WO2008102902A1 - 光学用部材、それを用いた光学系及び光学用部材の製造方法 - Google Patents

Abstract

任意の基材に対し長期にわたり高性能の反射防止効果を維持することができる光学用部材を提供する。基材表面に積層体が形成された光学部材であり，少なくとも一層が空隙を有する金属酸化物層２７であり，前記基材２５と前記金属酸化物層２７との間に少なくとも一層の有機樹脂２６を主成分とする層を含む光学用部材。金属酸化物層が，酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されている板状結晶層であり，かつ前記板状結晶層の表面が凹凸形状からなる。有機樹脂が少なくとも一部に芳香環または／およびイミド環を有する。

Description

光学用部材、それを用いた光学系及び光学用部材の製造方法

技術分野

本発明は反射防止性能を有する光学用部材及びそれを用いた光学系に関し、さら に詳述すると可視領域から近赤外領域で高い反射防止性能を長期に安定して得る のに適した光学用部材及びそれを用いた光学系に関する。

明

背景技術

可視光領域の波長以下の微細周期構造を用いた反射防止構造体は、適切なピッ 書

チ、高さの微細周期構造を形成することにより、広い波長領域ですぐれた反射防止 性能を示すことが知られている。微細周期構造を形成する方法としては、波長以下の 粒径の微粒子を分散した膜の塗布（特許第 03135944号公報）などが知られてい る。

また、微細加工装置（電子線描画装置やレーザー干渉露光装置，半導体露光装 齓エッチング装置など）によるパターン形成によって微細周期構造を形成する方法 は、ピッチ、高さの制御が可能である。また、すぐれた反射防止性を持つ微細周期構 造を形成することが出来ることが知られてレ、る（特開昭 50— 70040号公報)。

それ以外の方法として、アルミニウムの水酸化酸化物であるべ一マイトを基材上に 成長させて反射防止効果を得ることも知られている。これらの方法では、真空成膜法 (特公昭 61—48124号公報）あるレ、は液相法（ゾルゲル法）により（特開平 9一 2026 49号公報)成膜した酸化アルミニウム（アルミナ）の膜を水蒸気処理あるいは温水浸 漬処理により、表層をべ一マイト化して微細周期構造を形成し、反射防止膜を得てい る。

また、基材とべ一マイトの間に SiO₂を主成分とする基材とべ一マイトの中間の屈折 率を有する膜を設けた反射防止膜が提案されている（特開 2006— 259711号公報)。 発明の開示

微粒子を利用した技術や、ベーマイトを基材上に成長させる方法で形成した金属 酸化物やハロゲンィ匕金属層は、簡便で高い生産性を有し、優れた光学性能を示す。 その反面、緻密性が低ぐ多数の空隙を有するため、外界からの水分などが容易に 基材に達し、基材の侵食、アルカリイオンなどの基材成分の溶出が容易に発生する。 さらに溶出成分により微細構造の維持が困難になり性能が低下するという問題力 Sあつ た。

また、基材とべ一マイトの間に SiO₂を主成分とする膜を設けた反射防止膜におい ては、温水処理によって Si〇₂を主成分とする膜から膜成分が溶出し光学特性が変化 してしまうことがあった。

より簡便に形成でき、かつ低温焼成で高い信頼性を有する微細周期構造を用いた 反射防止膜が望まれている。

本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、任意の基材に対し長期 にわたり高性能の反射防止効果を維持することができる光学用部材、それを用いた 光学系及び光学用部材の製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明は、上記目的を達成するために、次のように構成した光学用部材を提供す るものである。

本発明は基材表面に積層体が形成された光学部材であり、少なくとも一層が酸化 アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されてレ、る板状結晶層であり、前記基 材と前記板状結晶層との間に少なくとも一層の有機樹脂を主成分とする層を含み、 かつ前記有機樹脂が主鎖中に芳香環またはノおよびイミド環を有することを特徴と する光学用部材である。

また、本発明は前記板状結晶が、ベーマイトであることを特徴とする光学用部材であ る。

また、本発明は前記板状結晶層が表層側から基材側に向かって屈折率が連続的 に上昇する層であることを特徴とする光学用部材である。 また、本発明は該板状結晶層の表面が凹凸形状からなることを特徴とする光学用部 材である。

また、本発明は前記有機樹脂の吸水率が 0. 05%以上 2%以下であることを特徴と する光学用部材である。

また、本発明は該有機樹脂が熱可塑性樹脂であることを特徴とする光学用部材であ る。

また、本発明は前記有機樹脂の少なくとも一部に（一 SiR₂— 0_) _m (ただし、 Rはメ チル基またはフエニル基であり、 mは 1以上 6以下の整数である。；)の繰り返し単位を 有することを特徴とする光学用部材である。

また、本発明は前記基材の屈折率 nbと、該有機樹脂を主成分とする層の屈折率 ni と、該酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されてレ、る板状結晶層の屈 折率 nsが、 nb n nsであることを特徴とする光学用部材である。

また、本発明は前記有機樹脂を主成分とする層の厚みが 10nm以上 150nm以下 であることを特徴とする光学用部材である。

また、本発明は前記基材がガラスであることを特徴とする光学用部材である。

また、本発明は上記のいずれかに記載の光学用部材を有することを特徴とする光 学系である。

また、本発明は基材上に、有機樹脂を主成分とする層を形成する工程と、酸化アル ミニゥムを主成分とする層を形成する工程と、前記酸化アルミニウムを主成分とする層 を温水処理することによって表面に凹凸を形成する工程を有し、前記基材の屈折率 nbと、前記有機樹脂を主成分とする層の屈折率 niと、前記酸化アルミニウムを主成 分とする層の屈折率 nsを、 nb≥ni≥n_Sとすることを特徴とする光学用部材の製造方 法である。

本発明によれば、高い反射防止効果を長期にわたり安定して発揮することが出来 る光学用部材を提供することができる。

また、本発明によれば、上記の光学用部材を有する光学系を提供することができる。 図面の簡単な説明

図 1は、本発明の光学用透明部材の一実施態様を示す概略図である。

図 2は、本発明の光学用透明部材の一実施態様の屈折率分布を示す概略図であ る。

図 3A及び 3Bは、本発明の光学用透明部材の一実施態様を示す概略図である。 図 4は、実施例 1における、ガラス基板上に形成された、表面に微細な凹凸を有す る薄膜の FE—SEMによる上面からの観察結果を示す写真 (倍率： 10万倍)である。 図 5は、実施例 1における、ガラス基板上に形成された、表面に微細な凹凸を有す る薄膜の FE— SEMによる断面観察結果を示す写真 (倍率： 15万倍)である。

図 6は、本発明実施例 16の正面図である。

図 7は、本発明実施例 16の断面図である。

図 8は、本発明実施例 17の正面図である。

図 9は、本発明実施例 17の断面図である。

図 10は、本発明実施例 18の正面図である。

図 11は、本発明実施例 18の断面図である。

図 12は、本発明実施例 19の正面図である。

図 13は、本発明実施例 19の断面図である。

図 14は、本発明実施例 20の正面図である。

図 15は、本発明実施例 21の断面図である。

図 16は、本発明実施例 22の断面図である。

図 17は、本発明実施例 23の断面図である。 発明を実施するための最良の形態

以下、本発明を詳細に説明する。

図 1は本実施形態に係る光学用部材を示す模式的な概略断面図である。同図 1に おいて、本発明の光学用部材は、基材 25表面に、有機樹脂を主成分とする層 26、 その表面に酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶が形成されてレ、る板状結晶層 27からなる積層体が形成されている。積層体の一層である板状結晶層 27を形成す る板状結晶とは、酸化アルミニウムを主成分とする膜を温水に浸漬することより、酸ィ匕 アルミニウム膜の表層が解膠作用等を受け、腠の表層に析出、成長する板状の結晶 のことを言う。

板状結晶層 27は、表層側から基材側に向かって屈折率が連続的に上昇する層で あることが好ましぐ図 2に示すように膜厚に対する屈折率変化が（a)のような直線ま たは（b) (c)のような曲線で表すことができる。表層側から基材側に向かって屈折率 が連続的に上昇することで、表層側力 順に屈折率の高い層を積層した時に比べ反 射率低減効果が大きい。

さらに、板状結晶層 27は表層側から基材側に向かって屈折率が連続的に上昇す るために表面が凹凸形状となっていることが好ましい。その場合の本実施形態に係る 光学用部材を示す模式的な概略断面図を図 3A及び 3Bに示す。

同図 3A及び 3Bにおいて、本発明の光学用部材は、基材 28上に、有機樹脂を主成 分とする層 29、および酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶力 形成されている 板状結晶層 30を有する。

該板状結晶層 30の表面は凹凸形状 31となっている。

酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶層 30は、アルミニウムの酸化物または水 酸化物またはそれらの水和物を主成分とする結晶から形成される。特に好ましい結 晶として、ベーマイトがある。また、これらの板状結晶を配することで、その端部が微 細な凹凸形状 31を形成するので、微細な凹凸の高さを大きくし、その間隔を狭める ために板状結晶は選択的に基材の表面に対して特定の角度で配置される。本願で は、アルミニウムの酸化物または水酸化物またはそれらの水和物を酸化アルミニウム と称することとする。また、酸化アルミニウム単独/或いは Zr〇₂、 Si0₂、 Ti0₂、 ZnO、 MgOの何れかを含み、酸化アルミニウムが 70モル％以上である一層以上の酸化物 層のことを酸化アルミニウムを主成分とする層と称することとする。 基材 28の表面が平板、フィルムないしシートなどの平面の場合を、図 3Aで示す。 板状結晶は基材の表面に対して、すなわち板状結晶の傾斜方向 32と基材表面との 間の角度 0 1の平均角度が 45° 以上 90° 以下、好ましくは 60° 以上 90° 以下と なるように配置されることが望ましい。

