WO2010137099A1 - 太陽電池バックシート用フィルム、それを用いた太陽電池バックシート、および太陽電池 - Google Patents

太陽電池バックシート用フィルム、それを用いた太陽電池バックシート、および太陽電池 Download PDF

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WO2010137099A1
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layer
film
partial discharge
solar cell
discharge voltage
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青山 滋
大平 貴之
高橋 弘造
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東レ株式会社
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    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/049Protective back sheets
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    • Y10T428/31786Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
    • Y10T428/31797Next to addition polymer from unsaturated monomers

Definitions

  • the present invention relates to a film for a solar battery backsheet having a high partial discharge voltage even if it is thin, a solar battery backsheet using the same, and a solar battery using the same.
  • FIG. 1 A typical configuration of a general solar cell is shown in FIG.
  • a power generating element 3 is sealed with a transparent filler 2 such as EVA (ethylene-vinyl acetate copolymer), and a transparent substrate 4 such as glass and a resin sheet called a back sheet 1 are bonded together. Composed. Sunlight is introduced into the solar cell through the transparent substrate 4. Sunlight introduced into the solar cell is absorbed by the power generation element 3, and the absorbed light energy is converted into electrical energy. The converted electric energy is taken out by a lead wire (not shown in FIG.
  • the back sheet 1 is a sheet member that is installed on the back side of the power generation element 3 with respect to the sun and is not in direct contact with the power generation element 3.
  • the backsheet 1 polyethylene-based, polyester-based, and fluorine-based resin films are mainly used.
  • a bubble-containing film used as a reflective film for a liquid crystal display for a solar battery back sheet Patent Documents 4 and 5.
  • solar cells are installed on the roofs of ordinary households and public facilities, or installed on a large site as large-scale power generation.
  • the backsheet since a high voltage is applied for a long time when the solar cell system is operated, it is desired that the backsheet has both a long-term mechanical strength and a high electrical resistance. If the electrical resistance is inferior, the discharge of minute charges inside the film called partial discharge occurs during the operation of the solar cell system, and if this continues for a long time, the chemical deterioration of the resin constituting the back sheet proceeds. If chemical degradation progresses due to a partial discharge phenomenon, even if the system has a withstand voltage sufficient to withstand lightning strikes under normal circumstances, when a high voltage is momentarily applied to the system due to lightning strikes, etc., it is fatal. This is because there is a possibility of generating a dielectric breakdown.
  • the backsheet is required to increase the voltage at which the partial discharge phenomenon occurs (hereinafter referred to as “partial discharge voltage”) in order to suppress the partial discharge phenomenon even a little.
  • partial discharge voltage the voltage at which the partial discharge phenomenon occurs
  • JP-A-11-261085 Japanese Patent Laid-Open No. 11-186575 JP 2006-270025 A JP 2009-12454 A JP 2009-42421 A
  • the present invention is a film for solar cell backsheet having high mechanical strength and maintaining a mechanical strength over a long period of time, and a solar cell backsheet using the same.
  • the solar cell used is to be provided. That is, the present invention has a layered structure having at least two layers and a surface having a surface specific resistance R0 of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less (hereinafter referred to as A surface) (A layer).
  • B layer a base material layer (B layer), wherein the B layer includes a layer made of polyester (B1 layer), and the mass average molecular weight of the polyester of the B1 layer is 37500 or more and 60000 It is the film for solar cell back sheets which is the following, and a solar cell back sheet and a solar cell using the same.
  • the present invention it is possible to provide a film for a solar battery back sheet having a long-term mechanical strength and a high partial discharge voltage even if it is thin. Moreover, by using it, durability improvement of a solar cell backsheet, thickness reduction, etc. are attained, and durability improvement of a solar cell, thickness reduction, etc. are attained.
  • the present invention as a result of intensive studies on the above-mentioned problem, that is, retention of mechanical strength over a long period of time and a thin film for a solar battery back sheet having a high partial discharge voltage, controls the electrical characteristics of the surface within a certain range.
  • the film for solar cell backsheet of the present invention has the following configuration. That is, a layer (A layer) and a substrate having a laminated structure of at least two layers and having a surface specific resistance R0 of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less (hereinafter referred to as A surface).
  • the layer (B1 layer) which consists of polyester is included, and when the mass average molecular weight of polyester of this B1 layer shall be 37500 or more and 60000 or less, compared with the conventional backsheet. , The retention of mechanical strength over a long period can be increased.
  • the film for solar battery backsheet of the present invention preferably has a surface specific resistance R2 of 10 14 ⁇ / ⁇ or more on the surface opposite to the A surface.
  • R2 surface specific resistance
  • the surface (6 in FIG. 1) on the opposite side of the resin layer encapsulating the power generating element may be the A surface.
  • the partial discharge voltage can be improved.
  • a highly durable solar cell can be obtained or the thickness of the solar cell can be reduced.
  • the surface specific resistance of both surfaces of the solar cell backsheet film is 10 6 ⁇ / ⁇ or more, the electrical resistance characteristics of the solar cell backsheet may be deteriorated, or electrical energy is taken out from the lead wire. This is because, in some cases, the take-out efficiency is lowered and the power generation efficiency is lowered.
  • the film for solar battery backsheet of the present invention preferably has a breaking elongation of 50% or more.
  • the elongation at break here is measured based on ASTM-D882 (1999) by cutting a sample into a size of 1 cm ⁇ 20 cm and pulling it at a distance of 5 cm between chucks and a pulling speed of 300 mm / min. More preferably, the elongation determined by the above method is 60% or more, more preferably 80% or more, particularly preferably 100% or more, and most preferably 120% or more.
  • the elongation at break is less than 50%, when an impact is applied to the solar cell from the outside when the backsheet using this is incorporated into the solar cell and used.
  • the backsheet when a load is applied during vibration during transportation or during work during transportation or construction), the backsheet may break.
  • the elongation retention rate to 50% or more, the characteristics of the solar cell against impact can be enhanced.
  • the film for solar cell backsheets of this invention is 50% or more of the elongation retention after leaving for 24 hours on the conditions of temperature 125 degreeC and humidity 100% RH.
  • the elongation retention here is measured based on ASTM-D882 (1999), and is 24 hours under the conditions of the breaking elongation E0, temperature 125 ° C., and humidity 100% RH of the film before processing. It is a value obtained by the following formula (1) when the elongation at break after standing is E1.
  • Elongation retention (%) E1 / E0 ⁇ 100 (1) Note that E1 is a value measured using a sample that was cut into the shape of a measurement piece and then subjected to treatment for 24 hours under conditions of a temperature of 125 ° C. and a humidity of 100%.
  • the elongation retention obtained by the above method is 55% or more, more preferably 60% or more, particularly preferably 65% or more, and most preferably 70% or more.
  • the elongation retention is less than 50%, the mechanical strength is lowered when used for a long time, and as a result, the use of the solar cell having the backsheet using the same.
  • the backsheet may be broken when some external impact is applied to the solar cell (for example, when a falling rock hits the solar cell).
  • by setting the elongation retention rate to 50% or more, durability of the mechanical strength of the backsheet during long-term use can be enhanced.
  • the solar cell backsheet film of the present invention can be preferably used as long as it satisfies the above-mentioned requirements.
  • at least two layers including a conductive layer (A layer) and a base material layer (B layer) are used. It is necessary to have the above laminated structure and at least one side surface should consist of A layer.
  • a layer conductive layer
  • B layer base material layer
  • the layer (A layer) having conductivity of the solar cell backsheet film of the present invention is a surface that becomes 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less when the surface specific resistance R0 is measured ( A surface). More preferably, it is 10 7 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less, more preferably 10 8 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less, particularly preferably 10 9 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less, most preferably Preferably, it is 10 9 ⁇ / ⁇ or more and 10 13 ⁇ / ⁇ or less.
  • the surface specific resistance R0 of the A layer is less than 10 6 ⁇ / ⁇ , the A layer becomes too easy to conduct electricity and also conducts in the thickness direction. As a result, the entire A layer acts as a pseudo electrode, The effect of relaxing the electric field in the direction is lost, and the partial discharge voltage may not be improved. When electric energy is extracted from the lead wire, the extraction efficiency may decrease and the power generation efficiency may decrease. Further, if the surface specific resistance R0 of the A layer exceeds 10 14 ⁇ / ⁇ , the conductivity is too small and the effect of relaxing the electric field in the plane direction is lost, and the partial discharge voltage may not be improved. Absent.
  • the electric field applied in the film thickness direction when a high voltage is applied by controlling the surface specific resistance R0 of the A layer of the film for solar battery backsheet of the present invention to a range of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less. It is possible to moderately conduct a part of the film in the direction of the film surface, and to reduce the concentration of the electric field in the thickness direction, and it is possible to increase the partial discharge voltage without increasing the film thickness. Moreover, the partial discharge characteristics and electrical resistance characteristics of the backsheet using this film can be dramatically improved.
  • the layer A in the film for solar battery backsheet of the present invention has a surface specific resistance R1 of A surface after being allowed to stand for 24 hours at a temperature of 125 ° C. and a humidity of 100% of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less.
  • a surface specific resistance R1 of A surface after being allowed to stand for 24 hours at a temperature of 125 ° C. and a humidity of 100% of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less.
  • R1 surface specific resistance
  • R1 of A surface after being allowed to stand for 24 hours at a temperature of 125 ° C.
  • a humidity of 100% of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less Preferably there is. More preferably, it is 10 7 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less, more preferably 10 8 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less
  • the surface specific resistance R1 of the A surface after processing is less than 10 6 ⁇ / ⁇ , the effect of relaxing the electric field in the surface direction is lost during long-term use, and the partial discharge voltage is reduced. Sometimes, the power generation efficiency of the solar cell may decrease. On the other hand, if it exceeds 10 14 ⁇ / ⁇ , the conductivity becomes too low and the effect of relaxing the electric field in the surface direction is lost, and the partial discharge voltage may be lowered.
  • partial discharge voltage is maintained even in long-term use by controlling the surface specific resistance R1 of the processed layer A to a range of 10 6 ⁇ / ⁇ to 10 14 ⁇ / ⁇ . It is possible to maintain the improvement effect. As a result, it becomes possible to enhance the durability of the partial discharge characteristics and electric resistance characteristics of the backsheet using the film for solar battery backsheet of the present invention.
  • the A surface only needs to satisfy the above-mentioned characteristics, and specific examples thereof include the inclusion of a component that develops conductivity in the A layer.
  • a component that develops conductivity any of organic conductive materials, inorganic conductive materials, and organic / inorganic composite conductive materials can be preferably used.
  • organic conductive materials include cationic conductive compounds having cationic substituents such as ammonium groups, amine bases, and quaternary ammonium groups in the molecule, sulfonate groups, phosphate groups, and carboxylate groups.
  • Anionic conductive compounds having anionic properties such as, ionic conductive materials such as anionic substituents, amphoteric conductive compounds having both cationic substituents, polyacetylene having a conjugated polyene skeleton, poly Examples thereof include conductive polymer compounds such as paraphenylene, polyaniline, polythiophene, polyparaphenylene vinylene, and polypyrrole.
  • These conductive materials are introduced into the matrix material constituting the A layer by the following methods 1) to 4), and any of them is preferably used. Thereby, it becomes possible to express the A layer conductivity. That is, 1) Copolymerizing a conductive skeleton to the matrix material; 2) Add, mix, and dissolve conductive materials into the matrix material. 3) After adding and mixing the conductive material to the matrix material, the conductive material is transferred to the surface and concentrated near the surface. 4) Add and mix conductive materials into the matrix material and disperse to form a conductive network. It is possible to express conductivity in the A layer by a method such as these, and any of them is preferably used.
  • conductive materials particularly when forming a film as a solution film, or when forming a layer A by coating on a base material layer (layer B), when applying a high voltage
  • an ionic conductive material is preferable, and a cationic conductive compound is more preferable in that it has an effect of improving applicability, adhesion, and partial discharge voltage over a long period of time.
  • these conductive compounds it is preferable to use any of low molecular weight type conductive compounds, high molecular weight type conductive compounds, and the like.
  • high molecular weight type conductive compounds are preferably used from the viewpoint of durability and the like.
  • organic conductive materials can be preferably used either water-soluble or water-insoluble, but the surface A of the solar battery backsheet film of the present invention preferably has moisture and heat resistance. It is preferable to use a water-soluble conductive compound.
  • water solubility and water insolubility are determined by the monomer species constituting these materials, and in order to achieve water insolubility, the monomer species having the functional group and the functional group The ratio of the number of moles of monomer species having the functional group to the number of moles of monomer species having no functional group (the number of moles of monomer species having the functional group).
  • Number of moles of monomer species having no functional group is preferably from 10/90 to 90/10, more preferably from 20/80 to 80/20, still more preferably from 30/70 to 70/30. is there.
  • the ratio is smaller than 10/90, the surface specific resistance R0 of the A surface of the formed A layer becomes too high, and the partial discharge voltage improving effect may be lost.
  • water solubility will become high when ratio exceeds 90/10, the heat-and-moisture resistant property of the formed A surface may be inferior.
  • the copolymerization ratio between the monomer species having the functional group and the monomer species not having the functional group is controlled to be 10/90 or more and 90/10 or less. It is possible to improve the discharge voltage and to impart the heat and humidity resistance of the characteristics.
  • the conductive material used for the A layer is an organic conductive material, for improving the heat and moisture resistance, improving the strength of the A layer, etc.
  • the organic conductive material in addition to the organic conductive material, when applying by the in-line coating method at the time of manufacturing the material layer (B layer), as a material constituting a matrix constituting the A layer Water-insoluble such as polyester resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyamide resin, polycarbonate, polystyrene, polyether, polyester amide, polyether ester, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol and copolymers containing these as components It is also preferable to use a functional resin.
  • the mixing ratio of the organic conductive material and the water-insoluble resin is 5/95 or more when the organic conductive material is a water-soluble conductive material. 50/50 or less is preferable.
  • the mixing ratio is less than 5/95, the surface specific resistance R0 of the A layer is increased, and the partial discharge voltage may not be improved, which is not preferable.
  • the mixing ratio is greater than 5/95 than 50/50, The formed layer A may be inferior in heat and moisture resistance.
  • the organic conductive material is a water-insoluble conductive material
  • the mixing ratio of the organic conductive material and the water-insoluble resin is 26/74 or more and 98/2 or less are preferable. More preferably, it is 30/70 or more and 95/5 or less.
  • the mixing ratio is less than 26/74, the surface specific resistance R0 of the A layer is increased, and the partial discharge voltage may not be improved, which is not preferable. If the mixing ratio is more than 98/2, the formed A The moisture and heat resistance of the layer may be inferior.
  • Partial discharge voltage is improved by controlling the mixing ratio of the organic conductive material and the water-insoluble resin (the mass of the organic conductive material / the mass of the water-insoluble resin) to 26/74 or more and 98/2 or less. Further, it becomes possible to impart moisture and heat resistance to the characteristics.
  • Examples of the water-insoluble resin when the A layer is formed by melt extrusion include polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as “PET”), polyethylene-2,6-naphthalate, polypropylene terephthalate, and polybutylene.
  • PET polyethylene terephthalate
  • polyethylene-2,6-naphthalate polyethylene-2,6-naphthalate
  • polypropylene terephthalate polypropylene terephthalate
  • polybutylene polybutylene
  • Polyester resins such as terephthalate, poly 1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate, polylactic acid, polyolefin resins such as polyethylene, polystyrene, polypropylene, polyisobutylene, polybutene, polymethylpentene, cycloolefin resins, polyamide resins, Polyimide resin, polyether resin, polyesteramide resin, polyetherester resin, acrylic resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, fluorine resin, etc. It is possible to use.
  • polyolefin resins such as polyethylene, polystyrene, polypropylene, polyisobutylene, polybutene, polymethylpentene, cycloolefin resins, polyamide resins, Polyimide resin, polyether resin, polyesteramide resin, polyetherester resin, acrylic resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, fluorine resin, etc. It is possible
  • polyester resins because of the variety of monomer types to be copolymerized and the ease of adjustment of material properties, it is possible to use polyester resins, polyolefin resins, cycloolefin resins, polyamide resins, acrylic resins, It is preferably mainly composed of a thermoplastic resin selected from a fluororesin or a mixture thereof. Particularly preferably, it is preferably composed mainly of a polyester-based resin from the viewpoint of mechanical strength and cost, and further, the water-insoluble resin is uniaxially or biaxially oriented, whereby the mechanical strength is improved by orientation crystallization. In the case of a polyester resin or the like, the hydrolysis resistance of the A layer during long-term use can be improved.
  • the substrate layer in the case where the moisture and heat resistance characteristics are further improved, or when the A layer is coated on the substrate layer (B layer))
  • the substrate layer in the case of improving the adhesion with the (B layer), in particular, when forming a film as a solution casting, or when coating the A layer on the base material layer (B layer), the blocking of the film can be prevented.
  • a resin or a compound that undergoes a crosslinking reaction with a functional group present in the above-described organic material and / or a resin constituting the water-insoluble resin, such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a glycidyl group, an amide group, or the like is preferably used.
  • a functional group present in the above-described organic material and / or a resin constituting the water-insoluble resin such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a glycidyl group, an amide group, or the like
  • examples thereof include methylolated or alkylolated urea, melamine, acrylamide, polyamide resins and epoxy compounds, oxetane compounds, isocyanate compounds, coupling agents, aziridine compounds, oxazoline compounds, carbodiimides, etc.
  • System compounds, acid anhydrides, carboxylic acid ester derivatives, and mixtures thereof can be used.
  • the kind and content of the crosslinking agent are appropriately selected depending on the organic conductive material constituting the A layer, the water-insoluble resin, the base material layer (B layer), and the like.
  • a crosslinking agent in the solar battery backsheet film of the present invention when forming a film as a solution film, or when coating a base material layer (B layer) as an A layer, an organic conductive material and / or When the water-insoluble resin has an acrylic skeleton, an oxazoline compound is used as a crosslinking agent.
  • a melamine compound is used as a crosslinking agent.
  • the formed A layer is more preferable in that it has better moisture and heat resistance.
  • a crosslinking agent in the case of using a polyester resin as the water-insoluble resin, an oxazoline compound, an epoxy compound, an oxetane compound, a carbodiimide compound, an acid anhydride, Carboxylic acid ester derivatives are preferably used.
  • the addition amount of the crosslinking agent is usually preferably 0.01 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, more preferably 0.2 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the total resin component constituting the A layer. More preferably, the range of 0.5 to 30 parts by mass is more preferable.
  • any of a heating system, an electromagnetic wave irradiation system, a moisture absorption system, etc. may be used, but usually a method by heating is preferably used.
  • the surface specific resistance R0 of the A surface is the type of the organic conductive material contained in the A layer, water-insoluble It depends on the type and mixing ratio of the resin and the crosslinking agent, the mixing ratio with other materials, the film thickness, and the like.
  • the surface specific resistance R0 increases as the proportion of the water-insoluble resin and the crosslinking agent increases with respect to the organic conductive material contained in the A layer, and the surface specific resistance R0 decreases as the ratio decreases.
  • the surface specific resistance R0 decreases as the film thickness of the A layer increases, and the surface specific resistance R0 increases as it decreases.
  • the optimal composition, film thickness, and the like vary depending on the type of material used, the film configuration, and the like, but are formed so that the surface specific resistance R0 of the A surface satisfies the above-described requirements.
  • the material constituting the A layer is an organic conductive material and the A layer is coated by an in-line coating method during the production of the base material layer (B layer)
  • a cation having an acrylic skeleton as a conductive material is more preferable because it imparts the film formability of the A layer and has a high partial discharge voltage and high heat and humidity resistance even when the obtained A layer is thin.
  • a combination of a system conductive compound, a compound having an acrylic skeleton as a water-insoluble resin, and a combination of an oxazoline compound as a crosslinking agent is preferable.
  • the organic conductive material contains 50 parts by mass or more as 100 parts by mass of the total resin component, and the mixing ratio of the organic conductive material and the water-insoluble resin (mass of organic conductive material / water-insoluble Of the resin) is 25/75 or more and 98/2 or less (more preferably 50/50 or more and 95/5 or less), and the ratio of the crosslinking agent is 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less (100 parts by mass of the total resin components). More preferably, it is 2 parts by mass or more and 20 parts by mass or less.
  • the material constituting the conductive layer (A layer) is an inorganic conductive material
  • examples include gold, silver, copper, platinum, silicon, boron, Palladium, rhenium, vanadium, osmium, cobalt, iron, zinc, ruthenium, praseodymium, chromium, nickel, aluminum, tin, zinc, titanium, tantalum, zirconium, antimony, indium, yttrium, lanthanum, magnesium, calcium, cerium, hafnium, Oxidized, sub-oxidized, hypo-sub-oxidized materials containing an inorganic group such as barium as the main component, or a mixture of the above-mentioned inorganic group and the above-mentioned inorganic group oxidized, sub-oxidized, sub-oxidized These are referred to as inorganic oxides), and those containing the above inorganic group as the main component Or a mixture of the inorganic substance group
  • Inorganic oxynitride carbonized, sub-carbonized, hypo-sub-carbonized with the main component of the inorganic group, or carbonized, sub-carbonized, hypo-carbonized with the inorganic group and inorganic group.
  • a mixture with the above hereinafter referred to as “inorganic carbide”), and those containing the above inorganic group as the main component are fluorinated and / or chlorinated and / or brominated and / or iodinated (hereinafter referred to as “halogen”).
  • Subhalogenated, hypohalogenated, and a mixture of the inorganic group and the inorganic group halogenated, subhalogenated, or subhalogenated hereinafter referred to as “inorganic halide”.
  • inorganic halide a mixture of the above inorganic substance group and the above inorganic substance group sulfided, subsulfided, hyposulfurized (hereinafter referred to as inorganic sulfide), and the above compound doped with a different element
  • examples thereof include carbon-based compounds such as graphite-like carbon, diamond-like carbon, carbon fiber, carbon nanotube, and fullerene (hereinafter referred to as carbon-based compounds), and mixtures thereof.
  • the above material may be contained at least in the A layer, but when the layer thickness of the A layer is 1 ⁇ m or less, in order to make the surface resistivity within the above range, it is more preferable to use the main component. Good. In addition, the case where it exceeds 50 mass% in this layer is defined as a main component.
  • the surface specific resistance R0 of the A surface of the A layer is the inorganic group contained in the film. It is determined by the degree of modification (oxidation, nitridation, oxynitridation, carbonization, halogenation, sulfidation, etc.), the mixing ratio between the inorganic group and the modified inorganic group, the mixing ratio with other materials, the film thickness, and the like. The higher the degree of modification of the inorganic group, the higher the surface specific resistance R0 of the A surface, and the lower the degree of modification, the smaller the surface specific resistance R0 of the A surface.
  • the surface specific resistance R0 increases as the ratio of the modified inorganic group to the inorganic group included in the A layer increases, and the surface specific resistance R0 decreases as the ratio decreases. Moreover, the surface specific resistance R0 becomes low as the film thickness increases, and the surface specific resistance R0 increases as the film thickness decreases.
  • the optimum composition and film thickness vary depending on the metal species to be used, the modification method, etc., but the surface specific resistance R0 is formed so as to satisfy the above requirements.
  • the material constituting the A layer is an organic / inorganic composite conductive material (for example, i) a non-conductive water-insoluble resin is used as a matrix
  • an inorganic conductive material is used as a conductive material
  • an organic conductive material and an inorganic conductive material are used in combination
  • an inorganic nonconductive material is used in combination with the organic conductive material Iv)
  • inorganic conductive material, water-insoluble resin, and crosslinking agent In addition, an inorganic non-conductive material is appropriately combined.
  • a structure in which a water-insoluble resin is used as the matrix of the A layer and an inorganic conductive material is dispersed may be mentioned.
  • the water-insoluble resin those similar to those used in the case of the organic conductive material are preferably used.
  • the shape of the inorganic conductive material dispersed in the water-insoluble resin serving as the matrix of the A layer is not particularly limited, such as a true spherical shape, a spheroid shape, a flat shape, a bead shape, a plate shape, or a needle shape. .
  • fine-particles connected two-dimensionally or three-dimensionally in the water-insoluble resin is also contained.
  • These inorganic particles may be composed of a single element or a plurality of elements.
  • the inorganic conductive material zinc oxide, titanium oxide, cesium oxide, antimony oxide, tin oxide, indium tin oxide, oxide are easily dispersed in the incompatible resin as the matrix of the A layer.
  • Metal oxides such as yttrium, lanthanum oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, and silicon oxide, and carbon-based fine particles such as carbon black, carbon fiber, carbon nanotube, and fullerene are preferably used.
  • the average particle diameter of the inorganic conductive material is arbitrary, but is preferably 0.001 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less.
  • the particle diameter here refers to the median diameter d50.
  • the particle size is 0.001 ⁇ m or less, it may be difficult to disperse in the water-insoluble resin as a matrix, and when it is 20 ⁇ m or more, a uniform A layer may be formed. It becomes difficult.
  • the average particle size of the inorganic conductive material it is possible to achieve both conductivity and uniformity of the formed film.
  • the mechanical strength and heat-and-moisture resistance are further improved, and particularly the adhesiveness with the base material layer (B layer) when coated on the base material layer (B layer) as the A layer is improved.
  • a crosslinking agent in order to prevent blocking in the case of forming a film as a film or when coating the base layer (B layer) as the A layer. Is called.
  • the crosslinking agent the same ones as those used in the case of the organic conductive material are preferably used.
  • the improvement of the slipperiness of the A layer and the blocking resistance it is also preferable to include fine particles for application, glossiness adjustment, surface resistivity control and the like.
  • fine particles for application, glossiness adjustment, surface resistivity control and the like.
  • inorganic fine particles or organic fine particles can be used.
  • the inorganic fine particles include gold, silver, copper, platinum, palladium, rhenium, vanadium, osmium, cobalt, iron, zinc, ruthenium, praseodymium, chromium, nickel, aluminum, tin, zinc, titanium, tantalum, zirconium, Fine particles of metals such as antimony, indium, yttrium, and lanthanium, fine particles of carbon compounds such as graphite-like carbon and diamond-like carbon, fine particles made of inorganic conductive materials such as carbon nanotubes and fullerenes, zinc oxide, titanium oxide, cesium oxide , Antimony oxide, tin oxide, indium tin oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, metal oxide such as silicon oxide, lithium fluoride, magnesium fluoride, aluminum fluoride Metal inorganic fluorides such as um and cryolite, metal phosphates such as calcium phosphate, carbonates such as calcium carbonate,
  • the particle diameter (number average particle diameter) of these fine particles is preferably 0.05 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, and preferably 0.1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. Moreover, as content, 5 mass% or more and 50 mass% or less are preferable with respect to all the resin components which comprise A layer, More preferably, it is 6 mass% or more and 30 mass% or less, More preferably, it is 7 mass% or more and 20 mass%. It is as follows. By controlling the surface specific resistance within the above range by adjusting the particle size of the contained particles to the above range, it is possible to impart surface slipperiness or adjust the surface glossiness. preferable.
  • a laminated structure of at least two layers including a conductive layer (A layer) and a base material layer (B layer) is used, and non-conductive in the inorganic conductive material constituting the A layer.
  • distributed water-soluble water-soluble resin is mentioned.
  • the inorganic conductive material the same materials as those used in the case of the inorganic conductive material are preferably used.
  • the shape of the water-insoluble resin dispersed in the inorganic conductive material is not particularly limited, such as a true spherical shape, a spheroid shape, a flat shape, a bead shape, a plate shape, or a needle shape.
  • water-insoluble resins may be made of a single resin or may be made of a plurality of resins.
  • the same water-insoluble resin as that used in the case of the organic conductive material is preferably used, and a silicone compound, a crosslinked styrene, a crosslinked acryl, a crosslinked melamine is used.
  • Cross-linked fine particles such as can also be used.
  • the A layer preferably contains a light stabilizer in order to prevent ultraviolet degradation of the A layer and / or the base material layer (B layer).
  • the light stabilizer is a compound that absorbs light such as ultraviolet rays and converts it into heat energy, a material that captures radicals generated by the absorption and decomposition of the A layer and suppresses the decomposition chain reaction, etc. Is mentioned. More preferably, a compound that absorbs light such as ultraviolet rays and converts it into thermal energy is used.
  • the effect of improving the partial discharge voltage by the A surface of the A layer can be kept high over a long period of time. Changes in color tone, strength deterioration, and the like due to ultraviolet rays of the layer and / or the base material layer (B layer) are prevented.
  • the ultraviolet absorber here is within a range in which other properties are not impaired, an organic ultraviolet absorber, an inorganic ultraviolet absorber, and a combination thereof can be preferably used without any particular limitation. It is desirable that it has excellent heat and humidity resistance and can be uniformly dispersed in the A layer.
  • ultraviolet absorbers examples include, for example, in the case of organic ultraviolet absorbers, salicylic acid-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers, hindered amine-based ultraviolet stabilizers, etc. Is mentioned.
  • salicylic acid-based pt-butylphenyl salicylate p-octylphenyl salicylate
  • benzophenone-based 2,4-dihydroxybenzophenone 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy -5-sulfobenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenyl) methane
  • UV absorbers triazine-based ultraviolet absorbers are more preferable in that they have high resistance to repeated ultraviolet absorption.
