WO2011158288A1 - El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 - Google Patents

El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法 Download PDF

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WO2011158288A1
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PCT/JP2010/003988
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高木誠司
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パナソニック株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/917—Electroluminescent

Definitions

  • the present invention relates to an EL display panel, an EL display device including the EL display panel, an organic EL display device, and a method for manufacturing the EL display panel, and more particularly to a structure of a color filter in the EL display panel.
  • a liquid crystal display panel is known as a display panel (see, for example, Patent Document 1).
  • the panel is composed of two glass substrates each having a predetermined component formed on one surface and facing each other and filled with liquid crystal between the two substrates.
  • black matrix hereinafter referred to as “BM”
  • CF color filter
  • Each CF layer corresponding to R, G, B is formed in a matrix, and a BM is formed between adjacent CF layers. ing. Each CF layer is formed along the shape of the BM that defines the CF layer, and a part of the CF layer rides on the upper surface of the end of the BM.
  • EL display panels are progressing as next-generation display panels.
  • the panel is arranged such that CF is placed opposite to an EL substrate in which a plurality of pixels each having a set of light emitting units corresponding to R, G, B as one unit are arranged in a matrix on one side. Between them, a sealing resin is filled.
  • the liquid crystal display panel is filled with liquid crystal
  • the EL display panel is filled with resin instead of liquid crystal
  • the inventor has not filled the resin in the EL display panel.
  • the inventor conducted experiments by increasing the amount of resin by 2 to 3 times the theoretically required amount, but no improvement was seen.
  • An object of the present invention is to provide an EL display panel in which an unfilled portion not filled with a resin is reduced in a region corresponding to a light emitting layer without increasing the amount of the resin.
  • an EL display panel includes a first light emitting unit that outputs red light, a second light emitting unit that outputs green light, and a third light emitting unit that outputs blue light.
  • An EL substrate having a plurality of pixels arranged in a matrix, a base of a color filter provided on the light output side of the EL substrate, and formed on the EL substrate side of the base of the color filter, A color filter partition wall that partitions each of a first region corresponding to the first light emitting unit, a second region corresponding to the second light emitting unit, and a third region corresponding to the third light emitting unit; Forming a desired red light from the upper surface of the partition walls on both sides partitioning the region into a shape along the side surface of the partition walls on both sides and the surface of the base corresponding to the first region defined by the partition walls on both sides, Transmitting first color filter layer , And is formed in a shape that is recessed from the upper surface of the partition walls
  • a second color filter layer that transmits the green light, and a surface of a base corresponding to a third region partitioned by the side surfaces of the partition walls on both sides and the partition walls on both sides from the upper surfaces of the partition walls on both sides partitioning the third region ,
  • a third color filter layer that is recessed in a shape along the line, and transmits a desired blue light, the first color filter layer, the second color filter layer, the third color filter layer, and the EL
  • a partition layer of the color filter corresponding to the space between the adjacent first pixel and the second pixel, and the width of the common partition wall is ,each The first region corresponding to the first pixel, the second region, and the third region wider than the width of the partition wall of the color filter between the first region, the first region corresponding to the first pixel, the second region, And a portion of the color filter layer formed in the end region of the third region formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends to the second pixel side, and A partition wall on the
  • each CF layer is formed in a state where a part of the CF layer is placed on the upper surface of the end of the partition defining the CF layer, so that a step is formed between the partition and the CF layer, and the shape of the CF is uneven. It has a shape. More specifically, the upper surface of the partition wall is lower than the upper surface of the CF layer. Therefore, when viewed as the entire CF, the CF layer becomes a convex portion, and the portion of the adjacent CF layer formed on the upper surface of the partition wall. The gap portion between them is a recess.
  • an auxiliary electrode for supplying voltage to the cathode is arranged for each pixel on the EL substrate side in order to reduce variation in luminance due to voltage drop at the cathode. Therefore, in CF, the area corresponding to the area where the auxiliary electrode is formed (hereinafter referred to as “inter-pixel area”) is compared with the area corresponding to the area between sub-pixels (hereinafter referred to as “inter-sub-pixel area”). Thus, the partition walls are formed wide. As a result, in CF, the recess in the partition formed in the inter-pixel region is wider than the recess in the partition formed in the inter-subpixel region.
  • a CF layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel A portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends to the second pixel side, and the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel Among these, the CF layer formed in the region adjacent to the first pixel overlaps the portion formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side.
  • the width of the CF partition wall (hereinafter referred to as “pixel interval wall”) corresponding to the space between the first pixel and the second pixel corresponds to each pixel.
  • pixel interval wall the width of the CF partition walls (hereinafter referred to as “sub-pixel spacing walls”) between the first area, the second area, and the third area is larger, There is no recess that can be a passage when the resin spreads.
  • the CF layer is superimposed on the pixel interval wall, a convex portion is formed conversely when viewed as a whole CF. And with respect to this convex part, the recessed part is formed as the whole CF layer corresponding to R, G, B formed in the area
  • the entire CF layer corresponding to R, G, and B forms a recess that becomes a passage when the resin spreads, so that when the resin is dropped on the CF, the resin is applied to the protrusion on the upper surface of the pixel interval wall.
  • the resin When the resin is dropped on the CF, the resin easily spreads on each CF layer. Therefore, when the CF is bonded to the EL substrate, that is, in the area corresponding to the light emitting layer in the EL display panel, the resin is not yet applied. The filling portion can be reduced.
  • an existing material called a CF layer is extended to extend the pixel interval wall. Since the convex portion is formed on the non-filled portion, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • FIG. 1 is a block diagram schematically showing an overall configuration of a display device 1 according to a first embodiment.
  • 3 is a partial cross-sectional view schematically showing a main part of the organic EL display panel 10 of Embodiment 1.
  • FIG. (A) It is a figure which shows typically the structure of BM of Embodiment 1.
  • FIG. (B) It is a figure which shows typically the positional relationship of BM and CF layer of Embodiment 1.
  • FIG. FIG. 4A is a partial cross-sectional view (cross-section A-A ′ in FIG. 3) illustrating the configuration of the CF according to the first embodiment.
  • (B) It is a fragmentary sectional view (B-B 'cross section of FIG. 3) which shows the structure of CF of Embodiment 1.
  • FIG. FIG. 3 is a diagram showing an example of a CF manufacturing process according to the first embodiment.
  • A It is a figure which shows typically the arrangement
  • FIG. 7B is a partial cross-sectional view (cross-section C-C ′ in FIG. 6A) showing a configuration of a comparative CF.
  • FIG. 7C is a partial cross-sectional view (cross section taken along the line D-D ′ in FIG. 6A) showing a configuration of a comparative CF.
  • A The schematic diagram which shows the state which dripped resin to CF for comparison, and the schematic diagram which shows the spreading condition of resin in CF for comparison.
  • FIG. 8B is a schematic diagram (cross section taken along the line E-E ′ in FIG. 7A) showing a configuration of a comparative CF in a state where a resin is dropped. It is a fragmentary sectional end view which shows typically the composition of organic EL display panel 1000 using CF for comparison.
  • A The schematic diagram which shows the state which dripped resin to CF of Embodiment 1, and the schematic diagram which shows the spreading
  • FIG. FIG. 9B is a schematic diagram (cross section taken along the line F-F ′ in FIG. 9A) showing the configuration of the CF according to the first embodiment in a state where a resin is dropped.
  • FIG. 9B is a schematic diagram (cross section taken along the line G-G ′ in FIG. 9A) showing the configuration of the CF according to the first embodiment in a state where a resin is dropped. It is a figure which shows typically the arrangement
  • FIG. 4 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration of an organic EL display panel 10 according to a second embodiment.
  • A) It is a figure which shows typically the arrangement
  • FIG. 14C is a partial cross-sectional view (cross section taken along the line I-I ′ in FIG. 13A) showing the configuration of the CF according to the second embodiment.
  • 1 is an external perspective view showing an external appearance of a display device 1.
  • FIG. It is a photograph which shows the spreading condition of resin when resin is dripped at CF for comparison.
  • a pixel including a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light as a unit is a matrix.
  • a first color filter layer that is formed to be recessed from a top surface along a side surface of the partition walls on both sides and a surface of the base corresponding to the first region defined by the partition walls on both sides, and transmits desired red light
  • Both partitioning the second region A second color which is formed in a shape extending from the upper surface of the partition wall to the side surface of the partition walls on both sides and the surface of the base corresponding to the second region defined by the partition walls on both sides and transmits desired green light Formed by recessing in a shape along the filter layer and the upper surface
  • a partition wall of the color filter corresponding to between the adjacent first pixel and the second pixel, and the width of the common partition wall corresponds to the first pixel corresponding to each pixel. region, The edge of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is wider than the width of each color filter partition between the second region and the third region.
  • a portion of the color filter layer formed in the region to be a part formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends to the second pixel side and corresponds to the second pixel.
  • the color filter layer formed in the region adjacent to the first pixel in the first region, the second region, and the third region overlaps with a portion formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side. It was set as the structure.
  • a CF layer formed in an end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel A portion formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side extends to the second pixel side, and the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel Among these, the CF layer formed in the region adjacent to the first pixel overlaps the portion formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side.
  • the width of the CF partition wall corresponding to the space between the first pixel and the second pixel is set so that the first region and the second region correspond to each pixel.
  • the width of each of the CF partition walls between the third regions there is no recess on the pixel spacing wall that can be a passage when the resin spreads.
  • the CF layer is superimposed on the pixel interval wall, a convex portion is formed conversely when viewed as a whole CF. And with respect to this convex part, the recessed part is formed as the whole CF layer corresponding to R, G, B formed in the area
  • the entire CF layer corresponding to R, G, and B forms a recess that becomes a passage when the resin spreads, so that when the resin is dropped on the CF, the resin is applied to the protrusion on the upper surface of the pixel interval wall.
  • the resin When the resin is dropped on the CF, the resin easily spreads on each CF layer. Therefore, when the CF is bonded to the EL substrate, that is, in the area corresponding to the light emitting layer in the EL display panel, the resin is not yet applied. The filling portion can be reduced.
  • an existing material called a CF layer is extended to extend the pixel interval wall. Since the convex portion is formed on the non-filled portion, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • a color filter formed in a region adjacent to the first pixel among the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel.
  • a portion of the layer formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side may extend to the first pixel side.
  • the part formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side of the color filter layer formed in the end region of the second region and the third region corresponds to the second pixel.
  • the end portions of the adjacent CF layers overlap each other at the center portion of the upper surface of the partition wall of the color filter corresponding to the adjacent first pixel and the second pixel.
  • the resin easily spreads evenly in each region corresponding to the adjacent first pixel and second pixel, so that a difference in the degree of resin filling in each region hardly occurs. Further, since the resin easily spreads evenly in each region, the unfilled portion of the resin can be reduced in any region.
  • the color filter layer formed in each region of the third region may be longer than a portion formed on the upper surface of the partition wall on the opposite side of the partition wall on the third pixel side.
  • the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • a portion formed on the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • a portion formed on the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • a portion formed on the upper surface of the partition wall on the third pixel side of the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is extended to the third pixel side.
  • pixels having a first light emitting unit that outputs red light, a second light emitting unit that outputs green light, and a third light emitting unit that outputs blue light as a unit are arranged in a matrix.
