WO2005098359A1 - 角速度計測装置 - Google Patents

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WO2005098359A1
WO2005098359A1 PCT/JP2005/006756 JP2005006756W WO2005098359A1 WO 2005098359 A1 WO2005098359 A1 WO 2005098359A1 JP 2005006756 W JP2005006756 W JP 2005006756W WO 2005098359 A1 WO2005098359 A1 WO 2005098359A1
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WO
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substrate
electrode
detection
electrodes
angular velocity
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PCT/JP2005/006756
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshitaka Kato
Original Assignee
Murata Manufacturing Co., Ltd.
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Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co., Ltd. filed Critical Murata Manufacturing Co., Ltd.
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Priority to JP2006512097A priority patent/JP4386073B2/ja
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Priority to EP05728785A priority patent/EP1734338B1/en
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5719Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
    • G01C19/5769Manufacturing; Mounting; Housings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C19/00Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
    • G01C19/56Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
    • G01C19/5719Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
    • G01C19/5733Structural details or topology
    • G01C19/574Structural details or topology the devices having two sensing masses in anti-phase motion

Definitions

  • the present invention relates to an angular velocity measuring device preferably used for detecting an angular velocity, for example.
  • the angular velocity detecting element includes a vibrating body provided so as to be able to vibrate in the first and second axial directions among the three orthogonal axes, and a drive for vibrating the vibrating body in the first axial direction by a drive signal.
  • Means for detecting a displacement of the vibrating body in the second axial direction when an angular velocity is applied around a third axis while the vibrating body vibrates in the first axial direction and outputs a detection signal.
  • a displacement detecting means is provided so as to be able to vibrate in the first and second axial directions among the three orthogonal axes.
  • the substrate is provided with a driving wiring and a detection wiring connected to the driving means and the displacement detecting means of the angular velocity detecting element, respectively, and the connection between the angular velocity detecting element and the signal processing element is provided through these wirings.
  • Patent Document 1 JP-A-10-300475
  • a driving unit moves a vibrating body to a first position based on the driving signal. Vibrates in the axial direction of.
  • Corioliska acts on the vibrating body in the second axial direction.
  • the vibrating body is displaced in the second axial direction according to the angular velocity, so that the displacement detecting means detects the amount of displacement of the vibrating body in the second axial direction as a change in capacitance or the like, Outputs a detection signal corresponding to the angular velocity.
  • the signal processing element receives the detection signal of the displacement detecting means through the detection wiring, and performs various arithmetic processing on the detection signal to calculate the angular velocity.
  • the detection wire is a high impedance ⁇ ⁇ (X 10 6 ⁇ ) order
  • the cross through the coupling capacitance between the detection wire and the drive wiring Talk may occur and the drive signal may be mixed into the detection signal.
  • both the drive wiring and the detection wiring according to the conventional technology are provided on the surface of the substrate, a sufficient shield cannot be provided around the high impedance detection wiring. It was not possible to reduce the coupling capacitance between the drive wiring and the detection wiring.
  • two drive wirings and two detection wirings are provided according to two drive signals and detection signals having different signs, respectively, and each of these two drive wirings and the detection wirings is provided. The coupling capacitance balance was adjusted between and to offset crosstalk.
  • the driving wiring is formed symmetrically with respect to the two detection wirings.
  • the routing force S of the wiring is restricted, the mounting area including the wiring and the like becomes large, and the degree of freedom of arrangement of the angular velocity detecting element, the signal processing element, and the like is reduced.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems of the related art, and an object of the present invention is to efficiently shield a high-impedance detection wiring, remove wiring restrictions and eliminate restrictions on element arrangement, An object of the present invention is to provide an angular velocity measuring device capable of reducing a mounting area.
  • the present invention provides a substrate and a substrate provided on the substrate and provided so as to be capable of vibrating in the first and second axial directions among three orthogonal axes.
  • the angular velocity detecting element comprises a displacement detecting means for detecting the displacement of the vibrating body in the second axial direction and outputting a detection signal, and a driving means for the angular velocity detecting element provided on the substrate.
  • the connected drive wiring, the detection wiring provided on the substrate and connected to the displacement detecting means of the angular velocity detecting element, and the detection wiring provided on the substrate and connected to the drive wiring and the detection wiring The present invention is applied to an angular velocity measuring device including a signal processing unit.
  • the feature of the configuration adopted by the present invention is that the substrate is configured by using a multilayer substrate composed of a plurality of insulating layers, and inside the multilayer substrate, between the two insulating layers.
  • a wiring for detection is provided, and the multilayer substrate is provided with a low-impedance low-impedance wiring opposed to the wiring for detection at a position different from the wiring for detection in the thickness direction thereof;
  • the detecting element includes an element-side driving electrode connected to the driving means and located on the mounting surface side of the multilayer substrate, an element-side detecting electrode connected to the displacement detecting means, An element-side driving electrode and an element-side low-impedance electrode that is positioned between the element-side detection electrode and the element-side drive electrode and the element-side detection electrode.
  • the element side connected to the drive wiring A substrate-side drive electrode facing the drive electrode, a substrate-side detection electrode connected to the detection wiring and facing the element-side detection electrode, and between the substrate-side drive electrode and the substrate-side detection electrode And a substrate-side low-impedance electrode that cuts off the coupling between the substrate-side drive electrode and the substrate-side detection electrode, and mounts the angular velocity detection element on the surface of the multilayer substrate using a metal bump. Connecting the element-side drive electrode and the substrate-side drive electrode using the metal bump, and connecting the element-side detection electrode and the substrate-side electrode.
  • the detection electrode is connected using the metal bump, the element-side low impedance electrode and the substrate-side low impedance electrode are connected to a low impedance reference potential, and the element-side low impedance electrode and the substrate-side low impedance electrode are connected to each other. Are at least partially opposed to each other.
  • the detection wiring is provided inside the multilayer substrate, and the multilayer substrate has a low impedance facing the detection wiring at a position different from the detection wiring in the thickness direction. Since the wiring is provided, the high-impedance detection wiring can be shielded by using the low-impedance wiring. Therefore, it is possible to prevent the drive signal from being mixed into the detection signal between the drive wiring and the detection wiring, to prevent a shift in the output at rest, and to improve the offset temperature drift characteristic.
  • the wiring for the driving wiring, the detection wiring, and the like is compared with the case of using a single-layer substrate as in the related art. Can be eliminated, and the degree of freedom of arrangement of elements and the like can be increased. As a result, the mounting area including the wiring and the like can be reduced, and the entire device can be downsized.
  • wiring can be freely routed by using a multi-layer substrate
  • electrodes for connecting to the angular velocity detecting element can be arranged at a high density on the surface of the multi-layer substrate, and for example, a driving
  • the wiring and the detection wiring can be arranged symmetrically.
  • the angular velocity detecting element can be flip-chip mounted on the multilayer substrate, and the productivity and the detection sensitivity can be improved as compared with the case of wire bonding mounting.
  • the element-side low-impedance electrode is provided on the mounting surface of the angular velocity detecting element between the element-side driving electrode and the element-side detection electrode, the element-side driving is performed by the element-side low-impedance electrode. It is possible to cut off the coupling between the electrode for detection and the electrode for detection on the element side.
  • the angular velocity detecting element is flip-chip mounted on the multi-layer substrate using metal bumps, the element-side driving electrode and the substrate-side driving electrode are connected to face each other, and the element-side detecting electrode is connected.
  • the substrate-side detection electrodes are also connected to each other while facing each other.
  • the element-side low-impedance electrode is located between the substrate-side drive electrode and the substrate-side detection electrode.
  • the coupling between the side drive electrode and the substrate side detection electrode can also be cut off.
  • crosstalk can be prevented from occurring between these electrodes, and the offset temperature drift characteristics and the like can be improved.
  • the substrate-side low-impedance electrode is provided on the surface of the multilayer substrate between the substrate-side drive electrode and the substrate-side detection electrode, the substrate-side drive impedance is provided by the substrate-side low-impedance electrode. It is possible to cut off the connection between the electrode for detection and the electrode for detection on the substrate side.
  • the angular velocity detecting element is flip-chip mounted on the multilayer substrate using metal bumps, the element-side driving electrodes and the substrate-side driving electrodes are connected to face each other, and the element-side detecting electrodes are connected to each other.
  • the electrodes and the substrate-side detection electrodes are also connected so as to face each other.
  • the substrate-side low impedance electrode is disposed between the element-side drive electrode and the element-side detection electrode. Binding can also be blocked. As a result, occurrence of crosstalk between these electrodes can be prevented, and offset temperature drift characteristics and the like can be improved.
  • the angular velocity detecting element when the angular velocity detecting element is flip-chip mounted on the multilayer substrate using metal bumps, at least a part of the element-side low impedance electrode and the substrate-side low impedance electrode face each other. did.
  • the opposing portion where the element-side low impedance electrode and the substrate-side low impedance electrode face each other is located between the substrate-side drive electrode and the substrate-side detection electrode, and in addition to the element-side drive electrode. It is also located between the element side and the detection electrode.
  • the coupling between the substrate-side drive electrode and the element-side detection electrode can be cut off by using the opposing portions of the two low-impedance electrodes, and the connection between the element-side drive electrode and the substrate-side detection electrode can be prevented. Can also be blocked. As a result, crosstalk can be prevented from occurring between the electrode on the substrate side and the electrode on the element side, and the offset temperature drift characteristics and the like can be improved.
  • the substrate is formed by using a multilayer substrate including a plurality of insulating layers, and two insulating layers are provided inside the multilayer substrate.
  • the detection wiring is disposed between the wirings, and the multilayer substrate has a low-impedance wiring having an impedance facing the detection wiring at a position different from the detection wiring in the thickness direction.
  • An element-side drive electrode connected to the driving means and located on the mounting surface side of the multilayer substrate, and an element-side detection electrode connected to the displacement detection means.
  • an element-side low-impedance electrode surrounding the element-side drive electrode or the element-side detection electrode and blocking the coupling between the element-side drive electrode and the element-side detection electrode, and provided on the surface of the multilayer substrate.
  • a substrate-side drive electrode connected to the drive wiring and facing the element-side drive electrode; a substrate-side detection electrode connected to the detection wire and facing the element-side detection electrode; A substrate-side driving electrode or a substrate-side low-impedance electrode which surrounds the substrate-side driving electrode or the substrate-side detection electrode and interrupts the coupling between the substrate-side driving electrode and the substrate-side detection electrode; Board The device-side drive electrode and the substrate-side drive electrode are connected using the metal bump, and the element-side detection electrode and the substrate-side detection electrode are connected to the metal bump.
  • a multilayer substrate is used as a substrate on which the angular velocity detecting element and the like are mounted, the degree of freedom of arrangement of the elements and the like can be increased. As a result, the mounting area including the wiring and the like can be reduced, and the entire device can be downsized.
  • An element-side drive electrode or an element-side detection electrode is provided on the mounting surface of the angular velocity detection element. Since the element side low impedance electrode surrounding the element is provided, the coupling between the element side drive electrode and the element side detection electrode can be cut off by the element side low impedance electrode. On the other hand, since the substrate side driving electrode or the substrate side low impedance electrode surrounding the substrate side detection electrode is provided on the surface of the multilayer substrate, the substrate side driving electrode and the substrate side detection electrode are provided by the substrate side low impedance electrode. The coupling with the electrode can be interrupted.
  • the angular velocity detecting element when the angular velocity detecting element is flip-chip mounted on the multilayer substrate using metal bumps, at least a part of the element-side low-impedance electrode and the substrate-side low-impedance electrode are used for driving the element-side drive.
  • the electrode and the element-side detection electrode are configured to face each other.
  • the opposing portions where the element-side low-impedance electrode and the substrate-side low-impedance electrode face each other are located between the element-side drive electrode and the element-side detection electrode, and in addition to the substrate-side drive electrode. It is located between the substrate side detection electrodes.
  • the coupling between the substrate-side drive electrode and the element-side detection electrode can be cut off by using the opposing portions of the two low-impedance electrodes, and the connection between the element-side drive electrode and the substrate-side detection electrode can be prevented. Can also be blocked. As a result, crosstalk can be prevented from occurring between the electrode on the substrate side and the electrode on the element side, and the offset temperature drift characteristics and the like can be improved.
  • the opposing portions where the element-side low impedance electrode and the substrate-side low impedance electrode face each other include the element-side detection electrode and the substrate-side detection electrode. It may be configured to surround.
  • the opposing portions of the two low-impedance electrodes surround the detection electrodes on both the element side and the substrate side, so the coupling between these detection electrodes, the element-side drive electrodes, and the substrate-side drive electrodes Can be reliably shut off. As a result, it is possible to prevent crosstalk from occurring between the drive electrode and the detection electrode, and to improve the offset temperature drift characteristics and the like.
  • FIG. 1 is a perspective view showing an angular velocity measuring device according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a block diagram showing an angular velocity detecting element in FIG. 1.
  • FIG. 3 is an enlarged view showing the angular velocity detecting element and the multilayer substrate in FIG. 1 in an exploded state. It is an exploded perspective view.
  • FIG. 4 is a bottom view showing the angular velocity detecting element in FIG.
  • FIG. 5 is a plan view showing the multilayer substrate in FIG. 3 without a resist film.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram showing a portion where a ground electrode of the angular velocity detecting element and a ground electrode of the multilayer substrate oppose each other according to the first embodiment.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the angular velocity measuring device as viewed in a direction indicated by arrows VII-VII in FIG. 1.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the angular velocity measuring device as viewed in the direction of arrows VIII-VIII in FIG.
  • FIG. 9 is an exploded perspective view showing the multilayer substrate in FIG. 1 in an exploded manner.
  • FIG. 10 is a front view showing an angular velocity measuring device according to a second embodiment.
  • FIG. 11 is an exploded perspective view showing an angular velocity detecting element and a multilayer substrate according to a third embodiment in an exploded state in an enlarged manner.
  • FIG. 12 is a bottom view showing the angular velocity detecting element in FIG.
  • FIG. 13 is a plan view showing the multilayer substrate in FIG. 11 with a resist film omitted.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram showing a portion where a ground electrode of an angular velocity detecting element and a ground electrode of a multilayer substrate face each other according to a third embodiment.
  • FIG. 15 is an exploded perspective view showing an exploded multilayer substrate according to a third embodiment.
  • FIG. 16 is a bottom view showing an angular velocity detecting element according to a first modification.
  • FIG. 17 is an explanatory view showing a portion where a ground electrode of an angular velocity detecting element and a round electrode of a multilayer substrate face each other according to a first modified example.
  • FIG. 18 is a bottom view showing an angular velocity detecting element according to a fourth embodiment.
  • FIG. 19 is a plan view showing a multilayer substrate according to a fourth embodiment with a resist film omitted.
  • FIG. 20 is an explanatory diagram showing a portion where a ground electrode of an angular velocity detecting element and a ground electrode of a multilayer substrate face each other according to a fourth embodiment.
  • FIG. 1 to FIG. 9 show the first embodiment.
  • reference numeral 1 denotes an angular velocity detecting element which also has a vibrating gyro element mounted on a multilayer substrate 21 described later.
  • the angular velocity detecting element 1 includes a vibrating body 3 displaceable in first and second axial directions (X-axis direction and Y-axis direction) parallel to the element substrate 2 among three orthogonal axes.
  • 4 and driving units 5A, 5B, 6A, 6B as driving means for vibrating the vibrating bodies 3, 4 in the X-axis direction, and detecting that the vibrating bodies 3, 4 are displaced in the Y-axis direction.
  • Detecting sections 7A, 7B, 8A, 8B as displacement detecting means for detecting the displacement.
  • the element substrate 2 is formed using, for example, a glass substrate or the like.
  • the vibrators 3 and 4, the driving units 5A, 5B, 6A and 6B, and the detecting units 7A, 7B, 8A and 8B perform fine processing such as etching on a silicon substrate that is anodically bonded onto the element substrate 2, for example. It is formed by applying.
  • the vibrators 3 and 4 are supported by beams (not shown) or the like so as to be displaceable in the X-axis direction and the Y-axis direction, and the driving units 5A, 5B, 6A, 6B, the detection units 7A, 7B, 8A, 8B Is composed of, for example, comb-shaped electrodes.
  • a ground electrode 15 is provided.
  • the drive units 5A, 5B, 6A, and 6B are connected to the element-side drive electrodes 9, 10, 11, and 12 using through holes and the like, and the detection units 7A and 8B are used for the element-side detection.
  • the detection units 7B and 8A are connected to the electrode 13 and the detection units 7B and 8A are connected to the element-side detection electrode 14.
  • the ground electrode 15 is connected to a later-described land electrode 35 on the multilayer substrate 21 side.
  • the ground electrode 15 is held at the ground potential as a low impedance reference potential, and the vibrators 3 and 4 are connected to the ground electrode 15.
  • the detection units 8A and 8B output voltages and the like according to the capacitance between the vibrating body 4 and the like as the detection signals Vs3 and Vs4.
  • the driving units 5A and 6B receive the driving signal Vdl, and the driving units 5B and 6A receive the driving signal Vd2. Therefore, the vibrators 3 and 4 are opposite to each other in the X-axis direction. It is configured to vibrate in the direction. Further, since the vibrators 3 and 4 are formed in substantially the same shape, when the same angular velocity ⁇ acts on these vibrators 3 and 4, the change amounts of the detection signals Vsl and Vs4 of the detection units 7A and 8B have the same value. At the same time, the change amounts of the detection signals Vs2 and Vs3 of the detection units 7B and 8A have the same value.
  • the change amounts of the detection signals Vsl and Vs4 of the detection units 7A and 8B have the same value with opposite signs (positive and negative).
  • the detection signals Vs2 and Vs3 of the detection units 7B and 8A also have the same value with opposite signs. For this reason, by connecting the detection units 7A and 8B to the element-side detection electrode 13, and connecting the detection units 7B and 8A to the element-side detection electrode 14, the acceleration components are removed from the detection signals Vs1 to Vs4. Then, only the angular velocity component is output.
  • the element-side drive electrodes 9 to 12 and the element-side detection electrodes 13 and 14 are each formed in an island shape.
  • the element-side drive electrodes 9 and 10 and the element-side drive electrodes 11 and 12 are located on the back side of the element substrate 2 and are separated from each other in the Y-axis direction as shown in FIGS. It is provided in.
  • the element-side detection electrodes 13 and 14 are arranged at the center of the element substrate 2.
  • the ground electrode 15 is removed from the back surface of the element substrate 2 except for the vicinity (near) of these electrodes 9 to 14 so as to be insulated from the element-side drive electrodes 9 to 12 and the element-side detection electrodes 13 and 14. It is formed in the part.