また、基材 28の表面が二次元あるいは三次元の曲面を有する場合を、図 3Bで示 す。板状結晶は基材の表面に対して、すなわち板状結晶の傾斜方向 32と基材表面 の接線 33との間の角度 Θ 2の平均角度が 45° 以上 90° 以下、好ましくは 60° 以 上 90° 以下となるように配置されることが望ましレ、。なお、上記の角度 θ 1および 0 2 の値は、板状結晶の傾きにより 90° をこえる場合がある力 S、この場合 90° 以下となる ように測定された値とする。

板状結晶層 30の層厚は、好ましくは 20nm以上 lOOOnm以下であり、より好ましく は 50nm以上 lOOOnm以下である。凹凸を形成する層厚が 20nm以上 lOOOnm以 下では、微細な凹凸構造による反射防止性能が効果的であり、また凹凸の機械的強 度が損なわれる恐れが無くなり、微細な凹凸構造の製造コストも有利になる。また、層 厚が 50nm以上 lOOOnm以下とすることにより、反射防止性能をさらに高めることとな り、より好ましい。

本発明の微細凹凸の面密度も重要であり、これに対応する中心線平均粗さを面拡 張した平均面粗さ Ra' 値が 5nm以上、より好ましく 10nm以上、さらに好ましくは 15 nm以上 lOOnm以下、また表面積比 Srが 1. 1以上である。より好ましくは 1. 15以上、 さらに好ましくは 1. 2以上 3. 5以下である。

得られた微細凹凸組織の評価方法の一つとして、走査型プローブ顕微鏡による微 細凹凸組織表面の観察があり、該観察により該膜の中心線平均粗さ Raを面拡張し た平均面粗さ Ra' 値と表面積比 Srが求められる。すなわち、平均面粗さ Ra' 値 m)は、 JIS B 0601で定義されている中心線平均粗さ Raを、測定面に対し適用し 三次元に拡張したもので、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した値」と 表現し、次の式（1)で与えられる。

Ra, = s s F (X,Y) - Zo I d_x d_¾ ( 1 )

So YB Xし

Ra' ：平均面粗さ値 (nm)、

s。：測定面が理想的にフラットであるとした時の面積、 I x_R— x_L I χ I Y_T-Y_B I 、 F

(X, Y)：測定点 (X, Y)における高さ、 Xは X座標、 Υは Υ座標、

XL力 X_R:測定面の X座標の範囲、

Y_Bから Υ_Τ :測定面の Y座標の範囲、

ζ。：測定面内の平均の高さ。

また、表面積比 Srは、 Sr= SZS。〔S。：測定面が理想的にフラットであるときの面積。 S :実際の測定面の表面積。〕で求められる。なお、実際の測定面の表面積は次のよ うにして求める。先ず、最も近接した 3つのデータ点 (A， B, C)より成る微小三角形に 分割し、次いで各微小三角形の面積 ASを、ベクトル積を用いて求める。 AS (AAB C) = [s (s -AB) (s-BC) (s-AC) ] 0. 5〔但し、 AB、 BCおよび ACは各辺の長さ で、 s≡0. 5 (AB + BC+AC)〕となり、この ASの総和が求める表面積 Sになる。微 細凹凸の面密度が Ra' 力 S5nm以上で、 Srが 1. 1以上になると、凹凸構造による反 射防止を発現することができる。また、 Ra ' 力 SlOnm以上で、 Srが 1. 15以上である と、その反射防止効果は前者に比べ高いものとなる。そして Ra， 力 Sl5nm以上で、 S rが 1. 2以上になると実際の使用に耐えうる性能となる。しかし Ra' 力 SlOOnm以上で、 Srが 3. 5以上になると反射防止効果よりも凹凸構造による散乱の効果が勝り十分な 反射防止性能を得ることが出来ない。

本発明中の酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されている板状結 晶層 30は、有機樹脂を主成分とする層 29に金属 A1単独の膜/或いは金属 A1と金 属 Zn、金属 Mgの何れかを含む金属膜を形成する。その後、 50°C以上の温水に浸 漬する 或レヽは水蒸気にさらすことにより形成される。この時上記金属表面には水和、 溶解、再析出によって凹凸形状 31が形成される。有機樹脂を主成分とする層 29上 に酸ィ匕アルミニウムを主成分とする層を形成する。そして、その表面を選択的に溶解 または析出させることによって板状結晶層 30を形成する事ができる。上記酸化アルミ 二ゥムを主成分とする層は公知の CVD、 PVDの気相法、及びゾル一ゲル法などの 液相法、無機塩を用いた水熱合成などにより形成する事ができる。このような酸化ァ ルミ二ゥムの板状結晶を設ける方法では、板状結晶層 30中の凹凸形状 31の下部に 不定形の酸ィヒアルミ-ゥム層が残存することがある。

大面積や、非平面状の基材に均一な反射防止層を形成できる点から、酸化アルミ 二ゥムを含むゾル一ゲルコーティング液を塗布して形成したゲル膜を温水で処理さ せて、アルミナ板状結晶を成長させる方法が好ましい。

酸化アルミニウムを含むゾル一ゲルコーティング液力 得られるゲル膜の原料には、 A1化合物を/或いは A1化合物とともに Zr、 Si、 Ti、 Zn、 Mgの各々の化合物の少な くとも 1種の化合物とを用いる。 Al₂O₃、 Zr0₂、 Si0₂、 Ti0₂、 ZnO、 MgOの原料として、 各々の金属アルコキシドゃ塩化物や硝酸塩などの塩化合物を用いることができる。 製膜性の観点から、特に ZrO₂、 SiO₂、 Ti0₂原料としては金属アルコキシドを用いる のが好ましい。

アルミニウム化合物としては、例えば、アルミニウムェトキシド、アルミニウムイソプロ ポキシド、アルミニウム— n—ブトキシド、アルミニウム一 sec—ブトキシド、アルミニウム —tert—ブトキシド、アルミニウムァセチルァセトナート。またこれらのオリゴマー、硝 酸アルミニウム、塩ィヒアルミニウム、酢酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫酸アルミ 二ゥム、水酸ィ匕アルミニウムなどが挙げられる。

ジルコニウムアルコキシドの具体例として、以下のものが挙げられる。ジルコニウム テトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラー n—プロポキシド、 ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジノレコニゥムテトラ一 n—ブトキシド、ジルコニウム テトラ一 t—ブトキシド等。 シリコンアルコキシドとしては、一般式 Si (OR)₄で表される各種のものを使用するこ とができる。 Rはメチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ チル基等の同一または別異の低級アルキル基が挙げられる。

チタニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、 テトラ n—プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ n—ブトキシチタン、テ トライソブトキシチタン等が挙げられる。

亜鉛化合物としては、例えば酢酸亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、 ォレイン酸亜鉛、サリチル酸亜鉛などが挙げられ、特に酢酸亜鉛、塩化亜鉛が好まし レ、。

マグネシウムィ匕合物としてはジメトキシマグネシウム、ジェトキシマグネシウム、ジプ 口ポキシマグネシウム、ジブトキシマグネシウム等のマグネシウムァノレコキシド、マグネ シゥムァセチルァセトネート、塩化マグネシウム等が挙げられる。

有機溶媒としては、上記アルコキシドなどの原料をゲルィヒさせなレ、ものであれば良 レ、。例えばメタノール、エタノール、 2—プロパノール、ブタノール、エチレングリコー ノレ、もしくはエチレングリコール一モノー n—プロピルエーテルなどのアルコール類。 n —へキサン、 n—オクタン、シクロへキサン、シクロペンタン、シクロオクタンのような各 種の脂肪族系ないしは脂環族系の炭化水素類。トルエン、キシレン、ェチルベンゼン などの各種の芳香族炭化水素類。ギ酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸 n—プチル、ェチ レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノェチルエーテ ルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどの各種のエステ ル類。アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノンなどの 各種のケトン類。ジメトキシェタン、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジイソプロピルエー テルのような各種のエーテル類。クロ口ホルム、メチレンクロライド、四塩化炭素、テト ラクロロェタンのような、各種の塩素化炭化水素類。 N—メチノレピロリドン、ジメチルフ オルムアミド、ジメチルァセトアミド、エチレンカーボネートのような、非プロトン性極性 溶剤等が挙げられる。溶液の安定性の点から上述した各種の溶剤類のうちアルコー ル類を使用することが好ましレ、。