  • the desired blue A third color filter layer that transmits colored light Formed in the third region, the desired blue A third color filter layer that transmits colored light; and a resin layer filled between the first color filter layer, the second color filter layer, the third color filter layer, and the EL substrate.
  • the color filter layer formed in the end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel is a second pixel adjacent to the first pixel.
  • the color filter layer that is extended to the side and formed in the region serving as the end portion has an end portion on the second pixel side corresponding to the second pixel, the first region, the second region,
  • the color filter layer formed in a region adjacent to the first pixel in the third region overlaps with an end portion on the first pixel side.
  • a recess that can serve as a passage when resin spreads in a region corresponding to the first pixel and the second pixel (hereinafter referred to as an “inter-pixel region”).
  • a convex portion is formed in the inter-pixel region when viewed as the entire CF.
  • the whole CF layer corresponding to R, G, B formed in the region corresponding to the pixel is formed with a concave part.
  • the resin When the resin is dropped on the CF, the resin easily spreads on each CF layer. Therefore, when the CF is bonded to the EL substrate, that is, in the area corresponding to the light emitting layer in the EL display panel, the resin is not yet applied. The filling portion can be reduced.
  • a convex material is not formed in the inter-pixel region using a special material separately, but is formed in the inter-pixel region by extending an existing material called a CF layer. Since the portion is formed, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • a color filter formed in a region adjacent to the first pixel among the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel.
  • the layer may be extended to the first pixel side.
  • the first region corresponding to the first pixel, the second region, in the central portion of the region corresponding to between the adjacent first pixel and the second pixel, And an end of the color filter layer formed in the end region of the third region on the second pixel side is the first region corresponding to the second pixel, the second region, and
  • the color filter layer formed in a region adjacent to the first pixel in the third region may overlap with an end portion on the first pixel side.
  • the ends of the adjacent CF layers overlap each other at the center of the inter-pixel region.
  • the resin easily spreads evenly in each region corresponding to the adjacent first pixel and second pixel, so that a difference in the degree of resin filling in each region hardly occurs. Further, since the resin easily spreads evenly in each region, the unfilled portion of the resin can be reduced in any region.
  • the color filter layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel may include the second pixel. It may be extended to the third pixel side adjacent in the intersecting direction.
  • the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel extends to the third pixel side. ing. Accordingly, the CF layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel, the first region corresponding to the third pixel, the first region The distance between the CF region formed in each of the two regions and the third region can be reduced.
  • the unfilled portion of the resin in the EL display panel can be further reduced.
  • an EL display device including the EL display panel according to one aspect of the present invention may be used.
  • the resin unfilled portion in the region corresponding to the light emitting layer in the EL display panel can be reduced.
  • each of the first light emitting unit, the second light emitting unit, and the third light emitting unit may be an organic light emitting unit.
  • each of the first light emitting unit, the second light emitting unit, and the third light emitting unit is an organic light emitting unit, an organic EL display panel can be realized.
  • an organic EL display device including an organic EL display panel may be used.
  • the resin unfilled portion in the region corresponding to the light emitting layer in the EL display panel can be reduced.
  • an EL display panel manufacturing method which is one embodiment of the present invention includes a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light.
  • a color filter partition wall is formed to partition each of the first region corresponding to the first light emitting unit, the second region corresponding to the second light emitting unit, and the third region corresponding to the third light emitting unit.
  • a third surface step and a top surface of the partition walls on both sides partitioning the first region, a side surface of the partition walls on both sides and a surface of the base corresponding to the first region defined by the partition walls on both sides,
  • the first color that transmits the desired red light Along the fourth step of forming the filter layer and the surface of the base corresponding to the side of the partition on both sides and the second region defined by the partition on both sides from the upper surface of the partition on both sides defining the second region.
  • the color The partition walls of the filter are common, and the width of the common partition wall is larger than the width of the partition wall of the color filter between the first region, the second region, and the third region corresponding to each pixel.
  • the upper surface of the partition wall on the second pixel side of the color filter layer formed in the end region of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel The portion formed on the second pixel side extends to the second pixel side and is adjacent to the first pixel in the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel.
  • a color filter formed in a region adjacent to the first pixel among the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel.
  • a portion of the layer formed on the upper surface of the partition wall on the first pixel side may extend to the first pixel side.
  • the part formed on the upper surface of the partition wall on the second pixel side of the color filter layer formed in the end region of the second region and the third region corresponds to the second pixel.
  • the color filter layer formed in each region of the third region may be longer than a portion formed on the upper surface of the partition wall on the opposite side of the partition wall on the third pixel side.
  • an EL display panel manufacturing method which is one embodiment of the present invention includes a first light-emitting portion that outputs red light, a second light-emitting portion that outputs green light, and a third light-emitting portion that outputs blue light.
  • a sixth step of filling a resin material between the layer and the EL substrate, and an end portion in the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel The color filter layer formed in the region to be extended to the second pixel side adjacent to the first pixel and the color filter layer formed in the region to be the end portion on the second pixel side Of the color filter layer formed in a region adjacent to the first pixel in the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel. It is assumed that it is superimposed on the end on the pixel side.
  • a color filter formed in a region adjacent to the first pixel among the first region, the second region, and the third region corresponding to the second pixel.
  • the layer may be extended to the first pixel side.
  • the first region corresponding to the first pixel, the second region, in the central portion of the region corresponding to between the adjacent first pixel and the second pixel, And an end of the color filter layer formed in the end region of the third region on the second pixel side is the first region corresponding to the second pixel, the second region, and
  • the color filter layer formed in a region adjacent to the first pixel in the third region may overlap with an end portion on the first pixel side.
  • the color filter layer formed in each of the first region, the second region, and the third region corresponding to the first pixel may include the second pixel. It may be extended to the third pixel side adjacent in the intersecting direction.
  • FIG. 1 is a block diagram schematically showing the overall configuration of the display device 1.
  • the display device 1 includes an organic EL display panel 10 and a drive control unit 20 connected thereto.
  • the organic EL display panel 10 is a top emission type organic EL display panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material.
  • the drive control unit 20 includes four drive circuits 21 to 24 and a control circuit 25.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view schematically showing a main part of the organic EL display panel 10 of the first embodiment.
  • an interlayer insulating film 102 is formed on a TFT substrate 101.
  • anodes 103a are arranged in matrix in units of subpixels. It is formed by patterning.
  • one pixel is formed by a combination of three subpixels adjacent in the X-axis direction, and the auxiliary electrode 103b is formed in a line shape corresponding to each pixel on the interlayer insulating film 102.
  • a bank 104 is formed between the anodes 103 a and between the anode 103 a and the auxiliary electrode 103 b, and an organic light emitting layer 105 of a predetermined color is laminated on the anode 103 a in a region defined by the bank 104. ing. Further, a cathode 106 and a sealing layer 107 are formed on the organic light emitting layer 105 so as to be continuous with those of the adjacent organic light emitting layer 105 and auxiliary electrode 103b beyond the region defined by the bank 104, respectively. Yes.
  • the above-described components (101 to 107) are collectively referred to as an EL substrate 11.
  • CF color filter
  • BM black matrix
  • CF12 The above-described components (111 to 113) are collectively referred to as CF12.
  • the BM 112 is formed in the region corresponding to the auxiliary electrode 103b and the bank 104.
  • Corresponding color CF layers 113 (R), (G), and (B) are formed in the regions corresponding to the organic light emitting layers 105 (R), (G), and (B).
  • inter-pixel BM BM corresponding to the inter-pixel
  • inter-sub-pixel BM BM corresponding to the inter-sub-pixel
  • the resin sealing layer 121 is filled between the EL substrate 11 and the CF 12.
  • FIG. 3A is a diagram schematically showing the arrangement position of the BM 112.
  • a white area indicates an area where the BM 112 is not formed.
  • Three white areas (the first area 114, the second area 115, and the third area 116) adjacent in the X-axis direction are defined as one unit, and a plurality of these are formed in a matrix as shown in FIG. Yes.
  • the BM 112 is formed so as to partition each of the first region 114, the second region 115, and the third region 116 formed in a matrix.
  • the wide BM 112 is the inter-pixel BM.
  • a wide BM 112 is formed for each pixel corresponding to the auxiliary electrode 103b.
  • a contact hole is formed at the end of the anode 103a in the EL substrate 11, and light emission is restricted in the area around the contact hole of the anode 103a. Therefore, the BM 112 is also formed in the region corresponding to the region around the contact hole in the CF 12. As a result, the BM 112 in the Y-axis direction is wider than the inter-subpixel BM 112.
  • FIG. 3B is a diagram schematically showing the positional relationship between the BM 112 and the CF layer 113 in the CF of the first embodiment.
  • three CF layers 113 (R), (G), and (B) adjacent in the X-axis direction are set as one unit, and a plurality of them are formed in a matrix.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) extend in the respective directions. Therefore, the width of the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) in the X-axis direction is wider than the width of the CF layer 113 (G) in the X-axis direction.
  • FIG. 4A is a partial cross-sectional view (cross section AA ′ of FIG. 3) showing the configuration of the CF 12 of the first embodiment
  • FIG. 4B shows the configuration of the CF 12 of the first embodiment
  • FIG. 4 is a partial cross-sectional view (cross-section BB ′ in FIG. 3).
  • each of the CF layers 113 (R), (G), and (B) is formed in a state where a part of the CF layers 113 (R), (G), and (B) rides on the upper surface of the end of the BM 112 on both sides.
  • a portion of the CF layer 113 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 is on the CF layer 113 (B) side, and the CF layer 113.
  • the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 extends to the CF layer 113 (R) side, and they overlap each other.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 are overlapped with each other at the center of the inter-pixel BM 112.
  • the film thicknesses th1 of the CF layers 113 (R), (G), and (B) are the same, for example, 1 to 1.8 ⁇ m.
  • the film thickness of the convex portion on the upper surface of the BM 112 (thickness of the thickest portion in the portion where the CF layer is superimposed) th2 is 2 to 3.6 ⁇ m.
  • the film thickness of the BM 112 is, for example, 1 to 1.2 ⁇ m.
  • the CF 12 according to the first embodiment has a configuration in which no recess is present on the upper surface of the inter-pixel BM 112.
  • the interval l2 between the adjacent CF layers 113b (B) and 113c (B) formed on the upper surface of the BM 112 is equal to the interval l5 (see FIG. 6C) in the comparative CF described later (that is, , When not extending to the CF layer 113c (B) side).
  • the interval l2 is the interval l1 shown in FIG. 4A (the portion formed on the upper surface of the inter-sub-pixel BM 112 in the CF layer 113 (R) and the upper surface of the inter-sub-pixel BM 112 in the adjacent CF layer 113 (G). It is preferable that the distance is equal to or within a predetermined approximate value range.
  • the range of the predetermined approximate value is, for example, a range of 0.5 to 1.5 times the interval l1.
  • the interval l1 is, for example, 10 ⁇ m. In that case, the interval l2 is desirably 5 to 15 ⁇ m.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (G) have the same configuration as that shown in FIG. 4B.
  • the TFT substrate 101 is, for example, alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphoric acid glass, boric acid glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, and silicone.