  • the ground electrode 15 is formed on the entire back surface of the element substrate 2.
  • openings 16 are formed in the ground electrode 15 at the positions of the device-side drive electrodes 9 and 10 and the device-side drive electrodes 11 and 12, respectively, and at the positions of the device-side detection electrodes 13 and 14.
  • An opening 17 is formed.
  • the frame-shaped frame portion 18 located around the opening 17 of the ground electrode 15 surrounds the element-side detection electrodes 13 and 14, and the element-side detection electrodes 13 and 14 and the element-side drive electrodes It is located between 9 and 12!
  • the electrodes 9 to 15 are configured to be connected to electrodes 29 to 35 on the multilayer substrate 21 described later via the electrode pads 9 A to 15 A, respectively.
  • Reference numeral 21 denotes a multilayer substrate on which the angular velocity detecting element 1 and the like are mounted.
  • the multilayer substrate 21 is composed of three insulating layers 22 to 24 each having a ceramic material such as alumina, for example, and these insulating layers 22 to 24 are laminated on each other.
  • a first electrode layer 25 is formed on the surface 21A of the multilayer substrate 21
  • a second electrode layer 26 is formed between the insulating layers 22 and 23
  • a third electrode layer 26 is formed between the insulating layers 23 and 24.
  • the fourth electrode layer 28 is formed on the back surface 21B of the multilayer substrate 21.
  • Reference numerals 29 to 32 denote strip-shaped substrate-side drive electrodes provided on the surface 21A of the multilayer substrate 21 (the surface of the uppermost insulating layer 22).
  • the substrate-side drive electrodes 29 to 32 are arranged at positions facing the element-side drive electrodes 9 to 12, and are arranged from the center to the outer periphery of the multilayer substrate 21. Extending towards the part. Then, the substrate-side drive electrodes 29, 30 and the substrate-side drive electrodes 31, 32 are arranged separately in the Y-axis direction, and the substrate-side drive electrodes 29, 32 are connected to a drive wire 41 described later, The substrate-side drive electrodes 30 and 31 are connected to drive wires 42 described later.
  • Reference numerals 33 and 34 denote island-shaped substrate-side detection electrodes provided on the surface 21A of the multilayer substrate 21.
  • the substrate-side detection electrodes 33, 34 are arranged at positions facing the element-side detection electrodes 13, 14, and are located between the substrate-side drive electrodes 29, 30 and the substrate-side drive electrodes 31, 32. ing.
  • the substrate-side detection electrodes 33 and 34 are connected to detection wirings 43 and 44 provided inside the multilayer substrate 21 via through holes 46 and 47 described later.
  • Reference numeral 35 denotes a ground electrode provided on the surface 21 A of the multilayer substrate 21 as a substrate-side low impedance electrode.
  • the ground electrode 35 is formed on the entire surface of the surface 21A of the multilayer substrate 21 facing the angular velocity detecting element 1.
  • the ground electrode 35 is formed so as to be insulated from the substrate-side drive electrodes 29 to 32 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34, and is formed in a portion excluding the periphery (near) of these electrodes 29 to 34. Have been. For this reason, the ground electrode 35 has cutouts 36 extending along the electrodes 29 to 32 at the positions of the substrate-side drive electrodes 29 to 32 extending toward the outside of the multilayer substrate 21, respectively.
  • Openings 37 are formed at the positions of the detection electrodes 33 and 34.
  • a frame-shaped frame portion 38 of the ground electrode 35 that is positioned around the opening 37 surrounds the board-side detection electrodes 33 and 34 and the board-side detection electrodes 33 and 34 and the board-side drive electrodes. It is arranged between the electrodes 29-32.
  • the ground electrode 35 on the multilayer substrate 21 faces the ground electrode 15 on the angular velocity detecting element 1 (overlaps), and The portions All and A12 facing the electrodes 15 and 35 (portions surrounded by broken lines in FIG. 6) are formed.
  • the portion All facing the ground electrodes 15 and 35 is formed in a frame shape surrounding the element side detection electrodes 13 and 14 and the substrate side detection electrodes 33 and 34. Accordingly, the opposing portions All of the ground electrodes 15 and 35 are disposed between the element-side drive electrodes 9 to 12 and the element-side detection electrodes 13 and 14.
  • the opposing portions A12 of the ground electrodes 15 and 35 are located on both sides in the Y-axis direction of the opposing portion All. To form a strip extending in the X-axis direction.
  • the opposing portions A12 of the ground electrodes 15 and 35 sandwich the element-side drive electrodes 9 to 12 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34 between the opposing portions All.
  • the ground electrode 35 is connected to a ground wiring 39 extending toward a signal processing circuit section 52 described later. As a result, the ground electrode 35 is connected to the ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52, and is held at the ground potential as a low impedance reference potential.
  • a resist film 40 is provided on substantially the entire surface of the multilayer substrate 21.
  • the resist film 40 covers the electrodes 29 to 35. However, of the electrodes 29 to 35, the electrode pads 29A to 35A are exposed. As a result, the electrodes 29 to 35 are connected to the electrode pads 9A to 15A of the angular velocity detecting element 1 using the metal bumps B formed of conductive metal material such as gold provided on the electrode pads 29A to 35A. In this configuration, the angular velocity detecting element 1 is flip-chip mounted on the multilayer substrate 21.
  • Reference numerals 41 and 42 denote drive wirings provided on the surface 21A of the multilayer substrate 21.
  • the drive wirings 41 and 42 extend in the Y-axis direction of the multilayer board 21 as shown in FIGS. 1 and 9, and connect between the board-side drive electrodes 29 to 32 and the signal processing circuit section 52. Together, they form the first electrode layer 25 together with the electrodes 29 to 35 and the ground wiring 39.
  • the driving wiring 41 is connected to the substrate-side driving electrodes 29 and 32.
  • the driving wiring 42 is located on the opposite side of the driving wiring 41 in the X-axis direction with the ground wiring 39 interposed therebetween, and is connected to the substrate-side driving electrodes 30 and 31.
  • the drive wirings 41 and 42 supply the drive signals Vdl and Vd2 of opposite phases applied from the signal processing circuit unit 52 to the substrate-side drive electrodes 29 to 32, and the vibration of the angular velocity detecting element 1 It vibrates the bodies 3 and 4 in the X-axis direction.
  • Reference numerals 43 and 44 denote detection wires provided inside the multilayer substrate 21.
  • the detection wires 43 and 44 are located between the insulating layers 23 and 24 and extend in the Y-axis direction from the angular velocity detection element 1 toward the signal processing circuit 52 in parallel with each other.
  • a ground electrode 45 is provided between the insulating layers 23 and 24 as a low impedance wiring surrounding the detection wirings 43 and 44, respectively.
  • the ground electrode 45 is connected to a ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52 via a through hole (not shown) or the like. Then, the detection distribution The lines 43 and 44 are shared with the ground electrode 45 and constitute the third electrode layer 27.
  • the detection wires 43 and 44 have one end connected to the board-side detection electrodes 33 and 34 via through holes 46 and 47, and the other end connected via the through holes 48 and 49.
  • Signal processing circuit unit 52 The detection wires 43 and 44 have one end connected to the board-side detection electrodes 33 and 34 via through holes 46 and 47, and the other end connected via the through holes 48 and 49.
  • Reference numeral 50 denotes a ground electrode provided between the insulating layers 22 and 23 as a low impedance wiring.
  • the ground electrode 50 opposes over substantially the entire length of the detection wirings 43 and 44 and covers the surface side of the insulating layer 23 over substantially the entire surface. However, the ground electrode 50 is formed at a position excluding the periphery of the through holes 46 to 49 in order to insulate it from the detection wirings 43, 44 and the like.
  • the ground electrode 50 is connected to a ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52 via a through hole (not shown) or the like, and forms the second electrode layer 26.
  • the ground electrode 50 is arranged between the driving wirings 41 and 42 and the detecting wirings 43 and 44 to reduce the coupling capacitance therebetween.
  • Reference numeral 51 denotes a ground electrode provided as a low impedance wiring provided on the back surface 21B of the multilayer substrate 21.
  • the ground electrode 51 faces the detection wirings 43 and 44 over substantially the entire length, covers the back surface 21B over substantially the entire surface, and has a signal processing circuit section 52 through a through hole (not shown) or the like. And a fourth electrode layer 28.
  • the ground electrode 50 reduces the coupling capacitance between the drive wirings 41, 42 and the detection wirings 43, 44, and the noise (noise signal) of external force is applied to the detection wirings 43, 44. Prevents contamination.
  • Reference numeral 52 denotes a signal processing circuit section as signal processing means provided on the surface 21A of the multilayer substrate 21.
  • the signal processing circuit section 52 is composed of a bare chip IC 52A, various active elements, and circuit elements 52B that also provide passive element power, and the bare chip IC 52A is flip-chip mounted, and the circuit parts 52B are soldered by reflow soldering. Mounted (surface mounted).
  • the signal processing circuit section 52 is connected to the drive wirings 41 and 42, the detection wirings 43 and 44, the ground wiring 39, and the ground electrodes 45, 50, and 51, respectively. It is also connected to the ground wiring 53, power supply wiring 54, and output signal wiring 55 provided on 21A.
  • the signal processing circuit section 52 is connected to an external ground via a ground wiring 53. At the same time, a driving power supply voltage is supplied via the power supply wiring 54.
  • the signal processing circuit unit 52 supplies the driving signals Vdl and Vd2 having opposite phases to the angular velocity detecting element 1 via the driving wirings 41 and 42, and also detects the detection signals Vs 1 to Vs 1 to Vs4 is received via the detection wirings 43 and 44, and subjected to various arithmetic processing to output an output signal Vo corresponding to the angular velocity ⁇ .
  • the signal processing circuit section 52 outputs the output signal Vo to the outside via the output signal wiring 55.
  • the angular velocity measuring device has the above-described configuration, and its operation will be described next.
  • the signal output circuit section 52 outputs drive signals Vdl and Vd2 having opposite phases to the drive wirings 41 and 42, the drive signals Vdl and Vd2 are transmitted through the drive electrodes 9 to 12 and 29 to 32.
  • an electrostatic attraction is applied to the vibrators 3 and 4, and the vibrators 3 and 4 vibrate along the X axis in the directions indicated by arrows al and a2 in FIG.
  • V Velocity of vibrators 3 and 4 in X-axis direction
  • the detecting units 7 ⁇ , 7 ⁇ , 8 ⁇ , and 8 ⁇ change the capacitance between the vibrators 3 and 4 in accordance with the displacement of the vibrators 3 and 4 in the ⁇ -axis direction.
  • the detection signals Vsl to Vs4 corresponding to the capacitance change are output.
  • These detection signals Vsl to Vs4 are combined with the detection electrodes 13 and 14 to remove the acceleration component, and are transmitted to the signal processing circuit section 52 through the detection electrodes 33 and 34 and the detection wirings 43 and 44. Is entered.
  • the signal processing circuit unit 52 performs signal processing such as synchronous detection on the detection signals Vsl to Vs4, thereby detecting the angular velocity ⁇ and outputting it as an output signal Vo to the outside.
  • the driving signals Vdl and Vd2 and the detection signals Vsl to Vs4 are all compared at about several tens kHz. While having a very low frequency, the coupling capacitance between the drive wirings 41 and 42 and the detection wirings 43 and 44 is very small (for example, about several fF). For this reason, since the crosstalk between the drive signals Vdl and Vd2 and the detection signals Vsl to Vs4 is very small, the mixing of the signal due to the crosstalk is negligible in cases other than the angular velocity measuring device.
  • the detection signals Vsl to Vs4 have smaller values than the drive signals Vdl and Vd2. Further, since the phase of the crosstalk is equal to the phase of the detection, the crosstalk cannot be removed by the detection. For this reason, even when the drive signals Vdl and Vd2 are slightly mixed into the pin detection signals Vsl to Vs4, the deviation of the output at rest and the offset temperature drift characteristic deteriorate.
  • the drive wiring and the detection wiring are formed in a symmetric shape so as to cancel the crosstalk between the drive signal and the detection signal.
  • the coupling capacitance between the driving wiring and the detecting wiring changes, and the crosstalk can be sufficiently canceled. There was a problem that could not be done.
  • the detection wirings 43 and 44 are provided inside the multilayer substrate 21, and the detection wirings 43 and 44 are provided on the multilayer substrate 21 in the thickness direction. Since the ground electrodes 50 and 51 that cover the detection wires 43 and 44 are provided at positions different from the above, the high impedance detection wires 43 and 44 can be shielded using the ground electrodes 50 and 51. For this reason, it is possible to prevent the drive signals Vdl and Vd2 from being mixed into the detection signals Vsl to Vs4 between the drive wirings 41 and 42 and the detection wirings 43 and 44, and to prevent a shift in the output when stationary. Thus, the offset temperature drift characteristics can be improved.
  • the driving wirings 41 and 42, the detecting wirings 43 and 44 and the like are different from the case where a single-layer substrate is used as in the related art. Can be eliminated, and the degree of freedom of arrangement of the element 1 and the like can be increased. As a result, the mounting area including the wirings 41 to 44 and the like can be reduced, and the entire device can be reduced in size.
  • the wirings 41 to 44 and the like can be freely routed.
  • the driving wirings 41 and 42 and the detection wirings 43 and 44 are arranged symmetrically.
  • the coupling capacitance between the driving wiring 41 and the detection wiring 43 can be set to substantially the same value as the coupling capacitance between the driving wiring 42 and the detection wiring 44. Therefore, even when coupling occurs between the drive wirings 41 and 42 and the detection wiring 43, crosstalk between the drive signal and the detection signal can be canceled, and the detection sensitivity can be increased.
  • the force by which the wirings 41 to 44 and the like can be freely routed by using the multilayer substrate 21 also has electrodes 29 to 35 for connecting to the angular velocity detecting element 1 on the surface 21A of the multilayer substrate 21.
  • the substrate side driving electrodes 29 to 32 and the substrate side driving electrodes 9 to 12 and the element side detecting electrodes 13 and 14 are disposed on the surface 21A of the multilayer substrate 21 so as to face the element side driving electrodes 9 to 12.
  • the side detection electrodes 33 and 34 can be arranged at any positions. Therefore, the angular velocity detecting element 1 can be flip-chip mounted on the multilayer board 21. As a result, the productivity can be improved as compared with the case where wire bonding is performed, and noise is not mixed in from the wires and the like, and the detection sensitivity can be improved.
  • the ground electrode 50 is arranged between the driving wires 41 and 42 and the detecting wires 43 and 44.
  • the connection between 42 and the detection wirings 43 and 44 can be cut off, and crosstalk between them can be reliably prevented.
  • element-side driving electrodes 9 to 12 and element-side detecting electrodes 13 and 14 are provided on the mounting surface of the angular velocity detecting element 1, and the substrate-side driving electrodes 29 to 12 are provided on the surface 21 A of the multilayer substrate 21. 32 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34 are provided.
  • the element-side drive electrodes 9 to 12 are connected to the substrate-side drive electrodes 29 to 32, and the element-side detection electrodes 13 and 14 and the substrate-side detection electrodes 33. And 34 are connected to each other, and the angular velocity detecting element 1 is flip-chip mounted on the multilayer substrate 21.
  • the angular velocity detecting element 1 is mounted together with the mounting process of the bare chip IC 52 ⁇ / b> A forming the signal processing circuit section 52. , And the productivity can be improved as compared with the case where wire bonding mounting is performed.
  • the ground electrode 15 is provided on the mounting surface of the angular velocity detecting element 1 between the element-side driving electrodes 9 to 12 and the element-side detecting electrodes 13 and 14, the ground electrode 15 The coupling between the side drive electrodes 9 to 12 and the element side detection electrodes 13 and 14 can be cut off.
  • the angular velocity detecting element 1 is flip-chip mounted on the multilayer substrate 21,
  • the element-side drive electrodes 9 to 12 and the substrate-side drive electrodes 29 to 32 are connected in a state of facing each other, and the element-side detection electrodes 13 and 14 and the board-side detection electrodes 33 and 34 also face each other.
  • the ground electrode 15 is disposed between the board-side drive electrodes 29 to 32 and the board-side detection electrodes 33 and 34.
  • the ground electrode 15 can also cut off the coupling between the board-side drive electrodes 29 to 32 and the board-side detection electrodes 33 and 34. As a result, it is possible to prevent the occurrence of crosstalk between these electrodes 29 to 32 and the electrodes 33 and 34, and to improve the offset temperature drift characteristics and the like.
  • the ground electrode 35 is provided on the surface 21 A of the multilayer substrate 21 between the substrate-side drive electrodes 29 to 32 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34.
  • the coupling between the drive electrodes 29 to 32 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34 can be cut off. For this reason, the coupling between the driving electrodes 9 to 12, 29 to 32 and the detecting electrodes 13, 14, 33, and 34 is reliably blocked by the synergistic effect of the angular velocity detecting element 1 and the ground electrode 15. And the crosstalk blocking effect can be enhanced.
  • the angular velocity detecting element 1 is Even when mounted with misalignment, it is possible to place the opposing parts All of the ground electrodes 15, 35 between the drive electrodes 9 to 12, 29 to 32 and the detection electrodes 13, 14, 33, 34. it can. As a result, the coupling between the drive electrodes 9 to 12, 29 to 32 and the detection electrodes 13, 14, 33, and 34 is cut off by using the opposing portions All of the ground electrodes 15 and 35, and crosstalk occurs. Can be prevented.
  • the substrate side driving electrodes 29 to 32 and the element side driving electrodes 9 to 12 are connected. They are very close and oppose each other with a gap of, for example, about several tens of meters.
  • the substrate-side detection electrodes 33 and 34 and the element-side detection electrodes 13 and 14 are opposed to each other in a close state.
  • the drive electrodes 9 to 12, 29 to 32 and the detection electrodes 13, 14, 33, 34 are also close to each other. 29-32 and Crosstalk tends to occur between the element-side detection electrodes 13 and 14, and crosstalk also tends to occur between the element-side drive electrodes 9 to 12 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34.
  • the angular velocity detecting element 1 when the angular velocity detecting element 1 is flip-chip mounted on the multilayer substrate 21, at least a part of the ground electrodes 15 and 35 are at least partially connected to the element-side driving electrodes 9 to 12 and the element-side detecting electrodes.
  • the electrodes 13 and 14 were configured to face each other.
  • the opposing portions All where the ground electrodes 15 and 35 oppose each other are located between the element-side drive electrodes 9 to 12 and the element-side detection electrodes 13 and 14, and also the substrate-side drive electrodes 29 and 29. 32 and the substrate-side detection electrodes 33 and 34.
