JP5477560B2 - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜が形成されたカラーフィルタに関するものであり、特に、ブラックマトリックスの端部上に発生するツノ部の高さを低減させた、平坦性に優れたカラーフィルタ、及びその製造方法に関する。

液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの調整、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などが挙げられる。

図１は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。また、図２は、図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。図１、及び図２に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、及び透明導電膜（５４）が順次に形成されたものである。

液晶表示装置に用いられる上記カラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板（５０）上に所定の形状とした開口部を有するブラックマトリックス（５１）を形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスの開口部に位置合わせして着色画素（５２）を形成し、更に透明導電膜（５４）を形成するといった方法が広く用いられている。

ブラックマトリックス（５１）は遮光性を有し、その開口部にてガラス基板上での着色画素の位置を定め、着色画素の大きさを均一なものとしている。また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックス（５１）の形成は、例えば、ガラス基板（５０）上に、黒色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介したパターン露光、現像によって不要な部分のレジストを除去し、残存したレジストにてブラックマトリックスを形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。

また、着色画素（５２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタの機能を有するものであり、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板（５０）上に、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像によって着色画素を形成するといったフォトリソグラフィ法がとられている。
また、透明導電膜（５４）の形成は、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。

ブラックマトリックスの形成に上記黒色フォトレジストを用いた際には、例えば、１．０μｍ〜１．５μｍ程度の厚さにして必要な濃度を得るようにしている。図３は、図２に示すブラックマトリックス（５１）の近傍を拡大した断面図である。
図３に示すように、ブラックマトリックスの膜厚（Ｔ）が、１．０μｍ〜１．５μｍ程度と厚くなると、ブラックマトリックス（５１）の端部上にその周縁部を重ねて形成された
着色画素（５２）は、その周縁部がブラックマトリックス（５１）の端部上にて盛り上がりとなる。この盛り上がりをツノ部（５３）と称し、ツノ部（５３）の上部と、着色画素（５２）上面との高さの差（ΔＨ）をツノ段差と称している。

ブラックマトリックス（５１）の端部上にツノ部（５３）が形成されたカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、液晶の転傾などによる表示不良、或いは画素周辺部での光漏れによるコントラストの低下など、表示品質に悪影響を及ぼすことになる。
そこで、このツノ段差（ΔＨ）を低くする手法として、例えば、ａ）透明導電膜（５４）を形成する前に、カラーフィルタの表面を研磨してツノ部（５３）の高さを低くしておく方法、ｂ）ブラックマトリックス（５１）の膜厚（Ｔ）を低く形成しておく方法、ｃ）或いは、ブラックマトリックス（５１）の端部上への着色画素（５２）の重なり量（Ｋ）を少なく形成しておく方法、などを採用することがある。

しかし、上記ａ）カラーフィルタの表面を研磨する方法では、着色画素の表面にキズが生じるといった問題、ｂ）ブラックマトリックスの膜厚を低くする方法では、ブラックマトリックスの光学濃度が不足するといった問題、また、ｃ）着色画素の重なり量を少なくする方法では、着色画素を形成する際の位置ズレによって、ブラックマトリックスと着色画素との間に白抜けが発生するといった問題が伴うので、上記ａ）〜ｃ）の方法は、上記問題が影響しない範囲での対応となる。すなわち、上記方法での対応には自ずから限界がある。

従って、十分な対応をとるためには、平坦化処理として、着色画素（５２）を形成した後に、オーバーコート層を設ける方法が広く採用されている。
オーバーコート層を設けることによって、上記ａ）〜ｃ）の方法での問題は発生することなく、カラーフィルタ上のツノ部（５３）に起因した、液晶の転傾などによる表示不良、画素周辺部での光漏れによるコントラストの低下など、表示品質に悪影響を及ぼすことは解決される。

しかし、オーバーコート層を設けることには、工程の増加、収率の低下が伴いコスト増は避けられない状況にある。

特開平１−１８８８０１号公報

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜が形成されたカラーフィルタにおいて、ブラックマトリックスの端部上に発生するツノ部の高さを低減する際に、研磨による着色画素の表面へのキズ、ブラックマトリックスの膜厚低減による光学濃度の不足、ブラックマトリックスと着色画素との間の白抜けなどの問題を起こさずに、ツノ部の高さを低減させた、平坦性に優れたカラーフィルタを提供すること課題とするものである。
また、上記カラーフィルタの製造方法を提供すること課題とする。

