WO2007102321A1 - ステージ装置 - Google Patents

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WO2007102321A1
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substrate
guide
pair
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Yasuzou Tanaka
Junpei Yuyama
Mitsuru Yahagi
Hirofumi Minami
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Ulvac, Inc.
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    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus

Definitions

  • the present invention relates to a gantry moving stage device, and more specifically, for example, application of various base materials such as a sealant, a liquid crystal material, and a spacer-containing resin to a glass substrate for a liquid crystal panel, Alternatively, the present invention relates to a stage apparatus used for surface inspection using a camera or surface level difference measurement.
  • a gantry moving type stage device is used in which a discharge nozzle for discharging a paste material or a camera is moved along two in-plane directions of a glass substrate (for example, see Patent Document 1 below).
  • FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of this type of conventional stage apparatus.
  • the conventional stage apparatus 1 shown in the figure includes a mounting table 2 that supports a substrate to be processed in the XY plane, and a pair of guide frames 3X and 3X that are installed so as to sandwich the mounting table 2 and extend in the X-axis direction.
  • the gantry 3Y extends between the pair of guide frames 3X and 3X, and the substrate processing unit 4 provided in the gantry 3Y.
  • the gantry 3Y is attached to the guide frames 3X, 3X so as to be movable along the upper surfaces of the guide frames 3X, 3X.
  • Substrate processing unit 4 is a discharge nozzle that discharges various paste materials such as sealants, liquid crystal materials, and spacer-containing grease1, and is composed of a camera unit that observes the substrate surface. Attached movably along the bottom surface of the gantry 3Y. The gantry 3Y and the substrate processing unit 4 are moved along the guide frames 3X, 3X and the gantry 3Y, respectively, by a drive source such as a linear motor.
  • the substrate processing unit 4 is fed and moved so as to face the surface of the substrate to be processed supported on the mounting table 2. Processing substrate The above-mentioned various paste materials are applied to the surface or surface properties are photographed. Then, by moving the substrate processing unit 4 in the X-axis and Y-axis directions, a predetermined processing operation on the entire substrate to be processed by the substrate processing unit 4 is performed intermittently or continuously.
  • the guide frame 3X is necessary for substrate processing in order to carry in and out the substrate to be processed on the mounting table 2 or to inspect the substrate processing unit 4 for maintenance.
  • a non-work area R2 for retracting the gantry 3Y from the position directly above the mounting table 2 is provided. That is, the guide frame 3X has a length that can form the work area R1 and the non-work area R2.
  • Patent Document 1 Japanese Patent No. 3701882
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2006-12911
  • the substrate to be processed has tended to increase in size, and accordingly, the stage apparatus for processing the substrate to be processed needs to be increased in size.
  • the stage apparatus becomes larger, there is a problem that the stage apparatus cannot be transported. For example, if the size of the substrate to be processed is 3000mm x 2800mm, the stage device will require a force with a short side of 3500mm or more. .
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a stage device that can be divided so as to be able to be transported by land and can ensure proper processing for a substrate to be processed.
  • a stage apparatus of the present invention includes a substrate support surface that supports a substrate to be processed, a pair of guide frames that are disposed to face each other with the substrate support surface interposed therebetween, and a pair of guide frames.
  • a stage apparatus including a gantry extending between and movably supported with respect to a pair of guide frames, and a substrate processing unit installed on the gantry, wherein one guide frame of the pair of guide frames And a combination of a first structure including a second structure including the other guide frame of the pair of guide frames and a third structure including a gantry.
  • the stage apparatus of the present invention configured as described above, since the gantry and the guide frames of each of the pair of guide frames for guiding the movement of the gantry are divided, the stage The device can be shortened to a length that allows land transport. Also, each guide frame itself has a split structure! /, So there is no seam on the gantry movement path. Therefore, it is possible to ensure proper processing for the substrate to be processed without causing the gantry to change in vibration or moving speed.