  • these ultraviolet absorbers may be added to the A layer by the above-mentioned ultraviolet absorber alone, or a form in which an organic conductive material or a water-insoluble resin is copolymerized with a monomer having an ultraviolet absorber function. May be introduced.
  • examples of inorganic ultraviolet absorbers include metal oxides such as titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide, and carbon-based materials such as carbon, fullerene, carbon fiber, and carbon nanotube.
  • these ultraviolet absorbers may be added to the layer A as a single component of the above-mentioned ultraviolet absorber, or may be combined with an inorganic conductive material or introduced into an organic conductive material or a water-insoluble resin. May be.
  • the ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more kinds, and an inorganic or organic compound may be used in combination.
  • the content of the ultraviolet absorber in the layer A of the solar battery backsheet film of the present invention is 0.05% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the total solid components in the layer A. Preferably, it is 0.1 to 15% by mass, more preferably 0.15 to 15% by mass.
  • the content of the UV absorber is less than 0.05% by mass, the light resistance is insufficient, and the A layer is deteriorated during long-term use, and the partial discharge voltage may be lowered. If it is more than 20% by mass, the coloring of the A layer may be increased.
  • the total solid component of the A layer is 1% by mass to 50% by mass, more preferably 2% by mass to 45% by mass, and further preferably 5% by mass to 40% by mass. Especially preferably, it is 8 mass% or more and 35 mass% or less, Most preferably, it is 12 mass% or more and 30 mass% or less.
  • the content of the ultraviolet absorber in the A layer may be reduced to an organic ultraviolet ray.
  • the absorbent 0.05% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the total solid components in the A layer.
  • the total solid component of the A layer is 1% by mass or more and 50% by mass or less.
  • the thickness of the A layer is preferably 0.001 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the material constituting the A layer is mainly composed of an organic material and the A layer is formed by coating, it is usually preferably 0.01 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, and the base material layer (B layer) is particularly uniaxial or
  • the A layer is formed during the production of the biaxially stretched film, it is preferably 0.01 ⁇ m or more and 1 ⁇ m or less, more preferably 0.02 ⁇ m or more from the viewpoint of the ease of forming the A layer and uniformity. 1 ⁇ m or less, more preferably 0.05 ⁇ m or more and 1 ⁇ m or less.
  • the material constituting the A layer is mainly composed of an inorganic material, it is preferably 0.001 ⁇ m or more and 1 ⁇ m or less.
  • the layer is formed by a dry method such as a vapor deposition method or a sputtering method, A
  • the thickness is more preferably 0.005 ⁇ m to 0.8 ⁇ m, and still more preferably 0.01 ⁇ m to 0.5 ⁇ m.
  • the preferable thickness of the A layer is 0.05 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less. More preferably, they are 1 micrometer or more and 50 micrometers or less, More preferably, they are 2 micrometers or more and 30 micrometers or less, Most preferably, they are 3 micrometers or more and 20 micrometers or less, Most preferably, they are 3 micrometers or more and 15 or less.
  • the base material layer (B layer) in the film for solar cell backsheet of the present invention is an organic film base material such as polyester resin, polyolefin resin, acrylic resin, polyamide resin, polyimide resin, polyether resin, polycarbonate resin, Metal base materials such as silicon, glass, stainless steel, aluminum, aluminum alloy, iron, steel, and titanium, inorganic base materials such as concrete, organic-inorganic composite base materials such as silicon-based resins, and combinations thereof are applicable.
  • a flexible base material containing an organic material from the viewpoint of handling and weight reduction. More preferably, the main component is made of a thermoplastic resin.
  • thermoplastic resin examples include polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate, polyester resin such as polylactic acid, polyethylene, polystyrene, Polyolefin resins such as polypropylene, polyisobutylene, polybutene, and polymethylpentene, cycloolefin resins, polyamide resins, polyimide resins, polyether resins, polyesteramide resins, polyetherester resins, acrylic resins, polyurethane Resin, polycarbonate resin, polyvinyl chloride resin, fluorine resin and the like can be used.
  • polyester resin such as polylactic acid, polyethylene, polystyrene
  • Polyolefin resins such as polypropylene, polyisobutylene, polybutene, and polymethylpentene
  • cycloolefin resins polyamide resin
  • polyester resins because of the variety of monomer types to be copolymerized and the ease of adjustment of material properties, it is possible to use polyester resins, polyolefin resins, cycloolefin resins, polyamide resins, acrylic resins, It is preferably mainly composed of a thermoplastic resin selected from a fluororesin or a mixture thereof. Particularly preferably, the polyester resin is mainly constituted from the viewpoint of mechanical strength and cost.
  • the main repeating units are ethylene terephthalate, ethylene Those comprising -2,6-naphthalenedicarboxylate, propylene terephthalate, butylene terephthalate, 1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate, ethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, and mixtures thereof are preferably used.
  • the main repeating unit means that the total of the above repeating units is 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more of all repeating units of the polyester resin. Particularly preferred from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance.
  • ethylene terephthalate, ethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, and mixtures thereof are preferably the main constituents in that they can be easily polymerized at low cost and have excellent heat resistance.
  • ethylene terephthalate when more ethylene terephthalate is used as a structural unit, a cheaper and more versatile film having moisture and heat resistance can be obtained, and more ethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate is used as a structural unit. When used, the film can be made more excellent in heat and moisture resistance.
  • the B layer includes a layer made of polyester (B1 layer). Moreover, it is preferable to use the above-described polyester as the polyester constituting the B1 layer.
  • the mass average molecular weight Mw1 of the polyester constituting the B1 layer needs to be 37500 or more and 60000 or less.
  • the mass average molecular weight referred to here is a value obtained by gel permeation chromatography, a molecular weight calibration curve is prepared using PET-DMT (standard product), and a value obtained based on the molecular weight calibration curve. That is.
  • a gel permeation chromatograph equipped with two Shodex HFIP 806M (manufactured by Showa Denko KK) as a column and an RI type differential refractometer (2414 type, sensitivity 256, manufactured by WATERS) as a detector.
  • GCP-244 manufactured by WATERS
  • GPC measurement is performed using PET-DMT (standard product) at room temperature (23 ° C.) at a flow rate of 0.5 mL / min.
  • V elution volume
  • M molecular weight
  • Mass average molecular weight (Mw) ⁇ (Ni ⁇ Mi 2 ) / ⁇ (Ni ⁇ Mi) (3) (Here, Ni is the molar fraction, and Mi is the molecular weight of each elution position of the GPC curve obtained via the molecular weight calibration curve.) If the B1 layer used for such measurement contains organic fine particles, inorganic fine particles, metals, metal salts, other additives and other components that are insoluble in the solvent, filtration with a filter, centrifugation, etc. This is a value obtained by preparing a solution again after removing insoluble components.
  • the B1 layer may contain additives such as plasticizers, surfactants, dyes, etc., after removing insoluble components, reprecipitation method, recrystallization method, chromatography method, extraction method After removing the insoluble additive in the same manner as described above, the solution is prepared again and measured.
  • additives such as plasticizers, surfactants, dyes, etc.
  • the mass average molecular weight of the B1 layer is preferably 37500 or more and 60000 or less, more preferably 38500 or more and 58000 or less, and further preferably 40000 or more and 55000 or less.
  • the mass average molecular weight of the polyester resin constituting the B1 layer is less than 37500, it is inferior in heat-and-moisture resistance properties, hydrolysis proceeds during long-term use, and as a result, the mechanical strength may decrease, which is not preferable.
  • it exceeds 60,000 it is not preferable because polymerization becomes difficult, or even if polymerization is possible, it becomes difficult to extrude the resin with an extruder and film formation becomes difficult.
  • the mass average molecular weight of the B1 layer constituting the B layer is in the range of 37500 or more and 60000 or less, both film forming property and hydrolysis resistance can be achieved.
  • the base material layer (B layer) has a laminated structure
  • the number average molecular weights of the polyester which comprises B1 layer are 8000-40000.
  • the number average molecular weight of the polyester of the B1 layer is more preferably 9500 or more and 40000 or less, further 10,000 or more and 40000 or less, further 10500 or more and 40000 or less, and further 11000 or more and 40000 or less. Further, it is 18500 or more and 40000 or less, further 19000 or more and 35000 or less, and particularly preferably 20000 or more and 33000 or less.
  • the number average molecular weight of the polyester resin constituting the B1 layer is less than 8000, the heat and moisture resistance is inferior and hydrolysis proceeds during long-term use, resulting in a decrease in mechanical strength. Moreover, when it exceeds 40,000, even if superposition
  • the intrinsic viscosity (IV) of the polyester of the B1 layer is preferably 0.65 or more. More preferably, it is 0.68 or more, More preferably, it is 0.7 or more, Most preferably, it is 0.72 or more. If IV is less than 0.65, the retention of mechanical strength during long-term use may be reduced. In the polyester film of the present invention, when the IV of the polyester resin constituting the polyester layer (P layer) is 0.65 or more, the retention of mechanical strength during long-term use can be suppressed.
  • the upper limit of IV is not particularly determined, it is preferably 1.0 or less, more preferably 0.9 from the viewpoint that the polymerization time is long, which is disadvantageous in cost and difficult to melt extrusion. It is as follows. *
  • the B1 layer constituting the B layer is preferably uniaxially or biaxially oriented.
  • a plane orientation coefficient indicating the degree of orientation is preferably 0.16 or more. More preferably, it is 0.162 or more, Furthermore, it is 0.165 or more. If the plane orientation coefficient is less than 0.16, the heat and moisture resistance may not be improved.
  • high moisture and heat resistance can be obtained by setting the plane orientation coefficient to 0.16 or more.
  • the minute endothermic peak temperature TmetaB1 of the B1 layer and the melting point TmB1 of the B1 layer obtained by differential scanning calorimetry (DSC) satisfy the following formula (5).
  • TmetaB1 and melting point TmB1 of the B1 layer mentioned here are values in a temperature raising process (temperature raising rate: 20 ° C./min) obtained by differential scanning calorimetry (hereinafter, DSC). Specifically, by a method based on JIS K-7121 (1999), heating from 25 ° C. to 300 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min (1stRUN), holding in that state for 5 minutes, and then 25 ° C.
  • TmetaB1 is defined as the peak top temperature in the crystal melting peak of 2ndRun.
  • TmB1-TmetaB1 More preferably, 50 ° C. ⁇ TmB1-TmetaB1 ⁇ 80 ° C., and still more preferably 55 ° C. ⁇ TmB1-TmetaB1 ⁇ 75 ° C. If TmB1-TmetaB1 exceeds 90 ° C, the residual stress at the time of stretching is insufficient, and as a result, the thermal shrinkage of the film becomes large, and it becomes difficult to bond in the bonding process when assembled in a solar cell. Even if they are pasted together, the solar cell system may be greatly warped when incorporated into a solar cell and used at high temperatures.
  • TmB1-TmetaB1 is less than 40 ° C., the orientation crystallinity is lowered and the hydrolysis resistance may be inferior.
  • TmetaB1 of the B1 layer constituting the B layer is preferably 160 ° C. or higher and TmB1-40 ° C. (where TmB1-40 ° C.> 160 ° C.). More preferably, it is 170 ° C.
  • TmB1-50 ° C. (where TmB1-50 ° C.> 170 ° C.), and more preferably TmetaB1 is 180 ° C. or higher and TmB1-55 ° C. (where TmB1-55 ° C.> 180 ° C.).
  • TmetaB1 is less than 160 ° C., the heat resistance of the film is low, and the durability as a back sheet may be lowered.
  • the melting point TmB1 of the B1 layer constituting the B layer is preferably 220 ° C. or higher in view of heat resistance, more preferably 240 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. It is.
  • the upper limit of the melting point TmB1 of the B1 layer is not particularly limited, but is preferably 300 ° C. or less in view of productivity.
  • the number of carboxylic acid terminal groups of the B1 layer constituting the B layer is preferably 20 equivalents / t or less, more preferably 15 equivalents / t or less, and still more preferably 13 equivalents / t. t or less, particularly preferably 10 equivalent / t or less. If it exceeds 15 equivalents / t, hydrolysis due to catalysis by protons of carboxylic acid end groups is promoted and deterioration tends to proceed.
  • the dicarboxylic acid component and the diol component are esterified and discharged when the melt viscosity reaches a predetermined melt viscosity.
  • Method 3) It can be obtained by a combination of a method of adding a buffering agent or a terminal blocking agent at the time of molding, and the like.
  • the polyester constituting the B1 layer preferably contains a buffering agent in an amount of 0.1 mol / t to 5.0 mol / t.
  • the buffer of the present invention is a substance that is soluble in the diol residue component of the polyester constituting the B1 layer, such as ethylene glycol, and dissociates after dissolution and exhibits ionicity.
  • the polyester constituting the B1 layer contains a buffering agent, whereby the initial number of carboxyl group terminals can be further reduced and hydrolysis reaction can be suppressed.
  • the neutralization of protons acting as a catalyst for the hydrolysis reaction at the end of the carboxyl group newly generated by the hydrolysis reaction can further suppress the hydrolysis reaction, thereby further suppressing the wet heat degradation of the polyester film. It becomes possible.
  • the buffering agent is preferably an alkali metal salt from the viewpoint of polymerization reactivity and heat and humidity resistance, for example, phthalic acid, citric acid, carbonic acid, lactic acid, tartaric acid, phosphoric acid, phosphorous acid, Mention may be made of alkali metal salts with compounds such as hypophosphorous acid and polyacrylic acid. Among them, potassium and sodium are preferable as alkali metal elements from the viewpoint of hardly generating precipitates due to catalyst residues.
  • sodium dihydrogen, sodium hydrogen phosphite, potassium hydrogen phosphite, sodium hypophosphite, potassium hypophosphite, and sodium polyacrylate examples thereof include sodium dihydrogen, sodium hydrogen phosphite, potassium hydrogen phosphite, sodium hypophosphite, potassium hypophosphite, and sodium polyacrylate.
  • an alkali metal salt represented by the following formula is preferable from the viewpoint of polymerization reactivity of the polyester constituting the B1 layer and heat resistance during melt molding, and the alkali metal is sodium and / or potassium.
  • the alkali metal is sodium and / or potassium.
  • phosphoric acid and sodium and / or potassium metal salts are particularly preferable in view of polymerization reactivity and heat and humidity resistance.
  • content of a buffering agent is 0.1 mol / t or more and 5.0 mol / t or less with respect to B1 layer which comprises B layer. More preferably, it is 0.3 mol / t or more and 3.0 mol / t. If it is less than 0.1 mol / t, sufficient heat and heat resistance cannot be obtained, and hydrolysis proceeds gradually during long-term use, causing deterioration of mechanical properties. If it exceeds 5.0 mol / t, the decomposition reaction is promoted by an excess alkali metal, so that the molecular weight is lowered, which causes the heat and humidity resistance and mechanical properties to be lowered.
  • the buffer may be added at the time of polymerization of the polyester constituting the B1 layer constituting the B layer, or may be added at the time of melt molding, but from the point of uniform dispersion of the buffer in the film, It is preferable to add.
  • the addition time may be any time as long as it is from the end of the esterification reaction or the transesterification reaction at the time of polymerization of the polyester to the beginning of the polycondensation reaction (inherent viscosity is less than 0.3).
  • powder may be added directly, or a solution dissolved in a diol component such as ethylene glycol may be adjusted and added. It is preferable to add as.
  • the polyester constituting the B1 layer preferably contains 0.1% by mass or more and 10% by mass of a terminal sealing agent.
  • end capping agent refers to a compound having a substituent capable of reacting with the terminal carboxyl group of the polyester. Examples of the substituent include a carbodiimide group, an epoxy group, and an oxazoline group. The compound which has is mentioned.
  • the carbodiimide compounds having a carbodiimide group include monofunctional carbodiimides and polyfunctional carbodiimides.
  • monofunctional carbodiimides include dicyclohexylcarbodiimide, diisopropylcarbodiimide, dimethylcarbodiimide, diisobutylcarbodiimide, dioctylcarbodiimide, t-butylisopropylcarbodiimide, and diphenylcarbodiimide. , Di-t-butylcarbodiimide, di- ⁇ -naphthylcarbodiimide, and the like.
  • dicyclohexylcarbodiimide and diisopropylcarbodiimide are particularly preferred.
  • the polyfunctional carbodiimide carbodiimide having a polymerization degree of 3 to 15 is preferable.
  • the epoxy compound include glycidyl ester compounds and glycidyl ether compounds.
  • glycidyl ester compounds include benzoic acid glycidyl ester, t-Bu-benzoic acid glycidyl ester, P-toluic acid glycidyl ester, cyclohexanecarboxylic acid glycidyl ester, pelargonic acid glycidyl ester, stearic acid glycidyl ester, lauric acid glycidyl ester , Glycidyl palmitate, glycidyl behenate, glycidyl versatate, glycidyl oleate, glycidyl linoleate, glycidyl linolein, glycidyl behenol, glycidyl stearol, diglycidyl terephthalate, isophthalic
  • glycidyl ether compound examples include phenyl glycidyl ether, O-phenyl glycidyl ether, 1,4-bis ( ⁇ , ⁇ -epoxypropoxy) butane, 1,6-bis ( ⁇ , ⁇ -epoxypropoxy).
  • the oxazoline compound is preferably a bisoxazoline compound, specifically, 2,2′-bis (2-oxazoline), 2,2′-bis (4-methyl-2-oxazoline), 2,2 ′.
  • -Bis (4,4-dimethyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4-ethyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4,4'-diethyl-2-oxazoline), 2 , 2'-bis (4-propyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4-butyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4-hexyl-2-oxazoline), 2,2 '-Bis (4-phenyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4-cyclohexyl-2-oxazoline), 2,2'-bis (4-benzyl-2-oxazoline), 2,2'- p-Phenylenebis (2-oxy Zoline), 2,2'-m-phenylenebis (2-ox
  • the content of the end-capping agent in the polyester constituting the B1 layer is more preferably in a range of 0.3% by mass to 8% by mass, and further 0.5.
  • the mass range is 5% by mass or more and 5% by mass or less, and a particularly preferred range is 0.5% by mass or more and 2% by mass or less.
  • Less than 0.1% by weight of the end-capping agent is not preferable because the effect of sealing the carboxyl group ends may not be exhibited. As a result, it may be difficult to form a film, or even if the film can be formed, the heat resistance of the obtained film may be reduced.
  • the terminal sealing agent in an amount of 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, the heat and moisture resistance can be improved without decreasing the heat resistance.
  • the nitrogen content in the B1 layer is 0.01% by mass or more and 0.5%. It is more preferable to add so that it may become mass% or less, and to form a film. More preferably, they are 0.05 mass% or more and 0.3 mass% or less, More preferably, they are 0.08 mass% or more and 0.2 mass% or less. If the nitrogen content is less than 0.01% by mass, the effect of sealing the carboxyl group terminal may not be exhibited, which is not preferable. If it is greater than 0.5% by mass, a large amount of foreign matter or decomposition gas is generated during film formation.
  • the heat resistance of the obtained film may be reduced.
  • the nitrogen content in the B1 layer is 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less, the heat and moisture resistance can be further improved without reducing the heat resistance. it can.
  • the B1 layer constituting the B layer is, as necessary, a heat stabilizer, an oxidation stabilizer, Contains additives such as UV absorbers, UV stabilizers, organic / inorganic lubricants, organic / inorganic fine particles, fillers, nucleating agents, dyes, dispersants, coupling agents, and bubbles. May be.
  • additives such as UV absorbers, UV stabilizers, organic / inorganic lubricants, organic / inorganic fine particles, fillers, nucleating agents, dyes, dispersants, coupling agents, and bubbles. May be.
  • the B1 layer in order to increase the power generation efficiency of the solar cell, it is preferable to cause the B1 layer to exhibit reflectivity, in which case organic / inorganic fine particles or bubbles may be included, and design properties are imparted. Therefore, in order to color, the material of the color to be colored may be added.
  • the base material layer (B layer) may be formed only of the B1 layer that satisfies the above-mentioned requirements, and has a laminated structure with another layer (B2 layer). It doesn't matter.
  • the thickness of the film is preferably 10 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less, and more preferably 20 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less. More preferably, they are 25 micrometers or more and 200 micrometers or less. When the thickness is less than 10 ⁇ m, it is difficult to ensure the flatness of the film. On the other hand, when it is thicker than 500 ⁇ m, the thickness may be too large when used for a solar cell.
  • the thickness of B1 layer is 20% or more with respect to the thickness of the whole B layer. Is preferable, more preferably 30% or more, still more preferably 50% or more. If it is less than 20%, the heat and moisture resistance may be inferior.
  • the base material layer (B layer) has an A layer, other sheet materials, and an adhesive for improving the adhesion with ethylene vinyl acetate embedding the power generation element.
  • Layers with additional functions such as an easy-adhesion layer, a hard coat layer for improving impact resistance, an ultraviolet resistant layer for having ultraviolet resistance, and a flame retardant layer for imparting flame resistance (C layer) ) May be provided.
  • the B1 layer and / or the B2 layer constituting the base material layer (B layer) contain bubbles.
  • the bubble content is preferably 10% by volume or more, more preferably 20% by volume or more, and still more preferably 30% by volume or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but when it is 80% by volume or more, the film is easily cleaved, and thereby the mechanical strength of the backsheet film may be lowered.
  • the manufacturing method of the raw material which comprises a base material layer (B layer) can be manufactured with the following method in the case of a polyester-type resin.
  • the resin as the raw material is malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, suberic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, dimer acid, eicosandioic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as pimelic acid, azelaic acid, methylmalonic acid and ethylmalonic acid, adamantane dicarboxylic acid, norbornene dicarboxylic acid, isosorbide, cyclohexanedicarboxylic acid, decalin dicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid Acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldica
  • Diols such as aromatic diols such as alicyclic diols, bisphenol A, 1,3-benzenedimethanol, 1,4-benzenedimethanol, 9,9'-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene
  • reaction catalysts include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, zinc compounds, lead compounds, manganese compounds, cobalt compounds, aluminum compounds, antimony compounds, titanium compounds, and phosphorus compounds.
  • an antimony compound, a germanium compound, or a titanium compound is preferably added as a polymerization catalyst at an arbitrary stage before the polyester resin production method is completed.
  • a germanium compound is taken as an example, it is preferable to add the germanium compound powder as it is.
  • the germanium compound powder As such a method, for example, when a germanium compound is taken as an example, it is preferable to add the germanium compound powder as it is.
  • the antimony element and germanium element are preferably 50 ppm to 300 ppm in terms of polycondensation reactivity and solid phase polymerization reactivity, and more preferably 50 or more. It is preferable that it is 200 ppm or less from the point of heat resistance and heat-and-moisture resistance.
  • the polycondensation reactivity and the solid-phase polymerization reactivity are improved, but the decomposition reaction at the time of remelting is also promoted, so that the carboxylic acid end groups are increased, leading to a decrease in heat resistance and moist heat resistance Sometimes.
  • the antimony compound and the germanium compound that are preferably used include antimony pentoxide, antimony trioxide, and germanium dioxide, which can be used according to the purpose.
  • the best color tone is the germanium compound
  • the solid-phase polymerization reactivity is the antimony compound.
  • the titanium catalyst is polycondensed when manufactured in a non-antimony system. This is preferable in that the reactivity of the reaction and solid phase polymerization is improved.
  • the titanium element is preferably 0.1 ppm or more and 20 ppm or less from the viewpoint of polycondensation reactivity and solid phase polymerization reactivity. If the amount of titanium element exceeds 20 ppm, the polycondensation reactivity and the solid-phase polymerization reactivity are improved, but this may cause a decrease in heat resistance, moist heat resistance and color tone.
  • the titanium catalyst used as the polycondensation catalyst include alkoxides such as tetrabutoxy titanate and tetraisopropyl titanate, and titanium chelate compounds of titanium and lactic acid, citric acid, etc. Among them, titanium chelate compounds Is preferable from the viewpoint of heat resistance, heat and humidity resistance, and color tone.
  • buffering agents include potassium hydrogen phthalate, disodium hydrogen citrate, sodium dihydrogen citrate, potassium dihydrogen citrate, dipotassium hydrogen citrate, sodium carbonate, sodium tartrate, tartaric acid
  • a non-phosphorus buffer such as potassium, sodium lactate, potassium lactate, or sodium hydrogen carbonate is preferred in terms of improving heat and moisture resistance without impairing polycondensation reactivity and solid phase polymerization reactivity.
  • the polycondensation reactivity and the solid-state polymerization reactivity can be improved by adding the buffering agent 5 minutes or more before the titanium compound is added or after 5 minutes or more. It is preferable for improving the heat and humidity resistance without damaging the film.
  • POxHyMz (I) (Where x is an integer of 2 to 4, y is 1 or 2, z is 1 or 2, and M is an alkali metal).
  • esterification reaction and polycondensation reaction can be carried out by conventional methods, and phosphoric acid or phosphorous is used as a heat stabilizer between the end of the esterification reaction and the beginning of the polycondensation reaction (inherent viscosity is less than 0.3). It is preferable to add an antimony compound, a germanium compound, or a titanium compound as an acid ester and a polycondensation catalyst, respectively. Moreover, when adding a buffering agent in a superposition
  • a master chip prepared by uniformly melting and kneading and mixing in advance may be used, or it may be directly supplied to a kneading extruder.
  • a master batch that has been pre-melted and kneaded using a twin-screw extruder, or to form a film directly after melt-kneading using a twin-screw extruder. It is preferable from the viewpoint of dispersibility of the stopper.
  • the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is 190 ° C or more. It is preferable to use as a raw material a so-called solid-phase polymerized chip that is heated at a temperature lower than the melting point under reduced pressure or an inert gas such as nitrogen gas.
  • 190 A method of heating at a temperature not lower than the melting point of the thermoplastic resin at a temperature lower than the melting point of the thermoplastic resin under reduced pressure or a flow of an inert gas such as nitrogen gas, so-called solid-phase polymerization, and extruding with a short residence time in a nitrogen atmosphere is preferable.
  • This method is preferably performed in that the mass average molecular weight and the number average molecular weight can be increased without increasing the terminal carboxyl group amount of the thermoplastic resin.
  • the manufacturing method of the base material layer is such that when the B layer has a single film configuration consisting of only the B1 layer, the raw material for the B1 layer is heated and melted in an extruder and extruded onto a cast drum cooled from the die.
  • a method of processing into a sheet can be used.
  • the raw material for the B1 layer is dissolved in a solvent, and the solution is extruded from a die onto a support such as a cast drum or an endless belt to form a film, and then the solvent is dried and removed from the film layer.
  • a method of processing into a shape (solution casting method) or the like can also be used.
  • the manufacturing method in the case where the B layer has a laminated structure including the B1 layer is as follows.
  • the material of each layer to be laminated is mainly composed of a thermoplastic resin
  • two different thermoplastic resins are put into two extruders, melted and coextruded on a cast drum cooled from a die, and formed into a sheet shape.
  • thermo laminating method Method of processing (coextrusion method), method of laminating coating layer raw material into a sheet made of a single film into an extruder, melting extrusion and extruding from the die (melt laminating method), and material laminated with B1 layer, respectively Separately prepared, heat-pressed with a heated group of rolls (thermal laminating method), pasted via an adhesive (adhesive method), and other materials for forming the material to be laminated are dissolved in a solvent,
  • the method (coating method) which apply
  • the B1 layer and the material to be laminated are separately produced and bonded together with an adhesive or the like (adhesion method), or in the case of a curable material, the B1 layer
  • an adhesive or the like adhesive or the like
  • the B1 layer The method of hardening by electromagnetic wave irradiation, heat processing, etc. after apply
  • a uniaxial or biaxially stretched film substrate is selected as the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer
  • a manufacturing method thereof first, an extruder (in the case of a laminated structure) Feeds raw materials into multiple extruders), melts and extrudes from the die (co-extrusion in the case of a laminated structure), and adheres by static electricity on a cooled surface temperature of 10 ° C to 60 ° C Cool and solidify to produce an unstretched film.
  • This unstretched film is led to a group of rolls heated to a temperature of 70 ° C. or higher and 140 ° C. or lower, stretched 3 to 5 times in the longitudinal direction (longitudinal direction, that is, the film traveling direction), and 20 to 50 ° C. Cool with a roll group at the following temperature.
  • the both ends of the film are guided to a tenter while being gripped by clips, and in an atmosphere heated to a temperature of 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, the direction perpendicular to the longitudinal direction (width direction) is 3 to 5 times.
  • the stretching ratio is 3 to 5 times in each of the longitudinal direction and the width direction, and the area ratio (vertical stretching ratio ⁇ lateral stretching ratio) is preferably 9 to 16 times.
  • the area magnification is less than 9 times, the obtained biaxially stretched film has insufficient film strength and heat-and-moisture resistance. Conversely, when the area magnification exceeds 16 times, the film tends to be broken during stretching.
  • the biaxial stretching method in addition to the sequential biaxial stretching method in which the stretching in the longitudinal direction and the width direction is separated as described above, the simultaneous biaxial stretching method in which the stretching in the longitudinal direction and the width direction is performed simultaneously. Either one does not matter.
  • the heat treatment temperature Ts of the solar cell backsheet film of the present invention is preferably 40 ° C.
  • the heat treatment temperature Ts is 50 ° C. ⁇ TmB1-Ts ⁇ 80 ° C., and more preferably 55 ° C. ⁇ TmB1-Ts ⁇ 75 ° C.
