WO2007069685A1 - 選択的一級アミン化合物の製造方法 - Google Patents

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Naoyuki Takano
Kazuyuki Tanaka
Shinzo Seko
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Abstract

　式（１） （式中、Ａｒはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基またはピリミジニル基等の無置換芳香族基または当該芳香族基が１～３つの置換基で置換された芳香族基を表わす。Ｘはハロゲン原子を表わす。）で示されるハロゲン化合物とアンモニアとホルムアルデヒドとを反応させて、式（２） （式中、Ａｒは上記と同一の意味を表わす。） で示されるヘキサヒドロトリアジン化合物を得、得られた式（２）で示されるヘキサヒドロトリアジン化合物を分解処理することを特徴とする式（３） （式中、Ａｒは上記と同一の意味を表わす。） で示される一級アミン化合物の製造方法を提供する。この方法によれば、安価なアンモニアを用いて、２級アミンの副生を抑え、より工業的に有利に一級アミン化合物を製造できる。

Description

明 細 書
選択的一級アミン化合物の製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、選択的一級アミン化合物の製造方法に関する。
背景技術
[0002] 選択的な一級アミンィ匕合物の合成法は古くから多くの報告があり、フタルイミドを用 V、るガブリエル反応 (例えば非特許文献 1)やその関連反応 (例えば非特許文献 2)、 へキサメチレンテトラミンを用いるデレピン反応 (例えば非特許文献 3)などが知られて いるが、いずれもアミノ化剤が高価であったり、分解操作が煩雑であるなど工業的観 点からは必ずしも満足のいくものではな力つた。一方、アミノ化剤として安価なアンモ ニァを用いる方法は工業的に有用である力 二級ァミンの生成抑制が困難であり、選 択的に一級アミンを得るために 20モル倍以上のアンモニアが必要であるなど問題点 を有していた (特許文献 1)。そのような状況下、芳香族アルデヒドを共存させ二級アミ ンを抑制する方法 (特許文献 2)が知られているが、芳香族アルデヒドの分離回収が 必要であり、満足のいくものではな力つた。
非特許文献 l :Angew.Chem.Int.Ed.Engl.Vol.7,919(1968)
非特許文献 2 Synthesis 122(1990)
非特許文献 3 Synthesis 161(1979)
特許文献 1：米国特許 2608584号公報、特公昭 32— 6256号公報
特許文献 2 :日本国特許第 2908510号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0003] このような状況のもと、本発明者らは、安価なアンモニアを用いて、二級ァミンの副 生を抑え、より工業的に有利に一級アミン化合物を製造する方法を開発すべく検討 したところ、ハロゲンィ匕合物とアンモニアと安価で入手容易なホルムアルデヒドとを反 応させることにより、ー且、へキサヒドロトリアジンィ匕合物に変換し、かかるへキサヒドロ トリアジン化合物を分解処理することにより、 目的とする一級アミン化合物を製造する ことができることを見出し、本発明に至った。
課題を解決するための手段
[0004] すなわち本発明は、式（1)
Ar X ( 1 )
(式中、 Arはフ -ル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基、チェニル基、ピロリル基 、ォキサゾリル基、イソォキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基 、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジュル基、キノリニル基、キノキサリニル基また はべンズイミダゾリル基カゝら選ばれる芳香族基を表わし、 Arは、 1〜3つの置換基を 有していてもよぐ該置換基は同一または相異なって、ハロゲン原子、低級アルキル 基、低級アルコキシ基、低級アルキレンジォキシ基、ニトロ基、シァノ基、ジ (低級アル キル)アミノ基を表わす。 Xはハロゲン原子を表わす。）で示されるハロゲンィ匕合物とァ ンモユアとホルムアルデヒドとを反応させて、式（2)
Figure imgf000004_0001
(式中、 Arは上記と同一の意味を表わす。 )
で示されるへキサヒドロトリアジンィ匕合物を得、得られた式（2)で示されるへキサヒドロ トリアジン化合物を分解処理することを特徴とする式 (3)
A NH2 ( 3 )
(式中、 Arは上記と同一の意味を表わす。 )
で示される一級アミン化合物の製造方法を提供するものである。
発明の効果
[0005] 本発明によれば、ハロゲンィ匕合物とアンモニアから、一級アミン化合物を選択的に 、かつ工業的に有利に製造することができる。
発明を実施するための最良の形態 [0006] まず、式（1)で示されるハロゲン化合物とアンモニアとホルムアルデヒドとを反応さ せて、式（2)で示されるへキサヒドロトリァジン化合物（以下、へキサヒドロトリアジンィ匕 合物（2)と略記する。）を得る工程について説明する。
[0007] ハロゲン化合物（1)の式中にぉ 、て Arで表される芳香族基は 1〜3つの置換基を 有していてもよぐ該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級 アルコキシ基、低級アルキレンジォキシ基、ニトロ基、シァノ基、ジ (低級アルキル）ァ ミノ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子あるい はヨウ素原子が例示される。低級アルキル基、低級アルコキシ基およびジ (低級アル キル）ァミノ基の低級アルキル部分としては、メチル、ェチル、プロピル、ブチル、ペン チル、へキシルなどの C1 6のアルキル基が例示される。低級アルキレンジォキシ 基としては、メチレンジォキシ基、エチレンジォキシ基などが例示される。 Xで表され るハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