アルコキシド原料を用いる場合、特にアルミニウム、ジノレコニゥム、チタニウムのアル コキシドは水に対する反応性が高ぐ空気中の水分や水の添加により急激に加水分 解され溶液の白濁、沈殿を生じる。また、アルミニウム塩化合物、亜鉛塩化合物、マ グネシゥム塩化合物は有機溶媒のみでは溶解が困難で、溶液の安定性が低い。こ れらを防止するために安定化剤を添加し、溶液の安定ィ匕を図ることが好ましい。 安定化剤としては、例えば、ァセチルアセトン、ジピロパイルメタン、トリフルォロアセ チルアセトン、へキサフルォロアセチルアセトン、ベンゾィルアセトン、ジベンゾィルメ タンなどの β—ジケトン化合物類。ァセト酢酸メチル、ァセト酢酸ェチル、ァセト酢酸 ァリノレ、ァセト酢酸ベンジル、ァセト酢酸一 iso—プロピル、ァセト酢酸一 tert—プチ ノレ、ァセト酢酸一 iso—ブチル、ァセト酢酸 _2—メトキシェチル、 3—ケトー n—バレリ ック酸メチルなどの、 β—ケトエステル化合物類。さらには、モノエタノールァミン、ジ エタノールァミン、トリエタノールァミンなどの、アル力ノールアミン類等を挙げることが できる。安定化剤の添加量は、アルコキシドゃ塩化合物に対しモル比で 1程度にする ことが好ましい。また、安定化剤の添加後には、適当な前駆体を形成するために、反 応の一部を促進する目的で触媒を加えることが好ましい。触媒としては、たとえば、硝 酸、塩酸、硫酸、燐酸、酢酸、アンモニア等を例示することができる。上記ゾルーゲル コーティング液を用い膜を形成する方法としては、例えばデイツビング法、スピンコー ト法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ならびにこれらの併用等、既知の塗布手 段を適宜採用することができる。

上記ゾル—ゲルコーティング液を塗布後は、 120°C以上 230°C以下の範囲で熱処 理することが好ましい。熱処理温度は高いほど膜は高密度化しやすくなる力 熱処理 温度が 230°Cを超えると基材に変形などのダメージが生じる。より好ましくは 150°C以 上 210°C以下である。加熱時間は加熱温度にもよるが、 10分以上が好ましい。

乾燥もしくは熱処理を行ったゲノレ膜は温水に浸漬処理することにより、酸化アルミ二 ゥムを主成分とする板状結晶を析出させ最表面の凹凸形状を形成させる。温水に浸 漬することで、酸化アルミニウムを含むゲル膜の表層が解膠作用等を受け、一部の 成分は溶出する。各種水酸化物の温水への溶解度の違いにより、酸化アルミニウム を主成分とする板状結晶が該ゲル膜の表層に析出、成長する。なお、温水の温度は

40°Cから 100°Cとすることが好ましレ、。温水処理時間としては 5分間ないし 24時間程 度である。

酸化アルミニウムを主成分とする膜に異種成分として Ti0₂、 ZrO₂、 SiO₂、 ZnO、 M gOなどの酸化物を添加したゲル膜の温水処理では、各成分の温水に対する溶解度 の差を用いて結晶化を行っている。そのため酸化アルミニウム単成分膜の温水処理 とは異なり、無機成分の組成を変化させることにより板状結晶のサイズを広範な範囲 にわたつて制御することができる。その結果、板状結晶の形成する凹凸形状を前記 の広範な範囲にわたって制御することが可能となる。さらに、副成分として ZnOを用 いた場合、酸化アルミニウムとの共析が可能となるため、屈折率の制御がさらに広範 囲にわたって可能となり優れた反射防止性能を実現できる。

本発明の有機樹脂を主成分とする層 29に用いられる有機樹脂としては、基材 28と 酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶層 30との屈折率を調整する機能を有し、 また使用する光の波長領域で透明であれば良い。

本発明の有機樹脂を主成分とする層 29は基材 28と酸ィ匕アルミニウムを主成分とす る板状結晶層 30との屈折率差を調整することで、高い反射防止性能の発現に寄与 すること力 、最適な膜厚と屈折率を有すること。かつそれらが製膜時力 安定的に 維持されることが望まれる。本願では、有機樹脂が 80重量％以上の樹脂成分を含む 層のことを有機樹脂を主成分とする層と称することとする。

本発明の有機樹脂を主成分とする層には主鎖中に芳香環またはノおよびイミド環 を有する有機樹脂を用レ、ることが好ましレ、。芳香環やイミド環の例としては下記化学 式で表される構造が挙げられる。

芳香環やイミド環は平面構造を持っため、主鎖中にこれらの構造を導入した有機 樹脂は製膜時に分子鎖同士が基板に対して平行に配向し易い。そのため、本発明 の有機樹脂層 29のような数 lOOnm以下の膜厚で用レ、る場合でも、膜厚、屈折率の 均一性が高い。さらに、耐溶剤性に優れ、ガラス転移温度が高く、耐熱性に優れた膜 厚、屈折率の変化の起こり難い。

主鎖中に芳香環またはノおよびイミド環を有しなレ、有機樹脂を用いると、分子鎖同 士がランダムに絡み合うために、薄膜化した時に密度低下が原因と思われる屈折率 低下が見られる。また、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されてい る板状結晶層 30を酸化アルミニウムを含むゾル一ゲルコーティング液から作製する 場合も同様である。つまり前記と同様の原因でゾル一ゲルコーティング液に含まれる 溶媒への溶解、膨潤による膜厚や屈折率変化、加熱乾燥時の変形や、分解、着色 が起こり易い。

さらに、酸ィ匕アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されてレ、る板状結晶層 3 0を得るためには前記酸ィヒアルミニウムを含むゲル膜を水蒸気に暴露したり、温水に 浸漬したりするが、この時に有機樹脂層の膜厚や屈折率は極力変化しないことが望 まれる。この観点からも、主鎖に芳香環または Zおよびイミド環を有する有機樹脂の ように温水などで容易に分解ゃ膨潤が起こらない有機樹脂層 29が好ましい。また、 前記板状結晶層は膜の緻密性が低いため、外界力 の水分などが容易に金属酸化 物層を通り抜けて基材表面に到達する。この際に、基材表面が水分などによって侵 食を受けたり、基材成分が溶出したりすることで光学用部材の性能劣化を弓 Iき起こす ことが問題であった。そこで、本発明の有機樹脂を主成分とする層 3または 5は、外界 力 板状結晶層を経由して来る水分などを遮断する効果が望まれる。そのような効果 を得るためには吸水率が低レ、有機樹脂を用レ、ることが好ましレ、。そのような有機樹脂 としては吸水率が 0. 05%以上 2%以下の有機榭脂である。吸水率が 2%以下であ れば、外部から進入してくる水分を遮断することができる。ここで述べる吸水率とは、 製膜後 23°C/24時間放置した膜の吸水率である。一方、吸水率が 0. 05%未満の 有機樹脂の場合、基板との密着性が著しく低くいために、仮に基板表面の前処理を 行ったとしても、温水処理時などに基板力 剥離してしまう。

有機樹脂の種類としては主鎖に芳香環またはノおよびイミド環を有する有機榭月旨 であれば硬化樹脂または熱可塑性樹脂いずれを用いることもできる。硬化樹脂として は 1個以上のエポキシ基、ォキセタニル基、ェピスルフイド基、メチロール基、イソシァ ネート基、チォイソシァネート基、ビニルエーテル基、ァクリロイル、メタクリロイル基、 マレイミド基などの反応性または重合反応性の置換基を有する化合物あるいはオリゴ マーの硬化物が挙げられる。一つの化合物あるいはオリゴマーに二種類以上の反応 性または重合反応性の置換基が含まれてレ、ても、異なる反応性または重合反応性の 置換基を有する化合物あるレ、はオリゴマーを 2種類以上混合して硬化させた硬化樹 脂を用レ、ることができる。主鎖に芳香環または およびイミド環を有する硬化樹脂の 例としてビスフエノーノレ Aエポキシの硬化物、 m—フエ二レンジイソシァネートの硬化 物、メチロールメラミン樹脂、グアナミン樹脂やマレイミド樹脂の硬化物が挙げられる。 硬化樹脂を用いる場合、上記化合物を硬化する際に開始剤や硬化剤を併用するこ とができる。開始剤は上記化合物の置換基の反応性によってラジカル、カチオン、ァ 二オン開始剤力 選ばれることが多い。また、熱硬化の場合には熱分解型の開始剤 が広く用いられる。熱分解型の開始剤の例としては、ラジカル開始剤として N, N—ァ ゾビスプチロニトリル、カチオン開始剤として p—トルエンスルホン酸ピリジニゥム塩な どが挙げられる。また、熱硬化ではカチオン開始剤として p—トルエンスルホン酸など の有機酸ゃァユオン開始剤としてジァザビシクロウンデセンのような有機アミンを少量 混合する場合もある。硬化を紫外線などの光で行う場合は、光感受性の開始剤を使 用する。

一方、主鎖に芳香環または/およびイミド環を有する熱可塑性樹脂としてはポリエ ーテルケトン、ポリエーテルスルホンなどの芳香族ポリエーテル類、ポリエチレンテレ フタレートなどの芳香族ポリエステル類、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリウレタン、 芳香族ポリ尿素、ポ芳香族リアミド、熱可塑性ポリイミドなどが挙げられる。中でも芳香 族ポリエーテル類、芳香族ポリスルフイド類、ポリカーボネート、熱可塑性ポリイミドが 耐熱性の観点力 より好ましい。