  • the solar cell backsheet film of the present invention is used as a solar cell backsheet, but since the ambient temperature may rise to about 100 ° C. during use, the heat treatment temperature Ts is 160 ° C. or higher TmB1- It is preferably 40 ° C. (where TmB1-40 ° C.> 160 ° C.) or lower. More preferably, it is 170 ° C. or more and TmB1-50 ° C.
  • TmB1-50 ° C.> 170 ° C. and more preferably Ts is 180 ° C. or more and TmB1-55 ° C. (where TmB1-55 ° C.> 180 ° C.).
  • TmetaB1 can be controlled by controlling Ts.
  • a relaxation treatment of 3 to 12% may be performed in the width direction or the longitudinal direction as necessary.
  • the substrate layer of the film for a solar battery backsheet of the present invention can be formed by performing a corona discharge treatment or the like in order to further enhance the adhesion with other materials and winding up.
  • a dry method such as a vapor deposition method or a sputtering method, a wet method such as a plating method, or a plurality of extruders.
  • a method of co-extruding the raw material for the B layer and the raw material for the A layer in separate extruders and co-extruding them onto a cast drum cooled from the die (co-extrusion method), with a single film
  • a method of laminating the raw material for the layer A into the produced base material layer (B layer) in an extruder, melt extrusion and extruding from the die (melt laminating method), the base material layer (layer B) and the layer A separately.
  • a method of thermocompression bonding with a heated roll group thermocompression bonding with a heated roll group (thermal laminating method), a method of pasting together with an adhesive (adhesion method), and the like.
  • Method of applying on the base material layer (B layer) that has been prepared ( Computing method), and a method in which a combination of these can be used.
  • the A layer is mainly composed of an organic material or an organic / inorganic composite conductive material
  • the above-described i) a non-conductive water-insoluble resin is used as a matrix, and an inorganic material is used as a conductive material.
  • a conductive material ii) When an organic conductive material and an inorganic conductive material are used in combination, iii) When an inorganic nonconductive material is used in combination with an organic conductive material, these are described above.
  • a coextrusion method and a coating method which are easy to form the formed A layer, are more preferable forming methods.
  • a plurality of extruders are used for the B layer and / or for the B1 layer constituting the B layer, for the A layer.
  • the raw materials are melted in different extruders and co-extruded from the die, and the B layer and / or the B layer are formed by static adhesion and solidification by static electricity on a drum cooled to a surface temperature of 10 ° C. or higher and 60 ° C. or lower.
  • a sheet in which the A layer is formed on the B1 layer can be obtained.
  • the above-mentioned A layer raw material and base material layer (B layer) It can obtain by extending
  • the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer is used as a method of forming the A layer on the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer by a coating method.
  • In-line coating method to be applied during film formation and off-line coating method to be applied to the base material layer (B layer) and / or B1 layer constituting the B layer after film formation can be used.
  • the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer can be formed simultaneously and efficiently, and the A layer base layer (B layer) and / or B layer
  • the in-line coating method is preferably used because of its high adhesiveness to the B1 layer constituting the material.
  • corona treatment or the like may be applied to the surface of the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer from the viewpoint of improving the wettability of the coating solution on the support and improving the adhesive strength. Preferably done.
  • a coating in which the material constituting the A layer is dissolved / dispersed in a solvent is used.
  • a means for applying and drying the liquid on the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer is preferably used.
  • the solvent to be used is arbitrary, but in the in-line coating method, it is preferable to use water as a main component from the viewpoint of safety. In that case, a small amount of an organic solvent that dissolves in water may be added in order to improve applicability and solubility.
  • the deposition method and sputtering are easy to control the formed A layer and have excellent adhesion to the substrate and uniformity.
  • a dry method such as a method is a more preferable forming method.
  • the method of forming the A layer by a dry method includes resistance heating evaporation, electron beam evaporation, induction heating evaporation, and vacuum such as an assist method using plasma or ion beam.
  • the chemical vapor deposition method (CVD method) etc. which were made.
  • the material forming the A layer is mainly composed of inorganic oxide, inorganic nitride, inorganic oxynitride, inorganic halide, inorganic sulfide, etc.
  • the same material as the composition of the A layer to be formed Can be directly volatilized and deposited on the surface of the base layer (B layer) and / or the B1 layer constituting the B layer, but when this method is used, the composition changes during volatilization, As a result, the formed film may not exhibit uniform characteristics.
  • a material having the same composition as the A layer formed as a volatilization source is used, oxygen gas in the case of inorganic oxide, nitrogen gas in the case of inorganic nitride, oxygen gas and nitrogen in the case of inorganic oxynitride
  • an inorganic group As a volatile source Volatilize this After forming the inorganic group layer, it is an oxygen gas atmosphere in the case of inorganic oxide, a nitrogen gas atmosphere in the case of inorganic nitride, and a mixed gas of oxygen gas and nitrogen gas in the case of inorganic oxynitride.
  • the atmosphere in the case of an inorganic halide, it is possible to react the introduced inorganic layer with the introduced gas by holding it in a halogen-based gas atmosphere, and in the case of an inorganic sulfide, in a sulfur-based gas atmosphere.
  • 2) or 3) is more preferably used because it is easy to volatilize from a volatile source.
  • the method 2) is more preferably used because the film quality can be easily controlled.
  • the inorganic group is used as a volatilization source, volatilized to form an inorganic group layer, and then left in the air to naturally oxidize the inorganic group.
  • the method is also preferably used because it can be easily formed.
  • the surface specific resistance R0 of the A surface of the A layer can be adjusted by the degree of reaction by gas.
  • the degree of reaction can be adjusted by the flow rate, temperature, etc. of the introduced gas.
  • the degree of reaction is small, the surface specific resistance R0 is low, and when the degree of reaction is large, the surface specific resistance R0 is high.
  • the optimum conditions vary depending on the metal species used, the gas to be reacted, the apparatus, etc., but may be formed by adjusting the conditions so that the surface specific resistance R0 satisfies the above requirements.
  • the degree of vacuum in the system when the pressure is reduced before volatilization.
  • the degree of vacuum in the system it is possible to form an A layer that is dense and has few defects, and the A layer can be formed uniformly.
  • the layer A has a laminated structure
  • an apparatus including a plurality of volatilization sources is used, and after the first layer is formed, the volatilization source is changed to form the second layer and the third layer.
  • the flow rate of the introduced gas and / or the type of introduced gas after the first layer is formed May be changed to form the second layer, the third layer,...
  • the above-described production method depends on the type, composition, etc. of the material used. It can be formed by appropriately selecting from among them.
  • the film for solar battery backsheet of the present invention can be formed by the above-mentioned process, and the obtained film is characterized by having a high partial discharge voltage even if it is thinner than the conventional film.
  • the solar cell backsheet of the present invention is characterized by including the above-mentioned film for solar cell backsheet. Even if the solar cell backsheet film of the present invention is thinner than a conventional film, the backsheet can be made thinner because the partial discharge voltage is high.
  • the configuration of the solar cell backsheet of the present invention can be any configuration as long as the above-described solar cell backsheet is used, and adhesion with EVA that seals the power generation element on the solar cell backsheet of the present invention.
  • EVA adhesion layer for improving the adhesion anchor layer for increasing adhesion with the EVA adhesion layer, water vapor barrier layer, ultraviolet absorbing layer for preventing ultraviolet deterioration, light reflecting layer for enhancing power generation efficiency, and design characteristics
  • the solar cell backsheet of the present invention is formed by forming a light absorbing layer for the purpose, an adhesive layer for adhering each layer, and the like.
  • the EVA adhesion layer is a layer that improves adhesion with the EVA resin that seals the power generation element, and is installed on the side closest to the power generation element, and contributes to adhesion between the backsheet and the system.
  • the material is not particularly limited as long as adhesion to EVA resin is expressed.
  • EVA EVA
  • EVA and ethylene-methyl acrylate copolymer EMA
  • EAA ethylene-ethyl acrylate copolymer
  • EBA ethylene-ethyl acrylate copolymer
  • EBA ethylene-methacrylic acid copolymer
  • ionomer resin polyester resin, urethane resin, acrylic resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin or the like is preferably used.
  • an anchor layer is preferably formed in order to improve the adhesion of the EVA adhesion layer to the back sheet as required.
  • the material is not particularly limited as long as adhesion to the EVA adhesion layer is expressed, and for example, a mixture containing a resin as a main constituent such as an acrylic resin or a polyester resin is preferably used.
  • the water vapor barrier layer is a layer for preventing water vapor from entering from the back sheet side in order to prevent water vapor deterioration of the power generation element when the solar cell is constituted. It is formed by providing an oxide such as silicon oxide or aluminum oxide or a metal layer such as aluminum on the film surface by a known method such as vacuum deposition or sputtering. The thickness is preferably in the range of usually 100 angstroms or more and 200 angstroms or less.
  • both the case where the gas barrier layer is directly provided on the film for solar cell backsheet of the present invention and the case where gas barrier property is provided on another film and this film is laminated on the film surface of the present invention are preferably used.
  • stacking metal foil (for example, aluminum foil) on the film surface can also be used.
  • the thickness of the metal foil is preferably in the range of 10 ⁇ m to 50 ⁇ m from the viewpoint of workability and gas barrier properties.
  • the ultraviolet absorbing layer is a layer for blocking ultraviolet rays in order to prevent ultraviolet deterioration of the resin in the inner layer, and any layer can be used as long as it has a function of blocking ultraviolet rays of 380 nm or less.
  • the light reflecting layer is a layer that reflects light, and by forming this layer, the inner layer resin is prevented from UV degradation, or the light that reaches the back sheet without being absorbed by the solar cell system is reflected.
  • This layer is used to increase the power generation efficiency by returning to the system side, and is a layer containing white pigments such as titanium oxide and barium sulfate, or bubbles.
  • the light absorbing layer is a layer that absorbs light, and is a layer that is used to prevent UV deterioration of the resin in the inner layer or improve the design of the solar cell by forming this layer.
  • the solar cell back sheet of the present invention is formed by combining the above layers and the film of the present invention.
  • the solar battery backsheet of the present invention it is not necessary to form all of the above layers as independent layers, and it is also a preferred form to form a function integration layer having a plurality of functions.
  • it already has a function in the film for solar cell backsheets of this invention it is also omissible.
  • the backsheet film of the present invention contains a white pigment or bubbles and has light reflectivity, the light reflection layer is used.
  • the backsheet film contains a light absorber and has light absorbency, the absorption layer is used. In the case of having an ultraviolet absorber, the ultraviolet absorbing layer may be omitted.
  • the gas barrier layer any of the case where the gas barrier layer is directly provided on the film of the present invention and the case where a layer having gas barrier properties is provided on another film and this film is laminated on the surface of the polyester film of the present invention are preferably used.
  • stacking metal foil for example, aluminum foil
  • the thickness of the metal foil is preferably in the range of 10 ⁇ m to 50 ⁇ m from the viewpoint of workability and gas barrier properties.
  • the solar cell backsheet of the present invention has a higher partial discharge voltage than that of a conventional film, and when this is used to form a backsheet, the partial discharge voltage can be increased as compared to a conventional backsheet. It becomes.
  • both surface layers of the solar cell backsheet may be formed of layers other than the film of the present invention, or at least one surface layer may be formed of the film of the present invention.
  • the partial discharge voltage is higher than that of the conventional film, the safety of the solar battery backsheet can be improved and the thickness can be reduced.
  • At least one side surface of the solar cell backsheet is a backsheet having a surface having a surface specific resistance R0 of 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 10 14 ⁇ / ⁇ or less (hereinafter referred to as A1 surface). It is more preferable that the A1 surface is the A surface of the film for a solar battery backsheet of the present invention because the partial discharge voltage can be further increased. Furthermore, it is preferable that at least one surface is configured to be the A surface of the film for solar cell backsheet of the present invention.
  • the partial discharge voltage can be made higher than in the configuration having the A surface inside the back sheet, and as a result, the electric resistance characteristics of the solar cell back sheet can be increased, or the thickness of the back sheet can be increased. It is possible to make the thickness thinner.
  • the surface specific resistance R3 on the surface opposite to the A1 surface is preferably 10 14 ⁇ / ⁇ or more.
  • the film for solar cell backsheet of the present invention is incorporated into a solar cell system, it is more durable that the surface on the opposite side of the resin layer sealing the power generating element is the A1 layer. Or a preferable configuration from the viewpoint that the thickness can be reduced.
  • the surface specific resistance R3 of the surface opposite to the A1 surface of the solar cell backsheet of the present invention is 10 14 ⁇ / ⁇ or more
  • the electrical resistance characteristics of the solar cell backsheet may be deteriorated or lead This is because when the electrical energy is extracted from the wire, the extraction efficiency may decrease and the power generation efficiency may decrease.
  • the thickness of the solar cell backsheet of the present invention is preferably 20 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less, and more preferably 25 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less. More preferably, they are 30 micrometers or more and 200 micrometers or less. When the thickness is less than 10 ⁇ m, it is difficult to ensure the flatness of the film. On the other hand, when it is thicker than 500 ⁇ m, when it is mounted on a solar cell, the thickness of the solar cell may become too large.
  • the solar cell of the present invention includes the solar cell backsheet of the present invention.
  • the solar cell backsheet of the present invention can be made more durable or thinner than the conventional solar cell by taking advantage of the feature that the partial discharge voltage is higher than that of the conventional backsheet.
  • the transparent substrate 4 in FIG. 1 is located on the outermost layer of the solar cell, a transparent material having high weather resistance, high contamination resistance, and high mechanical strength characteristics in addition to high transmittance is used.
  • any material can be used for the light-transmitting substrate 4 as long as the above characteristics are satisfied.
  • Examples include glass, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETFE), polyvinyl fluoride resin (PVF), polyvinylidene fluoride resin (PVDF), polytetrafluoroethylene resin (TFE), tetrafluoroethylene-
  • fluorinated resins such as hexafluoropropylene copolymer (FEP), polytrifluoroethylene chloride resin (CTFE), and polyvinylidene fluoride resin, olefin resins, acrylic resins, and mixtures thereof.
  • FEP hexafluoropropylene copolymer
  • CTFE polytrifluoroethylene chloride resin
  • the resin may be uniaxially or biaxially stretched, and on the surface of the substrate, corona treatment, plasma treatment, ozone treatment, Easy adhesion treatment may be performed.
  • the resin 2 for sealing the power generation element has a function of protecting the power generation element from the external environment, and having a function of adhering to the power generation element and the base material or back sheet having electrical insulation and translucency.
  • Ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) ethylene-methyl acrylate copolymer (EMA), ethylene-ethyl acrylate copolymer (EEA) resin, ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA), ionomer resin, polyvinyl butyral Resins, and mixtures thereof can be given as typical examples.
  • the above-described solar cell backsheet 1 is installed on the back surface of the resin layer 2 encapsulating the power generating element, and the above-described solar cell backsheet is configured to have an A1 surface.
  • the A1 surface may be disposed so as to be on the resin layer 2 side (5 in FIG. 1), or may be disposed on the opposite side to the resin layer 2 (6 in FIG. 1). .
  • the solar cell backsheet of the present invention has a higher partial discharge voltage even if it is thinner than the conventional one, so that the durability of the solar cell system can be increased or the thickness can be reduced. .
  • the A1 surface of the above-described solar battery backsheet be on the side opposite to the resin layer (6 in FIG. 1).
  • the A1 surface of the above-described solar battery backsheet be on the side opposite to the resin layer (6 in FIG. 1).
  • the solar cell of the present invention is not limited to outdoor use and indoor use, such as a solar power generation system and a power source for small electronic components, and can be suitably used for various uses.
  • the surface specific resistance R1 is obtained by subjecting the film to a pressure cooker manufactured by Tabai Espec Co., Ltd. for 24 hours under the conditions of a temperature of 125 ° C. and a humidity of 100% RH. It was measured by the same method. In addition, the measurement was carried out at 10 arbitrary positions in the film plane, and the surface specific resistance R1 was determined by the average value. Moreover, after taking out from the pressure cooker after a process, the measurement sample was measured using what was left overnight in a room with a temperature of 23 ° C. and a humidity of 65% RH.
  • breaking elongation is measured by cutting a sample into a size of 1 cm ⁇ 20 cm and pulling it at 5 cm between chucks and at a pulling speed of 300 mm / min. The degree was measured. In addition, the measurement was performed about 5 samples, and it was set as the breaking elongation E0 with the average value. Next, after cutting the sample into the shape of the measurement piece (1 cm ⁇ 20 cm), the sample was subjected to treatment for 24 hours at 125 ° C. and 100% humidity using a pressure cooker manufactured by Tabai Espec Co., Ltd.
  • elongation retention is 70% or more: S When the elongation retention is 60% or more and less than 70%: A Elongation retention is 50% or more and less than 60%: B Elongation retention is less than 50%: C S or A or B is good, and S is the best.
  • Mass average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn) The gel permeation chromatograph GCP-244 (manufactured by WATERS) equipped with two Shodex HFIP 806M (manufactured by Showa Denko KK) as the column and RI type (2414 type, sensitivity 256, manufactured by WATERS) as the detector is used. Then, GPC measurement was performed using PET-DMT (standard product) at room temperature (23 ° C.) and a flow rate of 0.5 mL / min. Using the obtained elution volume (V) and molecular weight (M), the coefficient (A 1 ) of the third-order approximate expression of the following formula (2) was calculated to draw a calibration curve.
  • Mass average molecular weight (Mw) ⁇ (Ni ⁇ Mi 2 ) / ⁇ (Ni ⁇ Mi) (3) Moreover, the number average molecular weight was calculated
  • Number average molecular weight (Mn) ⁇ Ni ⁇ Mi / ⁇ Ni (4) (Here, Ni is the molar fraction, and Mi is the molecular weight of each elution position of the GPC curve obtained via the molecular weight calibration curve.)
  • the base material layer (B layer) was laminated structure, it measured using the sample which peeled another layer or grind
  • TmetaB1 was the endothermic peak temperature before the crystal melting peak
  • TmB1 of the B1 layer was the peak top temperature of the 2ndRun crystal melting peak.
  • the partial discharge voltage was determined using a partial discharge tester KPD2050 (manufactured by Kikusui Electronics Co., Ltd.).
  • the test conditions are as follows.
  • the output voltage application pattern on the output sheet is a pattern in which the first stage simply increases the voltage from 0 V to a predetermined test voltage, the second stage is a pattern that maintains a predetermined test voltage, and the third stage is a predetermined test A pattern composed of three stages of patterns in which the voltage is simply dropped from 0 to 0 V is selected.
  • the frequency is 50 Hz.
  • the test voltage is 1 kV.
  • the first stage time T1 is 10 sec
  • the second stage time T2 is 2 sec
  • the third stage time T3 is 10 sec.
  • the counting method on the pulse count sheet is “+” (plus), and the detection level is 50%. -The amount of charge in the range sheet shall be 1000 pc. ⁇ In the protection sheet, enter 2 kV after checking the voltage check box. The pulse count is 100,000. In the measurement mode, the start voltage is 1.0 pc and the extinction voltage is 1.0 pc. In addition, the measurement is performed when the A side is the upper electrode side, and when the A side is the lower electrode side, the measurement is carried out at any 10 locations in the film plane for each, and the average value is obtained. The partial discharge voltage V0 was determined by the higher value of the average values of the above. The measurement was performed using a measurement sample that was left overnight in a room at 23 ° C. and 65% RH.
  • the partial discharge voltage V1 after the wet heat treatment was processed for 24 hours under a condition of a temperature of 125 ° C. and a humidity of 100% RH using a pressure cooker manufactured by Tabai Espec Co., Ltd., and then the partial discharge voltage V1 after the treatment. was measured.
  • the measurement is performed when the A side is the upper electrode side, and when the A side is the lower electrode side, the measurement is carried out at any 10 locations in the film plane for each, and the average value is obtained.
  • the partial discharge voltage V ⁇ b> 1 was determined by the higher value of the average values.
  • the measurement sample was measured using what was left overnight in a room with a temperature of 23 ° C.
  • the partial discharge voltage V2 after the light resistance (UV) test was obtained by using a film with an ultraviolet deterioration accelerating tester iSuper UV Tester SUV-W131 (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) for 24 hours (illuminance: 100 mW / cm 2).
  • Temperature and humidity: 60 ° C. ⁇ 50% RH) were subjected to an ultraviolet irradiation test for 4 hours, and the partial discharge voltage V2 after the treatment was measured.
  • the measurement was carried out at 10 arbitrary locations within the film surface, and the measurement sample was taken out from the ultraviolet ray accelerating tester after processing and then left overnight in a room at a temperature of 23 ° C.
  • Bubble content rate It was determined by the following procedures (A1) to (A5). In addition, the measurement was carried out by changing the location at 10 locations, and the average value was used as the bubble content of the bubble-containing layer.
  • A1 Using a microtome, the film is cut perpendicularly to the film surface direction without crushing the film cross section in the thickness direction.
  • A2) Next, the cut section is observed using an electron microscope, and an image magnified 2000 times is obtained. The observation location is determined randomly within the bubble-containing layer, but the vertical direction of the image is parallel to the film thickness direction and the horizontal direction of the image is parallel to the film surface direction.
  • A3 The area of the bubble-containing layer in the image obtained in (A2) is measured, and this is A.
  • the area of all the bubbles present in the bubble-containing layer in the image is measured, and the total area is B.
  • the measurement target is not limited to the bubbles that are entirely contained in the image, but includes bubbles that are only partially displayed in the image.
  • the bubble content (% by volume) of the bubble-containing layer was calculated by dividing B by A (B / A) and multiplying it by 100.
  • Conductive material for forming A layer by coating method
  • Conductive material a-1: Water dispersion of water-insoluble cationic conductive material: “BONDEIP-PM (registered trademark)” main agent (manufactured by Konishi Oil & Fat Co., Ltd., solid content 30%)
  • c) c-1 Oxazoline group-containing compound aqueous dispersion: “Epocross (registered trademark)” WS-500 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., solid content 40%)
  • c-2 Epoxy crosslinking agent: Polyglycerol polyglycidyl ether epoxy crosslinking agent EX-512 (molecular weight about 630) (manufactured by Nagase ChemteX Corporation) ⁇ Surfactant (d) d-1: Acetylene diol-based surfactant
  • Example 1-1 As a first step, 100 parts by mass of dimethyl terephthalate, 57.5 parts by mass of ethylene glycol, 0.06 parts by mass of magnesium acetate, 0.03 parts by mass of antimony trioxide are melted at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then stirred. The temperature was raised to 230 ° C. over 3 hours, methanol was distilled off, and the transesterification reaction was completed.
  • the polymerization reaction was carried out at a final temperature of 285 ° C. and a vacuum of 0.1 Torr to obtain a polyester having an intrinsic viscosity of 0.54.
  • the obtained polyethylene terephthalate was dried and crystallized at 160 ° C. for 6 hours, and then subjected to solid state polymerization at 220 ° C. and a vacuum degree of 0.3 Torr for 8 hours to obtain a polyester having an intrinsic viscosity of 0.81. Obtained.
  • the unstretched single layer film was preheated with a roll group heated to a temperature of 90 ° C., and then stretched 3.3 times in the longitudinal direction (longitudinal direction) using a heating roll having a temperature of 95 ° C.
  • a uniaxially stretched film was obtained by cooling with a roll group at a temperature of ° C.
  • the following coating agent 1-1 was applied with a # 6 metering bar.
  • Conductive material 18 parts by weight of a-1
  • Binder resin 3 parts by weight of b-1
  • Crosslinking agent 0.75 part by weight of c-1
  • Surfactant 0.1 part by weight of d-1 Water 78. 15 parts by weight.
  • the film was wound up to obtain a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m in which the A layer was formed with a film thickness of 0.15 ⁇ m.
  • Mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of surface A, surface specific resistance of surface opposite to surface A, elongation at break, partial discharge voltage, heat shrinkage rate, after wet heat treatment The surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. It was found that each characteristic was excellent.
  • the second layer is 125 ⁇ m thick biaxially stretched polyester film “Lumirror (registered trademark)” S10 (manufactured by Toray Industries, Inc., surface resistivity is 4.5 ⁇ 10 15 ⁇ / both on both sides) ⁇ ).
  • HGTS alumina-deposited PET film manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.
  • HGTS alumina-deposited PET film manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.
  • a back sheet having a thickness of 188 ⁇ m was formed.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. All showed high partial discharge voltage, and it turned out that a higher partial discharge voltage is shown especially when A surface is formed in the outer side.
  • Example 1-2 to 1-3 A layer having a film thickness of 0.15 ⁇ m was formed on the surface in the same manner as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-2 and coating agent 1-3 were used as the coating agent for forming the A layer.
  • a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • Conductive material 16 parts by weight of a-1
  • Binder resin 6 parts by weight of b-1
  • Crosslinking agent 1.25 parts by weight of c-1
  • Surfactant 0.1 part by weight of d-1 Water 76.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, all showed a high partial discharge voltage, and in particular, when the A surface was formed outside, it was found that a higher partial discharge voltage was shown.
  • Example 1-4 and 1-5) Except for using the following coating agent 1-4 and coating agent 1-5 as the coating agent for forming the A layer, respectively, the A layer on the surface had a thickness of 0.15 ⁇ m in the same manner as in Example 1-1.
  • b-1 Crosslinker: c-1 3.75 parts by weight
  • Surfactant d-1 0.1 parts by weight Water 71. 15 parts by weight.
  • Example 1-1 Although it was inferior to Examples 1-1 to 1-3, it showed a high partial discharge voltage and was found to be excellent in each characteristic. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that all of them showed a high partial discharge voltage, although inferior to Examples 1-1 to 1-3, and in particular, when the A surface was formed on the outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-6 Biaxial stretching with a thickness of 50 ⁇ m in which the A layer was formed on the surface with a thickness of 0.03 ⁇ m by the same method as in Example 1-1, except that the coating agent 1-6 below was used as the coating agent for forming the A layer.
  • a film was obtained.
  • Conductive material 50 parts by weight of a-2
  • Binder resin 2 parts by weight of b-2
  • Crosslinking agent 0.2 parts by weight of c-2
  • Surfactant 0.1 parts by weight of d-1 Water 47.
  • Example 1--7 A 50 ⁇ m thick biaxially formed A layer having a thickness of 0.03 ⁇ m on the surface in the same manner as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-7 was used as the coating agent for forming the A layer A stretched film was obtained.
  • Example 1-8 A biaxially stretched film having a thickness of 125 ⁇ m in which an A layer was formed to a thickness of 0.15 ⁇ m on the surface was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the film thickness was 125 ⁇ m.
  • a backsheet was prepared in the same manner as in Example 1-1, except that a biaxially stretched polyester film “Lumirror (registered trademark)” S10 (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 50 ⁇ m was used as the second layer. Formed. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. All of them showed a high partial discharge voltage although inferior to Example 1-1, and in particular, when the A surface was formed outside, it was found that a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • a biaxially stretched polyester film “Lumirror (registered trademark)” S10 manufactured by Toray Industries, Inc.
  • Example 1-9 A biaxially stretched film having a thickness of 188 ⁇ m having an A layer formed on the surface with a film thickness of 0.15 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the film thickness was 188 ⁇ m.
  • this film was set in an electron beam vapor deposition apparatus, alumina was used as the volatilization source, the degree of vacuum was 3.4 ⁇ 10 ⁇ 5 Pa, the vapor deposition rate was 10 ⁇ / sec, the vapor deposition source-base material Under the condition of a distance of 25 cm, alumina was electron beam evaporated from the normal direction of the film surface to form a second layer made of alumina having a thickness of 0.2 ⁇ m.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, all showed a high partial discharge voltage, and in particular, when the A surface was formed outside, it was found that a higher partial discharge voltage was shown.
  • Example 1-10 A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m and having a layer A of 0.15 ⁇ m formed on the surface in the same manner as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-10 was used as the coating agent for forming the A layer Got.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. Similar to Example 1-1, it was found that each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-11 A 50 ⁇ m thick biaxially stretched A layer was formed on the surface with a thickness of 0.15 ⁇ m by the same method as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-11 was used as the coating material for forming the A layer. A film was obtained.
  • Example 1-12 Biaxial stretching with a thickness of 50 ⁇ m in which the A layer was formed on the surface with a thickness of 0.15 ⁇ m by the same method as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-12 was used as the coating agent for forming the A layer. A film was obtained.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-13 Biaxial stretching with a thickness of 50 ⁇ m in which the A layer was formed to a thickness of 0.15 ⁇ m on the surface in the same manner as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-13 was used as the coating agent for forming the A layer. A film was obtained.
  • ⁇ Coating 1-13> -Conductive material 1.5 parts by weight of a-3-Binder resin: 45 parts by weight of b-1-Surfactant: 0.1 parts by weight of c-1-53.4 parts by weight of water B1 layer of the obtained film Mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of surface A, surface specific resistance R2 of the surface opposite to surface A, elongation at break, partial discharge voltage, thermal shrinkage, surface specific resistance after wet heat treatment, rupture The elongation and the partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. Although the partial discharge voltage after the heat-resistant heat treatment was low as compared with the case of Example 1-10 using the water-insoluble cationic conductive material, it was found that each characteristic was excellent.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-14 Biaxial stretching with a thickness of 50 ⁇ m with the A layer formed on the surface in the same manner as in Example 1-12 except that the following coating agent 1-14 was used as a coating agent for forming the A layer.