[0008] 力かるハロゲン化合物（1)としては、例えば、ベンジルクロリド、 2 クロ口ベンジルク 口リド、 3 クロ口べンジノレクロリド、 4 クロ口べンジノレクロリド、 2 フノレ才口べンジノレク 口リド、 3 フルォロベンジルクロリド、 4 フルォロベンジルクロリド、 2, 4ージクロ口べ ンジノレクロリド、 3, 4 ジクロ口べンジノレクロリド、 2, 6 ジクロ口べンジノレクロリド、 2, 4 ージフルォ口べンジルクロリド、 3, 4ージフルォ口べンジルクロリド、 2, 6 ジフルォロ ベンジルクロリド、 4 メチルベンジルクロリド、 4 ェチルベンジルクロリド、 2, 4ージ メチルベンジルクロリド、 4 t ブチルベンジルクロリド、 3—メトキシベンジルクロリド 、 4—メトキシベンジルクロリド、 4—シァノベンジルクロリド、 3— -トロ一ベンジルクロリ ド、 4— N, N ジメチルァミノ 3 フルオローべンジルクロリド、ベンジルブ口ミド、 2 クロ口べンジノレブ口ミド、 3 クロ口べンジノレブ口ミド、 4 クロ口べンジノレブ口ミド、 2 フルォロベンジルブ口ミド、 3—フルォロベンジルブ口ミド、 4 フルォロベンジルブ 口ミド、 2, 4 ジクロロベンジルブ口ミド、 3, 4 ジクロロベンジルブ口ミド、 2, 6 ジク ロロベンジルブ口ミド、 2, 6 ジフルォロベンジルブ口ミド、 4 メチルベンジルブロミド 、 4 ェチルベンジルブ口ミド、 2, 4ージメチルベンジルブ口ミド、 4 t—ブチルベン ジルブ口ミド、 3—メトキシベンジルブ口ミド、 4—メトキシベンジルブ口ミド、 4—シァノベ ンジルブロミド、 1 クロロメチルナフタレン、 1 クロロメチルー 2—メチルナフタレン、 2—ナフチルクロリド、 1 ナフチルブ口ミド、 2—ナフチルブ口ミド、 2—クロロメチルピ リジン、 3 クロロメチノレピリジン、 4 クロロメチノレピリジン、 2 クロロー 3 クロロメチ ノレピリジン、 2 クロロー 4 クロロメチノレピリジン、 2 クロロー 5 クロロメチノレピリジン 、 2 クロロー 6 クロロメチノレピリジン、 3 クロロー 2 クロロメチノレピリジン、 3 クロ ロー 4 クロロメチノレピリジン、 3—クロロー 5—クロロメチノレピリジン、 3—クロロー 6—ク ロロメチノレピリジン、 4 クロロー 2 クロロメチノレピリジン、 4 クロロー 3 クロロメチノレ ピリジン、 4 クロロー 5—クロロメチノレピリジン、 4 クロロー 6—クロロメチノレピリジン、
3 ブロモメチルピリジン、 2 クロロー 5 ブロモメチルピリジン、 2 ブロモー 5 ブ ロモメチルピリジン、 3 ョードメチルピリジン、 2 クロロー 5 ョードメチルピリジン、 2 —ョードー 5 ョードメチルピリジン、 3 クロロメチルフラン、 2 クロ口一 5— (クロロメ チノレ）チォフェン、 2 クロロメチルピロール、 3 クロロメチルピロール、 2- (クロロメ チル）ォキサゾール、 4 （クロロメチル）ォキサゾール、 5—（クロロメチル）イソォキサ ゾール、 5—（クロロメチル）イソチアゾール、 4 （クロロメチル）イソチアゾール、 4一 ( クロロメチル）—1H—イミダゾール、 2— (クロロメチル）—1H—イミダゾール、 5— (ク 口ロメチル）ピラゾール、 4 （クロロメチル）ピラゾール、 4 （クロロメチル）ピリダジン、 5- (クロロメチル）ピリミジン、 2— (クロロメチル）ピラジン、 2— (クロロメチル）キノリン、 7 クロロー 2 クロロメチノレキノリン、 2 クロロー 3 クロロメチノレキノリン、 2 （クロ口 メチル） 3—メチルキノキサリン、 2 クロロメチルベンズイミダゾール、 2 クロロメチ ルー 5—クロ口べンズイミダゾール、 3, 4—メチレンジォキシベンジルクロリド等が挙げ られる。
[0009] アンモニアとしては、アンモニアガスを用いてもよ!、し、液体アンモニアを用いてもよ い。また、アンモニア水を用いてもよいし、例えばメタノール等のアンモニアを溶解し 得る有機溶媒に溶解させたアンモニアの有機溶媒溶液を用いてもょ 、。
[0010] アンモニアの使用量は、ハロゲン化合物（1) 1モルに対して、通常 1〜30モル、好 ましくは 2〜25モル、より好ましくは 2〜 10モルである。
[0011] ホルムアルデヒドとしては、ホルムアルデヒドガスを用いてもよいが、取扱いの点から 、パラホルムアルデヒドまたはホルマリンを用いることが好ましい。ホルムアルデヒドの 使用量は、ハロゲン化合物（1) 1モルに対して、通常 1〜10モル、好ましくは 1〜8モ ル、より好ましくは 1〜5モルである。また、ハロゲン化合物（1)に対するアンモニアの 使用量を、ホルムアルデヒドのそれよりも多くすることが好ましい。
[0012] 反応温度は、通常 15〜100°C、好ましくは 20〜90°Cであり、通常常圧条件下もし くは 0. 5MPa (ゲージ圧）以下の加圧条件下で実施される。
[0013] 反応は、無溶媒で行ってもよいが、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。
力かる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、 n—プロパノール、イソプロパノ ール等のアルコール系溶媒、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒 、例えばクロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲンィ匕炭化水素系溶媒、例えば へキサン、ヘプタン、シクロへキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、例えばジェチル エーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン等のエーテル系溶媒、例えばァセトニトリル 、プロピオ-トリル、ジメチルスルホキシド、 N, N—ジメチルァセトアミド等の非プロトン 性極性溶媒、水等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、アルコール系溶媒または水 が好ましぐアルコール系溶媒がより好ましい。力かる溶媒の使用量は、ハロゲン化合 物（1) 1重量部に対して、通常 1〜： LO重量部である。
[0014] 反応は、ハロゲン化合物（1)とアンモニアとホルムアルデヒドを混合、接触せしめる ことにより実施され、その混合順序は特に制限されない。例えばハロゲン化合物（1) とアンモニアとホルムアルデヒドを混合し、所定温度で反応させてもよいし、ハロゲン 化合物（1)とホルムアルデヒドを混合しておき、これにアンモニアをカ卩えて反応させて もよい。また、アンモニアとホルムアルデヒドを混合しておき、これにハロゲン化合物（
1)をカ卩えて反応させてもよい。また、ホルムアルデヒド中に、ハロゲンィ匕合物（1)とァ ンモ-ァを同時並行的に加えて反応させてもよいし、アンモニア中に、ハロゲンィ匕合 物（1)とホルムアルデヒドを同時並行的に加えて反応させてもよい。
[0015] また、必要に応じて、例えばトリェチルベンジルアンモニゥムクロリド、トリー n—オタ チルメチルアンモ -ゥムクロリド、トリメチルデシルアンモ -ゥムクロリド、テトラメチルァ ンモ-ゥムブ口ミド、テトラ— n—ブチルアンモ-ゥムブロミド等の四級アンモ-ゥム塩 や例えばクラウンエーテル等の相間移動触媒を共存させて反応を行ってもよい。
[0016] かかる反応により、ー且不安定な中間体である下記式 (4)
A
Figure imgf000007_0001
( 4 ) (式中、 Arは上記と同一の意味を表わす。 )
