WO2012118063A1 - フッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法 - Google Patents

フッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法 Download PDF

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Abstract

 N,N-ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩などのフッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩と、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物とを、減圧下において40℃程度の低温で反応させることによって、N,N-ジ(フルオロスルホニル)イミドリチウム塩、N,N-ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩、N,N-ジ(フルオロスルホニル)イミドナトリウム塩などのフッ素含有スルホニルイミドアルカリ金属塩を得る。

Description

フッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法
 本発明はフッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法に関する。より詳細に、本発明は、フッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩から、フッ素含有スルホニルイミドアルカリ金属塩またはフッ素含有スルホニルイミドオニウム塩(アンモニウム塩を除く)を効率良く製造する方法に関する。
 本願は、2011年3月3日に、日本に出願された特願2011-046739号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 フッ素含有スルホニルイミド塩は、電解質や、燃料電池の電解液への添加物、選択的吸電子材などとして様々な分野において有用な化合物である(特許文献1)。
 フッ素含有スルホニルイミド塩の合成法が種々提案されている。例えば、特許文献2には、フッ素含有スルホニルイミドオニウム塩とアルカリ金属化合物とを反応させることによって、フッ素含有スルホニルイミド塩を製造する方法が提案されている。具体的に、特許文献2では、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドトリエチルアンモニウム塩と水酸化リチウム一水和物を溶解した水溶液とを常圧下において混合し、溶媒を蒸留乾固することによって、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドリチウム塩を得ている。
 また、特許文献3には、アンモニウムシクロ-パーフルオロアルカン-1,n-ビス〔スルホニル〕イミドのテトラヒドロフラン溶液に、水酸化リチウム一水塩のテトラヒドロフラン溶液を添加し、120分間煮沸することによってリチウムシクロ-パーフルオロアルカン-1,n-ビス〔スルホニル〕イミドを得たことが記載されている。
特表平08-511274号公報 特開2010-168249号公報 特表2000-506132号公報
 特許文献2や3に記載の方法では、フッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩とアルカリ金属塩とのカチオン交換反応が効率よく進行しない場合があった。
 そこで、本発明の課題は、フッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩から、フッ素含有スルホニルイミドアルカリ金属塩またはフッ素含有スルホニルイミドオニウム塩(アンモニウム塩を除く)を効率良く製造する方法を提供することにある。
 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、フッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩に、金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いて、低温減圧下において、カチオン交換反応させることによって、フッ素含有スルホニルイミド金属塩またはフッ素含有スルホニルイミドオニウム塩(アンモニウム塩を除く)を効率よく製造できることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成するに至ったものである。
 すなわち、本発明は、
(1)式〔I〕で表されるフッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩(以下、化合物〔I〕と表記することがある。)に、金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いて、減圧下において、カチオン交換反応させることを含む式〔II〕で表されるフッ素含有スルホニルイミド塩(以下、化合物〔II〕と表記することがある。)の製造方法や、
(2)前記少なくとも1種の化合物がアルカリ金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれる(1)に記載のフッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式〔I〕中、R1およびR2は、それぞれ独立して、1~6個の炭素原子を有するフッ化アルキル基、またはフッ素原子を示す。R1とR2とが結合して環を形成してもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式〔II〕中、Mn+は、金属カチオンまたはオニウムカチオン(NH4 +を除く。)を示し、nは金属カチオンまたはオニウムカチオン(NH4 +を除く。)の価数に相当し且つ1~4のいずれかの整数を示し、R1およびR2は式〔I〕におけるものと同じものを示す。R1とR2とが結合して環を形成してもよい。)
 本発明によれば、フッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩から、フッ素含有スルホニルイミド金属塩またはフッ素含有スルホニルイミドオニウム塩(アンモニウム塩を除く)を工業的に効率よく製造することができる。
(化合物〔II〕の製造方法)
 本発明に係る化合物〔II〕の製造方法は、化合物〔I〕に、金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いて、減圧下において、カチオン交換反応させることを含むものである。前記少なくとも1種の化合物は、アルカリ金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれることが好ましく、アルカリ金属水酸化物であることがより好ましい。
 本発明に用いられる化合物〔I〕は、式〔I〕で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式〔I〕中、R1およびR2は、それぞれ独立して、1~6個の炭素原子を有するフッ化アルキル基、またはフッ素原子を示す。R1とR2とが結合して環を形成してもよい。これらのうち、R1およびR2は、フッ素原子が好ましい。