  • the coupling between the substrate-side drive electrodes 29 to 32 and the element-side detection electrodes 13 and 14 can be cut off by using the all-sites opposed to the ground electrodes 15 and 35, and the element-side drive electrodes 9 to The coupling between 12 and the board-side detection electrodes 33, 34 can also be cut off.
  • the opposing portion All of the ground electrodes 15 and 35 surrounds the substrate-side detection electrodes 33 and 34 in addition to the element-side detection electrodes 13 and 14. ing. Therefore, the coupling between the detection electrodes 13, 14, 33, and 34, the element-side drive electrodes 9 to 12, and the substrate-side drive electrodes 29 to 32 can be reliably cut off. As a result, it is possible to reliably prevent the crosstalk force S from being generated between the horse electrodes 9-12, 29-33 and the detection electrodes 13, 14, 33, 34.
  • the drive electrodes 9 to 12 and 29 to 32 are sandwiched between the opposite portions All and A12 of the ground electrodes 15 and 35, the drive signals Vdl and Vd2 are applied to the drive electrodes 9 to 12, 29. 32 can be reliably confined to the periphery, and the effect of suppressing crosstalk can be enhanced.
  • the multilayer substrate 21 is provided with through holes 46, 47 which are located at positions where the angular velocity detecting elements 1 are mounted and connect the substrate side detection electrodes 33, 34 to the detection wirings 43, 44. .
  • the substrate-side detection electrodes 33 and 34 need only be arranged at positions opposed to the element-side detection electrodes 13 and 14 of the angular velocity detecting element 1 and other substrate-side drive electrodes 29 to 32 and the like. The degree of freedom in routing the electrodes can be increased.
  • the board-side detection electrodes 33 and 34 are angular velocity Since the portion where the detection element 1 is mounted is connected to the detection wirings 43 and 44 provided inside the multilayer substrate 21, it is compared with the case where the surface 21A of the multilayer substrate 21 is connected to the signal processing circuit section 52. In addition, external noise can be prevented from being mixed, and the detection sensitivity of the angular velocity ⁇ can be increased.
  • the length of the substrate-side detection electrodes 33 and 34 (the length between the detection sections 7A, 7B, 8A and 8B and the detection wirings 43 and 44) can be reduced. Further, it is possible to prevent the substrate-side detection electrodes 33, 34 and the like from being coupled to the drive electrodes 29 to 32 and the like.
  • the vibrators 3 and 4, the driving units 5A, 5B, 6A and 6B and the detecting units 7A, 7B, 8A and 8B of the angular velocity detecting element 1 were formed by performing fine processing on a silicon material.
  • the angular velocity detecting element 1 can be downsized.
  • the detection wirings 43 and 44 are provided inside the multilayer substrate 21, the degree of freedom in electrode arrangement on the multilayer substrate 21 side is high, so that the external connection electrodes 9 to 15 of the angular velocity detecting element 1 are reduced by miniaturization. Even when arranged at high density, the angular velocity detecting element 1 can be flip-chip mounted on the multilayer substrate 21.
  • the detecting portions 7A, 7B, 8A, 8B of the angular velocity detecting element 1 are configured to detect the capacitance according to the displacement of the vibrating bodies 3, 4, the detecting wires 43, 44 and the driving wires
  • the detection signals Vsl to Vs4 tend to be easily degraded by the coupling capacitance between the wirings 41 and 42.
  • the detection wirings 43 and 44 are arranged inside the multilayer substrate 21 and the detection wirings 43 and 44 are covered with the ground electrodes 45, 50 and 51. The occurrence of crosstalk can be suppressed by reducing the coupling capacitance between the detection wires 43, 44 and the drive wires 41, 42.
  • the insulating layers 22 to 24 of the multilayer substrate 21 are formed using an insulating ceramic material such as alumina, for example, when a glass substrate or the like is used for the element substrate 2 of the angular velocity detecting element 1, Compared with the case where a resin material is used for the insulating layers 22 to 24, the difference in the coefficient of thermal expansion can be reduced, and the change in detection sensitivity and output at rest can be suppressed.
  • FIG. 10 shows a second embodiment according to the present invention.
  • the feature of the present embodiment is that a bare chip IC and a circuit component constituting a signal processing circuit section should be mounted on a flip chip.
  • the chip IC and the like are provided on the front side of the same multilayer substrate as the angular velocity detecting element, and the circuit components mounted on the surface are provided on the back side of the multilayer substrate.
  • the same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • Reference numeral 61 denotes a signal processing circuit section as signal processing means provided on the surface 21 A of the multilayer substrate 21.
  • the signal processing circuit section 61 includes a bare chip IC 61A, a circuit component 61B, and the like, as in the first embodiment.
  • the bare chip IC 61A is flip-chip mounted on the same surface 21A of the multilayer substrate 21 as the angular velocity detecting element 1, and the circuit component 61B is located on the rear surface 21B side of the multilayer substrate 21 different from the angular velocity detecting element 1. SMD mounting (surface mounting) by soldering. Further, the signal processing circuit section 61 is connected to a drive wiring, a detection wiring (neither is shown), or the like.
  • the present embodiment configured as described above, substantially the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.
  • the bare chip IC 61A to be flip-chip mounted is provided on the surface 21A of the same multilayer substrate 21 as the angular velocity detecting element 1, the bare chip IC 61A and the angular velocity detecting element 1 are connected. Since they can be mounted together on the multilayer board 21, productivity can be improved.
  • the circuit component 61B to be mounted on the surface is provided on the back surface 21B side of the multilayer substrate 21 different from the angular velocity detecting element 1, etc.
  • the mounting surface (electrode pad, etc.) can be prevented from being contaminated in the reflow process. As a result, it is possible to prevent a bonding failure or the like in flip-chip mounting, and to improve yield and mounting reliability.
  • FIGS. 11 to 15 show a third embodiment according to the present invention, which is characterized in that the driving wiring is arranged inside the multilayer substrate and the substrate-side driving electrode is provided.
  • the configuration is such that each of the substrate-side detection electrodes is surrounded by a ground electrode. Note that, in the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • Reference numerals 71 to 74 denote island-shaped element-side drive electrodes provided on the back surface (mounting surface) of the element substrate 2.
  • the element-side drive electrodes 71 to 74 are connected to the drive units 5A, 5B, 6A, and 6B in substantially the same manner as the element-side drive electrodes 9 to 12 according to the first embodiment.
  • the element-side drive electrodes 71 to 74 input the drive signal Vdl to the drive units 5A and 6B, and Drive signal Vd2 is input to B and 6A.
  • the element-side drive electrodes 71 and 72 and the element-side drive electrodes 73 and 74 are located on the back side of the element substrate 2 and are separated from each other in the Y-axis direction. It is set in the position where it was set.
  • Reference numerals 75 and 76 denote island-shaped element-side detection electrodes provided on the back surface of the element substrate 2.
  • the element-side detection electrodes 75 and 76 are located between the element-side drive electrodes 71 and 72 and the element-side drive electrodes 73 and 74, and are disposed on the center side of the element substrate 2.
  • the element-side detection electrode 75 is connected to the detection units 7A and 8B, and the element-side detection electrode 76 is connected to the detection units 7B and 8A.
  • the element side detection electrodes 75, 76 are configured to remove the acceleration component from the detection signals Vs1 to Vs4 output from the detection units 7A, 7B, 8A, 8B and output only the angular velocity component. .
  • Reference numeral 77 denotes a ground electrode provided on the back surface of the element substrate 2 as an element-side low impedance electrode.
  • the ground electrode 77 is insulated from the element-side drive electrodes 71 to 74 and the element-side detection electrodes 75 and 76 except for the area around (near) these electrodes 71 to 76 on the back surface of the element substrate 2. It is formed in the part. Therefore, the ground electrode 77 is formed on the entire back surface of the element substrate 2.
  • openings 78 are formed in the ground electrode 77 at the positions of the device-side drive electrodes 71, 72 and the device-side drive electrodes 73, 74, respectively, and are formed at the positions of the device-side detection electrodes 75, 76.
  • An opening 79 is formed.
  • the frame-shaped frame portion 80 located around the opening 79 of the ground electrode 77 surrounds the element-side detection electrodes 75, 76, and the element-side detection electrodes 75, 76 and the element-side drive electrode. 7 It is arranged between 1 and 74.
  • the ground electrode 77 is connected to a later-described ground electrode 97 on the multilayer substrate 81 side, and is held at the ground potential as a low impedance reference potential.
  • Reference numeral 81 denotes a multilayer board on which the angular velocity detecting element 1 and the like are mounted.
  • the multi-layer substrate 81 is composed of four insulating layers 82 to 85 each having a ceramic material such as alumina, for example, and these insulating layers 82 to 85 are laminated on each other.
  • a first electrode layer 86 is formed on the surface 81A of the multilayer substrate 81
  • a second electrode layer 87 is formed between the insulating layers 82 and 83
  • a third electrode layer 87 is formed between the insulating layers 83 and 84.
  • An electrode layer 88 is formed, and an insulating layer 84,
  • a fourth electrode layer 89 is formed between the layers 85, and a fifth electrode layer 90 is formed on the back surface 81B of the multilayer substrate 81.
  • Reference numerals 91 to 94 denote substrate-side driving electrodes provided on the surface 81A of the multilayer substrate 81 (the surface of the uppermost insulating layer 82). As shown in FIGS. 13 and 14, the substrate-side drive electrodes 91 to 94 are formed in an island shape and are arranged at positions facing the element-side drive electrodes 71 to 74. The substrate-side drive electrodes 91 and 92 and the substrate-side drive electrodes 93 and 94 are arranged apart from each other in the Y-axis direction, and the substrate-side drive electrodes 91 and 94 are connected to a drive wiring 102 described later. The substrate-side drive electrodes 92 and 93 are connected to a drive wiring 103 described later.
  • Reference numerals 95 and 96 denote substrate-side detection electrodes provided on the surface 81A of the multilayer substrate 81.
  • the substrate-side detection electrodes 95, 96 are arranged at positions facing the element-side detection electrodes 75, 76, and are located between the substrate-side drive electrodes 91, 92 and the substrate-side drive electrodes 93, 94. ing .
  • the substrate-side detection electrodes 95 and 96 are connected to detection wirings 105 and 106 provided inside the multilayer substrate 81 via through holes 108 and 109 described later.
  • Reference numeral 97 denotes a ground electrode provided on the surface 81A of the multilayer substrate 81 as a substrate-side low impedance electrode.
  • the ground electrode 97 is formed on the entire surface of the surface 81A of the multilayer substrate 81 facing the angular velocity detecting element 1.
  • the ground electrode 97 is formed in a portion excluding (around) these electrodes 91 to 96 so as to be insulated from the substrate side driving electrodes 91 to 94 and the substrate side detection electrodes 95 and 96. ing.
  • the ground electrode 97 has openings 98 at the positions of the substrate-side drive electrodes 91 to 94 and the openings 99 at the positions of the substrate-side detection electrodes 95 and 96.
  • the frame-shaped frame portion 100 located around the opening 99 among the rounded electrodes 97 surrounds the substrate-side detection electrodes 95, 96, and the substrate-side detection electrodes 95, 96 and the substrate-side drive electrodes. It is arranged between the electrodes 91 to 94.
  • the ground electrode 97 on the multilayer substrate 81 side is connected to the ground electrode 77 on the angular velocity detecting element 1 side.
  • an opposing portion A31 (a portion surrounded by a broken line in FIG. 14) of the ground electrodes 77 and 97 is formed.
  • the opposing portion A31 of the ground electrodes 77, 97 has three openings A31a, A31b, A31c.
  • the detection electrodes 75, 76, 95, and 96 are disposed in the opening A31a, the driving electrodes 71, 72, 91, and 92 are disposed in the opening A31b, and the driving electrodes 73 are disposed in the opening A31c. , 74, 93, 94 are arranged. Therefore, the opposing portion A31 of the ground electrodes 77, 97 not only surrounds the element-side detection electrodes 75, 76 and the substrate-side detection electrodes 95, 96, but also surrounds the element-side drive electrodes 71, 72 with the substrate-side electrodes. It surrounds the drive electrodes 91 and 92, and surrounds the element-side drive electrodes 73 and 74 and the substrate-side drive electrodes 93 and 94. Thus, the opposing portion A31 of the ground electrodes 77 and 97 is disposed between the element-side drive electrodes 71 to 74 and the element-side detection electrodes 75 and 76.
  • the ground electrode 97 is connected to a later-described ground electrode 104 provided in the multilayer substrate 81 via a through hole.
  • the ground electrode 104 is connected to the signal processing circuit section 52 via a through hole. For this reason, the ground electrode 97 is connected to a ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52, and is held at the ground potential as a low impedance reference potential.
  • a resist film 101 is provided on substantially the entire surface of the multilayer substrate 81.
  • the resist film 101 covers the electrodes 91 to 97. However, of the electrodes 91 to 97, the electrode pads 91A to 97A are exposed. As a result, the electrodes 91 to 97 are connected to the electrodes 71 to 77 of the angular velocity detecting element 1 using the metal bumps B provided on the electrode pads 91A to 97A and having a conductive metal material such as gold.
  • the device 1 is configured to be flip-chip mounted on the multilayer substrate 81.
  • Reference numerals 102 and 103 denote driving wirings provided between the insulating layers 82 and 83.
  • the drive wires 102 and 103 extend in the Y-axis direction of the multilayer board 81 as shown in FIG. 15, and connect the board-side drive electrodes 91 to 94 and the signal processing circuit section 52. . Further, the driving wires 102 and 103 are formed symmetrically with respect to the X-axis direction.
  • the driving wiring 102 is connected to the substrate-side driving electrodes 91 and 94
  • the driving wiring 103 is connected to the substrate-side driving electrodes 92 and 93.
  • the driving wires 102 and 103 apply the driving signals Vdl and Vd2 of opposite phases applied from the signal processing circuit 52 to the substrate-side driving electrodes 91 To 94 to vibrate the vibrators 3 and 4 of the angular velocity detecting element 1 in the X-axis direction.
  • Reference numeral 104 denotes a ground electrode provided between the insulating layers 82 and 83.
  • the ground electrode 104 surrounds the driving wires 102 and 103, respectively.
  • one end of the ground electrode 104 is connected to the ground electrode 97 of the multilayer substrate 81 through a through hole (not shown), and the other end is connected to a signal processing circuit section through a through hole (not shown). It is connected to 52 Dutch electrodes (not shown).
  • the ground electrode 104 forms a second electrode layer 87 together with the drive wirings 102 and 103.
  • Reference numerals 105 and 106 denote detection wires provided inside the multilayer substrate 81.
  • the detection wires 105 and 106 are located between the insulating layers 84 and 85 and extend in the Y-axis direction from the angular velocity detection element 1 toward the signal processing circuit 52 in parallel with each other.
  • a ground electrode 107 is provided between the insulating layers 84 and 85 as a low impedance wiring surrounding the detection wirings 105 and 106, respectively.
  • the ground electrode 107 is connected to a ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52 via a through hole (not shown) or the like.
  • the detection wires 105 and 106 together with the ground electrode 107 constitute a fourth electrode layer 89.
  • the detection wires 105 and 106 are connected at one end to the board-side detection electrodes 95 and 96 via through holes 108 and 109, and at the other end via the through holes 110 and 111. Connected to the signal processing circuit section 52.
  • Reference numeral 112 denotes a ground electrode provided between the insulating layers 83 and 84 as low impedance wiring.
  • the ground electrode 112 opposes over substantially the entire length of the detection wirings 105 and 106 and covers the surface side of the insulating layer 84 over substantially the entire surface. However, the ground electrode 112 is formed at a position other than around the through holes 108 to 111 to insulate it from the detection wirings 105 and 106.
  • the ground electrode 112 is connected to a ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52 via a through hole (not shown) or the like, and forms a third electrode layer 88.
  • the ground electrode 112 is arranged between the driving wirings 102, 103 and the detecting wirings 105, 106 to reduce the coupling capacitance therebetween.
  • Reference numeral 113 denotes a ground as a low impedance wiring provided on the back surface 81B of the multilayer substrate 81.
  • the electrodes are shown.
  • the ground electrode 113 opposes over substantially the entire length of the detection wirings 105 and 106 and covers the back surface 81B over substantially the entire surface.
  • the ground electrode 113 is connected to a ground electrode (not shown) of the signal processing circuit section 52 via a through hole (not shown) or the like, and forms a fifth electrode layer 90.
  • the ground electrode 113 reduces the coupling capacitance between the drive wirings 102, 103 and the detection wirings 105, 106, and prevents external noise (noise signal) from entering the detection wirings 105, 106. Has been prevented.
  • the driving wirings 102 and 103 are arranged inside the multilayer substrate 81, and the substrate-side driving electrodes 91 to 94 and the substrate-side detecting electrodes 95 and 96 are respectively connected to the ground electrode 97.
  • the configuration is to use and surround.
  • the device-side drive electrodes 71 to 74 and the device-side detection electrodes 75 and 76 are each surrounded by a ground electrode 77.
  • the opposing portion A31 of the ground electrodes 77, 97 not only surrounds the element-side drive electrodes 71-74 and the board-side drive electrodes Electrodes 91 to 94 can be surrounded. From this, the corresponding part A31 of the ground electrodes 77 and 97 cuts off the coupling between the drive electrodes 71 to 74 and 91 to 94 and the detection electrodes 75, 76, 95 and 96, and generates crosstalk. Can be reliably prevented.
  • the opposing portion A31 of the ground electrodes 77 and 97 is configured to surround the driving electrodes 71 to 74 and 91 to 94, the other electrodes are not limited to the detection electrodes 75, 76, 95, and 96. Crosstalk between the two can also be prevented. For this reason, when the angular velocity detecting element 1 is provided with a monitor means (not shown) for detecting vibrations in the driving direction (X-axis direction) of the vibrators 3 and 4, for example, as shown in FIGS. As shown by the dotted line, monitor electrodes 114 and 115 connected to the monitoring means can be provided outside the ground electrodes 77 and 97.
  • the monitor means is also constituted by comb-shaped electrodes like the displacement detection means, and outputs monitor signals similar to the detection signals Vsl to Vs4. Therefore, the monitor signal is also easily affected by the drive signals Vdl and Vd2.
  • the opposing portion A31 of the ground electrodes 77 and 97 surrounds the driving electrodes 71 to 74 and 91 to 94, so that the driving electrodes 71 to 74 and 91 to 94 and the monitor electrode 114, The connection with the 115 can be cut off, and the detection accuracy of the monitor signal can be improved.
