平均官能基数={(プレポリマーのイソシアネート基含有量[%])/100}×{(Mp)/42}×Y (6)
計算式(6)中の記号は以下の通りである。
Mp:プレポリマーのMn
Y:活性水素基を有する(メタ)アクリレート(Q)と1価のアルコール(R)の合計重量に対する(Q)のモル比率[(Q)のモル数/((Q)と(R)の合計モル数)]
Mp:プレポリマーのMn
Y:活性水素基を有する(メタ)アクリレート(Q)と1価のアルコール(R)の合計重量に対する(Q)のモル比率[(Q)のモル数/((Q)と(R)の合計モル数)]
表1に、Mn、ウレタン基濃度、チクソトロピーインデックス、平均官能基数を記載した。
なお、表1中の使用する原料の記号が示す内容は以下のとおりである。
(S1−1)テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Mn=1,800)[「PTX−G 1800」、旭化成せんい(株)製]
(S1−2)テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Mn=1,000)[「PTX−G 1000」、旭化成せんい(株)製]
(S2−1)ピメリン酸[東京化成製]
(P−1)2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート[「TMDI」、エボニック社製]
(P−2)イソホロンジイソシアネート[「デスモジュールI」、住友バイエルウレタン製]
(Q−1)ペンタエリスリトールのジアクリレート及びトリアクリレートの混合物[「ライトアクリレートPE3A」、共栄社化学社製]
(Q−2)2−ヒドロキシエチルアクリレート[「BHEA」、日本触媒(株)製]
(S1−1)テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Mn=1,800)[「PTX−G 1800」、旭化成せんい(株)製]
(S1−2)テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Mn=1,000)[「PTX−G 1000」、旭化成せんい(株)製]
(S2−1)ピメリン酸[東京化成製]
(P−1)2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート[「TMDI」、エボニック社製]
(P−2)イソホロンジイソシアネート[「デスモジュールI」、住友バイエルウレタン製]
(Q−1)ペンタエリスリトールのジアクリレート及びトリアクリレートの混合物[「ライトアクリレートPE3A」、共栄社化学社製]
(Q−2)2−ヒドロキシエチルアクリレート[「BHEA」、日本触媒(株)製]
[実施例1〜44、比較例1〜6]
表2〜5に記載の(A)、(D)〜(G)及び必要により(B)又は(C)を、室温(20℃)でプレナリーミキサーを用いて配合して、実施例1〜44及び比較例1〜6の光硬化性組成物を得た。
表2〜5に記載の(A)、(D)〜(G)及び必要により(B)又は(C)を、室温(20℃)でプレナリーミキサーを用いて配合して、実施例1〜44及び比較例1〜6の光硬化性組成物を得た。
表2〜4中の記号が示す内容は以下のとおりである。
(D2−1)ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、商品名「QM657」、ローム・アンド・ハースジャパン社製
(D2−2)シクロヘキシルメタクリレート、商品名「CH」、共栄社化学(株)製
(D2−3)フェノキシエチルメタクリレート、商品名「PO」、共栄社化学(株)製
(D2−4)フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、商品名「AMP−20GY」、新中村化学工業(株)製
(D2−5)2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、商品名「702A
」、新中村化学工業(株)製
(D2−6)テトラヒドロフルフリルメタクリレート、商品名「THF」、共栄社化学(株)製
(D2−1)ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、商品名「QM657」、ローム・アンド・ハースジャパン社製
(D2−2)シクロヘキシルメタクリレート、商品名「CH」、共栄社化学(株)製
(D2−3)フェノキシエチルメタクリレート、商品名「PO」、共栄社化学(株)製
(D2−4)フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、商品名「AMP−20GY」、新中村化学工業(株)製
(D2−5)2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、商品名「702A
」、新中村化学工業(株)製
(D2−6)テトラヒドロフルフリルメタクリレート、商品名「THF」、共栄社化学(株)製
(A121−1)2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、商品名「ルシリンTPO」、BASFジャパン社製
(A124−1)1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製
(A21−1)tert−ブチルパーオキシベンゾエート、商品名「パーブチルZ」、日本油脂(株)製
(A124−1)1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製