 R1およびR2における、フッ化アルキル基を構成する炭素原子の数は、1~6個、好ましくは1~4個、より好ましくは1~2個である。フッ化アルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、ペルフルオロ-n-プロピル基、フルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、フルオロブチル基、3,3,4,4,4-ペンタフルオロブチル基、ペルフルオロ-n-ブチル基、ペルフルオロイソブチル基、ペルフルオロ-t-ブチル基、ペルフルオロ-sec-ブチル基、フルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロイソペンチル基、ペルフルオロ-t-ペンチル基、フルオロヘキシル基、ペルフルオロ-n-ヘキシル基、ペルフルオロイソヘキシル基などを挙げることができる。これらの中でも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基またはペルフルオロ-n-プロピル基が好ましく、トリフルオロメチル基またはペンタフルオロエチル基がより好ましい。
 化合物〔I〕の具体例としては、ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドアンモニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドアンモニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドアンモニウム塩や; シクロジフルオロメタンビス(スルホニル)イミドアンモニウム塩、シクロテトラフルオロエタンビス(スルホニル)イミドアンモニウム塩(別名:4,4,5,5-テトラフルオロ-1,3,2-ジチアゾリジン-1,1,3,3-テトラオキシドアンモニウム塩)、シクロヘキサフルオロプロパンビス(スルホニル)イミドアンモニウム塩(別名:4,4,5,5,6,6-ヘキサフルオロ-1,3,2-ジチアジナン-1,1,3,3-テトラオキシドアンモニウム塩)などの環状フルオロアルカンビス(スルホニル)イミドアンモニウム塩を挙げることができる。これらのうちジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩が好ましい。
 化合物〔I〕は、その製造方法によって特に制限されない。化合物〔I〕は、市販品であってもよいし、特開2010-168249号公報に記載の方法によって製造されたものであってもよい。
 カチオン交換反応に用いられる金属水酸化物としては、化合物〔I〕と反応してカチオン交換するものであれば特に制限されないが、アルカリ金属水酸化物であるのが好ましい。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウムなどを挙げることができる。これらのうち、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。これらの化合物は、水和物であってもよい。
 カチオン交換反応に用いられるオニウム水酸化物(オニウムヒドロキシド)は、オニウムカチオンと水酸化物アニオンとからなる物質である。オニウム水酸化物として、1,3-ジメチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-アリル-3-エチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-アリル-3-ブチルイミダゾリウムヒドロキシド、1,3-ジアリルイミダゾリウムヒドロキシド、1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムヒドロキシド、1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムヒドロキシドなどのイミダゾリウムの水酸化物;
 2-エチル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムヒドロキシド、2-プロピル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムヒドロキシド、2-ブチル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムヒドロキシド、2-ヘキシル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムヒドロキシドなどのピラゾリウムの水酸化物;
 1-エチルピリジニウムヒドロキシド、1-ブチルピリジニウムヒドロキシド、1-ヘキシルピリジニウムヒドロキシド、1-オクチルピリジニウムヒドロキシド、1-エチル-3-メチルピリジニウムヒドロキシド、1-エチル-3-ヒドロキシメチルピリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-3-メチルピリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-4-メチルピリジニウムヒドロキシド、1-オクチル-4-メチルピリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムヒドロキシドなどのピリジニウムの水酸化物;
 1-プロピル-1-メチルピロリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-1-メチルピロリジニウムヒドロキシド、1-ヘキシル-1-メチルピロリジニウムヒドロキシド、1-オクチル-1-メチルピロリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-1-プロピルピロリジニウムヒドロキシドなどのピロリジニウムの水酸化物;
 1-プロピル-1-メチルピペリジニウムヒドロキシド、1-ブチル-1-メチルピペリジニウムヒドロキシド、1-(2-メトキシエチル)-1-メチルピペリジニウムヒドロキシドなどのピペリジニウムの水酸化物;
 4-プロピル-4-メチルモルホリニウムヒドロキシド、4-(2-メトキシエチル)-4-メチルモルホリニウムヒドロキシドなどのモルホリニウムの水酸化物;
 テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘプチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルメチルアンモニウムヒドロキシド、プロピルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジエチル-2-メトキシエチルメチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリオクチルアンモニウムヒドロキシド、シクロヘキシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルジステアリルアンモニウムヒドロキシド、ジアリルジメチルアンモニウムヒドロキシド、2-メトキシエトキシメチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラキス(ペンタフルオロエチル)アンモニウムヒドロキシド、N-メトキシトリメチルアンモニウムヒドロキシド、N-エトキシトリメチルアンモニウムヒドロキシド、N-プロポキシトリメチルアンモニウムヒドロキシドなど4級アンモニウムの水酸化物;