  • another stage apparatus of the present invention is a stage apparatus for performing processing or inspection of a substrate to be processed by installing a substrate to be processed and moving a gantry on the substrate to be processed.
  • a pair of guide portions that movably support both leg portions of the gantry are provided, and the pair of guide portions are configured to be separated and transportable.
  • the pair of guide portions corresponds to, for example, a linear guide that guides the gantry to move straight.
  • the stage device since the pair of guide frames or guide portions for guiding the movement of the gantry is structured to be separable from each other, the stage device has a length that can be transported by land. Can be shortened.
  • the guide frame since the guide frame is not divided on the work area of the gantry, the gantry does not change in vibration or moving speed, and appropriate processing can be ensured for the substrate to be processed.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a stage apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • A is an overall perspective view showing a state after assembly
  • B is an overall perspective view showing a state before assembly.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a stage device according to an embodiment of the present invention when viewed in the X-axis direction
  • FIG. 3 is a cross-sectional perspective view showing a schematic configuration of a movable part of the stage apparatus according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic plan view showing a configuration of a conventional stage apparatus.
  • FIGS. 1A and 1B are general perspective views showing a schematic configuration of a stage apparatus 11 according to an embodiment of the present invention, where A shows a state after assembly and B shows a state before assembly.
  • Figure 2 shows the stage equipment
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of the device 11 when the force in the X-axis direction is also viewed.
  • the stage apparatus 11 of the present embodiment includes a mounting table 12 that supports a substrate W to be processed such as a glass substrate, and a pair of guide frames that are installed so as to sandwich the mounting table 12 and extend in the X-axis direction.
  • a gantry 13Y extending between the pair of guide frames 13X1 and 13X2, and a substrate processing unit 14 provided in the gantry 13Y.
  • the mounting table 12 has a substrate support surface that supports the substrate W to be processed in the XY plane.
  • the mounting table 12 is installed on a frame 16 for arranging a pair of guide frames 13X1 and 13X2 facing each other in parallel with each other at a predetermined interval.
  • the mounting table 12 includes a mechanism for holding the substrate W to be processed on the substrate support surface by, for example, vacuum suction. 1A and 1B, the mounting table 12 is not shown.
  • a part of the gantry 16 may constitute the substrate support surface.
  • the pair of guide frames 13X1, 13X2 are integrally fixed via a mount 16.
  • the guide frames 13X1 and 13X2 are a movement path that defines the working area of the gantry 13Y required for substrate processing, and a movement path that defines the non-working area for retracting the gantry 13Y also the position force directly above the substrate W to be processed. It is formed in the length which comprises.
  • the gantry 13Y extends in a direction intersecting with the extending direction (X-axis direction) of the guide frames 13X1, 13X2, particularly in a direction orthogonal to the present embodiment (Y-axis direction). Both legs of the gantry 13Y are supported by the guide frames 13X1 and 13X2 through the movable portion 20 so as to be movable along the upper surfaces of the guide frames 13X1 and 13X2.
  • the substrate processing unit 14 is a discharge nozzle that discharges various paste materials such as a sealant, a liquid crystal material, and a spacer-containing resin to the surface of the substrate W to be processed supported on the mounting table 12. Consists of a camera unit that observes the substrate surface.
  • the substrate processing unit 14 is supported movably along the lower surface of the gantry 13 Y with respect to the gantry 13 Y.
  • Gantry 13Y and substrate processing unit 14 are moved along guide frames 13X1, 13X2 and gantry 13Y, respectively, using a linear motor as a drive source.
  • Fig. 3 shows an example of the configuration of the movable part 20 installed between the guide frame 13X1 and the gantry 13Y. ing. The following configuration is similarly applied between the guide frame 13X2 and the gantry 13Y and between the gantry 13Y and the substrate processing unit 14! RU
  • the movable part 20 includes a linear guide 17, a magnet 18, and an armature coil 19.
  • the linear guide 17 includes a pair of guide shafts 17a and 17a laid on the upper surface of the guide frame 13X1, and a pair of guide bearings 17b and 17b installed on the lower surface of the leg portion of the gantry 13Y.
