CN104297996A - 一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置 - Google Patents

一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置，以减小彩膜基板上色阻与遮光条之间的段差，从而避免由于该段差影响对取向层进行摩擦取向时造成的摩擦不均匀或色阻膜层断裂，进而避免显示亮度不均匀，从而提高显示质量。所述彩膜基板包括多个间隔排布的色阻，以及设置于相邻两个色阻的间隙位置的遮光条，相邻的一所述色阻和一所述遮光条形成交叠区域，所述交叠区域包括多个齿状结构，两个相邻所述齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的所述遮光条的厚度。

Description

一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置。
背景技术
彩膜(Color Filter，CF)基板是液晶显示面板必不可少的组成部分。CF基板包括红、绿、蓝颜色的色阻，色阻通常由彩色树脂制备而成，不同颜色的色阻间隔排列。为了防止漏光，相邻色阻的间隙处还设置有遮光条。如图1所示的现有CF基板的截面示意图，CF基板包括衬底基板1，色阻2和遮光条3，遮光条3与色阻2具有一交叠区域4，在制备工艺中，先通过第一曝光制备遮光条3，然后通过依次曝光制备红、绿、蓝颜色的色阻2。但是在交叠区域4，覆盖在遮光条3边缘部分的色阻2顶部与色阻2未覆盖遮光条3部分的顶部之间具有一高度差h，称为段差。
在CF基板制备工艺中，需要在上述各色阻2之上形成一取向层(图中未示出)。为了使由CF基板及阵列基板组装成的液晶显示面板中的液晶分子具有一预倾角，需要对CF基板上的取向层进行摩擦，但色阻2与遮光条3交叠后形成的段差会使取向层表面凸凹不平，因此在摩擦取向层的过程中对应段差区域的取向层会出现摩擦不均匀，甚至色阻膜层断裂，导致液晶显示面板中对应段差区域附近的液晶分子不能正常排列，造成显示亮度不均匀，从而降低了液晶显示面板的显示质量。
发明内容
本发明的目的是提供一种彩膜基板、液晶显示面板和显示装置，以减小彩膜基板上色阻与遮光条之间的段差，避免由于该段差影响对取向层进行摩擦取向时造成的摩擦不均匀或色阻膜层断裂，使显示装置的显示亮度均匀以提高显示质量。
本发明实施例提供一种彩膜基板，包括：
多个间隔排布的色阻，以及设置于相邻两个色阻的间隙位置的遮光条，相邻的一所述色阻和一所述遮光条形成交叠区域，所述交叠区域包括多个齿状结构，两个相邻所述齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的所述遮光条的厚度。
本发明实施例有益效果如下：彩膜基板的所述色阻和所述遮光条交叠，在所述色阻和遮所述光条交叠的区域包括多个所述齿状结构，在相邻所述齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的所述遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至所述交叠区域或者由所述交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并避免造成所述交叠区域处的色阻膜层断裂，进一步的，可以使显示装置的显示亮度均匀，提高显示质量。
本发明实施例提供一种液晶显示面板，包括如上所述的彩膜基板。
本发明实施例有益效果如下：彩膜基板的色阻和遮光条交叠，在所述色阻和遮所述光条交叠的区域包括多个所述齿状结构，在相邻所述齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的所述遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至所述交叠区域或者由所述交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并避免造成所述交叠区域处的色阻膜层断裂，进一步的，可以使显示装置的显示亮度均匀，提高显示质量。
本发明实施例提供一种显示装置，包括如上所述的液晶显示面板。
本发明实施例有益效果如下：彩膜基板的色阻和遮光条交叠，在所述色阻和遮所述光条交叠的区域包括多个所述齿状结构，在相邻所述齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的所述遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至所述交叠区域或者由所述交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并避免造成所述交叠区域处的色阻膜层断裂，进一步的，可以使显示装置的显示亮度均匀，提高显示质量。
附图说明
图1为现有技术彩膜基板的剖面结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种遮光条的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种遮光条的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种遮光条的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的一种彩膜基板的俯视示意图；