  • the opposing portion A31 of the ground electrodes 77, 97 surrounds the detection electrodes 75, 76, 95, 96 without interruption over the entire circumference.
  • the present invention is not limited to this.
  • the ground electrode when the opening 98 ⁇ of the ground electrode 97 ⁇ on the multilayer substrate 81 side is formed large, the ground electrode The partial force S surrounding the detection electrodes 75, 76, 95, 96 in the opposing portion A3iz of 77, 97 'may be partially cut off.
  • opposing portions A32 ' where the ground electrodes 77 and 97' oppose each other are formed between the detection electrodes 75, 76, 95 and 96 and the driving electrodes 71 to 74 and 91 to 94. Therefore, the coupling between the detection electrodes 75, 76, 95, 96 and the drive electrodes 71 to 74, 91 to 94 can be cut off by using the facing portion A32 '.
  • FIGS. 18 to 20 show a fourth embodiment according to the present invention.
  • the feature of this embodiment is that a ground electrode is provided between an element-side drive electrode and an element-side detection electrode.
  • a ground electrode is also provided between the substrate-side drive electrode and the substrate-side detection electrode, and at least a part of the element-side ground electrode and the substrate-side ground electrode is opposed to each other. is there. Note that, in the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • Reference numerals 121 to 124 denote island-shaped element-side drive electrodes provided on the back surface (mounting surface) of the element substrate 2.
  • the element-side drive electrodes 121 to 124 are connected to the drive units 5A, 5B, 6A, and 6B in substantially the same manner as the element-side drive electrodes 9 to 12 according to the first embodiment.
  • the element-side drive electrodes 121 to 124 are for inputting the drive signal Vdl to the drive units 5A and 6B and inputting the drive signal Vd2 to the drive units 5B and 6A.
  • the element-side drive electrodes 121 and 122 and the element-side drive electrodes 123 and 124 are located on the back side of the element substrate 2 and are positioned in the Y-axis direction. It is located at a distance from
  • Reference numerals 125 and 126 denote island-shaped element-side detection electrodes provided on the back surface of the element substrate 2.
  • the element-side detection electrodes 125, 126 are located between the element-side drive electrodes 121, 122 and the element-side drive electrodes 123, 124, and are arranged on the center side of the element substrate 2. Then, the element-side detection electrode 125 is connected to the detection units 7A and 8B, and the element-side detection electrode 126 is Connected to detectors 7B and 8A.
  • the element-side detection electrodes 125 and 126 are configured to remove the acceleration component from the detection signals Vsl to Vs4 output from the detection units 7A, 7B, 8A and 8B and output only the angular velocity component. .
  • Reference numeral 127 denotes a ground electrode provided on the back surface of the element substrate 2 as two element-side low impedance electrodes.
  • one ground electrode 127 is disposed between the element-side drive electrodes 121 and 122 and the element-side detection electrodes 125 and 126, and the other ground electrode 127 is connected to the element-side drive electrodes 123 and 124. It is arranged between the element side detection electrodes 125 and 126.
  • These ground electrodes 127 are located around (near) the electrodes 121 to 126 on the back surface of the element substrate 2 so as to be insulated from the element-side drive electrodes 121 to 124 and the element-side detection electrodes 125 and 126. It is formed in the part except for.
  • the ground electrode 127 is connected to a ground electrode 135 on the multilayer substrate 128 described later, and is held at the ground potential as a low impedance reference potential! RU
  • Reference numeral 128 denotes a multilayer board on which the angular velocity detecting element 1 and the like are mounted.
  • the multilayer substrate 128 is constituted of four insulating layers 82 to 85 in substantially the same manner as the multilayer substrate 81 according to the third embodiment, for example, and includes a driving wiring, a detection wiring, and a low impedance wiring therein.
  • a ground electrode or the like (V, deviation is not shown) is provided.
  • Reference numerals 129 to 132 denote substrate-side drive electrodes provided on the surface 128 A of the multilayer substrate 128. As shown in FIGS. 19 and 20, the substrate-side drive electrodes 129 to 132 are formed in an island shape and are arranged at positions facing the element-side drive electrodes 121 to 124. Further, the substrate-side drive electrodes 129 and 130 and the substrate-side drive electrodes 131 and 132 are arranged apart from each other in the Y-axis direction, and the substrate-side drive electrodes 129 to 132 are connected to the drive wiring (see FIG. (Not shown). Then, the drive signal Vdl is applied to the substrate-side drive electrodes 129 and 132, and the drive signal Vd2 is applied to the substrate-side drive electrodes 130 and 131.
  • Reference numerals 133 and 134 denote substrate-side detection electrodes provided on the surface 128 A of the multilayer substrate 128.
  • the substrate-side detection electrodes 133 and 134 are arranged at positions facing the element-side detection electrodes 125 and 126, and are located between the substrate-side drive electrodes 129 and 130 and the substrate-side drive electrodes 131 and 132. ing.
  • the detection electrodes 133 and 134 on the substrate side are Connection (not shown).
  • Reference numeral 135 denotes a ground electrode provided as two substrate-side low-impedance electrodes on the surface 128 A of the multilayer substrate 128.
  • one ground electrode 135 is disposed between the board-side drive electrodes 129 and 130 and the board-side detection electrodes 133 and 134, and the other ground electrode 135 is connected to the board-side drive electrodes 131 and 132. And between the substrate-side detection electrodes 133 and 134.
  • These ground electrodes 135 are formed around the electrodes 129 to 134 of the surface 128A of the multilayer substrate 128 so as to be insulated from the substrate side drive electrodes 129 to 132 and the substrate side detection electrodes 133 and 134. It is formed in the part except for (near).
  • the ground electrode 135 is connected to a ground electrode (not shown) provided in the multilayer substrate 128 via a through hole.
  • the ground electrode 135 is connected to the signal processing circuit through the ground electrode in the multilayer substrate 128, and is held at the ground potential as a low impedance reference potential! RU
  • the ground electrode 135 on the multilayer substrate 128 side faces the ground electrode 127 on the angular velocity detecting element 1 side (overlap).
  • opposing parts A41 (parts surrounded by broken lines in FIG. 20) of the ground electrodes 127 and 135 are formed on both sides in the Y-axis direction of the detection electrodes 125, 126, 133 and 134, respectively.
  • the opposing portion A41 of one of the ground electrodes 127, 135 is located between the driving electrodes 121, 122, 129, 130 and the detecting electrodes 125, 126, 133, 134.
  • the opposite part A41 of the other ground electrodes 127, 135 is located between the driving electrodes 123, 124, 131, 132 and the detecting electrodes 125, 126, 133, 134! .
  • the electrodes 129 to 135 are connected to the electrodes 121 to 127 of the angular velocity detecting element 1 using a metal bump B which also has a conductive metal material such as gold, and the angular velocity detecting element 1 is flipped to the multilayer substrate 128. It is configured to be mounted on a chip.
  • the opposing portion A41 of the ground electrodes 127 and 135 is provided between the drive electrodes 121 to 124 and 129 to 132 and the detection electrodes 125, 126, 133 and 134.
  • the coupling between the drive electrodes 121-124, 129-132 and the detection electrodes 125, 126, 133, 134 is blocked using the opposing parts A41 of 127, 135. However, occurrence of crosstalk can be prevented.
  • the ground electrodes 127 and 135 do not surround the drive electrodes 121 to 124 and 129 to 132 and the detection electrodes 125, 126, 133 and 134 and do not surround the drive electrodes 121 to 124 and 129.
  • various wirings can be arranged around the driving electrodes 121 to 124 and 129 to 132, and the back surface of the element substrate 2 and the front surface 128A of the multilayer substrate 128 can be effectively used.
  • the configuration is such that the angular velocity detecting element 1 including the two vibrators 3 and 4 is used.
  • the present invention is not limited to this, and may employ a configuration that uses an angular velocity detecting element that also generates a single vibrating body force, as in the prior art.
  • the ground electrode 50 is provided on the second and fourth electrode layers 26 and 28 with the detection wirings 43 and 44 forming the third electrode layer 27 interposed therebetween. , 51 are provided, but it is not always necessary to provide both ground electrodes 50, 51, and only one of them may be provided. Also in the third embodiment, the force V may be configured to provide the two ground electrodes 112 and 113, or the offset may be configured to provide only one of the ground electrodes.
  • the element-side drive electrodes 9 to 12, 71 to 74, 121 to 124, the element-side detection electrodes 13, 14, 75, 76, 125, 126, the ground electrodes 15, 77 and 127 are formed symmetrically with respect to the center in the X-axis direction and the Y-axis direction, and the element-side detection electrodes 13, 75, 125 and the element-side drive electrodes 9-12, 71-
  • the coupling capacitance between 74, 121-124 is set to almost the same value as the coupling capacitance between the element-side detection electrodes 14, 76, 126 and the element-side drive electrodes 9-12, 71-74, 121-124.