  • the magnet 18 is linearly installed between the pair of guide shafts 17a and 17a on the upper surface of the guide frame 13X1.
  • the armature coil 19 is attached to the lower surface of the leg portion of the gantry 13Y so as to face the magnet 18 with a gap. These magnet 18 and armature coil 19 constitute a linear motor.
  • the movable unit 20 is further provided with a position detection sensor 21 for detecting the relative position of the gantry 13Y with respect to the guide frame 13X1.
  • the position detection sensor 21 detects the position of the gantry 13Y by optically detecting the linear scale 22 installed on the side surface of the guide frame 13X1.
  • the stage apparatus 11 includes a control unit that controls the movement of the gantry 13Y and the substrate processing unit 14 in response to the detection output of the position detection sensor configured as described above. Omitted.
  • the substrate to be processed supported by the mounting table 12 by the horizontal movement of the gantry 13Y with respect to the guide frames 13X1, 13X2 in the X-axis direction and the horizontal movement of the substrate processing unit 14 with respect to the gantry 13Y in the Y-axis direction.
  • the substrate processing unit 14 can be arranged opposite to the entire surface of W in two directions in the XY plane.
  • the stage apparatus 11 continuously performs a predetermined substrate processing operation on the substrate W to be processed by the substrate processing unit 14 (in this example, coating treatment or surface inspection of a sealant, a liquid crystal material, and a spacer-containing resin). Or it is configured as an XY stage that can be performed intermittently.
  • the stage apparatus 11 of the present embodiment as shown in FIG. 1B, the first structure VI including the guide frame 13X1 on one side and the second structure including the guide frame 13X2 on the other side. It is composed of a combination of V2 and the third component V3 including the gantry 13Y. Therefore, the stage apparatus 11 includes a guide frame 13X1, a guide frame 13X2, and a gantry 13 It is supposed to be separable from Y.
  • the first structural body VI also includes a guide frame 13X1, a part 16a of the gantry 16 and the like 16a
  • the second structural body V2 includes the guide frame 13X2 and a part 16b of the gantry 16.
  • a linear guide shaft 17a, a magnet 18 or the like may be laid on the guide frames 13X1 and 13X2.
  • the guide shafts 17a respectively laid on the guide frame 13X1 and the guide frame 13X2 correspond to “a pair of guide portions” in the present invention.
  • the third component V3 has a gantry 13Y, a substrate processing unit 14, and the like, and a part of the movable portion 20 may be provided on both legs of the gantry 13Y.
  • the mounting table 12 is configured to be detachable with respect to the mount 16 and is mounted on the mount 16 after the assembly of the guide frames 13X1 and 13X2.
  • the guide frames 13X1 and 13X2 are configured to be separable with respect to the direction orthogonal to the extending direction thereof, so that the frame portion of the stage apparatus 11 can be separated. Can be transported in two parts with respect to the axial direction.
  • the stage device 11 even if the stage device 11 has a length dimension of 5500 mm or more in the X-axis direction and a width dimension of 4500 mm or more in the Y-axis direction, the stage device 11 is divided into two parts in the Y-axis direction. This makes it possible to keep the length of the short side to 3500 mm or less. As a result, restrictions based on road conditions and the like are eliminated, and the stage device 11 can be transported by land.
  • the boundary line D (FIG. 1A) between the one guide frame 13X1 side and the other guide frame 13X2 side is substantially the Y axis direction of the gantry 16 connecting the pair of guide frames 13X1 and 13X2. It is set at the center.
  • the divided bases 16a and 16b are respectively fixed to the guide frame 13X1 and the guide frame 13X2, and the ends of the bases 16a and 16b are joined to each other when the stage is held up.
  • the position of the boundary line D that is, the division position of the gantry 16 is not limited to the above example.
  • the split surface of the gantry 16 is configured such that the normal direction thereof is the Y-axis direction, the normal direction of the split surface may be configured to intersect the Y-axis direction.
