JP2000111724A - カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置 - Google Patents

カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置

Info

Publication number
JP2000111724A
JP2000111724A JP28160998A JP28160998A JP2000111724A JP 2000111724 A JP2000111724 A JP 2000111724A JP 28160998 A JP28160998 A JP 28160998A JP 28160998 A JP28160998 A JP 28160998A JP 2000111724 A JP2000111724 A JP 2000111724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color filter
layer
liquid crystal
polishing
overcoat layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28160998A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyuki Ito
信行 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP28160998A priority Critical patent/JP2000111724A/ja
Publication of JP2000111724A publication Critical patent/JP2000111724A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 遮光層のパターン幅が狭くても光漏れが発生
せず、表示品位と表面平坦性とに優れた薄いカラーフィ
ルターを提供する。 【解決手段】 各カラーフィルター層23R・23G・
23Bは、遮光層22のパターン上で、それぞれの端部
が重なるように形成され、光漏れが防止される。各カラ
ーフィルター層23R・23G・23B上には、第1オ
ーバーコート層24が形成され、重ね合わせによる突起
Pcを緩和する。第1オーバーコート層24の表面に残
留する突起は、研磨により平坦化される。さらに、第1
オーバーコート層24上には、同一素材の第2オーバー
コート層25が形成され、研磨傷Sを平坦化すると共に
非可視化する。これにより、研磨せずに平坦化する場合
よりも薄く、各カラーフィルター層23R・23G・2
3Bを直接研磨する場合よりも研磨傷が目立たないカラ
ーフィルター基板2を実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平坦性に優れ、研
磨により傷が発生した場合でも、傷が目に見えないカラ
ーフィルター、その製造方法、および、それを用いた液
晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、液晶表示装置の各画素に着色
するために、遮光層とカラーフィルター層とを備えたカ
ラーフィルター基板が広く使用されている。例えば、図
10に示すように、カラーフィルター基板102では、
基板121上に、開口部Aを有する遮光層(ブラックマ
トリクス)122が形成されると共に、各開口部A上
に、R・G・Bなど、各画素の色に応じた色のカラーフ
ィルター層123R・123G・123B(以下では、
カラーフィルター層123と総称する)がパターン形成
される。
【0003】ここで、近年では、液晶表示装置に対し
て、高コントラスト化および高輝度化による表示品位の
向上と、高精細化(高解像度化)とが求められている。
これに伴って、開口率が高く、精細度の高いカラーフィ
ルター基板102が必要になり、遮光層122のパター
ン幅Wは、狭くなる傾向にある。
【0004】したがって、上記カラーフィルター基板1
02のように、各カラーフィルター層123を、端部が
互いに重ならないようにパターニングした場合、パター
ン幅Wが狭まるに従って、カラーフィルター層123と
遮光層122とを重ねることが困難になり、図中、Xで
示すように、カラーフィルター層123と遮光層122
との間に間隙Xが発生する虞れがある。当該間隙Xから
は、黒表示時に光が漏れるため、液晶表示装置の表示品
位が低下してしまう。
【0005】この結果、例えば、特開平9−23012
4号公報に記載の液晶表示装置で使用されてるカラーフ
ィルター基板102aでは、図11に示すように、各カ
ラーフィルター層123の端部が遮光層122上で重な
るようにパターニングされている。ところが、この構成
では、光漏れの発生を防止できる一方で、各カラーフィ
ルター層123の層厚は、開口部Aよりも、遮光層12
2上の方が厚くなり、比較的大きな突起Pcが発生して
しまう。
【0006】ここで、液晶表示装置では、カラーフィル
ター基板102(102a)の表面平坦性が損なわれる
と、セルギャップ斑や液晶の配向乱れが発生して、表示
品位を低下させる虞れがある。特に、強誘電体性液晶や
反強誘電性液晶を使用した液晶表示装置のように、従来
のネマティック液晶を使用したSTN液晶やTFT−T
N液晶よりもセル厚が非常に薄い液晶表示装置では、カ
ラーフィルター基板102(102a)に対して、より
一層の表面平坦性が要求され、上記突起Pcを放置する
と、正常に表示できないこともある。したがって、例え
ば、図12に示すように、カラーフィルター基板102