(A21−1)tert−ブチルパーオキシベンゾエート、商品名「パーブチルZ」、日本油脂(株)製
(E−1)液状ポリブタジエン、商品名「LBR−307」、(株)クラレ製、Mn8,000
(E−2)液状ポリイソプレン、商品名「LIR−50」、(株)クラレ製、Mn54,000
(E−2)液状ポリイソプレン、商品名「LIR−50」、(株)クラレ製、Mn54,000
(F−1) ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、商品名「イルガノックス1010」、BASFジャパン社製
(G−1)7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン、商品名「7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン」、東京化成工業(株)製
(G−2)9,10−ジブトキシアントラセン、商品名「アントラキュアーUVS−1331」、川崎化成工業(株)製
(G−2)9,10−ジブトキシアントラセン、商品名「アントラキュアーUVS−1331」、川崎化成工業(株)製
実施例1〜44及び比較例1〜6で得られた光硬化性組成物を以下の方法を用いて評価し、その結果を表6に示した。
<光硬化性組成物の評価>
(1)試験片の作製
0.8mm厚のアクリル板〔三菱レイヨン(株)製、「MR−200」〕に、実施例1〜44及び比較例1〜6で得られた光硬化性組成物を約100μmになるように塗布後、0.8mm厚のガラス板(30mm×40mm)を張り合わせ、UV照射装置[ウシオ電機(株)製、「UVC−02516S1AA01」]を用いて光源:メタルハライドランプ、200mW/cm2(UV−A)、4000mJ/cm2(UV−A)で硬化させ、硬化膜厚さ100μmのガラス/アクリル試験片を得た。
また同様にして、0.8mm厚のガラス板と0.7mm厚のガラス板(30×40mm)とを貼り合わせたガラス/ガラス試験片を得た。ガラス/ガラス試験片及びガラス/アクリル試験片による試験で、表示パネルと光学部材の接着特性を評価することができる。
(1)試験片の作製
0.8mm厚のアクリル板〔三菱レイヨン(株)製、「MR−200」〕に、実施例1〜44及び比較例1〜6で得られた光硬化性組成物を約100μmになるように塗布後、0.8mm厚のガラス板(30mm×40mm)を張り合わせ、UV照射装置[ウシオ電機(株)製、「UVC−02516S1AA01」]を用いて光源:メタルハライドランプ、200mW/cm2(UV−A)、4000mJ/cm2(UV−A)で硬化させ、硬化膜厚さ100μmのガラス/アクリル試験片を得た。
また同様にして、0.8mm厚のガラス板と0.7mm厚のガラス板(30×40mm)とを貼り合わせたガラス/ガラス試験片を得た。ガラス/ガラス試験片及びガラス/アクリル試験片による試験で、表示パネルと光学部材の接着特性を評価することができる。
(2)ヒートショック試験
(1)で得たガラス/アクリル試験片とガラス/ガラス試験片を−40℃と85℃に、各60分で1000サイクル行い、試験後目視にて剥がれの有無を確認した。
(3)耐熱試験
(1)で得たガラス/アクリル試験片とガラス/ガラス試験片を95℃オーブン中にて1000時間保持し、試験後目視にて剥がれの有無を確認した。
(4)耐湿試験
(1)で得たガラス/アクリル試験片とガラス/ガラス試験片を65℃/90%RHの恒温恒湿中にて1000時間保持し、試験後目視にて剥がれの有無を確認した。
尚、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験の剥がれの評価基準は、下記のとおりである。
◎:剥がれなし
○:若干剥がれがあるが実用上問題なし
×:剥がれがあり
(1)で得たガラス/アクリル試験片とガラス/ガラス試験片を−40℃と85℃に、各60分で1000サイクル行い、試験後目視にて剥がれの有無を確認した。
(3)耐熱試験
(1)で得たガラス/アクリル試験片とガラス/ガラス試験片を95℃オーブン中にて1000時間保持し、試験後目視にて剥がれの有無を確認した。
(4)耐湿試験
(1)で得たガラス/アクリル試験片とガラス/ガラス試験片を65℃/90%RHの恒温恒湿中にて1000時間保持し、試験後目視にて剥がれの有無を確認した。
尚、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験の剥がれの評価基準は、下記のとおりである。
◎:剥がれなし
○:若干剥がれがあるが実用上問題なし
×:剥がれがあり
(5)遮蔽部硬化距離
熱硬化性の黒色インク[MRXインキ、帝国インキ製造(株)製]を、100mm×140mm×厚さ0.7mmのガラス板の周縁部(ガラス板の長辺から20mm幅の領域及びガラス版の短辺から40mmの領域)全域にスクリーン印刷により塗布し、150℃で2時間乾燥させることで、厚さ20μmの遮蔽部を外周部に有し、60mm四方の非遮光部を中心に有するガラス板(α)を用意した。また、ガラス板(α)で使用した黒色インクと同じインクを、100mm×120mm×厚さ0.7mmのガラス板の全面に塗布し、150℃で2時間乾燥させることで、全面に厚さ20μmの黒色インクの塗膜を有するガラス板(β)を用意した。次に、ガラス板(α)の黒色インク塗布面と反対側の面の、この後の操作でガラス板(α)と(β)が重なりあうことになる部分の四隅にスペーサー[東洋紡(株)製フィルム(商品名「コスモシャインA4300」:膜厚100μm)を5mm×20mmの大きさに裁断したもの]を置いた後、ガラス板(α)の中心部に実施例1〜44及び比較例1〜6の光硬化性組成物をそれぞれ約2gスポイトで滴下した。ガラス板(β)の黒色インク塗布面が光硬化性組成物と接し、ガラス板(α)とガラス板(β)の中心点が重なり、かつそれぞれの長辺が直交するようにガラス板(α)にガラス板(β)を重ねた。続いて、ガラス板(α)側からUV照射装置[ウシオ電機(株)製、「UVC−02516S1AA01」]を用いて光源:メタルハライドランプ、200mW/cm2(UV−A)、4000mJ/cm2(UV−A)で照射して硬化させ、試験片を得た。