  • the present invention is not limited to this, and a ground electrode is provided between the element-side drive electrodes 9-12, 71-74, 121-124 and the element-side detection electrodes 13, 14, 75, 76, 125, 126. If 15, 77, and 127 are arranged, the above-mentioned coupling capacity may have different values.
  • the board-side drive electrodes 29 to 32, 91-94, 129 to 132, the board-side detection electrodes 33, 34, 95, 96, 133, 134, and the ground electrodes 35, 97, 135 are Of the substrate side detection electrodes 33, 95, 133 and the substrate side drive electrodes 29-32, 91-94, 129-132.
  • the ground electrodes 15, 35, 7, 7, 97, 127, and 135 are used as the low impedance electrodes, and the ground electrodes 45, 50, 51, and 10 are used as the low impedance lines. 7, 112 and 113 were used.
  • the present invention is not limited to this, and the low-impedance electrode and the low-impedance wiring need not always be connected to the ground.
  • a low-impedance DC voltage wiring may be used as the low-impedance wiring.
  • the multi-layer substrate 21 including the three insulating layers 22 to 24 (four electrode layers 25 to 28) is used, and the third embodiment In the embodiment, the multilayer substrate 81 including four insulating layers 82 to 85 (five electrode layers 86 to 90) is used.
  • the present invention is not limited to this.
  • a configuration using a multilayer substrate including five or more insulating layers (six or more electrode layers) may be used.
  • the insulating layers 22 to 24 and 82 to 85 are formed using alumina (aluminum), but may be formed using other ceramic materials. It may be formed by using another insulating material such as a resin material.
  • the driving wires 41, 42, 102, and 103 are located at positions different from the detection wires 43, 44, 105, and 106 in the thickness direction of the multilayer substrates 21 and 81. It was configured to be placed at However, the present invention is not limited to this.
  • the drive wiring may be provided at another position (another electrode layer) different from the detection wiring in the thickness direction of the multilayer substrate. It may be configured to be arranged at the same position as the detection wiring in the direction.
  • the height of the wiring is different from the position of the detection wiring or the like in the thickness direction of the multilayer substrate.
  • another low impedance wiring may be provided between the driving wiring and the detection wiring at the same position as the detection wiring. In this case, it is possible to cut off between the drive wiring and the detection wiring by using another low impedance wiring, and it is possible to reliably prevent the occurrence of crosstalk between them.
  • a configuration is adopted in which a wide width facing the detection wirings 43, 44, 105, 106 and the ground electrodes 50, 51, 112, 113 are used as low impedance wirings.
  • the present invention is not limited to this, and a configuration may be used in which a narrow (elongated) ground electrode facing the detection wiring is used as the low impedance wiring.
  • the ground electrodes 50, 51, 112, and 113 as low impedance wiring are configured to face the detection wirings 43, 44, 105, and 106 over substantially the entire length.
  • the detection wiring may be configured to face a part of the entire length of the detection wiring.

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Abstract

 角速度検出素子1の実装面には、素子側駆動用電極9~12と素子側検出用電極13,14を設けると共に、駆動用電極9~12と検出用電極13,14との間にはグランド電極15を設ける。多層基板21の表面21Aには、基板側駆動用電極29~32と基板側検出用電極33,34を設けると共に、駆動用電極29~32と検出用電極33,34との間にはグランド電極35を設ける。そして、角速度検出素子1の電極9~15と多層基板21の電極29~35を接続すると共に、2つのグランド電極15,35を互いに対向させる。また、多層基板21の表面21Aには、駆動用電極29~32に接続された駆動用配線41,42を設けると共に、多層基板21の内部には、検出用電極33,34に接続された検出用配線43,44を設ける。そして、多層基板21には検出用配線43,44を厚さ方向で挟むグランド配線50,51を設ける。

Description

明 細 書
角速度計測装置
技術分野
[0001] 本発明は、例えば角速度を検出するのに好適に用いられる角速度計測装置に関 する。
背景技術
[0002] 一般に、角速度計測装置として、基板上に角速度検出素子と信号処理素子とを実 装したものが知られている (例えば、特許文献 1参照)。この場合、角速度検出素子は 、直交する 3軸のうち第 1,第 2の軸方向に振動可能に設けられた振動体と、駆動信 号により該振動体を第 1の軸方向に振動させる駆動手段と、前記振動体が第 1の軸 方向に振動した状態で第 3の軸周りに角速度が加わったときに前記振動体が第 2の 軸方向に変位するのを検出して検出信号を出力する変位検出手段とによって構成さ れている。また、基板には、角速度検出素子の駆動手段、変位検出手段にそれぞれ 接続された駆動用配線、検出用配線が設けられ、これらの配線を通じて角速度検出 素子と信号処理素子との間が接続されていた。
[0003] 特許文献 1 :特開平 10— 300475号公報
[0004] この種の従来技術による角速度計測装置は、信号処理素子から駆動用配線を通じ て角速度検出素子に向けて駆動信号を入力すると、駆動手段は該駆動信号に基い て振動体を第 1の軸方向に振動させる。この状態で、第 3の軸周りに角速度が加わる と、振動体には第 2の軸方向に対してコリオリカが作用する。これにより、振動体は角 速度に応じて第 2の軸方向に変位するから、変位検出手段は、第 2の軸方向に対す る振動体の変位量を静電容量等の変化として検出し、角速度に応じた検出信号を出 力する。そして、信号処理素子は、変位検出手段力もの検出信号を検出用配線を通 じて受け取り、この検出信号に対して各種の演算処理を施すことによって、角速度を 算出していた。
[0005] ところで、検出用配線は Μ Ω ( X 106 Ω )オーダーの高インピーダンスであるため、 上述した従来技術では、駆動用配線と検出用配線との間の結合容量を介してクロス トークが発生し、駆動信号が検出信号に混入することがある。このとき、従来技術によ る駆動用配線と検出用配線とはいずれも基板の表面に設けられているから、高インピ 一ダンスな検出用配線の周囲に十分なシールドを設けることができず、駆動用配線と 検出用配線との間の結合容量を小さくすることができな力つた。このため、従来技術 では、符号の異なる 2つの駆動信号と検出信号とに応じて駆動用配線と検出用配線 とをそれぞれ 2本ずつ設けると共に、これらの 2本ずつの駆動用配線と検出用配線と の間で結合容量のバランスを調整し、クロストークを相殺して 、た。
[0006] しかし、このような従来技術の構成でも、駆動用配線と検出用配線との間の結合容 量はその絶対値が大きいから、配線等のばらつきによって僅かな結合容量 (例えば、 数 fF程度)が残存する。このとき、例えば微弱な角速度を検出するときには、検出信 号も非常に微小な信号となるから、僅かな結合容量によるクロストークでも検出感度 に比べて大きな静止時出力を発生させる。この結果、静止時出力のずれやオフセット 温度ドリフト特性に大きな影響を与えるという問題があった。
[0007] また、従来技術では、結合容量を小さくするために、 2本の検出用配線に対して駆 動用配線を対称形状をなして形成していた。しかし、この場合には、配線の引き回し 力 S制約され、配線等を含めた実装面積が大きくなると共に、角速度検出素子、信号 処理素子等の配置自由度も低下するという問題があった。
[0008] さらに、従来技術では、配線の引き回しが制約されると共に、素子の配置自由度も 低いから、角速度検出素子を基板上にフリップチップ実装することが難し力つた。即 ち、角速度検出素子を基板上にフリップチップ実装するためには、素子側の電極に 対応して基板側の電極 (配線)を高密度で配置する必要があるのに加え、結合容量 を小さくするために配線を対称性をもって形成する必要がある。これに対し、従来技 術では、上述のように配線の引き回し等が制約されるため、配線を高密度かつ対称 性をもって形成することができな力つた。この結果、従来技術では、基板に対して角 速度検出素子をワイヤボンディング実装していたから、他の部品の実装工程と共用 できず、生産性が低下すると共に、ワイヤ間の結合容量を通じてクロストークが混入し 、静止時出力のずれとオフセット温度ドリフト特性が悪ィ匕するという問題もあった。 発明の開示 [0009] 本発明は上述した従来技術の問題に鑑みなされたもので、本発明の目的は、高ィ ンピーダンスな検出用配線を効率良くシールドできると共に、配線の引き回しや素子 配置の制約を無くし、実装面積を低減することができる角速度計測装置を提供するこ とにある。
[0010] (1) .上述した課題を解決するために、本発明は、基板と、該基板に設けられ、直 交する 3軸のうち第 1,第 2の軸方向に振動可能に設けられた振動体と、駆動信号に より該振動体を第 1の軸方向に振動させる駆動手段と、前記振動体が第 1の軸方向 に振動した状態で第 3の軸周りに角速度が加わったときに前記振動体が第 2の軸方 向に変位するのを検出して検出信号を出力する変位検出手段とからなる角速度検 出素子と、前記基板に設けられ、該角速度検出素子の駆動手段に接続された駆動 用配線と、前記基板に設けられ、前記角速度検出素子の変位検出手段に接続され た検出用配線と、前記基板に設けられ、前記駆動用配線と検出用配線とに接続され た信号処理手段とを備えてなる角速度計測装置に適用される。
[0011] そして、本発明が採用する構成の特徴は、前記基板は複数の絶縁層カゝらなる多層 基板を用いて構成し、該多層基板の内部には、 2つの絶縁層の間に前記検出用配 線を配置し、前記多層基板には、その厚さ方向に対して前記検出用配線と異なる位 置に、前記検出用配線と対向したインピーダンスの低 ヽ低インピーダンス配線を設け 、前記角速度検出素子には、前記多層基板との実装面側に位置して前記駆動手段 に接続された素子側駆動用電極と、前記変位検出手段に接続された素子側検出用 電極と、前記素子側駆動用電極および素子側検出用電極の間に位置して素子側駆 動用電極および素子側検出用電極の間の結合を遮断する素子側低インピーダンス 電極とを設け、前記多層基板の表面には、前記駆動用配線に接続され前記素子側 駆動用電極と対向する基板側駆動用電極と、前記検出用配線に接続され前記素子 側検出用電極と対向する基板側検出用電極と、前記基板側駆動用電極および基板 側検出用電極の間に位置して前記基板側駆動用電極および基板側検出用電極の 間の結合を遮断する基板側低インピーダンス電極とを設け、前記角速度検出素子を 前記多層基板の表面に金属バンプを用いて実装し、前記素子側駆動用電極と基板 側駆動用電極とを該金属バンプを用いて接続し、前記素子側検出用電極と基板側 検出用電極とを前記金属バンプを用いて接続し、前記素子側低インピーダンス電極 と基板側低インピーダンス電極とを低インピーダンスの基準電位に接続し、前記素子 側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極との少なくとも一部を互 ヽに 対向させたことにある。
[0012] このように構成したことにより、検出用配線を多層基板の内部に設けると共に、多層 基板には、厚さ方向に対して該検出用配線と異なる位置に検出用配線と対向した低 インピーダンス配線を設けたから、低インピーダンス配線を用いて高インピーダンスの 検出用配線をシールドすることができる。このため、駆動用配線と検出用配線との間 で駆動信号が検出信号に混入するのを防ぐことができ、静止時出力のずれを防止し 、オフセット温度ドリフト特性を向上させることができる。
[0013] また、角速度検出素子等が実装される基板として多層基板を用いるから、従来技術 のように単層の基板を用いた場合に比べて、駆動用配線、検出用配線等に対する引 き回しの制約を無くすことができ、素子等の配置の自由度も高めることができる。この 結果、配線等を含めた実装面積を低減することができ、装置全体を小型化することが できる。
[0014] さらに、多層基板を用いることによって配線を自由に引き回すことができるから、多 層基板の表面には、角速度検出素子と接続するための電極を高密度に配置できると 共に、例えば駆動用配線と検出用配線とを対称性をもって配置することができる。こ のため、多層基板上に角速度検出素子をフリップチップ実装することができ、ワイヤ ボンディング実装した場合に比べて、生産性や検出感度を向上することができる。
[0015] また、角速度検出素子の実装面には素子側駆動用電極と素子側検出用電極との 間に位置して素子側低インピーダンス電極を設けたから、素子側低インピーダンス電 極によって素子側駆動用電極と素子側検出用電極との間の結合を遮断することがで きる。ここで、多層基板に対して角速度検出素子を金属バンプを用いてフリップチッ プ実装したときには、素子側駆動用電極と基板側駆動用電極は互いに対向した状態 で接続されると共に、素子側検出用電極と基板側検出用電極も互いに対向した状態 で接続される。このため、素子側低インピーダンス電極は基板側駆動用電極と基板 側検出用電極との間に配置されるから、素子側低インピーダンス電極によって基板 側駆動用電極と基板側検出用電極との間の結合をも遮断することができる。この結 果、これらの電極間でクロストークが生じるのを防止でき、オフセット温度ドリフト特性 等を向上させることができる。
[0016] 一方、多層基板の表面には基板側駆動用電極と基板側検出用電極との間に位置 して基板側低インピーダンス電極を設けたから、基板側低インピーダンス電極によつ て基板側駆動用電極と基板側検出用電極との間の結合を遮断することができる。ここ で、多層基板に対して角速度検出素子を金属バンプを用いてフリップチップ実装し たときには、素子側駆動用電極と基板側駆動用電極は互いに対向した状態で接続さ れると共に、素子側検出用電極と基板側検出用電極も互いに対向した状態で接続さ れる。このため、基板側低インピーダンス電極は素子側駆動用電極と素子側検出用 電極との間に配置されるから、基板側低インピーダンス電極によって素子側駆動用 電極と素子側検出用電極との間の結合をも遮断することができる。この結果、これら の電極間でクロストークが生じるのを防止でき、オフセット温度ドリフト特性等を向上さ せることができる。
[0017] さらに、本発明では、多層基板に角速度検出素子を金属バンプを用いてフリップチ ップ実装したときには、素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極 とは少なくとも一部が互いに対向する構成とした。このとき、素子側低インピーダンス 電極と基板側低インピーダンス電極とが互いに対向する対向部位は、基板側駆動用 電極と基板側検出用電極との間に位置するのに加え、素子側駆動用電極と素子側 検出用電極との間にも位置する。このため、 2つの低インピーダンス電極の対向部位 を用いて、基板側駆動用電極と素子側検出用電極との間の結合を遮断できると共に 、素子側駆動用電極と基板側検出用電極との間の結合をも遮断することができる。こ の結果、基板側の電極と素子側の電極との間でもクロストークが生じるのを防止でき 、オフセット温度ドリフト特性等を向上させることができる。
[0018] (2) .また、本発明が採用する他の構成の特徴は、前記基板は複数の絶縁層から なる多層基板を用いて構成し、該多層基板の内部には、 2つの絶縁層の間に前記検 出用配線を配置し、前記多層基板には、その厚さ方向に対して前記検出用配線と異 なる位置に、前記検出用配線と対向したインピーダンスの低 ヽ低インピーダンス配線 を設け、前記角速度検出素子には、前記多層基板との実装面側に位置して前記駆 動手段に接続された素子側駆動用電極と、前記変位検出手段に接続された素子側 検出用電極と、前記素子側駆動用電極または素子側検出用電極を取り囲み素子側 駆動用電極および素子側検出用電極の間の結合を遮断する素子側低インピーダン ス電極とを設け、前記多層基板の表面には、前記駆動用配線に接続され前記素子 側駆動用電極と対向する基板側駆動用電極と、前記検出用配線に接続され前記素 子側検出用電極と対向する基板側検出用電極と、前記基板側駆動用電極または基 板側検出用電極を取り囲み前記基板側駆動用電極および基板側検出用電極の間 の結合を遮断する基板側低インピーダンス電極とを設け、前記角速度検出素子を前 記多層基板の表面に金属バンプを用いて実装し、前記素子側駆動用電極と基板側 駆動用電極とを該金属バンプを用いて接続し、前記素子側検出用電極と基板側検 出用電極とを前記金属バンプを用いて接続し、前記素子側低インピーダンス電極と 基板側低インピーダンス電極とを低インピーダンスの基準電位に接続し、前記素子 側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極との少なくとも一部を、前記 素子側駆動用電極と素子側検出用電極との間で互いに対向させたことにある。
[0019] このように構成したことにより、低インピーダンス配線を用いて高インピーダンスの検 出用配線をシールドすることができる。このため、駆動用配線と検出用配線との間で 駆動信号が検出信号に混入するのを防ぐことができ、静止時出力のずれを防止し、 オフセット温度ドリフト特性を向上させることができる。
[0020] また、角速度検出素子等が実装される基板として多層基板を用いるから、素子等の 配置の自由度も高めることができる。この結果、配線等を含めた実装面積を低減する ことができ、装置全体を小型化することができる。
[0021] さらに、多層基板を用いることによって配線を自由に引き回すことができるから、多 層基板の表面や角速度検出素子の実装面には駆動用電極、検出用電極を自由な 位置に配置することができる。このため、多層基板上に角速度検出素子をフリップチ ップ実装することができ、ワイヤボンディング実装した場合に比べて、生産性や検出 感度を向上することができる。
[0022] また、角速度検出素子の実装面には素子側駆動用電極または素子側検出用電極 を取り囲む素子側低インピーダンス電極を設けたから、素子側低インピーダンス電極 によって素子側駆動用電極と素子側検出用電極との間の結合を遮断することができ る。一方、多層基板の表面には基板側駆動用電極または基板側検出用電極を取り 囲む基板側低インピーダンス電極を設けたから、基板側低インピーダンス電極によつ て基板側駆動用電極と基板側検出用電極との間の結合を遮断することができる。
[0023] さらに、本発明では、多層基板に角速度検出素子を金属バンプを用いてフリツプチ ップ実装したときには、素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極 とは少なくとも一部が前記素子側駆動用電極と素子側検出用電極との間で互いに対 向する構成とした。このとき、素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス 電極とが互いに対向する対向部位は、素子側駆動用電極と素子側検出用電極との 間に位置するのに加え、基板側駆動用電極と基板側検出用電極との間に位置する 。このため、 2つの低インピーダンス電極の対向部位を用いて、基板側駆動用電極と 素子側検出用電極との間の結合を遮断できると共に、素子側駆動用電極と基板側 検出用電極との間の結合をも遮断することができる。この結果、基板側の電極と素子 側の電極との間でもクロストークが生じるのを防止でき、オフセット温度ドリフト特性等 を向上させることができる。