  • a film was obtained.
  • ⁇ Coating 1-14> ⁇ Conductive material: a-3 6 parts by mass -Surfactant: c-1 0.1 part by mass-water 93.9 parts by mass
  • the surface specific resistance R2, breaking elongation, partial discharge voltage, thermal contraction rate, surface specific resistance after wet heat treatment, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • Example 1-10 using a water-insoluble cationic conductive material, it was found that the partial discharge voltage was not improved after the wet heat treatment, but other characteristics were excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Examples 1-15 to 17 The intrinsic viscosities obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the solid phase polymerization time in the third step was 5.5 hours, 4.5 hours, and 3.5 hours, respectively. 70, 0.66, polyethylene terephthalate was used, and the longitudinal stretching temperatures were 95 ° C., 90 ° C., and 85 ° C., respectively. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained. The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • Example 1-1 The results are shown in Tables 1 and 2. Although the elongation at break after wet heat treatment was inferior to that of Example 1-1, it was found that various properties were excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Examples 1-18 and 1-19 A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m in which an A layer was formed to a thickness of 0.15 ⁇ m on the surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the heat treatment temperatures were 210 ° C. and 160 ° C., respectively.
  • Example 1-1 Although the elongation at break after wet heat treatment was inferior to that of Example 1-1, it was found that various properties were excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-20 As a first step, after melting 100 parts by mass of dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, 60 parts by mass of ethylene glycol, 0.06 parts by mass of magnesium acetate and 0.03 parts by mass of antimony trioxide at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere, While stirring, the temperature was raised to 240 ° C. over 3 hours to distill methanol, and the transesterification reaction was completed. As the second step, the polymerization reaction was performed at a final temperature of 290 ° C. and a vacuum of 0.1 Torr, to obtain a polyester having an intrinsic viscosity of 0.54. As a third step, the obtained polyethylene naphthalate was dried and crystallized at 160 ° C. for 6 hours, and then subjected to solid phase polymerization at 225 ° C. and a vacuum degree of 0.3 Torr for 8 hours to obtain a polyester having an intrinsic viscosity of 0.82. Got.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Subsequent surface resistivity, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. Similar to Example 1-1, it was found that various characteristics were excellent. In particular, it was found that the elongation at break after wet heat treatment was higher than that of Example 1-1. A back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Examples 1-21 to 23 Intrinsic viscosities obtained by the same method as in Example 1-1 except that the solid phase polymerization time in the third step was 10 hours, 11 hours, and 12 hours, respectively, 0.90, 1.0, 1.2, A biaxially stretched film with a thickness of 50 ⁇ m having an A layer formed on the surface with a film thickness of 0.15 ⁇ m in the same manner as in Example 1-1, except that polyethylene terephthalate was used and the longitudinal stretching temperature was 95 ° C. Obtained.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. Compared to Example 1-1, it was found that the elongation at break after wet heat treatment was excellent and various properties were excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-24 A 50 ⁇ m thick biaxially formed A layer having a thickness of 0.03 ⁇ m on the surface in the same manner as in Example 1-1 except that the following coating agent 1-16 was used as the coating agent for forming the A layer A stretched film was obtained.
  • the B1 layer mass average molecular weight, number average molecular weight, surface A of the obtained film Specific resistance, surface specific resistance R2 on the surface opposite to the A surface, breaking elongation, partial discharge voltage, thermal contraction rate, surface specific resistance after wet heat treatment, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • Example 1-1 each characteristic was excellent, and it was found that the partial discharge voltage after UV irradiation was improved as compared with Example 1-1. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-25, 26, 27 Except that the following coating agents 1-17, 1-18, and 1-19 were used as the coating agent for forming the A layer, respectively, the A layer had a thickness of 0.15 ⁇ m on the surface in the same manner as in Example 1-1. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • ⁇ Coating 1-17> -Conductive material 18 parts by weight of a-1-Binder resin: 3 parts by weight of b-1-Crosslinking agent: 0.75 parts by weight of c-1-Surfactant: 0.1 parts by weight of d-1-Light stabilization Agent: e-1 5 parts by mass, water 73.15 parts by mass (containing 11% by mass of titanium oxide as a light stabilizer in the A layer with respect to the A layer)
  • ⁇ Coating 1-18> -Conductive material 18 parts by weight of a-1-Binder resin: 3 parts by weight of b-1-Crosslinking agent: 0.75 parts by weight of c-1-Surfactant: 0.1 parts by weight of d-1-Light stabilization Agent: e-1 10 parts by mass, water 68.15 parts by mass.
  • -Conductive material 18 parts by weight of a-1-Binder resin: 3 parts by weight of b-1-Crosslinking agent: 0.75 parts by weight of c-1-Surfactant: 0.1 parts by weight of d-1-Light stabilization Agent: e-2 10 parts by mass, water 73.15 parts by mass.
  • Example 1-1 Contains 20% by mass of zinc oxide as a light stabilizer in the A layer with respect to the A layer
  • Tables 1 and 2. As in Example 1-1, each characteristic was excellent, and it was found that the partial discharge voltage after UV irradiation was improved as compared with Example 1-1. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-28 As a first step, 100 parts by mass of dimethyl terephthalate, 57.5 parts by mass of ethylene glycol, 0.06 parts by mass of magnesium acetate, 0.03 parts by mass of antimony trioxide are melted at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then stirred. The temperature was raised to 230 ° C. over 3 hours, methanol was distilled off, and the transesterification reaction was completed. As the second step, 0.019 parts by mass of phosphoric acid (equivalent to 1.9 mol / ton) and 0.027 parts by mass of sodium dihydrogen phosphate dihydrate (equivalent to 1.5 mol / ton) are added after the transesterification reaction. An ethylene glycol solution (PH 5.0) dissolved in 0.5 part by mass of ethylene glycol was added.
  • PH 5.0 ethylene glycol solution
  • the polymerization reaction was carried out at a final temperature of 285 ° C. and a degree of vacuum of 0.1 Torr to obtain a polyester having an intrinsic viscosity of 0.54.
  • the obtained polyethylene terephthalate was dried and crystallized at 160 ° C. for 6 hours, and then subjected to solid phase polymerization at 220 ° C. and a vacuum degree of 0.3 Torr for 8 hours to obtain a polyester having an intrinsic viscosity of 0.81. Obtained.
  • a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m having an A layer formed on the surface with a thickness of 0.15 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the above polyester resin was used.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • Tables 1 and 2 As in Example 1-1, it was found that each characteristic was excellent, and in particular, the elongation at break after wet heat treatment was higher than that in Example 1-1. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • Tables 1 and 2 As in Example 1-1, it was found that each characteristic was excellent, and in particular, the elongation at break after wet heat treatment was higher than that in Example 1-1. In addition, the nitrogen content in this film was 0.11 mass%. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • TmB1 255 ° C.
  • the solid film was adhered and cooled and solidified by an electrostatic charge method to obtain an unstretched laminated film.
  • a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m in which an A layer was formed on the surface with a thickness of 0.15 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the obtained unstretched laminated film was used.
  • the obtained film had a layer containing bubbles inside and a B1 layer formed on both sides of the layer, and each B1 layer had a thickness of 10 ⁇ m.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • Tables 1 to 3 As in Example 1-1, it was found that each characteristic was excellent, and in particular, the partial discharge voltage was higher than that in Example 1-1. In addition, the bubble content rate of the layer containing the bubble in this film was 25 volume%. (Examples 1-31, 1-32)
  • the coating agent for forming the A layer the same coating agent as in Example 1-7 and Example 1-4 was used, respectively.
  • Example 1-31 is higher than Example 1-6, and Example 1-32 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, but shows a high partial discharge voltage. Compared with Example 1-1 Thus, although the breaking elongation after wet heat treatment was inferior, it was found that each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • Example 1-31 is inferior to Example 1-6 and Example 1-32 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, a higher partial discharge voltage is obtained particularly when the A-side is formed outside. It was found that (Examples 1-33, 34) A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on the surface in the same manner as in Examples 1-31 and 1-32, except that the same polyethylene terephthalate as in Example 1-23 was used and the longitudinal stretching temperature was 95 ° C. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • Example 1-33 is higher than Example 1-6, and Example 1-34 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, but shows a high partial discharge voltage. Thus, it was found that the elongation at break after the wet heat treatment was improved and each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3.
  • Example 1-33 is inferior to Example 1-6 and Example 1-34 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, a higher partial discharge voltage is obtained particularly when the A-side is formed outside. It was found that (Examples 1-35, 36) A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on the surface in the same manner as in Examples 1-31 and 1-32, except that the same polyethylene terephthalate as in Example 1-16 was used and the longitudinal stretching temperature was 90 ° C. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • Example 1-35 shows a high partial discharge voltage, although Example 1-36 is inferior to Example 1-6, and Example 1-36 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, and is higher than Example 1-1. Thus, although the breaking elongation after wet heat treatment was inferior, it was found that each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured.
  • Example 1-35 is inferior to Example 1-6 and Example 1-36 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, a higher partial discharge voltage is obtained particularly when the A-plane is formed outside. It was found that (Examples 1-37, 38) A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on the surface in the same manner as in Examples 1-31 and 1-32, except that the same polyethylene terephthalate as in Example 1-15 was used and the longitudinal stretching temperature was 95 ° C. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • Example 1-37 Example 1-3 was inferior to Example 1-6, and Example 1-38 was inferior to Examples 1-1 to 1-3, but showed a high partial discharge voltage, and compared with Example 1-1. Thus, although the breaking elongation after wet heat treatment was inferior, it was found that each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured.
  • Example 1-37 is inferior to Example 1-6 and Example 1-38 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, a higher partial discharge voltage is obtained particularly when the A-plane is formed outside. It was found that (Examples 1-39, 40) A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on the surface in the same manner as in Examples 1-31 and 1-32, except that the same polyethylene terephthalate as in Example 1-21 was used and the longitudinal stretching temperature was 95 ° C. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • Example 1-39 shows a high partial discharge voltage although Example 1-40 is inferior to Example 1-6 and Example 1-40 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, and is higher than Example 1-1. Thus, it was found that the elongation at break after the wet heat treatment was improved and each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured.
  • Example 1-39 is inferior to Example 1-6 and Example 1-40 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, a higher partial discharge voltage is obtained particularly when the A-plane is formed outside. It was found that (Examples 1-41 and 42) A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on the surface in the same manner as in Examples 1-31 and 1-32, except that the same polyethylene terephthalate as in Example 1-22 was used and the longitudinal stretching temperature was 95 ° C. A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained.
  • Example 1-41 is higher than Example 1-6, and Example 1-42 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, but shows a high partial discharge voltage, and is higher than that of Example 1-1. Thus, it was found that the elongation at break after the wet heat treatment was improved and each characteristic was excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. Although Example 1-41 is inferior to Example 1-6 and Example 1-42 is inferior to Examples 1-1 to 1-3, a higher partial discharge voltage is obtained particularly when the A-side is formed outside. It was found that
  • Example 2-1 A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the A layer was not formed.
  • the obtained film was set in an electron beam deposition apparatus, aluminum having a purity of 99.999% was used as a volatilization source, the degree of vacuum was 3.4 ⁇ 10 ⁇ 5 Pa, the deposition rate was 10 ⁇ / sec, and between the deposition source and the substrate. Under conditions of a distance of 25 cm, aluminum was electron beam evaporated while introducing 350 sccm of oxygen gas from the normal direction of the film surface to form an A layer made of aluminum oxide having a thickness of 0.15 ⁇ m.
  • Example 1-1 The mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. Similar to Example 1-1, it was found that various characteristics were excellent. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. As in Example 1-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 2-2 and 2-3 An A layer having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m by the same method as in Example 2-1, except that the oxygen supply amounts were 400 sccm and 500 sccm, respectively.
  • Example 2-1 As in Example 2-1, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 2-4 and 2-5 A layer A was formed in a thickness of 0.15 ⁇ m on a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m by the same method as in Example 2-1, except that the oxygen supply amounts were 600 sccm and 330 sccm, respectively.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. Although it was inferior to Examples 2-1 to 2-3, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 2-6 A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m by the same method as in Example 2-1, except that the oxygen supply amount was 320 sccm.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. Although inferior to Examples 2-4 and 2-5, it was found that a high partial discharge voltage was exhibited, and in particular, when the A surface was formed on the outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 2--7 A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m by the same method as in Example 2-1, except that the oxygen supply amount was 310 sccm.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. Although it was inferior to Example 2-6, it showed a high partial discharge voltage, and it was found that a higher partial discharge voltage was exhibited particularly when the A-side was formed on the outside.
  • Sub-extruder was 85 parts by weight of vacuum-dried at a temperature of 3 hours and 15 parts by weight of polyetheramide-based conductive polymer material “IRGASTAT” P18 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) vacuum-dried at 100 ° C. for 6 hours. Supplied to.
  • Each of the component layers supplied to the sub-extruder is melted at a temperature of 280 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then supplied to the sub-extruder on both sides of the component layer supplied to the main extruder.
  • component layer 9: 1
  • unstretched sheet Using the obtained unstretched sheet, a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m and having a layer A formed on the surface with a thickness of 5 ⁇ m in the same manner as in Example 1-1 except that no corona treatment or coating was performed after longitudinal stretching.
  • the surface specific resistance R2, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • the results are shown in Tables 1 and 2. Each characteristic was found to be excellent.
  • a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured.
  • Table 3 It was found that a high partial discharge voltage was exhibited in the same manner as in Example 1-1, and in particular, when the A surface was formed on the outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 3-2 Master pellet 10 obtained by mixing 75 parts by mass of polyethylene terephthalate having an intrinsic viscosity of 0.81, 20 parts by mass of sodium dodecylbenzenesulfonate, and 5% by mass of polyethylene glycol having a polymerization degree of 400 obtained by the same method as in Example 1-1.
  • Example except that 90 parts by mass of polyethylene terephthalate (melting point TmA 255 ° C.) having an intrinsic viscosity of 0.81 were mixed, vacuum-dried at a temperature of 180 ° C. for 3 hours and then used as a raw material to be supplied to the sub-extruder.
  • Preparation 20 parts by mass of vacuum dried at 180 ° C.
  • polyetheramide type conductive polymer material “IRGASTAT” P18 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. 15 parts by mass vacuum dried at 100 ° C. for 6 hours
  • a layer was formed with a film thickness of 5 ⁇ m on the surface in the same manner as in Example 3-1, except that Titanium oxide was contained in the A layer as a light stabilizer in the A layer. thickness To obtain a biaxially oriented film having a 0 .mu.m.
  • Example 1-1 a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1.
  • the partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that a high partial discharge voltage was exhibited in the same manner as in Example 1-1, and in particular, when the A surface was formed outside, a higher partial discharge voltage was exhibited.
  • Example 3-6 Example 3-7)
  • a rutile-type titanium oxide-containing PET having an average particle diameter of 230 nm that was vacuum-dried at 180 ° C. for 3 hours (vented so that PET / titanium oxide has a mass ratio of PET / titanium oxide 1/1) 40 parts by mass of vacuum-dried at 180 ° C.
