WO2005017235A1 - マグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品及びその製造方法 - Google Patents

マグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品及びその製造方法 Download PDF

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WO2005017235A1
WO2005017235A1 PCT/JP2004/011821 JP2004011821W WO2005017235A1 WO 2005017235 A1 WO2005017235 A1 WO 2005017235A1 JP 2004011821 W JP2004011821 W JP 2004011821W WO 2005017235 A1 WO2005017235 A1 WO 2005017235A1
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WO
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magnesium
film
magnesium alloy
metal plating
product according
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Application number
PCT/JP2004/011821
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English (en)
French (fr)
Inventor
Makoto Hino
Minoru Hiramatsu
Koji Sakai
Yasuhiro Okuda
Masao Takamizawa
Hiujiang Chen
Original Assignee
Okayama Prefecture
Hori Metal Finishing Ind. Ltd.
Om Sangyo Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Okayama Prefecture, Hori Metal Finishing Ind. Ltd., Om Sangyo Corporation filed Critical Okayama Prefecture
Priority to JP2005513199A priority Critical patent/JP4714945B2/ja
Publication of WO2005017235A1 publication Critical patent/WO2005017235A1/ja

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/30Anodisation of magnesium or alloys based thereon

Definitions

  • the present invention relates to a product made of magnesium or a magnesium alloy on which a metal plating film is formed. More particularly, the present invention relates to a magnesium or magnesium alloy product having a metal plating film formed directly on a conductive anodized film formed on the surface of magnesium or a magnesium alloy. It also relates to the method of manufacturing such products.
  • Magnesium and magnesium alloys are the lightest among practical metals, have high specific strength, have good heat dissipation properties, and are superior in recyclability compared to resin, and have recently been widely used in electrical equipment and automotive parts. It is being used. Above all, it is suitably used as a housing for electrical equipment, which requires high design performance and high recyclability, which are required to be compact and lightweight. However, since magnesium and magnesium alloys are susceptible to corrosion, surface treatment or coating having corrosion resistance is required. At the same time, it is also required to cover the surface of magnesium or magnesium alloy with another metal film having excellent appearance and hardness.
  • Typical examples of a method for applying metal plating to the surface of magnesium or a magnesium alloy include the “Dow method” and the “Sakata method”.
  • the “Dow method” is a method in which magnesium or magnesium alloy is subjected to complex pretreatment, zinc substitution treatment (zincate treatment), and then strike plating using an aqueous copper cyanide solution. It is.
  • electroless strike plating is performed on a magnesium or magnesium alloy which has been subjected to complicated pretreatment using an acidic aqueous solution or an alkaline aqueous solution, using an aqueous solution of a nickel salt.
  • the plating films obtained by these plating methods are still insufficient in corrosion resistance. This is considered to be due to the fact that magnesium is the most corroded of practical metals and cannot be easily improved in corrosion resistance even if plated immediately. Also, electrolysis It is also difficult to obtain a plating film having good adhesion immediately after the corrosion of the substrate progresses until the deposition film deposited during the process covers the substrate made of magnesium or magnesium alloy. Furthermore, these plating methods are not widely and generally popular, as they require complicated pretreatment. Moreover, in the "Dow method", since a cyanide metal salt is used, the viewpoint of protecting the surrounding environment and working environment is not preferable.
  • Fluoride salts are also used according to the two different methods of the "Dow method” and the “Sakata method", but when fluorine ions are contained, it is often difficult to treat waste liquid. Not preferred.
  • the demand for environmental protection is becoming stricter, and there is a demand for a plating process that does not use cyanide or fluoride.
  • Patent Document 1 discloses that magnesium or a magnesium alloy is subjected to anodizing treatment by dipping in an electrolytic solution containing ammonia and a phosphate compound. The method is described.
  • Patent Document 2 describes a chemical conversion coating film containing a certain amount of calcium, manganese and phosphorus and having an electric resistivity of 0.1 ⁇ 'cm or less.
  • Patent Document 3 discloses that the surface of a magnesium alloy is etched with an acidic aqueous solution of pH 1-5 and then contacted with an alkaline aqueous solution of pH 7-14 containing an organic phosphorus conjugate. It describes a method of surface treatment of a magnesium alloy that is subsequently brought into contact with a chemical conversion treatment solution, and describes that a product having a low surface resistance and a product can be obtained.
  • magnesium and magnesium alloys require surface treatment or coating having corrosion resistance. If anodizing treatment is applied to impart corrosion resistance to magnesium or a magnesium alloy, the insulating oxide film covering the magnesium or magnesium alloy will lose electromagnetic shielding properties, and grounding will be lost. It becomes impossible to do so. For this reason, for example, a method has been adopted in which the grounding part is masked and then subjected to anodizing treatment, or the entire surface is anodized and then a part of the anodized film is removed by shaving. . However, such a method is cumbersome to operate and raises production costs.
  • a film formed by the chemical conversion treatment there is a film having electric conductivity, for example, a film described in JP-A-2000-96255 and JP-A-2000-328261. Recently reported. However, compared to anodic oxidation, which forms a strong oxide film by passing electricity through magnesium or a magnesium alloy, the film formed by chemical conversion, which is simply immersed in a treatment solution, does not have sufficient corrosion resistance. . This problem is particularly important for housings of recent mobile devices, which require corrosion resistance in various environments. For this reason, when a film is formed by chemical conversion treatment, it is the current situation that some more layers of coating are applied thereon to somehow secure corrosion resistance. However, it is not always easy to apply a uniform coating to the housing of an electrical device with a complicated shape.
  • Patent Document 4 discloses that a magnesium or magnesium alloy is treated by a known anodic oxidation method to form a primary film, and then subjected to alternating current electrolysis in a metal salt aqueous solution. A method for producing a secondary coating is described. In the examples, while merely observing the appearance of the obtained film, the evaluation of the corrosion resistance and the analysis of the film composition were not carried out. Also shown in the comparative examples of the present specification shown later. As described above, it was difficult to form a metal plating film even when the present inventor tried to electroplate on the anodized film as an insulating film.
  • Patent Document 5 discloses a first step of forming an oxide layer by anodizing a surface of a magnesium alloy, and a method of forming a thermosetting layer on the oxide layer.
  • a method for anodizing a magnesium alloy comprising a fourth step of plating on a conductive resin layer is described. According to this method, conductivity is imparted by the conductive paint, and subsequent electroplating becomes possible.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Publication No. 11-502567
  • Patent Document 2 JP-A-2000-96255
  • Patent Document 3 JP-A-2000-328261
  • Patent Document 4 JP-A-55-18540
  • Patent Document 5 JP 2001-152393 A
  • the present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide a product made of magnesium or a magnesium alloy having a metal plating film having excellent corrosion resistance and adhesion. It is the purpose. It is another object of the present invention to provide a low-cost manufacturing method for obtaining such products that is less liable to pollute the environment. Means for solving the problem
  • the object is to provide a magnesium or magnesium alloy having a metal plating film formed directly on a conductive anodized film formed on the surface of magnesium or a magnesium alloy. This is achieved by providing a product made of a metal alloy. Since the anodic oxide film formed on the surface of magnesium or magnesium alloy has conductivity, it is possible to form a metal plating film on the surface by electroplating.
  • a film obtained by anodizing magnesium or a magnesium alloy is a film containing an oxide as a main component and is an insulator. Rather, it was thought that the insulator was able to prevent the substrate from being degraded due to corrosion current from flowing through the substrate made of magnesium or magnesium alloy because of the insulator.
  • a film having sufficient electric conductivity was found as an anodized film. It has also been clarified that the coating retains the excellent corrosion resistance that the conventional anodizing film had.
  • the resistance value between the base material having the strength of magnesium or magnesium alloy and the surface of the metal plating film is 10 4 ⁇ or less. That the resistance value is 10 4 ⁇ or less means that the conductivity of the anodized film is equal to or more than a certain value, which means that the electroplating proceeds smoothly.
  • the thickness of the anodic oxide film is 0.01-30 / zm, the balance between corrosion resistance and electric conductivity is also preferred.
  • the anodized film comprises a porous layer and a transition layer, and the transition layer is present between the base material having a magnesium or magnesium alloy power and the porous layer.
  • the magnesium content of the layer indicates an intermediate value between the magnesium content of the porous layer and the magnesium content of the substrate, and the oxygen content of the transition layer is the same as the oxygen content of the porous layer. It is preferable to show an intermediate value with the oxygen content of the substrate. By having such a transition layer, good conductivity and corrosion resistance can be obtained.
  • the thickness of the transition layer is preferably 0.2-5 ⁇ m.
  • the anodic oxide film contains 10 to 65% by weight of a magnesium element and 25 to 60% by weight of an oxygen element.
  • the anodic oxide film preferably contains 430 to 30% by weight of a phosphorus element.
  • Aluminum element may contain 11-20% by weight Is preferred.
  • the anodic oxide film of the present invention exhibits excellent performance even if it does not contain a heavy metal element as contained in a conventional anodic oxide film.
  • the metal plating film formed directly on the conductive anodic oxide film has a group force of zinc, nickel, copper, gold, silver, and chromium. Is preferred. These metals or alloys can easily form a good metal plating film using an alkaline electroplating bath.
  • the thickness of such a metal plating film is preferably 0.1 to 100 m. Further, it is also preferable that another metal plating film is further formed on the metal plating film.In this case, it is possible to form various types of metal plating layers, Depending on the application, a metal surface with excellent decorative properties and abrasion resistance can be obtained.
  • the entire surface of the magnesium or magnesium alloy is covered with the anodized film, and the entire surface of the anodized film is covered with the metal-coated film.
  • a resin coating is applied only to a part of the surface of the metal plating film, and the remaining metal plating film is exposed.
  • an object of the present invention is to immerse magnesium or a magnesium alloy in an electrolytic solution containing 0.1-lmol / L of a phosphate group and having a pH of 8 to 14, and anodize the surface thereof.
  • This is also achieved by providing a method for producing a product having a magnesium or magnesium alloy strength in which a metal plating film is formed directly on the surface of the anodic oxide film by immersing it in a plating bath and then electroplating after the treatment. You. At this time, it is preferable that the electrolytic solution contains 0.2 to 5 mol / L of ammonia or ammonium ion.
  • an object of the present invention is to provide a magnesium or magnesium alloy having on its surface an anodized film having a resistance of 10 6 ⁇ or less as measured between two terminals separated by 10 mm from each other.
  • the surface of the anodized film is immersed in an acidic aqueous solution in advance, and then immersed in the plating bath to perform electric plating. By doing so, the adhesion between the anodic oxide film and the metal plating film is improved. It is also preferable that the pH of the plating bath is 7-14.5. When the pH of the plating bath is in a neutral alkaline range, it is possible to prevent the anodic oxidation coating from being eroded by acid. After forming the metal plating film, it is preferable that the surface of the metal plating film is further covered with another metal plating film by dipping in another plating bath. In this case, it is possible to form various metal films according to the purpose by adopting various plating conditions.
  • FIG. 1 With respect to the sample on which the anodized film was formed, a cross section of the film was observed with an X-ray microanalyzer, and a photograph showing the cross-sectional shape and a photograph showing the distribution of each element were synthesized. It is a thing.
  • FIG. 2 is a photograph showing a cross-sectional shape of a sample obtained by applying zinc plating on an anodized film by observing a cross-section of the film with an X-ray microanalyzer.
  • FIG. 3 is a photograph showing a distribution state of magnesium element when a cross section of a sample obtained by applying zinc plating on an anodized film is observed with an X-ray microanalyzer.
  • FIG. 4 is a photograph showing a distribution state of oxygen elements when a cross section of a sample obtained by applying zinc plating on an anodized film was observed with an X-ray microanalyzer.
  • FIG. 5 is a photograph showing the distribution of zinc elements observed on a sample obtained by applying zinc plating on an anodized film by an X-ray microanalyzer.
  • FIG. 6 For a sample in which zinc was applied to the anodized film, a cross section of the film was observed with an X-ray microanalyzer, and a photograph showing the cross-sectional shape and a photograph showing the distribution of each element were shown. It is a composite.
  • FIG. 7 is a view showing a method of measuring a resistance value between a magnesium alloy substrate and a surface of a metal plating film.
  • the present invention is a product having a magnesium or magnesium alloy strength in which a metal plating film is formed directly on a conductive anodic oxide film formed on the surface of magnesium or a magnesium alloy.
  • the magnesium or magnesium alloy used as a raw material may be a metal having a simple magnesium function as long as it contains magnesium as a main component, or may be an alloy. Usually, a magnesium alloy is suitably used to impart formability, mechanical strength, ductility, and the like.
  • Magnesium alloys include Mg-A1 alloys, Mg-A1-Zn alloys, Mg-A1-Mn alloys, Mg-Zn-Zr alloys, Mg-rare earth element alloys, Mg-Zn-rare earth elements Series alloys.
  • an Mg-A1-Zn based alloy was used, and the obtained anodized film contained an aluminum element. Therefore, it is presumed that the magnesium alloy used as the raw material preferably contains aluminum among the above various alloys.
  • the form of magnesium or magnesium alloy to be subjected to the anodizing treatment is not particularly limited. Molded by die casting, thixomolding, press molding, forging, etc. Molded articles can be used. During molding, a mold release agent may remain in wrinkles formed near the surface of the molded article or inside the hollow part. In the case of performing the anodic oxidation treatment, it is easier to reduce the remaining release agent than in the case of performing the chemical treatment. The release agent remaining in the product volatilizes when heated, and may cause blisters in the resin coating.
  • a release agent composed of a silicone compound is typical.
  • a molded article made of magnesium or a magnesium alloy powder may have stains derived from organic substances such as a release agent attached during molding on the surface, and therefore it is preferable to perform a degreasing treatment! / ⁇ .
  • an aqueous solution containing a surfactant / chelating agent is suitably used as the liquid for degreasing.
  • the degreasing treatment if necessary, it is preferable to immerse in an acidic aqueous solution and then immerse in an electrolytic solution to perform anodizing treatment.
  • an acidic aqueous solution By dipping in an acidic aqueous solution, the surface of the magnesium or magnesium alloy can be appropriately etched to remove the insufficient oxide film and the remaining organic stains already formed.