  • the guide frames 13X1 and 13X2 may be divided at their diagonal positions.
  • each guide frame 13X1, 13X2 itself is not divided structure, There are no seams on the path of movement of the gantry 13Y. Therefore, the gantry 13Y is not caused to vibrate or change in moving speed, and appropriate processing can be ensured for the substrate W to be processed. In addition, it is possible to secure a design accuracy that can obtain the desired moving feed accuracy of the gantry 13Y, and the manufacture and installation work of the guide frames 13X1 and 13X2 become easy.
  • the moving feed accuracy of the gantry 13Y includes the rigidity and flatness of the moving surface of the gantry 13Y, the constant velocity mobility of the gantry 13Y, and the like.
  • the guide frames 13X1 and 13X2 are made of a material having high cache accuracy such as a stone such as granite or marble, or a hard ceramic such as SiC.
  • the guide frames 13X1, 13X2 are not divided in the extending direction, a linear guide (guide portion) or a linear scale is laid on the guide frames 13X1, 13X2 to adjust the linear motion guide. It is possible to ship in a state in which This simplifies installation and adjustment work at the site and improves workability.

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Abstract

　陸送可能に分割できるとともに被処理基板に対する適正な処理を確保する。 被処理基板が設置される基板支持面を挟むように対向配置された一対のガイドフレーム（１３Ｘ１），（１３Ｘ２）と、これら一対のガイドフレーム（１３Ｘ１），（１３Ｘ２）の上面に移動自在に支持されるガントリー（１３Ｙ）とを備えたステージ装置（１１）であって、当該ステージ装置（１１）を、一方のガイドフレーム（１３Ｘ１）を含む第１構成体Ｖ１と、他方のガイドフレーム（１３Ｘ２）を含む第２構成体Ｖ２と、ガントリー（１３Ｙ）を含む第３構成体Ｖ３との結合体で構成する。これにより、大型のステージ装置であっても、各構成体Ｖ１～Ｖ３に分離自在であるので陸送が可能となり、また、ガントリー（１３Ｙ）の移動経路上に継ぎ目が存在しないので、ガントリー（１３Ｙ）の移動送り精度を損なわずに適正な基板処理を確保できる。

Description

明 細 書
ステージ装置
技術分野
[0001] 本発明は、ガントリー移動型のステージ装置に関し、更に詳しくは、例えば液晶パ ネル用のガラス基板に対するシール剤や液晶材料、スぺーサ含有榭脂等の各種べ 一スト材の塗布、あるいはカメラを用いた表面検査や表面段差計測等に用いられるス テージ装置に関する。
背景技術
