JP2007269853A - 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー - Google Patents
光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007269853A JP2007269853A JP2006093877A JP2006093877A JP2007269853A JP 2007269853 A JP2007269853 A JP 2007269853A JP 2006093877 A JP2006093877 A JP 2006093877A JP 2006093877 A JP2006093877 A JP 2006093877A JP 2007269853 A JP2007269853 A JP 2007269853A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoacid generator
- oxime
- photoacid
- highly sensitive
- photolithographic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】増感剤とオキシム系光酸発生剤が光電子移動を起こし、オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンから反応が開始される高感度増感光酸発生材料。ピロメテン系色素を増感剤とし、オキシム系光酸発生剤とした高感度増感光酸発生材料。光電子移動反応などによってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが、N−O結合付近にラジカルスピン密度が局在化し、それにより、結合開裂が高効率で生じる該オキシム系光酸発生剤。上記高感度光酸発生材料を組み込んだフォトリソグラフィー材料。これらを用いた、光パターニング、光リソグラフィー。
【選択図】なし
Description
(1)高感度光開始系
半導体加工、配線用レジスト、印刷製版に用いられるフォトポリマーの使用光源に対する高感度化は常に求められている課題である。特に印刷版及びプリント基板製造分野においては、レーザーダイレクトイメージング技術の普及加速化に伴い、可視光レーザー対応高感度光開始系の構築が切望されている。特に高感度の光酸発生剤が求められている。
(2)自由度の高い高感度光酸発生系による反応開始材料
従来のレーザーダイレクトイメージング技術などに用いられている光開始系は、ラジカル重合開始系が主である。しかしながら、ラジカル重合開始系では、大気中の酸素による反応進行の妨害、すなわち酸素阻害と呼ばれる特性がある。実際は感光層の上に酸素遮断層を塗布して使用する必要がある。このため、酸素阻害の影響がなく、ネガおよびポジ型のリソグラフィー材料をつくれる自由度のある高感度光酸発生系による反応開始材料が求められていたが、十分な感度をもつ光酸発生剤がなかった。
本発明は、かかる事情に鑑みなされたものであって、これらの課題を解決する高感度増感光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニング、光リソグラフィーを提供することにある。
(着目点)
増感剤とさまざまな酸発生剤についてその増感機構やフォトリソグラフィー材料としての感度を研究したところ、光励起された増感剤からの電子移動によって生成するオキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンからの酸発生が異様に高いことを見出し、これに着目し、この課題の解決に結びついた。
4.1)
S. Noppakundilograt, S. Suzuki, T. Urano, N. Miyagawa, S. Takahara, T. Yamaoka,
Polym. Adv. Technol. 13 (2002) 527.
4.2)
S. Suzuki, T. Urano, K. Ito, T. Murayama, I. Hotta, S. Takahara, T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Tech. 17 (2004) 125.
4.3)
J. Iwaki, S. Suzuki, C. Park, N. Miyagawa, S. Takahara, T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Tech. 17 (2004) 123.
4.4) S. Suzuki, X. Allonas, J.P. Fouassier, T. Urano,
S. Takahara, T. Yamaoka, J.
Photochem. Photobiol. A: Chem. in press.
4.5)
S. Suzuki, X. Allonas, J. P. Fouassier, T. Urano, S. Takahara, T. Yamaoka, in Photochemistry and UV curing: new trends, J. P. Fouassier Ed,
Research Signpost, Trivandrum, India, in press.
4.6)
鈴木昭太 博士論文 千葉大学(2006).