  • the acidic aqueous solution is not particularly limited, but a phosphoric acid aqueous solution has a suitable acidity and is suitable. When a phosphoric acid aqueous solution is used, magnesium phosphate may be formed on the surface simultaneously with etching.
  • a defatting treatment can be performed simultaneously by mixing a surfactant and a chelating agent in an acidic aqueous solution.
  • the substrate is further washed with an alkaline aqueous solution and then subjected to the anodic oxidation treatment.
  • Components that are insoluble in acidic aqueous solution may adhere to the surface of magnesium or magnesium alloy, and thus can be removed.
  • an alkaline aqueous solution an aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution is suitably used.
  • the electrolytic solution used for the anodizing treatment is preferably an alkaline aqueous solution containing a phosphate group, and more specifically contains 0.1-lmol / L of the phosphate group and has a pH of 8 — 14 in Certain aqueous solutions are preferred.
  • an appropriate amount of a phosphate group an appropriate amount of a phosphorus element is contained in the anodized film.
  • unnecessary elution of magnesium or a magnesium alloy can be prevented.
  • the phosphate group referred to here is contained in the electrolytic solution as free phosphoric acid, phosphate, hydrogen phosphate, or dihydrogen phosphate. Further, in the case of polyphosphoric acid or a salt thereof obtained by condensing phosphoric acid, it is assumed that the polyphosphoric acid contains the same number of phosphate groups as the number of phosphate groups obtained by hydrolysis. In the case of a salt, the salt may be a metal salt or a non-metal salt such as an ammonium salt.
  • the content of phosphate groups is preferably 0.1-lmol / L. It is more preferably at least 0.15 molZL, even more preferably at least 0.2 molZL. It is more preferably at most 0.7 molZL, even more preferably at most 0.5 molZL.
  • the pH of the electrolytic solution is preferably 8-14. More preferably, the pH is 9 or higher, even more preferably 10 or higher. Further, the pH is more preferably 13 or less, and still more preferably 12 or less.
  • the electrolytic solution contains ammonia or ammonium ion in a total amount of 0.2 to 5 mol / L.
  • the content of ammonia or ammonium ion is more preferably at least 0.5 mol / L, even more preferably at least ImolZL. Further, it is more preferably 3 molZL or less, and still more preferably 2 molZL or less.
  • the electrolytic solution used in the anodizing treatment may contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired, but it is preferable that the electrolytic solution does not substantially contain a heavy metal element.
  • the heavy metal element refers to a metal element exceeding specific gravity as a simple substance, and chromium, manganese, and the like are exemplified as those contained in a typical electrolytic solution in conventional anodic oxidation treatment.
  • harmful chromium is not contained due to strict emission regulations.
  • a trace amount of heavy metal for example, zinc contained in a magnesium alloy is eluted and contained in an electrolytic solution.
  • the electrolytic solution of the present invention does not contain elemental fluorine. This is because aqueous solutions containing elemental fluorine often make it difficult to treat wastewater.
  • the power supply to be used is not particularly limited, and it is preferable to use a DC power supply that can be used with a DC power supply or an AC power supply. When a DC power supply is used, either a constant current power supply or a constant voltage power supply may be used, but it is preferable to use a constant current power supply.
  • the cathode material is not particularly limited, and for example, a stainless material or the like can be suitably used.
  • the surface area of the cathode is preferably larger than the surface area of the magnesium or magnesium alloy to be anodized, more preferably twice or more, more preferably 10 times or less.
  • the current density on the anode surface is usually 0.1-lOA / dm 2 .
  • it is 0.2 AZdm 2 or more, more preferably 0.5 AZdm 2 or more.
  • it is preferably 6 AZdm 2 or less, more preferably 3 AZdm 2 or less.
  • the energization time is usually 10-1000 seconds. It is preferably at least 50 seconds, more preferably at least 100 seconds. Further, it is preferably 700 seconds or less, more preferably 500 seconds or less.
  • the applied voltage at the end of energization is usually 50-600 volts. It is preferably at least 200 volts, more preferably at least 250 volts. It is preferably 500 volts or less, more preferably 400 volts or less.
  • the applied voltage is often set to less than 100 volts, whereas in the anodizing method of the present invention, a relatively high voltage is applied. It is preferable to set to. This facilitates the oxidation reaction even in a portion containing impurities such as a silicone release agent and facilitates formation of a film having good conductivity on the entire surface of magnesium or a magnesium alloy.
  • the temperature of the electrolyte during energization is usually 5-70 ° C. Preferably it is above 10 ° C. Further, it is preferably at most 50 ° C, more preferably at most 30 ° C.
  • the electrolytic solution attached to the surface of the anodic oxide film is removed by washing.
  • washing it is preferable to use an acidic aqueous solution instead of water alone. Since the electrolyte is alkaline, washing it with an acidic aqueous solution When coating is performed, the adhesion of the coating film is improved.
  • the acidic aqueous solution a nitric acid aqueous solution, a hydrochloric acid aqueous solution, a sulfuric acid aqueous solution, or the like can be used. After the washing operation, it is dried. In this way, an anodized film is formed on the surface of magnesium or a magnesium alloy.
  • the magnesium or magnesium alloy thus obtained has a conductive anodized film having a surface resistance of 10 6 ⁇ or less as measured between two terminals 10 mm apart from each other. It is.
  • the resistance value is a resistance value ( ⁇ ) measured by pressing a terminal at any two points 10 mm apart from each other on the surface of the anodized film. Since the resistance value of the base material that also has the strength of magnesium or magnesium alloy is small, the thickness of the anodized film existing between the terminal for measurement and the base material that also has the strength of magnesium or magnesium alloy is practically small. The value correlated to the electrical resistance in the direction is to be measured.
  • the resistance value is a preferable value in terms of electromagnetic wave shielding properties and grounding characteristics.
  • the resistance value is preferably 10 5 ⁇ or less, more preferably 10 4 ⁇ or less.
  • the corrosion resistance of the product may be reduced, and it is preferably 0.1 ⁇ or more, more preferably 0.2 ⁇ or more.
  • the surface resistance of a molded article that is magnesium or magnesium alloy strength after surface treatment is AZ91D, and usually shows a value of less than 0.1 ⁇ .
  • the anodized film obtained by the present invention often has a large number of pores on its surface which are considered to be derived from a spark that is energized. This is different from the chemical conversion coating.
  • the thickness of the anodic oxide film is preferably 0.01 to 30 m. It is more preferably at least 0.1 ⁇ m, even more preferably at least 1 ⁇ m, most preferably at least 5 ⁇ m. It is more preferably at most 20 m, even more preferably at most 15 m. Corrosion resistance is improved as the thickness of the positive electrode is thicker, but if it is too thick, the electrical conductivity may decrease, making it difficult to obtain electrical plating and increasing manufacturing costs. There is.
  • the chemical composition of the anodized film formed in the present invention is not particularly limited, but preferably contains 10 to 65% by weight of a magnesium element and 25 to 60% by weight of an oxygen element. Suitable. That is, it is preferable that magnesium or a magnesium alloy contains oxidized magnesium as a component, which is a product obtained as a result of anodic oxidation.
  • the magnesium content is more preferably at least 15% by weight, and even more preferably at least 18% by weight. Further, it is more preferably at most 45% by weight, further preferably at most 30% by weight.
  • the content of the oxygen element is more preferably at least 40% by weight. It is more preferably at most 55% by weight.
  • the anodic oxide film contains 430% by weight of a phosphorus element.
  • the content of phosphorus element is more preferably at least 10% by weight, even more preferably at least 15% by weight. It is more preferably at most 25% by weight.
  • the aluminum element be contained in an amount of 120% by weight.
  • the content of the aluminum element is more preferably at least 2% by weight. Further, it is more preferably at most 10% by weight, further preferably at most 5% by weight. It can be inferred that by containing an appropriate amount of the above elements other than magnesium and oxygen, good electrical conductivity can be obtained without impairing corrosion resistance.
  • the anodized film of the present invention may contain elements other than the above as long as the effects of the present invention are not impaired. It is preferable that the material does not substantially contain heavy metals, particularly chromium elements, except for those originally contained in the raw material magnesium alloy. Also, it is preferable that elemental fluorine is not substantially contained.
  • the anodized film does not necessarily have a uniform structure as a whole, but has a porous layer and a transition layer as described later. It has also been observed that the thinner the film thickness, the greater the magnesium content in the entire film and the smaller the phosphorus element content. However, when the film thickness is small, the magnesium element contained in the base material such as magnesium or magnesium alloy may be picked up as noise, so the measured value indicates the magnesium content, It may be larger than the composition.
  • the anodized film formed here has a porous structure having a large number of irregularities on its surface, and the interface with the substrate made of magnesium or a magnesium alloy has A transition layer is formed so as to uniformly cover the entire surface of the substrate (see FIG. 1).
  • the transition layer has an intermediate chemical composition different from that of the porous layer and the substrate made of magnesium or magnesium alloy.
  • the magnesium content of the transition layer is higher than that of the base material.
  • the transition layer, which is less but more than the porous layer has a higher oxygen content than the base material but less than the porous layer.
  • the transition layer is a uniform layer having a small degree of oxidation and having no pore structure as compared with a porous layer occupying most of the thickness of the entire anodic oxide film. It is considered that the presence of this transition layer has a great effect on conductivity and corrosion resistance.
  • the thickness of the transition layer is preferably 0.2 to 5 m.
  • the thickness of the transition layer is more preferably at least 0.5 ⁇ m, even more preferably at least 1 ⁇ m.
  • the thickness of the transition layer is more preferably 3 ⁇ m or less.
  • a metal plating film is formed on the anodic oxide film thus formed. Since the anodized film obtained by the present invention has conductivity, a metal-coated film can be formed directly on the anodized film by electroplating.
  • the magnesium or magnesium alloy having the anodized film in the plating bath Before immersing the magnesium or magnesium alloy having the anodized film in the plating bath, it is preferable to immerse it in an acidic aqueous solution in advance.
  • an acidic aqueous solution By immersing in an acidic aqueous solution, the surface of the anodized film can be appropriately etched to activate the surface.
  • the acidic aqueous solution is not particularly limited, but a dilute aqueous solution of a strong acid such as nitric acid, hydrochloric acid, and sulfuric acid is preferably used. After that, if necessary, water washing and drying treatments are performed, and then the electric plating is performed. Further, a surface treatment other than the method of immersion in an acidic aqueous solution may be performed.
  • a magnesium or magnesium alloy having an anodized film previously treated is immersed in a plating bath.
  • the composition of the plating bath used in the present invention is not particularly limited, and may be an aqueous solution in which a metal that can be deposited by energization is dissolved as ions.
  • the metal forming the film is not particularly limited, but is preferably a metal selected from the group consisting of zinc, nickel, copper, gold, silver, and chromium, or an alloy of these metals. These metals or alloys can easily form a good metal plating film using an alkaline electroplating bath.
  • a plating bath generally used as an electric plating bath can be used. While the anodic oxide film elutes In order to prevent this, it is preferable that the pH of the plating bath is 7-14.5. When the pH of the plating bath is in the neutral alkaline range, it is possible to prevent the anodic oxide film containing the magnesium oxide from being eroded by the acid. The more preferred pH of the plating bath is 8 or more and 14 or less.
  • the plating bath may contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired, but preferably does not contain cyanide or fluoride! This is because cyanidei is highly toxic and easily adversely affects the surrounding environment and working environment, and the aqueous solution containing fluoride often becomes difficult to treat wastewater.
  • Magnesium or magnesium alloy having an anodized film on the surface is immersed in the above-mentioned plating bath, and a metal plating film is formed by supplying electricity to the magnesium or magnesium alloy as a cathode.
  • the power supply to be used is not particularly limited, and either a DC power supply or an AC power supply can be used, but a DC power supply is preferably used.
  • a DC power supply is used, either a constant current power supply or a constant voltage power supply may be used, but it is preferable to use a constant current power supply.
  • the anode material is not particularly limited, and the same metal as the plating film to be formed, or platinum, titanium, or the like can be suitably used.
  • the current density of the cathode surface of Rutoki using a constant current power supply as a power source is usually 0. 1- lOAZdm 2 about.
  • the energization time is usually about 10-1000 seconds.
  • the temperature of the electrolyte during energization is usually 5-70 ° C.
  • the metal plating film is formed to cover the surface of the anodic oxide film. At this time, the surface of the anodized film is eroded by force, and a metal plating layer is formed thereon. It is considered that the surface of the anodized film is eroded because a part of the anodized film is shaved during pre-soaking in an acidic aqueous solution after the anodizing treatment or during metal plating. Is received. As described above, since the anodized film has a porous structure whose surface is shaved, the metal-plated film eats into the pores on the surface of the anodized film, and then adheres. A metal plating layer with good properties can be formed (see Figure 2-6).
  • the transition layer ensures conductivity between the metal plating layer and the base material made of magnesium or magnesium alloy, and contributes to imparting corrosion resistance.
  • the thickness of the metal plating film formed on the surface of the product of the present invention is preferably 0.1-100 / zm.
  • the thickness of the metal plating film is more preferably 1 ⁇ m or more. It is more preferably 50 m or less.
  • the thickness of the metal plating film is appropriately adjusted depending on the type and use of the metal to be plated.
  • the resistance value between the substrate capable of forming a magnesium or magnesium alloy and the surface of the metal plating film is 10 4 ⁇ or less.
  • the fact that the resistance value is 10 4 ⁇ or less means that the conductivity of the anodized film is equal to or higher than a certain value, and that the electroplating proceeds smoothly. In particular, this means that the transition layer in the anodized film has sufficient conductivity.
  • the resistance between the base material of magnesium or magnesium alloy and the surface of the metal plating film is measured by pressing a measuring terminal against both of them. Specifically, as shown in Fig.
  • the coating on the back side of the product is shaved to expose the magnesium or magnesium alloy, and the resistance value between the metal coating on the front side of the product can be measured! .
  • the measurement may be performed by applying a terminal to the outermost surface of the metal plating layer.