  • Example 3-1 a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained, in which the A layer was formed on the surface with a film thickness of 2 ⁇ m and 1 ⁇ m, respectively.
  • Example 1-1 A biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the A layer was not formed.
  • the mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured.
  • the results are shown in Tables 1 and 2. It was found that the partial discharge voltage was lower than when the A layer was not formed.
  • a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that the partial discharge voltage was lower than when the A layer was not formed.
  • Example 1-2 A 125 ⁇ m-thick biaxially stretched film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the A layer was not formed.
  • B1 layer mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of surface A, breaking elongation, partial discharge voltage, thermal shrinkage rate, surface specific resistance after wet heat treatment, breaking elongation, partial discharge voltage of the obtained film was measured. The results are shown in Tables 1 and 2. It was found that the partial discharge voltage was lower than when the A layer was not formed.
  • a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-8. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that the partial discharge voltage was lower than when the A layer was not formed.
  • Example 1-3 A biaxially stretched film having a thickness of 188 ⁇ m was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the A layer was not formed.
  • the mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of the A surface, surface specific resistance R2 of the surface opposite to the A surface, elongation at break, partial discharge voltage, thermal contraction rate, wet heat treatment Later surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. It was found that the partial discharge voltage was lower than when the A layer was not formed. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-9. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that the partial discharge voltage was lower than when the A layer was not formed.
  • Example 1-4 A 50 ⁇ m-thick biaxially stretched film having a thickness of 0.03 ⁇ m formed by the same method as in Example 1-1, except that the following coating agent 1-15 was used as the coating agent for forming the A layer did.
  • the surface specific resistance, the surface specific resistance R2 on the surface opposite to the A surface, the breaking elongation, the partial discharge voltage, the thermal contraction rate, the surface specific resistance after wet heat treatment, the breaking elongation, and the partial discharge voltage were measured.
  • Example 2-1 A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m by the same method as in Example 2-1, except that the oxygen supply amount was 300 sccm. Mass average molecular weight, number average molecular weight, surface specific resistance of surface A, surface specific resistance of surface opposite to surface A, elongation at break, partial discharge voltage, heat shrinkage rate, after wet heat treatment The surface specific resistance, breaking elongation, and partial discharge voltage were measured. The results are shown in Tables 1 and 2. Although the surface specific resistance was a low value compared with the Example, it turned out that the partial discharge voltage is low compared with the Example. Further, a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that the partial discharge voltage was lower than that of the example.
  • Example 2-2 A layer A having a thickness of 0.15 ⁇ m was formed on a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m by the same method as in Example 2-1, except that alumina was used as the vapor deposition source.
  • Tables 1 and 2 It was found that the surface specific resistance was higher than that of the example and the partial discharge voltage was low.
  • a back sheet was formed on the obtained film in the same manner as in Example 1-1. The partial discharge voltage of the obtained back sheet was measured. The results are shown in Table 3. It was found that the partial discharge voltage was lower than that of the example.
  • a biaxially stretched film having a thickness of 50 ⁇ m having an A layer formed on the surface with a film thickness of 5 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 3-1, except that each contained 10% by weight and 20% by weight.
  • the solar cell back surface sealing film of the present invention can be suitably used not only for solar cells used as roofing materials but also for flexible solar cells and electronic parts.

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Abstract

 薄くても長期にわたる機械的強度の保持と、高部分放電電圧を有する太陽電池バックシート用フィルムおよびそれを用いることで薄くても高部分放電電圧を有する太陽電池バックシートを提供すること。またこの太陽電池バックシートを用いることで、高耐久および/または薄型の太陽電池を提供する。 少なくとも2層以上の積層構造を有し、表面比抵抗R0が10Ω/□以上1014Ω/□以下である面(以下A面とする)を有する層(A層)と基材層(B層)を含む太陽電池バックシート用フィルムであって、B層がポリエステルからなる層(B1層)を含み、かつ、該B1層のポリエステルの質量平均分子量が37500以上60000以下である太陽電池バックシート用フィルムである。

Description

太陽電池バックシート用フィルム、それを用いた太陽電池バックシート、および太陽電池
 本発明は、薄くても高部分放電電圧を有する太陽電池バックシート用フィルム、それを用いた太陽電池バックシートおよびそれを用いた太陽電池に関するものである。
 近年、半永久的で無公害の次世代のエネルギー源としてクリーンエネルギーである太陽光発電が注目を浴びており、太陽電池は急速に普及しつつある。一般的な太陽電池の代表構成を図1に示す。太陽電池は、発電素子3をEVA(エチレン-ビニルアセテート共重合体)などの透明な充填材2により封止したものに、ガラスなどの透明基板4と、バックシート1と呼ばれる樹脂シートを張り合わせて構成される。太陽光は透明基板4を通じて太陽電池内に導入される。太陽電池内に導入された太陽光は、発電素子3にて、吸収され、吸収された光エネルギーは、電気エネルギーに変換される。変換された電気エネルギーは発電素子3に接続したリード線(図1には示していない)にて取り出されて、各種電気機器に使用される。ここで、バックシート1とは太陽に対して、発電素子3よりも背面側に設置され、発電素子3とは直接接していないシート部材のことである。この太陽電池のシステムや各部材について、種々の提案がなされているが、バックシート1については、ポリエチレン系やポリエステル系、フッ素系の樹脂製のフィルムが主に用いられている。(特許文献1~3参照)また、最近では、液晶ディスプレイ用反射フィルムとして用いられている気泡含有フィルムを太陽電池バックシートに用いることなどが提案されている(特許文献4,5)
 ここで、太陽電池は一般家庭や公共施設などの屋根に取り付けられたり、大規模発電として広大な敷地内に設置される。また太陽電池システム作動時に高い電圧が長期間かかるため、バックシートには長期にわたって機械的強度が保たれることと、耐電気特性が高いことの両方を兼ね備えることが望まれる。耐電気特性に劣ると、太陽電池システム作動時に部分放電と呼ばれる膜内部での微小電荷の放電が発生し、これが延々と続くとバックシートを構成する樹脂の化学的な劣化が進行する。部分放電現象により化学的な劣化が進行すると、落雷などでシステムに瞬間的に高電圧がかかった場合に、通常であれば十分落雷に耐えうる程の耐電圧性を有していても、致命的な絶縁破壊を発生する可能性があるためである。そのため、バックシートとしては部分放電現象の発生を少しでもおさえるために、部分放電現象の発生する電圧(以後、「部分放電電圧」と称する)を高めることが要求されている。また、太陽電池システムの省スペース化、軽量化の観点から、バックシートの薄型化が望まれている。
特開平11-261085号公報 特開平11-186575号公報 特開2006-270025号公報 特開2009-12454号公報 特開2009-42421号公報
 しかしながら、従来のフィルム部材では耐湿熱性と部分放電電圧を長期にわたって積極的に向上させたものはない。そのため、長期にわたり機械的強度を保持した上で、高い部分放電電圧を発現させるためにはフィルム厚みを厚くするしか方法がなく、そのため薄型化に限界があり、長期にわたる機械的強度の保持と、高い部分放電電圧、薄型化の両立が困難であった。
 そこで、本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、薄くても長期にわたる機械的強度の保持と、高い部分放電電圧を有する太陽電池バックシート用フィルム、それを用いた太陽電池バックシートおよびそれを用いた太陽電池を提供せんとするものである。すなわち、本発明は、少なくとも2層以上の積層構造を有し、表面比抵抗R0が10Ω/□以上1014Ω/□以下である面(以下A面とする)を有する層(A層)と基材層(B層)を含む太陽電池バックシート用フィルムであって、B層がポリエステルからなる層(B1層)を含み、かつ、該B1層のポリエステルの質量平均分子量が37500以上60000以下である太陽電池バックシート用フィルムならびにそれを用いてなる太陽電池バックシートおよび太陽電池である。
 本発明によれば、薄くても長期にわたる機械的強度の保持と、高い部分放電電圧を有する太陽電池バックシート用フィルムを提供することができる。また、それを用いることで、太陽電池バックシートの耐久性向上や薄型化等が可能となり、太陽電池の耐久性向上、薄型化等が可能となる。
太陽電池の構成の一例を模式的に示す断面図である。
 本発明は、前記課題、つまり薄くても長期にわたる機械的強度の保持と、高い部分放電電圧を有する太陽電池バックシート用フィルムについて鋭意検討した結果、表面の電気特性をある一定の範囲に制御することによって、上記課題を一挙に解決することを究明したものである。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムは、以下の構成である。つまり、少なくとも2層以上の積層構造を有し、表面比抵抗R0が10Ω/□以上1014Ω/□以下である面(以下A面とする)を有する層(A層)と基材層(B層)を含む太陽電池バックシート用フィルムであって、B層がポリエステルからなる層(B1層)を含み、かつ、該B1層のポリエステルの質量平均分子量が37500以上60000以下である太陽電池バックシート用フィルム。
 この構成とすることによって、太陽電池バックシート用フィルムの厚さ方向に高電圧が印加された時に、A層により、フィルムが受ける電界の一部をフィルム面方向に適度に導通させ、拡散させることが可能となる。それにより、フィルムの厚み方向に単位体積あたりに受ける電界量を低減させることが可能となる。その結果、高電圧を印加した場合においても、絶縁性能の劣る部分への電界の集中を抑えることが可能となり、部分放電現象の発生を抑制することができる。
 また、基材層(B層)として、ポリエステルからなる層(B1層)を含み、かつ、該B1層のポリエステルの質量平均分子量が37500以上60000以下とすることによって、従来のバックシートに比べて、長期にわたる機械的強度の保持を高めることが出来る。
 以上から、従来のフィルムでは困難であった、フィルム厚みを上げることなく、長期にわたる機械的強度の保持と、部分放電電圧を高めることができることを可能としたものである。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムはA面と反対側の表面の表面比抵抗R2が1014Ω/□以上であることが好ましい。後述するように、本発明の太陽電池バックシート用フィルムを太陽電池システムに組み込む際には、発電素子を封止した樹脂層の反対側の面(図1の6)をA面とすることが好ましい。このような構成とすることで、部分放電電圧を向上させることが可能となり、その結果、高耐久の太陽電池としたり、太陽電池の厚さを薄くすることができる。
 ここで、太陽電池バックシート用フィルムの両側表面の表面比抵抗を共に10Ω/□以上とすると、太陽電池バックシートの耐電気特性が低下する場合があったり、リード線から電気エネルギーを取り出す際に、取り出し効率が低下して発電効率が低下する場合があるためである。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムは、破断伸度が50%以上であることが好ましい。ここでいう破断伸度とは、ASTM-D882(1999)に基づいて、サンプルを1cm×20cmの大きさに切り出し、チャック間5cm、引っ張り速度300mm/minにて引っ張って測定されたものである。より好ましくは、上述の方法にて求められた伸度が60%以上、更に好ましくは80%以上、特に好ましくは100%以上、最も好ましくは120%以上である。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、破断伸度が50%に満たないと、これを用いたバックシートを太陽電池に組み込んで使用した際に、外部から何らかの衝撃が太陽電池に加わったとき(例えば、運搬時の振動や、運搬、施工時の作業中に何らかの荷重がかかった場合)に、バックシートが破断することがある。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、伸度保持率を50%以上とすることによって、太陽電池の衝撃に対する特性を高めることができる。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムは、温度125℃、湿度100%RHの条件下24時間放置後の伸度保持率が50%以上であることが好ましい。ここでいう伸度保持率とは、ASTM-D882(1999)に基づいて測定されたものであって、処理前のフィルムの破断伸度E0,温度125℃、湿度100%RHの条件下24時間放置後の破断伸度をE1としたときに、下記式(1)により得られた値である。
伸度保持率(%)=E1/E0×100   (1)
 なお、E1は試料を測定片の形状に切り出した後、温度125℃、湿度100%の条件下24時間処理を施したものを用いて測定した値である。
 より好ましくは、上述の方法にて求められた伸度保持率が55%以上、更に好ましくは60%以上、特に好ましくは65%以上、最も好ましくは70%以上である。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、伸度保持率が50%に満たないと、長期使用した際に機械的強度が低下し、その結果、これを用いたバックシートを有する太陽電池の使用中に、外部から何らかの衝撃が太陽電池に加わったとき(例えば、落石などが太陽電池に当たった場合など)に、バックシートが破断することがある。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、伸度保持率を50%以上とすることによって、長期使用時におけるバックシートの機械的強度の耐久性を高めることができる。
 以下、本発明の太陽電池バックシート用フィルムの構成についてより詳細に記載する。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムは上述の要件を満たせば好ましく使用できるが、その構成の一例としては、導電性を有する層(A層)と基材層(B層)を含む少なくとも2層以上の積層構造を有し、少なくとも片側表面がA層からなることが必要である。この構成とすることによって、導電性を有するA層により、部分放電電圧を向上させ、基材層(B層)により、機械的強度、フィルム厚み方向の電気絶縁性等の機能を付与することができる。
 ここで、本発明の太陽電池バックシート用フィルムの導電性を有する層(A層)とは、その表面比抵抗R0を測定した時に10Ω/□以上1014Ω/□以下となる面(A面)を有する層のことである。より好ましくは10Ω/□以上1014Ω/□以下、更に好ましくは10Ω/□以上1014Ω/□以下、特に好ましくは、10Ω/□以上1014Ω/□以下、最も好ましくは10Ω/□以上1013Ω/□以下である。A層の表面比抵抗R0が10Ω/□に満たないと、A層が電気を流しやすくなりすぎて厚み方向にも導通する結果、A層全体が擬似的な電極として作用して、面方向に電界を緩和する効果が失われ、部分放電電圧が向上しないことがあったり、リード線から電気エネルギーを取り出す際に、取り出し効率が低下して発電効率が低下することがあるため好ましくない。また、A層の表面比抵抗R0が1014Ω/□を超えると、導通性が小さすぎて面方向に電界を緩和する効果が失われ、部分放電電圧が向上しないことがあったりするため好ましくない。本発明の太陽電池バックシート用フィルムのA層の表面比抵抗R0を10Ω/□以上1014Ω/□以下の範囲に制御することによって、高電圧印加時にフィルム厚み方向へ印加される電界の一部をフィルム面方向に適度に導通させ、厚み方向への電界の集中を緩和する事が可能となり、フィルム厚みを上げることなく部分放電電圧を高めることが可能となる。またこのフィルムを用いたバックシートの部分放電特性、耐電気特性を飛躍的に向上させることができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおけるA層は、温度125℃、湿度100%の条件下24時間放置後のA面の表面比抵抗R1が10Ω/□以上1014Ω/□以下であることが好ましい。より好ましくは10Ω/□以上1014Ω/□以下、更に好ましくは10Ω/□以上1014Ω/□以下、特に好ましくは、109Ω/□以上1014Ω/□以下、最も好ましくは109Ω/□以上1013Ω/□以下である。処理後のA面の表面比抵抗R1が10Ω/□に満たないと、長期使用時に、導通性が高くなりすぎて面方向に電界を緩和する効果が失われ、部分放電電圧が低下することがあったり、太陽電池の発電効率が低下することがある。また、1014Ω/□を超えると導通性が低くなりすぎて面方向に電界を緩和する効果が失われ、部分放電電圧が低下することがあったりする。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、処理後のA層の表面比抵抗R1を10Ω/□以上1014Ω/□以下の範囲に制御することによって、長期使用においても、部分放電電圧の向上効果を維持することが可能となる。その結果、本発明の太陽電池バックシート用フィルムを用いたバックシートの部分放電特性、耐電気特性の耐久性を高めることが可能となる。
 ここで、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A面は上記特性を満たしていればよく、その具体例としてはA層に導電性を発現させる成分を含有させることが挙げられる。ここで、導電性を発現させる成分としては、有機系導電性材料、無機系導電性材料、有機系/無機系複合導電性材料いずれも好ましく用いることができる。
 有機系の導電性材料の例としては、分子中にアンモニウム基、アミン塩基、四級アンモニウム基などのカチオン性の置換基を有するカチオン系導電性化合物、スルホン酸塩基、リン酸塩基、カルボン酸塩基などのアニオン性を有するアニオン系導電性化合物、アニオン性の置換基、カチオン性置換基の両方を有する両性系導電性化合物等のイオン性の導電性材料、共役したポリエン系骨格を有するポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロールなどの導電性高分子化合物等が上げられる。
これらの導電性材料は、A層を構成するマトリックスとなる材料に、以下1)~4)の方法にて導入され、いずれも好ましく用いられる。これにより、A層導電性を発現させることが可能となる。すなわち、
1)マトリックスとなる材料に導電性を有する骨格を共重合する、
2)マトリックスとなる材料に導電性材料を添加・混合・相溶させる、
3)マトリックスとなる材料に導電性材料を添加・混合した後、導電材料を表面に移行させ、表面付近に濃縮させる、
4)マトリックスとなる材料に導電性材料を添加・混合して分散させ、導電性のネットワークを形成させる、
等の方法によりA層に導電性を発現させることが可能であり、いずれも好ましく用いられる。
 これらの化合物(導電性材料)のうち、特に、溶液製膜としてフィルムを形成する場合や、基材層(B層)上に塗設してA層を形成させる場合は、その高電圧印加時にも高い導電性を有する等の点からイオン性導電性材料が好ましく、塗布性、密着性、部分放電電圧を長期に向上させる効果があるという点で、カチオン系導電性化合物がより好ましい。これら導電性化合物は低分子量型導電性化合物、高分子量型導電性化合物等いずれも好ましく用いることが挙げられるが、本発明においては高分子量型導電性化合物が耐久性等の点から好ましく用いられる。また、溶融押出によりA層のA面に導電性を発現させる場合において、4)の方法を用いる場合は、チバ・ジャパン(株)製“イルガスタット”Pシリーズの様にマトリックス中に分散し、導電性ネットワークを形成する様なポリエーテルアミド系共重合型化合物等が、耐熱性、およびA面の耐湿熱性に優れるという点で好ましく用いられる。
 これらの有機系の導電性材料は、水溶性、非水溶性のいずれでも好ましく用いることができるが、本発明の太陽電池バックシート用フィルムのA面は耐湿熱特性を有することが好ましいため、非水溶性の導電性化合物を用いることが好ましい。ここで、イオン性導電性材料の場合、水溶性、非水溶性はこれらの材料を構成するモノマー種によって決まり、非水溶性とするためには、上記官能基を有するモノマー種と、上記官能基を有さないモノマー種との共重合割合によって決まり、上記官能基を有するモノマー種のモル数と上記官能基を有さないモノマー種のモル数の比(上記官能基を有するモノマー種のモル数/上記官能基を有さないモノマー種のモル数)は10/90以上90/10以下が好ましく、より好ましくは20/80以上80/20以下、更に好ましくは30/70以上70/30以下である。比が10/90より小さいと、形成したA層のA面の表面比抵抗R0が高くなりすぎて、部分放電電圧向上効果が失われることがある。また比が90/10を超えると水溶性が高くなるため、形成したA面の耐湿熱特性が劣ることがある。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、上記官能基を有するモノマー種と、上記官能基を有さないモノマー種との共重合割合を10/90以上90/10以下に制御することによって、部分放電電圧向上とその特性の耐湿熱性の付与が可能となる。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A層に用いられる導電性材料が有機系の導電性材料の場合、耐湿熱性の向上、A層の強度向上等のため、またA層を基材層(B層)製造時にインラインコーティング法により塗設する場合に、A層の製膜性を付与するために、有機系の導電性材料に加えて、A層を構成するマトリックスとなる材料として、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエーテル、ポリエステルアミド、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコールおよびこれらを成分とする共重合体などの非水溶性樹脂を用いることも好ましく行われる。A層を塗布により形成する場合は塗剤に添加、混合すればよいし、A層を溶融押出で形成する場合は溶融混練して混合すればよい。その場合、上記有機系導電性材料が水溶性導電性材料の場合であっても、耐湿熱特性を付与することができるし、非水溶性導電性材料の場合はより耐湿熱特性を高めることができる。上記有機系導電性材料と非水溶性樹脂との混合比(有機系導電性材料の質量/非水溶性樹脂の質量)は有機導電性材料が水溶性導電材料である場合は、5/95以上50/50以下が好ましい。より好ましくは10/90以上40/60以下である。上記混合比が5/95より少ないと、A層の表面比抵抗R0が高くなり、部分放電電圧が向上しないことがあるため好ましくなく、上記混合比が5/95が50/50より多い場合は、形成したA層の耐湿熱性が劣ることがある。また、有機導電性材料が非水溶性導電材料である場合には、上記有機系導電性材料と非水溶性樹脂との混合比(有機系導電性材料の質量/非水溶性樹脂の質量)は26/74以上98/2以下が好ましい。より好ましくは30/70以上95/5以下である。上記混合比が26/74より少ないと、A層の表面比抵抗R0が高くなり、部分放電電圧が向上しないことがあるため好ましくなく、上記混合比が98/2より多い場合は、形成したA層の耐湿熱性が劣ることがある。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、有機導電性材料が水溶性導電材料である場合は、5/95以上50/50以下、有機導電性材料が非水溶性導電材料である場合には、上記有機系導電性材料と非水溶性樹脂との混合比(有機系導電性材料の質量/非水溶性樹脂の質量)は26/74以上98/2以下に制御することによって、部分放電電圧向上とその特性の耐湿熱性の付与が可能となる。
 また、A層を溶融押出で形成する場合の非水溶性樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と略称することがある)、ポリエチレン-2、6-ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステルアミド系樹脂、ポリエーテルエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂などを使用することができる。これらの中で共重合するモノマー種の多様性、およびそれによって材料物性の調整が容易であるなどの理由から、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合物から選ばれる熱可塑性樹脂から主として構成されるのが好ましい。特に好ましくは、機械的強度、コストの点から主としてポリエステル系樹脂で構成されるのが好ましく、さらには非水溶性樹脂が一軸もしくは二軸配向されてなることが、配向結晶化により機械的強度を高くすることができたり、ポリエステル系樹脂などの場合は、長期使用時のA層の耐加水分解性を向上させることができる。
 また、A層に用いられる導電性材料が有機系の導電性材料の場合、耐湿熱特性を更に向上させたり、特にA層として基材層(B層)に塗設する場合の基材層(B層)との密着性向上させたり、特に溶液製膜としてフィルムを形成させたりする場合や、基材層(B層)上にA層を塗設する場合、フィルムのブロッキングを防止することができるという点で、有機系の導電性材料、非水溶性樹脂に加えて、架橋剤を含有せしめることも好ましく行われる。架橋剤としては、上述の有機系材料および/または非水溶性樹脂を構成する樹脂に存在する官能基、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、グリシジル基、アミド基等と架橋反応する樹脂や化合物が好ましく用いられ、その例としてはメチロール化あるいはアルキロール化した尿素系、メラミン系、アクリルアミド系、ポリアミド系樹脂及びエポキシ化合物、オキセタン系化合物、イソシアネート化合物、カップリング剤、アジリジン系化合物、オキサゾリン系化合物等、カルボジイミド系化合物、酸無水物、カルボン酸エステル誘導体及びそれらの混合物等を使用することができる。
 かかる架橋剤種類、および含有量は、A層を構成する有機系導電性材料、非水溶性樹脂、基材層(B層)等によって適宜選択される。本発明の太陽電池バックシートフィルムにおける架橋剤としては、溶液製膜としてフィルムを形成する場合や、A層として基材層(B層)に塗設する場合は、有機系導電性材料および/または非水溶性樹脂がアクリル系骨格を有する場合は、架橋剤としてはオキサゾリン化合物が、有機系導電性材料および/または非水溶性樹脂がポリエステル系骨格を有する場合は、架橋剤としてはメラミン系化合物が、形成されたA層が耐湿熱特性により優れるという点でより好ましい。また、溶融押出によりA層を形成する場合において、非水溶性樹脂としてポリエステル系樹脂を用いる場合の架橋剤としては、オキサゾリン系化合物、エポキシ系化合物、オキセタン系化合物、カルボジイミド系化合物、酸無水物、カルボン酸エステル誘導体が好適に用いられる。
 架橋剤の添加量は、通常はA層を構成する全樹脂成分100質量部に対し、0.01質量部以上50質量部以下が好ましく、より好ましくは0.2質量部以上40質量部以下、更に好ましくは0.5質量部以上30質量部以下の範囲がより好ましい。
 ここで、架橋剤には、触媒を併用して架橋反応を促進させることも好ましく行われる。なお、架橋反応方式としては、加熱方式、電磁波照射方式、吸湿方式などのいずれでも構わないが、通常は加熱による方法が好ましく用いられる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A層を構成する材料が有機系導電性材料の場合、A面の表面比抵抗R0はA層に含まれる有機系導電性材料の種類、非水溶性樹脂や架橋剤の種類と混合割合、その他材料との混合割合、膜厚等によって決まる。A層に含まれる有機系導電性材料に対し非水溶性樹脂や架橋剤の割合が大きいほど表面比抵抗R0が高くなり、小さいほど表面比抵抗R0が小さくなる。また、A層の膜厚が厚いほど表面比抵抗R0が低くなり、小さいほど表面比抵抗R0が高くなる。最適な組成、膜厚などは、使用する材料種、フィルム構成などにより変わるが、A面の表面比抵抗R0が上述の要件を満たす様に形成される。ここで、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A層を構成する材料が有機系導電性材料の場合でA層を基材層(B層)製造時にインラインコーティング法により塗設する場合、A層の製膜性を付与、かつ得られたA層の膜厚が薄くても部分放電電圧が高くかつ耐湿熱性が高いという点から、より好ましい組み合わせとして、導電性材料としてアクリル骨格を有するカチオン系導電性化合物、非水溶性樹脂としてアクリル系骨格を有する化合物、架橋剤としてはオキサゾリン化合物の組み合わせがよい。更には、上記有機系導電性材料が全樹脂成分100質量部として50質量部以上含有し、上記有機系導電性材料と非水溶性樹脂との混合比(有機系導電性材料の質量/非水溶性樹脂の質量)は25/75以上98/2以下(より好ましくは50/50以上95/5以下)、架橋剤の割合は全樹脂成分100質量部に対し1質量部以上20質量部以下(より好ましくは、2質量部以上20質量部以下)である。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、導電性を有する層(A層)を構成する材料が無機系導電性材料の場合、例として、金、銀、銅、白金、ケイ素、硼素、パラジウム、レニウム、バナジウム、オスミウム、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、プラセオジウム、クロム、ニッケル、アルミニウム、スズ、亜鉛、チタン、タンタル、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、イットリウム、ランタニウム、マグネシウム、カルシウム、セリウム、ハフニウム、バリウム、等の無機物群を主たる成分とするものを酸化、亜酸化、次亜酸化させたもの、もしくは上記無機物群と上記無機物群を酸化、亜酸化、次亜酸化させたものとの混合物(以後これらを称して無機酸化物とする)、上記無機物群を主たる成分とするものを窒化、亜窒化、次亜窒化させたもの、もしくは上記無機物群と上記無機物群を窒化、亜窒化、次亜窒化したものとの混合物(以後これらを称して無機窒化物とする)、上記無機物群を主たる成分とするものを酸窒化、亜酸窒化、次亜酸窒化させたもの、もしくは上記無機物群と上記無機物群を酸窒化、亜酸窒化、次亜酸窒化させたものの混合物(以後これらを称して無機酸窒化物とする)、上記無機物群を主たる成分とするものを炭化、亜炭化、次亜炭化させたもの、もしくは上記無機物群と上記無機物群を炭化、亜炭化、次亜炭化させたものとの混合物(以後これらを称して無機炭化物とする)、上記無機物群を主たる成分とするものをフッ化および/または塩素化および/または臭化および/またはヨウ化(以下、これらをハロゲン化とする)、亜ハロゲン化、次亜ハロゲン化させたもの、上記無機物群と上記無機物群をハロゲン化、亜ハロゲン化、次亜ハロゲン化させたものとの混合物(以後これらを称して無機ハロゲン化物とする)、もしくは上記無機物群と上記無機物群を硫化、亜硫化、次亜硫化させたものとの混合物(以後これらを称して無機硫化物とする)、および上記化合物に異元素をドープしたもの、グラファイト状カーボン、ダイヤモンドライクカーボン、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、フラーレンなどの炭素系化合物(以後これらを称し炭素系化合物とする)、およびこれらの混合物などが挙げられる。上記材料は A層中に少なくとも含んでいればよいが、特にA層の層厚みが1μm以下である場合、表面比抵抗を上述の範囲とするためには、より好ましくは主たる成分とすることがよい。なお、該層中において50質量%を越える場合を主成分と定義する。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、導電性を有する層(A層)を構成する材料が無機系導電性材料の場合、A層のA面の表面比抵抗R0は膜中含まれる無機物群の変性(酸化、窒化、酸窒化、炭化、ハロゲン化、硫化など)の度合いや、無機物群と変性した無機物群との混合割合、その他材料との混合割合、膜厚等によって決まる。無機物群の変性の度合いが高いほどA面の表面比抵抗R0が高くなり、変性度合いが低いほどA面の表面比抵抗R0が小さくなる。また、A層に含まれる無機物群に対し変性した無機物群の割合が大きいほど表面比抵抗R0が高くなり、小さいほど表面比抵抗R0が小さくなる。また、膜厚が厚いほど表面比抵抗R0が低くなり、小さいほど表面比抵抗R0が高くなる。最適な組成、膜厚は使用する金属種や、変性方式などにより変わるが、表面比抵抗R0が上述の要件を満たす様に形成される。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A層を構成する材料が有機系/無機系複合導電性材料の場合(例えば、i)マトリックスとして非導電性の非水溶性樹脂を用い、導電性材料として無機系の導電性材料を用いた場合、ii)有機系導電性材料と無機系導電性材料を併用した場合、iii)有機系導電性材料に無機系の非導電性材料を併用した場合、iv)無機系導電材料中に非導電性の非水溶性樹脂を分散させた場合、など)、上述の有機系導電性材料、無機系導電性材料、非水溶性樹脂、架橋剤の他、無機系の非導電性材料を適宜組み合わせて構成される。
 i)の場合の例としては、A層のマトリックスとして、非水溶性樹脂を用い、無機系導電性材料を分散させた構成が挙げられる。非水溶性樹脂については、上記有機導電性材料の場合に用いるものと同様のものが好適に用いられる。また、A層のマトリックスとなる非水溶性樹脂中に分散した無機導電性材料の形状としては、真球状、回転楕円体状、扁平体状、数珠状、板状または針状等、特に限定されない。さらには、非水溶性樹脂中に微粒子が二次元あるいは三次元的に連結したものも含まれる。なお、これら無機粒子は単一元素からなるものであっても、複数の元素からなるものであっても構わない。
 上記無機系導電性材料において、A層のマトリックスとなる非相溶性樹脂中への分散が容易という点で、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セシウム、酸化アンチモン、酸化スズ 、インジウム・スズ酸化物、酸化イットリウム
、酸化ランタニウム 、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム 、酸化ケイ素等の金属酸化物、カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ、フラーレンなどの炭素系微粒子等が好ましく用いられる。また、その無機系導電性材料の平均粒径は任意であるが、0.001μm以上20μm以下が好ましい。より好ましくは0.005μm以上10μm以下、特に好ましくは0.01μm以上1μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.5μm以下である。ここでいう粒子径とはメジアン径d50のことをいう。かかる粒子径が0.001μm以下の場合、マトリックスとなる非水溶性樹脂中に分散することが困難となる場合があるため好ましくなく、また20μm以上の場合は、均一なA層を形成することが困難となる。無機系導電材料の平均粒径を0.001μm以上20μm以下とすることによって、導電性と形成したフィルムの均一性を両立することが可能となる。
 また、機械的強度、耐湿熱特性を更に向上させたり、特にA層として基材層(B層)に塗設する場合の基材層(B層)との密着性向上させたり、特に溶液製膜としてフィルムを形成する場合や、A層として基材層(B層)に塗設する場合のブロッキングを防止させたりするために非水溶性樹脂に加えて、架橋剤を含有することも好ましく行われる。架橋剤については、上記有機導電性材料の場合に用いるものと同様のものが好適に用いられる。
 また、ii)やiii)の場合の例としては、導電性材料として有機系導電性材料を用いた場合は、非水溶性樹脂、架橋剤の他、A層の滑り性改良や、耐ブロッキング性付与、光沢度調整、表面比抵抗制御などのために微粒子を含有することも好ましく行われる。その例として、無機微粒子や有機微粒子などを使用することができる。かかる無機微粒子としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、レニウム、バナジウム、オスミウム、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、プラセオジウム、クロム、ニッケル、アルミニウム、スズ、亜鉛、チタン、タンタル、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、イットリウム、ランタニウム等の金属や、グラファイト状カーボン、ダイヤモンドライクカーボンなどの炭素系化合物の微粒子やカーボンナノチューブ、フラーレンなどの無機系導電性材料からなる微粒子、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セシウム、酸化アンチモン、酸化スズ