图6为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的俯视示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的俯视示意图；
图8为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的俯视示意图；
图9为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的俯视示意图；
图10为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的俯视示意图；
图11为图10所示彩膜基板中确保遮盖区的局部放大示意图；
图12为本发明实施例提供的遮光条与摩擦方向的关系示意图；
图13为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的示意图；
图14为本发明实施例提供的遮光条和色阻的交叠区域的局部放大示意图；
图15为本发明实施例提供的一种显示装置的示意图。
具体实施方式
下面结合说明书附图对本发明实施例的实现过程进行详细说明。需要注意的是，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
本发明实施例提供一种彩膜基板，包括多个间隔排布的色阻，以及设置于相邻两个色阻的间隙位置的遮光条，相邻的一色阻和一遮光条形成交叠区域，交叠区域包括多个齿状结构，两个相邻齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。
本实施例中，彩膜基板的色阻和遮光条交叠，在色阻和遮光条交叠的区域包括多个齿状结构，在相邻齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至交叠区域或者由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并减少造成交叠区域处的色阻膜层断裂。
齿状结构可以仅形成于遮光条的侧边，也可以仅形成于色阻的边缘，或者即形成于遮光条的侧边也形成于色阻的侧边，可以理解为，仅遮光条具有齿状结构，也可以仅色阻具有齿状结构，或者，遮光条和色阻具有齿状结构。为了方便说明，仅以遮光条具有齿状结构，对齿状结构的形状进行示例：
例如，图2所示的遮光条3，包括多个齿状结构5。齿状结构5为顶角是锐角的三角形，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条3的厚度。在此种情况下，由齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高。该遮光条3与色阻交叠的结构中，由于齿状结构5位于该遮光条3和色阻的交叠区域，因此对交叠区域包括该齿状结构5的彩膜基板进行摩擦时，由未交叠区域至交叠区域的平均段差缓慢升高，而由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢降低，从而减少交叠区域处的色阻膜层断裂的风险。
又例如，图3所示的遮光条3，包括多个齿状结构5。齿状结构5的顶角是圆弧形，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条3的厚度。在此种情况下，由齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高。该遮光条3与色阻交叠的结构中，由于齿状结构5位于该遮光条3和色阻的交叠区域，因此对交叠区域包括该齿状结构5的彩膜基板进行摩擦时，由未交叠区域至交叠区域的平均段差缓慢升高，而由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢降低，从而减少交叠区域处的色阻膜层断裂的风险。需要说明的是图2和图3中所示遮光条3，在实际刻蚀中由于图形化解析度不足的原因，相邻的齿状结构5的底部通常无法实现完美的尖角状，而是形成近似于弧状。
又例如，图4所示的遮光条3，包括多个齿状结构5。齿状结构5包括齿尖11和齿根12，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条3的厚度。在此种情况下，由齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高。该遮光条3与色阻交叠的结构中，由于齿状结构5位于该遮光条3和色阻的交叠区域，因此对交叠区域包括该齿状结构5的彩膜基板进行摩擦时，由未交叠区域至交叠区域的平均段差缓慢升高的，而由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢降低，从而减少交叠区域处的色阻膜层断裂；同时，由于相邻齿状结构5之间有预设间距L，避免在曝光、显影或者刻蚀过程中，锯齿结构5之间过于狭窄而无法获得足够的图形化解析度。优选的，齿状结构5的齿尖11为等腰三角形，齿状结构5的齿根12为矩形，齿状结构5的齿根12的顶边与齿尖的底边长度相等。
齿状结构形成于色阻时的图形与上述的图2至图4所示的齿状结构形成于遮光条相似，同样能够使彩膜基板的色阻和遮光条的交叠区域的平均段差符合：由未交叠区域至交叠区域的平均段差缓慢升高的，而由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢降低。从而减少交叠区域处的色阻膜层断裂。
在图2至图4齿状结构5应用于色阻或遮光条时，彩膜基板中色阻和遮光条交叠的结构可以有多种，具体举例说明如下：