  • the resin coating may be removed to expose the metal plating layer, and a terminal may be applied to the surface to perform measurement.
  • the resistance value in this case, more preferably 10 2 Omega less, even more preferably less than 10 Omega, and optimally less than 2 Omega. Meanwhile, the resistance value force, if too is, there is a possibility that the corrosion resistance becomes insufficient, the good suitable is 10- 2 Omega more.
  • the product of the present invention can be used as it is, after forming a metal plating film (lower layer), the product is further immersed in another plating bath to further modify the surface of the metal plating film. It is also preferable to cover with a metal plating film (upper layer).
  • a metal plating film upper layer
  • the bath composition such as ⁇ of the plating bath, and the choice of plating formulation is not necessarily wide. Not that good.
  • the metal plating film (lower layer) it is easy to form various other plating films (upper layer) depending on the application.
  • a metal such as gold, silver, copper, nickel, or chromium, or an alloy thereof can be applied by electroplating or electroless plating. It is possible to form all various coatings. Further, another plating film may be further laminated. The thickness of these other plating films is not particularly limited, and is usually about 110 to 100 ⁇ m. As a result, it is possible to form a plating film having the desired performance such as gloss, smoothness, hardness, and conductivity. For example, it is possible to form a highly decorative mirror surface.
  • the use of the product comprising the magnesium or magnesium alloy of the present invention having a metal-coated film on the surface is not particularly limited, and may be used for various electric appliances, automobile parts, leisure parts, welfare care equipment parts, and the like. Can be used.
  • the surface of the anodic oxide film may be overcoated if necessary, but in order to take advantage of the characteristics of the anodic oxide film of the present invention having good electric conductivity, the entire product must be coated. It is preferable not to cover with a coating made of an insulating film.
  • the paint used is not particularly limited, and various paints used for painting a metal surface can be used.
  • the resin coating film can be formed by using a solvent type paint, an aqueous paint, a powder paint and the like.
  • a thermosetting paint that requires high-temperature baking after application or a paint that only needs to evaporate the solvent or water at a relatively low temperature may be used, but the latter, which is easy to operate, is preferably used.
  • a transparent resin paint which may be appropriately colored.
  • the coating method is not particularly limited, and a known method such as spray coating, dip coating, electrodeposition coating, and powder coating can be employed. It is preferable to have a part without a coating film, and the magnesium or magnesium alloy product of the present invention preferably employs spray coating or powder coating by a thermal spraying method. .
  • the entire surface of magnesium or a magnesium alloy is covered with an anodized film, and the entire surface of the anodized film is covered with the metal-coated film.
  • only a part of the surface of the metal-plated film is coated with grease and the remaining part is The product with exposed metal plating film. Since the entire surface of the magnesium or magnesium alloy is covered with the anodized film as described above, the corrosion resistance of the entire product can be ensured. In addition, performance such as hardness can be imparted by covering the entire surface of the anodized film with the metal plating film.
  • all here means substantially all, and even if there is only a small portion where the film is not formed, such as a contact portion that is electrically connected to the power supply during anodizing or electrical plating. Absent. In addition, only a part of the surface of the metal plating film is coated with grease, and the remaining portion of the metal coating film is exposed. This makes it possible to provide a product having a beautiful appearance and excellent friction resistance.
  • the interior of the housing is not coated with grease
  • the exterior of the housing is coated with grease on the exterior of the housing, which is the housing of the electrical device in which the grease is applied.
  • the conductive metal plating film is exposed on the inner surface of the housing, the grounding from the electrical wiring can be easily secured, and the electromagnetic wave of the electronic circuit power inside the housing is effectively protected. Shield to the end.
  • the magnesium or magnesium alloy product of the present invention is excellent in lightness, strength, conductivity and the like, and can be used for various applications.
  • Housing for electrical equipment such as mobile phones, computers, video cameras, still cameras, optical disc players, displays (CRT, plasma, liquid crystal), projectors, etc., parts for automobiles, leisure parts such as fishing gear, parts for welfare and nursing equipment. And so on.
  • test method in this example was performed according to the following method.
  • the test piece was cut into a size of 5 mm ⁇ 10 mm, embedded in epoxy resin, and the cut surface was polished to obtain a mirror surface. Electron micrographs were taken from the cross-sectional direction of the sample using an X-ray microanalyzer “JXA-8900” manufactured by JEOL Ltd. At this time, the distribution of each element in the coating cross section was also photographed. In addition, from this electron micrograph, Was measured.
  • the film composition was analyzed from the cross-sectional direction of the film. Two measurements were made for each sample. Measurements accelerating voltage 15kV, was carried out under the conditions of sample irradiation current 2 X 10- 8 A. Data analysis was performed by ZAH correction.
  • the measurement was carried out using a low-resistivity meter “Lorester AP MCP-T400” manufactured by Mitsubishi Corporation and using a two-probe type probe “MCP- ⁇ 01”.
  • the resistance value ( ⁇ ) was measured by pressing the measurement terminal against the surface of the anodized film at the center of the test piece.
  • the probe has measurement terminals arranged at 10 mm intervals.
  • the terminals are made of beryllium alloy with gold plating.
  • the tips are cylindrical with a diameter of 2 mm, and the terminals are pressed against the surface of the anodic oxide film.
  • the load is 240g per terminal.
  • the resistance value measuring device 5 is a digital “multimeter“ R6341B ”manufactured by Advantest Corporation.
  • a cross-shaped cut was made on the surface of the test piece so as to penetrate the resin coating and the anodized film. After that, a 5% salt spray test was performed according to JIS Z2371. The time when the swelling due to corrosion of the cross cut reached lmm or more was defined as the corrosion occurrence time.
  • a tape peeling test in accordance with JIS H8504 was performed, and the presence or absence of peeling and blistering of the plating film was observed.
  • the observation results were classified and evaluated as follows.
  • test piece Specimen of 170mm X 50mm X 2mm alloy plate manufactured by thixomolding method using ASTM No. AZ9 ID magnesium alloy composed of 90% by weight of magnesium, 9% by weight of aluminum and 1% by weight of zinc Used as The test piece was immersed in an acidic aqueous solution containing 2.2% by weight of phosphoric acid and a trace amount of a surfactant, and then washed with ion-exchanged water. Subsequently, the specimen was immersed in an alkaline aqueous solution containing 18% by weight of sodium hydroxide, washed with ion-exchanged water, and the surface of the test piece was pretreated.
  • An aqueous solution of phosphoric acid and aqueous ammonia were mixed to prepare an electrolytic solution containing 0.25molZL of a phosphate group and 1.5molZL of ammonia or ammpodium ions in total, and kept at 20 ° C. .
  • the pH of this electrolyte was 11.
  • the pretreated magnesium alloy test piece was immersed therein as an anode to perform anodizing treatment.
  • a SUS316L plate having a surface area four times as large as that of the anode was used as the cathode.
  • the current density of the anode surface using the constant current source is set to be 1 AZdm 2, about 60 seconds, respectively, about 150 seconds, about 200 seconds or about 400 Energized for seconds.
  • the applied voltage was low at the start of energization, but increased to about 200, 250, 300, or 350 volts at the end of energization, respectively.
  • ion exchange water, aqueous nitric acid solution, and ion exchange water were sequentially washed and dried. From this, an anodic oxide film having a thickness of 1 m, 3 m, 5 m or 10 ⁇ m was formed.
  • the film thickness refers to the average distance between the surface force of the anodized film and the magnesium alloy surface of the base material in a film having a local thickness unevenness due to having a large number of holes. .
  • FIG. 1 shows the results of observing the cross section of the anodized film with a 10 ⁇ m-thick sample using an X-ray microanalyzer.
  • the photograph in the upper left (described as “SL”) is an electron micrograph of the cross-sectional shape observed.
  • About 1Z3 at the bottom of the photograph is a magnesium alloy base, about 1Z3 at the center is an anodized film, and about 1Z3 at the top is an epoxy resin used for embedding.
  • there were many holes in the anodic oxide film which were thought to be derived from sparks during energization.
  • a photograph in the upper center (described as "Mg"), a photograph in the upper right (described as “0"), and a photograph in the lower left (described as “A1")
  • Lower center photo (denoted as “P”) and lower right photo (denoted as “Zn”) are magnesium (Mg), oxygen (O), aluminum (A1), phosphorus (P) and This figure shows the distribution of zinc (Zn).
  • Mg magnesium
  • O oxygen
  • Al aluminum
  • P phosphorus
  • This figure shows the distribution of zinc (Zn).
  • FIG. 1 shows the force rubber, and it should be noted that brightness and element concentration are not always proportional in black and white display.
  • the anodic oxide film is composed of a porous layer occupying most of the layer and a transition layer existing between the porous layer and the magnesium alloy base material.
  • the porous layer contains magnesium, oxygen, aluminum and phosphorus, and has large and small pores.
  • the oxygen concentration of the transition layer is lower than that of the porous layer and higher than that of the magnesium alloy base material.
  • the magnesium concentration of the transition layer is higher than the magnesium concentration of the porous layer and lower than the magnesium concentration of the magnesium alloy base material.
  • the graph of the oxygen (O) concentration distribution at the upper right in FIG. 1 it is understood that oxygen is not substantially present in the magnesium alloy base material, but is present in the porous layer.
  • the bright band-like portion existing between the porous layer and the magnesium alloy base material is the transition layer, and the portion contains an intermediate amount of oxygen between the two.
  • magnesium (Mg) concentration distribution in the center magnesium is present at a high concentration in the magnesium alloy base material, and is present at a lower concentration in the porous layer.
  • a bright band-like portion existing between the porous layer and the base material is a transition layer, and the portion contains an intermediate amount of magnesium between the two.
  • the transition layer was also close to the magnesium alloy base, the portion was close to the porous layer where magnesium was relatively large, and the portion was relatively low in magnesium. That is, it is recognized that the concentration is gradually changing even in the transition layer.
  • the thickness of the transition layer in Fig. 1 is about 2 m, and it is formed with a relatively uniform layer thickness regardless of the location. As for the force, no pore structure is recognized in the transition layer, and a homogeneous layer is likely to cover the magnesium alloy base material.
  • rating Nanno 9.0 refers to the case where the ratio of the corroded area to the entire area is 0.07-0.10%, and the above-mentioned time is required until the ratio of the corroded area is reached. Shows the time that was spent. That is, it can be seen that the thicker the anodized film, the higher the surface resistance, but the better the corrosion resistance. As will be described later, even if the surface resistance value is 1000 ⁇ at a film thickness of 10 / zm, electrical plating can be sufficiently performed, so from the viewpoint of corrosion resistance, the thickness of the anodic oxide film Is preferably thicker.
  • copper Plating used "Pyro Bright PY-61" manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd. It contains copper pyrophosphate as a main component.
  • Alkaline plating solutions that do not contain cyanide or fluoride at all. In each case, a good metal plating film could be formed with a film thickness of 5 m. The details of the plating solution composition and plating conditions are summarized in Table 2 below.
  • the resistance value between the magnesium alloy base material and the surface of the zinc film was measured for the sample in which the zinc film was formed on the anodized film by the method shown in FIG. Therefore, when measured, even when the thickness of the anodic oxide film was 1 m, 3 / ⁇ , 5111, and 10111, the resistance value was within the range of 11 1.1.5 ⁇ , It showed good conductivity. That is, it was shown that the resistance in the thickness direction of the anodized film formed by the present invention was small. At this time, even if the thickness of the anodized film was changed, the resistance value did not change much.
  • the thickness of the anodized film was 1 m and 3 m. , 5 m, and 10 ⁇ m, the resistance value was within the range of 0.5 to 1.0 ⁇ , showing extremely good conductivity. In this case, even better conductivity could be obtained than in the case of zinc plating. Also, in the case of copper plating, as in the case of zinc plating, even if the thickness of the anodized film changes, the resistance value does not change. Was a very varied force.
  • the back surface of the magnesium alloy plate manufactured by the thixomolding method which was subjected to the anodic oxidation treatment in this example, was shaved, and the resistance between the front and back surfaces was determined according to the method shown in FIG. When the value was measured, the resistance was about 1 ⁇ . This resistance value is considered to indicate such a value due to the thin silicon oxide layer formed on the surface of magnesium. In other words, when copper is applied to the surface of the anodized film according to the method of the present invention, it is possible to obtain better conductivity than a magnesium alloy product, particularly if surface treatment is not performed.
  • Table 5 The evaluation results of the corrosion resistance of the obtained samples by the salt spray test are summarized in Table 5. It can be seen that the plating film obtained in this example has better corrosion resistance than the comparative examples shown below. In particular, it was clarified that the thicker the thickness of the base treatment layer formed by the anodized film, the better the corrosion resistance. Table 5 also summarizes the results of evaluating the adhesion of the coating on the copper-plated samples. It can be seen that the adhesive film obtained in the present example has better adhesion than the comparative example shown below.
  • FIG. 2 is an electron micrograph showing the cross-sectional shape. This corresponds to the photograph in the upper left of FIG. 6 (described as “SL”).
  • SL the photograph in the upper left of FIG. 6
  • about 1Z3 below is a magnesium alloy base material
  • about 1Z3 in the center is a zinc plating film
  • about 1Z3 above is an epoxy resin used for embedding.
  • An anodic oxide film exists between the magnesium alloy substrate and the zinc plating film.
  • FIG. 3 is a diagram showing the distribution of magnesium (Mg)
  • FIG. 4 is a diagram showing the distribution of oxygen (O)
  • FIG. 5 is a diagram showing the distribution of zinc (Zn).
  • Figure 3-5 shows the concentration of each element in black and white shades, with the brighter the higher the concentration.
  • the upper center photo (described as “Mg”), the upper right photo (described as “Zn”), the lower left photo (described as “0”), the lower center photo (described as “A1”), and the lower right
  • the photographs (described as “P”) show the distribution of magnesium (Mg), zinc (Zn), oxygen (O), aluminum (A1) and phosphorus (P), respectively.
  • These five photographs, which originally show the density distribution by color display, are attached to the present specification in black and white display.
  • the right side of Fig. 6 is a color bar, and it should be noted that the brightness and the density element are not always proportional in black and white display.