bに設けられたカラーフィルター層123の表面を研磨
して、突起Pcを除去している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カラー
フィルター層123は、顔料や染料で形成されるため、
非常に軟らかい。したがって、カラーフィルター層12
3を研磨すると、多くの研磨傷Scが表面に発生し、表
示品位を大きく損なうという問題が発生する。
【0008】具体的には、カラーフィルター層123の
表面のうち、開口部A上の領域に研磨傷Scが発生する
と、研磨傷Scでの色味が変化して、液晶表示装置の表
示品位を直接損なってしまう。さらに、研磨傷Scによ
り、カラーフィルター基板102bの表面平坦性が低下
して、上述のセルギャップ斑や液晶の配向乱れが発生す
ると、表示品位は、より一層低下する。
【0009】また、特開平5−264811号公報で
は、異物による突起を平坦化するために、カラーフィル
ター層上に、保護層を形成し、当該保護層を研磨する構
成が開示されている。ところが、当該保護層も樹脂で形
成されているため、研磨傷の発生を避けることができな
い。したがって、研磨傷を直接視認できるだけではな
く、カラーフィルター基板の表面平坦性が低下してしま
う。この結果、当該カラーフィルター基板を使用した場
合、十分な表示品位を持った液晶表示装置を実現するこ
とが難しい。
【0010】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、遮光層のパターン幅が狭くて
も光漏れが発生せず、表示品位と表面平坦性とに優れた
薄いカラーフィルターを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係るカ
ラーフィルターは、上記課題を解決するために、光を遮
断する遮光層と、当該遮光層の無い開口部に設けられた
複数色のカラーフィルター層とを有するカラーフィルタ
ーにおいて、以下の手段を講じたことを特徴としてい
る。
【0012】すなわち、隣接する上記カラーフィルター
層の周辺部同士は、上記遮光層上で重なるようにパター
ニングされていると共に、上記カラーフィルター層上に
形成され、研磨によって平坦化された第1オーバーコー
ト層と、上記第1オーバーコート層上に形成され、当該
第1オーバーコート層の研磨による傷を平坦化する第2
オーバーコート層とを備えている。
【0013】上記構成によれば、カラーフィルター層の
周辺部同士が重なるようにパターニングされているた
め、遮光層のパターン幅を狭くした場合であっても、カ
ラーフィルター層と遮光層との間に隙間が発生しない。
したがって、開口率と精細度とを向上した場合でも、光
漏れの発生しないカラーフィルターを実現できる。
【0014】さらに、カラーフィルター層上に形成され
た第1オーバーコート層が研磨されるので、カラーフィ
ルター層を直接研磨することなく、カラーフィルター層
の重ね合わせに起因する突起を平坦化できる。さらに、
第2オーバーコート層によって、第1オーバーコート層
の研磨傷が平坦化されるので、カラーフィルターの表面
(第2オーバーコート層の表面)の平坦性を向上でき
る。
【0015】ここで、第1オーバーコート層は、一般
に、カラーフィルター層よりも高硬度なので、研磨傷が
発生しにくい。さらに、カラーフィルター層とは異な
り、着色されていないので、研磨傷が発生しても目立ち
にくい。さらに、研磨傷は、第2オーバーコート層によ
り平坦化されるので、さらに視認しにくくなる。
【0016】また、研磨せずに、オーバーコート層の層
厚を厚くして、カラーフィルターの表面を平坦化する場
合と比較すると、より薄い層厚で同等の表面平坦性を実
現できる。したがって、カラーフィルターの視野角を拡
大できる。
【0017】これらの結果、光漏れを防止可能でありな
がら、表示品位および表面平坦性に優れ、より薄いカラ
ーフィルターを実現できる。
【0018】なお、上記第1および第2オーバーコート
層は、互いに異なる材料を使用して、屈折率が互いに異
なる材料で形成することもできる。ところが、両者の屈
折率が大きく相違すると、第1オーバーコート層の研磨
傷が視認される虞れがある。
【0019】これに対して、請求項2の発明に係るカラ
ーフィルターは、請求項1記載の発明の構成において、
上記第1および第2オーバーコート層は、それぞれの屈
折率が互いに同一に設定されていることを特徴としてい
る。
【0020】上記構成によれば、両オーバーコート層の
屈折率が一致しているので、第1オーバーコート層に発
生した研磨傷を完全に非可視化できる。この結果、カラ
ーフィルターの表示品位をさらに向上できる。
【0021】一方、請求項3の発明に係るカラーフィル
ターの製造方法は、上記課題を解決するために、光を遮
断する遮光層上で、隣接するカラーフィルター層の周辺
部同士が重なり合うように、複数色のカラーフィルター
層を形成する工程を含むカラーフィルターの製造方法に
おいて、以下の工程を加えたことを特徴としている。
【0022】すなわち、上記カラーフィルター層上に、
第1オーバーコート層を形成する工程と、上記第1オー
バーコート層を研磨して、上記カラーフィルター層の重
ね合わせ部の段差を平坦化する工程と、上記第1オーバ
ーコート層上に、第2オーバーコート層を形成して、研
磨により上記第1オーバーコート層に発生した傷を平坦
化する工程とを含んでいる。
【0023】上記構成によれば、カラーフィルター層の
重ね合わせに起因する突起は、カラーフィルター層上の
第1オーバーコート層を研磨する工程によって、カラー
フィルター層を直接研磨することなく平坦化される。さ
らに、研磨によって発生した研磨傷は、第2オーバーコ
ート層を形成する工程によって平坦化される。この結
