JP2008076415A - ステージ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基台10と、基台10上で一軸方向に移動可能に設けられるガントリ部30とを備えたステージ装置1であって、基台10の側方に張り出すように設けられ、一軸方向に沿って延び、ガントリ部30の移動を案内するガイドレール40が設置される張り出し片52と、基台10の側方であって張り出し片52の下方に設けられ、ガントリ部30の移動に追従して変形し、ガントリ部30を制御するケーブルをまとめて配線するケーブルキャリア60と、を備える。
【選択図】図1
Description
また、基台10を分割する場合、基台10が缶材により構成されていると接合面の剛性が低く、ガントリ部30の駆動時に歪みを生じさせる可能性があるが、本実施形態の基台10はボックス構造であり、上部フレーム12と下部フレーム26における上下の接合面を合わせると接合面が増加しているため、歪みを生じさせるおそれを低減することができ、基台10の分割に有利な構造となっている。
なお、張り出し片52の下面には、缶材12c,12dの外側面との間に架設された複数の補強リブ54が設けられており、分割された基台10は、この補強リブ54を介しても連結される。ここで、従来のステージ構造の場合は、分割しようとすると連結のためのフランジをステージの側面に飛び出すように設ける必要があり、横方向のサイズが大きくなってしまうという問題があるが、本実施形態では、補強リブ54や分割部16,26が張り出し片52よりも側方に飛び出ることを抑えることができるため、大型化を抑制することができる。
ここで、従来のステージ構造の場合は、分割しようとすると連結のためのフランジをステージの側面に飛び出すように設ける必要があり、横方向のサイズが大きくなってしまうという問題があるが、本実施形態では、補強リブ154や分割部116,126が張り出し片152よりも側方に飛び出ることを抑えることができるため、大型化を抑制することができる。
また、基台110を分割する場合、基台110が缶材により構成されていると接合面の剛性が低く、ガントリ部130の駆動時に歪みを生じさせる可能性があるが、本実施形態の基台110はボックス構造であり、上部フレーム112と下部フレーム126における上下の接合面を合わせると接合面が増加しているため、歪みを生じさせるおそれを低減することができ、基台110の分割に有利な構造となっている。
Claims (5)
- 基台と、前記基台上で一軸方向に移動可能に設けられるガントリとを備えたステージ装置であって、
前記基台の側方に張り出すように設けられ、前記一軸方向に沿って延び、前記ガントリの移動を案内するガイドレールが設置されるガントリ支持台と、
前記基台の側方であって前記ガントリ支持台の下方に設けられ、前記ガントリの移動に追従して変形するケーブルキャリアと、
を備えることを特徴とするステージ装置。 - 前記ケーブルキャリアは、前記ガントリへのケーブルを支持するものであり、
前記ガントリと前記ケーブルキャリアとの間には前記ケーブルを案内する連絡部材が設けられ、
前記連絡部材と前記ケーブルキャリアとの連結点は、前記ガントリと対面する前記基台を構成する枠体の側方にあることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記ガントリ支持台の下面と前記基台の側面との間には、補強リブが設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載のステージ装置。
- 前記基台は、該基台を水平方向に複数のブロックに分割するための分割部を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のステージ装置。
- 前記ガントリ支持台の下面と前記基台の側面との間には、補強リブが設けられており、
前記基台は、該基台を水平方向に複数のブロックに分割するための分割部を有し、
前記分割部における前記ブロック同士の連結は、前記補強リブを介して行われることを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。
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WO2012077918A2 (ko) * | 2010-12-06 | 2012-06-14 | 두산인프라코어 주식회사 | 머시닝 센터의 고강성 테이블 베드 장치 |
KR101163104B1 (ko) * | 2009-03-20 | 2012-07-09 | 김영애 | 조립구조의 수치제어선반 |
WO2016132477A1 (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-25 | 富士機械製造株式会社 | 工作機械 |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010190924A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Hitachi High-Technologies Corp | 液晶露光装置 |
KR101163104B1 (ko) * | 2009-03-20 | 2012-07-09 | 김영애 | 조립구조의 수치제어선반 |
JP2012042267A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Mitsutoyo Corp | 産業機械 |
WO2012077918A2 (ko) * | 2010-12-06 | 2012-06-14 | 두산인프라코어 주식회사 | 머시닝 센터의 고강성 테이블 베드 장치 |
WO2012077918A3 (ko) * | 2010-12-06 | 2012-08-02 | 두산인프라코어 주식회사 | 머시닝 센터의 고강성 테이블 베드 장치 |
WO2016132477A1 (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-25 | 富士機械製造株式会社 | 工作機械 |
JPWO2016132477A1 (ja) * | 2015-02-18 | 2017-11-24 | 富士機械製造株式会社 | 工作機械 |
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