、インジウム・スズ酸化物、酸化イットリウム 、酸化ランタニウム 、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム 、酸化ケイ素等の金属酸化物、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム
、フッ化アルミニウム 、氷晶石等の金属フッ化物、リン酸カルシウム等の金属リン酸塩、炭酸カルシウム等の炭酸塩、硫酸バリウム等の硫酸塩、その他タルクおよびカオリンなどの無機系非導電性の微粒子を用いることができる。これら微粒子の粒径(数平均粒径)は0.05μm以上15μm以下が好ましく、0.1μm以上10μm以下であることが好ましい。また含有量としては、A層を構成する全樹脂成分に対して5質量%以上50質量%以下が好ましく、より好ましくは6質量%以上30質量%以下、更に好ましくは7質量%以上20質量%以下である。含有する粒子の粒径を上記の範囲とすることで、表面比抵抗を上述の範囲に制御した上で、表面の滑り性を付与したり、表面の光沢度を調整できたりすることができるため好ましい。
 iv)の場合の例としては、導電性を有する層(A層)と基材層(B層)を含む少なくとも2層以上の積層構造とし、A層を構成する無機系導電材料中に非導電性の非水溶性樹脂を分散させた構成が挙げられる。無機系導電性材料については、上記無機導電性材料の場合に用いるものと同様のものが好適に用いられる。また、無機系導電性材料中に分散した非水溶性樹脂の形状としては、真球状、回転楕円体状、扁平体状、数珠状、板状または針状等、特に限定されない。さらには、無機系導電性材料中に非水溶性樹脂の微粒子が二次元あるいは三次元的に連結したものも含まれる。なお、これら非水溶性樹脂は単一の樹脂からなるものであっても、複数の樹脂からなるものであっても構わない。
 また、非水溶性樹脂としては、上記非水溶性樹脂については、上記有機導電性材料の場合に用いるものと同様のものが好適に用いられる他、シリコーン系化合物、架橋スチレンや架橋アクリル、架橋メラミンなどの架橋微粒子のも用いることもできる。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A層には、A層および/または基材層(B層)の紫外線劣化を防ぐために光安定化剤を含有することが好ましい。ここでいう光安定化剤とは、紫外線などの光線を吸収して熱エネルギーに変換する化合物、A層が光吸収して分解して発生したラジカルを捕捉し、分解連鎖反応を抑制する材料などが挙げられる。より好ましくは紫外線などの光線を吸収して熱エネルギーに変換する化合物を用いるのがよい。光安定化剤をA層中に含有することで、長期の紫外線の照射を受けても、A層のA面による部分放電電圧の向上効果を長期間にわたって高く保つことが可能となったり、A層および/または基材層(B層)の紫外線による色調変化、強度劣化等が防止される。ここでいう紫外線吸収剤は、他の特性が損なわれない範囲であれば、有機系紫外線吸収剤、無機系紫外線吸収剤、およびこれらの併用、いずれも特に限定されずに好ましく用いることができるが、耐湿熱性に優れ、A層中に均一分散できることが望まれる。このような紫外線吸収剤の例としては、例えば、有機系の紫外線吸収剤の場合は、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系等の紫外線吸収剤およびヒンダードアミン系等の紫外線安定剤などが挙げられる。具体的には、例えば、サリチル酸系のp-t-ブチルフェニルサリシレート、p-オクチルフェニルサリシレート、ベンゾフェノン系の2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-5-スルホベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、ビス(2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルフェニル)メタン、ベンゾトリアゾール系の2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’-メチレンビス[4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-(2Hベンゾトリアゾール-2-イル)フェノール]、シアノアクリレート系のエチル-2-シアノ-3,3’-ジフェニルアクリレート)、トリアジン系として2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[(ヘキシル)オキシ]-フェノール、ヒンダードアミン系のビス(2,2,6,6-テトラメチル-4-ピペリジル)セバケート、コハク酸ジメチル・1-(2-ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン重縮合物、その他として、ニッケルビス(オクチルフェニル)サルファイド、および2,4-ジ・t-ブチルフェニル-3’,5’-ジ・t-ブチル-4’-ヒドロキシベンゾエート、などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤のうち、繰り返し紫外線吸収に対する耐性が高いという点で、トリアジン系紫外線吸収剤がより好ましい。なお、これらの紫外線吸収剤は上述の紫外線吸収剤単体でA層に添加しても良いし、有機系導電性材料や、非水溶性樹脂に紫外線吸収剤能を有するモノマーを共重合させた形態で導入してもよい。
 また、無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、などの金属酸化物や、カーボン、フラーレン、カーボンファイバー、カーボンナノチューブなどの炭素系材料等が挙げられる。なお、これらの紫外線吸収剤は上述の紫外線吸収剤単体でA層に添加しても良いし、無機系導電性材料と機能を兼用したり、有機系導電性材料や非水溶性樹脂に導入してもよい。
 また、上記紫外線吸収剤は、単独でも2種類以上の併用であってもよく、無機系、有機系の化合物を併用してもよい。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムのA層における紫外線吸収剤の含有量は、有機系紫外線吸収剤の場合、A層中の全固形成分に対して0.05質量%以上20質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1質量%以上15質量%以下であり、さらに好ましくは0.15質量%以上15質量%以下である。紫外線吸収剤の含有量が0.05質量%未満の場合には、耐光性が不十分で、長期使用時において、A層が劣化し、部分放電電圧が低下することがあるため好ましくなく、また、20質量%より多いと、A層の着色が大きくなることがある。
 また無機系紫外線吸収剤の場合は、A層の全固形成分1質量%以上50質量%以下、より好ましくは2質量%以上45質量%以下であり、さらに好ましくは5質量%以上40質量%以下、特に好ましくは8質量%以上35質量%以下、最も好ましくは12質量%以上30質量%以下である。無機系紫外線吸収剤の場合は、紫外線吸収剤の含有量が1質量%未満の場合には、耐光性が不十分で、長期使用時において、A層が劣化し、部分放電電圧が低下することがあるため好ましくなく、また、50質量%より多いと、A層の強度が低下することがある
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、A層における紫外線吸収剤の含有量を、有機系紫外線吸収剤の場合、A層中の全固形成分に対して0.05質量%以上20質量%以下、無機系紫外線吸収剤の場合は、A層の全固形成分1質量%以上50質量%以下とすることで、A層の着色や強度低下なく耐光性を付与することが出来る。
 A層の厚みは、0.001μm以上50μm以下が好ましい。これらのうち、A層を構成する材料が有機系材料を主たる構成成分とし、A層を塗布により形成する場合、通常0.01μm以上50μm以下が好ましく、特に基材層(B層)が一軸または二軸延伸されたフィルムであり、かつその製造中にA層を形成する場合は、A層の形成容易性、均一性の観点から0.01μm以上1μm以下が好ましく、より好ましくは0.02μm以上1μm以下、さらに好ましくは0.05μm以上1μm以下の範囲内である。また、A層を構成する材料が無機系材料を主たる構成成分とした場合、0.001μm以上1μm以下が好ましく、特に後述するように蒸着法、スパッタ法の乾式法にて形成する場合は、A層の形成の制御容易性、均一性などから、より好ましくは0.005μm以上0.8μm以下、さらに好ましくは0.01μm以上0.5μm以下の範囲内である。A層の厚みを上述の範囲に制御することによって、部分放電電圧の向上効果、A層の形成性、均一性などを両立することができる。
 また、A層に紫外線に対する耐久性を高めたい場合はA層の厚みを厚くすることが好ましく、その場合はA層を溶融押出にて形成するのが好ましい。その場合のA層の好ましい厚みは0.05μm以上50μm以下である。更に好ましくは1μm以上50μm以下、更に好ましくは2μm以上30μm以下、特に好ましくは3μm以上20μm以下、最も好ましくは3μm以上15以下である。A層の厚みを上述の範囲に制御することによって、部分放電電圧の向上効果、A層の形成性、均一性に加えて、耐久性を付与することができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおける基材層(B層)は、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の有機フィルム基材や、シリコン、ガラス、ステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鋼、チタン等の金属基材およびコンクリート等の無機基材、ケイ素系樹脂など有機無機複合基材、及びこれらを組み合わせたものなどが適用可能であるが、好ましくは有機系の材料を含み、可撓性を有する基材を用いることが、取り扱い性や、軽量化の点からよい。より好ましくは熱可塑性樹脂からを主たる構成成分とするのがよい。熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2、6-ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ-1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステルアミド系樹脂、ポリエーテルエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂などを使用することができる。これらの中で共重合するモノマー種の多様性、およびそれによって材料物性の調整が容易であるなどの理由から、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらの混合物から選ばれる熱可塑性樹脂から主として構成されるのが好ましい。特に好ましくは、機械的強度、コストの点からポリエステル系樹脂が主として構成されるのが好ましい。
 また、これらの樹脂はホモ樹脂であってもよく、共重合体またはブレンド体であってもよいが、B層に用いる樹脂がポリエステル樹脂の場合は、構成する主たる繰り返し単位は、エチレンテレフタレート、エチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレート、プロピレンテレフタレート、ブチレンテレフタレート、1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、エチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートおよびこれら混合物をからなるものが好適に用いられる。なお、ここでいう主たる繰り返し単位とは、上記繰り返し単位の合計が、ポリエステル樹脂の全繰り返し単位の70モル%以上、より好ましくは80モル%以上、更に好ましくは90モル%以上であるのが機械的強度、耐熱性の点から、特に好ましい。
 さらには低コストで、より容易に重合が可能で、かつ耐熱性に優れるという点で、エチレンテレフタレート、エチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレート、およびこれらの混合物が主たる構成成分であることが好ましい。この場合、エチレンテレフタレートをより多く構成単位として用いた場合はより安価で汎用性のある耐湿熱性を有するフィルムを得ることができ、またエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレートをより多く構成単位として用いた場合はより耐湿熱性に優れるフィルムとすることができる。
 また、B層は、ポリエステルからなる層(B1層)を含むことが、耐熱性、機械的強度の点から必要である。また、B1層を構成するポリエステルは上記したポリエステルを用いることが好ましい。
 また、B1層を構成するポリエステルの質量平均分子量Mw1は37500以上60000以下であることが必要である。ここでいう質量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィーにより求められる値であって、PET-DMT(標準品)を用いて分子量校正曲線を作成し、その分子量校正曲線を基にして得られる値のことである。
 より詳しくは、まず、カラムとしてShodex HFIP 806M (昭和電工(株)製)を2本、検出器としてRI型示差屈折率器(2414型、感度256、WATERS社製)を搭載したゲル浸透クロマトグラフ GCP-244(WATERS社製)を使用し、PET-DMT(標準品)を用いて室温(23℃)、流速0.5mL/minでGPC測定を実施する。得られた溶出容積(V)及び分子量(M)を用いて下記式(2)の3次の近似式の係数(A)を計算して校正曲線を作図する。
 Log(M)=A+AV+A+A   (2)
 次に、溶媒としてヘキサフルオロプロパノール(0.005N-トリフルオロ酢酸ソーダ)を用い、B1層を0.06質量%となるように溶解させた溶液を作成し、その溶液を用いてGPC測定を行う。なお、測定条件は任意ではあるが、インジェクション量0.300ml、流速は0.5ml/minで実施した場合の値を示している。
得られた溶出曲線分子量曲線と分子量校正曲線を重ね合わせ、各流出時間に対応する分子量を求め、下記式(3)により算出した値でもって、質量平均分子量とする。
質量平均分子量(Mw)=Σ(Ni・Mi)/Σ(Ni・Mi)   (3)
(ここで、Niはモル分率、Miは分子量較正曲線を介して得られたGPC曲線の各溶出位置の分子量である。)
 なお、かかる測定に使用されるB1層に、有機微粒子、無機微粒子、金属、金属塩、その他添加剤等で溶媒に不溶な成分を含んでいる場合には、フィルターによる濾過や、遠心分離などにより、不溶成分の除去を行った後に、溶液を再度調製して測定した値である。また、該B1層に可塑剤、界面活性剤、染料などの添加剤を含んでいる可能性がある場合は、不溶成分を除去した後に、最沈殿法、再結晶法、クロマトグラフィー法、抽出法等により、前記同様にかかる不溶添加剤を除去した後に、再度溶液を調製して測定した値である。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層の質量平均分子量は37500以上60000以下が好ましいが、より好ましくは質量平均分子量が38500以上58000以下であり、更に好ましくは40000以上55000以下である。B1層を構成するポリエステル樹脂の質量平均分子量が37500に満たない場合、耐湿熱特性に劣り、長期使用時に加水分解が進行し、その結果、機械的強度が落ちる可能性があるため好ましくない。また、60000を超えると、重合が困難となったり、重合できたとしても押出機による樹脂の押出が困難となり、製膜が困難となるため好ましくない。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層の質量平均分子量を37500以上60000以下の範囲とすることで、製膜性と耐加水分解性を両立することができる。
 また、基材層(B層)が積層構造の場合は、他の層を剥離したり、顕微鏡観察しながら該当フィルムを研磨したりしてB1層のみとしたサンプルを用いて測定を実施した値である。
 また、B1層を構成するポリエステルの数平均分子量は8000以上40000以下であることが好ましい。ここでいう数平均分子量とは上記質量平均分子量の測定にて得られた、各流出時間に対応する分子量の値から下記式(4)により算出された値である
数平均分子量(Mn)=ΣNiMi/ΣNi   (4)
(ここで、Niはモル分率、Miは分子量較正曲線を介して得られたGPC曲線の各溶出位置の分子量である。)
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層のポリエステルの数平均分子量はより好ましくは9500以上40000以下であり、更には10000以上40000以下、更には10500以上40000以下、更には11000以上40000以下、更には18500以上40000以下、更には19000以上35000以下、特に好ましくは20000以上33000以下である。B1層を構成するポリエステル樹脂の数平均分子量が8000に満たない場合、耐湿熱特性に劣り、長期使用時に加水分解が進行し、その結果、機械的強度が落ちる可能性がある。また、40000を超えると、重合が困難となったり、重合できたとしても押出機による樹脂の押出が困難となり、製膜が困難となる場合がある。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層の数平均分子量を8000以上40000以下の範囲とすることで、製膜性と耐加水分解性を両立することができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層のポリエステルの固有粘度(IV)は0.65以上であることが好ましい。より好ましくは0.68以上、更に好ましくは0.7以上、特に好ましくは0.72以上である。IVが0.65に満たないと、長期使用時の機械的強度の保持が低下する場合がある。本発明のポリエステルフィルムにおいて、ポリエステル層(P層)を構成するポリエステル樹脂のIVを0.65以上とすることによって、長期使用時の機械的強度の保持が低下を抑制することができる。なお、IVの上限は特に決められるものではないが、重合時間が長くなるためコスト的に不利であったり、溶融押出が困難となるという点から好ましくは1.0以下、更に好ましくは0.9以下である。 
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層は、一軸もしくは二軸に配向されていることが好ましい。延伸することにより、配向結晶化により機械的強度を高くすることができたり、ポリエステル系樹脂などの場合は耐加水分解性を向上させることができる。その配向の程度を示す面配向係数は0.16以上であることが好ましい。より好ましくは0.162以上、更には0.165以上である。面配向係数が0.16に満たないと、耐湿熱性が向上しない場合がある。本発明のポリエステルフィルムにおいて、面配向係数を0.16以上とすることによって、高い耐湿熱性を得ることができる。
 この場合、示差走査熱量測定(DSC)により得られるB1層の微少吸熱ピーク温度TmetaB1とB1層の融点TmB1とが、下記式(5)を満たすことが好ましい。
     40℃≦TmB1-TmetaB1≦90℃  (5)
ここでいうB1層のTmetaB1、融点TmB1とは示差走査熱量測定(以下、DSC)により得られる、昇温過程(昇温速度:20℃/min)における値である。具体的には、JIS K-7121(1999)に基づいた方法により、25℃から300℃まで20℃/分の昇温速度で加熱(1stRUN)、その状態で5分間保持し、次いで25℃以下となるよう急冷し、再度室温から20℃/分の昇温速度で300℃まで昇温を行って得られた1stRUNの示差走査熱量測定チャートにおける結晶融解ピーク前の微少吸熱ピーク温度でもってTmetaB1、また、2ndRunの結晶融解ピークにおけるピークトップの温度でもってB1層のTmB1とする。
 より好ましくは、50℃≦TmB1-TmetaB1≦80℃、更に好ましくは55℃≦TmB1-TmetaB1≦75℃である。TmB1-TmetaB1が90℃を越えると、延伸時の残留応力の解消が不十分であり、その結果フィルムの熱収縮が大きくなって、太陽電池に組み込む際の張り合わせ工程にて、張り合わせが困難となったり、張り合わせができたとしても、太陽電池に組み込んで高温下で使用した際に太陽電池システムのそりが大きく発生することがある。また、TmB1-TmetaB1が40℃に満たないと、配向結晶性が低下し、耐加水分解性に劣ることがある。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層が40℃≦TmB1-TmetaB1≦90℃とすることによって、収縮率の低減と耐加水分解性を両立できる
 さらには、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層のTmetaB1は160℃以上TmB1―40℃(ただし、TmB1-40℃>160℃)以下であるのが好ましい。より好ましくは170℃以上TmB1―50℃(ただし、TmB1-50℃>170℃)以下、更に好ましくはTmetaB1が180℃以上TmB1―55℃(ただし、TmB1-55℃>180℃)以下である。TmetaB1が160℃に満たないとフィルムの耐熱性が低く、バックシートとしての耐久性が低下することがある。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層の融点TmB1は、220℃以上のものが耐熱性の上で好ましく、更に好ましくは240℃以上、更に好ましくは250℃である。またB1層の融点TmB1の上限は特に制限はないが300℃以下のものが生産性上好ましい。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層のカルボン酸末端基数は20等量/t以下が好ましく、より好ましくは15等量/t以下、更に好ましくは13等量/t以下、特に好ましくは10等量/t以下である。15等量/tを超えると、カルボン酸末端基のプロトンによる触媒作用による加水分解が促進され劣化が進行しやすくなる。なお、カルボン酸末端基数を20等量/t以下とするには、1)ジカルボン酸成分とジオール成分とのエステル化反応をさせ、溶融重合によって所定の溶融粘度になった時点で吐出、ストランド化、カッティングを行い、チップ化したのち、固相重合する方法、2)緩衝剤をエステル交換反応またはエステル化反応終了後から重縮合反応初期(固有粘度が0.3未満)までの間に添加する方法、3)緩衝剤や末端封止剤を成形時に添加する方法、等の組み合わせ等により得ることができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層を構成するポリエステルには、緩衝剤を0.1モル/t以上5.0モル/t含有することが好ましい。本発明の緩衝剤とは、B1層を構成するポリエステルのジオール残基成分、たとえばエチレングリコールなどに可溶性であり、かつ溶解後解離してイオン性を示す物質のことである。本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層を構成するポリエステルには緩衝剤を含むませることによって、初期のカルボキシル基末端数をより低減させることが出来、加水分解反応を抑制できる。また加水分解反応により新たに発生したカルボキシル基末端の、加水分解反応の触媒として作用するプロトンを中和させることにより、加水分解反応をより抑えることが出来る結果、ポリエステルフィルムの湿熱劣化をより抑制することが可能となる。
 緩衝剤の具体例としては、重合反応性、耐湿熱性の点から緩衝剤がアルカリ金属塩であることが好ましく、例えば、フタル酸、クエン酸、炭酸、乳酸、酒石酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ポリアクリル酸などの化合物とのアルカリ金属塩を挙げることができる。中でも、アルカリ金属元素として、カリウム、ナトリウムであることが触媒残渣による析出物を生成しにくい点から好ましく、具体的には、フタル酸水素カリウム、クエン酸二水素ナトリウム、クエン酸水素二ナトリウム、クエン酸二水素カリウム、クエン酸水素二カリウム、炭酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウム、乳酸ナトリウム、乳酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、亜リン酸水素ナトリウム、亜リン酸水素カリウム、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム、ポリアクリル酸ナトリウムなどを挙げることができる。
 また、下記式で示されるアルカリ金属塩であることがB1層を構成するポリエステルの重合反応性や、溶融成形時の耐熱性の点で好ましく、さらにはアルカリ金属がナトリウム、および/またはカリウムであることが重合反応性、耐熱性、耐湿熱性の点で好ましく、特にリン酸とナトリウムおよび/またはカリウムの金属塩であることが重合反応性、耐湿熱性の点で好ましい。
POxHyMz ・・・(I)
(ここで、xは2~4の整数、yは1または2、zは1または2であり、Mはアルカリ金属である。)
緩衝剤の含有量はB層を構成するB1層に対して、0.1モル/t以上5.0モル/t以下であることが好ましい。更に好ましくは0.3モル/t以上3.0モル/tである。0.1モル/t未満の場合、十分な耐湿熱性が得られず、長期使用時には徐々に加水分解が進行して機械特性低下の原因となる。5.0モル/tを超えると、過剰なアルカリ金属によって分解反応が促進されるため、分子量が低下し、耐湿熱性や機械特性低下の原因となる。
 緩衝剤はB層を構成するB1層を構成するポリエステルの重合時に添加しても、溶融成形時に添加してもいずれも構わないが、緩衝剤のフィルム中への均一分散の点から、重合時に添加することが好ましい。重合時に添加する場合、添加時期は、ポリエステルの重合時のエステル化反応、またはエステル交換反応終了後から、重縮合反応初期(固有粘度が0.3未満)までの間であれば任意の時期に添加することができる。緩衝剤の添加方法としては、粉体を直接添加する、エチレングリコール等のジオール成分へ溶解させた溶液を調整して添加する、いずれも構わないが、エチレングリコール等のジオール成分へ溶解させた溶液として添加することが好ましい。その場合の溶液濃度は10質量%以下に希釈して添加すると、添加口付近への緩衝剤の付着が少なく、添加量の誤差が小さくなる点、及び反応性の点で好ましい
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層を構成するポリエステルには、末端封止剤を0.1質量%以上10質量%含有することが好ましい。ここでいう、末端封止剤とはポリエステルの末端のカルボキシル基末端と反応することが可能な置換基を有する化合物のことであり、その置換基の例として、カルボジイミド基、エポキシ基、オキサゾリン基を有する化合物が挙げられる。
 カルボジイミド基を有するカルボジイミド系化合物は一官能性カルボジイミドと多官能性カルボジイミドがあり、一官能性カルボジイミドとしては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジメチルカルボジイミド、ジイソブチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、t-ブチルイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジ-t-ブチルカルボジイミド、ジ-β-ナフチルカルボジイミドなどが挙げられる。特に好ましくはジシクロヘキシルカルボジイミドやジイソプロピルカルボジイミドである。多官能性カルボジイミドとしては、重合度3~15のカルボジイミドが好ましい。具体的には、1,5-ナフタレンカルボジイミド、4,4’-ジフェニルメタンカルボジイミド、4,4’-ジフェニルジメチルメタンカルボジイミド、1,3-フェニレンカルボジイミド、1,4-フェニレンジイソシアネート、2,4-トリレンカルボジイミド、2,6-トリレンカルボジイミド、2,4-トリレンカルボジイミドと2,6-トリレンカルボジイミドの混合物、ヘキサメチレンカルボジイミド、シクロヘキサン-1,4-カルボジイミド、キシリレンカルボジイミド、イソホロンカルボジイミド、イソホロンカルボジイミド、ジシクロヘキシルメタン-4,4’-カルボジイミド、メチルシクロヘキサンカルボジイミド、テトラメチルキシリレンカルボジイミド、2,6-ジイソプロピルフェニルカルボジイミド、1,3,5-トリイソプロピルベンゼン-2,4-カルボジイミドなどが挙げられる。
 また、エポキシ化合物の好ましい例としては、グリシジルエステル系化合物やグリシジルエーテル系化合物などが挙げられる。グリシジルエステル化合物の具体例としては、安息香酸グリシジルエステル、t-Bu-安息香酸グリシジルエステル、P-トルイル酸グリシジルエステル、シクロヘキサンカルボン酸グリシジルエステル、ペラルゴン酸グリシジルエステル、ステアリン酸グリシジルエステル、ラウリン酸グリシジルエステル、パルミチン酸グリシジルエステル、ベヘン酸グリシジルエステル、バーサティク酸グリシジルエステル、オレイン酸グリシジルエステル、リノール酸グリシジルエステル、リノレイン酸グリシジルエステル、ベヘノール酸グリシジルエステル、ステアロール酸グリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ナフタレンジカルボン酸ジグリシジルエステル、メチルテレフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、コハク酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル、ドデカンジオン酸ジグリシジルエステル、オクタデカンジカルボン酸ジグリシジルエステル、トリメリット酸トリグリシジルエステル、ピロメリット酸テトラグリシジルエステルなどを挙げられ、これらは1種または2種以上を用いることができる。グリシジルエーテル化合物の具体例としては、フェニルグリシジルエ-テル、O-フェニルグリシジルエ-テル、1,4-ビス(β,γ-エポキシプロポキシ)ブタン、1,6-ビス(β,γ-エポキシプロポキシ)ヘキサン、1,4-ビス(β,γ-エポキシプロポキシ)ベンゼン、1-(β,γ-エポキシプロポキシ)-2-エトキシエタン、1-(β,γ-エポキシプロポキシ)-2-ベンジルオキシエタン、2,2-ビス-[р-(β,γ-エポキシプロポキシ)フェニル]プロパンおよび2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)プロパンや2,2-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)メタンなどのビスフェノールとエピクロルヒドリンの反応で得られるビスグリシジルポリエーテルなどが挙げられる。これらは単独で用いても、複数で用いてもどちらでも構わない。
 また、オキサゾリン化合物としてはビスオキサゾリン系化合物が好ましく、具体的には、2,2’-ビス(2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-メチル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4,4-ジメチル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-エチル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4,4’-ジエチル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-プロピル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-ブチル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-ヘキシル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-フェニル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-シクロヘキシル-2-オキサゾリン)、2,2’-ビス(4-ベンジル-2-オキサゾリン)、2,2’-p-フェニレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-m-フェニレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-o-フェニレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-p-フェニレンビス(4-メチル-2-オキサゾリン)、2,2’-p-フェニレンビス(4,4-ジメチル-2-オキサゾリン)、2,2’-m-フェニレンビス(4-メチル-2-オキサゾリン)、2,2’-m-フェニレンビス(4,4-ジメチル-2-オキサゾリン)、2,2’-エチレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-テトラメチレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-ヘキサメチレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-オクタメチレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-デカメチレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-エチレンビス(4-メチル-2-オキサゾリン)、2,2’-テトラメチレンビス(4,4-ジメチル-2-オキサゾリン)、2,2’-9,9’-ジフェノキシエタンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-シクロヘキシレンビス(2-オキサゾリン)、2,2’-ジフェニレンビス(2-オキサゾリン)等を例示することができ、これらの中では、2,2’-ビス(2-オキサゾリン)が、ポリエステルとの反応性の観点から最も好ましい。これらは単独で用いても、複数で用いてもどちらでも構わない。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層を構成するポリエステル中の末端封止剤の含有量は、より好ましくはより好ましい範囲は0.3質量%以上8質量%以下、更に0.5質量%以上5質量%以下、特に好ましい範囲は0.5質量%以上2質量%以下である。
末端封止剤が0.1質量%より少ないと、カルボキシル基末端を封止する効果が発現しない場合があるため好ましくなく、10質量%よりも大きいと製膜時に異物もしくは分解ガスが多く発生して、製膜が困難となったり、製膜できたとしても得られたフィルムの耐熱性が低下したりする場合がある。本発明の太陽電池バックシートにおいて、末端封止剤の添加量を0.1質量%以上10質量%以下とすることによって、耐熱性を低下させることなく、耐湿熱性を向上させることができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B1層を構成するポリエステルに末端封止剤として、カルボジイミド系化合物を添加する場合は、B1層中の窒素含有量が0.01質量%以上0.5質量%以下となるように添加し、製膜することがより好ましい。より好ましくは、0.05質量%以上0.3質量%以下、更に好ましくは、0.08質量%以上0.2質量%以下である。窒素含有量が0.01質量%より少ないと、カルボキシル基末端を封止する効果が発現しない場合があるため好ましくなく、0.5質量%よりも大きいと製膜時に異物もしくは分解ガスが多く発生して、製膜が困難となったり、製膜できたとしても得られたフィルムの耐熱性が低下したりする場合がある。本発明の太陽電池バックシートにおいて、B1層中の窒素含有量が0.01質量%以上0.5質量%以下とすることによって、耐熱性を低下させることなく、耐湿熱性をより向上させることができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、B層を構成するB1層には、必要に応じて本発明の効果が損なわれない範囲で、その他添加剤として、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、有機系/無機系の易滑剤、有機系/無機系の微粒子、充填剤、核剤、染料、分散剤、カップリング剤等の添加剤や、気泡が配合されていてもよい。たとえば、太陽電池の発電効率を高めるためには、B1層に反射性を発現させることが好ましくその場合は有機系/無機系の微粒子や気泡を含有させれば良く、また、意匠性を付与するため着色するためには着色したい色の材料を添加すればよい。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、基材層(B層)は上述の要件を満たすB1層のみで形成されてもよく、その他の別の層(B2層)との積層構造であっても構わない。また、フィルムの厚みは10μm以上500μm以下が好ましく、20μm以上300μm以下がより好ましい。更に好ましくは、25μm以上200μm以下である。厚みが10μm未満の場合、フィルムの平坦性を確保することが困難となる。一方、500μmより厚い場合、太陽電池に用いた場合、厚みが大きくなりすぎることがある。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、基材層(B層)がB1層を含む積層構造である場合、B1層の厚みがB層全体の厚みに対して20%以上であるのが好ましく、より好ましくは30%以上、更に好ましくは50%以上である。20%に満たないと、耐湿熱特性が劣ることがある。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、基材層(B層)には、A層や、他のシート材料、発電素子を埋包しているエチレンビニルアセテートとの密着性の改善のための易接着層や、耐衝撃性を高めるためにハードコート層や、耐紫外線性を有するための耐紫外線層、難燃性付与のための難燃層など、更に別の機能を有する層(C層)を設けても良い。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、基材層(B層)を構成するB1層および/またはB2層に、気泡を含むことが好ましい。気泡含有させることによって、基材層を低誘電率化することが可能となる結果、部分放電電圧をより向上させることができる。気泡の含有率は10体積%以上が好ましく、より好ましくは20体積%以上、更に好ましくは、30体積%以上含むのが好ましい。上限は特に制限はないが80体積%以上となると、フィルムが劈開しやすく、それにより、バックシート用フィルムの機械強度が低下することがある。
 次に、本発明の太陽電池バックシート用フィルム製造方法について、その一例を説明するが、本発明は、かかる例のみに限定されるものではない。
 まず、基材層(B層)を構成する原料の製造方法は、ポリエステル系樹脂の場合、以下の方法で製造することができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルム製造方法において、その原料となる樹脂は、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸、ダイマー酸、エイコサンジオン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸等の脂肪族ジカルボン酸類、アダマンタンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、イソソルビド、シクロヘキサンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、などの脂環族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、1,5-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、1,8-ナフタレンジカルボン酸、4,4’-ジフェニルジカルボン酸、4,4’-ジフェニルエーテルジカルボン酸、5-ナトリウムスルホイソフタル酸、フェニルエンダンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン、9,9’-ビス(4-カルボキシフェニル)フルオレン酸等芳香族ジカルボン酸などのジカルボン酸、もしくはそのエステル誘導体と、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、イソソルビドなどの脂環式ジオール類、ビスフェノールA、1,3―ベンゼンジメタノール,1,4-ベンセンジメタノール、9,9’-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、などの芳香族ジオール類等のジオール類を周知の方法でエステル交換反応させることによって得ることができる。従来公知の反応触媒としてはアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、亜鉛化合物、鉛化合物、マンガン化合物、コバルト化合物、アルミニウム化合物、アンチモン化合物、チタン化合物、リン化合物などを挙げることが出来る。好ましくは、通常ポリエステル樹脂の製造方法が完結する以前の任意の段階に置いて、重合触媒としてアンチモン化合物またはゲルマニウム化合物、チタン化合物を添加することが好ましい。このような方法としては例えば、ゲルマニウム化合物を例に取ると、ゲルマニウム化合物粉体をそのまま添加することが好ましい。
 このような方法としては例えば、ゲルマニウム化合物を例に取ると、ゲルマニウム化合物粉体をそのまま添加することが好ましい。重合触媒としてアンチモン化合物、および/またはゲルマニウム化合物を用いる場合は、そのアンチモン元素、ゲルマニウム元素として50ppm以上300ppm以下であることが重縮合反応性、固相重合反応性の点から好ましく、さらには50以上200ppm以下であることが耐熱性、耐湿熱性の点から好ましい。300ppmを超えると重縮合反応性、固相重合反応性は向上するものの、再溶融時の分解反応も促進されるため、カルボン酸末端基が増加し、耐熱性、耐湿熱性が低下する原因となることがある。好適に使用されるアンチモン化合物、ゲルマニウム化合物としては、五酸化アンチモン、三酸化アンチモン、二酸化ゲルマニウムを挙げることができ、それぞれ目的に応じて使い分けることができる。例えば、色調が最も良好となるのはゲルマニウム化合物であり、固相重合反応性が良好となるのはアンチモン化合物、環境面を配慮し、非アンチモン系で製造する場合には、チタン触媒が重縮合反応や固相重合の反応性が良好となる点で好ましい。
 重縮合触媒としてチタン化合物を使用する場合、チタン元素として0.1ppm以上20ppm以下とすることが重縮合反応性、固相重合反応性の点から好ましい。チタン元素量が20ppmを超えると重縮合反応性、固相重合反応性は向上するものの、耐熱性、耐湿熱性、色調が低下する原因となることがある。重縮合触媒として使用されるチタン触媒としては、テトラブトキシチタネートやテトライソプロピルチタネートなどのアルコキシドや、チタンと乳酸、クエン酸などとのチタンキレート化合物などを挙げることができ、中でもチタンキレート化合物であることが耐熱性、耐湿熱性、色調の点から好ましい。
 重縮合触媒としてチタン化合物を用いる場合、緩衝剤としてはフタル酸水素カリウム、クエン酸水素二ナトリウム、クエン酸二水素ナトリウム、クエン酸二水素カリウム、クエン酸水素二カリウム、炭酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウム、乳酸ナトリウム、乳酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのリン系以外の緩衝剤を用いると、重縮合反応性、固相重合反応性を損なうことなく、耐湿熱性の向上を図る上で好ましい。また、緩衝剤として下記式(I)の化合物を用いる場合は、チタン化合物を添加する5分以上前、または5分以上後に緩衝剤を添加することで重縮合反応性、固相重合反応性を損なうことなく、耐湿熱性の向上を図る上で好ましい。