  • a TFT, a wiring member, and a passivation film (not shown) for covering the TFT are formed on a substrate body of an insulating material such as resin or alumina.
  • the substrate body may be an organic resin film.
  • the interlayer insulating film 102 is provided to adjust the surface step of the TFT substrate 101 to be flat, and is made of an insulating material such as polyimide resin or acrylic resin.
  • the anode 103a and the auxiliary electrode 103b are made of Al (aluminum) or an aluminum alloy.
  • the anode 103 is made of, for example, Ag (silver), an alloy of silver, palladium, and copper, an alloy of silver, rubidium, and gold, MoCr (alloy of molybdenum and chromium), NiCr (alloy of nickel and chromium), or the like. It may be formed. Since the organic EL display panel 10 according to the first embodiment is a top emission type, the anode 103 is preferably formed of a light reflective material.
  • the bank 104 is made of an organic material such as resin and has an insulating property. Examples of organic materials include acrylic resins, polyimide resins, novolac type phenol resins, and the like.
  • the bank 104 preferably has organic solvent resistance. Further, since the bank 104 may be subjected to an etching process, a baking process, or the like, it is preferable that the bank 104 be formed of a highly resistant material that does not excessively deform or alter the process.
  • the organic light emitting layer 105 is, for example, an oxinoid compound, perylene compound, coumarin compound, azacoumarin compound, oxazole compound, oxadiazole compound, perinone compound, pyrrolopyrrole compound, naphthalene compound, anthracene compound described in JP-A-5-163488.
  • the cathode 106 is made of, for example, ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide). Since the organic EL display panel 10 is a top emission type, the cathode 106 is preferably formed of a light transmissive material.
  • the sealing layer 107 has a function of preventing the organic light emitting layer 105 or the like from being exposed to moisture or air, for example, SiO (silicon oxide), SiN (silicon nitride), SiON (acidic). It is made of a material such as silicon nitride), SiC (silicon carbide), SiOC (carbon-containing silicon oxide), AlN (aluminum nitride), Al2O3 (aluminum oxide). Since the organic EL display panel 10 is a top emission type, the sealing layer 107 is preferably formed of a light transmissive material.
  • the CF substrate body 111 is a front substrate in the organic EL display panel 10, and can be made of the same material as the substrate body in the TFT substrate 101. However, in order to make the organic EL display panel 10 a top emission type, it is required to have good transparency.
  • BM112 is a black layer provided for the purpose of preventing the reflection of external light and the incidence of external light on the display surface of the organic EL display panel 10 and improving the display contrast.
  • it is comprised with the ultraviolet curable resin material containing the black pigment which is excellent in light absorptivity and light-shielding property.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) are made of a known resin material that transmits visible light in each wavelength range corresponding to red, green, and blue.
  • the resin sealing layer 121 is disposed for the purpose of preventing moisture and gas from entering from the outside, and is made of various transparent resin materials (epoxy resin, acrylic resin, silicone resin, etc.).
  • the viscosity of the resin material needs to be set in consideration of the extent of spreading and adhesion of the resin material, and is, for example, 500 mPa ⁇ s.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the CF12.
  • a BM paste is prepared by dispersing a BM material containing an ultraviolet curable resin (for example, an ultraviolet curable acrylic resin) as a main component and adding a black pigment thereto in a solvent. This is applied to one surface of the substrate body 111 (FIG. 5A).
  • an ultraviolet curable resin for example, an ultraviolet curable acrylic resin
  • a pattern mask having an opening of a predetermined shape is overlaid so as to correspond to the position of the bank 104 formed on the EL substrate 11 side. (FIG. 5B). Then, ultraviolet irradiation is performed on the superimposed pattern mask.
  • the coated / solvent-removed BM paste is baked, the pattern mask and uncured BM paste are removed, developed, and cured. As shown in FIG. 5C, the BM 112 aligned with the position of the bank 104 is obtained. Complete.
  • the material of the CF layer 113 (R) mainly composed of an ultraviolet curable resin component is dispersed in a solvent on the substrate surface on which the BM 112 is formed, and the paste (R) is applied. After removing the solvent to a certain extent, a predetermined pattern mask is placed and ultraviolet irradiation is performed.
  • the CF layer 113 (R) is formed along the shape of the BM 112, and a part of the CF layer 113 (R) is on the upper surface of the end of the BM 112 on both sides. Further, the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 in the CF layer 113 (R) is longer than the portion formed on the upper surface of the inter-sub-pixel BM 112.
  • the CF layers 113 (G) and (B) are formed by repeating the CF layer 113 (R) formation process in the same manner for the CF materials of the respective colors. Thereby, CF layers 113 (G) and (B) are formed in accordance with the positions of the respective organic light emitting layers 105 (FIGS. 5E and 5F).
  • the CF layers 113 (G) and (B) are also formed along the shape of the BM 112, and a part of the CF layers 113 (G) and (B) are on the upper surfaces of the end portions of the BM 112 on both sides.
  • the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 in the CF layer 113 (B) is longer than the portion formed on the upper surface of the inter-sub-pixel BM 112, and the inter-pixel BM 112 in the CF layer 113 (R). It overlaps with the part formed on the upper surface.
  • a paste of a sealing material (DAM) for sealing the EL substrate 11 completed through a predetermined process and the CF 12 is applied to the outer peripheral portion of the completed CF 12.
  • a resin material (FILL) for resin sealing is dropped on the portions excluding the outer peripheral portion of the CF12 at a predetermined interval.
  • FIG. 6A is a diagram schematically showing the positional relationship between the BM of the CF for comparison and the CF layer.
  • three CF layers 213 (R), (G), and (B) adjacent in the X-axis direction are defined as one unit, and a plurality of these are formed in a matrix. This is the same as that shown in FIG.
  • the widths of the CF layers 213 (R), (G), and (B) in the X-axis direction and the Y-axis direction are the same.
  • FIG. 6B is a partial cross-sectional view (cross-section CC ′ of FIG. 6A) showing the configuration of the comparative CF
  • FIG. 6C is a partial view showing the configuration of the comparative CF
  • FIG. 7 is a cross-sectional view (a DD ′ cross section in FIG. 6A).
  • each of the CF layers 213 (R), (G), and (B) is formed in a state where a part of the CF layers 213 (R), (G), and (B) rides on the upper surfaces of the end portions of the BM 212 on both sides. This is the same as the CF 12 of the first embodiment.
  • the portion of the CF layer 213 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM does not extend to the adjacent CF layer 213 (B) side.
  • the portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM in the CF layer 213 (B) is located on the adjacent CF layer 213 (R) side as in the CF layer 213 (R). It is not extended. That is, in the CF layer 213 (R) and the CF layer 213 (B), the width of the portion formed on the inter-pixel BM upper surface and the portion formed on the inter-subpixel BM upper surface are the same.
  • the interval l3 between the portion of the CF layer 213 (R) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 212 and the portion of the CF layer 213 (B) formed on the upper surface of the inter-pixel BM is formed on the upper surface of the inter-subpixel BM.
  • This is wider than the interval l4 between the formed CF layer 213 (R) and the adjacent CF layer 213 (G) formed on the upper surface of the inter-subpixel BM.
  • the interval l4 is, for example, 10 ⁇ m
  • the interval l3 is, for example, 40 ⁇ m.
  • the interval 14 is 10 ⁇ m, for example, the interval 15 is 40 ⁇ m, for example.
  • the CF layer 213 (R) and the CF layer 213 (G) have the same configuration as that shown in FIG.
  • a wide recess is formed on the inter-pixel BM 212 in both the X-axis direction and the Y-axis direction.
  • FIG. 7A is a schematic diagram showing a state in which a plurality of drops of the resin 2211 are dropped on the comparative CF, and a schematic diagram showing how the resin spreads in the comparative CF.
  • FIG. 7B is a schematic diagram (cross-section EE ′ of FIG. 7A) showing the structure of a comparative CF in a state where the resin 2211 is dropped.
  • FIG. 8 is a partial cross-sectional end view schematically showing a configuration of an organic EL display panel 1000 using a comparative CF.
  • white areas indicate unfilled areas that are not filled with resin.
  • the resin partially spreads on the organic light emitting layer side due to the pressure when the CF and the EL substrate are bonded together, It has not been eliminated.
  • FIG. 9A is a schematic diagram illustrating a state in which a resin is dropped onto the CF according to the first embodiment and a schematic diagram illustrating how the resin spreads in the CF according to the first embodiment.
  • FIG. 9B is a schematic diagram (cross section taken along the line FF ′ in FIG. 9A) showing the configuration of the CF 12 of the first embodiment in a state where the resin is dropped.
  • CF 12 of the present embodiment when viewed as the CF 12 as a whole, a convex portion is formed on the upper surface of the inter-pixel BM, and each CF layer 113 (R), (G), ( B) A recess is formed as a whole.
  • the resin expands from the wide recess.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) formed in the portion corresponding to the inside of the pixel become wide concave portions as a whole.
  • the resin 1211 spreads first from the top of each CF layer 113 (R), (G), (B).
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 are overlapped with each other at the center of the inter-pixel BM 112. For this reason, as shown in FIG. 9B, since the resin easily spreads evenly in each region corresponding to the adjacent pixel, it is difficult to cause a difference in the filling degree of the resin in each region. Further, since the resin easily spreads evenly in each region, the unfilled portion of the resin can be reduced in any region.
  • FIG. 10 (a) is a schematic diagram showing the extent of resin spreading in CF12 of Embodiment 1 (region A in FIG. 9 (a)), and FIG. 10 (b) is a state in which the resin is dropped.
  • FIG. 10 is a schematic diagram showing the configuration of the CF according to Embodiment 1 (cross section GG ′ in FIG. 9A). As shown in FIGS. 4A and 4B, the interval l2 on the upper surface of the inter-pixel BM 112 is the same as the interval l1 in the inter-sub-pixel BM 112 or within a predetermined approximate value range.
  • the portion of the CF layer 113 (B) formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 extends to the adjacent CF layer 113 (R) side, and the CF layer It overlaps with a portion formed on the upper surface of the inter-pixel BM 112 in 113 (R).
  • the width of the inter-pixel BM 112 is wider than the width of the inter-sub-pixel BM 112, there is no wide recess on the inter-pixel BM 112 that can serve as a passage when the resin spreads.
  • CF layers 113 (R) and (G) are superimposed on the inter-pixel BM 112, when viewed as the entire CF 12, conversely, a convex portion is formed. Then, a concave portion is formed as a whole on each of the CF layers 113 (R), (G), and (B) formed in the region corresponding to the pixel.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) as a whole form a recess that becomes a passage when the resin spreads. While the resin does not easily spread on the convex portions on the upper surface of the inter-pixel BM 112, the resin tends to spread on the CF layers 113 (R), (G), and (B) that become the concave portions.
  • a convex portion is not formed on the inter-pixel BM 112 using a special material separately, but an existing material called a CF layer is extended to extend the inter-pixel BM 112. Since the convex portion is formed on the non-filled portion, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • FIG. 11 is a diagram schematically showing the positional relationship between the BM and the CF layer in Modification 1-1.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) extend in the respective directions. This point is common with the CF 12 shown in FIG.