で示されるメチレンイミンィ匕合物が生成し、該式 (4)で示されるメチレンイミンィ匕合物 が三量ィ匕して、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を生成するものと思われる。
[0017] 反応終了後、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を含む反応液が得られ、例えば該反 応液を濃縮処理することにより、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を取り出すこともで きる。また、該反応液にそのままもしくは濃縮処理した後、水および疎水性有機溶媒 を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、へキサヒドロトリアジ ン化合物（2)を取り出すこともできる。また、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を、例え ば塩酸塩、硫酸塩等の酸付加塩として取り出すこともできる。
[0018] 疎水性有機溶媒としては、例えばクロ口ホルム、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン等 のハロゲンィ匕炭化水素系溶媒、例えば酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル系溶 媒、例えばメチルェチルケトン、メチルイソプチルケトン等のケトン系溶媒、例えばトル ェン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、 その使用量は特に制限されない。
[0019] なお、前記反応液力 へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を取り出すことなぐ反応液 もしくはへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を含む有機層を後述の分解処理工程に用 いてもよい。
[0020] 力べして得られるへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)としては、例えば、
1, 3, 5 卜リス（ベンジル）—1, 3, 5 へキサヒドロ卜リアジン、 1, 3, 5 卜リス（2 ク ロロベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5 トリス（3 クロ口べンジノレ ) - 1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5 トリス（4 クロ口ベンジル）—1, 3, 5 —へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5 トリス（2 フルォロベンジル） 1, 3, 5 へキサ ヒドロトリァジン、 1, 3, 5 トリス（3 フノレ才口ベンジノレ） 1, 3, 5 へキサヒドロトリ ァジン、 1, 3, 5 トリス（4 フルォロベンジル）—1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン、 1 , 3, 5 トリス（2, 4 ジクロロベンジル）—1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5 —トリス（3, 4 ジクロロベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5 トリス (2, 6 ジクロロベンジル）—1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5 トリス（2, 4 —ジフルォロベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5 トリス（3, 4 ジ フルォロベンジル）—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1， 3, 5—トリス（2, 6—ジフル ォロベンジル）一 1, 3， 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス（4—メチルベンジ ル）— 1, 3, 5—へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5—トリス（4—ェチルベンジル）—1, 3 , 5—へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5—トリス（2, 4—ジメチルベンジル）—1, 3, 5— へキサヒドロトリァジン、 1， 3， 5—トリス（4— t—ブチルベンジル）一 1, 3, 5—へキサ ヒドロトリアジン、 1， 3， 5—トリス（3—メトキシベンジル）一 1, 3， 5—へキサヒドロトリア ジン、 1, 3, 5—トリス（4—メトキシベンジル）一 1， 3， 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3 , 5—トリス（4—シァノベンジル）一 1, 3, 5—へキサヒドロトリアジン、 1, 3, 5—トリス（ 3— -トロベンジル）一 1， 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス（4— N, N— ジメチノレアミノー 3—フノレ才口べンジノレ）一 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5 —トリス { (1—ナフチル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1， 3, 5—トリス{ ( 2—メチルー 1一ナフチル）メチル }ー1, 3, 5—へキサヒドロトリアジン、 1， 3， 5—トリ ス { (2—ナフチル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2— ピリジル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (3—ピリジル） メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (4—ピリジル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—クロ口ピリジン一 3—ィル)メチ ル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—クロ口ピリジン一 4ーィル )メチル }— 1, 3， 5—へキサヒドロトリァジン、 1， 3， 5—トリス { (2—クロ口ピリジン一 5 —ィル)メチル }— 1, 3， 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—クロ口ピリジ ン一 6—ィル)メチル }一 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (3—クロ口 