WO2005105919A1 - 封止用樹脂組成物及び樹脂封止された半導体装置 - Google Patents

封止用樹脂組成物及び樹脂封止された半導体装置 Download PDF

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WO2005105919A1
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epoxy
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epoxy resin
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Naomitsu Nishihata
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Kureha Corporation
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Definitions

  • the present invention relates to a sealing resin composition suitable for resin-sealing a semiconductor element and an electrode wiring around the semiconductor element. More specifically, the present invention is not only excellent in electrical insulation, mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, dimensional stability, etc., but also has a sealing molded product (solidified or cured resin composition).
  • the present invention relates to a sealing resin composition capable of strictly and stably controlling the surface resistivity of a semiconductive region. Further, the present invention relates to a semiconductor device such as a semiconductor device in which a semiconductor element is resin-sealed with the sealing resin composition.
  • resin encapsulation is performed by pouring resin around these elements.
  • Resin encapsulation is performed to protect semiconductor elements such as IC and LSI, wiring such as bonding wires and inner leads from the external environment, and to improve handling during mounting.
  • an epoxy type encapsulant is mainly used.
  • Epoxy-based encapsulants generally use an epoxy compound (epoxy resin) that has two or more epoxy groups in the molecule. When a curing agent is added to the epoxy compound and heated, it has chemical resistance and mechanical strength. Excellent cured product is obtained.
  • Epoxy-based encapsulating materials include an epoxy resin as the main component, a curing agent, a curing accelerator, a flexible agent, a filler, a coupling agent, a flame retardant aid, a coloring agent, a release agent, and an ion.
  • An epoxy resin composition to which an auxiliary agent selected from a scavenger or the like is appropriately added is used.
  • Resin sealing includes transfer molding, dipping, potting, and powder flowing immersion. Among these However, because of its suitability for mass production, most of the packages are sealed with resin using the transfer molding method.
  • an epoxy-based encapsulating material is molded into an epoxy tablet (B-stage solid), and the epoxy tablet is heated to a high temperature.
  • a method is adopted in which the semiconductor chip or module previously loaded in the mold is sealed by inserting the mold into the mold and applying pressure.
  • the epoxy resin material forms a resin sealing portion cured by heating.
  • a method has been proposed in which an epoxy-based sealing material is used to perform resin molding by an injection molding method (injection molding method).
  • the sealing resin material has excellent electrical insulation, mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, dimensional stability, moisture resistance, stress relaxation, circuit concealment, light shielding, heat dissipation, etc. It is also required to have characteristics. For example, a semiconductor element such as an IC is itself a fine circuit, and therefore, must be sealed with a resin while maintaining insulation between terminals. Therefore, the sealing resin material needs to have electrical insulation properties. In addition, since the circuit of the semiconductor element is easily broken by moisture and ionic impurities, the sealing resin material is required to have a low moisture absorption (water absorption).
  • the epoxy resin has a vitrification rate of 10 to 9
  • Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation blended with 5% by weight of partially spheroidized silicon (JP-A-2000-066366), excellent in heat resistance, moisture resistance, and flexural modulus Spherical silica with an average particle size of 2 to 10 ⁇ m and an extremely small specific surface area is Yarn composition containing 40 to 85% by mass (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-226652), and one after-curing step is omitted.
  • the electronic device surface resistivity has a resin sealing portion less than 1 0 5 Omega slag is too fast moving speed of charges in the resin sealing portion in, Ya strong current generated during the electrostatic discharge High voltages can damage electronic devices.
  • the surface resistivity of the resin sealing portion is too low, electrical insulation cannot be ensured.
  • resin-sealed with a sealing resin material those skilled in the art have not sufficiently recognized the problem of ESD failure due to the resin-sealed portion. No proposal has been made to solve the problem of ESD damage of the sealing resin material.
  • seals used in these technical fields have been developed to ensure that electronic devices are sufficiently protected from electrostatic interference and that they maintain a high degree of cleanliness without attracting dust. Responding to ESD obstacles has become an important issue for stopping resin materials.
  • a method of volume resistivity, such as conductive carbon black and carbon fiber in the resin material for sealing is blended conductive filler of less than 1 0 2 ⁇ ⁇ cm, the electric resistance of the resin component and the conductive charge Hamazai Since the ratios are so far apart, slight differences in the compounding ratio of the conductive filler and slight fluctuations in the molding conditions greatly change the surface resistivity of the resin-sealed portion. Therefore, simply the method of blending the conductive filler, the surface resistivity of the resin sealing portion 1 0 5 ⁇ 1 0 1 3 ⁇ / desired value become so strictly and stably control the range of the mouth It is extremely difficult to control.
  • An object of the present invention is to provide a sealing resin composition that can be strictly controlled in a sealing region.
  • Another object of the present invention is to provide a semiconductor device in which a semiconductor element is resin-sealed with a sealing resin composition having such excellent characteristics.
  • Rate is solely carbon precursor 1 0 2 ⁇ 1 0 ⁇ ⁇ ⁇ cm, or the carbon precursor and the body volume resistivity was formulated by combining the 1 0 2 ⁇ . Cm below the conductive filler resin I arrived at the composition.
  • a thermosetting resin is preferable.
  • an epoxy resin widely used as a sealing resin material is preferable.
  • the encapsulating resin composition of the present invention strictly and stably controls the surface resistivity of a molded product (solidified or cured product) to a desired value in a semiconductive region while ensuring electrical insulation. It can be controlled, and the variation in the surface resistivity depending on the location is small.
  • the encapsulating resin composition of the present invention also has excellent properties such as mechanical properties, heat resistance, chemical resistance, and dimensional stability. Therefore, the encapsulating resin composition of the present invention can exhibit a high degree of performance suitable as an encapsulating resin material. The present invention has been completed based on these findings.
  • the synthetic resin (A) 1 0 0 part by weight, the carbon precursor having a volume resistivity of 1 0 2 ⁇ 1 0 1 0 ⁇ ⁇ cm (B) 1 0 ⁇ 5 0 0 parts by weight, the volume resistivity rate is 1 0 2 Omega ⁇ cm less than the conductive filler (C) 0 to 6 0 parts by weight, and other inorganic fillers (D) for sealing containing 1 0 0-1 5 0 0 parts by weight
  • a resin composition is provided.
  • thermosetting resin an epoxy resin component containing an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule and a curing agent. Is done.
  • the synthetic resin used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include polyamide, polyacetanol, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, polyisoprene, polybutene, poly p-xylene, polychlorinated vinyl, Polyvinylidene chloride, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyurethane, polydimethylsiloxane, polyvinegar Acid biels, polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, ABS resin, polyphenylene / refide, polyether A tenoroketone, polyetherenoketone, polyphenylene / refide ketone, polyphenylene / refidenolephone, polyether ether Tolyl, wholly aromatic polyester, fluororesin, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyetherimide, polyamideimide, polyaminobis
  • fluororesin examples include tetrafluoroethylene Z hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, polyclonal trifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and fluoride.
  • Vinylidene / hexafluoropropylene / tetrafluoroethylene copolymer polyfluorinated vinyl, ethylene / tetrafluoroethylene copolymer, ethylene / chlorotrifluoroethylene copolymer, propylene / tetrafluoroethylene copolymer Polymer, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl perfluorobutyl ether copolymer, vinylidene fluoride z-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene fluoride
  • Trifluoroethylene copolymer Trifluoroethylene copolymer, tetrafluoroethylene / ethylene z-isobutylene copolymer, ethylene / hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene / ethyl vinyl ether copolymer, and the like.
  • These synthetic resins can be used alone or in combination of two or more.
  • thermosetting resin is preferable.
  • the thermosetting resin used in the present invention include an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, and a urea resin, and any of known resins can be used.
  • Epoxy resin has excellent dimensional stability.
  • Phenol resins and melamine resins have excellent impact resistance, heat resistance, chemical resistance, water resistance, and flame resistance.
  • Urea resin has a high surface hardness and is characterized by an ivory-like appearance.
  • the phenol resin include a general-purpose phenol resin obtained by a reaction between phenol and formalin, a nopolak-type phenol resin, and a resole-type phenol resin.
  • phenols that are raw materials for phenolic resins include phenol, bisphenoleno A, cresonole, anolequinolephenol, resonolecin, and naphthol-based compounds (eg, hydroxynaphthalene, dihydroquinaphthalene).
  • the phenols can be used alone or in combination of two or more.
  • the formaldehyde supply material which is a raw material of the phenol resin, include an aqueous formaldehyde solution, paraformaldehyde, an aqueous solution of hexamethylenetetramine, and 1,3-dioxolan.
  • the melamine resin examples include general-purpose melamine resins obtained by reacting melamine and formalin, and alkyl etherified melamine resins (for example, butoxymethylmelamine resin and methoxymethylmelamine resin).
  • the urea resin examples include a general-purpose urea resin obtained by reacting urea and formaldehyde. Further, a melamine / urea resin obtained by co-condensation of melamine, urea and formalin, and a phenol / uria resin obtained by co-condensation of phenol, urea and formalin can also be used as the thermosetting resin.
  • epoxy resins which are widely used as sealing resins, are preferred.
  • the epoxy resin is generally a mixture containing an epoxy compound and a curing agent. Epoxy compounds by themselves are often referred to as epoxy resins. Therefore, in the present invention, the mixture containing the epoxy resin compound and the curing agent is referred to as “epoxy resin component”.
  • the epoxy compound used in the present invention is a compound having two or more epoxy groups in one molecule.
  • the epoxy compound either a solid or liquid epoxy compound can be used.
  • examples of such epoxy compounds include bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resin and bisphenol F-type epoxy resin; phenol nopolak epoxy resin, cresol nopolak epoxy resin, and alkylphenol nopolak.
  • Epoxy resin, xylene resin-modified Novola Novolak epoxy resins such as epoxy resin, ⁇ -naphthol novolak epoxy resin; Triphenol alkane epoxy resin such as trifenolmethane methane epoxy resin, trifenolpropane epoxy resin; Biphenyl epoxy resin Biphenyl skeleton epoxy resin such as biphenyl-aralkyl epoxy resin; phenol aralkyl epoxy resin; heterocyclic epoxy resin; naphthalene skeleton epoxy resin; stilbene epoxy resin; dicyclopentadiene epoxy Resins; brominated epoxy resins such as tetrabromobisphenol-type epoxy resin and brominated phenol nopolak-type epoxy resin; and the like. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.
  • a biphenyl skeleton type epoxy resin represented by the following chemical formulas 1 to 15 ( Chemical formulas 1-2), dicyclopentadiene type epoxy resin (chemical formula 3), cresol nopolak type epoxy resin (chemical formula 4), naphthalene skeleton type epoxy resin (chemical formulas 5-10), trifluorophenol propane Type epoxy resins (chemical formulas 11 to 12) and brominated epoxy resins (chemical formulas 13 to 15) are preferred.
  • G represents a glycidyl group.
  • R in Chemical Formula 1 represents ⁇ or CH 3 (preferably CH 3 ).
  • a bromine atom (B r) is usually bonded to each aromatic ring in an amount of usually 1 to 3, and in many cases, 1 or 2.
  • a self-extinguishing epoxy resin such as a brominated epoxy resin.
  • a flame retardant auxiliary such as antimony trioxide.
  • bromine compounds are generally pointed out as problems with regard to environmental impact, so when brominated epoxy resins are used as epoxy compounds, they are used in combination with other epoxy resins that do not contain halogen atoms. It is desirable to do.
  • a brominated epoxy resin When a brominated epoxy resin is used, it is usually used in a proportion of 1 to 50% by weight, preferably 3 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight, based on the total amount of the epoxy compound. It is desirable.
  • the curing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it is used as a curing agent for an epoxy resin.
  • Examples of the hardening agent for the epoxy resin include a phenolic compound having two or more phenolic hydroxyl groups, an amine compound, an organic acid anhydride, an imidazole compound, and a nitrogen-containing compound such as diazabicycloundecene.
  • Examples include a heterocyclic compound, an organic phosphine, an organic boron complex, a quaternary ammonium compound, and a quaternary phosphonium compound.
  • Each of these curing agents can be used alone, but two or more curing agents may be used in combination in order to control the curing speed and the physical properties of the cured product.
  • these curing agents phenol compounds, amine compounds, organic acid anhydrides, and the like are preferable, and phenol compounds are more preferable because the cured product has no water resistance or reactivity with moisture.
  • the phenol compound used as a curing agent is a compound containing two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule.
  • a nopolak-type phenol resin such as a phenol nopolak resin and a cresol nopolak resin; a phenol having a naphthalene ring Resin; phenol aralkyl phenolic resin; biphenyl phenolic resin; biphenyl aralkyl phenolic resin; triphenol methane phenolic resin, triphenol alkane phenolic resin such as triphenol propane phenolic resin Resin; alicyclic phenol resin; heterocyclic phenol resin; Bisphenol-type phenolic resins such as bisphenol A-type phenolic resin and bisphenol F-type phenolic resin;
  • phenol nopolak resin cresol novolak resin, phenolaralkyl resin, naphthalene-type phenol resin, biphenyl-type phenol resin, and dicyclopentagen-type phenol resin are preferable, and phenol nopolak resin is more preferable.
  • Specific examples of preferred phenol compounds are shown in the following chemical formulas 16 to 20.