  • the CF layers 113 (R), (G), and (B) are formed in stripes. In other words, in the Y-axis direction, the CF layers 113 (R), (G), and (B) are not continuously patterned for each region corresponding to the subpixel, but are formed continuously.
  • the arrangement position of the BM 112 is the same as that shown in FIG.
  • FIG. 12 is a partial cross-sectional view schematically showing a main part of the organic EL display panel 10 of the second embodiment. As shown in FIG.
  • the EL substrate 11 is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted here.
  • FIG. 13A is a diagram schematically illustrating an arrangement relationship between the BM and the CF layer according to the second embodiment.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) extend in the respective directions. Therefore, the width of the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (B) in the X-axis direction is wider than the width of the CF layer 113 (G) in the X-axis direction.
  • FIG. 13B is a partial cross-sectional view (H-H ′ cross-section in FIG. 13A) showing the configuration of the CF according to the second embodiment.
  • FIG. 13C is a partial cross-sectional view (cross section taken along the line I-I ′ of FIG. 13A) showing the configuration of the CF of the second embodiment.
  • the CF layer 113 (B) extends in the Y-axis direction.
  • the interval l7 between the adjacent CF layers 113 (B) is preferably the same as the interval l6 shown in FIG. 13B or within a predetermined approximate range.
  • the range of the predetermined approximate value is as described in the first embodiment.
  • the CF layer 113 (R) and the CF layer 113 (G) have the same configuration as that shown in FIG.
  • the region between adjacent CF layers becomes a recess when viewed as a whole CF, but as described above.
  • a convex portion is formed in the region between adjacent CF layers when viewed as a whole CF. Can be formed.
  • the recesses in the regions between adjacent CF layers can be narrowed.
  • the spread of the resin on the CF layer can be promoted.
  • a special material is not used to form a convex portion in a region between adjacent CF layers, but an existing material called a CF layer is formed to be wide. Since the convex portion is formed in the region between the CF layers, the unfilled portion can be reduced with a simple configuration.
  • Each of the CF layers 113 (R), (G), and (B) may be formed in a stripe shape.
  • the organic EL display panel 10 according to the present invention has been described based on the embodiment, but the present invention is not limited to the above embodiment.
  • a hole injection layer, a hole transport layer, or a hole injection / transport layer is interposed between the anode 103a and the organic light emitting layer 105 as necessary.
  • an electron injection layer, an electron transport layer, or an electron injection / transport layer may be interposed between the cathode 106 and the organic light emitting layer 105 as necessary.
  • the CF 12 of the organic EL display panel 10 has been described as an example.
  • the CF 12 may be applied to an inorganic EL display panel.
  • the BM 112 has been described as an example of the partition that partitions each of the first region 114, the second region 115, and the third region 116.
  • the partition functions as a partition that partitions each region. If it does, it is not restricted to BM112.
  • it may be a partition made of an ultraviolet curable resin material containing a color pigment other than a black pigment.
  • the end portions of the adjacent CF layers overlap each other at the central portion of the inter-pixel BM 112, but the overlapping position is not limited to the central portion.
  • the CF layer 113 (B) and the CF layer 113 (R) are formed in the region corresponding to the edge of the pixel.
  • the CF layer 113 (G) may be formed in a region corresponding to the end portion of the pixel.
  • the portion formed on the upper surface of the BM 112 on the CF layer 113c (B) side, which is one end of the CF layer 113b (B), is the CF layer 113c.
  • FIG. 7A is a schematic diagram showing how the resin spreads when the resin is dropped on the comparative CF.
  • FIG. 7A is a schematic diagram showing how the resin spreads when the resin is dropped on the comparative CF.
  • the present invention can be used, for example, for home or public facilities, various display devices for business use, television devices, displays for portable electronic devices, and the like.

Landscapes

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Abstract

　EL表示パネル１０は、EL基板１１とCF１２とを対向配置させ、EL基板１１とCF１２との間に樹脂１２１を充填してなる。CF１２において、隣接する第１画素と第２画素との間に対応する隔壁１１２は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する第１領域、第２領域、及び第３領域間の各々のCF１２の隔壁の幅より広くなっている。第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたCF層１１３の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたCF層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している。

Description

EL表示パネル、EL表示パネルを備えたEL表示装置、有機EL表示装置、およびEL表示パネルの製造方法
　本発明は、EL表示パネル、EL表示パネルを備えたEL表示装置、有機EL表示装置、およびEL表示パネルの製造方法に関し、特に、EL表示パネルにおけるカラーフィルターの構造に関する。
　従来、表示パネルとして液晶表示パネルが知られている（例えば、特許文献１参照）。同パネルは、一方の面にそれぞれ所定の構成要素が形成された２枚のガラス基板を対向配置し両基板間に液晶を充填してなる。一方のガラス基板の主面（他方のガラス基板と対向する対向面）上には、所定の構成要素として、ブラックマトリクス（以下、「BM」という）及びR,G,Bに対応する各カラーフィルター（以下、（CF）という）層が形成されている（以下、ガラス基板上にBM及び各CF層が形成されたものを「カラーフィルター（CF）」という）。ガラス基板上に形成されたBM及び各CF層の配置関係の一例について説明すると、R,G,Bに対応する各CF層が行列状に形成され、隣接するCF層の間にBMが形成されている。各CF層は、当該CF層を規定しているBMの形状に沿って形成されており、当該BMの端部上面に一部が乗り上げた状態となっている。
　ところで近年、次世代の表示パネルとして、EL表示パネルの研究・開発が進んでいる。同パネルは、一方の面にR,G,Bに対応する各発光部の組みを一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板に対し、CFを対向配置させ、EL基板とCFとの間に封止用の樹脂を充填してなる。
特開２００８－１１２００１号公報
　上述のように、液晶表示パネルには液晶が充填されるのに対し、EL表示パネルでは液晶ではなく樹脂が充填されるが、発明者は、EL表示パネルにおいて樹脂が充填されていない未充填部分が存在することを確認した。この未充填部分が、発光部における発光層に相当する領域に存在する場合に特に問題となる。この未充填部分に酸素や水分が溜まると、溜まった酸素や水分が発光部における発光層と反応し、当該発光層を劣化させてしまうからである。その結果、発光層から出力される光の輝度が低減したり、発光層の寿命が短縮したりする。さらに、樹脂の充填部分と未充填部分とで屈折率が異なるために光の反射が起こり、光取り出し効率も低下する可能性がある。
　発明者は、理論上必要とされる量の２、３倍に樹脂の量を増やして実験したが、改善は見られなかった。
　さらに樹脂の量を増やすことも考えられるが、これ以上の樹脂量の増加は、EL基板とCFとの間隔を均一に保つことを困難にし、適切ではない。
　本発明は、樹脂量を増やすことなく、発光層に相当する領域において樹脂が充填されていない未充填部分を低減したEL表示パネルを提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明の一態様に係るEL表示パネルは、赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、前記カラーフィルターのベースの前記EL基板側に形成され、前記第１発光部に対応する第１領域、前記第２発光部に対応する第２領域、及び前記第３発光部に対応する第３領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁と、前記第１領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第１領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層と、前記第２領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第２領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層と、前記第３領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第３領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層と、前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している構成とした。
　発明者は、未充填部分が存在する原因としてCFの形状に着目した。CFにおいて、各CF層は、当該CF層を規定している隔壁の端部上面に一部が乗り上げた状態で形成されているため、隔壁とCF層とで段差が生じ、CFの形状は凹凸形状になっている。より詳細には、CF層上面に比べ、隔壁上面が低くなっており、そのためにCF全体として見た場合に、CF層が凸部になり、隔壁上面に形成された、隣接するCF層の部分同士の隙間部分が凹部となっている。
　また、EL表示パネルでは、陰極での電圧降下による輝度のばらつきを軽減するために、EL基板側に、陰極に対して電圧供給を図る補助電極が画素毎に配置されている。そのため、CFにおいて、補助電極が形成されている画素間に対応する領域（以下、「画素間領域」という）では、サブピクセル間に対応する領域（以下、「サブピクセル間領域」という）に比べて、隔壁が幅広に形成されている。その結果、CFにおいて、画素間領域に形成された隔壁における凹部は、サブピクセル間領域に形成された隔壁における凹部に比べ、幅広になる。
　発明者は、EL表示パネルにおける未充填部分が、CFの凹凸形状に起因していることを突き止めた。より詳細には、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間領域に形成された隔壁における幅広の凹部に樹脂が真っ先に拡がり、そのためにCF層上に樹脂が拡がりづらくなっていることを確認した。結果として、EL基板とCFとを貼り合わせた際には、発光層に相当する領域に樹脂が充填されていない未充填部分が存在していた。
　本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたCF層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたCF層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している。
　このため、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、第１画素と第２画素との間に対応する前記CFの隔壁（以下、「画素間隔壁」という）の幅が、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記CFの隔壁（以下、「サブピクセル間隔壁」という）の幅より広くなっているものの、画素間隔壁上には、樹脂が拡がる際の通路となり得る凹部は存在しない。