POxHyMz ・・・(I)
(ここで、xは2~4の整数、yは1または2、zは1または2であり、Mはアルカリ金属である。)。
 また、エステル化反応、重縮合反応は、従来の方法で行うことができ、エステル化反応終了から重縮合反応初期(固有粘度0.3未満)までの間に、耐熱安定剤としてリン酸やリン酸エステル、重縮合触媒としてアンチモン化合物やゲルマニウム化合物、またはチタン化合物をそれぞれ添加することが好ましい。また、緩衝剤を重合段階で添加する場合は緩衝剤もこの段階で添加するのが好ましい。その添加順序としては、耐熱安定剤、重縮合触媒、緩衝剤の順で添加間隔を5分以上あけることが重縮合反応性、耐湿熱性の点から好ましい。
 また、B1層を構成するポリエステルに末端封止剤を含有させる場合には、事前に均一に溶融混練して配合させて作製されたマスターチップを用いても、もしくは直接混練押出機に供給するなどしてもよいが、本発明においては、二軸押出機を用いて事前に溶融混練して配合されたマスターバッチを用いる、もしくは二軸押出機で溶融混練後直接製膜するのが、末端封止剤の分散性の点から好ましい。
 また、B1層を構成するポリエステルの質量平均分子量を37500以上60000以下にコントロールするためには、質量平均分子量を36000程度の通常の分子量のポリエステル系樹脂を重合した後、190℃以上熱可塑性樹脂の融点未満の温度で、減圧または窒素ガスのような不活性気体の流通下で加熱する、いわゆる固相重合したチップを原料として用いるのが好ましい。また、B1層を構成するポリエステルの数平均分子量を18500以上40000以下にコントロールするためには、上記の方法で一旦、数平均分子量が18000程度の通常の分子量のポリエステル系樹脂を重合した後、190℃以上熱可塑性樹脂の融点未満の温度で、減圧または窒素ガスのような不活性気体の流通下で加熱する、いわゆる固相重合したうえで、窒素雰囲気下で滞留時間を短く押出する方法が好ましい。該方法は熱可塑性樹脂の末端カルボキシル基量を増加させることなく質量平均分子量や、数平均分子量を高めることができる点で好ましく行われる。
 次に、基材層(B層)の製造方法は、B層がB1層のみからなる単膜構成の場合、B1層用原料を押出機内で加熱溶融し、口金から冷却したキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法(溶融キャスト法)を使用することができる。その他の方法として、B1層用の原料を溶媒に溶解させ、その溶液を口金からキャストドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して膜状とし、次いでかかる膜層から溶媒を乾燥除去させてシート状に加工する方法(溶液キャスト法)等も使用することができる。
 また、B層がB1層を含む積層構造の場合の製造方法は以下の通りである。積層する各層の材料が熱可塑性樹脂を主たる構成とする場合は、二つの異なる熱可塑性樹脂を二台の押出機に投入し、溶融して口金から冷却したキャストドラム上に共押出してシート状に加工する方法(共押出法)、単膜で作製したシートに被覆層原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法(溶融ラミネート法)、B1層と積層する材料をそれぞれ別々に作製し、加熱されたロール群などにより熱圧着する方法(熱ラミネート法)、接着剤を介して張り合わせる方法(接着法)、その他、積層する材料の形成用材料を溶媒に溶解させ、その溶液をあらかじめ作製していたB1層上に塗布する方法(コーティング法)、およびこれらを組み合わせた方法等が使用することができる。
 また、積層する材料が、熱可塑性樹脂でない場合は、B1層と積層する材料をそれぞれ別々に作製し、接着剤などを介して張り合わせる方法(接着法)や、硬化性材料の場合はB1層上に塗布した後に電磁波照射、加熱処理などで硬化させる方法等が使用することができる。 
 また、基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層として一軸もしくは、二軸延伸されたフィルム基材を選択した場合、その製造方法として、まず、押出機(積層構造の場合は複数台の押出機)に原料を投入し、溶融して口金から押出し(積層構造の場合は共押出)し、冷却した表面温度10℃以上60℃以下に冷却されたドラム上で静電気により密着冷却固化し、未延伸フィルムを作製する。この未延伸フィルムを70℃以上140℃以下の温度に加熱されたロール群に導き、長手方向(縦方向、すなわちフィルムの進行方向)に3倍以上5倍以下に延伸し、20℃以上50℃以下の温度のロール群で冷却する。
 続いて、フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、80℃以上150℃以下の温度に加熱された雰囲気中で、長手方向に直角な方向(幅方向)に3倍以上5倍以下に延伸する。延伸倍率は、長手方向と幅方向それぞれ3倍以上5倍以下とするが、その面積倍率(縦延伸倍率×横延伸倍率)は9倍以上16倍以下であることが好ましい。面積倍率が9倍未満であると、得られる二軸延伸フィルムのフィルム強度、耐湿熱性が不十分となり、逆に面積倍率が16倍を超えると延伸時に破れを生じ易くなる傾向がある。二軸延伸する方法としては、上述の様に長手方向と幅方向の延伸とを分離して行う逐次二軸延伸方法の他に、長手方向と幅方向の延伸を同時に行う同時二軸延伸方法のどちらであっても構わない。
 得られた二軸延伸フィルムの結晶配向を完了させて、平面性と寸法安定性を付与するために、引き続きテンター内にて好ましくは原料となる樹脂のTg以上融点未満の温度で1秒間以上30秒間以下の熱処理を行ない、均一に徐冷後、室温まで冷却する。一般に熱処理温度Tsが低いとフィルムの熱収縮が大きいため、高い熱寸法安定性を付与するためには熱処理温度は高い方が好ましい。しかしながら、熱処理温度を高くしすぎると配向結晶性が低下し、その結果形成されたフィルムが耐加水分解性に劣ることがある。そのため、本発明の太陽電池バックシート用フィルムの熱処理温度Tsは40℃≦TmB1-Ts≦90℃とすることが好ましい。より好ましくは、熱処理温度Tsを50℃≦TmB1-Ts≦80℃、更に好ましくは55℃≦TmB1-Ts≦75℃とするのがよい。さらには、本発明の太陽電池バックシート用フィルムは太陽電池のバックシートとして用いられるが、使用時には雰囲気温度が100℃程度まで上昇することがあるため、熱処理温度Tsとしては、160℃以上TmB1―40℃(ただし、TmB1-40℃>160℃)以下であるのが好ましい。より好ましくは170℃以上TmB1―50℃(ただし、TmB1-50℃>170℃)以下、更に好ましくはTsが180℃以上TmB1―55℃(ただし、TmB1-55℃>180℃)以下である。なお、Tsを制御することによって、TmetaB1を制御することができる。また、上記熱処理工程中では、必要に応じて幅方向あるいは長手方向に3~12%の弛緩処理を施してもよい。続いて必要に応じて、他素材との密着性をさらに高めるためにコロナ放電処理などを行い、巻き取ることにより、本発明の太陽電池バックシート用フィルムの基材層を形成することができる。
 次に導電性を有する層(A層)を基材層(B層)上に形成する方法としては、蒸着法、スパッタ法などの乾式法、めっき法などの湿式法、複数台の押出機を用いて、B層用の原料とA層用の原料をそれぞれ別の押出機内で溶融して口金から冷却したキャストドラム上に共押出してシート状に加工する方法(共押出法)、単膜で作製した基材層(B層)にA層用原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法(溶融ラミネート法)、基材層(B層)とA層をそれぞれ別々に作製し、加熱されたロール群などにより熱圧着する方法(熱ラミネート法)、接着剤を介して張り合わせる方法(接着法)、その他、A層用原料を溶媒に溶解させ、その溶液をあらかじめ作製していた基材層(B層)上に塗布する方法(コーティング法)、およびこれらを組み合わせた方法等が使用することができる。
 A層が主として有機系の材料から構成される場合や、有機系/無機系複合導電性材料で、前述したi)マトリックスとして非導電性の非水溶性樹脂を用い、導電性材料として無機系の導電性材料を用いた場合、ii)有機系導電性材料と無機系導電性材料を併用した場合、iii)有機系導電性材料に無機系の非導電性材料を併用した場合は、これら上述した方法のうちでは、形成されるA層の形成が容易である、共押出法、コーティング法が、より好ましい形成方法である。
 共押出法によりA層を基材層(B層)上に形成する方法としては、複数台の押出機を用いて、B層用および/またはB層を構成するB1層用原料、A層用原料をそれぞれ別の押出機内で溶融して口金から共押出し、表面温度10℃以上60℃以下に冷却されたドラム上に静電気により密着冷却固化することで、B層および/またはB層を構成するB1層上にA層を形成したシートを得ることができる。
 また、基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層が一軸、もしくは二軸に延伸されたフィルム基材の場合は、上述のA層用原料と基材層(B層)用原料および/またはB層を構成するB1層が積層されたシートを前述の方法と同様の方法にて、延伸することで得ることができる。
 また、コーティング法によりA層を基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層上に形成する方法としては、基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層の製膜中に塗設するインラインコーティング法、製膜後の基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層に塗設するオフラインコーティング法があげられ、どちらでも用いることが出来るが、より好ましくは基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層の製膜と同時にできて効率的であり、かつA層の基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層への接着性が高いという理由からインラインコーティング法が好ましく用いられる。また、塗設する際には、塗布液の支持体上への濡れ性向上、接着力向上の観点から基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層表面へコロナ処理なども好ましく行われる。
 上記コーティング法により、A層を基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層上へ形成する方法としては、上述のA層を構成する材料を溶媒に溶解/分散させた塗液を基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層上に塗布、乾燥する手段が好ましく用いられる。この際、用いる溶媒は任意であるが、特にインラインコーティング法においては、安全性の点から水を主たる成分として用いることが好ましい。その場合、塗布性や、溶解性などの改良のため、水に溶解する有機溶剤を少量添加させても構わない。
 またA層が主として無機系の材料から構成される場合は、これら上述した方法のうちでは、形成されるA層の制御が容易でかつ基材への密着性、均一性に優れる蒸着法およびスパッタ法などの乾式法が、より好ましい形成方法である。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルム製造方法において、乾式法によりA層を形成する方法としては、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、誘導加熱蒸着および、これらにプラズマやイオンビームによるアシスト法などの真空蒸着法、反応性スパッタリング法、イオンビームスパッタリング法、ECR(電子サイクロトロン)スパッタリング法などのスパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理的気相成長法(PVD法)、熱や光、プラズマなどを利用した化学的気相成長法(CVD法)などが挙げられる。
 ここで、A層を形成する材料が無機酸化物、無機窒化物、無機酸窒化物、無機ハロゲン化物、無機硫化物などを主たる構成成分とする場合は、形成するA層の組成と同一の材料を直接揮発させて基材層(B層)および/またはB層を構成するB1層の表面に堆積させることも可能であるが、この方法で行う場合には、揮発中に組成が変化し、その結果、形成された膜が均一な特性を呈さない場合がある。そのため、1)揮発源として形成するA層と同一組成の材料を用い、無機酸化物の場合は酸素ガスを、無機窒化物の場合は窒素ガスを、無機酸窒化物の場合は酸素ガスと窒素ガスの混合ガスを、無機ハロゲン化物の場合はハロゲン系ガスを、無機硫化物の場合は硫黄系ガスを、それぞれ系内に補助的に導入しながら揮発させる方法、2)揮発源として無機物群を用い、これを揮発させながら、無機酸化物の場合は酸素ガスを、無機窒化物の場合は窒素ガスを、無機酸窒化物の場合は酸素ガスと窒素ガスの混合ガスを、無機ハロゲン化物の場合はハロゲン系ガスを、無機硫化物の場合は硫黄系ガスを、それぞれ系内に導入し、無機物と導入したガスを反応させながら基材1表面に堆積させる、3)揮発源として無機物群を用い、これを揮発させて、無機物群の層を形成させた後、それを無機酸化物の場合は酸素ガス雰囲気下、無機窒化物の場合は窒素ガス雰囲気下、無機酸窒化物の場合は酸素ガスと窒素ガスの混合ガス雰囲気下、無機ハロゲン化物の場合はハロゲン系ガス雰囲気下、無機硫化物の場合は硫黄系ガス雰囲気下で保持することにより無機物層と導入したガスを反応させる、等が挙げられる。これらのうち、揮発源から揮発させることが容易であるという点で2)または3)がより好ましく用いられる。さらには、膜質の制御が容易である点で2)の方法が更に好ましく用いられる。また、A層が無機酸化物の場合は、揮発源として無機物群を用い、これを揮発させて、無機物群の層を形成させた後、空気中で放置することで、無機物群を自然酸化させる方法も、形成が容易であるという点で、好ましく用いられる。 
 ここで、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにおいて、乾式法によりA層を形成する場合は、A層のA面の表面比抵抗R0はガスによる反応の度合いによって調整することができる。反応の度合いは、導入ガスの流量、温度などにより調整することができる。反応させる度合いが少ない場合は表面比抵抗R0が低くなり、反応させる度合いが多い場合は表面比抵抗R0が高くなる。最適な条件は使用する金属種、反応させるガス、装置などにより変わるが、表面比抵抗R0が上述の要件を満たす様に、条件を調整して形成すればよい。
 また、PVD法にてA層を形成する場合、揮発前に減圧する際、系内の真空度を高くすることが好ましい。系内の真空度を高くすることで、緻密で、欠点の少ないA層を形成することが可能となり、A層を均一に形成することができる。
 また、A層が積層構造からなる場合は、無機物群が異なる場合は複数の揮発源を備えた装置を用い、第一層を形成した後に揮発源を変えて第二層、第三層と形成していけばよく、また同一の無機物群で反応の程度および/もしくは反応ガスの種類が異なるのみである場合は、第一層を形成した後に、導入ガスの流量、および/または導入ガスの種類を変更して第二層、第三層・・・と形成すればよい。
 また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムのA層を構成する材料が有機系/無機系複合導電性材料の場合でiv)の場合、用いる材料の種類、組成、などにより上述の製造方法のうちから適宜選択して形成することができる。
 本発明の太陽電池バックシート用フィルムは、上述の工程により形成することができ、得られたフィルムは、従来のフィルムと比べて、薄くても、部分放電電圧が高いことが特徴としてあげられる。
 本発明の太陽電池バックシートは上述の太陽電池バックシート用フィルムを含むことを特徴とする。本発明の太陽電池バックシート用フィルムが従来のフィルムと比べて薄くても、部分放電電圧が高いため、バックシートを薄くすることが可能である。
 本発明の太陽電池バックシートの構成は、上述の太陽電池バックシートを用いていれば任意の構成を用いることができ、本発明の太陽電池バックシートに発電素子を封止するEVAとの密着性を向上させるEVA密着層、EVA密着層との密着性を挙げるためのアンカー層、水蒸気バリア層、紫外線劣化を防ぐための紫外線吸収層、発電効率を高めるための光反射層、意匠性を発現させるための光吸収層、各層を接着するための接着層などを形成させることによって本発明の太陽電池バックシートを構成する。
 EVA密着層は発電素子を封止するEVA系樹脂との密着性を向上させる層であって、最も発電素子に近い側に設置され、バックシートとシステムとの接着に寄与する。その材料はEVA系の樹脂との密着性が発現されれば特に制限はなく、例えばEVAや、EVAとエチレン-メチルアクリレート共重合体(EMA)、エチレン-エチルアクリレート共重合体(EEA)、エチレン-ブチルアクリレート共重合体(EBA)、エチレン-メタクリル酸共重合体(EMAA)、アイオノマー樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂などの混合物が好ましく用いられる。
 また、必要に応じてEVA密着層のバックシートへの密着性を向上させるため、アンカー層を形成することも好ましく行われる。その材料はEVA密着層との密着性が発現されれば特に制限はなく、例えばアクリル樹脂やポリエステル樹脂など樹脂を主たる構成成分とする混合物が好ましく用いられる。
 水蒸気バリア層は太陽電池を構成した際に発電素子の水蒸気の劣化を防ぐため、バックシート側からの水蒸気の進入を防ぐための層である。酸化珪素、酸化アルミニウム等の酸化物やアルミニウム等の金属層を真空蒸着やスパッタリングなどの周知の方法でフィルム表面に設けることにより形成される。その厚みは通常100オングストローム以上200オングストローム以下の範囲であるのが好ましい。
 この場合、本発明の太陽電池バックシート用フィルム上に直接ガスバリア層を設ける場合と別のフィルムにガスバリア性を設け、このフィルムを本発明のフィルム表面に積層する場合いずれも好ましく用いられる。また、金属箔(たとえばアルミ箔)をフィルム表面に積層する方法も用いることができる。この場合の金属箔の厚さは10μm以上50μm以下の範囲が、加工性とガスバリア性から好ましい。
 紫外線吸収層は、内層の樹脂の紫外線劣化を防ぐために紫外線を遮断するための層であって、380nm以下の紫外線を遮断する機能を有していれば任意のものを用いることができる。
 光反射層は、光を反射する層であって、本層を形成することによって、内層の樹脂の紫外線劣化を防止したり、太陽電池システムに吸収されずにバックシートまで到達した光を反射してシステム側に返すことで発電効率を高めるために用いる層であって、酸化チタンや硫酸バリウムなどの白色顔料や、気泡などを含有した層である。
 光吸収層は、光を吸収する層であって、本層を形成することによって、内層の樹脂の紫外線劣化を防止したり、太陽電池の意匠性を向上させるために用いる層である。
 上記の各層と本発明のフィルムを、組み合わせることで、本発明の太陽電池バックシートが形成される。なお、本発明の太陽電池バックシートにおいて、上述の層はすべて独立した層として形成する必要はなく、複数の機能を兼ね備えた機能統合層として形成するのも好ましい形態である。また、本発明の太陽電池バックシート用フィルムにすでに機能を有する場合は省略することも可能である。例えば、本発明のバックシート用フィルムが白色顔料や気泡を含有して光反射性を有する場合は光反射層、光吸収剤を含有して光吸収性を有している場合には吸収層を、紫外線吸収剤を有する場合は紫外線吸収層を省略することができる場合がある。
 また、ガスバリア層については、本発明のフィルム上に直接ガスバリア層を設ける場合と別のフィルムにガスバリア性を有する層設け、このフィルムを本発明のポリエステルフィルム表面に積層する場合いずれも好ましく用いられる。また、金属箔(たとえばアルミ箔)をフィルム表面に積層する方法も用いることができる。この場合の金属箔の厚さは10μm以上50μm以下の範囲が、加工性とガスバリア性から好ましい。
 ここで、本発明の太陽電池バックシートは、従来のフィルムに比べて部分放電電圧が高く、これを用いてバックシートを形成すると、従来のバックシートと比べて、部分放電電圧を高めることが可能となる。本発明の太陽電池バックシートにおいて、太陽電池バックシートの両表層が本発明のフィルム以外の層で形成されていても良いし、少なくとも一方の表層が本発明のフィルムにて形成されても良い。いずれも従来のフィルムに比べて、部分放電電圧が高いため、太陽電池バックシートの安全性を向上させることができたり、厚みを薄くしたりすることができる。より好ましくは、太陽電池バックシートの少なくとも片側表面を表面比抵抗R0が10Ω/□以上1014Ω/□以下である面(以下A1面とする)を有する構成のバックシートとする、更にはA1面を本発明の太陽電池バックシート用フィルムのA面であるのが、部分放電電圧をより高めることができるという点でより好ましい。さらには、少なくとも片側の表面が本発明の太陽電池バックシート用フィルムのA面となるように構成されるのが好ましい。この構成とすることによって、バックシートの内側にA面となる構成よりも、部分放電電圧をより高くすることができ、その結果、太陽電池バックシートの耐電気特性を高めたり、バックシートの厚さをより薄くすることが可能となる。
 本発明の太陽電池バックシートは、A1面を有するように構成された場合、A1面と反対側の表面の表面比抵抗R3が1014Ω/□以上であることが好ましい。後述するように、本発明の太陽電池バックシート用フィルムを太陽電池システムに組み込む際には、発電素子を封止した樹脂層の反対側の面をA1層とすることがより高耐久の太陽電池としたり、厚さを薄くすることができるといった点から好ましい構成となる。ここで、本発明の太陽電池バックシートのA1面と反対側の表面の表面比抵抗R3が1014Ω/□以上とすると、太陽電池バックシートの耐電気特性が低下する場合があったり、リード線から電気エネルギーを取り出す際に、取り出し効率が低下して発電効率が低下する場合があるためである。
 本発明の太陽電池バックシートの厚みは20μm以上500μm以下が好ましく、25μm以上300μm以下がより好ましい。更に好ましくは、30μm以上200μm以下である。厚みが10μm未満の場合、フィルムの平坦性を確保することが困難となる。一方、500μmより厚い場合、太陽電池に搭載した場合、太陽電池の厚みが大きくなりすぎることがある。
 本発明の太陽電池は、本発明の太陽電池バックシート含むことを特徴とする。本発明の太陽電池バックシートは従来のバックシートより部分放電電圧が高いという特徴生かして、従来の太陽電池と比べて高耐久としたり、薄くすることが可能となる。
 図1の、透光性を有する基材4は太陽電池の最表層に位置するため、高透過率のほかに、高耐候性、高耐汚染性、高機械強度特性を有する透明材料が使用される。本発明の太陽電池において、透光性を有する基材4は上記特性と満たせばいずれの材質を用いることができる。その例としてはガラス、四フッ化エチレン-エチレン共重合体(ETFE)、ポリフッ化ビニル樹脂(PVF)、ポリフッ化ビニリデン樹脂(PVDF)、ポリ四フッ化エチレン樹脂(TFE)、四フッ化エチレン-六フッ化プロピレン共重合体(FEP)、ポリ三フッ化塩化エチレン樹脂(CTFE)、ポリフッ化ビニリデン樹脂などのフッ素系樹脂、オレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、およびこれらの混合物などが好ましく挙げられる。また樹脂製の透光基材の場合は、機械的強度の観点から、上記樹脂を一軸または二軸に延伸されていても良く、また、基材表面に、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、易接着処理を施されていてもよい。
 発電素子を封止するための樹脂2は、外部環境から発電素子保護し、電気絶縁、透光性を有する基材やバックシートと発電素子に接着する機能を有するもので、その例としては、エチレン-ビニルアセテート共重合体(EVA)、エチレン-メチルアクリレート共重合体(EMA)、エチレン-エチルアクリレート共重合体(EEA)樹脂、エチレン-メタクリル酸共重合体(EMAA)、アイオノマー樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、およびこれらの混合物などが代表例として挙げられる。
 ここで、本発明の太陽電池において、上述の太陽電池バックシート1は発電素子を封止した樹脂層2の背面に設置されるが、上述の太陽電池バックシートがA1面を有するように構成された場合、A1面は樹脂層2側(図1の5)になるように配置されていても良いし、樹脂層2と反対側(図1の6)になるように配置されていてもよい。いずれの構成であっても、本発明の太陽電池バックシートは従来のものに比べて薄くても部分放電電圧が高いため、太陽電池システムの耐久性を高めたり、厚さを薄くすることができる。より好ましくは、上述の太陽電池バックシートのA1面が、樹脂層と反対側(図1の6)となる構成とするのがより好ましい。この構成とすることによって、A1面が樹脂層側(図1の5)となる構成よりも、より高耐久の太陽電池としたり、厚さを薄くすることができる。
 以上のように、本発明のバックシートを太陽電池システムに組み込むことにより、従来の太陽電池と比べて、高耐久および/または薄型の太陽電池システムとすることが可能となる。
 本発明の太陽電池は、太陽光発電システム、小型電子部品の電源など、屋外用途、屋内用途に限定されず各種用途に好適に用いることができる。
 [特性の評価方法]
 A.表面比抵抗R0、R1、R2、R3
 フィルムの表面比抵抗R0、R2、およびバックシートのA面とは反対側の表面比抵抗R3はデジタル超高抵抗微小電流計R8340(株)アドバンテスト製で測定した。ただし、表面比抵抗が10Ω/□以下の場合は、ASPプローブを備えたロレスターEP((株)ダイアインスツルメンツ製)で測定した。なお、測定はフィルム面内において任意の10カ所で測定を実施し、その平均値でもって、表面比抵抗R0とした。また、測定試料は温度23℃、湿度65%RHの室内で一晩放置したものを用いて測定した。また、表面比抵抗R1はフィルムをタバイエスペック(株)製プレッシャークッカーにて、温度125℃、湿度100%RHの条件下24時間処理を行った後、処理後のサンプルの表面比抵抗R1を上述と同じ方法で測定した。なお、測定はフィルム面内において任意の10カ所で測定を実施し、その平均値でもって、表面比抵抗R1とした。また、測定試料は処理後プレッシャークッカーから取り出した後、温度23℃、湿度65%RHの室内で一晩放置したものを用いて測定を実施した。
 B.破断伸度、伸度保持率
 破断伸度はASTM-D882(1999)に基づいて、サンプルを1cm×20cmの大きさに切り出し、チャック間5cm、引っ張り速度300mm/minにて引っ張ったときの破断伸度を測定した。なお、測定は5サンプルについて測定を実施しその平均値でもって破断伸度E0とした。次に、試料を測定片の形状(1cm×20cm)に切り出した後、タバイエスペック(株)製プレッシャークッカーにて、125℃、湿度100%の条件下24時間処理を行った後、処理後のサンプルの破断伸度をASTM-D882(1999)に基づいて、チャック間5cm、引っ張り速度300mm/minにて引っ張ったときの破断伸度を測定した。なお、測定は5サンプルについて測定を実施しその平均値でもって破断伸度E1とした。得られた破断伸度E0、E1を用いて、下記式(1)により伸度保持率を算出した。
伸度保持率(%)=E1/E0×100   (1)
得られた伸度保持率について、以下のように判定した。
伸度保持率が70%以上の場合:S
伸度保持率が60%以上70%未満の場合:A
伸度保持率が50%以上60%未満:B
伸度保持率が50%未満:C
SまたはAまたはBが良好であり、Sが最も優れている。
 C.質量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)
 カラムとしてShodex HFIP 806M (昭和電工(株)製)を2本、検出器としてRI型(2414型、感度256、WATERS社製)を搭載したゲル浸透クロマトグラフ GCP-244(WATERS社製)を使用し、PET-DMT(標準品)を用いて室温(23℃)、流速0.5mL/minでGPC測定を行った。得られた溶出容積(V)及び分子量(M)を用いて下記式(2)の3次の近似式の係数(A)を計算して校正曲線を作図した。
Log(M)=A+AV+A+A   (2)
 次に、溶媒としてヘキサフルオロプロパノール(0.005N-トリフルオロ酢酸ソーダ)を用い、B1層を0.06質量%となるように溶解させた溶液を作製し、その溶液を用いてGPC測定を行った。なお、測定条件は任意ではあるが、本測定においては、インジェクション量0.300ml、流速は0.5ml/minで実施した。
得られた溶出曲線分子量曲線と分子量校正曲線を重ね合わせ、各流出時間に対応する分子量を求め、下記式(3)により算出した値でもって、質量平均分子量を求めた。
質量平均分子量(Mw)=Σ(Ni・Mi)/Σ(Ni・Mi)   (3)
また、下記式(4)により算出した値でもって、数平均分子量を求めた。
数平均分子量(Mn)=ΣNi・Mi/ΣNi   (4)
(ここで、Niはモル分率、Miは分子量較正曲線を介して得られたGPC曲線の各溶出位置の分子量である。)
なお、基材層(B層)が積層構造の場合は、他の層を剥離したり、顕微鏡観察しながら該当フィルムを研磨したりしてB1層のみとしたサンプルを用いて測定を実施した。
 D.微少吸熱ピーク温度TmetaB1,融点TmB1
 B1層の微少吸熱ピーク温度TmetaB1、融点TmB1は、JIS K7122(1999)に準じて、セイコー電子工業(株)製示差走査熱量測定装置“ロボットDSC-RDC220”を、データ解析にはディスクセッション“SSC/5200”を用いて測定を実施した。サンプルパンにB1層を5mgずつ秤量し、昇温速度は20℃/min、1stRunで樹脂を25℃から300℃まで20℃/分の昇温速度で加熱し、その状態で5分間保持し、次いで25℃以下となるよう急冷し、2ndRunとして再度室温から20℃/分の昇温速度で300℃まで昇温を行って測定を行った。得られた1stRunの示差走査熱量測定チャートにおける結晶融解ピーク前の微少吸熱ピーク温度でもってTmetaB1、また2ndRunの結晶融解ピークにおけるピークトップの温度でもってB1層のTmB1とした。
 E.部分放電電圧
 部分放電試験器KPD2050(菊水電子工業(株)製)を用い、部分放電電圧を求めた。なお試験条件は下記のとおりとする。
・出力シートにおける出力電圧印加パターンは、1段階目が0Vから所定の試験電圧までの単純に電圧を上昇させるパターン、2段階目が所定の試験電圧を維持するパターン、3段階目が所定の試験電圧から0Vまでの単純に電圧を降下させるパターンの3段階からなるパターンのものを選択する。
・周波数は50Hzとする。試験電圧は1kVとする。
・1段階目の時間T1は10sec、2段階目の時間T2は2sec、3段階目の時間T3は10secとする。
・パルスカウントシートにおけるカウント方法は「+」(プラス)、検出レベルは50%とする。
・レンジシートにおける電荷量はレンジ1000pcとする。
・プロテクションシートでは、電圧のチェックボックスにチェックを入れた上で2kVを入力する。また、パルスカウントは100000とする。
・計測モードにおける開始電圧は1.0pc、消滅電圧は1.0pcとする。
なお、測定は、A面側を上部電極側とする場合、A面側を下部電極側にする場合、それぞれについてフィルム面内において任意の10カ所で測定を実施し、その平均値を求め、それぞれの平均値のうちより高い方の値でもって、部分放電電圧V0とした。また、測定試料は、23℃、65%RHの室内で一晩放置したものを用いて測定を実施した。
また、湿熱処理後の部分放電電圧V1はフィルムをタバイエスペック(株)製プレッシャークッカーにて、温度125℃、湿度100%RHの条件下24時間処理を行った後、処理後の部分放電電圧V1を測定した。なお、測定は、A面側を上部電極側とする場合、A面側を下部電極側にする場合、それぞれについてフィルム面内において任意の10カ所で測定を実施し、その平均値を求め、それぞれの平均値のうちより高い方の値でもって、部分放電電圧V1とした。また、測定試料は処理後プレッシャークッカーから取り出した後、温度23℃、湿度65%RHの室内で一晩放置したものを用いて測定を実施した。
また、耐光(UV)試験後の部分放電電圧V2はフィルムを紫外線劣化促進試験機アイスーパーUVテスターSUV-W131(岩崎電気(株)製)を用いて、ライト24時間(照度:100mW/cm、温湿度:60℃×50%RH)なる条件で4時間紫外線照射試験を行い、処理後の部分放電電圧V2を測定した。なお、測定はフィルム面内において任意の10カ所で測定を実施し、測定試料は処理後紫外線劣化促進試験機から取り出した後、温度23℃、湿度65%RHの室内で一晩放置したものを用いて測定を実施した。また、A面側を上部電極側とする場合、B面側を上部電極側にする場合、それぞれについて上記測定を実施し、それぞれの平均値のうちより高い方の値でもって、部分放電電圧V2とした。
 F.窒素含有率
 B1層のみを削りだし、それを真空中40℃で5時間乾燥処理した後、柳本分析工業社製、全自動元素分析装置varioELを使用して窒素含有量を求めた。
 G.気泡含有率
 下記(A1)~(A5)の手順にて求めた。なお、測定は10ヶ所場所を変えて測定し、その平均値でもって気泡含有層の気泡含有率とした。
(A1)ミクロトームを用いて、フィルム断面を厚み方向に潰すことなく、フィルム面方向に対して垂直に切断する。
(A2)次いで切断した断面を、電子顕微鏡を用いて観察し、2000倍に拡大観察した画像を得る。なお、観察場所は気泡含有層内において無作為に定めるものとするが、画像の上下方向がフィルムの厚み方向と、画像の左右方向がフィルム面方向とそれぞれ平行になるようにするものとする。
(A3)前記(A2)で得られる画像中における気泡含有層の面積を計測し、これをAとする。
(A4)画像中の気泡含有層内に存在する全ての気泡の面積を計測し、総面積をBとする。ここで、計測対象とするのは、気泡の全体が画像内に収まっているものに限られず、画像内に一部のみが現われている気泡も含むものとする。
(A5)BをAで除し(B/A)、それに100を乗じることにより、気泡含有層の気泡含有率(体積%)を算出した。
 H.固有粘度
オルトクロロフェノール100mlにB1層を溶解させ(溶液濃度C=1.2g/ml)、その溶液の25℃での粘度をオストワルド粘度計を用いて測定した。また、同様に溶媒の粘度を測定した。得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、下記式(3)により、[η]を算出し、得られた値でもって固有粘度(IV)とした。
ηsp/C=[η]+K[η]・C  ・・・(3)
(ここで、ηsp=(溶液粘度/溶媒粘度)-1、Kはハギンス定数(0.343とする)である。)。
 以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
(A層を塗布法により形成する場合のA層の原料)
・導電性材料(a)
a-1:非水溶性カチオン系導電性材料の水分散体:“BONDEIP-PM(登録商標)”主剤(コニシ油脂(株)製、固形分30%)
a-2:非水溶性ポリチオフェン系導電性高分子水分散体:“Baytron(登録商標)”P(Bayer社/H.C.Stark社(ドイツ国)製、固形分1.2%)
a-3:水溶性カチオン系材料:ポリスチレンスルホン酸アンモニウム塩(質量平均分子量:65000)
a-4:カーボンナノチューブ水分散体(純水97.15質量部に2層CNT(サイエンスラボラトリー社、純度95%)0.85質量部、ポリビニルピロリドン2質量部を添加し、超音波破砕機(東京理科機器(株)製CX-502,出力250W、直接照射)を用いて30分間超音波処理して得たもの)
・バインダー樹脂(b)
b-1:非水溶性アクリル系樹脂:メチルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル酸/N-メチロールアクリルアミド=62/35/2/1(質量比)共重合アクリル樹脂(ガラス転移温度:42℃)を粒子状に固形分10%で水に分散させたもの。
b-2:非水溶性ポリエステル系樹脂:酸成分としてテレフタル酸/イソフタル酸/5―スルホイソフタル酸ナトリウム=60/30/10とジオール成分としてエチレングリコール/ジエチレングリコール/ポリエチレングリコール=95/3/2とを共重合したポリエステル樹脂(ガラス転移温度48℃)を10質量%の濃度で分散させたもの
・架橋剤(c)
c-1:オキサゾリン基含有化合物水分散体: “エポクロス(登録商標)“WS-500(日本触媒(株)製、固形分40%)
c-2:エポキシ系架橋剤:ポリグリセロールポリグリシジルエーテル系エポキシ架橋剤EX-512(分子量約630)(ナガセケムテックス(株)製) 
・界面活性剤(d)
d-1:アセチレンジオール系界面活性剤:“オルフィン(登録商標)”EXP4051F(日信化学工業(株)製)
・光安定化剤(e)
e-1:酸化チタン水分散体:“ナノテック”(登録商標)RTIW15WT%G0(シーアイ化成(株)製、酸化チタン粒径20~30nm、濃度15質量%) 
e-2:酸化亜鉛水分散体:GZOW15WT%-E05(シーアイ化成(株)製、酸化亜鉛粒径20~30nm、濃度15質量%)。
 (実施例1-1)
 第一工程として、テレフタル酸ジメチル100質量部、エチレングリコール57.5質量部、酢酸マグネシウム0.06質量部、三酸化アンチモン0.03質量部を150℃、窒素雰囲気下で溶融後、攪拌しながら230℃まで3時間かけて昇温し、メタノールを留出させ、エステル交換反応を終了した。
 第二工程として、重合反応を最終到達温度285℃、真空度0.1Torrで行い、固有粘度0.54のポリエステルを得た。第三工程として、得られたポリエチレンテレフタレートを160℃で6時間乾燥、結晶化させたのち、220℃、真空度0.3Torr、8時間の固相重合を行い、固有粘度0.81のポリエステルを得た。
 得られた固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmB1=255℃)を、180℃の温度で3時間真空乾燥した後に押出機に供給し、窒素雰囲気下、280℃の温度で溶融させ、Tダイ口金に導入した。次いで、Tダイ口金内より、シート状に押出して溶融単層シートとし、該溶融単層シートを、表面温度25℃に保たれたドラム上に静電印加法で密着冷却固化させて未延伸単層フィルムを得た。続いて、該未延伸単層フィルムを90℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、95℃の温度の加熱ロールを用いて長手方向(縦方向)に3.3倍延伸を行い、25℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムを得た。一軸延伸したフィルムにコロナ処理を施した後、下記塗剤1-1を#6のメタリングバーにて塗布した。
<塗剤1―1>
・導電性材料:a-1 18質量部
・バインダー樹脂:b-1 3質量部
・架橋剤:c-1 0.75質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水  78.15質量部。
 得られた一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の95℃の温度の予熱ゾーンに導き、引き続き連続的に105℃の温度の加熱ゾーンで長手方向に直角な方向(幅方向)に3.5倍延伸した。さらに引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で20秒間の熱処理を施し、さらに180℃の温度で4%幅方向に弛緩処理を行った後、更に140℃の温度で3%幅方向に弛緩処理を行った。次いで、均一に徐冷後、巻き取って、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れることがわかった。次にこのフィルムを第1層として用い、接着層として“タケラック(登録商標)”A310(三井武田ケミカル(株)製)90質量部、“タケネート(登録商標)”A3(三井武田ケミカル(株)製)を塗布し、その上に第2層として厚さ125μm二軸延伸ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”S10(東レ(株)製、両面とも表面比抵抗は4.5×1015Ω/□であった)をはりあわせた。次に第2層上に上述の接着層を塗布し、厚さ12μmバリアロックス“HGTS”(東レフィルム加工(株)製のアルミナ蒸着PETフィルム)を蒸着層が第2層と反対側になるように張り合わせ、厚さ188μmのバックシートを形成した。なお、第1層についてはA面が内側(第2層と対向)になるように張り合わせた場合と、外側(第2層と反対側)になるように張り合わせた場合とについて、両方作製した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1―2~1-3)
A層を形成する塗剤としてそれぞれ、下記塗剤1-2,塗剤1-3を用いた以外は、実施例1-1と同じ方法で、表面にA層がそれぞれ膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-2>
・導電性材料:a-1 16質量部
・バインダー樹脂:b-1 6質量部
・架橋剤:c-1 1.25質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水  76.65質量部
<塗剤1-3>
・導電性材料:a-1 12質量部
・バインダー樹脂:b-1 12質量部
・架橋剤:c-1 2.5質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水  73.4質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-4、1-5)
A層を形成する塗剤としてそれぞれ、下記塗剤1-4,塗剤1-5を用いた以外は、実施例1-1と同じ方法で、表面にA層がそれぞれ膜厚0.15μm、膜厚0.03μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-4>
・導電性材料:a-1 10質量部
・バインダー樹脂:b-1 15質量部
・架橋剤:c-1 3.75質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水 71.15質量部。
 <塗剤1-5>
・導電性材料:a-2 41.6質量部
・バインダー樹脂:b-2 2.5質量部
・架橋剤:c-2 0.25質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水 32.1質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも実施例1-1~1-3には劣るものの高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-6)
A層を形成する塗剤として下記塗剤1-6とした以外は、実施例1―1と同じ方法で、表面にA層が膜厚0.03μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-6>
・導電性材料:a-2 50質量部
・バインダー樹脂:b-2 2質量部
・架橋剤:c-2 0.2質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水    47.7質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-4、1-5には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも実施例1-4、1-5には劣るものの高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-7)