 トリヘキシルテトラデシルホスホニウムヒドロキシドなどのホスホニウムの水酸化物;
 トリメチルスルホニウムヒドロキシドなどのスルホニウムの水酸化物;
 グアニジニウムヒドロキシド、2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルグアニジニウムヒドロキシドなどのグアニジニウムの水酸化物;
 2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソウロニウムヒドロキシドなどのイソウロニウムの水酸化物; および
 2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソチオウロニウムヒドロキシドなどのイソチオウロニウムの水酸化物を挙げることができる。
 これらのアルカリ金属水酸化物またはオニウム水酸化物を用いると、カチオン交換反応においてアンモニアが副生する。このアンモニアを減圧下において除去しながら反応させることによって平衡をカチオン交換反応が促進する状態に偏らせることができる。
 金属水酸化物およびオニウム水酸化物の使用量は、該水酸化物に由来するカチオンの平均価数に応じて適宜調整することができる。具体的には、金属水酸化物およびオニウム水酸化物の量は、化合物〔I〕1g当量に対して、好ましくは1g当量~10g当量、より好ましくは1g当量~5g当量である。アルカリ金属水酸化物だけを使用する場合には該アルカリ金属水酸化物の量は、化合物〔I〕1モルに対して、好ましくは1モル~10モル、より好ましくは1モル~5モルである。オニウム水酸化物だけを使用する場合には該オニウム水酸化物の量は、オニウムカチオンの価数に応じて異なるが、化合物〔I〕1モルに対して、好ましくは0.3モル~10モル、より好ましくは0.3モル~5モルである。
 本発明におけるカチオン交換反応は、溶媒の存在下で行うことができる。
 該溶媒は、特に限定されない。例えば、水;メタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、n-ブタノール等のアルコール系溶媒;ジオキサン、1,2-ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系溶媒;トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセタミド、N-メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒;酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、およびこれらの二種以上からなる混合溶媒;などを挙げることができる。これらのうち、精製時の作業性からは、水と2層状態を形成し得る溶媒が好ましい。具体的には、酢酸エチル、酢酸イソプロピル及び酢酸ブチルが特に好ましい。
 カチオン交換反応時の温度は、溶媒の常圧における沸点よりも低いことが好ましい。具体的に、カチオン交換反応時の温度は、好ましくは0℃~200℃、より好ましくは0℃~100℃、さらに好ましくは10~100℃、特に好ましくは10~60℃である。反応に要する時間は、反応規模によって異なるが、好ましくは0.1時間~48時間、より好ましくは0.5時間~24時間である。
 カチオン交換反応は、減圧下で実施する。減圧下で実施するとカチオン交換反応で副生するアンモニアが除去され、平衡が偏り、効率よく目的物を合成することができる。真空度は、上記の温度において溶媒が還流する程度にすることが好ましい。
 反応時の圧力は、大気圧より低い圧力であれば特に限定されないが、好ましくは大気圧より10torr低い圧力以下、より好ましくは大気圧より100torr低い圧力以下、さらに好ましくは大気圧より300torr低い圧力以下である。圧力の下限は、溶媒の蒸気圧に依存するが、好ましくは0.01torr、より好ましくは10torrである。
 上記のカチオン交換反応によって化合物〔II〕を得ることができる。化合物〔II〕は、式〔II〕で表されるフッ素含有スルホニルイミド塩である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式〔II〕中、Mn+は、金属カチオンまたはオニウムカチオン(NH4 +を除く。)を示し、nは金属カチオンまたはオニウムカチオン(NH4 +を除く。)の価数に相当し且つ1~4のいずれかの整数(好ましくは1~3のいずれかの整数)を示し、R1およびR2は式〔I〕におけるものと同じものを示す。R1とR2とが結合して環を形成してもよい。
 金属カチオンとしては、特に制限されないが、アルカリ金属カチオンであるのが好ましい。アルカリ金属カチオンとしては、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、ルビジウムカチオン、セシウムカチオンなどを挙げることができる。これらのうちリチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンが好ましい。
 オニウムカチオン(NH4 +を除く。)としては、1,3-ジメチルイミダゾリウムカチオン、1-エチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-ヘキシル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-オクチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-アリル-3-エチルイミダゾリウムカチオン、1-アリル-3-ブチルイミダゾリウムカチオン、1,3-ジアリルイミダゾリウムヒドロキシド、1-エチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムカチオン、1-ブチル-2,3-ジメチルイミダゾリウムカチオン、1-ヘキシル-2,3-ジメチルイミダゾリウムカチオンなどのイミダゾリウムカチオン;
 2-エチル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムカチオン、2-プロピル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムカチオン、2-ブチル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムカチオン、2-ヘキシル-1,3,5-トリメチルピラゾリウムカチオンなどのピラゾリウムカチオン;
 1-エチルピリジニウムカチオン、1-ブチルピリジニウムカチオン、1-ヘキシルピリジニウムカチオン、1-オクチルピリジニウムカチオン、1-エチル-3-メチルピリジニウムカチオン、1-エチル-3-ヒドロキシメチルピリジニウムカチオン、1-ブチル-3-メチルピリジニウムカチオン、1-ブチル-4-メチルピリジニウムカチオン、1-オクチル-4-メチルピリジニウムカチオン、1-ブチル-3,4-ジメチルピリジニウムカチオン、1-ブチル-3,5-ジメチルピリジニウムカチオンなどのピリジニウムカチオン;
 1-プロピル-1-メチルピロリジニウムカチオン、1-ブチル-1-メチルピロリジニウムカチオン、1-ヘキシル-1-メチルピロリジニウムカチオン、1-オクチル-1-メチルピロリジニウムカチオン、1-ブチル-1-プロピルピロリジニウムカチオンなどのピロリジニウムカチオン;