[0002] 従来より、例えば、液晶パネル用のガラス基板に対するシール剤や液晶材料、スぺ ーサ含有榭脂等の各種ペースト材の塗布工程、ある 、はカメラを用いた表面検査ェ 程等においては、ペースト材を吐出する吐出ノズルあるいはカメラをガラス基板の面 内 2方向に沿って移動させるガントリー移動型のステージ装置が用いられている（例 えば下記特許文献 1参照)。
[0003] 図 4はこの種の従来のステージ装置の概略構成を示す平面図である。図示する従 来のステージ装置 1は、 XY面内において被処理基板を支持する載置台 2と、この載 置台 2を挟むように設置され X軸方向に延在する一対のガイドフレーム 3X, 3Xと、こ れら一対のガイドフレーム 3X, 3X間にわたって延在するガントリー 3Yと、このガントリ 一 3Yに設けられた基板処理ユニット 4とを備えている。
[0004] ガントリー 3Yは、ガイドフレーム 3X, 3Xに対し当該ガイドフレーム 3X, 3Xの上面に 沿って移動自在に取り付けられている。基板処理ユニット 4は、シール剤や液晶材料 、スぺーサ含有榭脂等の各種ペースト材を吐出する吐出ノズルある 1、は基板表面を 観察するカメラユニット等で構成されており、ガントリー 3Yに対し当該ガントリー 3Yの 下面に沿って移動自在に取り付けられている。ガントリー 3Yおよび基板処理ユニット 4は、リニアモータ等の駆動源によってそれぞれガイドフレーム 3X, 3Xおよびガントリ 一 3Yに沿って移動される。
[0005] 以上のように構成される従来のステージ装置 1にお 、ては、載置台 2の上に支持さ れた被処理基板の表面に対向して基板処理ユニット 4が送り移動され、被処理基板 表面に対する上述した各種ペースト材の塗布あるいは表面性状の撮影などが行われ る。そして、基板処理ユニット 4を X軸、 Y軸方向にそれぞれ移動させることで、当該基 板処理ユニット 4による被処理基板全域に対する所定の処理動作が間欠的または連 続的に行われる。
[0006] また、この種のステージ装置においては、載置台 2に対する被処理基板の搬入 '搬 出、あるいは基板処理ユニット 4の保守'点検等のために、ガイドフレーム 3Xは、基板 処理に必要とされるガントリー 3Yの移動経路を画定する作業領域 R1とは別に、ガン トリー 3Yを載置台 2の直上位置カゝら退避させるための非作業領域 R2が設けられてい る。すなわち、ガイドフレーム 3Xは、作業領域 R1と非作業領域 R2とを形成できる長 さで構成されている。
[0007] 特許文献 1 :特許第 3701882号公報
特許文献 2：特開 2006 - 12911号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 近年、被処理基板が益々大型化する傾向にあり、これに伴って、被処理基板を処 理するステージ装置も大型化する必要性が生じて 、る。
[0009] ところが、ステージ装置の大型化が進むと、当該ステージ装置の輸送が不可能にな るという問題がある。例えば、被処理基板の大きさが 3000mm X 2800mmの場合、 ステージ装置は短辺 3500mm以上の大きさが必要となる力 このような大きさになる と、現在の道路事情では陸送が不可能となる。
[0010] このような問題を解決するために、ステージ装置を複数に分割する方法がある (例 えば上記特許文献 2参照)。しかしながら、図 4に示したようなガントリー移動型のステ ージ装置 1においては、ガントリー 3Yの移動経路上にガイドフレーム 3Xの継ぎ目が あると、この継ぎ目を通過する際に、ガントリー 3Yの振動を誘発したり移動速度に変 化を生じさせ、基板処理ユニット 4による適正な基板処理が行えなくなるという問題が ある。
[0011] 本発明は上述の問題に鑑みてなされ、陸送可能に分割できるとともに被処理基板 に対する適正な処理を確保できるステージ装置を提供することを課題とする。 課題を解決するための手段
[0012] 以上の課題を解決するに当たり、本発明のステージ装置は、被処理基板を支持す る基板支持面と、基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレームと、一対 のガイドフレーム間にわたって延在し一対のガイドフレームに対して移動自在に支持 されたガントリーと、ガントリーに設置された基板処理ユニットとを備えたステージ装置 であって、一対のガイドフレームのうち一方のガイドフレームを含む第 1の構成体と、 一対のガイドフレームのうち他方のガイドフレームを含む第 2の構成体と、ガントリーを 含む第 3の構成体との結合体で構成されて 、る。
[0013] 以上のように構成される本発明のステージ装置においては、ガントリーと、このガント リーの移動案内を行う一対のガイドフレームの各々のガイドフレームとの分割構造とさ れているので、ステージ装置を陸送が可能な長さにまで短くすることができる。また、 各ガイドフレームはそれ自身が分割構造とされて!/、な 、ため、ガントリーの移動経路 上に継ぎ目は存在しない。従って、ガントリーに振動や移動速度の変化を生じさせる ことはなぐ被処理基材に対して適正な処理を確保することができる。
[0014] また、本発明の他のステージ装置は、被処理基板を設置し、被処理基板上でガント リーを移動させて、被処理基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって 、ガントリーの両脚部を移動自在に支持する一対のガイド部を備え、これら一対のガ イド部は、分離運搬可能に構成されている。
[0015] 上記一対のガイド部は、例えば、ガントリーの直進移動案内を行うリニアガイドに相 当する。これら一対のガイド部をそれぞれ分離自在に構成したガイドフレーム上に設 置することで、上述と同様な作用効果を得ることができる。
発明の効果
[0016] 以上述べたように、本発明によれば、ガントリーの移動案内を行う一対のガイドフレ ームあるいはガイド部を相互に分離自在な構造としたので、ステージ装置を陸送が可 能な長さにまで短くすることができる。また、ガイドフレームの分割位置がガントリーの 作業領域上に存在しないので、ガントリーに振動や移動速度の変化が生じることはな く、被処理基板に対して適正な処理を確保することができる。
図面の簡単な説明 [0017] [図 1]本発明の実施形態によるステージ装置の概略構成図であり。 Aは組立後の状 態を示す全体斜視図、 Bは組立前の状態を示す全体斜視図である。
[図 2]本発明の実施形態によるステージ装置の X軸方向力 見たときの断面図である
[図 3]本発明の実施形態によるステージ装置の可動部の概略構成を示す断面斜視 図である。
[図 4]従来のステージ装置の構成を示す概略平面図である。
符号の説明
[0018] 11 ステージ装置
12 載置台
13X1, 13X2 ガイドフレーム
13Y ガントリー
14 基板処理ユニット
16, 16a, 16b 架台
17 リニアガイド
17a ガイド軸 (第 1,第 2ガイド部）
17b ガイド軸受
18 マグネット
19 電機子コイル
20 可動部
21 位置検出センサ
22 リニアスケール
発明を実施するための最良の形態
[0019] 以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明はこれ に限定されることなぐ本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
[0020] 図 1A, Bは本発明の実施形態によるステージ装置 11の概略構成を示す全体斜視 図であり、 Aは組立後、 Bは組立前の状態をそれぞれ示している。図 2は、ステージ装 置 11を X軸方向力も見たときの断面図である。
[0021] 本実施形態のステージ装置 11は、ガラス基板等の被処理基板 Wを支持する載置 台 12と、この載置台 12を挟むように設置され X軸方向に延在する一対のガイドフレ ーム 13X1, 13X2と、これら一対のガイドフレーム 13X1, 13X2間にわたって延在す るガントリ一 13Yと、このガントリー 13 Yに設けられた基板処理ユニット 14とを備えて いる。
[0022] 載置台 12は、 XY面内において被処理基板 Wを支持する基板支持面を有している 。載置台 12は、一対のガイドフレーム 13X1, 13X2を互いに平行にかつ所定の間隔 を維持して対向配置させるための架台 16の上に設置されている。また、載置台 12は 、基板支持面上で被処理基板 Wを例えば真空吸着等により保持する機構を備えて いる。なお、図 1A, Bにおいては載置台 12の図示を省略している。また、架台 16の 一部が上記基板支持面を構成するようにしてもょ ヽ。
[0023] 一対のガイドフレーム 13X1, 13X2は架台 16を介して一体的に固定されている。