  • Degreasing agent for cathodic electrolysis 30g / L 8A / dm 2 degreasing
  • Zinc-substituted sodium pyrophosphate 120 g / L pH10.2
  • Lithium fluoride 3 g / L for 8 minutes
  • the electroplating can be performed directly by using the conductive anodized film as a base treatment for each plating.
  • Table 5 As shown in Table 5, as the thickness of the anodic oxidation coating increases, the corrosion resistance improves, and when the underlying conductive anodic oxidation coating is 10 / zm, Corrosion time in the salt spray test is 500 hours or more, indicating extremely excellent corrosion resistance.

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Abstract

 マグネシウム又はマグネシウム合金の表面に形成された導電性陽極酸化皮膜の上に直接金属めっき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品とする。リン酸根を0.1~1mol/L含有し、pHが8~14である電解液にマグネシウム又はマグネシウム合金を浸漬し、その表面を陽極酸化処理することによって、導電性を有する陽極酸化皮膜を形成することができ、その表面に電気めっきを施すことが可能となる。これにより、耐食性及び密着性に優れた金属めっき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品が提供される。

Description

明 細 書
マグネシウム又はマグネシウム合金からなる製品及びその製造方法 技術分野
[0001] 本発明は、金属めつき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグネシウム合金か らなる製品に関する。より詳しくは、マグネシウム又はマグネシウム合金の表面に形成 された導電性陽極酸ィ匕皮膜の上に直接金属めつき皮膜が形成されてなるマグネシゥ ム又はマグネシウム合金力もなる製品に関する。また、そのような製品の製造方法に 関する。
背景技術
[0002] マグネシウム及びマグネシウム合金は実用金属中で最も軽いために比強度が高ぐ 放熱性も良好で、榭脂に比べてリサイクル性にも優れることから、近年、電気機器や 自動車部品用途に広く用いられるようになってきている。中でも、小型軽量化の要求 性能が高ぐ意匠性、リサイクル性の要求も高い電気機器の筐体として好適に使用さ れている。し力しながら、マグネシウム及びマグネシウム合金は腐食しやすいことから 、耐食性を有する表面処理又は塗装が必要である。また同時に、マグネシウム又は マグネシウム合金の表面を外観や硬度に優れる他の金属皮膜で覆うことも要望され ている。
[0003] マグネシウム又はマグネシウム合金の表面に金属めつきを施す方法の代表的なも のとしては、「Dow法」や「坂田法」が例示される。「Dow法」は、マグネシウム又はマ グネシゥム合金に対して、複雑な前処理を施した後で、亜鉛置換処理 (ジンケート処 理)を施してから、シアン化銅水溶液を用いてストライクめっきを行うものである。また、 「坂田法」は、酸性水溶液やアルカリ性水溶液を用いて複雑な前処理を施したマグネ シゥム又はマグネシウム合金に対して、ニッケル塩の水溶液を用いて無電解ストライ クめっきを行うものである。
[0004] し力しながら、これらのめっき方法によって得られるめっき皮膜は、未だ耐食性が不 十分である。これは、マグネシウムが実用金属の中で最も腐食しやすぐめっきを施し ても簡単に耐食性を向上させることができないためであると考えられる。また、電解の 最中に析出するめつき皮膜がマグネシウム又はマグネシウム合金力 なる基材を覆う までの間も、基材の腐食が進行しやすぐ密着性の良好なめっき皮膜を得ることも困 難である。さらに、複雑な前処理を必要とすることもあって、これらのめっき方法は、広 く一般的には普及していない。しかも、「Dow法」においてはシアンィ匕金属塩を使用 するので、周辺環境や作業環境の保護の観点力もは好ましくない。また、「Dow法」と 「坂田法」の ヽずれの方法によってもフッ化物塩を使用するが、フッ素イオンを含有す る場合には一般に廃液処理が困難になる場合が多ぐこの点力 も好ましくない。環 境保護の要求が厳しくなつている昨今では、シアンィ匕物やフッ化物などを使用しない めっきプロセスが要望されて 、る。
[0005] 一方、マグネシウム又はマグネシウム合金に陽極酸ィ匕処理を施すことで優れた耐 食性を付与することができる。代表的な処方として、「Dowl7法」ゃ「HAE法」と呼ば れる処方による陽極酸ィ匕処理が一般的に行われており、これによつて実用上十分な 耐食性を有する陽極酸ィ匕皮膜を形成することができる。また、特表平 11— 502567号 公報 (W096Z28591) (特許文献 1)には、アンモニアとリン酸塩ィ匕合物を含有する 電解液に浸漬してマグネシウム又はマグネシウム合金を陽極酸ィ匕処理する方法が記 載されている。
[0006] また、マグネシウム又はマグネシウム合金をィ匕成処理することによつてもある程度の 耐食性を付与することができ、導電性を有する皮膜を形成できることが下記の公報に 記載されている。特開 2000— 96255号公報(特許文献 2)には、一定量のカルシウム 、マンガン及びリンを含有し、電気抵抗率が 0. 1 Ω 'cm以下である化成処理皮膜が 記載されている。また、特開 2000— 328261号公報(特許文献 3)には、 pHl— 5の 酸性水溶液でマグネシウム合金の表面をエッチングしてから、有機リンィ匕合物を含有 する pH7— 14のアルカリ性水溶液に接触させ、引き続き化成処理液に接触させるマ グネシゥム合金の表面処理方法が記載されており、表面抵抗値の小さ 、製品が得ら れる旨が記載されている。
[0007] プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイや携帯電話などにおいては、それから 発生する電磁波を効率的に遮蔽できることが好ま 、。マグネシウム及びマグネシゥ ム合金は良好な電気伝導性を有することから、それを用いた電気機器の筐体は良好 な電磁波シールド性を有することができる。また、多くの電気機器、特にデジタル電 子機器においては、誤作動を防止するために、接地 (アース)して電磁ノイズを除去 することが重要である力 このとき、筐体がマグネシウム又はマグネシウム合金であれ ば、そこに接地することも可能である。
[0008] ところが、前述のようにマグネシウム及びマグネシウム合金には、耐食性を有する表 面処理又は塗装が必要である。マグネシウム又はマグネシウム合金に耐食性を付与 するための陽極酸ィ匕処理を施したのでは、マグネシウム又はマグネシウム合金を絶 縁性の酸ィ匕皮膜が覆ってしまい電磁波シールド性が失われてしまうとともに、接地す ることも不可能になる。そのため、例えば接地のための部分はマスキングしてから陽 極酸化処理を行ったり、全面を陽極酸化処理してから一部の陽極酸化膜を削って除 去したりする手法などが採用されていた。し力しながら、このような方法は操作が煩雑 で生産コストを押し上げるものであった。
[0009] 一方、化成処理によって形成される皮膜には、例えば上記特開 2000— 96255号 公報ゃ特開 2000 - 328261号公報に記載された皮膜のように、電気伝導性を有す るものが最近報告されている。しかしながら、マグネシウム又はマグネシウム合金に通 電することで強固な酸化皮膜を形成する陽極酸化処理に比べると、単に処理液に浸 漬するだけの化成処理で形成される皮膜は、その耐食性が十分ではない。近年のモ パイル機器の筐体などでは、多様な環境下での耐食性が必要になることから、特にこ の問題は重要である。そのため、化成処理で皮膜を形成した場合には、その上に更 に複数層の塗装を施して何とか耐食性を確保して ヽるのが現状である。しかしながら 、形状の複雑な電気機器の筐体に均一な塗装を施すのは必ずしも容易ではなぐ複 数回の塗装工程を行ったのではコスト上昇が大き 、。
[0010] 陽極酸ィ匕皮膜上に金属めつきを施す試み力 ^、くつか報告されている。例えば、特 開昭 55— 18540号公報(特許文献 4)には、マグネシウムあるいはマグネシウム合金 を、既知の陽極酸化法で処理して一次皮膜を形成した後、金属塩水溶液中で交流 電解し、二次皮膜を生成する方法が記載されている。し力しながらその実施例では、 得られた皮膜の外観を観察して ヽるだけであって、具体的な耐食性の評価や膜組成 の分析が行われているわけではない。後に示される本願明細書の比較例でも示され るように、本件発明者が絶縁膜である陽極酸ィ匕皮膜上に電気めつきしょうとしても、金 属めっき皮膜を形成することは困難であった。
[0011] 特開 2001— 152393号公報(特許文献 5)には、マグネシウム合金の表面に陽極酸 化処理して酸化物層を形成する第 1工程と、酸化物層の上に熱硬化性榭脂塗料を 塗布して封孔性榭脂層を形成する第 2工程と、封孔性榭脂層の上に導電性塗料を 塗布して導電性榭脂層を形成する第 3工程と、導電性榭脂層の上にめっき処理する 第 4工程とからなるマグネシウム合金の陽極酸ィ匕処理方法が記載されて 、る。この方 法によれば、導電性塗料によって導電性が付与され、その後の電気めつきが可能と なる。しかしながら、陽極酸化処理の後に複数の榭脂層を形成する操作が必要であ り、操作が煩雑となって、製造コストも上昇する。なお、当該特開 2001— 152393号 公報の出願人 (株式会社田中産業)は、 20年も前の公開公報である上記特開昭 55 —18540号公報の出願人 (株式会社田中産業)と同じであることからも、上記特開昭 55-18540号公報に記載の方法によっては、十分な性能の金属メツキ皮膜が得られ て 、な力つたことが推察される。
[0012] 特許文献 1:特表平 11—502567号公報
特許文献 2:特開 2000— 96255号公報
特許文献 3 :特開 2000-328261号公報
特許文献 4:特開昭 55-18540号公報
特許文献 5 :特開 2001— 152393号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0013] 本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、耐食性及び密着性に 優れた金属めつき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる 製品を提供することを目的とするものである。また、そのような製品を得るための、環 境を汚染しにくぐしかも低コストの製造方法を提供することを目的とするものである。 課題を解決するための手段
[0014] 上記目的は、マグネシウム又はマグネシウム合金の表面に形成された導電性陽極 酸ィ匕皮膜の上に直接金属めつき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグネシゥ ム合金カゝらなる製品を提供することによって達成される。マグネシウム又はマグネシゥ ム合金の表面に形成された陽極酸化皮膜が導電性を有することによって、その表面 に金属めつき皮膜を電気めつきによって形成することが可能である。
[0015] 従来、マグネシウム又はマグネシウム合金を陽極酸ィ匕処理して得られる皮膜は、酸 化物を主成分とする皮膜であって、絶縁体であった。むしろ絶縁体であるからこそ、 マグネシウム又はマグネシウム合金力 なる基材に腐食電流が流れることがなぐ基 材の酸ィ匕劣化を防止することができていると考えられていた。ところが、本発明者が 鋭意検討した結果、陽極酸ィ匕皮膜でありながら十分な電気伝導性を有する皮膜が見 出された。しカゝも従来カゝら陽極酸ィ匕皮膜が有していた、優れた耐食性はそのまま保 持していることも明らかになったものである。これにより、耐食性に優れる陽極酸化皮 膜の表面に直接金属めつき皮膜を形成したマグネシウム又はマグネシウム合金から なる製品を提供できることとなった。特に、電磁波シールド性、接地特性などに優れ た電気機器の筐体を提供することができるものである。
[0016] このとき、マグネシウム又はマグネシウム合金力もなる基材と金属めつき皮膜の表面 との間の抵抗値が 104Ω以下であることが好ましい。当該抵抗値が 104Ω以下である ということは、陽極酸ィ匕皮膜の導電性が一定以上あるということであり、電気めつきが スムーズに進行するということである。前記陽極酸化皮膜の膜厚が 0. 01— 30 /z mで あることが、耐食性と電気伝導性のバランスの点力も好ま 、。
[0017] 本発明において、前記陽極酸ィ匕皮膜が多孔質層と遷移層とからなり、該遷移層が マグネシウム又はマグネシウム合金力もなる基材と前記多孔質層との間に存在し、該 遷移層のマグネシウム含有量が、前記多孔質層のマグネシウム含有量と前記基材の マグネシウム含有量との中間の値を示し、かつ該遷移層の酸素含有量が、前記多孔 質層の酸素含有量と前記基材の酸素含有量との中間の値を示すことが好適である。 このような遷移層を有することによって、良好な導電性と耐食性を得ることができる。 当該遷移層の厚みは 0. 2-5 μ mであることが好適である。