ピリジン一 2—ィル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (3— クロ口ピリジン一 4—ィル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス{ (3—クロ口ピリジン一 5—ィル)メチル 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5— トリス { (3—クロ口ピリジン一 6—ィル)メチル }—1， 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3 , 5—トリス { (4—クロ口ピリジン一 2—ィル)メチル }一 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン 、 1, 3, 5—トリス { (4—クロ口ピリジン一 3—ィル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリ ァジン、 1, 3, 5—トリス { (4—クロ口ピリジン一 5—ィル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒ ドロトリアジン、 1, 3, 5—トリス { (4—クロ口ピリジン一6—ィル)メチル 3, 5—へ キサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—ブロモピリジン一 5—ィル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—ョードピリジン一 5—ィル)メチル }― 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (3—フリノレ)メチノレ）一 1, 3, 5—へ キサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—クロ口一 5—チェ-ル)メチル }—1, 3, 5— へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—ピロリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒド ロトリアジン、 1, 3, 5—トリス { (3—ピロリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリアジ ン、 1, 3, 5—トリス { (2—ォキサゾリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1 , 3, 5—トリス { (4—才キサゾリノレ)メチノレ）一 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5 —トリス { (5—イソォキサゾリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5— トリス { (5—イソチアゾリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリ ス { (4—イソチアゾリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス{ ( 1H—イミダゾール一 4—ィル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5— トリス { (1H—イミダゾール一 2—ィル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (5—ピラゾリル）メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—ト リス { (4—ピラゾリル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (4 —ピリダジ -ル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (5—ピリ ミジ -ル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—ビラジ-ル )メチノレ }ー1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—キノリニノレ)メチノレ } — 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (7—クロ口キノリン一 2—ィル)メ チル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—クロ口キノリン一 3—ィ ル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (3—メチルキノキサリ ン一 3—ィル)メチル }— 1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (3—メチ ルキノキサリン一 2—ィル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (2—ベンズイミダゾリル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン、 1, 3, 5—トリス { (5—クロ口べンズイミダゾールー 2—ィル)メチル }—1, 3, 5—へキサヒドロトリァジン 、 1, 3, 5—トリス（3, 4—メチレンジォキシベンジル）—1, 3, 5—へキサヒドロトリアジ ン等が挙げられる。
続いて、得られたへキサヒドロトリァジン化合物（2)を分解処理して、式（3) で示される一級アミンィ匕合物（以下、一級アミン化合物（3)と略記する。）を製造する 工程について説明する。
[0022] 分解処理の方法としては、加水分解処理とヒドロキシルァミン処理に二つの方法が 挙げられる。まず、加水分解処理工程について述べる。
[0023] 本工程は、前工程で得られたへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を加水分解処理し、 一級アミン化合物（3)へ変換する工程であり、通常へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2) と酸の水溶液とを接触、混合することにより実施される。酸の水溶液としては、例えば 塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等の水溶液が挙げられ、塩酸または硫酸の水溶液が好まし い。
力かる酸の水溶液の酸濃度は特に制限されない。また、酸の使用量は、へキサヒドロ トリアジン化合物（2) 1モルに対して、通常 1〜10モル、好ましくは 1〜5モルである。