 1-プロピル-1-メチルピペリジニウムカチオン、1-ブチル-1-メチルピペリジニウムカチオン、1-(2-メトキシエチル)-1-メチルピペリジニウムカチオンなどのピペリジニウムカチオン;
 4-プロピル-4-メチルモルホリニウムカチオン、4-(2-メトキシエチル)-4-メチルモルホリニウムカチオンなどのモルホリニウムカチオン;
 テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、テトラプロピルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン、テトラヘプチルアンモニウムカチオン、テトラヘキシルアンモニウムカチオン、テトラオクチルアンモニウムカチオン、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、プロピルトリメチルアンモニウムカチオン、ジエチル-2-メトキシエチルメチルアンモニウムカチオン、メチルトリオクチルアンモニウムカチオン、シクロヘキシルトリメチルアンモニウムカチオン、2-ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムカチオン、トリメチルフェニルアンモニウムカチオン、ベンジルトリメチルアンモニウムカチオン、ベンジルトリブチルアンモニウムカチオン、ベンジルトリエチルアンモニウムカチオン、ジメチルジステアリルアンモニウムカチオン、ジアリルジメチルアンモニウムカチオン、2-メトキシエトキシメチルトリメチルアンモニウムカチオン、テトラキス(ペンタフルオロエチル)アンモニウムカチオン、N-メトキシトリメチルアンモニウムカチオン、N-エトキシトリメチルアンモニウムカチオン、N-プロポキシトリメチルアンモニウムカチオンなど4級アンモニウムカチオン;
 トリヘキシルテトラデシルホスホニウムカチオンなどのホスホニウムカチオン;
 トリメチルスルホニウムカチオンなどのスルホニウムカチオン;
 グアニジニウムカチオン、2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルグアニジニウムカチオンなどのグアニジニウムカチオン;
 2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソウロニウムカチオンなどのイソウロニウムカチオン; および
 2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソチオウロニウムカチオンなどのイソチオウロニウムカチオンを挙げることができる。
 化合物〔II〕の具体例としては、ジ(フルオロスルホニル)イミドリチウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドリチウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドリチウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドリチウム塩、4,4,5,5-テトラフルオロ-1,3,2-ジチアゾリジン-1,1,3,3-テトラオキシドリチウム塩、4,4,5,5,6,6-ヘキサフルオロ-1,3,2-ジチアジナン-1,1,3,3-テトラオキシドリチウム塩などのリチウム塩化合物や、
 ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドカリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドカリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドカリウム塩などのカリウム塩化合物や、
 ジ(フルオロスルホニル)イミドナトリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドナトリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドナトリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドナトリウム塩などのナトリウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミド1,3-ジメチルイミダゾリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミド1,3-ジメチルイミダゾリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド1,3-ジメチルイミダゾリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミド1,3-ジメチルイミダゾリウム塩などのイミダゾリウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミドピラゾリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドピラゾリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドピラゾリウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドピラゾリウム塩などのピラゾリウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミド1-エチルピリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミド1-エチルピリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド1-エチルピリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミド1-エチルピリジニウム塩などのピリジニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミドピロリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドピロリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドピロリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドピロリジニウム塩などのピロリジニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミド1-プロピル-1-メチルピペリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミド1-プロピル-1-メチルピペリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド1-プロピル-1-メチルピペリジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミド1-プロピル-1-メチルピペリジニウム塩などのピペリジニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミド4-プロピル-4-メチルモルホリニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミド4-プロピル-4-メチルモルホリニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド4-プロピル-4-メチルモルホリニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミド4-プロピル-4-メチルモルホリニウム塩などのモルホリニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミドテトラメチルアンモニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドテトラメチルアンモニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドテトラメチルアンモニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドテトラメチルアンモニウム塩などの4級アンモニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミドトリヘキシルテトラデシルホスホニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドトリヘキシルテトラデシルホスホニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドトリヘキシルテトラデシルホスホニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドトリヘキシルテトラデシルホスホニウム塩などのホスホニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミドトリメチルスルホニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドトリメチルスルホニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドトリメチルスルホニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドトリメチルスルホニウム塩などのスルホニウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミドグアニジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミドグアニジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミドグアニジニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミドグアニジニウム塩などのグアニジウム塩化合物;
 ジ(フルオロスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソウロニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソウロニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソウロニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソウロニウム塩などのイソウロニウム塩化合物; および
 ジ(フルオロスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソチオウロニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(トリフルオロメチルスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソチオウロニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソチオウロニウム塩、N-(フルオロスルホニル)-N-(ペルフルオロ-n-プロピルスルホニル)イミド2-エチル-1,1,3,3-テトラメチルイソチオウロニウム塩などのイソチオウロニウム塩化合物を挙げることができる。
 本発明の製造方法に従って得られる化合物〔II〕は、一次電池、リチウムイオン二次電池などの二次電池、電解コンデンサ、電気二重層キャパシタ、燃料電池、太陽電池、エレクトロクロミック素子などの電気化学デバイスを構成するイオン伝導体の材料として好適に用いることができる。
 以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜に変更を加えて実施することが勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
実施例1
(ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩の合成)
 反応容器に、ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩6.2g(23.5mmol)、酢酸ブチル47ml、および水酸化カリウム16.5g(58.8mmol)の20%水溶液を仕込み、絶対圧力65torr(約8.669kPa)、温度37℃で1時間還流した。反応液を25℃に冷却した。その後、分液し、水相を酢酸ブチル24mlで3回抽出した。各抽出操作において得られた有機相を混ぜ合わせ、減圧下で溶媒を留去した。これに塩化メチレン39mlを添加し、20℃で30分間撹拌した。その後、結晶を濾別した。得られた結晶を塩化メチレン39mlで洗浄し、20℃で減圧乾燥させた。ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩4.6gが得られた。陽イオンクロマトで定量分析した結果、生成物のすべては、カリウム塩であり、アンモニウムイオンを含まないものであった。
実施例2
(ジ(フルオロスルホニル)イミドリチウム塩の合成)
 ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩9.8g(49.6mmol)に、酢酸ブチル99ml、水酸化リチウム・1水和物6.2g(148.8mmol)、および水37mlを添加し、絶対圧力65torr(約8.669kPa)、温度37℃で1時間加熱還流した。反応液を25℃に冷却した。その後、分液し、水相を酢酸ブチル50mlで3回抽出した。各抽出操作において得られた有機相を混ぜ合わせ、水3mlで2回洗浄した。その後、減圧下で溶媒を留去した。これに塩化メチレン50mlを添加し、20℃で19時間撹拌した。その後、結晶を濾別した。得られた結晶を塩化メチレン50mlで洗浄し、20℃で減圧乾燥させた。ジ(フルオロスルホニル)イミドリチウム塩4.5gが得られた。陽イオンクロマトで定量分析した結果、生成物のすべてがリチウム塩であり、アンモニウムイオンを含まないものであった。
実施例3
(ジ(フルオロスルホニル)イミドナトリウム塩の合成)
 ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩4.9g(24.7mmol)に、酢酸ブチル49ml、および水酸化ナトリウム12.4g(61.8mmol)の20%水溶液を添加し、絶対圧力65torr(約8.669kPa)、温度37℃で1時間加熱還流した。反応液を25℃に冷却した。その後、分液し、水相を酢酸ブチル25mlで3回抽出した。各抽出操作において得られた有機相を混ぜ合わせ、減圧下で溶媒を留去した。これに塩化メチレン41mlを添加し、20℃で15分間撹拌した。その後、結晶を濾別した。得られた結晶を塩化メチレン20mlで洗浄し、20℃で減圧乾燥させた。ジ(フルオロスルホニル)イミドナトリウム塩3.5gが得られた。陽イオンクロマトで定量分析した結果、生成物のすべてがナトリウム塩であり、アンモニウムイオンを含まないものであった。