  • n represents 0 or an integer of 1 or more (preferably 1 to 10).
  • Chemical Formula 18 n is an integer of 1 or more.
  • R represents H or an alkyl group (preferably, CH 3 ).
  • the curing agent is used at a ratio of usually 0.5 to 1.6 equivalents, preferably 0.6 to 1.4 equivalents, more preferably 0.7 to 1.2 equivalents to the epoxy group of the epoxy compound. Is done.
  • the curing agent is incorporated into the skeleton of the cured product, so it is desirable to select the type and use ratio of the curing agent according to the characteristics required for the cured product.
  • the phenolic compound preferably used as a curing agent in the present invention is such that the phenolic hydroxyl group in the phenolic compound is usually 0.5 to 1.6 mol per mol of the epoxy group in the epoxy compound (epoxy resin). Preferably, it is used in a ratio of 0.6 to 1.4 mol, more preferably 0.7 to 1.2 mol. If the phenolic hydroxyl group content is less than 0.5 mol, the phenolic hydroxyl group involved in the curing reaction becomes insufficient and the homopolymerization ratio of the epoxy group increases, resulting in a low glass transition temperature of the cured product. Easy to become.
  • a curing accelerator can be used as needed to accelerate the curing reaction between the epoxy compound and the curing agent.
  • the type of the curing accelerator is not particularly limited, and is known to have a property that the reaction is started by heating and hardly progresses at room temperature so that even if mixed with an epoxy resin or other components, there is practically no difficulty in curing. Can be used.
  • the curing accelerator may be a shift between a so-called one-pack type latent type that can be stored in a mixed state as a composition and a two-pack type that starts curing immediately upon mixing.
  • the curing accelerator examples include derivatives of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] pendene-17, such as phenolic salts, phenolic novolak salts, and carbonates; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, (2) Imidazonoles, such as heptadecyl imidazole, 2-ethynoleic 4-methylimidazole, 2-phenylenoid 4-methinoreimidazoi; ethi ⁇ phosphine, propyne phosphine, fenizure phosphine, triphenylinole phosphine A / legano phosphine compounds, such as trianolex / lephosphine; Ar— ⁇ —CO— ⁇ (where Ar is a substituted or unsubstituted And a compound having an imidazole skeleton.
  • the curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. When a curing accelerator is used, it is usually added in an amount of 0.2 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy compound (epoxy resin).
  • the volume resistivity used in the present invention is 10 2 to 10 1 .
  • the carbon precursor of ⁇ ⁇ cm can be obtained by firing an organic substance in an inert atmosphere at a temperature of 400 ° C to 900 ° C. More specifically, the carbon precursor used in the present invention includes, for example, (i) heating tar or pitch such as petroleum tar, petroleum pitch, coal tar, coal pitch, etc. to perform aromatization and polycondensation.
  • oxidation and infusibilization in an oxidizing atmosphere, and heating and baking in an inert atmosphere and (ii) infusibilizing a thermoplastic resin such as polyataryl nitrile and polysalt in an oxidizing atmosphere, Further, it can be produced by a method of heating and baking in an inert atmosphere, (iii) a method of heating and curing a thermosetting resin such as a phenol resin or a furan resin, and then heating and baking in an inert atmosphere. .
  • the carbon precursor means a substance which is not completely carbonized and has a carbon content of 97% by mass or less obtained by these treatments. Heating an organic substance in an inert atmosphere * When firing, as the firing temperature increases, the carbon content of the obtained fired body increases.
  • the carbon content of the carbon precursor can be easily controlled by properly setting the firing temperature.
  • the carbon precursor having a volume resistivity of 10 2 to 10 cm used in the present invention can be obtained as a completely non-carbonized carbon precursor having a carbon content of preferably 80 to 97% by mass.
  • the volume resistivity of the carbon precursor is preferably 10 2 to 10 10 ⁇ ⁇ cm, more preferably 10 3 to 10 9 Q'cm.
  • Carbon precursors are typically used in the form of particles or fibers.
  • the average particle diameter of the carbon precursor particles used in the present invention is preferably 1 mm or less. If the average particle size of the carbon precursor is too large, it becomes difficult to obtain a solid or cured product having a good appearance when the synthetic resin composition is molded.
  • the carbon precursor When the carbon precursor is fibrous, its average particle size is usually from 0.1 mm to: L mm, preferably from 0.5 to 500 ⁇ ⁇ , and more preferably from 1 to 100 / m. It is. In many cases, good results can be obtained by using a carbon precursor having an average particle size of about 5 to 50 m.
  • the average diameter of the fibrous carbon precursor used in the present invention is preferably 0.1 mm or less. When the average diameter of the fibrous carbon precursor exceeds 0.1 mm, it becomes difficult to obtain a cured product having a good appearance.
  • the fibrous carbon precursor is preferably a short fiber from the viewpoint of dispersibility in a synthetic resin such as an epoxy resin.
  • the ratio of the carbon precursor is 100 parts by weight based on 100 parts by weight of a synthetic resin (for example, an epoxy resin component containing an epoxy compound and a curing agent). 0 to 500 parts by weight, preferably 15 to 450 parts by weight, more preferably 20 to 400 parts by weight.
  • a synthetic resin for example, an epoxy resin component containing an epoxy compound and a curing agent.
  • the surface resistivity can be in the semiconductive region even if the mixing ratio is as low as 10 to 50 parts by weight. it can.
  • the carbon precursor is not used in combination with the conductive filler, it is preferable that the mixing ratio be in the range of more than 50 parts by weight and not more than 400 parts by weight in order to control the surface resistivity within a desired range. .
  • the compounding ratio of the carbon precursor is too large, the withstand voltage of the solidified or cured product may be too low. If the compounding ratio of the carbon precursor is too small, it is difficult to sufficiently lower the surface resistivity of the solidified product or the cured product, and it is difficult to control the surface resistivity in the semiconductive region. If the proportion of the carbon precursor is too small, the variation in the surface resistivity depending on the location of the solidified or cured product tends to increase.
  • the conductive filler having a volume resistivity of less than 1 0 2 ⁇ ⁇ cm to be used in the present invention is not particularly limited, for example, carbon fibers, black tin, conductive carbon black, and metal powder. Among them, the viewpoint of controllability and reproducibility of surface resistivity Thus, conductive carbon materials such as carbon fiber, graphite, conductive carbon black, and mixtures thereof are preferred.
  • the surface resistivity of the cured product when used in combination with a carbon precursor, can be strictly controlled to a semiconductive region, and the variation in the surface resistivity depending on the location is sufficiently ensured.
  • Carbon fiber is preferred because it can be smaller.
  • the use of carbon fibers can also improve the mechanical properties of the cured product.
  • the carbon fibers used in the present invention include cellulose-based carbon fibers, polyacrylonitrile-based carbon fibers (PAN-based carbon fibers), lignin-based carbon fibers, and pitch-based carbon fibers.
  • PAN-based carbon fibers and pitch-based carbon fibers are preferred, and PAN-based carbon fibers are more preferred.
  • the average diameter of the carbon fibers is preferably 50 ⁇ m or less. If the average diameter of the carbon fibers is too large, it becomes difficult to obtain a cured product having a good appearance.
  • the average fiber length of the carbon fibers is preferably 10 ⁇ m or more and short fibers. If the average fiber length is too short, the effect of improving the mechanical properties is reduced.
  • the conductive carbon black is not particularly limited as long as it has conductivity. Examples thereof include acetylene black, oil furnace black, thermal black, and channel black. Among these, conductive carbon blacks such as oil furnace black and acetylene black are preferred.
  • the graphite is not particularly limited, and examples thereof include natural graphite such as artificial graphite, flaky graphite, flaky graphite, and ground graphite in which coke, tar, pitch, and the like are graphitized at a high temperature.
  • the volume resistivity of the conductive filler used in the present invention is less than 1 0 2 ⁇ ⁇ cm, the lower limit of which is typically a volume resistivity of the metal material such as a metal powder or metal fibers.
  • the conductive filler does not always need to be blended, and the surface resistivity of the cured product can be controlled within the semiconductive region by using the carbon precursor alone.
  • the mixing ratio of the conductive filler is Synthetic resin (for example, an epoxy resin component containing an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule and a hardening agent) 0 to 60 parts by weight, preferably 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight To 50 parts by weight, more preferably 0 to 40 parts by weight, particularly preferably 0 to 30 parts by weight.
  • Synthetic resin for example, an epoxy resin component containing an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule and a hardening agent
  • 0 to 60 parts by weight preferably 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight To 50 parts by weight, more preferably 0 to 40 parts by weight, particularly preferably 0 to 30 parts by weight.
  • a conductive filler such as carbon fiber
  • its mixing ratio is usually 1 to 60 parts by weight, preferably 2 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the synthetic resin. It is preferably 3 to 40 parts by weight, particularly preferably 5 to 30 parts by weight. If the proportion
  • other inorganic fillers are used in addition to the carbon precursor and the conductive filler.
  • the other inorganic filler is preferably a non-conductive inorganic filler that does not substantially affect the volume resistivity or surface resistivity of the cured product.
  • fillers occupy the largest proportion in the resin material for encapsulation and have a significant effect on the moldability and the properties of the cured product. Therefore, it is preferable to use, as the inorganic filler, those used in the technical field of the sealing resin material.
  • the inorganic filler examples include crystalline silica, amorphous (amorphous) silica, spherical silica, fused silica, partially spherical silica having a vitrification ratio of 10 to 95% by weight, alumina, and nitrided silica. Element, talc, clay, glass fiber, glass beads, calcium sulfate, and the like.
  • the inorganic filler may be surface-treated or coated. Silica is preferred for suppressing burrs, improving moisture resistance and improving low stress properties. In order to improve the thermal conductivity of the cured product, spherical alumina, silicon nitride and the like are preferable.
  • silica such as silica
  • amorphous silica spherical silica
  • fused silica partially spheroidized with a vitrification ratio of 10 to 95% by weight
  • Silica such as silica
  • the average particle size of the silica is about 0.1 to 6 ⁇ , preferably 30 xm or less, more preferably 10 ⁇ m or less.
  • These silicas may be used alone or in combination of two or more.
  • the compounding ratio of the other inorganic filler is a synthetic resin (for example, an epoxy resin containing an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule and a curing agent).
  • (Resin component) 100 to 150 parts by weight, preferably 200 to 1200 parts by weight, more preferably 300 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight, Particularly preferably, it is from 350 to 900 parts by weight. If the mixing ratio of the inorganic filler is too large, the fluidity of the sealing resin composition becomes poor, and the sealing moldability decreases. If the blending ratio of the inorganic filler is too small, the water resistance becomes poor, and other characteristics tend to be unsatisfactory. 7.
  • Coupling agent 100 to 150 parts by weight, preferably 200 to 1200 parts by weight, more preferably 300 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight, Particularly preferably, it is from 350 to 900 parts by weight. If the mixing ratio of the inorganic filler is too large, the fluidity of the sealing resin composition
  • a force coupling agent such as a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or an anorem-pum coupling agent can be used.
  • the silane coupling agent is a silicone compound such as an alkoxysilane or a halosilane having one or more functional groups such as an amino group, a perylene group, an epoxy group, an isocyanate group, and a mercapto group in a molecule.
  • silane coupling agent examples include ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, ⁇ -aminopropylmethoxysilane, ⁇ -phenyl / reaminopropyltrimethoxysilane, ⁇ - ureidopropyltriethoxysilane, .gamma. ureidopropionic built Increment Tokishishiran, .gamma. ureido propyl methyl trimethinecyanine Tokishishiran, .gamma.
  • titanate coupling agent examples include isopropyl triisostearate peroxy titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl 'aminoethyl) titanate, diisopropyl bis (dioctyl phosphate) titanate, and tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) ) Titanate, tetraoctylbis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1 1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate Titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate and the like can be used.
  • These coupling agents are used in a proportion of usually 0.01 to 5 parts by weight, preferably 0.05 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the other inorganic filler.
  • thermoplastic resin can be contained in the thermosetting resin composition for improving the toughness of the thermosetting resin composition for sealing such as the epoxy resin composition for sealing.
  • thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyamide, polyacetal, polybutyrene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, polyisoprene, polybutene, poly (p-xylene), polychloride butyl, Polyvinylidene chloride, polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyurethane, polydimethylsiloxane, polyvinyl acetate, polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, ABS resin, polyphenylene sulfide, polyetherenoate Zoleketone, polyester Polyphenylene / refined ketone, Polyphenylene sulfide sulfone, Polyethylene ternitrile, wholly aromatic polyester, Fluororesin, Polyarylate, Polysulfone, Polyether sulfone, Polyetherimide, Polyamide imide, Polyimide, Polyaminobismaleide, Examples include
  • fluororesin examples include tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene / perfluoroalkylbier ether copolymer, polyclonal trifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and fluoroethylene.
  • Vinylidene hexafluoropropylene / tetrafluoroethylene copolymer polyfluorinated vinyl, ethylene-no-tetraf / rho-ethylene copolymer, ethylene / chlorotrifluoroethylene copolymer, propylene / tetrafluoroethylene copolymer Polymer, Tet Fluoroalkyl perfluorovinyl ether copolymer, vinylidene fluoride / hexafluoropropylene copolymer, vinylidene fluoride Z-mouth trifluoroethylene copolymer, tetrafluoroethylene / ethylene / Examples include an isobutylene copolymer, an ethylene / hexafluoropropylene copolymer, and a tetrafluoroethylene / ethyl vinyl ether copolymer.
  • thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of the thermoplastic resin is usually 100 parts by weight of the thermosetting resin (for example, an epoxy resin component containing an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule and a curing agent). It is 50 parts by weight or less, preferably 30 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less.
  • the sealing resin composition of the present invention can contain other various additives as necessary.
  • Other additives include, for example, a release agent such as a natural wax; an impact modifier such as an epoxy group-containing ⁇ -olefin copolymer; a resin modifier such as ethylene dalicydyl methacrylate; zinc carbonate; Mold corrosion inhibitor such as pentaerythritol tetrastearate; thermosetting Resin; antioxidant; ultraviolet absorber; nucleating agent such as boron nitride; flame retardant such as bromide; flame retardant auxiliary such as antimony trioxide; coloring agent such as dye and pigment; Activator; wetting enhancer such as silicone oil; and the like.
  • a release agent such as a natural wax
  • an impact modifier such as an epoxy group-containing ⁇ -olefin copolymer
  • a resin modifier such as ethylene dalicydyl methacrylate
  • zinc carbonate zinc carbonate
  • Mold corrosion inhibitor such as pentaery
  • the sealing resin and composition of the present invention When the sealing resin and composition of the present invention are in a liquid state, they can be produced by sufficiently mixing the respective raw materials with a stirring and mixing device such as a Henschel mixer.
  • the mixing temperature is usually in the range of 20 to 60 ° C.
  • the encapsulating resin composition is a powder (compound), it is prepared by uniformly mixing the components with a high-speed mixer or the like and then sufficiently kneading with a two-roll or continuous kneading device. be able to.
  • the kneading temperature is usually about 30 to: L 20 ° C.
  • the sealing resin composition of the present invention can increase the filling rate of the filler.
  • the total proportion of the filler composed of the carbon precursor, the conductive filler, and the other inorganic filler is preferably 60 to 93% by weight, more preferably 70 to 90% by weight, based on the total amount of the resin composition. % By weight.
  • properties such as surface resistivity, heat resistance, mechanical strength, dimensional stability, and chemical resistance can be highly balanced.
  • the surface resistivity of a sample represents the resistance per unit surface area, and its unit is ⁇ , but in order to distinguish it from mere resistance, it is expressed as ⁇ port or ⁇ / sq. Express.
  • the surface resistivity is a value measured by the method described in Examples.
  • the solidified or cured product of the encapsulating resin composition of the present invention has a small variation in surface resistivity depending on the location.
  • the resin composition for sealing of the present invention can be used for resin sealing of electronic parts and electric parts.
  • the sealing resin composition of the present invention is particularly preferably used for resin sealing of a semiconductor element.
  • a transfer molding method, a dive method, Hardening molding can be performed by a known molding method such as a potting method, a powder flowing immersion method, an underfill method for mounting a clip chip, a compression molding method, and an injection molding method.
  • a resin-sealed semiconductor device can be obtained.
  • the encapsulating resin composition of the present invention has a high filling factor of a filler and is solid at room temperature, it is preferable to manufacture a resin-sealed semiconductor device by a transfer molding method or an injection molding method.
  • the sealing epoxy resin composition is molded into an epoxy tablet (B-stage solid), and the epoxy tablet is formed.
  • the sealing epoxy resin composition is molded into an epoxy tablet (B-stage solid), and the epoxy tablet is formed.
  • curing is performed at 150 to 180 ° C, preferably at 160 to 180 ° C, for 30 to 180 seconds, and then at 150 to 180 ° C, preferably.
  • post cure post-curing
  • the sealing is performed. It is possible to adopt a method of coating, printing, or flowing the resin composition for use at least to cover the semiconductor element and the wiring portion of the wiring donating member, and solidify or cure this. it can.
  • the use of the encapsulating resin composition of the present invention can increase the adhesion to the metal surface of a semiconductor element or a wiring-providing member on which a wiring such as an electrode or a circuit is formed and improve the moisture resistance.
  • Semiconductor devices manufactured using the encapsulating resin composition of the present invention have high reliability such as moisture resistance and heat cycle resistance, and are also excellent in bending resistance, impact resistance, vibration resistance, and the like. ing. Therefore, the resin sealing of the present invention Extremely high reliability can be obtained even when the semiconductor device thus manufactured is used in electronic devices in the form of cards, portable information devices, and the like.
  • the surface resistivity was measured at an applied voltage of 100 V using a Hiresta UP (UR-SS probe) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
  • a plate-shaped molded product (3 OmmX 3 OmmX 1 mm thick) obtained by injection-molding a resin composition by a transfer molding machine was used as a measurement sample.
  • the surface resistivity was measured at five points of the plate-like molded body.
  • the surface resistivity was represented by the average value.
  • the oxidized pitch was pulverized and further sieved with a mesh having an opening of about 50 / zm to remove particles having a size of 50 ⁇ or more.
  • 13 g of the crushed oxidized pitch powder was filled in a cylindrical mold having a cross section of 80 cm 2 and molded at a pressure of 196 MPa to obtain a molded body.
  • This molded body was heat-treated in a nitrogen stream at 580 ° C. for 1 hour, which is the same temperature as the heat treatment temperature in the above-described method for producing carbon precursor particles, to obtain a carbon precursor volume resistivity sample (molding). Body).
  • the volume resistivity of this sample was measured according to JISK 7194. As a result, the volume resistivity of the carbon precursor was 3 X 1 0 7 ⁇ ⁇ cm .
  • a softening point of 210 ° C, a quinoline insoluble content of 1% by weight, an H / C atomic ratio of 0.63, 68 kg of petroleum-based pitch and 32 kg of naphthalene were added to an inner volume of 300 kg with stirring blades.
  • the mixture was charged in a pressure vessel of a liter, heated to 190 ° C., melted and mixed, then cooled to 80 to 90 ° C. and extruded to obtain a string-shaped molded body having a diameter of about 500 m.
  • this cord-like molded body was powder-framed so that the ratio of the diameter to the length was about 1.5, and the obtained pulverized material was heated to 93 ° C. with 0.53% of polybutyl alcohol ( (Saponification degree: 88%) It was dropped into an aqueous solution, stirred and dispersed, and cooled to obtain a spherical pitch molded body.
  • n_hexane as that of the spherical pitch compact.
  • the spherical pitch formed body thus obtained was oxidized while being kept at 260 ° C. for 1 hour while passing heated air to obtain an oxidized pitch.
  • the oxide pitch was heat-treated for 1 hour in a nitrogen gas stream 5 5 0 ° C, milled, average particle diameter of a carbon precursor particles of about 1 0 ⁇ ⁇ . Before this carbon The carbon content of the precursor particles was 91.0% by weight.
  • the oxidized pitch was pulverized and sieved with a mesh having an opening of about 50 ⁇ to remove particles of 50 Aim or more.
  • 13 g of the crushed oxidized pitch powder was filled in a cylindrical mold having a cross-sectional area of 80 cm 2 and molded at a pressure of 196 MPa to obtain a molded body.
  • This molded body was heat-treated in a nitrogen stream at 580 ° C for 1 hour, which is the same temperature as the heat treatment temperature in the above-described method for producing carbon precursor particles. ) Got.
  • the volume resistivity of this sample was measured according to JIS K7194. As a result, the volume resistivity of the carbon precursor was 8 ⁇ 10 8 ⁇ ⁇ cm.
  • Epoxy resin (A) (Biphenyl type epoxy resin; manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name “Epicoat YX4000HK:”] 47 parts by weight, epoxy resin (A 2 ) [brominated cresol nopolak type epoxy resin; Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • epoxy resin component 100 parts by weight of epoxy resin component, including 48 parts by weight of a hardener [Phenol nopolak resin; product name of “DL-92” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.] 0.8 parts by weight, 5 parts by weight of antimony trioxide, 2 parts by weight of carnauba wax (release agent) , Trifluorenylphosphine (curing accelerator) 1 part by weight, 70 parts by weight of the carbon precursor (B1) obtained in Production Example 1, and spherical amorphous silica (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name "QS-4") 700 parts by weight to a twin screw extruder Continuously extruded at over temperature 170 ° C, and pellet of.
  • the pellet of the epoxy resin composition thus obtained was injected into a mold having a length of 3 Omm, a width of 30 mm, and a thickness of 1 mm using a transfer molding machine, and was thermally cured at 175 ° C for 150 seconds. .
  • the obtained plate-shaped molded body was taken out of the mold, and post-cured at 180 ° C. for 5 hours. Thus, a measurement sample was prepared. Table 1 shows the results. Examples 2 to 5
  • a measurement sample was prepared in the same manner as in Example 1, except that the components and the mixing ratio were changed as shown in Table 1.
  • Table 1 shows the results. '
  • Epoxy resin Vib-peel type epoxy resin; manufactured by Yuka Shell Co., Ltd., trade name "Epicoat YX4000HK:",
  • Epoxy resin (A 2 ) brominated cresol nopolak type epoxy resin; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “BREN-105”,
  • Curing agent phenol nopolak resin; manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name "DL_92",
  • Silane coupling agent manufactured by Toray Dako Co., Ltd., trade name “SZ—608 3”,
  • Carbon precursor (B 1) volume resistivity 3 ⁇ 10 7 ⁇ ⁇ cm, carbon content 91.0% by weight,
  • Carbon precursor (B 2) volume resistivity 8 ⁇ 10 8 ⁇ ⁇ cm, carbon content 91.0% by weight,
  • carbon fiber manufactured by Toray Industries, Inc., trade name "Tre force MLD30", volume resistivity less than 10 2 Omega ⁇ cm, average diameter 7 mu m, average fiber length 30 / xm,
  • conductive carbon black manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "MA- 100", the volume resistivity of less than 10 2 ⁇ ⁇ cm.
  • the surface resistivity of the encapsulated molded product (cured product) can be controlled by ESD by incorporating a carbon precursor into the epoxy resin component (Examples 1 to 5). It can be controlled within the range of 10 5 to 10 13 ⁇ / mouth of the semiconductive region, and the static decay time can be extremely short.
  • the surface resistivity of the cured product was changed within the semiconductive region by changing the mixing ratio of the carbon precursor. It can be controlled to a desired value. From the results of Example 5, it can be seen that the combined use of the carbon precursor and the carbon fiber makes it possible to cure even if the total blending ratio of these is reduced. It can be seen that the surface resistivity of the object can be controlled to a desired value within the semi-conductive region.
  • the surface resistivity of a sealed molded product is semiconductive while ensuring electrical insulation.
  • the present invention provides a sealing resin composition that can be strictly controlled in a sealing region.
  • a semiconductor device such as an electronic device sealed with the sealing resin composition of the present invention is sufficiently protected not only from an external environment such as moisture and light but also from an ESD failure. Therefore, the encapsulating resin composition of the present invention can be used as an encapsulating resin material for electronic components and electric components, and can be particularly suitably applied to resin encapsulation of semiconductor elements.
  • a semiconductor device such as an electronic device sealed with the sealing resin composition of the present invention can be used in the technical field of semiconductor.