　画素間隔壁上には、CF層が重畳されているため、CF全体としてみた場合には、逆に、凸部が形成されることになる。そして、この凸部に対して、画素に対応する領域に形成されたR,G,Bに対応する各CF層全体として凹部が形成されている。
　つまり、R,G,Bに対応する各CF層全体で、樹脂が拡がる際の通路となる凹部を形成しているので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間隔壁上面の凸部に樹脂が拡がりづらくなる一方で、凹部となる各CF層上には樹脂が拡がり易くなる。
　CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、EL表示パネルにおける、発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　また、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、別途特別な材料を用いて画素間隔壁上に凸部を形成するのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間隔壁上に凸部を形成するので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
実施の形態１の表示装置１の全体構成を模式的に示すブロック図である。 実施の形態１の有機EL表示パネル１０の要部を模式的に示す部分断面図である。 （ａ）実施の形態１のBMの構成を模式的に示す図である。（ｂ）実施の形態１のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。 （ａ）実施の形態１のCFの構成を示す部分断面図（図３のＡ－Ａ’断面）である。（ｂ）実施の形態１のCFの構成を示す部分断面図（図３のＢ－Ｂ’断面）である。 実施の形態１のCFの製造工程の一例を示す図である。 （ａ）比較用のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。（ｂ）比較用のCFの構成を示す部分断面図（図６（ａ）のＣ－Ｃ’断面）である。（ｃ）比較用のCFの構成を示す部分断面図（図６（ａ）のＤ－Ｄ’断面）である。 （ａ）比較用のCFに樹脂を滴下した状態を示す模式図及び比較用のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。（ｂ）樹脂が滴下された状態における、比較用のCFの構成を示す模式図（図７（ａ）のＥ－Ｅ’断面）である。 比較用のCFを用いた有機EL表示パネル１０００の構成を模式的に示す部分断面端面図である。 （ａ）実施の形態１のCFに樹脂を滴下した状態を示す模式図及び実施の形態１のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。（ｂ）樹脂が滴下された状態における、実施の形態１のCFの構成を示す模式図（図９（ａ）のＦ－Ｆ’断面）である。 （ａ）実施の形態１のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である（図９（ａ）の領域Ａ）。（ｂ）樹脂が滴下された状態における、実施の形態１のCFの構成を示す模式図（図９（ａ）のＧ－Ｇ’断面）である。 変形例１－１におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。 実施の形態２の有機EL表示パネル１０の構成を示す部分断面図である。 （ａ）実施の形態２のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。（ｂ）実施の形態２のCFの構成を示す部分断面図（図１３（ａ）のＨ－Ｈ’断面）である。（ｃ）は、実施の形態２のCFの構成を示す部分断面図（図１３（ａ）のＩ－Ｉ’断面）である。 表示装置１の外観を示す外観斜視図である。 比較用のCFに樹脂を滴下した際の樹脂の拡がり具合を示す写真である。
　　［実施の態様］
　本発明の一態様であるEL表示パネルは、赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、前記カラーフィルターのベースの前記EL基板側に形成され、前記第１発光部に対応する第１領域、前記第２発光部に対応する第２領域、及び前記第３発光部に対応する第３領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁と、前記第１領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第１領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層と、前記第２領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第２領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層と、前記第３領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第３領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層と、前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している構成とした。
　本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたCF層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたCF層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している。
　このため、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、第１画素と第２画素との間に対応する前記CFの隔壁の幅が、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記CFの隔壁の幅より広くなっているものの、画素間隔壁上には、樹脂が拡がる際の通路となり得る凹部は存在しない。
　画素間隔壁上には、CF層が重畳されているため、CF全体としてみた場合には、逆に、凸部が形成されることになる。そして、この凸部に対して、画素に対応する領域に形成されたR,G,Bに対応する各CF層全体として凹部が形成されている。
　つまり、R,G,Bに対応する各CF層全体で、樹脂が拡がる際の通路となる凹部を形成しているので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間隔壁上面の凸部に樹脂が拡がりづらくなる一方で、凹部となる各CF層上には樹脂が拡がり易くなる。
　CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、EL表示パネルにおける、発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　また、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、別途特別な材料を用いて画素間隔壁上に凸部を形成するのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間隔壁上に凸部を形成するので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分は、前記第１画素側に延設されているとしてもよい。
　ここで、本発明の別の態様として、前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁の上面の中央部において、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分は、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳しているとしてもよい。
　本態様のEL表示パネルでは、前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁の上面の中央部において、隣接するCF層の端部同士が重畳している。
　このため、隣接する第１画素と第２画素に対応する各領域に樹脂が均等に拡がり易くなるので、各領域で樹脂の充填度合いに差が生じ難くなる。また、各領域に樹脂が均等に拡がり易くなることで、何れの領域においても樹脂の未充填部分を低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第３画素側に延設されることにより、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第３画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっているとしてもよい。
　本態様のEL表示パネルでは、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層の、前記第３画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第３画素側に延設される。これにより、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層の、前記第３画素側の隔壁の上面に形成された部分と、前記第３画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層の、第１画素側の隔壁の上面に形成された部分との間隔を狭めることができる。
　このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、第１画素と第３画素との間に対応する画素間隔壁上に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層上には樹脂が拡がりやすくなる。
　前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁上において、隣接するCF層の端部同士が重畳しているだけでなく、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層を第３画素側に延設させるので、EL表示パネルにおいて樹脂の未充填部分をより一層低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、前記第１発光部に対応するベースの表面の領域である第１領域に形成され、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層と、前記第２発光部に対応するベースの表面であって、第１カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第２領域に形成され、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層と、前記第３発光部に対応するベースの表面であって、第２カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第３領域に形成され、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層と、前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素に隣接する第２画素側に延設され、かつ、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部が、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳している構成とした。
　本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたCF層が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記端部となる領域に形成されたCF層の端部が、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたCF層の、前記第１画素側の端部に重畳している。
　このため、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、第１画素と第２画素との間に対応する領域（以下、「画素間領域」という）に、樹脂が拡がる際の通路となり得る凹部は存在せず、逆に、当該画素間領域には、CF全体としてみた場合に凸部が形成されることになる。
　そして、この凸部に対して、画素に対応する領域に形成されたR,G,Bに対応する各CF層全体として凹部が形成されている。
　つまり、R,G,Bに対応する各CF層全体で、樹脂が拡がる際の通路となる凹部を形成しているので、CFに樹脂を滴下した場合に、画素間領域における凸部に樹脂が拡がりづらくなる一方で、凹部となる各CF層上には樹脂が拡がり易くなる。
　CFに樹脂を滴下した際に各CF層上に樹脂が拡がりやすくなるので、CFとEL基板とを貼り合わせた際の、すなわち、EL表示パネルにおける、発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　また、本発明の一態様に係るEL表示パネルでは、別途特別な材料を用いて画素間領域に凸部を形成するのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間領域に凸部を形成するので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
　このように、本態様によれば、隔壁を有さないCFを用いたEL表示パネルであっても、EL表示パネルにおける、発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素側に延設されているとしてもよい。
　ここで、本発明の別の態様として、前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する領域の中央部において、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部は、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳しているとしてもよい。
　本態様のEL表示パネルでは、画素間領域の中央部において、隣接するCF層の端部同士が重畳している。
　このため、隣接する第１画素と第２画素に対応する各領域に樹脂が均等に拡がり易くなるので、各領域で樹脂の充填度合いに差が生じ難くなる。また、各領域に樹脂が均等に拡がり易くなることで、何れの領域においても樹脂の未充填部分を低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側に延設されているとしてもよい。
　本態様のEL表示パネルでは、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層は、前記第３画素側に延設されている。これにより、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層と、前記第３画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層との間隔を狭めることができる。
　このことは、樹脂が拡がる際の通路となる凹部の幅を狭めることを意味するので、CFに樹脂を滴下した場合に、第１画素と第３画素との間に対応する画素間領域に樹脂が拡がりづらくなる一方で、各CF層上には樹脂が拡がりやすくなる。
　前記隣接する第１画素と第２画素との画素間領域において、隣接するCF層の端部同士が重畳しているだけでなく、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたCF層を第３画素側に延設させるので、EL表示パネルにおいて樹脂の未充填部分をより一層低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、上記本発明の一態様に係るEL表示パネルを備えたEL表示装置としてもよい。
　本態様のEL表示装置では、上記同様の理由により、EL表示パネルにおいて発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第１発光部、前記第２発光部、及び前記第３発光部の各々は、有機発光部であるとしてもよい。
　本態様によれば、前記第１発光部、前記第２発光部、及び前記第３発光部の各々は有機発光部であるため、有機EL表示パネルを実現することができる。
　ここで、本発明の別の態様として、有機EL表示パネルを備えた有機EL表示装置としてもよい。
　本態様の有機EL表示装置では、上記同様の理由により、EL表示パネルにおいて発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　ここで、本発明の一態様であるEL表示パネルの製造方法は、赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第１工程と、カラーフィルターのベースを準備する第２工程と、前記ベース上であって、前記ベースの前記EL基板と対向させる側に、前記第１発光部に対応する第１領域、前記第２発光部に対応する第２領域、及び前記第３発光部に対応する第３領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁を形成する第３工程と、前記第１領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第１領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層を形成する第４工程と、前記第２領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第２領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層を形成する第５工程と、前記第３領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第３領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層を形成する第６工程と、前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に樹脂材料を充填する第７工程とを具備し、隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳しているとした。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分は、前記第１画素側に延設されているとしてもよい。