[0018] また、前記陽極酸化皮膜が、マグネシウム元素を 10— 65重量%、酸素元素を 25 一 60重量%含有することが好適である。また、前記陽極酸化皮膜が、リン元素を 4一 30重量%含有することが好ま 、。アルミニウム元素を 1一 20重量%含有することも 好適である。また、本発明の陽極酸化皮膜は従来の陽極酸化皮膜が含有するような 重金属元素を含有しなくても、優れた性能を発揮するものである。
[0019] 導電性陽極酸化皮膜の上に直接形成される金属めつき被膜が、亜鉛、ニッケル、 銅、金、銀、クロム力 なる群力 選択される金属又はそれらの金属の合金力 なるこ とが好ましい。これらの金属又は合金は、アルカリ性の電気めつき浴を用いて、良好 な金属めつき皮膜を形成することが容易なものである。このような金属めつき被膜の 厚みは、 0. 1一 100 mであることが好適である。また、前記金属めつき被膜の上に 、さらに他の金属めつき皮膜が形成されてなることも好ましぐこの場合には、様々な 種類の金属めつき層を形成することが可能であり、用途に応じて装飾性ゃ耐磨耗性 などに優れた金属表面を得ることができる。
[0020] 本発明の好適な実施態様は、マグネシウム又はマグネシウム合金の表面の全部が 陽極酸ィ匕皮膜で覆われ、該陽極酸ィ匕皮膜の表面の全部が前記金属めつき皮膜で覆 われ、かつ該金属めつき皮膜の表面の一部にのみ榭脂塗装が施されて残余の部分 の金属めつき皮膜が露出している製品である。このように一部に陽極酸ィ匕皮膜の露 出部分を設けることで、電磁波シールド性や接地特性を確保しながら、榭脂塗装によ つて外観の美麗な、耐摩擦性に優れた製品を提供することができるものである。具体 的には、筐体内面には榭脂塗装が施されず、筐体外面には榭脂塗装が施された電 気機器の筐体が、特に好適な実施態様である。
[0021] また、本発明の目的は、リン酸根を 0. 1— lmol/L含有し、 pHが 8— 14である電 解液にマグネシウム又はマグネシウム合金を浸漬し、その表面を陽極酸ィ匕処理した 後にめっき浴に浸漬して電気めつきを施して、前記陽極酸化皮膜の表面に直接金属 めっき被膜を形成するマグネシウム又はマグネシウム合金力もなる製品の製造方法 を提供することによつても達成される。このとき、前記電解液がアンモニア又はアンモ -ゥムイオンを 0. 2— 5mol/L含有することが好適である。
[0022] 本発明の製造方法においては、陽極酸ィ匕処理に際してマグネシウム又はマグネシ ゥム合金を予め酸性水溶液に浸漬してから、電解液に浸漬して陽極酸化処理するこ とが好適である。適切に前処理してから陽極酸化処理に供することで、導電性を有す る陽極酸ィ匕被膜が得られやすくなるものである。 [0023] また、本発明の目的は、相互に 10mm離れた 2つの端子間で測定した皮膜表面の 抵抗値が 106 Ω以下である陽極酸ィ匕皮膜を表面に有するマグネシウム又はマグネシ ゥム合金をめつき浴に浸漬して電気めつきを施して、前記導電性陽極酸化皮膜の表 面に直接金属めつき被膜を形成するマグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる製 品の製造方法を提供することによつても達成される。皮膜表面の抵抗値が 106 Ω以 下であることによって、電気めつきがスムーズに進行する。
[0024] 前記陽極酸ィ匕皮膜の表面を予め酸性水溶液に浸漬してから、前記めつき浴に浸 漬して電気めつきを施すことが好ましい。こうすること〖こよって、陽極酸化皮膜と金属 めっき皮膜との間の接着性が向上する。また、前記めつき浴の pHが 7— 14. 5である ことも好ましい。めっき浴の pHが中性力 アルカリ性の範囲にあることで、陽極酸ィ匕 被膜が酸によって浸食されることを防止することができる。前記金属めつき皮膜を形 成した後で、さらに他のめっき浴に浸漬して前記金属めつき皮膜の表面をさらに他の 金属めつき皮膜で覆うことも好ましい。この場合には、様々なめつき条件を採用して、 目的に応じて様々な金属皮膜を形成することが可能である。
発明の効果
[0025] 耐食性及び密着性に優れた金属めつき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグ ネシゥム合金力もなる製品を提供することができる。また、そのような製品を得るのに 好適な製造方法を提供することができる。
図面の簡単な説明
[0026] [図 1]陽極酸ィ匕皮膜を形成した試料について、皮膜断面を X線マイクロアナライザー で観察し、断面形状を示した写真と、各元素の分布状況を示した写真とを合成したも のである。
[図 2]陽極酸ィ匕皮膜上に亜鉛めつきを施した試料について、皮膜断面を X線マイクロ アナライザーで観察し、断面形状を示した写真である。
[図 3]陽極酸ィ匕皮膜上に亜鉛めつきを施した試料について、皮膜断面を X線マイクロ アナライザーで観察し、マグネシウム元素の分布状況を示した写真である。
[図 4]陽極酸ィ匕皮膜上に亜鉛めつきを施した試料について、皮膜断面を X線マイクロ アナライザーで観察し、酸素元素の分布状況を示した写真である。 [図 5]陽極酸ィ匕皮膜上に亜鉛めつきを施した試料について、皮膜断面を X線マイクロ アナライザーで観察し、亜鉛元素の分布状況を示した写真である。
[図 6]陽極酸ィ匕皮膜上に亜鉛めつきを施した試料について、皮膜断面を X線マイクロ アナライザーで観察し、断面形状を示した写真と、各元素の分布状況を示した写真と を合成したものである。
[図 7]マグネシウム合金基材と金属めつき皮膜の表面との間の抵抗値の測定方法を 示した図である。
符号の説明
[0027] 1 マグネシウム合金基材
2 陽極酸化皮膜
3 金属めつき皮膜
4 測定端子
5 抵抗値測定器
発明を実施するための最良の形態
[0028] 以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、マグネシウム又はマグネシウム合金の 表面に形成された導電性陽極酸化皮膜の上に直接金属めつき皮膜が形成されてな るマグネシウム又はマグネシウム合金力もなる製品である。
[0029] 原料とするマグネシウム又はマグネシウム合金は、マグネシウムを主成分とするもの であればよぐマグネシウム単体力 なる金属であっても良いし、合金であっても良い 。通常は、成形性、機械的強度、延性などを付与するためにマグネシウム合金が好 適に使用される。マグネシウム合金としては、 Mg— A1系合金、 Mg— A1— Zn系合金、 Mg— A1— Mn系合金、 Mg— Zn— Zr系合金、 Mg—希土類元素系合金、 Mg— Zn—希 土類元素系合金などが挙げられる。本発明の実施例では Mg— A1— Zn系合金を使用 しており、得られた陽極酸ィ匕皮膜中にはアルミニウム元素が含まれていた。したがつ て、原料のマグネシウム合金としては上記各種の合金のうち、アルミニウムを含有する ものであることが好ま 、と推測される。
[0030] 陽極酸ィ匕処理に供されるマグネシウム又はマグネシウム合金の形態は特に限定さ れない。ダイカスト法、チクソモールド法、プレス成形法、鍛造法などによって成形さ れた成形品を用いることができる。成形時には、成形品の表面付近に形成される皺 や中空部の内部に離型剤が残留する場合がある。陽極酸化処理する場合には、化 成処理する場合に比べて、残留する離型剤を少なくすることが容易である。製品に残 留する離型剤は、加熱された時に揮発して、榭脂塗膜にフクレを生じさせることがあ る。ここで、成形時に使用される離型剤としては、シリコーン化合物からなる離型剤が 代表的である。
[0031] マグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる成形品は、成形時に付着した離型剤な どの有機物に由来する汚れを表面に有していることがあるので、脱脂処理を施すこと が好まし!/ヽ。脱脂のための液としては界面活性剤ゃキレート剤を含有する水溶液が 好適に使用される。
[0032] 必要に応じて脱脂処理した後で、酸性水溶液に浸漬してから、電解液に浸漬して 陽極酸ィ匕処理することが好まし 、。酸性の水溶液に浸漬することによってマグネシゥ ム又はマグネシウム合金の表面を適度にエッチングして、既に形成されている不十分 な酸化皮膜や残存する有機物の汚れを除去することができる。酸性の水溶液として は特に限定されないが、リン酸水溶液が適度な酸性度を有しており好適である。リン 酸水溶液を用いた場合には、エッチングと同時にリン酸マグネシウムが表面に形成さ れることもある。また、酸性水溶液に界面活性剤ゃキレート剤を配合して、脱脂処理 を同時に行うこともできる。
[0033] また、こうして酸性の水溶液で処理した後で、さらにアルカリ性水溶液で洗浄してか ら陽極酸ィ匕処理に供することも好ま 、。酸性水溶液中では不溶である成分 (スマツ ト)がマグネシウム又はマグネシウム合金の表面に付着していることがあることから、こ れを除去することが可能である。アルカリ性水溶液としては水酸ィ匕ナトリウム水溶液や 水酸化カリウム水溶液が好適に使用される。
[0034] 前記脱脂処理、酸性水溶液処理、アルカリ性水溶液処理のような各処理工程の後 に、必要に応じて水洗や乾燥を施しても良い。こうして、必要に応じて前処理が施さ れたマグネシウム又はマグネシウム合金が電解液中に浸漬されて陽極酸ィ匕される。
[0035] 陽極酸化処理に使用する電解液は、リン酸根を含有するアルカリ性の水溶液であ ることが好ましぐより具体的にはリン酸根を 0. 1— lmol/L含有し、 pHが 8— 14で ある水溶液が好適である。適当な量のリン酸根を含有することで、適当な量のリン元 素が陽極酸ィ匕膜に含まれることになる。また、アルカリ性にすることでマグネシウム又 はマグネシウム合金の不必要な溶出を防止することができる。
[0036] ここでいうリン酸根は、遊離のリン酸、リン酸塩、リン酸水素塩、リン酸二水素塩とし て電解液中に含まれるものである。また、リン酸が縮合して得られるポリリン酸やその 塩の場合には、それらが加水分解して得られるリン酸根の数だけリン酸根を含有して いるとする。塩の場合には、金属塩であってもよいし、アンモ-ゥム塩のような非金属 の塩であっても良い。リン酸根の含有量は 0. 1— lmol/Lであることが好適である。 より好適には 0. 15molZL以上であり、さらに好適には 0. 2molZL以上である。ま た、より好適には 0. 7molZL以下であり、さらに好適には 0. 5molZL以下である。
[0037] 電解液の pHは 8— 14であることが好適である。より好適には pHは 9以上であり、さ らに好適には 10以上である。また、より好適には pHは 13以下であり、さらに好適に は 12以下である。
[0038] また、電解液がアンモニア又はアンモ-ゥムイオンを、それらの合計量として 0. 2— 5mol/L含有することが好ましい。これによつて電解液の pHが適当なアルカリ性に 保たれる。アンモニア又はアンモ-ゥムイオンの含有量はより好適には 0. 5mol/L 以上であり、さらに好適には ImolZL以上である。また、より好適には 3molZL以下 であり、さらに好適には 2molZL以下である。
[0039] 陽極酸化処理で使用される電解液は、本発明の効果を阻害しない範囲内で他の 成分を含有してもよいが、重金属元素を実質的に含有しないことが好ましい。ここで 重金属元素とは、単体としての比重力 を超える金属元素のことをいい、従来の陽極 酸化処理における代表的な電解液に含有されているものとして、クロム、マンガンな どが例示される。特に排出規制が厳しく有害なクロムを含有しないことが好ましい。な お、マグネシウム合金に含まれる重金属、例えば亜鉛が微量溶け出して電解液中に 含まれることは通常あまり問題とはならない。また、本発明の電解液がフッ素元素を含 有しな 、ことも好ま 、。フッ素元素を含有する水溶液は廃水処理が困難になること が多いからである。
[0040] 前記電解液の中に、必要に応じて前処理したマグネシウム又はマグネシウム合金を 浸漬し、これを陽極として通電することで陽極酸化処理が行われる。使用する電源は 特に限定されるものではなぐ直流電源でも交流電源でも使用可能である力 直流電 源を使用することが好ましい。また、直流電源を使用する際には、定電流電源と定電 圧電源のいずれを使用しても良いが、定電流電源を使用することが好ましい。陰極 材料は特に限定されず、例えばステンレス材などを好適に使用することができる。陰 極の表面積は陽極酸ィ匕処理されるマグネシウム又はマグネシウム合金の表面積より も大きいことが好ましぐ 2倍以上であることがより好ましぐ通常は 10倍以下である。
[0041] 電源として定電流電源を用いるときの陽極表面の電流密度は通常 0. 1-lOA/d m2である。好適には 0. 2AZdm2以上であり、より好適には 0. 5AZdm2以上である 。また、好適には 6AZdm2以下であり、より好適には 3AZdm2以下である。通電時 間は通常 10— 1000秒である。好適には 50秒以上であり、より好適には 100秒以上 である。また、好適には 700秒以下であり、より好適には 500秒以下である。定電流 電源で通電する際には、通電開始時の印加電圧は低いものの、時間の経過とともに 印加電圧は上昇する。通電を終了する際の印加電圧は通常 50— 600ボルトである。 好適には 200ボルト以上であり、より好適には 250ボルト以上である。また、好適には 500ボルト以下であり、より好適には 400ボルト以下である。従来の陽極酸化処理方 法である「Dowl7法」や「HAE法」においては、印加電圧を 100ボルト未満に設定 することが多いのに対して、本発明の陽極酸化処理では、比較的高い電圧に設定す るのが好ましい。これによつて、シリコーン離型剤などの不純物を含有する部分でも 酸ィ匕反応が進行しやすくなり、マグネシウム又はマグネシウム合金の表面全体に導 電性の良好な皮膜を形成しやすくなる。また、酸ィ匕反応に伴ってマグネシウム又はマ グネシゥム合金の表面力 酸素ガスが盛んに発生するので、陽極酸化処理中に上記 不純物が除去されやすくなる。通電中の電解液の温度は、通常 5— 70°Cである。好 適には 10°C以上である。また、好適には 50°C以下であり、より好適には 30°C以下で ある。