Abstract

合成樹脂100重量部、体積抵抗率が102~1010Ω・cmの炭素前駆体10~500重量部、体積抵抗率が102Ω・cm未満の導電性充填剤0~60重量部、及びその他の無機充填剤100~1500重量部を含有する封止用樹脂組成物。

Description

明細書 封止用樹脂組成物及び樹脂封止された半導体装置 技術分野
本発明は、 半導体素子とその周辺の電極配線などを樹脂封止するのに好適な封 止用樹脂組成物に関する。 さらに詳しくは、 本発明は、 電気絶縁性、 機械的特性、 耐熱性、 耐薬品性、 寸法安定性などに優れることに加えて、 封止成形物 (樹脂組 成物の固化物または硬化物) の表面抵抗率を半導電性領域に厳密かつ安定的に制 御することができる封止用樹脂組成物に関する。 また、 本発明は、 半導体素子が 該封止用樹脂組成物により樹脂封止された半導体デバィスなどの半導体装置に関 する。 背景技術
リードフレーム、 基板、 パッケージなどの上に搭載された半導体素子及ぴその 周辺の電極配線などを外部環境から保護するために、 これらの周りに樹脂を流し 込んで封止する樹脂封止(resin encapsulation)が行われている。 樹脂封止は、 I Cや L S Iなどの半導体素子、 ボンディングワイヤー、 インナーリードなどの 配線を外部環境から保護することや、 実装時のハンドリングをよくすることを目 的として行われている。 ^ 封止用樹脂としては、 主としてエポキシ系封止材料(epoxy type encapsulant) が用いられている。 エポキシ系封止材料は、 一般に、 分子中に 2個以上のェポキ シ基を有するエポキシ化合物 (エポキシ樹脂) が用いられており、 これに硬化剤 を加えて加熱すると、 耐薬品性、 機械的強度に優れた硬化物が得られる。 ェポキ シ系封止材料としては、 主剤をエポキシ樹脂とし、 これに硬化剤、 硬化促進剤、 可撓化剤、 充填剤、 カップリング剤、 難燃化助剤、 着色剤、 離型剤、 イオン捕捉 剤などから選ばれる副剤を適宜加えたエポキシ系樹脂組成物が用いられている。
樹脂封止には、 トランスファモールド法(transfer molding)、 ディッビング法 (dipping)、 ポッティング法 (potting)、 粉体流動浸漬法などがある。 これらの中 でも、 量産に適していることから、 パッケージの大半がトランスファモールド法 により樹脂封止されている。 エポキシ系封止材料を用いてトランスファモールド 法により樹脂封止を行うには、 一般に、 エポキシ系封止材料をエポキシタブレツ ト (Bステージ状固形体) に成形し、 該エポキシタブレットを高温に加熱した金 型內に揷入、 加圧して、 予め金型內に装填した半導体チップやモジュールを封止 する方法が採用されている。 エポキシ系樹脂材料は、 加熱により硬化した樹脂封 止部を形成する。 最近では、 エポキシ系封止材料を用いて射出成形法 (インジェ クションモールディング法) により樹脂封止を行う方法も提案されている。
封止用樹脂材料には、 電気的絶縁性、 機械的特性、 耐熱性、 耐薬品性、 寸法安 定性に優れるとともに、 耐湿性、 ストレス緩和性、 回路の隠蔽性、 遮光性、 放熱 性などの特性をも有することが求められている。 例えば、 I Cなどの半導体素子 は、 それ自体が微細な回路であるため、 端子間の絶縁性を維持した状態で樹脂封 止を行わなければならない。 そのため、 封止用樹脂材料は、 電気的絶縁性を備え ていることが必要である。 また、 半導体素子の回路は、 水分とイオン性の不純物 により破壊されやすいため、 封止用樹脂材料には、 吸湿率 (吸水率) が小さなこ とが求められる。
従来、 このような様々な要求特性を満足する封止用樹脂材料を得るために、 例 えば、 樹脂及び充填剤の種類を選択したり、 充填剤の含有率を高めたりする方法 が提案されている。 より具体的には、 硬化物の成形収縮率を小さくし、 精密な射 出成形を可能とするために、 特定の粒度分布を持つ球状シリカを配合したェポキ シ樹脂組成物 (特開平 1 1— 3 2 3 0 9 7号公報;米国特許第 5, 0 6 4, 8 8 1号明細書)、 分散性に優れた非晶質シリカ粉末を液状エポキシ樹脂に充填した 液状半導体封止材 (特開 2 0 0 2— 2 1 2 3 9 8号公報)、 線膨張係数を高くし、 低吸水性でクラック発生率の低い硬化物を得るために、 エポキシ樹脂にガラス化 率が 1 0〜 9 5重量%の部分球状化シリ力を配合した半導体封止用エポキシ樹脂 組成物 (特開 2 0 0 0— 0 6 3 6 3 6号公報)、 耐熱密着性、 耐湿性、 曲げ弾性 率に優れた硬化物を得るために、 液状の環状骨格含有エポキシ樹脂に、 平均粒径 が 2〜 1 0 μ mで比表面積が極めて小さな球状シリカを 4 0〜 8 5質量%含有さ せた糸且成物 (特開 2 0 0 1— 2 2 6 5 6 2号公報)、 アフターキュア一工程を省 略しても、 半田リフロー時における耐クラック性を維持または向上させるために、 ジシク口ペンタジェン型エポキシ樹脂に、 溶融シリ力及び結晶シリカを組み合わ せて配合した封止用樹脂組成物 (特開 2 0 0 2— 2 4 9 5 4 6号公報) などが提 案されている。
しかし、 従来の封止用樹脂材料は、 静電気による放電現象(Electro-Static Discharge)と、 この放電現象に起因する静電破壌 (Electro- Static Destroy)など の E S D障害に十分に対応することができないという問題があった。 半導体素子 などの電子デバイスの高密度ピッチ化が進展するに伴い、 表面抵抗率が 1 0 1 3 Ωノロを超える樹脂封止部を有すると、 該樹脂封止部の摩擦帯電の影響により、 電子デバイスが帯電し易くなる。 帯電して静電気を蓄積した電子デバイスは、 静 電気の放電により損傷を受けたり、 空中に浮遊している塵埃を静電吸着したりす る。 他方、 表面抵抗率が 1 0 5 Ωノロ未満の樹脂封止部を有する電子デバイスは、 樹脂封止部中での電荷の移動速度が速すぎて、 静電気の放電の際に発生する強い 電流や高い電圧により、 電子デバイスに障害を与えることがある。 また、 樹脂封 止部の表面抵抗率が低すぎると、 電気絶縁性を確保することができなくなる。 従来、 封止用樹脂材料により樹脂封止された電子デバイスにおいて、 樹脂封止 部による E S D障害の問題については、 当業者の認識が不十分であった。 封止用 樹脂材料の E S D障害の問題を解決するための提案もなされていない。 電子デバ ィスの高密度ピッチ化が進展するにつれて、 電子デバィスを静電気障害から十分 に保護し、 かつ塵埃を寄せ付けずに高いクリーン度を保つという観点から、 これ らの技術分野で使用される封止用樹脂材料にも、 E S D障害に対応できることが 重要な課題となっている。
従来のエポキシ系封止材料のように、 エポキシ樹脂や充填剤の種類、 充填剤の 粒径や粒度分布の選択などの手法では、 E S D障害に対応することができないの が現状である。 E S D障害に対処するには、 樹脂封止部の表面抵抗率を半導電性 領域の 1 0 5〜1 0 1 3 ΩΖ口の範囲内に制御する必要がある。 しかし、 樹脂封止 部に求められる電気絶縁性、 機械的特性、 耐熱性、 耐薬品性、 寸法安定性、 耐湿 性などの特性を十分に満足させながら、 その表面抵抗率を半導電性領域の 1 0 5 〜 1 0 1 3 ΩΖ口の範囲内に厳密かつ安定的に制御することができる封止用樹脂 材料を開発することは極めて困難であった。
樹脂封止部の表面抵抗率を低くする方法として、 封止用樹脂材料に帯電防止剤 または導電性充填材を配合する方法が考えられる。 しかし、 封止用樹脂材料に帯 電防止剤を配合する方法は、 樹脂封止部の表面に存在する帯電防止剤が洗浄や摩 擦により除去されて帯電防止効果が失われ易い。 帯電防止剤の配合量を多くして、 帯電防止剤が樹脂封止部の内部から表面にプリードし易くすると、 帯電防止効果 をある程度持続させることができるものの、 ブリードした帯電防止剤により樹脂 封止部の表面に塵埃が粘着したり、 帯電防止剤の溶出や揮発により電子デパイス や環境が汚染されたりする。 帯電防止剤を多量に配合すると、 樹脂封止部の耐熱 性が低下する。
他方、 封止用樹脂材料に導電性カーボンブラック及び炭素繊維などの体積抵抗 率が 1 0 2 Ω · c m未満の導電性充填剤を配合する方法は、 樹脂成分と導電性充 填剤の電気抵抗率が大きくかけ離れているため、 導電性充填剤の配合割合の僅か の違いや成形条件の僅かな変動によって、 樹脂封止部の表面抵抗率が大きく変動 する。 そのため、 単に導電性充填剤を配合する方法では、 樹脂封止部の表面抵抗 率を 1 0 5〜1 0 1 3 Ω /口の範囲内の所望の値となるように厳密かつ安定的に制 御することが極めて困難である。 しかも、 導電性充填剤を配合する方法では、 樹 脂封止部の場所による表面抵抗率に大きなパラツキが生じ易い。 表面抵抗率のパ ラツキが大きな樹脂封止部は、 表面抵抗率が大きすぎる場所と小さすぎる場所と が混在しているため、 半導体素子の端子間の電気絶縁性が損なわれるおそれがあ ることに加えて、 電子デバイスを E S D障害から十分に保護することができない。 発明の開示
本発明の課題は、 機械的特性、 耐熱性、 耐薬品性、 寸法安定性などの特性に優 れることに加えて、 電気絶縁性を確保しつつ、 封止成形物の表面抵抗率を半導電 性領域に厳密に制御することができる封止用樹脂組成物を提供することにある。 本発明の他の課題は、 このような優れた特性を有する封止用樹脂組成物により半 導体素子が樹脂封止された半導体装置を提供することにある。
本発明者らは、 合成樹脂に、 無機充填剤を多量に配合するとともに、 体積抵抗 率が 1 0 2〜 1 0 ^ Ω · c mの炭素前駆体を単独で、 あるいは該炭素前駆体と体 積抵抗率が 1 0 2 Ω . c m未満の導電性充填剤とを組み合わせて配合した樹脂組 成物に想到した。 合成樹脂としては、 熱硬化性樹脂が好ましい。 熱硬化性樹脂と しては、 封止用樹脂材料として汎用されているエポキシ樹脂が好ましい。
本発明の封止用樹脂組成物は、 電気絶縁性を確保しつつ、 その成形物 (固化物 または硬化物) の表面抵抗率を半導電性領域内の所望の値に厳密かつ安定的に制 御することが可能であり、 表面抵抗率の場所によるパラツキも小さいものである。 また、 本発明の封止用樹脂組成物は、 機械的特性、 耐熱性、 耐薬品性、 寸法安定 性などの特性にも優れている。 したがって、 本発明の封止用樹脂組成物は、 封止 用樹脂材料として適した高度の性能を発揮することができるものである。 本発明 は、 これらの知見に基づレヽて完成するに至ったものである。
本発明によれば、 合成樹脂 (A) 1 0 0重量部、 体積抵抗率が 1 0 2〜 1 0 1 0 Ω · c mの炭素前駆体 (B ) 1 0〜 5 0 0重量部、 体積抵抗率が 1 0 2 Ω · c m未 満の導電性充填剤 (C) 0〜 6 0重量部、 及びその他の無機充填剤 (D) 1 0 0 〜 1 5 0 0重量部を含有する封止用樹脂組成物が提供される。
また、 本発明によれば、 前記合成樹脂が、 熱硬化性樹脂である封止用樹脂組成 物が提供される。 さらに、 本発明によれば、 前記熱硬化性樹脂が、 1分子中に 2 個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と硬化剤とを含有するェポキシ樹脂 成分である封止用エポキシ樹脂組成物が提供される。
さらにまた、 本発明によれば、 半導体素子が前記封止用樹脂組成物により樹脂 封止された半導体装置が提供される。 発明を実施するための最良の形態
1 . 合成樹脂
本発明で使用する合成樹脂は、 特に限定されず、 例えば、 ポリアミド、 ポリア セターノレ、 ポリブチレンテレフタレート、 ポリエチレンテレフタレート、 ポリエ チレン、 ポリプロピレン、 ポリイソプチレン、 ポリイソプレン、 ポリブテン、 ポ リー p—キシレン、 ポリ塩化ビュル、 ポリ塩化ビニリデン、 ポリカーボネート、 変性ポリフエ-レンエーテル、 ポリウレタン、 ポリジメチルシ口キサン、 ポリ酢 酸ビエル、 ポリスチレン、 ポリアクリル酸メチル、 ポリメタクリル酸メチル、 A B S樹旨、 ポリフエ二レンス/レフイド、 ポリエーテ A テノレケトン、 ポリエー テノレケトン、 ポリフエ二レンス/レフイ ドケトン、 ポリフエ二レンス/レフィ ドスノレ ホン、 ポリエーテルュトリル、 全芳香族ポリエステル、 フッ素樹脂、 ポリアリレ ート、 ポリスルホン、 ポリエーテルスルホン、 ポリエーテルイミド、 ポリアミ ド イミド、 ポリアミノビスマレイミド、 ジァリルテレフタレート樹脂、 トリアジン 樹脂、 エポキシ樹脂、 フエノール樹脂、 メラミン樹脂、 ユリア樹脂、 及びこれら の変性物などが挙げられる。