果、請求項1と同様に、光漏れを防止可能でありなが
ら、表示品位および表面平坦性に優れ、より薄いカラー
フィルターを製造できる。
【0024】ところで、上記カラーフィルターは、表示
装置に広く適用できるが、特に、強誘電性液晶や反強誘
電性液晶を使用した液晶表示装置に適用した場合に、非
常に効果的である。
【0025】具体的には、請求項4の発明に係る液晶表
示装置は、上記課題を解決するために、請求項1または
2記載のカラーフィルターと、強誘電性液晶、または、
反強誘電性液晶によって、上記開口部を通過する光を制
御する液晶層とを備えていることを特徴としている。
【0026】上記構成の液晶表示装置では、液晶層が強
誘電性液晶または反強誘電性液晶によって、遮光層の開
口部を通過する光を制御している。したがって、液晶層
の層厚は、ネマティック液晶を用いた場合よりも非常に
薄く設定され、カラーフィルターの表面の凹凸が相対的
に大きくなる。したがって、カラーフィルターの表面に
凹凸が発生すると、液晶表示装置の表示品位を大きく損
なう虞れがある。
【0027】ところが、上記構成のカラーフィルター
は、光漏れを防止可能でありながら、表示品位および表
面平坦性に優れ、薄く形成できる。この結果、強誘電性
液晶または反強誘電性液晶が使用されているにも拘わら
ず、表示品位の高い液晶表示装置を実現できる。
【0028】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態について、図
1ないし図6に基づき説明すると、以下の通りである。
すなわち、本実施形態に係るカラーフィルターは、例え
ば、液晶表示装置など、表示装置のカラーフィルターと
して好適に使用される。
【0029】具体的には、本実施形態に係る液晶表示装
置1は、例えば、図2に示すように、基板21上に遮光
層22およびカラーフィルター層23が形成されたカラ
ーフィルター基板(カラーフィルター)2と、液晶層3
と、カラーフィルター基板2に対向して設けられた対向
基板4とを備えており、両基板2・4により、液晶層3
が封止されている。また、カラーフィルター基板2およ
び対向基板4には、液晶層3を駆動するために、透明電
極26・41がそれぞれ設けられている。
【0030】上記液晶層3は、例えば、STN液晶やT
FT−TN液晶を使用し、セル厚を5μm以上に設定し
てしてもよいが、本実施形態では、カラーフィルター基
板2に特に平坦性が要求される液晶層3として、強誘電
性液晶、または、反強誘電性液晶が使用されており、セ
ル厚が2μm以下に設定されている。
【0031】上記対向基板4の構造は、液晶表示装置1
の駆動方法によって決定され、例えば、TFTによるア
クティブマトリクス駆動の場合は、マトリクス状に配さ
れる画素に対応する透明電極41を駆動するために、図
示しないTFT素子が設けられる。また、単純マトリク
ス駆動の場合には、上記各透明電極26と各透明電極4
1とが画素上で互いに直交するように配される。いずれ
の場合であっても、画素に対応する透明電極26・41
間の電位差によって、液晶層3のうち、当該画素に対応
する部分の液晶の配向方向が決定され、画素から出射す
る光の強度が制御される。なお、カラーフィルター基板
2によって、各画素を着色できれば、液晶表示装置1自
体は、反射型の液晶表示装置であってもよいし、透過型
であってもよい。
【0032】一方、図1に示すように、上記カラーフィ
ルター基板2の基板21上には、各画素に対応する開口
部Aが形成された遮光層22と、当該遮光層22上に形
成され、各開口部Aに対応する色のカラーフィルター層
23R・23G・23B(カラーフィルター層23で総
称する)とを備えている。当該各カラーフィルター層2
3は、遮光層22のパターン上で、周辺部が互いに重な
るようにパターニングされており、遮光層22のパター
ン幅Wが狭い場合でも、カラーフィルター層23と遮光
層22のパターンとの間に隙間が発生しない。この結
果、当該間隙に起因する光漏れの発生を防止できる。
【0033】さらに、本実施形態に係るカラーフィルタ
ー基板2には、上記カラーフィルター層23上に形成さ
れ、カラーフィルター層23と反対側の面が研磨により
平坦化された第1オーバーコート層24と、当該第1オ
ーバーコート層24上に形成され、研磨により発生した
第1オーバーコート層24の傷(研磨傷So)を、さら
に平坦化する第2オーバーコート層25とが設けられて
いる。これにより、カラーフィルター層23の重ね合わ
せによって、遮光層22のパターン上に突起Pcが生じ
たとしても、第2オーバーコート層25の液晶層3側
(透明電極26側)の表面を平坦化できる。
【0034】ここで、本実施形態では、カラーフィルタ
ー層23を直接研磨せず、カラーフィルター層23上に
積層された第1オーバーコート層24を研磨するので、
カラーフィルター層23に研磨傷が発生しない。さら
に、第1オーバーコート層24は、カラーフィルター層
23よりも高硬度なので、研磨傷Soが発生しにくい。
さらに、カラーフィルター層23とは異なり、着色され
ていないので、研磨傷Soが発生しても目立ちにくい。
この結果、研磨傷が目立ちにくく、かつ、平坦なカラー
フィルター基板2を実現でき、表示品位の高い液晶表示
装置1を実現できる。
【0035】さらに、第1オーバーコート層24が研磨
により平坦化されるので、研磨せずに平坦化する場合よ
りも、第1オーバーコート層24の層厚を薄く設定して
も、上記突起Pcを平坦化できる。この結果、カラーフ
ィルター基板2の厚さ(遮光層22と透明電極26との
距離d)を削減でき、液晶表示装置1の視野角を拡大で
きる。
【0036】具体的には、図3に示すように、入射光の
傾きが大きくなり、ある画素aに対応する開口部Aaを