ガイドフレーム 13X1, 13X2は、基板処理に必要とされるガントリー 13Yの作業領域 を画定する移動経路と、ガントリー 13Yを被処理基板 Wの直上位置力も退避させるた めの非作業領域を画定する移動経路とを構成する長さに形成されている。
[0024] ガントリー 13Yは、ガイドフレーム 13X1, 13X2の延在方向（X軸方向）に対して交 差する方向、特に本実施形態では直交する方向（Y軸方向）に延在している。ガントリ 一 13Yの両脚部は、ガイドフレーム 13X1, 13X2に対し、可動部 20を介して当該ガ イドフレーム 13X1 , 13X2の上面に沿って移動自在に支持されて!、る。
[0025] 基板処理ユニット 14は、載置台 12の上に支持された被処理基板 Wの表面にシー ル剤ゃ液晶材料、スぺーサ含有榭脂等の各種ペースト材を吐出する吐出ノズルある いは基板表面を観察するカメラユニット等で構成されて ヽる。この基板処理ユニット 1 4は、ガントリー 13 Yに対して当該ガントリー 13 Yの下面に沿つて移動自在に支持さ れている。
[0026] ガントリー 13Yおよび基板処理ユニット 14は、リニアモータを駆動源として、それぞ れガイドフレーム 13X1, 13X2およびガントリー 13Yに沿って移動される。図 3は、ガ イドフレーム 13X1とガントリ一 13Yとの間に設置された可動部 20の一構成例を示し ている。なお、以下の構成は、ガイドフレーム 13X2とガントリー 13Yとの間およびガン トリー 13 Yと基板処理ユニット 14との間にも同様に適用されて！、る。
[0027] 図 3に示すように、可動部 20は、リニアガイド 17と、マグネット 18と、電機子コイル 1 9とを備えている。リニアガイド 17は、ガイドフレーム 13X1の上面に敷設された一対 のガイド軸 17a, 17aと、ガントリー 13Yの脚部下面に設置された一対のガイド軸受 1 7b, 17bとで構成されている。マグネット 18は、ガイドフレーム 13X1の上面において 一対のガイド軸 17a, 17aの間に直線的に設置されている。電機子コイル 19は、マグ ネット 18と間隙をおいて対向するようにガントリー 13Yの脚部下面に取り付けられて いる。これらマグネット 18および電機子コイル 19によってリニアモータが構成されてい る。
[0028] 可動部 20には更に、ガイドフレーム 13X1に対するガントリー 13Yの相対位置を検 出するための位置検出センサ 21が設けられている。位置検出センサ 21は、ガイドフ レーム 13X1の側面に設置されたリニアスケール 22を光学的に検出することで、ガン トリー 13Yの位置検出を行う。
[0029] なお、ステージ装置 11は、図示せずとも、上記構成の位置検出センサの検出出力 を受けてガントリー 13Yおよび基板処理ユニット 14の移動制御を行う制御部を備えて いるが、その説明は省略する。
[0030] ガイドフレーム 13X1, 13X2に対するガントリー 13Yの X軸方向への水平移動と、 ガントリー 13Yに対する基板処理ユニット 14の Y軸方向への水平移動とにより、載置 台 12に支持された被処理基板 Wの表面全域に対して基板処理ユニット 14を XY面 内 2方向に対向配置させることが可能となる。これにより、ステージ装置 11は、基板処 理ユニット 14による被処理基板 Wに対する所定の基板処理動作 (本例では、シール 剤や液晶材料、スぺーサ含有樹脂の塗布処理あるいは表面検査）を連続的または 間欠的に行うことが可能な XYステージとして構成される。
[0031] さて、本実施形態のステージ装置 11においては、図 1Bに示すように、一方側のガ イドフレーム 13X1を含む第 1構成体 VIと、他方側のガイドフレーム 13X2を含む第 2 構成体 V2と、ガントリー 13Yを含む第 3構成体 V3との結合体で構成されている。従 つて、ステージ装置 11は、ガイドフレーム 13X1とガイドフレーム 13X2とガントリー 13 Yとの間で分離自在とされて 、る。
[0032] 第 1構成体 VIは、ガイドフレーム 13X1、架台 16の一部 16a等力もなり、第 2構成 体 V2は、ガイドフレーム 13X2と架台 16の一部 16b等からなる。ガイドフレーム 13X1 , 13X2の上にリニアガイドのガイド軸 17aやマグネット 18等があら力じめ敷設されて いてもよい。なお、ガイドフレーム 13X1およびガイドフレーム 13X2上に各々敷設さ れるガイド軸 17aは、本発明における「一対のガイド部」に相当する。