フッ素樹脂としては、 テトラフルォロエチレン Zへキサフルォロプロピレン共 重合体、 テトラフルォロエチレン/パーフルォロアルキルビニルエーテル共重合 体、 ポリクロ口トリフルォロエチレン、 ポリフッ化ビニリデン、 フッ化ビニリデ ン /へキサフルォロプロピレン/テトラフルォロエチレン共重合体、 ポリフッ化 ビュル、 エチレン / テトラフルォロエチレン共重合体、 エチレン/クロロトリフ ルォロエチレン共重合体、 プロピレン/テトラフルォロエチレン共重合体、 テト ラフルォロエチレン/パーフルォロアルキルパーフルォロビュルエーテル共重合 体、 フッ化ビ二リデン zへキサフルォロプロピレン共重合体、 フッ化ビ二リデン
/クロ口トリフルォロエチレン共重合体、 テトラフルォロエチレン/エチレン z イソブチレン共重合体、 エチレン/へキサフルォロプロピレン共重合体、 テトラ フルォロエチレン/ェチルビニルエーテル共重合体などが挙げられる。
これらの合成樹脂は、 それぞれ単独で、 あるいは 2種以上を組み合わせて使用 することができる。
2 . 熱硬化性樹脂
前記合成樹脂の中でも、 熱硬化性樹脂が好ましい。 本発明に用いられる熱硬化 性樹脂としては、 例えば、 エポキシ樹脂、 フエノール樹脂、 メラミン樹脂、 ユリ ァ樹脂などがあり、 公知のものはいずれも使用することができる。 エポキシ樹脂 は、 寸法安定性に優れている。 フエノール樹脂及びメラミン樹脂は、 耐衝撃性、 耐熱性、 耐薬品性、 耐水性、 耐燃性に優れている。 ユリア樹脂は、 表面硬度が高 く、 象牙様の外観に特徴がある。 フエノール樹脂としては、 フヱノールとホルマリンとの反応によって得られる 汎用のフエノール樹脂の他、 ノポラック型フエノール樹脂、 レゾール型フエノー ル樹脂が挙げられる。 フエノール樹脂の原料であるフエノール類としては、 例え ば、 フエノール、 ビスフエノーノレ A、 クレゾーノレ、 ァノレキノレフエノール、 レゾノレ シン、 ナフトール系化合物 (例えば、 ヒドロキシナフタレン、 ジヒ ドロシキナフ タレン) などがある。 フエノール類は、 それぞれ単独で、 あるいは 2種以上を組 み合わせて使用することができる。 フエノール樹脂の原料であるホルムアルデヒ ド供給物質としては、 ホルムアルデヒド水溶液、 パラホルムアルデヒド、 へキサ メチレンテトラミン水溶液、 1, 3—ジォキソランなどが挙げられる。
メラミン樹脂としては、 メラミンとホルマリンとを反応させて得られる汎用の メラミン樹脂、 アルキルエーテル化メラミン樹脂 (例えば、 ブトキシメチルメラ ミン樹脂、 メ トキシメチルメラミン樹脂) などが挙げられる。 ユリア樹脂として は、 尿素とホルムアルデヒドを反応させて得られる汎用ユリア樹脂が挙げられる。 また、 メラミンと尿素とホルマリンとの共縮合によって得られるメラミン/ユリ ァ樹脂、 フヱノールと尿素とホルマリンとの共縮合によって得られるフエノール /ュリァ樹脂も熱硬化性樹脂として使用することができる。
3 . エポキシ樹月旨
熱硬化性樹脂の中でも、 封止用樹脂として汎用されているエポキシ樹脂が好ま しい。 エポキシ樹脂は、 一般に、 エポキシ化合物と硬化剤とを含有する混合物で ある。 エポキシ化合物は、 それ単独でエポキシ樹脂と呼ばれることが多い。 その ため、 本発明では、 該エポキシィヒ合物と硬化剤とを含有する混合物を 「エポキシ 樹脂成分」 と呼ぶ。
本発明で使用するエポキシ化合物は、 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有す る化合物である。 エポキシ化合物は、 固体状、 液状のいずれのものも使用するこ とができる。 このようなエポキシ化合物としては、 例えば、 ビスフエノール A型 ェポキシ樹脂、 ビスフエノール F型ェポキシ樹脂等のビスフエノ一ル型ェポキシ 樹脂;フエノールノポラック型エポキシ樹脂、 クレゾールノポラック型エポキシ 樹脂、 アルキルフエノールノポラック型エポキシ樹脂、 キシレン樹脂変性ノボラ ック型エポキシ樹脂、 α—ナフトールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック 型エポキシ樹脂; トリフエノールメタン型エポキシ樹脂、 トリフエノールプロパ ン型エポキシ樹脂等のトリフエノールアルカン型エポキシ樹脂; ビフエ-ル型ェ ポキシ樹脂、 ビフェ -ルァラルキル型エポキシ樹脂等のビフェニル骨格型ェポキ シ樹脂;フヱノールァラルキル型エポキシ樹脂;複素環型エポキシ樹脂;ナフタ レン骨格型エポキシ樹脂;スチルベン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジェン型 エポキシ樹脂;テトラブロムビスフエノール型エポキシ樹脂、 臭素化フエノール ノポラック型エポキシ樹脂等の臭素化エポキシ樹脂;等が挙げられる。 これらの エポキシ樹脂は、 それぞれ単独で、 あるいは 2種以上を組み合わせて使用するこ とができる。
これらのエポキシ化合物の中でも、 耐湿性、 耐熱性、 機械的特性、 成形性、 密 着性、 耐リフロー性などの観点から、 下記の化学式 1〜1 5に示すようなビフエ ニル骨格型エポキシ樹脂 (化学式 1〜2 )、 ジシクロペンタジェン型エポキシ樹 脂 (化学式 3 )、 クレゾールノポラック型エポキシ樹脂(ィヒ学式 4 )、 ナフタレン 骨格型エポキシ樹脂 (化学式 5〜1 0 )、 トリフヱノールプロパン型エポキシ樹 脂 (化学式 1 1〜1 2 )、 臭素化エポキシ樹脂 (化学式 1 3〜1 5 ) などが好まし レ、。
下記の化学式 1〜 1 5において、 Gは、 グリシジル基を示す。 化学式 1におけ る Rは、 Ηまたは C H 3 (好ましくは C H 3) を表わす。 nは、 0または 1以上 の整数 (通常 1〜 1 0 ) を表わす。 ただし、 nは、 n = 0、 1、 2などの様々な 繰り返し単位数を有するエポキシ樹脂の混合物の平均値を表わす場合には、 0 . 5や 1 . 3などの整数以外の実数を表わすことがある。 化学式 1 3〜1 5におい て、 臭素原子 (B r ) は、 各芳香環に通常 1〜3個、 多くの場合 1〜2個結合し ている。
( 1 )
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.OG 、 OG
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(7)
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l7ZC800/S00Zdf/X3d 6T6S01/S00Z OAV 樹脂封止部を難燃化する必要がある場合には、 臭素化エポキシ樹脂のような自 己消火性エポキシ樹脂(self - extinguishing epoxy resin)を用いることが好まし い。 臭素化エポキシ樹脂を使用する場合には、 三酸ィ匕アンチモンなどの難燃助剤 を併用することが好ましい。
し力 し、 臭素化合物は、 一般に、 環境負荷化合物としての問題点が指摘されて いるため、 エポキシ化合物として臭素化エポキシ樹脂を使用する場合には、 その 他のハロゲン原子を含有しないエポキシ樹脂と併用することが望ましい。 臭素化 エポキシ樹脂を使用する場合には、 エポキシ化合物の全量基準で、 通常 1〜5 0 重量%、 好ましくは 3〜 3 0重量%、 より好ましくは 5〜 2 0重量%の割合で使 用することが望ましい。 本発明で使用する硬化剤としては、 エポキシ樹脂の硬化剤として使用されてい るものであればよく、 特に制限されない。 エポキシ樹脂 (エポキシ化合物) の硬 化剤としては、 例えば、 2個以上のフエノール性水酸基を有するフヱノール化合 物、 アミン化合物、 有機酸無水物、 ィミダゾール化合物、 ジァザビシクロウンデ センのような含窒素複素環化合物、 有機ホスフィン、 有機ボロン錯体、 第四級ァ ンモニゥム化合物、 第四級ホスホニゥム化合物などが挙げられる。
これらの硬化剤は、 それぞれ単独で使用することができるが、 硬化速度や硬化 物の物理的性状を制御するために、 2種以上の硬化剤を組み合わせて使用しても よい。 これらの硬化剤の中でも、 フヱノール化合物やァミン化合物、 有機酸無水 物などが好ましく、 硬化物の耐水性や水分との反応性がないことなどから、 フエ ノール化合物がより好ましい。
硬化剤として使用するフヱノール化合物としては、 1分子中にフヱノール性の 水酸基を 2個以上含有する化合物であり、 例えば、 フエノールノポラック樹脂、 クレゾールノポラック樹脂等のノポラック型フエノール樹脂;ナフタレン環含有 フエノール樹脂;フエノールァラルキル型フエノール樹脂; ビフエ二ル型フエノ ール樹脂; ビフエニルァラルキル型フエノール樹脂; トリフエノールメタン型フ ェノール樹脂、 トリフエノールプロパン型フエノール樹脂等のトリフエノールァ ルカン型フエノール樹脂;脂環式フヱノール樹脂;複素環型フエノール樹脂; ビ スフエノール A型フエノール樹脂、 ビスフエノール F型フエノール樹脂等のビス フエノーノレ型フエノール樹脂;等が挙げられる。
これらのフヱノールイ匕合物は、 それぞれ単独で、 あるいは 2種以上を組み合わ せて使用することができる。 これらのフエノール化合物の中でも、 フエノールノ ポラック樹脂、 クレゾ一ルノボラック樹脂、 フエノールァラルキル樹脂、 ナフタ レン型フエノール樹脂、 ビフエニル型フエノール樹脂、 ジシクロペンタジェン型 フエノール樹脂が好ましく、 フエノールノポラック樹脂がより好ましい。 好まし いフエノール化合物の具体例を下記の化学式 1 6〜2 0に示す。 式中、 nは、 0 または 1以上の整数 (好ましくは 1〜1 0 ) を表わす。 化学式 1 8において、 n は、 1以上の整数である。 化学式 2 0において、 Rは、 Hまたはアルキル基 (好 ましくは C H 3) を表わす。
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( 1 6 )
)
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OH / OHヽ OH 硬化剤は、 エポキシ化合物のエポキシ基に対して、 通常 0 . 5〜1 . 6当量、 好ましくは 0 . 6〜1 . 4当量、 より好ましくは 0 . 7〜1 . 2当量となる割合 で使用される。 エポキシ樹脂においては、 硬化剤が硬化物の骨格中に組み込まれ るため、 硬化剤の種類と使用割合は、 硬化物に対して要求される特性に応じて選 択することが望ましい。
本発明で硬化剤として好ましく用いられるフエノール化合物は、 エポキシ化合 物 (エポキシ樹脂) 中のエポキシ基 1モルに対して、 フエノール化合物中のフヱ ノール性水酸基が通常 0 . 5〜1 . 6モル、 好ましくは 0 . 6〜1 . 4モル、 よ り好ましくは 0 . 7〜1 . 2モルとなる割合で用いることが望ましい。 フエノー ル性水酸基が 0 . 5モル未満となる使用割合では、 硬化反応に関与するフエノー ル性水酸基が不足し、 エポキシ基の単独重合の割合が多くなるため、 硬化物のガ ラス転移温度が低くなり易レ、。 他方、 フエノール性水酸基が 1 . 6モル超過とな る使用割合では、 フエノール性水酸基の比率が高くなり、 硬化反応性が低下する ほか、 硬化物の架橋密度が低くなって十分な強度が得られない場合がある。 本発明においては、 エポキシ化合物と硬化剤との硬化反応を促進するために、 硬化促進剤を必要に応じて使用することができる。 硬化促進剤の種類は、 特に限 定されるものではなく、 加熱により反応が開始され、 常温ではエポキシ樹脂その 他の成分と混合しても実用上支障となるほど硬化が進行し難い性質を有する公知 の硬化促進剤を使用することができる。 硬化促進剤は、 組成物として混合した状 態で保存できるいわゆる一液性の潜在性タイプと、 混合すると直ちに硬化が始ま る二液性タイプの、、ずれでもよい。
硬化促進剤としては、 例えば、 1, 8—ジァザビシクロ [ 5 . 4 . 0 ] ゥンデ セン一 7のフエノーノレ塩やフエノールノボラック塩、 炭酸塩などの誘導体; 2 _ メチルイミダゾール、 2一フエ二ルイミダゾール、 2一へプタデシルイミダゾー ル、 2—ェチノレー 4ーメチルイミダゾール、 2 _フエ二ノレ一 4ーメチノレイミダゾ 一 などのイミダゾーノレ類;ェチ ^ホスフィン、 プロピンホスフィン、 フエニズレ ホスフィン、 トリフエ二ノレホスフィン、 トリアノレキ/レホスフインなどのォ /レガノ ホスフィン化合物; A r— ΝΗ— C O— Ν (式中、 A rは、 置換または非置換の ァリール基である) で表わされる尿素誘導体;ィミダゾール骨格を有する化合物 などが挙げられる。