　ここで、本発明の別の態様として、前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁の上面の中央部において、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分は、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳しているとしてもよい。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第３画素側に延設されることにより、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第３画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっているとしてもよい。
　ここで、本発明の一態様であるEL表示パネルの製造方法は、赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第１工程と、カラーフィルターのベースを準備する第２工程と、前記第１発光部に対応するベースの表面の領域である第１領域に、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層を形成する第３工程と、前記第２発光部に対応するベースの表面であって、第１カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第２領域に、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層を形成する第４工程と、前記第３発光部に対応するベースの表面であって、第２カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第３領域に、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層を形成する第５工程と、前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板と、の間に樹脂材料を充填する第６工程とを具備し、第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素に隣接する第２画素側に延設され、かつ、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部が、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳しているとした。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素側に延設されているとしてもよい。
　ここで、本発明の別の態様として、前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する領域の中央部において、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部は、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳しているとしてもよい。
　ここで、本発明の別の態様として、前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側に延設されているとしてもよい。
　　［実施の形態１］
＜表示装置１の全体構成＞
　本実施の形態に係る表示装置１の全体構成について、図１を用い説明する。図１は、表示装置１の全体構成を模式的に示すブロック図である。
　図１に示すように、表示装置１は、有機EL表示パネル１０と、これに接続された駆動制御部２０とを有し構成されている。有機EL表示パネル１０は、有機材料の電界発光現象を利用したトップエミッション型の有機EL表示パネルである。
　また、駆動制御部２０は、４つの駆動回路２１～２４と制御回路２５とから構成されている。
　なお、実際の表示装置１では、有機EL表示パネル１０に対する駆動制御部２０の配置については、これに限られない。
＜有機EL表示パネル１０の構成＞
　（有機EL表示パネル１０の概略構成）
　有機EL表示パネル１０の構成について詳細に説明する。図２は、実施の形態１の有機EL表示パネル１０の要部を模式的に示す部分断面図である。図２に示すように、実施の形態１の有機EL表示パネル１０では、TFT基板１０１上に層間絶縁膜１０２が形成されており、この層間絶縁膜１０２上に、陽極１０３ａがサブピクセル単位で行列状にパターニングして形成されている。
　また、Ｘ軸方向に隣り合う３つのサブピクセルの組み合わせにより１画素（ピクセル）が構成され、層間絶縁膜１０２上には、補助電極１０３ｂが画素毎に対応してライン状に形成されている。
　陽極１０３ａ間、及び陽極１０３ａと補助電極１０３ｂとの間にはバンク１０４が形成されており、バンク１０４で規定された領域内において陽極１０３ａ上には、所定の色の有機発光層１０５が積層されている。さらに、有機発光層１０５上には、陰極１０６及び封止層１０７が、それぞれバンク１０４で規定された領域を超えて隣接する有機発光層１０５及び補助電極１０３ｂのものと連続するように形成されている。
　以上、説明した各構成要素（１０１～１０７）をまとめてEL基板１１という。
　また、カラーフィルター（以下、「CF」という）の基板本体１１１の一方の面（EL基板１１に対向する対向面）にブラックマトリクス（以下、「BM」という）１１２及びR,G,Bに対応した各CF層１１３が配設されている。
　以上、説明した各構成要素（１１１～１１３）をまとめてCF１２という。
　補助電極１０３ｂ、バンク１０４、及び有機発光層１０５（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）とBM１１２及びCF１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）との配置関係について説明すると、図２に示すように、補助電極１０３ｂ及びバンク１０４に対応する領域にはBM１１２が形成されている。また、有機発光層１０５（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）に対応する各領域には、対応する色のCF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が形成されている。
　また、画素間には補助電極１０３ｂが形成されているため、画素間に対応するBM（以下、「画素間BM」という）１１２は、サブピクセル間に対応するBM（以下、「サブピクセル間BM」という）１１２より幅広になっている。
　EL基板１１とCF１２との間には、樹脂封止層１２１が充填されている。
　（CF１２の構成）
　　─BM１１２の配置位置─
　続いて、CF１２の構成について詳細に説明する。図３（ａ）は、BM１１２の配置位置を模式的に示す図である。図３（ａ）において、白抜き領域は、BM１１２が形成されていない領域を示している。Ｘ軸方向に隣り合う３つの白抜き領域（第１領域１１４、第２領域１１５、第３領域１１６）を一単位とし、図３（ａ）に示すように、これが行列状に複数形成されている。BM１１２は、行列状に形成された、第１領域１１４、第２領域１１５、及び第３領域１１６の各々を区画するように形成されている。
　Ｘ軸方向において、幅広のBM１１２が画素間BMである。補助電極１０３ｂに対応して、画素単位で幅広のBM１１２が形成されている。
　また、EL基板１１における陽極１０３ａの端部にはコンタクトホールが形成され、陽極１０３ａのコンタクトホール周辺の領域は、発光が規制される。そのため、CF１２において当該コンタクトホール周辺の領域に対応する領域もBM１１２が形成される。その結果、Ｙ軸方向のBM１１２は、サブピクセル間BM１１２に比べて、幅広になっている。
　　─BM１１２とCF層１１３との配置関係─
　図３（ｂ）は、実施の形態１のCFにおけるBM１１２とCF層１１３との配置関係を模式的に示す図である。図３（ｂ）に示すように、Ｘ軸方向に隣り合う３つのCF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）を１単位とし、これが行列状に複数形成されている。また、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）がそれぞれ、互いの方向に延設している。そのため、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）のＸ軸方向の幅が、CF層１１３（Ｇ）のＸ軸方向の幅に比べて、広くなっている。
　BM１１２とCF層１１３との配置関係について、図４を用いて、より詳細に説明する。
　図４（ａ）は、実施の形態１のCF１２の構成を示す部分断面図（図３のＡ－Ａ’断面）であり、図４（ｂ）は、実施の形態１のCF１２の構成を示す部分断面図（図３のＢ－Ｂ’断面）である。図４（ａ）に示すように、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）は、両側のBM１１２の端部上面に一部が乗り上げた状態で形成されている。ここで、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）に着目すると、CF層１１３（Ｒ）における、画素間BM１１２上面に形成された部分がCF層１１３（Ｂ）側に、CF層１１３（Ｂ）における、画素間BM１１２上面に形成された部分がCF層１１３（Ｒ）側にそれぞれ延設しており、かつ、それらが重畳している。
　そのため、CF１２全体として見た場合に、この重畳している部分（画素間に対応する部分）が凸部となり、画素内に対応する部分に形成された各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が全体として凹部となっている。
　また、本実施の形態のCF１２では、画素間BM１１２の中央部において、当該画素間BM１１２上面に形成されたCF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）の部分同士が重畳している。
　ここで、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の膜厚ｔｈ１は共通しており、例えば１～１．８μｍである。BM１１２上面の凸部の膜厚（CF層が重畳している部分における、最も厚い部分の膜厚）ｔｈ２は、２～３．６μｍである。また、BM１１２の膜厚は、例えば、１～１．２μｍである。
　このように、実施の形態１のCF１２では、画素間BM１１２上面に凹部が存在しない構成となっている。
　また、図４（ｂ）に示すように、CF層１１３ｂ（Ｂ）の一端である、CF層１１３ｃ（Ｂ）側のBM１１２上面に形成された部分が、CF層１１３ｃ（Ｂ）側に延設している。このため、当該部分が、CF層１１３ｂ（Ｂ）の他端である、CF層１１３ａ（Ｂ）側のBM１１２上面に形成された部分より長くなっている。
　その結果、BM１１２上面に形成された、隣接するCF層１１３ｂ（Ｂ）、１１３ｃ（Ｂ）の部分同士の間隔ｌ２は、後述する比較用のCFにおける間隔ｌ５（図６（ｃ）参照）（すなわち、CF層１１３ｃ（Ｂ）側に延設しない場合）と比較し、狭くなっている。間隔ｌ２は、図４（ａ）に示す間隔ｌ１（CF層１１３（Ｒ）における、サブピクセル間BM１１２上面に形成された部分と、隣接するCF層１１３（Ｇ）における、当該サブピクセル間BM１１２上面に形成された部分との間隔）と同一、または所定の近似値の範囲内であることが好ましい。所定の近似値の範囲内とは、間隔ｌ１に対して例えば０．５～１．５倍の範囲内である。間隔ｌ１は、例えば１０μｍである。その場合には、間隔ｌ２は、５～１５μｍであることが望ましい。
　なお、ここでは図示しないが、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｇ）についても、図４（ｂ）で示したものと同様の構成となっている。
　続いて、有機EL表示パネル１０における各部の材料等について詳細に説明する。
＜各部構成＞
　TFT基板１０１は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料の基板本体上に、TFT、配線部材、および前記TFTを被覆するパッシベーション膜など（図示せず）を形成した構成である。また、前記基板本体は有機樹脂フィルムであってもかまわない。
　層間絶縁膜１０２は、TFT基板１０１の表面段差を平坦に調整するために設けられ、ポリイミド系樹脂またはアクリル系樹脂等の絶縁材料で構成されている。
　陽極１０３ａ及び補助電極１０３ｂは、Ａｌ（アルミニウム）、あるいはアルミニウム合金で形成されている。なお、陽極１０３は、例えば、Ａｇ（銀）、銀とパラジウムと銅との合金、銀とルビジウムと金との合金、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等で形成されていても良い。本実施の形態１に係る有機EL表示パネル１０はトップエミッション型であるので、陽極１０３は、光反射性の材料で形成されていることが好ましい。
　バンク１０４は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。有機材料の例として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。バンク１０４は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク１０４はエッチング処理、ベーク処理等がされることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。
　有機発光層１０５は、例えば、特開平５－１６３４８８号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８－ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２－ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質で形成されることが好ましい。
　陰極１０６は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等で形成される。有機EL表示パネル１０はトップエミッション型であるので、陰極１０６は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
　封止層１０７は、有機発光層１０５等が水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、ＳｉＯ（酸化シリコン），ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）、ＳｉＣ（炭化ケイ素），ＳｉＯＣ（炭素含有酸化シリコン），ＡｌＮ（窒化アルミニウム），Ａｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）等の材料で形成される。有機EL表示パネル１０はトップエミッション型であるので、封止層１０７は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
　CFの基板本体１１１は、有機EL表示パネル1０における前面基板であり、TFT基板１０１における基板本体と同様の材料で構成することができる。但し、有機EL表示パネル1０をトップエミッション型にするため、良好な透明性を持つことが要求される。
　BM１１２は、有機EL表示パネル１０の表示面への外光の照り返しや外光の入射を防止し、表示コントラストを向上させる目的で設けられる黒色層である。例えば光吸収性及び遮光性に優れる黒色顔料を含む紫外線硬化樹脂材料で構成される。
　CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）は、赤色、緑色、青色に対応した各々の波長域の可視光を透過する、公知の樹脂材料で構成されている。
　樹脂封止層１２１は、外部からの水分やガスの侵入を防止する目的で配設され、各種透明樹脂材料（エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等）で構成される。樹脂材料の粘度は、樹脂材料の拡がり具合と密着性とを考慮し設定される必要があり、例えば、５００ｍＰａ・ｓである。
　　＜製造方法＞
　続いて、CF１２の製造工程を例示する。図５は、CF１２の製造工程の一例を示す図である。まず、紫外線硬化樹脂（例えば紫外線硬化アクリル樹脂）材料を主成分とし、これに黒色顔料を添加してなるBM材料を溶媒に分散させ、BMペーストを調整する。これを基板本体１１１の一方の面に塗布する（図５（ａ））。
　塗布したBMペーストを乾燥し、溶媒をある程度揮発させて形態を保持できる程度になったら、EL基板１１側に形成されるバンク１０４位置に対応するように所定形状の開口部を持つパターンマスクを重ねる（図５（ｂ））。そして、重ねたパターンマスクの上から紫外線照射を行う。