4.7) S. Suzuki,
T. Urano, S. Takahara, T. Yamaoka, Polymer 46 (2005) 2238.
請求項1の発明は、増感剤とオキシム系光酸発生剤が光電子移動を起こし、オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンから反応が開始される光酸発生材料である。
請求項2の発明は、ピロメテン系色素を増感剤とし、オキシム系光酸発生剤とした光酸発生材料である。
請求項3の発明は、光電子移動反応などによってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが、N−O結合付近にラジカルスピン密度が局在化し、それにより、結合開裂が高効率で生じるオキシム系光酸発生剤である。
請求項4の発明は、請求項1ないし3項いずれか1項に記載の光酸発生材料を組み込んだフォトリソグラフィー材料である。
請求項5の発明は、請求項4項に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光パターニングである。
請求項6の発明は、請求項4項に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光リソグラフィーである。
(1)高感度光開始系の実現
増感剤とオキシム系光酸発生剤による組み合わせにより、大きな酸発生効率が得られることを見出し、これを用いて高感度なリソグラフィー材料をこの光開始系を用いて構築した。オキシム系光酸発生剤を直接光励起した場合の酸発生効率は他の酸発生剤よりも比較的低く、これまで注目されなかったものと考えられる。すなわち、該オキシム系光酸発生剤分子の直接光励起による酸発生効率より、増感剤とオキシム系光酸発生剤による組み合わせは、およそ10倍以上の酸の発生を示した。これは、電子移動反応、ここでは増感剤による光電子移動反応によってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが特異的に高効率で酸を発生するものと認められる。理論的な分子モデリングからN−O結合付近にラジカルスピン密度が局在化することにより、結合開裂が高効率で生じると考えられる。これは分子モデリング技術によって、増感光電子移動反応による特異的な高効率酸発生が予想できることになり、その汎用的な波及効果は大きい。
従来、高感度のリソグラフィー材料としては、ラジカル重合系が多用され、これらは非常に有用な系である。しかし、大気中の酸素によって、生成したラジカル種が消失してしまうという欠点も有している。従って、実際は感光層の上に酸素遮断層を塗布して使用され、また、主に光があたったところが硬化するラジカル重合を用いるためネガ型が主であった。本発明では、開始剤としてラジカル発生剤は使用せず、フォトレジスト分野ですでに必要不可欠である材料、光酸発生剤(PAG)を色素により増感するというコンセプトに基づいたもので、酸素遮断層は不要となる。また、ポリマーや架橋剤との組み合わせにより、高感度のポジ型にもネガ型リソグラフィー材料を設計できることになり、その波及効果は大きい。
ピロメテン色素のひとつである2,6-diethyl-8-phenyl-1,3,5,7-tetramethylpyrromehene BF3
complex(EPP)は、文献Garcia-Morenoら,J.Phy.Chem.A.108,3315(2004)記載の方法により合成した。増感色素EPPとオキシム系光酸発生剤であるPAIOTos(みどり化学製 PAI-101 CAS No.82424-53-1)の化学構造を、式1および式2に示す。
従来から使われている酸発生剤であり実施例で用いられたPAIOTosと同じp−トルエンスルホン酸を発生するN-(trifluoromethanesulfonyloxy)-1,8-naphthalimide (NIOTos)を文献C. IwashimaらJ.Photopolym.Sci.Tech.,16,
91(2003)に従って合成した。NIOTosの構造を式3に示す。
実施例1において増感剤EPPを用いずにPAIOTosを355nmの光で励起して、実施例1と同じ方法で酸の発生の量子収率を測定したところ0.07であった。これは実施例1の増感剤とオキシム系光酸発生剤との組み合わせが、PAIOTos単独での直接光分解よりも特異的に高効率で酸を発生していることを示している。
実施例1と比較例1,2とから、オキシム系光酸発生剤であるPAIOTosは直接光励起した場合よりもピロメテン色素と組み合わせた光増感反応によって、10倍近く酸発生効率が大きくなり、ピロメテン色素とフタルイミド系の酸発生剤ピロメテン色素と組み合わせた光増感反応よりも100倍近く酸発生効率が大きくなることがわかる。すなわち、ピロメテン色素増感剤とオキシム系光酸発生剤との組み合わせのみが、特異的に高効率で酸を発生していることを示している。
ピロメテン色素増感剤であるEPPとオキシム系光酸発生剤PAIOTosこれらと2-methyl-1-propyloxypropylmethacrylate,methylmethacrylate,2-hydroxyethylmethacrylateの共重合体アセタール保護基含有ポリマー(P-8003)(Mw=12500, Mn/Mw=2.2, AV=80, Tg=90℃)(協和発酵化学製)からなるフォトポリマーを調製した。
具体的にはP-8003の18wt%シクロヘキサノン溶液を調製し、そこに固形分に対して重量比でEPP1部、オキシム系光酸発生剤4部となるように感光液を調製した。これを陽極酸化したアルミ板上にスピンコート法により製膜した後、100℃で5分間加熱乾燥したところ、1.1μmの厚さの感光膜が得られた。これにステップタブレットを通して、アルゴンイオンレーザー(514.5nm,
1.1mJ/cm2s, Spectra Physics, Model 2016)を照射し、つづいて120℃、2分間加熱後、2.38 wt%のテトラメチルアンモニウムハイドロキシド水溶液とイソプロパノールを重量比7:3で混合した現像液を用いて90秒間現像した。
これによって求められた感度は18μJ/cm2であった。これは光酸発生剤を用いるリソグラフィー材料としては極めて高感度な値である。
一般的に使用されている光酸発生剤
N-(trifluoromethanesulfonyloxy)-1,8-naphthalimide
(NIOTf)
(みどり化学製 NAI-105 CAS No.85342-62-7)を用いる以外は実施例2と同様なプロセスで感度を評価すると1.6mJ/cm2であった。この値も実用上十分なものではあるが、実施例2が特異的に高い感度(小さな露光エネルギー)でパターンを形成することがわかる。
実施例2と比較例3から、ピロメテン色素増感剤であるEPPとオキシム系光酸発生剤PAIOTosを用いたリソグラフィー材料が超強酸を発生するナフタルイミド系の酸発生剤を用いた場合よりも十分の一程度の露光量でパターン形成可能であることを示している。
以上説明したように、本発明は、直接光励起では酸発生効率がそれほど高くないオキシム系酸発生剤が光増感反応による電子移動によりラジカルアニオンになることによって、ラジカルアニオンからの特異的な高効率な酸発生をすることを見出しことにより、これを用いて高感度のリソグラフィー材料を得ているものである。この材料設計指針により比較例3にみられるような超強酸を発生する酸発生系よりも強酸の実施例1の方が高感度が得られており、多くの応用分野で酸素阻害のない、より高感度のリソグラフィーが得られる。
Claims (6)
- 増感剤とオキシム系光酸発生剤が光電子移動を起こし、オキシム系光酸発生剤のラジカルアニオンから反応が開始される光酸発生材料。
- ピロメテン系色素を増感剤とし、オキシム系光酸発生剤とした光酸発生材料。
- 光電子移動反応などによってオキシム系光酸発生剤分子から生成するラジカルアニオンが、N−O結合付近にラジカルスピン密度が局在化し、それにより、結合開裂が高効率で生じるオキシム系光酸発生剤。
- 請求項1ないし3項いずれか1項に記載の光酸発生材料を組み込んだフォトリソグラフィー材料。
- 請求項4項に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光パターニング。
- 請求項4項に記載のフォトリソグラフィー材料を用いる光リソグラフィー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006093877A JP4631059B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006093877A JP4631059B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007269853A true JP2007269853A (ja) | 2007-10-18 |