硬化促進剤は、 それぞれ単独で、 あるいは 2種以上を組み合わせて使用するこ とができる。 硬化促進剤を使用する場合には、 エポキシ化合物 (エポキシ樹脂) 100重量部に対して、 通常 0. 2〜20重量部、 好ましくは 0. 5〜10重量 部の割合で配合される。
4. 炭素前駆体
本発明で使用する体積抵抗率が 102〜 101。 Ω · c mである炭素前駆体は、 有機物質を不活性雰囲気中で、 400 °C〜 900 °Cの温度で焼成することにより 得ることができる。 より具体的に、 本発明で使用する炭素前駆体は、 例えば、 (i)石油タール、 石油ピッチ、 石炭タール、 石炭ピッチ等のタールまたはピッチ を加熱し、 芳香族化と重縮合を行い、 必要に応じて、 酸化雰囲気中において酸化 •不融化し、 さらに不活性雰囲気において加熱 ·焼成する方法、 (ii)ポリアタリ ルニトリル、 ポリ塩ィヒビュル等の熱可塑性樹脂を酸ィ匕雰囲気中において不融化し、 さらに不活性雰囲気中で加熱 ·焼成する方法、 (iii)フエノール樹脂、 フラン樹 脂等の熱硬化性樹脂を加熱硬化後、 不活性雰囲気中で加熱 ·焼成する方法などに より製造することができる。
本発明において、 炭素前駆体とは、 これらの処理によって得られる炭素の含有 量が 97質量%以下の完全には炭素化していない物質を意味する。 有機物を不活 性雰囲気中で加熱 *焼成すると、 焼成温度が上昇するにつれて、 得られる焼成体 の炭素含有量が上昇する。 炭素前駆体の炭素含有量は、 焼成温度を適正に設定す ることによって、 容易に制御することができる。 本発明で使用する体積抵抗率が 102~10 cmの炭素前駆体は、 炭素含有量が好ましくは 80〜97質 量%の完全に炭化していない状態の炭素前駆体として得ることができる。
炭素前駆体の炭素含有量が少なすぎると、 体積抵抗率が大きくなりすぎて、 封 止用樹脂組成物から得られる封止成形体 (固化物または硬化物) の表面抵抗率を 1013ΩΖ口以下にすることが困難となる。 炭素前駆体の体積抵抗率は、 好ま しくは 102〜1010Ω· cm、 より好ましくは 103〜109Q' cmである。 炭素前駆体は、 通常、 粒子または繊維の形状で使用される。 本発明で用いる炭 素前駆体粒子の平均粒子径は、 1 mm以下であることが好ましい。 炭素前駆体の 平均粒子径が大きすぎると、 合成樹脂組成物を成形した場合に、 良好な外観の固 化物または硬化物を得ることが困難になる。 炭素前駆体が繊維状である場合、 そ の平均粒子径は、 通常 0 . 1 mm〜: L mm、 好ましくは 0 . 5〜5 0 0 ^ ιη、 よ り好ましくは 1〜1 0 0 / mである。 多くの場合、 5〜 5 0 m程度の平均粒子 径の炭素前駆体を使用することにより、 良好な結果を得ることができる。 本発明 で使用する繊維状炭素前駆体の平均直径は、 0 . 1 mm以下であることが好まし い。 繊維状炭素前駆体の平均直径が 0 . 1 mmを超えると、 良好な外観の硬化物 を得ることが難しくなる。 繊維状炭素前駆体は、 短繊維であることがエポキシ樹 脂などの合成樹脂中への分散性の観点から好ましい。
本発明の封止用樹脂組成物において、 炭素前駆体の酉 3合割合は、 合成樹脂 (例 えば、 エポキシ化合物と硬化剤とを含有するエポキシ樹脂成分) 1 0 0重量部に 対して、 1 0〜5 0 0重量部、 好ましくは 1 5〜4 5 0重量部、 より好ましくは 2 0〜4 0 0重量部である。 炭素前駆体を炭素繊維などの導電性充填剤と併用す る場合には、 その配合割合を 1 0〜5 0重量部と低くしても、 表面抵抗率を半導 電性領域とすることができる。 炭素前駆体を導電性充填剤と併用しない場合には、 その配合割合を 5 0重量部超過 4 0 0重量部以下の範囲とすることが表面抵抗率 を所望の範囲内に制御する上で好ましい。
炭素前駆体の配合割合が大きすぎると、 固化物または硬化物の耐電圧が低くな りすぎるおそれがある。 炭素前駆体の配合割合が小さすぎると、 固化物または硬 化物の表面抵抗率を十分に下げることが困難になり、 半導電性領域内に制御する ことが困難になる。 また、 炭素前駆体の配合割合が小さすぎると、 固化物または 硬化物の場所による表面抵抗率のバラツキが大きくなり易い。
5 . 導電性充填剤
本発明で使用する体積抵抗率が 1 0 2 Ω · c m未満の導電性充填剤としては、 特に制限はなく、 例えば、 炭素繊維、 黒鈴、 導電性カーボンブラック、 金属粉末 などが挙げられる。 これらの中でも、 表面抵抗率の制御性や再現性などの観点か ら、 炭素繊維、 黒鉛、 導電性カーボンブラック、 及びこれらの混合物などの導電 性炭素材料が好ましい。
導電性炭素材料の中でも、 炭素前駆体と組み合わせて使用した場合に、 硬化物 の表面抵抗率を厳密に半導電性領域に制御することができ、 かつ表面抵抗率の場 所によるバラツキを十分に小さくすることができるため、 炭素繊維がより好まし い。 炭素繊維を用いると、 硬化物の機械的特性を良好にすることもできる。 本発明で使用する炭素繊維としては、 セルロース系炭素繊維、 ポリアクリル二 トリル系炭素繊維 (P A N系炭素繊維)、 リグニン系炭素繊維、 ピッチ系炭素繊 維などが挙げられる。 これらの炭素繊維の中でも、 P AN系炭素繊維及びピッチ 系炭素繊維が好ましく、 P AN系炭素繊維がより好ましい。
炭素繊維の平均直径は、 5 0 μ m以下であることが好ましい。 炭素繊維の平均 直径が大きすぎると、 良好な外観の硬化物を得ることが難しくなる。 炭素繊維の 平均繊維長は、 1 0 μ m以上で、 かつ短繊維であることが好ましい。 平均繊維長 が短すぎる炭素繊維を用いると、 機械的特性の改善効果が小さくなる。
導電性カーボンブラックとしては、 導電性を有するものであれば特に制限はな く、 例えば、 アセチレンブラック、 オイノレファーネスブラック、 サーマルブラッ ク、 チャンネルブラックなどを挙げることができる。 これらの中でも、 オイルフ アーネスブラックやアセチレンブラックの如き導電性カーボンブラックが好まし い。 黒鉛としては、 特に制限はなく、 コークス、 タール、 ピッチなどを高温で黒 鉛化処理した人造黒鉛、 鱗片状黒鉛、 鱗状黒鉛、 及び土状黒鉛等の天然黒鉛など を挙げることができる。
本発明で使用する導電性充填剤の体積抵抗率は、 1 0 2 Ω · c m未満であり、 その下限は、 通常、 金属粉末や金属繊維などの金属材料の体積抵抗率である。 本発明の封止用樹脂組成物において、 導電性充填剤は必ずしも配合する必要が なく、 炭素前駆体の単独使用により硬化物の表面抵抗率を半導電性領域内に制御 することができる。 固化物または硬化物の機械的強度を向上させたり、 表面抵抗 率の場所によるバラツキを小さくしたりするには、 炭素前駆体と炭素繊維などの 導電性充填剤とを併用することが好ましい。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物において、 導電性充填剤の配合割合は、 合 成樹脂 (例えば、 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と硬 化剤とを含有するエポキシ樹脂成分) 1 0 0重量部に対して、 0〜6 0重量部、 好ましくは 0〜5 0重量部、 より好ましくは 0〜4 0重量部、 特に好ましくは 0 〜3 0重量部である。 炭素繊維などの導電性充填剤を使用する場合には、 その配 合割合は、 合成樹脂 1 0 0重量部に対して、 通常 1〜6 0重量部、 好ましくは 2 〜5 0重量部、 より好ましくは 3〜4 0重量部、 特に好ましくは 5〜3 0重量部 である。 導電性充填剤の配合割合が大きすぎると、 硬化物の表面抵抗率が低くな りすぎるとともに、 耐電圧が低くなりすぎる。 6 . その他の無機充填剤
' 本発明では、 前記の炭素前駆体や導電性充填剤以外に、 その他の無機充填剤を 使用する。 その他の無機充填剤は、 硬化物の体積抵抗率や表面抵抗率に実質的に 影響を及ぼさない非導電性の無機充填剤であることが好ましい。 一般に、 封止用 樹脂材料において、 充填剤は、 数量的に最も大きい比率を占めるものであり、 成 形性や硬化物の特性への影響が著しい。 そのため、 無機充填剤としては、 封止用 樹脂材料の技術分野で用いられているものを使用することが好ましい。
無機充填剤としては、 例えば、 結晶性シリカ、 非晶性 (非晶質) シリカ、 球状 シリカ、 溶融シリカ、 ガラス化率が 1 0〜 9 5重量%の部分球状化シリカ、 アル ミナ、 窒化ケィ素、 タルク、 クレー、 ガラス繊維、 ガラスビーズ、 硫酸カルシゥ ム等を挙げることができる。 無機充填剤は、 表面処理や被覆処理がされたもので もよい。 バリ発生の抑制、 耐湿性の向上、 低応力性の向上などには、 シリカが好 ましい。 硬化物の熱伝導率を向上させるには、 球状アルミナや 型窒化ケィ素な どが好ましい。
これらの無機充填剤の中でも、 半導体素子の封止材料用途においては、 結晶性 シリカ、 非晶性シリ力、 球状シリ力、 溶融シリカ、 ガラス化率が 1 0〜 9 5重量 %の部分球状化シリカなどのシリカが好ましい。 シリカの平均粒径は、 0 . 1〜 6 Ο μ πι程度であり、 好ましくは 3 0 x m以下、 より好ましくは 1 0 μ m以下で ある。 これらのシリカは、 それぞれ単独で使用してもよく、 あるいは 2種以上を 組み合わせて使用してもよい。 本発明の封止用エポキシ樹脂組成物において、 その他の無機充填剤の配合割合 は、 合成樹脂 (例えば、 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合 物と硬化剤とを含有するエポキシ樹脂成分) 1 0 0重量部に対して、 1 0 0〜1 5 0 0重量部、 好ましくは 2 0 0 〜1 2 0 0重量部、 より好ましくは 3 0 0〜 1 0 0 0重量部、 特に好ましくは 3 5 0〜 9 0 0重量部である。 無機充填剤の配 合割合が大きすぎると、 封止用樹脂組成物の流動性が悪くなり、 封止成形性が低 下する。 無機充填剤の配合割合が小さすぎると、 耐水性が悪くなり、 その他の特 性も不満足なものとなり易い。 7 . カツプリング剤
本発明においては、 無機充填剤と合成樹脂との界面接着性を向上させるために、 シランカップリング剤、 チタネートカップリング剤、 ァノレミ-ゥムカップリング 剤などの力ップリング剤を使用することができる。
シランカップリング剤は、 分子中に、 アミノ基、 ゥレイド基、 エポキシ基、 ィ ソシァネート基、 メルカプト基などの官能基を 1個以上有するアルコキシシラン またはハロシランなどのシリコーン化合物である。
シランカップリング剤の具体例としては、 γ -ァミノプロビルトリメ トキシシ ラン、 γ -ァミノプロピルトリエトキシシラン、 γ -ァミノプロピルメ トキシシラ ン、 γ -フエ二/レ- ァミノプロビルトリメ トキシシラン、 γ -ウレイドプロピル トリエトキシシラン、 γ—ウレイドプロビルトリメ トキシシラン、 γ—ウレイド プロピルメチルトリメ トキシシラン、 γ—ゥレイドプロピルトリエトキシシラン γ一ウレイドプロピルメチルトリエトキシシラン、 Ί一 ( 2—ゥレイドエチル) ァミノプロピルトリメ トキシシラン、 γ—グリシドキシプロピルトリメ トキシシ ラン、 γ—グリシドキシプロピルジメチルメ トキシシラン、 γ—グリシドキシプ 口ピルトリエトキシシラン、 γ—グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、 β - ( 3, 4一エポキシシクロへキシル) ェチルトリメ トキシシラン、 β— ( 3, 4一エポキシシクロへキシル) ェチルトリエトキシシラン、 γ—^ f ソシァネート プロビルトリメ トキシシラン、 y—イソシァネートプロピルメチルジメ トキシシ ラン、 γ—イソシァネートプロピルトリエトキシシラン、 γ—イソシァネートプ 口ピルメチルジェトキシシラン、 γ—イソシァネートプロピルェチルジメ トキシ シラン、 γ—^ f ソシァネートプロピルェチルジェトキシシラン、 τ /一イソシァネ 一トプロピルトリクロロシラン、 γ—メルカプトプロピルトリメ トキシシラン、 γーメルカプトプロピルトリエトキシシラン、 γ一メルカプトプロピルメチルジ メ トキシシラン、 ツーメルカプトプロピルメチルジェトキシシラン、 ;3—メルカ プトェチルトリメ トキシシラン、 ]3—メ^/カプトェチルトリエトキシシラン、 J3 一メルカプトェチルジメ トキシシラン等が挙げられる。
チタネートカップリング剤としては、 例えば、 イソプロピルトリイソステア口 ィルチタネート、 イソプロピルトリ (N—アミノエチル 'アミノエチル) チタネ ート、 ジイソプロピルビス (ジォクチルホスフェート) チタネート、 テトライソ プロピルビス (ジォクチルホスフアイト) チタネート、 テトラオクチルビス (ジ トリデシルホスファイト) チタネート、 テトラ (2, 2—ジァリルォキシメチル 一 1—ブチル) ビス (ジトリデシル) ホスファイトチタネート、 ビス (ジォクチ ルパイロホスフェート) ォキシアセテートチタネート、 ビス (ジォクチルパイロ ホスフェート) エチレンチタネート等を用いることができる。