この試験片からガラス板を剥がして、樹脂層が付着したガラス板上の樹脂層をメタノールで洗浄し、樹脂層の外周部に存在する未硬化の組成物を除去した。ガラス板の中心点を通りガラス板の各辺に平行となる互いに直行する2本の直線を引き、各直線について、一方の樹脂層の外周部との交点から、他方の樹脂層との交点までの距離(L)を電子ノギス[ABSソーラーデジマチックCD−S15C、(株)ミツトヨ製]を用いて測定した。距離(L)から硬化時に非遮光部となっていた正方形の1辺の長さ60mmを減じて2で除した値を、2本の直線それぞれについて算出して、その平均値を遮蔽部硬化距離とした。遮蔽部硬化距離が長いほど、遮蔽部硬化性が良好であることを示す。
熱硬化性の黒色インク[MRXインキ、帝国インキ製造(株)製]を、100mm×140mm×厚さ0.7mmのガラス板の周縁部(ガラス板の長辺から20mm幅の領域及びガラス版の短辺から40mmの領域)全域にスクリーン印刷により塗布し、150℃で2時間乾燥させることで、厚さ20μmの遮蔽部を外周部に有し、60mm四方の非遮光部を中心に有するガラス板(α)を用意した。また、ガラス板(α)で使用した黒色インクと同じインクを、100mm×120mm×厚さ0.7mmのガラス板の全面に塗布し、150℃で2時間乾燥させることで、全面に厚さ20μmの黒色インクの塗膜を有するガラス板(β)を用意した。次に、ガラス板(α)の黒色インク塗布面と反対側の面の、この後の操作でガラス板(α)と(β)が重なりあうことになる部分の四隅にスペーサー[東洋紡(株)製フィルム(商品名「コスモシャインA4300」:膜厚100μm)を5mm×20mmの大きさに裁断したもの]を置いた後、ガラス板(α)の中心部に実施例1〜44及び比較例1〜6の光硬化性組成物をそれぞれ約2gスポイトで滴下した。ガラス板(β)の黒色インク塗布面が光硬化性組成物と接し、ガラス板(α)とガラス板(β)の中心点が重なり、かつそれぞれの長辺が直交するようにガラス板(α)にガラス板(β)を重ねた。続いて、ガラス板(α)側からUV照射装置[ウシオ電機(株)製、「UVC−02516S1AA01」]を用いて光源:メタルハライドランプ、200mW/cm2(UV−A)、4000mJ/cm2(UV−A)で照射して硬化させ、試験片を得た。
この試験片からガラス板を剥がして、樹脂層が付着したガラス板上の樹脂層をメタノールで洗浄し、樹脂層の外周部に存在する未硬化の組成物を除去した。ガラス板の中心点を通りガラス板の各辺に平行となる互いに直行する2本の直線を引き、各直線について、一方の樹脂層の外周部との交点から、他方の樹脂層との交点までの距離(L)を電子ノギス[ABSソーラーデジマチックCD−S15C、(株)ミツトヨ製]を用いて測定した。距離(L)から硬化時に非遮光部となっていた正方形の1辺の長さ60mmを減じて2で除した値を、2本の直線それぞれについて算出して、その平均値を遮蔽部硬化距離とした。遮蔽部硬化距離が長いほど、遮蔽部硬化性が良好であることを示す。
実施例は、ヒートショック試験、耐熱試験とも剥がれが少なく、良好な結果を示すことがわかる。また、光学部材との接着性が良好であることから、表示パネルのガラスが割れたりする恐れがないと考えられる。更に、遮蔽部硬化距離も長く、遮蔽部硬化性も良好である。
一方、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を含有しない比較例1は、架橋成分もないため、硬化不十分で接着強度が不足し、ヒートショック試験、耐熱試験、耐湿熱試験で剥れが発生した。ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレートの平均官能基数が2以上の比較例2と3は、硬化樹脂の貯蔵弾性率が大きくなり、硬化時に発生する応力を緩和できず、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験において剥がれが発生した。
ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレートの平均官能基数が1より小さい比較例4は、接着強度が足りず、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験において剥がれが発生した。また、チクソトロピーインデックスが1.4よりも大きい比較例5は、塗工適性が低下し、貼り合わせ面に印刷加工がしてあると、印刷のあるところとないところの段差部分に気泡が発生した。また、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)を含有しない比較例6は、活性光線を照射しても硬化不良で接着強度が不足し、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿熱試験で剥れが発生した。