また、ベータ条件で屈折率や膜厚が変化しないことや、未硬化モノマーの残留など が少なレ、点力 熱可塑性樹脂がより好ましレ、。

また、基材 25と有機樹脂を主成分とする層 29の密着性を向上するために、シロキ サン構造を（一 SiR₂_0— )_πを含む有機樹脂を用レ、ることが好ましい。（ただし、 Rは メチル基またはフエニル基であり、 mは 1以上 6以下の整数である。 )

基材との密着性を向上することで、特に高温高湿下での膜剥がれや、クラックなどを 抑制することができる。

(-SiR₂-0-)_mを含む有機樹脂は、（_SiR₂— O— )_mを含む繰り返し単位が、全 繰り返し単位当り 30モル％以下が好ましい。 30モル％以上ではガラス転移温度低 下による耐熱性低下と、ガラス基材への濡れ性低下が発生する。

また、有機樹脂の構造を変えることによって、有機樹脂を主成分とする層 2または 5 の屈折率を変化させることができる。例えば、有機樹脂中に含まれる芳香環の数や ヘテロ環の数を増やすことで屈折率は高くなる。一方、脂肪族鎖、脂環構造、前記の シロキサン構造やフルォロアルキル基などを増やすことによって透明性が向上し、屈 折率は低下する。主鎖に芳香環または およびイミド環を有する有機樹脂の中で構 造によって比較的容易に屈折率を変化させられる例として、ポリイミドゃ芳香族ポリエ 一テル類、芳香族ポリスルフイド類、芳香族ポリカーボネートが挙げられる。これらの ポリマーはモノマ一を介して芳香環やイミド環と合わせて前記構造を主鎖や側鎖に 導入することができる。 ポリイミドは一般的に酸二無水物とジァミンとの重付加反応と脱水縮合反応によつ て合成されるが、ジァミンおよび または酸二無水物に脂肪族鎖、脂環構造やフル ォロアルキル基を導入することで可視光領域で透明なポリイミドが得られる。特に酸 二無水物に脂環構造を有する酸二無水物を用い、ジァミンにシロキサン構造、脂肪 族鎖、脂環構造、芳香環などの各種構造を単独もしくは複数種導入することによって 屈折率も 1. 5から 1. 7まで任意に変化させることができる。

熱可塑性ポリイミドの合成に用いられる酸二無水物の例としては、ピロメリット酸無水 物、 3, 3 '—ビフタル酸無水物、 3, 4 '—ビフタル酸無水物、 3, 3 '， 4, 4 '一べンゾ フエノンテトラカルボン酸二無水物、 3， 3 '， 4， 4 ' —ジフエニルスルホンテトラカル ボン酸二無水物、 4, 4 ' 一（へキサフルォロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、 4， 4 ' ーォキシジフタル酸 無水物などの芳香族酸に無水物、 meso—ブタン一 1， 2, 3， 4ーテトラカルボン酸二無水物、 1， 2, 3, 4ーシクロブタンテトラカルボン酸二無水 物、 1， 2， 3， 4—シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、 1 , 2, 4, 5—シクロへキ サンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ [2. 2. 2]ォクト一7—ェン一2, 3， 5, 6—テ トラカルボン酸二無水物、ビシクロ [2. 2. 2]オクタン一2, 3， 5， 6—テトラカルボン酸 二無水物、ビシクロ [2. 2. 1]ヘプタン一 2， 3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 5 — (2， 5—ジォキソテトラヒドロフリル）一 3—メチル一3—シクロへキセン一 1, 2—ジカ ルボン酸無水物、 4— (2， 5—ジォキソテトラヒドロフラン一 3—ィル）_ 1， 2, 3， 4一 テトラヒドロナフタレン一 1， 2—ジカルボン酸無水物などの脂肪族酸二無水物が挙げ られる。ポリイミドの溶解性、塗布性や透明性を向上する観点から、 3, 3 ' , 4, 4 ' — ジフエニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、 4， 4 '一（へキサフルォロイソプロピ リデン）ジフタル酸無水物、 1 , 2， 3， 4—シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ビ シクロ [2. 2. 2]オクタン一 2, 3， 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ [2. 2. 1]ヘプタン一 2， 3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物、 5— (2， 5—ジォキソテトラヒド 口フリル）一 3—メチルー 3—シクロへキセン一 1 , 2—ジカルボン酸無水物、 4一（2, 5 ージォキソテトラヒドロフラン一 3—ィル）一1 , 2, 3， 4ーテトラヒドロナフタレン一 1 , 2 —ジカルボン酸無水物がより好ましい。

熱可塑性ポリイミドの合成に用いられるジァミンの例としては、 m—フヱニレンジアミ ン、 p—フエ二レンジァミン、 3， 4 ' —ジアミノジフエニルメタン、 4, 4 ' —ジアミノジフ ェニルメタン、 4, 4 ' ージァミノ一 3, 3 ' —ジメチルジフエニルメタン、 o—トリジン、 m 一トリジン、 4, 4 ' —ジァミノべンゾフエノン、 1， 1—ビス（4ーァミノフエニル）シクロへ キサン、 3， 4 ' —ジアミノジフエ二ノレ エーテノレ、 4, 4 ' —ジアミノジフエ二ノレ エーテ ノレ、 1， 4—ビス（4—アミノフエノキシ）ベンゼン、 1， 3—ビス（4—アミノフエノキシ）ベン ゼン、 2, 2—ビス [4— (4一アミノフエノキシ）フエニル]プロパン、 4, 4 ' —ビス（4— アミノフエノキシ）ビフエニル、ビス [4— (4—アミノフエノキシ）フエニル]スルホン、 4， 4 ' —ビス（3—アミノフエノキシ）ビフエニル、ビス [4— (4—アミノフエノキシ）フエニル] スルホン、 9， 9—ビス（4—ァミノフエニル）フルオレン、 2， 2—ビス（4—ァミノフエ- ノレ）へキサフルォロプロパン、 2， 2_ビス [4— (4一アミノフエノキシ）フエニル]へキサ フルォロプロパン、 2, 2 ' —ビス（トリフルォロメチル）ベンジジンなどの芳香族ジアミ ン、 1， 4—ジアミノブタン、 1, 5—ジァミノペンタン、 1, 3—シクロへキサンジァミン、 1, 4—シクロへキサンジァミン、 4， 4 ' —メチレンビス（シクロへキシノレアミン）、 4, 4 ' - メチレンビス（2—メチルシクロへキシルァミン）、 1 , 4—ビス（アミノメチル）シクロへキ サンなどの脂肪族ジァミン、 1, 3—ビス （3—ァミノプロピル）テトラメチルジシロキサ ン、 1， 4—ビス （3—ァミノプロピルジメチルシリル）ベンゼンなどの _SiR₂—0—基 含有ジァミンが挙げられる。ガラスなどの無機基材に対する密着性の観点から、 1， 3 —ビス （3—ァミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、 1， 4—ビス （3—ァミノプロピ ルジメチルシリル）ベンゼンなどの一 SiR₂-O一基含有ジァミンを少なくとも含むこと がより好ましい。

芳香族ポリエーテル類は一般的にビスフエノールと芳香族ジハライドを炭酸カリウム などの塩基存在下、溶媒中で縮合反応することで合成される。ビスフユノールを芳香 族ジスルフイドに置き換えると芳香族ポリスルフイドが合成される。ビスフエノールまた は芳香族ジスルフイドと芳香族ジハライドに各種構造を単独もしくは複数種導入する ことによって屈折率も 1. 5から 1. 7まで任意に変化させることができる。

芳香族ポリエーテル類の合成に用いられるビスフエノールの例としては、レゾノレシノ ール、ハイドロキノン、 4， 4 ' ービフエノール、 2， 2—ビス（4—ヒドロキシフエニル）プ 口パン、 4， 4 ' ージヒドロキシジフエニルメタン、 1， 1—ビス（4—ヒドロキシフエ二ノレ） シクロへキサン、 1 , 1—ビス（4ーヒドロキシ一3—メチルフエニル）シクロへキサン、 4， 4 ' 一（1一 α—メチルベンジリデン）ビスフエノール、 1 , 3—ビス [2— (4—ヒドロキシ フエニル）一2—プロピル]ベンゼン、 α， α ' —ビス（4—ヒドロキシフエ二ノレ）一 1， 4 —ジイソプロピルベンゼン、 α , α ' —ビス（4ーヒドロキシー 3， 5—ジメチルフエ二 ル）一 1 , 4—ジイソプロピルベンゼン、 9， 9—ビス（4—ヒドロキシフエ二ノレ）フルオレン. 9, 9—ビス（4—ヒドロキシ一 3—メチルフエニル）フルオレン、 4， 4 ' —ジヒドロキシべ ンゾフエノン、ビス（4ーヒドロキシフエニル） スルホン、ビス（4—ヒドロキシ一 3, 5—ジ メチルフエニル） スルホン、ォクタフルオロー 4， 4 ' —ビフエノール、ビス（4ーフノレオ 口フエニル）スルホン、 2, 2—ビス（4—ヒドロキシフエニル）へキサフルォロプロパンな どが挙げられる。

芳香族ポリスルフイドの合成に用レ、られる芳香族ジスルフイドの例としては、 ρ—ベン ゼンジチオール、 m_ベンゼンジチオール、 4， 4 ' —ォキシビスベンゼンチオール、 4, 4 ' ーチォビスベンゼンチオール、 4， 4 ' ービフエ二ルジチオールなどが挙げら れる。