本発明は、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜を形成するカラーフィルタの製造方法において、
１）前記ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、該ブラックマトリックスの端部上に着色画素の周縁部を重ねて形成する工程、
２）該ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上の全面にＩＴＯからなる透明導電膜を形成する工程、
３）該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した露光、現像によりエッチングレジストを形成する工程、
４）該エッチングレジストが形成されたガラス基板上に、エッチング、剥膜を施しブラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上の透明導電膜を除去する工程、
５）該透明導電膜が除去されて露出したツノ部に研磨を施し、ツノ部の高さを低くする工程を具備し、
該研磨により、ツノ部上面のガラス基板からの高さと、透明導電膜上面のガラス基板からの高さを略同一とすることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。

また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記３）及び４）にて、ブラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上の透明導電膜を除去する際に、着色画素上の透明導電膜に配向制御用開口部を同時に形成することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法である。

本発明は、ブラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上には、透明導電膜が設けられておらず、ツノ部上面のガラス基板からの高さと、着色画素上の透明導電膜上面のガラス基板からの高さが略同一で平坦性に優れているカラーフィルタであるので、液晶表示装置に用いた際に、カラーフィルタ上のツノ部に起因した、液晶の転傾などによる表示不良、画素周辺部での光漏れによるコントラストの低下など、表示品質に悪影響を及ぼすことはない。

また、本発明は、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、該ブラックマトリックスの端部上に着色画素の周縁部を重ねて形成する工程、該ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上の全面に透明導電膜を形成する工程、該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、エッチングレジストを形成する工程、該エッチングレジストが形成されたガラス基板上に、エッチング、剥膜を施しブラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上の透明導電膜を除去する工程、該透明導電膜が除去されて露出したツノ部に研磨を施し、ツノ部の高さを低くする工程を具備し、研磨により、ツノ部上面のガラス基板からの高さと、透明導電膜上面のガラス基板からの高さを略同一とするので、研磨による着色画素の表面へのキズ、及び透明導電膜の表面へのキズを発生させることはない。また、光学濃度の不足、或いは白抜けなどの問題を起こさずに、ツノ部の高さを低減させた、平坦性に優れたカラーフィルタの製造方法となる。

また、本発明は、上記カラーフィルタにおいて、着色画素上の透明導電膜に、配向制御用開口部が設けられているので、配向制御用開口部が設けられた廉価なカラーフィルタと
なる。

また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、ラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上の透明導電膜を除去する際に、着色画素上の透明導電膜に配向制御用開口部を同時に形成するので、配向制御用開口部が設けられたカラーフィルタを廉価に製造することが可能となる。

液晶表示装置用のカラーフィルタの画素の一例を拡大して示す平面図である。 図１に示すカラーフィルタの画素のＸ−Ｘ線における断面図である。 図２に示すブラックマトリックスの近傍を拡大した断面図である。 本発明によるカラーフィルタの一例の部分断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の一例を部分断面で示す説明図である。 図４に示すカラーフィルタの全面に更に透明導電膜を設けたカラーフィルタの一例を示す断面図である。 請求項２に係わるカラーフィルタの一例を示す部分断面図である。 ＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。 平面形状がストライプ（スリット）状の開口部の例を示した平面図である。 平面形状が円形状の開口部の例を示した平面図である。

以下に、本発明を実施の形態に基づいて説明する。
図４は、本発明によるカラーフィルタの一例の部分断面図である。図４に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、透明導電膜（５４）が形成されたものである。ブラックマトリックス（５１）の上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部（５３’）の上には、透明導電膜（５４）は設けられていない。

このツノ部（５３’）は、平坦化処理が施されたことにより、その上部が平坦になったツノ部である。透明導電膜（５４）が設けられていない領域は、ブラックマトリックス（５１）の幅（Ｗ）に相当する領域である。
また、符号（Ｇ）で示す、着色画素の表示領域では、着色画素（５２）上に透明導電膜（５４）が設けられてる。