[0024] 前述のとおり、前工程で生成したへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を前記反応液か ら取り出した後、加水分解処理を行ってもよいし、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を 取り出すことなぐへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を含む反応液もしくは有機層を加 水分解処理してもよい。
[0025] 加水分解処理温度は、通常 10〜100°C、好ましくは 25〜70°Cである。
[0026] へキサヒドロトリァジン化合物（2)の加水分解の進行に伴 、、ホルムアルデヒドが副 生するが、副生するホルムアルデヒドの除去を容易にするため、低級アルコール化合 物の共存下に加水分解処理を行 ヽ、副生するホルムアルデヒドをァセタール化しな がら、へキサヒドロトリァジン化合物（2)の加水分解処理を行うことが好ましい。低級ァ ルコール化合物としては、例えばメタノール、エタノール等の炭素数 1〜4の低級アル コール化合物が挙げられ、その使用量は、へキサヒドロトリァジン化合物（2) 1モルに 対して、通常 1. 5モル以上、好ましくは 2モル以上、より好ましくは 2. 5モル以上であ り、その上限は特に制限されない。なお、へキサヒドロトリァジン化合物（2)を含む反 応液をそのまま用いた場合であって、該反応液中にかかる低級アルコールィ匕合物が 存在するときは、該反応液中に含まれる低級アルコール化合物の量を考慮して、そ の使用量を決めればよい。また、該反応液中にはホルムアルデヒドも残存している場 合があり、力かる場合には、副生するホルムアルデヒドだけでなぐ該反応液中に残 存するホルムアルデヒドもァセタールイ匕するに足る量の低級アルコールィ匕合物を用 いればよい。もちろん、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)を加水分解処理した後に、 ホルムアルデヒドをァセタール化してもよ 、。
[0027] 加水分解処理終了後、例えば濃縮処理することにより、一級アミンィ匕合物（3)もしく はその酸付加塩を取り出すことができる。また、濃縮処理した後、アルカリ水および疎 水性有機溶媒を加えて、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、一 級ァミン化合物（3)を取り出すこともできる。アルカリ水としては、例えば水酸化ナトリ ゥム水溶液等のアルカリ金属水酸ィ匕物水溶液等が挙げられる。その使用量は、抽出 処理時の水層の pHが、通常 8〜14の範囲、好ましくは 10〜14の範囲となる量が用 いられる。
[0028] 次に、ヒドロキシルァミン処理工程について述べる。
本工程は、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)に、酸性条件下で、ヒドロキシルァミンを 作用させて、一級アミン化合物（3)を製造する工程であり、通常へキサヒドロトリァジン 化合物（2)とヒドロキシルァミンとを、酸性条件下で接触、混合することにより実施され る。
[0029] ヒドロキシルァミンは、フリー体を用いてもょ 、し、例えばヒドロキシルァミンの塩酸塩
(NH OH.HC1)、ヒドロキシルァミンの硫酸塩（（NH OH) ·Η SO )等の酸付加塩
2 2 2 2 4 を用いてもよい。力かるヒドロキシルァミンは、通常巿販されているものが用いられる。 また、力かるヒドロキシルァミンは、そのまま用いてもよいし、例えば水溶液等の溶液と して用いてもよい。
[0030] 力かるヒドロキシルァミンの使用量は、へキサヒドロトリァジン化合物（2) 1モルに対し て、通常 1〜30モル、好ましくは 1〜15モル、より好ましくは 1〜10モルである。
[0031] へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)とヒドロキシルァミンとは、通常水溶媒中もしくは水 と有機溶媒との混合溶媒中、酸性条件下で接触、混合される。水もしくは水と有機溶 媒との混合溶媒の使用量は、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2) 1重量部に対して、通 常 0. 5〜20重量部である。水と有機溶媒との混合溶媒を用いる場合の、水と有機溶 媒との混合割合は特に制限されない。力かる有機溶媒としては、例えばトルエン、キ シレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばクロ口ホルム、クロ口ベンゼン、ジクロロべ ンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えばジェチルエーテル、ジイソプロピルェ 一テル、メチル tert—ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、例え ばメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。
[0032] 酸性条件下でヒドロキシルァミンを作用させる際に用いられる酸としては、例えば塩 酸、硫酸、リン酸等の鉱酸、例えば酢酸、プロピオン酸、クェン酸等の有機カルボン 酸等が挙げられ、鉱酸が好ましぐ塩酸または硫酸がより好ましい。力かる酸の使用 量は、ヒドロキシルァミンとへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)とが酸性条件下で接触、 混合される量であれば特に制限されな ヽ。
[0033] へキサヒドロトリァジン化合物（2)にヒドロキシルァミンをカ卩えてもよ！、し、ヒドロキシル ァミンにへキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)をカ卩えてもよい。ヒドロキシルァミンを作用さ せる温度は、通常 0〜100°C、好ましくは 0〜50°Cである。
[0034] 酸性条件下で、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)にヒドロキシルァミンを作用させた 後、必要に応じて所定時間保持することにより、一級アミン化合物（3)の酸付加塩を 含む溶液が得られ、例えば該溶液を濃縮処理することにより、一級アミン化合物（3) の酸付加塩を取り出すことができる。
[0035] なお、酸性条件下で、へキサヒドロトリアジンィ匕合物（2)にヒドロキシルァミンを作用 させると、一級アミンィ匕合物（3)の酸付加塩とともに、作用させたヒドロキシルァミンと ホルムアルデヒドとが反応したホルムアルドォキシムもしくはその三量体が生成するた め、前記一級アミン化合物（3)の酸付加塩を含む溶液に、例えば塩基および必要に 応じて疎水性有機溶媒を加えて、塩基性条件下で抽出処理し、一級アミン化合物（3 )を含む有機層とホルムアルドォキシムもしくはその三量体を含む水層とに分離する ことが好ましぐ得られた有機層を濃縮処理することにより、より純度の高い一級アミン 化合物（3)を取り出すことができる。取り出した一級アミン化合物（3)は、例えば塩酸 等の酸と反応させることにより、塩酸塩等の酸付加塩に変換してもよい。塩基としては 、例えば水酸ィ匕ナトリウム等のアルカリ金属水酸ィ匕物等が挙げられ、通常抽出処理 時の水層の pHが 8〜14、好ましくは 10〜14の範囲となる量が用いられる。疎水性有 機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばクロ 口ホルム、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、例えば 酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、例えばメチルェチルケトン、メチルイ ソブチルケトン等のケトン系溶媒等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、その使用量 は特に制限されない。