実施例4
(ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩の合成)
 フッ素樹脂製反応容器に、ジ(クロロスルホニル)イミド2.14g(10.0mmol)を仕込んだ。これに酢酸エチル20ml、NHF1.78g(48.0mmol)を添加し、75℃で4時間還流して反応させた。反応終了後、室温に冷却し、水2.5mlで洗浄し、ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩を得た。
(ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩の合成)
 上記で得られたジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩の酢酸エチル溶液に、水酸化カリウム0.84g(15.0mmol)の10%水溶液を添加し、絶対圧力225torr(約29.997kPa)、温度40℃で1時間加熱還流した。反応液を25℃に冷却した。その後、分液し、水相を酢酸エチル20mlで2回抽出した。各抽出操作において得られた有機相を混ぜ合わせ、減圧下で溶媒を留去した。ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩1.55gが得られた。陽イオンクロマトで定量分析した結果、ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩とアンモニウム塩が97:3のモル比であった。
比較例1
(ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩の合成)
 反応容器に、ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩0.90g(4.6mmol)、酢酸ブチル10ml、および水酸化カリウム0.40g(7.2mmol)の10%水溶液を仕込み、大気圧(約101.325kPa)、温度20℃で1時間撹拌した。その後、分液し、水相を酢酸ブチル10mlで2回抽出した。各抽出操作において得られた有機相を混ぜ合わせ、減圧下で溶媒を留去した。ジ(フルオロスルホニル)イミド塩0.66gが得られた。陽イオンクロマトで定量分析した結果、ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩とアンモニウム塩とのモル比は91:9であった。
比較例2
(ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩の合成)
 フッ素樹脂製反応容器に、ジ(クロロスルホニル)イミド2.14g(10.0mmol)を仕込んだ。これに酢酸エチル20ml、NH4F1.78g(48.0mmol)を添加し、75℃で4時間還流して反応させた。反応終了後、室温に冷却し、水2.5mlで洗浄し、ジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩を得た。
(ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩の合成)
 上記で得られたジ(フルオロスルホニル)イミドアンモニウム塩の酢酸エチル溶液に、水酸化カリウム0.84g(15.0mmol)の10%水溶液を添加し、大気圧(約101.325kPa)、温度40℃で1時間加熱還流した。反応液を25℃に冷却した。その後、分液し、水相を酢酸エチル20mlで2回抽出した。各抽出操作において得られた有機相を混ぜ合わせ、減圧下で溶媒を留去した。ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩1.38gが得られた。陽イオンクロマトで定量分析した結果、ジ(フルオロスルホニル)イミドカリウム塩とアンモニウム塩とのモル比は84:16であった。
 本発明によれば、フッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩から、フッ素含有スルホニルイミドアルカリ金属塩またはフッ素含有スルホニルイミドオニウム塩(アンモニウム塩を除く)を工業的に効率よく製造することができる。

Claims (2)

  1.  式〔I〕:
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    (式〔I〕中、R1およびR2は、それぞれ独立して、1~6個の炭素原子を有するフッ化アルキル基、またはフッ素原子を示す。R1とR2とが結合して環を形成してもよい)
    で表されるフッ素含有スルホニルイミドアンモニウム塩に、金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いて、減圧下において、カチオン交換反応させることを含む、式〔II〕:
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    (式〔II〕中、Mn+は、金属カチオンまたはオニウムカチオン(NH4 +を除く。)を示し、nは金属カチオンまたはオニウムカチオン(NH4 +を除く。)の価数に相当し且つ1~4のいずれかの整数を示し、R1およびR2は式〔I〕におけるものと同じものを示し、R1とR2とが結合して環を形成してもよい)
    で表されるフッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法。
  2.  前記少なくとも1種の化合物がアルカリ金属水酸化物およびオニウム水酸化物からなる群から選ばれる請求項1に記載のフッ素含有スルホニルイミド塩の製造方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015056625A1 (ja) * 2013-10-17 2015-04-23 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩およびその製造方法
WO2015072353A1 (ja) * 2013-11-18 2015-05-21 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩の顆粒または粉末、およびその製造方法
JP2016105370A (ja) * 2014-12-01 2016-06-09 セントラル硝子株式会社 非水電解液電池用電解液、及びこれを用いた非水電解液電池
JP2018055882A (ja) * 2016-09-27 2018-04-05 株式会社日本触媒 ビス(フルオロスルホニル)イミドのアルカリ金属塩と有機溶媒とを含む電解液材料の製造方法、及びビス(フルオロスルホニル)イミドのアルカリ金属塩と有機溶媒とを含む電解液材料
JP2020500132A (ja) * 2016-12-08 2020-01-09 アルケマ フランス LiFSIを乾燥及び精製するための方法