また、透明導電膜（５４）の膜厚は、ブラックマトリックスや着色画素の膜厚に比較して極めて薄い。そのため、ツノ部（５３’）の上面の、ガラス基板（５０）からの高さ（Ｈ２）と、着色画素（５２）上の透明導電膜（５４）の上面の、ガラス基板（５０）からの高さ（Ｈ３）とは、液晶表示装置の表示品質に悪影響を与えることがなくなる程度に略同一の高さとなり、平坦性に優れたものとなっている。
この平坦性は、ガラス基板（５０）上に、先ず、ブラックマトリックス（５１）を形成し、次に、着色画素（５２）を形成する際に、ブラックマトリックス（５１）の端部上に着色画素の周縁部を重ねて形成することによって発生したツノ部に対して、研磨による平坦化処理を行い、ツノ部の高さを低くして得られたものである。

この平坦化処理は、着色画素（５２）上への透明導電膜（５４）の形成後に行われるので、研磨による着色画素の表面へのキズは発生していない。また、ブラックマトリックス（５１）の膜厚低減による光学濃度の不足や、ブラックマトリックスと着色画素の間での白抜けなどの問題を引き起こすことはなく、平坦性に優れたカラーフィルタである。

図５（ａ）〜（ｄ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の一例を部分断面で示す説明図である。図５（ａ）は、ガラス基板（５０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、透明導電膜（５４）が形成された段階を表したものである。
図５（ａ）に示すように、ブラックマトリックス（５１）が形成されたガラス基板（５０）上に着色画素（５２）を形成する際に、ブラックマトリックス（５１）の端部上に着色画素の周縁部が重なるように着色画素が形成されている。このためブラックマトリックス（５１）の端部上では、ツノ部（５３）が発生している。

具体的には、ブラックマトリックス（５１）の形成に用いる黒色フォトレジストとして、例えば、新日鉄（株）製：黒色フォトレジストＶ２５９（商品名）を用い、ブラックマトリックス（５１）の膜厚（Ｔ２）を１．０μｍに設ける。着色画素（５２）の膜厚（Ｔ３）を１．５μｍに設けると、ツノ部（５３）のツノ段差（ΔＨ−２）は、１．０μｍ程度となる。
また、透明導電膜（５４）の形成には、例えば、ＩＴＯを用い、膜厚（Ｔ４）を１４０ｎｍ程度に設ける。

図５（ｂ）は、次に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した露光、現像により、エッチングレジスト（６０）が形成された段階を表したものである。図５（ｂ）に示すように、エッチングレジスト（６０）は、ブラックマトリックス（５１）の幅（Ｗ）に相当する領域以外の部分、すなわち、透明導電膜（５４）上の、着色画素（５２）の表示領域（Ｇ）に設けられている。

図５（ｃ）は、次に、エッチングが施されて、露出していた、ブラックマトリックス上方の透明導電膜（５４）が除去され、続いて、剥膜が施されて、エッチングレジスト（６０）が除去された段階を表したものである。
図５（ｃ）に示すように、ブラックマトリックス（５１）上方の幅（Ｗ）の領域の透明導電膜（５４）は、すなわち、ブラックマトリックス（５１）の上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部（５３）上の透明導電膜（５４）は除去されている。
具体的には、エッチング液としては、例えば、塩化第２鉄と塩酸の混合液を用いた酸処理を行う。

図５（ｄ）は、研磨による平坦化処理が終了した段階を表したものである。図５（ｄ）に示す符号（５３’）は、平坦化処理により高さの低くなったツノ部を表しており、ツノ部（５３’）の上面の、ガラス基板（５０）からの高さ（Ｈ２）と、透明導電膜（５４）の上面の、ガラス基板（５０）からの高さ（Ｈ３）とは、略同一の高さとなっている（Ｈ２≒Ｈ３）。すなわち、透明導電膜（５４）の上面の高さに合わせ、ツノ部（５３）を研磨することにより、符号（５３’）の上面と、透明導電膜（５４）の上面の高さを面一（Ｍ）（略同一の高さ）とする。

本発明におけるツノ部（５３）の研磨では、着色画素（５２）が透明導電膜（５４）に
よって保護されている状態で研磨が施されるので、研磨によって着色画素の表面へキズを発生させることはない。また、研磨剤、及び研磨クロスをＩＴＯよりは柔らかく、ツノ部（着色画素）よりは硬い材料を用いることにより、透明導電膜（５４）の表面へキズを発生させることなく、ツノ部（５３）の高さを低くすることが可能である。