通過した光が、他の画素bに対応する透明電極26bを
通過すると、使用者は、画素aの表示を誤って識別して
しまうので、液晶表示装置1の視野角は、この状態での
入射光の傾きθに制限される。ここで、傾きθ、遮光層
22のパターン幅W、および、上記距離dの関係は、以
下の式(1) tan θ = W/d …(1) となる。この結果、遮光層22から透明電極26までの
距離dが大きくなると、視野角が狭くなってしまう。
【0037】例えば、遮光層22のパターン幅Wを20
μmとすると、遮光層22から透明電極26までの距離
dと傾きθとの関係は、以下の表1に示すようになる。
【0038】
【表1】
【0039】したがって、80°の視野角を確保するた
めには、遮光層22から透明電極26までの距離dは、
4μm以下に設定する必要がある。この上限値は、パタ
ーン幅Wが狭くなるに従って減少するので、開口率が高
く、より輝度の高い液晶表示装置1では、同じ視野角を
確保する場合でも、上記距離dをさらに短く設定する必
要がある。
【0040】ところが、上記構成によれば、カラーフィ
ルター基板2の厚さを削減できるので、パターン幅Wが
狭い場合であっても、十分な視野角を確保できる。この
結果、視野角が広く、かつ、高精細で高輝度の液晶表示
装置1を実現できる。
【0041】加えて、層厚が薄いので、例えば、第1オ
ーバーコート層24を樹脂で形成した場合であっても、
焼結後にクラックが発生しない。したがって、層厚が厚
い場合よりも丈夫な第1オーバーコート層24を形成で
きる。
【0042】また、第1オーバーコート層24上には、
第2オーバーコート層25が形成されているので、第1
オーバーコート層24の表面に研磨傷Soが生じたとし
ても、第2オーバーコート層25の表面は平坦化され
る。この結果、カラーフィルター基板2の表面をさらに
平坦化でき、セル厚の変動に起因する表示品位の低下を
防止できる。
【0043】特に、第1および第2オーバーコート層2
4・25を同一の素材で形成するなど、両オーバーコー
ト層24・25の屈折率を互いに同一に設定すると、液
晶表示装置1の使用者は、研磨傷Soを視認できず、表
示品位と表面の平坦性に優れたカラーフィルター基板2
を実現できる。
【0044】上記構成のカラーフィルター基板2の詳細
な構成と製造方法とについて、図4(a)〜図4(d)
に示す製造工程図を参照しながら説明すると以下の通り
である。すなわち、図4(a)に示すように、カラーフ
ィルター基板2の基板21上には、例えば、Crなど、
遮光性の高い金属によって遮光層22が形成される。当
該遮光層22の層厚は、例えば、1000Åから200
0Åなど、必要な遮光性が得られる厚さに設定される。
また、遮光層22は、画素に対応する部分に開口部Aが
設けられ、各画素間の領域がパターンとなるようにパタ
ーニングされている。
【0045】さらに、遮光層22上には、R・G・Bの
各色のカラーフィルター層23R・23G・23Bが形
成される。ここで、例えば、赤の画素に対応する開口部
Aには、赤色のカラーフィルター層23Rが形成され、
緑や青に対応する開口部Aには、緑色あるいは青色のカ
ラーフィルター層23G、23Bが形成される。上記各
カラーフィルター層23R・23G・23Bは、顔料や
染料で構成され、それぞれの層厚は、例えば、1μmか
ら2μmなど、適切な色味が得ることができる厚みに設
定されている。
【0046】ここで、光漏れを防止するために、各カラ
ーフィルター層23R・23G・23Bは、それぞれの
端部が隣接するカラーフィルター層23と遮光層22の
パターン上で重なり合うように、パターニングされてい
る。この結果、遮光層22のパターン上では、カラーフ
ィルター層23の層厚が、例えば、開口部Aなど、残余
の部分の層厚よりも厚くなり、突起Pcが発生する。
【0047】当該突起Pcの高さは、重ね合わせ幅によ
っても変化するが、通常1μm程度である。この段差
は、STN液晶やTFT−TN液晶のように、セル厚が
5μmの液晶層3であっても、セル厚の20%に相等
し、表示品位の悪化を招く。当然ながら、本実施形態の
ように、液晶層3に強誘電性液晶あるいは反強誘電性液
晶を使用した場合など、セル厚が2μm以下の場合に
は、当該段差は、セル厚の50%を超過する。したがっ
て、当該段差が解消されない場合には、液晶表示装置1
が正常に表示できなくなる。
【0048】ここで、本実施形態では、図4(b)に示
すように、カラーフィルター層23上に、例えば、アク
リルやポリイミドなどの樹脂によって、第1オーバーコ
ート層24が形成される。ここで、第1オーバーコート
層24の層厚が薄過ぎると、後述するように、第1オー
バーコート層24を研磨しても、上記突起Pcを十分に
平坦化できない。一方、厚過ぎると、上述したように、
液晶表示装置1の視野角が狭くなると共に、第1オーバ
ーコート層24が脆くなってしまう。
【0049】本実施形態では、これらの問題を回避する
ための実用的な層厚として、第1オーバーコート層24
の層厚を2μm程度に設定している。この結果、第1オ
ーバーコート層24は、クラックなどを生じることな
く、突起Pcを緩和できる。また、上記距離dを4μm
以下に抑制でき、80°以上の視野角を確保できる。
【0050】この状態では、カラーフィルター層23の
突起Pcは、第1オーバーコート層24により緩和され
ているが、多くの場合、第1オーバーコート層24にも
突起Poが残ってしまう。当該突起Poの高さは、第1
オーバーコート層24の材料によっても変動するが、高
さが1μmの突起Pcに、第1オーバーコート層24を
2μm形成した場合には、0.5μm程度の突起Poが
残ることが多い。この突起Poによる段差は、STN液