芳香族ポリエーテル類または芳香族ポリスルフイドの合成に用いられる芳香族ジハ ライドの例としては、 4, 4 ' —ジクロ口べンゾフエノン、 4, 4 ' 一ジフノレオ口べンゾフエ ノン、 4, 4 ' —ジクロロジフエニル スルホン、ビス（4—フルオロフェニル）スルホン、 ビス（4—フノレオロー 3—ニトロフエニル） スルホン、 2, 6—ジクロロべンゾニトリル、 2， 6—ジフノレオ口べンゾニトリノレ、 2, 4一ジフノレオ口べンゾニトリノレ、テトラフノレォロイソフ タロニトリル、パーフルォロビフエニル、 3， 5—ジクロロ一 1—メトキシトリアジンなどが 挙げられる。また、ジハライドの代わりに 2， 4—ジニトロべンゾニトリル、 2, 6—ジニトロ ベンゾ-トリルなどのジニトロ化合物を用レ、ることができる。 芳香族ポリカーボネートは一般的にビスフヱノールとホスゲンを溶液中で反応させ る方法や、ビスフエノールとジフエニルカーボネートなどの炭酸エステルを溶融状態 で反応させる方法により合成される。ビスフエノールに各種構造を単独もしくは複数 種導入することによって屈折率も 1. 5から 1. 65まで任意に変化させることができる。 芳香族ポリカーボネートの合成に用いられるビスフエノールには、前述の芳香族ポ リエ一テルの合成に用レ、られるビスフエノールが用レ、られる。

芳香族ポリエーテル、芳香族ポリスルフイド、芳香族ポリカーボネートには前述のビス フエノールまたは芳香族ジスルフイド以外に脂肪族ジオールや脂肪族ジスルフイドを 併用することができる。

また、ビスフエノールまたは芳香族ジスルフイドの一部を o—ヒドロキシフエノキシプロ ビルシ口キシ基を 1つ以上有する化合物に置き換えることがより好ましい。この方法に より樹脂中に（一SiR₂_O—)_n基を導入することができ、基材への密着性が向上する。 本発明の有機樹脂を主成分とする層 29の屈折率 niは基材 25の屈折率 nb、該酸 化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されてレ、る板状結晶層 30の屈折率 nsに対して、 nb≥ni≥nsとなることが好ましレ、。このようになるように有機樹脂または 有機樹脂中の構造を選択することが好ましい。この範囲に niを調整することでより高 レ、反射防止性能を発現することができる。

また、有機樹脂を主成分とする層 29には有機樹脂以外に密着性を改善するため に、シランカップリング剤を含ませることが出来る。また、屈折率の調整や吸水率を低 減するために Si0₂、 Ti0₂、 ZrO₂、 Si〇₂、 ZnO、 MgO、 Al₂O₃などの無機微粒子を少 量混ぜることができる。有機樹脂層全体を 100重量部とした時に混合できる有機樹 脂以外の成分は 20重量部未満であり、それ以上混合すると透明性や膜厚の均一性 が損なわれる恐れがある。

有機樹脂は溶液にして基材上にコーティングする方法が簡便であり、薄膜を形成 するのに適しているため好ましい。硬化樹脂の場合、反応性または重合反応性の化 合物あるいはオリゴマーを開始剤や硬化剤などと共に有機溶媒に溶解して用いるこ とができる。一方、熱可塑性樹脂は単独もしくは有機樹脂以外の成分と共に有機溶 媒に溶解して用レ、ることができる。熱可塑性樹脂自体が有機溶媒に不溶もしくは溶け 難い場合は、熱可塑性樹脂前駆体を有機溶媒に溶解して用いることができる。ただ し、後者の場合は前駆体を熱可塑性樹脂に変換する過程が必要である。

本発明の有機樹脂を主成分とする層 29を形成する際に使用される有機溶媒は 2— ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノンなどのケトン類。 酢酸ェチル、酢酸 n—ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸ェチルなどのエステル類。テ トラヒドロフラン、ジォキサン、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類。トルエン、キ シレン、ェチルベンゼンなどの各種の芳香族炭化水素類。クロ口ホルム、メチレンクロ ライド、テトラクロロェタンなどの塩素化炭化水素類。その他、 N—メチルピロリドン、 N, N—ジメチルフオルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホキシド、ス ルホランなどの溶媒が挙げられる。さらに、 1ーブタノール、メチルセ口ソルブ、ジグラ ィム、メトキシプロパノールなどのアルコール類も用レ、ることができる。

有機樹脂の溶液を用いて有機榭脂を主成分とする層 29を形成する方法としては、 例えばデイツビング法、スピンコート法、スプレー法、印刷法、フローコート法、ならび にこれらの併用等、既知の塗布手段を適宜採用することができる。

有機樹脂溶液を塗布後は、溶媒の除去のために 60°Cから 240°Cで 5分から 2時間 程度の加熱を行うことが好ましい。熱で硬化する樹脂の場合、この熱処理によって溶 媒の除去と硬化を同時に行うことができる。一方、熱以外で硬化を行う樹脂の場合、 紫外線、レーザー、電子線、エックス線、マイクロ波などの光、放射線または電磁波 照射を適宜選択して行うことが必要である。熱以外で硬化を行った場合でも、さらに 熱処理を行うことで、反応を促進することができる。

本発明の有機樹脂を主成分とする層 29の厚みは lOnm以上 150nm以下、さらに は 20nm以上 lOOnm以下であることが好ましい。これより薄いと均一な塗膜の形成が 困難であるため、所望な光学特性を得ることが出来ない。また、これより厚いと干渉な どにより反射低減効果への寄与が少なくなる。

本発明で使用される基材としては、ガラス、樹脂、ガラスミラー、樹脂製ミラー等が挙 げられる。樹脂基材の代表的なものとしては以下のものが挙げられる。ポリエステル、 トリァセチルセルロース、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスノレホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、 AB S樹脂、ポリフエ二レンオキサイド、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリシクロォレフィン、 ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性榭脂のフィルムや成形品。また、不飽和ポリエステル 樹脂、フエノール樹脂、架橋型ポリウレタン、架橋型のアクリル樹脂、架橋型の飽和ポ リエステル樹脂など各種の熱硬化性樹脂から得られる架橋フィルムや架橋した成形 品等も挙げられる。ガラスの具体例として、無アルカリガラス、アルミナケィ酸ガラスを 挙げることができる。本発明に用いられる基材は、最終的に使用目的に応じた形状 にされ得るものであれば良ぐ平板、フィルムないしシートなどが用いられ、二次元あ るいは三次元の曲面を有するものであっても良い。厚さは、適宜に決定でき 5mm以 下が一般的である力 これに限定されない。

本発明の光学用透明部材は、以上説明した層の他に、各種機能を付与するための 層を更に設けることができる。例えば、膜硬度を向上させるために、板状結晶の層上 にハードコート層を設けたり、撥水性を付与するためにフルォロアルキルシランゃァ ルキルシランなどの撥水性膜層を設けたりすることができる。また、汚れの付着を防 止する目的などのために酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶よりも低屈折率の 材料の層や、両親媒性の化合物から成る層を設けることができる。一方、基材と有機 樹脂を主成分とする層との密着性を向上させるために接着剤層やプライマー層を設 けたりすることができる。

実施例

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし本発明はかかる実施例に 限定されるものではなレ、。各実施例、比較例で得られた、表面に微細な凹凸を有す る光学膜について、下記の方法で評価を行った。 (1)ポリイミド 1から 5の合成

合計で 0. O12molのジァミン（1)、ジァミン（2)およびジァミン（3)を N, N—ジメチ ルァセトアミド（以下、 DMAcと略す）に溶解した。このジァミン溶液を水冷しながら 0. 012molの酸二無水物を加えた。 DMAcの量はジァミンと酸二無水物の質量の合計 が 20重量％になるように用いた。この溶液を 15時間室温で攪拌し、重合反応を行つ た。さらに、 DMAcで希釈して 8重量％になるように調整した後、 7. 4mlのピリジンと 3. 8mlの無水酢酸をカ卩え、室温で 1時間攪拌した。さらに、オイルバスで 50°Cに加 熱しながら 5時間攪拌した。重合溶液をメタノール中に再沈殿しポリマーを取り出した 後、メタノール中で数回洗浄した。 100°Cで真空乾燥後、淡黄色粉末状のポリイミド を得た。 —NMRスペクトルからカルボキシル基残量を測定し、イミド化率を求めた。 ポリイミド 1から 5の組成表を表 1に示した。

表 1

TDA-100: 4-(2, 5-ジォキソテトラヒドロフラン- 3 -―ィル） - 1,2,3,4 -テトラヒドロナフタレン - 1 2—ジカルボン酸無水物

6FDA: 4,4， - (へキサフノレオ口イソプロピリデン）ジフタル酸二無水物

BAPB: 4,4しビス（4—アミノフエノキシ）ビフエ二ノレ

BAPP: 2,2-ビス [4— (4—アミノフエノキシ)フエ二ノレ]プロパン

DADCM: 4，4'-ジアミノジシクロへキシルメタン

LS-7430: 1,3-ビス（3 -ァミノプロピル）テトラメチルジシロキサン

(2)ポリエーテルエーテルケトン 6の合成

2. 18gの 4， 4 'ージフルォロベンゾフエノン、 3. 79gの 9, 9—ビス（4—ヒドロキシ一

3—メチルフエニル）フルオレンと 1. 72gの炭酸カリウムを 15mlの DMAcに加えて室 温で攪拌した。さらにトルエン 7. 5mlを加えてから 120°Cに加熱しながら系内の水分 を共沸除去した。 150°Cまで昇温し、トルエンを完全に除去した。さらに、 165°Cまで 昇温し 8時間重合を行った。 15mlの DMAcで希釈した後、重合溶液を酸性メタノー ル中に注いで白色の繊維状ポリマーを得た。メタノールで繰り返し洗浄した後、乾燥 して収率 95%でポリエーテルエーテルケトン 6を得た。

(3)ポリイミド溶液 6から 10の調製

2. 5gのポリイミド 1から 5粉末を 10gのシクロへキサノンに溶解することでポリイミド溶 液 6から 10を調製した。

(4)ポリカーボネート溶液 11の調製

2. 5gのビスフエノール Zポリカーボネート（商品名： Z— 400、三菱瓦斯化学製）を 1 0gのシクロへキサノンに溶解することでポリカーボネート溶液 11を調製した。

(5)熱硬化樹脂溶液 12の調製

5gのメラミン樹脂（商品名：二力ラック MX— 750LM、 日本カーバイド製）と 0. 025g の p—トルエンスルホン酸を 95gの 1—メトキシ一 2—プロパノールに溶解して熱硬化 樹脂溶液 12を調製した。

(6) SiO₂— Ti0₂ゾル液 13の調製

14. 6gのケィ酸ェチノレに 3. 15gの 0. 01M希塩酸 HClaq.〕と 29. 5gの 1—ブタ ノール /2—プロパノール（以下、 IPAと略す）の l,l (wt.：)混合溶媒をゆっくり加え てから、室温で攪拌した。 6時間攪拌した後、 92. 5gの 1ーブタノール ZIPAの 1ノ 1 (wt. )混合溶媒で希釈して A液とした。 10· 2gのテトラ n—ブトキシチタンと 3. 9gの ェチルァセトアセテートを順に 25. 5gの 1—ブタノール ZIPAの lZl (wt.；)混合溶 媒中に溶解させた。この溶液を室温で 3時間攪拌し B液とした。 A液を攪拌しながら B 液をゆっくり加え、さらに室温で 3時間攪拌することで Sl Tiモル比が 7/3の SiO₂— 下1〇₂ゾノレ液 13を調製した。

(7)酸化アルミニウム（アルミナ (A1₂0₃) )ゾル液 14の調製

24. 6gの A1(0— sec_Bu)₃を 115. 3gの 1—ブタノール Z2_プロパノール（以下、 IPAと略す）の lZl (wt.：)混合溶媒中に溶解させ、 6. 51gの 3_ォキシブタン酸ェ チルエステルを添加し、約 1時間室温で攪拌した。その後、この溶液に 0. 01M希塩 酸〔HClaq.〕を添カ卩し、約 3時間室温で攪拌した。さらに 120°Cのオイルバス中で 6 時間攪拌することによってアルミナ (A1₂0₃)ゾル液 13を調製した。

(8)酸化アルミニウム（アルミナ (Α1₂Ο₃) )ゾル液 15の調製

17. 2gの A1(0— sec—Bu) ₃を 122. 3gの 1—ブタノール 2—プロパノール（以下、 IPAと略す）の lZl (wt.；)混合溶媒中に溶解させ、 4. 56gの 3 _ォキシブタン酸ェ チルエステルを添カ卩し、約 1時間室温で攪拌した。その後、この溶液に 0. 01M希塩 酸!: HClaq.〕を添加し、約 3時間室温で攪拌した。さらに 120°Cのオイルバス中で 6 時間攪拌することによってアルミナ (A1₂0₃)ゾル液 14を調製した。

(9)シランカップリング剤溶液 16の調製

0. 5gの 3—ァミノプロピノレトリエトキシシランを 99. 5gのエタノールに溶解し、さらに 0. 5gのイオン交換水をカ卩えた。この溶液を室温でー晚攪拌し、シランカップリング剤 15溶液とした。

(10)ポリエーテルエーテルケトン溶液 17の調製

2. 5gのポリエーテルエーテルケトン 6の粉末を 10gのシクロへキサノンに溶解する ことでポリエーテルエーテルケトン溶液 17を調製した。

(11)ポリスルホン溶液 18の調製

2. 5gのペレット状のポリスルホン（Mr！〜 16， 000 :シグマアルドリッチ社製）を 10g の γ—プチロラクトンに溶解することでポリスルホン溶液 18を調製した。

(12)ポリスチレン溶液 19の調製

2. 5gのポリスチレン（シグマアルドリッチ社製）の粉末を 10gのシクロへキサノンに 溶解することでポリスチレン溶液 19を調製した。

(13)有機樹脂の吸水率の測定

シリコン基板上に各種有機樹脂塗膜を形成。 200°CZ60分焼成後、 23°Cのイオン 交換水中に 24時間浸漬した膜の吸水量を熱重量分析装置 (TGZDTA、リガク製サ ーモプラス 2)で測定し、膜の吸水率を求めた。

(14)基板の洗浄

両面を研磨した大きさ約 φ 30mm,厚さ約 2mmの各種ガラス基板をアルカリ洗剤 および IPAで超音波洗浄した後、オーブン中で乾燥した。

(15)被膜形状観察

走査型電子顕微鏡 (FE - SEM、 日立製作所製 S4500)を用レ、て被膜の表層表 面の写真観察 (加速電圧； 10. OkV、倍率； 3万倍)を行った。

(16)透過率測定

自動光学素子測定装置 (V— 570、 日本分光製)を用い、 350nmから 850nmの範 囲の透過率測定を行った。円盤状ガラス板を使用した。透過率測定における光の入 射角は、 0° であった。

(17)膜厚および屈折率の測定

分光エリプソメータ（VASE、ジエー 'ェ一'ウーラム'ジャパン製）を用レヽ、波長 380 nmから 800nmまで測定した。

実施例 1

前記の方法で洗浄した S -TIH53 (n_550nm= l . 84)基板の片方の面にポリイミド溶 液 6を適量滴下し、 3000rpmで 20秒間スピンコートを行った。この基板を 80°Cで 10 分間予備乾燥した後、もう一方の面にも同様にポリイミド溶液 6をスピンコートした。そ の後、 200°Cの熱風循環オーブンで 30分間焼成することで、ポリイミド 1が両面に付 レ、た有機樹脂層付き基板を作製した。ポリイミド 1膜の膜厚、屈折率、吸水率を表 2に 示した。 ' ポリイミド 1膜付き基板の片方の面にアルミナゾル液 14を適量滴下し、 4000rpmで 20秒間スピンコートを行った後、 80°Cで 10分間予備乾燥した。もう一方の面にも同 様にアルミナゾル液をスピンコートした。その後、 200°Cの熱風循環オーブンで 30分 間焼成し、透明なアモルファス Α1₂Ο₃膜を被膜した。

次に、 80°Cの熱水中に 30分間浸漬したのち、 60°Cで 10分間乾燥させた。 得られた膜表面の FE— SEM観察を行ったところ、図 4に示すような Α1₂Ο₃を主成分 とする板状結晶がランダム状にかつ複雑に入り組んだ微細な凹凸組織が観測された。 断面の FE— SEM観察を行ったところ、図 5に示すような Α1₂Ο₃を主成分とする板状 結晶が選択的に基材の表面に対して平均角度 75° の方向に配置されてレ、る像が観 察された。

次いで得られた膜についてエリプソメトリーを用い膜厚、屈折率測定を行った。各々 の膜厚、屈折率を表 3に示した。

この基板について光学性能の耐久性検討の加速試験として 60°C、湿度 90%の高温 高湿試験を行い開始時、 250時間後、 500時間後に透過率の測定を行った。その結 果を表 3に示す。

実施例 2

ポリイミド溶液 6の代わりにポリイミド溶液 7を用レ、、ポリイミド 2からなる有機樹脂層を 形成した以外は実施例 1と同様の操作を行った。

実施例 3

基板を S— LAH65 1. 80)に代えた以外は実施例 2と同様の操作を行つ た。

実施例 4

ポリイミド溶液 7の代わりにポリイミド溶液 8を用レ、、ポリイミド 3からなる有機樹脂層を 形成した以外は実施例 3と同様の操作を行った。

実施例 5

ポリイミド溶液 7の代わりにポリイミド溶液 9を用レ、、ポリイミド 4からなる有機樹脂層を 形成した以外は実施例 3と同様の操作を行った。 .