[0024] (3) .この場合、本発明では、前記素子側低インピーダンス電極と基板側低インピ 一ダンス電極とが互いに対向する対向部位は、前記素子側検出用電極および基板 側検出用電極を取り囲む構成としてもよい。
これにより、 2つの低インピーダンス電極の対向部位は、素子側と基板側の両方の 検出用電極を取り囲むから、これらの検出用電極と素子側駆動用電極、基板側駆動 用電極との間の結合を確実に遮断することができる。この結果、駆動用電極と検出用 電極との間でクロストークが生じるのを防止でき、オフセット温度ドリフト特性等を向上 させることがでさる。
図面の簡単な説明
[0025] [図 1]図 1は本発明の第 1の実施の形態による角速度計測装置を示す斜視図である。
[図 2]図 2は図 1中の角速度検出素子を示すブロック図である。
[図 3]図 3は図 1中の角速度検出素子と多層基板とを分解した状態で拡大して示す分 解斜視図である。
[図 4]図 4は図 3中の角速度検出素子を示す底面図である。
[図 5]図 5は図 3中の多層基板をレジスト膜を省いた状態で示す平面図である。
[図 6]図 6は第 1の実施の形態による角速度検出素子のグランド電極と多層基板のグ ランド電極とが互いに対向する部位を示す説明図である。
[図 7]図 7は角速度計測装置を図 1中の矢示 VII— VII方向からみた断面図である。
[図 8]図 8は角速度計測装置を図 1中の矢示 VIII— VIII方向力もみた断面図である。
[図 9]図 9は図 1中の多層基板を分解して示す分解斜視図である。
[図 10]図 10は第 2の実施の形態による角速度計測装置を示す正面図である。
[図 11]図 11は第 3の実施の形態による角速度検出素子と多層基板とを分解した状態 で拡大して示す分解斜視図である。
[図 12]図 12は図 11中の角速度検出素子を示す底面図である。
[図 13]図 13は図 11中の多層基板をレジスト膜を省いた状態で示す平面図である。
[図 14]図 14は第 3の実施の形態による角速度検出素子のグランド電極と多層基板の グランド電極とが互いに対向する部位を示す説明図である。
[図 15]図 15は第 3の実施の形態による多層基板を分解して示す分解斜視図である。
[図 16]図 16は第 1の変形例による角速度検出素子を示す底面図である。
[図 17]図 17は第 1の変形例による角速度検出素子のグランド電極と多層基板のダラ ンド電極とが互いに対向する部位を示す説明図である。
[図 18]図 18は第 4の実施の形態による角速度検出素子を示す底面図である。
[図 19]図 19は第 4の実施の形態による多層基板をレジスト膜を省いた状態で示す平 面図である。
[図 20]図 20は第 4の実施の形態による角速度検出素子のグランド電極と多層基板の グランド電極とが互いに対向する部位を示す説明図である。
符号の説明
1 角速度検出素子
2 素子基板
3, 4 振動体 5A, 5B, 6A, 6B 駆動部(駆動手段)
7A, 7B, 8A, 8B 検出部 (変位検出手段)
9〜12, 71〜74, 121〜124 素子側駆動用電極
13, 14, 75, 76, 125, 126 素子側検出用電極
15, 77, 127 グランド電極(素子側低インピーダンス電極)
21, 81, 128 多層基板
22〜24, 82〜85 絶縁層
29〜32, 91〜94, 129〜132 基板側駆動用電極
33, 34, 95, 96, 133, 134 基板側検出用電極
35, 97, 97' , 135 グランド電極(基板側低インピーダンス電極)
41, 42, 102, 103 駆動用配線
43, 44, 105, 106 検出用配線
45, 50, 51, 107, 112, 113 グランド電極(低インピーダンス配線)
発明を実施するための最良の形態
[0027] 以下、本発明の好ましい実施の形態による角速度計測装置について、添付図面を 参照しつつ詳細に説明する。
[0028] ここで、図 1ないし図 9は第 1の実施の形態を示している。図において、 1は後述する 多層基板 21に搭載される振動型ジャイロ素子力もなる角速度検出素子を示している 。該角速度検出素子 1は、図 2に示すように、直交する 3軸のうち素子基板 2と平行な 第 1,第 2の軸方向 (X軸方向、 Y軸方向)に変位可能な振動体 3, 4と、該振動体 3, 4を X軸方向に振動させるための駆動手段としての駆動部 5A, 5B, 6A, 6Bと、前記 振動体 3, 4が Y軸方向に変位するのを検出する変位検出手段としての検出部 7A, 7B, 8A, 8Bとによって大略構成されている。
[0029] ここで、素子基板 2は例えばガラス基板等を用いて形成されて ヽる。また、振動体 3 , 4、駆動部 5A, 5B, 6A, 6B、検出部 7A, 7B, 8A, 8Bは、例えば素子基板 2上に 陽極接合されたシリコン基板に対してエッチング等の微細加工を施すことによって形 成されている。また、振動体 3, 4は梁(図示せず)等を用いて X軸方向、 Y軸方向に 変位可能に支持されると共に、駆動部 5A, 5B, 6A, 6B、検出部 7A, 7B, 8A, 8B は例えば櫛歯状の電極によって構成されている。
[0030] さらに、素子基板 2の裏面 (実装面)には、図 2ないし図 4に示すように、素子側駆動 用電極 9〜12、素子側検出用電極 13, 14および素子側低インピーダンス電極として のグランド電極 15が設けられている。そして、駆動部 5A, 5B, 6A, 6Bは、スルーホ 一ル等を用いて素子側駆動用電極 9, 10, 11, 12にそれぞれ接続されると共に、検 出部 7A, 8Bは素子側検出用電極 13に接続され、検出部 7B, 8Aは素子側検出用 電極 14に接続されている。また、グランド電極 15は、後述する多層基板 21側のダラ ンド電極 35に接続されている。これ〖こより、グランド電極 15は、低インピーダンスの基 準電位としてのグランド電位に保持されると共に、振動体 3, 4は該グランド電極 15に 接続されている。
[0031] これにより、駆動部 5A, 5Bに互いに逆位相となった電圧等の駆動信号 Vdl, Vd2 を印加すると、この駆動信号 Vdl, Vd2に応じて振動体 3と駆動部 5A, 5Bとの間に静 電引力が作用し、振動体 3は X軸方向に振動する。そして、この状態で素子基板 2に 垂直な Z軸方向に角速度 Ωが加わると、振動体 3にはコリオリカが作用し、振動体 3 は Y軸方向に変位 (振動)する。このとき、検出部 7A, 7Bと振動体 3との間の静電容 量が変化するから、検出部 7A, 7Bは、この静電容量に応じた電圧等を検出信号 V si, Vs2として出力する。
[0032] 同様に、駆動部 6A, 6Bにも互いに逆位相の駆動信号 Vd2, Vdlが印加されるから 、振動体 4に Z軸方向の角速度 Ωが加わると、振動体 4は Y軸方向に変位 (振動)す る。このため、検出部 8A, 8Bは、振動体 4との間の静電容量に応じた電圧等を検出 信号 Vs3, Vs4として出力する。
[0033] なお、駆動部 5A, 6Bには駆動信号 Vdlが入力され、駆動部 5B, 6Aには駆動信 号 Vd2が入力されるから、振動体 3, 4は X軸方向に対して互いに逆方向に振動する 構成となっている。また、振動体 3, 4はほぼ同じ形状に形成されているから、これらの 振動体 3, 4に同じ角速度 Ωが作用すると、検出部 7A, 8Bの検出信号 Vsl, Vs4の 変化量は同じ値となると共に、検出部 7B, 8Aの検出信号 Vs2, Vs3の変化量も同じ 値となるものである。一方、振動体 3, 4に対して Y軸方向の同じ加速度が作用すると 、検出部 7A, 8Bの検出信号 Vsl, Vs4の変化量は逆符号 (正負が逆)で同じ値となり 、検出部 7B, 8Aの検出信号 Vs2, Vs3も逆符号で同じ値となるものである。このため 、検出部 7A, 8Bを素子側検出用電極 13に接続すると共に、検出部 7B, 8Aを素子 側検出用電極 14に接続することによって、検出信号 Vs 1〜Vs4から加速度成分を除 去し、角速度成分のみを出力する構成となっている。
[0034] ここで、素子側駆動用電極 9〜12、素子側検出用電極 13, 14は、それぞれ島状に 形成されている。また、素子側駆動用電極 9, 10と素子側駆動用電極 11, 12は、図 3および図 4に示すように、素子基板 2の裏面側に位置して互いに Y軸方向に離間し た位置に設けられている。これに対し、素子側検出用電極 13, 14は、素子基板 2の 中央部側に配置されている。また、グランド電極 15は、素子側駆動用電極 9〜12、 素子側検出用電極 13, 14と絶縁されるように素子基板 2の裏面のうちこれらの電極 9 〜 14の周囲(近傍)を除いた部分に形成されている。このため、グランド電極 15は、 素子基板 2の裏面に全面に亘つて形成されている。ただし、グランド電極 15には、素 子側駆動用電極 9, 10の位置と素子側駆動用電極 11, 12の位置とにそれぞれ開口 16が形成され、素子側検出用電極 13, 14の位置に開口 17が形成されている。これ により、グランド電極 15のうち開口 17の周囲に位置する枠状をなす枠部 18が、素子 側検出用電極 13, 14を取り囲むと共に、素子側検出用電極 13, 14と素子側駆動用 電極 9〜 12との間に配置されて!、る。
[0035] そして、電極 9〜15は、電極パッド 9A〜15Aを介して後述する多層基板 21側の電 極 29〜35とそれぞれ接続される構成となって 、る。
[0036] 21は角速度検出素子 1等が実装される多層基板を示している。該多層基板 21は、 図 7ないし図 9に示すように、例えばアルミナ等のセラミックス材料力もなる 3層の絶縁 層 22〜24によって構成され、これらの絶縁層 22〜24は互いに積層されている。そし て、多層基板 21の表面 21Aには第 1の電極層 25が形成され、絶縁層 22, 23間には 第 2の電極層 26が形成され、絶縁層 23, 24間には第 3の電極層 27が形成されると 共に、多層基板 21の裏面 21Bには第 4の電極層 28が形成されている。
[0037] 29〜32は多層基板 21の表面 21A (最上層の絶縁層 22の表面)に設けられた帯 状の基板側駆動用電極を示している。該基板側駆動用電極 29〜32は、素子側駆 動用電極 9〜12と対向した位置に配置されると共に、多層基板 21の中央部から外周 部に向けて延びている。そして、基板側駆動用電極 29, 30と基板側駆動用電極 31 , 32は Y軸方向に離間して配置され、基板側駆動用電極 29, 32は後述の駆動用配 線 41に接続され、基板側駆動用電極 30, 31は後述の駆動用配線 42に接続されて いる。
[0038] 33, 34は多層基板 21の表面 21Aに設けられた島状の基板側検出用電極を示し ている。該基板側検出用電極 33, 34は、素子側検出用電極 13, 14と対向した位置 に配置され、基板側駆動用電極 29, 30と基板側駆動用電極 31, 32との間に位置し ている。そして、基板側検出用電極 33, 34は、後述のスルーホール 46, 47を介して 多層基板 21の内部に設けられた検出用配線 43, 44に接続されている。
[0039] 35は多層基板 21の表面 21Aに設けられた基板側低インピーダンス電極としてのグ ランド電極を示している。該グランド電極 35は、多層基板 21の表面 21Aのうち角速 度検出素子 1と対向する部位全体に形成されている。ただし、グランド電極 35は、基 板側駆動用電極 29〜32、基板側検出用電極 33, 34と絶縁されるよう〖こ、これらの 電極 29〜34の周囲(近傍)を除いた部分に形成されている。このため、グランド電極 35には、多層基板 21の外側に向けて延びる基板側駆動用電極 29〜32の位置に各 電極 29〜32に沿って延びる切欠き 36がそれぞれ形成されると共に、基板側検出用 電極 33, 34の位置には開口 37が形成されている。これにより、グランド電極 35のうち 開口 37の周隨こ位置する枠状をなす枠部 38が、基板側検出用電極 33, 34を取り 囲むと共に、基板側検出用電極 33, 34と基板側駆動用電極 29〜32との間に配置 されている。
[0040] また、多層基板 21に角速度検出素子 1をフリップチップ実装したときには、多層基 板 21側のグランド電極 35は角速度検出素子 1側のグランド電極 15に対して互いに 対向し (重なり合い)、グランド電極 15, 35の対向部位 All, A12 (図 6中で破線で囲 む部位)が形成される。このとき、グランド電極 15, 35の対向部位 Allは、素子側検 出用電極 13, 14を取り囲むと共に、基板側検出用電極 33, 34を取り囲む枠状に形 成される。これにより、グランド電極 15, 35の対向部位 Allは、素子側駆動用電極 9 〜12と素子側検出用電極 13, 14との間に配置されている。
[0041] また、グランド電極 15, 35の対向部位 A12は、対向部位 Allの Y軸方向両側に位 置して X軸方向に延びる帯状に形成される。そして、グランド電極 15, 35の対向部位 A12は、対向部位 Allとの間に素子側駆動用電極 9〜12、基板側検出用電極 33, 3 4を挟んでいる。
[0042] また、グランド電極 35は後述の信号処理回路部 52に向けて延びるグランド配線 39 に接続されている。これにより、グランド電極 35は、信号処理回路部 52のグランド電 極(図示せず)に接続され、低インピーダンスの基準電位としてグランド電位に保持さ れている。
[0043] さらに、多層基板 21の表面には略全面に亘つてレジスト膜 40が設けられている。そ して、レジスト膜 40は電極 29〜35を覆っている。ただし、各電極 29〜35のうち電極 パッド 29A〜35Aは露出している。これにより、電極 29〜35は、電極パッド 29A〜3 5A上に設けられた例えば金等の導電性金属材料力 なる金属バンプ Bを用いて角 速度検出素子 1の電極パッド 9 A〜 15 Aに接続され、角速度検出素子 1が多層基板 21にフリップチップ実装される構成となっている。
[0044] 41, 42は多層基板 21の表面 21Aに設けられた駆動用配線を示している。該駆動 用配線 41, 42は、図 1および図 9に示すように多層基板 21の Y軸方向に向けて延び 、基板側駆動用電極 29〜32と信号処理回路部 52との間を接続すると共に、電極 29 〜35、グランド配線 39と共に第 1の電極層 25を構成している。ここで、駆動用配線 4 1は基板側駆動用電極 29, 32に接続されている。一方、駆動用配線 42は、グランド 配線 39を挟んで駆動用配線 41とは X軸方向の反対側に位置し、基板側駆動用電 極 30, 31に接続されている。これにより、駆動用配線 41, 42は、信号処理回路部 52 力ゝら印加される互いに逆位相の駆動信号 Vdl, Vd2を基板側駆動用電極 29〜32に 供給し、角速度検出素子 1の振動体 3, 4を X軸方向に振動させるものである。
[0045] 43, 44は多層基板 21の内部に設けられた検出用配線を示している。該検出用配 線 43, 44は、絶縁層 23, 24間に位置して角速度検出素子 1から信号処理回路部 5 2に向けて互いに平行に Y軸方向に延びている。また、絶縁層 23, 24間には、検出 用配線 43, 44をそれぞれ取り囲む低インピーダンス配線としてのグランド電極 45が 設けられている。ここで、該グランド電極 45は、スルーホール(図示せず)等を介して 信号処理回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続されている。そして、検出用配 線 43, 44は、グランド電極 45と共〖こ、第 3の電極層 27を構成している。
[0046] また、検出用配線 43, 44は、その一端側がスルーホール 46, 47を介して基板側 検出用電極 33, 34に接続されると共に、他端側がスルーホール 48, 49を介して信 号処理回路部 52に接続されている。
[0047] 50は絶縁層 22, 23間に設けられた低インピーダンス配線としてのグランド電極を 示している。該グランド電極 50は、検出用配線 43, 44の略全長に亘つて対向して絶 縁層 23の表面側を略全面に亘つて覆っている。ただし、グランド電極 50は、検出用 配線 43, 44等と絶縁するためにスルーホール 46〜49の周囲を除いた位置に形成 されている。また、グランド電極 50は、スルーホール(図示せず)等を介して信号処理 回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続されると共に、第 2の電極層 26を構成し ている。そして、グランド電極 50は、駆動用配線 41, 42と検出用配線 43, 44との間 に配置され、これらの間の結合容量を小さくしている。
[0048] 51は多層基板 21の裏面 21Bに設けられた低インピーダンス配線としてのグランド 電極を示している。該グランド電極 51は、検出用配線 43, 44の略全長に亘つて対向 して裏面 21 Bを略全面に亘つて覆 、、スルーホール(図示せず)等を介して信号処 理回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続されると共に、第 4の電極層 28を構成 している。そして、グランド電極 50は、駆動用配線 41, 42と検出用配線 43, 44との 間の結合容量を小さくすると共に、外部力ゝらのノイズ (雑音信号)が検出用配線 43, 4 4に混入するのを防止している。
[0049] 52は多層基板 21の表面 21Aに設けられた信号処理手段としての信号処理回路部 を示している。該信号処理回路部 52は、ベアチップ IC52A、各種の能動素子、受動 素子力もなる回路部品 52B等によって構成されると共に、例えばベアチップ IC52A はフリップチップ実装され、回路部品 52Bはリフローによる半田付けによって SMD実 装 (表面実装)されている。
[0050] また、信号処理回路部 52は、駆動用配線 41, 42、検出用配線 43, 44、グランド配 線 39、グランド電極 45, 50, 51にそれぞれ接続されると共に、多層基板 21の表面 2 1 Aに設けられたグランド配線 53、電源配線 54、出力信号配線 55にも接続されてい る。そして、信号処理回路部 52は、グランド配線 53を介して外部のグランドに接続さ れると共に、電源配線 54を介して駆動電源電圧が供給される。これにより、信号処理 回路部 52は、互いに逆位相の駆動信号 Vdl, Vd2を駆動用配線 41, 42を介して角 速度検出素子 1に供給すると共に、角速度検出素子 1からの検出信号 Vs 1〜 Vs4を 検出用配線 43, 44を介して受け取り、各種の演算処理等を施すことによって角速度 Ωに応じた出力信号 Voを出力する。また、信号処理回路部 52は、この出力信号 Vo を出力信号配線 55を介して外部に向けて出力する。
[0051] 本実施の形態による角速度計測装置は上述の如き構成を有するもので、次にその 作動について説明する。
[0052] まず、信号出力回路部 52が駆動用配線 41, 42に対して互いに逆位相な駆動信号 Vdl, Vd2を出力すると、駆動信号 Vdl, Vd2は駆動用電極 9〜12, 29〜32を通じて 角速度検出素子 1の駆動部 5A, 5B, 6A, 6Bに印加される。これにより、振動体 3, 4 に静電引力が作用し、振動体 3, 4は X軸に沿って図 2中の矢示 al, a2方向に振動す る。この状態で Z軸周りの角速度 Ωが作用すると、振動体 3, 4には以下の数 1に示す コリオリカが作用するから、振動体 3, 4は角速度 Ωに応じて Y軸に沿って図 2中の矢 示 bl, b2方向に変位、振動する。
[0053] [数 1]
F = 2x Mx Q x v
但し、 M:振動体 3, 4の質量
Ω:Ζ軸周りの角速度
V:振動体 3, 4の X軸方向の速度
[0054] このとき、検出部 7Α, 7Β, 8Α, 8Βは、振動体 3, 4の Υ軸方向の変位に応じて振動 体 3, 4との間の静電容量が変化するから、これらの容量変化に応じた検出信号 Vsl 〜Vs4を出力する。これらの検出信号 Vsl〜Vs4は、検出用電極 13, 14で合成する ことで加速度成分が除去されると共に、検出用電極 33, 34と検出用配線 43, 44を 通じて信号処理回路部 52に入力される。このため、信号処理回路部 52は、検出信 号 Vsl〜Vs4に対して同期検波等の信号処理を行うことにより、角速度 Ωを検出し、 出力信号 Voとして外部に出力する。
[0055] 然るに、駆動信号 Vdl, Vd2、検出信号 Vsl〜Vs4はいずれも数十 kHz程度の比較 的低い周波数を有するのに対し、駆動用配線 41, 42と検出用配線 43, 44との間の 結合容量は非常に小さい(例えば数 fF程度)。このため、駆動信号 Vdl, Vd2と検出 信号 Vsl〜Vs4とのクロストークは非常に小さいから、角速度計測装置以外の場合に はクロストークによる信号の混入は無視できる程度の大きさである。しかし、角速度検 出素子 1ではコリオリカによる振動体 3, 4の変位が非常に小さいため、駆動信号 Vdl , Vd2に比べて検出信号 Vsl〜Vs4は小さい値となる。また、クロストークの位相と検 波の位相とが等しいため、検波でクロストークを除去することができない。このため、 駆動信号 Vdl, Vd2が僅か〖こ検出信号 Vsl〜Vs4に混入したときでも、静止時出力の ずれとオフセット温度ドリフト特性とが悪ィ匕してしまう。
[0056] そこで、従来技術では、駆動信号と検出信号との間のクロストークを相殺するように 駆動用配線と検出用配線とを対称形状に形成していたが、この場合には配線の引き 回し自由度が制限されるのに加え、角速度検出素子が位置ずれした状態で基板に 実装されたときには駆動用配線と検出用配線との結合容量が変化し、クロストークを 十分に相殺することができな 、と 、う問題があった。
[0057] これに対し、本実施の形態によれば、検出用配線 43, 44を多層基板 21の内部に 設けると共に、多層基板 21には、厚さ方向に対して該検出用配線 43, 44と異なる位 置に検出用配線 43, 44を覆うグランド電極 50, 51を設けたから、グランド電極 50, 5 1を用いて高インピーダンスの検出用配線 43, 44をシールドすることができる。このた め、駆動用配線 41, 42と検出用配線 43, 44との間で駆動信号 Vdl, Vd2が検出信 号 Vsl〜Vs4に混入するのを防ぐことができ、静止時出力のずれを防止し、オフセット 温度ドリフト特性を向上させることができる。