晶やTFT−TN液晶の場合でも、セル厚の10%に達
するので表示品位に悪影響を及ぼす。さらに、本実施形
態のように、液晶層3に強誘電性液晶あるいは反強誘電
性液晶を使用した場合など、セル厚が2μm以下の場合
には、当該段差は、セル厚の25%を超過する。したが
って、当該段差が解消されない場合には、液晶表示装置
1が正常に表示できなくなる。
【0051】これに対して、本実施形態では、図4
(c)に示すように、例えば、図5に示す研磨テープ5
1、あるいは、図6に示す砥粒61などを用いて、第1
オーバーコート層24の表面が研磨され、上記突起Po
が平坦化される。したがって、例えば、0.5μmの突
起であれば、研磨によって、0.1μm以下に平坦化で
きる。この段差は、STN液晶やTFT−TN液晶の場
合では、セル厚の2%以下であり、表示品位に対して、
ほとんど影響しない。また、本実施形態のように、液晶
層3に強誘電性液晶あるいは反強誘電性液晶を使用した
場合など、セル厚が2μm以下の場合であっても、当該
段差は、セル厚の5%以下に抑えられるので、表示品位
の劣化を十分に許容可能なレベルにまで低減できる。
【0052】ところで、第1オーバーコート層24は、
カラーフィルター層23よりも一般に高硬度であるが、
樹脂により形成されている。したがって、上述の研磨テ
ープ51や砥粒61で第1オーバーコート層24を研磨
すると、カラーフィルター層23を直接研磨した場合よ
りも深さなどが軽減されるものの、ある程度の研磨傷S
oが発生してしまう。
【0053】したがって、本実施形態では、図4(d)
に示すように、第1オーバーコート層24上に、第1オ
ーバーコート層24と同じ素材の第2オーバーコート層
25が形成され、研磨傷Soを平坦化している。ここ
で、上述の図4(c)の工程において、第1オーバーコ
ート層24の突起Poが研磨により平坦化されているた
め、第2オーバーコート層25の層厚を、例えば、1μ
m程度と薄く設定しても、例えば、0.05μm以下な
ど、十分な平坦性が得られる。
【0054】〔実施例〕以下では、上記実施形態の好適
な実施例について、具体的な数値を挙げながら説明す
る。すなわち、図4(a)に示すように、ガラスの基板
21上に、遮光層22として、2000Å厚のCr膜を
形成し、20μm幅、120μmピッチでパターニング
する。これにより、各画素に対応して、幅20μmの遮
光層22で囲まれ、100μm×100μmの開口部A
…がマトリクス状に形成される。
【0055】さらに、R、G、Bの顔料からなるカラー
フィルター層23R・23G・23Bが、1.2μm厚
で形成される。この際、それぞれの端部は、遮光層22
のパターン上で、8μmの幅で重なるようにパターニン
グされている。より詳細には、各カラーフィルター層2
3R・23G・23Bは、それぞれの顔料を基板21全
体に塗布形成した後、それぞれに定められた形状のフォ
トマスクを用いて、露光、現像および焼成して形成され
ている。本実施例では、最初に、カラーフィルター層2
3Rを形成し、カラーフィルター層23G、23Bの順
番で形成した。上記の例では、重ね合わせによる突起P
cは、開口部A上の領域を基準にして、約0.8μm程
度の高さとなっている。
【0056】さらに、第1オーバーコート層24とし
て、2μm厚のアクリル樹脂が塗布される。この段階で
は、図4(b)に示すように、第1オーバーコート層2
4の表面上に残留する突起Poの高さは、約0.4μm
に軽減されているが、完全には平坦化されていない。
【0057】続いて、図5に示す研磨テープ51や、図
6に示す砥粒61を用いて、第1オーバーコート層24
の表面を研磨すると、図4(c)に示すように、上記突
起Poが無くなり、第1オーバーコート層24の表面
は、段差0.1μm以下に平坦化される。ただし、第1
オーバーコート層24の表面には、開口部A上の領域も
含めて、研磨傷Soが発生している。本実施例では、研
磨傷Soの深さは、約0.2μmであり、肉眼でもハッ
キリ確認できる。
【0058】さらに、図4(d)に示すように、第2オ
ーバーコート層25として、アクリル樹脂が1μm厚で
塗布される。これにより、上記研磨傷Soが埋められ、
0.1μm以下の表面段差は、さらに平坦化される。こ
の結果、カラーフィルター基板2の表面全体で、0.0
5μm以下の表面平坦性を達成できた。また、両オーバ
ーコート層24・25の層厚を合計しても、3μmであ
り、上述の表1に示すように、80°以上の視野角が得
られる。
【0059】ここで、両オーバーコート層24・25
は、同一の材料であり、屈折率が互いに同一である。こ
のように、屈折率が同一の第2オーバーコート層25を
積層することで、開口部A上の領域であっても、第1オ
ーバーコート層24の研磨傷Soは、完全に、非可視化
される。
【0060】さらに、セル厚1.5μmの強誘電性液晶
を液晶層3として用いた液晶表示装置1に、当該カラー
フィルター基板2を使用したところ、セルギャップ斑お
よび液晶の配向乱れがなく、均一に表示可能な液晶表示
装置1を実現できる。
【0061】〔比較例1〕以下では、比較例として、カ
ラーフィルター層23を直接研磨する場合について、図
7を参照しながら説明する。具体的には、本比較例に係
るカラーフィルター基板12aでは、実施例と同様の遮
光層22・カラーフィルター層23を形成した後、研磨
によって、カラーフィルター層23を平坦化した。この
結果、重ね合わせによって、カラーフィルター層23に
発生した約0.8μmの突起は、平坦化される。
【0062】ところが、カラーフィルター層23の表面
には、多数の研磨傷Scが発生してしまう。カラーフィ
ルター層23は、顔料や染料なので、第1オーバーコー
ト層24よりも軟らかく、研磨傷Scの深さは、約0.