JP2020500133A (ja) * 2016-12-08 2020-01-09 アルケマ フランス リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩を乾燥及び精製するための方法
JP2021526500A (ja) * 2018-06-01 2021-10-07 アルケマ フランス リチウム ビス(フルオロスルホニル)イミド塩を精製するための方法
WO2022186160A1 (ja) 2021-03-01 2022-09-09 株式会社日本触媒 電解質成形体の製造方法及び電解質成形体
WO2023276812A1 (ja) 2021-06-30 2023-01-05 株式会社日本触媒 組成物の製造方法及び非水電解液
WO2023276568A1 (ja) 2021-06-30 2023-01-05 株式会社日本触媒 スルホニルイミド水溶液の精製方法、非水電解液の製造方法及び電解質組成物の製造方法
WO2023276561A1 (ja) 2021-06-30 2023-01-05 株式会社日本触媒 非水電解液の製造方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2826747C (en) 2011-02-10 2016-02-09 Nippon Soda Co., Ltd. Process for production of fluorosulfonylimide ammonium salt
KR20150061024A (ko) 2011-03-03 2015-06-03 닛뽕소다 가부시키가이샤 플루오로술포닐이미드암모늄염의 제조 방법
KR101741939B1 (ko) * 2013-03-18 2017-05-30 닛뽕소다 가부시키가이샤 디술포닐아민알칼리 금속염의 제조 방법
JP6478775B2 (ja) 2014-05-15 2019-03-06 キヤノン株式会社 アミン化合物及びイオン導電剤、導電性樹脂組成物
JP6489910B2 (ja) * 2014-05-15 2019-03-27 キヤノン株式会社 ヒドロキシ化合物、イオン導電剤、および導電性樹脂組成物
CN105523530B (zh) * 2014-10-23 2018-09-07 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 一种双(氟磺酰)亚胺钾的制备方法
US20180362343A1 (en) 2015-11-13 2018-12-20 Lonza Ltd Method for the preparation of bis(fluorosulfonyl)-imide and of its salts
KR101718292B1 (ko) * 2015-11-26 2017-03-21 임광민 리튬 비스(플루오르술포닐)이미드의 신규한 제조방법
EP3577710A4 (en) * 2017-01-31 2020-12-23 Synthio Chemicals, LLC PROCESS FOR PRODUCTION OF AN ELECTROLYTIC SOLUTION OF HYGROSCOPIC ALKALINE METAL SALT
CN110520431B (zh) 2017-04-10 2022-02-18 中央硝子株式会社 磷酰亚胺盐的制造方法、包含该盐的非水电解液的制造方法和非水二次电池的制造方法
CN106976849B (zh) * 2017-04-20 2020-05-26 江苏国泰超威新材料有限公司 一种双氟磺酰亚胺锂的提纯方法
CN107244662B (zh) * 2017-05-31 2019-03-15 上海康鹏科技有限公司 一种双(氟代磺酰基)亚胺钾盐的制备方法
US20190267636A1 (en) * 2018-02-27 2019-08-29 GM Global Technology Operations LLC Enhancing catalyst activity of a pem fuel cell electrode with an ionic liquid additive
CN108373143B (zh) * 2018-03-22 2020-06-16 厦门大学 一种双氟磺酰亚胺锂的除氯提纯方法
FR3081724A1 (fr) * 2018-06-01 2019-12-06 Arkema France Procede de purification du sel de lithium de bis(fluorosulfonyl)imide
WO2022231366A1 (ko) * 2021-04-30 2022-11-03 주식회사 솔테시스 리튬전지의 안정성을 향상시키는 비스플루오로설포닐이미드 세슘염을 고순도로 제조하는 방법
WO2023025776A1 (en) 2021-08-27 2023-03-02 Solvay Sa Reactive distillation process for preparing fluorosulfonylimide salts

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5795813A (en) * 1980-10-16 1982-06-14 Hoechst Ag Manufacture of alkali metal salt of imidodisulfonic acid
JPH08511274A (ja) 1994-03-21 1996-11-26 サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・ルシェルシュ・シャンティフィク 良好な耐食性を示すイオン性伝導材料
JP2000506132A (ja) 1996-03-01 2000-05-23 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 環状パーフルオロアルカンビス(スルホニル)イミドとこのような新規な四員環イミドの製造方法
JP2010168249A (ja) 2009-01-22 2010-08-05 Nippon Shokubai Co Ltd フルオロスルホニルイミド類およびその製造方法
JP2010189372A (ja) * 2008-03-31 2010-09-02 Nippon Shokubai Co Ltd フルオロスルホニルイミド類およびその製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3882128A (en) 1969-01-03 1975-05-06 Petrolite Corp Isocyanated imides of hydrocarbon anhydrides and blends thereof
WO1999040025A1 (fr) 1998-02-03 1999-08-12 Acep Inc. Nouveaux materiaux utiles en tant que solutes electrolytiques
US6508940B1 (en) 2000-10-20 2003-01-21 Sachem, Inc. Process for recovering onium hydroxides from solutions containing onium compounds
US7919629B2 (en) 2005-12-12 2011-04-05 Phostech Lithium Inc. Sulphonyl-1,2,4-triazole salts