JP4631059B2 JP4631059B2 (ja) | 2011-02-16 |
Family
ID=38672990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006093877A Active JP4631059B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4631059B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010029948A1 (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-18 | 国立大学法人千葉大学 | 光酸発生剤材料、フォトリソグラフィー材料及びこれを用いたパターン膜の製造方法。 |
JP2011039319A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子 |
WO2012121235A1 (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-13 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09222725A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-08-26 | Ciba Geigy Ag | オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用 |
JP2000056458A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-25 | Kansai Paint Co Ltd | ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びその用途 |
JP2002236360A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Mitsui Chemicals Inc | 感光性樹脂組成物及び該用途 |
JP2004163800A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性樹脂組成物 |
-
2006
- 2006-03-30 JP JP2006093877A patent/JP4631059B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09222725A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-08-26 | Ciba Geigy Ag | オキシムスルホン酸エステルおよび潜伏性スルホン酸としてのそれらの使用 |
JP2000056458A (ja) * | 1998-08-05 | 2000-02-25 | Kansai Paint Co Ltd | ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びその用途 |
JP2002236360A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Mitsui Chemicals Inc | 感光性樹脂組成物及び該用途 |
JP2004163800A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 感光性樹脂組成物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010029948A1 (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-18 | 国立大学法人千葉大学 | 光酸発生剤材料、フォトリソグラフィー材料及びこれを用いたパターン膜の製造方法。 |
JP5483115B2 (ja) * | 2008-09-09 | 2014-05-07 | 国立大学法人 千葉大学 | 光酸発生剤材料、フォトリソグラフィー材料及びこれを用いたパターン膜の製造方法。 |
JP2011039319A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子 |
WO2012121235A1 (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-13 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性組成物、硬化物、及び、活性光線硬化物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4631059B2 (ja) | 2011-02-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2267532B1 (en) | Photoacid generators and photoresists comprising same | |
JP3549748B2 (ja) | 化学的に増幅された電子線リソグラフィ用レジスト | |
JPH03289658A (ja) | ポジ画像の形成方法 | |
JP3228193B2 (ja) | ネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
US5928841A (en) | Method of photoetching at 180 to 220 | |
JP2708363B2 (ja) | ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物及びマイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法 | |
JPH0215270A (ja) | フォトレジスト組成物 | |
JP4293749B2 (ja) | 化学増幅レジスト用ポリマーおよびこれを利用したレジスト組成物 | |
JP4002057B2 (ja) | 有機反射防止膜用組成物、及び有機反射防止膜パターン形成方法 | |
JP4631059B2 (ja) | 光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー | |
JP2004301996A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH0426850A (ja) | 感放射線樹脂組成物及びその組成物を用いたパターン形成方法 | |
KR102651485B1 (ko) | 다중 트리거 모노머 함유 포토레지스트 조성물 및 방법 | |
JP4406248B2 (ja) | フルオレンジカルボン酸エステルおよび感光性樹脂組成物 | |
TWI307451B (en) | Photoresist composition | |
JP5559976B2 (ja) | 画像形成方法と光硬化画像、およびその方法に用いる光硬化性組成物 | |
JP2747735B2 (ja) | レジスト材料 | |
JP2847413B2 (ja) | レジスト材料 | |
JPH08240911A (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
JP2750310B2 (ja) | 近紫外−可視域イメージング用ポジチブフォトレジスト | |
JP3735572B2 (ja) | 化学増幅レジスト及び組成物 | |
JPH04269754A (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
JP3191244B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた画像記録材料 | |
JP3040520B2 (ja) | 遠紫外光用ホトレジスト組成物 | |
JP2861992B2 (ja) | 新規なレジスト材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100511 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100827 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101019 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |