JP2010190924A - 液晶露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークを搭載するテーブルと、このテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有する固定ステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、前記ガントリ部を固定する固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に複数分割可能な構造を有する。
【選択図】 図1
Description
そのためにネジを太くして使用個数を多くしなくてはならないが、接続面積が狭くネジ締め作業の領域を広く取れない場合の対応や、調整のために多数のネジを何回も締めたり弛めたりして時間が掛かる等が問題となっていた。
図2において、固定ステージ201を支える脚221,222しか図示されていないが、実際には同様の部品が固定ステージ201を安定して支えられるよう設けられている。
−w(2a+b)2/8−wa(2a+b)/2
となり、固定ステージ201を2分割し、その分割位置を中央に設けた場合に、ここで変形が最大となる。固定ステージ201の脚221,222の位置での曲げモーメントは−wa2/2である。
30,31 リニアモータの固定子
40 第一可動ステージ
41 第二可動ステージ
50 トップテーブル
201,202 固定ステージ
210,211,212 テーブル
221,222 脚
501 ランプハウス
503 ガントリ脚
505 マスクホルダフレーム
507 ガントリフレーム
601 基板ガラス
Claims (18)
- ワークを搭載するワークテーブルと、このワークテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有する固定ステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に複数分割可能な構造を有する液晶露光装置。
- 請求項1記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に二つの分割面を有する液晶露光装置。
- 請求項1記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動を支持するレールを有し、前記レールと平行に分割面を有する液晶露光装置。
- 請求項1記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは複数のレールを有し、前記ガントリ部と接続する接続部を有する二つの側方ステージ部と、前記ガントリ部との接続部を有しない中央テーブル部とからなる液晶露光装置。
- 請求項4記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは複数のレールを有し、前記側方テーブル部と前記中央テーブル部にそれぞれレールが設けられ、前記中央テーブル部に設けられた前記複数のレールのうち、前記可動ステージの移動方向に外側に設けられた二つのレールは、前記固定ステージの分割面近傍に設けられた液晶露光装置。
- 請求項1記載の液晶露光装置において、前記固定ステージの分割面は、前記固定ステージの前記可動ステージの移動方向と直角の方向に掛かる曲げモーメントが最小となる位置に設けられた液晶露光装置。
- 請求項1記載の液晶露光装置において、前記固定ステージの分割面は、前記可動ステージの移動方向に沿って設けられている液晶露光装置。
- ワークを搭載するテーブルと、このテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有するステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、前記ステージのうち前記ガントリ部を固定するガントリ固定ステージ部は、当該ガントリ固定ステージ部の前記可動ステージの移動方向と直角の方向に掛かる曲げモーメントが最小となる位置で接続した液晶露光装置。
- 請求項8記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に二つの分割面を有する液晶露光装置。
- 請求項8記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動を支持するレールを有し、前記レールと平行に分割面を有する液晶露光装置。
- 請求項8記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは複数のレールを有し、前記ガントリ部と接続する接続部を有する二つの側方テーブル部と、前記ガントリ部との接続部を有しない中央テーブル部とからなる液晶露光装置。
- 請求項11記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは複数のレールを有し、前記側方テーブル部と前記中央テーブル部にそれぞれレールが設けられ、前記中央テーブル部に設けられた前記複数のレールのうち、前記可動ステージの移動方向に外側に設けられた二つのレールは、前記方向に沿って複数の分割面を設けた液晶露光装置。
- 請求項8記載の液晶露光装置において、前記固定ステージの分割面は、前記可動ステージの移動方向に沿って設けられている液晶露光装置。
- ワークを搭載するテーブルと、このテーブルの移動機構を有する可動ステージと、この可動ステージの移動機構を有するステージと、前記テーブル上のワークに対してマスクパターンを露光する露光手段を支持するガントリ部と、を有する液晶露光装置において、前記ステージのうち前記ガントリ部を固定するガントリ固定ステージ部は、前記可動ステージが移動する方向に沿って複数の分割面を設けた液晶露光装置。
- 請求項14記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動方向に直角の方向に二つの分割面を有する液晶露光装置。
- 請求項14記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは、前記可動ステージの移動を支持するレールを有し、前記レールと平行に分割面を有する液晶露光装置。
- 請求項14記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは複数のレールを有し、前記ガントリ部と接続する接続部を有する二つの側方テーブル部と、前記ガントリ部との接続部を有しない中央テーブル部とからなる液晶露光装置。
- 請求項17記載の液晶露光装置において、前記固定ステージは複数のレールを有し、前記側方テーブル部と前記中央テーブル部にそれぞれレールが設けられ、前記中央テーブル部に設けられた前記複数のレールのうち、前記可動ステージの移動方向に外側に設けられた二つのレールは、前記固定ステージの分割面近傍に設けられた液晶露光装置。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005189776A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nsk Ltd | Xy位置決めテーブル及び露光装置 |
JP2006012911A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Xyステージ装置 |
JP2007073688A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Shinko Electric Co Ltd | Xyステージ装置及びその製造方法 |
WO2007102321A1 (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-13 | Ulvac, Inc. | ステージ装置 |
JP2008076415A (ja) * | 2007-12-12 | 2008-04-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
JP2008107702A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Nakan Corp | 光配向膜形成装置 |
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---|---|---|---|---|
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JP2006198725A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | クランプ装置及び画像形成装置 |
JP2007024969A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | セル内構造の製造方法及びセル内構造並びに表示装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005189776A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nsk Ltd | Xy位置決めテーブル及び露光装置 |
JP2006012911A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Dainippon Printing Co Ltd | Xyステージ装置 |
JP2007073688A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Shinko Electric Co Ltd | Xyステージ装置及びその製造方法 |
WO2007102321A1 (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-13 | Ulvac, Inc. | ステージ装置 |
JP2008107702A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Nakan Corp | 光配向膜形成装置 |
JP2008076415A (ja) * | 2007-12-12 | 2008-04-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
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