[0033] 第 3構成体 V3は、ガントリー 13Y、基板処理ユニット 14等力 なり、ガントリー 13Y の両脚部には可動部 20の一部を設置しておいてもよい。なお、載置台 12は架台 16 に対して着脱自在に構成しておき、ガイドフレーム 13X1, 13X2の組立後に架台 16 上に取り付けられる。
[0034] 以上のように、本実施の形態によれば、ガイドフレーム 13X1, 13X2をその延在方 向に対して直交する方向に関して分離自在に構成することにより、ステージ装置 11 のフレーム部分を Υ軸方向に関して 2分割して運搬することができる。
例えば、ステージ装置 11の X軸方向の長さ寸法が 5500mm以上、 Y軸方向の幅 寸法が 4500mm以上のサイズを有する場合であつても、ステージ装置 11を Y軸方向 に関して 2分割することで個々の分割構成体単位で短辺の長さ寸法を 3500mm以 下に抑えることが可能となる。これにより、道路事情等に基づく制限が解消されるので 、ステージ装置 11の陸送が可能となる。
[0035] ここで、一方のガイドフレーム 13X1側と他方のガイドフレーム 13X2側との間の境 界線 D (図 1A)は、これら一対のガイドフレーム 13X1, 13X2を連結する架台 16の Y 軸方向略中央部に設定されている。分割された架台 16a, 16bは図 IBに示すように ガイドフレーム 13X1およびガイドフレーム 13X2にそれぞれ固定され、ステージの糸且 立時に各架台 16a, 16bの端部が互いに継ぎ合わされる。
[0036] なお、境界線 Dの位置、すなわち架台 16の分割位置は上記の例に限られない。ま た、架台 16の分割面をその法線方向が Y軸方向となるように構成したが、分割面の 法線方向が Y軸方向と交差する方向に構成してもよい。さらに、ガイドフレーム 13X1 , 13X2をその対角線位置で分割しても構わない。
[0037] また、各ガイドフレーム 13X1, 13X2はそれ自身が分割構造とされていないため、 ガントリー 13Yの移動経路上に継ぎ目は存在しない。従って、ガントリー 13Yに振動 や移動速度の変化を生じさせることはなく、被処理基材 Wに対して適正な処理を確 保することができる。また、ガントリー 13Yの所望の移動送り精度が得られる設計精度 を確保でき、ガイドフレーム 13X1, 13X2の製作および設置作業が容易となる。
[0038] ここで、ガントリー 13Yの移動送り精度には、ガントリー 13Yの移動面の剛性、平坦 度、ガントリー 13Yの等速移動性などが含まれる。これらの特性を得るために、ガイド フレーム 13X1, 13X2には花崗岩 (グラナイト)や大理石などの石材、 SiC等の硬質 セラミックスのようなカ卩ェ精度の高 、材料が用いられて 、る。
[0039] また、ガイドフレーム 13X1, 13X2がその延在方向に関して分割されない構成であ るため、ガイドフレーム 13X1, 13X2上にリニアガイド（ガイド部）やリニアスケールを 敷設し直動案内の調整を行った状態で出荷することが可能となる。これにより、現地 での設置作業および調整作業を簡略化でき、作業性の向上を図ることができる。

Claims

請求の範囲
[1] 被処理基板を支持する基板支持面と、
前記基板支持面を挟んで対向配置された一対のガイドフレームと、
前記一対のガイドフレーム間にわたって延在し前記一対のガイドフレームに対して 移動自在に支持されたガントリーと、
前記ガントリーに設置された基板処理ユニットとを備えたステージ装置であって、 前記一対のガイドフレームのうち一方のガイドフレームを含む第 1の構成体と、 前記一対のガイドフレームのうち他方のガイドフレームを含む第 2の構成体と、 前記ガントリーを含む第 3の構成体との結合からなる
ことを特徴とするステージ装置。
[2] 被処理基板を設置し、前記被処理基板上でガントリーを移動させて、前記被処理 基板の処理または検査を行うためのステージ装置であって、
前記ガントリーの両脚部を移動自在に支持する一対のガイド部を備え、 前記一対のガイド部は、分離運搬可能に構成されて ヽる
ことを特徴とするステージ装置。
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