　その後、塗布・溶媒除去したBMペーストを焼成し、パターンマスク及び未硬化のBMペーストを除去して現像し、キュアすると、図５（ｃ）に示すように、バンク１０４の位置に合わせたBM１１２が完成する。
　次に、BM１１２を形成した基板表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするCF層１１３（Ｒ）の材料を溶媒に分散させ、ペースト（Ｒ）を塗布する。溶媒を一定除去した後、所定のパターンマスクを載置し、紫外線照射を行う。
　その後、キュアを行い、パターンマスク及び未硬化のペースト（Ｒ）を除去して現像すると、図５（ｄ）に示すように、CF層１１３（Ｒ）が形成される。
　CF層１１３（Ｒ）は、BM１１２の形状に沿って形成されており、両側のBM１１２の端部上面に一部が乗り上げた状態となっている。また、CF層１１３（Ｒ）における、画素間BM１１２上面に形成された部分が、サブピクセル間BM１１２上面に形成された部分より長くなっている。
　上記CF層１１３（Ｒ）形成工程を各色のCF材料について同様に繰り返すことで、CF層１１３（Ｇ）、（Ｂ）を形成する。これにより、各有機発光層１０５の位置に合わせてCF層１１３（Ｇ）、（Ｂ）が形成される（図５（ｅ）、（ｆ））。
　CF層１１３（Ｇ）、（Ｂ）も、CF層１１３（Ｒ）と同様、BM１１２の形状に沿って形成されており、両側のBM１１２の端部上面に一部が乗り上げた状態となっている。ただし、CF層１１３（Ｂ）における、画素間BM１１２上面に形成された部分が、サブピクセル間BM１１２上面に形成された部分より長くなっており、かつ、CF層１１３（Ｒ）における、画素間BM１１２上面に形成された部分に重畳している。
　また、CF層１１３（Ｇ）においては、当該CF層の両側のBM１１２上面に形成された部分はどちらも延設されていない。
　以上の工程を経ることで、本実施の形態のCF１２が完成する。
　この後の工程について簡単に説明すると、完成したCF１２の外周部分に、所定の工程を経て完成したEL基板１１と当該CF１２とを封止するためのシール材（ＤＡＭ）のペーストを塗布し、さらに、CF１２の外周部分を除く部分に樹脂封止用の樹脂材料（ＦＩＬＬ）を、所定の間隔を空けて滴下していく。滴下が終了すると、その後、真空状態においてEL基板１１とCF１２とを貼り合わせた後、焼成して封止工程を完了すると、有機EL表示パネル１０が完成する。
　　＜本実施の形態のCFと比較用のCFとの比較＞
　続いて、本実施の形態におけるCF１２と比較用のCFとで、樹脂の拡がり具合にどのような違いがあるかについて説明する。ここで、比較用のCFとして、画素間BM１１２上に形成されたCF層の部分を延設していないものを用いる。以下、比較用のCFについて説明する。
　（比較用のCFにおけるBM２１２とCF層２１３との配置関係）
　比較用のCFにおけるBMの配置位置に関しては、図３（ａ）に示したものと同様である。図６（ａ）は、比較用のCFのBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図６（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に隣り合う３つのCF層２１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）を１単位とし、これが行列状に複数形成されている。この点については、図３（ｂ）で示したものと同様である。ただし、比較用のCF では、CF層２１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の各々のＸ軸方向及びＹ軸方向の幅は、同一である。
　BM２１２とCF層２１３との配置関係について、図６（ｂ）及び図６（ｃ）を用いて、より詳細に説明する。
　図６（ｂ）は、比較用のCFの構成を示す部分断面図（図６（ａ）のＣ－Ｃ’断面）であり、図６（ｃ）は、比較用のCFの構成を示す部分断面図（図６（ａ）のＤ－Ｄ’断面）である。図６（ｂ）に示すように、各CF層２１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）は、両側のBM２１２の端部上面に一部が乗り上げた状態で形成されている。この点については、実施の形態１のCF１２と同様である。ただし、CF層２１３（Ｒ）に着目すると、CF層２１３（Ｒ）における、画素間BM上面に形成された部分が、隣接するCF層２１３（Ｂ）側に延設されていない。続いてCF層２１３（Ｂ）に着目すると、CF層２１３（Ｒ）と同様、CF層２１３（Ｂ）における、画素間BM上面に形成された部分が、隣接するCF層２１３（Ｒ）側に延設されていない。すなわち、CF層２１３（Ｒ）及びCF層２１３（Ｂ）における、画素間BM上面に形成された部分とサブピクセル間BM上面に形成された部分の幅は、同一である。
　その結果、画素間BM２１２上面に形成されたCF層２１３（Ｒ）の部分と当該画素間BM上面に形成されたCF層２１３（Ｂ）の部分との間隔ｌ３は、サブピクセル間BM上面に形成されたCF層２１３（Ｒ）の部分と当該サブピクセル間BM上面に形成された、隣接するCF層２１３（Ｇ）の部分との間隔ｌ４に比べて、広くなっている。間隔ｌ４が、例えば１０μｍである場合には、間隔ｌ３は例えば４０μｍである。
　また、図６（ｃ）に示すように、CF層２１３ｂ（Ｂ）の一端である、CF層２１３ｃ（Ｂ）側のBM２１２上面に形成された部分も、当該CF層２１３ｃ（Ｂ）側に延設されていない。そのため、BM２１２上面に形成された、隣接するCF層２１３ｂ（Ｂ）、２１３ｃ（Ｂ）の部分同士の間隔ｌ５も、間隔ｌ４に比べて広くなっている。間隔ｌ４が、例えば１０μｍである場合には、間隔ｌ５は例えば４０μｍである。
　なお、ここでは図示しないが、CF層２１３（Ｒ）及びCF層２１３（Ｇ）についても、図６（ｃ）で示したものと同様の構成となっている。
　このように、比較用のCFでは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向ともに、画素間BM２１２上において幅広の凹部が形成されている。
　（比較用のCFにおける樹脂の拡がり具合）
　図７（ａ）は、比較用のCFに樹脂２２１１を複数滴、滴下した状態を示す模式図及び比較用のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。図７（ｂ）は、樹脂２２１１が滴下された状態における、比較用のCFの構成を示す模式図（図７（ａ）のＥ－Ｅ’断面）である。
　図７（ａ）上図に示すように、CF上には、樹脂２２１１が所定間隔を空けて複数滴、滴下される。樹脂２２１１が滴下された後、CF上では樹脂が拡がり始めるが、図７（ａ）下図、及び図７（ｂ）に示すように、樹脂２２１１は、CF層上ではなく、画素間BM１１２上から拡がり始める。これは、CFが凹凸形状を有しており、CF層上面に比べBM上面が低い位置にあるため、より低い位置にあるBM上面が、樹脂が拡がる際の通路となるからである。なお、サブピクセル間BM上面もCF層上面に比べ低い位置にあるが、サブピクセル間BM上面においては、隣接するCF層の間隔が十分に狭い。そのため、表面張力の影響により、樹脂が拡がらないと考えられる。
　このように、比較用のCFでは、画素間BM１１２上面に樹脂が真っ先に拡がるため、CF層上に樹脂が拡がっていない領域が存在する。このため、CFとEL基板とを貼り合わせて構成される有機EL表示パネル１０において、有機発光層に相当する領域では樹脂が充填されていない未充填部分が生じる。
　図８は、比較用のCFを用いた有機EL表示パネル１０００の構成を模式的に示す部分断面端面図である。図８において白塗り領域は、樹脂が充填されていない未充填領域を示す。図８に示すように、比較用のCFを用いた有機EL表示パネル１０００では、CFとEL基板とを貼り合わせる際の圧力により、有機発光層側に樹脂が一部拡がるものの、未充填部分を排除するには至っていない。
　したがって、画素間BMに対応する領域では、樹脂２２１が充填されているものの、有機発光層に相当する領域では、未充填領域が生じている。
　なお、ここでは、Ｙ軸方向への拡がりについて説明したが、Ｘ軸方向への拡がりについても幅広の凹が存在するため、同様のことが言える。
　（本実施の形態のCF１２における樹脂の拡がり具合）
　続いて、本実施の形態のCF１２に樹脂を滴下した場合の拡がり具合について説明する。図９（ａ）は、実施の形態１のCFに樹脂を滴下した状態を示す模式図及び実施の形態１のCFでの樹脂の拡がり具合を示す模式図である。図９（ｂ）は、樹脂が滴下された状態における、実施の形態１のCF１２の構成を示す模式図（図９（ａ）のＦ－Ｆ’断面）である。
　本実施の形態のCF１２では、CF１２全体として見た場合に、画素間BM上面に凸部が形成され、画素内に対応する部分に形成された各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）全体として凹部が形成されている。
　そのため、BM１１２と各CF層とで段差が生じているものの、画素間BM上面には幅広の凹部は存在していない。
　比較用のCFでの樹脂の拡がり方から明らかなように、樹脂は幅広の凹部から拡がっていく。実施の形態１のCF１２では、画素内に対応する部分に形成された各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が、全体として幅広の凹部となるので、比較用のCFとは逆に、図９（ａ）下図に示すように、樹脂１２１１は、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）上から真っ先に拡がっていく。
　したがって、画素間BM上面の凹部にのみ樹脂が多量に拡がるということを抑制することができる。
　その結果、CFとEL基板とを貼り合わせた際には、図２に示したように、有機発光層に相当する領域に樹脂が充填される。
　また、本実施の形態のCF１２では、画素間BM１１２の中央部において、当該画素間BM１１２上面に形成されたCF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）の部分同士が重畳している。このため、図９（ｂ）に示すように、隣接する画素に対応する各領域に樹脂が均等に拡がり易くなるので、各領域で樹脂の充填度合いに差が生じ難くなる。また、各領域に樹脂が均等に拡がり易くなることで、何れの領域においても樹脂の未充填部分を低減することができる。
　なお、ここでは、Ｙ軸方向への拡がりについて説明したが、Ｘ軸方向への拡がりについては、図１０を用いて説明する。図１０（ａ）は、実施の形態１のCF１２での樹脂の拡がり具合を示す模式図であり（図９（ａ）の領域Ａ）、図１０（ｂ）は、樹脂が滴下された状態における、実施の形態１のCFの構成を示す模式図（図９（ａ）のＧ－Ｇ’断面）である。図４（ａ）、（ｂ）に示したように、画素間BM１１２上面における間隔ｌ２は、サブピクセル間BM１１２における間隔ｌ１と同一または所定の近似値の範囲内である。そのため、BM１１２と各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）とで段差が生じているものの、画素間BM１１２上面には幅広の凹部は存在しない。よって、画素間BM上面の凹部に樹脂が真っ先に拡がっていくのではなく、図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、樹脂はCF１２上を同心円状に拡がっていく。
　したがって、Ｘ軸方向への拡がりに関しても、画素間BM上面の凹部にのみ樹脂が多量に拡がるということを抑制することができる。
　以上のように本実施の形態によれば、CF層１１３（Ｂ）における、画素間BM１１２の上面に形成された部分が、隣接するCF層１１３（Ｒ）側に延設され、かつ、CF層１１３（Ｒ）における、画素間BM１１２の上面に形成された部分に重畳している。
　このため、画素間BM１１２の幅が、サブピクセル間BM１１２の幅より広くなっているものの、画素間BM１１２上には、樹脂が拡がる際の通路となり得る幅広の凹部は存在しない。
　画素間BM１１２上には、CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）が重畳されているため、CF１２全体としてみた場合には、逆に、凸部が形成されることになる。そして、この凸部に対して、画素に対応する領域に形成された各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）全体として凹部が形成されている。
　このことは、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）全体で、樹脂が拡がる際の通路となる凹部を形成していることを意味するので、CF１２に樹脂を滴下した場合に、画素間BM１１２上面の凸部に樹脂が拡がりづらくなる一方で、凹部となる各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）上には樹脂が拡がり易くなる。
　CF１２に樹脂を滴下した際に各CF層１１３上に樹脂が拡がりやすくなるので、CF１２とEL基板１１とを貼り合わせた際の、すなわち、有機EL表示パネル１０における、有機発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　また、本実施の形態の有機EL表示パネル１０では、別途特別な材料を用いて画素間BM１１２上に凸部を形成するのではなく、CF層という既存材料を延設させることにより画素間BM１１２上に凸部を形成するので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
　　［変形例１－１］
　続いて、CFにおける各CF層をストライプ状に形成した一変形例について説明する。図１１は、変形例１－１におけるBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図１１に示すように、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）がそれぞれ、互いの方向に延設している。この点においては、図３（ｂ）で示したCF１２と共通している。ただし、変形例１－１のCF１２では、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）がストライプ状に形成されている。すなわち、Ｙ軸方向においては、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）は、サブピクセルに相当する領域毎にパターニングされるのではなく、連続して形成されている。
　これにより、Y軸方向においては、BM１１２上面における凹部が存在しないため、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）上への樹脂の拡がりをより一層促進させることができる。
　なお、BM１１２の配置位置に関しては図３（ａ）で示したものと同様である。
　　［実施の形態２］
　本実施の形態では、BMが形成されず、R,G,Bに対応する各CF層のみが形成されたCFについて説明する。
＜有機EL表示パネル１０の構成＞
　（有機EL表示パネル１０の概略構成）
　本実施の形態の有機EL表示パネル１０の構成について詳細に説明する。図１２は、実施の形態２の有機EL表示パネル１０の要部を模式的に示す部分断面図である。図１２に示すように、基板本体１１１の一方の面（EL基板１１に対向する対向面）で、かつ、有機発光層１０５（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）に対応する各領域に、対応する色のCF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）がそれぞれ形成されている。
　EL基板１１については、実施の形態１と同様であるので、ここではその説明を省略する。
　続いて、CF１２の構成について詳細に説明する。図１３（ａ）は、実施の形態２のBMとCF層との配置関係を模式的に示す図である。図１３（ａ）に示すように、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）がそれぞれ、互いの方向に延設している。そのため、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）のＸ軸方向の幅が、CF層１１３（Ｇ）のＸ軸方向の幅に比べて、広くなっている。
　BM１１２とCF層１１３との配置関係について、図１３（ｂ）、（ｃ）を用いて、より詳細に説明する。図１３（ｂ）は、実施の形態２のCFの構成を示す部分断面図（図１３（ａ）のＨ－Ｈ’断面）である。図１３（ｃ）は、実施の形態２のCFの構成を示す部分断面図（図１３（ａ）のＩ－Ｉ’断面）である。
　図１３（ｂ）において、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｂ）に着目すると、CF層１１３（Ｒ）のCF層１１３（Ｂ）側の端部と、CF層１１３（Ｂ）のCF層１１３（Ｒ）側の端部とが重畳している。
　そのため、CF１２全体として見た場合に、この重畳している部分（画素間に対応する部分）が凸部となり、画素内に対応する部分に形成された各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が全体として凹部となる。
　また、図１３（ａ）及び図１３（ｃ）に示すように、CF層１１３（Ｂ）は、Ｙ軸方向に延設している。隣接するCF層１１３（Ｂ）の間隔ｌ７は、図１３（ｂ）に示した間隔ｌ６と同一、または所定の近似値の範囲内であることが好ましい。所定の近似値の範囲内については、実施の形態１で述べた通りである。
　なお、ここでは図示しないが、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｇ）についても、図１３（ｃ）で示したものと同様の構成となっている。