実施例 6

洗浄した S—LAH65 (n_550nra= l . 80)基板の片方の面にシランカップリング剤溶液 16を適量滴下し、 4000rpmで 20秒間スピンコートを行った。 80°Cで 10分間乾燥し た後、もう一方の面にも同様にシランカップリング剤溶液 16をスピンコートした。その 後、 80°Cで 10分間焼成した。この基板の片方の面にポリカーボネート溶液 11を適量 滴下し、 3000rpmで 20秒間スピンコートを行った。 80°Cで 10分間予備乾燥を行つ た後、もう一方の面にも同様にポリカーボネート溶液 11をスピンコートした。この基板 を 200°Cの熱風循環オーブンで 60分間焼成することで、ビスフエノール Zポリカーボ ネートからなる有機樹脂層付き基板を作製した。熱硬化樹脂膜の膜厚、屈折率、吸 水率を表 2に示した。

以下、実施例 1と同様の方法で透明なアモルファス Α1₂Ο₃膜を被膜し、評価を行つ た。

実施例 7

ポリカーボネート溶液 11の代わりに熱硬化樹脂溶液 12を用レ、、熱硬化樹脂からな る有機樹脂層を形成した以外は実施例 6と同様の操作を行った。

実施例 8 ' 基板を S— 1^ 166 (11₅₅。„„= 1. 77)に代えた以外は実施例 4と同様の操作を行つ た。

実施例 9

ポリイミド溶液 8の代わりにポリイミド溶液 9を用レ、、ポリイミド 4からなる有機樹脂層を 形成した以外は実施例 8と同様の操作を行った。

実施例 10

基板を S— LAH66 (n_550nm= l . 77)に代えた以外は実施例 6と同様の操作を行つ た。

実施例 11

基板を3 _1^ 1166 (11₅₅。„₀= 1. 77)に代えた以外は実施例 7と同様の操作を行つ た。

実施例 12

基板を S— TIH1 (n_550nm= l . 71)に代え、ポリイミド溶液 6の代わりにポリイミド溶液 10 を用レ、、ポリイミド 5からなる有機樹脂層を形成した以外は実施例 1と同様の操作を行 つた ₀

実施例 13

基板を S— TIH1 (n_550nm= l. 71)に代えた以外は実施例 6と同様の操作を行った。 実施例 14

洗浄した S— ίΑΗδδ

:!. 80)基板の片方の面にポリイミド溶液 7を適量滴 下し、 3000rpmで 20秒間スピンコートを行った。この基板を 80°Cで 10分間予備乾 燥した後、もう一方の面にも同様にポリイミド溶液 7をスピンコートした。その後、 20 0°Cの熱風循環オーブンで 30分間焼成することで、ポリイミド 2が両面に付いた有機 樹脂層付き基板を作製した。

ポリイミド 2膜付き基板の片方の面にアルミナゾル液 15を適量滴下し、 2700rpmで 20秒間スピンコートを行った後、 80°Cで 10分間予備乾燥した。もう一方の面にも同 様にアルミナゾル液 15をスピンコートした。その後、 200°Cの熱風循環オーブンで 10 分間焼成した。さらにアルミナゾル液 15を同様の方法で両面に重ね塗りを行レ、、最 後に 200°Cで 30分間焼成を行レ、、透明なアモルファス Α1₂Ο₃膜を被膜した。

次に、 80°Cの熱水中に 30分間浸漬したのち、 60°Cで 10分間乾燥させた。

以下、実施例 1と同様の評価を行った。

実施例 15

ポリイミド溶液 9の代わりにポリカーボネート溶液 11を用い、ポリカーボネートからな る有機樹脂層を形成した以外は実施例 14と同様の操作を行った。

実施例 16

ポリカーボネート溶液 11の代わりにポリエーテルエーテルケトン溶液 17を用い、ポ リエ一テルエーテルケトンからなる有機樹脂層を形成した以外は実施例 6と同様の操 作を行った。

実施例 17

ポリカーボネート溶液 11の代わりにポリスルホン溶液 18を用い、ポリスルホンからな る有機樹脂層を形成した以外は実施例 6と同様の操作を行った。 比較例 1

洗浄した S— ΤΙΗ53 (η₅₅。_ΠΠ]= 1. 84)基板の片方の面にアルミナゾル液 14を適量 滴下し、 4000rpmで 20秒間スピンコートを行った後、 80°Cで 10分間予備乾燥した。 もう一方の面にも同様にアルミナゾル液をスピンコートした。その後、 200°Cの熱風循 環オーブンで 30分間焼成し、透明なアモルファス A1₂0₃膜を被膜した。

次に、 80°Cの熱水中に 30分間浸漬したのち、 60°Cで 10分間乾燥させた。

以下、実施例 1と同様の評価を行った。

比較例 2

基板を S— Ι^ΑΗδδ Οι^^: :! . 80)に代えた以外は比較例 1と同様の操作を行つ た。

比較例 3

洗浄した S— TIH53 (n_550nm= 1. 84)基板の片方の面に SiO₂—Ti0₂ゾル液 13を適 量滴下し、 3000rpmで 20秒間スピンコートを行った。この基板を 80°Cで 10分間予 備乾燥した後、もう一方の面にも同様に SiO₂— TiO₂ゾル液 13をスピンコートした。そ の後、 200°Cの熱風循環オーブンで 60分間焼成することで、アモルファス SiO₂—Ti O₂膜が両面に付いた基板を作製した。アモルファス Si0₂—Ti0₂膜の膜厚、屈折率、 吸水率を表 2に示した。

以下、アモルファス A1₂0₃膜を被覆する以降実施例 1と同様の方法で反射防止膜を 形成し、評価を行った。

比較例 4

基板を S— LAH65 (n₅₅。_nm= l . 80)に代えた以外は比較例 3と同様の操作を行つ た。

比較例 5

ポリカーボネート溶液 11の代わりにポリスチレン溶液 19を用レ、、ポリスチレンからな る有機樹脂層を形成した以外は実施例 6と同様の操作を行った。しかし、ァモルファ ス Α1₂Ο₃膜を被覆した後に温水に浸漬したところ有機中間層力 膜剥離が起こり、反 射防止膜が得られなかった。

表 2

(注)吸水率： 23°Cのイオン交換水中に 24時間浸漬後 表 3

Al₂0₃を主成分とする 透過率測定結果 (550 nm) 基材 有機樹脂層

板状結晶層

種類 屈折率 種類 膜厚 屈折率 膜厚 屈折率 開始時 250時間 500時間 実施例 1 S-TIH53 1.84 ポリイミド 1 78 1.66 250 1.42- 1.0 99.3 99.2 99.2 実施例 2 S-TIH53 1.84 ポリイミド 2 75 1.63 250 1.42- 1,0 99.2 99.1 99.0 実施例 3 S-LAH65 1.80 ポリイミド 2 75 1.63 250 1.42- 1.0 99.2 99.2 99.2 実施例 4 S-LAH65 1.80 ポリイミド 3 79 1.61 250 1.42- 1.0 99.4 99.5 99.4 実施例 5 S-LAH65 1.80 ポリイミド 4 78 1.57 250 1.43- 1.0 99.4 99.3 99.2 実施例 6 S-LAH65 1.80 ポリカーボネート 80 1.59 250 1.43- 1.0 99.3 99.3 99.2 実施 ί列 7 S-LAH65 1.80 熱硬化樹脂 70 1.61 250 1.42- 1.0 99.2 99.2 99.0 実施例 8 S-LAH66 1.77 ポリイミド 3 79 1.61 250 1.42- 1.0 99.4 99.5 99.4 実施例 9 S-LAH66 1.77 ポリイミド 4 78 1.57 250 1.42- 1.0 99.5 99.5 99.4 実施例 1 0 S-LAH66 1.77 ポリカーボネート 80 1.59 250 1.42- 1.0 99.5 99.4 99.4 実施例 1 1 S-LAH66 1.77 熱硬化樹脂 70 1.61 250 1.42- 1.0 99.4 99.3 99.1 実施例 1 2 S-TIH1 1.71 ポリイミド 5 78 1.56 250 1.43- 1.0 99.4 99.3 99.3 実施例 1 3 S-TIH1 1.71 ポリカーボネート 80 1.59 250 1.42- 1.0 99.5 99.4 99.3 実施 ί列 1 4 S-LAH65 1.80 ポリイミド 2 75 1.63 200 1.42- 1.0 99.2 99.1 99.1 実施 ί列 1 5 S-LAH65 1.80 ポリカーボネート 80 1.59 200 1.42- 1.0 99.2 99.2 99.1 実施例 1 6 S-LAH65 1.80 ポリエーテルエーテルケ卜ン 75 1.62 250 1.42- 1.0 99.5 99.4 99.3 実施例 1 4 S-LAH65 1.80 ポリスルホン 78 1.63 200 1.42- 1.0 99.2 99.1 99.0 比較例 1 S-TIH53 1.84 一 - 一 250 1.40- 1.0 97.5 94.2 90.0 比較 ί列 2 S-LAH65 1.80 - - - 250 1.40- 1.0 98.0 95.4 93.3 比較例 3 S-TIH53 1.84 Si0₂-Ti0₂ 85 1.61 250 1.40- 1.0 99.2 98.2 94.2 比較例 4 S-LAH65 1.80 Si02-Ti02 85 1.61 250 1.40- 1.0 99.4 97.8 93.5 比較 ί列 5 S-LAH65 1.80 ポリスチレン 70 1,59 温水処理中に中間眉から剥離

(注)板状結晶の結晶層の屈折率は、傾斜屈折率部の始点と終点の値を示す。例 えば、実施例 1の 1. 42- 1. 0は屈折率が 1. 42から 1. 0まで連続的に減少している ことを示す。

〔性能評価〕

作製した光学膜について 550nmでの透過率を比較すると、実施例 1から 17では高 温高湿による加速耐久試験後でも高い透過率が維持された光学部材が得られた。 一方、比較例 5では膜剥離により、性能評価できる反射防止膜が得られなかった。比 較例 1および 2は初期力 透過率が低く、比較例 3および 4では加速耐久試験後の透 過率が低下した。