例如，如图5所示的一种彩膜基板的俯视示意图，包括色阻2和遮光条3，色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图2实施例所示的齿状结构5，且该齿状结构5形成于遮光条3的侧边，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高，由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2的边缘也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有宽度为W的确保遮盖区6，确保遮盖区6的宽度可以理解为：垂直于色阻2和遮光条3的延伸方向，交叠区域4的宽度与其包括的齿状结构5的高度之差，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。
又例如，如图6所示的另一种彩膜基板的俯视示意图，包括色阻2和遮光条3，色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图3所示的齿状结构5，且该齿状结构5形成于遮光条3的侧边，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高，由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2的边缘也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有宽度为W的确保遮盖区6，确保遮盖区6的宽度可以理解为：垂直于色阻2和遮光条3的延伸方向，交叠区域4的宽度与其包括的齿状结构5的高度之差，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。需要说明的是图5和图6中所示遮光条3，在实际刻蚀中由于图形化解析度不足的原因，相邻的齿状结构5的底部通常无法实现完美的尖角状，而是形成近似于弧状。
又例如，如图7所示的另一种彩膜基板的俯视示意图，包括色阻2和遮光条3，色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图4所示的齿状结构5，且该齿状结构5形成于遮光条3的侧边，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高，即由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2的边缘也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有宽度为W的确保遮盖区6，确保遮盖区6的宽度可以理解为：垂直于色阻2和遮光条3的延伸方向，交叠区域4的宽度与其包括的齿状结构5的高度之差，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。
又例如，如图8所示的另一种彩膜基板的俯视示意图，包括色阻2和遮光条3，色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图2所示的齿状结构5，且该齿状结构5形成于色阻2的侧边，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，色阻2的平均厚度缓慢升高，也意味着由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2的侧边的齿状结构5也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有宽度为W的确保遮盖区6，确保遮盖区6的宽度可以理解为：垂直于色阻2和遮光条3的延伸方向，交叠区域4的宽度与其包括的齿状结构5的高度之差，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。在本实施例中，与同一遮光条3交叠的两个色阻2相邻侧边所具有齿状结构5相互深入且交错排列，深入深度D小于或等于齿状结构5的高度H，较佳的，该深入深度D小于1/2的齿状结构5的高度H。
在上述图5至图7所示的彩膜基板的遮光条3中，遮光条3两侧的齿状结构5是以遮光条延伸方向的中轴线为对称轴呈镜像对称的，为了使整个遮光条3的厚度分部趋势更线性平滑，可以使遮光条3两侧的齿状结构5是以遮光条延伸方向的中轴线为对称轴呈非镜像对称。具体举例说明如下：
例如，图9所示的另一种彩膜基板的俯视示意图，包括色阻2和遮光条3，色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图3所示的齿状结构5，且该齿状结构5形成于遮光条3的侧边，遮光条3两侧的齿状结构5是以遮光条3延伸方向的中轴线M为对称轴呈非镜像对称，同一侧的两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。更具体的，以遮光条3的中轴线M为对称轴对折时，遮光条3两侧的齿状结构5不会重合。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高，由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂；进一步的，遮光条3两侧的齿状结构5以遮光条3延伸方向的中轴线M为对称轴呈非镜像对称，可以使遮光条3的齿状结构5以外的部分相比齿状结构5对称的遮光条3具有符合要求的宽度和较理想的强度，从而避免断裂风险；更进一步的，当摩擦方向R与中轴线M垂直或摩擦方向与中轴线M呈大于0度的夹角时，由于遮光条3两侧的齿状结构5是以遮光条3延伸方向的中轴线M为对称轴呈非镜像对称，因此该摩擦方向R上的齿状结构5的分布更均匀，交叠区域4的整体相比未交叠区域的段差变化更平滑；此外，也可能减少由于色阻厚度不同所带来的交叠区域4的不同位置相比未交叠区域的段差具有较大差异的影响。