2μmに達している。また、研磨傷Scは、開口部A上
の領域にも形成されているため、色味の相違として視認
される。
【0063】さらに、当該比較例に係るカラーフィルタ
ー基板12aでは、カラーフィルター層23上に、さら
に、2μm厚のアクリル樹脂13aが塗布される。とこ
ろが、アクリル樹脂13aは、着色されていないので、
当該研磨傷Scを平坦化することはできても、色味の相
違や屈折率の相違などのを解消できない。また、アクリ
ル樹脂13aとカラーフィルター層23の屈折率も互い
に異なっている。これらの結果、上記研磨傷Scは、肉
眼でもハッキリと目立つまま、残されている。したがっ
て、液晶表示装置1などの表示装置に使用すると、表示
品位の低下を招いてしまう。
【0064】なお、カラーフィルター層23の色は、例
えば、開口部A毎など、所定の領域毎に異なっている。
したがって、色および屈折率が、それぞれのカラーフィ
ルター層23に一致し、しかも、平坦なアクリル樹脂1
3aを形成することはできない。
【0065】〔比較例2〕以下では、他の比較例とし
て、研磨せずに、平坦化する場合について、図8を参照
しながら説明する。具体的には、本比較例に係るカラー
フィルター基板12bでは、上述の実施例と同様の遮光
層22およびカラーフィルター層23が形成された後、
オーバーコート層14bとして、約4μm厚のアクリル
樹脂が塗布される。この結果、カラーフィルター層23
に発生した約0.8μmの突起Pcは、オーバーコート
層14bの表面では、約0.1μm程度に軽減される。
【0066】ところが、当該オーバーコート層14bを
焼成すると、オーバーコート層14bにクラックが発生
して、表示品位を低下させてしまう。このように、オー
バーコート層14bを一度に厚く形成すると、平坦性が
向上する一方で、オーバーコート層14bが脆くなって
しまうため、実現が困難である。
【0067】さらに、実施例と同様の平坦性を得るため
には、オーバーコート層14bの層厚は、第1オーバー
コート層24の層厚と第2オーバーコート層25の層厚
との合計よりも大きく設定する必要がある。したがっ
て、上述したように、視野角が狭くなってしまう。
【0068】〔比較例3〕以下では、さらに他の比較例
として、1層のオーバーコート層を研磨する場合につい
て、図9を参照しながら説明する。具体的には、本比較
例に係るカラーフィルター基板12cでは、上述の実施
例と同様の遮光層22およびカラーフィルター層23が
形成された後、オーバーコート層15cとして、約2μ
m厚のアクリル樹脂が形成される。これにより、カラー
フィルター層23に発生した約0.8μmの突起Pc
は、オーバーコート層15cの表面では、約0.4μm
程度にまで軽減される。
【0069】さらに、当該オーバーコート層15cの表
面は、実施例と同様の研磨方法で研磨され、残留してい
た突起は、0.1μm以下に平坦化される。ところが、
オーバーコート層15cの表面には、開口部A上の領域
も含めて、研磨傷Soが多数発生し、研磨傷Soの深さ
は、約0.2μmに達するものもある。
【0070】ここで、例えば、オーバーコート層15c
の屈折率は、例えば、透明電極や液晶層など、オーバー
コート層15c上の部材の屈折率と大きく異なってい
る。したがって、上記研磨傷Soは、肉眼でもハッキリ
と目立つまま、残されている。また、研磨傷Soによっ
て、カラーフィルター基板12cの表面に僅かな凹凸が
残留すると、セル厚の変動に起因するセルギャップ斑、
あるいは、液晶の配向乱れが発生する虞れがある。これ
らの結果、当該カラーフィルター基板12cを液晶表示
装置1などの表示装置に使用すると、表示品位の低下を
招いてしまう。
【0071】これに対して、上記実施形態および実施例
に係るカラーフィルター基板2は、光漏れが発生しない
ように、カラーフィルター層23が遮光層22のパター
ン上で重なり合うように形成されているにも拘わらず、
薄く、かつ、表面平坦性に優れている。さらに、研磨傷
Soも非可視化されている。この結果、液晶層3とし
て、セル厚1.5μmの強誘電性液晶を使用した液晶表
示装置1に、当該カラーフィルター基板2を使用したと
しても、セルギャップ斑や液晶の配向乱れが発生せず、
均一な表示を得ることができる。
【0072】なお、上記実施形態および実施例では、R
・G・Bのカラーフィルター層23を用いた加法混色に
より、カラー表示する場合を例にして説明したが、これ
に限るものではない。例えば、減法混色によりカラー表
示する場合には、シアン・マゼンタ・イエローのカラー
フィルター層23が使用される。また、フルカラー表示
しない場合には、2色のカラーフィルター層23を使用
してもよい。いずれの場合であっても、複数の色のカラ
ーフィルター層23が形成され、光漏れを防止するため
に、各カラーフィルター層23が、遮光層22のパター
ン上で端部が重なり合うように形成されていれば、本実
施形態および実施例と同様の効果が得られる。
【0073】また、上記実施形態および実施例では、カ
ラーフィルター基板2が液晶表示装置1に使用される場
合を例にして説明したが、これに限るものではない。カ
ラーフィルター基板2は、開口部Aの透過光を、それぞ
れの開口部A上に形成されたカラーフィルター層23の
色で着色可能なので、任意の表示装置に適用できる。た
だし、液晶表示装置の場合には、液晶のセル厚を一定に
保つために、カラーフィルター基板2に、表面平坦性が
強く求められる。特に、図2に示す液晶層3として、強
誘電性液晶や反強誘電性液晶を使用した場合のように、
セル厚が薄い液晶表示装置ほど、カラーフィルター基板
2により優れた平坦性を要求する。したがって、これら
の液晶表示装置に適用すると、極めて効果的である。
【0074】
【発明の効果】請求項1の発明に係るカラーフィルター
は、以上のように、隣接するカラーフィルター層の周辺
部同士は、遮光層上で重なるようにパターニングされて
いると共に、上記カラーフィルター層上に形成され、研
磨によって平坦化された第1オーバーコート層と、上記
第1オーバーコート層上に形成され、当該第1オーバー
コート層の研磨による傷を平坦化する第2オーバーコー
ト層とを備えている構成である。
【0075】上記構成によれば、カラーフィルター層を
直接研磨することなく、カラーフィルター層の重ね合わ
せに起因する突起を平坦化できる。さらに、第2オーバ
ーコート層によって、第1オーバーコート層の研磨傷が
平坦化される。したがって、研磨傷が目立つことなく、
カラーフィルターの表面平坦性を向上できる。この結
果、光漏れを防止可能でありながら、表示品位および表
面平坦性に優れ、より薄いカラーフィルターを実現でき
るという効果を奏する。
【0076】請求項2の発明に係るカラーフィルター
は、以上のように、請求項1記載の発明の構成におい
て、上記第1および第2オーバーコート層は、それぞれ
の屈折率が互いに同一に設定されている構成である。
【0077】上記構成によれば、両オーバーコート層の
屈折率が一致しているので、第1オーバーコート層に発
生した研磨傷を完全に非可視化できる。この結果、カラ
ーフィルターの表示品位をさらに向上できるという効果
を奏する。
【0078】請求項3の発明に係るカラーフィルターの
製造方法は、以上のように、上記カラーフィルター層上
に、第1オーバーコート層を形成する工程と、上記第1
オーバーコート層を研磨して、上記カラーフィルター層
の重ね合わせ部の段差を平坦化する工程と、上記第1オ
ーバーコート層上に、第2オーバーコート層を形成し
て、研磨により上記第1オーバーコート層に発生した傷
を平坦化する工程とを含んでいる構成である。
【0079】上記構成によれば、カラーフィルター層の
重ね合わせに起因する突起は、カラーフィルター層上の
第1オーバーコート層を研磨する工程によって、カラー
フィルター層を直接研磨することなく平坦化される。さ
らに、研磨によって発生した研磨傷は、第2オーバーコ
ート層を形成する工程によって平坦化される。この結
果、請求項1と同様に、光漏れを防止可能でありなが
ら、表示品位および表面平坦性に優れ、より薄いカラー