[0058] また、角速度検出素子 1等を多層基板 21に実装するから、従来技術のように単層 の基板を用いた場合に比べて、駆動用配線 41, 42、検出用配線 43, 44等に対する 引き回しの制約を無くすことができ、素子 1等の配置の自由度も高めることができる。 この結果、配線 41〜44等を含めた実装面積を低減することができ、装置全体を小型 ィ匕することがでさる。
[0059] さらに、多層基板 21を用いることによって配線 41〜44等を自由に引き回すことが できるから、例えば駆動用配線 41, 42と検出用配線 43, 44とを対称性をもって配置 し、駆動用配線 41と検出用配線 43との間の結合容量を駆動用配線 42と検出用配 線 44との間の結合容量とほぼ同じ値に設定することができる。このため、駆動用配線 41, 42と検出用配線 43との間で結合が生じるときでも、駆動信号と検出信号との間 のクロストークを相殺し、検出感度を高めることができる。
[0060] また、多層基板 21を用いることによって配線 41〜44等を自由に引き回すことがで きる力も、多層基板 21の表面 21Aには、角速度検出素子 1と接続するための電極 29 〜35を高密度に配置できると共に、多層基板 21の表面 21Aには、素子側駆動用電 極 9〜12、素子側検出用電極 13, 14と対向するように、基板側駆動用電極 29〜32 、基板側検出用電極 33, 34を自由な位置に配置することができる。このため、多層 基板 21上に角速度検出素子 1をフリップチップ実装することができる。この結果、ワイ ャボンディング実装した場合に比べて、生産性を向上することができると共に、ワイヤ 等からのノイズの混入がなくなり、検出感度を向上することができる。
[0061] 特に、本実施の形態では、グランド電極 50を駆動用配線 41, 42と検出用配線 43, 44との間に配置する構成としたから、グランド電極 50を用いて駆動用配線 41, 42と 検出用配線 43, 44との間を遮断することができ、これらの間のクロストークの発生を 確実に防ぐことができる。
[0062] また、角速度検出素子 1の実装面には素子側駆動用電極 9〜12と素子側検出用 電極 13, 14を設けると共に、多層基板 21の表面 21Aには基板側駆動用電極 29〜 32と基板側検出用電極 33, 34を設け、素子側駆動用電極 9〜12と基板側駆動用 電極 29〜32とを接続し、素子側検出用電極 13, 14と基板側検出用電極 33, 34と を接続して、角速度検出素子 1を多層基板 21にフリップチップ実装する構成としたか ら、例えば信号処理回路部 52をなすベアチップ IC52A等の実装工程と一緒に角速 度検出素子 1を実装することができ、ワイヤボンディング実装した場合に比べて、生 産性を向上することができる。
[0063] また、角速度検出素子 1の実装面には素子側駆動用電極 9〜12と素子側検出用 電極 13, 14との間に位置してグランド電極 15を設けたから、グランド電極 15によって 素子側駆動用電極 9〜12と素子側検出用電極 13, 14との間の結合を遮断すること ができる。また、多層基板 21に角速度検出素子 1をフリップチップ実装したときには、 素子側駆動用電極 9〜12と基板側駆動用電極 29〜32は互いに対向した状態で接 続されると共に、素子側検出用電極 13, 14と基板側検出用電極 33, 34も互いに対 向した状態で接続されるから、グランド電極 15は基板側駆動用電極 29〜32と基板 側検出用電極 33, 34との間に配置される。このため、グランド電極 15によって基板 側駆動用電極 29〜32と基板側検出用電極 33, 34との間の結合をも遮断することが できる。この結果、これらの電極 29〜32と電極 33, 34との間でクロストークが生じる のを防止でき、オフセット温度ドリフト特性等を向上させることができる。
[0064] さらに、多層基板 21の表面 21Aには基板側駆動用電極 29〜32と基板側検出用 電極 33, 34との間に位置してグランド電極 35を設けたから、グランド電極 35によって 基板側駆動用電極 29〜32と基板側検出用電極 33, 34との間の結合を遮断するこ とができる。このため、角速度検出素子 1のグランド電極 15との相乗効果によって、駆 動用電極 9〜12, 29〜32と検出用電極 13, 14, 33, 34との間の結合を確実に遮 断することができ、クロストークの遮断効果を高めることができる。
[0065] また、従来技術では、基板に対して角速度検出素子が位置ずれして実装されたと きには、基板側の電極パッドと角速度検出素子の電極パッドとの間で結合容量が変 化し、クロストークが発生する傾向があった。しかし、本実施の形態では、駆動用電極 9〜12, 29〜32と検出用電極 13, 14, 33, 34との間にグランド電極 15, 35を設け たから、角速度検出素子 1が多層基板 21に位置ずれして実装されるときでも、駆動 用電極 9〜12, 29〜32と検出用電極 13, 14, 33, 34との間にグランド電極 15, 35 の対向部位 Allを配置することができる。この結果、グランド電極 15, 35の対向部位 Allを用いて駆動用電極 9〜12, 29〜32と検出用電極 13, 14, 33, 34との間の結 合を遮断し、クロストークの発生を防止することができる。
[0066] また、多層基板 21に対して角速度検出素子 1を金属バンプ Bを用いてフリップチッ プ実装する構成としたから、基板側駆動用電極 29〜32と素子側駆動用電極 9〜12 とが非常に接近し、例えば数十 m程度の隙間を介して互いに対向する。同様に、 基板側検出用電極 33, 34と素子側検出用電極 13, 14も接近した状態で対向する。 このため、電極 9〜14, 29〜34を高密度に設けたときには、駆動用電極 9〜12, 29 〜32と検出用電極 13, 14, 33, 34も接近するから、基板側駆動用電極 29〜32と 素子側検出用電極 13, 14との間でクロストークが生じる傾向があると共に、素子側駆 動用電極 9〜12と基板側検出用電極 33, 34との間でもクロストークが生じる傾向が ある。
[0067] しかし、本実施の形態では、多層基板 21に角速度検出素子 1をフリップチップ実装 したときには、グランド電極 15, 35は少なくとも一部が素子側駆動用電極 9〜12と素 子側検出用電極 13, 14との間で互いに対向する構成とした。このとき、グランド電極 15, 35が互いに対向する対向部位 Allは、素子側駆動用電極 9〜12と素子側検出 用電極 13, 14との間に位置するのに加え、基板側駆動用電極 29〜32と基板側検 出用電極 33, 34との間に位置する。このため、グランド電極 15, 35の対向部位 All を用いて、基板側駆動用電極 29〜32と素子側検出用電極 13, 14との間の結合を 遮断できると共に、素子側駆動用電極 9〜12と基板側検出用電極 33, 34との間の 結合をも遮断することができる。この結果、多層基板 21側の電極 29〜34と角速度検 出素子 1側と電極 9〜14との間でクロストークが生じるのを防止でき、オフセット温度ド リフト特性等を向上させることができる。
[0068] 特に、本実施の形態では、グランド電極 15, 35の対向部位 Allは、素子側検出用 電極 13, 14を取り囲むのに加えて、基板側検出用電極 33, 34をも取り囲む構成とし ている。このため、これらの検出用電極 13, 14, 33, 34と素子側駆動用電極 9〜12 、基板側駆動用電極 29〜32との間の結合を確実に遮断することができる。この結果 、馬区動用電極 9〜12, 29〜33と検出用電極 13, 14, 33, 34との間でクロストーク力 S 生じるのを確実に防止することができる。
[0069] さらに、グランド電極 15, 35の対向部位 All, A12の間に駆動用電極 9〜12, 29 〜32を挟む構成としたから、駆動信号 Vdl, Vd2を駆動用電極 9〜12, 29〜32の周 囲に確実に閉じ込めることができ、クロストークの抑制効果を高めることができる。
[0070] また、多層基板 21には角速度検出素子 1が実装される部位に位置して基板側検出 用電極 33, 34と検出用配線 43, 44とを接続するスルーホール 46, 47を設けた。こ のため、基板側検出用電極 33, 34は角速度検出素子 1の素子側検出用電極 13, 1 4と対向する位置にだけ配置すればよぐ基板側駆動用電極 29〜32等の他の電極 の引き回し自由度を高めることができる。また、基板側検出用電極 33, 34は角速度 検出素子 1が実装される部位で多層基板 21の内部に設けられた検出用配線 43, 44 に接続されるから、多層基板 21の表面 21A側で信号処理回路部 52に接続した場合 に比べて、外部からのノイズの混入を防止することができ、角速度 Ωの検出感度を高 めることができる。
[0071] また、基板側検出用電極 33, 34の長さ寸法 (検出部 7A, 7B, 8A, 8Bと検出用配 線 43, 44との間の長さ寸法)を短くすることができるから、基板側検出用電極 33, 34 等が駆動用電極 29〜32等に結合するのを抑制することができる。
[0072] さらに、角速度検出素子 1の振動体 3, 4、駆動部 5A, 5B, 6A, 6Bおよび検出部 7 A, 7B, 8A, 8Bは、シリコン材料に微細加工を施すことによって形成したから、角速 度検出素子 1を小型化することができる。また、多層基板 21の内部に検出用配線 43 , 44を設けることによって多層基板 21側の電極配置の自由度が高いから、小型化に よって角速度検出素子 1の外部接続用の電極 9〜15が高密度に配置されたときでも 、多層基板 21上に角速度検出素子 1をフリップチップ実装することができる。
[0073] また、角速度検出素子 1の検出部 7A, 7B, 8A, 8Bは振動体 3, 4の変位に応じた 静電容量を検出する構成としたから、検出用配線 43, 44と駆動用配線 41, 42との 間の結合容量によって検出信号 Vsl〜Vs4が劣化し易い傾向がある。これに対し、本 実施の形態では、多層基板 21の内部に検出用配線 43, 44を配置すると共に、該検 出用配線 43, 44をグランド電極 45, 50, 51で覆う構成としたから、検出用配線 43, 44と駆動用配線 41, 42との間の結合容量を低減してクロストークの発生を抑制する ことができる。
[0074] さらに、多層基板 21の絶縁層 22〜24は例えばアルミナ等の絶縁性のセラミックス 材料を用いて形成したから、角速度検出素子 1の素子基板 2にガラス基板等を用い た場合には、絶縁層 22〜24に榭脂材料を用いたときに比べて、熱膨張係数の差を 小さくすることができ、検出感度や静止時出力の変化を抑制することができる。
[0075] 次に、図 10は本発明による第 2の実施の形態を示し、本実施の形態の特徴は、信 号処理回路部を構成するベアチップ IC、回路部品のうちフリップチップ実装されるべ ァチップ IC等を角速度検出素子と同じ多層基板の表面側に設け、表面実装される 回路部品を多層基板の裏面側に設けたことにある。なお、本実施の形態では前記第 1の実施の形態と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものと する。
[0076] 61は多層基板 21の表面 21Aに設けられた信号処理手段としての信号処理回路部 を示している。該信号処理回路部 61は、第 1の実施の形態と同様に、ベアチップ IC6 1A、回路部品 61B等によって構成されている。そして、ベアチップ IC61Aは角速度 検出素子 1と同じ多層基板 21の表面 21A側に位置してフリップチップ実装され、回 路部品 61Bは角速度検出素子 1と異なる多層基板 21の裏面 21B側に位置してリフロ 一による半田付けによって SMD実装 (表面実装)されている。また、信号処理回路部 61は、駆動用配線、検出用配線 (いずれも図示せず)等に接続されている。
[0077] カゝくして、このように構成される本実施の形態でも、第 1の実施の形態とほぼ同様の 作用効果を得ることができる。そして、特に本実施の形態では、信号処理回路部 61 のうちフリップチップ実装されるベアチップ IC61Aを角速度検出素子 1と同じ多層基 板 21の表面 21Aに設けたから、ベアチップ IC61Aと角速度検出素子 1とを一緒に多 層基板 21に実装することができ、生産性を向上することができる。また、表面実装さ れる回路部品 61Bは角速度検出素子 1等と異なる多層基板 21の裏面 21B側に設け たから、回路部品 61Bをリフロー半田付けするときに、角速度検出素子 1やべァチッ プ IC61A等の実装面 (電極パッド等)がリフロー工程で汚染するのを防ぐことができる 。この結果、フリップチップ実装の接合不良等を防ぐことができ、歩留まりや実装の信 頼性を向上することができる。
[0078] 次に、図 11ないし図 15は本発明による第 3の実施の形態を示し、本実施の形態の 特徴は、駆動用配線を多層基板の内部に配置すると共に、基板側駆動用電極、基 板側検出用電極をそれぞれグランド電極を用いて取り囲む構成としたことにある。な お、本実施の形態では前記第 1の実施の形態と同一の構成要素に同一の符号を付 し、その説明を省略するものとする。
[0079] 71〜74は素子基板 2の裏面 (実装面)に設けられた島状の素子側駆動用電極を 示している。該素子側駆動用電極 71〜74は、第 1の実施の形態による素子側駆動 用電極 9〜12とほぼ同様に、駆動部 5A, 5B, 6A, 6Bに接続されている。これにより 、素子側駆動用電極 71〜74は、駆動部 5A, 6Bに駆動信号 Vdlを入力し、駆動部 5 B, 6Aに駆動信号 Vd2を入力するものである。
[0080] また、素子側駆動用電極 71, 72と素子側駆動用電極 73, 74は、図 11および図 12 に示すように、素子基板 2の裏面側に位置して互いに Y軸方向に離間した位置に設 けられている。
[0081] 75, 76は素子基板 2の裏面に設けられた島状の素子側検出用電極を示している。
該素子側検出用電極 75, 76は、素子側駆動用電極 71, 72と素子側駆動用電極 73 , 74との間に位置して素子基板 2の中央部側に配置されている。そして、素子側検 出用電極 75は検出部 7A, 8Bに接続され、素子側検出用電極 76は検出部 7B, 8A に接続されている。これにより、素子側検出用電極 75, 76は、検出部 7A, 7B, 8A, 8Bから出力される検出信号 Vs 1〜 Vs4から加速度成分を除去し、角速度成分のみを 出力する構成となっている。
[0082] 77は素子基板 2の裏面に設けられた素子側低インピーダンス電極としてのグランド 電極を示している。該グランド電極 77は、素子側駆動用電極 71〜74、素子側検出 用電極 75, 76と絶縁されるように素子基板 2の裏面のうちこれらの電極 71〜76の周 囲 (近傍)を除いた部分に形成されている。このため、グランド電極 77は、素子基板 2 の裏面に全面に亘つて形成されている。ただし、グランド電極 77には、素子側駆動 用電極 71, 72の位置と素子側駆動用電極 73, 74の位置とにそれぞれ開口 78が形 成され、素子側検出用電極 75, 76の位置に開口 79が形成されている。これにより、 グランド電極 77のうち開口 79の周囲に位置する枠状をなす枠部 80が、素子側検出 用電極 75, 76を取り囲むと共に、素子側検出用電極 75, 76と素子側駆動用電極 7 1〜74との間に配置されている。そして、グランド電極 77は、後述する多層基板 81側 のグランド電極 97に接続され、低インピーダンスの基準電位としてグランド電位に保 持されている。
[0083] 81は角速度検出素子 1等が実装される多層基板を示している。該多層基板 81は、 図 15に示すように、例えばアルミナ等のセラミックス材料力もなる 4層の絶縁層 82〜8 5によって構成され、これらの絶縁層 82〜85は互いに積層されている。そして、多層 基板 81の表面 81Aには第 1の電極層 86が形成され、絶縁層 82, 83間には第 2の電 極層 87が形成され、絶縁層 83, 84間には第 3の電極層 88が形成され、絶縁層 84, 85間には第 4の電極層 89が形成されると共に、多層基板 81の裏面 81Bには第 5の 電極層 90が形成されている。
[0084] 91〜94は多層基板 81の表面 81A (最上層の絶縁層 82の表面)に設けられた基 板側駆動用電極を示している。該基板側駆動用電極 91〜94は、図 13および図 14 に示すように、島状に形成されると共に、素子側駆動用電極 71〜74と対向した位置 に配置されている。そして、基板側駆動用電極 91, 92と基板側駆動用電極 93, 94 は Y軸方向に離間して配置され、基板側駆動用電極 91, 94は後述の駆動用配線 1 02に接続され、基板側駆動用電極 92, 93は後述の駆動用配線 103に接続されて いる。
[0085] 95, 96は多層基板 81の表面 81Aに設けられた基板側検出用電極を示している。
該基板側検出用電極 95, 96は、素子側検出用電極 75, 76と対向した位置に配置 され、基板側駆動用電極 91, 92と基板側駆動用電極 93, 94との間に位置している 。そして、基板側検出用電極 95, 96は、後述のスルーホール 108, 109を介して多 層基板 81の内部に設けられた検出用配線 105, 106に接続されている。
[0086] 97は多層基板 81の表面 81Aに設けられた基板側低インピーダンス電極としてのグ ランド電極を示している。該グランド電極 97は、多層基板 81の表面 81Aのうち角速 度検出素子 1と対向する部位全体に形成されている。ただし、グランド電極 97は、基 板側駆動用電極 91〜94、基板側検出用電極 95, 96と絶縁されるように、これらの 電極 91〜96の周囲(近傍)を除いた部分に形成されている。このため、グランド電極 97には、基板側駆動用電極 91〜94の位置に開口 98がそれぞれ形成されると共に 、基板側検出用電極 95, 96の位置には開口 99が形成されている。これにより、ダラ ンド電極 97のうち開口 99の周囲に位置する枠状をなす枠部 100が、基板側検出用 電極 95, 96を取り囲むと共に、基板側検出用電極 95, 96と基板側駆動用電極 91 〜94との間に配置されている。そして、グランド電極 97は、基板側駆動用電極 91〜 94、基板側検出用電極 95, 96等と一緒に後述する第 1の電極層 86を構成している
[0087] また、多層基板 81に角速度検出素子 1をフリップチップ実装したときには、多層基 板 81側のグランド電極 97は角速度検出素子 1側のグランド電極 77に対して互いに 対向し (重なり合い)、グランド電極 77, 97の対向部位 A31 (図 14中で破線で囲む部 位)が形成される。このとき、グランド電極 77, 97の対向部位 A31は、 3個の開口 A 31a, A31b, A31cを有している。そして、開口 A31a内には検出用電極 75, 76, 95, 96が配置され、開口 A31b内には駆動用電極 71, 72, 91, 92が配置され、開口 A 31c内には駆動用電極 73, 74, 93, 94が配置されている。このため、グランド電極 7 7, 97の対向部位 A31は、素子側検出用電極 75, 76と基板側検出用電極 95, 96と を取り囲むのに加え、素子側駆動用電極 71, 72と基板側駆動用電極 91, 92を取り 囲み、素子側駆動用電極 73, 74と基板側駆動用電極 93, 94を取り囲んでいる。こ れにより、グランド電極 77, 97の対向部位 A31は、素子側駆動用電極 71〜74と素子 側検出用電極 75, 76との間に配置されている。
[0088] また、グランド電極 97は、スルーホールを介して多層基板 81内に設けられた後述 のグランド電極 104に接続されている。また、該グランド電極 104はスルーホールを 介して信号処理回路部 52に接続されている。このため、グランド電極 97は、信号処 理回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続され、低インピーダンスの基準電位と してグランド電位に保持されて 、る。
[0089] さらに、多層基板 81の表面には略全面に亘つてレジスト膜 101が設けられている。
そして、レジスト膜 101は電極 91〜97を覆っている。ただし、各電極 91〜97のうち 電極パッド 91A〜97Aは露出している。これにより、電極 91〜97は、電極パッド 91A 〜97A上に設けられた例えば金等の導電性金属材料力もなる金属バンプ Bを用い て角速度検出素子 1の電極 71〜77に接続され、角速度検出素子 1が多層基板 81 にフリップチップ実装される構成となって 、る。
[0090] 102, 103は絶縁層 82, 83間に設けられた駆動用配線を示している。該駆動用配 線 102, 103は、図 15に示すように多層基板 81の Y軸方向に向けて延び、基板側 駆動用電極 91〜94と信号処理回路部 52との間を接続している。また、駆動用配線 102, 103は、 X軸方向に対して互いに対称形状に形成されている。ここで、駆動用 配線 102は基板側駆動用電極 91, 94に接続され、駆動用配線 103は基板側駆動 用電極 92, 93に接続されている。これにより、駆動用配線 102, 103は、信号処理回 路部 52から印加される互いに逆位相の駆動信号 Vdl, Vd2を基板側駆動用電極 91 〜94に供給し、角速度検出素子 1の振動体 3, 4を X軸方向に振動させるものである
[0091] 104は絶縁層 82, 83間に設けられたグランド電極を示している。該グランド電極 10 4は、駆動用配線 102, 103をそれぞれ取り囲んでいる。ここで、該グランド電極 104 は、その一端側がスルーホール(図示せず)を介して多層基板 81のグランド電極 97 に接続され、他端側がスルーホール(図示せず)を介して信号処理回路部 52のダラ ンド電極(図示せず)に接続されている。そして、グランド電極 104は、駆動用配線 10 2, 103と一緒に第 2の電極層 87を構成している。
[0092] 105, 106は多層基板 81の内部に設けられた検出用配線を示している。該検出用 配線 105, 106は、絶縁層 84, 85間に位置して角速度検出素子 1から信号処理回 路部 52に向けて互いに平行に Y軸方向に延びている。また、絶縁層 84, 85間には 、検出用配線 105, 106をそれぞれ取り囲む低インピーダンス配線としてのグランド 電極 107が設けられている。ここで、該グランド電極 107は、スルーホール(図示せず )等を介して信号処理回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続されている。そし て、検出用配線 105, 106は、グランド電極 107と共に、第 4の電極層 89を構成して いる。