[0042] 通電終了後、洗浄することにより、陽極酸化皮膜の表面に付着した電解液を除去 する。洗浄に際しては、水のみではなぐ酸性水溶液を用いて洗浄することが好まし い。電解液がアルカリ性であることから、酸性水溶液で洗浄することによって、榭脂塗 装を行った場合に塗膜の密着性が改善される。酸性水溶液としては硝酸水溶液、塩 酸水溶液、硫酸水溶液などを使用することができる。洗浄操作の後、乾燥する。この ようにして、マグネシウム又はマグネシウム合金の表面に陽極酸ィ匕皮膜が形成される
[0043] こうして得られたマグネシウム又はマグネシウム合金は、相互に 10mm離れた 2つ の端子間で測定した皮膜表面の抵抗値が 106 Ω以下である導電性陽極酸ィ匕皮膜を 表面に有するものである。当該抵抗値は、陽極酸ィ匕皮膜の表面の相互に 10mm離 れた任意の 2点に端子を押し付けて測定される抵抗値 ( Ω )である。マグネシウム又は マグネシウム合金力もなる基材の抵抗値は小さいことから、実質的には、測定用の端 子と、マグネシウム又はマグネシウム合金力もなる基材との間に存在する陽極酸ィ匕皮 膜の厚み方向の電気抵抗に相関する値が測定されるものである。このように、導電性 を有することによって、陽極酸化皮膜の表面に密着性に優れた電気めつき皮膜を形 成することが可能になる。また、当該抵抗値は電磁波シールド性や接地特性の面か らも好ましい数値である。前記抵抗値は好適には 105Ω以下であり、より好適には 104 Ω以下である。一方、前記抵抗値が低すぎる場合には、製品の耐食性が低下するお それがあり、好適には、 0. 1 Ω以上であり、より好適には 0. 2 Ω以上である。なお、表 面処理して!/ヽな 、マグネシウム又はマグネシウム合金力 なる成形品の表面の抵抗 値は、 AZ91Dの場合で、通常 0. 1 Ω未満の値を示す。
[0044] 本発明で得られる陽極酸ィ匕皮膜は、図 1にも示されるように、表面に通電中のスパ ークに由来すると思われる多数の孔が存在する場合が多い。この点で化成処理皮膜 とは相違する。陽極酸化皮膜の膜厚は、 0. 01— 30 mであることが好適である。よ り好適には 0. 1 μ m以上であり、さらに好適には 1 μ m以上、最適には 5 μ m以上で ある。また、より好適には 20 m以下であり、さらに好適には 15 m以下である。陽 極酸ィ匕皮膜の膜厚が厚いほど耐食性は向上するが、あまり厚すぎる場合には電気 伝導率が低下して、電気めつきが困難になるおそれがあるとともに、製造コストが上昇 するおそれがある。
[0045] 本発明で形成される陽極酸ィ匕皮膜の化学組成は特に限定されるものではないが、 マグネシウム元素を 10— 65重量%、酸素元素を 25— 60重量%含有するものが好 適である。すなわち、マグネシウム又はマグネシウム合金が陽極酸ィ匕された結果の生 成物である、酸ィ匕されたマグネシウムを構成成分として含有するものであることが好 適である。マグネシウム元素の含有量はより好適には 15重量%以上であり、さらに好 適には 18重量%以上である。また、より好適には 45重量%以下であり、さらに好適に は 30重量%以下である。酸素元素の含有量はより好適には 40重量%以上である。 また、より好適には 55重量%以下である。
[0046] 前記陽極酸化皮膜が、リン元素を 4一 30重量%含有することが好適である。リン元 素の含有量はより好適には 10重量%以上であり、さらに好適には 15重量%以上で ある。また、より好適には 25重量%以下である。また、アルミニウム元素を 1一 20重量 %含有することも好適である。アルミニウム元素の含有量はより好適には 2重量%以 上である。また、より好適には 10重量%以下であり、さらに好適には 5重量%以下で ある。マグネシウム、酸素以外の上記元素を適当量含有することで、耐食性を損なう ことなく、良好な電気伝導性を有するようになるものと推測することができる。本発明 の陽極酸ィ匕皮膜は本発明の効果を阻害しない範囲内で上記以外の元素を含んでい ても構わない。し力しながら、原料のマグネシウム合金が元々含有していたものを除 き、重金属、特にクロム元素を実質的に含有しないことが好ましい。また、フッ素元素 も実質的に含有しな 、ことが好ま 、。
[0047] 前記陽極酸ィ匕皮膜は、必ずしも膜全体が均一な構造を有している訳ではなぐ後 述するように、多孔質層と遷移層とを有する。また、膜厚が薄いほど膜全体としてもマ グネシゥムの含有量が大きくリン元素の含有量が小さくなる傾向も認められている。た だし、膜厚が小さくなるとマグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる基材に含まれる マグネシウム元素をノイズとして拾ってしまうことがあるので、測定値としてはマグネシ ゥム含有量が、実際の膜の化学組成よりも大きく表されることがある。
[0048] ここで形成される陽極酸ィ匕皮膜は、表面に多数の凹凸を有する多孔質の構造を有 しているが、マグネシウム又はマグネシウム合金力 なる基材との界面には、当該基 材の表面の全体を均一に覆うように、遷移層が形成されている(図 1参照)。当該遷移 層は、多孔質層とも、マグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる基材とも異なる、中 間的な化学組成を有するものである。遷移層のマグネシウム含有量は前記基材よりも 少ないが多孔質層よりも多ぐ遷移層の酸素含有量は前記基材よりも多いが多孔質 層よりも少ない。すなわち、当該遷移層は、陽極酸化皮膜全体の厚みの大部分を占 める多孔質層に比べて、酸ィ匕の程度が少なぐし力も細孔構造を有さない均質な層 である。この遷移層の存在が、導電性や耐食性に大きな影響を与えているものと考え られる。当該遷移層の厚みは 0. 2— 5 mであることが好適である。遷移層の厚みは 、より好適には 0. 5 μ m以上であり、さらに好適には 1 μ m以上である。一方、遷移層 の厚みは、より好適には 3 μ m以下である。
[0049] このようにして形成された陽極酸化皮膜の上に金属めつき皮膜を形成する。本発明 で得られる陽極酸ィ匕皮膜は導電性を有するので、電気めつきによって、陽極酸化皮 膜の上に直接金属めつき皮膜を形成することができる。
[0050] 陽極酸ィ匕皮膜を有するマグネシウム又はマグネシウム合金をめつき浴に浸漬する 前に、予め酸性水溶液に浸漬することが好ましい。酸性の水溶液に浸漬することによ つて陽極酸ィ匕皮膜の表面を適度にエッチングして、表面を活性ィ匕することができる。 これによつて、金属めつき皮膜の密着性を向上させることができるとともに、金属めつ き皮膜とマグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる基材との間の電気伝導性を向上 させることができる。酸性の水溶液としては特に限定されないが、硝酸、塩酸、硫酸な どの強酸の希薄水溶液が好適に使用される。その後、必要に応じて水洗や乾燥処 理を行ってから電気めつきに供する。また、酸性水溶液に浸漬する方法以外の表面 処理を施しても構わない。
[0051] 必要に応じて予め処理された陽極酸ィ匕皮膜を有するマグネシウム又はマグネシゥ ム合金をめつき浴に浸漬する。本発明で使用されるめつき浴の組成は特に限定され ず、通電によって析出可能な金属がイオンとして溶解した水溶液であればよい。皮膜 を形成する金属は特に限定されるものではないが、亜鉛、ニッケル、銅、金、銀、クロ ムカもなる群力も選択される金属又はそれらの金属の合金であることが好適である。 これらの金属又は合金は、アルカリ性の電気めつき浴を用いて、良好な金属めつき皮 膜を形成することが容易なものだ力 である。
[0052] 本発明で使用するめつき浴としては、電気めつき浴として一般的に使用されている めっき浴を採用することが可能である。し力しながら、陽極酸化皮膜が溶出するのを 防止するためには、めっき浴の pHが 7— 14. 5であることが好ましい。めっき浴の pH が中性力 アルカリ性の範囲にあることで、マグネシウムの酸ィ匕物を含有する陽極酸 化被膜が酸によって浸食されるのを防止することができる。めっき浴のより好適な pH は 8以上であり、また 14以下である。めっき浴は、本発明の効果を阻害しない範囲内 で他の成分を含有してもよ ヽが、シアン化物やフッ化物を含有しな ヽことが好まし!/、。 シアンィ匕物は、毒性が強く周辺環境や作業環境に悪影響を及ぼしやすいからであり 、またフッ化物を含有する水溶液は廃水処理が困難になることが多 、からである。
[0053] 前記めつき浴の中に、陽極酸ィ匕皮膜を表面に有するマグネシウム又はマグネシゥ ム合金を浸漬し、これを陰極として通電することで金属めつき被膜が形成される。使 用する電源は特に限定されるものではなぐ直流電源でも交流電源でも使用可能で あるが、直流電源を使用することが好ましい。また、直流電源を使用する際には、定 電流電源と定電圧電源のいずれを使用しても良いが、定電流電源を使用することが 好ましい。陽極材料は特に限定されず、形成しょうとするめっき皮膜と同じ金属、ある いは白金やチタンなどを好適に使用することができる。電源として定電流電源を用い るときの陰極表面の電流密度は通常 0. 1— lOAZdm2程度である。また、通電時間 は通常 10— 1000秒程度である。通電中の電解液の温度は、通常 5— 70°Cである。 通電終了後、洗浄することにより、金属めつき皮膜の表面に付着しためっき液を洗浄 除去し、乾燥して、金属めつき皮膜を表面に有するマグネシウム又はマグネシウム合 金力 なる製品が得られる。
[0054] 金属めつき皮膜は、陽極酸化皮膜の表面を覆って形成される。このとき、陽極酸ィ匕 皮膜は、その表面が力なり浸食されて、その上に金属めつき層が形成されている。陽 極酸化皮膜の表面が浸食されるのは、陽極酸化処理後に予め酸性水溶液に浸漬す る際や、金属めつきを施す際に陽極酸ィ匕皮膜の一部が削られるためであると考えら れる。このように、陽極酸ィ匕皮膜が、表面を削られた多孔質構造を有しているので、 金属めつき皮膜は陽極酸化皮膜の表面の細孔の中に食 、込んで 、て、密着性の良 好な金属めつき層を形成することができる(図 2— 6参照)。このとき、前述のように、陽 極酸化皮膜の表面がかなり浸食されて 、るので、金属めつき皮膜が前述の遷移層に 接触又は近接している場所が存在する。このため、その部分を通じて良好な導電性 が確保されているものと推定される。遷移層は金属めつき処理を行っても特に浸食さ れることはない。したがって、遷移層が金属めつき層とマグネシウム又はマグネシウム 合金カゝらなる基材との導通性を確保するとともに、耐食性を付与するのに貢献してい ると想定される。
[0055] 本発明の製品の表面に形成される金属めつき皮膜の厚みは 0. 1— 100 /z mである ことが好適である。金属めつき皮膜の厚みは、より好適には 1 μ m以上である。また、 より好適には 50 m以下である。金属めつき皮膜の厚みは、めっきされる金属の種 類や用途などによって適宜調整される。
[0056] こうして得られる本発明の製品において、マグネシウム又はマグネシウム合金力もな る基材と金属めつき皮膜の表面との間の抵抗値が 104Ω以下であることが好適である 。当該抵抗値が 104Ω以下であるということは、陽極酸ィ匕皮膜の導電性が一定以上 あるということであり、電気めつきがスムーズに進行するということである。特に、陽極 酸ィ匕被膜中の遷移層が十分な導電性を有して 、ると 、うことである。マグネシウム又 はマグネシウム合金力 なる基材と金属めつき皮膜表面との間の抵抗値は、その両 者に測定用端子を押し付けることによって測定される。具体的には、図 7に示すように 、製品の裏側の皮膜を削ってマグネシウム又はマグネシウム合金を露出させて、製品 の表側の金属めつき皮膜との間で抵抗値を測定すればよ!、。製品の形態の影響は 受けるものの、大まかな抵抗値を把握することは十分に可能である。後述のように複 数の金属めつき層を有する場合には、金属めつき層の最表面に端子を当てて測定す ればよい。また後述のように榭脂塗装を設けた場合には、榭脂塗装を除去して金属 めっき層を露出させて、その表面に端子を当てて測定すればよい。ここで前記抵抗 値は、より好適には 102Ω以下、さらに好適には 10 Ω以下、最適には 2 Ω以下である 。一方、前記抵抗値力 、さすぎる場合には、耐食性が不十分になるおそれがあり、好 適には 10— 2 Ω以上である。
[0057] 本発明の製品は、そのままでも使用可能であるが、金属めつき皮膜 (下層)を形成し た後で、さらに他のめっき浴に浸漬して前記金属めつき皮膜の表面をさらに他の金 属めっき皮膜 (上層)で覆うことも好ましい。陽極酸化皮膜の上にめっきを施す場合に は、めっき浴の ρΗなど、浴組成の制約が大きぐ必ずしもめっき処方の選択肢が広 いわけではない。これに対して、一旦金属めつき被膜 (下層)が形成された後は、用 途に応じた様々な他のめっき皮膜 (上層)を形成することが容易である。
[0058] このような他のメツキ皮膜 (上層)としては、金、銀、銅、ニッケル、クロム等の金属あ るいはこれらの合金など、電気めつきあるいは無電解めつきによって施すことの可能 な全てのさまざまな皮膜を形成することが可能である。また、さらに他のめっき皮膜を 重ねても構わない。これらの他のめっき皮膜の厚みは特に限定されず、通常 1一 100 μ m程度である。これによつて、光沢、平滑性、硬度、導電性など、目的に応じた性 能のめっき皮膜を形成することが可能である。例えば装飾性の高い鏡面を形成する ことも可能である。