一方、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を含有しない比較例1は、架橋成分もないため、硬化不十分で接着強度が不足し、ヒートショック試験、耐熱試験、耐湿熱試験で剥れが発生した。ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレートの平均官能基数が2以上の比較例2と3は、硬化樹脂の貯蔵弾性率が大きくなり、硬化時に発生する応力を緩和できず、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験において剥がれが発生した。
ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレートの平均官能基数が1より小さい比較例4は、接着強度が足りず、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験において剥がれが発生した。また、チクソトロピーインデックスが1.4よりも大きい比較例5は、塗工適性が低下し、貼り合わせ面に印刷加工がしてあると、印刷のあるところとないところの段差部分に気泡が発生した。また、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)を含有しない比較例6は、活性光線を照射しても硬化不良で接着強度が不足し、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿熱試験で剥れが発生した。
本発明の接着用光硬化性組成物は、遮蔽部の硬化性に優れており、また塗工適性に優れることから、表示パネルを構成する光学部材(静電容量式タッチパネルにおいて透明電極が形成してある透明基板と透明板や、化粧板とタッチパネルや、アイコンシートとタッチパネル等)の貼り合わせにおいて、気泡を含まずに貼り合わせることができる。また、本発明の接着用光硬化性組成物を用いて貼り合わされている光学部材は、高温下又は高湿下にさらした後の接着性に優れることから、光学部材を有する表示パネルの製造に極めて有用である。
Claims (21)
- 活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)を含有するラジカル開始剤(A)、ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)を含有する重合性物質(D)及び蛍光物質(G)を含有する接着用光硬化性組成物であって、前記ラジカル開始剤(A)の重量に対する前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)の重量割合が70〜100重量%であり、前記ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)が、計算式(1)で規定される38℃でのチクソトロピーインデックスが1.0〜1.4であり、平均官能基数が1以上2未満である(メタ)アクリレートである接着用光硬化性組成物。
チクソトロピーインデックス=(せん断速度0.01/sにおける38℃での粘度)/(せん断速度10/sにおける38℃での粘度) (1) - アセトニトリル中の前記蛍光物質(G)の蛍光波長が350nm〜450nmである請求項1に記載の接着用硬化性組成物。
- 前記蛍光物質(G)がナフタレン、クマリン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ベンゾピレン、ペリレン及びこれらの化合物の芳香環に結合する水素原子を電子供与性基で置換した化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の蛍光物質である請求項1又は2に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)が、ポリイソプレン骨格を有する(メタ)アクリレート(D11)、ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレート(D12)及びポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)からなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレートである請求項1〜3のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)の数平均分子量が、2,000〜100,000である請求項1〜4のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)のウレタン基濃度が、0.01〜0.2mmol/gである請求項4又は5に記載の接着用光硬化組成物。