フィルターを製造できるという効果を奏する。
【0080】請求項4の発明に係る液晶表示装置は、以
上のように、請求項1または2記載のカラーフィルター
と、強誘電性液晶、または、反強誘電性液晶によって、
上記開口部を通過する光を制御する液晶層とを備えてい
る構成である。
【0081】それゆえ、強誘電性液晶または反強誘電性
液晶が使用され、カラーフィルターの凹凸が表示品位を
低下させやすいにも拘わらず、表示品位の高い液晶表示
装置を実現できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示すものであり、カラー
フィルター基板の構成を示す断面図である
【図2】上記カラーフィルター基板が設けられた液晶表
示装置の要部構成を示す断面図である。
【図3】上記カラーフィルター基板において、オーバー
コート層の膜厚と視野角との関係を示す説明図である。
【図4】上記カラーフィルター基板の製造工程を示す工
程断面図であり、(a)〜(d)は、各工程におけるカ
ラーフィルター基板を示す断面図である。
【図5】上記カラーフィルター基板を製造する際の研磨
工程において、研磨方法を示す説明図である。
【図6】上記カラーフィルター基板の製造する際の研磨
工程において、他の研磨方法を示す説明図である。
【図7】比較例を示すものであり、カラーフィルター基
板の構造を示す断面図である。
【図8】他の比較例を示すものであり、カラーフィルタ
ー基板の構造を示す断面図である。
【図9】さらに他の比較例を示すものであり、カラーフ
ィルター基板の構造を示す断面図である。
【図10】従来例を示すものであり、カラーフィルター
基板の構造を示す断面図である。
【図11】他の従来例を示すものであり、カラーフィル
ター基板の構造を示す断面図である。
【図12】さらに他の従来例を示すものであり、カラー
フィルター基板の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
1 液晶表示装置 2 カラーフィルター基板(カラーフィルター) 3 液晶層 22 遮光層 23 カラーフィルター層 24 第1オーバーコート層 25 第2オーバーコート層 A 開口部 Pc 突起(段差) So 研磨傷(傷)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光を遮断する遮光層と、当該遮光層の無い
    開口部に設けられた複数色のカラーフィルター層とを有
    するカラーフィルターにおいて、 隣接する上記カラーフィルター層の周辺部同士は、上記
    遮光層上で重なるようにパターニングされていると共
    に、 上記カラーフィルター層上に形成され、研磨によって平
    坦化された第1オーバーコート層と、 上記第1オーバーコート層上に形成され、当該第1オー
    バーコート層の研磨による傷を平坦化する第2オーバー
    コート層とを備えていることを特徴とするカラーフィル
    ター。
  2. 【請求項2】上記第1および第2オーバーコート層は、
    それぞれの屈折率が互いに同一に設定されていることを
    特徴とする請求項1記載のカラーフィルター。
  3. 【請求項3】光を遮断する遮光層上で、隣接するカラー
    フィルター層の周辺部同士が重なり合うように、複数色
    のカラーフィルター層を形成する工程を含むカラーフィ
    ルターの製造方法において、 上記カラーフィルター層上に、第1オーバーコート層を
    形成する工程と、 上記第1オーバーコート層を研磨して、上記カラーフィ
    ルター層の重ね合わせ部の段差を平坦化する工程と、 上記第1オーバーコート層上に、第2オーバーコート層
    を形成して、研磨により上記第1オーバーコート層に発
    生した傷を平坦化する工程とを含んでいることを特徴と
    するカラーフィルターの製造方法。
  4. 【請求項4】請求項1または2記載のカラーフィルター
    と、 強誘電性液晶、または、反強誘電性液晶によって、上記
    開口部を通過する光を制御する液晶層とを備えているこ
    とを特徴とする液晶表示装置。
JP28160998A 1998-10-02 1998-10-02 カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置 Pending JP2000111724A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28160998A JP2000111724A (ja) 1998-10-02 1998-10-02 カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28160998A JP2000111724A (ja) 1998-10-02 1998-10-02 カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000111724A true JP2000111724A (ja) 2000-04-21

Family

ID=17641531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28160998A Pending JP2000111724A (ja) 1998-10-02 1998-10-02 カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000111724A (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002014337A (ja) * 2000-04-27 2002-01-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置およびその作製方法
JP2008276255A (ja) * 2008-07-14 2008-11-13 Fujifilm Corp カラーフィルターの形成方法及びそれに用いるカラーフィルター形成材料並びにカラーフィルター
KR20110100842A (ko) * 2010-03-05 2011-09-15 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
JP2011191788A (ja) * 2000-04-27 2011-09-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
WO2011158288A1 (ja) * 2010-06-16 2011-12-22 パナソニック株式会社 El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法
JP3194406U (ja) * 2014-07-08 2014-11-20 群創光電股▲ふん▼有限公司Innolux Corporation カラーフィルター基板及び表示パネル
CN104252061A (zh) * 2013-06-28 2014-12-31 株式会社日本显示器 半透射型液晶显示装置及电子设备
CN104297996A (zh) * 2014-11-10 2015-01-21 上海天马微电子有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置
JP2016188914A (ja) * 2015-03-30 2016-11-04 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ
CN108873451A (zh) * 2018-06-25 2018-11-23 武汉华星光电技术有限公司 一种cf基板及其制作方法、显示面板
CN108957892A (zh) * 2018-08-31 2018-12-07 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板