[0059] 金属めつき皮膜を表面に有する本発明のマグネシウム又はマグネシウム合金から なる製品の用途は特に限定されず、各種の電気機器、自動車用部品、レジャー用部 品、福祉介護機器用部品などに使用することができる。使用に際しては、必要に応じ て陽極酸化皮膜の表面に上塗りの塗装を施しても良いが、電気伝導性の良好な本 発明の陽極酸ィ匕皮膜の特徴を活かすためには、製品の全体を絶縁膜からなる塗装 で覆わない方が好ましい。
[0060] 用いられる塗料は特に限定されず、金属表面の塗装に使用される各種の塗料を使 用することができる。溶剤型塗料、水性塗料、粉体塗料などを使用して榭脂塗膜を形 成することができる。塗布後に高温焼付けを要する熱硬化型の塗料であっても、比較 的低温で溶剤や水を揮発させるだけでよい塗料であっても良いが、操作の容易な後 者を使用することが好ましい。また、外観を美麗にするためには透明榭脂塗料を用い ることが好ましぐ適宜着色されたものを用いても良い。塗装方法も特に限定されず、 スプレー塗装、浸漬塗装、電着塗装、粉体塗装などの公知の方法を採用することが できる。一部に塗膜を有しな 、部分を有することが好ま 、本発明のマグネシウム又 はマグネシウム合金力もなる製品にお 、ては、スプレー塗装や溶射法による粉体塗 装が好適に採用される。
[0061] 本発明の好適な実施態様は、マグネシウム又はマグネシウム合金の表面の全部が 陽極酸ィ匕皮膜で覆われ、該陽極酸ィ匕皮膜の表面の全部が前記金属めつき皮膜で覆 われ、かつ該金属めつき皮膜の表面の一部にのみ榭脂塗装が施されて残余の部分 の金属めつき皮膜が露出して 、る製品である。このようにマグネシウム又はマグネシゥ ム合金の表面の全部が陽極酸ィ匕皮膜で覆われることで、製品全体の耐食性が確保 できる。また、当該陽極酸ィ匕皮膜の表面の全部が金属めつき皮膜で覆われることで、 硬度などの性能を付与することができる。ただし、ここでいう全部とは、実質的に全部 ということであり、陽極酸化処理時や電気めつき時に電源と導通させた接点部分など 、皮膜が形成されていない部分が僅かにあっても構わない。また、金属めつき皮膜の 表面の一部にのみ榭脂塗装が施されて残余の部分の金属めつき皮膜が露出してい ることで、電磁波シールド性や接地特性を確保しながら、榭脂塗装によって外観の美 麗な、耐摩擦性に優れた製品を提供することができるものである。
[0062] 特に好適な実施態様は、筐体内面には榭脂塗装が施されず、筐体外面には榭脂 塗装が施された電気機器の筐体である筐体外面に榭脂塗装が施されることで、外観 を美麗にできるのみならず、使用時の損傷を防止することができる。一方、筐体の内 面では導電性を有する金属めつき皮膜が露出して!/ヽるので、電気配線からの接地が 容易に確保できるし、筐体内部の電子回路力 の電磁波を効果的にシールドするこ とちでさる。
[0063] こうして得られた本発明のマグネシウム又はマグネシウム合金力もなる製品は、軽量 性、強度、導電性などに優れており、各種の用途に使用することができる。携帯電話 、ノ ソコン、ビデオカメラ、スチルカメラ、光ディスクプレーヤー、ディスプレイ(CRT、 プラズマ、液晶)、プロジェクターなどの電気機器の筐体や、自動車用部品、釣具な どのレジャー用部品、福祉介護機器用部品などに使用することができる。
実施例
[0064] 以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定さ れるものではない。本実施例中での試験方法は以下の方法に従って行った。
[0065] (1)陽極酸化皮膜及び金属めつき皮膜の断面形状観察
試験片を 5mm X 10mmの寸法に切断し、エポキシ榭脂に包埋してから、切断面を 研磨して鏡面を得た。試料の断面方向から、日本電子株式会社製 X線マイクロアナ ライザ一「JXA— 8900」を用いて電子顕微鏡写真を撮影した。このとき、各元素ごとの 皮膜断面中の分布状況についても撮影した。また、この電子顕微鏡写真から各皮膜 の膜厚を測定した。
[0066] (2)陽極酸化皮膜の化学組成分析
日本電子株式会社製 X線マイクロアナライザー「JXA— 8900」を用いて、皮膜の断 面方向から膜組成の分析を行った。試料ごとに 2ケ所ずつ測定を行った。測定は、加 速電圧 15kV、試料照射電流 2 X 10— 8Aの条件で行った。データ解析は、 ZAH補正 によって行った。
[0067] (3)陽極酸化皮膜表面の抵抗値測定
三菱ィ匕学株式会社製低抵抗率計「ロレスター AP MCP— T400」を用い、二探針 式プローブ「MCP— ΤΡ01」を使用して測定した。試験片の中央部分で陽極酸化皮 膜の表面に測定端子を押し付けるようにして抵抗値 ( Ω )を測定した。前記プローブ は 10mmの間隔で測定端子が配置されたものであり、端子はベリリウム合金に金メッ キしたもので、その先端形状は直径 2mmの円柱状であり、端子を陽極酸化皮膜の 表面に押し付ける荷重は端子 1個あたり 240gである。
[0068] (4)マグネシウム合金基材と金属めつき皮膜の表面との間の抵抗値測定
図 7に示すように、試料の裏面の金属めつき皮膜 3と陽極酸ィ匕皮膜 2を削ってマグ ネシゥム合金基材 1を露出させ、露出面とその反対側の金属めつき皮膜 3の表面とに 測定端子4を接触させて、抵抗値を測定した。抵抗値測定器 5は、株式会社アドバン テスト製デジタル 'マルチメータ「R6341B」である。
[0069] (5)耐食性の評価
金属めつき皮膜を形成した試料の表面にアクリル系タリヤー塗装を施した後、試験 片の表面に、榭脂塗膜と陽極酸ィ匕皮膜とを貫通するように十文字状の切込み (クロス カット)を入れてから、 JIS Z2371に準拠して 5%塩水噴霧試験を行った。クロスカツ ト部の腐食による膨れが lmm以上に達したときの時間を腐食発生時間とした。
[0070] (6)めっき皮膜の密着性の評価
JIS H8504に準拠したテープ剥離試験を行い、めっき皮膜の剥離及び膨れの有 無を観察した。ここで、観察結果については以下のように分類評価した。
A:めっき皮膜の剥離あるいは膨れが全くな力つた。
B:めっき皮膜の剥離あるいは膨れが一部発生した。 c:めっき皮膜の剥離あるいは膨れが著しく発生した。
[0071] 実施例 1
マグネシウム 90重量%、アルミニウム 9重量%及び亜鉛 1重量%からなる ASTM No. AZ9 IDのマグネシウム合金を原料とし、チクソモールド法にて製造された 170 mm X 50mm X 2mmの寸法の合金板を試験片として使用した。上記試験片を 2. 2 重量%のリン酸と微量の界面活性剤を含有する酸性水溶液に浸漬してから、イオン 交換水で洗浄した。続いて、 18重量%の水酸ィ匕ナトリウムを含有するアルカリ性水溶 液に浸漬してからイオン交換水で洗浄し、試験片表面を前処理した。
[0072] リン酸水溶液とアンモニア水とを混合して、リン酸根を 0. 25molZL、アンモニア又 はアンモ-ゥムイオンをその合計量で 1. 5molZL含有する電解液を調製し、 20°C に保った。この電解液の pHは 11であった。この中に前記前処理を施したマグネシゥ ム合金試験片を陽極として浸漬して、陽極酸ィ匕処理を行った。このときの陰極として は、前記陽極の 4倍の表面積を有する SUS316Lの板を使用した。 4種類の膜厚の 陽極酸化皮膜を得るために、定電流電源を使用し陽極表面の電流密度が 1 AZdm2 となるようにして、それぞれ約 60秒、約 150秒、約 200秒又は約 400秒の間通電した 。通電開始時には低い印加電圧であったのが、通電終了時には、それぞれ約 200ボ ル卜、約 250ボル卜、約 300ボル卜又は約 350ボル卜まで上昇した。通電終了後、ィォ ン交換水、硝酸水溶液、イオン交換水の順番で洗浄して力も乾燥した。これ〖こより、 1 m、 3 m、 5 m又は 10 μ mの厚みを有する陽極酸化被膜が形成された。ここで いう膜厚とは、多数の孔を有するために局所的な膜厚ムラのある皮膜において、陽極 酸ィ匕皮膜の表面力も基材のマグネシウム合金面までの平均的な距離のことである。
[0073] 陽極酸ィ匕皮膜を 10 μ mの厚みで形成した試料にっ ヽて、皮膜断面を X線マイクロ アナライザーで観察した結果を図 1に示す。左上の写真(「SL」と記載)が、断面形状 を観察した電子顕微鏡写真である。当該写真の下方約 1Z3がマグネシウム合金基 材であり、中央約 1Z3が陽極酸ィ匕皮膜であり、上方約 1Z3が包埋処理に使用した エポキシ榭脂である。写真カゝらゎカゝるように、陽極酸化皮膜中には陽極酸化皮膜の 表面に通電中のスパークに由来すると思われる多数の孔の存在が認められた。
[0074] 中央上の写真(「Mg」と記載)、右上の写真(「0」と記載)、左下の写真(「A1」と記載 )、中央下の写真(「P」と記載)及び右下の写真(「Zn」と記載)は、それぞれマグネシ ゥム(Mg)、酸素(O)、アルミニウム (A1)、リン (P)及び亜鉛 (Zn)の分布状況を示し たものである。これらの図は、本来カラー表示によって濃度分布が示されているもの を、白黒表示で本明細書に添付したものである。図 1の右側に示されているのは、力 ラーバーであり、白黒表示では必ずしも明度と元素濃度とが比例していないことに注 意が必要である。
[0075] これらの図によれば、陽極酸化皮膜は、その大部分を占める多孔質層と、当該多 孔質層とマグネシウム合金基材との間に存在する遷移層とから構成されていることが わかる。多孔質層は、マグネシウム、酸素、アルミニウム及びリンを含有するものであり 、大小の空孔を有している。また、遷移層の酸素濃度は、多孔質層の酸素濃度よりも 低ぐマグネシウム合金基材の酸素濃度よりも高い。また、遷移層のマグネシウム濃 度は、多孔質層のマグネシウム濃度よりも高ぐマグネシウム合金基材のマグネシウム 濃度よりも低い。
[0076] 図 1中の右上の酸素(O)濃度分布の図によれば、マグネシウム合金基材には酸素 は実質的に存在せず、多孔質層には存在することがわかる。そして、多孔質層とマグ ネシゥム合金基材の間に存在する明るい帯状の部分が遷移層であり、その部分は、 前記両者の中間的な量の酸素を含有している。また、中央上のマグネシウム (Mg)濃 度分布の図によれば、マグネシウム合金基材にはマグネシウムが高濃度で存在し、 多孔質層ではそれより低濃度で存在する。そして、多孔質層と基材の間に存在する 明るい帯状の部分が遷移層であり、その部分は、前記両者の中間的な量のマグネシ ゥムを含有して 、る。カラー写真で見れば遷移層内にお 、てもマグネシウム合金基 材に近 、部分ではマグネシウムが比較的多ぐ多孔質層に近 、部分ではマグネシゥ ムが比較的少ないことが確認された。すなわち、遷移層内部においても徐々にその 濃度が変化していることが認められている。図 1における遷移層の厚みは 2 m程度 であり場所にかかわらず比較的均一な層厚みで形成されている。し力も、遷移層の 中には孔構造は認められず、均質な層がマグネシウム合金基材を覆って ヽることが ゎカゝる。
[0077] 得られた陽極酸化皮膜の、 5 m及び 10 mの厚みの試料について、 X線マイクロ アナライザーを用いて、皮膜の断面方向から膜組成を分析した。その結果を表 1に示 す。陽極酸化皮膜の表面の抵抗値は、皮膜厚みが 1、 3、 5及び 10 mの陽極酸ィ匕 皮膜について、それぞれ 0. 1 Ω、 0. 4 Ω、 10 Ω及び 1000 Ωであった。また、塩水噴 霧試験 (JIS Z2371準拠)での裸耐食性 (レイティングナンバー 9. 0)は、それぞれ 1 50、 300、 700及び 1500時間であった。ここで、レイティングナンノ ー 9. 0とは、全 面積に対する腐食面積の割合が 0. 07-0. 10%である場合をいい、上記時間は、 そのような腐食面積の割合となるまでに要した時間を示している。すなわち、陽極酸 化皮膜が厚くなるほど、表面の抵抗値は大きくなるが、耐食性が向上することがわか る。後述するように、 10 /z mの膜厚で表面の抵抗値が 1000 Ωになった場合であって も電気めつきは十分に可能であるから、耐食性の観点からは、陽極酸化皮膜の膜厚 は厚いほうが好ましい。
[0078] [表 1]
Figure imgf000024_0001
[0079] 得られた陽極酸ィ匕皮膜が形成された試料を、 0. 1%の硝酸水溶液に浸漬した後、 水洗して、平均めつき厚が 5 /z mになるように電気めつきを行った。亜鉛めつき用のめ つき液は、ディップソール株式会社製「NZ— 65」を使用した。これは、表 2に示すよう な原料を調合して使用するものである。亜鉛 ニッケル合金めつき液は、ディップソー ル株式会社製「IZ-250」を使用した。これも、表 2に示すような原料を調合して使用 するものであり、ニッケル共析率が 12— 18%の皮膜が得られるものである。また、銅 めっきは上村工業株式会社製「ピロブライト PY-61」を使用した。これは、ピロリン酸 銅を主成分とするものである。これらは ヽずれもシアン化物やフッ化物を含有しな!、 アルカリ性のめっき液である。いずれの場合も 5 mの膜厚で良好な金属めつき皮膜 を形成することができた。めっき液の組成とめっき条件の詳細は、下記表 2にまとめて 示す。
[0080] [表 2]
Figure imgf000025_0001
[0081] 得られた試料のうち、陽極酸ィ匕皮膜の上に亜鉛皮膜を形成した試料について、マ グネシゥム合金基材と亜鉛皮膜の表面との間の抵抗値を、図 7に示す方法にしたが つて、測定したところ、陽極酸化皮膜の厚みが 1 m、 3 /ζ πι、 5 111及び10 111のぃ ずれの場合においても、当該抵抗値は 1一 1. 5 Ωの範囲に収まり、良好な導電性を 示した。すなわち、本発明で形成されている陽極酸ィ匕皮膜の膜厚方向の抵抗値が小 さいことが示された。このとき、陽極酸ィ匕皮膜の厚みが変化しても、前記抵抗値はあま り変化しな力つた。また、陽極酸ィ匕皮膜の上に銅皮膜を形成した試料において、マグ ネシゥム合金基材と銅皮膜の表面との間の抵抗値を測定したところ、陽極酸化皮膜 の厚みが 1 m、 3 m、 5 m及び 10 μ mのいずれの場合においても、当該抵抗値 は 0. 5-1. 0 Ωの範囲に収まり、極めて良好な導電性を示した。この場合には、亜 鉛めつきの場合よりもさらに良好な導電性を得ることができた。また、銅めつきの場合 にも、亜鉛めつきの場合と同様に、陽極酸ィ匕皮膜の厚みが変化しても、前記抵抗値 はあまり変化しな力つた。