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2的边缘也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有宽度为W的确保遮盖区6，确保遮盖区6的宽度可以理解为：垂直于色阻2和遮光条3的延伸方向，交叠区域4的宽度与其包括的齿状结构5的高度之差，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。
图9所示的彩膜基板可以视为图5所示的彩膜基板的变型，相同的原理，也可以对图6、7所示的彩膜基板进行相似的变型，以改善遮光条3的厚度趋势，在此不再赘述。
图10示出了另一种彩膜基板的俯视示意图，其是在图2所示的齿状结构5同时应用于色阻和遮光条所得到的彩膜基板。彩膜基板包括色阻2和遮光条3，色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图3所示的齿状结构5，且该齿状结构5分别形成于色阻2的侧边和遮光条3的侧边，遮光条3两侧的齿状结构5是以遮光条3延伸方向的中轴线为对称轴呈非镜像对称，更具体的，以遮光条3的中轴线M为对称轴对折时，遮光条3两侧的齿状结构5不会重合。同一侧的两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高，由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂；进一步的，遮光条3两侧的齿状结构5以遮光条3延伸方向的中轴线M为对称轴呈非镜像对称，可以使遮光条3的齿状结构5以外的部分相比齿状结构5对称的遮光条3具有符合要求的宽度和较理想的强度，从而避免断裂风险；更进一步的，当摩擦方向R与中轴线M垂直或摩擦方向与中轴线M呈大于0度的夹角时，由于遮光条3两侧的齿状结构5是以遮光条3延伸方向的中轴线M为对称轴呈非镜像对称，因此该摩擦方向R上的齿状结构5的分布更均匀，交叠区域4的整体相比未交叠区域的段差变化更平滑；此外，也可能减少由于色阻厚度不同所带来的交叠区域4的不同位置相比未交叠区域的段差具有较大差异的影响。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2侧边的齿状结构5的底部也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有确保遮盖区6。如图11所示的确保遮盖区6的局部放大示意图，确保遮盖区6的宽度W可以理解为：同一交叠区域4内，色阻2的齿状结构5和遮光条3的齿状结构5形成的条形叠层的截面宽度，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。
上述各实施例中的齿状结构5形成于色阻2和/或遮光条3的“侧边”，根据实际情况，该“侧边”可以为遮光条3的两侧边，或者色阻2的一侧边(与遮光条3交叠的侧边)。
为了使摩擦时，进一步的减少色阻膜层的损坏，还可以使上述彩膜基板中的色阻2和遮光条3所形成的交叠区域4内的各齿状结构5的顶点至相对一侧的相邻底部中点的直线与彩膜基板的摩擦方向之间的夹角小于或等于10°。参考图12所示的遮光条3，其两侧的齿状结构5的顶点至相对一侧的相邻底部中点的直线与彩膜基板的摩擦方向R之间具有夹角θ，夹角θ小于或等于10°，该设计可以最大限度地减少摩擦损耗，以避免产生较多的摩擦碎屑。
本发明上述各实施例有益效果如下：彩膜基板的色阻和遮光条交叠，在色阻和遮光条交叠的区域包括多个齿状结构，在相邻齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至交叠区域或者由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并避免造成交叠区域处的色阻膜层断裂，进一步的，可以使显示装置的显示亮度均匀，提高显示质量。
参见图13，本发明实施例提供一种液晶显示面板10，包括上述实施例提供的彩膜基板，对向基板(图中未示出)以及设置在彩膜基板和对向基板之间的液晶层(图中未示出)，该彩膜基板包括衬底基板11，形成依次形成于衬底基板11上的遮光条3和色阻2。需要说明的是，对于液晶显示面板10而言，衬底基板11靠近液晶显示面板10可视的一侧，衬底基板11面向液晶层的一侧设置遮光条3及色阻2，因此色阻2的示图为虚线。本实施例中仅示出遮光条3和色阻2在液晶显示面板10上沿列方向布置的方案，还可以行方向布置，或者沿行和列方向布置，本发明实施例不限于此。
为了更清楚的说明遮光条3和色阻2交叠区域，以附图14所示的虚线12处的放大示意图(遮光条3和色阻2的交叠区域的局部放大示意图)进行说明：色阻2与遮光条3交叠形成交叠区域4，在交叠区域4内具有多个如图2实施例所示的齿状结构5，且该齿状结构5形成于遮光条3的侧边，两个相邻齿状结构5的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度。由于交叠区域4内的齿状结构5的齿顶至齿状结构5的底部，遮光条3的平均厚度缓慢升高，由未交叠区域至交叠区域4的色阻2的平均段差是缓慢升高的，在对该彩膜基板进行摩擦时，能够减少交叠区域4处的色阻膜层断裂。同时，为了保证在制备工艺中即使有对位误差，色阻2的边缘也能够被遮光条3遮挡，在色阻2和遮光条3交叠时，还应该具有宽度为W的确保遮盖区6，确保遮盖区6的宽度可以理解为：垂直于色阻2和遮光条3的延伸方向，交叠区域4的宽度与其包括的齿状结构5的高度之差，确保遮盖区6的宽度W在0.5～3微米之间。该虚线12的放大示意图所示的遮光条3和色阻2交叠结构采用如图5所示的彩膜基板中遮光条3和色阻2交叠结构，当然也可以采用如图6至图10所示的彩膜基板中遮光条3和色阻2交叠结构，同时，液晶显示面板还可以包括被彩膜基板遮挡的阵列基板、液晶层等，在此不再赘述。