A層を形成する塗剤として下記塗剤1-7を用いた以外は、実施例1-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚0.03μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-7>
・導電性材料:a-2 66.7質量部
・バインダー樹脂:b-2 1質量部
・架橋剤:c-2 0.1質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水    32.1質量部。
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-6には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも実施例1-6には劣るものの高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-8)
 フィルム厚みを125μmとした以外は実施例1-1と同じ方法で表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ125μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れることがわかった。得られたフィルムを用いて、第2層として厚さ50μm二軸延伸ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”S10(東レ(株)製)を用いる他は実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも実施例1-1には劣るものの高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-9)
 フィルム厚みを188μmとした以外は実施例1-1と同じ方法で表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ188μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れることがわかった。得られたフィルム第1層として、このフィルムを電子ビーム蒸着装置にセットし、揮発源としてアルミナを用い、真空度3.4×10-5Pa、蒸着速度10オングストローム/sec、蒸着源―基材間距離25cmの条件下で、フィルム面の法線方向からアルミナを電子ビーム蒸着し、膜厚0.2μmのアルミナからなる第2層を形成した。なお、第1層についてはA面が内側(第2層と対向)になるように蒸着した場合と、外側(第2層と反対側)になるように蒸着した場合とについて、両方作製した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。いずれも実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-10)
 A層を形成する塗剤として下記塗剤1-10とした以外は、実施例1-1と同じ方法で表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-10>
・導電性材料:a-1 18質量部
・バインダー樹脂:b-1 6質量部
・界面活性剤:c-1 0.1質量部
・水 75.9質量部。
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-11)
 A層を形成する塗剤としてそれぞれ、下記塗剤1-11を用いる以外は実施例1-1と同じ方法で表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1―11>
・バインダー樹脂:a-1 12質量部
・界面活性剤:c-1 0.1質量部
・水   87.9質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と比べて耐湿熱処理後の部分放電電圧におとるものの、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1―12)
 A層を形成する塗剤として、下記塗剤1―12を用いた以外は実施例1-1と同じ方法で表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-12>
・導電性材料:a-3 1.5質量部
・バインダー樹脂:b-1 35質量部                   
・架橋剤:c-1 4.2質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水   59.2質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-13)
 A層を形成する塗剤として、下記塗剤1-13を用いた以外は実施例1-1と同じ方法で表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1―13>
・導電性材料:a-3 1.5質量部
・バインダー樹脂:b-1 45質量部
・界面活性剤:c-1 0.1質量部
・水   53.4質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。非水溶性カチオン系導電材料を用いた実施例1-10の場合と比べて耐湿熱処理後の部分放電電圧が低いものの、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-14)
 A層を形成する塗剤として、下記塗剤1-14を用いた以外は実施例1-12と同じ方法で表面に膜厚0.15μmでA層が形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-14>
・導電性材料:a-3 6質量部           
・界面活性剤:c-1 0.1質量部
・水   93.9質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。非水溶性カチオン系導電材料を用いた実施例1-10の場合と異なり、湿熱処理後は部分放電電圧の向上がみられなかったものの、その他特性は優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-15~17)
 それぞれ、第三工程の固相重合時間を5.5時間、4.5時間、3.5時間とした以外は実施例1―1と同様の方法で得た固有粘度が0.75、0.70、0.66、のポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度をそれぞれ95℃、90℃、85℃とした以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が劣るものの、各種特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-18、1-19)
 熱処理温度をそれぞれ210℃、160℃とした以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が劣るものの、各種特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-20)
 第一工程として、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル100質量部、エチレングリコール60質量部、酢酸マグネシウム0.06質量部、三酸化アンチモン0.03質量部を150℃、窒素雰囲気下で溶融後、攪拌しながら240℃まで3時間かけて昇温し、メタノールを留出させ、エステル交換反応を終了した。第二工程として、重合反応を最終到達温度290℃、真空度0.1Torrで行い、固有粘度0.54のポリエステルを得た。第三工程として、得られたポリエチレンナフタレートを160℃で6時間乾燥、結晶化させたのち、225℃、真空度0.3Torr、8時間の固相重合を行い、固有粘度0.82のポリエステルを得た。
 B1層の原料を、固有粘度0.82のポリエチレンナフタレート(融点TmB1=270℃)を用い、押出温度を290℃、縦延伸温度を140℃、横延伸温度を150℃とした以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各種特性に優れることがわかった。特に、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が高いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-21~23)
 それぞれ、第三工程の固相重合時間を10時間、11時間、12時間とした以外は実施例1―1と同様の方法で得た固有粘度が0.90、1.0、1.2、のポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度を95℃とした以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が優れ、各種特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。
得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-24)
 A層を形成する塗剤として下記塗剤1-16を用いた以外は、実施例1―1と同じ方法で、表面にA層が膜厚0.03μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-16>
・導電性材料:a-4 5質量部
・バインダー樹脂:b-1 2.5質量部
・水   92.5質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様に各特性に優れ、UV照射後の部分放電電圧が実施例1-1に比べて向上することが分かった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-25、26、27)
 A層を形成する塗剤として、それぞれ下記塗剤1-17,1-18、1-19を用いた以外は、実施例1―1と同じ方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
<塗剤1-17>
・導電性材料:a-1 18質量部
・バインダー樹脂:b-1 3質量部
・架橋剤:c-1 0.75質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・光安定化剤:e-1 5質量部
・水   73.15質量部
(A層中に光安定化剤として酸化チタンをA層に対して11質量%含有)
<塗剤1-18>
・導電性材料:a-1 18質量部
・バインダー樹脂:b-1 3質量部
・架橋剤:c-1 0.75質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・光安定化剤:e-1 10質量部
・水   68.15質量部。
(A層中に光安定化剤として酸化チタンをA層に対して20質量%含有)
<塗剤1-19>
・導電性材料:a-1 18質量部
・バインダー樹脂:b-1 3質量部
・架橋剤:c-1 0.75質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・光安定化剤:e-2 10質量部
・水   73.15質量部。
(A層中に光安定化剤として酸化亜鉛をA層に対して20質量%含有)
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様に各特性に優れ、UV照射後の部分放電電圧が実施例1-1に比べて向上することが分かった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-28)
 第一工程として、テレフタル酸ジメチル100質量部、エチレングリコール57.5質量部、酢酸マグネシウム0.06質量部、三酸化アンチモン0.03質量部を150℃、窒素雰囲気下で溶融後、攪拌しながら230℃まで3時間かけて昇温し、メタノールを留出させ、エステル交換反応を終了した。第二工程として、エステル交換反応終了後、リン酸0.019質量部(1.9mol/ton相当)とリン酸二水素ナトリウム2水和物0.027質量部(1.5mol/ton相当)をエチレングリコール0.5質量部に溶解したエチレングリコール溶液(PH5.0)を添加した。
 第三工程として、重合反応を最終到達温度285℃、真空度0.1Torrで行い、固有粘度0.54のポリエステルを得た。第四工程として、得られたポリエチレンテレフタレートを160℃で6時間乾燥、結晶化させたのち、220℃、真空度0.3Torr、8時間の固相重合を行い、固有粘度0.81のポリエステルを得た。
上記ポリエステル樹脂を用いた以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各特性に優れ、特に実施例1―1に比べて湿熱処理後の破断伸度が高いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-29)
 真空ベント付き二軸押出機に実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmB1=255℃)の90質量部と 末端封止剤として“スタバクゾールP400”
(ラインケミー社製)10質量部を供給し、260℃の温度で溶融混練しダイスよりガット状に60℃の水中に押し出して急冷し、ストランドを形成した。ついで、これを裁断し、末端封止剤を10%含有したマスターチップを得た。ついで、得られたマスターバッチ10質量部、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmB1=255℃)90質量部と混合したものを、180℃の温度で3時間真空乾燥した後に押出機に供給した以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各特性に優れ、特に実施例1―1に比べて湿熱処理後の破断伸度が高いことがわかった。なお、本フィルム中の窒素含有量は0.11質量%であった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例1-30)
 主押出機と副押出機を有する複合製膜装置において、主層用原料として、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmB1=255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの95質量部と、80℃の熱風オーブン中で5時間乾燥させたポリメチルペンテン5質量部を、主押出機側に供給し、280℃の温度で溶融押出後、Tダイ複合口金に導入した。一方、副押出機にはB1層用原料として、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmB1=255℃)を、180℃の温度で3時間真空乾燥した後、副押出機に供給し、280℃の温度で溶融押出後Tダイ複合口金に導入した。次いで、該Tダイ複合口金内で、副押出機より押出される樹脂層が主押出機より押出される樹脂層の両表層に積層(副押出機より押出される樹脂層/主押出機より押出される樹脂層/副押出機より押出される樹脂層)されるよう合流せしめた後、シート状に共押出して溶融積層シートとし、該溶融積層シートを、表面温度25℃に保たれたドラム上に静電荷法で密着冷却固化させて未延伸積層フィルムを得た。得られた未延伸積層フィルムを用いた以外は実施例1-1と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムは内部に気泡を含有する層とその層の両側にB1層が形成されたものであり、B1層の厚みはそれぞれ10μmであった。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1~表3に示す。実施例1-1と同様、各特性に優れ、特に実施例1-1に比べて、部分放電電圧が高いことが分かった。なお、本フィルム中の気泡を含有する層の気泡含有率は25体積%であった。
(実施例1-31、1-32)
 A層を形成する塗剤として、それぞれ実施例1-7,実施例1-4と同じ塗剤を用いた以外は実施例1-7と同じ方法で表面に膜厚0.15μmでA層が形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-31では実施例1-6に、また実施例1-32は実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が劣るものの、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-31では実施例1-6に、また実施例1-32は実施例1-1~1-3には劣るものの、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
(実施例1-33,34)
 実施例1-23と同じポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度を95℃とした以外は実施例1-31,1-32と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-33では実施例1-6に、また実施例1-34は実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が向上し、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-33では実施例1-6に、また実施例1-34は実施例1-1~1-3には劣るものの、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
(実施例1-35,36)
実施例1-16と同じポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度を90℃とした以外は実施例1-31,1-32と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-35では実施例1-6に、また実施例1-36は実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が劣るものの、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-35では実施例1-6に、また実施例1-36は実施例1-1~1-3には劣るものの、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
(実施例1-37,38)
 実施例1-15と同じポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度を95℃とした以外は実施例1-31,1-32と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-37では実施例1-6に、また実施例1-38は実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が劣るものの、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-37では実施例1-6に、また実施例1-38は実施例1-1~1-3には劣るものの、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
(実施例1-39,40)
 実施例1-21と同じポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度を95℃とした以外は実施例1-31,1-32と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-39では実施例1-6に、また実施例1-40は実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が向上し、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-39では実施例1-6に、また実施例1-40は実施例1-1~1-3には劣るものの、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
(実施例1-41,42)
 実施例1-22と同じポリエチレンテレフタレートを用い、縦延伸温度を95℃とした以外は実施例1-31,1-32と同様の方法で、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-41では実施例1-6に、また実施例1-42は実施例1-1~1-3には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、また、実施例1-1に比べて湿熱処理後の破断伸度が向上し、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-41では実施例1-6に、また実施例1-42は実施例1-1~1-3には劣るものの、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例2-1)
 A層を形成しないこと以外は実施例1―1と同じ方法で、厚さ50μm二軸延伸フィルムを作製した。得られたフィルムを電子ビーム蒸着装置にセットし、揮発源として純度99.999%のアルミニウムを用い、真空度3.4×10-5Pa、蒸着速度10オングストローム/sec、蒸着源―基材間距離25cmの条件下で、フィルム面の法線方向から酸素ガスを350sccm導入しながらアルミニウムを電子ビーム蒸着し、膜厚0.15μmのアルミニウム酸化物からなるA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例1-1と同様、各種特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例2-2,2-3)
 酸素供給量をそれぞれ400sccm、500sccmとした以外は実施例2―1と同じ方法で、厚さ50μmの二軸延伸フィルム上に膜厚0.15μmのA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例2-1と同様、各種特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例2-1と同様、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例2-4,2-5)
 酸素供給量をそれぞれ600sccm、330sccmとした以外は実施例2―1と同じ方法で、厚さ50μmの二軸延伸フィルム上にそれぞれ膜厚0.15μmでA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例2-1~2-3には劣るものの高い部分放電電圧を示し、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例2-1~2-3に劣るものの、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例2-6)
 酸素供給量をそれぞれ320sccmとした以外は実施例2―1と同じ方法で、厚さ50μmの二軸延伸フィルム上に膜厚0.15μmでA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例2-4、2-5には劣るものの高い部分放電電圧を示し、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例2-4、2-5には劣るものの、高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例2-7)
 酸素供給量をそれぞれ310sccmとした以外は実施例2―1と同じ方法で、厚さ50μmの二軸延伸フィルム上に膜厚0.15μmでA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。実施例2-6には劣るものの高い部分放電電圧を示し、各特性に優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例2-6には劣るものの高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例3-1)
 実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmB1=255℃)を、180℃の温度で3時間真空乾燥した後に主押出機に供給した。また、主押出機とは別に副押出機を用い、この副押出機に、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TA:255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの85質量部と、100℃で6時間真空乾燥したポリエーテルアミド系導電高分子材料“IRGASTAT”P18(チバ・ジャパン(株)製)15質量部を副押出機に供給した。それぞれ、窒素雰囲気下280℃の温度で溶融させ、次いで主押出機に供給した成分層の両側表層に副押出機に供給した成分層が厚み比率で、主押出機の成分層:副押出機の成分層=9:1、となるよう合流させ、Tダイ口金内より、溶融2層積層共押出しを行い、積層シートとし、表面温度20℃に保たれたドラム上に静電印加法で密着冷却固化させて未配向(未延伸)積層シートを得た。得られた未延伸シートを用い、縦延伸後にコロナ処理、コーティングをしない以外は実施例1-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚5μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性は優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様に高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例3-2)
 実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート75質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを20質量部、重合度400のポリエチレングリコールを5質量%を混合したマスターペレット10質量部、固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmA=255℃)90質量部を混合し、180℃の温度で3時間真空乾燥したのち副押出機に供給する原料として用いた以外は実施例3-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚5μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。湿熱処理後は部分放電電圧の向上がみられなかったものの、その他特性は優れることがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様に高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例3-3)
 副押出機に供給する原料を、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のポリエチレンテレフタレート(融点TmA=255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの65質量部、平均粒径230nmのルチル型酸化チタン含有PET(固有粘度0.81のPETと酸化チタンを質量比でPET/酸化チタン=1/1となるようにベント付き二軸押出機で混練して作製)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの20質量部、100℃で6時間真空乾燥したポリエーテルアミド系導電高分子材料“IRGASTAT”P18(チバ・ジャパン(株)製)15質量部を用いた(A層中に光安定化剤として酸化チタンをA層に対して10質量%含有)以外は実施例3-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚5μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れ、特にUV照射後の部分放電電圧が実施例1-1に比べて向上することが分かった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様に高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例3-4)
 副押出機に供給する原料を、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のPET(融点TmA=255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの65質量部、平均粒径230nmのルチル型酸化チタン含有PET(固有粘度0.81のPETと酸化チタンを質量比でPET/酸化チタン=1/1となるようにベント付き二軸押出機で混練して作製)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの40質量部、100℃で6時間真空乾燥したポリエーテルアミド系導電高分子材料“IRGASTAT”P18(チバ・ジャパン(株)製)15質量部を用いた(A層中に光安定化剤として酸化チタンをA層に対して20質量%含有)以外は実施例3-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚5μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れ、特にUV照射後の部分放電電圧が実施例3-3に比べて向上することが分かった。
 また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様に高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例3-5)
 副押出機に供給する原料を、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のPET(融点TmA=255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの35質量部、平均粒径30nmの酸化亜鉛含有PET(固有粘度0.81のPETと酸化チタンを質量比でPET/酸化亜鉛=8/2となるようにベント付き二軸押出機で混練して作製)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの50質量部、100℃で6時間真空乾燥したポリエーテルアミド系導電高分子材料“IRGASTAT”P18(チバ・ジャパン(株)製)15質量部を用いた(A層中に光安定化剤として酸化亜鉛をA層に対して10質量%含有)以外は実施例3-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚5μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れ、特にUV照射後の部分放電電圧が実施例3-3に比べて向上することが分かった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様に高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (実施例3-6、実施例3-7)
 副押出機に供給する原料を、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のPET(融点TmA=255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの65質量部、180℃の温度で3時間真空乾燥した平均粒径230nmのルチル型酸化チタン含有PET(固有粘度0.81のPETと酸化チタンを質量比でPET/酸化チタン=1/1となるようにベント付き二軸押出機で混練して作製)を180℃の温度で3時間真空乾燥したもの40質量部、100℃で6時間真空乾燥したポリエーテルアミド系導電高分子材料“IRGASTAT”P18(チバ・ジャパン(株)製)15質量部を用いる(A層中に光安定化剤として酸化チタンをA層に対して20質量%含有)こと、主押出機に供給した成分層の両側表層に副押出機に供給した成分層が厚み比率で、それぞれ主押出機の成分層:副押出機の成分層=24:1、48:1となるよう合流させ、Tダイ口金内より、溶融2層積層共押出した以外は実施例3-1と同じ方法で、表面にA層がそれぞれ膜厚2μm、1μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。各特性に優れ、特にUV照射後の部分放電電圧は、実施例3-5に比べて劣るものの実施例3-1より高いことが分かった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例1-1と同様に高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (比較例1―1)
 A層を形成しないこと以外は実施例1―1と同じ方法で、厚さ50μm二軸延伸フィルムを作製した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。A層を形成しない場合と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。A層を形成しない場合と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
 (比較例1-2)
 A層を形成しないこと以外は実施例1―1と同じ方法で、厚さ125μm二軸延伸フィルムを作製した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。A層を形成しない場合と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-8と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。A層を形成しない場合と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
 (比較例1-3)
 A層を形成しないこと以外は実施例1―1と同じ方法で、厚さ188μm二軸延伸フィルムを作製した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。A層を形成しない場合と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-9と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。A層を形成しない場合と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
 (比較例1-4)
 A層を形成する塗剤として下記塗剤1-15を用いた以外は、実施例1―1と同じ方法で、膜厚0.03μmでA層を形成した厚さ50μm二軸延伸フィルムを作製した。
<塗剤1-15>
・導電性材料:a-2 83質量部
・界面活性剤:d-1 0.1質量部
・水 16.9質量部
得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。表面比抵抗は実施例と比べて低い値であるが、実施例と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
(比較例1-5、1-6,1-7)
 第三工程の固相重合時間を2.5時間として得た固有粘度0.63のポリエチレンテレフタレートを用いた以外は、表面にA層が膜厚0.15μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1~表3に示す。それぞれ、実施例1-17、1-13,1-32に比べて、部分放電電圧は同様の特性を示したが、湿熱処理後の破断伸度が大きく劣り、実用特性のないものであった。なお、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成し、その部分放電電圧を測定したところ、実施例1-17、1-13,1-32と同様の特性を示した。高い部分放電電圧を示し、特にA面を外側に形成した場合において、より高い部分放電電圧を示すことが分かった。
 (比較例2-1)
 酸素供給量を300sccmとした以外は実施例2―1と同じ方法で、厚さ50μmの二軸延伸フィルム上に膜厚0.15μmでA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。表面比抵抗は実施例と比べて低い値であるが、実施例と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
 (比較例2-2)
 蒸着源としてアルミナを用いたこと以外は実施例2―1と同じ方法で、厚さ50μmの二軸延伸フィルム上に膜厚0.15μmでA層を形成した。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。表面比抵抗は実施例と比べて高く、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
 (比較例3-1、3-2)
 副押出機に供給する原料を、実施例1-1と同様の方法で得た固有粘度0.81のPET(融点TmA=255℃)を180℃の温度で3時間真空乾燥したものと、平均粒径230nmのルチル型酸化チタン含有PET(固有粘度0.81のPETと酸化チタンを質量比でPET/酸化チタン=1/1となるようにベント付き二軸押出機で混練して作製)を180℃の温度で3時間真空乾燥したものとを質量比でPET/酸化チタン含有PET=8/2,6/4で混合とした(A層中に光安定化剤として酸化チタンをA層に対してそれぞれ10質量%、20質量%含有)以外は実施例3-1と同じ方法で、表面にA層が膜厚5μmで形成された厚さ50μmの二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムのB1層の質量平均分子量、数平均分子量、A面の表面比抵抗、A面と反対側の面の表面比抵抗R2、破断伸度、部分放電電圧、熱収縮率、湿熱処理後の表面比抵抗、破断伸度、部分放電電圧を測定した。結果を表1、表2に示す。表面比抵抗は実施例と比べて高く、部分放電電圧が低いことがわかった。また、得られたフィルムについて、実施例1-1と同様にバックシートを形成した。得られたバックシートの部分放電電圧を測定した。結果を表3に示す。実施例と比べて、部分放電電圧が低いことがわかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
 本発明の太陽電池裏面封止用フィルムは、屋根材として用いられる太陽電池はもちろんのこと、フレキシブル性を有する太陽電池や電子部品等にも好適に使用することができる。
1:太陽電池バックシート
2:透明充填剤
3:発電素子
4:透明基板
5:太陽電池バックシートの樹脂層2側の面
6:太陽電池バックシートの樹脂層2と反対側の面

Claims (20)

  1. 少なくとも2層以上の積層構造を有し、表面比抵抗R0が10Ω/□以上1014Ω/□以下である面(以下A面とする)を有する層(以下A層とする)と基材層(以下B層とする)を含む太陽電池バックシート用フィルムであって、B層がポリエステルからなる層(以下B1層とする)を含み、かつ、該B1層のポリエステルの質量平均分子量が37500以上60000以下であることを特徴とする太陽電池バックシート用フィルム。
  2. 前記フィルムを125℃、湿度100%の条件下24時間放置後のA面の表面比抵抗R1が10~1014Ω/□である請求項1記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  3. 前記ポリエステルの固有粘度(IV)が0.65以上、かつ、カルボキシル基末端が15等量/t以下である請求項1または2記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  4. B1層に緩衝剤を0.1mol/t以上5.0mol/t以下含有する請求項1~3のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  5. B1層の窒素含有量が0.01質量%以上0.5質量%以下である請求項1~4のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム
  6. B1層を構成する樹脂がエチレン-2,6-ナフタレートを主たる構成成分とするものである請求項1~5のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム
  7. B1層が二軸配向されており、かつ、面配向係数が0.16以上である請求項1~6のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム
  8. 示差走査熱量測定(DSC)により得られるB1層の微少吸熱ピーク温度TmetaB1が、B1層の融点TmB1に対して下記式(5)を満たす請求項1~7のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
         40℃≦TmB1-TmetaB1≦90℃  (5)
  9. A層の厚みが0.01μm以上1μm以下である請求項1~8のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  10. A層の厚みが1μm以上50μm以下である請求項1~9のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  11. A層が、導電性材料としてアクリル骨格を有するカチオン系導電性化合物、非水溶性樹脂としてアクリル系骨格を有する化合物、架橋剤としてオキサゾリン化合物を有する請求項1~10のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  12. A層に光安定化剤を0.1質量%以上50質量%以下含む請求項1~11のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  13. A面と反対側の表面の表面比抵抗R2が1014Ω/□以上である請求項1~12のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  14. 気泡含有率が10体積%以上である層(B2層)を含む請求項1~13いずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルム。
  15. 請求項1~14のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルムを用いてなる太陽電池バックシート。
  16. 表面比抵抗R0が10Ω/□以上1014Ω/□以下である面(以下A1面とする)を有する請求項15記載の太陽電池バックシート。
  17. A1面が請求項1~14のいずれかに記載の太陽電池バックシート用フィルムのA面である請求項15または16に記載の太陽電池バックシート。
  18. A1面と反対側の表面の表面比抵抗R3が1014Ω/□以上である請求項15~17のいずれかに記載の太陽電池バックシート。
  19. 請求項15~18のいずれかに記載の太陽電池バックシートを用いてなる太陽電池。
  20. A1面とは反対の面側に発電素子が形成されていることを特徴とする請求項19記載の太陽電池。
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