[0082] また、本実施例で陽極酸化処理に供した、チクソモールド法にて製造されたマグネ シゥム合金板の裏面を削って、図 7に示すような方法に準じて、表裏面間の抵抗値を 測定したところ、抵抗値は約 1 Ωであった。この抵抗値は、マグネシウムの表面に形 成された薄い酸ィ匕物層のためにこのような値を示すものと考えられる。すなわち、本 発明の方法にしたがって陽極酸ィ匕皮膜の表面に銅めつきを施した場合には、特に表 面処理を施して ヽな 、マグネシウム合金製品よりも良好な導電性を得ることができる
[0083] 得られた試料について、塩水噴霧試験による耐食性の評価結果を表 5にまとめて 示す。本実施例で得られためっき皮膜は、以降に示す比較例に比べて、良好な耐食 性を有していることがわかる。特に陽極酸化皮膜による下地処理層の膜厚が厚くなる ほど良好な耐食性を有することが明らかになった。また、銅めつきを施した試料につ いて、皮膜の密着性を評価した結果も表 5にまとめて示す。本実施例で得られためつ き皮膜は、以下に示す比較例に比べて、良好な密着性が得られていることがわかる。
[0084] 上述の方法と同様にして陽極酸ィ匕皮膜を 10 mの厚みで形成し、その上に 10 mの亜鉛めつきを施した試料にっ 、て、皮膜断面を X線マイクロアナライザーで観察 した結果を図 2— 6に示す。図 2は、断面形状を観察した電子顕微鏡写真である。こ れは、図 6の左上の写真(「SL」と記載)に相当するものである。図 2において、下方 約 1Z3がマグネシウム合金基材であり、中央約 1Z3が亜鉛めつき皮膜であり、上方 約 1Z3が包埋に使用したエポキシ榭脂である。マグネシウム合金基材と亜鉛めつき 皮膜の間に陽極酸化皮膜が存在する。亜鉛めつきを施す前の試料を撮影した図 1と 比較すれば明らかなように、陽極酸ィ匕皮膜の表面は、その表面が力なり浸食されて いて、その上に金属めつき層が形成されている。金属めつき皮膜は陽極酸ィ匕皮膜の 表面の細孔の中に食 、込んで!/、るので、密着性の良好な金属めつき層を形成するこ とができると考えられる。
[0085] 図 3は、マグネシウム(Mg)の分布状況を、図 4は酸素 (O)の分布状況を、図 5は亜 鉛 (Zn)の分布状況を、それぞれ示した図である。図 3— 5は、白黒の濃淡によってそ れぞれの元素の濃度を示したものであり、明るいほど高濃度である。また、図 6におい て、中央上の写真(「Mg」と記載)、右上の写真(「Zn」と記載)、左下の写真(「0」と 記載)、中央下の写真(「A1」と記載)及び右下の写真(「P」と記載)は、それぞれマグ ネシゥム (Mg)、亜鉛 (Zn)、酸素(O)、アルミニウム (A1)及びリン (P)の分布状況を 示したものである。これらの 5枚の写真は、本来カラー表示によって濃度分布が示さ れているものを、白黒表示で本明細書に添付したものである。図 6の右側に示されて いるのは、カラーバーであり、白黒表示では必ずしも明度と濃度元素とが比例してい ないことに注意が必要である。
[0086] 図 6の中央上の写真に示されているように、亜鉛めつきを施した後においても、遷移 層は残存して 、ることがわ力る。そして陽極酸ィ匕皮膜の表面がかなり浸食されて 、る ので、金属めつき皮膜が前述の遷移層に接触又は近接している場所が存在する。こ のため、その部分を通じて良好な導電性が確保されていると考えられる。前述のよう に、陽極酸ィ匕皮膜の厚みにかかわらず同程度の導電性を有しているのは、このため であると推定される。また、遷移層はマグネシウム合金基材を均一に覆っているので 、遷移層が、マグネシウム合金基材の耐食性を付与するのに貢献していると考えられ る。
[0087] 比較例 1
「Dowl7法」と呼ばれる公知の陽極酸化皮膜形成方法を試験した例である。酸性 フッ化アンモ-ゥム 360gZL、重クロム酸ナトリウム lOOgZL及びリン酸 90mLZLを 含有する電解液を調製した。この中に実施例 1と同じ前処理を施したマグネシウム合 金試験片を陽極として浸漬し、交流電源を用いて通電して陽極酸化処理を行った。 下記範囲内でめっき処理条件を調整して、 1、 3、 5及び 10 mの陽極酸化皮膜を形 成した。
温度: 71— 82 (°C)
電流密度: 0. 5-5 (A/dm2)
電圧: 95— 100 (V)
時間: 2. 5— 15 (分)
[0088] 次に、実施例 1と同様に硝酸水溶液に浸漬処理してから、表 2に示す条件で亜鉛 めっき処理、亜鉛 ニッケル合金めつき処理及び銅めつき処理を行った。しかしなが ら、いずれの陽極酸化皮膜の膜厚においても、いずれのめっき処理においても、通 電中に陰極力 僅かに水素ガスを発生するのみであって、ほとんど通電せず、めっき 皮膜は形成されなカゝつた。これは、陽極酸ィ匕皮膜が絶縁膜であるためであると考えら れる。また、得られた試料の裏面を削って、図 7に示すような方法に準じて、表裏面間 の抵抗値を測定したところ、抵抗値は測定器の測定可能レンジをオーバーし、 106 Ω を超えた。
[0089] 比較例 2
「Dow法」と呼ばれる公知の金属めつき皮膜形成方法を試験した例である。実施例 1と同じマグネシウム合金試験片を原料として用い、表 3の工程にしたがって、ジンケ ート処理及びシアン化銅ストライクめっきを行った後、表 2に示す条件で亜鉛めつき処 理、亜鉛 ニッケル合金めつき処理及び銅めつき処理を行った。塩水噴霧試験による 耐食性の評価結果とめっき皮膜の密着性の評価結果を表 5にまとめて示す。
[0090] [表 3]
工程 処理薬品 処理条件 溶剤脱脂 トリクロ口エチレン 水洗 ―
80°C
陰極電解
陰極電解用脱脂剤: 30g/L 8A/dm2 脱脂
1分
水洗 ― 無水クロム酸: 180 g/L 室温
酸洗 硝酸第二鉄: 40 g/L 2分
フッ化カリウム: 3.5 g/L
水洗 ― リン酸: 200m L/L 室温
酸活性
酸性フッ化アンモニゥム: 105g/L 2分
水洗 ― 硫酸亜鉛: 30 g/L 80°C
亜鉛置換 ピロリン酸ナトリウム: 120 g/L pH10.2
フッ化リチウム: 3 g/L 8分
炭酸ナトリウム: 5 g/L
水洗 一 シアン化銅 2A/dm2
シアン化銅ストライク浴
ス卜ライク 比較例 3
「坂田法」と呼ばれる公知の金属めつき皮膜形成方法を試験した例である。実施例 1と同じマグネシウム合金試験片を原料として用い、表 4の工程にしたがって、めっき 前処理及び無電解ニッケルストライクめっきを行った後、表 2に示す条件で亜鉛めつ き処理、亜鉛一ニッケル合金めつき処理及び銅めつき処理を行った。塩水噴霧試験 による耐食性の評価結果とめっき皮膜の密着性の評価結果を表 5にまとめて示す。
[0092] [表 4]
Figure imgf000030_0001
[0093] [表 5] 下地処理 下地処理 めっきの種類 耐食性 密着性 方法 膜厚
48時間
3um Znめつさ 96時間 ―
5 fim 300時間
10 m 800時間
導電性 1/xm 48時間
陽極酸化 3 m Zn-Ni合金めつき 96時間 ― 被膜 5/ m 300時間
(実施例 1) 10 m 800時間
Ι ιη 24時間 B
3/LLm 72時間 A
Cuめつさ
5 m 240時間 A
10 m 500時間 A
Znめっき 24時間以内 ―
Uow
Zn-Ni合金めつき 24時間以内 ― (比較例 2)
Cuめつさ 24時間以内 C
Znめっき 24時間以内 ― 坂田法
Zn Ni合金めつき 24時間以内 ― (比較例 3)
Cuめつさ 24時間以内 B
[0094] 以上示したように、導電性陽極酸ィ匕皮膜を各めつきの下地処理として用いることに よって直接電気めつきを行うことが可能となる。表 5に示されるように、この陽極酸化被 膜の膜厚の増加に伴い、耐食性は向上し、下地の導電性陽極酸ィ匕皮膜が 10 /zmの 場合には、いずれのめっきにおいても、塩水噴霧試験における腐食発生時間が 500 時間以上であり、極めて優れた耐食性を示す。
[0095] これに対し、比較例 2 (Dow法)及び比較例 3 (坂田法)の試料においては、めっき を施したいずれのサンプルも 24時間以内に腐食が発生し、実施例 1の試料に比べて 耐食性が著しく劣っている。この要因としては、マグネシウム合金上に直接異なった 金属でのめっきを施して 、るため、異種金属による電食が発生しやす!/、ためと考えら れる。上層の金属めつき皮膜の厚みを増加させることによって耐食性を改善すること は可能であるが、金属めつき皮膜の厚みが 5 m程度の場合には、異種金属による 電食を防止するために、金属めつき皮膜の下地として、実施例 1で形成されたような バリヤ一層(遷移層)が必要であると考えられる。
また、金属めつき皮膜の密着性に関しては、実施例 1の試料では下地の導電性陽 極酸化皮膜の膜厚が 1 μ mと薄い場合にはめつき被膜の一部に剥離が生じるが、 3 m以上であれば、全く剥離や膨れは認められず、非常に優れた密着性が得られる 。導電性陽極酸化皮膜の膜厚が 3 μ m以上の際に優れた密着性が得られることが明 らかになつたが、この要因としては、上述のように、導電性陽極酸ィ匕被膜が非常にポ 一ラスで凹凸が激しいため、この凹凸によるアンカー効果によって密着性が向上した ためと思われる。これに対し、比較例 2 (Dow法)の試料ではめつき被膜が完全に剥 離した。また比較例 3 (坂田法)の試料でも、めっき被膜の一部に剥離が生じた。

Claims

請求の範囲
[I] マグネシウム又はマグネシウム合金の表面に形成された導電性陽極酸ィ匕皮膜の上 に直接金属めつき皮膜が形成されてなるマグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる 製品。
[2] マグネシウム又はマグネシウム合金力もなる基材と金属めつき皮膜の表面との間の 抵抗値が 104 Ω以下である請求項 1記載の製品。
[3] 前記陽極酸ィ匕皮膜が多孔質層と遷移層とからなり、該遷移層がマグネシウム又は マグネシウム合金カゝらなる基材と前記多孔質層との間に存在し、該遷移層のマグネ シゥム含有量が、前記多孔質層のマグネシウム含有量と前記基材のマグネシウム含 有量との中間の値を示し、かつ該遷移層の酸素含有量が、前記多孔質層の酸素含 有量と前記基材の酸素含有量との中間の値を示す請求項 1又は 2に記載の製品。
[4] 前記遷移層の厚みが 0. 2-5 μ mである請求項 3記載の製品。
[5] 前記陽極酸化皮膜が、マグネシウム元素を 10— 65重量%、酸素元素を 25— 60重 量%含有する請求項 1一 4のいずれか記載の製品。
[6] 前記陽極酸化皮膜が、リン元素を 4一 30重量%含有する請求項 1一 5のいずれか 記載の製品。
[7] 前記陽極酸化皮膜が、アルミニウム元素を 1一 20重量%含有する請求項 1一 6の いずれか記載の製品。
[8] 前記陽極酸化皮膜の膜厚が 0. 01— 30 /z mである請求項 1一 7のいずれか記載の 製品。
[9] 前記金属めつき被膜が、亜鉛、ニッケル、銅、金、銀、クロム力 なる群力 選択され る金属又はそれらの金属の合金力 なる請求項 1一 8のいずれか記載の製品。
[10] 前記金属めつき被膜の厚み力 0. 1— 100 mである請求項 1一 9のいずれか記 載の製品。
[II] 前記金属めつき被膜の上に、さらに他の金属めつき皮膜が形成されてなる請求項 1 一 10のいずれか記載の製品。
[12] マグネシウム又はマグネシウム合金の表面の全部が陽極酸ィ匕皮膜で覆われ、該陽 極酸ィ匕皮膜の表面の全部が前記金属めつき皮膜で覆われ、かつ該金属めつき皮膜 の表面の一部にのみ榭脂塗装が施されて残余の部分の金属めつき皮膜が露出して
V、る請求項 1一 11の 、ずれか記載の製品。
[13] 筐体内面には榭脂塗装が施されず、筐体外面には榭脂塗装が施された電気機器 の筐体である、請求項 12記載の製品。
[14] リン酸根を 0. 1— ImolZL含有し、 pHが 8— 14である電解液にマグネシウム又は マグネシウム合金を浸漬し、その表面を陽極酸ィ匕処理した後にめっき浴に浸漬して 電気めつきを施して、前記陽極酸ィ匕皮膜の表面に直接金属めつき被膜を形成するマ グネシゥム又はマグネシウム合金力もなる製品の製造方法。
[15] 前記電解液がアンモニア又はアンモ-ゥムイオンを 0. 2— 5molZL含有する請求 項 14記載の製品の製造方法。
[16] マグネシウム又はマグネシウム合金を予め酸性水溶液に浸漬してから、電解液に 浸漬して陽極酸化処理する請求項 14又は 15記載の製品の製造方法。
[17] 相互に 10mm離れた 2つの端子間で測定した皮膜表面の抵抗値が 106 Ω以下で ある陽極酸ィ匕皮膜を表面に有するマグネシウム又はマグネシウム合金をめつき浴に 浸漬して電気めつきを施して、前記導電性陽極酸化皮膜の表面に直接金属めつき 被膜を形成するマグネシウム又はマグネシウム合金カゝらなる製品の製造方法。
[18] 前記陽極酸ィ匕皮膜の表面を予め酸性水溶液に浸漬してから、前記めつき浴に浸 漬して電気めつきを施す請求項 14一 18のいずれか記載の製品の製造方法。
[19] 前記めつき浴の pHが 7— 14. 5である請求項 14一 18のいずれか記載の製品の製 造方法。
[20] 前記金属めつき皮膜を形成した後で、さらに他のめっき浴に浸漬して前記金属めつ き皮膜の表面をさらに他の金属めつき皮膜で覆う請求項 14一 19のいずれか記載の 製品の製造方法。
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