WO2022001599A1 (zh) * 2020-07-03 2022-01-06 京东方科技集团股份有限公司 黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011191788A (ja) * 2000-04-27 2011-09-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JP2002014337A (ja) * 2000-04-27 2002-01-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置およびその作製方法
JP2008276255A (ja) * 2008-07-14 2008-11-13 Fujifilm Corp カラーフィルターの形成方法及びそれに用いるカラーフィルター形成材料並びにカラーフィルター
KR20110100842A (ko) * 2010-03-05 2011-09-15 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
KR101669238B1 (ko) * 2010-03-05 2016-10-26 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
WO2011158288A1 (ja) * 2010-06-16 2011-12-22 パナソニック株式会社 El表示パネル、el表示パネルを備えたel表示装置、有機el表示装置、およびel表示パネルの製造方法
US8717260B2 (en) 2010-06-16 2014-05-06 Panasonic Corporation EL display panel, EL display device provided with EL display panel, organic EL display device, and method for manufacturing EL display panel
US9348172B2 (en) 2013-06-28 2016-05-24 Japan Display Inc. Transflective liquid crystal display device and electronic apparatus
CN104252061A (zh) * 2013-06-28 2014-12-31 株式会社日本显示器 半透射型液晶显示装置及电子设备
US9360606B2 (en) 2014-07-08 2016-06-07 Innolux Corporation Color filter substrate and display panel
JP3194406U (ja) * 2014-07-08 2014-11-20 群創光電股▲ふん▼有限公司Innolux Corporation カラーフィルター基板及び表示パネル
US9784893B2 (en) 2014-07-08 2017-10-10 Innolux Corporation Color filter substrate and display panel
CN104297996A (zh) * 2014-11-10 2015-01-21 上海天马微电子有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置
CN104297996B (zh) * 2014-11-10 2018-03-27 上海天马微电子有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置
JP2016188914A (ja) * 2015-03-30 2016-11-04 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ
CN108873451A (zh) * 2018-06-25 2018-11-23 武汉华星光电技术有限公司 一种cf基板及其制作方法、显示面板
CN108957892A (zh) * 2018-08-31 2018-12-07 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板
US11079639B2 (en) 2018-08-31 2021-08-03 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Liquid crystal display panel
WO2022001599A1 (zh) * 2020-07-03 2022-01-06 京东方科技集团股份有限公司 黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置
US11960164B2 (en) 2020-07-03 2024-04-16 Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. Black matrix structure and manufacturing method therefor, display substrate, and display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0715202A2 (en) Color filter substrate and liquid crystal display device
JP3072829B2 (ja) カラー液晶パネル
US7136125B2 (en) Method of manufacturing a color transflective liquid crystal display device having adjusting windows corresponding to reflective region wherein the adjusting windows having color concentration of more than zero
US8908128B2 (en) Color filter substrate and LCD device using it
WO2020259561A1 (zh) 彩膜基板及其制作方法和显示装置
WO2012063680A1 (ja) 液晶表示パネル
JP2006276831A (ja) カラーフィルタ基板、液晶装置、及び電子機器
JP2000111724A (ja) カラーフィルター、カラーフィルターの製造方法、および、それを用いた液晶表示装置
JP3757079B2 (ja) カラー液晶表示装置
US6307606B1 (en) Color filter for use in display apparatus
JP2007101992A (ja) 液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法
JP2008033254A (ja) 液晶ディスプレイパネル
JPH06331975A (ja) カラー液晶ディスプレイ
JP2009122435A (ja) カラーフィルタ基板及び画像表示装置
JPH08211223A (ja) カラーフィルター基板及びそれを用いた液晶素子
JP2002107709A (ja) カラー液晶表示装置
JP3931199B2 (ja) 反射透過両用型カラー液晶表示装置
JPH08220527A (ja) カラーフィルタ基板とその製造方法および液晶表示装置
JP3931201B2 (ja) 反射透過両用型カラー液晶表示装置
JP4335067B2 (ja) 電気光学装置
JP4241315B2 (ja) カラーフィルタ基板及び電気光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器
JP2005025002A (ja) カラー液晶装置
JP2004126045A (ja) 半透過型カラー液晶表示素子
JP3931198B2 (ja) 反射透過両用型カラー液晶表示装置
JP3931200B2 (ja) 反射透過両用型カラー液晶表示装置