[0036] さらに、前記抽出処理して得られた一級アミン化合物（3)を含む有機層と、酸の水 溶液を混合した後、分液処理することにより、一級アミン化合物（3)の酸付加塩を含 む水溶液が得られ、該水溶液をそのままもしくは一部濃縮処理することにより、一級 ァミン化合物（3)の酸付加塩を取り出すことができる。また、前記一級アミン化合物（3 )の酸付加塩を含む水溶液に、一級アミン化合物（3)の酸付加塩を溶解しにく!/、貧 溶媒を加え、一級アミン化合物（3)の酸付加塩の結晶を析出せしめることもできる。 酸の水溶液としては、例えば塩酸、硫酸、酢酸、メタンスルホン酸等の酸の水溶液が 挙げられ、その使用量は、抽出処理時の水層の pHが、通常 2. 5〜5. 5の範囲、好 ましくは 3〜5の範囲となる量が用いられる。なお、得られた一級アミンィ匕合物（3)の 酸付加塩を含む水溶液が着色して！/ヽる場合には、例えば活性炭等の脱色剤を前記 水溶液に加え、脱色処理してもよい。
[0037] 力べして得られる一級アミン化合物（3)としては、例えば、ベンジルァミン、 2 クロ口 ベンジルァミン、 3 クロ口ベンジルァミン、 4 クロ口ベンジルァミン、 2 フルォ口べ ンジルァミン、 3 フルォロベンジルァミン、 4 フルォロベンジルァミン、 2, 4 ジク ロロベンジルァミン、 3, 4 ジクロロベンジルァミン、 2, 6 ジクロロベンジルァミン、 2 , 4ージクフルォロベンジルァミン、 3, 4 ジフルォロベンジルァミン、 2, 6 ジフルォ 口ベンジルァミン、 4—メチルベンジルァミン、 4 ェチルベンジルァミン、 2, 4 ジメ チルベンジルァミン、 4— t ブチルベンジルァミン、 3—メトキシベンジルァミン、 4— メトキシベンジルァミン、 4 シァノベンジルァミン、 3— -トロベンジルァミン、 4—N, N ジメチルァミノ一 3 フルォロベンジルァミン、 1 アミノメチルナフタレン、 1—ァ ミノメチルー 2—メチルナフタレン、 2—アミノメチルナフタレン、 2—ァミノメチルピリジ ン、 3 アミノメチルビリジン、 4 アミノメチルビリジン、 2 クロロー 3 アミノメチルビ リジン、 2 クロ口一 4 アミノメチルビリジン、 2 クロ口一 5 アミノメチルビリジン、 2 —クロ口一 6 アミノメチルビリジン、 3 クロ口一 2 アミノメチルビリジン、 3 クロ口一 4—アミノメチルビリジン、 3—クロ口一 5—アミノメチルビリジン、 3—クロ口一 6—ァミノ メチルピリジン、 4 クロ口一 2 アミノメチルビリジン、 4 クロ口一 3 アミノメチルピリ ジン、 4 クロ口一 5 アミノメチルビリジン、 4 クロ口一 6 アミノメチルビリジン、 2— ブロモー 5 アミノメチルビリジン、 2 ョードー 5 アミノメチルビリジン、 3 アミノメチ ルフラン、 2 クロ口一 5— (アミノメチル）チォフェン、 2 アミノメチルビロール、 3 ァ ミノメチルビロール、 2 （アミノメチル）ォキサゾール、 4 （アミノメチル）ォキサゾー ル、 5—（アミノメチル)イソォキサゾール、 5—（アミノメチル)イソチアゾール、 4 （アミ ノメチル)イソチアゾール、 4 （アミノメチル） 1H—イミダゾール、 2 （アミノメチル） 1H—イミダゾール、 5 （アミノメチル）ピラゾール、 4 （アミノメチル）ピラゾール、 4— (アミノメチル）ピリダジン、 5- (アミノメチル)ピリミジン、 2— (アミノメチル)ピラジ ン、 2— (アミノメチル）キノリン、 7 クロ口一 2 アミノメチルキノリン、 2 クロ口一 3— アミノメチルキノリン、 2- (アミノメチル）—3—メチルキノキサリン、 2 アミノメチルべ ンズイミダゾール、 2 アミノメチルー 5 クロ口べンズイミダゾール、 3, 4—メチレンジ ォキシベンジルァミン等が挙げられる。
[0038] 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限 定されるものではない。なお、分析には、ガスクロマトグラフィー（GC)法および高速 液体クロマトグラフィー (LC)法を用いた。
実施例 1
[0039] ガラス製オートクレーブに、ベンジルクロリド（含量： 99. 0重量0 /0) 25. 57重量部、 パラホルムアルデヒド（含量： 92重量0 /0) 19. 57重量部および 12重量0 /。アンモニア Zメタノール溶液 113. 5重量部を仕込み、内温 40°Cで 3時間、 50°Cで 2時間、さら に 70°Cで 1時間攪拌し反応させた。反応中の内圧の最大値 (ゲージ圧）は 0. 08MP aであった。反応液を四つ口フラスコ中へメタノールで洗い込みながら移した後、減圧 条件下で反応液中に残存するアンモ-ゥムを追い出し、さらに濃縮によりメタノール を留去した。得られた濃縮残液に、水を 200重量部加え、さらに減圧条件下で水とと もにメタノールを留去した。ここにトルエン 150重量部用いて抽出'分液操作を行い、 1, 3, 5 卜リス（ベンジル）—1, 3, 5 へキサヒドロ卜リアジンを含む 161. 9重量部の トルエン溶液を取得した。これに水 50重量部、 24重量％ヒドロキシルァミン硫酸塩水 溶液 68. 5重量部および 35重量％塩酸 20. 9重量部を加え、室温にて 1時間攪拌し た。その後 27重量％水酸ィ匕ナトリウム水溶液 103. 6重量部を加え、 pH13に調整し た後、抽出処理し、有機層と水層を得た。分液した水層をさらに 80重量部のトルエン で抽出し、先に得た有機層に合一し、ベンジルァミンを含む溶液を 233. 3重量部得 た。ベンジルァミンの収率は 85. 6% (GC法、ベンジルクロリド基準）であった。
比較例 1
[0040] ステンレス製オートクレーブに、ベンジルクロリド（含量： 99. 0重量0 /0) 6. 33重量部 および 12重量％アンモニア Zメタノール溶液 30. 4重量部を仕込み、内温 40°Cで 3 時間、 50°Cで 2時間、さらに 70°Cで 1時間攪拌し反応させた。反応液をメタノールで 洗い込み 126重量部の溶液を得た。ベンジルァミンの収率は 2. 4% (GC法、ベンジ ルクロリド基準)であった。
実施例 2
[0041] ステンレス製オートクレーブに、 3 クロ口べンジルクロリド（含量： 99. 2重量0 /0) 9.