具体的には、例えば、研磨機として平盤研磨機を用い、研磨剤としては、シーアイ化成（株）製：ＡＬミズ１０ｗｔ％−ＧＯ−Ｌ（商品名）を用いる。この研磨剤の主成分は酸化アルミである。また、研磨クロスとしては、米ローム＆ハース社製：Ｓｕｐｒｅｍｅ ＲＮ−Ｈ（商品名）を用いる。
また、研磨条件としては、研磨加重：５０ｇ／ｃｍ² 、研磨時間：３０ｓｅｃ、リンス加重：４０ｇ／ｃｍ² 、リンス時間：２０ｓｅｃ、定盤回転数：２５ｒｐｍを用いる。
これにより得られるツノ段差は、０，１μｍ以下（Ｈ２≒Ｈ３）となる。
なお、必要によっては、ツノ部の研磨後にブラックマトリックス上で開口している透明導電膜部位に再度透明導電膜を形成してもよい。

上記のように、本発明によるカラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリックスの端部上に発生するツノ部の高さを低減する際に、研磨による着色画素の表面へのキズ、及び透明導電膜の表面へのキズを発生させることはない。
また、本発明を用いればブラックマトリックスの膜厚を低くしておく方法、或いはブラックマトリックスの端部上への着色画素の重なり量を少なくしておく方法を採用すること無くなるため、光学濃度の不足、或いは白抜けなどの問題を生じることがない。すなわち、本発明は、ツノ部の高さを低減させた、平坦性に優れたカラーフィルタを得ることができる製造方法である。

図４に例示する本発明によるカラーフィルタは、ブラックマトリックス（５１）の幅（Ｗ）に相当する領域には、液晶を作動させる電極である透明導電膜（５４）は設けられていない。従って、液晶表示装置として組み込まれた際に、この部位の液晶は作動しない。一方、着色画素（５２）の表示領域（Ｇ）では、着色画素（５２）上に透明導電膜（５４）が設けられているので、この部位の液晶は作動し、着色画素の表示領域は良好に画像が表示されるものとなる。

本発明によるカラーフィルタを液晶表示装置に用いた際に、ツノ部（５３’）及びブラックマトリックス（５１）が露出した状態であるために、何らかの不具合、例えば、ツノ部（着色画素の延長部）（５３’）、或いはブラックマトリックス（５１）の成分が液晶中へ溶出し、表示品質に何らかの不具合を及ぼすことがある場合には、本発明によるカラーフィルタの上面の全面に更に透明導電膜を設けることにより、上面の平坦性を損なうことなく、このような不具合に対応することが可能である。
図６は、図４に示すカラーフィルタの上面の全面に更に透明導電膜（５４’）を設けたカラーフィルタの一例を示す断面図である。

図７は、請求項２に係わるカラーフィルタの一例を示す部分断面図である。このカラーフィルタは、図４に示すカラーフィルタの着色画素（５２）上の透明導電膜（５４）に、配向制御用開口部（４５）が付加して設けられたものである。
この配向制御用開口部（４５）は、液晶分子の配向を分割する機能を有する開口部である。

従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、ＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、コントラ
ストが良好な視野角は狭く、視野によりコントラストが低下し表示品質が悪化するといった問題を有していた。

このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）−ＬＣＤが開発された。

図８は、このようなＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。図８に示すように、ＭＶＡ−ＬＣＤ（ＬＤ）は、液晶分子（３０）を介して配向制御用開口部（２５ａ）、（２５ｂ）が設けられたＴＦＴ基板（２０）と、配向制御用開口部（４５）が設けられたカラーフィルタ（ＣＦ）とを配置した構造である。配向制御用開口部（２５ａ）、（２５ｂ）、及び配向制御用開口部（４５）は一画素内で互い違いの位置に設けられている。これら透明導電膜（５４、２４）に設けられた開口部は、液晶分子の配向を制御する機能を有している。

図８に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御用開口部（２５ａ）〜配向制御用開口部（４５）間の液晶分子（３０）は、図中左斜めに傾斜し、配向制御用開口部（４５）〜配向制御用開口部（２５ｂ）間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、開口部を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。