これらのカップリング剤は、 その他の無機充填剤 1 0 0重量部に対して、 通常 0 . 0 1〜5重量部、 好ましくは 0 . 0 5〜 3重量部の割合で用いられる。
8 . 熱可塑性樹脂
本発明においては、 封止用エポキシ樹脂組成物などの封止用熱硬化性樹脂組成 物の靭性を向上させるため、 該熱硬化性樹脂組成物中に熱可塑性樹脂を含有させ ることができる。
熱可塑性樹脂は、 特に限定されず、 例えば、 ポリアミド、 ポリアセタール、 ポ リブチレンテレフタレート、 ポリエチレンテレフタレート、 ポリエチレン、 ポリ プロピレン、 ポリイソブチレン、 ポリイソプレン、 ポリブテン、 ポリ一 p—キシ レン、 ポリ塩ィ匕ビュル、 ポリ塩化ビニリデン、 ポリカーボネート、 変性ポリフエ -レンエーテル、 'ポリウレタン、 ポリジメチルシロキサン、 ポリ酢酸ビュル、 ポ リスチレン、 ポリアクリル酸メチル、 ポリメタクリル酸メチル、 A B S樹脂、 ポ リフエ二レンス フイ ド、 ポリエーテノレエーテゾレケトン、 ポリェ一テゾレケトン、 ポリフヱニレンス/レフイ ドケトン、 ポリフエ二レンスゾレフィ ドスルホン、 ポリエ 一テルニトリル、 全芳香族ポリエステル、 フッ素樹脂、 ポリアリレート、 ポリス ルホン、 ポリエーテルスルホン、 ポリエーテルイミ ド、 ポリアミ ドイミ ド、 ポリ イミ ド、 ポリアミノビスマレイド、 ジァリルテレフタレート樹脂、 スチレン一ェ チレン一プチレン一スチレン共重合体、 MB S樹脂、 またはこれらの変性物など が挙げられる。
フッ素樹脂としては、 テトラフルォロエチレン/へキサフルォロプロピレン共 重合体、 テトラフルォロエチレン/パーフルォロアルキルビエルエーテル共重合 体、 ポリクロ口トリフルォロエチレン、 ポリフッ化ビニリデン、 フッ化ビニリデ ンノへキサフルォロプロピレン/テトラフルォロエチレン共重合体、 ポリフッ化 ビュル、 エチレンノテトラフ/レオ口エチレン共重合体、 エチレン/クロロトリフ ルォロエチレン共重合体、 プロピレン/テトラフルォロエチレン共重合体、 テト
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ルォロアルキルパーフルォロビニルエーテル共重合 体、 フッ化ビ二リデン/へキサフルォロプロピレン共重合体、 フッ化ビニリデン Zクロ口トリフルォロエチレン共重合体、 テトラフルォロエチレン/エチレン/ イソブチレン共重合体、 エチレン/へキサフルォロプロピレン共重合体、 テトラ フルォロエチレン/ェチルビニルエーテル共重合体などが挙げられる。
これらの熱可塑性樹脂は、 それぞれ単独で、 あるいは 2種以上を組み合わせて 使用することができる。 熱可塑性樹脂の配合割合は、 熱硬化性樹脂 (例えば、 1 分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物と硬化剤とを含有するェ ポキシ樹脂成分) 1 0 0重量部に対し、 通常 5 0重量部以下、 好ましくは 3 0重 量部以下、 より好ましくは 2 0重量部以下である。
9 . その他の添加剤
本発明の封止用樹脂組成物には、 必要に応じて、 その他の各種添加剤を含有さ せることができる。 その他の添加剤としては、 例えば、 天然ワックスなどの離型 剤;エポキシ基含有 α—ォレフィン共重合体のような衝撃改質剤;エチレンダリ シジルメタクリレートのような樹脂改良剤;炭酸亜鉛、 炭酸二ッケルのような金 型腐食防止剤;ペンタエリスリ トールテトラステアレートのような滑剤;熱硬化 性樹脂;酸化防止剤;紫外線吸収剤;ボロンナイトライドのような核剤;臭素化 合物などの難燃剤;三酸化アンチモンなどの難燃助剤;染料や顔料等の着色剤; フッ素系界面活性剤;シリコーンオイルなどの濡れ向上剤;等を挙げることがで きる。 これらの添加剤は、 必要に応じて適宜適量が用いられる。
1 0. 封止用樹脂組成物
本発明の封止用樹脂,組成物は、 液状の場合は、 各原料をヘンシェルミキサーな どの攪拌混合装置を用い十分に混合することにより製造することができる。 混合 温度は、 通常 2 0〜6 0 °Cの範囲内である。 本発明の封止用樹脂組成物が粉体 (コンパウンド) の場合は、 各成分を高速混合機などにより均一に混合した後、 二本ロールや連続混練装置などで十分に混練することにより調製することができ る。 混練温度は、 通常 3 0〜: L 2 0 °C程度である。
本発明の封止用樹脂組成物は、 充填剤の充填率を高くすることができる。 炭素 前駆体、 導電性充填剤、 及びその他の無機充填剤からなる充填剤の合計割合は、 樹脂組成物の全量基準で、 好ましくは 6 0〜 9 3重量%、 より好ましくは 7 0〜 9 0重量%である。 充填剤の充填率を適度の範囲内で高めることによって、 例え ば、 表面抵抗率、 耐熱性、 機械的強度、 寸法安定性、 耐薬品性などの特性を高度 にバランスさせることができる。
本発明の封止用樹脂組成物を封止成形して得られる封止成形物 (固化物または 硬化物;封止樹脂部) の表面抵抗率は、 好ましくは 1 0 5〜1 0 1 3 Ω/口、 より 好ましくは 1 0 6〜1 0 1 2 ΩΖ口である。 一般に、 試料の表面抵抗率は、 単位表 面積当りの抵抗を表わし、 その単位は、 Ωであるが、 単なる抵抗と区別するため に、 ΩΖ口または Ω/ s q . (オーム'パー 'スクェア) で表わす。 表面抵抗率は、 実施例に記載の方法により測定した値である。 本発明の封止用樹脂組成物の固化 物または硬化物は、 場所による表面抵抗率のバラツキが小さなものである。
本発明の封止用樹脂組成物は、 電子部品や電気部品などの樹脂封止に使用する ことができる。 本発明の封止用樹脂組成物は、 半導体素子の樹脂封止に使用する ことが特に好ましい。 本発明の封止用樹脂組成物を用いて半導体素子とその周辺 の電極配線などを樹脂封止するには、 トランスファモールド法、 ディ ビング法、 ポッティング法、 粉体流動浸漬法、 クリップチップ実装用のアンダーフィル法、 コンプレツションモールド法、 インジェクションモールド法などの公知の成形法 により硬化成形することができる。 本発明の封止用榭脂組成物を用いて、 半導体 素子とその周辺の電極配線などを樹脂封止すると、 樹脂封止された半導体装置を 得ることができる。
本発明の封止用樹脂組成物は、 充填剤の充填率が大きく、 常温で固体状の場合 には、 トランスファモールド法やインジェクションモールド法により、 樹脂封止 された半導体装置を製造することが好ましい。 封止用樹脂組成物を用いてトラン スファモールド法により樹脂封止を行うには、 例えば、 封止用エポキシ樹脂組成 物をエポキシタブレット (Bステージ状固形体) に成形し、 該エポキシタブレツ トを高温に加熱した金型內に揷入、 加圧して、 予め金型内に装填した半導体チッ プゃモジュールを封止する。 硬化条件としては、 1 5 0〜 1 8 5 °C、 好ましくは 1 6 0〜1 8 0 °Cで 3 0〜1 8 0秒硬化させ、 次いで、 1 5 0〜1 8 5 °C、 好ま しくは 1 6 0〜1 8 0 °Cで 2〜1 6時間ポストキュア (後硬化) を行う。
本発明の封止用樹脂組成物が液状である場合には、 例えば、 半導体素子の電極 と配線供与部材の配線とをポンディングワイヤーゃ金パンプによつて電気的に接 続した後、 封止用樹脂組成物を塗布したり、 印刷したり、 隙間へ流動させたりす ることによって、 少なくとも半導体素子と配線供与部材の配線部分を被覆し、 こ れを固化または硬化させる方法を採用することができる。 また、 金属バンプによ つて半導体素子と配線供与部材とを電気的に接続する際に、 本発明の封止用樹脂 組成物を、 リブロー同時硬化封止材料またはノーフロ一封止材料として用いる方 法がある。 さらに、 金属バンプによって半導体素子と配線供与部材 (回路基板) とを電気的に接続する際に、 いずれか一方に封止用樹脂組成物を塗布し、 半導体 素子と配線供与部材とを圧接させる方法がある。
本発明の封止用樹脂組成物を用いると、 半導体素子や配線供与部材における電 極や回路等の配線を形成する金属表面に対する密着性を高くすることができると 共に、 耐湿性を向上させることができる。 本発明の封止用樹脂組成物を用いて製 造された半導体装置は、 耐湿性ゃ耐ヒートサイクル性等の信頼性が高く、 しかも 耐屈曲性ゃ耐衝撃性、 耐振動性等にも優れている。 そのため、 本発明の樹脂封止 された半導体装置をカード形態の電子機器や携帯情報機器等に用いても、 極めて 高い信頼性を得ることができる。 実施例
以下に実施例及び比較例を挙げて、 本発明についてより具体的に説明するが、 本発明は、 これらの実施例のみに限定されるものではない。 物性の測定方法は、 以下に示すとおりである。
(1) 表面抵抗率の測定:
表面抵抗率は、 三菱化学社製ハイレスター UP (UR— SSプローブ) を用い て、 印加電圧 100 Vで測定した。
表面抵抗率の測定には、 測定用試料として、 樹脂組成物をトランスファ成形機 により射出成形して得られた板状成形体 (3 OmmX 3 OmmX 1 mm厚) を 使用した。 表面抵抗率の測定は、 板状成形体の 5点について行った。 表面抵抗率 は、 その平均値で示した。
(2) スタティックディケイ時間測定
測定用試料をチャージドブレートモユタ上に置き、 1000 Vまでチャージァ ップした後、 該試料を通じて電荷をデイスチャージし、 試料の電位が 50 Vにな るまでの時間 (秒) を測定した。 このスタティックディケイ時間が短いほど、 静 電気の蓄積傾向が弱いことを示す。 製造例 1
炭素前駆体 (BJ の製造例
軟ィ匕点 210 °C、 キノリン不溶分 1重量0 /0、 HZC原子比 0. 63の石油系ピ ツチ 68 k gとナフタレン 32 k gとを、 攪拌翼のついた内容積 300リツトル の耐圧容器に仕込み、 190°Cに加熱し溶解混合した後、 80〜90°Cに冷却し て押出し、 直径が約 500 μ mの紐状成形体を得た。 次いで、 この紐状成形体を 直径と長さの比が約 1. 5になるように粉砕し、 得られた粉砕物を 93 °Cに加熱 した 0. 53%のポリビュルアルコール (ケン化度 88%) 水溶液中に投下し、 撹拌分散し、 冷却して球状ピッチ成形体を得た。 さらに、 濾過により水分を除去し、 球状ピッチ成形体の約 6倍量の n—へキサ ンでピッチ成形体中のナフタレンを抽出除去した。 このようにして得られた球状 ピッチ成形体を、 加熱空気を通じながら、 2 6 0 °Cで 1時間保持して酸化処理を 行い、 酸化ピッチを得た。 この酸ィ匕ピッチを窒素気流中 5 8 0 °Cで 1時間熱処理 した後、 粉枠し、 平均粒子径が約 1 0 πιの炭素前駆体粒子とした。 この炭素前 駆体粒子の炭素含有量は 9 1 . 0重量%であつた。
この炭素前駆体の体積抵抗率を調べるために、 酸化ピッチを粉砕し、 さらに、 目開き約 5 0 /z mのメッシュでふるい、 5 0 μ πι以上の粒子を除去した。 この粉 砕酸化ピッチ粉末 1 3 gを、 断面積 8 0 c m 2の円筒金型に充填し圧力 1 9 6 M P aで成形し成形体を得た。 この成形体を窒素気流中で上述の炭素前駆体粒子の 製造方法における熱処理温度と同一温度である 5 8 0 °Cで 1時間熱処理して、 炭 素前駆体の体積抵抗率測定用試料 (成形体) を得た。 この試料について、 J I S K 7 1 9 4に従って体積抵抗率を測定した。 その結果、 炭素前駆体の体積抵抗率 は、 3 X 1 0 7 Ω · c mであった。 製造例 2
炭素前駆体 (B 2) の製造:
軟化点 2 1 0 °C、 キノリン不溶分 1重量%、 H/C原子比 0 . 6 3の石油系ピ ツチ 6 8 k gとナフタレン 3 2 k gとを、 攪拌翼のついた内容積 3 0 0リツトル の耐圧容器に仕込み、 1 9 0 °Cに加熱し溶解混合した後、 8 0〜 9 0 °Cに冷却し て押出し、 直径が約 5 0 0 mの紐状成形体を得た。 次いで、 この紐状成形体を 直径と長さの比が約 1 . 5になるように粉枠し、 得られた粉砕物を 9 3 °Cに加熱 した 0 . 5 3 %のポリビュルアルコール (ケン化度 8 8 %) 水溶液中に投下し、 撹拌分散し、 冷却して球状ピッチ成形体を得た。