- 前記ポリウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート(D13)が、数平均分子量が1,000〜100,000であるポリエーテルエステルジオール(S)、炭素数6〜15の有機ジイソシアネート(P)及び炭素数が4〜100である活性水素基を有する(メタ)アクリレート(Q)を必須構成成分とする重合物である請求項4〜6のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記ポリエーテルエステルジオール(S)が、数平均分子量が200〜10,000であるポリエーテルジオール(S1)及び炭素数が2〜20であるジカルボン酸(S2)を必須構成成分とする重縮合物を含有する請求項7に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記重合性物質(D)に対する前記ラジカル開始剤(A)の重量割合が0.1〜30重量%であり、前記重合成物質(D)に対する前記蛍光物質(G)の重量割合が0.001〜3%である請求項1〜8のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 更に、酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)を含有する請求項1〜9のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記ラジカル開始剤(A)、前記酸発生剤(B)及び前記塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、前記活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成し、前記新たな活性種(I)による前記重合性物質(D)の重合反応が進行し、前記活性種(H)又は(I)が酸又は塩基である請求項10に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記ラジカル開始剤(A)が、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A1)、又は酸及び/若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤(A2)であり、前記酸発生剤(B)が、活性光線により酸を発生する酸発生剤(B1)、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により酸を発生する酸発生剤(B2)であり、前記塩基発生剤(C)が、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤(C1)、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも1種により塩基を発生する塩基発生剤(C2)であって、(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、又は(C2)を以下の(1)〜(4)のいずれかの組合せで含有する請求項10又は11に記載の接着用光硬化性組成物。
(1)(A1)、並びに(B2)及び/又は(C2)を含有する。
(2)(B1)、(A2)、及び必要により(C2)を含有する。
(3)(C1)、(A2)、及び必要により(B2)を含有する。
(4)上記(1)〜(3)の2種類以上の組合せ。 - 前記酸発生剤(B)がカチオンとアニオンからなり、前記アニオンが、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェートアニオン又はテトラキス(パーフルオロフェニル)ボレートアニオンである請求項10〜12のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記重合性物質(D)に対する前記酸発生剤(B)と前記塩基発生剤(C)の合計の重量割合が0.05〜30重量%である請求項10〜13のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 更に、数平均分子量が1,000〜100,000である非ラジカル重合性物質(E)を含有する請求項1〜14のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記非ラジカル重合性物質(E)が、ポリエーテルである請求項15に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記重合性物質(D)が、更に、前記(D1)以外の環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)を含有する請求項1〜16のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)が、フェノールエチレンオキサイド1〜10モル付加物(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド1〜10モル付加物(メタ)アクリレート及びテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレートである請求項17に記載の接着用光硬化性組成物。
- 前記重合性物質(D)の重量に対する前記ポリマー骨格を有する(メタ)アクリレート(D1)の重量割合が20〜99重量%であり、前記環状骨格を有する単官能(メタ)アクリレート(D2)の重量割合が0.1〜70重量%である請求項17又は18に記載の接着用光硬化性組成物。
- 表示パネルを構成する光学部材の貼り合わせに用いられる請求項1〜19のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物。
- 請求項1〜20のいずれか1項に記載の接着用光硬化性組成物を用いて貼り合わされている光学部材を有する表示パネル。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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