本发明实施例有益效果如下：彩膜基板的色阻和遮光条交叠，在色阻和遮光条交叠的区域包括多个齿状结构，在相邻齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至交叠区域或者由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并避免造成交叠区域处的色阻膜层断裂，进一步的，可以使显示装置的显示亮度均匀，提高显示质量。
参见图15，本发明实施例提供一种显示装置20，包括边框21和上述实施例提供的液晶显示面板10，液晶显示面板10包括上述实施例提供的彩膜基板，对向基板(图中未示出)以及设置在彩膜基板和对向基板之间的液晶层(图中未示出)，该彩膜基板包括衬底基板11，形成依次形成于衬底基板11上的遮光条3和色阻2。需要说明的是，对于液晶显示面板10而言，衬底基板11靠近液晶显示面板10可视的一侧，衬底基板11面向液晶层的一侧设置遮光条3及色阻2，因此衬底基板11和色阻2的示图为虚线。图15中的虚线12处的放大示意图如图14所示，在此不再赘述。
本发明实施例有益效果如下：彩膜基板的色阻和遮光条交叠，在色阻和遮光条交叠的区域包括多个齿状结构，在相邻齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的遮光条的厚度的时，进行摩擦取向工艺的过程中，由未交叠区域至交叠区域或者由交叠区域至未交叠区域的平均段差缓慢变化，使摩擦均匀并避免造成交叠区域处的色阻膜层断裂，进一步的，可以使显示装置的显示亮度均匀，提高显示质量。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (14)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
多个间隔排布的色阻，以及设置于相邻两个色阻的间隙位置的遮光条，相邻的一所述色阻和一所述遮光条形成交叠区域，所述交叠区域包括多个齿状结构，两个相邻所述齿状结构的齿顶之间的间距小于20倍的所述遮光条的厚度。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构的图形为圆弧形或者顶角是锐角的三角形。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构包括齿尖和齿根，所述齿状结构的齿尖为顶角是锐角的三角形或所述齿状结构的齿尖的图形为圆弧形，所述齿状结构的齿根为矩形或梯形。
4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构的齿根的图形为矩形，所述齿状结构的齿尖为等腰三角形，所述齿状结构的齿根的顶边与齿尖的底边长度相等，两个相邻所述齿状结构的齿根具有一预设间距。
5.如权利要求2至4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构仅形成于所述遮光条的侧边；或者，所述齿状结构仅形成于在所述色阻的侧边。
6.如权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，垂直于所述色阻和所述遮光条的延伸方向，所述交叠区域的宽度与其包括的所述齿状结构的高度之差大于或等于0.5μm且小于或等于3μm。
7.如权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构仅形成于所述遮光条的侧边，以所述遮光条延伸方向的中轴线为对称轴，分别位于所述遮光条的两边缘的各所述齿状结构非镜像对称。
8.如权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构仅形成于在所述色阻的侧边，相邻两所述色阻的相邻边的各所述齿状结构相互深入且交错排列，深入深度小于或等于所述齿状结构的高度。
9.如权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构相互深入深度小于或等于所述齿状结构的高度的50％。
10.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述齿状结构分别形成于所述色阻和所述遮光条的侧边；
且以所述遮光条延伸方向的中轴线为对称轴，分别位于所述遮光条的两边缘的各所述齿状结构非镜像对称。
11.如权利要求10所述的彩膜基板，其特征在于，同一所述交叠区域内，所述色阻的所述齿状结构和所述遮光条的所述齿状结构形成的条形叠层的截面宽度大于或等于0.5μm且小于或等于3μm。
12.如权利要求1至3任一项所述的彩膜基板，其特征在于，经所述齿状结构的顶点至底部中点的直线与所述彩膜基板的摩擦方向之间的夹角小于或等于10°。
13.一种液晶显示面板，包括如权利要求1至12任一项所述的彩膜基板。
14.一种显示装置，包括如权利要求13所述的液晶显示面板。
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