JP2009292728A (ja) 2006-09-22 2009-12-17 Asahi Glass Co Ltd 新規なクロロフルオロスルホンイミド類およびその製造方法
EP2179995A4 (en) 2007-08-17 2012-05-09 Asahi Glass Co Ltd METHOD FOR THE PRODUCTION OF PURIFIED AMMONIUM SALT FROM FLUORINATED BIS-SULFONYLIMIDE
JP5208782B2 (ja) 2009-01-22 2013-06-12 株式会社日本触媒 フルオロスルホニルイミド類およびその製造方法
WO2009123328A1 (en) 2008-03-31 2009-10-08 Nippon Shokubai Co., Ltd. Sulfonylimide salt and method for producing the same
CN102046523A (zh) 2008-07-23 2011-05-04 第一工业制药株式会社 双(氟磺酰基)亚胺阴离子化合物的制备方法和离子对化合物
CN101503382A (zh) 2009-03-13 2009-08-12 中国科学院上海有机化学研究所 一种氟烷基磺酰亚胺及其氟烷基磺酰亚胺盐、制备方法和用途
CN102482207B (zh) * 2009-09-04 2014-07-09 旭硝子株式会社 双磺酰亚胺基铵盐、双磺酰亚胺以及双磺酰亚胺基锂盐的制造方法
CA2826747C (en) 2011-02-10 2016-02-09 Nippon Soda Co., Ltd. Process for production of fluorosulfonylimide ammonium salt
KR20150061024A (ko) 2011-03-03 2015-06-03 닛뽕소다 가부시키가이샤 플루오로술포닐이미드암모늄염의 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5795813A (en) * 1980-10-16 1982-06-14 Hoechst Ag Manufacture of alkali metal salt of imidodisulfonic acid
JPH08511274A (ja) 1994-03-21 1996-11-26 サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・ルシェルシュ・シャンティフィク 良好な耐食性を示すイオン性伝導材料
JP2000506132A (ja) 1996-03-01 2000-05-23 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 環状パーフルオロアルカンビス(スルホニル)イミドとこのような新規な四員環イミドの製造方法
JP2010189372A (ja) * 2008-03-31 2010-09-02 Nippon Shokubai Co Ltd フルオロスルホニルイミド類およびその製造方法
JP2010168249A (ja) 2009-01-22 2010-08-05 Nippon Shokubai Co Ltd フルオロスルホニルイミド類およびその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2662332A4

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015056625A1 (ja) * 2013-10-17 2015-04-23 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩およびその製造方法
WO2015072353A1 (ja) * 2013-11-18 2015-05-21 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩の顆粒または粉末、およびその製造方法
JP6034981B2 (ja) * 2013-11-18 2016-11-30 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩の顆粒または粉末、およびその製造方法
JPWO2015072353A1 (ja) * 2013-11-18 2017-03-16 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩の顆粒または粉末、およびその製造方法
JP2017052689A (ja) * 2013-11-18 2017-03-16 日本曹達株式会社 ジスルホニルアミド塩の顆粒または粉末
US10214419B2 (en) 2013-11-18 2019-02-26 Nippon Soda Co., Ltd. Granules or powder of disulfonylamide salt and method for producing same
JP2016105370A (ja) * 2014-12-01 2016-06-09 セントラル硝子株式会社 非水電解液電池用電解液、及びこれを用いた非水電解液電池
JP2018055882A (ja) * 2016-09-27 2018-04-05 株式会社日本触媒 ビス(フルオロスルホニル)イミドのアルカリ金属塩と有機溶媒とを含む電解液材料の製造方法、及びビス(フルオロスルホニル)イミドのアルカリ金属塩と有機溶媒とを含む電解液材料
JP2020500132A (ja) * 2016-12-08 2020-01-09 アルケマ フランス LiFSIを乾燥及び精製するための方法
JP2020500133A (ja) * 2016-12-08 2020-01-09 アルケマ フランス リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩を乾燥及び精製するための方法
US11084723B2 (en) 2016-12-08 2021-08-10 Arkema France Method for drying and purifying LiFSI
US11316200B2 (en) 2016-12-08 2022-04-26 Arkema France Method for drying and purifying lithium bis(fluorosulfonyl)imide salt
JP2021526500A (ja) * 2018-06-01 2021-10-07 アルケマ フランス リチウム ビス(フルオロスルホニル)イミド塩を精製するための方法
WO2022186160A1 (ja) 2021-03-01 2022-09-09 株式会社日本触媒 電解質成形体の製造方法及び電解質成形体
WO2023276812A1 (ja) 2021-06-30 2023-01-05 株式会社日本触媒 組成物の製造方法及び非水電解液
WO2023276568A1 (ja) 2021-06-30 2023-01-05 株式会社日本触媒 スルホニルイミド水溶液の精製方法、非水電解液の製造方法及び電解質組成物の製造方法
WO2023276561A1 (ja) 2021-06-30 2023-01-05 株式会社日本触媒 非水電解液の製造方法

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