実施例 18

図 6は，本発明の実施例 16の光学部材の正面図である。同図において，光学部材 1は凹レンズであり、基板 2に光学用部材 3が設けられた構造となっている。

図 7は、実施例 18の光学部材を図 6中の 7— 7断面で切断した断面を示すものであ る。光学面には有機樹脂を主成分とする膜、酸化アルミニウムを主成分とする板状結 晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形状となってレ、る光学用部材 3を形成したこと により、光学面での光の反射を低減している。

本実施例では、凹レンズの場合を示した力 本発明はこれに限定されるものではな く、レンズは凸レンズでもメニスカスレンズでも構わなレ、。

実施例 19

図 8は、本発明の実施例 19の光学部材の正面図である。同図において、光学部材 1はプリズムであり、基体 2に光学用部材 3が設けられた構造となっている。

図 9は、実施例 19の光学部材を図 8中の 9一 9断面で切断した断面を示すものであ る。光学面には有機樹脂を主成分とする膜、酸ィヒアルミニウムを主成分とする板状結 晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形状となっている光学用部材 3を形成したこと により、光学面での光の反射を低減している。

本実施例では、プリズムの各光学面のなす角度力 90° 、45° の場合を示したが、 本発明はこれに限定されるものではなく、光学面がどんな角度で構成されたプリズム でも構わない。

実施例 20

図 10は、本発明の実施例 20の光学部材の正面図である。同図において、光学部 材 1はフライアイインテグレータであり、基板 2に光学用部材 3が設けられた構造とな つている。

図 11は、実施例 20の光学部材を図 10中の 11一 11断面で切断した断面を示すも のである。光学面には有機樹脂を主成分とする膜、酸化アルミニウムを主成分とする 板状結晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形状となっている光学用部材 3を形成 したことにより、光学面での光の反射を低減している。

実施例 21

図 12は、本発明の実施例 21の光学部材の正面図である。同図において、光学部 材 1は f Θ レンズであり、基板 2に光学用部材 3が設けられた構造となっている。

図 13は、実施例 21の光学部材を図 12中の 13— 13断面で切断した断面を示すも のである。光学面には有機樹脂を主成分とする膜、酸化アルミニウムを主成分とする 板状結晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形状となっている光学用部材 3を形成 したことにより、光学面での光の反射を低減している。

実施例 22

本発明の実施例 22として、本発明の光学部材を観察光学系に用いた例を示す。 図 14は、双眼鏡の一対の光学系のうち、一方の断面を示したものである。

同図において、 4は観察像を形成する対物レンズ、 5は像を反転させるためのプリズ ム（展開して図示）、 6は接眼レンズ、 7は結像面、 8は瞳面（評価面）である。図中 3 (凡例で示す）は本発明に関わる光学用透明部材である。有機樹脂を主成分とする 膜、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形 状となっていることにより、各光学面での光の反射を低減している。また、本実施例で は、対物レンズの最も物体側の光学面 9および接眼レンズの最も評価面側の光学面 10には微細凹凸構造からなる光学用部材 3を設けていない。これは、光学用部材 3 が使用中の接触などにより性能が劣化するので設けなかった力 S、これに限定されるも のではなぐ光学面 9、 10に光学用透明部材 3を設けてもよい。

実施例 23

本発明の実施例 23として、本発明の光学部材を撮像光学系に用いた例を示す。 図 15は、カメラなどの撮影レンズ (ここでは望遠レンズを示す）の断面を示したもので ある。

同図において、 7は結像面であるフィルム、または CCD、 CMOSなどの固体撮像 素子（光電変換素子）、 11は絞りである。図中 3 (凡例で示す）は本発明に関わる光 学用部材である。有機樹脂を主成分とする膜、酸化アルミニウムを主成分とする板状 結晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形状となっていることにより、各光学面での 光の反射を低減している。また、本実施例では、対物レンズの最も物体側の光学面 9 には微細凹凸構造からなる光学用部材 3を設けていなレ、。これは、光学用部材 3が 使用中の接触などにより性能が劣化するので設けなかったが、これに限定されるもの ではなく、光学面 9に光学用部材 3を設けてもよい。

実施例 24

本発明の実施例 24として、本発明の光学部材を投影光学系（プロジェクター）に用 いた例を示す。図 16は、プロジェクター光学系の断面を示したものである。

同図において、 12は光源、 13a, 13bはフライアイインテグレータ、 14は偏光変換 素子、 15fまコンデンサーレンズ、 16ίまミラー、 17ίまフィーノレドレンズ、 18a、 18b、 18 c、 18diまプリズム、 19a、 19b、 19dま光変調素子。 20ίま投影レンズである。図中 3 (凡例で示す）は本発明に関わる光学用透明部材である。有機樹脂を主成分とする 膜、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形 状となってレ、ることにより各光学面での光の反射を低減してレ、る。

また、本実施例の光学用部材 3は、シリカやアルミナなど無機成分を主成分として 構成されているので、耐熱性も高ぐ光源 12に近ぐ高熱に曝させる 13aの位置に用 レ、ても、性能劣化の心配がない。

実施例 25

本発明の実施例 25として、本発明の光学部材を走査光学系（レーザービームプリ ンタ）に用いた例を示す。図 17は、走査光学系の断面を示したものである。

同図において、 12は光源、 21はコリメーターレンズ、 11は開口絞り、 22はシリンドリ カルレンズ、 23は光偏向器、 24a、 24bは ί θ レンズ、 7は像面である。図中 3 (凡例で 示す)は本発明に関わる光学用透明部材である。有機樹脂を主成分とする膜、酸化 アルミニウムを主成分とする板状結晶を配した層を形成し、最表面は凹凸形状となつ ていることにより各光学面での光の反射を低減し、高品位な画像形成を実現してい る。

産業上の利用可能性

本発明の光学用部材は、任意の屈折率を有する透明基材に対応でき、可視光に 対して優れた反射防止効果を示すとともに、長期的な耐候性を有するので、ワープロ、 コンピュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種ディスプレイ。液晶表示 装置に用いる偏光板、各種光学硝材及び透明プラスチック類力 なるサングラスレン ズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ、プリズム、フライアイレンズ、トーリ ックレンズ、各種光学フィルター、センサーなどの光学部材。さらにはそれらを用いた 撮影光学系、双眼鏡などの観察光学系、液晶プロジェクタなどに用レ、る投射光学系。 レーザービームプリンターなどに用いる走査光学系等の各種光学レンズ。各種計器 のカバー、自動車、電車等の窓ガラスなどの光学部材に利用することができる。

この出願は 2007年 2月 20日に出願された日本国特許出願番号第 2007— 04000 3、及び 2008年 2月 14曰〖こ出願された曰本国特許出願番号第 2008— 033290力 らの優先権を主張するものであり、これらの内容を引用してこの出願の一部とするも のである。

Claims

請 求 の 範 囲

1. 基材表面に積層体が形成された光学部材において、少なくとも一層が酸化 アルミニウムを主成分とする板状結晶力 形成されてレ、る板状結晶層であり、前記基 材と前記板状結晶層との間に少なくとも一層の有機樹脂を主成分とする層を含み、 かつ前記有機樹脂が主鎖中に芳香環または およびイミド環を有することを特徴と する光学用部材。

2. 前記板状結晶は、ベーマイトであることを特徴とする請求項 1記載の光学用 部材。

3. 前記板状結晶層が表層側から基材側に向かって屈折率が連続的に上昇す る層であることを特徴とする請求項 1記載の光学用部材。

4. 前記板状結晶層の表面が凹凸形状からなることを特徴とする請求項 1乃至 3 記載の光学用部材。

5. 前記有機樹脂の吸水率が 0. 05%以上 2%以下であることを特徴とする請求 項 1乃至 4記載の光学用部材。

6. 前記有機樹脂が熱可塑性樹脂であることを特徴とする請求項 1乃至 5記載の 光学用部材。

7. 前記有機樹脂の少なくとも一部に

(-SiR₂-O-)_m

の繰り返し単位を有することを特徴とする請求項 6記載の光学用部材。

ただし、 Rはメチル基またはフエニル基であり、 mは 1以上 6以下の整数である。

8. 前記基材の屈折率 nbと、前記有機樹脂を主成分とする層の屈折率 niと、前 記酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶から形成されている板状結晶層の屈折 率 ns力 nb≥ ni≥ nsであることを特徴とする請求項 1乃至 7記載の光学用部材。

9. 前記有機樹脂を主成分とする層の厚みが lOnm以上 150nm以下であること を特徴とする請求項 1乃至 8記載の光学用部材。

10. 前記基材がガラスであることを特徴とする請求項 1乃至 9記載の光学用部 材。

11. 請求項 1乃至 10のいずれかに記載の光学用部材を有することを特徴とする 光学系。

12. 基材上に、有機樹脂を主成分とする層を形成する工程と、

酸化アルミニウムを主成分とする層を形成する工程と、

前記酸化アルミニウムを主成分とする層を温水処理することによって表面に凹凸を形 成する工程を有し、

前記基材の屈折率 nbと、前記有機樹脂を主成分とする層の屈折率 niと、前記酸化 アルミニウムを主成分とする層の屈折率 _nsを、 nb≥ni≥nsとすることを特徴とする光 学用部材の製造方法。