18重量部、パラホルムアルデヒド (含量： 92重量％) 5. 59重量部および 12重量％ァ ンモユア Zメタノール溶液 40. 39重量部を仕込み、内温 70°Cで 3時間攪拌し反応さ せた。反応中の内圧の最大値（ゲージ圧）は 0. 08MPaであった。反応液を四つロフ ラスコ中へメタノールで洗 、込みながら移した後、減圧条件下で反応液中に残存す るアンモ-ゥムを追い出し、さらに濃縮によりメタノールを留去した。得られた濃縮残 液 21. 05重量部に、水 24重量部およびトルエン 40重量部加え、抽出 ·分液操作を 行い、 1, 3, 5 トリス（3 クロ口ベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリアジンを含む 45. 48重量部のトルエン溶液を取得した。
上記の一部の液を減圧下で濃縮後、へキサン 酢酸ェチルの展開液にてカラム精 製を行い、 1, 3, 5 トリス（3 クロ口ベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリアジンを 得た。
[0042] 'H-NMR CCDCl , 270ΜΗζ, δ /ppm)
3
3. 39 (brs, 2H) , 3. 63 (s, 2H) , 7. 1〜7. 4 (m, 4H)
13C-NMR(CDC1 , 75MHz, δ /ppm)
3
56. 41, 73. 62, 126. 81, 127. 33, 128. 66, 129. 53, 134. 23, 140. 55
[0043] FD-MS m/z 459 M+ [0044] 1, 3, 5 トリス（3 クロ口ベンジル）—1, 3, 5 へキサヒドロトリアジン 2. 07重量 部、トルエン 15重量部、 24重量％ヒドロキシルァミン硫酸塩水溶液 5. 04重量部およ び 35重量％塩酸 1. 40重量部をカ卩え、室温にて 30分攪拌、保持した。これに 27重 量％水酸ィ匕ナトリウム水溶液 6. 16重量部を加え、 pH13. 1に調整した後、分液処 理し、 3—クロ口ベンジルァミンを含むトルエン層と水層を得た。得られた水層をトルェ ン 10重量部と 5重量部で 2回抽出処理し、得られたトルエン層を先に得たトルエン層 に合一し、 3 クロ口ベンジルァミンを含むトルエン溶液 31. 50重量部（含量： 5. 21 重量0 /0、 GC法）を得た。 3 クロ口ベンジルァミンの収率は 86. 1% (1, 3, 5 トリス（ 3 クロ口ベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリァジン基準）であった。
実施例 3
[0045] ステンレス製オートクレーブに、 3 クロ口べンジルクロリド（含量： 99. 2重量0 /0) 9.
17重量部、パラホルムアルデヒド (含量： 92重量％) 5. 59重量部および 12重量％ァ ンモユア Zメタノール溶液 40. 39重量部を仕込み、内温 70°Cで 3時間攪拌し反応さ せた。反応中の内圧の最大値 (ゲージ圧）は 0. 08MPaであった。反応液をナスフラ スコ中へメタノールで洗 、込みながら移した後、減圧条件下で反応液中に残存する アンモ-ゥムを追い出し、さらに濃縮によりメタノールを留去した。得られた濃縮残液 18. 43重量部のうち 16. 28重量部に、水 10重量部およびクロ口ホルム 60重量部加 え、抽出'分液操作を行い、 1, 3, 5 トリス（3 クロ口ベンジル） 1, 3, 5 へキサ ヒドロトリアジンを含む 75. 08重量部のクロ口ホルム溶液を取得した。
[0046] 得られた溶液に、 24重量％ヒドロキシルァミン硫酸塩水溶液 17. 17重量部および 35重量％塩酸 5. 23重量部をカ卩え、室温にて 30分攪拌、保持した。これに、 27重量 %水酸ィ匕ナトリウム水溶液 26. 03重量部を加え、 pH13に調整した後、分液処理し、 3—クロ口ベンジルァミンを含むクロ口ホルム層と水層を得た。得られた水層をクロロホ ルムで二回抽出処理し、得られたクロ口ホルム層を先に得たクロ口ホルム層に合一し 、 3 クロ口ベンジルァミンを含むクロ口ホルム溶液 134. 68重量部（含量： 3. 86重量 %、 GC法）を得た。 3—クロ口ベンジルァミンの収率は 73. 7% (3—クロ口ベンジルク ロリド基準)であった。
実施例 4 [0047] ステンレス製オートクレーブに、 3 クロ口べンジルクロリド（含量： 99. 2重量0 /0) 9.
17重量部、パラホルムアルデヒド (含量： 92重量％) 5. 58重量部および 12重量％ァ ンモユア Zメタノール溶液 40. 37重量部を仕込み、内温 70°Cで 3時間攪拌し反応さ せた。反応中の内圧の最大値 (ゲージ圧）は 0. 08MPaであった。反応液をナスフラ スコ中へメタノールで洗 、込みながら移した後、減圧条件下で反応液中に残存する アンモ-ゥムを追い出し、さらに濃縮によりメタノールを留去した。得られた濃縮残液 21. 29重量部を得た。得られた濃縮残液にメタノール 44. 98重量部および 35重量 %塩酸 19. 58重量部を加え、内温約 60°Cで 1. 5時間還流させた。内温 40°C以下 に冷却した後、減圧条件下で、濃縮処理し、濃縮残液 51. 26重量部を得た。得られ た濃縮残液に、トルエン 25. 1重量部および 27重量％水酸化ナトリウム水溶液 39. 0 重量部を加え、 PH13. 2に調整した後、抽出処理し、有機層と水層を得た。水層をさ らにトルエンで二回抽出処理し、得られたトルエン層を先に得た有機層に合一し、 3 クロ口ベンジルァミンを含む溶液 63. 64重量部（含量： 9. 80重量％、GC法）を得 た。 3—クロ口ベンジルァミンの収率は 77. 4% (3—クロ口べンジルクロリド基準）であ つた o
実施例 5