さらに、 濾過により水分を除去し、 球状ピッチ成形体の約 6倍量の n _へキサ ンでピッチ成形体中のナフタレンを抽出除去した。 このようにして得られた球状 ピッチ成形体を、 加熱空気を通じながら、 2 6 0 °Cで 1時間保持して酸化処理を 行い、 酸化ピッチを得た。 この酸化ピッチを窒素気流中 5 5 0 °Cで 1時間熱処理 した後、 粉砕し、 平均粒子径が約 1 0 μ πιの炭素前駆体粒子とした。 この炭素前 駆体粒子の炭素含有量は 91. 0重量%であった。
この炭素前駆体の体積抵抗率を調べるために、 酸化ピッチを粉砕し、 さらに、 目開き約 50 μπιのメッシュでふるい、 50 Aim以上の粒子を除去した。 この粉 砕酸化ピッチ粉末 13 gを、 断面積 80 cm2の円筒金型に充填し圧力 196M P aで成形し成形体を得た。 この成形体を窒素気流中で上述の炭素前駆体粒子の 製造方法における熱処理温度と同一温度である 580°Cで 1時間熱処理して、 炭 素前駆体の体積抵抗率測定用試料'(成形体) を得た。 この試料について、 J I S K7194に従って体積抵抗率を測定した。 その結果、 炭素前駆体の体積抵抗率 は、 8 X 108Ω · cmであった。 実施例 1
エポキシ樹脂 (A ) 〔ビフエニル型エポキシ樹脂;油化シェル社製、 商品名 「ェピコート YX4000HK:」〕 47重量部、 エポキシ樹脂 (A2) 〔臭素化ク レゾールノポラック型エポキシ樹脂; 日本化薬社製、 商品名 「: BREN— 10 5」〕 5重量部、 及ぴ硬化剤 〔フエノールノポラック樹脂;明和化成社製、 商品 名 「DL—92」〕 48重量部を含むエポキシ樹脂成分 100重量部に対して、 シランカップリング剤 (東レダウコーユング社製、 商品名 「SZ— 6083」) 0. 8重量部、 三酸化アンチモン 5重量部、 カルナゥバワックス (離型剤) 2重 量部、 トリフエニルホスフィン (硬化促進剤) 1重量部、 製造例 1で得た炭素前 駆体 (B 1) 70重量部、 及び球状非晶質シリカ (三菱レーヨン社製、 商品名 「QS— 4」) 700重量部を、 二軸押出機に供給し、 シリンダー温度 170°C で連続的に押し出し、 ペレッ ト化した。
このようにして得られたエポキシ樹脂組成物のペレツトを、 トランスファ成形 機を用いて、 縦 3 OmmX横 30 mm X厚み 1 mmの金型内に射出し、 175 °Cで 150秒間熱硬化させた。 次いで、 得られた板状成形体を金型から取り出し、 180°Cで 5時間ポストキュア一を行った。 このようにして、 測定用試料を作製 した。 結果を表 1に示す。 実施例 2〜 5
各成分及び配合割合を表 1に示す通りに変えたこと以外は、 実施例 1と同様に して測定用試料を作製した。 結果を表 1に示す。 比較例 1〜 4
各成分及び配合割合を表 1に示す通りに変えたこと以外は、 実施例 1と同様に して測定用試料を作製した。 結果を表 1に示す。 '
表 1
実施例 比較例
1 2 3 4 5 1 2 3 4 エポキシ樹脂 A丄 47 47 47 47 47 47 47 47 47 エポキシ
エポキシ樹脂 A2 5 5 5 5 5 5 5 5 5 樹脂成分
硬化剤 48 48 48 48 48 48 48 48 48 シランカツプリング剤 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 0.8 三酸化アンチモン 5 5 5 5 5 5 5 5 5 添加剤
カルナゥバヮックス 2 2 2 2 2 2 2 2 2 トリフエュルホスフィン 1 1 1 1 1 1 1 1 1 炭素前駆体 B 1 70 385 0 5 0 0 0 0 0 炭素前駆体 B 2 0 0 70 385 20 0 0 0 0 充填剤 炭素繊維 0 0 0 0 20 0 0 - - 導電' 1·生カーポンプラック 0 0 0 0 0 0 2 10 70 球状非晶質シリカ 700 385 700 385 730 770 768 760 700 合計量 878.8 878.8 878.8 883.8 878.8 878.8 878.8 878.8 878.8 充填剤 (%) 87.6 87.6 87.6 87.7 87.6 87.6 87.6 87.6 87.6 表面抵抗率 (Ω/s q.) 6E+11 8E+09 8E+11 5E+10 1E+11 >E13 >E13 >E13 <E5 スタティックディケイ時間 (S ) 1 く 0.1 2 0.4 0.8 >20 >20 〉20 く 0.1
(脚注)
(1) エポキシ樹脂 : ビブヱ-ル型エポキシ樹脂;油化シェル社製、 商 品名 「ェピコート YX4000HK:」、
(2) エポキシ樹脂 (A2) :臭素化クレゾールノポラック型エポキシ樹脂; 日 本化薬社製、 商品名 「BREN—105」、
(3) 硬化剤:フヱノールノポラック樹脂;明和化成社製、 商品名 「DL_9 2」、
(4) シランカップリング剤:東レダウコ一二ング社製、 商品名 「SZ— 608 3」、
(5) 炭素前駆体 (B 1) :体積抵抗率 3 X 107Ω · cm, 炭素含有量 91. 0重量%、
(6) 炭素前駆体 (B 2) :体積抵抗率 8 X 108Ω · cm、 炭素含有量 91. 0重量%、
(7) 球状非晶質シリカ :三菱レーヨン社製、 商品名 「QS— 4」、
(8) 炭素繊維:東レ社製、 商品名 「トレ力 MLD30」、 体積抵抗率 102 Ω · c m未満、 平均直径 7 μ m、 平均繊維長 30 /x m、
(9) 導電性カーボンブラック :三菱化学社製、 商品名 「MA— 100」、 体積 抵抗率 102 Ω · c m未満。
(10) 表面抵抗率の表記は、 例えば、 「6E+11」 の場合、 6 X 1011を意 味する。 他も同様である。 表 1の結果から明らかなように、 エポキシ樹脂成分に炭素前駆体を配合するこ とにより(実施例 1〜 5 )、 封止成形物 (硬化物) の表面抵抗率を E S D障害に対 応することができる半導電性領域の 105〜1013 Ω /口内に制御することがで き、 しかもスタティックディケイ時間を極めて短時間とすることができる。
実施例 1と 2との対比、 及ぴ実施例 3と 4との対比から明らかなように、 炭素 前駆体の配合割合を変化させることにより、 硬化物の表面抵抗率を半導電性領域 内で所望の値に制御することができる。 実施例 5の結果からは、 炭素前駆体と炭 素繊維とを併用することにより、 これらの合計の配合割合を小さくしても、 硬化 物の表面抵抗率を半導電性領域内で所望の値に制御できることが分かる。
これに対して、 炭素前駆体及び導電性充填剤を配合しない場合 (比較例 1 ) に は、 硬化物は、 絶縁状態であり、 かつ静電気を蓄積し易いものである。
導電性カーボンブラックを単独で配合した場合には、 その配合割合が小さいと (比較例 2〜 3 )、 硬化物は、 絶縁状態であり、 かつ静電気を蓄積し易いものであ る。 導電性カーボンブラックの配合割合を少し高めると(比較例 4 )、 硬化物の表 面抵抗率が急激に低下し、 半導電性領域外となる。 産業上の利用可能性
本発明によれば、 機械的特性、 耐熱性、 耐薬品性、 寸法安定性などの特性に優 れることに加えて、 電気絶縁性を確保しつつ、 封止成形物の表面抵抗率を半導電 性領域に厳密に制御することができる封止用樹脂組成物が提供される。 本発明の 封止用樹脂組成物によって封止された電子デバイスなどの半導体装置は、 湿気や 光などの外部環境のみならず、 E S D障害からも十分に保護されたものである。 したがって、 本発明の封止用樹脂組成物は、 電子部品や電気部品の封止用樹脂 材料として使用することができ、 特に半導体素子の樹脂封止に好適に適用するこ とができる。 本発明の封止用樹脂組成物によつて封止された電子デパイスなどの 半導体装置は、 半導体の技術分野において利用することができる。

Claims

請求の範囲
1 . 合成樹脂 (A) 1 0 0重量部、 体積抵抗率が 1 0 2〜: L 0 1 ° Ω · c mの炭素 前駆体 (B ) 1 0〜 5 0 0重量部、 体積抵抗率が 1 0 2 Ω · c m未満の導電性充 填剤 (C) 0〜6 0重量部、 及びその他の無機充填剤 (D) 1 0 0〜 1 5 0 0重 量部を含有する封止用樹脂組成物。
2. 該合成樹脂 (A) 、 熱硬化性樹脂である請求項 1記載の封止用樹脂組成 物。
3 . 該熱硬化性樹脂が、 エポキシ樹脂、 フエノール樹脂、 メラミン樹脂または ユリア樹脂である
4. 該エポキシ樹脂が、 1分子中に 2個以上のエポキシ基を有するエポキシィ匕 合物と硬化剤とを含有するエポキシ樹脂成分である請求項 3記載の封止用樹脂糸且 成物。
5 . 該エポキシ化合物が、 ビスフエノール型エポキシ樹脂、 ノポラック型ェポ キシ樹脂、 トリフヱノールアルカン型エポキシ樹脂、 ビブェニル骨格型エポキシ 樹脂、 フエノールァラルキル型エポキシ樹脂、 複素環型エポキシ樹脂、 ナフタレ ン骨格型エポキシ樹脂、 スチルベン型エポキシ樹脂、 ジシクロペンタジェン型ェ ポキシ樹脂、 及び臭素化エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種の ェポキシ化合物である請求項 4記載の封止用樹脂組成物。
6 . 該エポキシ化合物が、 ビフエニル骨格型エポキシ樹脂、 ジシクロペンタジ ェン型エポキシ樹脂、 クレゾールノポラック型エポキシ樹脂、 ナフタレン骨格型 エポキシ樹脂、 トリフエノールプロパン型エポキシ樹脂、 及ぴ臭素化エポキシ樹 脂からなる群より選ばれる少なくとも一種のエポキシ化合物である請求項 5記載 の封止用樹脂組成物。
7 . 該エポキシ化合物が、 ハロゲン原子を含有しないエポキシ化合物と臭素化 エポキシ化合物との混合物であって、 エポキシ化合物の全量基準で、 臭素化工ポ キシ樹脂を 3〜 3 0重量%の割合で含有する混合物である請求項 5記載の封止用 樹脂組成物。
8 . 該硬化剤が、 1分子中にフエノール性の水酸基を 2個以上含有するフエノ ール化合物である請求項 4記載の封止用樹脂組成物。 9 . 該フエノーノレ化合物が、 ノポラック型フエノール樹脂、 ナフタレン環含有 フエノール樹脂、 フエノールァラルキル型フエノール樹脂、 ビフエ二ル型フエノ ール樹脂、 ビフエニルァラルキル型フエノール樹脂、 トリフエノ一ルアルカン型 フエノール樹脂、 脂環式フエノール樹脂、 複素環型フエノール樹脂、 及ぴビスフ ヱノール型フエノール樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種のフエノール 化合物である請求項 8記載の封止用樹脂組成物。
1 0 . 該エポキシ樹脂成分が、 該エポキシ化合物のエポキシ基に対して、 硬化 剤を 0 . 5〜1 . 6当量の割合で含有するものである請求項 4記載の封止用樹脂 組成物。
1 1 . 該エポキシ樹脂成分が、 硬化促進剤を、 該エポキシ化合物 1 0 0重量部 に対して、 0 . 2〜 2 0重量部の割合でさらに含有する請求項 4記載の封止用樹 脂組成物。 1 2 . 該炭素前駆体 (B ) の炭素含有量が 8 0〜9 7質量%である請求項 1記 載の封止用樹脂組成物。
1 3 . 該導電性充填剤 (C ) 力 ポリアクリロニトリル系炭素繊維である請求 項 1記載の封止用樹脂組成物。
1 4 . その他の無機充填剤 (D) が、 結晶性シリカ、 非晶性シリカ、 球状シリ 力、 溶融シリカ、 ガラス化率が 1 0〜 9 5重量%の部分球状化シリカ、 アルミナ、 窒化ケィ素、 タルク、 クレー、 ガラス繊維、 ガラスビーズ、 及ぴ硫酸カルシウム からなる群より選ばれる少なくとも一種の無機充填剤である請求項 1記載の封止 用樹脂組成物。
1 5 . その他の無機充填剤 (D) 力 結晶性シリカ、 非晶性シリカ、 球状シリ 力、 溶融シリ力、 及びガラス化率が 1 0〜 9 5重量%の部分球状化シリカからな る群より選ばれる少なくとも一種のシリカである請求項 1 4記載の封止用樹脂組 成物。
1 6 . カツプリング剤を、 その他の無機充填剤 (D) 1 0 0重量部に対して、 0 . 0 1〜 5重量部の割合でさらに含有する請求項 1記載の封止用樹脂組成物。
'
1 7 . 該カツプリング剤が、 シランカップリング剤、 チタネートカップリング 剤、 及ぴアルミニウムカップリング剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の カツプリング剤である請求項 1 6記載の封止用樹脂組成物。 1 8 . 封止成形物の表面抵抗率が 1 0 5〜1 0 1 3·Ω /口である請求項 1記載の 封止用樹脂組成物。
1 9. 封止成形物の電位が 1 0 0 0 Vから 5 0 Vに低下するまでのスタテイク ディケィ時間が 1 0秒以下である請求項 1記載の封止用樹脂組成物。
2 0 . 半導体素子が請求項 1乃至 1 9のいずれか 1項に記載の封止用樹脂組成 物により樹脂封止された半導体装置。
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