[0093] また、検出用配線 105, 106は、その一端側がスルーホール 108, 109を介して基 板側検出用電極 95, 96に接続されると共に、他端側がスルーホール 110, 111を介 して信号処理回路部 52に接続されている。
[0094] 112は絶縁層 83, 84間に設けられた低インピーダンス配線としてのグランド電極を 示している。該グランド電極 112は、検出用配線 105, 106の略全長に亘つて対向し て絶縁層 84の表面側を略全面に亘つて覆っている。ただし、グランド電極 112は、検 出用配線 105, 106等と絶縁するためにスルーホール 108〜111の周囲を除 、た位 置に形成されている。また、グランド電極 112は、スルーホール(図示せず)等を介し て信号処理回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続されると共に、第 3の電極層 88を構成している。そして、グランド電極 112は、駆動用配線 102, 103と検出用配 線 105, 106との間に配置され、これらの間の結合容量を小さくしている。
[0095] 113は多層基板 81の裏面 81Bに設けられた低インピーダンス配線としてのグランド 電極を示している。該グランド電極 113は、検出用配線 105, 106の略全長に亘つて 対向して裏面 81Bを略全面に亘つて覆っている。また、グランド電極 113は、スルー ホール(図示せず)等を介して信号処理回路部 52のグランド電極(図示せず)に接続 されると共に、第 5の電極層 90を構成している。そして、グランド電極 113は、駆動用 配線 102, 103と検出用配線 105, 106との間の結合容量を小さくすると共に、外部 力ものノイズ (雑音信号)が検出用配線 105, 106に混入するのを防止している。
[0096] カゝくして、このように構成される本実施の形態でも、第 1の実施の形態とほぼ同様の 作用効果を得ることができる。特に、本実施の形態では、駆動用配線 102, 103を多 層基板 81の内部に配置すると共に、基板側駆動用電極 91〜94、基板側検出用電 極 95, 96をそれぞれグランド電極 97を用いて取り囲む構成としたことにある。このと き、素子側駆動用電極 71〜74、素子側検出用電極 75, 76もそれぞれグランド電極 77を用いて取り囲む構成としている。このため、グランド電極 77, 97の対向部位 A31 は、素子側検出用電極 75, 76と基板側検出用電極 95, 96とを取り囲むのに加え、 素子側駆動用電極 71〜74と基板側駆動用電極 91〜94を取り囲むことができる。こ れ〖こより、グランド電極 77, 97の対応部位 A31は、駆動用電極 71〜74, 91〜94と 検出用電極 75, 76, 95, 96との間の結合を遮断し、クロストークの発生を確実に防 止することができる。
[0097] また、グランド電極 77, 97の対向部位 A31は、駆動用電極 71〜74, 91〜94を取り 囲む構成としたから、検出用電極 75, 76, 95, 96に限らず他の電極との間のクロスト ークも防止することができる。このため、角速度検出素子 1に振動体 3, 4の駆動方向 (X軸方向)の振動を検出するモニタ手段(図示せず)を設けた場合には、例えば図 1 2および図 13中に二点鎖線で示すように、グランド電極 77, 97の外側に該モニタ手 段に接続されたモニタ電極 114, 115を設けることができる。このとき、モニタ手段も、 変位検出手段と同様に櫛歯状の電極によって構成され、検出信号 Vsl〜Vs4と同様 なモニタ信号を出力する。このため、モニタ信号も駆動信号 Vdl, Vd2の影響を受け 易い。これに対し、本実施の形態では、グランド電極 77, 97の対向部位 A31は、駆 動用電極 71〜74, 91〜94を取り囲むから、駆動用電極 71〜74, 91〜94とモニタ 電極 114, 115との間の結合も遮断でき、モニタ信号の検出精度を高めることができ る。
[0098] なお、前記第 3の実施の形態では、グランド電極 77, 97の対向部位 A31は、検出 用電極 75, 76, 95, 96を全周に亘つて途切れることなく取り囲む構成とした。しかし 、本発明はこれに限らず、例えば図 16および図 17に示す第 1の変形例のように、多 層基板 81側のグランド電極 97^ の開口 98^ を大きく形成したときには、グランド電 極 77, 97' の対向部位 A3iz のうち検出用電極 75, 76, 95, 96を取り囲む部分力 S 一部途切れる構成となってもよい。第 1の変形例でも、検出用電極 75, 76, 95, 96と 駆動用電極 71〜74, 91〜94との間には、グランド電極 77, 97' が互いに対向する 対向部位 A32' が形成されるから、該対向部位 A32' を用いて検出用電極 75, 76 , 95, 96と駆動用電極 71〜74, 91〜94との間の結合を遮断することができる。
[0099] 次に、図 18ないし図 20は本発明による第 4の実施の形態を示し、本実施の形態の 特徴は、素子側駆動用電極と素子側検出用電極との間にグランド電極を設け、基板 側駆動用電極と基板側検出用電極との間にもグランド電極を設け、これら素子側の グランド電極と基板側のグランド電極とのうち少なくとも一部を互い対向させる構成と したことにある。なお、本実施の形態では前記第 1の実施の形態と同一の構成要素 に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
[0100] 121〜124は素子基板 2の裏面 (実装面)に設けられた島状の素子側駆動用電極 を示している。該素子側駆動用電極 121〜124は、第 1の実施の形態による素子側 駆動用電極 9〜12とほぼ同様に、駆動部 5A, 5B, 6A, 6Bに接続されている。これ により、素子側駆動用電極 121〜124は、駆動部 5A, 6Bに駆動信号 Vdlを入力し、 駆動部 5B, 6Aに駆動信号 Vd2を入力するものである。
[0101] また、素子側駆動用電極 121, 122と素子側駆動用電極 123, 124は、図 18およ び図 20に示すように、素子基板 2の裏面側に位置して互いに Y軸方向に離間した位 置に設けられている。
[0102] 125, 126は素子基板 2の裏面に設けられた島状の素子側検出用電極を示してい る。該素子側検出用電極 125, 126は、素子側駆動用電極 121, 122と素子側駆動 用電極 123, 124との間に位置して素子基板 2の中央部側に配置されている。そして 、素子側検出用電極 125は検出部 7A, 8Bに接続され、素子側検出用電極 126は 検出部 7B, 8Aに接続されている。これにより、素子側検出用電極 125, 126は、検 出部 7A, 7B, 8A, 8Bから出力される検出信号 Vsl〜Vs4から加速度成分を除去し 、角速度成分のみを出力する構成となっている。
[0103] 127は素子基板 2の裏面に 2個設けられた素子側低インピーダンス電極としてのグ ランド電極を示している。ここで、一方のグランド電極 127は、素子側駆動用電極 121 , 122と素子側検出用電極 125, 126との間に配置され、他方のグランド電極 127は 、素子側駆動用電極 123, 124と素子側検出用電極 125, 126との間に配置されて いる。そして、これらのグランド電極 127は、素子側駆動用電極 121〜124、素子側 検出用電極 125, 126と絶縁されるように素子基板 2の裏面のうちこれらの電極 121 〜 126の周囲(近傍)を除いた部分に形成されている。また、グランド電極 127は、後 述する多層基板 128側のグランド電極 135に接続され、低インピーダンスの基準電 位としてグランド電位に保持されて!、る。
[0104] 128は角速度検出素子 1等が実装される多層基板を示している。該多層基板 128 は、例えば第 3の実施の形態による多層基板 81とほぼ同様に、 4層の絶縁層 82〜8 5によって構成され、その内部には駆動用配線、検出用配線、低インピーダンス配線 としてのグランド電極等 (V、ずれも図示せず)が設けられて ヽる。
[0105] 129〜132は多層基板 128の表面 128Aに設けられた基板側駆動用電極を示して いる。該基板側駆動用電極 129〜132は、図 19および図 20に示すように、島状に形 成されると共に、素子側駆動用電極 121〜124と対向した位置に配置されている。ま た、基板側駆動用電極 129, 130と基板側駆動用電極 131, 132は Y軸方向に離間 して配置され、基板側駆動用電極 129〜132は多層基板 128内の駆動用配線(図 示せず)にそれぞれ接続されている。そして、基板側駆動用電極 129, 132には駆動 信号 Vdlが印加され、基板側駆動用電極 130, 131には駆動信号 Vd2が印加される 構成となっている。
[0106] 133, 134は多層基板 128の表面 128Aに設けられた基板側検出用電極を示して いる。該基板側検出用電極 133, 134は、素子側検出用電極 125, 126と対向した 位置に配置され、基板側駆動用電極 129, 130と基板側駆動用電極 131, 132との 間に位置している。そして、基板側検出用電極 133, 134は、多層基板 81内の検出 用配線(図示せず)に接続されている。
[0107] 135は多層基板 128の表面 128Aに 2個設けられた基板側低インピーダンス電極と してのグランド電極を示している。ここで、一方のグランド電極 135は、基板側駆動用 電極 129, 130と基板側検出用電極 133, 134との間に配置され、他方のグランド電 極 135は、基板側駆動用電極 131, 132と基板側検出用電極 133, 134との間に配 置されている。そして、これらのグランド電極 135は、基板側駆動用電極 129〜132、 基板側検出用電極 133, 134と絶縁されるように多層基板 128の表面 128Aのうちこ れらの電極 129〜 134の周囲(近傍)を除いた部分に形成されている。
[0108] また、グランド電極 135は、スルーホールを介して多層基板 128内に設けられたグ ランド電極(図示せず)に接続されている。そして、グランド電極 135は、多層基板 12 8内のグランド電極を通じて信号処理回路部に接続され、低インピーダンスの基準電 位としてグランド電位に保持されて!、る。
[0109] また、多層基板 128に角速度検出素子 1をフリップチップ実装したときには、多層基 板 128側のグランド電極 135は角速度検出素子 1側のグランド電極 127に対して互 いに対向し (重なり合い)、グランド電極 127, 135の対向部位 A41 (図 20中で破線で 囲む部位)が検出用電極 125, 126, 133, 134の Y軸方向両側にそれぞれ形成さ れる。このとき、一方のグランド電極 127, 135の対向部位 A41は、駆動用電極 121, 122, 129, 130と検出用電極 125, 126, 133, 134との間に酉己置されて!ヽる。また 、他方のグランド電極 127, 135の対向部位 A41は、駆動用電極 123, 124, 131, 1 32と検出用電極 125, 126, 133, 134との間に酉己置されて!/、る。
[0110] そして、電極 129〜135は、例えば金等の導電性金属材料力もなる金属バンプ Bを 用いて角速度検出素子 1の電極 121〜127に接続され、角速度検出素子 1が多層 基板 128にフリップチップ実装される構成となっている。
力べして、このように構成される本実施の形態でも、第 1の実施の形態とほぼ同様の 作用効果を得ることができる。特に、本実施の形態では、グランド電極 127, 135の対 向部位 A41を駆動用電極 121〜124, 129〜132と検出用電極 125, 126, 133, 1 34との間に設けたから、グランド電極 127, 135の対向部位 A41を用いて駆動用電 極 121〜124, 129〜132と検出用電極 125, 126, 133, 134との間の結合を遮断 し、クロストークの発生を防止することができる。
[0111] また、本実施の形態では、グランド電極 127, 135は駆動用電極 121〜124, 129 〜132や検出用電極 125, 126, 133, 134を取り囲まず、駆動用電極 121〜124, 129〜132と検出用電極 125, 126, 133, 134との間にだけ設ける構成としている。 このため、例えば駆動用電極 121〜124, 129〜 132の周囲に各種の配線を配置す ることができ、素子基板 2の裏面や多層基板 128の表面 128Aを有効に利用すること ができる。
[0112] なお、前記各実施の形態では、 2つの振動体 3, 4からなる角速度検出素子 1を用 いる構成とした。しかし、本発明はこれに限らず、従来技術と同様に、単一の振動体 力もなる角速度検出素子を用いる構成としてもょ 、。
[0113] また、前記第 1,第 2の実施の形態では、第 3の電極層 27をなす検出用配線 43, 4 4を挟んで第 2,第 4の電極層 26, 28にグランド電極 50, 51を設ける構成としたが、 必ずしも 2つのグランド電極 50, 51を両方とも設ける必要はなぐいずれか一方だけ を設ける構成としてもよい。第 3の実施の形態でも、 2つのグランド電極 112, 113を 設ける構成とした力 V、ずれか一方のグランド電極だけを設ける構成としてもょ 、。
[0114] また、前記各実施の形態では、素子側駆動用電極 9〜12, 71〜74, 121〜124、 素子側検出用電極 13, 14, 75, 76, 125, 126,グランド電極 15, 77, 127はこれ らの中心に対して X軸方向、 Y軸方向に対して対称形状に形成し、素子側検出用電 極 13, 75, 125と素子側駆動用電極 9〜12, 71〜74, 121〜124との結合容量を 素子側検出用電極 14, 76, 126と素子側駆動用電極 9〜12, 71〜74, 121〜124 との結合容量とほぼ同じ値に設定している。しかし、本発明はこれに限らず、素子側 駆動用電極 9〜12, 71~74, 121〜124と素子側検出用電極 13, 14, 75, 76, 1 25, 126との間にグランド電極 15, 77, 127が配置されていれば、上記結合容量が 異なる値となってもよい。
[0115] 同様に、基板側駆動用電極 29〜32, 91-94, 129〜132、基板側検出用電極 3 3, 34, 95, 96, 133, 134、グランド電極 35, 97, 135はこれらの中心に対して X軸 方向、 Y軸方向に対して対称形状に形成し、基板側検出用電極 33, 95, 133と基板 側駆動用電極 29〜32, 91-94, 129〜132との結合容量を基板側検出用電極 34 , 96, 134と基板側駆動用電極 29〜32, 91〜94, 129〜132との結合容量とほぼ 同じ値に設定している力 基板側駆動用電極 29〜32, 91-94, 129〜132と基板 佃 J検出用電極 33, 34, 95, 96, 133, 134との間にグランド電極 35, 97, 135力 S酉己 置されて ヽれば、上記結合容量が異なる値となってもよ!ヽ。
[0116] また、前記各実施の形態では、低インピーダンス電極としてグランド電極 15, 35, 7 7, 97, 127, 135を用!ヽ、低インピーダンス酉己線としてグランド電極 45, 50, 51, 10 7, 112, 113を用いる構成とした。しかし、本発明はこれに限らず、低インピーダンス 電極、低インピーダンス配線は必ずしもグランドに接続される必要はなぐ例えば低ィ ンピーダンス配線として低インピーダンスな直流電圧配線を用いる構成としてもよ 、。
[0117] さらに、前記第 1,第 2の実施の形態では、 3層の絶縁層 22〜24 (4層の電極層 25 〜28)からなる多層基板 21を用いる構成とし、第 3の実施の形態では、 4層の絶縁層 82〜85 (5層の電極層86〜90)カもなる多層基板81を用ぃる構成とした。しかし、 本発明はこれに限らず、例えば 5層以上の絶縁層(6層以上の電極層)からなる多層 基板を用いる構成としてもょ 、。
[0118] また、前記各実施の形態では、絶縁層 22〜24, 82〜85をアルミナ(酸ィ匕アルミ- ゥム)を用いて形成したが、他のセラミックス材料を用いて形成してもよぐ榭脂材料等 の他の絶縁材料を用いて形成してもよ 、。
[0119] また、前記各実施の形態では、駆動用配線 41, 42, 102, 103は、多層基板 21, 8 1の厚さ方向に対して検出用配線 43, 44, 105, 106と異なる位置に配置する構成 とした。しかし、本発明はこれに限らず、例えば駆動用配線は、多層基板の厚さ方向 に対して検出用配線と異なる他の位置 (他の電極層)に設ける構成としてもよぐ多層 基板の厚さ方向に対して検出用配線と同じ位置に配置する構成としてもよい。
[0120] 特に、多層基板の厚さ方向に対して駆動用配線と検出用配線とを同じ位置に配置 した場合には、多層基板の厚さ方向に対して検出用配線等と異なる位置に低インピ 一ダンス配線を設けるのに加えて、検出用配線等を同じ位置で駆動用配線と検出用 配線との間に他の低インピーダンス配線を設ける構成としてもよい。この場合、他の 低インピーダンス配線を用いて駆動用配線と検出用配線との間を遮断することができ 、これらの間のクロストークの発生を確実に防ぐことができるものである。 さらに、前記各実施の形態では、低インピーダンス配線として検出用配線 43, 44, 105, 106と対向した幅の広! /、グランド電極 50, 51, 112, 113を用!ヽる構成とした。 しかし、本発明はこれに限らず、低インピーダンス配線として検出用配線と対向する 幅の狭い(細長い)グランド電極を用いる構成としてもよい。また、前記各実施の形態 では、低インピーダンス配線としてのグランド電極 50, 51, 112, 113は検出用配線 43, 44, 105, 106と略全長に亘つて対向する構成とした力 低インピーダンス配線 は、必ずしも検出用配線と全長に亘つて対向する必要はなぐ例えば検出用配線の 全長のうち一部に対して対向する構成としてもよい。

Claims

請求の範囲
基板と、
該基板に設けられ、直交する 3軸のうち第 1,第 2の軸方向に振動可能に設けられ た振動体と、駆動信号により該振動体を第 1の軸方向に振動させる駆動手段と、前記 振動体が第 1の軸方向に振動した状態で第 3の軸周りに角速度が加わったときに前 記振動体が第 2の軸方向に変位するのを検出して検出信号を出力する変位検出手 段とからなる角速度検出素子と、
前記基板に設けられ、該角速度検出素子の駆動手段に接続された駆動用配線と、 前記基板に設けられ、前記角速度検出素子の変位検出手段に接続された検出用 配線と、
前記基板に設けられ、前記駆動用配線と検出用配線に接続された信号処理手段と を備えてなる角速度計測装置において、
前記基板は複数の絶縁層からなる多層基板を用いて構成し、
該多層基板の内部には、 2つの絶縁層の間に前記検出用配線を配置し、 前記多層基板には、その厚さ方向に対して前記検出用配線と異なる位置に、前記 検出用配線と対向したインピーダンスの低い低インピーダンス配線を設け、
前記角速度検出素子には、前記多層基板との実装面側に位置して前記駆動手段 に接続された素子側駆動用電極と、前記変位検出手段に接続された素子側検出用 電極と、前記素子側駆動用電極および素子側検出用電極の間に位置して素子側駆 動用電極および素子側検出用電極の間の結合を遮断する素子側低インピーダンス 電極とを設け、
前記多層基板の表面には、前記駆動用配線に接続され前記素子側駆動用電極と 対向する基板側駆動用電極と、前記検出用配線に接続され前記素子側検出用電極 と対向する基板側検出用電極と、前記基板側駆動用電極および基板側検出用電極 の間に位置して前記基板側駆動用電極および基板側検出用電極の間の結合を遮 断する基板側低インピーダンス電極とを設け、
前記角速度検出素子を前記多層基板の表面に金属バンプを用いて実装し、 前記素子側駆動用電極と基板側駆動用電極とを該金属バンプを用いて接続し、 前記素子側検出用電極と基板側検出用電極とを前記金属バンプを用 、て接続し、 前記素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極とを低インピーダ ンスの基準電位に接続し、
前記素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極との少なくとも一 部を互いに対向させたことを特徴とする角速度計測装置。
基板と、
該基板に設けられ、直交する 3軸のうち第 1,第 2の軸方向に振動可能に設けられ た振動体と、駆動信号により該振動体を第 1の軸方向に振動させる駆動手段と、前記 振動体が第 1の軸方向に振動した状態で第 3の軸周りに角速度が加わったときに前 記振動体が第 2の軸方向に変位するのを検出して検出信号を出力する変位検出手 段とからなる角速度検出素子と、
前記基板に設けられ、該角速度検出素子の駆動手段に接続された駆動用配線と、 前記基板に設けられ、前記角速度検出素子の変位検出手段に接続された検出用 配線と、
前記基板に設けられ、前記駆動用配線と検出用配線に接続された信号処理手段と を備えてなる角速度計測装置において、
前記基板は複数の絶縁層からなる多層基板を用いて構成し、
該多層基板の内部には、 2つの絶縁層の間に前記検出用配線を配置し、 前記多層基板には、その厚さ方向に対して前記検出用配線と異なる位置に、前記 検出用配線と対向したインピーダンスの低い低インピーダンス配線を設け、
前記角速度検出素子には、前記多層基板との実装面側に位置して前記駆動手段 に接続された素子側駆動用電極と、前記変位検出手段に接続された素子側検出用 電極と、前記素子側駆動用電極または素子側検出用電極を取り囲み素子側駆動用 電極および素子側検出用電極の間の結合を遮断する素子側低インピーダンス電極 とを設け、
前記多層基板の表面には、前記駆動用配線に接続され前記素子側駆動用電極と 対向する基板側駆動用電極と、前記検出用配線に接続され前記素子側検出用電極 と対向する基板側検出用電極と、前記基板側駆動用電極または基板側検出用電極 を取り囲み前記基板側駆動用電極および基板側検出用電極の間の結合を遮断する 基板側低インピーダンス電極とを設け、
前記角速度検出素子を前記多層基板の表面に金属バンプを用いて実装し、 前記素子側駆動用電極と基板側駆動用電極とを該金属バンプを用いて接続し、 前記素子側検出用電極と基板側検出用電極とを前記金属バンプを用 、て接続し、 前記素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極とを低インピーダ ンスの基準電位に接続し、
前記素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極との少なくとも一 部を、前記素子側駆動用電極と素子側検出用電極との間で互いに対向させたことを 特徴とする角速度計測装置。
前記素子側低インピーダンス電極と基板側低インピーダンス電極とが互 ヽに対向 する対向部位は、前記素子側検出用電極および基板側検出用電極を取り囲む構成 としてなる請求項 2に記載の角速度計測装置。
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