画素電極（透明導電膜）の開口部の、画素電極エッジにおいては、エッジ近傍に発生する電界歪みが配向に影響するため配向を制御する機能がある。
図８に示すカラーフィルタ（ＣＦ）に設けられた配向制御用開口部（４５）は、図４に示す、ブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、及び透明導電膜（５４）が順次に形成された該透明導電膜（５４）に、例えば、フォトエッチング法によってエッチングが施されて形成される。

図９は、配向制御用開口部として、平面形状がストライプ（スリット）状の開口部の例を示した平面図である。図９に示すように、着色画素上に設けられた透明導電膜（５４）に、一画素内で９０°屈曲させたストライプ（スリット）状の配向制御用開口部（４５Ａ）が設けられている。
この種の配向制御用開口部（４５Ａ）は、例えば、液晶ＴＶ、モニター用の液晶表示装置などに用いられており、画素の幅（Ｗ３）は１５０〜２００μｍ程度で、開口部（４５Ａ）の幅（Ｗ４）は１２μｍ程度のものである。

また、図１０は、配向制御用開口部として、平面形状が円形状の開口部の例を示した平面図である。図１０に示すように、着色画素上に設けられた透明導電膜（５４）に、円形状の配向制御用開口部（４５Ｂ）が設けられている。
この種の配向制御用開口部（４５Ｂ）は、例えば、モバイル機器用の液晶表示装置などに用いられており、画素の幅（Ｗ５）は２５〜５０μｍ程度で、開口部（４５Ｂ）の幅（Ｗ６）は１０〜１５μｍ程度のものである。

本発明における配向制御用開口部（４５）は、図５（ｂ）、（ｃ）に示すように、透明導電膜（５４）が形成されたガラス基板（５０）上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した露光、現像によりエッチングレジスト（６０）を形成し、続いて、エッチングレジスト（６０）が形成されたガラス基板上に、エッチング、剥膜を施しブラックマトリックス（５１）上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部（５３）上の透明導電膜（５４）を除去する際に、着色画素上の透明導電膜（５４）に配向制御用開口部（４５）を同時に形成する。

この際のフォトマスクとしては、配向制御用開口部（４５）の形成に対応したパターンが付加されたフォトマスクを用いる。
配向制御用開口部（４５）は、ブラックマトリックス（５１）上方の幅（Ｗ）の領域の透明導電膜（５４）の除去と同時に形成するので、配向制御用開口部（４５）が設けられたカラーフィルタを廉価に製造することが可能となる。

４５・・・配向制御用開口部
４５Ａ・・・ストライプ（スリット）状の配向制御用開口部
４５Ｂ・・・円形状の配向制御用開口部
５０・・・ガラス基板
５１・・・ブラックマトリックス
５２・・・着色画素
５３・・・ツノ部
５３’・・・平坦化処理後のツノ部
５４・・・透明導電膜
６０・・・エッチングレジスト
ΔＨ・・・ツノ段差
Ｇ・・・着色画素の表示領域
Ｈ２・・・ツノ部上面のガラス基板からの高さ
Ｈ３・・・透明導電膜上面のガラス基板からの高さ
Ｋ・・・着色画素の重なり量
Ｔ・・・ブラックマトリックスの膜厚
Ｔ４・・・ＩＴＯの膜厚
Ｗ・・・ブラックマトリックスの幅

Claims (2)

1. ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜を形成するカラーフィルタの製造方法において、
   １）前記ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、該ブラックマトリックスの端部上に着色画素の周縁部を重ねて形成する工程、
   ２）該ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上の全面にＩＴＯからなる透明導電膜を形成する工程、
   ３）該透明導電膜が形成されたガラス基板上に、ポジ型フォトレジストの塗膜を設け、フォトマスクを介した露光、現像によりエッチングレジストを形成する工程、
   ４）該エッチングレジストが形成されたガラス基板上に、エッチング、剥膜を施しブラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上の透明導電膜を除去する工程、
   ５）該透明導電膜が除去されて露出したツノ部に研磨を施し、ツノ部の高さを低くする工程を具備し、
   該研磨により、ツノ部上面のガラス基板からの高さと、透明導電膜上面のガラス基板からの高さを略同一とすることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
2. 前記３）及び４）にて、ブラックマトリックス上面、及びブラックマトリックスの端部上のツノ部上の透明導電膜を除去する際に、着色画素上の透明導電膜に配向制御用開口部を同時に形成することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。

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