[0048] ステンレス製オートクレーブに、 4ーメトキシベンジルクロリド 8. 91重量部、パラホル ムアルデヒド (含量： 92重量％) 5. 57重量部および 12重量％アンモニア Zメタノー ル溶液 40. 37重量部を仕込み、内温 70°Cで 3時間攪拌し反応させた。反応中の内 圧の最大値（ゲージ圧）は 0. 12MPaであった。反応液をナスフラスコ中へメタノール で洗 、込みながら移した後、減圧条件下で反応液中に残存するアンモ-ゥムを追 ヽ 出し、さらに濃縮によりメタノールを留去した。得られた濃縮残液 15. 17重量部に、 水 10重量部およびクロ口ホルム 59重量部加え、抽出 ·分液操作を行い、 1, 3, 5 ト リス（4—メトキシベンジル） 1, 3, 5 へキサヒドロトリアジンを含む 66. 38重量部の クロ口ホルム溶液を取得した。
[0049] 得られた溶液に、 24重量％ヒドロキシルァミン硫酸塩水溶液 17. 17重量部および 35重量％塩酸 5. 23重量部をカ卩え、室温にて 30分攪拌、保持した。これに、 27重量 %水酸ィ匕ナトリウム水溶液 25. 13重量部を加え、 pH13. 4に調整した後、分液処理 し、 4ーメトキシベンジルァミンを含むクロ口ホルム層と水層を得た。得られた水層をク ロロホルムで二回抽出処理し、得られたクロ口ホルム層を先に得たクロ口ホルム層に 合一し、 4—メトキシベンジルァミンを含むクロ口ホルム溶液 140. 59重量部（含量： 1 . 15重量0 /0、 GC法）を得た。 4—メトキシベンジルァミンの収率は 20. 8% (3—クロ口 ベンジルクロリド基準）であった。
実施例 6
[0050] ステンレス製オートクレーブに、 3—（クロロメチル）ピリジン塩酸塩 9. 34重量部、パ ラホルムアルデヒド（含量： 92重量0 /0) 5. 59重量部および 12重量0 /0アンモニア Zメ タノール溶液 48. 49重量部を仕込み、内温 70°Cで 3時間攪拌し反応させた。
反応中の内圧の最大値（ゲージ圧）は 0. 08MPaであった。反応液をナスフラスコ 中へメタノールで洗 、込みながら移した後、減圧条件下で反応液中に残存するアン モ-ゥムを追い出し、さらに濃縮によりメタノールを留去した。得られた濃縮残液 17. 49重量部に、メタノール 100重量部、水 30重量部および 35重量％塩酸 5. 94重量 部加えて加水分解処理した。 3—アミノメチルビリジン (含量： 3. 06%、 LC法)を含む 151. 31重量部の溶液を取得した。 3—ァミノメチルピリジンの収率は 75. 3% (3- ( クロロメチル)ピリジン塩酸塩基準)であった。
比較例 2
[0051] ノラホルムアルデヒドを仕込まな 、以外は実施例 6と同等な仕込みおよび反応条件 で行った。反応中の内圧の最大値（ゲージ圧）は 0. lOMPaであった。 3—ピコリルァ ミンの収率は 30. 2% (3- (クロロメチル）ピリジン塩酸塩基準、 LC法）であった。 産業上の利用可能性
[0052] 本発明によれば、選択的、かつ工業的に有利な一級アミンィ匕合物の製造方法が提 供できる。

Claims

請求の範囲
[1] 式 (1)
Ar^X ( l )
(式中、 Arはフ -ル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基、チェニル基、ピロリル基 、ォキサゾリル基、イソォキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基 、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジュル基、キノリニル基、キノキサリニル基また はべンズイミダゾリル基カゝら選ばれる芳香族基を表わし、 Arは 1〜3つの置換基を有 していてもよぐ該置換基は同一または相異なってハロゲン原子、低級アルキル基、 低級アルコキシ基、低級アルキレンジォキシ基、ニトロ基、シァノ基またはジ (低級ァ ルキル)アミノ基を表わす。 Xはハロゲン原子を表わす。）で示されるハロゲン化合物 とアンモニアとホルムアルデヒドとを反応させて、式（2)
Figure imgf000020_0001
(式中、 Arは上記と同一の意味を表わす。 )
で示されるへキサヒドロトリアジンィ匕合物を得、得られた式（2)で示されるへキサヒドロ トリアジン化合物を分解処理することを特徴とする式 (3)
Ar' 'ΝΗ2 ( 3 )
(式中、 Arは上記と同一の意味を表わす。 )
で示される一級アミン化合物の製造方法。
[2] ホルムアルデヒドの使用量力 式（1)で示されるハロゲン化合物 1モルに対して、 1
〜 10モルである請求項 1に記載の製造方法。
[3] ホルムアルデヒドが、パラホルムアルデヒドまたはホルマリンである請求項 1または 2 に記載の製造方法。
[4] アンモニアの使用量が、式（1)で示されるハロゲン化合物 1モルに対して、 1〜30 モルである請求項 1に記載の製造方法。
[5] 分解処理が、式（2)で示されるへキサヒドロトリァジン化合物を加水分解すること〖こ より行われる請求項 1に記載の製造方法。
[6] 加水分解が、式（2)で示されるへキサヒドロトリアジンィ匕合物と酸の水溶液とを接触 させて行われる請求項 5に記載の製造方法。
[7] 加水分解が低級アルコールィ匕合物の共存下に行われる請求項 5または 6に記載の 製造方法。
[8] 分解処理が、式（2)で示されるへキサヒドロトリアジンィ匕合物に、酸性条件下で、ヒド ロキシルァミンを作用させて行われる請求項 1に記載の製造方法。
[9] ヒドロキシルァミンの使用量力 式（2)で示されるへキサヒドロトリァジン化合物 1モ ルに対して、 1〜10モルである請求項 7に記載の製造方法。
[10] 式（2)で示されるへキサヒドロトリァジン化合物にヒドロキシルァミンを作用させて得 られる反応混合物を、塩基性条件下で、疎水性有機溶媒で抽出処理して、式 (3)で 示される一級アミンィ匕合物を含む有機層を分離する工程を含む請求項 8または 9に 記載の製造方法。
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