　以上のように、CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）のみが形成されたCFでは、隣接するCF層間の領域が、CF全体としてみた場合に凹部となるが、上述したように、CF層１１３（Ｒ）及びCF層１１３（Ｇ）をそれぞれ互いの方向に延設し、かつ、それらを重畳させることにより、隣接するCF層間の領域に、CF全体としてみた場合に凸部を形成することができる。そして、この凸部に対して、CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）全体として凹部が形成されるので、CFに樹脂を滴下した場合に、隣接するCF層間の領域における凸部に樹脂が拡がりづらくなる一方で、凹部となる各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）上には樹脂が拡がり易くなる。
　CFに樹脂を滴下した際に各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）上に樹脂が拡がりやすくなるので、CF１２とEL基板１１とを貼り合わせた際の、すなわち、有機EL表示パネル１０における、有機発光層に相当する領域での樹脂の未充填部分を低減することができる。
　また、本実施の形態のCF１２において、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）をＹ軸方向に延設することにより、隣接するCF層間の領域における凹部を狭めることができる。その結果、CF層上への樹脂の拡がりを促進することができる。
　さらに、本実施の形態の有機EL表示パネル１０では、別途特別な材料を用いて隣接するCF層間の領域に凸部を形成するのではなく、CF層という既存材料を幅広に形成することにより隣接するCF層間の領域に凸部を形成するので、簡易な構成により未充填部分を低減することができる。
　なお、各CF層１１３（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が、ストライプ状に形成されていてもよい。
（補足）
　以上、本発明に係る有機EL表示パネル１０について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施の形態に限られないことは勿論である。
（１）上記実施の形態におけるEL基板１１において、陽極１０３ａと有機発光層１０５との間には、必要に応じて、ホール注入層、ホール輸送層またはホール注入兼輸送層が介挿されていてもよいし、陰極１０６と有機発光層１０５との間には、必要に応じて、電子注入層、電子輸送層または電子注入兼輸送層が介挿されていてもよい。
（２）上記実施の形態では、有機EL表示パネル１０のCF１２を例に挙げて説明したが、このCF１２を無機EL表示パネルに適用してもよい。
（３）上記実施の形態では、第１領域１１４、第２領域１１５、及び第３領域１１６の各々を区画する隔壁として、BM１１２を例に挙げて説明したが、各領域を区画する隔壁として機能すればBM１１２に限らない。例えば、黒色顔料以外の色の顔料を含む紫外線硬化樹脂材料からなる隔壁であってもよい。
（４）上記実施の形態では、画素間BM１１２の中央部において隣接するCF層の端部同士が重畳している構成としたが、重畳位置は中央部に限らない。画素間BM１１２上面で隣接するCF層の端部同士が重畳していればよい。
（５）上記実施の形態では、画素の端部に対応する領域にCF層１１３（Ｂ）とCF層１１３（Ｒ）とが形成されていたが、配置関係はこれに限定されず、例えば、画素の端部に対応する領域にCF層１１３（Ｇ）が形成されていてもよい。
（６）上記実施の形態では、図４（ｂ）に示すように、CF層１１３ｂ（Ｂ）の一端である、CF層１１３ｃ（Ｂ）側のBM１１２上面に形成された部分が、CF層１１３ｃ（Ｂ）側に延設し、当該部分が、CF層１１３ｂ（Ｂ）の他端である、CF層１１３ａ（Ｂ）側のBM１１２上面に形成された部分より長くなっているとしたが、これに限らず、間隔ｌ２が上記所定の近似値の範囲内になっていれば次のような構成でもよい。例えば、BM１１２上面に形成された、隣接するCF層１１３の部分同士がそれぞれ、互いの方向に延設しているとしてもよい。
（７）上記各実施の形態では、表示装置１の外観を示さなかったが、例えば、図１４に示すような外観を有するものとすることができる。
（８）上記図７（ａ）に比較用のCFに樹脂を滴下した際の樹脂の拡がり具合を示す模式図を示したが、図１５は、実際に比較用のCFに樹脂を滴下した際の樹脂の拡がり具合を示す写真である。図１５からも、樹脂が、CF層上ではなく、画素間BM上から拡がり始めることが確認できる。
（９）上記実施の形態及び上記各変形例をそれぞれ組み合わせるとしてもよい。
　本発明は、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等に利用可能である。
１　　　　　表示装置
１０　　　　有機EL表示パネル
２０　　　　駆動制御部
２１－２４　駆動回路
２５　　　　制御回路
１０１　　　TFT基板
１０２　　　層間絶縁膜
１０３ａ　　陽極
１０３ｂ　　補助電極
１０４　　　バンク
１０５　　　有機発光層
１０６　　　陰極
１０７　　　封止層
１１１　　　基板
１１２　　　ブラックマトリクス
１１３　　　CF層
１２１　　　樹脂封止層

Claims (19)

  1. 　赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、
    　前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、
    　前記カラーフィルターのベースの前記EL基板側に形成され、前記第１発光部に対応する第１領域、前記第２発光部に対応する第２領域、及び前記第３発光部に対応する第３領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁と、
    　前記第１領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第１領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層と、
    　前記第２領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第２領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層と、
    　前記第３領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第３領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで形成され、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層と、
    　前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、
    　隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、
    　共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している
    　EL表示パネル。
  2. 　前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分は、前記第１画素側に延設されている
    　請求項１記載のEL表示パネル。
  3. 　前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁の上面の中央部において、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分は、
    　前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している
    　請求項２に記載のEL表示パネル。
  4. 　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第３画素側に延設されることにより、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第３画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている
    　請求項１～３のいずれか１項に記載のEL表示パネル。
  5. 　赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板と、
    　前記EL基板の光の出力側に設けられたカラーフィルターのベースと、
    　前記第１発光部に対応するベースの表面の領域である第１領域に形成され、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層と、
    　前記第２発光部に対応するベースの表面であって、第１カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第２領域に形成され、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層と、
    　前記第３発光部に対応するベースの表面であって、第２カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第３領域に形成され、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層と、
    　前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に充填された樹脂層と、を具備し、
    　第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素に隣接する第２画素側に延設され、かつ、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部が、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳している
    　EL表示パネル。
  6. 　前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素側に延設されている
    　請求項５に記載のEL表示パネル。
  7. 　前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する領域の中央部において、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部は、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳している
    　請求項６に記載のEL表示パネル。
  8. 　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側に延設されている
    　請求項５～７のいずれか１項に記載のEL表示パネル。
  9. 　請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載のEL表示パネルを備えた、
    　EL表示装置。
  10. 　前記第１発光部、前記第２発光部、及び前記第３発光部の各々は、有機発光部である、
    　請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載のEL表示パネル。
  11. 　請求項１０に記載のEL表示パネルを備えた、
    　有機EL表示装置。
  12. 　赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第１工程と、
    　カラーフィルターのベースを準備する第２工程と、
    　前記ベース上であって、前記ベースの前記EL基板と対向させる側に、前記第１発光部に対応する第１領域、前記第２発光部に対応する第２領域、及び前記第３発光部に対応する第３領域の各々を区画するカラーフィルターの隔壁を形成する第３工程と、
    　前記第１領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第１領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層を形成する第４工程と、
    　前記第２領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第２領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層を形成する第５工程と、
    　前記第３領域を区画する両側の隔壁の上面から前記両側の隔壁の側面及び前記両側の隔壁によって区画された第３領域に対応するベースの表面、に沿った形状に窪んで、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層を形成する第６工程と、
    　前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板との間に樹脂材料を充填する第７工程とを具備し、
    　隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁は共通しており、
    　共通している隔壁の幅は、各画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域間の各々の前記カラーフィルターの隔壁の幅より広く、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分が、
    　前記第２画素側に延設され、かつ、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している
    　EL表示パネルの製造方法。
  13. 　前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分は、前記第１画素側に延設されている
    　請求項１２記載のEL表示パネルの製造方法。
  14. 　前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する前記カラーフィルターの隔壁の上面の中央部において、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の隔壁の上面に形成された部分は、
    　前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の隔壁の上面に形成された部分に重畳している
    　請求項１３に記載のEL表示パネルの製造方法。
  15. 　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側の隔壁の上面に形成された部分が、前記第３画素側に延設されることにより、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第３画素側の隔壁の反対側の隔壁の上面に形成された部分より長くなっている
    　請求項１２～１４のいずれか１項に記載のEL表示パネルの製造方法。
  16. 　赤色光を出力する第１発光部、緑色光を出力する第２発光部、及び青色光を出力する第３発光部を一単位とする画素が行列状に複数配列されたEL基板を準備する第１工程と、
    　カラーフィルターのベースを準備する第２工程と、
    　前記第１発光部に対応するベースの表面の領域である第１領域に、所望の赤色光を透過する第１カラーフィルター層を形成する第３工程と、
    　前記第２発光部に対応するベースの表面であって、第１カラーフィルター層と所定の間隔で離間した第２領域に、所望の緑色光を透過する第２カラーフィルター層を形成する第４工程と、
    　前記第３発光部に対応するベースの表面であって、第２カラーフィルター層と、前記所定の間隔と同一、あるいは所定の近似値の範囲内で離間した第３領域に、所望の青色光を透過する第３カラーフィルター層を形成する第５工程と、
    　前記第１カラーフィルター層、前記第２カラーフィルター層、及び前記第３カラーフィルター層と、前記EL基板と、の間に樹脂材料を充填する第６工程とを具備し、
    　第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素に隣接する第２画素側に延設され、かつ、前記端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部が、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳している
    　EL表示パネルの製造方法。
  17. 　前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第１画素側に延設されている
    　請求項１６に記載のEL表示パネルの製造方法。
  18. 　前記隣接する第１画素と第２画素との間に対応する領域の中央部において、
    　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で端部となる領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第２画素側の端部は、前記第２画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の中で前記第１画素に隣接する領域に形成されたカラーフィルター層の、前記第１画素側の端部に重畳している
    　請求項１７に記載のEL表示パネルの製造方法。
  19. 　前記第１画素に対応する前記第１領域、前記第２領域、及び前記第３領域の各領域に形成されたカラーフィルター層は、前記第２画素と交差する方向に隣接する第３画素側に延設されている
    　請求項１６～１８のいずれか１項に記載のEL表示パネルの製造方法。
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